JP4744894B2 - プラズマディスプレイパネル - Google Patents
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請求項1の発明にかかるプラズマディスプレイパネルについて、そのプラズマディスプレイパネルに複数の積層体の一部として含まれ、紫外線カット層を近赤外線カット層よりもプラズマディスプレイ側に対する反対側に配設したプラズマディスプレイ用光学フィルター(1)は、近赤外線吸収剤としてのジイモニウム塩化合物を含有するポリエステルを250℃以下で溶融押し出しした近赤外線カット層(5)と、紫外線吸収剤を含有するポリエステルからなる紫外線カット層(4)と、560〜600nmに極大極大波長を有する可視光線を吸収する化合物を含有するポリエステルからなる画質補正層(3)とを積層した二軸配向フィルム(2)(6,7)(8,9)であり、前記近赤外線カット層においてポリエステルの融点が200〜225℃であり、820〜1100nmの近赤外線平均透過率は、9.9%以下である。
<図1,2に示すプラズマディスプレイ用光学フィルター1についての概要>
図1(a)で概略的に示すプラズマディスプレイ用光学フィルター1は、画質補正剤を均一に混合含有するポリエステルからなる画質補正層3と、紫外線吸収剤と所定粒子とを均一に混合含有するポリエステルからなる紫外線カット層4と、この画質補正層3と紫外線カット層4との間で近赤外線吸収剤を均一に混合含有するポリエステルからなる近赤外線カット層5とが、共押出法により一体成形されて積層された三層の二軸配向フィルム2である。なお、この光学フィルター1を後記プラズマディスプレイパネル11に利用する場合には、紫外線カット層4が近赤外線カット層5よりもプラズマディスプレイパネル(以降、PDPと略記することもある。)側に対する反対側に配設される。この画質補正剤としては、560〜600nmに極大極大波長を有する可視光線を吸収する化合物であるテトラアザポルフィリン化合物を採用しているが、その他既存のもの(560〜600nmに吸収極大波長を有する化合物であれば特に限定されるものではないが、例えば、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、アゾ化合物、フタロシアニン化合物)を採用してもよい。この紫外線吸収剤としては、ベンゾオキサジノン化合物を採用しているが、その他既存のもの(紫外線吸収剤としては、300〜400nmの間に極大吸収を有し、その領域の光を効率よくカットする化合物であれば、有機系、無機系のいずれも特に限定なく用いることができる。例えば有機系紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、パラアミノ安息香酸系紫外線吸収剤、ケイ皮酸系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系紫外線吸収剤、環状イミノエステル系紫外線吸収剤等が挙げられ、無機系紫外線級剤としては酸化チタン系紫外線吸収剤、酸化亜鉛系紫外線吸収剤、微粒子酸化鉄系紫外線吸収剤等)を採用してもよい。この所定粒子としては、数μmの直径を持つシリカ粒子を採用することができるが、その他の既存のもの(例えば、炭酸カルシウム粒子など)を採用してもよい。この所定粒子をポリエステルフィルムの両面のうち少なくとも一方の面に露出させることにより、ポリエステルフィルムを巻いた状態での密着性を軽減して滑り易くすることができる。この近赤外線吸収剤としては、ジイモニウム塩化合物を採用することができるが、その他の既存のもの(800〜1100nmに吸収極大波長を有する化合物であれば特に限定されるものではないが、例えば、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、インドアニリン化合物、ベンゾピラン化合物、キノリン化合物、アントラキノン化合物、スクアリリウム化合物、ニッケル錯体化合物、銅化合物、タングステン化合物、酸化インジウム錫、酸化アンチモン錫、リン酸イッテルビウム及びこれらの混合物)を採用してもよい。特に、このポリエステルにおいて押出成形時の融点は230℃以下に設定されている。ちなみに、以降に記載する「画質補正剤」や「紫外線吸収剤」や「所定粒子」や「近赤外線吸収剤」や「ポリエステル」については、上記のものを指す。
図3(a)で概略的に示すプラズマディスプレイパネル11は、複数の積層体として、反射防止層である単層のフィルム12と、粘着剤層である単層のフィルム13と、ガラス基板14と、粘着剤層である単層のフィルム15と、電磁波カット層である単層のフィルム16と、粘着剤層である単層のフィルム17とを含むとともに、図1(e)で概略的に示すプラズマディスプレイ用光学フィルター1におけるフィルム2を含む。前記フィルム2とフィルム17とフィルム16とフィルム15とガラス基板14とフィルム13とフィルム12とがPDP側から順次並べられて積層されている。
以下の諸例で使用したポリエステル材料について説明する。
A:エチレングリコールとイソフタル酸とテレフタル酸とから重縮合され、平均粒径2.2ミクロンのシリカ粒子600ppmを含むペレット状にしたポリエステル材料。
AU:ポリエステルAをベント付き二軸押出機に供して、紫外線吸収剤として2,2’−(1,4−フェニレン)ビス[4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン](CYTEC社製 CYASORB UV−3638 分子量369 ベンゾオキサジノン系)を10重量%濃度となるように供給して溶融混練りしてペレット状にしたポリエステル材料とポリエステルAを重量比で1:9でドライブレンドしたポリエステル材料。
BU:ポリエステルBをベント付き二軸押出機に供して、紫外線吸収剤として2,2’−(1,4−フェニレン)ビス[4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン](CYTEC社製 CYASORB UV−3638 分子量369 ベンゾオキサジノン系)を10重量%濃度となるように供給して溶融混練りしてペレット状にしたポリエステル材料とポリエステルBを重量比で1:9でドライブレンドしたポリエステル材料。
BS:ポリエステルBと560〜600nmに吸収極大波長を有する可視光線を吸収する画質補正剤(山田化学工業社製 TAP−2 テトラアザポルフィリン化合物)とを12000:1でドライブレンドしたポリエステル材料。
CI:ポリエステルCと近赤外線吸収剤(日本化薬社製KAYASORB IRG−022)を270:1でドライブレンドしたポリエステル材料。
ポリエステル材料AUを第1の押出成形機18に投入し、ポリエステル材料AIを第2の押出成形機19に投入し、ポリエステル材料ASを第3の押出成形機20に投入した。これらの押出成形機18,19,20では、メルトライン温度を230℃に設定して溶融押出しを行い、その溶融押出しの直前にそれらの流路をAU層、AI層、AS層の順番で厚み比が1/4/4となるように合わせて溶融樹脂をTダイ21からシート状に共押出した。そのシート状溶融樹脂を20℃の冷却ドラム22上にキャスティングした。このキャスティングの際、静電印加密着法を適用した。このようにして製造した未延伸シートを縦延伸機23に導いた。この縦延伸機23では、ロール延伸法を採用し、複数本のセラミックロールにより70℃に予熱するとともにIRヒーターも併用して3.0倍の延伸倍率で長手方向に延伸した。次いで、この一軸延伸フィルムをテンターに導いて90℃で予熱した後、横延伸機24に導いて4.0倍の延伸倍率で幅方向に延伸した。その後、同じテンター内で緊張下180℃の温度で熱固定した後、150℃の温度で3%幅方向に弛緩処理を行い、厚さ45μmの二軸配向配向ポリエステルフィルムを得た。このフィルム特性を表1に示す。
実施例1におけるポリエステル材料AUをBUに変更し、ポリエステル材料AIをBIに変更し、ポリエステル材料ASをBSに変更するとともにメルトライン温度を250℃に変更した以外は、実施例1と同様に製膜を行って厚さ45μmの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。このフィルム特性を表1に示す。
実施例1におけるポリエステル材料AUをCUに変更し、ポリエステル材料AIをCIに変更し、ポリエステル材料ASをCSに変更するとともにメルトライン温度を290℃に変更した以外は、実施例1と同様に製膜を行って厚さ45μmの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。このフィルム特性を表1に示す。
ポリエステルBと日本化薬社製KAYASORB IRG−022とを300:1でドライブレンドした材料を押出成形機に投入した。この押出成形機では、メルトライン温度を250℃に設定して溶融押出しを行い、溶融樹脂をTダイからシート状に押し出した。そのシート状溶融樹脂を20℃の冷却ドラム上にキャスティングした。このキャスティングの際、静電印加密着法を適用した。このようにして製造した未延伸シートを縦延伸工程に導いた。この縦延伸工程では、ロール延伸法を採用し、複数本のセラミックロールにより70℃に予熱するとともにIRヒーターも併用して3.0倍の延伸倍率で長手方向に延伸した。次いで、この一軸延伸フィルムをテンターに導き、90℃で予熱した後、延伸倍率4.0倍で幅方向に延伸した。その後、同じテンター内で緊張下180℃の温度で熱固定した後、150℃の温度で3%幅方向に弛緩処理を行い、厚さ25μmの二軸配向ポリエステルフィルム(NIR)を得た。
さらに、二軸配向ポリエステルフィルム(NIR)と同様の手法でポリエステルBSを用いて製膜を行って、厚さ25μmの二軸配向ポリエステルフィルム(VIS)を得た。
ポリエステル材料BUを第1の押出成形機18に投入し、ポリエステル材料BSを第2の押出成形機19に投入した。これらの押出成形機19,20では、メルトライン温度を250℃に設定して溶融押出しを行い、その溶融押出しの直前にそれらの流路をBU/BSの厚み比が1/4となるように合わせて溶融樹脂をTダイ21からシート状に共押出した。そのシート状溶融樹脂を20℃の冷却ドラム22上にキャスティングした。このキャスティングの際、静電印加密着法を適用した。このようにして製造した未延伸シートを縦延伸機23に導いた。この縦延伸機23では、ロール延伸法を採用し、複数本のセラミックロールにより70℃に予熱するとともにIRヒーターも併用して3.0倍の延伸倍率で長手方向に延伸した。次いで、この一軸延伸フィルムをテンターに導いて90℃で予熱した後、横延伸機24に導いて4.0倍の延伸倍率で幅方向に延伸した。その後、同じテンター内で緊張下180℃の温度で熱固定した後、150℃の温度で3%幅方向に弛緩処理を行い、厚さ25μmの二軸配向配向ポリエステルフィルムを得た。次に、実施例4に記載の厚さ25μmの二軸配向ポリエステルフィルム(NIR)と同一のフィルムを作製し、この表面に綜研化学社製SKダイン2094と同社製硬化剤E−AXを実施例4と同様の手順にて塗布し、100℃で1分乾燥した後、この面を二軸配向ポリエステルフィルム(NIR)に貼り合わせ、ハンドローラーで押圧して空気泡を除いて透明な積層二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。このフィルム特性を表1に示す。
ポリエステル材料BIを第1の押出成形機18に投入し、ポリエステル材料BSを第2の押出成形機19に投入した。これらの押出成形機19,20では、メルトライン温度を250℃に設定して溶融押出しを行い、その溶融押出しの直前にそれらの流路をBU/BSの厚み比が1/1となるように合わせて溶融樹脂をTダイ21からシート状に共押出した。そのシート状溶融樹脂を20℃の冷却ドラム22上にキャスティングした。このキャスティングの際、静電印加密着法を適用した。このようにして製造した未延伸シートを縦延伸機23に導いた。この縦延伸機23では、ロール延伸法を採用し、複数本のセラミックロールにより70℃に予熱するとともにIRヒーターも併用して3.0倍の延伸倍率で長手方向に延伸した。次いで、この一軸延伸フィルムをテンターに導いて90℃で予熱した後、横延伸機24に導いて4.0倍の延伸倍率で幅方向に延伸した。その後、同じテンター内で緊張下180℃の温度で熱固定した後、150℃の温度で3%幅方向に弛緩処理を行い、厚さ50μmの二軸配向ポリエステルフィルム(IS)を得た。次に、実施例4に記載の厚さ25μmの二軸配向ポリエステルフィルム(BU)と同一のフィルムを作製し、この表面に綜研化学社製SKダイン2094と同社製硬化剤E−AXを実施例4と同様の手順にて塗布し、100℃で1分乾燥した後、この面を二軸配向ポリエステルフィルム(IS)に貼り合わせ、ハンドローラーで押圧して空気泡を除いて透明な積層二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。このフィルム特性を表1に示す。
テトラアザポルフィリンを0.003gと三菱レイヨン社製ポリメタクリル酸メチル樹脂(ダイヤナールBR−80)5.0gをメチルエチルケトン8.0gとトルエン8.0gの混合溶媒に溶解させ、ここから1.5gを採取し、超音波洗浄機にて完全に溶解させた後、この塗工液をバーコータ#24で三菱化学ポリエステルフィルム社製二軸配向フィルム(O300、厚さ25μm)に塗工して乾燥することにより、PDP画質補正フィルムを得た。塗布膜厚は、約6μmであった。次に、日本化薬社製KAYASORB IRG−022を0.2gと三菱レイヨン社製ポリメタクリル酸メチル樹脂(ダイヤナールBR−80)5.0gをメチルエチルケトン8.0gとトルエン8.0gの混合溶媒に溶解させ、ここから1.5gを採取し、超音波洗浄機にて完全に溶解させた後、この塗工液をバーコータ#24でPDP画質補正フィルムの塗工面に積層塗工して乾燥することにより、画質補正層と近赤外線吸収層の積層フィルムを得た。さらに、CYTEC社製CYASORBUV−3638を0.35gと三菱レイヨン社製ポリメタクリル酸メチル樹脂(ダイヤナールBR−80)5.0gをメチルエチルケトン8.0gとトルエン8.0gの混合溶媒に溶解させ、ここから1.5gを採取し、超音波洗浄機にて完全に溶解させた後、塗工液を上述と同様の手法で積層フィルムの塗工面に積層塗工して乾燥し、紫外線吸収層と赤外線吸収層と画質補正層の積層フィルムを得た。このフィルム特性を表1に示す。
AU;ポリエステルAをベント付き二軸押出機に供して、紫外線吸収剤として2,2’−(1,4−フェニレン)ビス[4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン](CYTEC社製 CYASORB UV−3638 10重量%濃度となるように供給して溶融混練りしてペレット状にしたポリエステル材料とポリエステルAを重量比で1:9でドライブレンドした材料。
BU;ポリエステルBをベント付き二軸押出機に供して、紫外線吸収剤として2,2’−(1,4−フェニレン)ビス[4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン](CYTEC社製 CYASORB UV−3638 分子量369 ベンゾオキサジノン系)を10重量%濃度となるように供給して溶融混練りしてペレット状にしたポリエステル材料とポリエステルBを重量比で1:9でドライブレンドしたポリエステル材料。
CI;ポリエステルCと近赤外線吸収剤(日本化薬社製KAYASORB IRG−022)を270:1でドライブレンドしたポリエステル材料。
*1;島津製作所社製 分光光度計UV3100により、スキャン速度を低速、サンプリングピッチを1nmとして測定。
*3;トルエンをしみこませた綿布を指先で軽く押し付け5往復させた後の目視評価。
上記表1から、近赤外線カット、紫外線カット及び画質補正の複数の機能を持つフィルターを製造するために必要な付着工程数を従来法に比べて減ぜられる製品の設計を提供できることが分かる。また、画質補正層を有する一つの独立したプラズマディスプレイ用光学フィルター自体に近赤外線カット機能ばかりでなく紫外線カット機能をも持たせられるため、近赤外線吸収剤の劣化(分解や変質)を抑制することにより、プラズマディスプレイ用光学フィルターの性能を維持できることが分かる。さらには、融点が230℃以下のポリエステルを使うことにより、近赤外線透過性と可視光線透過性の差異をより大きくできることが分かる。
Claims (4)
- 近赤外線吸収剤としてのジイモニウム塩化合物を含有するポリエステルを250℃以下で溶融押し出しした近赤外線カット層と、紫外線吸収剤を含有するポリエステルからなる紫外線カット層と、560〜600nmに吸収極大波長を有する化合物を含有するポリエステルからなる画質補正層とを積層した二軸配向フィルムであり、前記近赤外線カット層においてポリエステルの融点が200〜225℃であり、
820〜1100nmの近赤外線平均透過率は、9.9%以下であるプラズマディスプレイ用光学フィルターを複数の積層体の一部として含み、紫外線カット層を近赤外線カット層よりもプラズマディスプレイ側に対する反対側に配設したことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。 - 近赤外線吸収剤としてのジイモニウム塩化合物を含有するポリエステルからなる近赤外線カット層と、紫外線吸収剤を含有するポリエステルからなる紫外線カット層と、560〜600nmに吸収極大波長を有する可視光線を吸収する化合物を含有するポリエステルからなる画質補正層とを備え、それらの層が押出成形機から250℃以下で共に溶融押し出しされる共押出法により一体成形されて積層された二軸配向フィルムであり、前記近赤外線カット層においてポリエステルの融点が200〜225℃であり、
820〜1100nmの近赤外線平均透過率は、9.9%以下であるプラズマディスプレイ用光学フィルターを複数の積層体の一部として含み、紫外線カット層を近赤外線カット層よりもプラズマディスプレイ側に対する反対側に配設したことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。 - 紫外線吸収剤を含有するポリエステルからなる紫外線カット層と、560〜600nmに吸収極大波長を有する可視光線を吸収する化合物を含有するポリエステルからなる画質補正層とを備え、それらの層が押出成形機から共に溶融押し出しされる共押出法により一体成形されて積層された二軸配向フィルムと、近赤外線吸収剤としてのジイモニウム塩化合物を含有するポリエステルを250℃以下で溶融押し出しした近赤外線カット層を有する二軸配向フィルムとを積層したものであり、前記近赤外線カット層においてポリエステルの融点が200〜225℃であり、
820〜1100nmの近赤外線平均透過率は、9.9%以下であるプラズマディスプレイ用光学フィルターを複数の積層体の一部として含み、紫外線カット層を近赤外線カット層よりもプラズマディスプレイ側に対する反対側に配設したことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。 - 近赤外線吸収剤としてのジイモニウム塩化合物を含有するポリエステルからなる近赤外線カット層と、560〜600nmの吸収域を有する可視光線を吸収する化合物を含有するポリエステルからなる画質補正層とを備え、それらの層が押出成形機から250℃以下で共に溶融押し出しされる共押出法により一体成形されて積層された二軸配向フィルムと、紫外線吸収剤を含有するポリエステルからなる紫外線カット層を有する二軸配向フィルムとを積層したものであり、前記近赤外線カット層においてポリエステルの融点が200〜225℃であり、
820〜1100nmの近赤外線平均透過率は、9.9%以下であるプラズマディスプレイ用光学フィルターを複数の積層体の一部として含み、紫外線カット層を近赤外線カット層よりもプラズマディスプレイ側に対する反対側に配設したことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
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