JP2009230045A - 反射防止積層体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光透過性基材と、該光透過性基材上にモスアイ構造を有する反射防止層を備えてなる反射防止積層体であって、前記光透過性基材と前記反射防止層との屈折率の絶対値の差が0以上0.10以下である、反射防止積層体により達成される。
【選択図】なし
Description
よって、本発明は、光透過性基材と、該光透過性基材上にモスアイ構造を有する反射防止層を備えてなる反射防止積層体であって、
前記光透過性基材と前記反射防止層との屈折率の差の絶対値が0以上0.10以下であるものである。
また、本発明の別の態様によれば、前記光透過性基材と前記反射防止層の間に、ハードコート層及び/又は光学機能層をさらに備えてなる反射防止積層体であって、
反射防止積層体を構成する前記基材及び各層における屈折率の差の絶対値が、0以上0.10以下であるものを提供することができる。
本願において使用される以下の用語について説明する。
モスアイ構造
「モスアイ構造」とは、物質の表面に入射電磁波の波長以下の構造を有する突起体が密集した結果、その表面の反射率が低減された構造をいう。具体的には、ナノメーターオーダーの凹凸形状が均一配置された構造を有する。この構造は、ある種の蛾の眼構造に似ていることから、「蛾の目」という意味でモスアイ(moth-eye)構造と呼ばれている。
反射Y値は、JIS Z8722で定義されるものであり、島津製作所製 MPC3100分光光度計にて、5°正反射率を380〜780nmまでの波長範囲で測定し、その後、人間が目で感じる明度として換算するソフト(MPC3100内蔵)で算出される、視感反射率を示す値である。なお、5°正反射率を測定する場合には、反射防止積層体の裏面反射を防止するため、測定膜面とは逆側に、黒テープ(寺岡製作所製)を貼って測定する。
ヘイズ値は、JIS K−7136に従って測定することができる。測定に使用する機器としては、反射・透過率計HM−150(村上色彩技術研究所)が挙げられる。反射防止積層体の全光線透過率は、JIS K−7361に従って、ヘイズ値と同じ測定器で測定できる。本発明にあっては、反射防止層のモスアイ構造を平坦にし、モスアイ構造による表面凹凸によるヘイズをもたない、内部ヘイズだけを持つ状態となる。このヘイズを、内部ヘイズ(Hi)として求めることができる。そして、内部ヘイズ(Hi)を、元の反射防止積層体のヘイズ(全体ヘイズ(Ha))から差し引いた値が、モスアイ構造における表面凹凸だけに起因するヘイズ、即ち表面ヘイズ(Hs)として求めることができる。
60度グロスは、JIS Z8741により、精密光沢計(社村上色彩研究所製 GM−26D)を用いて測定可能である。測定は、サンプルの裏面反射の影響を除去するため、サンプルの裏面と測定器の黒蓋を両面テープ(寺岡製作所製)で貼り付けた状態で行う。透過鮮明度は、写像性測定器(スガ試験機社、品番;「ICM−1DP」)を用いて、JIS K7105に準拠し、5種類の光学櫛(0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mmおよび2mm)で測定した数値の合計をもって表す。
樹脂
モノマー、オリゴマー、プレポリマーなどの硬化性樹脂前駆体を、特別な記載がない限り、総称して「樹脂」という。
1.特徴
本発明による反射防止積層体は、光透過性基材と、該光透過性基材上にモスアイ構造を有する反射防止層を備えてなり、前記光透過性基材と前記反射防止層との屈折率の差の絶対値が0以上0.10以下であり、好ましくは下限値が0以上であり上限値が0.08以下であり、より好ましくは上限値が0.06以下である。
1)反射防止層の凸部位の高さ
反射防止層におけるモスアイ構造(凹凸形状)の凸部位の高さは100nm以上1400nm以下であり、好ましくは下限値が120以上であり上限値が1000nm以下であり、より好ましくは下限値が150nm以上であり上限値が750nm以下である。凸部位の高さ測定は、凸部位の裾の部位を基本面とし、その垂直方向において凸部位の最高到達点までの距離を測定して定めることができる。
本発明における反射防止積層体は、反射防止層におけるモスアイ構造(凹凸形状)の凹凸の平均間隔をSmとし、凹凸部の平均傾斜角をθaとし、凹凸の平均粗さをRzとした場合に、下記数値を満たすものが好ましい。本発明の好ましい態様では、Sm、θa及びZmの各値を下記数値範囲にすることにより、コントラスト、黒色再現性をより高い次元において実現するが可能となる。
Smは100nm以上300nm以下であり、好ましくは下限値が120nm以上であり、上限値が280nm以下であり、より好ましくは下限値が150nm以上であり、上限値が250nm以下である。
θaは15度以上40度以下であり、好ましくは下限値が20度以上であり、上限値が35度以下である。
Rzは100nm超過1000nm以下であり、好ましくは下限値が200nm以上であり、好ましくは上限値が600nm以下であり、より好ましくは下限値が250nm以上であり、上限値が450nm以下である。
本発明における反射防止積層体は、その全ヘイズ値をHa、その内部ヘイズ値をHi、その表面ヘイズ値をHsと定義した場合に、下記数値を全て満たすものである。
Haが0%超過90%未満であり、好ましくは、下限が0.3%以上であり、好ましくは3%以上であり、上限が85%以下であり、より好ましくは70%以下である。
Hiが0%超過90%未満であり、好ましくは、下限が0.1%以上であり、好ましくは1.0%以上であり、上限が85%以下、好ましくは70%以下であり、より好ましくは55%以下である。
Hsが0.1以上6.0未満であり、好ましくは、下限が0.3以上であり上限が5%以下である。
本発明にあっては、光透過性基材の上に、モスアイ構造(凹凸形状)が形成された反射防止層を形成してなる。反射防止層の厚さは、0.45μm以上30μm以下であり、好ましくは下限が1μm以上であり上限20μm以下であり、より好ましくは下限が3μm以上であり上限15μm以下である。
本発明による反射防止層は樹脂により形成することができる。硬化型樹脂としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂(熱可塑性樹脂など、塗工時に固形分を調製するための溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂)との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。
(メタ)アクリレート系化合物以外の例としては、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等の単官能または多官能単量体、あるいはビスフェノール型エポキシ化合物、ノボラック型エポキシ化合物、芳香族ビニルエーテル、脂肪族ビニルエーテル等のオリゴマー、プレポリマー等のカチオン重合性官能基を有する化合物が挙げられる。
本発明の反射防止層用組成物には、フッ素系またはシリコーン系等のレベリング剤を添加してもよい。レベリング剤を添加した反射防止層用組成物は、耐汚染性、耐擦傷性の効果を付与することを可能とする。
反射防止層は、型押し法、射出形成法、キャスティング法等を用いて、上記した樹脂(必要に応じて添加剤)を、微細な凹凸形状を反転させた形状の構造を表面に有するスタンパ(金型又は鋳型)に組み込むことにより形成することができる。この際、光透過性基材或いは、光透過性基材の上に形成されたハードコート層又は光学機能層が直接形成されてもよいし、支持体の上に形成されてもよい。スタンパ(金型又は鋳型)は、モスアイ構造体を形成するものであれば、何れのものであって良く、例えば、陽極酸化多孔質アルミナを使用することができる。また、好ましくは、WO2006/059686及び特開2005−156695に記載された形成方法によって、形成されてもよい。
本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材と反射防止層の間に、ハードコート層をさらに備えてなる反射防止積層体が提案される。この反射防止積層体にあって、光透過性基材とハードコート層との屈折率の差、並びに反射防止層とハードコート層との屈折率の差が、特定の数値範囲内にあることは、本発明における1.特徴の項で説明した通りである。従って、ハードコート層は、光透過性基材と反射防止層との屈折率の差が所望の範囲内に入るようにして形成されることが必要である。ここで、「ハードコート層」とは、JIS5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を示すものをいう。ハードコート層の厚さは1μm以上50μm以下であり、好ましくは下限値が3μm以上であり上限値が30μm以下であり、より好ましくは下限値が5μm以上であり上限値が20μm以下である。
ハードコート層は樹脂から形成されてなり、樹脂としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。
本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材と反射防止層の間に、光学機能層をさらに備えてなる反射防止積層体が提案される。この反射防止積層体にあって、光透過性基材と光学機能層との屈折率の差、反射防止層と光学機能層の屈折率の差、並びにハードコート層と光学機能層の屈折率の差が、特定の数値範囲内にあることは、本発明における1.特徴の項で説明した通りである。従って、光学機能層は、光透過性基材と反射防止層とハードコート層の屈折率の差(即ち、4者の屈折率の差)が所望の範囲内に入るようにして形成されることが必要である。
光学機能層は、帯電防止剤、屈折率調製剤、防汚染剤、撥水剤、撥油剤、指紋付着防止剤、高硬度化剤、硬度調製剤(緩衝性付与剤)、粘着剤、赤外線又は紫外線吸収剤および流動性調整剤からなる群から選択される一種または二種以上の混合物を材料として使用する。光学機能層は上記材料と、樹脂と、溶剤と、任意の添加剤を混合し光学機能層用組成物を調整した上で、形成されてよい。光学機能層の厚さは0.001μm以上100μm以下であり、好ましくは下限値が0.01μm以上であり上限値が50μm以下であり、より好ましくは下限値が0.1μm以上であり上限値が30μm以下である。本発明の別の態様によれば、上記した光学機能性を付与する材料は、反射防止層又はハードコート層に含まれてもよい。
帯電防止剤(導電剤)を含んだ光学機能層(帯電防止層)が積層されることにより、反射防止積層体の表面における塵埃付着を有効に防止することができる。帯電防止剤(導電剤)の具体例としては、第4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第1〜第3アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第3級アミノ基、第4級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。
屈折率調製剤を添加した光学機能層(屈折率層)を反射防止積層体に積層させることにより、反射防止積層体の光学特性を調製することが可能となる。屈折率調製剤には、低屈折率剤、中屈折率剤、高屈折率剤等が挙げられる。低屈折率剤、中屈折率剤、高屈折率剤等により形成された複数の積層体を光学機能層として採用してもよい。
低屈折率剤を添加した低屈折率層の屈折率は、1.5未満であり、好ましくは1.45以下で構成されてなるものが好ましい。低屈折率剤の好ましいものとしては、シリカ、フッ化マグネシウムなどの低屈折率無機超微粒子(多孔質、中空など全ての種類の微粒子)、及び低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂が挙げられる。フッ素系樹脂としては、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体を用いることができる。重合性化合物は、特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基、熱硬化する極性基等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。この重合性化合物に対し、重合体とは、上記のような反応性基などを一切もたないものである。
高屈折率剤、中屈折率剤は、反射防止性をさらに向上させるために用いられる。高屈折率剤、中屈折率剤の屈折率は1.55〜2.00の範囲内で設定されてよく、中屈折率剤は、その屈折率が1.55〜1.80の範囲内のものを意味し、高屈折率剤は、その屈折率が1.65〜2.00の範囲内のものを意味する。
レベリング剤を含んでなる光学機能層は反射防止積層体に、滑り性、防汚性及び耐擦傷性の効果を付与することを可能とする。従って、レベリング剤は防汚染剤、撥水剤、撥油剤、指紋付着防止剤として機能するものである。レベリング剤の好ましいものとしては、フッ素系またはシリコーン系等が挙げられる。
防汚染剤を含んでなる光学機能層は反射防止積層体に、反射防止積層体の最表面の汚れ防止を主目的とし、さらに反射防止積層体の耐擦傷性を付与することが可能となる。防汚染剤の具体例としては、撥水性、撥油性、指紋拭き取り性を発現するような添加剤が有効である。より具体例としては、フッ素系化合物、ケイ素系化合物、またはこれらの混合化合物が挙げられる。より具体的には、2−パーフロロオクチルエチルトリアミノシラン等のフロロアルキル基を有するシランカップリング剤等が挙げられ、特に、アミノ基を有するものが好ましくは使用することができる。
粘着剤の具体例としては、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコン系樹脂、ゴム系樹脂が挙げられる。粘着剤を含んでなる光学機能層(粘着層)は、本発明の反射防止積層体を、画像表示装置の表面に、偏光板の表面に付着する際にその機能を発揮する。
紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、サリシレート系化合物等が挙げられる。また、赤外線吸収剤としては、ジインモニウム系化合物、フタロシアニン系化合物等があげられる。
高硬度化剤、硬度調製剤、および流動性調整剤は、光学積層体で用いられるものであればいずれのものであってもよい。
光学機能層は、上記光学機能性を有する材料と樹脂とを混合した光学機能性層用組成物により形成されてよい。樹脂は、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂(熱可塑性樹脂など、塗工時に固形分を調製するための溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂)との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。
(メタ)アクリレート系化合物以外の例としては、スチレン、メチルスチレン、N−ビニルピロリドン等の単官能または多官能単量体、あるいはビスフェノール型エポキシ化合物、ノボラック型エポキシ化合物、芳香族ビニルエーテル、脂肪族ビニルエーテル等のオリゴマー、プレポリマー等のカチオン重合性官能基を有する化合物が挙げられる。
光学機能層用組成物には、溶剤を混合して調整されてよい。溶剤は、光学機能材料、樹脂の種類及び溶解性に応じて選択し使用することができ、少なくとも固形分(複数のポリマー及び硬化性樹脂前駆体、反応開始剤、その他添加剤)を均一に溶解できる溶媒であればよい。そのような溶媒としては、例えば、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エーテル類(ジオキサン、テトラヒドロフラン等)、脂肪族炭化水素類(ヘキサン等)、脂環式炭化水素類(シクロヘキサン等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、ハロゲン化炭素類(ジクロロメタン、ジクロロエタン等)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等)、水、アルコール類(エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等)、セロソルブ類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等)、セロソルブアセテート類、スルホキシド類(ジメチルスルホキシド等)、アミド類(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等)等が例示でき、これらの混合溶媒であってもよく、好ましくは、ケトン類、エステル類が挙げられる。
光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものが好ましい。光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、セルロース系樹脂(セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート等)、ポリエーテルスルフォン、ポリオレフィン(ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン)、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、アクリル樹脂(ポリメタクリル酸メチル等)、ポリカーボネート、またはポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、セルローストリアセテートが挙げられる。さらに、他の光透過性基材として、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー(Cyclo-Olefin-Polymer:COP)フィルムが挙げられる。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体樹脂などが用いられる基材で、例えば、日本ゼオン社製のゼオネックスやゼオノア(ノルボルネン系樹脂)、住友ベークライト社製 スミライトFS-1700、JSR社製 アートン(変性ノルボルネン系樹脂)、三井化学社製 アペル(環状オレフィン共重合体)、Ticona社製の Topas(環状オレフィン共重合体)、日立化成社製 オプトレッツOZ-1000シリーズ(脂環式アクリル樹脂)などが挙げられる。また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ社製のFVシリーズ(低複屈折率、低光弾性率フィルム)も好ましい。
光透過性基材及び反射防止層、並びにハードコート層及び光学機能層の各形成用組成物を用意する。反射防止層は、光透過性基材又は光透過性基材に形成されたハードコート層(及び光学機能層)の上に形成されてよい。反射防止層は先に説明した方法で得て良い。
ハードコート層及び光学機能層は、各形成用組成物を調整し、光透過性基材の上に逐次積層されてよい。ハードコート層及び光学機能層を形成する手段としては、これら形成用組成物塗布する方法が挙げられ、例えば、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。表面調整層用組成物の塗布後に、乾燥と紫外線硬化を行う。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、190〜380nmの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、または直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
反射防止積層体は、反射防止を目的とするものに使用することができる他、以下の利用が挙げられる。
偏光板
本発明の別の態様によれば、偏光素子と、本発明による反射防止積層体とを備えてなる偏光板を提供することができる。具体的には、偏光素子の表面に、本発明による反射防止積層体を該反射防止積層体における反射防止層が存在する面と反対の面に備えてなる、偏光板を提供することができる。偏光素子は、例えば、よう素又は染料により染色し、延伸してなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を用いることができる。ラミネート処理にあたって、接着性の増加のため、または帯電防止のために、光透過性基材(好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム)にケン化処理を行うことが好ましい。
本発明のさらに別の態様によれば、画像表示装置を提供することができ、この画像表示装置は、透過性表示体と、前記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなり、この透過性表示体の表面に、本発明による反射防止積層体または本発明による偏光板が形成されてなるものである。本発明による画像表示装置は、基本的には光源装置と表示素子と本発明による反射防止積層体とにより構成されてよい。画像表示装置は、透過型表示装置に利用され、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサ等のディスプレイ表示に使用される。特に、陰極線管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、または液晶ディスプレイ(LCD)等の高精細画像用ディスプレイの最表面に用いられる。
反射防止層用組成物として以下のものを用いた。組成物中の(屈折率)は、硬化膜についてアッベ屈折率計にてD線にて測定した値である。
反射防止層用組成物1
旭硝子フッ素含有アクリル樹脂NIF−A1(屈折率1.48)
反射防止層用組成物2
ダイセル化学 NIHB337(屈折率1.56)
反射防止層用組成物3
東洋合成 アクリル樹脂PAK−02(屈折率1.50)
反射防止層用組成物4
大阪ガス フルオレン系アクリレート化合物BPEF−A(屈折率1.62)
反射防止層用組成物5
大日精化 フルオレン系アクリレート化合物PET−D2102(屈折率1.60)
1mm厚のA1085材(アルミニウム純度99.85%)に対して、0.3Mシュウ酸を電解液とし、電圧40Vとして陽極酸化処理を行った後、リン酸/クロム酸混合液によりアルミナ層を除去した。その後上記と同じ条件にて陽極酸化を50sec間実施し、その後2重量%リン酸30℃中に5分浸漬した。この陽極酸化とエッチング処理工程を5回繰り返すことにより周期100nm、開口部100nm、孔深さ250nm、底部30nmの賦型用金型を得た。
下記の組成に従ってハードコート層用組成物を調製した。組成物中の(屈折率)は、硬化膜についてアッベ屈折率計にてD線にて測定した値である。
ハードコート層用組成物1(屈折率1.52)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート「DPHA」 2.5重量部
(日本化薬社製;:、6官能、分子量524)
ウレタンアクリレート 2.5重量部
(日本合成社製;紫光UV1700B、10官能、分子量2000)
ウレタンアクリレート 2.5重量部
(荒川化学社製;BS371、10官能以上、分子量約4万)
重合開始剤 0.4重量部
(チバスペシャリティ製;IRGACURE184)
溶剤:メチルエチルケトン「MEK」 10質量部
フッ素系UV硬化樹脂(オプトダインUV−1000)
反射防止積層体の調製
光透過性基材として厚み80μmのトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(富士フィルム、TD80UL)を用意し、反射防止層用組成物1を賦型用金型に滴下し上記TACフィルムを金型上に載せラミネータ(大成ラミネータ、MA−700)を用いてラミネートした後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムズ社製)を用いて積算光量1000mJ/cm2にて硬化させた。その後金型より剥離することでTACフィルム上にモスアイ構造を含む反射防止層を設けた反射防止積層体を得た。この時のモスアイ層および樹脂層の総厚みは5μmであった。
反射防止層用組成物2を用いた以外は実施例1と同様な方法により反射防止積層体を得た。
実施例1で用いたTACフィルム上にハードコート反射防止層用組成物1をミヤバーにて塗布した後、50度にて80秒間乾燥させ、その後積算光量60mJ/cm2にて硬化させて膜厚10umのハードコート層を形成した。その後、反射防止層用組成物3を用いて実施例1と同様にしてハードコート層上にモスアイ構造を有する反射防止層を設けた反射防止積層体を得た。
反射防止層用組成物2を用いた以外は実施例3と同様な方法により反射防止積層体を得た。
光透過性基材として厚み50μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東レ株式会社製、U34)を用い、反射防止層用組成物3を用いた以外は実施例1と同様の方法により反射防止積層体を得た。
実施例3と同様にハードコート層を設けたこと以外は、実施例5と同様の方法により反射防止体を得た。
反射防止層用組成物4を用いたこと以外は実施例6と同様の方法により反射防止積層体を得た。
光透過性基材としてポリカーボネート(PC)基板を用いたこと以外は実施例6と同様の方法により反射防止積層体を得た。
反射防止層用組成物5を用いたこと以外は実施例1と同様の方法により反射防止積層体を得た。
実施例1で用いたTACフィルム上にハードコート反射防止層用組成物2をミヤバーにて塗布した後、積算光量2000mJ/cm2にて硬化させて膜厚10umのハードコート層を形成した。その後、反射防止層用組成物5を用いて比較例1と同様にしてハードコート層上にモスアイ構造を有する反射防止層を設けた反射防止積層体を得た。
光透過性基材としてPC基板を用いたこと以外は比較例2と同様の方法により反射防止積層体を得た。
例及び比較例で調製した反射防止積層体について以下の評価を行い、その結果を表1に記載した。
評価1:屈折率等測定
光透過性基材、ハードコート(HC)層、反射防止(UR)層の各屈折率n3、n2及びn1を、アッベ屈折率計(NAR−2T:アタゴ社製)を用いて測定した。なお、ハードコート層および反射防止層については反射防止層用組成物をPETフィルムに滴下し得られた硬化膜のみを剥離し測定した。その後、反射防止層の屈折率n1から光透過性基材n3又はハードコート層の屈折率n2を引いた数値の絶対値Δn(=|n1−n2又はn3|)と、ハードコート層の屈折率n2から光透過性基材の屈折率n3を引いた数値の絶対値Δn’ (=|n1−n3|)を求めた。Δn及びΔn’の数値は下記の基準にて評価される。
評価基準
画像表面の反射及びギラツキの防止、画像表示性と、鮮明なコントラスト画像の再現性についての優劣は以下の基準で評価される。
優良: 0≦Δn(Δn’)≦0.06
良好:0.06<Δn(Δn’)≦0.08
良:0.08<Δn(Δn’)≦0.10
若干不良:0.10<Δn(Δn’)<0.12
不良:0.12≦Δn(Δn’)
裏面に黒テーフ゜を貼り付け、島津製作所製UV-3100にて5度入射反射にて測定し、C光源2度視野条件下にて反射Y値を算出した。
評価基準
ディスプレイパネルのコントラストの優劣は以下の基準で評価される。
優良: 0.05≦Y≦0.20
良: 0.00<Y≦0.25
不良: 0.25<Y
Claims (9)
- 光透過性基材と、該光透過性基材上にモスアイ構造を有する反射防止層を備えてなる反射防止積層体であって、
前記光透過性基材と前記反射防止層との屈折率の差の絶対値が0以上0.10以下である、反射防止積層体。 - 前記光透過性基材と前記反射防止層の間に、ハードコート層及び/又は光学機能層をさらに備えてなり、
前記反射防止層と、前記ハードコート層及び/又は前記光学機能層の屈折率の差の絶対値が0以上0.10以下である、請求項1に記載の反射防止積層体。 - 前記光学機能層が、帯電防止剤、屈折率調製剤、防汚染剤、撥水剤、撥油剤、指紋付着防止剤、高硬度化剤、硬度調製剤、粘着剤、赤外線又は紫外線吸収剤および流動性調整剤からなる群から選択される一種または二種以上のものを含んでなる、請求項1又は2に記載の反射防止積層体。
- 前記光透過性基材と、前記ハードコート層及び/又は前記光学機能層の各屈折率の差の絶対値が、0以上0.10以下である、請求項1〜3の何れか一項に記載の反射防止積層体。
- 前記モスアイ構造における凹凸形状の凸部位の高さが100nm以上1400nm以下である、請求項1〜4の何れか一項に記載の反射防止積層体。
- 前記モスアイ構造における凹凸形状が、該凹凸の平均間隔をSmとし、該凹凸の平均傾斜角をθaとし、該凹凸の平均粗さをRzとした場合に、
Smが100nm以上300nm以下であり、
θaが15度以上40度以下であり、
Rzが100nm超過1000nm以下である、請求項1〜5の何れか一項に記載の反射防止積層体。 - 偏光素子を備えてなる偏光板であって、
前記偏光素子が、請求項1〜6の何れか一項に記載の反射防止積層体を該反射防止積層体における反射防止層が存在する面と反対の面に備えられてなる、偏光板。 - 透過性表示体と、前記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなる画像表示装置であって、
前記透過性表示体の表面に、請求項1〜6の何れか一項に記載の反射防止積層体、または請求項7に記載の偏光板を備えてなる、画像表示装置。 - 陰極線管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、または液晶ディスプレイ(LCD)の最表面に施される、請求項1〜6の何れか一項に記載の反射防止積層体。
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