JP5918488B2 - ガスバリアフィルム積層体及び電子部材 - Google Patents
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Description
この問題を解決すべく、特許文献1には、透明プラスチックフィルムに金属酸化物からなる透明ガスバリア層を積層したフレキシブルディスプレイ基板が開示されている。
また、特許文献2には、プラスチックフィルムと、該プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に、ポリオルガノシルセスキオキサンを主成分とする樹脂層を積層してなるガスバリア性積層体が開示されている。
しかしながら、これらの文献に記載されたガスバリアフィルムは、ガスバリア性、紫外線遮断性、及び光学特性のバランスが十分ではなく、電子部材用として用いるには問題となっていた。
(1)少なくとも2枚のガスバリアフィルムが、粘着剤層を介して積層されたガスバリアフィルム積層体であって、前記ガスバリアフィルムの少なくとも1枚が、透明なプラスチックフィルムからなる基材と、該基材上に設けられた、少なくとも1層のガスバリア層を有し、前記粘着剤層が、ゴム系粘着剤及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を含有する粘着剤組成物よりなる層であることを特徴とするガスバリアフィルム積層体。
(2)前記ゴム系粘着剤が、ポリイソブチレン系樹脂を含むものである(1)に記載のガスバリアフィルム積層体。
(4)前記(1)〜(3)のいずれかに記載のガスバリアフィルム積層体を備える電子部材。
本発明のガスバリアフィルム積層体は、太陽電池や、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンス(EL)ディスプレイ等の電子部材用に最適である。
1)ガスバリアフィルム積層体
本発明のガスバリアフィルム積層体は、少なくとも2枚のガスバリアフィルムが、粘着剤層を介して積層されたガスバリアフィルム積層体であって、前記ガスバリアフィルムの少なくとも1枚が、透明なプラスチックフィルムからなる基材と、該基材上に設けられた、少なくとも1層のガスバリア層を有し、前記粘着剤層が、ゴム系粘着剤及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を含有する粘着剤組成物よりなる層であることを特徴とする。
本発明のガスバリアフィルム積層体の粘着剤層は、ゴム系粘着剤及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を含有する粘着剤組成物よりなる層(すなわち、粘着剤組成物を用いて形成された層)である。ゴム系粘着剤及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を含有する粘着剤組成物は、ガスバリア性に優れ、かつ紫外線遮断性能を併せ持ち、さらに光学特性にも優れる粘着剤層を形成することができる。
これらのゴム系化合物は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
ポリイソブチレン系樹脂の具体例としては、例えば、イソブチレンの単独重合体であるポリイソブチレン、イソブチレンとイソプレンの共重合体、イソブチレンとn−ブテンの共重合あるいはイソブチレンとブタジエンの共重合体、これら共重合体を臭素化又は塩素化したハロゲン化ブチルゴム等が挙げられる。なお、ポリイソブチレン系樹脂がイソブチレンとn−ブテンとから得られる共重合体である場合は、原料モノマー中、イソブチレンは主成分(最大量のモノマー)である。ポリイソブチレン系樹脂は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いてもよい。
前記粘着剤組成物は、ゴム系粘着剤に加えて、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を含有することを特徴とする。
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤は、太陽光中の有害な紫外線を吸収して、分子内で無害な熱エネルギーへと変換し、高分子中の光劣化開始の活性種が励起されるのを防止するものである。ゴム系粘着剤及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を含有する粘着剤組成物よりなる粘着剤層は、ガスバリア性、紫外線遮断性、粘着力及び光学特性のバランスに優れる。
粘着剤層に配合されるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の配合量が0.01質量部未満であると、紫外線の遮蔽効果が不十分になり、一方、配合量が30質量部超であると、析出や粘着物性の低下等の不具合が生じるおそれがある。
本発明のガスバリアフィルム積層体に用いるガスバリアフィルムは、その少なくとも1枚は、透明なプラスチックフィルムからなる基材と、該基材上に設けられた少なくとも1層のガスバリア層を有するものである。
プラスチックからなる基材の材料としては、透明性に優れるものであれば特に限定されず、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系ポリマー、芳香族系重合体等が挙げられる。これらは1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート等が挙げられる。
ポリアミドとしては、全芳香族ポリアミド、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン共重合体等が挙げられる。
シクロオレフィン系ポリマーとしては、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物が挙げられる。
用いる基材の可視光線透過率は、70%以上が好ましく、75%以上がより好ましい。
本発明に用いるガスバリアフィルムにおけるガスバリア層は、酸素や水蒸気の透過を抑制する特性(以下、「ガスバリア性」という)を有する層である。
酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ等の無機酸化物;
窒化珪素等の無機窒化物;
無機炭化物;無機硫化物;これらの複合体である無機酸化窒化物;無機酸化炭化物;無機窒化炭化物;無機酸化窒化炭化物;高分子化合物;等が挙げられる。
このようにガスバリア層を形成することにより、優れたガスバリア性を得ることができる。
なお、この場合、「ガスバリア層」とは、イオン注入により改質された部分のみを意味するのではなく、「イオン注入により改質された部分を有する高分子層」を意味する。
ポリオルガノシロキサン系化合物は、加水分解性官能基を有するシラン化合物を重縮合して得られる化合物である。
例えば、前記直鎖状の主鎖構造としては下記式(a)で表される構造が、ラダー状の主鎖構造としては下記式(b)で表される構造が、籠状の主鎖構造としては、例えば下記式(c)で表される構造が、それぞれ挙げられる。
ポリカルボシラン系化合物は、分子内の主鎖に、(−Si−C−)結合を有する高分子化合物である。なかでも、本発明に用いるポリカルボシラン系化合物としては、下記式(d)で表される繰り返し単位を含むものが好ましい。
1価の複素環基の具体例としては、2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピリジル基、2−チエニル基、3−チエニル基、2−フリル基、3−フリル基、3−ピラゾリル基、4−ピラゾリル基、2−イミダゾリル基、4−イミダゾリル基、1,2,4−トリアジン−3−イル基、1,2,4−トリアジン−5−イル基、2−ピリミジル基、4−ピリミジル基、5−ピリミジル基、3−ピリダジル基、4−ピリダジル基、2−ピラジル基、2−(1,3,5−トリアジル)基、3−(1,2,4−トリアジル)基、6−(1,2,4−トリアジル)基、2−チアゾリル基、5−チアゾリル基、3−イソチアゾリル基、5−イソチアゾリル基、2−(1,3,4−チアジアゾリル)基、3−(1,2,4−チアジアゾリル)基、2−オキサゾリル基、4−オキサゾリル基、3−イソオキサゾリル基、5−イソオキサゾリル基、2−(1,3,4−オキサジアゾリル)基、3−(1,2,4−オキサジアゾリル)基、5−(1,2,3−オキサジアゾリル)基等が挙げられる。
Rのアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基等の炭素数1〜10のアルキレン基が挙げられる。
ポリシラン系化合物は、分子内に、(−Si−Si−)結合を有する高分子化合物である。かかるポリシラン系化合物としては、下記式(e)で表される構造単位から選択された少なくとも一種の繰り返し単位を有する化合物が挙げられる。
シクロアルケニル基としては、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の炭素数4〜10のシクロアルケニル基が挙げられる。
シクロアルキルオキシ基としては、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の炭素数3〜10のシクロアルキルオキシ基が挙げられる。
アラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、フェニルプロピルオキシ基等の炭素数7〜20のアラルキルオキシ基が挙げられる。
置換基を有していてもよいアミノ基としては、アミノ基;アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アシル基等で置換されたN−モノ又はN,N−ジ置換アミノ基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
ポリシラン系化合物が非環状ポリシランである場合は、ポリシラン系化合物の末端基(末端置換基)は、水素原子であっても、ハロゲン原子(塩素原子等)、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シリル基等であってもよい。
また、ポリシラン系化合物の質量平均分子量は、300〜100,000、好ましくは400〜50,000、さらに好ましくは500〜30,000程度である。
ポリシラザン系化合物としては、式(f)
Rm、Rp、Rtは、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基又はアルキルシリル基等の非加水分解性基を表す。
シクロアルキル基としては、前記Rq等で例示したのと同様のものが挙げられる。
無機ポリシラザンとしては、下記式
(i)−(Rm’SiHNH)−(Rm’は、Rmと同様のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基又はアルキルシリル基を表す。以下のRm’も同様である。)を繰り返し単位として、主として重合度が3〜5の環状構造を有するもの、
(ii)−(Rm’SiHNRt’)−(Rt’は、Rtと同様のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基又はアルキルシリル基を表す。)を繰り返し単位として、主として重合度が3〜5の環状構造を有するもの、
(iii)−(Rm’Rp’SiNH)−(Rp’は、Rpと同様のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基又はアルキルシリル基を表す。)を繰り返し単位として、主として重合度が3〜5の環状構造を有するもの、
(iv)下記式で表される構造を分子内に有するポリオルガノ(ヒドロ)シラザン、
で表される繰り返し構造を有するポリシラザン等が挙げられる。
用いる2級アミン、アンモニア及び1級アミンは、目的とするポリシラザン系化合物の構造に応じて、適宜選択すればよい。
ケイ素アルコキシド付加ポリシラザン(特開平5−238827号公報)、グリシドール付加ポリシラザン(特開平6−122852号公報)、アセチルアセトナト錯体付加ポリシラザン(特開平6−306329号公報)、金属カルボン酸塩付加ポリシラザン(特開平6−299118号公報等)、
上記ポリシラザン又はその変性物に、アミン類及び/又は酸類を添加してなるポリシラザン組成物(特開平9−31333号公報)、ペルヒドロポリシラザンにメタノール等のアルコール或いはヘキサメチルジシラザンを末端N原子に付加して得られる変性ポリシラザン(特開平5−345826号公報、特開平4−63833号公報)等が挙げられる。
なお、ポリシラザン系化合物は、ガラスコーティング材等として市販されている市販品をそのまま使用することもできる。
本発明においては、高分子層の厚みがナノオーダーであっても、後述するようにイオンを注入することで、充分なガスバリア性能を有するフィルムを得ることができる。
メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン等のアルカン系ガス類のイオン;エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン等のアルケン系ガス類のイオン;ペンタジエン、ブタジエン等のアルカジエン系ガス類のイオン;アセチレン、メチルアセチレン等のアルキン系ガス類のイオン;ベンゼン、トルエン、キシレン、インデン、ナフタレン、フェナントレン等の芳香族炭化水素系ガス類のイオン;シクロプロパン、シクロヘキサン等のシクロアルカン系ガス類のイオン;シクロペンテン、シクロヘキセン等のシクロアルケン系ガス類のイオン;
金、銀、銅、白金、ニッケル、パラジウム、クロム、チタン、モリブデン、ニオブ、タンタル、タングステン、アルミニウム等の導電性の金属のイオン;
シラン(SiH4)又は有機ケイ素化合物のイオン;等が挙げられる。
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン等の無置換若しくは置換基を有するアルキルアルコキシシラン;
ジフェニルジメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等のアリールアルコキシシラン;
ヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)等のジシロキサン;
ビス(ジメチルアミノ)ジメチルシラン、ビス(ジメチルアミノ)メチルビニルシラン、ビス(エチルアミノ)ジメチルシラン、ジエチルアミノトリメチルシラン、ジメチルアミノジメチルシラン、テトラキスジメチルアミノシラン、トリス(ジメチルアミノ)シラン等のアミノシラン;
ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルシクロトリシラザン、ヘプタメチルジシラザン、ノナメチルトリシラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、テトラメチルジシラザン等のシラザン;
テトライソシアナートシラン等のシアナートシラン;
トリエトキシフルオロシラン等のハロゲノシラン;
ジアリルジメチルシラン、アリルトリメチルシラン等のアルケニルシラン;
ジ−t−ブチルシラン、1,3−ジシラブタン、ビス(トリメチルシリル)メタン、テトラメチルシラン、トリス(トリメチルシリル)メタン、トリス(トリメチルシリル)シラン、ベンジルトリメチルシラン等の無置換若しくは置換基を有するアルキルシラン;
ビス(トリメチルシリル)アセチレン、トリメチルシリルアセチレン、1−(トリメチルシリル)−1−プロピン等のシリルアルキン;
1,4−ビストリメチルシリル−1,3−ブタジイン、シクロペンタジエニルトリメチルシラン等のシリルアルケン;
フェニルジメチルシラン、フェニルトリメチルシラン等のアリールアルキルシラン;
プロパルギルトリメチルシラン等のアルキニルアルキルシラン;
ビニルトリメチルシラン等のアルケニルアルキルシラン;
ヘキサメチルジシラン等のジシラン;
オクタメチルシクロテトラシロキサン、テトラメチルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルシクロテトラシロキサン等のシロキサン;
N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド;
ビス(トリメチルシリル)カルボジイミド;
等が挙げられる。
これらのイオンは、一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いてもよい。
前記(γ)及び(δ)のプラズマイオン注入装置を用いる方法については、国際公開WO2010/021326号公報に記載のものが挙げられる。
本発明のガスバリアフィルム積層体は、少なくとも2枚のガスバリアフィルムが、前記粘着剤組成物よりなる粘着剤層を介して積層され、前記ガスバリアフィルムの少なくとも1枚が、前記プラスチックフィルムからなる基材と、前記基材上に設けられた少なくとも1層のガスバリア層を有していることを特徴とする。
また、本発明のガスバリアフィルム積層体において、積層するガスバリアフィルムの枚数は2以上であれば特に限定されない。ガスバリアフィルムの積層する枚数は、通常、2〜10である。
本発明のガスバリアフィルム積層体は、高い水蒸気バリア性を有し、かつ、積層界面で端部の浮きが発生しないため、各種の電子部材用に好適である。
保護層としては、透明性がよく、耐擦傷性が良好なことが要件であり、外部から衝撃が加わった場合に、ガスバリアフィルム積層体を保護する役割を担うものである。保護層が積層される位置は、特に限定されないが、ガスバリアフィルム積層体の最外層に積層されることが好ましい。
導電体層を構成する材料としては、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、これらの混合物等が挙げられる。具体的には、アンチモンをドープした酸化スズ(ATO);フッ素をドープした酸化スズ(FTO);酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛インジウム(IZO)等の導電性金属酸化物;金、銀、クロム、ニッケル等の金属;これら金属と導電性金属酸化物との混合物;ヨウ化銅、硫化銅等の無機導電性物質;ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール等の有機導電性材料;等が挙げられる。
導電体層の形成方法としては、例えば、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、熱CVD法、プラズマCVD法等が挙げられる。これらの中でも、簡便に導電体層が形成できることから、スパッタリング法が好ましい。
本発明のガスバリアフィルムは、基材層とガスバリア層の間、又は基材層若しくはガスバリア層とその他の層の間にプライマー層を有していてもよい。
プライマー層は、基材とガスバリア層、又はその他の層との層間密着性を高める役割を果たす。
図1(a)に示すガスバリアフィルム積層体100Aは、2枚のガスバリアフィルムが、粘着剤層を介して、ガスバリア層とガスバリア層とが粘着剤層を挟んで対向するように積層された層構成(基材/ガスバリア層/粘着剤層/ガスバリア層/基材)である。
図1(b)に示すガスバリアフィルム積層体100Bは、2枚のガスバリアフィルムが、粘着剤層を介して、ガスバリア層と基材とが粘着剤層を挟んで対向するように積層された層構成(基材/ガスバリア層/粘着剤層/基材/ガスバリア層)である。
これらの中でも、ガスバリアフィルム積層体は、図1(a)に示すように、少なくとも2枚のガスバリアフィルムが、ガスバリア層とガスバリア層とが粘着剤層を挟んで対向するように積層されていることが、ガスバリア層にキズやピンホールが発生し難く、水蒸気バリア性が低下しにくいことから好ましい。
次いで、図2(b)に示すように、剥離フィルム3上に粘着剤層4を形成して、粘着剤層付剥離フィルム20を得る。
本発明の電子部材は、上記の本発明のガスバリアフィルム積層体を備えることを特徴とする。
電子部材としては、例えば、液晶ディスプレイ部材、有機ELディスプレイ部材、無機ELディスプレイ部材、電子ペーパー部材、太陽電池、熱電変換部材等のフレキシブル基板等が挙げられる。
基材として、ポリエチレンテレフタレートフィルム(PET38 T−100、三菱樹脂社製、厚さ38μm、以下、「PETフィルム」という。)に、ポリシラザン化合物(ペルヒドロポリシラザンを主成分とするコーティング材(商品名:アクアミカNL110−20、クラリアントジャパン社製)をスピンコート法により塗布し、120℃で1分間加熱して、PETフィルム上にペルヒドロポリシラザンを含む厚さ150nmの層のポリシラザン層を形成した。
次に、プラズマイオン注入装置を用いてポリシラザン層の表面に、下記の条件にて、アルゴン(Ar)をプラズマイオン注入して、ガスバリア層を形成して、ガスバリアフィルムを作製した。
ガスバリア層を形成するために用いたプラズマイオン注入装置及びイオン注入条件は以下の通りである。
RF電源:日本電子社製、型番号「RF」56000
高電圧パルス電源:栗田製作所社製、「PV−3−HSHV−0835」
(プラズマイオン注入条件)
プラズマ生成ガス:Ar
ガス流量:100sccm
Duty比:0.5%
印加電圧:−6kV
RF電源:周波数 13.56MHz、印加電力 1000W
チャンバー内圧:0.2Pa
パルス幅:5μsec
処理時間(イオン注入時間):200秒
水蒸気透過率測定装置(TECHNOLOX社製、「deltaperm」)を用いて、得られたガスバリアフィルム積層シートの、RH90%、40℃の条件下における水蒸気透過度(g/m2/day)を測定した。
ガスバリアフィルム積層シートの、波長350nmの紫外線の遮断率(%)を測定した。測定は、島津製作所社製、紫外・可視・近赤外分光光度計 UV−3600にて測定した。
高温湿熱条件(60℃、湿度90%)下に150時間載置する前後での、ガスバリアフィルム積層シートの、可視光線透過率、黄色度、及びヘイズを測定した。
測定方法は以下の通りである。
(1)可視光線透過率
HAZE METER NDH5000(日本電色工業社製)にて、JIS K 7631−1に準じて、可視光線透過率(%)を測定した。
(2)黄色度
Spectro Color Meter SQ2000(日本電色工業社製)にて、JIS K 7105に準じて、黄色度(YI)測定した。
(3)ヘイズ
HAZE METER NDH5000(日本電色工業社製)にて、JIS K 7136に準じてヘイズを測定した。
ポリイソブチレン樹脂(オパノールB50、BASF製、Mw:340,000)100質量部、ポリブテン樹脂(日石ポリブテン グレードHV−1900、新日本石油社製、Mw:1900)30質量部、環状オレフィン系重合体(Eastotac H−100L Resin、イーストマンケミカル社製)50質量部、下記表1に示す種類及び量(質量%)の紫外線吸収剤をトルエンに溶解し、固形分濃度約18質量%の、粘着剤組成物1〜5をそれぞれ得た。
A:ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(製品名「TINUVIN109」、BASFジャパン社製)
B:ベンゾフェノン系紫外線吸収剤(製品名「サイアソーブUV−24」、サイテック社製)
C:ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤(製品名「TINUVIN477」、BASFジャパン社製)
ポリイソブチレン樹脂(オパノールB50、BASF製、Mw:340,000)100質量部、ポリブテン樹脂(日石ポリブテン グレードHV−1900、新日本石油社製、Mw:1900)30質量部、及び、環状オレフィン系重合体(Eastotac H−100L Resin、イーストマンケミカル社製)50質量部をトルエンに溶解し、固形分濃度約18質量%の、粘着剤組成物6を得た。
厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、シリコーン剥離層を設けてなる剥離フィルム(製品名:SP−PET381031、リンテック社製)の剥離層表面に、粘着剤組成物1をコンマダイレクトコート法にて塗布し、100℃で1分間乾燥させて、厚さ約10μmの粘着剤層を形成して、粘着剤層付剥離フィルムを得た。
次いで、上記で作製したガスバリアフィルムを2枚用意し、1枚のガスバリアフィルムのガスバリア層面と、粘着剤層付剥離フィルムAの粘着剤層面とを貼り合わせた。次に、剥離フィルムを剥離し、露出した粘着剤層面と、もう1枚のガスバリアフィルムのガスバリア層面とを貼り合わせて、図1に示すものと同様の層構成を有するガスバリアフィルム積層体1を作製した。
粘着剤組成物1に代えて、粘着剤組成物2〜6を用いた以外は実施例1と同様にして、実施例2〜3のガスバリアフィルム積層体2〜3、及び比較例1〜3のガスバリアフィルム積層体4〜6を作製した。
次いで、得られたガスバリアフィルム積層体1〜6の、水蒸気透過率、及び紫外線遮断率の測定、並びに、高温湿熱条件(60℃、湿度90%)下に150時間載置する前後での、ガスバリアフィルム積層シートの、可視光線透過率(%)、黄色度(YI)、及びヘイズの測定を行った。
測定結果を表2に示す。なお、下記表2では、実施例1〜3が、ガスバリアフィルム積層体1〜3に対応している。比較例1〜3が、ガスバリアフィルム積層体4〜6に対応している。
一方、比較例1〜2のガスバリアフィルム積層体4〜5は、水蒸気透過率が低く、ガスバリア性を有し、紫外線遮断率と可視光線透過率も高いものの、高温湿熱条件投入前後で黄色度、ヘイズが高く、光学特性が劣っていた。
また、比較例3のガスバリアフィルム積層体6は、ガスバリア性、光学特性は得られるものの、紫外線遮断性が得られなかった。
2・・・ガスバリア層
3・・・剥離フィルム
4・・・粘着剤層
10・・・ガスバリアフィルム
20・・・ガスバリア層付剥離フィルム
30・・・積層体
100A,100B・・・ガスバリアフィルム積層体
Claims (4)
- 少なくとも2枚のガスバリアフィルムが、粘着剤層を介して積層されたガスバリアフィルム積層体であって、
前記ガスバリアフィルムの、40℃、相対湿度90%雰囲気下での水蒸気透過率が、いずれも、1.0g/m2/day以下であり、
前記ガスバリアフィルムの少なくとも1枚が、透明なプラスチックフィルムからなる基材と、該基材上に設けられた、少なくとも1層のガスバリア層を有し、
前記粘着剤層が、ポリイソブチレン系樹脂を含むゴム系粘着剤及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を含有する粘着剤組成物よりなる層であり、
前記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の配合量が、前記粘着剤層全体を100質量部としたとき、0.1〜20質量部であることを特徴とするガスバリアフィルム積層体。 - 前記ガスバリアフィルム積層体のヘイズが、1.63〜1.75であり、
前記ガスバリアフィルム積層体を、高温湿熱条件(60℃、湿度90%)下に150時間載置した後の、前記ガスバリアフィルム積層体のヘイズが、1.84〜1.97であり、
前記ガスバリアフィルム積層体の、波長350nmの紫外線の遮断率が、97.9〜99.9%である請求項1に記載のガスバリアフィルム積層体。 - 少なくとも2枚のガスバリアフィルムが、粘着剤層を介して、ガスバリア層とガスバリア層とが対向するように積層されたものである
請求項1又は2に記載のガスバリアフィルム積層体。 - 請求項1〜3のいずれかに記載のガスバリアフィルム積層体を備える電子部材。
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