JP6683374B2 - 反射防止フィルムおよびディスプレイ装置 - Google Patents

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本出願は、２０１５年９月１１日付の韓国特許出願第１０−２０１５−０１２９３０９号および２０１６年９月９日付の韓国特許出願第１０−２０１６−０１１６７４０号に基づく優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示された全ての内容は本明細書の一部として含まれる。

本発明は、反射防止フィルムおよびディスプレイ装置に関するものであって、より詳しくは、高解像度ディスプレイに適用の際、スパークリング現象が少なく視認性に優れており、ディスプレイ製作時に作業性に優れた反射防止フィルムと優れた外部ブラック視感および明暗比などの光特性および高い画面の鮮明度を提供するディスプレイ装置に関するものである。

一般に、ＰＤＰ、ＬＣＤなどの平板ディスプレイ装置には外部から入射される光の反射を最小化するための反射防止フィルムが装着される。

光の反射を最小化するための方法としては、樹脂に無機微粒子などのフィラーを分散させて基材フィルム上にコーティングし凹凸を付与する方法（ａｎｔｉ−ｇｌａｒｅ：ＡＧコーティング）；基材フィルム上に屈折率が異なる複数の層を形成して光の干渉を利用する方法（ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ：ＡＲコーティング）、またはこれらを混用する方法などがある。

そのうち、前記ＡＧコーティングの場合反射される光の絶対量は一般的なハードコーティングと同等な水準であるが、凹凸を通した光の散乱を利用して目に入る光の量を減らすことによって、低反射効果を得ることができる。しかし、前記ＡＧコーティングは表面凹凸によって画面の鮮明度が落ちるため、最近はＡＲコーティングの多くの研究が行われている。

前記ＡＲコーティングを利用したフィルムとしては、基材フィルム上にハードコーティング層（高屈折率層）、低反射コーティング層などが積層された多層構造であることが商用化されている。しかし、表面の凹凸のないクリア（ｃｌｅａｒ）コーティングの場合、防眩の効果が十分でなくディスプレイ内部の不良点が容易に見えるため、収率が低い短所がある。

そのために、イメージの鮮明性を維持しながら外部から入射される光の反射を最小化する多くの研究が行われているが、ディスプレイの解像度が上がるほどこれに伴う物性改善の程度が不十分であるのが実情である。最近、液晶ディスプレイ装置の液晶パネルとしてＣＯＴ（ｃｏｌｏｒ ｆｉｌｔｅｒ ｏｎ ＴＦＴ）構造を使用する場合がある。

このようなＣＯＴ構造の液晶パネルを使用する場合、電極などに含まれる金属によってパネル内部の反射度が高くなりながら、外部ブラック視感および明暗比などのディスプレイの光特性が低下する問題点があり、したがって、ディスプレイパネルの収率が高く、かつ優れた反射防止機能を有する表面コーティングフィルムの開発が必要なのが実情である。

本発明は、高解像度ディスプレイに適用の際、スパークリング現象が少なく視認性に優れて、ディスプレイ製作時に作業性に優れた反射防止フィルムを提供するものである。
また、本発明は優れた外部ブラック視感および明暗比などの光特性および高い画面の鮮明度を提供するディスプレイ装置を提供するものである。

本明細書では、表面の凹凸形状の十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．０５μｍ乃至０．２μｍであり、内部ヘイズが０．５％乃至５％であるハードコーティング層；および前記ハードコーティング層に形成された低屈折層；を含む反射防止フィルムが提供される。

前記ハードコーティング層の表面の凹凸形状の十点平均粗さ（Ｒｚ）は、非接触表面形状測定器（３Ｄ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｐｒｏｆｉｌｅｒ）を利用して測定した結果である。

前記反射防止フィルムに対する反射光源の拡散分布の結果で、正反射光度値に対する正反射からの＋１度および−１度の角度でそれぞれの光度値の比率の平均値が０．００５ないし０．１００、または０．０１０ないし０．０８０でありうる。

前記反射防止フィルムに対する反射光源の拡散分布では、４５°の入射角を適用する。また、前記正反射光度値は、入射角の正反射に相当する４５度での反射拡散光度値である。

前記反射防止フィルムが３８０ｎｍ乃至７８０ｎｍ波長領域で示す反射率が１．６％以下でありうる。

前記ハードコーティング層は、光重合性化合物の（共）重合体を含むバインダー樹脂および前記バインダー樹脂に分散された有機または無機微粒子；を含むことができる。

前記有機または無機微粒子は粒径が０．５ないし１０μｍ、または０．５ないし５μｍ、好ましくは１ないし５μｍ、さらに好ましくは１ないし３μｍの球形粒子でありうる。

また、前記ハードコーティング層は有機または無機微粒子２種以上を含み、前記２種以上の有機または無機微粒子間のうちの少なくとも２種間の屈折率差が０．０１ないし０．０８でありうる。

前記ハードコーティング層は、前記光重合性化合物の（共）重合体１００重量部対比前記有機または無機微粒子１ないし２０重量部を含むことができる。

前記ハードコーティング層のバインダー樹脂は、重量平均分子量１０、０００以上の高分子量（共）重合体をさらに含むことができる。

前記ハードコーティング層は、１ｎｍ乃至１５０ｎｍ、または５ｎｍ乃至１２０ｎｍの直径を有する無機ナノ粒子をさらに含むことができる。

前記低屈折層は、光重合性化合物の（共）重合体と光反応性作用基を含む含フッ素化合物またはシリコーン系化合物を含むバインダー樹脂を含むことができる。

前記光重合性化合物は、（メト）アクリレートまたはビニル基を含む単量体またはオリゴマーを含むことができる。

前記含フッ素化合物またはシリコーン系化合物に含まれる光反応性作用基は、（メト）アクリレート基、エポキシド基、ビニル（Ｖｉｎｙｌ）基およびチオール（Ｔｈｉｏｌ）基からなる群より選択された１種以上の作用基を含むことができる。

前記光反応性作用基を含む含フッ素化合物は、ｉ）一つ以上の光反応性作用基が置換され、少なくとも一つの炭素に１つ以上のフッ素が置換された脂肪族化合物または脂肪族環化合物；ｉｉ）１つ以上の光反応性作用基に置換され、少なくとも一つの水素がフッ素に置換され、一つ以上の炭素がケイ素に置換されたヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族化合物またはヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族環化合物；ｉｉｉ）一つ以上の光反応性作用基が置換され、少なくとも一つのシリコンに１つ以上のフッ素が置換されたポリジアルキルシロキサン系高分子；およびｉｖ）１つ以上の光反応性作用基に置換され少なくとも一つの水素がフッ素に置換されたポリエーテル化合物；からなる群より選択された１種以上の化合物でありうる。

前記反射防止フィルムは、前記バインダー樹脂に分散された無機微細粒子をさらに含むことができる。

前記低屈折層に含まれる無機微細粒子は、１０ないし２００ｎｍの数平均粒径を有する中空状無機微細粒子および０．５ないし１０ｎｍの数平均粒径を有するソリッド型無機微細粒子からなる群より選択された１種以上を含むことができる。

前記低屈折層は、前記光重合性化合物の（共）重合体１００重量部対比前記無機微細粒子１０ないし４００重量部および前記光反応性作用基を含む含フッ素化合物またはシリコーン系化合物２０ないし３００重量部を含むことができる。

前記低屈折層のバインダー樹脂は、反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンをさらに含むことができる。

前記低屈折層は、前記光重合性化合物の（共）重合体１００重量部対比前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサン０．５ないし４０重量部を含むことができる。

また、本明細書では、上述した反射防止フィルムを含むディスプレイ装置が提供される。

前記ディスプレイ装置は、互いに対向する一対の偏光板；前記一対の偏光板の間に順次に積層された薄膜トランジスター、カラーフィルターおよび液晶セル；およびバックライトユニットを含む液晶ディスプレイ装置でありうる。

前記反射防止フィルムは、液晶セルと接する偏光板の他の一面や偏光板およびバックライトユニットの間に形成されることができる。

本発明によれば、高解像度ディスプレイに適用の際、スパークリング現象が少なく視認性に優れて、ディスプレイ製作時に作業性に優れた反射防止フィルムと優れた外部ブラック視感および明暗比などの光特性および高い画面の鮮明度を提供するディスプレイ装置が提供される。

前記反射防止フィルムは、高解像度ディスプレイに適用されてパネル不良隠蔽力が高く、反射防止性能と視認性に優れた特性を提供することができる。特に、パネル内部反射率の高いＣＯＴパネルに適用して反射防止性能を発現することができる。

実施例１の反射防止フィルムが設けられた液晶ディスプレイ装置の断面を概略的に示した図である。

以下、本発明の具体的な具現例による反射防止フィルムおよびディスプレイ装置についてより詳細に説明する。

本明細書で、光重合性化合物とは、光が照射されれば、例えば可視光線または紫外線が照射されれば重合反応を起こす化合物を通称する。

また、含フッ素化合物とは、化合物のうちの少なくとも１つ以上のフッ素元素が含まれている化合物を意味する。

また、（メト）アクリル[（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌ]とは、アクリル（ａｃｒｙｌ）およびメタクリレート（Ｍｅｔｈａｃｒｙｌ）の双方を含む意味である。

また、（共）重合体とは、共重合体（ｃｏ−ｐｏｌｙｍｅｒ）および単独重合体（ｈｏｍｏ−ｐｏｌｙｍｅｒ）の双方を含む意味である。

また、中空シリカ粒子（ｓｉｌｉｃａ ｈｏｌｌｏｗ ｐａｒｔｉｃｌｅｓ）とは、ケイ素化合物または有機ケイ素化合物から導出されるシリカ粒子であって、前記シリカ粒子の表面および／または内部に空の空間が存在する形態の粒子を意味する。

本発明の一実施形態によれば、表面の凹凸形状の十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．０５μｍ乃至０．２μｍであり、内部ヘイズが０．５％乃至５％であるハードコーティング層；および前記ハードコーティング層に形成された低屈折層；を含む、反射防止フィルムが提供される。

従来、微細凹凸を有するコーティング層は通常ＡＧコーティング層と言われ、数百ｎｍ乃至数μｍ高さの凹凸構造からなっている。凹凸構造が形成されたフィルムは、外部から光が入ってきた時に乱反射を誘導できるので反射防止効果が優れているが、内部から出るイメージも表面で歪曲されるため、イメージの鮮明性や解像度が低下する問題をもたらす。また、ＵＨＤ（ｕｌｔｒａ ｈｉｇｈ ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ）以上の高解像度ディスプレイでは、このようなイメージ歪曲が激しいので凹凸構造の制御が必要である。

これに、本発明者らは反射防止効果と視認性を同時に実現できる最適の表面凹凸構造を導き出した。反射防止フィルムの表面粗さは、表面凹凸の十点平均粗さ（Ｒｚ）で表すことができる。十点平均粗さとは、表面凹凸曲線から測定長さ内において、最も高いピークから５つと、最も低いバレーから５つの平均値の差を示す。

この時、十点凹凸の高さのＲｚが０．０５μｍ乃至０．２μｍである場合、反射防止効果と視認性を同時に具現することができる。前記ハードコーティング層の表面の凹凸形状の十点平均粗さが０．０５μｍ未満であれば、反射防止効果とパネルの不良隠蔽力が低下し、前記ハードコーティング層の表面の凹凸形状の十点平均粗さが０．２μｍ超過の場合、スパークリングのような解像度低下現象と鮮明性が低下することができる。

前記ハードコーティング層の表面の凹凸形状の十点平均粗さ（Ｒｚ）は、非接触表面形状測定器（３Ｄ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｐｒｏｆｉｌｅｒ）を利用して測定できる。

また、これと共に前記反射防止フィルムの視認性を維持しながらパネル不良の隠蔽力を改善するために、前記ハードコーティング層のヘイズを付与できる。

具体的に、前記ハードコーティング層の内部ヘイズが０．５％乃至５％である場合、鮮明性を維持しながらパネル不良の隠蔽力を改善することができる。前記ハードコーティング層の内部ヘイズが０．５％未満である場合パネル隠蔽力が低下でき、前記ハードコーティング層の内部ヘイズが５％を超える場合には明暗比の低下など視認性の低下をもたらすことができる。

前記反射防止フィルムに対する反射光源の拡散分布の結果から正反射光度値に対する正反射からの＋１度および−１度の角度でそれぞれの光度値の比率が０．００５以上、または０．００５ないし０．１００、または０．０１０ないし０．０８０でありうる。

ディスプレイ装置パネルの隠蔽力を実際に把握するために反射光源の拡散光分布を測定できる。前記反射防止フィルムに対する反射光源の拡散分布の結果から正反射光度値に対する正反射からの＋１度および−１度の角度でそれぞれの光度値の比率が０．００５以上であれば、ディスプレイ装置パネルの隠蔽力が良好である。これに反し、前記比率が０．００５未満であれば光が拡散する比率が大きく低下して、ディスプレイ装置パネルの隠蔽力が劣悪になることもできる。

一方、前記反射防止フィルムに対する反射光源の拡散分布の結果から正反射光度値に対する正反射からの＋１度および−１度の角度でそれぞれの光度値の比率が非常に高くなる場合、例えば０．１００を超えるとイメージが歪曲して見えたり、色の鮮明度が低下して高解像度ディスプレイの具現に不利になることもある。

前記反射防止フィルムなどの光学フィルムに対して入射光が導入される場合、フィルムの法線に対称となる方向に拡散正反射が起きて、一部の光が拡散する。

そのため、前記反射防止フィルムが示す前記反射光源の拡散分布は、フィルムの法線方向に対して所定の角度、例えば３０度乃至６０度、または４５度の角度で入射光を導入した時、入射されて拡散反射した光に対して、一定の範囲、例えば、前記反射防止フィルムの表面の法線方向を基準にして−８５度乃至８５度の範囲で測定して得られる。

前記拡散光分布は変角光度計（Ｐｈｏｔｏ−Ｇｏｎｉｏｍｅｔｅｒ）を利用して測定することができ、具体的な測定装置は限定されるものではないが、例えば、（株）村上色彩技術研究所製の「ＧＰ−２００」を用いて反射拡散強度を測定できる。

前記反射防止フィルムに対する反射光源の拡散分布では、４５°の入射角を適用する。また、前記正反射光度値は、入射角の正反射に相当する４５度での反射拡散光度値である。

前記正反射光度値は７５ないし９５、または８０ないし９０でありうる。前記反射防止フィルムの正反射光度値が７５ないし９５であれば、色相を鮮明に具現でき、境界面の歪曲がない鮮やかなイメージを具現できる。これに反し、前記光度値が少なすぎれば、光の散乱が増加してイメージと色の鮮明度が低くなることができる。また、前記光度値が大きすぎれば、パネルの透明電極が視認されるなど隠蔽力が大きく低下できる。

前述のように、表面の凹凸形状の十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．０５μｍ乃至０．２μｍであり、内部ヘイズが０．５％乃至５％であるハードコーティング層と、前記ハードコーティング層上に形成された低屈折層を含む反射防止フィルムは３８０ｎｍ乃至７８０ｎｍ波長領域で１．６％以下の平均反射率を示すことができる。これによって、前記反射防止フィルムは反射防止機能を極大化し、ＣＯＴパネルなどで外部光による視認性低下を抑制することができる。

前記ハードコーティング層の表面の凹凸形状の十点平均粗さ（Ｒｚ）および内部ヘイズは、前記ハードコーティング層を形成する組成物の組成およびハードコーティング層の形成方法によって調節可能である。

前記ハードコーティング層は、光重合性化合物、光開始剤および有機微粒子または無機微粒子を含むハードコーティング組成物から形成されることができる。具体的に、前記ハードコーティング層は、光重合性化合物の（共）重合体を含むバインダー樹脂および前記バインダー樹脂に分散された有機または無機微粒子；を含むことができる。

前記ハードコーティング層を形成するハードコーティング組成物に含まれる光重合性化合物は、紫外線などの光が照射されれば重合反応を起こすことができる光重合型／光硬化型化合物であって、当業界で通常的なものでありうる。

具体的に、前記ハードコーティング層に含まれる光重合性化合物の（共）重合体はウレタンアクリレートオリゴマー、エポキシドアクリレートオリゴマー、ポリエステルアクリレート、およびポリエーテルアクリレートからなる反応性アクリレートオリゴマー群；およびジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチレンプロピルトリアクリレート、プロポキシ化グリセロールトリアクリレート、トリメチルプロパンエトキシトリアクリレート、１、６−ヘキサンジオールジアクリレート、プロポキシ化グリセロトリアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、およびエチレングリコールジアクリレートからなる多官能性アクリレート単量体群より選択される１種以上から形成される（共）重合体でありうる。

前記ハードコーティング層は、前記光重合性化合物の（共）重合体と共に有機または無機微粒子を含んで表面凹凸と内部ヘイズを付与する。前記有機または無機微粒子は粒径が０．５ないし１０μｍ、または０．５ないし５μｍ、好ましくは１ないし５μｍ、さらに好ましくは１ないし３μｍの球形粒子でありうる。

前記有機または無機微粒子の粒径は表面凹凸と内部ヘイズを発現するために０．５μｍ以上になることができ、ヘイズまたはコーティング厚さの側面で１０μｍ以下になることができる。例えば、微粒子粒径が１０μｍを超えて過度に大きくなる場合、微細表面凹凸を合わせるためにコーティング厚さを上げなければならないし、そうすれば、フィルムの耐クラック性が低下する問題が発生することができる。

前記有機または無機微粒子の具体的な例を限定するものではないが、例えば前記有機または無機微粒子はアクリル系樹脂、スチレン系樹脂、エポキシド樹脂およびナイロン樹脂からなる有機微粒子であるか、あるいは酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化インジウム、酸化錫、酸化ジルコニウムおよび酸化亜鉛からなる無機微粒子でありうる。

前記ハードコーティング層は、前記光重合性化合物の（共）重合体１００重量部対比前記有機または無機微粒子１ないし２０重量部、または５ないし１５重量部、好ましくは６ないし１０重量部を含むことができる。

前記有機または無機微粒子が光重合性化合物の（共）重合体１００重量部に対して、１重量部未満で含まれる場合、内部散乱によるヘイズ値が十分に具現されないことがある。また、前記有機または無機微粒子が光重合性化合物の（共）重合体１００重量部に対して２０重量部を超える場合、コーティング組成物の粘度が高くなってコーティング性が不良になる問題をもたらす。

また、前記有機または無機微粒子の屈折率は、マトリックスを形成する光硬化型樹脂の屈折率と差を有する。粒子の含有量により適正屈折率の差が決定され、屈折率差が０．０１ないし０．０８を有するのが好ましい。前記微粒子と光硬化性樹脂の屈折率差が０．０１未満であれば、適正なヘイズ値を得にくいこともある。また、前記微粒子と光硬化性樹脂の屈折率差が０．０８を超えれば、極少量の粒子含有量を使わなければならないので、所望水準の表面凹凸形状を得られない。

具体的に、前記有機または無機微粒子はアクリル系樹脂、スチレン系樹脂、エポキシ樹脂、ナイロン樹脂、およびその共重合体樹脂からなる有機微粒子群；および酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化インジウム、酸化錫、酸化ジルコニウム、および酸化亜鉛からなる無機微粒子群より選択される１種以上でありうる。

より具体的に、前記有機微粒子はメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｍ−エチルスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｍ−クロロスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン、ｍ−クロロメチルスチレン、スチレンスルホン酸、ｐ−ｔ−ブトキシスチレン、ｍ−ｔ−ブトキシスチレン、ビニルアセテート、ビニルプロピオン酸塩、ビニルブチレート、ビニルエーテル、アリルブチルエーテル、アリルグリシジルエーテル、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、不飽和カルボキシ酸、アルキル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロニトリルおよび（メタ）アクリレートからなる群より選択される一つ以上でありうる。

また、前記有機物微粒子は、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリアクリレート、ポリアクリレート−ｃｏ−スチレン、ポリメチルアクリレート−ｃｏ−スチレン、ポリメチルメタクリレート−ｃｏ−スチレン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリアセタール、エポキシレジン、フェノールレジン、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン、ポリジビニルベンゼン、ポリジビニルベンゼン−ｃｏ−スチレン、ポリジビニルベンゼン−ｃｏ−アクリレート、ポリフタル酸ジアリルおよびトリアリルイソシアヌレートポリマーの中から選択された一つの単一物またはこれらの２つ以上のコポリマー（ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）を使用することができるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。

一方、前記ハードコーティング層は、１ｎｍ乃至１５０ｎｍ、または５ｎｍ乃至１２０ｎｍの直径を有する無機ナノ粒子をさらに含むことができる。前記無機ナノ粒子の表面には所定の作用基や化合物が結合される。

前記無機ナノ粒子を用いることによって、前記ハードコーティング層の表面凹凸の形状をスムースに調節でき、コーティング層の機械的な特性も向上させることができる。この時、前記無機ナノ粒子の含有量は、前記光重合性化合物の（共）重合体１００重量部当たり１０重量部以下を使用することができる。前記無機ナノ粒子の具体的な種類としては、酸化ケイ素、アルミナ、チタニアなどを使用することができる。

前記ハードコーティング層を形成するハードコーティング組成物は光開始剤を含むことができ、前記光開始剤としては、通常知られている光開始剤を特に制限なしに使用することができる。前記光開始剤の例としては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルジメチルケタール、ヒドロキシジメチルアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、およびベンゾインブチルエーテルの中から選択された一つの単一物または２つ以上の混合物を使用することができるが、本発明は上述した例に限定されない。

この時、前記光開始剤は、前記光重合性化合物１００重量部に対して０．１ないし１０重量部で添加され得る。前記光開始剤が前記光重合性化合物１００重量部に対して０．１重量部未満で含まれる場合、紫外線照射による十分な光硬化が起きないこともあり、前記光重合性化合物１００重量部に対して１０重量部を超えて含まれる場合、最終形成される防眩フィルムの膜強度が低下することができる。

一方、前記ハードコーティング層を形成するハードコーティング組成物は有機溶媒をさらに含むことができる。このような有機溶媒が添加される場合、その構成に限定はないが、コーティング組成物の適切な粘度確保および最終形成されるフィルムの膜強度などを考慮して、前記光硬化性樹脂１００重量部に対して、好ましくは５０ないし５００重量部、より好ましくは１００ないし４００重量部、最も好ましくは１５０ないし３５０重量部を使用することができる。

この時、使用可能な有機溶媒の種類はその構成に限定はないが、炭素数１ないし６の低級アルコール類、アセテート類、ケトン類、セロソルブ類、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、トルエンおよびキシレンからなる群より選択される１種または１種以上の混合物を使用することができる。

この時、前記低級アルコール類は、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、またはジアセトンアルコールなどを例に挙げられるが、本発明は、上述した例に限定されない。そして、前記アセテート類は、メチルアセテート、酢酸エチル、イソプロピルアセテート、ブチルアセテート、またはセロソルブアセテートを使用することができ、前記ケトン類は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、またはアセトンを使用することができるが、上述した例に限定されない。

一方、前記ハードコーティング層を形成するハードコーティング組成物は、レベリング剤、ウェッティング剤、消泡剤からなる添加剤群より選択される１種以上の添加剤をさらに含むことができる。この時、前記添加剤は、各々前記光重合性化合物１００重量部に対して０．０１ないし１０重量部の範囲内で添加され得る。

前記レベリング剤は、防眩コーティング組成物を使用して、コーティングしたコーティング膜の表面を均一にする役割を果たす。また、前記ウェッティング剤は、防眩コーティング組成物の表面エネルギーを低くする役割を果たすことによって、防眩コーティング組成物を透明基材層にコーティングする際に、均一な塗布が行われるように助ける。

この時、前記消泡剤は、防眩コーティング組成物内の気泡を除去するために添加され得る。

前記ハードコーティング層は０．５μｍ乃至１００μｍの厚さを有することができる。

一方、前記低屈折層は、光重合性化合物、光反応性作用基を含む含フッ素化合物またはシリコーン系化合物および光開始剤を含む光硬化性コーティング組成物を使用して製造することができる。このような低屈折層を含む反射防止フィルムは、反射率をより低くし透光率をより高くして耐摩耗性または耐スクラッチ性を向上させることができ、かつ外部汚染物質に対する優れた防汚性を確保することができる。

具体的に、前記低屈折層は、光重合性化合物の（共）重合体と光反応性作用基を含む含フッ素化合物またはシリコーン系化合物を含むバインダー樹脂を含むことができる。

前記光重合性化合物は、（メト）アクリレートまたはビニル基を含む単量体またはオリゴマーを含むことができる。具体的に、前記光重合性化合物は（メト）アクリレートまたはビニル基を１つ以上、または２つ以上、または３つ以上含む単量体またはオリゴマーを含むことができる。

前記（メト）アクリレートを含む単量体またはオリゴマーの具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ（メト）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メト）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メト）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メト）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メト）アクリレート、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチロールプロパントリ（メト）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メト）アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサエチルメタクリレート、ブチルメタクリレートまたはこれらの２種以上の混合物や、またはウレタン変性アクリレートオリゴマー、エポキシドアクリレートオリゴマー、エーテルアクリレートオリゴマー、デンドリティックアクリレートオリゴマー、またはこれらの２種以上の混合物が挙げられる。この時、前記オリゴマーの分子量は１、０００ないし１０、０００であるのが好ましい。

前記ビニル基を含む単量体またはオリゴマーの具体的な例としては、ジビニルベンゼン、スチレンまたはパラメチルスチレンが挙げられる。

一方、前記光重合性化合物は、上述した単量体またはオリゴマー以外にフッ素系（メト）アクリレート系化合物をさらに含むことができる。前記フッ素系（メト）アクリレート系化合物をさらに含む場合、前記（メト）アクリレートまたはビニル基を含む単量体またはオリゴマーに対する前記フッ素系（メト）アクリレート系化合物の重量比は０．１％乃至１０％でありうる。

前記フッ素系（メト）アクリレート系化合物の具体的な例としては、下記の化学式１ないし５からなる群より選択される１種以上の化合物が挙げられる。

前記化学式１において、Ｒ^１は水素基または炭素数１ないし６のアルキル基であり、ａは０ないし７の整数であり、ｂは１ないし３の整数である。

前記化学式２において、ｃは１ないし１０の整数である。

前記化学式３において、ｄは１ないし１１の整数である。

前記化学式４において、ｅは１ないし５の整数である。

前記化学式５において、ｆは４ないし１０の整数である。

一方、前記光反応性作用基を含む含フッ素化合物またはシリコーン系化合物には１つ以上の光反応性作用基を含みまたは置換することができ、前記光反応性作用基は、光照射によって、例えば可視光線または紫外線の照射によって重合反応に参加できる作用基を意味する。前記光反応性作用基は、光照射によって重合反応に参加できるものとして知られた多様な作用基を含むことができ、その具体的な例としては、（メト）アクリレート基、エポキシド基、ビニル（Ｖｉｎｙｌ）基またはチオール（Ｔｈｉｏｌ）基が挙げられる。

前記光反応性作用基を含む含フッ素化合物またはシリコーン系化合物それぞれは２、０００ないし２００、０００、好ましくは５、０００ないし１００、０００の重量平均分子量（ＧＰＣ法によって測定したポリスチレン換算重量平均分子量）を有することができる。

前記光反応性作用基を含む含フッ素化合物またはシリコーン系化合物の重量平均分子量が小さすぎれば、前記光硬化性コーティング組成物で含フッ素化合物またはシリコーン系化合物が表面に均一かつ効果的に配列せず、最終製造される低屈折層の内部に位置するようになるが、これによって前記低屈折層の表面が有する防汚性が低下し、前記低屈折層の架橋密度が低くなって全体的な強度や耐スクラッチ性などの機械的物性が低下することができる。

また、前記光反応性作用基を含む含フッ素化合物またはシリコーン系化合物の重量平均分子量が高すぎれば、前記光硬化性コーティング組成物で他の成分との相溶性が低くなることがあり、これによって最終製造される低屈折層のヘイズが高くなったり、光透過度が低くなることがあり、前記低屈折層の強度が低下することもある。

具体的に、前記光反応性作用基を含む含フッ素化合物は、ｉ）一つ以上の光反応性作用基が置換され、少なくとも一つの炭素に１つ以上のフッ素が置換された脂肪族化合物または脂肪族環化合物；ｉｉ）１つ以上の光反応性作用基に置換され、少なくとも一つの水素がフッ素に置換され、一つ以上の炭素がケイ素に置換されたヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族化合物またはヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族環化合物；ｉｉｉ）一つ以上の光反応性作用基が置換され、少なくとも一つのシリコンに１つ以上のフッ素が置換されたポリジアルキルシロキサン系高分子（例えば、ポリジメチルシロキサン系高分子）；ｉｖ）１つ以上の光反応性作用基に置換され少なくとも一つの水素がフッ素に置換されたポリエーテル化合物、または前記ｉ）乃至ｉｖ）の中から２つ以上の混合物またはこれらの共重合体が挙げられる。

前記光硬化性コーティング組成物は、前記光重合性化合物１００重量部に対して前記含フッ素化合物またはシリコーン系化合物２０ないし３００重量部を含むことができる。

前記光反応性作用基を含む含フッ素化合物は、ケイ素またはケイ素化合物をさらに含むことができる。つまり、前記光反応性作用基を含む含フッ素化合物は、選択的に内部にケイ素またはケイ素化合物を含有することができ、具体的に、前記光反応性作用基を含む含フッ素化合物中のケイ素の含有量は、０．１重量％乃至２０重量％でありうる。

前記反射防止フィルムは、前記バインダー樹脂に分散された無機微細粒子をさらに含むことができる。

より具体的に、前記低屈折層に含まれる無機微細粒子は、１０ないし２００ｎｍの数平均粒径を有する中空状無機微細粒子、および０．５ないし１０ｎｍの数平均粒径を有するソリッド型無機微細粒子からなる群より選択された１種以上を含むことができる。

前記ソリッド型無機微細粒子は、最大直径がマイクロンまたはナノ単位であり、その内部に空の空間が存在しない形態の粒子を意味する。前記ソリッド型無機微細粒子の具体的な例としては、ナノシリカ粒子が挙げられる。

また、前記中空状無機微細粒子は、最大直径がマイクロンまたはナノ単位であり、その表面および／または内部に空の空間が存在する形態の粒子を意味する。前記中空状無機微細粒子の具体的な例としては、中空シリカ粒子が挙げられる。

前記中空シリカ粒子（ｓｉｌｉｃａ ｈｏｌｌｏｗ ｐａｒｔｉｃｌｅｓ）とは、ケイ素化合物または有機ケイ素化合物から導出されるシリカ粒子であって、前記シリカ粒子の表面および／または内部に空の空間が存在する形態の粒子を意味する。

前記中空シリカ粒子は、１０ないし１００ｎｍの数平均粒径を有する。前記中空シリカ粒子は、粒子の表面および／または内部に空の空間が存在するシリカ粒子を意味する。前記中空シリカ粒子は、中実粒子に比べて低い屈折率を有して優れた反射防止特性を示すことができる。

前記中空シリカ粒子は、数平均粒径が１０ないし１００ｎｍ、好ましくは２０ないし７０ｎｍ、より好ましくは３０ないし７０ｎｍであり、粒子形状は球状であるのが好ましいが、不定形でも構わない。

また、前記中空シリカ粒子としては、その表面がフッ素系化合物でコーティングされたものを単独で使ったり、フッ素系化合物で表面がコーティングされない中空シリカ粒子と混合して使用することができる。前記中空シリカ粒子の表面をフッ素系化合物でコーティングすれば、表面エネルギーをより低くすることができ、これによって、前記具現例の光硬化性コーティング組成物内で前記中空シリカ粒子がより均一に分布でき、前記光硬化性コーティング組成物から得られるフィルムの耐久性や耐スクラッチ性をより高めることができる。

前記中空シリカ粒子の表面にフッ素系化合物をコーティングする方法として通常知られている粒子コーティング方法や重合方法などを特に制限なしに使用することができ、例えば、前記中空シリカ粒子およびフッ素系化合物を水と触媒の存在下でゾル−ゲル反応させて、加水分解および縮合反応を通して前記中空シリカ粒子の表面にフッ素系化合物を結合させることができる。

そして、前記中空シリカ粒子は、所定の分散媒に分散させたコロイド状で組成物に含まれる。前記中空シリカ粒子を含むコロイド状は、分散媒に有機溶媒を含むことができる。

この時、前記中空シリカを前記有機溶媒により容易に分散させるために、表面に所定の作用基が置換された構造を含むことができる。前記中空シリカ粒子表面に置換可能な有機作用基の例は、特に限定されないが、例えば（メト）アクリレート基、ビニル基、ヒドロキシ基、アミン基、アリル（ａｌｌｙｌ）基、エポキシ基、ヒドロキシ基、イソシアネート基、アミン基、またはフッ素などが前記中空シリカの表面に置換されることができる。

前記中空シリカ粒子のコロイド状で中空シリカ粒子の固形分含有量は、前記一実施形態の光硬化性コーティング組成物中の中空シリカの含有量範囲や前記光硬化性コーティング組成物の粘度などを考慮して決定され、例えば、前記コロイド状のうち、前記中空シリカ粒子の固形分含有量は５重量％乃至６０重量％でありうる。

ここで、前記分散媒中の有機溶媒としては、メタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、ブタノールなどのアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類；酢酸エチル、酢酸ブチル、ガンマブチロラクトンなどのエステル類；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル類；またはこれらの混合物を含むことができる。

前記低屈折層は、前記光重合性化合物の（共）重合体１００重量部対比前記無機微細粒子１０ないし４００重量部、または５０ないし３００重量部を含むことができる。前記無機微細粒子が過剰で添加される場合、バインダーの含有量低下によってコーティング膜の耐スクラッチ性や耐摩耗性が低下することができる。

一方、前記低屈折層のバインダー樹脂は、反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンをさらに含むことができる。前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンは、表面に反応性作用基が存在して前記低屈折層の機械的物性、例えば耐スクラッチ性を高めることができる。

前記低屈折層は、前記光重合性化合物の（共）重合体１００重量部対比前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサン０．５ないし４０重量部、または１．５ないし３０重量部を含むことができる。

前記光硬化性コーティング組成物中の前記光重合性化合物の（共）重合体対比前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンの含有量が過度に小さければ、前記光硬化性コーティング組成物の光硬化時に形成される塗膜やバインダー樹脂の耐スクラッチ性を十分に確保しにくいこともある。また、前記光硬化性コーティング組成物中の前記光重合性化合物対比前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンの含有量が過度に大きければ、前記光硬化性コーティング組成物から製造される低屈折層や反射防止フィルムの透明度が低下することがあり、スクラッチ性がむしろ低下することがある。

前記ポリシルセスキオキサンに置換される反応性作用基は、アルコール、アミン、カルボン酸、エポキシド、イミド、（メト）アクリレート、ニトリル、ノルボルネン、オレフィン[アリル（ａｌｌｙ）、シクロアルケニル（ｃｙｃｌｏａｌｋｅｎｙｌ）またはビニルジメチルシリルなど]、ポリエチレングリコール、チオールおよびビニル基からなる群より選択された１種以上の作用基を含むことができ、好ましくは、エポキシドまたは（メト）アクリレートでありうる。

前記反応性作用基のより具体的な例としては、（メト）アクリレート、炭素数１ないし２０のアルキル（メト）アクリレート、炭素数３ないし２０のシクロアルキル（ｃｙｃｌｏａｌｋｙｌ）エポキシド、炭素数１ないし１０のアルキルシクロアルカン（ｃｙｃｌｏａｌｋａｎｅ）エポキシドが挙げられる。

前記アルキル（メト）アクリレートは、（メト）アクリレートと結合しない‘アルキル’の他の一部分が結合位置であり、前記シクロアルキルエポキシドは、エポキシドと結合しない‘シクロアルキル’の他の部分が結合位置であり、アルキルシクロアルカン（ｃｙｃｌｏａｌｋａｎｅ）エポキシドは、シクロアルカン（ｃｙｃｌｏａｌｋａｎｅ）エポキシドと結合しない‘アルキル’の他の部分が結合位置である。

一方、前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンは、上述した反応性作用基以外に炭素数１ないし２０の直鎖または分枝鎖のアルキル基、炭素数６ないし２０のシクロヘキシル基および炭素数６ないし２０のアリール基からなる群より選択された１種以上の非反応性作用基を１つ以上さらに含むことができる。このように前記ポリシルセスキオキサンに反応性作用基と非反応性作用基が表面に置換されることによって、前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンでシロキサン結合（−Ｓｉ−Ｏ−）が分子内部に位置しながら外部に露出しないようになって他の有機材料との相溶性がより高くなることができ、前記シロキサン結合が前記反応性作用基や他の有機材料の間で堅固に結合することによって、外部圧力により離脱しないようになり、前記光硬化性コーティング組成物の光硬化時に形成される塗膜やバインダー樹脂内部に堅固な支持体の役割をすることができ、これによって、最終製造される低屈折層や反射防止フィルムの強度や耐スクラッチ性を大きく高めることができる。

一方、前記ポリシルセスキオキサンは（ＲＳｉＯ_１．５）_ｎで表記され（ここで、ｎは４ないし３０または８ないし２０）、ランダム、はしご型、ケージおよび部分的なケージなどの多様な構造を有することができる。

ただし、前記光硬化性コーティング組成物から製造される低屈折層および反射防止フィルムの物性および品質を高めるために、前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンで反応性作用基が１つ以上置換されケージ構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサン（Ｐｏｌｙｈｅｄｒａｌ Ｏｌｉｇｏｍｅｒｉｃ Ｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）を使用することができる。

また、より好ましくは、前記作用基が１つ以上置換されケージ構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサンは、分子中にシリコン８個ないし２０個を含むことができる。

また、前記ケージ構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサンのシリコンのうちの少なくとも１つ以上には反応性作用基が置換されることができ、反応性作用基が置換されないシリコンには上述した非反応性作用基が置換されることができる。

前記ケージ構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサンのシリコンのうちの少なくとも一つに反応性作用基が置換されることによって、前記光硬化性コーティング組成物の光硬化時に形成される塗膜やバインダー樹脂の機械的物性を向上させることができ、同時に残りのシリコンに非反応性作用基が置換されることによって、分子構造的に立体障害（Ｓｔｅｒｉｃ ｈｉｎｄｒａｎｃｅ）が現れてシロキサン結合（−Ｓｉ−Ｏ−）が外部に露出する頻度や確率を大きく低くして、他の有機材料との相溶性がより高くなることができ、前記シロキサン結合が前記反応性作用基や他の有機材料の間で堅固に結合することによって、外部圧力により離脱しないようになり、前記光硬化性コーティング組成物の光硬化時に形成される塗膜やバインダー樹脂内部に堅固な支持体の役割をすることができ、これによって、最終製造される低屈折層や反射防止フィルムの強度や耐スクラッチ性を大きく高めることができる。

このような反応性作用基が１つ以上置換されケージ構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサン（Ｐｏｌｙｈｅｄｒａｌ Ｏｌｉｇｏｍｅｒｉｃ Ｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ、ＰＯＳＳ）の例としては、ＴＭＰ ＤｉｏｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｄｉｏｌ Ｉｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、１，２−ＰｒｏｐａｎｅｄｉｏｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ｏｃｔａ（３−ｈｙｄｒｏｘｙ−３ ｍｅｔｈｙｌｂｕｔｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｏｘｙ）ＰＯＳＳなどアルコールが１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＡｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、ＡｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌＩｓｏｏｃｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ａｍｉｎｏｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ Ｉｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ｎ−Ｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ ＰＯＳＳ、Ｎ−Ｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ Ｉｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、ＯｃｔａＡｍｍｏｎｉｕｍ ＰＯＳＳ、ＡｍｉｎｏｐｈｅｎｙｌＣｙｃｌｏｈｅｘｙｌ ＰＯＳＳ、ＡｍｉｎｏｐｈｅｎｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳなどアミンが１つ以上置換されたＰＯＳＳ；Ｍａｌｅａｍｉｃ Ａｃｉｄ−Ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ ＰＯＳＳ、Ｍａｌｅａｍｉｃ Ａｃｉｄ−Ｉｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ｏｃｔａ Ｍａｌｅａｍｉｃ Ａｃｉｄ ＰＯＳＳなどカルボン酸が１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＥｐｏｘｙＣｙｃｌｏｈｅｘｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ｅｐｏｘｙｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ ＰＯＳＳ、Ｇｌｙｃｉｄｙｌ ＰＯＳＳ、ＧｌｙｃｉｄｙｌＥｔｈｙｌ ＰＯＳＳ、ＧｌｙｃｉｄｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、ＧｌｙｃｉｄｙｌＩｓｏｏｃｔｙｌ ＰＯＳＳなどエポキシドが１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＰＯＳＳ Ｍａｌｅｉｍｉｄｅ Ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ、ＰＯＳＳ Ｍａｌｅｉｍｉｄｅ Ｉｓｏｂｕｔｙｌなどイミドが１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＡｃｒｙｌｏＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅ Ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅ Ｉｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅ Ｅｔｈｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌＥｔｈｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅ Ｉｓｏｏｃｔｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌＩｓｏｏｃｔｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌＰｈｅｎｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌ ＰＯＳＳ、Ａｃｒｙｌｏ ＰＯＳＳなど（メト）アクリレートが１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＣｙａｎｏｐｒｏｐｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳなどのニトリル基が１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＮｏｒｂｏｒｎｅｎｙｌｅｔｈｙｌＥｔｈｙｌ ＰＯＳＳ、ＮｏｒｂｏｒｎｅｎｙｌｅｔｈｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ｎｏｒｂｏｒｎｅｎｙｌｅｔｈｙｌ ＤｉＳｉｌａｎｏＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ｔｒｉｓｎｏｒｂｏｒｎｅｎｙｌ Ｉｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳなどノルボルネン基が１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＡｌｌｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、ＭｏｎｏＶｉｎｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、ＯｃｔａＣｙｃｌｏｈｅｘｅｎｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ ＰＯＳＳ、ＯｃｔａＶｉｎｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ ＰＯＳＳ、ＯｃｔａＶｉｎｙｌ ＰＯＳＳなどビニル基が１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＡｌｌｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、ＭｏｎｏＶｉｎｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、ＯｃｔａＣｙｃｌｏｈｅｘｅｎｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ ＰＯＳＳ、ＯｃｔａＶｉｎｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ ＰＯＳＳ、ＯｃｔａＶｉｎｙｌ ＰＯＳＳなどのオレフィンが１つ以上置換されたＰＯＳＳ；炭素数５ないし３０のＰＥＧが置換されたＰＯＳＳ；またはＭｅｒｃａｐｔｏｐｒｏｐｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳまたはＭｅｒｃａｐｔｏｐｒｏｐｙｌＩｓｏｏｃｔｙｌ ＰＯＳＳなどのチオール基が１つ以上置換されたＰＯＳＳ；などが挙げられる。

前記光重合開始剤としては、光硬化性樹脂組成物に用いられるものとして知られている化合物であれば特に制限なしに使用でき、具体的に、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、オキシン系化合物、またはこれらの２種以上の混合物を使用することができる。

前記光重合性化合物１００重量部に対して、前記光重合開始剤は１ないし１００重量部の含有量で使用することができる。前記光重合開始剤の量が小さすぎれば、前記光硬化性コーティング組成物の光硬化段階で未硬化されて残留する物質が発生することができる。前記光重合開始剤の量が多すぎれば、未反応の開始剤が不純物として残留したり架橋密度が低くなって製造されるフィルムの機械的物性が低下したり反射率が非常に高くなることができる。

一方、前記光硬化性コーティング組成物は、有機溶媒をさらに含むことができる。
前記有機溶媒の非制限的な例示として、ケトン類、アルコール類、アセテート類およびエーテル類、またはこれらの２種以上の混合物が挙げられる。

このような有機溶媒の具体的な例としては、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトンまたはイソブチルケトンなどのケトン類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、またはｔ−ブタノールなどのアルコール類；酢酸エチル、ｉ−プロピルアセテート、またはポリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのアセテート類；テトラヒドロフランまたはプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類；またはこれらの２種以上の混合物が挙げられる。

前記有機溶媒は、前記光硬化性コーティング組成物に含まれる各成分を混合する時期に添加されたり各成分が有機溶媒に分散または混合された状態で添加されながら、前記光硬化性コーティング組成物に含まれる。前記光硬化性コーティング組成物中の有機溶媒の含有量が小さすぎれば、前記光硬化性コーティング組成物の流れ性が低下して、最終製造されるフィルムに縞模様が生じるなど不良が発生することができる。また、前記有機溶媒の過剰添加時に固形分含有量が低くなり、コーティングおよび成膜が十分に行われなくてフィルムの物性や表面特性が低下でき、乾燥および硬化過程で不良が発生することができる。したがって、前記光硬化性コーティング組成物は含まれる成分の全体固形分の濃度が１重量％乃至５０重量％、または２ないし２０重量％となるように有機溶媒を含むことができる。

一方、前記反射防止フィルムは、前記ハードコーティング組成物を基材の一面に塗布し乾燥、光硬化を経た後、低屈折層形成用コーティング組成物を前記形成されたハードコーティング層上に塗布し、塗布された結果物を光硬化することによって得ることができる。この時、前記ハードコーティング層は半硬化することができ、低屈折層を光硬化時に最終硬化させる方法が最も望ましい。

前記基材の具体的な種類や厚さは特に限定されるものではなく、低屈折層または反射防止フィルムの製造に使用されるものとして知られている基材を特に制限なしに使用することができる。

前記光硬化性コーティング組成物を塗布するために、通常使用される方法および装置を何らの制限なく使用することができ、例えば、Ｍｅｙｅｒ ｂａｒなどのバーコーティング法、グラビアコーティング法、２ ｒｏｌｌ ｒｅｖｅｒｓｅコーティング法、ｖａｃｕｕｍ ｓｌｏｔ ｄｉｅコーティング法、２ ｒｏｌｌコーティング法などを使用することができる。

前記ハードコーティング層は、最終乾燥厚さが１μｍ乃至１０μｍが好ましく、１μｍ以下である場合コーティング層の機械的強度が低下して表面に微細凹凸を実現しにくい。また、１０μｍ以上ではコーティング層が厚くてコーティングフィルムの取り扱い時にクラックが発生しやすい短所がある。低屈折層は１ｎｍ乃至３００ｎｍ、または５０ｎｍ乃至２００ｎｍの厚さを有することができる。

前記光硬化性コーティング組成物を光硬化させる段階では、２００ないし４００ｎｍ波長の紫外線または可視光線を照射することができ、照射時の露光量は１００ないし４、０００ｍＪ／ｃｍ^２が望ましい。露光時間も特に限定されるものではなく、用いられる露光装置、照射光線の波長または露光量により適切に変化させることができる。

また、前記光硬化性コーティング組成物を光硬化させる段階では、窒素大気条件を適用するために窒素パージングなどを行うことができる。

上述した方法で製造された反射防止フィルムは１．６％以下の平均反射率を有する。

一方、本発明の他の具現例によれば、上述した反射防止フィルムを含むディスプレイ装置が提供される。

前記ディスプレイ装置は、互いに対向する一対の偏光板；前記一対の偏光板の間に順次に積層された薄膜トランジスター、カラーフィルターおよび液晶セル；およびバックライトユニットを含む液晶ディスプレイ装置でありうる。

前記ディスプレイ装置の概略的な構造は図１に示されているように、薄膜トランジスター、カラーフィルターおよび液晶セルが順次に積層された構造の液晶パネルと、その両側に設けられた偏光板が備えられる。

前記反射防止フィルムは、液晶セルと接する偏光板の他の一面や偏光板およびバックライトユニットの間に形成することができる。

本発明を以下の実施例でより詳細に説明する。但し、以下の実施例は本発明を例示するだけであり、本発明の内容が以下の実施例によって限定されるものではない。

<製造例１ないし５：ハードコーティング液の製造>
下記表１の成分を混合して、防眩ハードコーティング組成物を製造した。
[成分情報]
−ＢＥＡＭＳＥＴ ３７１：Ａｒａｋａｗａ社、ｅｐｏｘｙ ａｃｒｙｌａｔｅポリマー、分子量４０、０００
−ＵＡ−３０６Ｉ：ウレタン系アクリルオリゴマー（ｋｙｏｅｉｓｈａ社）
−８ＢＲ−５００：光硬化性ウレタンアクリレートポリマー（ＭＷ２５０、０００、大成化学）
−ＴＭＰＴＡ：Ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｏｌｐｒｏｐａｎｅ ｔｒｉａｃｒｙｌａｔｅ
−ＰＥＴＡ：Ｐｅｎｔａｅｒｙｔｈｒｉｔｏｌ ｔｒｉａｃｒｙｌａｔｅ（多官能モノマー、分子量２９８）
−Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４：光開始剤（Ｃｉｂａ社）
−ＩＰＡ：イソプロピルアルコール
−ＥｔＯＨ：エタノール
−１０３ＢＱ：球形のアクリル−スチレン共重合樹脂粒子（平均粒径約２μｍ、屈折率約１．５１５、ＸＸ−１０３ＢＱ、Ｓｅｋｉｓｕｉ Ｐｌａｓｔｉｃ社製品）
−１１３ＢＱ：球形のアクリル−スチレン共重合樹脂粒子（平均粒径約２μｍ、屈折率約１．５５５、ＸＸ−１１３ＢＱ、Ｓｅｋｉｓｕｉ Ｐｌａｓｔｉｃ社製品）
−球形の有機微粒子１：平均粒径３．５μｍであり、屈折率が１．５５５の球形の有機微粒子であるアクリル−スチレン共重合樹脂（ＸＸ−６８ＢＱ、Ｓｅｋｉｓｕｉ Ｐｌａｓｔｉｃ社製品）
−Ｘ２４−９６００Ａ：体積平均粒径１００ｎｍのシリカ粒子（Ｓｈｉｎｅｔｓｕ社）
−ＭＡ−ＳＴ：ナノシリカ分散液（Ｎｉｓｓａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社）

<比較製造例１ないし４：ハードコーティング液の製造>
下記表２の成分を用いた点を除いて製造例１と同様な方法で防眩ハードコーティング組成物を製造した。

<製造例６および７：低屈折層製造用樹脂組成物の製造>
製造例６：低屈折層製造用樹脂組成物１（ＬＲ１）の製造
多官能モノマー（ＤＰＨＡ、分子量５３６）０．３７ｇ、フッ素系添加剤（ＲＳ９０７、ＤＩＣ社）０．１３ｇ、溶媒メチルイソブチルケトン１５ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテル１６ｇを入れて攪拌を実施した。この後、攪拌しながらポリシルセスキオキサン（ＭＡ０７０１、Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃ社）を０．０３ｇ投入し、最後に、中空シリカ（Ｔｈｒｕｌｙａ ４３２０、触媒化成社）２．５ｇを入れて十分に攪拌して低屈折コーティング液を準備した。
製造例７：低屈折層製造用樹脂組成物２（ＬＲ２）の製造
多官能モノマー（ＤＰＨＡ、分子量５３６）０．３７ｇ、フッ素系添加剤（ＲＳ９０７、ＤＩＣ社）０．１３ｇ、溶媒メチルイソブチルケトン１５ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテル１６ｇを入れて攪拌を実施した。この後、攪拌しながら体積平均粒径が１２ｎｍのシリカ分散液（ＭＩＢＫ−ＳＴ、Ｎｉｓｓａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社）を０．０２ｇ投入し、最後に、中空シリカ（Ｔｈｒｕｌｙａ ４３２０、触媒化成社）２．５ｇを入れて十分に攪拌して低屈折コーティング液を準備した。

<実施例および比較例：反射防止フィルムの製造>
４０μｍ厚さのトリアセチルセルロースフィルムにＭｅｙｅｒ Ｂａｒで前記製造例または比較製造例でそれぞれ製造されたハードコーティング液を塗布し、９０℃で１分間乾燥した後、１５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して防眩コーティングフィルムを製造した。
この後、前記製造例でそれぞれ製造された低屈折層製造用樹脂組成物をＭｅｙｅｒ Ｂａｒ＃３でＡＧコーティングされた面上に塗布し、９０℃で１分間乾燥した。
そして、窒素パージング下で前記乾燥物に１８０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して１１０ｎｍの厚さを有する低屈折層を形成することによって、防眩／反射防止フィルムを製造した。

<実験例：反射防止フィルムの物性測定>
前記実施例および比較例で得られた反射防止フィルムに対し、以下のような項目の実験を行った。
１．内部ヘイズ（Ｈａｚｅ）測定
反射防止フィルムの表面をコロナ処理などで親水化した後、製造例４で粒子を投入しないハードコーティング液をコーティングして９０℃で１分間乾燥、１８０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線で照射して硬化処理した。ヘイズ測定時、透過率はＪＩＳ Ｋ ７３６１規格、ヘイズはＪＩＳ Ｋ ７１０５規格によって測定し、ヘイズ測定器（ＨＭ−１５０、Ａ光源、村上社）で３回測定して平均値を計算する。

２．表面粗さ測定
表面凹凸の十点平均粗さは、白色光３次元光学干渉プロファイル（３Ｄ ｏｐｔｉｃａｌ ｐｒｏｆｉｌｅｒ、モデル名：ＮｅｗＶｉｅｗ７３００、Ｚｙｇｏ社）装備を利用して測定する。測定条件は以下の通りである。
−レンズ倍率：１０倍（Ｍｉｒａｕレンズ）
−ズーム倍率：０．５倍
−測定面積（ＦｏＶ）：１．４０^＊１．０５ｍｍ^２
−スキャン長さ：５μｍ ｂｉｐｏｌａｒ
−カメラモード：６４０^＊４８０
−ノイズ除去水準（Ｍｉｎ Ｍｏｄ）：７％
−測定位置当たりの分析回数：１回
−ＦＤＡ Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ：Ｈｉｇｈ ２Ｇ ｍｏｄｅ
−補正方法：Ｃｙｌｉｎｄｅｒ Ｆｉｔｔｉｎｇ
反射防止フィルムの測定しようとする面の反対面に両面テープを貼り付け、サンプルステージに平らな状態に載せた後、ｏｐｔｉｃａｌ ｐｒｏｆｉｌｅｒイメージを得た後、分析を進行する。この時、横長さを３ｍｍに設定して測定を進行し、ここで得られたイメージから２つ〜３つのラインプロファイルを得て、十点平均粗さを計算した。

３．平均反射率測定
ＳＨＩＭＡＤＺＵ社のＳｏｌｉｄＳｐｅｃ ３７００を利用して平均反射率を測定した。
具体的に、基材フィルムのハードコーティング層が形成されない面に光が透過できないように黒色テープ（３Ｍ）を貼り付け、ｓａｍｐｌｉｎｇ ｉｎｔｅｒｖａｌ １ ｎｍ、ｔｉｍｅ ｃｏｎｓｔａｎｔ ０．１ ｓｅｃ、ｓｌｉｔ ｗｉｄｔｈ ２０ ｎｍ、ｍｅｄｉｕｍ ｓｃａｎｎｉｎｇ ｓｐｅｅｄで測定条件を固定した後、１００Ｔモードを適用して常温で前記反射防止フィルムに３８０ｎｍ乃至７８０ｎｍ波長領域の光を照射して測定した。

４．像鮮明度測定
スガ試験機株式会社（Ｓｕｇａ Ｔｅｓｔ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｃｏ．、Ｌｔｄ．）のＩＣＭ−１Ｔを利用して鮮明度値を測定した。具体的に、基材フィルムをサンプルホルダーに装着し、透過モードでスリット０．１２５ｍｍと０．２５ｍｍである時に像鮮明度を測定した。

５．光沢度測定
ＢＹＫ Ｇａｒｄｎｅｒ社のｍｉｃｒｏ−ＴＲＩ−ｇｌｏｓｓを利用して２０゜／６０゜のｇｌｏｓｓを測定した。具体的に、基材フィルムのハードコーティング層が形成されない面に光が透過しないように黒色テープ（３Ｍ）を貼り付け、光の入射角２０゜と６０゜に対して、それぞれ５回以上測定したデータ平均値で定義した。

６．隠蔽力評価
パネルの不良隠蔽力を評価するために、村上色彩工業社（株）製の「ＧＰ−２００」を使って、反射防止フィルムの反射拡散光度を測定した。
測定条件は以下の通りである。
−測定モード：反射
−入射角：４５°
−測定範囲：−８５°乃至８５°
−光源部絞り（ＶＳ１）設定値：１（直径３．５ｍｍ）
−受光部絞り（ＶＳ３）設定値：１（直径２．３ｍｍ）
測定順序は標準サンプルを測定して正反射光度を１００に設定した後、実施例と比較例のフィルムを測定した。標準サンプルは、実施例と比較例で用いた基材と同一のフィルム上に粒子がないハードコーティングを５ないし１０μｍの厚さにコーティングしたフィルムで、ヘイズ値０．１以下を満足するフィルムである。

このフィルムのコーティング面と反対面に光が透過しないように黒色テープ（３Ｍ）を貼り付け、サンプル位置に装着した後、反射拡散光度を測定した。この時、正反射光度値が１００より大きい場合、感度調節ダイヤルを調節して正反射光度値が１００になるように調節する。以降、測定しようとするサンプルフィルムのハードコーティング層が形成されない面に光が透過しないように黒色テープ（３Ｍ）を貼り付け、サンプル位置にサンプルを装着した後、測定範囲−８５°乃至８５°での反射拡散光度を測定した。正反射光度は、入射角の正反射に相当する４５度での反射拡散光度値である。隠蔽力値は、正反射から＋１°乃至−１°でそれぞれの光度を正反射光度に分けてその比率を計算し、平均値を求めた。

前記表１および表２に示されているように、実施例の反射防止フィルムのハードコーティング層は、表面の凹凸形状の十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．０５μｍ乃至０．２μｍであり、内部ヘイズが０．５％乃至５％である条件を満たし、これによって、スパークリング現象を防止でき、向上した視認性と優れた外部ブラック視感および明暗比などの光特性を確保できることが確認された。そして、前記実施例の反射防止フィルムに対する反射光源の拡散分布の結果で、正反射光度値に対する正反射からの＋１度および−１度の角度でそれぞれの光度値の比率の平均値が０．００５ないし０．１００の範囲で維持されて、向上した反射防止効果とパネルの不良隠蔽力を具現できることも確認された。

これに反し、比較例１および２の反射防止フィルムのハードコーティング層の表面の凹凸形状の十点平均粗さは０．２μｍを超えるが、これによって、像鮮明度および光沢度が相対的に低いだけでなく、スパークリングのような解像度低下現象も現れ、またパネル隠蔽力の数値が０．１００を超えるようになってイメージが歪曲してみえるようになり、ブラック色をはじめとする色の鮮明度が落ちることが確認された。

また、比較例３および４の反射防止フィルムのハードコーティング層の内部ヘイズは０．５％未満であるが、像鮮明度および光沢度はある程度確保できるが、正反射光度値に対する正反射からの＋１度および−１度の角度で、それぞれの光度値の比率の平均値が非常に低く現れ、これによって十分なパネル隠蔽力を確保しにくいことが確認された。

Claims (15)

1. 表面の凹凸形状の十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．０５μｍ乃至０．２μｍであり、内部ヘイズが０．６％乃至２．７％であるハードコーティング層；および
   前記ハードコーティング層に形成された低屈折層；を含む、反射防止フィルムであって、
   前記反射防止フィルムに対する反射光源の拡散分布の結果で、正反射光度値に対する正反射からの＋１度および−１度の角度でそれぞれの光度値の比率の平均値が０．００５ないし０．１００であり、
   前記反射防止フィルムに対する反射光源の拡散分布では、４５度の入射角を適用し、
   前記正反射光度値は、入射角の正反射に相当する４５度での反射拡散光度値である、反射防止フィルム。
2. ３８０ｎｍ乃至７８０ｎｍの波長領域で前記反射防止フィルムの反射率が１．６％以下である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
3. 前記ハードコーティング層は、光重合性化合物の（共）重合体を含むバインダー樹脂および前記バインダー樹脂に分散された有機または無機微粒子；を含む、請求項１に記載の反射防止フィルム。
4. 前記有機または無機微粒子と前記バインダー樹脂との間の屈折率差が０．０１ないし０．０８である、請求項３に記載の反射防止フィルム。
5. 前記ハードコーティング層は、１ｎｍ乃至１５０ｎｍの直径を有する無機ナノ粒子をさらに含む、請求項３に記載の反射防止フィルム。
6. 前記ハードコーティング層のバインダー樹脂は、重量平均分子量１０、０００以上の高分子量（共）重合体をさらに含む、請求項３に記載の反射防止フィルム。
7. 前記低屈折層は、光重合性化合物の（共）重合体と光反応性作用基を含む含フッ素化合物またはシリコーン系化合物を含むバインダー樹脂を含む、請求項１に記載の反射防止フィルム。
8. 前記含フッ素化合物またはシリコーン系化合物に含まれる光反応性作用基は、（メト）アクリレート基、エポキシド基、ビニル（Ｖｉｎｙｌ）基およびチオール（Ｔｈｉｏｌ）基からなる群より選択された１種以上の作用基を含む、請求項７に記載の反射防止フィルム。
9. 前記光反応性作用基を含む含フッ素化合物は、ｉ）一つ以上の光反応性作用基が置換され、少なくとも一つの炭素に１つ以上のフッ素が置換された脂肪族化合物または脂肪族環化合物；ｉｉ）１つ以上の光反応性作用基に置換され、少なくとも一つの水素がフッ素に置換され、一つ以上の炭素がケイ素に置換されたヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族化合物またはヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族環化合物；ｉｉｉ）一つ以上の光反応性作用基が置換され、少なくとも一つのシリコンに１つ以上のフッ素が置換されたポリジアルキルシロキサン系高分子；およびｉｖ）１つ以上の光反応性作用基に置換され少なくとも一つの水素がフッ素に置換されたポリエーテル化合物；からなる群より選択された１種以上を含む、請求項７に記載の反射防止フィルム。
10. 前記バインダー樹脂に分散された無機微細粒子をさらに含む、請求項７に記載の反射防止フィルム。
11. 前記低屈折層に含まれる無機微細粒子は、１０ないし２００ｎｍの数平均粒径を有する中空状無機微細粒子、および０．５ないし１０ｎｍの数平均粒径を有するソリッド型無機微細粒子からなる群より選択された１種以上を含む、請求項１０に記載の反射防止フィルム。
12. 前記低屈折層は、前記光重合性化合物の（共）重合体１００重量部対比前記無機微細粒子１０ないし４００重量部、および前記光反応性作用基を含む含フッ素化合物またはシリコーン系化合物２０ないし３００重量部を含む、請求項１０に記載の反射防止フィルム。
13. 前記低屈折層のバインダー樹脂は、反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンをさらに含む、請求項７に記載の反射防止フィルム。
14. 前記低屈折層は、前記光重合性化合物の（共）重合体１００重量部対比前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサン０．５ないし４０重量部を含む、請求項１３に記載の反射防止フィルム。
15. 請求項１に記載の反射防止フィルムを含む、ディスプレイ装置。