CN101398491B

CN101398491B - 光学膜、偏振片和图像显示设备

Info

Publication number: CN101398491B
Application number: CN2008101619210A
Authority: CN
Inventors: 胁阪大树; 铃木贵登
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2007-09-28
Filing date: 2008-09-27
Publication date: 2012-04-18
Anticipated expiration: 2028-09-27
Also published as: US20090091835A1; EP2042892A3; US8322869B2; JP2009175676A; EP2042892A2; JP5216501B2; CN101398491A

Abstract

本发明提供了光学膜，其以下述顺序包含：支持体；具有凹凸表面的防眩层；高折射率层；和低折射率层；其中光学膜的算术平均粗糙度(Ra)为0.03μm<Ra<0.4μm，光学膜的凹凸的平均间隔(Sm)为80μm<Sm<700μm，光学膜的0°<θ<0.5°的区域(θ(0.5))占40％或更大，其中θ是凹凸的倾角，且光学膜的积分反射率为1.5％或更小。

Description

光学膜、偏振片和图像显示设备

技术领域

本发明涉及光学膜、使用该光学膜的偏振片，以及使用该光学膜或偏振片的图像显示设备。

背景技术

通常将光学膜，特别是防反射膜置于显示器的最外表面上，以防止图像显示装置(比如阴极射线管显示器(CRT)、等离子显示屏(PDP)、电致发光显示器(ELD)和液晶显示器(LCD))中由外部光线的反射造成的对比度减小或图像的反射。为此，要求防反射膜除具有高反射性能之外，还具有高透射率、高物理强度(比如抗划伤性)、耐化学性、耐候性(比如耐湿热性和耐光性)。

这种防反射膜常常具有下述特征：至少在最外表面上提供低折射率层，从而通过低折射率层的光学干涉实现抗反射，所述低折射率层为层厚度为200nm或更小的薄膜层。但是，对于一层薄膜干涉型防反射膜(其中通过结构最简单的一层低折射率层来实现抗反射)，实际上没有满足反射率为0.5％或更小，且具有中性色调，高抗划伤性、耐化学性和耐候性的低折射率材料。相反，已知用于防止多层光干涉造成的反射的多层薄膜干涉型防反射膜，比如两层薄膜干涉型(其中高折射率层形成于透明支撑体和低折射率层之间)，或者三层薄膜干涉型(其中中等折射率层和高折射率层连续形成于透明支撑体和低折射率层之间)。特别地，为了防止在宽波长区域内的反射，并在抑制反射色的同时实现低反射率，三层薄膜干涉型是理想的。

作为多层薄膜干涉型防反射膜中使用的薄膜层(例如高折射率层、中等折射率层和低折射率层)，在层中包括金属氧化物的透明薄膜层的多层膜已在相关领域中广泛使用。通常，金属氧化物的透明薄膜通过化学气相沉积(CVD)方法或物理气相沉积(PVD)方法，特别是真空沉积方法(物理气相沉积方法中的一种)或溅射方法形成。

但是，通过气相沉积或溅射形成金属氧化物的透明薄膜的方法生产率低，不适合大规模生产。因此，提出了通过生产率高的湿沉积方法，特别是涂布方法用于成形。

可选地，通常还采用下述方法：形成具有凹凸表面的防眩层，以防止由于外部光线的反射或者荧光灯的反射等造成的能见度减小。所述具有凹凸表面的防眩层的形成通常以下述方式完成。在透明基材料的表面上，涂布含有二氧化硅等的无机氧化物细颗粒的树脂或有机树脂珠来形成。但是，虽然防眩层的形成可以容易地防止反射，但是会发生下述现象：由于外部光线的表面散射屏幕看起来发白，黑色严密性(tightness of black)降低。在这种情况下，采用下面方法：在防眩层上提供一层薄膜干涉层，从而同时实现防止反射和黑色严密性。

为了进一步改善反射和黑色严密性，优选在防眩层上形成两个或三个薄膜干涉型防反射层。但是，当试图用前述生产率优良的涂布方法将纳米尺度的薄膜涂在防眩层的凹凸表面上时，由于凹凸而造成不均匀涂布或收缩。在一些情况中，这导致膜厚不均匀，从而不能如所设计的那样发生最佳的光干涉，因而不能减小反射率。因此，难以同时实现低反射和防眩光性能。

为了改善这种不均匀涂布和收缩，尝试了下述手段：表面处理防眩层表面以后，进行老化处理((JP-A-2006-145737))；在防眩层和抗反射层之间设置中间层(JP-A-2006-145587)。可选地，尝试了下述手段：在低折射率层中设置空心球二氧化硅细颗粒，使空心球二氧化硅细颗粒在凹陷部分的含量大于在突起部分的含量(JP-A-2006-146027)。

但是，相关技术中提出的光学膜不足以减小反射率。

发明内容

本发明的一个方面提供光学膜，其在防眩层上具有至少两层薄膜干涉层，并较少地反射外部光线，黑色严密性优异，膜厚均匀性优异，并且反射率非常低。本发明的另一个方面提供了使用所述光学膜的偏振片和图像显示设备。

为了解决上述问题，本发明人进行了深入的研究。结果，他们发现通过实施下述设置可以解决这些问题并实现目标，完成了本发明。即，本发明通过下述设置实现了上述方面的发明。

[1]光学膜，其以下述顺序包含：

支持体；

具有凹凸表面的防眩层；

高折射率层；和

低折射率层；

其中

光学膜的算术平均粗糙度(Ra)为0.03μm<Ra<0.4μm，

光学膜的凹凸的平均间隔(average distance of unevenness)(Sm)为80μm<Sm<700μm，

光学膜的0°<θ<0.5°的区域(θ(0.5))占40％或更大，其中θ是凹凸的倾角，且

光学膜的积分反射率为1.5％或更小。

[2][1]的光学膜，其中

所述防眩层含有至少一种平均粒径比防眩层的平均膜厚大0.01-4.0μm的透光颗粒。

[3][2]的光学膜，其中

基于所述防眩层的总固体含量，所述透光颗粒的加入量为0.01-1质量％。

[4][2]的光学膜，其中

所述防眩层中每单位面积上平均粒径比防眩层的平均膜厚大的透光颗粒的数量是10-1500颗粒/mm²。

[5][2]的光学膜，其中

所述防眩层含有平均粒径小于防眩层的平均膜厚的另一种透光颗粒。

[6][1]的光学膜，其中

所述防眩层含有至少一种细颗粒，并且

所述细颗粒是内聚性(cohesive)金属氧化物细颗粒。

[7][6]的光学膜，其中

基于所述防眩层的总固体含量，所述金属氧化物细颗粒的加入量为0.01-5质量％。

[8][6]的光学膜，其中

[9][1]的光学膜，其中

所述高折射率层含有至少一种选自Si、Al、Ti、Zr、Sb、Zn、Sn和In的金属的氧化物的细颗粒。

[10][9]的光学膜，其中

基于所述高折射率层的总固体含量，所述至少一种金属的氧化物的细颗粒的含量为30质量％或更大。

[11][1]的光学膜，其中

所述高折射率层包含氟型流平剂或硅酮型流平剂(levelling agent)。

[12][1]的光学膜，其还包含：

位于所述防眩层和所述高折射率层之间的中等折射率层，其折射率高于所述防眩层的折射率并低于所述高折射率层的折射率。

[13][12]的光学膜，其中

所述中等折射率层含有至少一种选自Si、Al、Ti、Zr、Sb、Zn、Sn和In的金属的氧化物的细颗粒。

[14][13]的光学膜，其中

基于所述中等折射率层的总固体含量，所述至少一种金属的氧化物的细颗粒的含量为30质量％或更大。

[15][12]的光学膜，其中

所述中等折射率层包含氟型流平剂或硅酮型流平剂。

[16]偏振片，其包含：

偏振膜；和

设置在所述偏振膜两侧的一对保护膜，

其中所述一对保护膜中的至少一个是[1]的光学膜。

[17]图像显示设备，其包含：

在显示器的最外表面上的[1]的光学膜。

[18]图像显示设备，其包含：

在显示器的最外表面上的[16]的偏振片。

附图说明

图1A到1C分别示意性地显示了倾角的测量方法的视图。

发明详述

下面详细说明本发明的光学膜。

本发明的光学膜是至少包括具有凹凸表面的防眩层、高折射率层和低折射率层以此顺序层叠的光学膜，其特征在于光学膜的算术平均粗糙度(Ra)、凹凸的平均间隔(Sm)、凹凸的倾角、及光学膜的积分反射率各自在它们相应的特定范围内。

<防眩层>

本发明的膜所具有的防眩层的形成是为了对所述膜赋予由表面散射引起的防眩光性能，以及优选地用于提高膜的抗划伤性能的硬涂层性能。

作为赋予防眩光性能的方法，已知下述方法：JP-A-6-16851中描述的其中层叠在表面具有微细凹凸的垫块形状的膜来成型的方法；JP-A-2000-206317中描述的其中通过电离辐射剂量的不同引起的电离辐射可固化树脂的固化和收缩来实现成型的方法；JP-A-2000-338310中描述的通过干燥减小良好溶剂与透光树脂的重量比，在引起透光颗粒和透光树脂凝胶化的同时使它们固化，以在涂膜表面上形成凹凸的方法；JP-A-2000-275404中描述的由外部压力造成表面凹凸的方法；JP-A-2005-195819中描述的利用溶剂从多种聚合物的混合溶液中蒸发的过程中相分离的发生来形成表面凹凸的方法；及其他方法。可以利用这些已知方法以形成本发明的膜中的防眩层。

本发明中可以使用的防眩层优选包括能够赋予硬涂层性能的粘合剂和赋予防眩光性能的透光颗粒。优选由透光颗粒自身的突起或多个颗粒的聚集体形成的突起在表面上形成凹凸。

另外，所述防眩层优选使用用于形成含有粘合剂(binder)形成材料、透光颗粒和溶剂的防眩层的涂料(paint)形成。

然后，使用用于形成防眩层的涂料形成的防眩层包括粘合剂和分散在粘合剂中的透光颗粒。其优选同时具有防眩光性能和硬涂层性能。

(透光颗粒)

作为本发明的优选形式，在赋予防眩光性能的方面，所述防眩层优选在其中含有至少一种用于向其赋予防眩光性能的透光颗粒，并且所述透光颗粒的平均粒径比防眩层的平均膜厚大0.01-4.0μm。为了同时实现防眩光性能和通过增大薄膜表面的平坦部分的比例来实现薄膜干涉层的均匀层叠，所述平均粒径进一步优选为比防眩层的平均膜厚大0.1-3.0μm，最优选为比防眩层的平均膜厚大0.5-2.5μm。然而，当透光颗粒的平均粒径为4μm或更小时，其优选比防眩层的平均膜厚大0.1-2.5μm，最优选比防眩层的平均膜厚大0.1-2.0μm。

防眩层的平均膜厚用下述方式测定。在电子显微镜下观测光学膜的横截面，并在30个任意位置测量膜厚，从其平均值计算得到平均膜厚。

优选地，防眩层的一个突起基本上由五个或更少的透光颗粒形成。更优选地，该突起基本上由一个透光颗粒形成。这里，术语“基本上”是指上述限定的90％或更多的突起满足优选形式。

对于透光颗粒的种类，优选使用满足前述粒径和后面描述的防旋光层的内部雾度的值的颗粒。但是，更优选地所述突起基本上由一个透光颗粒形成。因此，优选选择具有良好分散性的颗粒。

作为具有良好分散性的颗粒，优选透光有机树脂颗粒(比如聚甲基丙烯酸甲酯颗粒，和聚甲基丙烯酸甲酯与聚苯乙烯的共聚物的颗粒)。所述共聚物颗粒中的聚甲基丙烯酸甲酯的比例优选为40质量％-100质量％，从分散性的角度考虑，进一步优选50质量％-100质量％，最优选为75质量％-100质量％。

当使用透光颗粒时，为了分散稳定性和避免粘合剂或涂布溶液中颗粒沉积，可以加入不引起可见光散射的具有一定尺寸的无机填料(比如二氧化硅)或分散剂(比如有机化合物(其可以为单体或聚合物))。

顺便提及，当加入无机填料时，加入较大量的无机填料对于防止透光颗粒沉积更加有效。但是，优选在一定范围内使用无机填料，从而不负面影响涂膜的透明度。因此，优选地，粒径为0.5μm或更小的无机填料在其中的含量为小于约0.1质量份/100质量份的粘合剂的程度，从而不会损害涂膜的透明度。分散剂(比如有机化合物)的加入量优选为0.1-20质量份/100质量份的透光颗粒。其加入量进一步优选为0.1-15质量份，特别优选为0.5-10质量份。当所述量为0.1质量份或更大时，所述添加对分散稳定性的效果变得明显。当所述量为20质量份或更小时，对分散稳定性没有贡献的组分的量增大。因此，优选不会发生比如渗出的问题。

如上所述，为了分散稳定性和防止用于形成防眩层的粘合剂或涂料中的沉积，各透光颗粒的表面可以进行表面处理。表面处理剂的种类根据所使用的粘合剂和溶剂适当选择。表面处理剂的加入量优选为0.1-30质量份/100质量份的透光颗粒。加入量进一步优选为1-25质量份，特别优选为3-20质量份。当所述量为0.1质量份或更大时，对于分散稳定性的表面处理的量不足。当所述量为30质量份或更小时，对分散性没有贡献的组分的量增大。因此，优选不会发生比如渗出的问题。

在本发明中，为了使用透光颗粒的粒径分布，从控制雾度值和扩散性，以及涂镀的表面状态的均匀性的角度考虑，优选单分散颗粒，即，具有均匀粒径的颗粒。显示粒径的均匀性的CV值优选为0-10％，更优选为0-8％，进一步优选为0-5％。另外，当粒径大于平均粒径20％或更大的颗粒定义为粗颗粒时，粗颗粒的比例优选为颗粒总数的1％或更小，更优选为0.1％或更小，进一步优选为0.01％或更小。在制备和合成反应以后将具有这种粒径分布的透光颗粒筛分也是重要的手段。通过增大筛分的频率，或增大筛分程度(degree)，可以得到具有理想分布的颗粒。对于筛分方法，可以优选使用比如气力筛分法、离心筛分方法、沉淀筛分方法、过滤筛分方法、及静电筛分方法。透光颗粒的平均粒径通过在光学显微镜下观测透光颗粒，并计算由观测的100个颗粒的直径的平均值来得到。

从减小凹凸的密度、增大膜表面的平坦部分的比例、及均匀地层叠薄膜干涉层的角度考虑，基于总固体含量，平均粒径大于防眩层的平均膜厚的透光颗粒的加入量为0.01-1质量％。该量优选为0.1-1质量％，进一步优选为0.1-0.7质量％，最优选为0.1-0.45质量％。

所述防眩层中每单位面积上平均粒径比防眩层的平均膜厚大的透光颗粒的数量是10-1500颗粒/mm²。更优选为10-400颗粒/mm²，进一步优选为10-250颗粒/mm²，特别优选为10-150颗粒/mm²。透光颗粒的数量可以通过在光学显微镜下观测10个范围为500μm×500μm的视场，计算各个视场的数量，并计算平均值来得到。

与传统已知的防眩层不同，本发明中的防眩层由含量为非常小的0.01-1质量％的平均粒径比防眩层的平均膜厚大的颗粒来表现其防眩光性能。这形成了其中膜表面的平坦部分的比例非常大的结构。因此，当在防眩层上层叠多个薄膜层时，不太容易发生由凹凸造成的膜厚不均匀。因此，可以实现低反射率。

在这种情况下，所述颗粒比防眩层突起至少0.01-4.0μm，并因此表现出防眩光性能。因此，即使当平坦部分的比例大时，防眩光性也不会受到损害。

(另一种透光颗粒)

然而，为了得到必要的光散射性，可以组合使用平均粒径与透光颗粒不同的另一种透光颗粒。前述透光颗粒可以赋予防眩光性能。但另一种透光颗粒可以赋予其他光学性质。例如，当防眩光膜粘在133ppi或更高的高清显示器上时，可能发生称为“眩光”的显示图像质量的缺陷。在本发明中，术语“眩光”不表示照明(比如对于防眩光性能所讨论的电灯)的反射的眩光的存在与否。但是，所述“眩光”由下述现象产生。由于防眩光防反射膜表面上存在的凹凸引起的透镜效应，像素放大或减小，因而亮度均匀性损失。因此，R、G和B对人眼耀眼。但是，通过组合使用粒径比用于赋予防眩光性能的透光颗粒的粒径小，并且折射率与粘合剂的不同的透光颗粒，可以显著改善上述问题。

当在本发明中组合使用另一种透光颗粒时，另一种透光颗粒的平均粒径优选小于防眩层的平均厚度。具体地，另一种透光颗粒的平均粒径优选为防眩层的平均厚度的10％-90％，因为平均粒径在这一范围内时可以赋予内散射性能，而不会造成表面凹凸，并因此不太可能减小膜的平坦部分。进一步优选为20％-80％。

优选具有良好分散性的另一种透光颗粒。作为具有良好分散性的颗粒，优选透光有机树脂颗粒(比如聚甲基丙烯酸甲酯，和聚甲基丙烯酸甲酯与聚苯乙烯的共聚物的颗粒)。从分散性的角度考虑，所述共聚物颗粒中的聚甲基丙烯酸甲酯的比例优选为40质量％-100质量％，进一步优选为50质量％-100质量％，最优选为75质量％-100质量％。

在本发明中，作为另一种透光颗粒，可以优选使用核-壳型颗粒，其中所述核包括折射率不同于粘合剂，并可以发挥光散射性能的材料，所述壳包括与粘合剂具有高度相容性并具有优异分散性的材料。

作为可以发挥光散射性能的材料，可以提到聚甲基丙烯酸甲酯、交联聚(丙烯酸-苯乙烯)共聚物、三聚氰胺树脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、交联聚苯乙烯、聚氯乙烯、苯代三聚氰胺-三聚氰胺甲醛等。

作为具有优异分散性的材料，可以提到聚甲基丙烯酸甲酯等。

当另一种透光颗粒的分散性差并形成大的聚集体时，防眩层的表面粗糙。当在防眩层上设置两个或更多个高折射率层和低折射率层作为薄膜干涉层时，这会降低膜的厚度均匀性。因此，可以得到反射率低的光学膜。因此，优选采用具有良好分散性的颗粒。对于使用分散剂等提高分散性(即使颗粒的分散性差)的情况，这一点不适用。

在赋予内部散射性能并改善眩光方面，基于总固体含量，优选将另一种透光颗粒的混合比设为0.01质量％到30质量％。进一步优选将所述混合比设为0.01质量％到25质量％。

(金属氧化物细颗粒)

本发明的另一个优选形式是这样的光学膜，即其中防眩层中含有至少一种细颗粒，并且该细颗粒为内聚性金属氧化物细颗粒。

所述内聚性金属氧化物细颗粒用于下述目的：[1]赋予防眩层表面粗糙度，[2]调节防眩层的折射率，[3]增大防眩层的硬度，[4]改善防眩层的脆性和卷曲等。但是，为了给本发明中的防眩层赋予表面凹凸，从透明度和低成本的角度考虑，内聚性二氧化硅颗粒和内聚性氧化铝颗粒优选作为所述金属氧化物细颗粒。其中，在能够稳定地赋予适当的表面凹凸的方面，优选其中初级粒径为几十纳米的形成聚集体的内聚性二氧化硅。内聚性二氧化硅是用例如被称为湿法的硅酸钠和硫酸的中和反应合成的。所述湿法还可以进一步分为沉淀方法和凝胶化方法。但是，在本发明中，两种方法都可以采用。内聚性二氧化硅的次级粒径优选在0.1-10.0μm。但是，与含有该颗粒的防眩层的层厚组合选择。次级粒径的调节在一定的颗粒分散度(通过使用砂磨等的机械分散、使用分散剂等的化学分散来控制)下进行。特别地，内聚性二氧化硅颗粒的次级粒径除以含有这些颗粒的防眩层的层厚得到的值优选为0.1-1.5，更优选为0.3-1.0。

优选用作金属氧化物颗粒的内聚性二氧化硅颗粒等的次级粒径由库尔特计数器方法测量。

在减小凹凸的密度，从而增大膜表面的平坦部分的比例，并均匀地层叠薄膜干涉层方面，基于防眩层的总固体含量，待加入的金属氧化物颗粒的量优选设为0.01质量％-5质量％。更优选为0.1质量％-5质量％，进一步优选为0.1质量％-3质量％，最优选为0.1质量％-2质量％。

为了赋予内部散射性，内聚性金属氧化物颗粒，优选除了内聚性金属二氧化硅颗粒之外，还优选组合使用透光树脂细颗粒。作为透光树脂细颗粒，优选使用前面说明的(另一种透光颗粒)。

(粘合剂)

本发明中的具有两种形式的防眩层的粘合剂优选含有热固性树脂或电离辐射可固化化合物中的一种或两种，并通过硬化形成。

特别地，所述粘合剂优选为通过电离辐射可固化化合物的交联反应或聚合反应而形成。即，所述防眩层优选以下述方式形成。在支持体上涂布作为粘合剂形成材料的用于形成防眩层的含有电离辐射可固化多官能单体和多官能低聚物的涂料，进行多官能单体和多官能低聚物的聚合反应。电离辐射可固化多官能单体和多官能低聚物的官能团优选为光(紫外线)可聚合、电子束可聚合或辐射可聚合的官能团。其中，优选光可聚合官能团。作为光可聚合官能团，可以提到不饱和可聚合官能团，比如(甲基)丙烯酰基、乙烯基、苯乙烯基和烯丙基等。其中，优选甲基(丙烯酰基)。

作为粘合剂形成材料的具体实例，优选使用后面对<低折射率层>描述的(具有可聚合不饱和键的化合物)。

为了控制防眩层的折射率，可以向粘合剂形成材料中加入高折射率单体或平均粒径为100nm或更小的不引起可见光散射的无机颗粒(比如ZrO₂、TiO₂、或SiO₂等)，或者同时加入两者。除了控制折射率的作用，所述无机颗粒还具有抑制由交联反应引起的固化和收缩的作用。在本发明中，防眩层形成以后，由具有可聚合不饱和键的化合物(比如多官能单体和/或高折射率单体)的聚合产生的聚合物，以及聚合物中分散的无机颗粒总称为粘合剂。

即使组合使用用于赋予内部散射率的透光颗粒，在保持膜表面的平坦部分的比例方面，防眩层中的粘合剂的含量优选为55-99质量份/100质量份的总固体含量。进一步优选为70-99质量份。

在铅笔硬度测试中，防眩层的强度优选为H或更高，进一步优选为2H或更高，最优选为3H或更高。

从硬度和卷曲的相容性的角度考虑，防眩层的平均膜厚优选设为2-35μm。进一步优选设为2-30μm，更优选设为2-25μm，最优选设为2-10μm。

因此，透光颗粒的平均粒径优选为2.01-39μm，进一步优选为2.01-34μm，更优选为2.01-29μm，最优选为2.01-14μm。

所述防眩层在波长为550nm的折射率优选设为1.48-1.70，进一步优选为1.48-1.60。在本发明中，所有具体显示的折射率的值都表示在波长为550nm的值。

<低折射率层>

低折射率层是本发明的光学膜的必要组成层，其可以设置作为最外表面层，以增强防反射性能。低折射率层的折射率优选为1.25-1.52，更有选为1.25-1.46，进一步优选为1.30-1.40，特别优选为1.30-1.37。

低折射率层的厚度优选为30-200nm，进一步优选为70-150nm。低折射率层的雾度优选为3％或更低，进一步优选为2％或更低，最优选为1％或更低。在荷载为500g的铅笔硬度测试中，低折射率层的强度优选为H或更高，进一步优选为2H或更高，最优选为3H或更高。但是，为了提高光学膜的防污染性能，其表面与水的接触角优选为90度获更大，进一步优选为95度或更大，特别优选为100度或更大。

优选这样形成低折射率层，以使其含有粘合剂和细颗粒。下面说明各组分。

[粘合剂]

作为低折射率层含有的粘合剂形成材料，可以优选使用通过共聚含氟乙烯单体与其他可共聚组分制得的含氟共聚物。

作为含氟乙烯单体，可以提到氟烯烃(例如氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯和六氟丙烯)、甲基丙烯酸的部分或全部氟化的烷基酯衍生物(例如BISCOAT6FM(商品名，产自Osaka Organic Chemical Industry，Ltd.)，R-2020(商品名，产自DaikinIndustries，Ltd.)、部分或全部氟化的乙烯醚等。但优选全氟烯烃。从折射率、溶解性、透明度、可用性等角度考虑，特别优选六氟丙烯。含氟乙烯单体的组成比的增大可以减小折射率。但是，膜强度减小。在本发明中，优选引入含氟乙烯单体，使得含氟共聚物的氟含量为20-60质量％。更优选25-55质量％的情况，特别优选30-50质量％的情况。

作为与含氟乙烯单体共聚的其他可共聚组分，可以优选地提到由下面(a)、(b)和(c)指明的单体形成的可共聚组分，来赋予交联反应性。

(a)：预先在分子内具有自交联官能团的单体(比如缩水甘油基(甲基)丙烯酸酯和缩水甘油基乙烯醚)，

(b)：具有羧基、羟基、氨基、磺基等的单体(比如(甲基)丙烯酸、羟甲基(甲基)丙烯酸酯、羟烷基(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸烯丙酯、羟乙基乙烯醚、羟丁基乙烯醚、马来酸和巴豆酸)，及

(c)：具有能够与上面(a)或(b)的官能团反应的基团和其他可交联官能团的单体(比如，通过引起丙烯酸氯化物作用于羟基的方法合成的单体)。

对于单体(c)，所述可交联基团优选为光可聚合基团。这里，作为光可聚合基团，例如可以提到(甲基)丙烯酰基、烯基、肉桂酰基、亚肉桂基乙酰基、亚苄基乙酰苯基、苯乙烯基吡啶基、α-苯基马来酰亚胺基、苯基叠氮基、磺酰基叠氮基、羰基叠氮基、重氮基、邻苯醌叠氮基、呋喃基丙烯酰基、香豆灵基、吡喃酮基、蒽基、二苯甲酮基、均二苯乙烯基、二硫代氨基甲酸酯基、黄原酸酯基、1，2，3-噻重氮基、环丙烯基和氮杂二氧杂二环基。这些基团可单独使用，也可以使用两者或更多种。其中，优选(甲基)丙烯酰基和肉桂酰基，特别优选(甲基)丙烯酰基。

作为制备含有可聚合基团的含氟共聚物的具体方法，可以提到下列方法。但本发明不限于此。

a.使含有羟基的含可交联官能团的共聚物与(甲基)丙烯酸氯化物反应而进行酯化的方法，

b.使含有羟基的含可交联官能团的共聚物与具有异氰酸酯基的(甲基)丙烯酸酯反应而进行尿烷化反应(urethanization)的方法，

c.使含有环氧基的含可交联官能团的共聚物与(甲基)丙烯酸反应而进行酯化的方法，和

d.使含有羧基的含交联官能团的共聚物与含环氧基的(甲基)丙烯酸酯反应而进行酯化的方法。

引入的光可聚合基团的量可以任意控制。比如，从涂层表面状态稳定性、减小当无机颗粒存在时的表面状态缺陷、提高膜强度等角度考虑，还优选给出一定量的羧基、羟基等。

对于可用于本发明的含氟共聚物，除来源于含氟乙烯单体的重复单元和侧链具有(甲基)丙烯酰基的重复单元之外，从多个角度(包括与基底材料的粘合、聚合物的Tg(有助于膜硬度)、溶剂中的溶解度、透明度、滑性、防尘和防污染性能)来看，还可以适当地共聚其他的乙烯单体。根据这些目的可以使用这些乙烯单体的多种组合，基于所述共聚物的量，这些单体优选以0到65mol％的总量引入，更优选为0到40mol％，进一步优选为0到30mol％。

对可组合使用的乙烯单体单元没有特别限制。其实例包括烯烃(例如，乙烯、丙烯、异戊二烯、氯乙烯、偏二氯乙烯)、丙烯酸酯(例如，丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、2-乙基己基丙烯酸酯、2-羟乙基丙烯酸酯)、甲基丙烯酸酯(例如，甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、2-羟乙基甲基丙烯酸酯)、苯乙烯衍生物(例如，苯乙烯、对羟甲基苯乙烯、对甲氧基苯乙烯)、乙烯醚(例如，甲基乙烯醚、乙基乙烯醚、环己基乙烯醚、羟乙基乙烯醚、羟丁基乙烯醚)、乙烯酯(例如，乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、肉桂酸乙烯酯)、不饱和羧酸(例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、马来酸、衣康酸)、丙烯酰胺(例如，N，N-二甲基丙烯酰胺、N-叔丁基丙烯酰胺、N-环己基丙烯酰胺)、甲基丙烯酰胺(例如，N，N-二甲基甲基丙烯酰胺)、及丙烯腈。

特别用于本发明的含氟共聚物是全氟烯烃与乙烯醚或乙烯酯的无规共聚物。特别地，它具有自身能够交联的基团(比如，自由基反应性基团(如(甲基)丙烯酰基)，或开环可聚合基团(比如环氧基和氧环丁基)等)。含可交联基团的聚合单元优选占聚合物的总聚合单元的5到70mol％。特别优选30到60mol％的情况。作为优选的聚合物，可以提到JP-A-2002-243907、JP-A-2002-372601、JP-A-2003-26732、JP-A-2003-222702、JP-A-2003-294911、JP-A-2003-329804、JPA-2004-4444和JP-A-2004-45462中描述的那些。

为了赋予防污染性能，优选将聚硅氧烷结构引入本发明的含氟聚合物中。对引入聚硅氧烷结构的方法没有限制。但优选例如下述方法：通过使用JP-A-6-93100、JP-A-11-189621、JP-A-11-228631和JP-A-2000-313709中描述的硅酮大分子偶氮(macroazo)引发剂而引入聚硅氧烷嵌段共聚组分的方法；以及通过使用JP-A-2-251555和JP-A-2-308806中描述的硅酮大分子单体而引入聚硅氧烷接枝共聚组分的方法。作为特别优选的化合物，可以提到JP-A-11-189621的实施例1、2和3中的聚合物，和JP-A-2-251555的共聚物A-2和A-3。基于含氟共聚物的量，聚硅氧烷组分的含量优选为0.5到10质量％，更优选为1到5质量％。

以质量平均分子量计，本发明中可以使用的含氟共聚物的分子量优选为5,000或更大，更优选为10,000到500,000，最优选为15,000到200,000。组合使用平均分子量不同的聚合物可以提高涂膜表面状态或抗破坏性。

(具有可聚合不饱和键的化合物)

作为粘合剂形成材料，前述含氟共聚物，和如JP-A-10-25388和JP-A-2000-17028中所述，具有可聚合不饱和键的化合物可以适当地组合使用。可选地，还可以优选使用JP-A-2002-145952中描述的具有含氟多官能可聚合不饱和键的化合物。作为具有可聚合不饱和键的化合物，可以提到具有可聚合官能团(比如(甲基)丙烯酰基、乙烯基、苯乙烯基和烯丙基)的化合物。其中，优选(甲基)丙烯酰基。特别优选地，可以使用在一个分子中具有两个或多个(甲基)丙烯酰基的化合物。这些化合物优选地对抗划伤性或化学处理后抗划伤性的提高提供显著的协同效应，特别是当具有可聚合不饱和基团的化合物用于聚合物主体时。

具有可聚合不饱和键的化合物的具体实例包括：

烷撑二醇的(甲基)丙烯酸二酯，比如新戊二醇丙烯酸酯、1，6-己二醇(甲基)丙烯酸酯和丙二醇二(甲基)丙烯酸酯；

聚亚氧烷基乙二醇的(甲基)丙烯酸二酯，比如三甘醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙撑二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯和聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯；

多元醇的(甲基)丙烯酸二酯，比如季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯；和

环氧乙烷或环氧丙烷加成物的(甲基)丙烯酸二酯，比如2，2-二(4-(丙烯酰氧基·二乙氧基)苯基)丙烷和2，2-二{4-(丙烯酰氧基·聚丙氧基)苯基}丙烷。

此外，环氧(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯和聚酯(甲基)丙烯酸酯也可优选用作光可聚合多官能单体。

其中，优选多元醇和(甲基)丙烯酸的酯。进一步优选在一个分子内具有三个或更多个(甲基)丙烯酰基的多官能单体。其实例包括季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改性的三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、PO改性的三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改性的磷酸三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1，2，3-环己烷四甲基丙烯酸酯、聚氨酯聚丙烯酸酯、聚酯聚丙烯酸酯、及己内酯改性的三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯。在本说明书中，术语“(甲基)丙烯酸酯”、“(甲基)丙烯酸”和“(甲基)丙烯酰基”分别表示“丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯”、“丙烯酸或甲基丙烯酸”和“丙烯酰基或甲基丙烯酰基”。

作为具有(甲基)丙烯酰基的多官能丙烯酸酯型化合物，可以提到多元醇和(甲基)丙烯酸的酯化产物，比如由Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造的KAYARAD DPHA、KAYARAD DPHA-2C、KAYARAD PET-30、KAYARADTMPTA、KAYARAD TPA-320、KAYARAD TPA-330、KAYARAD RP-1040、KAYARAD T-1420、KAYARAD D-310、KAYARAD DPCA-20、KAYARADDPCA-30、KAYARAD DPCA-60和KAYARAD GPO-303，和由Osaka OrganicChemical Industry Ltd.制造的V#3PA、V#400、V#36095D、V#1000和V#1080。另外，也可以优选使用三官能或更高官能的聚氨酯丙烯酸酯化合物，比如SHIKOH UV-1400B、SHIKOH UV-1700B、SHIKOH UV-6300B、SHIKOHUV-7550B、SHIKOH UV-7600B、SHIKOH UV-7605B、SHIKOH UV-7610B、SHIKOH UV-7620EA、SHIKOH UV-7630B、SHIKOH UV-7640B、SHIKOHUV-6630B、SHIKOH UV-7000B、SHIKOH UV-7510B、SHIKOHUV-7461TE、SHIKOH UV-3000B、SHIKOH UV-3200B、SHIKOHUV-3210EA、SHIKOH UV-3310EA、SHIKOH UV-3310B、SHIKOHUV-3500BA、SHIKOH UV-3520TL、SHIKOH UV-3700B、SHIKOHUV-6100B、SHIKOH UV-6640B、SHIKOH UV-2000B、SHIKOH UV-2010B、SHIKOH UV-2250EA和SHIKOH UV-2750B(由The Nippon SyntheticChemical Industry Co.，Ltd.生产)、UL-503LN(Kyoeisha Chemical Co.，Ltd.生产)、UNIDIC17-806、UNIDIC17-813、UNIDIC V-4030和UNIDICV-4000BA(Dainippon Ink and Chemicals，Inc.生产)、EB-1290K、EB-220、EB-5129、EB-1830和EB-4858(Daicel-UCB Company Ltd.生产)、Hi-CoapAU-2010和Hi-Coap AU-2020(Tokushiki Co.，Ltd.生产)、ARONIXM-1960(Toagosei Co.，Ltd.生产)和ART RESIN UN-3320HA、UN-3320HC、UN-3320HS、UN-904和HDP-4T；和三官能或更高官能的聚酯化合物，比如ARONIX M-8100、M-8030和M-9050(Toagosei Co.，Ltd.生产)、及KRM-8307(DAICELCYTEC Company Ltd.生产)等。

另外，还可以提到具有三个或更多个(甲基)丙烯酰基的树脂，比如分子量相对较低的聚酯树脂、聚醚树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂、醇酸树脂、螺缩醛(spiroacetal)树脂、聚丁二烯树脂和聚硫醇多烯(polythiolpolyene)树脂；和多官能化合物(例如，多元醇)的低聚物或预聚物等。

另外，作为双官能(甲基)丙烯酸酯聚合物，可以提到由下面通式表示的化合物。但本发明不限于此。

另外，还可以使用比如JP-A-2005-76005和JP-A-2005-36105中描述的树形聚合物，或比如JP-A-2005-60425中描述的含降冰片烯环的单体。但是，也可以使用JP-A-2002-105141的化学式(2)表示的含氟多官能(甲基)丙烯酸酯。

两种或多种多官能单体可组合使用。

这些具有烯键式不饱和基团的单体的聚合可通过电离辐射的照射或在加热下，在自由基光聚合引发剂或热自由基聚合引发剂的存在下进行。

对于光可聚合多官能单体的聚合反应，优选使用光聚合引发剂。作为光聚合引发剂，优选自由基光聚合引发剂或阳离子光聚合引发剂。特别优选为自由基光聚合引发剂。

(含氟可聚合化合物)

在本发明中，可以优选使用含氟多官能单体，其为具有三个或多个可聚合基团的含氟化合物，其中氟含量为含氟化合物的分子量的35.0质量％或更大，并且当可交联基团交联后，总内交联分子量的计算值为300或更小。

含氟多官能单体优选由下面式(1)或(2)表示。

式(1)Rf-{CH₂-OC(O)CH＝CH₂}_n

式(2)Rf-{OC(O)CH＝CH₂}n

其中在式中，Rf表示链或环状n价氟代烃，其包括至少一个碳原子和氟原子，并可以包括氧原子和/或氢原子，其中n表示3或更大的整数。Rf优选基本上仅包括碳原子和氟原子，或仅包括碳原子、氟原子和氧原子。

这里，内部交联分子量的计算值表示在(a)和(a)、(b)和(b)、或(a)和(b)之间的原子团的总原子量，其中(a)表示被总数为3个或更多个的碳原子和/或硅原子和/或氧原子取代的碳原子，(b)表示聚合物中被总数为3个或更多的碳原子和/或氧原子取代的硅原子，所述聚合物中含氟多官能单体的可聚合基团都被聚合。这里，“被取代的…原子”表示通过单键键联。当内交联分子量为300或更大时，涂膜的硬度可能减小。

具体地，除了JP-A-2006-28409的[0023]到[0027]段中描述的X-2到4、X-6、X-8到14、及X21到32之外，还可以优选使用下面的化合物(X-33)。

还优选使用JP-A-2006-284761的[0062]到[0065]段中描述的下面的M-1到M-16。

还优选使用下面的化合物MA1到MA20。

其中，从抗划伤性和低折射率的相容性角度考虑，特别优选使用X-22和M-1，最优选使用M-1。

但是，也可以优选使用WO2005/059601的0135到0149段中描述的下面的化合物。

(在通式(I)中，A¹到A⁶各自独立地表示丙烯酰基、甲基丙烯酰基、α-氟代丙烯酰基、或三氟代甲基丙烯酰基，n、m、o、p、q和r各自独立地表示0-2的整数，R¹到R⁶各自独立地表示具有1-3个碳原子的亚烷基，或具有1-3个碳原子的氟代亚烷基，其中一个或多个氢原子被氟原子取代。)

(在通式(II)中，A¹¹到A¹⁴各自独立地表示丙烯酰基、甲基丙烯酰基、α-氟代丙烯酰基、或三氟代甲基丙烯酰基，s、t、u、和v各自独立地表示0-2的整数，R¹¹到R¹⁴各自独立地表示具有1-3个碳原子的亚烷基，或具有1-3个碳原子的氟代亚烷基，其中一个或多个氢原子被氟原子取代。)

另外，还优选使用JP-A-2006-291077的0014到0028段中描述的化合物。

(无机细颗粒)

在本发明中，低折射率层中的各种无机细颗粒可以用于控制折射率、在涂布防眩光光层时提高膜厚均匀性、改善收缩，并改善物理性质(比如硬度)、光学性质(比如反射率和散射性质)等。无机细颗粒优选具有低反射率，例如在低折射率层中优选使用多孔或空心结构的二氧化硅颗粒。基于各层的固体含量，低折射率层中无机细颗粒的加入量优选为20质量到70质量％，更优选为30质量到60质量％，进一步优选为40质量到60质量％。当所述颗粒的加入量小于20质量％时，低折射率层的抗划伤性降低。多种无机细颗粒可以组合使用。

(多孔或空心细颗粒)

为了降低折射率，优选在低折射率层中使用多孔或空心结构细颗粒。这些颗粒的孔隙率优选为10到80％，进一步优选为20到60％，最优选为30到60％。从降低折射率和保持颗粒的耐久性的角度考虑，优选将空心细颗粒的孔隙率设在上述范围内。

当多孔或空心细颗粒是二氧化硅时，细颗粒的折射率优选为1.10到1.40，更优选为1.15到1.35，最优选为1.15到1.30。此处使用的折射率表示整体颗粒的折射率，并不仅仅表示形成二氧化硅颗粒的外壳的二氧化硅的折射率。

多孔或空心二氧化硅的生产方法描述于比如JP-A-2001-233611和JP-A-2002-79616中。特别地优选在壳体内具有孔洞且壳体的孔隙闭合的颗粒。顺便提及，这样的空心二氧化硅细颗粒的折射率可通过JP-A-2002-79616中描述的方法计算。

多孔或空心二氧化硅的涂布量优选为1mg/m²到100mg/m²，更优选为5mg/m²到80mg/m²，进一步优选为10mg/m²到60mg/m²。涂布量太小，则降低折射率或提高抗划伤性的效果减小。涂布量太大，则在低折射率层表面上产生微细凹凸。另外，外观(例如，黑色严密性)或积分反射率可能劣化。

多孔或空心二氧化硅的平均粒径优选为所述低折射率层的厚度的30％到150％，更优选为35％到80％，进一步优选为40％到60％。即，当低折射率层的厚度是100nm时，空心二氧化硅的粒径优选为30到150nm，更优选为35到100nm，进一步优选为40到65nm。

在本发明中，含有孔洞的颗粒可以具有一定的粒度分布。其变异系数可优选为60％到5％，更优选为50％到10％。另外，两种或三种或多种平均粒径不同的颗粒可混合使用。

当二氧化硅细颗粒的粒径太小时，孔隙部分的比例下降，从而不能预期折射率降低。粒径太大，则低折射率层表面上产生微细凹凸。因此，外观(例如，黑色严密性)或积分反射率劣化。二氧化硅细颗粒可以是晶体或无定形中的任一种，优选为单分散颗粒。所述颗粒最优选为球形，但即使是不定形也没有问题。

两种或多种平均粒径不同的空心二氧化硅颗粒可组合使用。这里，空心二氧化硅的平均粒径可根据电子显微照片测定。

在本发明中，空心二氧化硅的比表面积优选为20到300m²/g，更优选为30到120m²/g，最优选为40到90m²/g。所述表面积可通过BET法使用氮气测定。

在本发明中，无孔隙颗粒可以和空心二氧化硅组合使用。无孔隙二氧化硅的粒径优选为30到150nm，更优选为35到100nm，最优选为40到80nm。

(无机细颗粒的表面处理方法)

下面以多孔或空心无机细颗粒为例说明无机细颗粒的表面处理方法。为了提高用于形成低折射率层的涂布组合物中的分散性，各无机细颗粒的表面优选用有机硅烷的水解产物和/或其部分缩合物处理。对于所述处理，可以优选使用任意酸性催化剂和金属螯合物中的一种或两种。对于有机硅烷的结构没有特别限制。但是，优选在端部具有(甲基)丙烯酰基的有机硅烷。

(有机硅烷化合物)

从抗划伤性的角度考虑，用于形成本发明的光学膜的防眩层、低折射率层、中等折射率层、和高折射率层中的至少一个层优选在用于形成该层的涂布溶液中含有至少一种有机硅烷化合物的水解产物和/或部分缩合物，或被称为溶胶组分(后面这样表示)。

特别地，在防反射膜中，低折射率层优选含有所述溶胶组分，以同时实现防反射性能和抗划伤性。通过涂布涂布组合物，然后通过干燥和加热步骤缩合形成固化产物，所述溶胶组分成为该层的粘合剂的一部分。而当所述固化产物具有可聚合不饱和键时，通过用活性射线辐照形成了具有三维结构的粘合剂。

所述有机硅烷化合物优选由下面通式1表示：

通式1：(R¹)_m-Si(X)_4-m

在通式1中，R¹表示取代或未被取代的烷基或取代或未被取代的芳基。烷基优选为具有1到30个碳原子的烷基，更优选为具有1到16的碳原子，特别优选为具有1到6个碳原子。烷基的具体实例包括甲基、乙基、丙基、异丙基、己基、癸基和十六烷基。作为芳基，可以提到苯基、萘基等，优选苯基。

X表示羟基或可水解基团。其实例包括烷氧基(优选为具有1到5个碳原子的烷氧基，其实例包括甲氧基和乙氧基)、卤素原子(例如，Cl、Br或I)和由R²COO表示的基团(其中R²优选为氢原子或具有1到6个碳原子的烷基，其实例包括CH₃COO和C₂H₅COO)。优选烷氧基，特别优选甲氧基和乙氧基。

m表示1到3的整数，优选为1或2。

当存在多个X时，各个X可以彼此相同或不同。

对R¹中含有的取代基没有特别限制。但可以提到卤素原子(例如，氟、氯或溴)、羟基、巯基、羧基、环氧基、烷基(例如，甲基、乙基、异丙基、丙基或叔丁基)、芳基(例如，苯基或萘基)、芳香杂环基(例如，呋喃基、吡唑基或吡啶基)、烷氧基(例如，甲氧基、乙氧基、异丙氧基或己氧基)、芳氧基(例如，苯氧基)、烷硫基(例如，甲硫基或乙硫基)、芳硫基(例如，苯硫基)、烯基(例如，乙烯基或1-丙烯基)、酰氧基(例如，乙酰氧基、丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基)、烷氧基羰基(例如，甲氧基羰基或乙氧基羰基)、芳氧基羰基(例如，苯氧基羰基)、氨基甲酰基(例如，氨基甲酰基、N-甲基氨基甲酰基、N，N-二甲基氨基甲酰基或N-甲基-N-辛基氨基甲酰基)和酰胺基(例如，乙酰胺基、苯甲酰胺基、丙烯酰胺基、甲基丙烯酰胺基)等。这些取代基均可进一步被取代。

R¹优选为取代的烷基或取代的芳基。

作为有机硅烷化合物，还优选具有由下面通式2表示的乙烯基可聚合取代基的有机硅化合物，使用具有通式2的化合物作为起始材料来合成。

通式2：

在通式2中，R₂表示氢原子、甲基、甲氧基、烷氧基羰基、氰基、氟原子或氯原子。作为烷氧基羰基，可以提到甲氧基羰基、乙氧基羰基等。优选氢原子、甲基、甲氧基、甲氧基羰基、氰基、氟原子和氯原子，进一步优选氢原子、甲基、甲氧基羰基、氟原子、氯原子等，特别优选氢原子和甲基。

Y表示单键、或^*-COO-^**、^*-CONH-^**、或^*-O-^**。优选单键、^*-COO-^**和^*-CONH-^**，进一步优选单键和^*-COO-^**，特别优选^*-COO-^**。^*表示与＝C(R₁)-的连接位，^**表示与L的连接位。

L表示二价连接链。具体地可以提到取代或未被取代的亚烷基、取代或未被取代的亚芳基、内部含有连接基(例如，醚、酯、酰氨)的取代或未被取代的亚烷基、内部含有连接基的取代或未被取代的亚芳基。优选取代或未被取代的亚烷基、取代或未被取代的亚芳基、和内部含有连接基的亚烷基，进一步优选未被取代的亚烷基、未被取代的亚芳基或内部具有醚或酯连接基的亚烷基，特别优选未被取代的亚烷基和内部具有醚或酯连接基的亚烷基。作为取代基，可以提到卤素、羟基、巯基、羧基、环氧基、烷基、芳基等。这些取代基可以进一步被取代。

1表示满足数学式1＝100-m的数值，m表示0-50的数值，优选为0-40的数值，特别优选为0-30的数值。

R₃-R₅各优选为卤素原子、羟基、未被取代的烷氧基或未被取代的烷基。R₃-R₅各自更优选为氯原子、羟基或具有1-6个碳原子的未被取代的烷氧基，进一步优选为羟基或具有1-3个碳原子的烷氧基，特别优选为羟基或甲氧基。

R₆表示氢原子或烷基。烷基优选为甲基、乙基等。R₇优选为通式1的R₁定义的基团或羟基，更优选为羟基或未被取代的烷基，进一步优选位羟基或具有1-3个碳原子的烷基，特别优选羟基或甲基。

通式1的化合物可以两种或更多种组合使用。特别地，具有通式2的化合物通过使用两种具有通式1的化合物作为起始材料合成。下面显示了具有通式1的化合物和通式2表示的化合物的起始材料的非限制性具体实例。

SI-48甲基三甲氧基硅烷

为了得到本发明的目标效果，基于有机硅烷的水解产物和/或部分缩合物的总量，有机硅烷的水解产物和/或部分缩合物中含有乙烯基可聚合基团的有机硅烷的含量优选为30质量％-100质量％，更优选为50质量％-100质量％，进一步优选为70质量％-95质量％。

至少任意有机硅烷的水解产物和/或部分缩合物的挥发性优选受到抑制，以稳定涂布产品的性能。具体地，在105℃下每小时的挥发量优选为5质量％或更小，更优选为3质量％或更小，特别优选为1质量％或更小。

用于本发明中的溶胶组分通过有机硅烷的水解和/或部分缩合来制备。

水解缩合反应通过相对于每mol的可水解基团(X)加入0.05-2.0mol，优选0.1-1.0mol的水，并在用于本发明的催化剂的存在下在25-100℃下搅拌混合物来进行。

在至少任意有机硅烷的水解产物和/或部分缩合物中，任何含有乙烯基可聚合基团的水解产物和其部分缩合物的质量平均分子量优选为450-20000，更优选为500-10000，进一步优选为550-5000，进一步优选为600-3000，除了分子量小于300的组分。

这里，质量平均分子量和分子量是基于溶剂THF的聚苯乙烯当量表示的分子量，借助使用TSK凝胶GMHxL、TSK凝胶G4000HxL和TSK凝胶G2000HxL(都为商品名，产自Tosoh Corporation)的柱的GPC分析设备的差示折光仪探测。当分子量为300或更大的组分的峰面积视为100％时，含量是前述分子量范围的峰的面积％。

分散度(质量平均分子量/数均分子量)优选为3.0-1.1，更优选为2.5-1.1，进一步优选为2.0-1.1，特别优选为1.5-1.1。

下面详细说明本发明中使用的有机硅烷化合物的水解产物和部分缩合物。

有机硅烷的水解反应和随后的缩合反应通常在催化剂存在下进行。作为催化剂，可以提到无机酸(比如盐酸、硫酸和硝酸)；有机酸(比如草酸、乙酸、丁酸、马来酸、柠檬酸、甲酸、甲磺酸和甲苯磺酸)；无机碱(比如氢氧化钠、氢氧化钾和氨水)；有机碱(比如三乙胺和吡啶)；和金属醇化物(比如三异丙氧基铝、四丁氧基锆、钛酸四丁酯和二月桂酸二丁锡)；具有金属(比如Zr、Ti或Al)等作为中心金属的金属螯合物等；含氟化合物(比如KF和NH₄F等)。

上述催化剂可以单独使用，也可以多种组合使用。

有机硅烷的水解/缩合反应可以在没有溶剂下进行或在溶剂中进行。但是，为了均匀地混合组分，优选使用有机溶剂。例如，优选醇、芳香烃、醚、酮和酯。

所述溶剂优选是能够溶解有机硅烷和所述催化剂的溶剂。但是，从方法的角度考虑，优选使用有机溶剂作为涂布溶液或部分涂布溶液。优选当与其他材料(比如含氟聚合物)混合时不会损害溶解性或分散性的溶剂。

所述反应优选以下述方式进行。对于每mol的有机硅烷的可水解基团，加入0.05-2mol，优选0.1-1mol的水。在溶剂存在下，并在催化剂存在下，在25-100℃下搅拌混合物。

除了含有溶胶组分和金属螯合物的组合物，优选向用于本发明中的涂布溶液中加入至少任意的β-二酮化合物合β-酮酯化合物。

优选地，对于相对较薄的膜的抗反射层，有机硅烷的水解产物和部分缩合物的含量小，而对于厚膜的硬涂层或防眩层，有机硅烷的水解产物和部分缩合物的含量大。考虑到效果的展现、折射率、膜的形状和表面状态，所述量优选为包含层(加入层)的总固体含量的0.1-50质量％，更优选为0.5-30质量％，最优选为1-15质量％。

(高折射率层、中等折射率层)

本发明的膜可以具有高折射率层来增强抗反射性能。另外，还可以设置中等折射率层。

在本说明书下文中，所述高折射率层和中等折射率层有时通称为高折射率层。顺便提及，在本发明中，高折射率层、中等折射率层和低折射率层中的术语“高”、“中等”和“低”分别指各层间折射率的相对大小。另外，在与支持体的关系方面，折射率优选满足支持体>低折射率层，高折射率层>支持体的关系。

在本发明中，中等折射率层是折射率大于防眩层的折射率，并小于高折射率层的折射率的层。其优选置于防眩层和高折射率层之间。

从前面说明书中可知，当“防眩层/高折射率层/低折射率层”和干涉层为两层构造时，它们可以称为“防眩层/中等折射率层/低折射率层”。

另外，在本说明书中，高折射率层、中等折射率层和低折射率层有时统称为防反射层。

为了在防眩层上形成高折射率层和低折射率层而制备防反射膜，高折射率层的折射率可以为1.53到2.30，优选为1.55到2.30，更优选为1.55到2.00，进一步优选为1.55到1.70。

当以与支持体的距离增大的顺序涂布中等折射率层、高折射率层和低折射率层来形成防反射膜时，高折射率层的折射率优选为1.60到2.30，进一步优选为1.65到2.20。中等折射率层的折射率调至低折射率层的折射率和高折射率层的折射率之间的值。中等折射率层的折射率优选为1.55到1.80，更优选为1.60-1.75，进一步优选为1.60-1.70。

本发明中使用的高折射率层和中等折射率层优选含有无机细颗粒来控制折射率并提高在防眩层上的涂布性。它们优选以下述方式形成。在通过在分散介质中分散无机颗粒制备的分散体中，优选地，进一步加入基体形成所必需的粘合剂前躯体(比如后面说明的电离辐射可聚合多官能单体或多官能低聚物)、光聚合引发剂等，以制备用于形成高折射率层和中等折射率层的涂布溶液。将得到的用于形成高折射率层和中等折射率层的涂布溶液涂布在透明支持体上，并通过电离辐射可固化化合物(比如多官能单体或多官能低聚物)的交联反应或聚合反应固化。

作为高折射率层和中等折射率层中使用的粘合剂前躯体，可以优选使用(具有可聚合不饱和键的化合物)中描述的化合物。

基于层的固体溶液的固体含量，高折射率层和中等折射率层的粘合剂前躯体的加入量优选为5-80质量％。

对于所述高折射率层和中等折射率层，还可以优选使用可以通过含有芳香环的电离辐射可固化化合物、含有除氟以外的卤族元素(例如Br、I或Cl)的电离辐射可固化化合物、含有S、N或P的电离辐射可固化化合物的交联或聚合反应得到的粘合剂前躯体。

(无机细颗粒)

在本发明中，可以使用多种无机细颗粒来控制折射率，提高在防眩层上涂布时的膜厚均匀性，改善收缩，并改善物理性质(比如硬度)、光学性质(比如反射率和散射性质)等。基于各层的固体含量，加入高折射率层和中等折射率层中的无机细颗粒的加入量优选为30质量％到90质量％，进一步优选为40质量％到80质量％，最优选为50质量％到75质量％。当加入的颗粒的量小于30质量％时，在防眩层上会不理想地发生收缩，并且膜厚均匀性降低。在各层中两种或多种无机颗粒可以组合使用。

作为无机细颗粒，可以提到选自硅、锆、钛、铝、铟、锌、锡和锑的至少一种金属的氧化物的颗粒，其具体实例包括SiO₂、ZrO₂、TiO₂、Al₂O₃、In₂O₃、ZnO、SnO₂、Sb₂O₃、ITO及ATO。即，在本发明中，高折射率层和中等折射率层优选含有选自Si、Al、Ti、Zr、Sb、Zn、Sn及In的至少一种金属的氧化物细颗粒。可选地，作为无机细颗粒，除了这些，还可以使用BaSO₄、CaCO₃、滑石、高岭土等。

为了形成高折射率层和中等折射率层，优选将包括具有高折射率的无机颗粒的涂布组合物与粘合剂前躯体的固化产物、引发剂和有机取代的硅化合物分散在溶剂中。

作为这种情况中的无机颗粒，从折射率的角度考虑，特别优选ZrO₂或TiO₂。

TiO₂的颗粒特别优选为含有选自钴、铝和锆中至少一种元素，并含有TiO₂作为主要组分的无机颗粒。主要组分是指该组分的含量(质量％)是形成颗粒的组分中最高的。

在本发明中含有TiO₂作为主要组分的颗粒的折射率优选为1.90-2.80，更优选为2.10-2.80，最优选为2.20-2.80。

含有TO₂作为主要组分的颗粒的晶体结构优选包括金红石、金红石/锐钛矿混合晶体、锐钛矿或无定形结构作为主要组分，特别优选金红石结构作为主要组分。主要组分是指该组分的含量(质量％)是形成颗粒的组分中最高的。

通过使含有TiO₂作为主要组分的颗粒含有选自Co(钴)、Al(铝)和Zr(锆)中至少一种元素，可以抑制选TiO₂具有的光催化活性。这可以提高本发明的膜的耐候性。

特别优选的元素是Co(钴)。但是，这些元素也可以优选地以两种或多种组合使用。

本发明的含有TiO₂作为主要组分的无机颗粒可以具有JP-A-2001-166104中由表面处理描述的核/壳结构。

优选在分散介质中将本发明中使用的各无机细颗粒的粒径减小至尽可能地小。重均分子量为1-200nm，优选为5-150nm，进一步优选为10-100nm，特别优选为10-80nm。通过将无机颗粒的粒径减小至100nm或更小，可以形成不损害透明度的膜。各无机细颗粒的粒径可以通过光散射法或电子显微照片测量。

所述无机细颗粒的比表面积优选为10-400m²/g，更优选为20-200m²/g，，最优选为30-150m²/g。

本发明中使用的无机细颗粒优选以分散介质中的分散体的形式加入用于形成各层的涂布溶液中。

作为无机细颗粒的分散介质，优选使用沸点为60-170℃的液体。分散介质的实例包括：水、醇类(如甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇和苯甲醇)、酮(例如丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮和环己酮)、酯类(例如醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丙酯、醋酸丁酯、甲酸甲酯、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸丁酯)、脂肪烃(如正己烷、环己烷)、卤代烃(例如二氯甲烷、氯仿和四氯化碳)、芳香烃(如苯、甲苯和二甲苯)、酰胺(例如二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺和正-甲基吡咯烷酮)、醚(例如二乙醚、二氧六环和四氢呋喃)和醚醇(例如1-甲氧基-2-丙醇)。特别优选甲苯、二甲苯、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮和丁醇。

特别优选的分散介质是甲基乙基酮、甲基异丁基酮和环己酮。

用分散机分散无机细颗粒。分散机的实例包括砂磨机(例如，带针的珠磨机)、高速叶轮磨机、砾磨机、辊磨机、超微磨碎机和胶体磨。特别优选砂磨机和高速叶轮磨机。但也可以进行预分散处理。用于预分散处理的分散机的实例包括球磨机、三辊磨、捏合机和挤出机。

(导电颗粒)

可以使用多种导电颗粒加入本发明的光学膜中来赋予导电性。

导电颗粒优选由金属的氧化物或氮化物形成。金属的氧化物或氮化物的实例包括氧化锡、氧化铟、氧化锌和氮化钛。特别优选氧化锡和氧化铟。导电无机颗粒可以含有金属氧化物或氮化物作为主要组分，并且还可以含有其它元素。主要组分是指该组分的含量(质量％)是形成颗粒的组分中最高的。其它元素的实例可以包括Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P、S、B、Nb、In、V和卤素原子。为了增强氧化锡和氧化铟的导电性，优选加入Sb、P、B、Nb、In、V和卤素原子。特别优选含有Sb的氧化锡(ATO)和含有Sn的氧化铟(ITO)。ATO中Sb的比例优选为3-20质量％。ITO中Sn的优选为5-20质量％。

导电颗粒也可以经过表面处理。该表面处理可以用无机化合物或有机化合物进行。用于表面处理的无机化合物的实例包括氧化铝和二氧化硅。特别优选二氧化硅处理。用于表面处理的有机化合物的实例包括多元醇、链烷醇胺、硬脂酸、硅烷偶联剂和钛酸酯偶联剂。最优选硅烷偶联剂。可以将两种或更多种表面处理组合进行。

导电无机颗粒优选为米粒形、球形、立方体形、纺锤体形或不定形状。导电无机颗粒可以以其两种或多种组合在具体的层中使用或以膜的形式使用。

导电无机颗粒可以用于形成分散体态的抗静电层。

在本发明中，所述防反射膜具有的薄膜层中的至少一个层可以构造成导电层。即，作为薄膜层的低折射率层、中等折射率层和高折射率层中的至少任意层被赋予导电性，从而转变为导电层。这可以简化方法，因而是非常优选的。在这种情况下，优选地选择用于导电层的材料，从而使层的膜厚和折射率满足前面对中等折射率层和高折射率层描述的条件。低折射率层是防反射膜的表面层或表面临近(surface vicinity layer)层。为此，从防止薄膜表面的静电考虑，最优选对低折射率层赋予导电性。但是，导电颗粒和化合物常常是具有高折射率的材料。因此，不理想地是难以得到理想的折射率。为此，可以容易地对中等折射率层和高折射率层赋予导电性。

可以根据目的设计具有适当厚度的高折射率层和中等折射率层。为了在防眩层上按顺序形成高折射率层和低折射率层，从而制造光学膜，高折射率层的膜厚优选为30-200nm，更优选为50-170nm，特别优选为60-150nm。

当三个薄膜层中等折射率层、高折射率层和低折射率层以接近支持体的顺序涂布，从而制备光学膜时，中等折射率层的膜厚优选为30-150nm，进一步优选为40-100nm，最优选为40-70nm。高折射率层的膜厚优选为30-200nm，进一步优选为50-150nm，最优选为90-140nm。

如上所述，当层叠了具有不同折射率的薄膜，从而通过光干涉实现低反射率时，优选层叠各自厚度约为200nm或更小的多个薄膜层。这些层各自的厚度非常小，为200nm或更小，并且它们不同于被称为外涂层或表面调整层的用于控制防眩层的凹凸的层。在这种情况下，由于下述原因本发明中的防眩层的凹凸表面非常重要。对于传统防眩层中的表面凹凸表面，当通过涂布形成薄膜层时，发生由凹凸引起的薄膜层的膜厚不均匀，并且反射率不能充分减小。

当高折射率层和中等折射率层不含有赋予防眩光功能的颗粒时，它们优选具有较低的雾度。所述雾度优选为5％或更小，进一步优选为3％或更小，特别优选为1％或更小。

高折射率层和中等折射率层优选直接形成在透明支持体上，或者它们中间插有其他层。

[流平剂]

对于本发明的至少一个层，可以优选使用多种流平剂。由于防眩层的表面凹凸，用于本发明的高折射率层和中等折射率层可以改善膜厚不均匀性和涂布物质的收缩。即，在本发明中，高折射率层优选含有流平剂。另外，中等折射率层优选含有流平剂。而用于防眩层能够改善表面状态(防止不均一)。

流平剂具体优选氟型流平剂或硅酮型流平剂。特别地，更优选同时使用氟型流平剂和硅酮型流平剂，因为其改善膜厚不均匀性和收缩的效果好。另外，作为流平剂，低聚物或聚合物比低分子量化合物更优选。

当加入流平剂时，流平剂迅速移动到涂布的溶液膜的表面，并且分布不均匀。干燥后，流平剂仍然不均匀地分布在表面上。因此，加有流平剂的高折射率层、中等折射率层和防眩层的膜的各表面能被流平剂减小。从防止高折射率层和中等折射率层的不均匀或收缩，以及防眩层的不均一的角度考虑，优选具有膜的表面能较低。

防眩层的表面能(γs^v：单位，mJ/m²)可以参考J.Appl.Polym.Sci.，vol.13，p.1741(1969)of D.K.Owens，通过实验在防眩层上使用纯水H₂O和二碘甲烷CH₂I₂来测定。在该步骤中，纯水与二碘甲烷的接触角分别假定为θ_H2O和θ_CH2I2。γs^d和γs^h分别通过下面联立方程组(1)和(2)确定。作为它们的和的γs^v(＝γs^d+γs^h)的值定义为防眩层的表面张力的能量转化值(单位mJ/m²，而不是mN/m单位)。要求样品在测量前在规定的温度和湿度条件下经过一定时间或更长的湿度控制。优选地，该步骤的温度是20-27℃，并且湿度在50-65RH％的范围内。湿度控制时间优选为2小时或更长。

(1)1+cosθH₂O＝2√γs^d(√γH₂O^d/γH₂O^v)+2√γs^h(√γH₂O^h/γH₂O^v)

(2)1+cosθCH₂I₂＝2√γs^d(√γCH₂I₂ ^d/γCH₂I₂ ^v)+2√γs^h(√γCH₂I₂ ^h/γCH₂I₂ ^v)

其中，γH₂O^d＝21.8°、γH₂O^h＝51.0°、γH₂O^v＝72.8°、γCH₂I₂ ^d＝49.5°、γCH₂I₂ ^h＝1.3°、γCH₂I₂ ^v＝50.8°。

高折射率层、中等折射率层和防眩层的优选表面能在45mJ/m²或更小的范围内，更优选在20-45mJ/m²的范围内，进一步优选在20-40mJ/m²的范围内。通过设定所述层的表面能为45mJ/m²或更小，可以得到使防眩层上的膜的厚度均匀和改善收缩的效果。但是，当将上层(比如低折射率层)进一步涂布在加有流平剂的层上面时，流平剂优选能流出/移动到上层。将所述层浸在上层(覆在加有流平剂的层之上)的涂布溶液的溶剂(甲基乙基酮、甲基异丁基酮、甲苯或环己烷)中之后，然后清洗的层的表面能优选很高。所述表面能优选为35-70mJ/m²。

下面说明作为流平剂的优选的氟型流平剂。后面将说明硅酮型流平剂。

(氟型流平剂)

氟型流平剂优选为具有氟代脂肪基的聚合物，进一步优选具有相应于下述(i)的单体的重复单元(聚合单元)的聚合物，或含有相应于下述(i)的单体的重复单元(聚合单元)和相应于下述(ii)的单体的重复单元(聚合单元)的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯，以及其与可共聚的乙烯型单体的共聚物。作为这种单体，可以使用Polymer Handbook2nd ed.，J.Brandrup，Wiley Interscienceissued in(1975)，Second chapter，P.1to483中描述的单体。例如，可以提到选自丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、烯丙基化合物、乙烯醚、乙烯酯等的具有一个可加成聚合不饱和键的化合物。

(i)由下面通式(4-1)表示的含氟代脂肪基单体

通式(4-1)

在通式(4-1)中，R⁴¹表示氢原子、卤素原子或甲基，优选氢原子或甲基。Y⁴¹表示氧原子、硫原子或-N(R⁴²)-，优选氧原子或-N(R⁴²)-，进一步优选氧原子。R⁴²表示氢原子或可以具有取代基的具有1-8个碳原子的烷基，更优选氢原子或具有1-4个碳原子的烷基，并进一步优选氢原子或甲基。R_f ⁴¹表示-CF₃或CF₂H。

在通式(4-1)中，m表示1-6的整数，优选1-3，进一步优选为1。n表示1-11的整数，优选1-9，进一步优选1-6。R_f ⁴¹优选为-CF₂H。

然而，具有氟代脂肪基的(共)聚合物中可以含有两种或多种衍生自由通式(4-1)表示的含氟代脂肪基单体的聚合单元作为构成组分。

(ii)可以与上面(i)共聚的由下面通式(4-2)表示的单体

通式(4-2)

在通式(4-2)中，R⁴³表示氢原子、卤素原子或甲基，更优选为氢原子或甲基。Y⁴²表示氧原子、硫原子或-N(R⁴⁵)-，更优选氧原子或-N(R⁴⁵)-，进一步优选氧原子。R⁴⁵表示氢原子或具有1-8个碳原子的烷基，更优选氢原子或具有1-4个碳原子的烷基，并进一步优选氢原子或甲基。R⁴⁴表示具有1到60个碳原子并可以具有取代基的直链、支链或环烷基，或可以具有取代基的芳香基(例如，苯基或萘基)。烷基可以含有聚(亚烷基氧基)。此外，更优选为具有1-20个碳原子的直链、支链或环烷基，优选具有1-10个碳原子的直链或支链烷基。基于共聚物的单体的总量，在制备具有优选的氟代脂肪基的(共)聚合物中，由通式(4-1)表示的含有氟代脂肪基的单体的量为10质量％或更大，优选为50质量％或更大，更优选为70-100质量％，进一步优选为80-100质量％。

下面显示具有优选的氟代脂肪基的共(聚合物)的实例的非限制性结构。顺便提及，式中的数字显示各单体组分的摩尔比。Mw表示质量平均分子量。

	R	n	Mw
				FP—1	H	4	8000
FP—2	H	4	16000
				FP—3	H	4	33000
FP—4	CH₂	4	12000
				FP—5	CH₃	4	28000
FP—6	H	6	8000
				FP—7	H	6	14000
FP—8	H	6	29000
				FP—9	CH₃	6	10000
FP—10	CH₃	6	21000
				FP—11	H	8	4000
FP—12	H	8	16000
				FP—13	H	8	31000
FP—14	CH₃	8	3000
				FP—15	CH₃	8	10000
FP—16	CH₃	8	27000
				FP—17	H	10	5000
FP—18	H	10	11000
				FP—19	CH₃	10	4500
FP—20	CH₃	10	12000
				FP—21	H	12	5000
FP—22	H	12	10000
				FP—23	CH₃	12	5500
FP—24	CH₃	12	12000

	x	R³	p	q	R²	r	s	Mw
									FP—25	50	H	1	4	CH₂	1	4	10000
FP—26	40	H	1	4	H	1	6	14000
									FP—27	60	H	1	4	CH₂	1	8	21000
FP—28	10	H	1	4	H	1	8	11000
									FP—29	40	H	1	4	H	1	8	16000
FP—30	20	H	1	4	CH₂	1	8	8000
									FP—31	10	CH₂	1	4	CH₂	1	8	7000
FP—32	50	H	1	6	CH₂	1	6	12000
									FP—33	50	H	1	6	CH₂	1	6	22000
FP—34	30	H	1	6	CH₂	1	6	5000
									FP—35	40	CH₂	1	6	H	3	6	8000
FP—36	10	H	1	6	H	1	8	7000
									FP—37	30	H	1	6	H	1	8	17000
FP—38	50	H	1	6	H	1	8	16000
									FP—39	50	CH₂	1	6	H	3	8	19000
FP—40	50	H	1	8	CH₂	1	8	5000
									FP—41	80	H	1	8	CH₂	1	8	10000
FP—42	50	CH₂	1	8	H	3	8	14000
									FP—43	90	H	1	8	CH₂	3	8	9000
FP—44	70	H	1	8	H	1	10	7000
									FP—45	90	H	1	8	H	3	10	12000
FP—46	50	H	1	8	H	1	12	10000
									FP—47	70	H	1	8	CH₂	3	12	8000

形成具有氟代脂肪基的共(聚合物)的含有氟代脂肪基的单体的聚合单元的量优选为大于10质量％，更优选为50-100质量％。当重要性在于防止防眩层的不均匀时，最优选为75-100质量％。但是，当低折射率层涂布在防眩层上时，最优选为50-75质量％。(上述描述基于形成具有氟代脂肪基的共(聚合物)的聚合单元的总量)。

(硅酮型流平剂)

下面描述硅酮型流平剂。

硅酮型化合物的优选实例包括具有多个二甲基甲硅烷氧基单元作为重复单元，并在其化合物链和/或侧链的端部具有取代基的化合物。含有二甲基甲硅烷氧基作为重复单元的化合物链可以在其中含有除二甲基甲硅烷氧基之外的其他结构单元。取代基可以相同或不同，优选存在多个取代基。取代基的优选实例包括含有聚醚基、烷基、芳基、芳氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、芳基、肉桂酰基、环氧基、氧环丁基、羟基、氟代烷基、聚氧化烯基、羧基、氨基等。

对分子量没有特别限制。但是，优选为100,000或更小，更优选为50,000或更小，特别优选为1000-30000，最优选为10000-20000。

对硅酮型化合物的硅原子含量没有特别限制。但是，优选为18.0质量％或更大，特别优选为25.0-37.8质量％，最优选为30.0-37.0质量％。

硅酮型化合物的非限制性优选实例包括Shin-Etsu Chemical Co.，Ltd.生产的＂X-22-174DX＂、＂X-22-2426＂、＂X-22-164B＂、＂X22-164C＂、＂X-22-170DX＂、＂X-22-176D＂及＂X22-1821＂(均为商品名)；Chisso Corporation生产的＂FM-0725＂、＂FM-7725＂，＂FM-4421＂、＂FM-5521＂、＂FM-6621＂及＂FM-1121＂(均为商品名)；Gelest Co.生产的＂DMS-U22＂、＂RMS-033＂、＂RMS-083＂、＂UMS-182＂、＂DMS-H21＂、＂DMS-H31＂、＂HMS-301＂、＂FMS121＂、＂FMS123＂、＂FMS131＂、＂FMS141＂及＂FMS221＂(均为商品名)；Dow CorningToray Co.，Ltd.生产的＂SH200＂、＂DC11PA＂、＂SH28PA＂、＂ST80PA＂、＂ST86PA＂、＂ST97PA2、＂SH550＂、＂SH710＂、＂L7604＂、＂FZ-2105＂、＂FZ-2123＂、＂FZ2162＂、＂FZ-2191＂、＂FZ-2203＂、＂FZ-2207＂、＂FZ-3704＂、＂FZ-3736＂、＂FZ-3501＂、＂FZ-3789＂、＂L-77＂、＂L-720＂、＂L-7001＂、＂L-7002＂、＂L-7604＂、＂Y-7006＂、＂SS-2801＂、＂SS-2802＂、＂SS-2803＂、＂SS-2804＂、和＂SS-2805＂(均为商品名)；GE Toshiba Silicone Co.，生产的＂TSF400＂、＂TSF401＂、＂TSF410＂、＂TSF433＂、＂TSF4450＂及＂TSF4460＂(均为商品名)。

当流平剂用于硬涂层和防眩层时，基于涂布溶液的量，含氟流平剂或硅酮型流平剂的加入量优选为0.001-1.0质量％，更优选为0.01-0.2质量％。当其用于中等折射率层、高折射率层和低折射率层时，基于固体含量，所述流平剂的加入量优选为0.1-5.0质量％，更优选为0.1-3.0质量％。

(分散剂)

为了进行本发明中使用的颗粒的分散，可以使用多种分散剂。

所述分散剂优选进一步含有可交联或可聚合的官能团。作为可交联或可聚合的官能团，可以提到能够通过自由基进行加成反应/聚合反应的烯键式不饱和基团(如(甲基)丙烯酰基、烯丙基、苯乙烯基及乙烯基氧基)、阳离子可聚合基团(如环氧基、氧环丁基和乙烯基氧基)、可多缩合基团(如可水解甲硅烷基和N-羟甲基)。优选具有烯键式不饱和基团的官能团。

为了进行无机细颗粒的分散，特别是含有TIO₂作为主要组分的无机颗粒的分散，优选使用具有阴离子基团的分散剂。所述分散剂更优选具有阴离子基团和可交联或可聚合的官能团，特别优选地，所述分散剂为在侧链具有可交联或可聚合基团的分散剂。

所述阴离子基团是具有酸性质子(比如羧基、磺酸基(磺基)、磷酸基(膦酰基)及亚磺酰胺基)的有效基团，或它们的盐，尤其优选羧基、磺酸基和磷酸基或它们的盐，特别优选羧基和磷酸基。在分散剂的每个分子中可以含有多个阴离子基团，但是，分散剂的每个分子中可以含有的阴离子基团的数量优选平均为2个或更多，更优选5个或更多，特别优选10个或更多。对于分散剂中含有的阴离子基团，每个分子中也可以含有多种阴离子基团。

在侧链中具有阴离子基团的分散剂中，基于重复单元的总量，含有阴离子基团的重复单元的组成比在10^-4-100mol％的范围内，优选在1-50mol％的范围内，特别优选在5-20mol％的范围内。

所述分散剂优选还含有可交联或可聚合官能团。作为可交联或可聚合官能团，可以提到能够通过自由基进行加成反应/聚合反应的烯键式不饱和基团(如(甲基)丙烯酰基、烯丙基、苯乙烯基及乙烯基氧基)、阳离子可聚合基团(如环氧基、氧环丁基和乙烯基氧基)、及可多缩合基团(如可水解甲硅烷基和N-羟甲基)。优选具有烯键式不饱和基团的官能团。

分散剂的每个分子中可以含有的可交联或可聚合官能团的数量优选平均为2个或更多，更优选5个或更多，特别优选10个或更多。然而，对于分散剂中含有的可交联或可聚合官能团，每个分子中也可以含有它们中的多种。

在用于本发明的优选分散剂中，在侧链中具有烯键式不饱和基团的重复单元的实例可以包括聚1，2-丁二烯和聚1，2-异戊二烯结构或(甲基)丙烯酸酯或酰胺的重复单元。可以使用在其上键联有特定残基(-COOR或-CONHR的R)的分散剂。所述特定残基(R基)的实例包括-(CH₂)_n-CR²¹＝CR²²R²³、-(CH₂O)_n-CH₂CR²¹＝CR²²R²³、-(CH₂CH₂O)_n-CH₂CR²¹＝CR²²R²³、-(CH₂)_n-NH-CO-O-CH₂CR²¹＝CR²²R²³、-(CH₂)_n-O-CO-CR²¹＝CR²²R²³及-(CH₂CH₂O)₂-X(其中R²¹-R²³各自为氢原子、卤素原子或具有1-20个碳原子的烷基、芳基、烷氧基或芳氧基，并且R²¹和R²²或R²³也可以彼此组合形成环；n是1-10的整数；X是二环戊二烯残基)。酯残基中的R的具体实例包括：-CH₂CH＝CH₂(相当于JP-A-64-17047中描述的烯丙基(甲基)丙烯酸酯聚合物)、-CH₂CH₂O-CH₂CH＝CH₂、-CH₂CH₂OCOCH＝CH₂、-CH₂CH₂OCOC(CH₃)＝CH₂、-CH₂C(CH₃)＝CH₂、-CH₂CH＝CH-C₆H₅、-CH₂CH₂OCOCH＝CH-C₆H₅、-CH₂CH₂-NHCOO-CH₂CH＝CH₂和CH₂CH₂O-X(其中X是二环戊二烯残基)。酰胺残基中的R的具体实例可以包括：-CH₂CH＝CH₂、-CH₂CH₂-Y(其中Y是1-环己烯残基)、-CH₂CH₂-OCO-CH＝CH₂及-CH₂CH₂-OCO-C(CH₃)＝CH₂。

在具有烯键式不饱和基团的分散剂中，向不饱和键基团中加入自由基(可聚合化合物的聚合过程中的聚合引发剂自由基或生长自由基(growingradical))，加成聚合直接发生或通过分子间的可聚合化合物的链聚合发生。这导致交联的形成，引起固化。可选地，分子中的原子(比如与不饱和键基团相邻的碳原子上的氢原子)被自由基吸引产生聚合物基。这些相互组合，在分子间形成交联，引起固化。

具有阴离子基团、可交联或可聚合官能团，并在侧链具有可交联或可聚合官能团的分散剂的重均分子量(Mw)没有特别限制。但是，优选为1000或更大。分散剂的重均分子量(Mw)更优选为2000-1000000，进一步优选为5000-200000，特别优选为10000-100000。

含有可交联或可聚合官能团的单元可以构成除含阴离子重复单元之外的所有重复单元。但是，这些占可交联或可聚合重复单元的总量的5-50mol％，特别优选为5-30mol％。

所述分散剂可以是与除了具有可交联或可聚合官能团和阴离子基团之外的适当的单体的共聚物。对可共聚组分没有特别限制。但是从比如分散稳定性、与其他单体组分的相容性及形成的膜的强度方面考虑来进行选择。其优选实例包括甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸环己酯和苯乙烯。

对分散剂的形式没有特别限制。但是，分散剂优选为嵌段共聚物或无规共聚物，在成本和便于合成方面，特别优选为无规共聚物。

相对于无机颗粒的量，以固体含量计，使用的分散剂的量在1-50质量％的范围内，更优选在5-30质量％的范围内，最优选在5-20质量％的范围内。另外，所述分散剂的两种或多种可以组合使用。

下面显示了本发明中可以使用的分散剂的具体实例。但是，本发明的分散剂不限于此。顺便提及，除非特别指明，分别表示无规共聚物。

x/y/z表示摩尔比

<支持体>

本发明中可以使用的支持体的具体实例包括聚酯类聚合物(如聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚萘二甲酸乙二醇酯)、纤维素型聚合物(如双乙酰纤维素和三乙酰纤维素)、丙烯酸酯类聚合物(如聚甲基丙烯酸甲酯)、苯乙烯类聚合物(如聚苯乙烯和AS树脂)、以及聚碳酸酯型聚合物。此外，可以提到聚烯烃类聚合物(如聚乙烯、聚丙烯、含有环型或降冰片烯结构的聚烯烃、乙烯-丙烯共聚物)、砜型聚合物、聚醚砜型聚合物、聚醚酮型聚合物、聚苯硫醚型聚合物、乙烯醇型聚合物、偏二氯乙烯型聚合物、乙烯醇缩丁醛型聚合物、丙烯酸酯型聚合物、聚甲醛型聚合物、环氧型聚合物等。

对支持体的厚度没有特别限制。但是优选设为20-150μm，进一步优选设为40-80μm。

(光学膜的层结构)

从折射率、膜厚度、层数、层顺序等方面考虑，本发明的光学膜(防反射膜)构造成至少一个防反射层层叠在透明支持体(下文可以称作“基材”)上。

通过组合防眩层与中等折射率层和折射率高于基材的高折射率层，以及折射率低于基材的低折射率层来构造光学膜。作为所述结构的实例：从基材侧起的高折射率层/低折射率层双层结构，其中按照中等折射率层(折射率高于基材或硬涂层但低于高折射率层的层)/高折射率层/低折射率层的顺序层叠折射率不同的三层而形成的结构，及其它结构。还提出了层叠多个防反射层的结构。从耐久性、光学性质、成本、生产率等方面考虑，优选在具有硬涂层的基材上以此顺序涂布防眩层/中等折射率层/高折射率层/低折射率层。

下面显示本发明的光学膜的层结构的优选实例。在下面的结构中，基材膜起到支持体的作用。另外，在下面的结构中，构造了以“(抗静电层)”表示的层，表示具有其他性能的层还具有抗静电层性能。通过使抗静电层具有抗静电性能以外的其他性能，可以减少形成的层的数量。因此，该结构提高了生产率，因而是优选的。

支持体/防眩层/高折射率层/低折射率层，

支持体/防眩层/中等折射率层/高折射率层/低折射率层，

支持体/防眩层/高折射率层/低折射率层/高折射率层/低折射率层，

支持体/硬涂层/防眩层/高折射率层/低折射率层，

支持体/硬涂层/防眩层/中等折射率层/高折射率层/低折射率层，

支持体/防眩层/高折射率层(抗静电层)/低折射率层，

支持体/防眩层/中等折射率层(抗静电层)/高折射率层/低折射率层，

支持体/抗静电层/防眩层/中等折射率层/高折射率层/低折射率层，及

抗静电层/支持体/防眩层/中等折射率层/高折射率层/低折射率层，

只要可以通过光学干涉降低反射率，所述结构并不特别限制于这些层结构。

本发明的光学膜的特征在于所述光学膜的算术平均粗糙度(Ra)是0.03μm<Ra<0.4μm，凹凸的平均间隔是80μm<Sm<700μm，当测量凹凸的倾角θ时，0°<θ<0.5°(θ(0.5))的面积为40％或更大，并且光学膜的积分反射率是1.5％或更小。

当使用平均粒径大于防反射膜的平均膜厚的透光颗粒用于赋予防眩光性能时，从赋予防眩光性能的角度考虑，优选0.10μm<Ra<0.40μm，进一步优选0.15μm<Ra<0.35μm。考虑到眩光、当反射外部光线时表面的发白等，而不考虑赋予防眩光性能时，优选0.05<Ra<0.30μm，进一步优选0.05<Ra<0.25μm，最优选0.05μm<Ra<0.15μm。另外，为了通过增大薄膜表面的平坦部分的比例，同时实现防眩光性能和薄膜干涉层的均匀层叠，凹凸的平均间隔(Sm)优选为150μm<Sm<700μm，最优选为200μm<Sm<600μm。

本发明中，0°<θ<0.5°(θ(0.5))(其中θ是凹凸的倾角)的区域优选占45％或更大(优选小于98％)。对于0(0.5)，优选45％或更大并小于98％，更优选50％或更大并小于98％，进一步优选60％或更大并小于98％，特别优选70％或更大并小于98％。

光学膜的积分反射率进一步优选为0.01-1.0％，最优选为0.01-0.75％。

当光学膜的算术平均粗糙度(Ra)是0.03μm或更小时，表面的凹凸太小，因而不能得到足够的防眩光性能。当光学膜的算术平均粗糙度(Ra)是0.4μm或更大时，会由于凹凸发生眩光、当反射外部光线等时发白、以及由于薄膜层的膜厚不均匀而干涉能力减小的问题。

凹凸的平均间隔(Sm)为80μm或更小造成这样的结构，即其中表面凹凸的平坦部分的比例较小。因此，在涂布薄膜层时会由于膜厚不均匀而发生干涉能力减小的问题。凹凸的平均间隔(Sm)为700μm或更大造成这样的结构，即其中表面的平坦部分的比例非常大，从而不能得到足够的防眩光性能。

当θ(0.5)小于40％时，会由于凹凸而发生由于薄膜层的膜厚不均匀而造成干涉能力减小。当积分反射率为1.5％或更大时，不能得到黑色严密性优异的防反射膜。

使用本发明的防眩层，可以在保持θ(0.5)的比例在40％(涂膜表面的相对平坦区域)或更大时，赋予足够的防眩光性能，并且80μm<Sm<700μm，这对于使用常规已知的防眩光膜是难以实现的。当用涂布方法层叠多个薄膜层时，可以同时实现足够的防眩光性能和低反射率。

下面将详细描述各测量方法。

(倾角θ)

本发明的光学膜在表面上具有微细的凹凸结构。在本发明中，倾角θ的分布用下述方式测定。即，在透明膜基材上假定面积为0.5-2平方微米的三角形的顶点。这样，从所述点垂直向上延伸出三条垂线。由三条垂线与膜表面相交的三个点形成三角形。三角形的面的法线与从支持体垂直向上延伸出的垂线形成的角称为表面的倾角。当将基材的上部的面积为250000平方微米(0.25平方毫米)或更大的部分分成多个三角形时，测量所有测量点的倾角分布。

下面参考附图1A-1C详细说明测量倾角的方法。如图1A所示，将膜分成这种各具有0.5-2平方微米的面积的筛孔。图1C是提取了分成的筛孔的三个点的视图。从支持体上的三个点垂直向上延伸出垂线，并且与表面相交的三个点称为A、B和C。三角形ABC的面的法线DD′和从支持体垂直向上延伸出的垂线OO′形成的角θ称为倾角。图1B是在包括点O′、D和D′的面P处横切的膜的横截面视图。线段EF是三角形ABC和面P之间的交线。测量面积优选为支持体上部的250000平方微米(0.25平方毫米)或更大的面积。在支持体上将表面分成三角形，并进行测量以测定倾角。已有一些测量设备。下面将描述一个实例。下面说明使用Micromap Corp.(U.S.A)生产的ModelSXM520-AS150作为所述设备。例如，当物镜的放大率为10倍时，倾角的测量单元为0.8平方微米，测量范围是500000平方微米(0.5平方毫米)。当物镜放大率的增大时，测量单元和测量范围随之减小。使用软件(比如MAT-LAB)分析测量数据，从而可以计算倾角分布。从得到的倾角分布计算在倾角0到0.5°的频率θ(0.5)。在五个不同位点进行测量，并计算平均值。

(积分反射率)

将光学膜的背侧，即，低折射率层的相反侧的表面用砂纸打磨粗糙，然后用黑墨水处理，得到没有背面反射的状态。将光学膜的表面安装在分光光度计V-550(产自JASCO Corporation)的积分球上，来测量380nm到780nm波长区域内的反射率(积分反射率)。然后，计算其在450nm到650nm的平均反射率。

(表面形状的评价)

对于光学膜的表面形状，基于JIS B-0601(1994)，用KOSAKALaboratory Ltd.生产的surfcorder MODEL SE-3F评价表面凹凸的算术平均粗糙度(Ra)和表面凹凸的平均间隔(Sm)。对于Sm，为了测量，测量长度设为8mm，并且截止值设为0.8mm。

(防眩层单位面积上透光颗粒的数量的评价)

通过在光学显微镜下观测10个范围为500μm×500μm的视场并计数各数量，得到平均粒径大于防眩层的平均膜厚的透光颗粒的数量。

本发明的偏振片是具有偏振膜和在偏振膜的相对侧设有保护膜的偏振片，其中至少一个所述保护膜是本发明的光学膜。

对本发明的光学膜或偏振片的用途没有特别限制，但优选用作防反射膜。可以使用防反射膜来防止由于外部光线的反射造成的对比度减小或多种图像显示设备(比如液晶显示装置(LCD)、等离子显示屏(PDP)、电致发光显示器(ELD)、阴极射线管显示器(CRT)、场致发射显示器(FED)及表面传导电子发射体显示器(SED))中的图像反射。

本发明的图像显示设备(优选为液晶显示设备)具有本发明的光学膜或偏振片。本发明的光学膜或偏振片优选置于显示器的表面(显示屏的观察侧上)。

实施例

下面通过实施例进一步详细地描述本发明，但本发明不应被理解为限于这些实施例的范围。顺便提及，除非另有说明，“份”和“％”均基于质量。

(实施例1)

(溶胶溶液a的制备)

向配有温度计、氮气进入管和滴液漏斗的1000ml的反应容器中加入187g(0.80mol)的丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、27.2g(0.20mol)的甲基三甲氧基硅烷、320g(10mol)的甲醇、及0.06g(0.001mol)的KF。在室温搅拌下向其中缓慢滴加15.1g(0.86mol)的水。滴加完成后，将混合物在室温下搅拌3小时，然后在甲醇回流下搅拌加热2小时。然后，在减压下蒸溜出低沸点物质，之后进一步过滤，得到120g溶胶溶液a。对得到的材料进行GPC测量。结果发现质量平均分子量为1500。在尺寸等于或大于低聚物组分的组分中，分子量为1000到20000的组分占30％。

¹H-NMR的测量结果显示得到的材料具有由下式表示的结构。

另外，由²⁹Si-NMR得到缩合比α为0.56。分析结果显示溶胶溶液a主要由直链结构部分组成。

气象色谱分析的结果显示作为原材料的丙烯酰丙基三甲氧基硅烷的剩余率为5％或更小。

(1)防眩层的涂布溶液的制备

将各涂布溶液过滤通过聚丙烯制成的孔径为30μm的过滤器，来制备防眩层1-3的涂布溶液。

使用的各化合物显示如下。

DPHA：二季戊四醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物[NIPPON KAYAKU Co.，Ltd.生产]。

PET-30：三丙烯酸季戊四醇酯和四丙烯酸季戊四醇酯的混和物[NIPPON KAYAKU Co.，Ltd.生产]。

IRGACURE184：聚合引发剂[Ciba Specialty Chemicals，Ltd.生产]。

IRGACURE907：聚合引发剂[Ciba Specialty Chemicals，Ltd.生产]。

SX-350：平均粒径为3.5μm的交联聚苯乙烯颗粒[折射率1.60，SokenChemicals & Engineering Co.，Ltd.生产，30％甲苯分散液。用POLYTRON分散设备在10000rpm下分散20分钟后使用。]。

交联丙烯酸-苯乙烯颗粒：平均粒径为3.5μm[折射率1.55，SokenChemicals & Engineering Co.，Ltd.生产，30％甲苯分散液。用POLYTRON分散设备在10000rpm下分散20分钟后使用。]。

SP-13氟型表面改性剂

MX-600：聚甲基丙烯酸甲酯细颗粒，平均粒径6.0μm，Soken Chemicals&Engineering Co.，Ltd.生产。

SYLYSIA446：内聚性二氧化硅，FUJI Silysia Chemicals Ltd.生产，次级粒径6.2μm。

(中等折射率层的涂布溶液A的制备)

在10.0质量份的含ZrO₂细颗粒的硬涂层剂(Desolite Z7404[折射率：1.72，固体含量浓度：60质量％，氧化锆细颗粒含量：70质量％(基于固体含量)，氧化锆细颗粒的平均粒径：约20nm，溶剂组成：MIBK/MEK＝9/1，由JSR生产])中加入3.0质量份的二季戊四醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物(DPHA)、0.1质量份的光聚合引发剂(IRGACURE184，由CibaSpecialty Chemicals生产)、和86.9质量份的甲基异丁基酮，并搅拌。充分搅拌后，将溶液过滤通过聚丙烯制成的孔径为0.4μm的过滤器，以制备中等折射率层的涂布溶液A。

(中等折射率层的涂布溶液B的制备)

向中等折射率层的涂布溶液A中加入0.1质量份的SP-13。充分搅拌后，将溶液过滤通过聚丙烯制成的孔径为0.4μm的过滤器，以制备中等折射率层的涂布溶液B。

(中等折射率层的涂布溶液C的制备)

加入9.7质量份的双酚A二环氧甘油醚的丙烯酸加合物(VR-77；SHOWAHIGHPOLYMER CO.，LTD.生产)、0.3质量份的光聚合引发剂(IRGACURE184，Ciba Specialty Chemicals，Ltd.生产)、和140质量份的甲基乙基酮，并搅拌。

(中等折射率层的涂布溶液D的制备)

加入5.0质量份的双酚A二环氧甘油醚的丙烯酸加合物(VR-77；SHOWAHIGHPOLYMER CO.，LTD.生产)、5.23质量份的含ZrO₂细颗粒的硬涂层剂(Desolite Z7404[折射率：1.72，固体含量浓度：60质量％，氧化锆细颗粒含量：70质量％(基于固体含量)，氧化锆细颗粒的平均粒径：约20nm，溶剂组成：MIBK/MEK＝9/1，由JSR生产])、0.24质量份的光聚合引发剂(IRGACURE184，Ciba Specialty Chemicals，Ltd.生产)、和117质量份的甲基异丁基酮，并搅拌。

(中等折射率层的涂布溶液E的制备)

加入5.0质量份的双酚A二环氧甘油醚的丙烯酸加合物(VR-77；SHOWAHIGHPOLYMER CO.，LTD.生产)、7.43质量份的含ZrO₂细颗粒的硬涂层剂(Desolite Z7404[折射率：1.72，固体含量浓度：60质量％，氧化锆细颗粒含量：70质量％(基于固体含量)，氧化锆细颗粒的平均粒径：约20nm，溶剂组成：MIBK/MEK＝9/1，由JSR生产])、0.28质量份的光聚合引发剂(IRGACURE184，Ciba Specialty Chemicals，Ltd.生产)、和138质量份的甲基异丁基酮，并搅拌。

(高折射率层的涂布溶液A的制备)

在15.0质量份的含ZrO₂细颗粒的硬涂层剂(Desolite Z7404[折射率：1.72，固体含量浓度：60质量％，氧化锆细颗粒含量：70质量％(基于固体含量)，氧化锆细颗粒的平均粒径：约20nm，溶剂组成：MIBK/MEK＝9/1，由JSR制造])中加入85.0质量份的甲基异丁基酮，并搅拌。将得到的溶液过滤通过聚丙烯制成的孔径为0.4μm的过滤器，以制备高折射率层的涂布溶液A。

(低折射率层的涂布溶液A的制备)

(空心二氧化硅颗粒分散体的制备)

向500质量份的空心二氧化硅细颗粒溶胶(异丙醇二氧化硅溶胶，CATALYSTS & CHEMICALS IND.CO.，LTD.生产的CS60-IPA，平均粒径60nm，壳厚10nm，二氧化硅浓度20％，二氧化硅颗粒反射率1.31)、20质量份的丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、和1.5份的乙酸乙酯二异丙氧基铝并混合。然后，向其加入9质量份的离子交换水。使混合物在60℃下反应8小时，然后冷却至室温。向其加入1.8份的乙酰乙酮，得到分散体。然后，加入环己酮以保持二氧化硅含量大致恒定，在减压下，在30托的压力下通过蒸溜进行溶剂置换。最后，通过浓度控制得到固体含量浓度为18.2％的分散体。用气相色谱法分析得到的分散体的IPA残余量。结果发现为0.5％或更小。

通过使用得到的空心二氧化硅颗粒分散体，制备具有下述组成的低折射率层的涂布溶液A。

“P-1”：JP-A-2004-45462中描述的含氟共聚物P-3(重均分子量：约50000)，

DPHA：二季戊四醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物，NIPPON KAYAKU Co.，Ltd.生产，

IRGACURE907：聚合引发剂(Nihon Ciba-Geigy K.K.生产)，

M-1：含氟多官能丙烯酸酯，

RMS-033：甲基丙烯酰氧基改性的硅酮(Gelest Co.，Ltd.生产)。

(防眩层101的涂布)

以辊形卷绕三乙酰基纤维素膜(TAC-80U，Fuji Photo Film，Co.，Ltd.生产)。这样，借助具有止流阀的模具的涂布机，将防眩层的涂布溶液1直接挤出并涂布。在输送速度为30米/分钟的条件下进行涂布。在30℃下干燥15秒并在90℃下干燥20秒后，在氮气吹洗的条件下使用160W/cm气冷金属卤化物灯(EYEGRAPHICS Co.，Ltd.生产)对其施加90mJ/cm²辐照剂量的紫外线。结果，将涂布层固化形成平均膜厚为6.0μm，具有防眩光性能的防眩层，并将得到的膜绕卷，从而制成防眩层101。

(防眩层102和103的制备)

防眩层102和103以与防眩层101相同的方式制备，区别仅在于将防眩层的涂布溶液1中加入的颗粒的量改为在防眩层101的制备中用量的0.5倍和1.5倍。

(防眩层104的制备)

防眩层104以与防眩层101相同的方式制备，区别仅在于改变涂布量，使得使用用于防眩层的涂布溶液2时，涂膜厚度为6.0μm。

(防眩层105和106的制备)

防眩层105和106以与防眩层104相同的方式制备，区别仅在于将防眩层的涂布溶液2的颗粒加入量改变为在防眩层104的制备中用量的0.5倍和3.0倍。

(防眩层107的制备)

防眩层107以与防眩层101相同的方式制备，区别仅在于涂布量改变，使得使用用于防眩层的涂布溶液3时，涂膜厚度为4.0μm。

(防眩层108到110的制备)

防眩层108、109和110以与防眩层107相同的方式制备，区别仅在于将防眩层的涂布溶液3中加入的颗粒的量改为在防眩层107的制备中用量的0.1倍、0.5倍和2.5倍。

在每个防眩层上，借助具有止流阀的模具的涂布机直接挤出中等折射率层的涂布溶液、高折射率层的涂布溶液和低折射率层的涂布溶液，并用表4中显示的各构造涂布。对于各层的涂布溶液的量，直接涂布在防眩层上的溶液的量与相同的溶液直接涂布在PET膜上时得到理想膜厚的量相同。在表4中，PET膜的膜厚描述为防眩层上的真实膜厚。PET膜的膜厚用反射膜厚度监控器“FE-3000”(OTSUKA ELECTRONICS Co.，Ltd.生产)计算。顺便提及，为了测量各层的折射率，将各层的涂布溶液在玻璃片上涂布4μm厚度，并借助阿贝折射仪(ATAGO生产)进行计算。

在上表中，透光颗粒含量的数值(质量％)基于总固体含量。

中等折射率层的干燥的条件为90℃和30秒。对于紫外线固化条件，在进行氮气吹洗使得氧浓度为1.0体积％或更小时，借助180W/cm的气冷金属卤化物灯(由EYEGRAPHICS Co.生产)使用400mW/cm²的照度和240mJ/cm²的辐照剂量。

高折射率层的干燥的条件为90℃和30秒。对于紫外线固化条件，在进行氮气吹洗使得氧浓度为1.0体积％或更小时，借助240W/cm的气冷金属卤化物灯(由EYEGRAPHICS Co.生产)使用400mW/cm²的照度和240mJ/cm²的辐照剂量。

低折射率层的干燥的条件为60℃和60秒。对于紫外线固化条件，在进行氮气吹洗使得氧浓度为0.1体积％或更小时，借助240W/cm的气冷金属卤化物灯(由EYEGRAPHICS Co.生产)使用600mW/cm²的照度和600mJ/cm²的辐照剂量。

(光学膜的评价)

以下述方式来评价光学膜的各种性质。结果显示在表2中。

(积分反射率)

光学膜的反射率(积分反射率)用本说明书中描述的方法测量，然后，计算其在450nm到650nm的平均反射率来评价防眩光性能。

(表面形状的评价)

使用本说明书中描述的方法评价算术平均粗糙度(Ra)和凹凸的平均间隔(Sm)。对于Sm，为了进行测量，测量长度设为8mm，截止值设为0.8mm。

(倾角θ)

使用本说明书中描述的方法测量倾角θ，并从其计算倾角为0到0.5°的频率。

(防眩层的单位面积上透光颗粒的数量的评价)

使用本说明书中描述的方法评价平均粒径大于防眩层的平均膜厚的透光颗粒的数量。

(收缩)

在本发明的光学膜的背侧涂布油状黑墨水，借助光学显微镜，使用微分干涉观测膜。这样，以下述方式评价涂膜表面上的收缩。

AA：即使仔细观察也没有发现收缩；

BB：仔细观察时发现轻微收缩；及

CC：在涂膜的整个表面上观察到严重收缩。

[反射]

在本发明的防眩光膜的整个背侧涂布黑墨水。然后，当在防眩光膜的表面上反射荧光时，评价光的反射方式。

AA：反射受到充分抑制，或者光线充分扩散，因而反射不令人生厌；

BB：如果仔细观察，可以观察到荧光的形状的反射，但反射不令人生厌；及

CC：荧光的形状受到轻微反射，但反射并不令人生厌；

DD：荧光的形状受到明显反射，并且反射耀眼且令人生厌。

与CC相等或高于CC的水平评定为合格。

(黑色显示的黑色严密性(显示性能))

将设置在使用IPS系统液晶单元的液晶显示设备(32＂TV：W32-L7000，Hitachi Co.，Ltd.生产)的观察侧的表面膜释放。代之以将本发明的光学膜通过粘合剂连接至背侧，以涂布侧作为观察侧。在1000勒克司亮度的室内，将液晶显示设备设为黑色显示状态，并以视觉评价。从而进行下面评价。

在10的范围内进行评级。在10点，根本感受不到由外部光线造成的发白感觉，亮度和黑色显示一样低，并且在亮室的对比度优选较高。另一方面，在5点或更低，由外部光线造成的发白感觉非常强，作为黑色显示不能接受(NG)，并且在亮室的对比度低。

评价结果显示在表5中。

顺便提及，在表中，在透光颗粒的数量栏中的“-”表示数量不能准确测定。因此，不能描述透光颗粒的数量。其原因如下。对于这些样品，使用内聚性二氧化硅颗粒作为透光颗粒。粒径相当于次级粒径，因而透光颗粒的数量难以测量。

顺便提及，对于表中的样品12和16，在一些位置没有说明数值。这是由于以下事实。对于样品12和16，各中等折射率层不含金属氧化物颗粒。因此，发生收缩，因而不能得到光学膜。因此，没有说明数值。

样品1-10和19-21的结果表明以下事实。算术平均粗糙度(Ra)为0.03μm<Ra<0.4μm，凹凸的平均间隔(Sm)为80μm<Sm<700μm，并且对于倾角θ，0°<θ<0.5°的区域(θ(0.5))占40％或更大，对于这样的光学膜，即使当层叠两个或更多个干涉层，在保持防眩光性能时，出人意料地在表面具有凹凸，并且积分反射率为1.5％或更小。因此，可以得到黑色严密性良好，并且防止反射的防反射性质。特别地，对于θ(0.5)为70％或更大，Sm大于200μm的样品7和9，发现以下事实：反射率低，黑色严密性良好，并且防反射性能优异。对于样品19-21，干涉层为三层构造，并因此可以得到优异性能。对于样品8，θ(0.5)大，但Sm大于700μm。因此，反射率低，黑色严密性良好，但防反射性能差。

另外，样片11-18的结果表明以下事实。通过将高折射率层中含有的金属氧化物细颗粒的量设为30％或更大，并使高折射率层含有流平剂，可以得到涂膜没有收缩、反射率低且黑色严密性良好的防反射膜。对于样品18和14，金属氧化物颗粒的含量较低，但中等折射率层的折射率较高，因此，反射率分别相对于样品7和4较低。

(实施例2)

(1)防眩层的涂布溶液的制备

MX-1000：聚甲基丙烯酸甲酯细颗粒，平均粒径10μm，SokenChemicals & Engineering Co.，Ltd.生产，

MXS-300：聚甲基丙烯酸甲酯细颗粒，平均粒径3μm，Soken Chemicals& Engineering Co.，Ltd.生产，

MX-500：聚甲基丙烯酸甲酯细颗粒，平均粒径5μm，Soken Chemicals& Engineering Co.，Ltd.生产，

MX-600：聚甲基丙烯酸甲酯细颗粒，平均粒径6.0μm，Soken Chemicals& Engineering Co.，Ltd.生产，

MX-800：聚甲基丙烯酸甲酯细颗粒，平均粒径8μm，Soken Chemicals& Engineering Co.，Ltd.生产，

MB30X-20：聚甲基丙烯酸甲酯细颗粒，平均粒径20μm，manufacturedby SEKISUI CHEMICAL CO.，LTD.生产，

Biscoat#360：三羟甲基丙烷EO-added三丙烯酸酯，Osaka OrganicChemical Industry，Ltd.生产。

(防眩层111-113的制备)

防眩层111-113以与防眩层101相同的方式制备，区别仅在于改变涂布量，分别使用用于防眩层的涂布溶液4-6，使涂膜厚度为8.0μm。

(防眩层114和115的制备)

防眩层114和115以与防眩层101相同的方式制备，区别仅在于改变涂布量，分别使用用于防眩层的涂布溶液7和8，使涂膜厚度为4.0μm。

(防眩层116和117的制备)

防眩层116和117以与防眩层101相同的方式制备，区别仅在于改变涂布量，分别使用用于防眩层的涂布溶液9和10，使涂膜厚度为18.0μm。

中等折射率层、高折射率层和低折射率层如表6中所示层叠在防眩层上。该步骤中的涂布条件与实施例1中显示的条件相同。

在上表中，透光颗粒的加入量的数值(％)是基于防眩层的总固体含量的透光颗粒的含量(质量％)。

(光学膜的评价)

<眩光评价>

为了进行评价，将制成的各光学膜安装在液晶电视上，基于下述标准视觉评价眩光度(由光学膜的表面突起的透镜效应引起的亮度变化)。

根本观察不到眩光：AA，

如果非常仔细地观察，可以视觉观察到轻微眩光：BB，

可以视觉观察到轻微眩光，但并不令人生厌：CC，及

发生令人不适的眩光：DD。

<雾度>

本发明的膜的雾度表示根据JIS K-7105的雾度值。自动测量作为雾度的值＝(扩散光/全部透射光)×100(％)，基于根据JIS K-7361-1中规定的测量方法，借助Nippon Denshoku Industries Co.，Ltd.生产的浊度仪＂NDH-1001DP＂来测量。

评价结果显示在表7中。

可以看出，通过使用颗粒尺寸小于上述膜厚的颗粒，并赋予内部散射性能，在保持防眩光性能的同时，内部反射率变为1.5％或更小，即使当层叠了两个或多个干涉层时也如此。因此，可以得到黑色严密性良好，并防止反射和眩光的防反射性质。

(实施例3)

(1)防眩层的涂布溶液的制备

防眩层的涂布溶液11的组成

PET-30 38.7质量份

Biscoat#360 9.7质量份

MX-800 0.125质量份

IRGACURE184 1.5质量份

甲基异丁基酮 30.0质量份

甲基乙基酮 20.0质量份

SP-13 0.02质量份

防眩层的涂布溶液12的组成

PET-30 38.7质量份

Biscoat#360 9.7质量份

MX-600 0.09质量份

IRGACURE184 1.5质量份

甲基异丁基酮 30.0质量份

甲基乙基酮 20.0质量份

SP-13 0.02质量份

(防眩层118和119的制备)

防眩层118和119以与防眩层101相同的方式制备，区别仅在于改变涂布量，分别使用用于防眩层涂布溶液11和12，使得涂膜厚度分别为7.5μm和5μm。

中等折射率层、高折射率层和低折射率层如表8中所示层叠在防眩层上。该步骤中的涂布条件与实施例1中显示的条件相同。

当反射外部光线时，防反射膜的防眩光性质和眩光优异，并且黑色严密性良好。即使层叠两个或多个干涉层时，积分反射率也低至1.5％或更小，很优异。

本发明的光学膜在防眩层上具有至少两个薄膜干涉层，并且外部光线的反射较少，黑色严密性优异，薄膜均匀性优异，并且反射率很低。

在此以引用的方式将在本申请中要求了外国优先权的每个外国专利申请的全部公开并入，如同完全阐述。

Claims

1.光学膜，其以下述顺序包含：

支持体；

具有凹凸表面的防眩层；

高折射率层；和

低折射率层；

其中

光学膜的算术平均粗糙度Ra为0.03μm＜Ra＜0.4μm，

光学膜的凹凸的平均间隔Sm为80μm＜Sm＜700μm，

光学膜的0°＜θ＜0.5°的区域(θ(0.5))占40％或更大，其中θ是凹凸的倾角，且

光学膜的积分反射率为1.5％或更小。

2.权利要求1的光学膜，其中

3.权利要求2的光学膜，其中

4.权利要求2的光学膜，其中

5.权利要求2的光学膜，其中

所述防眩层含有平均粒径比防眩层的平均膜厚小的另一种透光颗粒。

6.权利要求1的光学膜，其中

所述防眩层含有至少一种细颗粒，并且

所述细颗粒是内聚性金属氧化物细颗粒。

7.权利要求6的光学膜，其中

8.权利要求6的光学膜，其中

9.权利要求1的光学膜，其中

10.权利要求9的光学膜，其中

11.权利要求1的光学膜，其中

所述高折射率层包含氟型流平剂或硅酮型流平剂。

12.权利要求1的光学膜，其还包含：

13.权利要求12的光学膜，其中

14.权利要求13的光学膜，其中

15.权利要求12的光学膜，其中

所述中等折射率层包含氟型流平剂或硅酮型流平剂。

16.偏振片，其包含：

偏振膜；和

设置在所述偏振膜两侧的一对保护膜，

其中所述一对保护膜中的至少一个是权利要求1的光学膜。

17.图像显示设备，其包含：

在显示器的最外表面上的权利要求1的光学膜。

18.图像显示设备，其包含：

在显示器的最外表面上的权利要求16的偏振片。