JP2003050673A - 反射防止機能付きの透明タッチパネル、及びそれを用いた表示装置 - Google Patents

反射防止機能付きの透明タッチパネル、及びそれを用いた表示装置

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JP2003050673A
JP2003050673A JP2001237353A JP2001237353A JP2003050673A JP 2003050673 A JP2003050673 A JP 2003050673A JP 2001237353 A JP2001237353 A JP 2001237353A JP 2001237353 A JP2001237353 A JP 2001237353A JP 2003050673 A JP2003050673 A JP 2003050673A
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智之 鈴木
Arimichi Ito
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 透明タッチパネルでの外光反射による視認性
低下を改善する。 【解決手段】 最裏面を成す透明基材1について、その
裏面に特定の微細凹凸2を設ける。その形状は、微細凹
凸の最凸部に於ける周期PMAXを、可視光の波長帯域の
真空中に於ける最小波長λMIN以下、水平断面内に於け
る透明基材部分の断面積占有率が、微細凹凸の最凸部か
ら最凹部に行くに従って連続的に漸次増加して行き、最
凹部に於いて1となる形状とする。好ましくはP
MAXは、λMINを透明基材の屈折率nbで除した値以下と
する。表示装置は、この透明タッチパネルを表示パネル
の前方に配置する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、PDA乃至は携帯
情報端末(機器)、カーナビゲーションシステム等の各
種電子機器の表示部に使用される透明タッチパネルと、
それを用いた表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】現在、表示パネルに液晶表示ディスプレ
イ(LCD)等を用いた表示部を有する各種電子機器の
うち、例えば、PDA(Personal Digit
alAssistants)乃至は携帯情報端末、カー
ナビゲーションシステム、POS(販売時点情報管理)
端末、ATM(現金自動預金支払兼用機)等では、表示
パネルの前面に透明タッチパネルを配置して、入力機能
付き表示部とした構造としている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、透明タッチ
パネルとしては、従来から、抵抗膜方式、接触方式、静
電容量方式、(磁)歪方式、電磁誘導方式、光学(赤外
線)方式、超音波方式等と各種方式のものが知られてい
るが、いずれの方式のものにしても、表示パネルの前面
に配置する関係上、透明タッチパネル部分での或る程度
の外光の反射は避けられず、これによって、表示の視認
性が低下したり、或いは、表示パネルからの光の利用効
率が低下したりする問題があった。なかでも、その構成
上透明基材が空隙を挟んで2層以上あり、反射面がその
分多くなる抵抗膜方式の透明タッチパネルは、反射光の
視認性への影響が大きかった。
【0004】そこで、例えば、蒸着、スパッタリング、
或いは塗工等の手法によって単層或いは低屈折率層と高
屈折率層との多層膜からなる反射防止層を設けたり、或
いは、反射面を梨地処理して光を拡散したりして、反射
防止機能を付与した構成(特開2000−241794
号公報等参照)等も開発されている。しかし、蒸着、ス
パッタリング等による反射防止膜は、1回又は多数回の
バッチ処理により、屈折率を制御した薄膜を形成する必
要があるので、製品の安定性、良品率等に問題があり生
産性が低い。また、梨地処理は、光を拡散させる点で、
光の利用効率を上げることはできない、という問題があ
った。
【0005】すなわち、本発明の課題は、透明タッチパ
ネルでの光の反射を減らし、表示の視認性を向上させる
と共に、表示光の光の利用効率も上げることである。ま
た、その様な反射防止機能付きの透明タッチパネルを用
いた表示装置を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】そこで、上記課題を解決
すべく、本発明による透明タッチパネルは、最裏面を成
す透明基材の裏面に、反射防止機能を有する透明タッチ
パネルにおいて、該反射防止機能は、上記透明基材の裏
面に、反射防止用の微細凹凸が形成されて成り、該微細
凹凸は、可視光の波長帯域の真空中に於ける最小波長を
λMIN、該微細凹凸の最凸部に於ける周期をPMAXとした
ときに、PMAX≦λMINなる関係を有し、且つ該微細凹凸
をその凹凸方向と直交する面で切断したと仮定したとき
の断面内に於ける透明基材の材料部分の断面積占有率
が、該微細凹凸の最凸部から最凹部に行くに従って連続
的に漸次増加して行き、最凹部に於いて1となる、凹凸
である構成とした。
【0007】この様な構成とすることで、透明タッチパ
ネル裏面に於ける透明タッチパネルと空気間の屈折率変
化は、不連続で急激な変化では無く、連続的に漸次変化
する様にできる。そして、物質界面に於ける光の反射
は、急激な屈折率変化で起きるものであるから、透明タ
ッチパネル裏面に於ける屈折率変化を連続的に漸次変化
する様なものとすることによって、該透明タッチパネル
裏面に於ける光反射を減らすことができる。すなわち、
表示の視認に影響する波長成分として、透明タッチパネ
ルの外側から来る外光(より厳密には外光のうち可視光
線領域の波長光)の(観察者側への)透明タッチパネル
表裏両面(及び方式によっては内部構成面)による反射
のうち、透明タッチパネル裏面における反射が除去され
得る為、透明タッチパネルからの反射光の全量を、その
分低減できる。従って、外光反射による表示の視認性低
下を改善できる。しかも、上記特定の微細凹凸は、タッ
チパネル裏面に有り、透明タッチパネルの表面(表側
面)には露出させて無い為、微細凹凸であるが故の、ペ
ンや指での押圧による摩耗、油汚れ(の凹部充填)等に
よる反射防止効果の低下も起きない。また、この透明タ
ッチパネルを用いて表示装置を構成するときに、透明タ
ッチパネル裏側に配置する表示パネルからの表示光(観
察光)に対する透明タッチパネル裏面での反射も防止さ
れて、透明タッチパネルでの光の透過率も上昇するの
で、表示光が透明タッチパネル裏面と表示パネル表面と
の間で多重反射して、表示のコントラストが低下し表示
が白化するのも防止できる。従って、表示の視認性を向
上できる。また、視認性が向上した為、例えば、液晶パ
ネルのバックライトやフロントライト、或いはELパネ
ル等の表示パネルの電力を減らして、電子機器の省エネ
ルギー化、省電力化にも貢献する。
【0008】また、本発明の透明タッチパネルは、上記
構成に於いて、更に、上記透明基材の屈折率をnbとし
たときに、 PMAX≦λMIN/nb なる関係を有する構成とした。
【0009】この様な構成とすることで、PMAXとλMIN
との関係定義は、真空中よりも短くなった透明基材中で
の波長サイズをも考慮したものとなり、特定の微細凹凸
による反射防止効果が、より完全に得られる。
【0010】また、本発明の表示装置は、上記本発明の
いずれかの反射防止機能付きの透明タッチパネルの裏側
に、更に、表示パネルを配置して成る構成とした。
【0011】この様な構成の表示装置とすることで、前
述した透明タッチパネルの効果を享受できる。その結
果、表示の視認性が向上し、また、表示装置の省エネル
ギー化、省電力化にも貢献する。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。
【0013】〔概要〕先ず、図1(A)は、本発明によ
る透明タッチパネル10を、その一形態として、代表的
方式でもある抵抗膜方式の場合で、概念的に示す断面図
である。抵抗膜方式の透明タッチパネルの場合では、表
示パネル側となる、すなわち、最裏面を成す裏側の透明
基材1と共に、最表面を成す表側の透明基材1aが組合
わせ使用され、各透明基材1及び1aの内面にはそれぞ
れ抵抗膜3及び3aが形成され、抵抗膜3と抵抗膜3a
間は、点状に形成されたスペーサ4で空隙が保たれてい
る。そして、本発明の透明タッチパネル10では、同図
の如く、反射防止を目的として、表示パネル側となる裏
側の透明基材1について、その裏面(図面下方)に特定
の微細凹凸2を形成してあり、少なくとも該裏面は反射
防止機能を付与した構成としてある。
【0014】なお、図1(A)は、抵抗膜方式である
が、本発明の透明タッチパネルとしては、抵抗膜方式、
超音波方式、静電容量方式、電磁誘導方式等、いずれの
方式であっても良い。抵抗膜方式では、透明基材は2枚
を重ねた構成とする為に、本発明の微細凹凸を設ける側
を、最裏面を成す方として特定するが、透明基材が1枚
で良い方式の場合には、その1枚の透明基材自体が最裏
面を成す透明基材となる。
【0015】そして、図1(B)は、上記図1(A)で
例示した抵抗膜方式、或いはその他の方式等に於ける透
明基材1の部分のみを概念的に示す断面図であり、最裏
面を成す透明基材1の裏面側に上記特定の微細凹凸2が
形成されている構成を示す図である。
【0016】本発明特有の微細凹凸2は、従来公知の、
光波長以上の大きさの凹凸によるマット面(艶消し)を
利用して光を散乱(拡散反射)させる方式の反射防止処
理(特開2000−241794号公報等参照)或いは防
眩処理(例えば、特開2000−241794号公報等
参照)とは異なり、可視光線の波長以下の大きさの特定
の形状の凹凸である。この様な微細な凹凸によって、該
微細凹凸形成面に於ける透明基材と外界(空気)との間
の急激で不連続な屈折率変化を、連続的で漸次変化する
屈折率変化に変えることが可能となる。そして、光の反
射は、物質界面の不連続な急激な屈折率変化によって生
じる現象であるから、空間的に連続的に変化する様にし
た屈折率変化によって、光反射防止効果が得られるので
ある。しかも、微細凹凸は最裏面を成す透明基材の裏面
に形成してあるので、使用時にペンや指が接触すること
無く、これらの押圧による摩耗、油汚れ(の凹部充填)
等によって微細凹凸形状が鈍って反射防止効果が低下す
る事も無い。
【0017】以上の結果、図1(B)で、最裏面を成す
透明基材1に図面上方の表(側)面から入射した入射光
0は、透明基材1の表面でその一部が反射して、表面
の反射光IRsurfとなり、裏面にまで到達した光の一部
は、裏面の反射光IRrearとなって、これら両反射光の
総和が観察者側に反射光IRとして反射するが、本発明
では、裏面の反射光はIRrearは除去(或いは低減)さ
れる為、反射光IRの全量は、その分低減できることに
なり、裏面の反射光IRrearがゼロの場合には、表面の
反射光IRsurfのみとなる。
【0018】なお、透明タッチパネルの表面の側や、2
層の透明基材では内面にも、該面の反射防止目的で、裏
面同様の微細凹凸を設けることも可能ではあるが、透明
タッチパネルの表面側に微細凹凸を設けると、ペンや指
による傷付き、汚れ等により凹凸形状が損傷したり凹凸
の凹部が埋まったりし易いので、本発明の透明タッチパ
ネル10では、表面には該特定の微細凹凸は設け無い。
但し、必要に応じて、凹凸であっても、防眩目的のマッ
ト面(梨地処理面)とする凹凸等は有っても良い。ま
た、従来から知られている低屈折率層等による反射防止
層、或いはハードコート層等が、透明タッチパネル表面
には有っても良い。また、これらの層は、抵抗膜方式等
の2層以上の透明基材から構成される透明タッチパネル
に於いては、内面(最裏面を成す透明基材1の表面、す
なわち内表面。或いは、最表面を成す透明基材1aの裏
面、すなわち内裏面)に有っても良い。
【0019】なお、本発明の微細凹凸を透明基材1或い
は1aの内面に設けた場合、入力時に透明基材1と透明
基材1aとが接近し、内面の微細凹凸に押圧力が加わる
ので、内面には形状耐久性の点で設けない方が好まし
い。以上の如く、本発明特有の微細凹凸を設ける最裏面
を成す透明基材は、入力時の押圧力で変形する可撓性を
有するものでは無く剛体からなるものが、微細凹凸の形
状の耐久性の点で好ましい。
【0020】なお、本発明に於いて、表面とは、ペンや
指を触れて入力する側であり、表示装置としてはその表
示を観察する側の面、すなわち、表示装置の外側の面こ
とを言う。また、裏面とは、透明タッチパネルとしては
表示パネル側の面、すなわち、表示装置の内部方向の面
のことを言う。またこれらを、透明基材として言えば、
表面とは、ペンや指を触れて入力する側を向いた面、裏
面とは表示パネル側を向いた面のことを言う。
【0021】また、本発明に於ける微細凹凸2は、その
形成方法は特に限定されるものでは無いが、例えば、電
子線描画法やレーザー描画法を利用して作製した型を利
用して凹凸形状を複製することで、透明タッチパネル
(に用いる反射防止機能付きの透明基材)の大量生産が
容易となる。複製は、樹脂製の透明基材の場合は、熱プ
レス法、射出成形法、2P法、微細凹凸賦形シートのラ
ミネート法等によれば良く、また、ガラス製等の透明基
材の場合には、2P法、微細凹凸賦形シートのラミネー
ト法、ゾルゲル法等によれば良い。
【0022】〔微細凹凸〕次に、図2〜図4は、微細凹
凸2によって得られる屈折率分布を、概念的に説明する
概念図である。先ず、図2は、透明基材1がZ≦0の部
分の空間を占め、該透明基材の面、すなわちZ=0に於
けるXY平面上に、Z軸方向を凹凸方向とする多数の微
細凹凸2が配置された状態を示す。なお、図2〜図4で
は、説明の都合上、透明基材の裏面側は、図1とは逆
に、図面上方としてある。
【0023】そして、本発明では、微細凹凸2を、その
最凸部2tに於ける周期をPMAXとしたときに、このP
MAXが、可視光の波長帯域の真空中に於ける最小波長を
λMIN以下としてある為、微細凹凸形成面への到達光に
対しては、媒質(透明基材、及び空気)の屈折率に空間
的な分布があっても、それは注目する波長以下の大きさ
の分布である為に、その分布がそのまま直接に光に作用
せず、それが平均化されたものとして作用する。従っ
て、平均化された後の屈折率(有効屈折率)が光が進行
するに従って連続的に変化する様な分布にしておけば、
光の反射を防げるのである。なお、本発明に於いて、最
凸部2tに於ける周期PMAXとは、隣接する微細凹凸2
の最凸部2t間の距離のうち最大の距離であって、個々
の微細凹凸が規則的に配置され周期性を有する(隣接す
る微細凹凸同士間の距離が同一)構成でも良いが、周期
性が無い(隣接する微細凹凸同士間の距離が不揃い)構
成でも良い。
【0024】そして、図2では、直交座標系として、透
明基材の包絡面に立てた法線方向にZ軸を、また、それ
と直交する平面内にX軸、Y軸をとる。そして、今、光
が表面側から透明基材に入光して、該透明基材内部を進
み、該透明基材の裏面近傍をZ軸の正方向に進行しつつ
あり、丁度、Z軸座標がzのところに存在するとする。
【0025】すると、ここのZ=zに居る光にとって
は、媒体の屈折率は透明基材が特定の微細凹凸をなす
為、厳密には、Z=zに於いてZ軸と直交するXY平面
(横断面:水平断面)内に於いて、分布f(x,y,
z)を持つ様に見える。すなわち、XY平面内に於い
て、透明基材1の断面部分は屈折率nb(1.5程
度)、其の他の部分、具体的には空気aの部分は屈折率
a(=1.0程度)となる(図3参照)。ところが実
際には、光にとっては、その波長(表示装置の視認に関
係する光の波長が分布を有する場合は、波長帯域の最小
波長λMIN)よりも小さな空間的スケールの屈折率分布
は、平均化されたものとして作用する結果、平均化され
た結果の有効屈折率は、前記XY平面内に於いて、屈折
率分布f(x,y,z)をXY平面内に於いて積分した
もの、
【0026】
【数1】
【0027】となる。その結果、有効屈折率(nef)の
分布はzのみの関数nef(z)となる(図4参照)。
【0028】よって、もしも、微細凹凸に於ける透明基
材の凸部の断面積が、凹部に向かって連続的に増大する
様な形状であれば(XY平面内に於ける)透明基材部分
と空気部分との面積比がZ軸方向に向かって連続的に変
化する為、有効屈折率nef(z)はzに付いての連続関
数になる。
【0029】一方、屈折率n0の媒質から、屈折率n1
媒質に光が入射する場合を考える。今、簡単の為に、入
射角θ=0°(垂直入射)を考える。但し、入射角は入
射面の法線に対する角度とする。この場合、媒質界面で
の反射率Rは、偏光、及び入射角には依存せず、下記の
〔式2〕となる。
【0030】
【数2】
【0031】従って、(有効)屈折率のZ方向への変化
が連続関数であるということは、Z方向(光の進行方
向)に微小距離Δz隔てた2点、Z=zに於ける屈折率
をn0、Z=z+Δzに於ける屈折率をn1、としたとき
に、
【0032】Δz→0 ならば、 n1→n0
【0033】となり(連続関数の定義より)、よって、
〔式2〕より、
【0034】R→0
【0035】となる。
【0036】なお、ここで、より厳密に言うと、物体中
での光の波長は、真空中の波長をλ、物体の屈折率をn
としたときに、λ/nとなり、λよりは一般に或る程度
小となる。但し、物体が空気の場合の屈折率はn≒1の
為、λ/n≒λと考えて良い。但し、硝子、アクリル樹
脂等の透明基材に使われる材料は、通常1.5前後の屈
折率である為、屈折率nbの透明基材中の波長(λ/
b)は、0.7λ程度となる。この点を考慮すると、
微細凹凸の部分に於いて、空気の側の部分(微細凹凸の
凹部)について見れば、
【0037】PMAX≦λMIN
【0038】の条件を満たすとき、屈折率平均化による
反射率低減効果が期待出来る。但し、
【0039】λMIN/nb≦PMAX≦λMIN
【0040】である場合は、透明基材の部分(微細凹凸
の凸部)の寄与について見れば、屈折率平均化による反
射率低減効果は、少なくとも完全には期待出来ないこと
になる。しかし、それでも、空気部分に於ける寄与の
為、全体としては反射防止効果を有する。そして、
【0041】PMAX≦λMIN/nb
【0042】の条件までも満たす場合は、空気部分、透
明基材部分とも、周期PMAXが、最短波長よりも小さい
と言う条件が完全に満たされる為、屈折率平均化による
反射防止効果は、より完全となる。具体的には、λMIN
を可視光波長帯域の下限380nm、nbを仮に1.5
とすれば、λMIN/nbは250nm、つまりPMAXは2
50nm以下とすれば良い。
【0043】次に、微細凹凸の形状は、微細凹凸をその
凹凸方向と直交する面(XY平面)で切断したと仮定し
たときの断面(水平断面)内に於ける透明基材の材料部
分の断面積占有率が、該微細凹凸の最凸部から最凹部に
行くに従って連続的に漸次増加して行き、最凹部に於い
て1となる様な形状であれば、どんな形状でも良い。こ
の為には、微細凹凸の山は少なくともその一部の側面が
斜めの斜面を有するものとすれば良いが、下記する図5
(C)の様に斜面と共に垂直側面がある形状の微細凹凸
2でも良い。
【0044】例えば、個々の微細凹凸2の垂直断面形状
は、図5(A)の如き正弦波等の曲線のみによる波状の
形状〔図2も参照〕、図5(B)及び図5(C)の如き
三角形等の直線のみによる形状、或いは、図5(D)の
如き三角形の最凸部が平坦面を成す形状である台形の形
状、図5(E)の如き隣接する三角形間の最凹部が平坦
面を成す形状等である。但し、図5(D)や図5(E)
の如く、最凸部或いは最凹部に平坦面を有する形状で
は、最凸部或いは最凹部の平坦面の部分で、その平坦面
の占める面積割合が大きい程、有効屈折率の変化がより
大きく不連続となる。その点で性能的には劣るものとな
る。しかし、この場合でも、微細凹凸の最凸部から最凹
部に行くに従って有効屈折率を連続的に変化させること
は出来る。従って、反射防止性能の点では、最凸部或い
は最凹部の平坦面の面積割合は少ない程好ましい。な
お、水平断面内での透明基材の断面積占有率が、微細凹
凸の最凹部に於いて1となる形状とは、図5(E)の如
く最凹部に於いて不連続な形状、すなわち、2値(その
内の片方の断面積占有率が1)を取る形状も含む。有効
屈折率nef(z)を空気中から透明基材中に向かうZ方
向の関数として、naからnbに連続的に変化する様にす
る為には、最凸部に於いて断面積占有率が0に収束する
図5(B)或いは図5(C)の如き形状(すなわち、尖
った形状)で且つ最凹部に於いて断面積占有率が連続的
に1に収束する形状が好ましい。
【0045】次に、個々の微細凹凸の水平断面形状は、
円形(例えば図2)、楕円形、三角形、四角形、長方
形、其の他多角形等任意である。なお、水平断面形状
は、微細凹凸の最凸部から最凹部の全てにわたって同じ
である必要は無い。従って、微細凹凸の立体形状は、例
えば、水平断面形状が円形で垂直断面形状が正三角形の
場合の微細凹凸の立体形状は円錐に、水平断面形状が円
形で垂直断面形状が三角形の場合の微細凹凸の立体形状
は斜円錐に、水平断面形状が台形で垂直断面形状が正三
角形の場合の微細凹凸の立体形状は円錐台に、水平断面
形状が四角形で垂直断面形状が三角形の場合の微細凹凸
の立体形状は四角錐になる。
【0046】また、微細凹凸の、水平面内に於ける配置
は、図2で例示した如く二次元的配置の他に、図6
(A)の斜視図で例示の直線溝状の微細凹凸2の如く、
一次元的配置でも良く、どちらも効果は得られる。但
し、一次元的配置の場合は、光の波の振幅方向との関係
で、反射防止効果が得られる方向と得られない方向とが
出る、異方性が発生する。従って、図2の斜視図や図6
(B)及び(C)の平面図で例示の様な二次元的配置の
方が、方向性が全く無い点で好ましい。
【0047】なお、個々の微細凹凸の立体形状は全て同
一でも良いが、全て同一で無くても良い。また、個々の
微細凹凸を二次元配置する場合に、周期は、個々の微細
凹凸に於いて全て同一でも良いが、全て同一で無くても
良い。
【0048】また、微細凹凸の高さHは、可視光帯域で
の反射率を、2%(硝子の半分)以下に低減させること
を目標とするならば、その最小高さHMINが0.2λMAX
以上、すなわち、
【0049】HMIN≧0.2λMAX
【0050】また、可視光帯域での反射率を0.5%以
下にまで低減させることを目標とするならば、
【0051】HMIN≧0.4λMAX
【0052】とするのが好ましい。なお、ここで、λ
MAXは、可視光波長帯域の真空中に於ける最大波長であ
る。微細凹凸の高さHは、ゼロから高くなるに従って反
射率が低下して行くが、上記不等号条件を満足させる高
さまで達すると、有為な効果が得られる様になる。具体
的には、例えば、発光スペクトルの最大波長が、λMAX
=640nmの蛍光灯を用いたとすれば、HMIN≧0.
2λMAX=128nmとなる。すなわち、HMINは128
nm以上とすれば良い。また、スペクトルの最大波長が
λMAX=780nmの太陽光線を考えるならば、HMIN
0.2λMAX=156nm、すなわち、HMINは156n
m以上とすれば良い。また、最小高さHMINと周期PMAX
との関係では、最小高さHMIN/周期PMAXの比を、1/
2〜4/1程度とする。
【0053】ここで、微小凹凸の具体的形状及び大きさ
を例示すれば、形状は垂直断面が正弦波状で水平断面が
円形の円錐状の形状のものを多数、二次元的に規則的配
置した集合体であり、周期期PMAXが50〜250n
m、最小高さHMINを前記周期P MAXの1.5倍としたも
の等がある。
【0054】ところで、以上の如き本発明特有の微細凹
凸は、特開昭50−70040号公報、或いはUSP
4,013,465号公報にて、「放射に対する表面の
反射率を減少させる方法」として開示された技術を、透
明タッチパネルに応用したものである。但し、この様な
微細凹凸を、外光反射防止の為に透明タッチパネルに適
用すべく、外光が最初に当たる透明タッチパネルの表面
に設けただけでは、実用性能上、満足できる性能が得ら
れなかった。それは、極めて微細な凹凸であるが故に、
入力時にペンや指が触れる事によって、傷、手垢等によ
る汚れが付き易い表面では、微細凹凸形状が鈍ってしま
い効果が長続きしないからである。そこで、本発明で
は、表側にでは無くあえて裏側に設けた構成とすれば、
ペンや指入力時の傷や手垢等による汚れに対しても耐性
が得られ、尚且つ相応の反射防止効果が得られることを
見出した。また、透明タッチパネルの裏面に設けること
により、表示パネルと透明タッチパネルとの間の多重反
射によるコントラスト低下防止効果に於いては、むし
ろ、表面に該微細凹凸を設けた場合よりも良好であるこ
とを見出し、本発明に至ったものである。
【0055】〔透明基材〕先ず、透明タッチパネルに用
いる最裏面を成す透明基材1としては、透明で強度があ
れば、用途次第では樹脂シートの様に可撓性を有するも
のでも良いが、通常は、入力時のペンや指による押圧力
を効果的に受け止める為、下側に配置される表示パネル
を該押圧力から保護する為等の点で、剛体のものが好ま
しくは使用される。特に、LCDの表示パネルと透明タ
ッチパネルとを組合わせた表示装置とする場合には、上
記押圧力がLCDに加わると、LCD内部の液晶が部分
的に変移し、その部分での表示が乱れるので、透明基材
には剛体のものを用いて、これを防ぐのが好ましい。ま
た、本発明特有の微細凹凸の形状の耐久性の点でも、最
裏面を成す透明基材としては、剛体のものが好ましい。
なお、本発明の透明タッチパネルの入力方式としては、
抵抗膜方式、接触方式、静電容量方式、(磁)歪方式、
電磁誘導方式、光学(赤外線)方式、超音波方式等、従
来公知の透明性を確保できる方式のいずれの方式でも良
く、従って、最裏面を成す透明基材1には、適用する方
式に合せた物を使用すれば良い。
【0056】剛体で透明性及び強度を有する透明基材の
素材としては、例えば、ソーダガラス、ホウ珪酸ガラ
ス、石英ガラス等のガラス、PLZT〔=La添加ジル
コン・チタン酸鉛。超音波方式で使われる。〕等の無機
材料、或いは、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ
(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸メチル
−(メタ)アクリル酸ブチル共重合体等のアクリル樹脂
〔但し、(メタ)アクリルとはアクリル、或いはメタク
リルを意味する。〕、ポリカーボネート樹脂、ポリプロ
ピレン、ポリメチルペンテン、環状オレフィン系高分子
(代表的にはノルボルネン系樹脂等があるが、例えば、
日本ゼオン株式会社製の製品名「ゼオノア」、JSR株
式会社製の「アートン」等がある)等のポリオレフィン
系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナ
フタレート等の熱可塑性ポリエステル樹脂、ポリアミド
樹脂、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重
合体、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、セル
ロース系樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエーテルエーテル
ケトン、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂等の有機高分子
材料等が挙げられる。
【0057】上記の如き素材からなる透明基材の厚さ
は、剛性を確保する為には、通常は0.5〜2mm程度
とする。
【0058】なお、表側にも透明基材1aを積層する構
成となる抵抗膜方式の透明タッチパネルでは、表側の透
明基材1aには、可撓性のものを使用する。この様な透
明基材1aとしては、上記した樹脂素材が使用できる。
但し、厚さは、可撓性が得られる程度の厚さとする。従
って、厚さは、可撓性を確保しつつ、表面強度も確保す
る為に、通常、0.05〜0.5mm程度である。
【0059】微細凹凸2は透明基材1の一部を構成する
ものであるが、該微細凹凸2を含む透明基材1は、図1
(B)に例示の如く、全て同一材質からなる連続の物体
として構成する以外に、図7に例示の透明タッチパネル
10の如く、その透明基材1を、微細凹凸2を含む部分
(基材凹凸部1B)と、微細凹凸を含まない部分(透明
基材本体1A)とからなる例えば2層が密着した構成等
としても良い。但し、その場合、基材凹凸部1Bと透明
基材本体1Aとは、極力屈折率差を0に近づける様に材
料を選択する。そうしないと、両者の界面で光反射を生
じるからである。
【0060】〔微細凹凸の形成方法〕ここで、上記の如
き微細凹凸2を形成する方法について、更に説明する。
なお、本発明では、該形成方法は、次の述べる方法に限
定されるものでない。
【0061】微細凹凸2は、透明基材とする既に有形の
物、一つ一つに、後から直接形成する事も可能である。
しかし実用上、工業製品として大量生産するには、いず
れにしても、一旦、(賦形)型を作り、この型(マザー
版)から、或いは更に該型から作製した複数の型(マス
ター版)を経て、微細凹凸を形成するのが、量産性、コ
スト等の点で好ましい。これらの型を作った後は、それ
を用いた各種複製技術によって、透明基材に微細凹凸を
形成できる。なお、型による微細凹凸の形成段階では、
透明基材とする既に有形の物となった透明基材に対し
て、微細凹凸を形成したり、或いは、有形の物として透
明基材を造形すると同時に、微細凹凸を形成することが
できる。
【0062】そして、型等として、微細凹凸となる凹凸
形状を最初に造形する方法としては、半導体分野等に於
ける微細加工技術を流用できる。但し、半導体の場合
は、凹凸形状はその側面が通常垂直面で良く、本発明の
如く斜面にする必要は特に無いため、本発明では、斜面
が形成できる様にして微細加工する。
【0063】上記の如き微細加工技術としては、電子線
描画法を利用できる。この方法では、先ず、ガラス基板
の上にレジスト層を形成した後、電子線描画法により該
レジスト層を露光し現像してパターニングしてレジスト
パターン層とする。この後、腐蝕マスクに該レジストパ
ターン層を利用してガラス基板をドライエッチング法等
により腐蝕することで、ガラス基板に微細凹凸形状が形
成される。この際、エッチング時にサイドエッチングさ
せて、斜面を形成する。また、ガラス基板腐蝕時の腐蝕
マスクとしてはレジストパターン層自体を直接用いても
良いが、斜面を有する深い凹凸形状を形成するには、好
ましくは、ガラス基板上にクロム等による金属層を設け
た後、レジスト膜を形成してレジストパターン層を得、
前記金属層をこのレジストパターン層を利用して金属パ
ターン層としてたものを、腐蝕マスクとして用いるのが
良い。
【0064】また、レジスト膜へのパターン形成に際し
ては、電子線描画法の他に、レーザー描画法も利用でき
る。レーザ描画法では、ホログラム、回折格子等の作製
等に利用されているレーザ干渉法が利用できる。回折格
子の場合は、一次元的配置であるが、角度を変えて多重
露光すれば、二次元配置も可能となる。但し、レーザ干
渉法では、得られる微細凹凸は、通常規則的配置となる
が、電子線描画法では、規則配置の他にも、不規則配置
も可能である。また、レーザー描画法であるレーザー干
渉法では、レーザービームの指向性の制限があり、広い
面積で安定したパターニング条件を得ることが難しい
が、電子線を用いる電子線描画法ではこの様な問題は解
消できるという利点がある。
【0065】以上の様にして得られた型を、透明基材に
対する微細凹凸の形成に直接用いても良いが、量産の場
合、通常は、該型はマザー版として使用して、該マザー
版から作製したマスター版を型として利用する。なお、
マスター版の作製は、公知の方法、例えば、マザー版に
ニッケル等の金属めっきを行って、めっき層を剥がし金
属マスター版を作製する(電鋳法)。或いは、このマス
ター版にもう一度めっきして、再度作製したマスター版
を型として使用する。なお、最終的に透明基材に微細凹
凸を形成する型としては、板状、シート状、或いは円筒
状のものがあり得る。
【0066】以上の如き、マスター版(或いはマザー
版)を(賦形)型として用いて、透明基材に対して微細
凹凸を形成(複製)する具体的な方法としては、例え
ば、熱プレス法(エンボス法)、射出成形法、2P法
(Photo Polymer法)等の公知の複製法、
或いは、微細凹凸賦形シートのラミネート法を、透明基
材の材質等に応じて適宜選択すれば良い。
【0067】これらのうち、既に有形の透明基材に対す
る、微細凹凸の形成方法は、熱プレス法(エンボス
法)、2P法(Photo Polymer法)、ゾル
ゲル法、微細凹凸賦形シートのラミネート法等が挙げら
れ。このうち、熱プレス法(エンボス法)は、透明基材
が一般に熱可塑性樹脂等の塑性変形可能な状態を呈する
ことができる樹脂等の材料からなる場合に適用される。
一方、2P法(PhotoPolymer法)、ゾルゲ
ル法、微細凹凸賦形シート(或いは板)のラミネート法
は、透明基材がガラス等の無機材料からなる場合でも適
用できる方法である。
【0068】なお、ゾルゲル法(特開平6−64907
号公報等参照)は、金属アルコキシド等と増粘剤として
ポリエチレングリコール等を含む組成物を、塗工し、ゾ
ルが軟らかいうちに型押しして凹凸を賦形して、その後
に最終的な乾燥、熱処理を行って、無機質の塗膜として
微細凹凸を形成する方法である。また、微細凹凸賦形シ
ート(或いは板)とは、樹脂のシート或いは板に、前述
型を使用する等して微細凹凸を既に賦形しておいた物で
ある。該樹脂には、透明基材の材料として列記した樹脂
等が使用できる。該凹凸賦形シート(或いは板)は、接
着剤や熱融着で、板材やシート材からなる透明基材に貼
着する。
【0069】次に、透明基材自体の造形時に同時に形成
する、微細凹凸の形成方法は、射出成形法の他、2P法
(Photo Polymer法)等が挙げられる。射
出成形法は、型面に微細凹凸形状を設けてなる射出成形
型を用い、微細凹凸を射出成形法によって形成する。こ
の方法によれば、樹脂を用いて、透明基材自体と微細凹
凸とを同時に成形にて形成する事が出来るので、極めて
量産性に優れた方法となる。射出成形型に、微細凹凸形
成用の微細凹凸形状を設けるには、前述の如くして得た
マスター版(或いはマザー版)を、型面に装着する等す
れば良い。また、ここでの2P法では、透明基材自体も
微細凹凸の同時に造形してしまう方法となる。
【0070】また、透明基材自体の造形時に同時に形成
する微細凹凸の形成方法としては、透明基材がガラスの
場合でも、ガラスは加熱より塑性変形可能な状態を呈す
ることができるので、熱プレス法を適用して、透明基材
の造形と同時に微細凹凸を形成しても良い。
【0071】なお、以上述べた各種形成方法のうち、図
1(B)の如く透明基材1と微細凹凸2とが一体となっ
た構造のものは、熱プレス法(エンボス法)、射出成形
法、2P法(Photo Polymer法)等の場合
に得られ、また、図7の如く透明基材1A本体に、微細
凹凸2を含む基材凹凸部1Bが積層された構造のもの
は、射出成形法(本体と凹凸部との2色成形法)、2P
法(Photo Polymer法)、ゾルゲル法、微
細凹凸賦形シート(或いは板)のラミネート法等の場合
に得られる。
【0072】〔その他の構成要素〕本発明の透明タッチ
パネルは、最裏面を成す透明基材の裏面に本発明特有の
微細凹凸を有する構成であれば良く、その他の部分は、
従来公知の各種方式の透明タッチパネルの各種構成を採
用することができる。
【0073】例えば、同じ反射防止機能として、従来公
知の単層或いは多層構成の反射防止層を、透明基材の他
の面に設けた構成でも良い。また、光拡散による防眩性
(或いは反射防止)を付与する層を表面に設けても良
い。また、透明基材の面には、該反射防止層の有無に拘
らず、傷付き防止等の為に従来公知のハードコート層を
設ても良い。なお、反射防止層はハードコート層の上に
設けるのが効果的である。
【0074】例えば、図8の断面図は、抵抗膜方式で例
示した図1(A)の構成に対して、透明タッチパネル1
0の表面側の面に、本発明とは異なる形式による反射防
止機能を付与した構成の透明タッチパネル10であり、
最表面を成す透明基材1aの表面には、ハードコート層
5、多層膜等による反射防止層6がこの順に形成された
構成を示す。
【0075】〔表示装置〕本発明の表示装置は、上述の
如き本発明の透明タッチパネルの裏側に、表示パネルを
配置して成る構成の、表示装置である。なお、当然であ
るが、該表示装置では、透明タッチパネル裏面と表示パ
ネル表面とは、接着層等で完全に密着させずに、間に空
隙を設けた配置である。それは、密着させた場合には、
特定の微細凹凸による本発明特有の反射防止効果の意味
が殆ど無いからである。
【0076】なお、本発明の表示装置にあっては、単に
表示機能のみを有する装置(例えば、LCDモニター、
CRTモニター等)でも良いが、装置の機能の一部とし
て表示機能を有する装置も該当する。例えば、後述する
用途で述べる如く、PDA乃至は携帯情報端末、カーナ
ビゲーションシステム等である。
【0077】ここで、図9の要部断面図で上記の如き表
示装置100の一形態を例示する。同図の表示装置10
0は、例えば、PDA乃至は携帯情報端末等の表示部分
を中心とした配置を概念的に示す断面図である。同図の
表示装置100では、透明タッチパネル10は、その最
裏面を成す透明基材の裏面に微細凹凸を有し、この透明
タッチパネル10の裏側に間に空隙を空けて、LCD等
のフラットパネルディスプレイによる表示パネル30が
配置されている構造である。なお、表示パネル30は、
その透明タッチパネル10と対面する表側面に、上述し
た本発明特有の微細凹凸2からなる反射防止機能を付与
したものとしても良い。これによって、表示装置100
としての反射防止機能は更に向上する。
【0078】〔透明タッチパネルの用途〕本発明による
透明タッチパネルは、各種表示装置の表示部に於ける入
力手段(透明タブレットも含む)として使用され得る。
この様な入力機能付きの表示装置は、例えば、LCD
(液晶ディスプレイ)、ELD(エレクトロルミネッセ
ントディスプレイ)、PDP(プラズマディスプレイ)
等のFPD(フラットパネルディスプレイ)、或いは、
CRT等を表示パネルに用いた装置である。なかでも、
自己発光型では無い為に、相対的に外光による表示性能
の低下が起きやすいLCDは、本発明による効果がより
大きく得られる点で好適である。なお、本発明に於ける
表示装置としては、文字盤上に指針を有する時計に代表
される機械式のアナログメータ等の様な機械的手段で情
報を表示するものも包含するものとする。
【0079】上記の様な入力機能付き表示装置を有する
各種製品としては、例えば、電子手帳等のPDA乃至は
携帯情報端末(機器)、或いは、カーナビゲーションシ
ステム、POS(販売時点情報管理)端末、携帯型オー
ダー入力端末、ATM(現金自動預金支払兼用機)、フ
ァクシミリ、固定電話端末、携帯電話端末、デシタルカ
メラ、ビデオカメラ、パソコン、パソコン用ディスプレ
イ、テレビジョン受像機、テレビ用モニターディスプレ
イ、券売機、計測機器、電卓、電子楽器等の電子機器、
複写機、ECR(金銭登録機)等の事務機器、或いは、
洗濯機、電子レンジ等の電気製品がある。
【0080】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳述する。
【0081】〔実施例1〕ガラス基板上にスピンコート
法により感光性樹脂のレジスト層を形成し、レーザ干渉
露光装置により、アルゴンイオンレーザーを50°の角
度で2方向から露光する操作を、基板の縦横を90度回
転させて2回行った。次いで、現像液で現像して、レジ
ストパターン層を形成した。
【0082】次に、ドライエッチング法によりガラス基
板の腐蝕を行って、所望の微細凹凸形状が形成されたガ
ラス基板からなる型(マザー版)を作製した。このマザ
ー版に、コンパクトディスクの製造ライン等で用いられ
ているニッケル電鋳法によって、ニッケルからなる型
(マスター版)を作製した。
【0083】そして、抵抗膜方式の透明タッチパネル用
に、その最裏面を構成する透明基材1として、片面(表
側面)に抵抗膜としてITOを形成済みの厚さ1mmの
ガラス板の最裏面とする面に、2P法によって微細凹凸
2を形成した。具体的には、該透明基材の裏側とする面
にシランカップリング処理したのち、その表面上に、下
記組成の紫外線硬化性樹脂をポッティングした(塗工量
換算2g/m2)。
【0084】 〔紫外線硬化性樹脂〕 テトラブロムビスフェノールA型エポキシアクリレート ‥‥‥ 32質量部 2−フェニル−2−(4−アクリロイルオキシエトキシフェニル)プロパン ‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥ 18質量部 2,4,6−トリブロモフェニルエトキシアクリレート ‥‥‥ 50質量部 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ‥‥‥‥‥‥‥ 3質量部
【0085】次に、透明基材上の上記樹脂塊の上から、
前記の如くして作製したマスター版を押し付けて樹脂を
板面に行き渡らせて圧着させたままの状態で、透明基材
側から高圧水銀灯で紫外線を照射して樹脂を硬化させ、
マスター版を剥がし、ガラス板からなる透明基材の裏面
に所望の微細凹凸を形成した。
【0086】上記透明基材の裏面には、原子間力顕微鏡
での観察により、高さHMINが200nm、周期PMAX
300mの、図2の如き形状が多数縦横に正方格子状に
規則的に配列された微細凹凸が形成されていた。
【0087】上記透明基材について、反射率測定を行っ
た。先ず、反射防止処理をしていない側の面に、黒いビ
ニール粘着テープを貼り付け、分光光度計にて、反射防
止処理面に対して、垂直法線から5°の入射角にて測定
したところ、視感反射率で0.1%と低い値に到達し
た。なお、微細凹凸による反射防止は未処理とした透明
基材について、同様に視感反射率を測定したところ、4
%であった。
【0088】そして、上記反射防止処理を施した透明基
材と、ITO膜を形成済みの厚さ0.18mmのポリエ
チレンテレフタレートシートとを組合わせて、抵抗膜方
式の透明タッチパネルとして組み立てた。この透明タッ
チパネルの(裏面から表面へ透過する)全光線透過率
は、パネル裏面の反射防止処理未処理の場合の83%に
対して、88%と向上した。更に、この透明タッチパネ
ルを、LCDの表示パネルの前面に配置する構造の表示
装置として組み立てた。
【0089】そして、上記反射防止処理を施した透明タ
ッチパネルを、LCDの表示パネルの前面に配置した構
造の表示装置と、上記反射防止処理は未処理の透明タッ
チパネルを同じく前面に表示パネルの配置した表示装置
とを、同一の表示画像の輝度、及び、同一の室内光源の
表示部面上照度と室内光入射角に於いて、目視比較し
た。その結果、反射防止処理未処理の透明タッチパネル
を組合わせた表示装置と比較して、本発明の透明タッチ
パネルを用いた表示装置の方が、各種光源の照度、角度
を変えても常に、表示が明るく見え、表示画像のコント
ラストも鮮明で、表示の視認性が良好であることが確認
された。
【0090】
【発明の効果】(1)本発明の表示装置の透明タッチパ
ネルによれば、透明タッチパネル裏面に於ける光反射を
減らすことができる。すなわち、表示の視認に影響する
波長成分として、透明タッチパネルの外側から来る外光
の透明タッチパネル表裏両面(及び方式によっては内部
構成面)による全反射光のうち、裏面からの反射光が除
去され得る為、反射光の全量を、その分低減できる。従
って、外光反射による表示の視認性低下を改善できる。
しかも、反射防止の為に設けた本発明特定の微細凹凸は
裏面に有り、透明タッチパネルの表面(表側面)には露
出させて無い為、微細凹凸であるが故の、ペンや指での
押圧による摩耗、油汚れ(の凹部充填)等による反射防
止効果の低下も起きない。また、本発明の透明タッチパ
ネルを用いて表示装置を構成するときに、透明タッチパ
ネル裏側に配置する表示パネルからの表示光(観察光)
に対する透明タッチパネル裏面での反射も防止されるの
で、表示のコントラストが低下し表示が白化するのも防
止できる。従って、この点でも表示の視認性を向上でき
る。また、視認性を向上できる為、例えば、液晶パネル
のバックライトやフロントライト、或いはELパネル等
の表示パネルの電力を減らして、省エネルギー化、省電
力化にも貢献する。
【0091】(2)更に、微細凹凸の周期と透明基材の
屈折率とを特定の関係とすれば、特定形状の微細凹凸に
よる反射防止効果が、より完全に得られる。
【0092】(3)また、本発明の表示装置によれば、
透明タッチパネルの効果である前記(1)或いは更に
(2)の効果を享受できる。その結果、表示の視認性が
向上し、また、表示装置の省エネルギー化、省電力化に
も貢献する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の透明タッチパネルを概念的に示す断面
図。
【図2】微細凹凸で得られる有効屈折率の分布を概念的
に説明する為の図(その1)。
【図3】微細凹凸で得られる有効屈折率の分布を概念的
に説明する為の図(その2)。
【図4】微細凹凸で得られる有効屈折率の分布を概念的
に説明する為の図(その3)。
【図5】微細凹凸の(垂直)断面形状の幾つかを例示す
る断面図。
【図6】微細凹凸の水平面内での配置の幾つかを例示す
る断面図。
【図7】透明タッチパネルに於ける透明基材の別の一形
態を例示する断面図。
【図8】透明タッチパネルの別の一形態を例示する断面
図。
【図9】表示装置の或る一形態を、その表示部について
概念的に例示する断面図。
【符号の説明】 1 (最裏面を成す)透明基材 1a (最表面を成す)透明基材 1A 透明基材本体 1B 基材凹凸部 2 微細凹凸 2t (微細凹凸の)最凸部 3、3a 抵抗膜 4 スペーサ 5 ハードコート層 6 (微細凹凸によらない)反射防止層 10 透明タッチパネル 30 表示パネル 100 表示装置 n 屈折率 na 屈折率(空気) nb 屈折率(透明基材) n0 屈折率 n1 屈折率 nef(Z) 有効屈折率 HMIN (微細凹凸の)最小高さ I0 入射光 IR 表裏両面の反射光 IRsurf 表面の反射光 IRrear 裏面の反射光 PMAX (微細凹凸の最凸部に於ける)周期 R 反射率 λMIN 最小波長 λMAX 最大波長
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H089 HA18 HA35 QA05 TA01 TA02 TA13 2H091 FA37 GA01 GA02 LA03 5B087 AA09 AB04 AC09 CC12 CC14

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 最裏面を成す透明基材の裏面に、反射防
    止機能を有する透明タッチパネルにおいて、 該反射防止機能は、上記透明基材の裏面に、反射防止用
    の微細凹凸が形成されて成り、該微細凹凸は、可視光の
    波長帯域の真空中に於ける最小波長をλMIN、該微細凹
    凸の最凸部に於ける周期をPMAXとしたときに、 PMAX≦λMIN なる関係を有し、 且つ該微細凹凸をその凹凸方向と直交する面で切断した
    と仮定したときの断面内に於ける透明基材の材料部分の
    断面積占有率が、該微細凹凸の最凸部から最凹部に行く
    に従って連続的に漸次増加して行き、最凹部に於いて1
    となる、凹凸である、反射防止機能付きの透明タッチパ
    ネル。
  2. 【請求項2】 更に、上記透明基材の屈折率をnbとし
    たときに、 PMAX≦λMIN/nb なる関係を有する、請求項1記載の反射防止機能付きの
    透明タッチパネル。
  3. 【請求項3】 請求項1又は請求項2記載の反射防止機
    能付きの透明タッチパネルの裏側に、更に、表示パネル
    を配置して成る、表示装置。
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Cited By (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005003822A1 (en) * 2003-06-06 2005-01-13 3M Innovative Properties Company Microstructured optical film and production process thereof
JP2007139963A (ja) * 2005-11-16 2007-06-07 Nec Access Technica Ltd 携帯型情報処理装置および携帯型情報処理装置のディスプレイ製造方法。
JP2007196501A (ja) * 2006-01-26 2007-08-09 Nitto Giken Kk 表面導電性成形品の製造方法及びそれにより得られる成形品
JP2008083491A (ja) * 2006-09-28 2008-04-10 Epson Imaging Devices Corp 電気光学装置及び電子機器
JP2008216733A (ja) * 2007-03-06 2008-09-18 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 表示素子
JP2009230045A (ja) * 2008-03-25 2009-10-08 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止積層体
JP2009237775A (ja) * 2008-03-26 2009-10-15 Brother Ind Ltd タッチパネル付き表示装置及びその製造方法
JP2010182137A (ja) * 2009-02-06 2010-08-19 Sony Corp タッチパネル及びタッチパネルの製造方法
WO2011080890A1 (ja) * 2009-12-28 2011-07-07 ソニー株式会社 導電性光学素子
JP2011154585A (ja) * 2010-01-28 2011-08-11 Shoei:Kk タッチパネル
JP2012118762A (ja) * 2010-12-01 2012-06-21 Panasonic Corp タッチパネル
JP2012138019A (ja) * 2010-12-27 2012-07-19 Dainippon Printing Co Ltd タッチパネル付き表示装置
JP2012216084A (ja) * 2011-03-31 2012-11-08 Sony Corp 情報入力装置
JP2013125317A (ja) * 2011-12-13 2013-06-24 Mitsubishi Rayon Co Ltd タッチパネル付き画像表示装置
WO2013125312A1 (ja) * 2012-02-20 2013-08-29 シャープ株式会社 表示装置
JP2014013264A (ja) * 2012-06-08 2014-01-23 Dainippon Printing Co Ltd 画像品位向上用機能フィルム及びそれを用いた表示装置
KR101431686B1 (ko) 2012-07-30 2014-08-20 (주)펜제너레이션스 광학필름 및 이를 이용한 디지털펜 시스템
JP2014194749A (ja) * 2013-02-27 2014-10-09 Hosiden Corp タッチパネル
JP2015011425A (ja) * 2013-06-27 2015-01-19 住友化学株式会社 タッチパネル及びそれを備える画像表示装置
JP2016004314A (ja) * 2014-06-13 2016-01-12 大日本印刷株式会社 タッチパネル付き表示装置
JP2016009269A (ja) * 2014-06-23 2016-01-18 大日本印刷株式会社 積層材、タッチパネルセンサ、電磁波遮蔽材、及び、画像表示装置
JPWO2015080195A1 (ja) * 2013-11-29 2017-03-16 王子ホールディングス株式会社 光学用シートおよび導電性シート、並びに前記光学用シートを備える表示装置
JP2017054068A (ja) * 2015-09-11 2017-03-16 株式会社ミクロ技術研究所 低反射型静電容量方式のタッチパネル機能付き表示装置
JP2019010957A (ja) * 2017-06-30 2019-01-24 矢崎総業株式会社 車両用表示装置
CN111381705A (zh) * 2018-12-29 2020-07-07 北京小米移动软件有限公司 一种终端
JP2020187366A (ja) * 2015-09-24 2020-11-19 三菱ケミカル株式会社 微細凹凸構造体および接合体
WO2023062683A1 (ja) * 2021-10-11 2023-04-20 シャープディスプレイテクノロジー株式会社 表示装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07225371A (ja) * 1994-02-14 1995-08-22 Hitachi Ltd 液晶表示装置
JPH1069355A (ja) * 1996-08-27 1998-03-10 Fujimori Kogyo Kk インナータッチパネル用透明導電性シート

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07225371A (ja) * 1994-02-14 1995-08-22 Hitachi Ltd 液晶表示装置
JPH1069355A (ja) * 1996-08-27 1998-03-10 Fujimori Kogyo Kk インナータッチパネル用透明導電性シート

Cited By (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005003822A1 (en) * 2003-06-06 2005-01-13 3M Innovative Properties Company Microstructured optical film and production process thereof
JP4622821B2 (ja) * 2005-11-16 2011-02-02 日本電気株式会社 携帯型情報処理装置のディスプレイ
JP2007139963A (ja) * 2005-11-16 2007-06-07 Nec Access Technica Ltd 携帯型情報処理装置および携帯型情報処理装置のディスプレイ製造方法。
JP2007196501A (ja) * 2006-01-26 2007-08-09 Nitto Giken Kk 表面導電性成形品の製造方法及びそれにより得られる成形品
JP2008083491A (ja) * 2006-09-28 2008-04-10 Epson Imaging Devices Corp 電気光学装置及び電子機器
JP2008216733A (ja) * 2007-03-06 2008-09-18 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 表示素子
JP2009230045A (ja) * 2008-03-25 2009-10-08 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止積層体
JP2009237775A (ja) * 2008-03-26 2009-10-15 Brother Ind Ltd タッチパネル付き表示装置及びその製造方法
JP2010182137A (ja) * 2009-02-06 2010-08-19 Sony Corp タッチパネル及びタッチパネルの製造方法
WO2011080890A1 (ja) * 2009-12-28 2011-07-07 ソニー株式会社 導電性光学素子
JP2011138059A (ja) * 2009-12-28 2011-07-14 Sony Corp 導電性光学素子、タッチパネル、および液晶表示装置
JP2011154585A (ja) * 2010-01-28 2011-08-11 Shoei:Kk タッチパネル
JP2012118762A (ja) * 2010-12-01 2012-06-21 Panasonic Corp タッチパネル
JP2012138019A (ja) * 2010-12-27 2012-07-19 Dainippon Printing Co Ltd タッチパネル付き表示装置
JP2012216084A (ja) * 2011-03-31 2012-11-08 Sony Corp 情報入力装置
JP2013125317A (ja) * 2011-12-13 2013-06-24 Mitsubishi Rayon Co Ltd タッチパネル付き画像表示装置
WO2013125312A1 (ja) * 2012-02-20 2013-08-29 シャープ株式会社 表示装置
CN104115208A (zh) * 2012-02-20 2014-10-22 夏普株式会社 显示装置
JPWO2013125312A1 (ja) * 2012-02-20 2015-07-30 シャープ株式会社 表示装置
JP2014013264A (ja) * 2012-06-08 2014-01-23 Dainippon Printing Co Ltd 画像品位向上用機能フィルム及びそれを用いた表示装置
KR101431686B1 (ko) 2012-07-30 2014-08-20 (주)펜제너레이션스 광학필름 및 이를 이용한 디지털펜 시스템
JP2014194749A (ja) * 2013-02-27 2014-10-09 Hosiden Corp タッチパネル
JP2015011425A (ja) * 2013-06-27 2015-01-19 住友化学株式会社 タッチパネル及びそれを備える画像表示装置
JPWO2015080195A1 (ja) * 2013-11-29 2017-03-16 王子ホールディングス株式会社 光学用シートおよび導電性シート、並びに前記光学用シートを備える表示装置
JP2016004314A (ja) * 2014-06-13 2016-01-12 大日本印刷株式会社 タッチパネル付き表示装置
JP2016009269A (ja) * 2014-06-23 2016-01-18 大日本印刷株式会社 積層材、タッチパネルセンサ、電磁波遮蔽材、及び、画像表示装置
JP2017054068A (ja) * 2015-09-11 2017-03-16 株式会社ミクロ技術研究所 低反射型静電容量方式のタッチパネル機能付き表示装置
JP2020187366A (ja) * 2015-09-24 2020-11-19 三菱ケミカル株式会社 微細凹凸構造体および接合体
JP2021193447A (ja) * 2015-09-24 2021-12-23 三菱ケミカル株式会社 微細凹凸構造体および接合体
JP2019010957A (ja) * 2017-06-30 2019-01-24 矢崎総業株式会社 車両用表示装置
CN111381705A (zh) * 2018-12-29 2020-07-07 北京小米移动软件有限公司 一种终端
WO2023062683A1 (ja) * 2021-10-11 2023-04-20 シャープディスプレイテクノロジー株式会社 表示装置

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