CN103154172A

CN103154172A - 粘着片以及电子设备

Info

Publication number: CN103154172A
Application number: CN2011800427694A
Authority: CN
Inventors: 上村和惠; 网野由美子; 铃木悠太; 小野义友; 中岛惠美
Original assignee: Lintec Corp
Current assignee: Lintec Corp
Priority date: 2010-09-07
Filing date: 2011-08-18
Publication date: 2013-06-12
Anticipated expiration: 2031-08-18
Also published as: JP5422055B2; CN103154172B; EP2615144A1; TWI504718B; WO2012032907A1; KR20140018174A; KR101886455B1; US20130209800A1; EP2615144B1; JPWO2012032907A1; EP2615144A4; TW201217485A

Abstract

本发明涉及粘着片以及具备该粘着片作为电子设备用构件的电子设备，所述粘着片为在至少单面上具有阻气层和粘着剂层的粘着片，其中，所述阻气层由至少含有氧原子和硅原子的材料构成，相对于所述阻气层的表层部中的氧原子、氮原子以及硅原子的存在总量，氧原子的存在比例为60-75%，氮原子的存在比例为0-10%，硅原子的存在比例为25-35%，且所述阻气层的表层部的膜密度为2.4-4.0g/cm³。本发明可以提供阻气性、耐弯折性以及透明性良好的粘着片、以及具备该粘着片作为电子设备用构件的电子设备。

Description

粘着片以及电子设备

技术领域

本发明涉及粘着片、以及具备该粘着片作为电子设备用构件的电子设备。

背景技术

近几年，有机电子学作为能够使用涂布或印刷工序在挠性的塑料基板上在接近室温的低温下形成显示器、电路、电池等的技术受到关注，进行着各种各样的有机设备的研究开发。

例如，作为用于液晶显示器或者电致发光（EL）显示器的发光元件，利用低电压直流驱动的可高亮度发光的有机EL元件受到关注。在这些显示器中，为了实现薄型化、轻量化、挠性化等，对将透明塑料薄膜用作具有电极的基板进行了研究。

但是，该有机EL元件在驱动一定时间后，存在发光亮度、发光效率、发光均匀性等发光特性与初期相比劣化的问题。作为该问题的原因，认为是侵入到有机EL元件内的氧或水蒸气等引起的电极的氧化或有机物的改性、驱动时的热引起的有机材料的氧化分解等。作为基板使用的塑料薄膜，易于透过氧或水蒸气等，存在容易引起有机EL元件的劣化的问题。

为了解决上述问题，研究了将有机EL元件通过具有抑制与氧或水蒸气的接触的阻气性的粘着片密封。作为付与阻气性的方法，通常为公知的是硅蒸镀膜，但是由于蒸镀需要大型设备，在成本方面存在问题。

此外，公开了在薄膜的至少一面上形成聚硅氮烷膜，在該聚硅氮烷膜上实施等离子体处理，来制备阻气性薄膜的方法（参照专利文献1）。然而，使用该阻气性薄膜作为基材时，存在阻气层产生裂纹等的问题。

除此之外，作为有机设备用的粘着片，例如，公开了使用聚异丁烯系的树脂作为粘结层使用的粘结性薄膜（参照专利文献2）。然而，专利文献2的粘结层难以抵抗高温·紫外线等，有机EL元件或设备根据长时间驱动或驱动环境而暴露在高温下或紫外线照射下，有可能存在粘结层的树脂本身劣化，粘结性薄膜的性能降低以及伴随其的有机EL元件的劣化的问题。

【在先技术文献】

【专利文献】

【专利文献1】特开2007-237588号公报

【专利文献2】特开2007-197517号公报

发明内容

本发明鉴于上述问题的解决，目的在于提供阻气性、耐弯折性、以及透明性良好的粘着片、以及具备将该粘着片作为电子设备用构件的电子设备。

本发明的发明人发现，构成粘着片的阻气层由至少含有氧原子和硅原子的材料构成的，阻气层的表层部中的氧原子、氮原子以及硅原子的存在比例、以及膜密度为特定的范围的粘着片能够解决上述课题。

即，本发明提供下述[1]-[8]。

[1]一种粘着片，该粘着片在基材上至少具有阻气层和粘着剂层，其中，所述阻气层由至少含有氧原子和硅原子的材料构成，相对于所述阻气层的表层部中的氧原子、氮原子以及硅原子的存在总量，氧原子的存在比例为60-75%、氮原子的存在比例为0-10%，硅原子的存在比例为25-35%，且所述阻气层的表层部的膜密度为2.4-4.0g/cm³。

[2]根据上述[1]所述的粘着片，其中，构成所述阻气层的材料由聚硅氮烷化合物形成。

[3]根据上述[2]所述的粘着片，其中，所述聚硅氮烷化合物为全氢聚硅氮烷。

[4]根据上述[1]-[3]中任意一项所述的粘着片，其中，所述阻气层通过注入离子而形成。

[5]根据上述[4]所述的粘着片，其中，所述离子是将选自由氢、氮、氧、氩、氦、氖、氙、以及氪组成的组中的至少一种气体离子化而得到的。

[6]根据上述[1]-[5]中任意一项所述的粘着片，其中，在40℃、相对湿度90%的氛围下，50μm厚度的所述粘着剂层的水蒸气透过率为25g/m²/天以下。

[7]根据上述[1]-[6]中任意一项所述的粘着片，其中，形成所述粘着剂层的粘着剂为橡胶系粘着剂或丙烯酸系粘着剂。

[8]一种电子设备，该电子设备具备上述[1]-[7]中任意一项所述的粘着片作为电子设备用构件。

本发明的粘着片具有良好的阻气性、耐弯折性、以及透明性。因此，本发明的粘着片能够适用于显示器或太阳能电池等的电子设备。

附图说明

[图1]为表示本发明的粘着片的构成的一个例子的图。

[图2]为表示使用了本发明的粘着片的有机EL元件的例子的图。

具体实施方式

[粘着片]

本发明的粘着片在基材上至少具有阻气层和粘着剂层。图1为表示本发明的粘着片的构成的一个例子的图。本发明的粘着片至少具有基材、阻气层、粘着剂层，只要粘着剂层存在于最外层，层压的顺序没有特别限定。例如，如图1的（A1）所示，可举出在基材2的单面上层压阻气层3，在该阻气层3上层压粘着剂层4的粘着片1。此外，如图1的（A2）的粘着片1a所示，也可以在基材2的单面上层压粘着剂层4，在基材2的与粘着剂层4相反侧上形成阻气层3。

另外，如图1的（B）所示，也可以在基材2的单面上层压阻气层3、粘着剂层4a，在此基础上，在相反侧的基材的表面上设置粘着剂层4b，形成双面上具有粘着剂层的粘着片1b。

进一步，如图1的（C）所示，也可以在层压于基材2a的单面上的阻气层3a和层压于基材2b的单面的阻气层3b两个阻气层3a、3b之间设置粘着剂层4a，形成在基材2a、2b的与设置有阻气层的面相反侧分别具有粘着剂层4b、4c的粘着片1c。该粘着片1c，粘着剂层4a不仅与两个阻气层3a、3b相接，在从外部施加冲击时，能够发挥吸收冲击，保护阻气层3a、3b的作用。

另外，图1没有表示，但是可以设置基材、阻气层、粘着剂层以外的“其它层”。其它层层压的位置没有特别的限定，可以根据各层的作用适当地选择。

以下，对于构成粘着片的（1）基材、（2）阻气层、（3）粘着剂层、（4）其它层依次进行说明。

〔（1）基材〕

本发明的基材，为聚硅氮烷化合物以外的材料，只要是具有自承性、与本发明的目的相一致即可。作为使用的基材，可以列举例如聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚苯醚、聚醚酮、聚醚醚酮、聚烯烃、聚酯、聚碳酸酯、聚砜、聚醚砜、聚苯硫醚、聚芳酯、丙烯酸系树脂、环烯烃系聚合物、芳香族系聚合物等。

其中，从透明性优异、具有通用性的观点考虑，优选聚酯、聚酰胺或环烯烃系聚合物，更优选聚酯或环烯烃系聚合物。

聚酯可以列举聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚芳酯等。

聚酰胺可以列举全芳香族聚酰胺、尼龙6、尼龙66、尼龙共聚物等。

环烯烃系聚合物可以列举降冰片烯系聚合物、单环的环状烯烃系聚合物、环状共轭二烯系聚合物、乙烯基脂环式烃聚合物和它们的加氢产物等，它们的市售品的具体例可以列举APEL（三井化学社制的乙烯-环烯烃共聚物）、ARTON（JSR社制的降冰片烯系聚合物）、ZEONOR（日本ゼオン社制的降冰片烯系聚合物）等。

基材的厚度没有特别的限定，优选为0.5-500μm，更优选为1-200μm，更优选为10-100μm。

〔（2）阻气层〕

本发明的粘着片的阻气层至少满足以下（a）-（c）的要素。

（a）由至少含有氧原子和硅原子的材料构成。

（b）相对于阻气层的表层部中的氧原子、氮原子和硅原子的存在总量，氧原子的存在比例为60-75%，氮原子的存在比例为0-10%，硅原子的存在比例25-35%。

（c）阻气层的表层部的膜密度为2.4-4.0g/cm³。

通过使用具备上述要素（a）-（c）的阻气层，能够得到阻气性、耐弯折性、以及透明性良好的粘着片。

本发明的粘着片具有良好的阻气性，可以从水蒸气等气体的透过率非常小来确认。在40℃、相对湿度90%的氛围下，阻气层的水蒸气透过率优选为1.0g/m²/天以下，更优选为0.5g/m²/天以下，进一步优选为0.1g/m²/天以下。另外，水蒸气透过率可以使用公知的气体透过率测定装置进行测定，本发明中，是指通过实施例中记载的方法测定的值（以下相同）。

此外，本发明的粘着片具有良好的耐弯折性，即使进行弯折等，也可维持阻气性，这可以由下述那样确认：将粘着片弯折成两截并施加压力，再次打开时弯折的部分的阻气层没有劣化，水蒸气透过率也几乎没有降低。本发明的粘着片与相同厚度的无机膜作为阻气层层压的情况相比，在即使弯折后也可维持阻气性这方面是优异的。

（要素（a））

作为满足上述要素（a）的材料，从提高阻气性、耐弯折性、以及透明性的观点考虑，优选为聚硅氮烷化合物。

聚硅氮烷化合物是在分子内具有含有-Si-N-键的重复单元的高分子，具体地，可举出具有用式（1）表示的重复单元的化合物。

[化合物1]

式（1）中，n表示任意的自然数。Rx、Ry、Rz分别独立地表示氢原子、未取代或具有取代基的烷基、未取代或具有取代基的环烷基、未取代或具有取代基的烯基、未取代或具有取代基的芳基或烷基甲硅烷基等非水解性基团。

作为未取代或具有取代基的烷基中的烷基，可举出例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、正己基、正庚基、正辛基等碳原子数为1-10的烷基。

作为未取代或具有取代基的环烷基中的环烷基，可举出环丁基、环戊基、环己基、环庚基等碳原子数为3-10的环烷基。

作为未取代或具有取代基的烯基中的烯基，可举出例如乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基等碳原子数为2-10的烯基。

作为所述烷基、环烷基和烯基的取代基，可举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等卤素原子；羟基；硫醇基；环氧基；缩水甘油氧基；(甲基)丙烯酰氧基；苯基、4-甲基苯基、4-氯苯基等未取代或具有取代基的芳基；等。

作为未取代或具有取代基的芳基中的芳基，可举出例如苯基、1-萘基、2-萘基等碳原子数为6-10的芳基。

作为这些芳基的取代基，可举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等卤素原子；甲基、乙基等碳原子数为1-6的烷基；甲氧基、乙氧基等碳原子数为1-6的烷氧基；硝基；氰基；羟基；硫醇基；环氧基；缩水甘油氧基；(甲基)丙烯酰氧基；苯基、4-甲基苯基、4-氯苯基等的未取代或具有取代基的芳基；等。

作为烷基甲硅烷基，可举出三甲基甲硅烷基、三乙基甲硅烷基、三异丙基甲硅烷基、三叔丁基甲硅烷基、甲基二乙基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、二乙基甲硅烷基、甲基甲硅烷基、乙基甲硅烷基等。

其中，作为Rx、Ry、Rz，优选为氢原子、碳原子数为1-6的烷基或苯基，更优选为氢原子。

作为具有用所述式（1）表示的重复单元的聚硅氮烷化合物，可以是Rx、Ry、Rz全部为氢原子的无机聚硅氮烷、Rx、Ry、Rz的至少1个不为氢原子的有机聚硅氮烷的任一者。

作为无机聚硅氮烷可举出：具有用下述式（2）表示的重复单元的直链状结构、分子量为690-2000、一分子中具有3-10个SiH₃基的全氢聚硅氮烷（参照特公昭63-16325号公报）；具有用下述式（3）表示的重复单元的直链状结构和支链结构的全氢聚硅氮烷；用下述式（5）表示的具有全氢聚硅氮烷结构的、分子内具有直链状结构、支链结构以及环状结构的全氢聚硅氮烷等。

[化学式2]

（式（2）中，a表示任意的自然数。）

[化学式3]

（式（3）中，b、c表示任意的自然数，Y¹表示氢原子或用下述式（4）表示的基团。）

[化学式4]

（式（4）中，d表示任意的自然数，*表示键合位置，Y²表示氢原子、或用式（4）表示的基团。）

[化学式5]

作为有机聚硅氮烷，可举出下述（i）-（v）的化合物等。

（i）以-(Rx’SiHNH)-（Rx’表示未取代或具有取代基的烷基、未取代或具有取代基的环烷基、未取代或具有取代基的烯基、未取代或具有取代基的芳基或者烷基甲硅烷基。以下的Rx’也同样。）为重复单元，主要具有聚合度为3-5的环状结构的化合物。

（ii）以-(Rx’SiHNRz’)-（Rz’表示未取代或具有取代基的烷基、未取代或具有取代基的环烷基、未取代或具有取代基的烯基、未取代或具有取代基的芳基或者烷基甲硅烷基。）为重复单元，主要具有聚合度为3-5的环状结构的化合物。

（iii）以-(Rx’Ry’SiNH)-（Ry’表示未取代或具有取代基的烷基、未取代或具有取代基的环烷基、未取代或具有取代基的烯基、未取代或具有取代基的芳基或者烷基甲硅烷基。）为重复单元，主要具有聚合度为3-5的环状结构的化合物。

（iv）在分子内具有用下述式（6）表示的结构的聚有机（氢）硅氮烷。

（v）具有用下述式（7）表示的重复结构的聚硅氮烷。

[化学式6]

[化学式7]

（式（7）中，Rx’、Ry’与所述表示相同的意思，e、f表示任意的自然数，Y³表示氢原子或用下述式（8）表示的基团。）

[化学式8]

（式（8）中，g表示任意的自然数，*表示键合位置，Y⁴表示氢原子、或用式（8）表示的基团。）

上述有机聚硅氮烷可以利用以往公知的方法制备。

作为具体的制备方法，例如可以通过使氨或伯胺与下述反应产物反应合成有机聚硅氮烷，所述反应产物是用下述式（9）表示的未取代或具有取代基的卤硅烷化合物与仲胺的反应产物。使用的仲胺和伯胺根据目标聚硅氮烷化合物的结构适当地选择即可。

[化学式9]

R¹ _4-mSiX_m (9)

（式（9）中，m表示2或3，X表示卤素原子，R¹表示前述的Rx、Ry、Rz、Rx’、Ry’、Rz’的任意取代基。）

此外，在本发明中，作为聚硅氮烷化合物，也可以使用聚硅氮烷改性物。作为聚硅氮烷改性物，可举出例如含有金属原子（该金属原子也可以形成交联）的聚金属硅氮烷、重复单元用〔(SiH₂)_g(NH)_h）〕和〔(SiH₂)_iO〕（式中，g、h、i分别独立为1、2或3）表示的聚硅氧硅氮烷（特开昭62-195024号公报）、使硼化合物与聚硅氮烷反应来制备的聚硼硅氮烷（特开平2-84437号公报）、使聚硅氮烷和金属醇盐反应来制备的聚金属硅氮烷（特开昭63-81122号公报等）、无机硅氮烷高聚物或改性聚硅氮烷（特开平1-138108号公报等）、在聚硅氮烷中引入了有机成分的共聚硅氮烷（特开平2-175726号公报等）、在聚硅氮烷中加成或添加用于促进陶瓷化的催化性化合物而成的低温陶瓷化聚硅氮烷（特开平5-238827号公报等）、加成硅醇盐的聚硅氮烷（特开平5-238827号公报）、加成缩水甘油的聚硅氮烷（特开平6-122852号公报）、加成乙酰丙酮络合物的聚硅氮烷（特开平6-306329号公报）、加成金属羧酸盐的聚硅氮烷（特开平6-299118号公报等）、在这些聚硅氮烷或其改性物中添加胺类和/或酸类而成的聚硅氮烷组合物（特开平9-31333号公报）、在全氢聚硅氮烷中将甲醇等醇或六甲基二硅氮烷加成在末端N原子上而得的改性聚硅氮烷（特开平5-345826号公报、特开平4-63833号公报）等。

其中，作为聚硅氮烷化合物，优选Rx、Ry、Rz全部为氢原子的无机聚硅氮烷、Rx、Ry、Rz的至少1个不为氢原子的有机聚硅氮烷，从易于获得和可形成具有良好阻气性的层的观点考虑，更优选无机聚硅氮烷，进一步优选全氢聚硅氮烷。

使用的聚硅氮烷化合物的数均分子量没有特别的限定，优选为100-50000。另外，本发明中，数均分子量（Mn）为通过凝胶渗透色谱法（GPC法）以聚苯乙烯换算值计算出的值（以下相同）。

进一步，本发明中，聚硅氮烷化合物可以直接使用作为玻璃涂布材料等市售的市售品。

此外，阻气层除了含有聚硅氮烷化合物以外，还可在不阻碍本发明目的的范围下含有其它成分。作为其它成分，可举出固化剂、其它高分子、抗老化剂、光稳定剂、阻燃剂等。

阻气层中的聚硅氮烷化合物的含量，从可形成具有良好的阻气性的观点考虑，在构成阻气层的全部材料中，优选为50质量%以上，更优选为70质量%以上，进一步优选为85质量%以上，更进一步优选为实质100质量%。

作为形成阻气层的方法，没有特别的限定，可举出例如将含有聚硅氮烷化合物的至少一种、根据需要的其它成分、和溶剂等的阻气层形成用溶液涂布在上述基材上，将所得到的涂膜适度干燥来形成的方法。

作为涂布方法，没有特别的限定，可举出使用旋涂器、刮刀涂布机、凹版涂布机等公知的涂布装置的方法。

此外，为了进行所得到的涂膜的干燥以及提高阻气层的阻气性，优选将涂膜加热。加热优选在80-150℃下进行数十秒至数十分钟，更优选为80-150℃下进行10秒-120分钟，进一步优选在95-140℃下进行30秒-40分钟，更进一步优选在95-140℃下进行60秒-30分钟。

此外，阻气层也可以通过使二甲基二硅氮烷、四甲基二硅氮烷、六甲基二硅氮烷等的等离子体聚合性硅氮烷化合物的气体与基材接触，并实施等离子体聚合处理来形成（特开平9-143289号公报）。

形成的阻气层的厚度优选为20nm-100μm，更优选为30-500nm，进一步优选为40-200nm。另外，本发明中，阻气层即使为纳米级别，也可以得到具有充分的阻气性能的粘着片。

<要素（b）>

本发明中的阻气层的表层部是指阻气层的表面、和从该表面向深度方向直至5nm的区域。此外，阻气层的表面，在与其它层形成边界面时，还包括该边界面。

阻气层的表层部中的氧原子、氮原子以及硅原子的存在比例可以通过使用X射线光电子能谱分析（XPS）进行距表面5nm附近的阻气层的表层部的元素分析测定来确认。具体地利用在实施例中说明的方法测定。

相对于本发明的阻气层的表层部中的氧原子、氮原子、以及硅原子的存在总量，氧原子的存在比例为60-75%、氮原子的存在比例为0-10%、硅原子的存在比例为25-35%，优选氧原子的存在比例为60-72%、氮原子的存在比例为0.1-8.0%、硅原子的存在比例为27-35%。

<要素（c）>

本发明的阻气层的表层部中的膜密度，从提高阻气性、耐弯折性、以及透明性的观点考虑，为2.4-4.0g/cm³，优选为2.45-4.0g/cm³，更优选为2.5-4.0g/cm³。

该膜密度不足2.4g/cm³时，尤其会导致粘着片的阻气性劣化的结果。

膜密度可以使用X射线反射率法（XRR）算出。X射线相对于基板上的薄膜，以非常浅的角度入射时，发生全反射。入射X射线的角度如果为全反射临界角以上，则X射线侵入薄膜内部，在薄膜表面或界面分成透射波和反射波，反射波发生干涉。通过解析全反射临界角，可以求得膜的密度。另外，一边改变入射角度一边进行测定，通过伴随光程差变化的反射波的干涉信号的解析，也可以求得薄膜的膜厚。

膜密度可以利用以下方法测定。

一般地，已知物质对于X射线的折射率n、和折射率n的实数部分的δ形成以下式1和式2。

[数学式1]

ｎ＝1－δ－ⅰβ···（式1）

[数学式2]

δ = (\frac{r_{e} λ^{2}}{2 π}) N_{0} ρ \underset{i}{Σ} x_{i} (Z_{i} + f_{i}^{'}) / \underset{i}{Σ} x_{i} M_{i}

···（式2）

其中，r_e表示电子的经典半径（2.818×10^-15m），N₀表示阿佛伽德罗常数，λ表示X射线的波长，ρ表示密度（g/cm³），Z_i、M_i、x_i分别表示第i原子的原子序号、原子量和原子数比（摩尔比），f_i’是第i原子的原子散射因子（异常色散项）。此外，如果忽略与吸收有关的β，则全反射临界角度θ_c可以用式3得到。由式2和式3的关系，密度ρ可用式4求得。

[数学式3]

θ_{c} = \sqrt{2 δ}

···（式3）

[数学式4]

ρ = \frac{{θ_{c}}^{2} \underset{i}{Σ} x_{i} M_{i}}{(\frac{r_{e} λ^{2}}{π}) N_{0} \underset{i}{Σ} x_{i} (Z_{i} + f_{i}^{'})}

···（式4）

其中，θ_c是可利用X射线反射率求得的值，r_e、N₀、λ为常数，Z_i、M_i、f_i’分别形成对构成原子而言固有的值。并且，关于x_i：原子数比（摩尔比），使用由XPS测定得到的结果。

阻气层的表层部的膜密度利用实施例中说明的方法测定，使用式4得到。

本发明的阻气层优选通过注入离子进行调整以满足上述要素（b）以及（c）。因此，本发明的粘着片的阻气层优选通过注入离子而成。

注入离子的时机，没有特别的限定，可举出例如在基材上形成阻气层后，在该阻气层中注入离子的顺序。

作为注入的离子，可举出氩、氦、氖、氪、氙等的稀有气体离子化得到的离子；氟碳、氢、氮、氧、二氧化碳、氯、氟、硫等的气体离子化得到的离子；金、银、铜、铂、镍、钯、铬、钛、钼、铌、钽、钨、铝等的金属离子等。

其中，从可更简便地注入，特别是可得到具有良好的阻气性和透明性的粘着片的观点考虑，优选选自由氢、氮、氧、氩、氦、氖、氙和氪组成的组中的至少一种的气体离子化得到的离子。

另外，离子的注入量根据粘着片的使用目的（需要的阻气性、透明性等）等适当决定。作为注入离子的条件，可以使用公知的条件，可举出例如实施例中记载的条件等。

作为注入离子的方法，可以列举：照射利用电场加速的离子（离子束）的方法、注入等离子体中的离子的方法（等离子体离子注入法）等。其中，从可简便地得到具有良好的阻气性等的粘着片的观点考虑，优选等离子体离子注入法。

等离子体离子注入法例如可如下进行：在含有等离子体生成气体的氛围下产生等离子体，并对阻气层施加负的高电压脉冲，由此可在阻气层的表面部注入该等离子体中的离子（阳离子）。

离子注入层形成部分的厚度可以通过离子的种类或施加电压、处理时间等的注入条件来控制，根据阻气层的厚度、粘着片的使用目的等来决定即可。

注入离子的部分的厚度优选为10-1000nm，更优选为10-500nm，进一步优选为10-250nm。

〔（3）粘着剂层〕

作为形成粘着剂层的粘着剂，没有特别的限定，可举出通常使用的粘着剂，例如丙烯酸系粘着剂、橡胶系粘着剂、聚氨酯系粘着剂、有机硅系粘着剂等。

作为丙烯酸系粘着剂，没有特别的限定，可举出例如含有选自(甲基)丙烯酸酯均聚物、含2种以上的(甲基)丙烯酸酯单元的共聚物、以及(甲基)丙烯酸酯与其它官能性单体的共聚物中的至少一种的粘着剂。另外，“(甲基)丙烯酸”意指丙烯酸或甲基丙烯酸（以下相同）。

作为(甲基)丙烯酸酯，优选烷基的碳原子数为1-20的(甲基)丙烯酸，可举出(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯等。

作为橡胶系粘着剂，可举出例如包括天然橡胶、在天然橡胶上接枝聚合选自(甲基)丙烯酸烷基酯、苯乙烯、(甲基)丙烯腈中的一种或两种以上的单体而成的改性天然橡胶系粘着剂、苯乙烯-丁二烯橡胶、丙烯腈-丁二烯橡胶、甲基丙烯酸甲酯-丁二烯橡胶、聚氨酯橡胶、聚异丁烯系树脂、聚丁烯树脂等的橡胶系粘着剂等。

其中，作为形成粘着剂层的粘着剂，从抑制水蒸气透过所形成的粘着剂层的端部的观点考虑，优选橡胶系粘着剂，更优选含有聚异丁烯系树脂的粘着剂，进一步优选同时含有聚异丁烯系树脂和聚丁烯树脂的粘着剂。

聚异丁烯系树脂为在主链或侧链上具有聚异丁烯骨架的树脂，为具有下述结构单位（a）的树脂，可举出异丁烯的均聚物的聚异丁烯；异丁烯和异戊二烯、异丁烯和正丁烯或者异丁烯和丁二烯的共聚物、将这些共聚物溴化或氯化的卤化丁基橡胶等。另外，聚异丁烯系树脂由异丁烯和正丁烯得到的共聚物的情况下，原料单体中，异丁烯是作为主要成分的最大量的单体。聚异丁烯系树脂可以单独使用或两种以上并用。

[化学式10]

聚异丁烯系树脂的重均分子量优选为20万-100万，更优选为25万-80万，进一步优选为30万-50万。为20万以上时，能够得到充分的粘着性组合物的凝聚力。此外，为100万以下时，粘着剂组合物的凝聚力不会变得过高，可得到充分的与被粘物的浸润性，此外，配制粘着剂时，可充分溶解到溶剂中。因此，通过选择适当的分子量，能够维持低的水蒸气透过率、高的凝聚力以及浸润性等。另外，该重均分子量（Mw）为用凝胶渗透色谱法（GPC）法测定的聚苯乙烯换算值（以下相同）。

聚丁烯树脂为具有长链状烃的分子结构的共聚物，可举出聚丁烯共聚物、乙烯-1-丁烯共聚物弹性体、乙烯-丙烯-1-丁烯共聚物弹性体、丙烯-1-丁烯共聚物弹性体、乙烯-1-丁烯-非共轭二烯共聚物弹性体、乙烯-丙烯-1-丁烯-非共轭二烯共聚物弹性体等的乙烯丙烯橡胶等。其中，优选聚丁烯共聚物。聚丁烯共聚物为异丁烯、1-丁烯、2-丁烯共聚得到的，其中，优选异丁烯-1-丁烯共聚物。

聚丁烯树脂可以单独使用或两种以上并用。该聚丁烯树脂用于与所述聚异丁烯系树脂良好地相溶，将该聚异丁烯系树脂适当地可塑化，提高对被粘物的浸润性，提高粘着物性、柔软性、保持力等。

聚丁烯树脂的重均分子量优选为500-10万，更优选为1000-5万，进一步优选为3000-1万。为500以上时，可以防止低分子成分分离使得被粘物污染、增加高温下产生的脱气等、对物性造成不良影响。此外，为10万以下时，可以得到充分的可塑化效果，与被粘物浸润性充分。上述重均分子量为用凝胶渗透色谱法（GPC）法测定的聚苯乙烯换算值。

聚丁烯树脂的含量，相对于聚异丁烯系树脂100质量份，优选为10-100质量份，更优选为15-100质量份，进一步优选为25-100质量份。

通过含有特定量的具有特定重均分子量的聚异丁烯系树脂和聚丁烯树脂，使得粘着力或凝聚力和水蒸气透过率的平衡性好，成为能够形成透明性良好的粘着剂层的粘着剂组合物。

本发明中使用的粘着剂组合物中，从提高光稳定剂性能、提高粘着剂层的耐久性的观点考虑，可以含有受阻胺系光稳定剂作为光稳定剂、受阻酚系抗氧化剂作为抗氧化剂。受阻胺系光稳定剂和受阻酚系抗氧化剂可以单独使用也可以两种以上并用。

作为受阻胺系光稳定剂，具体地，可举出丁二酸二甲酯-1-(2-羟基乙基)-4-羟基-2,2,6,6-四甲基哌啶缩聚物、聚[{6-(1,1,3,3-四甲基丁基)胺基-1,3,5-三嗪-2,4-二基}{(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)亚胺基}六亚甲基{(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)亚胺基、聚[{6-吗啉-s-三嗪-2,4-二基}{(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)亚胺基}六亚甲基{(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)亚胺基、N,N',N",N'"-四-(4,6-双-(丁基-(N-甲基-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)-4,7-二氮杂癸烷-1,10-二胺、双(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)[[3,5-双(1,1-二甲基乙基)-4-羟基苯基]甲基]丁基丙二酸酯、环己烷与过氧化正丁基-2,2,6,6-四甲基-4-哌啶胺-2,4,6-三氯-1,3,5-三嗪的反应产物与2-胺基乙醇的反应产物、癸烷二酸双(2,2,6,6-四甲基-1-(辛氧基)-4-哌啶基)酯、1,1-二甲基乙基氢过氧化物与辛烷的反应产物、双(1,2,2,6,6-五甲基-哌啶基)癸二酸酯和甲基-1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)癸二酸酯(混合物)、N,N',N'',N"'四-(4,6-双-(丁基-(N-甲基-2,2,6,6-四甲基哌啶-4-基)-4,7-二氮杂癸烷-1,10-二胺、双(1,2,2,6,6-五甲基-哌啶基)癸二酸酯和甲基1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基癸二酸酯(混合物)、双(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)癸二酸酯、1-{2-[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酰氧基]乙基}-4-[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酰氧基]-2,2,6,6-四甲基哌啶、4-苯甲酰氧基-2,2,2,6,-四甲基哌啶等。

作为受阻酚系抗氧化剂,具体地，三乙二醇-双[3-(3-叔丁基-5-甲基-4-羟基苯基)丙酸酯]、1,6-己二醇-双[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]、新戊四醇基·四[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]、2,2-硫-二乙烯双[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]、十八基-3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯、N,N'-六亚甲基双(3,5-二叔丁基-4-羟基-羟基桂皮酰胺、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基)苯、三-(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基)-异三聚氰酸酯、2,4-双-(正辛硫基)-6-(4-羟基-3,5-二叔丁基苯胺基)1,3,5-三嗪、2,4-双[(辛硫基)甲基]-ｏ-甲酚、2,6-二叔丁基-对甲酚、4,4'-亚丁基双-(6-叔丁基-3-甲基酚)、2,2'-亚甲基双-(4-甲基-6-叔丁基酚)、2,2'-亚甲基双-(4-乙基-6-叔丁基酚)、2,6-二叔丁基-4-乙基酚、1,1,3-三(2-甲基-4-羟基-5-叔丁基苯基)丁烷、1,3,5-三(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1H,3H,5H)三酮、异辛基(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯、1,6-乙二醇-双[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]、新戊四醇基·四[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]、2,2-硫-二乙烯双[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]、十八基-3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯、N,N'-六亚甲基双(3,5-二叔丁基-4-羟基-羟基桂皮酰胺、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基)苯、三-(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基)-异三聚氰酸酯、2,4-双-(正辛硫基)-6-(4-羟基-3,5-二叔丁基苯胺基)1,3,5-三嗪、2,6-二叔丁基-对甲酚、2,6-二叔丁基-4-乙基酚、1,3,5-三(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1H,3H,5H)三酮、异辛基(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯、2-叔丁基-6-(3-叔丁基-2-羟基-5-甲基苄基)-4-甲基苯基丙烯酸酯、2-[1-(2-羟基-3,5-二叔戊基苯基)乙基]-4,6-二叔戊基苯基丙烯酸酯、N,N'-六亚甲基双(3,5-二叔丁基-4-羟基-氢桂皮酰胺)、3,9-双[2-[3-(3-叔丁基-4-羟基-5-甲基苯基)丙酰氧基]1,1-二甲基乙基]2,4,8,10-四氧杂螺[5.5]十一烷、4,4'-硫双(6-叔丁基-3-甲基酚)、6-[3-(3-叔丁基-4-羟基-5-甲基苯基)丙氧基]-2,4,8,10-四叔丁基二苯并[d,f][1,3,2]二噁磷环庚烷等。

受阻胺系光稳定剂的含量，相对于聚异丁烯系树脂100质量份，优选为0.25-1.0质量份，更优选为0.4-1.0质量份。

此外，受阻酚系抗氧化剂的含量，相对于聚异丁烯系树脂100质量份，优选为0.25-1.0重量份，更优选为0.4-1.0质量份。

此外，在本发明中使用的粘着剂组合物中，可以进一步含有环状烯烃系聚合物。环状烯烃系聚合物对于涂布时的粘度的配制、可塑性效果引起的柔软性的提高、浸润性提高引起的初期粘着力的提高、凝聚力的增大等的目的是有用的。此外，在水蒸气透过率低的方面也是优选的。

本发明中，环状烯烃系聚合物是指含有来自环状烯烃系单体的重复单元的聚合物。环状烯烃系单体的键合方式只要能够在主链中引入环状结构，就没有特别的限定。

作为环状烯烃系聚合物，可举出将该单体的碳-碳不饱和键聚合而成的聚合物、将环状共轭二烯加成聚合而成的聚合物等，更具体地，可举出将具有降冰片烯环的脂环族系单体加成聚合而成的聚合物、与环状烯烃以外的可聚合的单体共聚而成的聚合物、将具有降冰片烯环的脂环族系单体开环聚合而成的开环聚合物、将单环的环状烯烃系单体加成聚合而成的聚合物、将环戊二烯或环己二烯等的环状共轭二烯系单体1,4-加成聚合而成的聚合物、将单环的环状烯烃系单体以及环状共轭二烯系单体与环状烯烃以外的可共聚的单体共聚而成的聚合物等。

此外，这些聚合物可以使用进一步氢化而成的聚合物，具体地，可举出作为粘着赋予剂公知的石油树脂氢化而成的所谓的氢化石油树脂等。

作为氢化石油树脂，可举出氢化率不同的部分氢化树脂、以及完全氢化树脂，从与所述聚异丁烯系树脂以及所述聚丁烯树脂的相溶性、水蒸气透过率、对高湿熱或紫外线的耐久性的观点考虑，优选完全氢化树脂。

另外，这些环状烯烃系聚合物可以单独使用或两种以上并用。

从粘着性、以及与被粘物的浸润性、以及与聚异丁烯系树脂的相溶性的观点考虑，环状烯烃系聚合物的重均分子量优选为200-5000，更优选为500-3000。

从粘着性、与被粘物的浸润性的观点考虑，相对于聚异丁烯系树脂100质量份，环状烯烃系聚合物的含量优选为10-300质量份，更优选为10-100质量份。

进一步，本发明中使用的粘着剂，在不阻碍粘着性等的范围内，可以进一步含有光稳定剂、抗氧化剂、紫外线吸収剤、树脂稳定剂、填充剂、颜料、增量剂、抗静电剂、粘着赋予剂等作为其它的的添加剤。这些添加剤可以单独使用也可以两种以上并用。

作为上述粘着剂层的厚度，没有特别的限制，可以根据粘着片的用途等适当地选定，优选为0.5-100μm，更优选为1-60μm，进一步优选为3-40μm。为0.5μm以上时，可得到对被粘物良好的粘着力，为100μm以下时，在生产性方面有利，可成为易操作的粘着片。

形成本发明的粘着剂层的方法，没有特别的限制，可以通过公知的方法来制备。例如，可将粘着剂组合物溶解于甲苯、乙酸乙酯、甲基乙基酮等的有机溶剂形成溶液，通过公知的涂布方法来制备。此时，该溶液的浓度，优选为10-60质量%，更优选为10-30质量%。

作为涂布方法，可举出例如旋涂法、喷雾涂布法、棒涂法、刮刀涂布法、辊涂法、刀片法、模涂法、凹版涂布法等方法。通过这些涂布方法，将上述粘着剂溶解到有机溶剂中的溶液涂布到基材或剥离片的剥离层面上后，为了防止溶剂或低沸点成分的残留，可在80-150℃的温度下加热干燥30秒-5分钟，可形成粘着剂层。

在本发明的粘着片中，可以在形成的粘着剂层上进一步根据期望设置剥离片。本发明的粘着片中，从搬运时或使用时的利便性考虑，优选在粘着剂层上层压剥离片。

在本发明的粘着片中，可以为剥离片位于构成粘着片的层的最外层的形态，也可以将双面上均具有脱模性的剥离片层压到所形成的粘着剂层上，并为直接卷取了的形态。

作为该剥离片，可举出例如玻璃纸、铜版纸、无纤维纸等的纸基材、在这些纸基材上层压了聚乙烯或聚丙烯等热塑性树脂的层压纸、或在上述基材上以纤维素、淀粉、聚乙烯醇、丙烯-苯乙烯树脂等进行填料处理的纸基材、或者聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等的聚酯薄膜、聚乙烯或聚丙烯等的聚烯烃薄膜等的塑料薄膜、以及在将剥离剂涂布在这些塑料薄膜上实施了易粘结处理的薄膜等上形成剥离剂层的片材。

作为剥离剂，例如可举出烯烃系树脂、异戊二烯系树脂、丁二烯系树脂等的橡胶系弹性体、长链烷基系树脂、醇酸系树脂、氟系树脂、有机硅系树脂等。

在剥离片的基材上形成的剥离剂層的厚度没有特别的限定，在将剥离剂溶解在上述的有机溶媒而制作的溶液涂布在基材上的情况下，优选为0.05-2.0μm，更优选为0.1-1.5μm。另一方面，使用聚乙烯或聚丙烯等的热可塑性树脂而形成剥离剂层的情况下，剥离剂层的厚度优选为3-50μm，更优选为5-40μm。

在40℃、相对湿度90%的氛围下，本发明的粘着片的粘着剂层的厚度为50μm的水蒸气透过率优选为25g/m²/天以下，更优选为10g/m²/天以下，进一步优选为8g/m²/天以下。水蒸气透过率为25g/m²/天以下，由于能够防止从粘着剂层的端部的水浸入，因此可适用于有机EL元件的密封。

此外，即使在粘着剂层的厚度薄时，本发明的粘着片也具有较高的粘着力。本发明的粘着片的粘着力优选为3N/25mm以上，更优选为5N/25mm以上。另外，本发明的粘着片的粘着力是指通过实施例中记载的方法而测定的值。

〔（4）其它层〕

本发明的粘着片可以设置上述的（1）-（3）以外的其它层。作为其它层，可举出无机化合物层、冲击吸收层、导电体层、底漆层等。另外，层压其它层的位置没有特别的限定，可以根据各层的作用而适当地选择。

（无机化合物层）

无机化合物层是包含一种或二种以上无机化合物的层。可进一步提高粘着片的阻气性。作为构成无机化合物层的无机化合物可以列举一般可真空成膜、且具有阻气性的化合物，例如可以列举无机氧化物、无机氮化物、无机碳化物、无机硫化物、作为它们的复合物的无机氧化氮化物、无机氧化碳化物、无机氮化碳化物、无机氧化氮化碳化物等。其中，本发明优选无机氧化物、无机氮化物、无机氧化氮化物。

作为无机氧化物，可举出用通式MO_x表示的金属氧化物。

式中，M表示金属元素。x的范围根据M的不同而有所不同，例如，M为硅(Si)时，则x为0.1-2.0，为铝(Al)时，则x为0.1-1.5，为镁(Mg)时，则x为0.1-1.0，为钙(Ca)时，则x为0.1-1.0，为钾(K)时，则x为0.1-0.5，为锡(Sn)时，则x为0.1-2.0，为钠(Na)时，则x为0.1-0.5，为硼(B)时，则x为0.1-1.5，为钛(Ti)时，则x为0.1-2.0，为铅(Pb)时，则x为0.1-1.0，为锆(Zr)时，则x为0.1-2.0，为钇(Y)时，则x为0.1-1.5范围的值。

其中，从形成透明性等良好的观点考虑，优选Ｍ为硅的硅氧化物、Ｍ为铝的铝氧化物、Ｍ为钛的钛氧化物，更优选为硅氧化物。另外，作为ｘ的值，从形成透明性等良好的层的观点考虑，Ｍ为硅时优选1.0-2.0的范围，为铝时优选为0.5-1.5的范围，为钛时优选为1.3-2.0的范围。

作为无机氮化物，可举出用通式MN_y表示的金属氮化物。

式中，M表示金属元素。y的范围根据M的不同而有所不同，M为硅(Si)时，则y=0.1-1.3，为铝(Al)时，则y=0.1-1.1，为钛(Ti)时，则y=0.1-1.3，为锡(Sn)时，则y=0.1-1.3范围的值。

其中，从形成透明性等良好的层的观点考虑，优选Ｍ为硅的硅氮化物、Ｍ为铝的铝氮化物、Ｍ为钛的钛氮化物、Ｍ为锡的锡氮化物，更优选为硅氮化物（SiN）。另外，作为y的值，从形成透明性等良好的层的观点考虑，Ｍ为硅时，优选y=0.5-1.3，为铝时，优选y=0.3-1.0，为钛时，优选y=0.5-1.3，为锡时，优选y=0.5-1.3的范围。

作为无机氧化氮化物，可举出用通式MO_xN_y表示的金属氧化氮化物。

式中，M表示金属元素。x和y的值根据M的不同，其范围分别不同。即，对于x、y，例如，M为硅(Si)时，则x=1.0-2.0、y=0.1-1.3，M为铝(Al)时，则x=0.5-1.0、y=0.1-1.0，M为镁(Mg)时，则x=0.1-1.0、y=0.1-0.6，M为钙(Ca)时，则x=0.1-1.0、y=0.1-0.5，M为钾(K)时，则x=0.1-0.5、y=0.1-0.2，M为锡(Sn)时，则x=0.1-2.0、y=0.1-1.3，M为钠(Na)时，则x=0.1-0.5、y=0.1-0.2，M为硼(B)时，则x=0.1-1.0、y=0.1-0.5，M为钛(Ti)时，则x=0.1-2.0、y=0.1-1.3，M为铅(Pb)时，则x=0.1-1.0、y=0.1-0.5，M为锆(Zr)时，则x=0.1-2.0、y=0.1-1.0，M为钇(Y)时，则x=0.1-1.5、y=0.1-1.0范围的值。

其中，从形成透明性等良好的层的观点考虑，优选Ｍ为硅的硅氧化氮化物、Ｍ为铝的铝氧化氮化物、Ｍ为钛的钛氧化氮化物，更优选硅氧化氮化物。另外，作为ｘ和y的值，从形成透明性等良好的层的观点考虑，Ｍ为硅时，优选ｘ=1.0-2.0、y=0.1-1.3，Ｍ为铝时，ｘ=0.5-1.0、y=0.1-1.0，Ｍ为钛时，ｘ=1.0-2.0、y=0.1-1.3的范围。

另外，在金属氧化物、金属氮化物以及金属氧化氮化物中也可以含有2种以上的金属。

作为无机化合物层的形成方法，没有特别的限制，例如可举出蒸镀法、溅射法、离子镀法、热CVD法、等离子体CVD法、动态离子混合法等。其中，本发明中，从简便地得到阻气性良好的层压体的观点考虑，优选磁控溅射法。

无机化合物层的厚度没有特别的限定，从提高阻气性的观点考虑，优选为10-1000nm，更优选为20-500nm，进一步优选为50-200nm。

（冲击吸收层）

冲击吸收层是在所述阻气层、无机化合物层施加冲击时，用于防止破裂的层，作为形成冲击吸收层的原材料没有特别的限定，例如，可使用丙烯酸系树脂、聚氨酯系树脂、有机硅系树脂、烯烃系树脂、橡胶系材料等。其中，优选丙烯酸系树脂、有机硅系树脂、橡胶系材料。

作为丙烯酸系树脂，可举出含有选自(甲基)丙烯酸酯均聚物、含2种以上的(甲基)丙烯酸酯单元的共聚物、以及(甲基)丙烯酸酯与其它官能性单体的共聚物中的至少一种作为主成分的树脂。

作为(甲基)丙烯酸酯，优选酯部分的碳原子数为1-20的(甲基)丙烯酸，更优选使用酯部分的碳原子数为4-10的(甲基)丙烯酸酯。作为这种(甲基)丙烯酸酯，可举出(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯等。

作为有机硅系树脂，可举出以二甲基硅氧烷为主成分的树脂。

作为橡胶系材料，可举出以异戊二烯橡胶、苯乙烯-丁二烯橡胶、聚异丁烯橡胶、苯乙烯-丁二烯-苯乙烯橡胶等为主成分的材料等。另外，形成冲击吸收层的原材料也可以使用市售的材料。

此外，冲击吸收层中也可以含有各种添加剂如抗氧化剂、可塑剂、紫外线吸收剂、着色剂、抗静电剂等的其它成分。

作为冲击吸收层的形成方法，没有特别的限定，例如可举出例如下述方法：与粘着剂层的形成方法相同，在应层压的层上，涂布含有形成所述冲击吸收层的原材料、和根据需要的溶剂等其它成分的冲击吸收层形成溶液，将所得涂膜干燥，并根据需要进行加热等来形成。另外，也可以将冲击吸收层在剥离基材上成膜，并将所得的膜转印并层压到应层压的层上。

冲击吸收层的厚度通常为1-100μm，优选为5-50μm。

（导电体层）

导电体层是在赋予抗静电性能时或使用粘着片作为电极时，用于具备导电性而设置的层。构成导电体层的材料可举出金属、合金、金属氧化物、电导性化合物、它们的混合物等。具体地，可举出掺杂了锑的氧化锡（ATO）；掺杂了氟的氧化锡（FTO）、氧化锡、氧化锌、氧化铟、氧化铟锡（ITO）、氧化锌铟（IZO）等导电性金属氧化物；金、银、铬、镍等金属；这些金属与导电性金属氧化物的混合物；碘化铜、硫化铜等无机导电性物质；聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯等有机导电性材料等。导电体层也可以是将由这些材料构成的层进行多层层压而成的层压体。

其中，从透明性的方面考虑，优选导电性金属氧化物，更优选ITO。

导电体层的形成方法可举出例如蒸镀法、溅射法、离子镀法、热CVD法、等离子体CVD法等。其中，从可简便地形成导电体层的观点考虑，优选溅射法。

溅射法是下述那样的方法：在真空槽内导入放电气体(氩等)，在靶与基板之间施加高频电压或直流电压，将放电气体等离子体化，通过使该等离子体撞击靶而使靶材料飞溅，并附着于基板上来得到薄膜。靶可以使用由形成上述导电体层的材料形成的靶。

导电体层的厚度可以根据其用途等而适当地选择，通常为10nm-50μm、优选为20nm-20μm。所得到的导电体层的表面电阻率通常为1000Ω/□以下。

对于形成的导电体层，也可以根据需要进行图案形成。作为图案形成的方法，可举出利用了光刻等的化学性蚀刻、使用了激光等的物理性蚀刻等、使用了掩模的真空蒸镀法或溅射法、剥离（リフトオフ）法、印刷法等。

（底漆层）

底漆层可以起到提高与基材层、阻气层、粘着剂层、或其它层的层间密合性的功能。通过设置底漆层，可以得到层间密合性和表面平滑性极其良好的粘着片。

构成底漆层的材料没有特别的限定，可使用公知的材料。可举出例如含有硅的化合物；含有由光聚合性单体和/或光聚合性预聚物形成的光聚合性化合物、以及至少由可见光区域的光而产生自由基的聚合引发剂的光聚合性组合物；聚酯系树脂、聚氨酯系树脂（特别是聚丙烯酸多元醇、聚酯多元醇、聚醚多元醇等与异氰酸酯化合物的双液固化型树脂）、丙烯酸系树脂、聚碳酸酯系树脂、氯乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯醇缩丁醛系树脂、硝基纤维素系树脂等的树脂类；钛酸烷基酯；乙烯亚胺；等。这些材料可以单独使用，或者将两种以上组合使用。

底漆层可以如下述那样来形成，即，将在适当的溶剂中溶解或分散构成所述底漆层的材料而成的底漆层形成用溶液涂敷在应形成层的单面或双面上，使所得涂膜干燥，根据需要进行加热来形成。

作为将底漆层形成用溶液涂敷在应形成层上的方法，可以使用通常的湿式涂布方法。可举出例如浸渍法、辊涂法、凹版涂布法、刮刀涂布法、气刀涂布法、辊刀涂布法、模涂布法、丝网印刷法、喷涂法、凹版胶印（グラビアオフセット）法等。

作为将底漆层形成用溶液的涂膜干燥的方法，可以采用热风干燥、热辊干燥、红外线照射等以往公知的干燥方法。底漆层的厚度通常为10-1000nm。

此外，在所得底漆层中，利用与前述的在阻气层中注入离子的方法相同的方法进行离子注入。通过在底漆层中也进行离子注入，可以得到阻气性更良好的粘着片。

本发明的粘着片的形状没有特别的限制，例如可举出片状等。在作为后述的电子设备用构件使用的情况下，优选为片状。

〔粘着片〕

本发明的粘着片的波长为550nm时的可见光透射率优选为85%以上，更优选为88%以上，进一步优选为90%以上。可见光透射率为85%以上时，作为后述的电子设备用构件，例如可以在有机EL元件中适合用作密封用途。另外，粘着片的可见光透射率可以使用公知的可见光透射率测定装置进行测定，在本发明中是指通过实施例记载的方法测定的值。

在40℃、相对湿度90%的氛围下，具有上述的阻气层以及粘着剂层的本发明的粘着片整体的水蒸气透过率优选为1.0g/m²/天以下，更优选为0.5g/m²/天以下，进一步优选为0.1g/m²/天以下。

此外，如上所述，由于本发明的粘着片具有良好的耐弯折性，即使进行弯折等，也能够维持阻气性。作为实施例记载的弯折试验后的粘着片整体的水蒸气透过率，在40℃、相对湿度90%的氛围下，优选为1.0g/m²/天以下，更优选为0.5g/m²/天以下，进一步优选为0.1g/m²/天以下。

[电子设备]

本发明的粘着片作为电子设备用构件，例如可用于有机EL元件的密封用途。由于本发明的粘着片具有良好的阻气性等，因此可防止例如电子设备中使用的有机EL元件等的劣化。图2表示使用了本发明的粘着片的有机EL元件的例子。该有机EL元件10中，在玻璃基板12上形成有层压了透明电极、正孔输送层、发光层以及背面电极等的结构体14。本发明的粘着片1具有在基材2上层压了阻气层3、和粘着剂层4的结构。该本发明的粘着片1的粘着剂层4通过将结构体14和玻璃基板12密合固定，而密封结构体14。

有机EL元件10是在玻璃基板12上形成结构体14后、粘贴本发明的粘着片16而被密封。通过本发明的粘着片，可简便地将元件密封。

本发明的电子设备具备本发明的粘着片作为电子设备用构件。由于本发明的粘着片具有良好的阻气性、透明性、耐弯折性等，因此可用于各种电子设备。作为本发明的电子设备，可举出液晶显示器、有机EL显示器、无机EL显示器、电子纸、太阳能电池等。

[实施例]

以下，列举实施例进一步详细地说明本发明。但是，本发明不受以下实施例的任何限定。

使用的等离子体离子注入装置、XPS测定装置、利用了X射线反射率法的膜密度测定装置、弯折试验的方法、水蒸气透过率测定装置和测定条件、粘着剂层的端部的水蒸气透过试验的方法、粘着力的测定方法、以及可见光透射率测定装置如以下所述。

（等离子体离子注入装置）

RF电源：日本电子社制、型号“RF”56000

高电压脉冲电源：栗田制作所社制、“PV-3-HSHV-0835”

另外，使用的等离子体离子注入装置为使用外部电场注入离子的装置。

等离子体离子注入的条件如以下所示。

·等离子体生成气体：Ar

·气体流量：100sccm

·占空比：0.5%

·重复频率：1000Hz

·施加电压：-10kV

·RF电源：频率13.56MHz、施加功率1000W

·腔室内压：0.2Pa

·脉冲宽度：5μsec

·处理时间（离子注入时间）：5分钟

·输送速度：0.2m/min

（XPS测定装置）

通过利用X射线光电子能谱（XPS：X-ray Photoelectron Spectroscopy）的元素分析，使用XPS测定装置进行阻气层的表层部（距表面5nm附近）的氧原子、氮原子、以及硅原子的存在比例的测定。测定装置和测定条件如以下所示。

测定装置：“PHI Quantera SXM”アルバックファイ社制

X射线源：AlKα

X射线束直径：100μm

功率值：25W

电压：15kV

取出角度：45°

真空度：5.0×10^-8Pa

（利用X射线反射率法的膜密度的测定装置）

阻气层的表层部的膜密度通过利用下述所示的测定条件测定X射线的反射率并求得全反射临界角θc，由其值算出。测定装置和测定条件如以下所述。

测定装置：薄膜评价用样品水平型X射线衍射装置“SmartLab”株式会社リガク制

测定条件：

X射线源：Cu-Kα1（波长：1.54059

）

光学体系：平行光束光学系统

入射侧狭缝系：Ge（220）2结晶、限高狭缝5mm、入射狭缝0.05mm

受光侧狭缝体系：受光狭缝0.10mm、索勒狭缝5°

检测器：闪烁计数器

管电压·管电流：45kV-200mA

扫描轴：2θ/θ

扫描模式：连续扫描

扫描范围：0.1-3.0deg.

扫描速度：1deg./min.

采样间隔：0.002°/step

另外，原子数比（上述式4中的x_i）使用由X射线光电子能谱测定得到的阻气层的表层部中的氧原子、氮原子和硅原子的存在比例。

（弯折试验的方法）

使粘着片的阻气层的表层部为外侧，在中央部分半折并通过在层压机（フジプラ社制，产品名“LAMIPACKER LPC1502”）的2根辊之间以层压速度为5m/min、温度为23℃的条件通过后，用显微镜观察弯折部分（100倍），观察有无裂纹发生。将没有裂纹发生的情况评价“无”，将有裂纹发生的情况评价为“有”。

（水蒸气透过率测定装置和测定条件）

水蒸气透过率为0.01g/m²/天以上时，使用水蒸气透过度计（LYSSY社制，产品名“L89-500”），水蒸气透过率不足0.01g/m²/天时，使用TECHNOLOX社制，“deltaperm”，在40℃、相对湿度90%的条件下测定粘着片的水蒸气透过率（表1中的“弯折前的水蒸气透过率”）。此外，对于上述的弯折试验后的粘着片的水蒸气透过率（表1中的“弯折后的水蒸气透过率”）同样地进行测定。

但是，关于粘着剂层的水蒸气透过率，将“聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜（三菱树脂社制，商品名“K200-6E”，厚度为6μm）（以下称为“PET6μm”）”粘贴在粘着剂层50μm的双面，以PET6μm/粘着剂层50μm/PET6μm的构成进行测定。

（粘着剂层的端部的水蒸气透过试验的方法）

将粘着剂的端部的水蒸气透过试验用的粘着片裁剪成外形尺寸为60mm×60mm，宽度为2mm的框体状，将轻剥离片剥离，并粘贴到70mm×70mm×2mm厚的玻璃板上。接着，将重剥离片剥离，在所述粘着片的框体的内侧粘贴湿度指示剂贴纸（アセイ工业社制，产品名“RH-70”）后，粘贴到另一片玻璃板上，使框体的内侧的空间成被2片玻璃板和粘着片密封。将制作的试验体放置于60℃、相对湿度90%的氛围下，然后，评价框体内的湿度。另外，使用的湿度指示剂在相对湿度70%下从白色向蓝色进行着色，其精度为25℃下±5%RH（RH：相对湿度）。评价基准如以下所示。

◎：湿度指示剂贴纸的颜色无变化

○：湿度指示剂贴纸的颜色有少许变化

（粘着力的测定方法）

粘着片制作后，在23℃、50%RH环境下粘结到不锈钢板上，按照JIS Z0237（2000年度修正版）的粘着力的测定法粘贴，24小时后，测定180°下的拉伸剥离粘着強度（N/25mm）。

（可见光透射率测定装置）

可见光透射率测定装置使用（岛津制作所社制，“UV-3101PC”），在测定波长550nm下测定粘着片的可见光透射率（%）。

<带有阻气层的基材的制作>

作为阻气层的材料，使用下述A和B的聚硅氮烷化合物。

·聚硅氮烷化合物A：以全氢聚硅氮烷为主成分的涂布材料（クラリアントジャパン社制，商品名“アクアミカNL110-20”）

·聚硅氮烷化合物B：以具有饱和烃基的有机聚硅氮烷化合物的混合物为主成分的涂布材料（クラリアントジャパン社制，商品名“tutoPromBright”）

（制备例1）

在作为基材的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜（三菱树脂社制，“PET38T-100”，厚度为38μm，以下称为“PET薄膜”）上通过旋涂涂布聚硅氮烷化合物A，在120℃加热1分钟，在PET薄膜上形成含有全氢聚硅氮烷的厚度为60nm的聚硅氮烷层。接着，使用等离子体离子注入装置将氩（Ar）在含有全氢聚硅氮烷的层的表面进行等离子体离子注入，制作“带有阻气层1的基材”。

（制备例2）

除了将加热时间从1分钟改变为5分钟以外，与制备例1同样地得到“带有阻气层2的基材”。

（制备例3）

除了使在PET薄膜上形成的含有全氢聚硅氮烷的层的厚度从60nm改变为100nm以外，与制备例2同样地得到“带有阻气层3的基材”。

（制备例4）

除了使在PET薄膜上形成的含有全氢聚硅氮烷的层的厚度从60nm改变为150nm以外，与制备例2同样地得到“带有阻气层4的基材”。

（制备例5）

除了将加热时间从1分钟改变为20分钟以外，与制备例1同样地得到“带有阻气层5的基材”。

（制备例6）

除了使用氮（N₂）代替氩来作为等离子体生成气体以外，与制备例2同样地得到“带有阻气层6的基材”。

（制备例7）

除了使进行离子注入时的施加电压为-5kV，来代替-10kV以外，与制备例2同样地得到“带有阻气层7的基材”。

（制备例8）

除了使进行离子注入时的施加电压为-15kV，来代替-10kV以外，与制备例2同样地得到“带有阻气层8的基材”。

（制备例9）

除了使用聚硅氮烷化合物B来代替聚硅氮烷化合物A以外，与制备例2同样地得到“带有阻气层9的基材”。

（制备例10）

除了使用氢（H₂）代替氩来作为等离子体生成气体以外，与制备例2同样地得到“带有阻气层10的基材”。

（制备例11）

除了使用氧（O₂）代替氩来作为等离子体生成气体以外，与制备例2同样地得到“带有阻气层11的基材”。

（制备例12）

除了使用氦（He）代替氩来作为等离子体生成气体以外，与制备例2同样地得到“带有阻气层12的基材”。

（制备例13）

除了使用氖（Ne）代替氩来作为等离子体生成气体以外，与制备例2同样地得到“带有阻气层13的基材”。

（制备例14）

除了使用氙（Xe）代替氩来作为等离子体生成气体以外，与制备例2同样地得到“带有阻气层14的基材”。

（制备例15）

除了使用氪（Kr）代替氩来作为等离子体生成气体以外，与制备例2同样地得到“带有阻气层15的基材”。

（制备例16）

除了未进行离子注入以外，与制备例2同样地制作“带有阻气层16的基材”。

（制备例17）

通过溅射法在PET薄膜上设置厚度为60nm的氮化硅（SiN）的膜，得到“带有阻气层17的基材”。

<粘着剂组合物的制作>

（制备例A）

将作为聚异丁烯树脂的“オパノールB50（BASF制，Mw：340000）”100质量份、作为聚丁烯树脂的“日石聚丁烯グレードHV-1900（新日本石油社制，Mw：1900）”30质量份、作为环状烯烃系聚合物的“Eastotac H-100LResin（イーストマンケミカル.Co.制，Mw：1000）”50质量份溶解到甲苯中，得到固体成分浓度为约18质量%的“粘着剂组合物A”。

（制备例B）

除了在制备例A中，将聚异丁烯系树脂改变为“オパノールB30SF（BASF制，Mw：200000）”以外，与制备例A同样地得到“粘着剂组合物B”。

（制备例C）

除了在制备例A中，将聚异丁烯系树脂改变为“オパノールB80SF（BASF制，Mw：750000）”，未添加聚丁烯树脂以外，与制备例A同样地得到“粘着剂组合物C”。

（制备例D）

将作为聚异丁烯树脂的“オパノールB50（BASF制，Mw：340000）”100质量份、“オパノールB30SF（BASF制，Mw：200000）”30质量份、作为氢化石油树脂的“アルコンP-100（荒川化学工业社制）”30质量份溶解到甲苯中，得到固体成分浓度为约18质量%的“粘着剂组合物D”。

（制备例E）

除了在制备例D中，将“オパノールB30SF”从30质量份改变为10质量份以外，与制备例E同样地得到“粘着剂组合物E”。

（制备例F）

除了在制备例A中，进一步添加作为受阻胺系光稳定剂的“TINUVIN765（チバ·ジャパン制）”0.5质量份、作为受阻酚系抗氧化剂的“IRGANOX1010（チバ·ジャパン制）”0.5质量份以外，与制备例A同样地得到“粘着剂组合物F”。

（制备例G）

将作为橡胶系粘着剂的TN-560（MOＲESCO社制）溶解到甲苯中，得到固体成分浓度为约20质量%的“粘着剂组合物G”。

（制备例H）

使用作为丙烯酸系溶剂型粘着剂的PK（商品名，リンテック社制)当作“粘着剂组合物H”。

<粘着片的制作>

（实施例1-22、比较例1-3）

使用如上述那样得到粘着剂组合物和制备例1-17中得到的带有阻气层的基材，按照以下那样制作实施例1-22、以及比较例1-3的粘着片。

粘着剂组合物和带有阻气层的基材的组合如表1所示。

使用辊刀涂布机将上述粘着剂组合物A-H涂布到轻剥离片（リンテック社制，商品名“SP-PET1031”）的剥离处理面上，使干燥后的膜厚为20μm，在100℃下干燥约1分钟，形成粘着剂层。接着，将带有上述阻气层1-17的基材的阻气层面层压到粘着剂面而贴合，得到粘着片。

<粘着剂的端部的水蒸气透过试验用的粘着片的制作>

使用辊刀涂布机将对应于实施例和比较例的粘着剂组合物涂布到重剥离片（リンテック社制，制品名“SP-PET3811”）的剥离处理面上，使干燥后的膜厚为50μm，在100℃下干燥约1分钟后，形成厚度50μm的粘着剂层，作为粘着剂的端部的水蒸气透过试验用。接着，将得到的粘着剂层和实施例1-22、比较例1-3的粘着片的基材面层压而贴合，得到粘着剂的端部的水蒸气透过试验用的粘着片（重剥离片/粘着剂层50μm/PET薄膜/粘着剂层20μm/轻剥离片）。

对于这样制作的实施例1-22以及比较例1-3的粘着片，将上述的各种物性值的测定结果或试验结果表示在表1中。

[表1]

从表1可知，具有满足上述要素（ア）-（ウ）的阻气层的实施例的粘着片与未满足该要素的比较例1-3的粘着片相比，水蒸气透过率小，具有高的阻气性。此外，在粘着剂层的端部的水蒸气透过试验中，几乎没有从粘着剂层的端部的水浸入，进而粘着力也充分。

此外，在弯折试验后，实施例的粘着片没有观察到阻气层的裂纹的产生，但形成无机膜（氮化硅膜）的比较例3可观察到裂纹的产生。此外，实施例的粘着片与比较例3相比，水蒸气透过率的上升少，耐弯折性良好，并且透明性也良好。

工业实用性

本发明的粘着片在有机晶体管或有机存储器、电致变色等的电子设备、LCD、触控面板、电子纸等显示器、太阳能电池等的光电转换设备、电化学发光设备、热电转换设备、压电转换设备等的各种电子设备中是有用的。

附图标记说明

1、1a、1b、1c粘着片

2、2a、2b基材

3、3a、3b阻气层

4、4a、4b、4c粘着剂层

10有机EL元件

12玻璃基板

14结构体

Claims

1.一种粘着片，该粘着片在基材上至少具有阻气层和粘着剂层，其特征在于，

所述阻气层由至少含有氧原子和硅原子的材料构成，

相对于所述阻气层的表层部中的氧原子、氮原子以及硅原子的存在总量，氧原子的存在比例为60-75%、氮原子的存在比例为0-10%，硅原子的存在比例为25-35%，

且所述阻气层的表层部的膜密度为2.4-4.0g/cm³。

2.根据权利要求1所述的粘着片，其中，构成所述阻气层的材料由聚硅氮烷化合物形成。

3.根据权利要求2所述的粘着片，其中，所述聚硅氮烷化合物为全氢聚硅氮烷。

4.根据权利要求1-3中任意一项所述的粘着片，其中，所述阻气层通过注入离子而形成。

5.根据权利要求4所述的粘着片，其中，所述离子是将选自由氢、氮、氧、氩、氦、氖、氙、以及氪组成的组中的至少一种气体离子化而得到的。

6.根据权利要求1-5中任意一项所述的粘着片，其中，在40℃、相对湿度90%的氛围下，50μm厚度的所述粘着剂层的水蒸气透过率为25g/m²/天以下。

7.根据权利要求1-6中任意一项所述的粘着片，其中，形成所述粘着剂层的粘着剂为橡胶系粘着剂或丙烯酸系粘着剂。

8.一种电子设备，该电子设备具备权利要求1-7中任意一项所述的粘着片作为电子设备用构件。