JP7055436B2 - 反射防止フィルムおよびディスプレイ装置 - Google Patents

Description

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本出願は、２０１６年３月１４日付の韓国特許出願第１０－２０１６－００３０３９６号および２０１６年３月２５日付の韓国特許出願第１０－２０１６－００３６３７８号に基づく優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示された全ての内容は本明細書の一部として含まれる。

本発明は、反射防止フィルムおよびディスプレイ装置に関し、より詳しくは、高解像度ディスプレイに適用の際、スパークリング現象が少なく視認性に優れ、ディスプレイ製作時に作業性に優れた反射防止フィルムと優れた外部ブラック視感および明暗比などの光特性および高い画面の鮮明度を提供するディスプレイ装置に関する。

一般に、ＰＤＰ、ＬＣＤなどの平板ディスプレイ装置には外部から入射される光の反射を最小化するための反射防止フィルムが装着される。

光の反射を最小化するための方法としては、樹脂に無機微粒子などのフィラーを分散させて基材フィルム上にコーティングし凹凸を付与する方法（ａｎｔｉ－ｇｌａｒｅ：ＡＧコーティング）；基材フィルム上に屈折率が異なる複数の層を形成して光の干渉を利用する方法（ａｎｔｉ－ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ：ＡＲコーティング）、またはこれらを混用する方法などがある。

そのうち、前記ＡＧコーティングの場合反射される光の絶対量は一般的なハードコーティングと同等な水準であるが、凹凸を通した光の散乱を利用して目に入る光の量を減らすことによって、低反射効果を得ることができる。しかし、前記ＡＧコーティングは表面凹凸によって画面の鮮明度が落ちるため、最近はＡＲコーティングの多くの研究が行われている。

前記ＡＲコーティングを利用したフイルムとしては、基材フィルム上にハードコーティング層（高屈折率層）、低反射コーティング層などが積層された多層構造であるものが商用化されている。しかし、表面の凹凸のないクリア（ｃｌｅａｒ）コーティングの場合、防眩の効果が十分でなくディスプレイ内部の不良点が容易に見える短所がある。

そのために、イメージの鮮明性を維持しながら外部から入射される光の反射を最小化する多くの研究が行われているが、ディスプレイの解像度が上がるほどそれに伴う物性改善の程度が不十分であるのが実情である。最近、液晶ディスプレイ装置の液晶パネルとしてＣＯＴ（ｃｏｌｏｒ ｆｉｌｔｅｒ ｏｎ ＴＦＴ）構造を使用する場合がある。

このようなＣＯＴ構造の液晶パネルを使用する場合、電極などに含まれる金属によってパネル内部の反射度が高くなりながら、外部ブラック視感および明暗比などのディスプレイの光特性が低下する問題点があり、したがって、ディスプレイパネルの収率が高く、かつ優れた反射防止機能を有する表面コーティングフィルムの開発が必要なのが実情である。

本発明は、高解像度ディスプレイに適用の際、スパークリング現象が少なく視認性に優れて、ディスプレイ製作時に作業性に優れた反射防止フィルムを提供するものである。

また、本発明は、優れた外部ブラック視感および明暗比などの光特性および高い画面の鮮明度を提供するディスプレイ装置を提供するものである。

前記課題を解決するために、本発明は、
ハードコーティング層および前記ハードコーティング層に形成された低屈折層を含む反射防止フイルムであって、表面凹凸形状の粗さ尖度（Ｒｋｕ）が３．５超過６未満であり、スウェディッシュ高さ（Ｈ）が２０ｎｍ超過２００ｎｍ未満であり、３８０ｎｍ～７８０ｎｍ波長領域での透光度が９４％以上である、反射防止フィルムが提供される。

また、本明細書では、上述した反射防止フィルムを含むディスプレイ装置が提供され得る。

以下、発明の具体的な実施形態による反射防止フィルムおよびディスプレイ装置についてより詳細に説明する。

本明細書で、光重合性化合物は、光が照射されれば、例えば、可視光線または紫外線が照射されれば重合反応を起こす化合物を通称する。

また、フッ素系化合物は、化合物のうちの少なくとも１つ以上のフッ素元素が含まれている化合物を意味する。

また、（メタ）アクリル[（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌ]は、アクリル（ａｃｒｙｌ）およびメタクリル（Ｍｅｔｈａｃｒｙｌ）の双方を含む意味である。

また、（共）重合体は、共重合体（ｃｏ－ｐｏｌｙｍｅｒ）および単独重合体（ｈｏｍｏ－ｐｏｌｙｍｅｒ）の双方を含む意味である。

また、中空シリカ粒子（ｓｉｌｉｃａ ｈｏｌｌｏｗ ｐａｒｔｉｃｌｅｓ）とは、ケイ素化合物または有機ケイ素化合物から導出されるシリカ粒子であり、前記シリカ粒子の表面および／または内部に空の空間が存在する形態の粒子を意味する。

発明の一実施形態によれば、ハードコーティング層および前記ハードコーティング層に形成された低屈折層を含む反射防止フイルムであって、３８０ｎｍ～７８０ｎｍ波長領域で９４％以上の透光度を有し、前記反射防止フィルムの表面凹凸形状の粗さ尖度（Ｒｋｕ）が３．５超過６未満であり、スウェディッシュ高さ（Ｈ）が２０ｎｍ超過２００ｎｍ未満である、反射防止フィルムが提供され得る。

前記ハードコーティング層は、その一面に微細凹凸を有する、通常ＡＧコーティング層と言われるコーティング層で構成される。具体的に、凹凸構造が形成されたフィルムは、外部から光が入ってきた時に乱反射を誘導できるので反射防止効果が優れているが、内部から出るイメージも表面で歪曲されるため、イメージの鮮明性や解像度が低下する問題をもたらす。また、ＵＨＤ（ｕｌｔｒａｈｉｇｈ ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ）以上の高解像度ディスプレイでは、このようなイメージの歪みが激しいので、凹凸構造の制御が必要である。

そこで本発明者らは、フィルムの外部表面での反射防止効果とイメージの鮮明性を同時に実現できる最適の表面凹凸構造を導き出すために、フィルムの表面凹凸構造に対して効果的に分析できるパラメータに関して研究を進行した結果、表面凹凸形状の粗さ尖度（Ｒｋｕ）およびスウェディッシュ高さ（Ｈ）の組み合わせを通して表面凹凸構造の把握が容易であることを実験を通して確認して本発明を完成した。

特に、表面凹凸形状の粗さ尖度（Ｒｋｕ）およびスウェディッシュ高さ（Ｈ）の組み合わせは、基準長さでの最大ピーク（ｐｅａｋ）５つと最大バレー（ｖａｌｌｅｙ）５つの平均の和を示す平均粗さ（Ｒｚ）および評価長さでのピーク高さの最大値およびバレー深さの最大値の和を示す総高さ（Ｒｔ）に比べて、表面凹凸の高さが低い場合の表面凹凸の高さと模様に対する情報を示すことができる。

具体的に、表面凹凸の高さが低くなるほどピークの高さおよびバレー深さの差が減少し、そのために、小さな凹凸の数が増加するようになるので、平均粗さ（Ｒｚ）および総高さ（Ｒｔ）のように最大値１つあるいは５つだけで表面凹凸の形状を代表すると見にくい。つまり、表面凹凸の高さが低くなって凹凸の個数が増加する場合は、単にいくつかの凹凸だけで測定された平均粗さ（Ｒｚ）が表面凹凸の高さを示すと見られないだろう。例えば、大きな凹凸が１００個ある時、最大ピーク５個と最大バレー５個を利用して平均粗さ（Ｒｚ）を計算する場合、測定装置によって３％の比率でエラーが含まれると仮定すれば、１００個の値の中で３個の値は間違った値となることがあり、このような間違った値が最大ピークあるいは最大バレーに含まれているとしても、残りの値は正常値を有するようになり、測定の正確度は７０％になると見られる。反面、小さな凹凸が３００個ある時、最大ピーク５個と最大バレー５個を利用して平均粗さ（Ｒｚ）を計算する場合、測定装置によって３％の比率でエラーが含まれると仮定すれば、３００個の値の中で９個の値が間違った値になることができ、このような間違った値が最大ピークあるいは最大バレーに含まれていると、正常値は１０％に過ぎないことになる。したがって、表面凹凸の高さにより平均粗さ（Ｒｚ）の正確度が影響を受けられる。

これに反して、スウェディッシュ高さ（Ｈ）を利用して表面凹凸の高さを測定すれば、凹凸の個数に関係なく、凹凸の上限と下限の一定比率を除いて高さが測定されるため、凹凸高さの正確性をもっと確保できる。さらに、ここに凹凸の模様の特徴を示す粗さ尖度（Ｒｋｕ）のパラメータが共に組合わせることによって、凹凸の構造をより具体的かつ正確に分析できる。

また、前記反射防止フィルムの表面の凹凸形状が、特定範囲の粗さ尖度およびスウェディッシュ高さを有する時、低屈折層による透光度を高め、外部反射を低くして優れた反射防止効果と視認性を示す反射防止フィルムが実現可能であることを確認した。

具体的に、前記反射防止フィルムの表面凹凸形状の粗さ尖度（Ｒｋｕ）は３．５超過６未満、または４超過６未満、または５超過６未満でありうる。また、前記表面の凹凸形状のスウェディッシュ高さ（Ｈ）は２０ｎｍ超過２００ｎｍ未満、または２０ｎｍ～１８０ｎｍ、または５０ｎｍ～１５０ｎｍでありうる。

ここで、表面の凹凸形状を示す粗さ尖度（Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ ｋｕｒｔｏｓｉｓ；Ｒｋｕ）とは、ピークとバレーの相対的不均一度を計算するパラメータであって、ピークとバレーの尖りを示すパラメータであり、表面の凹凸形状の鋭さおよび高さ分布の不均一度の尺度である。この時、相対的不均一度は、ピークとバレーが占める断面積の相対的不均一度だけでなく、ピークとバレーの模様の不均一度も含む。例えば、Ｒｋｕが３の場合、表面の凹凸形状を計算するＲｋｕ値が正規分布曲線に従うことを意味する。また、Ｒｋｕが３から離れるほど、表面の凹凸形状の非対称度が存在し、具体的に、バレーあるいはピーク側に非対称度が増加する。Ｒｋｕが３より増加する場合、ピーク側の凹凸は平坦かつバレーに比べて断面積の模様がもう少し規則的な形状に存在することを意味する。これに反して、Ｒｋｕが３より減少する場合、ピークが尖って尖鋭度が高くかつバレーに比べて断面積の高さがさらに不規則に存在することを意味する。

具体的に、前記表面凹凸形状の粗さ尖度（Ｒｋｕ）は、下記一般式１によって求められる：

前記一般式１において、
Ｌは基準長さ（ｓａｍｐｌｉｎｇ ｌｅｎｇｔｈ）であり、Ｙ（ｉ）は基準長さでのピークあるいはバレーの高さであり、Ｒｑは基準長さでのＹ（ｉ）の二乗平均平方根を意味し、下記一般式２によって求められる：

前記一般式２において、Ｎは基準長さ内のピークの個数である。

この時、前記反射防止フィルムの表面凹凸形状の粗さ尖度（Ｒｋｕ）が３．５超過６未満であるので、表面の外部凹凸を最少化しながらも外部反射を低くすることができる。前記反射防止フィルムの表面凹凸形状の粗さ尖度（Ｒｋｕ）が３．５以下であれば、ピークの凹凸の尖鋭度が高くて防眩機能が低下でき、表面凹凸形状の粗さ尖度（Ｒｋｕ）が６以上であれば、ピークの凹凸の頻度が高く、ピークの面積が大きくて凹凸によってフィルムの鮮明度が阻害する問題点がありうる。また、前記一般式１によれば、３を基準にしてピークとバレーの粗さ尖度（Ｒｋｕ）が異なるが、粗さ尖度（Ｒｋｕ）の値が３と３．５の間にある場合、肉眼で区別しにくいほどの対称性が存在するため、前記反射防止フィルムの表面凹凸形状の粗さ尖度（Ｒｋｕ）は３．５超過であるのが好ましい。

一方、表面の凹凸形状のスウェディッシュ高さ（Ｓｗｅｄｉｓｈ ｈｅｉｇｈｔ；Ｈ）は、縦断面内の２個の基準線間の間隔を示すパラメータを意味する。具体的に、表面の凹凸形状のスウェディッシュ高さ（Ｈ）は、最高高さを有するピーク（あるいは最高深さを有するバレー）の５％が表出される位置の上部基準線（ｕｐｐｅｒ ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ ｌｉｎｅ）と最高高さを有するピーク（あるいは最高深さを有するバレー）の９０％が表出される位置の下部基準線（ｌｏｗｅｒ ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ ｌｉｎｅ）との間の距離を示す。

したがって、表面の凹凸形状のスウェディッシュ高さ（Ｈ）によるデータは、表面の凹凸形状で外れているデータを排除できるので、表面凹凸形状のピーク高さの最大値を示す最大ピーク高さ（Ｒｐ）、バレー深さの最大値を示す最大バレー深さ（Ｒｖ）および最大ピーク高さ（Ｒｐ）と最大バレー深さ（Ｒｖ）の和を意味する平均粗さ（Ｒｔ）に比べて、信頼度が高く安定的である。

この時、前記反射防止フィルムの表面の凹凸形状のスウェディッシュ高さ（Ｈ）が２０ｎｍ超過２００ｎｍ未満であるので、表面凹凸の突起不良を改善できる。前記反射防止フィルムの表面の凹凸形状のスウェディッシュ高さ（Ｈ）が２０ｎｍ以下であれば、表面の凹凸が低くて防眩機能が低下でき、表面の凹凸形状のスウェディッシュ高さ（Ｈ）が２００ｎｍ以上であれば、凹凸の高さが高くなってイメージの鮮明度が低くなることができる。

したがって、表面凹凸形状の粗さ尖度（Ｒｋｕ）が３．５超過６未満であると同時に、スウェディッシュ高さ（Ｈ）が２０ｎｍ超過２００ｎｍ未満である前記反射防止フィルムは、優れた反射防止機能と視認性を同時に示すことができる。

このような、前記反射防止フィルム表面凹凸形状の粗さ尖度（Ｒｋｕ）およびスウェディッシュ高さ（Ｈ）は、非接触表面形状測定器（３Ｄ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｐｒｏｆｉｌｅｒ）を利用して測定できる。例えば、前記反射防止フィルムは、前記ハードコーティング層と前記ハードコーティング層上に形成された低屈折層とを含むので、前記反射防止フィルムの表面凹凸形状の粗さ尖度（Ｒｋｕ）およびスウェディッシュ高さ（Ｈ）の値は、低屈折層の表面凹凸形状の粗さ尖度（Ｒｋｕ）およびスウェディッシュ高さ（Ｈ）の値を測定して求められる。

また、前記反射防止フィルムは、前記ハードコーティング層上に形成された低屈折層を含むことによって、３８０ｎｍ～７８０ｎｍ波長領域で９４％以上の透光度を有することができる。

このような反射防止フィルムは、３８０ｎｍ～７８０ｎｍ波長領域で５％未満の平均反射率を有することができる。具体的に、前記反射防止フィルムは、３８０ｎｍ～７８０ｎｍ波長領域で４％以下、または３．５％以下の平均反射率を有することができる。例えば、前記反射防止フィルムは、３８０ｎｍ～７８０ｎｍ波長領域で２％以下、または１．５％以下、または１．３％以下の平均反射率を有することができる。

さらに、前記反射防止フィルムは、優れた耐摩耗性、耐擦傷性、または耐スクラッチ性などの機械的物性を示すが、これは、ハードコーティング層および低屈折層のコーティングによる外部凹凸特性と前記低屈折層を形成する組成の特性によって具現できる。前記低屈折層の組成に対する具体的な内容については後述する。

また、それとともに前記反射防止フィルムの視認性を維持しながらパネル不良の隠蔽力を改善するために、前記反射防止フィルムにヘイズを付与できる。前記反射防止フィルムの総ヘイズは、内部ヘイズと外部ヘイズとの和で定義され、前記総ヘイズは、前記反射防止フィルム自体に対してヘイズを測定して得られ、前記内部ヘイズは、ヘイズが０である粘着剤を表面に貼り付けて平坦化層を作ったり、あるいはアルカリ処理を行った表面に平坦化層をコーティングして測定することができ、前記総ヘイズおよび内部ヘイズ値が定義されることで、外部ヘイズ値が定義されることができる。

具体的に、前記反射防止フィルムの内部ヘイズが０超過１０％未満である場合、鮮明性を維持しながらパネル不良の隠蔽力を改善することができる。前記反射防止フィルムの内部ヘイズが０％である場合パネル隠蔽力が低下でき、前記反射防止フィルムの内部ヘイズが１０％以上である場合は明暗比の低下など視認性の低下をもたらすことができる。

また、前記反射防止フィルムの外部ヘイズが０超過０．５％未満、または０超過０．２％以下であれば、スパークリング現象が少なく、解像度が高い反射防止フィルムを製造することができる。前記反射防止フィルムの外部ヘイズが０％である場合、防眩効果を期待できず、前記反射防止フィルムの外部ヘイズが０．５％以上である場合、解像度の低下をもたらすことができる。上述した範囲の外部ヘイズは、２０ｎｍ超過２００ｎｍ未満のスウェディッシュ高さ（Ｈ）を有する表面凹凸によって具現できる。

前述のように、前記反射防止フィルムは、表面凹凸形状の粗さ尖度（Ｒｋｕ）が３．５超過６未満であり、スウェディッシュ高さ（Ｈ）が２０ｎｍ超過２００ｎｍ未満であり、内部ヘイズが０超過１０％未満であり、外部ヘイズが０超過０．５％未満であり、３８０ｎｍ～７８０ｎｍ波長領域で９４％以上の透光度および５％未満の反射率を示すことができる。これによって、前記反射防止フィルムは、低い外部ヘイズと低い反射率によって反射防止機能が極大化され、ＣＯＴパネルなどで外部光による視認性低下を抑制することができる。

前記反射防止フィルムの表面凹凸形状の粗さ尖度（Ｒｋｕ）、スウェディッシュ高さ（Ｈ）、透光度、反射率、内部ヘイズおよび外部ヘイズは、ハードコーティング層を形成する組成物の組成およびその形成方法により調整できるだけでなく、反射防止フィルムの表面に相当する低屈折層を形成する組成物の組成およびその形成方法によっても調整できる。これは、前記ハードコーティング層上には低屈折層が形成されているが、低屈折層の薄い厚さによってハードコーティング層の表面凹凸形状が反射防止フィルムの表面に影響を与えるためである。

具体的に、前記表面凹凸形状の粗さ尖度（Ｒｋｕ）が３．５超過６未満であり、スウェディッシュ高さ（Ｈ）が２０ｎｍ超過２００ｎｍ未満である反射防止フィルムは、ハードコーティング層を形成する組成物中の有機粒子および無機粒子それぞれの大きさおよび投入量、および有機粒子と無機粒子との間の比率、有機粒子とバインダーとの間の比率などを変更して、粒子の凝集を所望の水準に調整することによって具現できる。例えば、前記組成物中の有機粒子または無機粒子の含有量を減らすことによって、粒子の凝集を減少させて凹凸の高さを低くすることができる。また、粒子の凝集よりは分散性に優れた有機粒子を使用して、粒子の凝集が行われないようにして、凹凸形状の高さを低くすることもできる。この時、適切な含有量の無機粒子と共に添加する場合、無機粒子の表面処理剤と有機粒子の表面処理剤との間の極性差によって有機粒子の分散性が調整され、そのため、粒子の凝集の程度が異なって表面凹凸の大きさおよび形状が制御されることができる。

また、前記表面凹凸形状の粗さ尖度（Ｒｋｕ）が３．５超過６未満であり、スウェディッシュ高さ（Ｈ）が２０ｎｍ超過２００ｎｍ未満である反射防止フィルムは、同じ組成の組成物を使っても、ハードコーティング層および／または低屈折層の厚さを調整することによって具現することができる。具体的に、前記ハードコーティング層および／または低屈折層の厚さが厚くなるほど、粒子による表面凹凸がコーティング層に埋められて表面凹凸の高さが低くなることができる。前記ハードコーティング層および／または低屈折層の厚さが厚くなれば、有機粒子あるいは無機粒子の大きさに比べてこれら層の厚さが厚くなるため、粒子が多く凝集された突起が生じても表面に凹凸として目立たなくて、低い高さを有する凹凸として現れる。

このように、ハードコーティング層および／または低屈折層を形成する組成物の組成およびこれらを形成するための工程条件を調整して、反射防止フィルムの表面凹凸形状の粗さ尖度（Ｒｋｕ）およびスウェディッシュ高さ（Ｈ）、透光度、反射率、内部ヘイズおよび外部ヘイズを特定範囲以内で調整することができる。

一方、前記ハードコーティング層は、光重合性化合物、光開始剤および有機微粒子または無機微粒子を含むハードコーティング組成物から形成されることができる。具体的に、前記ハードコーティング層は、光重合性化合物の（共）重合体を含むバインダー樹脂および前記バインダー樹脂に分散された有機または無機微粒子；を含むことができる。

前記ハードコーティング層を形成するハードコーティング組成物に含まれる光重合性化合物は、紫外線などの光が照射されれば重合反応を起こすことができる光重合型／光硬化型化合物であって、当業界で通常的なものでありうる。

具体的に、前記ハードコーティング層に含まれる光重合性化合物の（共）重合体は、ウレタンアクリレートオリゴマー、エポキシドアクリレートオリゴマー、ポリエステルアクリレート、およびポリエーテルアクリレートからなる反応性アクリレートオリゴマー群；およびジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチレンプロピルトリアクリレート、プロポキシ化グリセロールトリアクリレート、トリメチルプロパンエトキシトリアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、プロポキシ化グリセロトリアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、およびエチレングリコールジアクリレートからなる多官能性アクリレート単量体群より選択される１種以上から形成される（共）重合体でありうる。

また、前記光重合性化合物の（共）重合体は、重量平均分子量１０，０００以上の高分子量（共）重合体をさらに含むことができる。この時、前記高分子量（共）重合体は、セルロース系ポリマー、アクリル系ポリマー、スチレン系ポリマー、エポキシド系ポリマー、ナイロン系ポリマー、ウレタン系ポリマー、およびポリオレフィン系ポリマーからなる群より選択される１種以上でありうる。

前記ハードコーティング層は、前記光重合性化合物の（共）重合体と共に有機または無機微粒子を含んで表面凹凸と内部ヘイズを付与する。前記有機または無機微粒子は粒径が０．５～１０μｍ、または０．５～５μｍ、好ましくは１～５μｍの球形粒子でありうる。

前記有機または無機微粒子の粒径は、表面凹凸と内部ヘイズを発現するために０．５μｍ以上になることができ、ヘイズまたはコーティング厚さの側面で１０μｍ以下になることができる。例えば、微粒子粒径が１０μｍを超えて過度に大きくなる場合、微細表面凹凸を合わせるためにコーティングの厚さを上げなければならないし、そうすれば、フィルムの耐クラック性が低下し、フィルムが曲がる問題が発生することができる。

前記有機または無機微粒子の具体的な例を限定するものではないが、例えば、前記有機または無機微粒子は（メタ）アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、エポキシド樹脂およびナイロン樹脂からなる有機微粒子であるか、あるいは酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化インジウム、酸化錫、酸化ジルコニウムおよび酸化亜鉛からなる無機微粒子でありうる。

前記ハードコーティング層は、前記光重合性化合物の（共）重合体１００重量部対比前記有機または無機微粒子０．１～２０重量部、または１～１５重量部、好ましくは１～１０重量部を含むことができる。

前記有機または無機微粒子が光重合性化合物の（共）重合体１００重量部に対して、０．１重量部未満で含まれる場合、内部散乱によるヘイズ値が十分に具現されないことがある。また、前記有機または無機微粒子が光重合性化合物の（共）重合体１００重量部に対して２０重量部を超える場合、コーティング層のヘイズが高くて明暗比が低下でき、コーティング組成物の粘度が高くなってコーティング性が不良になる問題が発生することができる。

また、前記有機または無機微粒子の屈折率は、マトリックスを形成する光硬化型樹脂の屈折率と差を有する。粒子の含有量により適正屈折率の差が決定され、屈折率差が０．０１～０．５を有するのが好ましい。前記微粒子と光硬化性樹脂の屈折率差が０．０１未満であれば、適正なヘイズ値を得にくいこともある。また、前記微粒子と光硬化性樹脂の屈折率差が０．５を超えれば、内部ヘイズによる映像の歪曲が深化されて明暗比が悪くなったり、極少量の粒子含有量を使用する場合もあり、所望水準の表面の凹凸形状を得られない。

具体的に、前記有機または無機微粒子は（メタ）アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、エポキシ樹脂、ナイロン樹脂、およびその共重合体樹脂からなる有機微粒子群；および酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化インジウム、酸化錫、酸化ジルコニウム、および酸化亜鉛からなる無機微粒子群より選択される１種以上でありうる。

より具体的に、前記有機微粒子はメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、スチレン、ｐ－メチルスチレン、ｍ－メチルスチレン、ｐ－エチルスチレン、ｍ－エチルスチレン、ｐ－クロロスチレン、ｍ－クロロスチレン、ｐ－クロロメチルスチレン、ｍ－クロロメチルスチレン、スチレンスルホン酸、ｐ－ｔ－ブトキシスチレン、ｍ－ｔ－ブトキシスチレン、ビニルアセテート、ビニルプロピオン酸塩、ビニルブチレート、ビニルエーテル、アリルブチルエーテル、アリルグリシジルエーテル、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、不飽和カルボキシ酸、アルキル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロニトリルおよび（メタ）アクリレートからなる群より選択される一つ以上でありうる。

また、前記有機物微粒子は、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリアクリレート、ポリアクリレート－ｃｏ－スチレン、ポリメチルアクリレート－ｃｏ－スチレン、ポリメチルメタクリレート－ｃｏ－スチレン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリアセタール、エポキシレジン、フェノールレジン、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン、ポリジビニルベンゼン、ポリジビニルベンゼン－ｃｏ－スチレン、ポリジビニルベンゼン－ｃｏ－アクリレート、ポリフタル酸ジアリルおよびトリアリルイソシアヌレートポリマーの中から選択された一つの単一物またはこれらの２つ以上のコポリマー（ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）を使用することができるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。

一方、前記ハードコーティング層は、１ｎｍ～５０ｎｍの直径を有する無機ナノ粒子をさらに含むことができる。前記無機ナノ粒子の表面には所定の作用基や化合物が結合される。前記無機ナノ粒子は、有機または無機微粒子の表面に存在するかあるいは単独で存在することがあり、ハードコーティング層の表面凹凸の形状をスムースに調整でき、コーティング層の機械的な特性も向上させることができる。前記無機ナノ粒子の具体的な種類としては、酸化ケイ素（シリカ）、アルミナ、チタニアなどを使用することができる。

この時、前記ハードコーティング層は、５０ｎｍ超過１２０ｎｍ以下の直径を有する無機ナノ粒子をさらに含むことができる。そのために、前記ハードコーティング層は無機ナノ粒子として、１ｎｍ～５０ｎｍの直径を有する無機ナノ粒子だけを含んだり、あるいは１ｎｍ～５０ｎｍの直径を有する無機ナノ粒子および５０ｎｍ超過１２０ｎｍ以下の直径を有する無機ナノ粒子をいずれも含むことができる。例えば、前記無機ナノ粒子は、前記ハードコーティング層に前記光重合性化合物の（共）重合体１００重量部当たり１０重量部以下で含まれることができる。

また、前記ハードコーティング層は、前記有機または無機微粒子および無機ナノ粒子の総重量を基準にして、前記１ｎｍ～５０ｎｍの直径を有する無機ナノ粒子３～１０重量％、または４～１０重量％、または５～１０重量％を含むことができる。

前記ハードコーティング層内に前記１ｎｍ～５０ｎｍの直径を有する無機ナノ粒子を前記範囲で調整する場合、内部散乱による十分なヘイズ値が具現され、かつ粒子の凝集程度が調整されて所望の高さおよび形状を有する凹凸を実現でき、これによって、反射防止フィルムの粗さ尖度（Ｒｋｕ）およびスウェディッシュ高さ（Ｈ）を調整することができる。

例えば、前記１ｎｍ～５０ｎｍの直径を有する無機ナノ粒子の含有量が３重量％より低い場合、凝集体の大きさが制御されなくて、ディスプレイ適用時に不良画素が生じたり黒色明暗比が低下できる。また、前記１ｎｍ～５０ｎｍの直径を有する無機ナノ粒子の含有量が１０重量％より高い場合、内部散乱効果が不均一に発現でき、粒子の凝集の大きさにばらつきがあり、ディスプレイ適用時に不良画素が生成されることができる。

前記ハードコーティング層を形成するハードコーティング組成物は光開始剤を含むことができ、前記光開始剤としては、通常知られている光開始剤を特に制限なしに使用することができる。前記光開始剤の例としては、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルジメチルケタール、ヒドロキシジメチルアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、およびベンゾインブチルエーテルの中から選択された一つの単一物または２つ以上の混合物を使用することができるが、本発明は上述した例に限定されない。

この時、前記光開始剤は、前記光重合性化合物１００重量部に対して０．１～１０重量部で添加され得る。前記光開始剤が前記光重合性化合物１００重量部に対して０．１重量部未満で含まれる場合、紫外線照射による十分な光硬化が起きないこともあり、前記光重合性化合物１００重量部に対して１０重量部を超えて含まれる場合、最終形成される防眩フィルムの膜強度が低下することができ、前記ハードコーティング層上の低屈折層との密着が低下することができる。

一方、前記ハードコーティング層を形成するハードコーティング組成物は、有機溶媒をさらに含むことができる。このような有機溶媒が添加される場合、その構成に限定はないが、コーティング組成物の適切な粘度確保および最終形成されるフィルムの膜強度などを考慮して、前記光硬化性樹脂１００重量部に対して、好ましくは５０～７００重量部、より好ましくは１００～５００重量部、最も好ましくは１５０～４５０重量部を使用することができる。

この時、使用可能な有機溶媒の種類はその構成に限定はないが、炭素数１～６の低級アルコール類、アセテート類、ケトン類、セロソルブ類、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、トルエンおよびキシレンからなる群より選択される１種または１種以上の混合物を使用することができる。

この時、前記低級アルコール類は、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、またはジアセトンアルコールなどを例に挙げられるが、本発明は、上述した例に限定されない。そして、前記アセテート類は、メチルアセテート、酢酸エチル、イソプロピルアセテート、ブチルアセテート、またはセロソルブアセテートを使用することができ、前記ケトン類は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、またはアセトンを使用することができるが、上述した例に限定されない。

一方、前記ハードコーティング層を形成するハードコーティング組成物は、レベリング剤、ウェッティング剤、消泡剤からなる添加剤群より選択される１種以上の添加剤をさらに含むことができる。この時、前記添加剤は、各々前記光重合性化合物１００重量部に対して０．０１～１０重量部の範囲内で添加され得る。

前記レベリング剤は、ハードコーティング組成物を使用して、コーティングしたコーティング膜の表面を均一にする役割を果たす。また、前記ウェッティング剤は、ハードコーティング組成物の表面エネルギーを低くする役割を果たすことによって、ハードコーティング組成物を透明基材層にコーティングする際に、均一な塗布が行われるように助ける。

この時、前記消泡剤は、ハードコーティング組成物中の気泡を除去するために添加され得る。

付加的に、前記レベリング剤、ウェッティング剤、消泡剤がハードコーティング組成物の微粒子あるいはナノ粒子の分散性と凹凸形成に影響を与えることができる。

一方、前記低屈折層は、光重合性化合物；無機微細粒子；および反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサン（ｐｏｌｙｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）；光反応性作用基を含むフッ素系化合物；および光重合開始剤；を含む、低屈折層の製造のための光硬化性コーティング組成物から形成されることができる。具体的に、前記低屈折層は、光重合性化合物；光反応性作用基を含むフッ素系化合物；および反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサン（ｐｏｌｙｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）；間の架橋重合体を含むバインダー樹脂と前記バインダー樹脂に分散された無機微細粒子を含むことができる。

この時、前記低屈折層は、前記光重合性化合物１００重量部に対して、前記反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサン（ｐｏｌｙｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）０．５～２５重量部含むことができる。

前記反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンを特定含有量で含む光硬化性コーティング組成物を用いると、低い反射率および高い透光率を実現でき、耐アルカリ性を向上させると同時に優れた耐摩耗性または耐スクラッチ性を確保できる低屈折層およびディスプレイ装置の画面の鮮明度を高めることができ、かつ優秀な機械的物性を示す反射防止フィルムを提供することができる。

以前には、反射防止フィルムに含まれる低屈折層の耐スクラッチ性を向上させるために、ナノメートルサイズの多様な粒子（例えば、シリカ、アルミナ、ゼオライトなどの粒子）を添加する方法が試みられたが、このような方法によれば、耐スクラッチ性をある程度確保することはできるが、前記ナノメートルサイズの粒子が低い表面処理率を示すだけでなく、小さいサイズによって前処理液に露出する比表面積が増加して、耐アルカリ性が大きく低下する限界があった。

これに反し、前記一実施形態の光硬化性コーティング組成物は、前記光重合性化合物１００重量部対比前記反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサン０．５～２５重量部、または１．５～１９重量部を含み、低い反射率および高い透光率を有し、かつ高い耐アルカリ性および耐スクラッチ性を同時に実現できる低屈折層を提供でき、さらに、最終製造される反射防止フィルムやこのような反射防止フィルムが適用されるディスプレイ装置の性能や品質を高めることができる。

具体的に、前記反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンは、表面に反応性作用基が存在して前記光硬化性コーティング組成物の光硬化時に形成される塗膜やバインダー樹脂の機械的物性、例えば、耐スクラッチ性を高めることができる。また、前記反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンは、シロキサン結合（－Ｓｉ－Ｏ－）が分子内部に位置して従来から知られているシリカ、アルミナ、ゼオライトなどの微細粒子を使用する場合と異なり、前記光硬化性コーティング組成物の光硬化時に形成される塗膜やバインダー樹脂の耐アルカリ性を向上させることができる。

前述のように、前記光硬化性コーティング組成物は、前記光重合性化合物１００重量部対比前記反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサン０．５～２５重量部、または１．５～１９重量部を含むことができる。そのため、前記バインダー樹脂中の光重合性化合物に由来する部分対比前記反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサン（ｐｏｌｙｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）に由来する部分の重量比率が０．００５～０．２５、または０．０１５～０．１９でありうる。

前記光硬化性コーティング組成物中の前記光重合性化合物対比前記反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンの含有量が小さすぎれば、前記光硬化性コーティング組成物の光硬化時に形成される塗膜やバインダー樹脂の耐アルカリ性や耐スクラッチ性を十分に確保しにくいこともある。また、前記光硬化性コーティング組成物中の前記光重合性化合物対比前記反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンの含有量が大きすぎれば、前記光硬化性コーティング組成物から製造される低屈折層や反射防止フィルムの透明度が低下することがあり、スクラッチ性がむしろ低下することがある。

前記ポリシルセスキオキサンに置換される反応性作用基は、アルコール、アミン、カルボン酸、エポキシド、イミド、（メタ）アクリレート、ニトリル、ノルボルネン、オレフィン[アリル（ａｌｌｙ）、シクロアルケニル（ｃｙｃｌｏａｌｋｅｎｙｌ）またはビニルジメチルシリルなど]、ポリエチレングリコール、チオールおよびビニル基からなる群より選択された１種以上の作用基を含むことができ、好ましくは、エポキシドまたは（メタ）アクリレートでありうる。

前記反応性作用基のより具体的な例としては、（メタ）アクリレート、炭素数１～２０のアルキル（メタ）アクリレート、炭素数３～２０のシクロアルキル（ｃｙｃｌｏａｌｋｙｌ）エポキシド、炭素数１～１０のアルキルシクロアルカン（ｃｙｃｌｏａｌｋａｎｅ）エポキシドが挙げられる。前記アルキル（メタ）アクリレートは、（メタ）アクリレートと結合しない‘アルキル’の他の一部分が結合位置であり、前記シクロアルキルエポキシドは、エポキシドと結合しない‘シクロアルキル’の他の部分が結合位置であり、アルキルシクロアルカン（ｃｙｃｌｏａｌｋａｎｅ）エポキシドは、シクロアルカン（ｃｙｃｌｏａｌｋａｎｅ）エポキシドと結合しない‘アルキル’の他の部分が結合位置であることを意味する。

一方、前記反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンは、上述した反応性作用基以外に炭素数１～３０の直鎖または分枝鎖のアルキル基、炭素数６～３０の シクロアルキル基および炭素数６～３０のアリール基からなる群より選択された１種以上の非反応性作用基を１つ以上さらに含むことができる。このように前記ポリシルセスキオキサンに反応性作用基と非反応性作用基が表面に置換されることによって、前記反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンでシロキサン結合（－Ｓｉ－Ｏ－）が分子内部に位置しながら外部に露出しないようになり、前記光硬化性コーティング組成物の光硬化時に形成される塗膜やバインダー樹脂の耐アルカリ性をより高めることができる。特に、前記ポリシルセスキオキサンに反応性作用基と共に導入される非反応性作用基が炭素数６以上、または炭素数６～３０の直鎖または分枝鎖のアルキル基または炭素数６～３０のシクロアルキル基の場合、塗膜やバインダー樹脂の耐アルカリ性を向上させる効果がより高くなる。

一方、前記ポリシルセスキオキサンは（ＲＳｉＯ_１．５）_ｎで表記され（ここで、ｎは４～３０または８～２０）、ランダム、はしご型、ケージ（ｃａｇｅ）および部分ケージなどの多様な構造を有することができる。

ただし、前記一実施形態の前記光硬化性コーティング組成物から製造される低屈折層および反射防止フィルムの物性および品質を高めるために、前記反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンで反応性作用基が１つ以上置換され、ケージ（ｃａｇｅ）構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサン（Ｐｏｌｙｈｅｄｒａｌ Ｏｌｉｇｏｍｅｒｉｃ Ｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）を使用することができる。

また、より好ましくは、前記作用基が１つ以上置換され、ケージ（ｃａｇｅ）構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサンは、分子中にシリコン８～２０個を含むことができる。

前記反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンのシリコンのうちの少なくとも１つ以上または全体に上述した反応性作用基が置換されることができ、また、前記反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンのシリコンのうちの少なくとも１つ以上には反応性作用基が置換されることができ、反応性作用基が置換されないシリコンには上述した非反応性作用基が置換されることもできる。

前記反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンのシリコンのうちの少なくとも一つに反応性作用基が置換されることによって、前記光硬化性コーティング組成物の光硬化時に形成される塗膜やバインダー樹脂の機械的物性を向上させることができ、同時に残りシリコンに非反応性作用基が置換されることによって分子構造的に立体障害（Ｓｔｅｒｉｃ ｈｉｎｄｒａｎｃｅ）が現れて、シロキサン結合（－Ｓｉ－Ｏ－）が外部に露出する頻度や確率を大きく低くして、前記光硬化性コーティング組成物の光硬化時に形成される塗膜やバインダー樹脂の耐アルカリ性を向上させることができる。

より具体的に、前記ポリシルセスキオキサンに反応性作用基および非反応性作用基が共に置換される場合、前記ポリシルセスキオキサンに置換された非作用性反応基対比反応性作用基のモル比（ｍｏｌａｒ ｒａｔｉｏ）が０．２０以上、または０．３以上であることができ、または０．２０～６、または０．３～４、または０．４～３であることができる。前記ポリシルセスキオキサンに置換される反応性作用基および非反応性作用基の間の比率が前記範囲の場合、前記ポリシルセスキオキサン分子で立体障害が極大化され、そのため、シロキサン結合（－Ｓｉ－Ｏ－）が外部に露出する頻度や確率をより大きく低くすることができ、前記光硬化性コーティング組成物の光硬化時に形成される塗膜やバインダー樹脂の機械的物性や耐アルカリ性がより向上することができる。

そして、前記ポリシルセスキオキサンに反応性作用基および非反応性作用基が共に置換される場合、前記ポリシルセスキオキサンに置換された非作用性反応基対比反応性作用基のモル比（ｍｏｌａｒ ｒａｔｉｏ）を満足した状態で、前記反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンのシリコンの１００ｍｏｌ％が反応性作用基および非作用性反応基で置換されることができる。

一方、前記反応性作用基が１つ以上置換され、ケージ（ｃａｇｅ）構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサン（Ｐｏｌｙｈｅｄｒａｌ Ｏｌｉｇｏｍｅｒｉｃ Ｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ、ＰＯＳＳ）の例としては、ＴＭＰ ＤｉｏｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｄｉｏｌ Ｉｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、１，２－ＰｒｏｐａｎｅｄｉｏｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ｏｃｔａ（３－ｈｙｄｒｏｘｙ－３ ｍｅｔｈｙｌｂｕｔｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｏｘｙ）ＰＯＳＳなどアルコールが１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＡｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、ＡｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌＩｓｏｏｃｔｙｌ ＰＯＳＳ、ＡｍｉｎｏｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ｎ－Ｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ ＰＯＳＳ、Ｎ－Ｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ Ｉｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、ＯｃｔａＡｍｍｏｎｉｕｍ ＰＯＳＳ、ＡｍｉｎｏｐｈｅｎｙｌＣｙｃｌｏｈｅｘｙｌ ＰＯＳＳ、ＡｍｉｎｏｐｈｅｎｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳなどアミンが１つ以上置換されたＰＯＳＳ；Ｍａｌｅａｍｉｃ Ａｃｉｄ－Ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ ＰＯＳＳ、Ｍａｌｅａｍｉｃ Ａｃｉｄ－Ｉｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ｏｃｔａ Ｍａｌｅａｍｉｃ Ａｃｉｄ ＰＯＳＳなどカルボン酸が１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＥｐｏｘｙＣｙｃｌｏｈｅｘｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ｅｐｏｘｙｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ ＰＯＳＳ、Ｇｌｙｃｉｄｙｌ ＰＯＳＳ、ＧｌｙｃｉｄｙｌＥｔｈｙｌ ＰＯＳＳ、ＧｌｙｃｉｄｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、ＧｌｙｃｉｄｙｌＩｓｏｏｃｔｙｌ ＰＯＳＳなどエポキシドが１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＰＯＳＳ Ｍａｌｅｉｍｉｄｅ Ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ、ＰＯＳＳ Ｍａｌｅｉｍｉｄｅ Ｉｓｏｂｕｔｙｌなどイミドが１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＡｃｒｙｌｏＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅＣｙｃｌｏｈｅｘｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅ Ｉｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅ Ｅｔｈｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌＥｔｈｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅ Ｉｓｏｏｃｔｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌＩｓｏｏｃｔｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌＰｈｅｎｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌ ＰＯＳＳ、Ａｃｒｙｌｏ ＰＯＳＳなど（メタ）アクリレートが１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＣｙａｎｏｐｒｏｐｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳなどのニトリル基が１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＮｏｒｂｏｒｎｅｎｙｌｅｔｈｙｌＥｔｈｙｌ ＰＯＳＳ、ＮｏｒｂｏｒｎｅｎｙｌｅｔｈｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ｎｏｒｂｏｒｎｅｎｙｌｅｔｈｙｌ ＤｉＳｉｌａｎｏＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ｔｒｉｓｎｏｒｂｏｒｎｅｎｙｌ Ｉｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳなどノルボルネン基が１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＡｌｌｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、ＭｏｎｏＶｉｎｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、ＯｃｔａＣｙｃｌｏｈｅｘｅｎｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ ＰＯＳＳ、ＯｃｔａＶｉｎｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ ＰＯＳＳ、ＯｃｔａＶｉｎｙｌ ＰＯＳＳなどビニル基が１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＡｌｌｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、ＭｏｎｏＶｉｎｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、ＯｃｔａＣｙｃｌｏｈｅｘｅｎｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ ＰＯＳＳ、ＯｃｔａＶｉｎｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ ＰＯＳＳ、ＯｃｔａＶｉｎｙｌ ＰＯＳＳなどのオレフィンが１つ以上置換されたＰＯＳＳ；炭素数５～３０のＰＥＧが置換されたＰＯＳＳ；またはＭｅｒｃａｐｔｏｐｒｏｐｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳまたはＭｅｒｃａｐｔｏｐｒｏｐｙｌＩｓｏｏｃｔｙｌ ＰＯＳＳなどのチオール基が１つ以上置換されたＰＯＳＳ；などが挙げられる。

一方、前記一実施形態の光硬化性を有するコーティング組成物は、光反応性作用基を含むフッ素系化合物を含むことができる。前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物が含まれることによって、前記光硬化性を有するコーティング組成物から製造される低屈折層および反射防止フィルムは、より低い反射率および向上した透光率を有することができ、かつ耐アルカリ性および耐スクラッチ性をより高めることができる。

前記フッ素系化合物には１つ以上の光反応性作用基を含みまたは置換することができ、前記光反応性作用基は光の照射によって、例えば可視光線または紫外線の照射によって重合反応に参加できる作用基を意味する。前記光反応性作用基は、光の照射によって重合反応に参加できる公知の多様な作用基を含むことができ、その具体的な例としては、（メタ）アクリレート基、エポキシ基、ビニル（Ｖｉｎｙｌ）基またはチオール（Ｔｈｉｏｌ）基が挙げられる。

前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物は、１～２５重量％のフッ素含有量を有することができる。前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物でフッ素の含有量が小さすぎれば、前記一実施形態の光硬化性を有するコーティング組成物から得られる最終結果物の表面にフッ素成分が十分に配列されなくて耐アルカリ性などの物性を十分に確保し難いこともある。また、前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物でフッ素の含有量が大きすぎれば、前記一実施形態の光硬化性を有するコーティング組成物から得られる最終結果物の表面特性が低下したり、最終結果物を得るための後段工程中に不良品発生率が高くなることができる。一方、反射防止フィルムが適用された最終製品（例えば、ＴＶやモニターなど）を生産するための後段工程中に発生できる剥離帯電圧による問題点を最小化するために、前記低屈折層は、１重量％～２５重量％のフッ素含有量を有する光反応性作用基を含むフッ素系化合物を含むことができる。

前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物は、ケイ素またはケイ素化合物をさらに含むことができる。つまり、前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物は、選択的に内部にケイ素またはケイ素化合物を含むことができ、具体的に、前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物中のケイ素の含有量は０．１重量％～２０重量％でありうる。

前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物に含まれるケイ素は、前記実施形態の光硬化性を有するコーティング組成物から得られた低屈折層にヘイズ（ｈａｚｅ）が発生するのを防止して透明度を高める役割をする。一方、前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物中のケイ素の含有量が大きすぎれば、前記実施形態の光硬化性を有するコーティング組成物から得られた低屈折層が有する耐アルカリ性が低下できる。

前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物は２，０００～２００，０００の重量平均分子量（ＧＰＣ法によって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量）を有することができる。前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物の重量平均分子量が小さすぎれば、前記実施形態の光硬化性を有するコーティング組成物から得られた低屈折層が十分な耐アルカリ特性を有さないこともある。また、前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物の重量平均分子量が大きすぎれば、前記実施形態の光硬化性を有するコーティング組成物から得られた低屈折層が十分な耐久性や耐スクラッチ性を有さないこともある。

具体的に、前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物は、ｉ）一つ以上の光反応性作用基が置換され、少なくとも一つの炭素に１以上のフッ素が置換された脂肪族化合物または脂肪族環化合物；ｉｉ）１以上の光反応性作用基で置換され、少なくとも一つの水素がフッ素で置換され、一つ以上の炭素がケイ素で置換されたヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族化合物またはヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族環化合物；ｉｉｉ）一つ以上の光反応性作用基が置換され、少なくとも一つのシリコンに１以上のフッ素が置換されたポリジアルキルシロキサン系高分子（例えば、ポリジメチルシロキサン系高分子）；ｉｖ）１以上の光反応性作用基で置換され、少なくとも一つの水素がフッ素で置換されたポリエーテル化合物、または前記ｉ）乃至ｉｖ）の中から２以上の混合物またはこれらの共重合体が挙げられる。

前記光硬化性を有するコーティング組成物は、前記光重合性化合物１００重量部に対して、前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物１～７５重量部を含むことができる。前記光重合性化合物対比前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物が過剰で添加される場合、前記実施形態の光硬化性を有するコーティング組成物のコーティング性が低下したり、前記実施形態の光硬化性を有するコーティング組成物から得られた低屈折層が十分な耐久性や耐スクラッチ性を有さないこともある。また、前記光重合性化合物対比前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物の量が少なすぎれば、前記実施形態の光硬化性を有するコーティング組成物から得られた低屈折層が十分な耐アルカリ特性を有さないこともある。

一方、前記光重合性化合物は、（メタ）アクリレートまたはビニル基を含む単量体またはオリゴマーを含むことができる。具体的に、前記光重合性化合物は（メタ）アクリレートまたはビニル基を１つ以上、または２つ以上、または３つ以上含む単量体またはオリゴマーを含むことができる。

前記（メタ）アクリレートを含む単量体またはオリゴマーの具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサエチルメタクリレート、ブチルメタクリレートまたはこれらの２種以上の混合物や、またはウレタン変性アクリレートオリゴマー、エポキシドアクリレートオリゴマー、エーテルアクリレートオリゴマー、デンドリティックアクリレートオリゴマー、またはこれらの２種以上の混合物が挙げられる。この時、前記オリゴマーの分子量は１，０００～１０，０００であるのが好ましい。

前記ビニル基を含む単量体またはオリゴマーの具体的な例としては、ジビニルベンゼン、スチレンまたはパラメチルスチレンが挙げられる。

前記光硬化性を有するコーティング組成物中の前記光重合性化合物の含有量が特に限定されるものではないが、最終製造される低屈折層や反射防止フィルムの機械的物性などを考慮して、前記光硬化性を有するコーティング組成物の固形分中、前記光重合性化合物の含有量は２０重量％～８０重量％でありうる。前記光硬化性を有するコーティング組成物の固形分は、前記光硬化性を有するコーティング組成物中の液状成分、例えば、後述するように選択的に含まれることができる有機溶媒などの成分を除いた固体成分だけを意味する。

一方、前記光重合性化合物は、上述した単量体またはオリゴマー以外にフッ素系（メタ）アクリレート系化合物をさらに含むことができる。前記フッ素系（メタ）アクリレート系化合物をさらに含む場合、前記（メタ）アクリレートまたはビニル基を含む単量体またはオリゴマーに対する前記フッ素系（メタ）アクリレート系化合物の重量比は０．１％～１０％でありうる。

前記フッ素系（メタ）アクリレート系化合物の具体的な例としては、下記の化学式１１乃至１５からなる群より選択される１種以上の化合物が挙げられる。

前記化学式１１において、Ｒ^１は水素基または炭素数１～６のアルキル基であり、ａは０～７の整数であり、ｂは１～３の整数である。

前記化学式１２において、ｃは１～１０の整数である。

前記化学式１３において、ｄは１～１１の整数である。

前記化学式１４において、ｅは１～５の整数である。

前記化学式１５において、ｆは４～１０の整数である。

前記光硬化性を有するコーティング組成物は無機微細粒子を含むことができ、低屈折層または反射防止フィルムの特性などを考慮して、通常知られている無機微細粒子を含むことができる。この時、無機微細粒子は、ナノメートルまたはマイクロメートル単位の直径を有する無機粒子を意味する。

具体的に、前記無機微細粒子は、１０～１００ｎｍの数平均粒径を有する中空シリカ粒子でありうる。前記中空シリカ粒子は、粒子の表面および／または内部に空の空間が存在するシリカ粒子を意味する。前記中空シリカ粒子は、中実粒子に比べて低い屈折率を有して優れた反射防止特性を示すことができる。

前記中空シリカ粒子は、数平均粒径が１０～１００ｎｍ、好ましくは２０～７０ｎｍ、より好ましくは３０～７０ｎｍであり、粒子形状は球状であるのが好ましいが、不定形でも構わない。

また、前記中空型無機ナノ粒子としては、その表面がフッ素系化合物でコーティングされたものを単独で使用したり、フッ素系化合物で表面がコーティングされない中空型無機ナノ粒子と混合して使用することができる。前記中空型無機ナノ粒子の表面をフッ素系化合物でコーティングすれば、表面エネルギーをより低くすることができ、これによって、前記実施形態の光硬化性を有するコーティング組成物内で前記中空型無機ナノ粒子がより均一に分布でき、前記光硬化性を有するコーティング組成物から得られるフィルムの耐久性や耐スクラッチ性をより高めることができる。

前記中空型無機ナノ粒子の表面にフッ素系化合物をコーティングする方法として通常知られている粒子コーティング方法や重合方法などを特に制限なしに使用することができ、例えば、前記中空型無機ナノ粒子およびフッ素系化合物を水と触媒の存在下でゾル－ゲル反応させて、加水分解および縮合反応を通して前記中空型無機ナノ粒子の表面にフッ素系化合物を結合させることができる。

そして、前記中空シリカ粒子は、所定の分散媒に分散させたコロイド状で組成物に含まれることができる。前記中空シリカ粒子を含むコロイド状は、分散媒に有機溶媒を含むことができる。

この時、前記中空シリカは、前記有機溶媒により容易に分散されるために表面に置換された所定の作用基を含むことができる。前記中空シリカ粒子表面に置換可能な有機作用基の例は、特に限定されないが、例えば（メタ）アクリレート基、ビニル基、ヒドロキシ基、アミン基、アリル（ａｌｌｙｌ）基、エポキシ基、ヒドロキシ基、イソシアネート基、アミン基、またはフッ素などが前記中空シリカの表面に置換されることができる。

前記中空シリカ粒子のコロイド状で中空シリカ粒子の固形分含有量は、前記一実施形態の光硬化性を有するコーティング組成物中の中空シリカの含有量範囲や前記光硬化性を有するコーティング組成物の粘度などを考慮して決定され、例えば、前記コロイド状のうち、前記中空シリカ粒子の固形分含有量は５重量％～６０重量％でありうる。

ここで、前記分散媒中の有機溶媒としては、メタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、ブタノールなどのアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドンなどのアミド類；酢酸エチル、酢酸ブチル、ガンマブチロラクトンなどのエステル類；テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサンなどのエーテル類；またはこれらの混合物を含むことができる。

前記低屈折層の製造のための光硬化性コーティング組成物は、前記光重合性化合物１００重量部に対して、前記中空シリカ粒子１０～３２０重量部、または５０～２００重量部を含むことができる。前記中空粒子が過剰で添加される場合、バインダーの含有量低下によってコーティング膜の耐スクラッチ性や耐摩耗性が低下することができる。

一方、前記光重合開始剤としては、光硬化性樹脂組成物に用いられるものとして知られている化合物であれば特に制限なしに使用でき、具体的に、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、オキシン系化合物、またはこれらの２種以上の混合物を使用することができる。

前記光重合性化合物１００重量部に対して、前記光重合開始剤は０．１～１００重量部の含有量で使用することができる。前記光重合開始剤の量が少なすぎれば、前記光硬化性を有するコーティング組成物の光硬化段階で未硬化されて残留する物質が発生することができる。前記光重合開始剤の量が多すぎれば、未反応の開始剤が不純物として残留したり架橋密度が低くなって製造されるフィルムの機械的物性が低下したり反射率が非常に高くなることができる。

一方、前記光硬化性コーティング組成物は、有機溶媒をさらに含むことができる。

前記有機溶媒の非制限的な例示として、ケトン類、アルコール類、アセテート類およびエーテル類、またはこれらの２種以上の混合物が挙げられる。

このような有機溶媒の具体的な例としては、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトンまたはイソブチルケトンなどのケトン類；メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｉ－プロパノール、ｎ－ブタノール、ｉ－ブタノール、またはｔ－ブタノールなどのアルコール類；酢酸エチル、ｉ－プロピルアセテート、またはポリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのアセテート類；テトラヒドロフランまたはプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類；またはこれらの２種以上の混合物が挙げられる。

前記有機溶媒は、前記光硬化性を有するコーティング組成物に含まれる各成分を混合する時期に添加されたり各成分が有機溶媒に分散または混合された状態で添加されながら、前記光硬化性を有するコーティング組成物に含まれることができる。前記光硬化性を有するコーティング組成物中の有機溶媒の含有量が少なすぎれば、前記光硬化性を有するコーティング組成物の流れ性が低下して、最終製造されるフィルムに縞模様が生じるなど不良が発生することができる。また、前記有機溶媒の過剰添加時に固形分含有量が低くなり、コーティングおよび成膜が十分に行われなくてフィルムの物性や表面特性が低下することができ、乾燥および硬化過程で不良が発生することができる。したがって、前記光硬化性を有するコーティング組成物は、含まれる成分の全体固形分の濃度が１～５０重量％、または２～２０重量％となるように有機溶媒を含むことができる。

一方、前記反射防止フィルムは、前記ハードコーティング組成物を基材の一面に塗布し乾燥、光硬化を経た後、低屈折層形成用光硬化性コーティング組成物を前記形成されたハードコーティング層上に塗布し、塗布された結果物を光硬化することによって得ることができる。この時、前記ハードコーティング層は半硬化することができ、低屈折層を硬化の際、最終硬化される方法が最も望ましい。

前記基材の具体的な種類や厚さは特に限定されるものではなく、低屈折層または反射防止フィルムの製造に使用されるものとして知られている基材を特に制限なしに使用することができる。例えば、前記基材として、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセチルプロピルセルロースフィルム、アセチルブチルセルロースフィルムのようなセルロースフィルム；ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルムのようなポリエステルフィルム；ポリビニルアセテートフィルム；ポリカーボネートフィルム；ポリスルホンフィルム；ポリアクリールフィルム；ポリアミドフィルム；ポリスチレンフィルム；または位相差フィルムなどが用いられるが、これに限定されるものではない。

前記光硬化性コーティング組成物を塗布するために、通常使用される方法および装置を何らの制限なく使用することができ、例えば、Ｍｅｙｅｒ ｂａｒなどのバーコーティング法、グラビアコーティング法、２ ｒｏｌｌ ｒｅｖｅｒｓｅコーティング法、ｖａｃｕｕｍ ｓｌｏｔ ｄｉｅコーティング法、２ ｒｏｌｌコーティング法などを使用することができる。

前記光硬化性を有するコーティング組成物を光硬化させる段階では、２００～４００ｎｍ波長の紫外線または可視光線を照射することができ、照射時の露光量は１００～４，０００ｍＪ／ｃｍ^２が望ましい。露光時間も特に限定されるものではなく、用いられる露光装置、照射光線の波長または露光量により適切に変化させることができる。

また、前記光硬化性を有するコーティング組成物を光硬化させる段階では、開始剤が酸素によって分解されるのを防止するために窒素パージングなどを行うことができる。

一方、最終乾燥された前記ハードコーティング層は、５μｍ超過１０μｍ未満の厚さを有することができる。前記ハードコーティング層の厚さが５μｍ以下であれば、有機粒子あるいは無機粒子が凝集して反射防止フィルムの表面上に高さが高く、かつ不規則に分布するピークが存在することがあり、前記ハードコーティング層の厚さが１０μｍ以上であれば、コーティング層が厚くて、コーティングフィルムの取扱い時にクラックが発生しやすいという短所がある。この時、低屈折層は１ｎｍ～３００ｎｍ、または５０ｎｍ～２００ｎｍの厚さを有することができる。上述した範囲でハードコーティング層および低屈折層の厚さを調整することによって、特定範囲の粗さ尖度（Ｒｋｕ）およびスウェディッシュ高さ（Ｈ）が実現可能で、反射防止フィルムの防眩機能を維持しながらもイメージの鮮明度を高めることができる。

一方、本発明の他の実施形態によれば、上述した反射防止フィルムを含むディスプレイ装置が提供され得る。

前記ディスプレイ装置は、互いに対向する一対の偏光板；前記一対の偏光板の間に順次積層された薄膜トランジスター、カラーフィルターおよび液晶セル；およびバックライトユニットを含む液晶ディスプレイ装置でありうる。

図１ａおよび図１ｂに、それぞれ本発明の一実施例による反射防止フィルムが具備された一般のＴＦＴディスプレイ装置およびＣＯＴパネルディスプレイ装置の概略的な構造を示した。また、図１ａおよび図１ｂに示す構造の代わりに、偏光板およびバックライトユニットの間に前記反射防止フィルムが具備された構造も可能である。

本発明によれば、高解像度ディスプレイに適用の際、スパークリング現象が少なく視認性に優れ、ディスプレイ製作時に作業性に優れた反射防止フィルムと優れた外部ブラック視感および明暗比などの光特性および高い画面の鮮明度を提供するディスプレイ装置が提供され得る。

前記反射防止フィルムは、高解像度ディスプレイに適用されてパネル不良隠蔽力が高く、反射防止性能と視認性に優れた特性を提供することができる。特に、パネル内部の反射率の高いＣＯＴパネルに適用して反射防止性能を発現することができる。

実施例１の反射防止フィルムが設けられた一般のＴＦＴディスプレイ装置の断面を概略的に示した図である。 実施例１の反射防止フィルムが設けられたＣＯＴパネルディスプレイ装置の断面を概略的に示した図である。 実施例３で製造されたハードコーティング層表面の光学顕微鏡写真（反射モード、倍率：１０倍）である。 実施例４で製造されたハードコーティング層表面の光学顕微鏡写真（反射モード、倍率：１０倍）である。 実施例１で製造された反射防止フィルム表面の光学顕微鏡写真（反射モード、倍率：２０倍）である。 比較例４で製造された反射防止フィルム表面の光学顕微鏡写真（反射モード、倍率：１０倍）である。

本発明の具体的な実施形態を下記実施例でより詳細に説明する。但し、下記実施例は、本発明の具体的な実施形態を例示するためのものであって、本発明の具体的な実施形態の内容が下記実施例によって限定されるものではない。

<製造例：ハードコーティング組成物および低屈折層形成用光硬化性コーティング組成物の製造>
（１）ハードコーティング組成物の製造
下記表１の成分を均一に混合してハードコーティング組成物を製造した。表１で使用されているすべての成分の含有量はｇ単位で示した。また、下記表１で粒子の総和は、有機微粒子および無機ナノ粒子の和を意味する。

１）ＰＥＴＡ：Ｐｅｎｔａｅｒｙｔｈｒｉｔｏｌ ｔｒｉａｃｒｙｌａｔｅ（分子量２９８ｇ／ｍｏｌ）
２）ＴＭＰＴＡ：Ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｏｌｐｒｏｐａｎｅ ｔｒｉａｃｒｙｌａｔｅ（分子量２９６ｇ／ｍｏｌ）
３）８ＢＲ－５００：ウレタン系アクリルオリゴマー、分子量２５０，０００ｇ／ｍｏｌ、Ｔａｉｓｅｉ Ｆｉｎｅ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製品。
４）ＵＡ－３０６Ｔ：ウレタン系アクリルオリゴマー、分子量１，０００ｇ／ｍｏｌ、ｋｙｏｅｉｓｈａ社製品。
５）Ｉ１８４（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４）：光開始剤、Ｃｉｂａ社製品。
６）ＢＹＫ－３００：レベリング剤、Ｔｅｇｏ社製品。
７）ＩＰＡ（Ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）
８）ＥｔＯＨ（Ｅｔｈｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）
９）微粒子１：体積平均粒径２μｍであり、屈折率が１．５５５である球状有機微粒子のアクリル－スチレン共重合樹脂、Ｔｅｃｈｐｏｌｙｍｅｒ、Ｓｅｋｉｓｕｉ Ｐｌａｓｔｉｃ社製品。
１０）シリカ１：体積平均粒径１００ｎｍのシリカ粒子、Ｘ２４－９６００Ａ、Ｓｈｉｎｅｔｓｕ社製品。
１１）シリカ２分散液：メタノールに３０ｗｔ％の比率で分散した体積平均粒径１２ｎｍのナノシリカの分散液、ＭＡ－ＳＴ、Ｎｉｓｓａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製品。

（２）低屈折層形成用光硬化性コーティング組成物の製造
前記表２の成分を混合し、ＭＩＢＫ（ｍｅｔｈｙｌ ｉｓｏｂｕｔｙｌ ｋｅｔｏｎｅ）およびジアセトンアルコール（ＤＡＡ）の１：１混合溶液（重量比）に固形分が５ｗｔ％となるように希釈して、低屈折層形成用光硬化性コーティング組成物を製造した。表２で使用されているすべての成分の含有量はｇ単位で示した。

１）ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、分子量５２４．５１ｇ／ｍｏｌ、Ｋｙｏｅｉｓｈａ社製品。
２）ＴＨＲＵＬＹＡ ４３２０：中空シリカ分散液、ＭＩＢＫ溶媒中の固形分２０ｗｔ％、日揮触媒化成社製品。
３）ＲＳ９０７：光反応性作用基を含むフッ素系化合物、ＭＩＢＫ溶媒中の固形分３０重量％で希釈、ＤＩＣ社製品。
４）ＥＰ０４０８：ポリシルセスキオキサン、Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ社製品

<実施例および比較例：反射防止フィルムの製造>
下記表３に示されているように、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムにＭｅｙｅｒ Ｂａｒで前記製造例でそれぞれ製造されたハードコーティング組成物を塗布し、９０℃で１分間乾燥した後、１５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射してハードコーティング層を製造した。

以後、前記製造例でそれぞれ製造された低屈折層製造用樹脂組成物をＭｅｙｅｒ Ｂａｒ＃３でハードコーティング層上に塗布し、９０℃で１分間乾燥した。そして、窒素パージング下で、前記乾燥物に１８０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して１１０ｎｍの厚さを有する低屈折層を形成することによって、眩しさ／反射防止フィルムを製造した。

<実験例：ハードコーティング層および反射防止フィルムの物性測定>
前記製造されたハードコーティング層の物性およびこれを含む反射防止フィルムの物性を下記の方法により測定し、これを表４に示した。

１．ハードコーティング層の表面分析
実施例３および４で製造されたハードコーティング層の表面を分析するために、ハードコーティング層が形成されたフィルムの裏面に黒色フィルムを接着させた後、ハードコーティング層の表面が光学顕微鏡（ＢＸ－５１、Ｏｌｙｍｐｕｓ社製）の対物レンズ側に向かうように載せた後、対物レンズの倍率を１０倍に設定して前記ハードコーティング層の表面を測定した。測定した光学顕微鏡写真を図２および図３にそれぞれ示した。

図２および図３を参照すれば、実施例３および４を通して製造されたハードコーティング層の表面の凹凸形状は、ピークの高さが低く、かつバレーは浅く、広く広がっている構造を有することが分かる。また、ハードコーティング層の厚さが厚くて、粒子が凝集して形成された突起のような凹凸が存在しないだけでなく、ピークの大きさが小さく、高さも低くて比較的に均一な凹凸の大きさ分布を示すことを確認できる。

２．反射防止フィルムの透光度、内部ヘイズおよび外部ヘイズの測定
反射防止フィルムの総ヘイズは、内部ヘイズと外部ヘイズとの和であり、次の方法で総ヘイズおよび内部ヘイズを測定した後、外部ヘイズは、総ヘイズから内部ヘイズを引くことで求められる。具体的に、ヘイズ測定器（ＨＭ－１５０、Ａ光源、村上色彩技術研究所社製）を使用して、ＪＩＳ Ｋ ７３６１規格によって透過度を３回測定し、ＪＩＳ Ｋ ７１０５規格によってヘイズを３回測定した後、それぞれの平均値を計算して透光度と総ヘイズを求めた。また、製造されたコーティング層の表面を扁平にするために、ヘイズが０である接着剤を表面に貼り付けて外部凹凸が接着剤に埋められるようにした後、前記ヘイズ測定器でヘイズを３回測定した後、平均値を計算して内部ヘイズを求めた。以降、求められた総ヘイズ値から内部ヘイズ値を引いて外部ヘイズを求めた。

３．反射防止フィルムの粗さ尖度（Ｒｋｕ）およびスウェディッシュ高さ（Ｈ）の測定
表面凹凸の粗さ尖度およびスウェディッシュ高さは、白色光３次元光学干渉プロファイラー（３Ｄ ｏｐｔｉｃａｌ ｐｒｏｆｉｌｅｒ、モデル名：ＮｅｗＶｉｅｗ７３００、Ｚｙｇｏ社製）装備を利用して測定する。この時、使用するレンズ倍率は１０倍、０．５倍ズーム測定条件にして１．４０×１．０５ｍｍ^２領域を測定した。

製造された反射防止フィルムをサンプルステージに平らな状態にのせて、ｏｐｔｉｃａｌ ｐｒｏｆｉｌｅｒイメージを得た後、分析を進行した。分析以降、前記一般式１による粗さ尖度およびスウェディッシュ高さを計算した。

４．反射防止フィルムの平均反射率測定
ＳＨＩＭＡＤＺＵ社のＳｏｌｉｄＳｐｅｃ ３７００を利用して平均反射率を測定した。

具体的に、反射防止フィルムのハードコーティング層が形成されない面に光が透過しないようにブラックテープ（Ｖｉｎｙｌ ｔａｐｅ４７２ Ｂｌａｃｋ、３Ｍ社製）を貼り付け、ｓａｍｐｌｉｎｇ ｉｎｔｅｒｖａｌ １ ｎｍ、ｔｉｍｅ ｃｏｎｓｔａｎｔ ０．１ ｓｅｃ、ｓｌｉｔ ｗｉｄｔｈ ２０ｎｍ、ｍｅｄｉｕｍ ｓｃａｎｎｉｎｇ ｓｐｅｅｄで測定条件を固定した後、１００Ｔモードを適用して常温で前記反射防止フィルムに３８０ｎｍ～７８０ｎｍ波長領域の光を照射して測定した。

５．耐スクラッチ性測定
スチールウール（＃００００）に荷重をかけて２７ｒｐｍの速度で１０回往復し、実施例および比較例から得られた反射防止フィルムの表面を擦った。肉眼で観察される１ｃｍ以下のスクラッチが一つ以下となる最大荷重を確認して、耐スクラッチ性を評価した。

６．反射防止フィルムの不良凹凸評価
実施例および比較例で製造された反射防止フィルムの不良凹凸の有無を確認するために、反射防止フィルムのハードコーティング層が形成されない面に光が透過しないようにブラックテープ（Ｖｉｎｙｌ ｔａｐｅ４７２ Ｂｌａｃｋ、３Ｍ社製）を貼り付けた後、光学顕微鏡（ＢＸ－５１、Ｏｌｙｍｐｕｓ社製）を使って反射イメージを撮影した。撮影したイメージの大きさは６４０×４８０ｐｉｘｅｌであり、倍率は１０倍あるいは２０倍の中から選択することができる。光量は、光学顕微鏡上部から出る最大光量の５０％～１００％の範囲内で調整された。

使用されたイメージで反射防止フィルムの表面に存在する干渉斑（レインボウ）の有無を観察して、下記基準により評価した。このような干渉斑（レインボウ）が反射防止フィルムに存在する場合、後続工程で不良画素を誘発できる原因となるため、存在しないのが望ましい。評価結果のうち実施例１および比較例４の反射防止フィルムに対する光学顕微鏡写真をそれぞれ図４および図５に示した。

<測定基準>
×：干渉斑（レインボウ）が存在しない。
△：干渉斑（レインボウ）が１～３個以下に存在する（倍率２０倍基準）。
○：干渉斑（レインボウ）が３個超過して存在する（倍率２０倍基準）。

前記表４からわかるように、同一のハードコーティング層組成物を使っても、ハードコーティング層の厚さが５μｍ以下である反射防止フィルム（比較例１）、ハードコーティング層組成物内に１２ｎｍ直径を有するナノシリカ（無機ナノ粒子）の含有量が高すぎる反射防止フィルム（比較例２乃至４）の場合、本発明の粗さ尖度（Ｒｋｕ）およびスウェディッシュ高さ（Ｈ）の範囲を同時に満足しないことが分かる。

反面、実施例の反射防止フィルムは、３．５超過６未満の粗さ尖度（Ｒｋｕ）および２００ｎｍ未満のスウェディッシュ高さ（Ｈ）を同時に満足しながら、低い外部ヘイズを表すと同時に優れた耐スクラッチ性を確保できることが確認される。

また、光反応性作用基を含むフッ素系化合物および反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンを同時に含まない低屈折層組成を有する参考例１の場合、本発明の粗さ尖度（Ｒｋｕ）およびスウェディッシュ高さ（Ｈ）の範囲は満足するが、実施例に比べて耐スクラッチ性は低下することが分かる。

さらに、図４および５を参照すれば、前記のような物性を有する実施例の反射防止フィルムは、比較例の反射防止フィルムとは異なり、干渉斑（レインボウ）が存在しないので、不良画素が存在しない液晶ディスプレイ装置を実現することができる。

Claims (20)

1. ハードコーティング層；および前記ハードコーティング層に形成された低屈折層；を含み、
   前記ハードコーティング層は、光重合性化合物の（共）重合体を含むバインダー樹脂；および前記バインダー樹脂に分散した０．５～１０μｍの直径を有する有機または無機微粒子；および表面に反応性作用基が置換されていない１ｎｍ～５０ｎｍの直径を有する無機ナノ粒子；を含み、
   前記低屈折層の表面凹凸形状の粗さ尖度（Ｒｋｕ）が３．５超過６未満であり、スウェディッシュ高さ（Ｈ）が２０ｎｍ超過２００ｎｍ未満であり、
   前記低屈折層は、光重合性化合物；光反応性作用基を含むフッ素系化合物；および反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサン（ｐｏｌｙｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）；間の架橋重合体を含むバインダー樹脂と前記バインダー樹脂に分散した無機微細粒子を含み、
   前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物は、ケイ素またはケイ素化合物を含み、
   ３８０ｎｍ～７８０ｎｍ波長領域での透光度が９４％以上である、反射防止フィルム。
2. 前記反射防止フィルムの表面凹凸形状の粗さ尖度（Ｒｋｕ）およびスウェディッシュ高さ（Ｈ）は、非接触表面形状測定器（３Ｄ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｐｒｏｆｉｌｅｒ）を利用して測定した結果である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
3. 前記反射防止フィルムの３８０ｎｍ～７８０ｎｍ波長領域での平均反射率が５％未満である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
4. 前記反射防止フィルムの内部ヘイズが０超過１０％未満である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
5. 前記反射防止フィルムの外部ヘイズが０超過０．５％未満である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
6. 前記ハードコーティング層は、前記光重合性化合物の（共）重合体１００重量部対比前記有機または無機微粒子１～２０重量部を含む、請求項１に記載の反射防止フィルム。
7. 前記ハードコーティング層は、前記有機または無機微粒子および無機ナノ粒子の総重量を基準にして前記１ｎｍ～５０ｎｍの直径を有する無機ナノ粒子３～１０重量％を含む、請求項１に記載の反射防止フィルム。
8. 前記ハードコーティング層は、５０ｎｍ超過１２０ｎｍ以下の直径を有する無機ナノ粒子をさらに含む、請求項７に記載の反射防止フィルム。
9. 前記ポリシルセスキオキサンに置換される反応性作用基は、アルコール、アミン、カルボン酸、エポキシド、イミド、（メタ）アクリレート、ニトリル、ノルボルネン、オレフィン、ポリエチレングリコール、チオールおよびビニル基からなる群より選択された１種以上の作用基を含む、請求項１に記載の反射防止フィルム。
10. 前記反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンは、炭素数１～３０の直鎖または分枝鎖のアルキル基、炭素数６～３０の シクロアルキル基および炭素数６～３０のアリール基からなる群より選択された１種以上の非反応性作用基が１以上さらに置換される、請求項９に記載の反射防止フィルム。
11. 前記反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサンは、反応性作用基が１つ以上置換され、ケージ（ｃａｇｅ）構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサン（Ｐｏｌｙｈｅｄｒａｌ Ｏｌｉｇｏｍｅｒｉｃ Ｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）を含む、請求項１に記載の反射防止フィルム。
12. 前記ケージ（ｃａｇｅ）構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサンのシリコンのうちの少なくとも１つ以上には反応性作用基が置換され、前記反応性作用基が置換されない残りのシリコンには非反応性作用基が置換される、請求項１１に記載の反射防止フィルム。
13. 前記ポリシルセスキオキサンに置換された非作用性反応基対比反応性作用基のモル比（ｍｏｌａｒ ｒａｔｉｏ）が０．２０以上である、請求項１２に記載の反射防止フィルム。
14. 前記光重合性化合物は、（メタ）アクリレートまたはビニル基を含む単量体またはオリゴマーを含む、請求項１に記載の反射防止フィルム。
15. 前記フッ素系化合物に含まれる光反応性作用基は、（メタ）アクリレート基、エポキシ基、ビニル（Ｖｉｎｙｌ）基およびチオール（Ｔｈｉｏｌ）基からなる群より選択された１種以上である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
16. 前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物は、１重量％～２５重量％のフッ素含有量を有し、
    ｉ）一つ以上の光反応性作用基が置換され、少なくとも一つの炭素に１以上のフッ素が置換された脂肪族化合物または脂肪族環化合物；ｉｉ）１以上の光反応性作用基で置換され、少なくとも一つの水素がフッ素で置換され、一つ以上の炭素がケイ素で置換されたヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族化合物またはヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族環化合物；ｉｉｉ）一つ以上の光反応性作用基が置換され、少なくとも一つのシリコンに１以上のフッ素が置換されたポリジアルキルシロキサン系高分子；およびｉｖ）１以上の光反応性作用基で置換され、少なくとも一つの水素がフッ素で置換されたポリエーテル化合物；からなる群より選択された１種以上を含む、請求項１に記載の反射防止フィルム。
17. 前記無機微細粒子は、１０～１００ｎｍの数平均粒径を有する中空シリカ粒子である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
18. 前記低屈折層は、前記光重合性化合物１００重量部に対して前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物１～７５重量部、前記反応性作用基が１以上置換されたポリシルセスキオキサン（ｐｏｌｙｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）０．５～２５重量部および前記無機微細粒子１０～３２０重量部を含む、請求項１に記載の反射防止フィルム。
19. 前記ハードコーティング層は５μｍ超過１０μｍ未満の厚さを有し、
    前記低屈折層は１ｎｍ～３００ｎｍの厚さを有する、請求項１に記載の反射防止フィルム。
20. 請求項１乃至１９のいずれか一項に記載の反射防止フィルムを含む、ディスプレイ装置。

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