CN102483593A - 电子照相设备 - Google Patents

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Abstract

提供一种电子照相设备，其包括：包括表面保护层的电子照相感光构件和曝光装置，所述曝光装置用曝光光束照射所述电子照相感光构件的表面，从而在所述电子照相感光构件表面上形成静电潜像，其中所述表面保护层包括不具有提供电荷输送性能的结构的材料并具有从表面保护层正面侧至电荷输送层侧贯通的多个通孔，以及所述表面保护层的厚度为0.1μm以上至1.5μm以下，和其中当将所述电子照相感光构件表面用所述曝光光束照射时，2个以上的所述通孔包括在曝光光束光斑中。

Description

电子照相设备
技术领域
本发明涉及一种电子照相设备。
背景技术
近年来，以复印机和激光束打印机为代表的电子照相设备已在包括运行速度和图像品质的各种性能方面得到改进，期望利用电子照相设备作为不仅能够复印和输出办公文件而且还能够输出大容量的高品质图像的打印机。因此，实现电子照相设备的高图像品质和高耐久性受到极大重视。
这里，当将注意力集中在安装在电子照相设备中的电子照相感光构件时，重要的是使得电子照相感光构件的表面层提供电荷输送性能，以达到电子照相设备的高图像品质。出于该原因，经常将电荷输送材料引入至电子感光构件的表面层中。然而，当将电荷输送材料引入至电子照相感光构件的表面层中时，由于电荷输送材料的塑性导致表面层的机械强度劣化，这可能会引起感光构件和电子照相设备的运行性能的劣化。
考虑到上述情况，已研究了用于实现对于电子照相感光构件表面层的高电荷输送性能和高机械强度二者的材料。日本专利申请特开2005-241974公开了具有使用机械强度优异的树脂形成的表面层的电子照相感光构件。日本专利申请特开H 11-237751公开了具有通过三维交联导电性颗粒和可固化化合物形成的表面层的电子照相感光构件。日本专利申请特开2001-166502公开了具有通过三维交联具有提供电荷输送性能的结构的固化性化合物而形成的表面层的电子照相感光构件。
然而，从实现高图像品质和高耐久性二者的观点，其中安装具有日本专利申请特开2005-241974、日本专利申请特开H11-237751或日本专利申请特开2001-166502中公开的表面层的电子照相感光构件的此类电子照相设备仍存在进一步改进的空间。
引用文献列表
专利文献
PTL 1：日本专利申请特开2005-241974
PTL 2：日本专利申请特开H11-237751
PTL 3：日本专利申请特开2001-166502
发明内容
本发明的目的在于提供实现高图像品质和高耐久性二者的电子照相设备。
本发明为一种电子照相设备，其包括：
电子照相感光构件，其包括支承体，在所述支承体上形成的包含电荷产生材料的电荷产生层，在所述电荷产生层上形成的包含电荷输送材料的电荷输送层和在所述电荷输送层上形成的表面保护层；和
曝光装置，其基于图像信息用曝光光束照射所述电子照相感光构件的表面，从而在所述电子照相感光构件表面上形成静电潜像，
其中，所述表面保护层包括不具有提供电荷输送性能的结构的材料，并具有从所述表面保护层的正面侧至所述电荷输送层侧贯通的多个通孔，所述表面保护层的厚度为0.1μm以上至1.5μm以下，和
其中，当电子照相感光构件的表面用所述曝光光束照射时，两个以上所述通孔包括在曝光光束光斑(exposure beam spot)内。
本发明能够提供实现高图像品质和高耐久性的电子照相设备。
参照附图，从以下的示例性实施方案的描述，本发明进一步特征将变得显而易见。
附图说明
图1为说明曝光光束光斑的实例的概念图。
图2为说明电子照相感光构件的示例性层结构的图。
图3为说明电子照相感光构件的另一示例性层结构的图。
图4为说明电子照相设备的示例性结构的图。
图5为用于实施例1中的由石英玻璃掩模构成的阵列图案的局部放大图。
图6为说明用于形成通孔的激光加工装置的示意图。
图7为说明在实施例1的电子照相感光构件表面保护层中形成的通孔的阵列图案的局部放大图。
图8为说明在实施例2的电子照相感光构件表面保护层中形成的通孔的阵列图案的局部放大图。
图9为说明在实施例17的电子照相感光构件表面保护层中形成的通孔的阵列图案的局部放大图。
具体实施方式
根据本发明的电子照相设备具有电子照相感光构件和曝光装置，所述电子照相感光构件具有支承体、在所述支承体上形成的包含电荷产生材料的电荷产生层、在所述电荷产生层上形成的包含电荷输送材料的电荷输送层和在所述电荷输送层上形成的表面保护层；所述曝光装置基于图像信息用曝光光束照射所述电子照相感光构件表面以在所述电子照相感光构件表面上形成静电潜像。
首先，以下描述电子照相感光构件的表面保护层。
用于本发明电子照相设备的电子照相感光构件的表面保护层(下文中，另外称作“根据本发明的表面保护层”)具有从表面保护层正面侧至电荷输送层侧贯通的多个通孔。
在本发明中，设定通孔的尺寸、数目和排列以及曝光光束光斑的尺寸和曝光区域(图像形成区域)以使在曝光光束的光斑(曝光光束光斑)位于电子照相感光构件表面的图像形成区域中的任何地方，两个以上的通孔总是包括在施加至电子照相感光构件的表面上的曝光光束光斑中。结果，虽然通孔的数目根据其尺寸而变化，但是大量通孔存在于根据本发明的表面保护层表面的图像形成区域中。
在根据本发明表面保护层中，表面保护层的图像形成区域(用曝光光束照射的区域)中每100μm见方(10,000μm2)，优选地存在15个以上的通孔，更优选地存在35个以上的通孔。
此外，在本发明中，表面保护层的厚度为0.1μm以上至1.5μm以下，更优选地为0.3μm以上至1.0μm以下。表面保护层的厚度小于0.1μm，表面保护层的机械强度降低，电子照相感光构件和电子照相设备的运行性能易于降低。当表面保护层的厚度大于1.5μm时，表面保护层电性质劣化，因此输出图像的图像品质易于降低。
同时，在形成根据本发明的表面保护层时，不使用具有塑性的电荷输送材料，而仅使用不具有提供电荷输送性能的结构的材料。因此，与使用具有塑性的电荷输送材料而形成表面保护层的情况相比，可以防止表面保护层机械强度的降低和改进电子照相感光构件和电子照相设备的运行性能。此外，根据本发明的表面保护层中，存在多个通孔，并能够借助在这些通孔的开口中暴露的电荷输送层来确保适当的电性质，因此还能够防止输出图像的图像品质的劣化。
在本发明中，表面保护层和电荷输送层的电荷输送性能与由当能量(电场强度)为2.5×105V/cm时获得的电荷移动度(degree of charge transfer)(cm2/V·s)表示的性质有关，所述电荷移动度由通过静电复印飞行时间(xerographic time offlight)(X-TOF)技术测量的初期表面电位衰减曲线计算。电荷移动度的值越高，电荷输送性能越高。然而，当在表面保护层中存在多个通孔时，表面保护层的电荷移动度难以使用X-TOF测量。此外，当在表面保护层中存在多个通孔时，单独制备由与用于表面保护层的材料相同的材料制成并具有与表面保护层的厚度相同的厚度、但其中不具有通孔的样品膜(层)，从而根据上述方式测量该膜的电荷移动度，并将该测量结果作为表面保护层的电荷移动度给出。根据本发明的表面保护层为用不提供电荷输送性能的结构的材料代替的层，因此，当尝试通过X-TOF测量其电荷移动度时，因为电荷移动度太小，因此难以精确测量。具有即使当尝试根据上述方式测量电荷移动度时也难以测量的这样小的电荷移动度的根据本发明的表面保护层，能够看作不具有电荷输送性能的层。具体地，当层的电荷移动度的值小于通过用于本发明的电荷移动度的测量方法而测定的下限值(1.0×10-8cm2/V·s)时，该层看作为不具有电荷输送性能的层。
能够例如利用商购可得的激光显微镜、光学显微镜、电子显微镜和原子力显微镜，观察根据本发明的表面保护层所具有的通孔。
激光显微镜的实例包括超深度形状测量显微镜VK-8550、超深度形状测量显微镜VK-9000和超深度形状测量显微镜VK-9500(均由Keyence Corporation制造)；表面形状测量系统表面探测器SX-520DR型仪器(由Ryoka Systems Inc.制造)、共聚焦激光扫描显微镜OL S3000(由Olympus Corporation制造)和真实色激光共聚焦显微镜光学装置C130(由Lasertec Corporation制造)。
光学显微镜的实例包括数字显微镜VHX-900、数字显微镜VHX-500和数字显微镜VHX-200(均由Keyence Corporation制造)，以及3D数字显微镜VC-7700(由Omron Corporation制造)。
电子显微镜的实例包括3D真实表面观察显微镜VE-9800和3D真实表面观察显微镜VE-8800(均由Keyence Corporation制造)，扫描电子显微镜常规/可变压力SEM(由SII NanoTechnology Inc.制造)和扫描电子显微镜SUPERSCAN SS-55(由Shimadzu Corporation制造)。
原子力显微镜的实例包括纳米级复合显微镜VN-8000(由Keyence Corporation制造)，扫描探针显微镜NANONAVISTATION(由SII Nano Technology Inc.制造)，以及扫描探针显微镜SPM-9600(由Shimadzu Corporation制造)。
在本发明中，通过超深度形状测量显微镜(VK-9500，由Keyence Corporation制造)观察通孔以确定在测量视野中的通孔的最大直径、最小直径和深度。更具体地，在距离电子照相感光构件两端50mm的位置和中央部三点处观察电子照相感光构件的表面(表面保护层的表面)。这里，确定用于观察三点的位置以致所述三点存在于沿电子照相感光构件的轴向(垂直于周向的方向)的同一直线上。使用分析程序测量观察到的通孔的最大直径、最小直径和深度，然后计算其平均值。
注意，通孔的最大直径和最小直径是指当从电子照相感光构件的正面侧观察时通孔形状(通孔的表面形状(开口的形状))的最大直径和最小直径。当通孔的表面形状通过两平行线夹置时，彼此最大分离的两条平行线之间的间隔(距离)为通孔的最大直径；以及彼此最接近的两条平行线之间的间隔(距离)为通孔的最小直径。例如，当通孔的表面形状为正方形时，通孔的最大直径为正方形的对角线长度，以及其最小直径为该正方形一边的长度。当通孔的表面形状为圆形时，通孔的最大直径和最小直径二者均为圆的直径。当通孔的表面形状为椭圆时，通孔的最大直径为椭圆的最大直径，以及其最小直径为该椭圆的最小直径。
接着，以下描述曝光装置。
用于本发明电子照相设备的曝光装置可以为基于图像信息利用曝光光束照射电子照相感光构件表面的曝光装置。例如，曝光装置可以为使用半导体激光器的曝光扫描光学系统，以及可以为使用LED、液晶快门、有机EL等的固定式光学装置。从该曝光装置发射的曝光光束通常具有高斯分布形式或洛伦兹分布形式的光强度分布。本发明的曝光光束光斑是指图1中示出的在曝光光束强度分布中由最大值1(E0)限定的光斑区域的部分至光束强度降低至1/e2(E1)的部分。如图1所示，在曝光光束光斑2的直径中，通常存在最小直径(短轴直径)3和最大直径(长轴直径)4。
如上所述，本发明的电子照相设备为采用在电子照相感光构件的表面保护层中形成的两个以上的通孔包括在从曝光装置发射至电子照相感光构件表面上的曝光光束光斑中的电子照相设备。当仅一个通孔包括在曝光光束光斑中时，和当意欲输出具有预定的实心区域的图像时或意欲输出细线时，通孔的排列状态反映在输出图像上，因此输出图像的图像品质劣化。换言之，这导致图像缺陷，例如预定的图像区域不完全是实心的，或者细线在中间中断或不均匀。相对地，在本发明中，由于两个以上的通孔包括在曝光光束光斑中，因此通过用曝光光束照射在电子照相感光构件表面上形成的静电潜像的精确度得到改进。因此，能够防止该图像缺陷发生，并能够改进输出图像的图像品质。注意，为了进一步改进静电潜像的精确度，包括在曝光光束光斑内的通孔数目可优选增加至5个以上。此外，当在电子照相感光构件的表面保护层中形成的各通孔的最大直径由A[μm]表示和曝光光束光斑的最小直径由B[μm]表示时，A[μm]和B[μm]可以优选满足由以下表达式(1)表示的关系。
1≤A≤B×0.4(1)
满足上述条件的具体实例将参照图1和8描述。如图8所示，当将曝光光束施加至具有表面保护层的电子照相感光构件的表面时，5个以上的通孔包括在曝光光束光斑中，在所述表面保护层中，各自具有最大直径A为15μm的正六棱柱状通孔以1μm的相对间隔排列以致曝光光束光斑的最大直径B(图1)为40μm和曝光光束光斑的最大直径为50μm。此外，在该情况下，满足由表示式(1)表示的关系。此外，如图9所示，还在使用具有其中以中心间隙为4μm设置各自具有直径为3μm的圆筒状通孔的表面保护层的电子照相感光构件的情况下，获得相同的结果。
接着，以下描述用于本发明电子照相设备的电子照相感光构件的结构。
用于本发明电子照相设备的电子照相感光构件包括支承体、在所述支承体上形成的电荷产生层、在所述电荷产生层上形成的电荷输送层和在所述电荷输送层上形成的表面保护层。在表面保护层中，存在从表面保护层正面侧至电荷输送层侧贯通的多个通孔。
图2和3各自示出电子照相感光构件的示例性层结构。
具有图2中示出的层结构的电子照相感光构件具有支承体21和顺次设置在所述支承体21上的电荷产生层22、电荷输送层23和表面保护层24。
此外，如图3所示，用于抑制干涉条纹和覆盖支承体21表面中的缺陷的导电层25和具有阻挡作用的底涂层26(此外也称为“中间层”或“阻挡层”)可以设置在支承体21和电荷产生层22之间。
作为支承体，优选具有导电性的支承体(导电性支承体)。例如，可使用由金属如铝、铝合金或不锈钢制成的支承体。在由铝或铝合金制成支承体的情况下，可使用以下：ED管、EI管和已进行切割、电解复合抛光或湿法或干法珩磨的此类管。支承体形状的实例包括圆筒状和带状。
意欲覆盖支承体表面上的缺陷(擦痕等)的导电层可以设置在支承体上。
导电层能够如下形成：将导电性颗粒、粘结剂树脂和溶剂分散以获得导电层涂布液，并将导电层涂布液施涂于支承体上，接着干燥(固化)。
溶剂的实例包括醚类溶剂如四氢呋喃和乙二醇二甲醚；醇类溶剂如甲醇；酮类溶剂如甲乙酮；和芳香烃溶剂如甲苯。
导电性粉末的实例包括：炭黑、乙炔黑；金属颗粒如铝、镍、铁、镍铬合金、铜、锌和银等；和金属氧化物颗粒如氧化锡和ITO。
用于导电层的粘结剂树脂的实例包括：聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-马来酸酐共聚物、聚酯、聚氯乙烯、氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、聚醋酸乙烯酯、聚偏二氯乙烯、聚芳酯树脂、苯氧基树脂、聚碳酸酯、醋酸纤维素树脂、乙基纤维素树脂、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯基甲苯、聚-N-乙烯基咔唑、丙烯酸类树脂、硅酮树脂、环氧树脂、三聚氰胺树脂、聚氨酯树脂、酚醛树脂和醇酸树脂。
导电层厚度优选为5μm以上至40μm以下，更优选10μm以上至30μm以下。
具有阻挡作用的底涂层(电阻挡性能(electrical barrierproperties))的底涂层可以设置在支承体或导电层上。
底涂层能够如下形成：将树脂(粘结剂树脂)溶解在溶剂中以获得底涂层涂布液，并将底涂层涂布液施涂于支承体或导电层上，接着干燥。
用于底涂层的粘结剂树脂的实例包括：聚乙烯醇、聚乙烯基甲基醚、聚丙烯酸、甲基纤维素、乙基纤维素、聚谷氨酸、干酪素、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酰胺-酰亚胺、聚酰胺酸、三聚氰胺树脂、环氧树脂、聚氨酯和聚谷氨酸酯。这些树脂中，从电阻挡性、涂布性和粘附性(adhesion)的角度，有利地使用聚酰胺。
底涂层厚度优选为0.1μm以上至2.0μm以下。
可以将半导体颗粒和电子输送材料引入底涂层中以防止在底涂层中电荷(载流子)流动被扰乱。
包含电荷产生材料的电荷产生层设置在支承体、导电层或底涂层上。
电荷产生层能够如下形成：将电荷产生材料、粘结剂树脂和溶剂分散以获得电荷产生层涂布液，并将电荷产生层涂布液施涂于支承体、导电层或底涂层上，接着干燥。分散方法的实例包括利用均化器、超声波、球磨机、砂磨机、超微磨碎机或辊磨机等的方法。电荷产生材料(P)与粘结剂树脂(B)的比例(P∶B)优选在10∶1至1∶10(质量比)的范围内，更优选在3∶1至1∶1(质量比)的范围内。
电荷产生材料的实例包括：偶氮颜料如单偶氮、双偶氮和三偶氮颜料；酞菁颜料如金属酞菁颜料和非金属酞菁颜料；靛蓝颜料如靛蓝和硫靛蓝；苝颜料如苝酸酐和苝酸酰亚胺；多环醌颜料如蒽醌和芘醌；方酸菁(sq uarylium)染料；吡喃鎓盐、噻喃鎓盐；三苯甲烷染料；无机材料如硒、硒-碲和非晶硅；喹吖啶酮颜料；薁鎓盐(azulenium salt)颜料；花青染料；氧杂蒽染料；醌亚胺染料；苯乙烯基染料；和苯乙烯基染料。这些电荷产生材料可单独使用或组合使用。这些中，从灵敏性角度，优选金属酞菁如氧钛酞菁、羟基镓酞菁和氯化镓酞菁。
用于电荷产生层的粘结剂树脂的实例包括：聚碳酸酯、聚酯、多芳基化合物、缩丁醛树脂、聚苯乙烯、聚乙烯醇缩醛、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、丙烯酸类树脂、甲基丙烯酸类树脂、醋酸乙烯酯树脂、酚醛树脂、硅酮树脂、聚砜、苯乙烯-丁二烯共聚物、醇酸树脂、环氧树脂、脲醛树脂和氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物。这些中，优选使用缩丁醛树脂。这些粘结剂树脂可单独使用或者作为混合物或共聚物组合使用。
用于电荷产生层涂布液的溶剂的实例包括醇类溶剂、亚砜类溶剂、酮类溶剂、醚类溶剂、酯类溶剂和芳香烃溶剂。
电荷产生层厚度优选为0.05μm以上至5μm以下，更优选0.1μm以上至2μm以下。
此外，可将敏化剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、增塑剂等引入至该电荷产生层中。此外，可以将电子输送材料引入电荷产生层中以防止在电荷产生层中的电荷(载流子)流动被扰乱。
包含电荷输送材料的电荷输送层设置在电荷产生层上。
电荷输送层能够如下形成：将电荷输送材料和粘结剂树脂溶解在溶剂中以获得电荷输送层涂布液，并将电荷输送层涂布液施涂于电荷产生层上，接着干燥。电荷输送材料(D)与粘结剂树脂(B)的比例(D∶B)优选在2∶1至1∶2(质量比)范围内。
电荷输送材料的实例包括三芳胺化合物、腙化合物、苯乙烯基化合物、茋化合物、吡唑啉化合物、噁唑化合物、噻唑化合物和三烯丙基甲烷化合物。这些电荷输送材料可单独使用或组合使用。
用于电荷输送层的粘结剂树脂的实例包括：聚碳酸酯、聚酯、多芳基化合物、缩丁醛树脂、聚苯乙烯、聚乙烯醇缩醛、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、丙烯酸类树脂、甲基丙烯酸类树脂、醋酸乙烯酯树脂、酚醛树脂、硅酮树脂、聚砜、苯乙烯-丁二烯共聚物、醇酸树脂、环氧树脂、脲醛树脂和氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物。这些中，优选使用聚碳酸酯和多芳基化合物。这些粘结剂树脂可单独使用或者作为混合物或共聚物组合使用。
用于电荷输送层涂布液的溶剂的实例包括醇类溶剂、亚砜类溶剂、酮类溶剂、醚类溶剂、酯类溶剂和芳香烃溶剂。
电荷输送层的平均厚度优选为5μm以上至40μm以下，更优选10μm以上至30μm以下。
由不具有提供电荷输送性能的结构的材料构成的表面保护层设置在电荷输送层上。
在表面保护层中，作为形成该表面保护层的材料(粘结剂材料)，能够使用树脂如热塑性树脂(如聚碳酸酯、聚酯、多芳基化合物)，和可固化树脂(如(甲基)丙烯酸类树脂、酚醛树脂、硅酮树脂和环氧树脂)。
当该树脂为热塑性树脂时，表面保护层可以如下形成：将该树脂溶解在溶剂中以获得表面保护层涂布液，并将表面保护层涂布液施涂于电荷输送层上，接着干燥。
当该树脂为可固化树脂时，表面保护层可以如下形成：将包含具有可聚合官能团的化合物的表面保护层涂布液施涂在电荷输送层上，然后进行加热或用紫外线或辐射线照射以聚合和固化具有链可聚合的官能团的化合物。作为辐射线，可使用γ-射线、电子束等。然而，优选使用电子束。可聚合官能团的实例包括链可聚合官能团例如(甲基)丙烯酸基团和环氧基团。
作为在表面保护层中形成通孔的方法，例举以下方法。
表面保护层中的通孔能够使用激光烧蚀或光刻法形成。此类通孔还可以通过在高湿度环境下在将表面保护层涂布液施涂至电荷输送层后结露(dew condensation)来形成。此外，将表面保护层涂布液施涂至电荷输送层上，并且通孔可以通过结露形成，在所述表面层涂布液中，包含使用疏水性溶剂和具有沸点高于疏水性溶剂沸点的亲水性溶剂的混合溶剂。
接着，将描述本发明的电子照相设备的结构。
图4示出装配有具有电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的示意性结构。
在图4中，附图标记1表示圆筒状电子照相感光构件，所述电子照相感光构件被驱动以沿箭头所示方向以预定的圆周速度围绕轴2旋转。
将经驱动而旋转的电子照相感光构件1在旋转期间通过充电单元(一次充电单元：充电辊等)3在其表面上均匀充以预定的正或负的电势。然后，将电子照相感光构件1的表面基于预期图像信息用从曝光单元(未显示)发射的曝光光束(图像的曝光光束)4照射。因此，对应于预期图像信息的静电潜像形成于电子照相感光构件1的表面。
因此在电子照相感光构件1表面上形成的静电潜像通过显影单元5用调色剂显影，从而形成调色剂图像。接着，将在电子照相感光构件1表面上如此形成的调色剂图像通过来自转印单元(转印辊等)6的转印偏压转印到转印材料(如纸)P上。该转印材料P以与电子照相感光构件1同步旋转的方式，从转印材料进给单元(未示出)进给并送至电子照相感光构件1与转印单元6之间的接触部。
将在其表面上承载调色剂图像的转印材料P与电子照相感光构件1表面分离，并导向定影单元8以进行图像定影，从而将转印材料P作为成像物(打印件、复印件等)打印出至电子照相设备外部。
将在图像转印至转印材料P后的电子照相感光构件1的表面通过清洁单元(清洁刮板等)7清洁，从而除去残留在其表面上的残余调色剂(未转印调色剂)。此外，使电子照相感光构件1的表面暴露至来自预曝光装置(未显示)的预曝光光(未显示)以不带电(diselectrification)，此后重复用于图像形成。在充电单元3为采用充电辊的接触充电单元的情况下，不需要预曝光。
在本发明中，选自电子照相感光构件1、充电单元3、显影单元5、转印单元6和清洁单元7的两个以上组件可以容纳在一个容器中从而一体化为处理盒。将处理盒可拆卸地安装至电子照相设备主体例如复印机和激光束打印机。在图4中，将电子照相感光构件1、充电单元3、显影单元5和清洁单元7一体化地支承以构成处理盒9，所述处理盒9使用电子照相设备主体的导向单元10(轨道等)而可拆卸地安装于电子照相设备的主体上。注意，作为清洁单元7，通常使用清洁刮板，然而，也可使用毛刷、磁刷等。
下文中，将参照具体实施例进一步详细地描述本发明，然而，所述实施例不应解释为限定本发明的范围。注意，在以下实施例和比较例中，术语“份”是指“质量份”，“Mw”是指“重均分子量(Mw)”和“Mv”是指“粘均分子量(Mv)”。
实施例1
将具有直径84mm和长度370.0mm的表面已进行表面切削处理的铝圆筒体用作支承体(圆筒状导电性支承体)。
接着，将作为导电性颗粒的6.6份用缺氧型(oxygen-deficient)氧化锡涂布的氧化钛颗粒(粉体电阻率：80Ω·cm；用缺氧型氧化锡的覆盖率(质量比)：50质量％)、作为粘结剂树脂的5.5份酚醛树脂(商品名：PLYHOFEN J-325；由Dainippon Ink and Chemicals Industries Co.，Ltd.生产；树脂固成分：60质量％)和作为溶剂的5.9份甲氧基丙醇投入使用1mm直径玻璃珠的砂磨机中分散3小时，从而制备分散液。在分散液中，加入作为表面粗糙化材料的0.5份硅酮树脂颗粒(商品名：TOSPEARL 120；由GE Toshiba Silicones Co.，Ltd.生产；平均粒径：2μm)和作为流平剂的0.001份硅油(商品名：SH28PA；由Dow Corning Toray Co.，Ltd.生产)并搅拌，从而制备导电层涂布液。将该导电层涂布液浸涂在支承体上，接着在140℃下干燥并热固化30分钟，从而形成具有厚度15μm的导电层。注意，该厚度为在距离支承体涂层顶部130mm位置处测量的平均厚度，并同样适用于以下描述中。
接着，将4份N-甲氧基甲基化尼龙树脂(商品名：TORESINEF-30T；由Teikoku Chemical Industries Co.，Ltd.生产)和2份共聚物尼龙树脂(AMILAN CM 8000；由Toray Industries，Inc.生产)溶解在65份甲醇/30份正丁醇的混合溶剂中，从而制备底涂层涂布液。将该底涂层涂布液浸涂在导电层上，接着在100℃下干燥10分钟，从而形成具有0.5μm厚度的底涂层。
接着，将10份在CuKαX射线衍射中在布拉格角(2θ±0.2°)为7.5°、9.9°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°处具有强峰的晶形的羟基镓酞菁晶体、5份聚乙烯醇缩丁醛(商品名：由ESLEC BX-1，Sekisui Chemical Co.，Ltd.生产)和250份环己酮投入使用具有1mm直径玻璃珠的砂磨机中，然后分散1小时，接着向其中加入250份乙酸乙酯，从而制备电荷产生层涂布液。将该电荷产生层涂布液浸涂在底涂层上，接着在100℃下干燥10分钟，从而形成具有0.16μm厚度的电荷产生层。
接着，将75份具有由下式(2-2)表示的重复结构单元的聚碳酸酯(Mv：20,000，商品名：IUPILON Z200，由Mitsubishi GasChemical Company，Inc.生产)和75份由下式(3-1)表示的化合物(电荷输送材料)溶解在500份一氯苯/100份二甲氧基甲烷的混合溶剂中，从而制备电荷输送层涂布液。
Figure BDA0000138615340000161
将该电荷输送层涂布液浸涂在电荷产生层上，接着在120℃下干燥1小时，从而形成具有15μm厚度的电荷输送层。
接着，将15份具有由上式(2-2)表示的重复结构单元的聚碳酸酯(Mv：20,000，商品名：IUPILON Z200，由Mitsubishi GasChemical Company，Inc.生产)溶解在500份一氯苯/100份二甲氧基甲烷的混合溶剂中，从而制备表面保护层涂布液。该聚碳酸酯为不具有提供电荷输送性能的结构的树脂。将该表面保护层涂布液喷涂在电荷输送层上，接着在120℃下干燥1小时，从而形成具有1.5μm厚度的表面保护层。
接着，使用KrF准分子激光器(波长λ＝248nm，脉冲宽度＝17ns)在表面保护层中形成多个通孔。在通孔形成时，使用具有其中将如图5所示的具有最大直径为75μm的正六棱柱状激光束透过部以25μm的间隔(相对间隔：25μm)排列的图案的石英玻璃掩模。来自KrF准分子激光器的激光束的照射能量为0.9J/cm2，每次发射激光束的激光束照射区域为1.4mm见方(1.96mm2)。在图5中，黑色部分为激光束屏蔽部，白色部分为激光束透过部。图6示出用于形成通孔的激光加工装置的示意性结构。在图6中，在使电子照相感光构件61旋转和将转分子激光照射装置(KrF准分子激光器)62的激光束照射位置63沿电子照相感光构件61的轴向移动的同时，在电子照相感光构件61的表面上进行激光束照射，从而在表面保护层中形成多个通孔。注意，激光加工装置装配有工件移动装置64和工件旋转电机65。
以上述方式，生产其中在支承体上顺次形成导电层、底涂层、电荷产生层、电荷输送层和表面保护层，并且在表面保护层中形成多个通孔的电子照相感光构件。
以上述方式观察生产的电子照相感光构件表面。这里，在三个不同的点进行观察，在观察点中获得基本上相同的结果(同样适用于以下实施例中)。在观察时，确认如图7所示的各自具有最大直径A为15μm和深度为1.5μm的正六棱柱状通孔以5μm的间隔(相对间隔：5μm)形成于表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，2个以上的通孔包括在曝光光束光斑中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在15个以上的通孔。
评价
将生产的电子照相感光构件安装在由包括扫描曝光型曝光装置、具有由Canon Inc.制造的半导体激光器(商品名：iRC6800)的电子照相复印机改造的复印机中，并如下进行评价。调整曝光装置以从其施加至电子照相感光构件表面的曝光光束光斑具有40μm的最小直径和50μm的最大直径。将该复印机改造以使所述电子照相感光构件负带电。
图像品质：
在常温/常湿环境(23℃/50RH％)下，设定输出分辨率为600dpi和输出线-间隔图像(line-space image)(一条线(细线)-一间隔图像)和半色调图像。目视观察这些输出图像以评价其整个图像品质。此外，将这些输出图像通过光学显微镜以100倍放大倍率捕获，并评价线和半色调的再现性。注意，输出图像的图像品质基于以下标准评价。图像品质的评价结果示于表1中。
A：在线图像中未观察到线中断部分、不均匀和图像浓度的差异，此外，在半色调图像中未观察到不规则半色调点排列和图像浓度的差异，因此，输出图像是非常清楚的。
B：输出图像几乎是清楚的，但在小部分线中观察到线中断部分和不均匀。
C：在一部分线中或作为整个线图像中观察到线中断部分、不均匀和图像浓度的差异。在一部分半色调或作为整个半色调图像中观察到不规则半色调点排列和图像浓度的差异，因此，输出图像是不清楚的。
运行性能：
在每5秒间歇地输出10张A4尺寸纸的间歇输出条件下，进行使用A4尺寸纸张的图像输出运行性能试验。作为试验图表，使用具有5％打印率的图表，条件是在10张间歇输出中，仅在1张上打印试验图表，并且在剩余的9张上打印实心白色图像。注意，通过使用激光显微镜(VK-9500，由Keyence Corporation制造)观察每打印100张后的电子照相感光构件表面直至表面保护层磨损并消失来进行图像输出运行性能试验。将在该试验中输出的纸张总数目定义为运行性能。结果示于表1中。
电荷输送性能：
电荷输送层和表面保护层的电荷移动度(电荷输送性能)如上所述测量。作为测量的结果，求得电荷输送层的电荷移动度为5×10-6cm2/V·s。不能测量表面保护层的电荷移动度，这是因为值太小(表面保护层不具有电荷输送性能)。此外，在其他实施例和比较例中求得同样的值。
实施例2
除了使用具有不同图案的石英玻璃掩模代替用于实施例1中的石英玻璃掩模之外，以与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件。以与实施例1中相同的方式观察生产的电子照相感光构件表面，并确认各自具有15μm最大直径和1.5μm深度的正六棱柱状通孔以1μm的间隔(相对间隔：1μm)形成在表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，5个以上的通孔包括在曝光光束光斑中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在35个以上的通孔。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
实施例3
除了使用具有不同图案的石英玻璃掩模代替用于实施例1中的石英玻璃掩模之外，以与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件。以与实施例1中相同的方式观察生产的电子照相感光构件表面，并确认各自具有10μm最大直径和1.5μm深度的正六棱柱状通孔以3μm的间隔(相对间隔：3μm)形成在表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，5个以上的通孔包括在曝光光束光斑中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在35个以上的通孔。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
实施例4
除了使用具有不同图案的石英玻璃掩模代替用于实施例1中的石英玻璃掩模之外，以与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件。以与实施例1中相同的方式观察生产的电子照相感光构件表面，并确认各自具有5μm最大直径和1.5μm深度的正六棱柱状通孔以2μm的间隔(相对间隔：2μm)形成在表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，5个以上的通孔包括在曝光光束光斑中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在35个以上的通孔。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
实施例5
除了使用具有不同图案的石英玻璃掩模代替用于实施例1中的石英玻璃掩模之外，以与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件。以与实施例1中相同的方式观察生产的电子照相感光构件表面，并确认各自具有1μm最大直径和1.5μm深度的正六棱柱状通孔以1μm的间隔(相对间隔：1μm)形成在表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，5个以上的通孔包括在曝光光束光斑中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在35个以上的通孔。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
实施例6
除了将表面保护层厚度改变至0.1μm，和来自KrF准分子激光器的激光束的照射能量改变至0.1J/cm2以外，以与实施例5相同的方式生产电子照相感光构件。以与实施例1中相同的方式观察生产的电子照相感光构件表面，并确认各自具有1μm最大直径和0.1μm深度的正六棱柱状通孔以1μm的间隔(相对间隔：1μm)形成在表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，5个以上的通孔包括在曝光光束光斑中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在35个以上的通孔。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
实施例7
除了使用具有不同形状的石英玻璃掩模代替用于实施例2中的石英玻璃掩模之外，以与实施例2中相同的方式生产电子照相感光构件。以与实施例1中相同的方式观察生产的电子照相感光构件表面，并确认各自具有16μm最大直径和1.5μm深度的正六棱柱状通孔以1μm的间隔(相对间隔：1μm)形成在表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，5个以上的通孔包括在曝光光束光斑中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在35个以上的通孔。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
实施例8
除了将表面保护层厚度改变至0.1μm，和来自KrF准分子激光器的激光束的照射能量改变至0.1J/cm2以外，以与实施例7相同的方式生产电子照相感光构件。以与实施例1中相同的方式观察生产的电子照相感光构件表面，并确认各自具有16μm最大直径和0.1μm深度的正六棱柱状通孔以1μm的间隔(相对间隔：1μm)形成在表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，5个以上的通孔包括在曝光光束光斑中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在35个以上的通孔。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
实施例9
除了使用具有不同图案的石英玻璃掩模代替用于实施例7中的石英玻璃掩模之外，以与实施例7中相同的方式生产电子照相感光构件。以与实施例1中相同的方式观察生产的电子照相感光构件表面，并确认各自具有20μm最大直径和1.5μm深度的正六棱柱状通孔以1μm的间隔(相对间隔：1μm)形成在表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，5个以上的通孔包括在曝光光束光斑中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在35个以上的通孔。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
实施例10
除了使用具有不同图案的石英玻璃掩模代替用于实施例8中的石英玻璃掩模之外，以与实施例8中相同的方式生产电子照相感光构件。以与实施例1中相同的方式观察生产的电子照相感光构件表面，并确认各自具有20μm最大直径和0.1μm深度的正六棱柱状通孔以1μm的间隔(相对间隔：1μm)形成在表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，5个以上的通孔包括在曝光光束光斑中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在35个以上的通孔。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
实施例11至16
除了调整各电子照相感光构件以致由此施加至电子照相感光构件表面的曝光光束的光斑具有50μm的最小直径和60μm的最大直径以外，分别以与实施例5-10中相同的方式生产电子照相感光构件。以与实施例1中相同的方式各自评价生产的电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
比较例1
除了在表面保护层中不形成通孔以外，以与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
比较例2
除了使用具有不同图案的石英玻璃掩模代替用于实施例1中的石英玻璃掩模之外，以与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件。以与实施例1中相同的方式观察生产的电子照相感光构件表面，并确认各自具有50μm最大直径和1.5μm深度的正六棱柱状通孔以50μm的间隔(相对间隔：50μm)形成在表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，仅至多1个通孔包括在曝光光束光斑中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在7个以下的通孔。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
比较例3
除了使用具有不同图案的石英玻璃掩模代替用于实施例1中的石英玻璃掩模之外，以与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件。以与实施例1中相同的方式观察生产的电子照相感光构件表面，并确认各自具有2μm直径和1.5μm深度的圆柱形通孔以42μm的中心间隙形成在表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，仅至多1个通孔包括在曝光光束光斑中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在7个以下的通孔。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
实施例17
以与实施例1中相同的方式，在支承体上顺次形成导电层、底涂层、电荷产生层和电荷输送层。
接着，将625份一氯苯、1,455份二甲氧基甲烷、25份三甘醇、25份四氢糠醇和85份具有由下式(2-1)表示的重复单元的多芳基化合物(芳族聚酯，Mw：120,000；对苯二甲酸结构与间苯二甲酸结构的摩尔比：50∶50)混合以溶解多芳基化合物，从而制备表面保护层涂布液。
Figure BDA0000138615340000251
该多芳基化合物为不具有提供电荷输送性能的树脂。将表面保护层涂布液喷涂在电荷输送层上。之后，将用表面保护层涂布液涂布在其外表面的支承体在常温/常湿环境(23℃/50RH％)中静置3分钟，从而将多个通孔形成于表面保护层涂布液的涂膜中。接着，将具有在其表面上形成多个通孔的表面保护层涂布液的涂膜在120℃下干燥1小时，从而形成具有0.1μm厚度的表面保护层。
以上述方式，生产其中在支承体上顺次形成导电层、底涂层、电荷产生层、电荷输送层和表面保护层，并且在表面保护层中形成多个通孔的电子照相感光构件。
以与实施例1中相同的方式观察生产的电子照相感光构件表面，并确认如图9所示的各自具有3μm直径和0.1μm深度的圆筒状通孔以4μm的中心间隙形成在表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，5个以上的通孔包括在曝光光束光斑中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在35个以上的通孔。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
实施例18
除了将实施例17中的表面保护层的厚度改变为0.5μm之外，以与实施例17中相同的方式制造电子照相感光构件。以与实施例1中相同的方式观察生产的电子照相感光构件表面，并确认各自具有3μm直径和0.5μm深度的圆筒状通孔以4μm的中心间隙形成在表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，5个以上的通孔包括在曝光光束光斑中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在35个以上的通孔。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
实施例19
除了将表面保护层的厚度改变为1.0μm之外，以与实施例17中相同的方式制造电子照相感光构件。以与实施例1中相同的方式观察生产的电子照相感光构件表面，并确认各自具有3μm直径和1.0μm深度的圆筒状通孔以4μm的中心间隙形成在表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，5个以上的通孔包括在曝光光束光斑中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在35个以上的通孔。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
实施例20
除了将表面保护层的厚度改变为1.5μm之外，以与实施例17中相同的方式制造电子照相感光构件。以与实施例1中相同的方式观察生产的电子照相感光构件表面，并确认各自具有3μm直径和1.5μm深度的圆筒状通孔以4μm的中心间隙形成在表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，5个以上的通孔包括在曝光光束光斑中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在35个以上的通孔。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
比较例4
以与实施例1中相同的方式，在支承体上顺次形成导电层、底涂层、电荷产生层和电荷输送层。
接着，将85份具有由上式(2-1)表示的重复单元的多芳基化合物(芳族聚酯，Mw：120,000；对苯二甲酸结构与间苯二甲酸结构的摩尔比：50∶50)和34份由上式(3-1)表示的化合物(电荷输送材料)溶解在625份一氯苯/1,455份二甲氧基甲烷的混合溶剂中，从而制备表面保护层涂布液。将该表面保护层涂布液喷涂在电荷输送层上，接着在120℃下干燥1小时，从而形成具有0.1μm厚度的表面保护层。该表面保护层也可以称为第二电荷输送层。
以上述方式，生产其中在支承体上顺次形成导电层、底涂层、电荷产生层、电荷输送层和表面保护层的电子照相感光构件。
以与实施例1中相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
比较例5
除了将表面保护层的厚度改变为1.7μm之外，以与实施例17中相同的方式生产电子照相感光构件。以与实施例1中相同的方式观察生产的电子照相感光构件表面，并确认各自具有3μm直径和1.7μm深度的圆筒状通孔以4μm的中心间隙形成在表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，5个以上的通孔包括在曝光光束光斑中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在35个以上的通孔。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
比较例6
除了将表面保护层的厚度改变为2.0μm之外，以与实施例17中相同的方式生产电子照相感光构件。以与实施例1中相同的方式观察生产的电子照相感光构件表面，并确认各自具有3μm直径和2.0μm深度的圆筒状通孔以4μm的中心间隙形成在表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，5个以上的通孔包括在曝光光束光斑中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在35个以上的通孔。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
实施例21
除了将2份2，6-双(1，1-二甲基乙基)-4-甲基苯酚(抗氧化剂)进一步添加至表面保护层涂布液中，并将表面保护层的厚度改变至1.0μm之外，以与实施例17中相同的方式生产电子照相感光构件。以与实施例1中相同的方式观察生产的电子照相感光构件表面，并确认各自具有3μm直径和1.0μm深度的圆筒状通孔以4μm的中心间隙形成在表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，5个以上的通孔包括在曝光光束光斑中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在35个以上的通孔。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
实施例22
除了将10份疏水化二氧化硅粉末(商品名：KMPX-100，平均粒径：0.1μm，由Shin-Etsu Chemical Co.，Ltd.生产)进一步添加至表面保护层涂布液中，并将表面保护层厚度改变至1.0μm之外，以与实施例17中相同的方式生产电子照相感光构件。以与实施例1中相同的方式观察生产的电子照相感光构件表面，并确认各自具有3μm直径和1.0μm深度的圆筒状通孔以4μm的中心间隙形成在表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，5个以上的通孔包括在曝光光束光斑中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在35个以上的通孔。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
实施例23
以与实施例1中相同的方式，在支承体上顺次形成导电层、底涂层、电荷产生层和电荷输送层。
接着，将30份新戊二醇改性的三羟甲基丙烷二丙烯酸酯(商品名：KAYARAD R604，由Nippon Kayaku Co.，Ltd.生产)溶解在300份1-丙醇中，从而制备表面保护层涂布液。将该表面保护层涂布液浸涂在电荷输送层上，接着在50℃下进行加热10分钟。之后，将用表面保护层涂布液涂布在其外表面的支承体在高温/高湿环境(70℃/90RH％)下静置3分钟，从而将多个通孔形成于表面保护层涂布液的涂膜中。接着，在加速电压为150kV、束电流为3.0mA的条件下，在以200rpm旋转圆筒体的同时，将在其表面上形成的具有多个通孔的表面保护层涂布液的涂膜在氮气气氛下用电子束照射1.6秒。接着，在氮气气氛下，将表面保护层涂布液的涂膜通过经30秒从25℃至125℃增加其温度进行热固化反应。注意，在电子束照射和热固化反应中采用的气氛的氧气浓度为15ppm以下。其后，将表面保护层涂布液的涂膜放置在空气中自然冷却至25℃，然后在100℃下进行加热30分钟，从而形成具有1.0μm厚度的表面保护层。
以上述方式，生产其中在支承体上顺次形成导电层、底涂层、电荷产生层、电荷输送层和表面保护层，并且在表面保护层中形成多个通孔的电子照相感光构件。
以与实施例1中相同的方式观察生产的电子照相感光构件表面，并确认各自具有5μm直径和1.0μm深度的圆筒状通孔以6μm的中心间隙形成在表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，5个以上的通孔包括在曝光光束光斑点中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在35个以上的通孔。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
实施例24
除了将用于制备表面保护层涂布液中的30份新戊二醇改性的三羟甲基丙烷二丙烯酸酯改变至30份三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(商品名：KAYARAD TMPTA，由Nippon Kayaku Co.，Ltd.生产)之外，以与实施例23中相同的方式生产电子照相感光构件。以与实施例1中相同的方式观察生产的电子照相感光构件表面，并确认各自具有5μm直径和1.0μm深度的圆筒状通孔以6μm的中心间隙形成在表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，5个以上的通孔包括在曝光光束光斑中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在35个以上的通孔。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
实施例25
除了将用于制备表面保护层涂布液中的30份新戊二醇改性的三羟甲基丙烷二丙烯酸酯改变至30份二季戊四醇六丙烯酸酯(商品名：KAYARAD DPHA，由Nippon Kayaku Co.，Ltd.生产)之外，以与实施例23中相同的方式生产电子照相感光构件。以与实施例1中相同的方式观察生产的电子照相感光构件表面，并确认各自具有5μm直径和1.0μm深度的圆筒状通孔以6μm的中心间隙形成在表面保护层中。该图案形状为当将曝光光束施加至电子照相感光构件表面以致光束光斑的最小直径为40μm和其最大直径为50μm时，5个以上的通孔包括在曝光光束光斑中的形状。此外，表面保护层的图像形成区域中每100μm见方存在35个以上的通孔。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
比较例7
除了在表面保护层的涂膜中不形成通孔以外，以与实施例23中相同的方式生产电子照相感光构件。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
比较例8
除了在表面保护层的涂膜中不形成通孔以外，以与实施例24中相同的方式生产电子照相感光构件。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
比较例9
除了在表面保护层的涂膜中不形成通孔以外，以与实施例25中相同的方式生产电子照相感光构件。以与实施例1相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
比较例10
以与实施例1中相同的方式，在支承体上顺次形成导电层、底涂层、电荷产生层和电荷输送层。
接着，将15份具有由上式(2-2)表示的重复结构单元的聚碳酸酯(Mv：20,000，商品名：IUPILON Z200，由Mitsubishi GasChemical Company，Inc.生产)和15份由上式(3-1)表示的化合物(电荷输送材料)溶解在500份一氯苯/100份二甲氧基甲烷的混合溶剂中，从而制备表面保护层涂布液。将该表面保护层涂布液喷涂在电荷输送层上，接着在120℃下干燥1小时，从而形成具有1.5μm厚度的表面保护层。该表面保护层也可以称为第二电荷输送层。
以上述方式，生产其中在支承体上顺次形成导电层、底涂层、电荷产生层、电荷输送层和表面保护层的电子照相感光构件。
以与实施例1中相同的方式评价该电子照相感光构件。评价结果示于表1中。
注意，本发明中的粘均分子量(Mv)和重均分子量(Mw)根据以下方法测量。
粘均分子量(Mv)的测量方法：
将作为测量对象的树脂(0.5g)溶解于100ml二氯甲烷中，并使用改进的乌氏型粘度计测量混合溶液在25℃下的相对粘度。接着，由相对粘度确定其极限粘度，以及作为测量对象的树脂的粘均分子量(Mv)通过马克-豪温克粘度方程计算。粘均分子量(Mv)作为通过凝胶渗透色谱(GPC)测量的苯乙烯换算值确定。
重均分子量(Mw)的测量方法：
将作为测量对象的树脂放置在四氢呋喃中并静置几小时。之后，将测量对象树脂和四氢呋喃在震荡的同时良好混合(混合直至观察不到测量对象树脂的聚集物)，接着进一步使得静置12小时以上。之后，提供已通过由Tosoh Corporation制造的样品处理过滤器MAISHORIDISK H-25-5的混合物产物作为凝胶渗透色谱(GPC)用样品。接着，将柱在40℃下的加热室中稳定，然后在该温度下将溶剂四氢呋喃以1ml/min的流速进给至柱。接着，将10μl GPC样品注入柱中，从而测定测量对象树脂的重均分子量(Mw)。作为柱，使用柱(TSKgel SuperHM-M，由TosohCorporation制造)。为了测定测量对象树脂的重均分子量(Mw)，由通过几种单分散聚苯乙烯标准样品制作的校准曲线的对数值和计数值之间的关系计算测量对象树脂所具有的分子量分布。用于制作校准曲线的标准聚苯乙烯样品为由Sigma-AldrichCorporation生产的十种不同分子量：3,500；12,000；40,000；75,000；98,000；120,000；240,000；500,000；800,000；和1,800,000的单分散聚苯乙烯。使用的检测器为RI(折射率)检测器。
表1
Figure BDA0000138615340000341
虽然已参照示例性实施方案描述了本发明，但是理解的是，本发明不限于所公开的示例性实施方案。以下权利要求书的范围应符合最宽泛的解释，从而涵盖所有此类改造和等同的结构及功能。
本申请要求2009年8月31日提交的日本专利申请2009-199499和2010年8月25日提交的日本专利申请2010-188397的权益，在此将其整体引入以作参考。

Claims (3)

1.一种电子照相设备，其包括：
电子照相感光构件，所述电子照相感光构件包括支承体、在所述支承体上形成的包含电荷产生材料的电荷产生层、在所述电荷产生层上形成的包含电荷输送材料的电荷输送层和在所述电荷输送层上形成的表面保护层；和
曝光装置，所述曝光装置基于图像信息用曝光光束照射所述电子照相感光构件的表面，从而在所述电子照相感光构件的表面上形成静电潜像，
其中所述表面保护层包括不具有提供电荷输送性能的结构的材料并具有从所述表面保护层正面侧至所述电荷输送层侧贯通的多个通孔，所述表面保护层的厚度为0.1μm以上至1.5μm以下，和
其中，当将所述电子照相感光构件的表面用所述曝光光束照射时，2个以上的所述通孔包括在曝光光束光斑中。
2.根据权利要求1所述的电子照相设备，其中，当将所述电子照相感光构件的表面用所述曝光光束照射时，至少5个所述通孔包括在所述曝光光束光斑中。
3.根据权利要求1和2任一项所述的电子照相感光构件，其中所述通孔的最大直径A[μm]和所述曝光光束光斑的最小直径B[μm]满足由以下表达式(1)表示的关系：
1≤A≤B×0.4     (1)。
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