TWI793270B - 表面凹凸片、螢幕、圖像顯示系統及轉印輥 - Google Patents

表面凹凸片、螢幕、圖像顯示系統及轉印輥 Download PDF

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Abstract

一種表面凹凸片、螢幕、圖像顯示系統及轉印輥，表面凹凸片可獲得所顯示圖像的相對正面亮度高、左右60°亮度比及100°亮度差比低且色偏移少。表面凹凸片於至少一表面具有多個凸條與形成於相鄰的兩個凸條之間的凹條，且凸條平均高度與凸條平均間隔比(平均高度/平均間隔)為0.07以上0.40以下，根據凸條頂部中凸條延伸方向上粗糙度曲線求出平均粗糙度為0.10μm以上0.90μm以下，根據將表面凹凸片沿著與凸條延伸方向正交的方向且為表面凹凸片的厚度方向切斷時的剖面形狀的高度資料算出傾斜角而算出傾斜角的頻度數，並由傾斜角的頻度數算出頻度比率為98%以上。

Description

表面凹凸片、螢幕、圖像顯示系統及轉印輥
本發明是有關於一種表面凹凸片、具備表面凹凸片的螢幕、具備螢幕的圖像顯示系統及用以製造表面凹凸片的轉印輥。
對於反射型螢幕而言，要求可向觀察螢幕的所有觀察者顯示亮度(增益)高且亮度差少的圖像。相反，在通常不存在觀察者的方向上，螢幕無需顯示高亮度的圖像，極端地來說，亦可不顯示圖像。為此，需要抑制圖像光朝通常不存在觀察者的方向反射及擴散。
作為先前的反射型螢幕，已知有於具有分散有粒子的光擴散層的光擴散片的背面設置反射層者。但是，先前的螢幕是使圖像光在各個方向上反射/擴散，因此在通常不存在觀察者的方向上亦會顯示圖像。因此，先前的螢幕中，在存在觀察者的方向上所顯示的圖像的亮度降低。
作為具有充分的視野角且實現高的螢幕增益與亮度的均勻性的反射型螢幕，提出有垂直方向的擴散角小於水平方向的擴散角的螢幕(專利文獻1)。另外，專利文獻2中揭示有一種包括透鏡層、反射層以及光控制層的反射螢幕，此處，作為光控制層，揭示有剖面形狀為大致四邊形形狀的凸部與凹部交替地排列的凹凸結構。進而，專利文獻3及專利文獻4中揭示有一種投影 螢幕或反射螢幕，此處，作為透鏡層，使用光柵透鏡(lenticular lens)。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2005-266264號公報
[專利文獻2]日本專利特開2012-226103號公報
[專利文獻3]日本專利特開2000-180967號公報
[專利文獻4]日本專利特開2013-171114號公報
對於反射型螢幕而言，例如要求下述內容。
．抑制圖像光朝假想通常不存在觀察者的區域反射及擴散，所述區域為螢幕的垂直方向的幾乎全部角度的區域及螢幕的水平方向的超過±50°的區域。藉此，與先前的螢幕所顯示的圖像的正面亮度(標準正面亮度)相比，螢幕所顯示的圖像的正面亮度(相對正面亮度)高。
．抑制圖像光朝假想通常不存在觀察者的區域反射及擴散，所述區域為螢幕的水平方向的超過±50°的區域。即，於螢幕所顯示的圖像中，螢幕的水平方向的+60°的亮度與螢幕的水平方向的-60°的亮度的平均值相對於正面亮度的比(左右60°亮度比)低。
．假想存在觀察者的螢幕的水平方向的±50°以內的區域中的圖像的亮度差少。即，於螢幕所顯示的圖像中，螢幕的水平方向的 ±50°以內的區域中的亮度的最大值與亮度的最小值的亮度差相對於正面亮度的比(100°亮度差比)低。
．於假想存在觀察者的區域中，在螢幕所顯示的圖像中色偏移少。
但是，專利文獻1中記載的螢幕中，如專利文獻1的圖3所示，螢幕的水平方向的±50°以內的區域中的螢幕增益(亮度)的最大值(於0°約3)與最小值(於±50°約0.5)的亮度差大。具體而言，由(亮度的最大值-亮度的最小值)/正面亮度×100求出的100°亮度差比為80%以上。另外，於專利文獻2~專利文獻4中記載的螢幕中，螢幕的水平方向的亮度差亦大。此種螢幕無法向觀察螢幕的所有觀察者顯示亮度高且亮度差少的圖像。
本發明提供一種可獲得所顯示的圖像的相對正面亮度高、左右60°亮度比及100°亮度差比低且色偏移少的螢幕的表面凹凸片、具備表面凹凸片的螢幕、具備螢幕的圖像顯示系統及用以製造表面凹凸片的轉印輥。
本發明具有下述實施方式。
<1>一種表面凹凸片，其於至少一表面具有多個凸條與形成於相鄰的兩個所述凸條之間的凹條，且所述表面凹凸片中，所述凸條的平均高度與所述凸條的平均間隔的比(平均高度/平均間隔)為0.07以上、0.40以下，根據所述凸條的頂部中的所述凸條的延伸方向上的粗糙度 曲線所求出的平均粗糙度為0.10μm以上、0.90μm以下，根據將所述表面凹凸片沿著與所述凸條的延伸方向正交的方向且為所述表面凹凸片的厚度方向切斷時的剖面形狀中的高度資料算出傾斜角而算出所述傾斜角的頻度數(T)，根據下述式(A)來算出頻度比率(%)的情況下，頻度比率(%)為98%以上；式(A)：頻度比率(%)=頻度數(T)/頻度數(S)×100
此處，頻度數(S)是根據將所述凸條的平均高度與所述凸條的平均間隔設為相同的正弦曲線所算出的傾斜角的頻度分佈圖中的最多頻度角-2°~89°的範圍中的頻度數的合計，頻度數(T)是於將所述正弦曲線中的最多頻度角設為角度(Mθs)時，根據將所述表面凹凸片沿著與所述凸條的延伸方向正交的方向且為所述表面凹凸片的厚度方向切斷時的剖面形狀中的高度資料所算出的傾斜角的頻度分佈圖中的角度(Mθs)-2°~89°的範圍中的頻度數的合計。
<2>如所述<1>的表面凹凸片，包括基材層以及至少一層的表面層，且於所述表面層的表面具有所述凸條及所述凹條。
<3>如所述<1>的表面凹凸片，其為於基材的至少一表面具有所述凸條及所述凹條的單層片。
<4>一種螢幕，包括如所述<1>至<3>中任一項的表面凹凸片以及反射層。
<5>一種圖像顯示系統，包括如所述<4>的螢幕以及對所述螢幕投射圖像光的投影機。
<6>一種轉印輥，其於表面具有多個凹條與形成於相鄰的兩個所述凹條之間的凸條，且所述轉印輥中，所述凹條的平均深度與所述凹條的平均間隔的比(平均深度/平均間隔)為0.07以上、0.40以下，根據所述凹條的底部中的所述凹條的延伸方向上的粗糙度曲線所求出的平均粗糙度為0.10μm以上、0.90μm以下，根據將所述轉印輥沿與所述凹條的延伸方向正交的方向且為相對於所述轉印輥的中心軸而垂直的方向切斷時的剖面形狀中的深度資料算出傾斜角而算出所述傾斜角的頻度數(T)，根據下述式(A)來算出頻度比率(%)的情況下，頻度比率(%)為98%以上；式(A)：頻度比率(%)=頻度數(T)/頻度數(S)×100
此處，頻度數(S)是根據將所述凹條的平均深度與所述凹條的平均間隔設為相同的正弦曲線所算出的傾斜角的頻度分佈圖中的最多頻度角-2°~89°的範圍中的頻度數的合計，頻度數(T)是於將所述正弦曲線中的最多頻度角設為角度(Mθs)時，根據將所述轉印輥沿著與所述凹條的延伸方向正交的方向且為相對於所述轉印輥的中心軸而垂直的方向切斷時的剖面 形狀中的深度資料所算出的傾斜角的頻度分佈圖中的角度(Mθs)-2°~89°的範圍中的頻度數的合計。
根據本發明的表面凹凸片，可獲得所顯示的圖像的相對正面亮度高、左右60°亮度比及100°亮度差比低且色偏移少的螢幕。
關於本發明的螢幕，所顯示的圖像的相對正面亮度高、左右60°亮度比及100°亮度差比低且色偏移少。
根據本發明的圖像顯示系統，可向觀察螢幕的所有觀察者顯示亮度高、亮度差少且色偏移少的圖像。
根據本發明的轉印輥，可製造本發明的表面凹凸片。
10:表面凹凸片
11:表面凹凸片
12:凸條
12a:頂部
13:凹條
13a:底部
14:基材層
15:表面層
16:基材
20:螢幕
21:螢幕
22:反射層
30:圖像顯示系統
40:投影機
100:轉印輥
101:輥本體
102:凹條
102a:底部
103:凸條
103a:頂部
CS:剖面
CS1:剖面
CS2:剖面
CS3:剖面
D:深度
D1:深度
D2:深度
H:高度
H1:高度
H2:高度
L:圖像光
M:測定區域
O:螢幕的正面的中心點
P:投影機的出光透鏡面的中心點
P1:平均間隔
P2:平均間隔
PFH:自地板至投影機的出光透鏡面的中心點為止的高度
S:分光放射計中的測定點
SCFH:自地板至螢幕的正面的中心點為止的高度(自地板至分光放射計中的測定點為止的高度)
SFH:自地板至螢幕的下端為止的高度
SH:螢幕的垂直方向的長度
SPL:自螢幕的正面的中心點至投影機的出光透鏡面的中心點為止的水平距離
SW:螢幕的水平方向的長度
W5:寬度
141:凸條
141a:凸條的頂部
142:凹條
142a:凹條的底部
151:凸條
151a:凸條的頂部
161:凸條
161a:凸條的頂部
162:凹條
圖1是示意性表示本發明的表面凹凸片的一例的放大立體圖。
圖2是示意性表示本發明的表面凹凸片的另一例的放大立體圖。
圖3是本發明的表面凹凸片的表面的雷射顯微鏡像的一例。
圖4是利用雷射顯微鏡對本發明的表面凹凸片的表面進行測定而獲得的凸條的頂部中的凸條的延伸方向上的粗糙度曲線的一例。
圖5是用以對凸條的平均高度、凸條的平均間隔及凸條的頂 部的平均粗糙度的求法進行說明的放大立體圖。
圖6是用以對凸條彎曲時的凸條的頂部的平均粗糙度的求法進行說明的放大立體圖。
圖7是示意性表示本發明的轉印輥的一例的表面附近的放大立體圖。
圖8是用以對凹條的平均深度、凹條的平均間隔及凹條的底部的平均粗糙度的求法進行說明的放大立體圖。
圖9是用以對凹條彎曲時的凹條的底部的平均粗糙度的求法進行說明的放大立體圖。
圖10是示意性表示本發明的螢幕的一例的放大立體圖。
圖11是示意性表示本發明的螢幕的另一例的放大立體圖。
圖12是示意性表示本發明的圖像顯示系統的一例的概略構成圖。
圖13是示意性表示本發明的圖像顯示系統中的螢幕的一例的放大立體圖。
圖14是表示測定正面亮度時的螢幕、投影儀及測定點的配置的俯視圖。
圖15是表示測定正面亮度時的螢幕、投影儀及測定點的配置的側面圖。
圖16是表示測定螢幕的水平方向的+60°及螢幕的水平方向的-60°中的亮度時的螢幕、投影儀及測定點的配置的俯視圖。
圖17是表示測定螢幕的水平方向的±50°以內的區域中的亮 度時的螢幕、投影儀及測定點的配置的俯視圖。
圖18(a)、圖18(b)、圖18(c)是對算出表面凹凸片的頻度數(T)的方法進行說明的概略圖。
圖19(a)、圖19(b)是表示表面凹凸片的表面凹凸的高度的測定資料的提取資料的一部分的圖，且為對傾斜角進行說明的概略圖。
圖20(a)、圖20(b)是表示表面凹凸片或正弦曲線中的傾斜角與頻度的關係的圖表的一例。
圖21是對比較例5中的表面凹凸片的結構進行說明的概略圖。
圖22是對比較例6中的表面凹凸片的結構進行說明的概略圖。
圖23是對比較例7中的表面凹凸片的結構進行說明的概略圖。
圖24是實施例2~實施例5的傾斜角的頻度分佈圖。
圖25是比較例1~比較例7的傾斜角的頻度分佈圖。
本說明書及申請專利範圍中的各用語是指以下內容。
所謂「正面」是指螢幕所映出的圖像等被觀察者觀察的一側的面。
所謂「螢幕的正面方向」是指相對於螢幕的正面的法線方向(圖13中的x軸方向)。
所謂「螢幕的垂直方向」是指在設置螢幕時，與螢幕的正面方向正交的螢幕的上下方向(圖13中的z軸方向)。
所謂「螢幕的水平方向」是指在設置螢幕時，與螢幕的正面方向正交且與螢幕的垂直方向正交的螢幕的左右方向(圖13中的y軸方向)。
所謂「螢幕的水平面」是指相對於地面而水平的面，且為相對於所述正面而垂直的面。螢幕的水平面與螢幕的水平方向平行，且與螢幕的正面方向平行。
所謂「水平方向的角度」是指螢幕的正面的中心點的法線(0°)與相對於中心點的法線而向水平方向傾斜，且以中心點為起點的線所形成的角度。例如，「水平方向的+60°」是指螢幕的正面的中心點的法線與相對於中心點的法線而向水平方向且為自觀察者觀察的右側傾斜，且以中心點為起點的線所形成的角度為60°，「水平方向的-60°」是指螢幕的正面的中心點的法線與相對於中心點的法線而向水平方向且為自觀察者觀察的左側傾斜，且以中心點為起點的線所形成的角度為60°。
所謂「垂直方向的角度」是指螢幕的正面的中心點的法線(0°)與相對於中心點的法線而向垂直方向傾斜，且以中心點為起點的線所形成的角度。
所謂「主成分為樹脂」是指於基材層、接著層、黏著層、表面層或基材中，以固體成分換算計包含50質量百分比(%)以上、較佳為80質量%以上、更佳為90質量%以上的樹脂。
以下，一邊示出圖示例一邊對本發明的各實施方式進行詳細說明。
為了方便說明，圖1、圖2、圖5~圖17中的尺寸比與實際者不同。
<表面凹凸片>
本發明的表面凹凸片於至少一表面具有多個凸條與形成於相鄰的兩個凸條之間的凹條。換言之，本發明的表面凹凸片於至少一表面形成有多個凸條與相鄰的兩個凸條之間的凹條。
圖1是示意性表示本發明的表面凹凸片的一例的放大立體圖。
表面凹凸片10為包括基材層14以及形成於基材層14的其中一表面的表面層15的積層片，且於表面層15的表面具有多個凸條12與形成於相鄰的兩個凸條12之間的凹條13。換言之，本發明的表面凹凸片10於表面層15的表面形成有多個凸條12與相鄰的兩個凸條12之間的凹條13。於凸條12的表面、尤其是頂部12a形成有微細凹凸，但於圖1中，省略微細凹凸的圖示。以下，亦將本發明的表面凹凸片為積層片的情況簡稱為表面凹凸積層片。
圖2是示意性表示本發明的表面凹凸片的另一例的放大立體圖。
表面凹凸片11為於基材16的其中一表面具有多個凸條12與形成於相鄰的兩個凸條12之間的凹條13的單層片。換言之，本發明的表面凹凸片11於基材16的其中一表面形成有多個凸條12 與相鄰的兩個凸條12之間的凹條13。於凸條12的表面、尤其是頂部12a形成有微細凹凸，但於圖2中，省略微細凹凸的圖示。以下，亦將本發明的表面凹凸片為單層片的情況簡稱為表面凹凸單層片。
圖3是本發明的表面凹凸片的表面的雷射顯微鏡像的一例。圖4是根據本發明的表面凹凸片的表面的雷射顯微鏡像而獲得的一個凸條的頂部中的凸條的延伸方向上的粗糙度曲線的一例。
如表面凹凸片的表面的雷射顯微鏡像及凸條的頂部的粗糙度曲線所示，於凸條的表面，尤其是頂部形成有微細凹凸。
於將表面凹凸片用作構成螢幕的一部分的構件的情況下，表面凹凸積層片中的基材層較佳為具有透光性。
就使螢幕具有可撓性的方面而言，表面凹凸積層片中的基材層較佳為主成分為樹脂。作為樹脂的種類，可列舉硬化型樹脂的硬化物、熱塑性樹脂，就使螢幕具有可撓性的方面而言，較佳為熱塑性樹脂。作為熱塑性樹脂，可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate)(以下，亦記為「PET」)、聚萘二甲酸乙二酯(polyethylene naphthalate)、聚碳酸酯(polycarbonate)、聚醚碸(polyether sulfone)、聚烯烴等(polyolefin)。樹脂可使用一種或組合使用兩種以上。
表面凹凸積層片中的基材層的積層構成可為單層，另外，積層構成亦可為多層。於表面凹凸積層片中的基材層由多層 構成的情況下，可使用將折射率不同的兩種透明樹脂層交替地積層而成的基材層(亦稱為交替積層體)。於將此種交替積層體中的具有可見光的反射功能的交替積層體用作基材層的情況下，在製作包含表面凹凸積層片的螢幕時，亦可不設置後述的反射層。
就可獲得更適宜的相對正面亮度等方面而言，表面凹凸積層片中的基材層較佳為於表面未形成凹凸且基材層表面(基材層與表面層的界面)平滑。
於表面凹凸積層片中的基材層的主成分為樹脂的情況下，就可獲得更適宜的相對正面亮度等方面而言，基材層的厚度較佳為75μm以上、2000μm以下，更佳為100μm以上、1000μm以下，尤佳為150μm以上、500μm以下，特佳為200μm以上、300μm以下。於表面凹凸積層片中的基材層為交替積層體的情況下，就反射性及成本的方面而言，基材層的厚度較佳為0.05μm以上、50μm以下，更佳為0.1μm以上、30μm以下。
關於表面凹凸積層片，可於基材層與表面層之間或基材層與基材層之間形成接著層或黏著層。接著層或黏著層可將基材層與表面層適宜地接著並加以固定。接著層或黏著層較佳為主成分為樹脂。作為樹脂的種類，並無特別限定，例如可列舉丙烯酸樹脂(acrylic)等。
於將表面凹凸片用作構成螢幕的一部分的構件的情況下，表面凹凸積層片中的表面層較佳為具有透光性。
就容易形成凸條及凹條的方面而言，表面凹凸積層片中的表 面層較佳為主成分為樹脂。作為樹脂的種類，可列舉硬化型樹脂的硬化物、熱塑性樹脂，就容易形成凸條及凹條的方面而言，較佳為硬化型樹脂的硬化物。作為硬化型樹脂，可列舉電離放射線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂，就容易形成凸條及凹條的方面而言，較佳為電離放射線硬化型樹脂。作為電離放射線硬化型樹脂，可列舉光硬化型樹脂(紫外線硬化型樹脂)、電子束硬化型樹脂等。表面凹凸積層片的表面層較佳為主成分為紫外線硬化型樹脂。作為紫外線硬化型樹脂，可列舉丙烯酸樹脂、聚胺酯(urethane)樹脂、乙烯基酯(vinyl ester)樹脂、聚酯．醇酸(polyester alkyd)樹脂等，其中，較佳為丙烯酸樹脂。樹脂可使用一種或組合使用兩種以上。
就可獲得更適宜的相對正面亮度等方面而言，表面凹凸積層片中的表面層的厚度較佳為5μm以上、100μm以下，更佳為10μm以上、50μm以下，尤佳為15μm以上、30μm以下。
於將表面凹凸片用作構成螢幕的一部分的構件的情況下，表面凹凸單層片中的基材較佳為具有透光性。
就使螢幕具有可撓性的方面及容易形成凸條及凹條的方面而言，表面凹凸單層片中的基材較佳為主成分為樹脂。作為樹脂的種類，可列舉硬化型樹脂的硬化物、熱塑性樹脂，就使螢幕具有可撓性的方面、容易形成凸條及凹條的方面而言，較佳為熱塑性樹脂。樹脂可使用一種或組合使用兩種以上。
就可獲得更適宜的相對正面亮度等方面而言，表面凹凸單層 片中的基材的厚度較佳為75μm以上、2000μm以下，更佳為100μm以上、1000μm以下，尤佳為150μm以上、500μm以下，特佳為200μm以上、300μm以下。
凸條的平均高度較佳為0.35μm以上、40μm以下，更佳為0.7μm以上、30μm以下，尤佳為1μm以上、24μm以下，進而更佳為3μm以上、20μm以下，特佳為5μm以上、12μm以下。就可獲得更適宜的相對正面亮度或色偏移抑制性的方面而言，較佳實施方式是凸條的平均高度為所述範圍內的情況。
凸條的平均高度是以下述方式求出。
使用雷射顯微鏡，在物鏡50倍、測定間距0.1μm的條件下測定表面凹凸片的表面凹凸。繼而，如圖5所示，對剖面形狀進行測定，所述剖面形狀相當於表面凹凸片沿著和凸條12的延伸方向正交的方向且為表面凹凸片的厚度方向切斷時的剖面。對高度H1進行測定，所述高度H1為自與凸條12鄰接的其中一凹條13的底部13a至凸條12的頂部12a為止的高度。同樣地，對高度H2進行測定，所述高度H2為自與凸條12鄰接的另一凹條13的底部13a至凸條12的頂部12a為止的高度。將高度H1與高度H2的平均值設為凸條12的高度H。針對隨機選擇的5部位的凸條12，分別求出高度H。求出5部位的凸條12的高度H的平均值，並將其設為凸條12的平均高度。
凸條的平均間隔較佳為5μm以上、100μm以下，更佳為10μm以上、75μm以下，尤佳為15μm以上、55μm以下，特 佳為20μm以上、40μm以下。就可獲得更適宜的相對正面亮度或色偏移抑制性的方面而言，較佳實施方式是凸條的平均間隔為各較佳範圍內的情況。
凸條的平均間隔是以下述方式求出。
使用雷射顯微鏡，在物鏡50倍、測定間距0.1μm的條件下測定表面凹凸片的表面凹凸。繼而，如圖5所示，對與將表面凹凸片沿著和凸條12的延伸方向正交的方向且為表面凹凸片的厚度方向切斷時的剖面相當的剖面形狀進行測定。求出自隨機選擇的成為基準的凸條12的頂部12a至相鄰的5根凸條12的頂部12a為止的寬度W5。將寬度W5加以5等分，並將所得的值設為凸條12的平均間隔。
凸條的平均高度與凸條的平均間隔的比(平均高度/平均間隔)即凸條的縱橫比為0.07以上、0.40以下，較佳為0.09以上、0.40以下，更佳為0.12以上、0.30以下。以後述的平均粗糙度為0.10μm以上、0.90μm以下為前提，若凸條的縱橫比為所述範圍的下限值以上，則藉由與平均粗糙度的協同效果而螢幕所顯示的圖像的100°亮度差比變低。其結果，可於假想存在觀察者的螢幕的水平方向的±50°以內的區域不產生大的亮度差異來顯示圖像。以後述的平均粗糙度為0.10μm以上、0.90μm以下為前提，若凸條的縱橫比為所述範圍的上限值以下，則藉由與平均粗糙度的協同效果而螢幕所顯示的圖像的左右60°亮度比變低。其結果，可抑制圖像光朝假想通常不存在觀察者的螢幕的水平方向的超過±50° 的區域反射及擴散，相應地，相對正面亮度提高。
根據凸條的頂部中的凸條的延伸方向上的粗糙度曲線所求出的平均粗糙度只要為0.10μm以上即可，較佳為0.12μm以上。另外，根據凸條的頂部中的凸條的延伸方向上的粗糙度曲線所求出的平均粗糙度只要為0.90μm以下即可，較佳為0.70μm以下，更佳為0.50μm以下，尤佳為0.40μm以下，進而更佳為0.30μm以下，特佳為0.29μm以下。以凸條的縱橫比為0.07以上、0.40以下為前提，若凸條的頂部的平均粗糙度為所述範圍的下限值以上，則藉由與凸條的縱橫比的協同效果而螢幕所顯示的圖像的色偏移少。其結果，相對於位於螢幕的水平方向的任一方向的觀察者而言，亦不易引起螢幕所顯示的圖像的色變化。以凸條的縱橫比為0.07以上、0.40以下為前提，若凸條的頂部的平均粗糙度為所述範圍的上限值以下，則藉由與凸條的縱橫比的協同效果而可抑制在螢幕的垂直方向上進行反射/擴散的圖像光，且螢幕所顯示的圖像的相對正面亮度變高。其結果，螢幕的正面所顯示的圖像變得明亮。再者，認為根據凸條的頂部中的凸條的延伸方向上的粗糙度曲線所求出的平均粗糙度是由形成於凸條12的表面、尤其是頂部12a的微細凹凸所引起的。
凸條的頂部的平均粗糙度是以下述方式求出。
使用雷射顯微鏡，在物鏡50倍、測定間距0.1μm的條件下測定表面凹凸片的表面凹凸。繼而，如圖5所示，對表面凹凸片沿著凸條12的棱線且沿表面凹凸片的厚度方向切斷時的剖面CS (由圖中虛線包圍的部分)相當的剖面形狀進行測定。根據與剖面CS相當的剖面形狀，獲取凸條12的頂部12a中的凸條12的延伸方向上的粗糙度曲線(基準長度1：200μm)。根據粗糙度曲線，並依據依照日本工業標準(Japanese Industrial Standards，JIS)B 0601：1994的計算式來求出算術平均粗糙度Ra。針對隨機選擇的5部位的凸條12的頂部12a，分別求出算術平均粗糙度Ra。求出5部位的凸條12的頂部12a的算術平均粗糙度Ra的平均值，並將其設為凸條12的頂部12a的平均粗糙度。
於凸條彎曲的情況下，如圖6所示，將沿著凸條12的棱線以規定間隔(直線距離40μm)設置的點連結而引出直線(圖中虛線)。對與每條直線的剖面CS1、剖面CS2、剖面CS3．．．(由圖中虛線包圍的部分)相當的剖面形狀進行測定。根據與剖面CS1、剖面CS2、剖面CS3相當的剖面形狀，分別獲取凸條12的頂部12a及其附近的凸條12的延伸方向上的粗糙度曲線，將該些粗糙度曲線連接起來而獲取最終的粗糙度曲線(基準長度1：200μm)。再者，於圖6中，為了意圖更容易明瞭地說明凸條12的彎曲，省略如圖5般在凸條12的延伸方向上所存在的微細凹凸的圖示。
表面凹凸片的凸條的頂部的平均粗糙度依存於後述的轉印輥的凹條的底部的平均粗糙度。轉印輥的凹條的底部的平均粗糙度可藉由適當設定後述的轉印輥的製造條件等來調整。
根據將本發明的表面凹凸片沿與凸條的延伸方向正交的方向且為表面凹凸片的厚度方向切斷時的剖面形狀中的高度資 料算出傾斜角而算出傾斜角的頻度數(T)，根據下述式(A)來算出頻度比率(%)的情況下，頻度比率(%)為98%以上，較佳為100%以上，更佳為105%以上，尤佳為108%以上。再者，頻度比率(%)較佳為300%以下，更佳為200%以下。
式(A)：頻度比率(%)=頻度數(T)/頻度數(S)×100
此處，頻度數(S)是根據將凸條的平均高度與凸條的平均間隔設為相同的正弦曲線(sine curve)所算出的傾斜角的頻度分佈圖中的最多頻度角-2°~89°的範圍中的頻度數的合計。另外，頻度數(T)是於將正弦曲線中的最多頻度角設為角度(Mθs)時，根據將表面凹凸片沿著與凸條的延伸方向正交的方向且為表面凹凸片的厚度方向切斷時的剖面形狀中的高度資料，所算出的傾斜角的頻度分佈圖中的角度(Mθs)-2°~89°的範圍中的頻度數的合計。
更具體而言，頻度數(T)是以如下方式算出。
首先，使用雷射顯微鏡(基恩士(KEYENCE)公司製造，VK-8500)，在物鏡50倍、高度方向的測定間距0.05μm的條件下獲取表面凹凸片10的測定區域M(參照圖18(a))的高度資料。此時，測定間隔在與表面凹凸片10的凸條12的延伸方向正交的方向(相當於圖18(a)的y方向)及表面凹凸片10的凸條12的延伸方向(相當於圖18(a)的z方向)上分別設為0.2913μm。再者，測定區域M設為在與表面凹凸片10的凸條12的延伸方向 正交的方向(相當於圖18(a)的y方向)上成為295.0869μm(與1014個資料對應)且在表面凹凸片10的凸條12的延伸方向(相當於圖18(a)的z方向)上成為215.8533μm(與742個資料對應)的區域。此處，圖18(b)是將與表面凹凸片10的凸條12的延伸方向正交的方向(y方向)、表面凹凸片10的凸條12的延伸方向(z方向)分別設為座標軸並以座標(y,z)的形式表示所獲得的表面凹凸片10的表面凹凸的高度的測定資料的測定位置的影像圖。
繼而，於利用所述測定方法而獲得的表面凹凸片10的表面凹凸的高度的測定資料中，提取例如座標(1,β)至座標(1014,β)的位置的資料。如圖18(c)所示，所提取的測定資料是以0.2913μm的間隔對將表面凹凸片10在z軸上的β值的位置沿與凸條12的延伸方向正交的方向(y方向)且為表面凹凸片10的厚度方向(x方向)切斷時的剖面進行測定而得的表面凹凸片10的表面凹凸的高度的測定資料。而且，為了修正各座標軸中的測定資料的誤差，針對座標(1,β)至座標(1005,β)的測定資料，將座標(n,β)中的資料的修正值定為座標(n,β)~座標(n+9,β)這10點平均值並加以修正。
繼而，根據以所述方式獲得的測定資料來求出傾斜角。圖19(a)是根據針對表面凹凸片10的表面凹凸的高度的測定資料的座標(1,β)至座標(1005,β)的提取資料的修正值，將與凸條12的延伸方向正交的方向(y方向)繪製為橫軸且將表面凹凸 片10的厚度方向(x方向)繪製為縱軸而成者來表示一部分的圖。此時，在將連結表面凹凸片10的表面凹凸的高度的測定資料的座標(1,β)至座標(1004,β)的提取資料的修正值Av(n,β)與Av(n+1,β)這兩點而成的線設為L(n,β)，所述修正值Av(n,β)為(n,β)中的資料的修正值，所述修正值Av(n+1,β)為(n+1,β)中的資料的修正值，並將與y軸形成的角設為傾斜角θs(n,β)時，傾斜角θs(n,β)是根據下述式(10)而求出。
式(10)：傾斜角(n,β)=arctan(h/0.2913)
此處，h為Av(n,β)與Av(n+1,β)這兩點的高度的差的絕對值(h的長度單位設為μm)。另外，傾斜角(n,β)設為絕對值。即，圖19(a)的傾斜角θs(n,β)及圖19(b)的傾斜角θs(n+1,β)均為正值。例如，針對實施例1的表面凹凸片，利用所述方法進行測定，當將橫軸設為傾斜角、將縱軸設為頻度並加以圖表化時，成為如圖20(a)般的頻度分佈圖。
另一方面，頻度數(S)是根據將成為測定對象的表面凹凸片的凸條的平均高度與凸條的平均間隔設為相同的正弦曲線所算出的傾斜角的頻度分佈圖中的最多頻度角-2°~89°的範圍中的頻度數的合計。此處，正弦曲線中的所有凸條具有與表面凹凸片的凸條的平均高度相同的高度，正弦曲線中的凸條的間隔一定，且所有間隔為與表面凹凸片的凸條的平均間隔相同的間隔。 例如，實施例1的表面凹凸片的凸條的平均高度為7.1μm，凸條的平均間隔為36μm，因此根據凸條的平均高度與凸條的平均間隔相同的正弦曲線所算出的傾斜角的頻度分佈圖(理論值)如圖20(b)所述。此處，於根據凸條的平均高度與凸條的平均間隔相同的正弦曲線所算出的傾斜角的頻度分佈圖中，成為最多頻度的傾斜角(以下，亦稱為最多頻度角)為31°，因此最多頻度角-2°成為29°。因此，實施例1(圖20(b))中，頻度數(S)成為29°~89°的範圍中的頻度數的合計，實際的頻度數的合計值成為215922。另一方面，成為測定對象的表面凹凸片中的頻度數(T)成為29°~89°的範圍中的頻度數的合計，實際的頻度數的合計值成為249387。其結果，根據式(A)而算出的頻度比率(%)成為115%。
於本說明書中，頻度比率(%)為98%以上是指觀測到大量的90°以外的高傾斜角的頻度。於螢幕或擴散片中，就光擴散性的觀點而言，具有高傾斜角的頻度多的凹凸形狀的片與具有低傾斜角的頻度多的凹凸形狀的片相比，有性能優化的傾向。進而，於本發明的表面凹凸片在凸條的頂部中的凸條的延伸方向上亦具有微細的凹凸形狀的情況下，光擴散性進一步增加，因此與將凸條的平均高度與凸條的平均間隔設為相同的正弦曲線中的頻度分佈相比，於更高的傾斜角側觀測到大量的頻度。如此，本發明是在評價光擴散性時，發現頻度比率(%)等新的指標者，且為發現於滿足規定值以上的頻度比率(%)的情況下，可達成良好的光擴 散性者。
如上所述，本發明的表面凹凸片有效用作光擴散片。另外，本發明的表面凹凸片亦可用於螢幕用途、採光用途等。本發明的表面凹凸片作為構成後述的本發明的螢幕的構件尤其有效用。
再者，本發明的表面凹凸片只要為於至少一表面具有多個凸條且凸條的縱橫比及凸條的頂部的平均粗糙度處於特定的範圍內者即可，並不限定於圖示例者。
例如，本發明的表面凹凸片亦可於兩面具有凸條及凹條。
凸條可呈直線狀延伸，亦可一邊彎曲一邊延伸。
凸條可彼此平行地沿一方向延伸，亦可具有不與其他凸條平行的部分。
凸條可於中途分支。凹條可於中途分支。
就容易發揮本發明的效果的方面而言，凸條及凹條的表面所形成的形狀較佳為如圖示例所示般的波形(波狀形狀)，所述凸條及凹條的表面所形成的形狀為將表面凹凸片沿與凸條的延伸方向正交的方向且為表面凹凸片的厚度方向切斷時的剖面中的凸條及凹條的表面所形成的形狀。
另外，本發明的表面凹凸片並非光柵結構，而是將表面凹凸片沿著與凸條的延伸方向正交的方向且為表面凹凸片的厚度方向切斷時的剖面中，且形成凸部的曲線與形成凹部的曲線交替地連接而連續。因此，於構成將表面凹凸片沿著與凸條的延伸方向正 交的方向且為表面凹凸片的厚度方向切斷時的剖面的曲線中，不存在切線的傾斜度的變化率極大的部位。
<表面凹凸片的製造方法>
本發明的表面凹凸片的製造方法包括：塗佈樹脂的步驟；以及使該樹脂硬化，同時形成具有規定的凹凸形狀的表面層的步驟。此處，樹脂較佳為塗佈於基材上，該基材可為構成表面凹凸片的構件，亦可為自表面層去除者。
作為本發明的表面凹凸片的製造方法中所使用的樹脂，並無特別限定，例如可列舉：電離放射線硬化型樹脂或熱硬化型樹脂、熱可塑型樹脂等。就容易形成凸條及凹條的方面而言，較佳為使用電離放射線硬化型樹脂，作為電離放射線硬化型樹脂，可列舉光硬化型樹脂(紫外線硬化型樹脂)、電子束硬化型樹脂等。其中，形成表面層的樹脂的主成分較佳為紫外線硬化型樹脂。作為紫外線硬化型樹脂，可列舉丙烯酸樹脂、聚胺酯樹脂、乙烯基酯樹脂、聚酯．醇酸樹脂等，其中，較佳為丙烯酸樹脂。樹脂可使用一種或組合使用兩種以上。
在塗佈樹脂時，為了提高塗佈性，可使用溶劑。作為溶劑，例如可列舉：己烷(hexane)、庚烷(heptane)、辛烷(octane)、甲苯(toluene)、二甲苯(xylene)、乙基苯(ethylbenzene)、環己烷(cyclohexane)、甲基環己烷(methylcyclohexane)等碳氫化合物類；二氯甲烷(dichloromethane)、三氯乙烷(trichloroethane)、三氯乙烯(trichloroethylene)、四氯乙烯(tetrachloroethylene)、 二氯丙烷(dichloropropane)等鹵化碳氫化合物類；甲醇(methanol)、乙醇(ethanol)、丙醇(propanol)、異丙醇(isopropyl alcohol)、丁醇(butanol)、異丁醇(isobutyl alcohol)、二丙酮醇(diacetone alcohol)等醇類；二乙醚(diethyl ether)、二異丙醚(diisopropyl ether)、二噁烷(dioxane)、四氫呋喃(tetrahydrofuran)等醚類；丙酮(acetone)、甲基乙基酮(methyl ethyl ketone)、甲基異丁基酮(methyl isobutyl ketone)、異佛爾酮(isophorone)、環己酮(cyclohexanone)等酮類；乙酸甲酯(methyl acetate)、乙酸乙酯(ethyl acetate)、乙酸丁酯(butyl acetate)、乙酸異丁酯(isobutyl acetate)、乙酸戊酯(amyl acetate)、丁酸乙酯(ethyl butyrate)等酯類；乙二醇單甲醚(ethylene glycol monomethyl ether)、乙二醇單乙醚(ethylene glycol monoethyl ether)、乙二醇單甲醚乙酸酯(ethylene glycol monomethyl ether acetate)、丙二醇單甲醚(propylene glycol monomethyl ether)、丙二醇單乙醚(propylene glycol monoethyl ether)、丙二醇單甲醚乙酸酯(propylene glycol monomethyl ether acetate)等多元醇(polyol)。
於塗佈樹脂時所使用的塗佈液中，亦可包含聚合起始劑。例如，於本發明的製造方法中所使用的樹脂為紫外線硬化性的情況下，較佳為於塗佈液中添加苯乙酮(acetophenone)類、二苯甲酮(benzophenone)等光聚合起始劑。
於本發明的表面凹凸片的製造方法中所使用的基材中，可使用硬化型樹脂的硬化物、熱塑性樹脂。就使螢幕具有可 撓性的方面而言，較佳為使用熱塑性樹脂，作為熱塑性樹脂，可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯(以下，亦記為「PET」)、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚醚碸、聚烯烴等。樹脂可使用一種或組合使用兩種以上。再者，基材的厚度較佳為75μm以上、2000μm以下，更佳為100μm以上、1000μm以下，尤佳為150μm以上、500μm以下，特佳為200μm以上、300μm以下。
樹脂的塗佈量較佳為1g/m2以上，更佳為2g/m2以上，尤佳為3g/m2以上。另外，樹脂的塗佈量較佳為50g/m2以下。另外，所形成的表面層的厚度較佳為5μm以上、100μm以下，更佳為10μm以上、50μm以下，尤佳為15μm以上、30μm以下。作為塗佈方法，可使用通常的樹脂的塗佈裝置，作為塗佈裝置，例如可列舉：刮刀塗佈機(blade coater)、氣刀塗佈機(air knife coater)、輥塗佈機(roll coater)、棒塗佈機(bar coater)、凹版塗佈機(gravure coater)、微型凹版塗佈機(micro gravure coater)、棒刮刀塗佈機(rod blade coater)、模唇塗佈機(lip coater)、模塗佈機(die coater)、簾式塗佈機(curtain coater)等。
於本發明的表面凹凸片的製造方法中，視需要亦可包括如下步驟：於基材層與表面層之間或於基材層與基材層之間形成接著層或黏著層。於該情況下，較佳為將接著層形成用組成物或黏著層形成用組成物塗佈於基材層上，進而於其上形成表面層。接著層形成用組成物或黏著層形成用組成物例如可列舉丙烯酸系樹脂、苯乙烯系(styrene)樹脂、環氧系(epoxy)樹脂、矽酮系 (silicone)樹脂、聚酯系(polyester)樹脂、聚胺基甲酸酯系(polyurethane)樹脂等樹脂等。該些樹脂可僅使用一種，亦可將兩種以上混合或共聚來使用。另外，於接著層形成用組成物或黏著層形成用組成物中，亦可包含作為添加劑的交聯劑、抗氧化劑、金屬腐蝕防止劑、黏著賦予劑、矽烷偶合(silane coupling)劑、紫外線吸收劑、受阻胺系(hindered amine)化合物等光穩定劑、填充劑、離子性液體等。
而且，於樹脂上形成規定的凹凸形狀的步驟中，例如較佳為採用使用與表面凹凸片的表面的凸條及凹條對應的壓印(imprint)法，所述壓印法於表面具有凹條及凸條的壓模(stamper)。
作為壓印法，可列舉電離放射線壓印法、熱壓印法。電離放射線壓印法亦稱為光壓印法，且為如下方法：使用壓模按壓塗佈於基材(基材層)表面的包含電離放射線硬化型樹脂作為主成分的樹脂組成物，並照射電離放射線(紫外線、電子束等)而使樹脂組成物中的電離放射線硬化型樹脂硬化，藉此將壓模的表面凹凸轉印至塗佈於基材層表面的包含電離放射線硬化型樹脂的層的表面。熱壓印法為如下方法：使用壓模按壓經加熱的基材的表面後，進行冷卻，藉此將壓模的表面凹凸轉印至基材的表面。作為壓印法，就表面凹凸片的生產性良好的方面而言，較佳為電離放射線壓印法(光壓印法)。
作為壓模，就表面凹凸片的生產性良好的方面而言，較 佳為於表面具有多個凹條與形成於相鄰的兩個凹條之間的凸條的轉印輥。此處，所謂轉印輥是指用以使多個凹條及多個凸條轉印(成型)至與轉印輥接觸的片狀物的輥。轉印輥的凹條為與表面凹凸片的凸條對應的形狀，轉印輥的凸條為與表面凹凸片的凹條對應的形狀。
轉印輥中的凹條可沿轉印輥的表面的周方向延伸，亦可與轉印輥的周方向正交地延伸。尤其，於將表面凹凸片用於螢幕用途或採光用途的情況下，大多情況是螢幕等的水平方向為長邊，進而，理想的是光在螢幕等的水平方向上擴散，因此轉印輥中的凹條較佳為與轉印輥的周方向正交地延伸。轉印輥的表面的材質可為金屬，亦可為樹脂。於轉印輥的表面的材質為樹脂的情況下，可將樹脂製的輥用作轉印輥，另外，亦可將如下輥用作轉印輥，所述輥是將形成有多個凹條及多個凸條的樹脂製片捲繞於樹脂製以外的輥(例如金屬輥)而獲得。於轉印輥的表面的材質為金屬的情況下，亦有時將轉印輥稱為金屬製轉印輥或轉印金屬輥。
於在電離放射線壓印法(光壓印法)中使用紫外線來使樹脂組成物中的電離放射線硬化型樹脂硬化的情況下，可使用金屬鹵化物燈(metal halide lamp)。於該情況下，為了不使基材變形地充分進行電離放射線硬化型樹脂的硬化，紫外線的照射強度較佳為300mJ/cm2以上、1000mJ/cm2以下。
圖7是示意性表示本發明的轉印輥的一例的表面附近的放大立體圖。
轉印輥100於輥本體101的其中一表面具有多個凹條102與形成於相鄰的兩個凹條102之間的凸條103。換言之，本發明的轉印輥100於輥本體101的其中一表面形成有多個凹條102與相鄰的兩個凹條102之間的凸條103。於凹條102的表面、尤其是底部102a形成有微細凹凸，但於圖7中，省略微細凹凸的圖示。
凹條的平均深度較佳為0.35μm以上、40μm以下，更佳為0.7μm以上、30μm以下，尤佳為1μm以上、24μm以下，進而更佳為3μm以上、20μm以下，特佳為5μm以上、12μm以下。就可獲得更適宜的相對正面亮度或色偏移抑制性的方面而言，較佳實施方式是凹條的平均深度為各較佳範圍內的情況。
凹條的平均深度是以下述方式求出。
使用雷射顯微鏡，在物鏡50倍、測定間距0.1μm的條件下測定轉印輥的表面凹凸。繼而，如圖8所示，對剖面形狀進行測定，所述剖面形狀相當於與將轉印輥的表面附近沿和凹條102的延伸方向正交的方向且為朝向轉印輥的中心的方向切斷時的剖面。對自與凹條102鄰接的其中一凸條103的頂部103a至凹條102的底部102a為止的深度D1進行測定。同樣地，對自與凹條102鄰接的另一凸條103的頂部103a至凹條102的底部102a為止的深度D2進行測定。將深度D1與深度D2的平均值設為凹條102的深度D。針對隨機選擇的5部位的凹條102，分別求出深度D。求出5部位的凹條102的深度D的平均值，並將其設為凹條102的平均深度。
凹條的平均間隔較佳為5μm以上、100μm以下，更佳為10μm以上、75μm以下，尤佳為15μm以上、55μm以下，特佳為20μm以上、40μm以下。就可獲得更適宜的相對正面亮度或色偏移抑制性的方面而言，較佳實施方式是凹條的平均間隔為各較佳範圍內的情況。
凹條的平均間隔是以下述方式求出。
使用雷射顯微鏡，在物鏡50倍、測定間距0.1μm的條件下測定轉印輥的表面凹凸。繼而，如圖8所示，對剖面形狀進行測定，所述剖面形狀相當於與將轉印輥的表面附近沿和凹條102的延伸方向正交的方向且為朝向轉印輥的中心的方向切斷時的剖面。求出自隨機選擇的成為基準的凹條102的底部102a至相鄰的5根凹條102的底部102a為止的寬度W5。將寬度W5加以5等分，並將所得的值設為凹條102的平均間隔。
凹條的平均深度與凹條的平均間隔的比(平均深度/平均間隔)即凹條的縱橫比為0.07以上、0.40以下，較佳為0.09以上、0.40以下，更佳為0.12以上、0.30以下。若凹條的縱橫比為所述範圍內，則可適宜地製造凸條的縱橫比為所述範圍內的表面凹凸片。
根據凹條的底部中的凹條的延伸方向上的粗糙度曲線所求出的平均粗糙度只要為0.10μm以上即可，較佳為0.12μm以上。另外，根據凹條的底部中的凹條的延伸方向上的粗糙度曲線所求出的平均粗糙度只要為0.90μm以下即可，較佳為0.70μm以 下，更佳為0.50μm以下，尤佳為0.40μm以下，進而更佳為0.30μm以下，特佳為0.29μm以下。若凹條的底部的平均粗糙度為所述範圍內，則可適宜地製造凸條的頂部的平均粗糙度為所述範圍內的表面凹凸片。再者，認為根據凹條的底部中的凹條的延伸方向上的粗糙度曲線所求出的平均粗糙度是由形成於凹條102的表面、尤其是底部102a的微細凹凸所引起的粗糙度。
凹條的底部的平均粗糙度是以下述方式求出。
使用雷射顯微鏡，在物鏡50倍、測定間距0.1μm的條件下測定轉印輥的表面凹凸。繼而，如圖8所示，對剖面形狀進行測定，所述剖面形狀相當於與將轉印輥的表面附近沿著凹條102的谷底線且沿朝向轉印輥的中心的方向切斷時的剖面CS(由圖中虛線包圍的部分)。根據與剖面CS相當的剖面形狀，獲取凹條102的底部102a中的凹條102的延伸方向上的粗糙度曲線(基準長度1：200μm)。根據粗糙度曲線，並依據依照JIS B 0601：1994的計算式來求出算術平均粗糙度Ra。針對隨機選擇的5部位的凹條102的底部102a，分別求出算術平均粗糙度Ra。求出5部位的凹條102的底部102a的算術平均粗糙度Ra的平均值，並將其設為凹條102的底部102a的平均粗糙度。
於凹條彎曲的情況下，如圖9所示，將沿著凹條102的谷底線以規定間隔(直線距離40μm)設置的點連結而引出直線(圖中虛線)。對與每條直線的剖面CS1、剖面CS2、剖面CS3．．．(由圖中虛線包圍的部分)相當的剖面形狀進行測定。根據與剖面CS1、 剖面CS2、剖面CS3相當的剖面形狀，分別獲取凹條102的底部102a及其附近的凹條102的延伸方向上的粗糙度曲線，將該些粗糙度曲線連接起來而獲取最終的粗糙度曲線(基準長度1：200μm)。再者，於圖9中，為了意圖更容易明瞭地說明凹條102的彎曲，省略如圖8般在凹條102的延伸方向上所存在的微細凹凸的圖示。
根據將轉印輥沿與凹條的延伸方向正交的方向且為相對於轉印輥的中心軸而垂直的方向切斷時的剖面形狀中的深度資料算出傾斜角而算出傾斜角的頻度數(T)，根據下述式(A)來算出頻度比率(%)的情況下，頻度比率(%)為98%以上，較佳為100%以上，更佳為105%以上，尤佳為108%以上。另外，頻度比率(%)較佳為300%以下，更佳為200%以下。再者，將轉印輥假定為平面狀而算出所述頻度數(T)。
式(A)：頻度比率(%)=頻度數(T)/頻度數(S)×100
此處，頻度數(S)是根據將凹條的平均深度與凹條的平均間隔設為相同的正弦曲線所算出的傾斜角的頻度分佈圖中的最多頻度角-2°~89°的範圍中的頻度數的合計。另外，頻度數(T)是於將正弦曲線中的最多頻度角設為角度(Mθs)時，根據將轉印輥沿與凹條的延伸方向正交的方向且為相對於轉印輥的中心軸而垂直的方向切斷時的剖面形狀中的深度資料所算出的傾斜角的頻度分 佈圖中的角度(Mθs)-2°~89°的範圍中的頻度數的合計。
此處，正弦曲線中的所有凹條具有與轉印輥的凹條的平均深度相同的深度，正弦曲線中的凹條的間隔一定，且所有間隔為與轉印輥的凹條的平均間隔相同的間隔。
再者，轉印輥的頻度數(T)及頻度數(S)是利用與表面凹凸片中的頻度數(T)及頻度數(S)相同的方法來算出。
另外，式(A)的「/」為「÷」，且是指除算。
轉印輥例如可藉由使用雷射雕刻裝置而於輥本體的表面雕刻多個凹條來製造。
作為雷射雕刻裝置，可列舉具備產生雷射光的雷射裝置以及光學系統者。作為雷射裝置，可列舉：二氧化碳氣體雷射、釔鋁石榴石(Yttrium Aluminum Garnet，YAG)雷射、半導體雷射、鐿纖維(ytterbium fiber)雷射等。作為光學系統，可列舉準直儀(collimator)透鏡、物鏡等各種透鏡的組合。作為雷射雕刻裝置，可列舉日本專利特開2010-181862號公報、日本專利特開平5-24172號公報、日本專利特開平8-28441號公報、日本專利特開平8-293134號公報、日本專利特開2011-20407號公報等中記載的公知的雷射雕刻裝置。
雷射雕刻的條件(雷射光的光束徑、雷射輸出、雷射脈衝長、輥周速等)可根據雷射雕刻對象的材質、轉印輥的表面凹凸的凹條的平均深度、凹條的平均間隔、凹條的底部的平均粗糙度等來適當設定。例如，若增大雷射光的光束徑，則有凹條的底 部的平均粗糙度變小的傾向，並且有凹條的平均深度變淺的傾向。若增大雷射輸出，則有凹條的底部的平均粗糙度變大的傾向，並且有凹條的平均深度變深的傾向。若延長雷射脈衝長，則有凹條的底部的平均粗糙度變大的傾向，並且有凹條的平均深度變深的傾向。若加快輥周速，則有凹條的底部的平均粗糙度變小的傾向，並且有凹條的平均深度變淺的傾向。
另外，在進行雷射雕刻時，雷射光可藉由連續照射來雕刻凹條，亦可藉由間歇照射來雕刻凹條。另外，亦可使凹條沿CD方向(與轉印輥的周方向正交的方向)延伸。另外，亦可藉由對照射一次雷射而雕刻了凹條的部位照射多次雷射來進行加深凹條的平均深度等的調整。
於進行雷射雕刻的情況下，作為雕刻對象(該雕刻對象成為版輥)的材質，就於凹條的表面、尤其是底部容易形成微細凹凸的方面而言，較佳為金屬、陶瓷等。金屬中，較佳為銅。
本發明中，於在輥本體的表面雕刻了多個凹條後，視需要亦可對輥本體的表面進行水清洗、酸清洗及/或電鍍處理。
作為水清洗的種類，可列舉：浸漬清洗、超音波清洗、噴霧清洗等。水清洗中，就可以相對較短的時間對轉印輥的表面凹凸進行處理的方面而言，較佳為超音波清洗。超音波的振動數並無特別限制，但大多以25kHz以上、50kHz以下的範圍使用。另外，在水清洗時，視需要亦可添加公知的界面活性劑。於添加界面活性劑來進行水清洗的情況下，較佳為再次進行以去除界面 活性劑為目的的水清洗。
於雷射雕刻對象為金屬(例如銅)的情況下，可利用酸清洗來調整凹條的平均深度、凹條的底部的平均粗糙度。若酸清洗的清洗時間長，則有凹條的平均深度變淺的傾向，並且有凹條的底部的平均粗糙度變小的傾向。作為酸清洗中所使用的酸性液，可列舉鹽酸、硫酸等。
於雷射雕刻對象為金屬(例如銅)的情況下，較佳為僅進行水清洗或進行水清洗及酸清洗，進而，為了提高轉印輥的長期使用的磨耗耐久性，較佳為對輥本體的最表面進行鍍硬質鉻、鍍鎳、鍍鎳磷等電鍍處理。電鍍可為電解電鍍，亦可為無電解電鍍。可利用電鍍處理來調整凹條的平均深度、凹條的底部的平均粗糙度。於電解電鍍的情況下，電流密度越高，有凹條的平均深度越淺的傾向，並且凹條的底部的平均粗糙度越小。另外，關於電解電鍍及無電解電鍍，電鍍時間越長，均有凹條的平均深度越淺的傾向，並且有凹條的底部的平均粗糙度越小的傾向。
本發明的轉印輥的大小並無特別限定。例如，轉印輥的寬度較佳為0.1m~50m，轉印輥的直徑較佳為0.1m~10m。
再者，本發明的轉印輥只要為於至少一表面具有多個凹條且凹條的縱橫比及凹條的底部的平均粗糙度處於特定範圍內者即可，並不限定於圖示例者。
例如，凹條可呈直線狀延伸，亦可一邊彎曲一邊延伸。凹條可彼此平行地沿一方向延伸，亦可具有不與其他凹條平行的部分。
凹條可於中途分支。凸條可於中途分支。
就容易發揮本發明的效果的方面而言，凹條及凸條的表面所形成的形狀較佳為如圖示例所示般的波形，所述凹條及凸條的表面所形成的形狀為將轉印輥的表面附近沿著與凹條的延伸方向正交的方向且為朝向轉印輥的中心的方向切斷時的剖面中的形狀。
<螢幕>
本發明的螢幕為包括本發明的表面凹凸片以及反射層的反射型螢幕。
圖10是示意性表示本發明的螢幕的一例的放大立體圖。
螢幕20包括：表面凹凸片10；以及反射層22，設置於表面凹凸片10的與具有凸條12及凹條13的面相反的一側。於凸條12的表面、尤其是頂部12a形成有微細凹凸，但於圖10中，省略微細凹凸的圖示。
圖11是示意性表示本發明的螢幕的另一例的放大立體圖。
螢幕21包括：表面凹凸片11；以及反射層22，設置於表面凹凸片11的與具有凸條12及凹條13的面相反的一側。於凸條12的表面、尤其是頂部12a形成有微細凹凸，但於圖11中，省略微細凹凸的圖示。
作為反射層的形態，只要為高效地反射可見光的層即可。作為此種反射層，可列舉：蒸鍍有金屬的蒸鍍膜、金屬箔、金屬板、介電體多層膜、塗膜等。作為反射層的形態，就容易形 成反射層的方面及使螢幕具有可撓性的方面而言，較佳為蒸鍍膜、介電體多層膜或塗膜。
作為蒸鍍膜的金屬，可列舉：鋁、銀、鎳、錫、不鏽鋼、銠、鉑等。作為蒸鍍膜的金屬，就可見光區域的反射率高的方面而言，較佳為鋁或銀。作為蒸鍍法，可列舉真空蒸鍍法、濺鍍法等。就反射性的方面而言，蒸鍍膜的厚度較佳為10nm以上、500nm以下，更佳為30nm以上、300nm以下，尤佳為100nm以上、300nm以下。
所謂介電體多層膜是將高折射率的介電體薄膜與低折射率的介電體薄膜交替地重疊多層而成的多層反射膜，且為可藉由對高折射率膜的折射率、低折射率膜的折射率及光學膜厚進行調節來調節對於可見光的反射率的膜。介電體多層膜的反射率較佳為95%以上。作為形成高折射率膜的材料，可列舉：TiO2、Nb2O5、Ta2O5、ZrO2等。作為形成低折射率膜的材料，可列舉：MgF2、SiO2、Al2O3等。高折射率膜及低折射率膜可藉由物理蒸鍍法(真空蒸鍍法、濺鍍法、離子鍍法等)、化學蒸鍍(化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition，CVD))法(熱CVD法、電漿CVD法、光CVD法等)等來形成。
於使用塗膜作為反射層的情況下，較佳為塗佈金屬風格油墨而成的塗膜(塗裝膜)。塗佈金屬風格油墨而成的塗膜例如可藉由如下方式來獲得：藉由網版印刷而將包含厚度薄的鋁片(例如，東洋鋁製造，懸浮鋁糊(leafing Al paste))的金屬風格油墨塗佈 於基材層(基材)。於該情況下，藉由使所塗佈的鋁片平行地排列於膜上而可獲得如鏡子般的反射功能。
螢幕所顯示的圖像的相對正面亮度較佳為150%以上、500%以下，更佳為160%以上、480%以下，尤佳為170%以上、450%以下。若相對正面亮度為所述範圍的下限值以上，則螢幕的正面所顯示的圖像變得充分明亮。若相對正面亮度為所述範圍的上限值以下，則螢幕的正面所顯示的圖像不會變得過於明亮。相對正面亮度可利用實施例中記載的方法來測定。
螢幕所顯示的圖像的左右60°亮度比較佳為30%以下，更佳為28%以下，尤佳為25%以下。若左右60°亮度比為所述範圍的上限值以下，則可充分抑制圖像光朝假想通常不存在觀察者的螢幕的水平方向的超過±50°的區域反射及擴散，相應地，相對正面亮度充分提高。左右60°亮度比越低越佳，下限值為0%、1%等。左右60°亮度比可利用實施例中記載的方法來測定。
螢幕所顯示的圖像的100°亮度差比較佳為60%以下，更佳為55%以下，尤佳為50%以下。若100°亮度差比為所述範圍的上限值以下，則可向假想存在觀察者的螢幕的水平方向的±50°以內的區域顯示亮度差充分小的圖像。100°亮度差比越低越佳，下限值為0%、1%等。100°亮度差比可利用實施例中記載的方法來測定。
螢幕所顯示的圖像的色偏移較佳為2.0以下，更佳為1.9以下，尤佳為1.8以下。若色偏移為所述範圍的上限值以下，則相 對於位於螢幕的水平方向的任一方向的觀察者而言，亦非常不易引起螢幕所顯示的圖像的色變化。色偏移越低越佳，下限值為0、0.1等。色偏移可利用實施例中記載的方法來測定。
再者，本發明的螢幕只要為包括本發明的表面凹凸片以及反射層者即可，並不限定於圖示例者。
例如，亦可於表面凹凸片的凸條12及凹條13的面側設置反射層。
作為表面凹凸片，亦可使用於兩面具有凸條及凹條者。
亦可於兩片表面凹凸片之間設置反射層。
亦可於表面凹凸片與反射層之間設置其他層(接著層、黏著層、紫外線吸收層等)。
亦可於與反射層相反的一側的表面凹凸片的表面設置其他層(硬塗層、自修復層等)。
<圖像顯示系統>
本發明的圖像顯示系統包括本發明的螢幕以及對螢幕投射圖像光的投影機。
圖12是示意性表示本發明的圖像顯示系統的一例的概略構成圖。
圖像顯示系統30包括：螢幕20；以及投影機40，遠離螢幕20而配置，對螢幕20的與具有反射層(省略圖示)的面相反的一側，即，具有凸條(省略圖示)及凹條(省略圖示)的面側(正面側)投射圖像光L。
圖中，x軸、y軸及z軸為供螢幕20設置的場所的空間座標，z軸表示鉛垂方向，x軸表示與z軸正交的方向中的與螢幕20的正面方向相同的方向，y軸表示與z軸及x軸正交的方向。
於本發明的螢幕中，圖像光在與凸條的延伸方向交叉的方向上進行廣泛地反射/擴散，從而可抑制圖像光朝凸條的延伸方向反射/擴散。因此，於本發明的圖像顯示系統中，如圖13所示，螢幕20是以凸條12的延伸方向沿著z軸的方式配置。
作為投影機，可列舉：液晶投影機、數位光處理(Digital Light Processing，DLP)投影機、矽基液晶(Liquid Crystal on Silicon，LCOS)投影機、陰極射線管(Cathode Ray Tube，CRT)投影機、高架式投影機(overhead projector)等。
再者，本發明的圖像顯示系統只要為包括本發明的螢幕以及投影機者即可，並不限定於圖示例者。
例如，亦可進而包括控制投影機的控制裝置、音響裝置、照明裝置等。
亦可代替螢幕20而包括螢幕21等其他的本發明的螢幕。
[實施例]
以下，藉由實施例而對本發明進行具體說明，本發明並不限定於該些。
(轉印輥的凹條的平均深度)
轉印輥的凹條的平均深度是以下述方式求出。
使用雷射顯微鏡(基恩士(KEYENCE)公司製造，VK-8500)， 在物鏡50倍、測定間距0.1μm的條件下測定轉印輥的表面凹凸。繼而，如圖8所示，對剖面形狀進行測定，所述剖面形狀相當於與將轉印輥的表面附近沿和凹條102的延伸方向正交的方向且為朝向轉印輥的中心的方向切斷時的剖面。對自與凹條102鄰接的其中一凸條103的頂部103a至凹條102的底部102a為止的深度D1進行測定。同樣地，對自與凹條102鄰接的另一凸條103的頂部103a至凹條102的底部102a為止的深度D2進行測定。將深度D1與深度D2的平均值設為凹條102的深度D。針對隨機選擇的5部位的凹條102，分別求出深度D。求出5部位的凹條的深度D的平均值，並將其設為凹條102的平均深度。
(轉印輥的凹條的平均間隔)
轉印輥的凹條的平均間隔是以下述方式求出。
使用雷射顯微鏡(基恩士(KEYENCE)公司製造，VK-8500)，在物鏡50倍、測定間距0.1μm的條件下測定轉印輥的表面凹凸。繼而，如圖8所示，對剖面形狀進行測定，所述剖面形狀相當於與將轉印輥的表面附近沿和凹條102的延伸方向正交的方向且為朝向轉印輥的中心的方向切斷時的剖面。求出自隨機選擇的成為基準的凹條102的底部102a至相鄰的5根凹條102的底部102a為止的寬度W5。隨機選擇的成為基準的凹條102為求出轉印輥的凹條的平均深度時所選擇的5部位凹條中的一個，且設為具有與凹條102的平均深度的值最接近的深度的凹條102。繼而，將寬度W5加以5等分，並將所得的值設為凹條102的平均間隔。即， 將寬度W5除以5而得的值設為凹條102的平均間隔。
(轉印輥的凹條的縱橫比)
轉印輥的凹條的縱橫比是將凹條的平均深度除以凹條的平均間隔而求出。
(轉印輥的凹條的底部的平均粗糙度)
轉印輥的凹條的底部的平均粗糙度是以下述方式求出。
使用雷射顯微鏡(基恩士(KEYENCE)公司製造，VK-8500)，在物鏡50倍、測定間距0.1μm的條件下測定轉印輥的表面凹凸。繼而，如圖8所示，對剖面形狀進行測定，所述剖面形狀相當於與將轉印輥的表面附近沿著凹條102的谷底線且沿朝向轉印輥的中心的方向切斷時的剖面CS(由圖中虛線包圍的部分)。根據與剖面CS相當的剖面形狀，獲取凹條102的底部102a中的凹條102的延伸方向上的粗糙度曲線(基準長度1：200μm)。根據粗糙度曲線，並依據依照JIS B 0601：1994的計算式來求出算術平均粗糙度Ra。針對隨機選擇的5部位的凹條102的底部102a，分別求出算術平均粗糙度Ra。隨機選擇的5部位的凹條102設為求出轉印輥的凹條的平均深度時所選擇的5部位的凹條。求出5部位的凹條102的底部102a的算術平均粗糙度Ra的平均值，並將其設為凹條102的底部102a的平均粗糙度。
(表面凹凸片的凸條的平均高度)
表面凹凸片的凸條的平均高度是以下述方式求出。
使用雷射顯微鏡(基恩士(KEYENCE)公司製造，VK-8500)， 在物鏡50倍、測定間距0.1μm的條件下測定表面凹凸片的表面凹凸。繼而，如圖5所示，對剖面形狀進行測定，所述剖面形狀相當於與將表面凹凸片沿和凸條12的延伸方向正交的方向且為表面凹凸片的厚度方向切斷時的剖面。對自與凸條12鄰接的其中一凹條13的底部13a至凸條12的頂部12a為止的高度H1進行測定。同樣地，對自與凸條12鄰接的另一凹條13的底部13a至凸條12的頂部12a為止的高度H2進行測定。將高度H1與高度H2的平均值設為凸條12的高度H。針對隨機選擇的5部位的凸條12，分別求出高度H。求出5部位的凸條12的高度H的平均值，並將其設為凸條12的平均高度。
(表面凹凸片的凸條的平均間隔)
表面凹凸片的凸條的平均間隔是以下述方式求出。
使用雷射顯微鏡(基恩士(KEYENCE)公司製造，VK-8500)，在物鏡50倍、測定間距0.1μm的條件下測定表面凹凸片的表面凹凸。繼而，如圖5所示，對剖面形狀進行測定，所述剖面形狀相當於與將表面凹凸片沿著和凸條12的延伸方向正交的方向且為表面凹凸片的厚度方向切斷時的剖面。求出自隨機選擇的成為基準的凸條12的頂部12a至相鄰的5根凸條12的頂部12a為止的寬度W5。隨機選擇的成為基準的凸條12為求出表面凹凸片的凸條的平均高度時所選擇的5部位凸條中的一個，且設為具有與凸條12的平均高度的值最接近的高度的凸條12。繼而，將寬度W5加以5等分，並將所得的值設為凸條12的平均間隔。即，將寬度W5 除以5而得的值設為凸條12的平均間隔。
(表面凹凸片的凸條的縱橫比)
表面凹凸片的凸條的縱橫比是將凸條的平均高度除以凸條的平均間隔而求出。
(表面凹凸片的凸條的頂部的平均粗糙度)
表面凹凸片的凸條的頂部的平均粗糙度是以下述方式求出。繼而，如圖5所示，對剖面形狀進行測定，所述剖面形狀相當於與將表面凹凸片沿著凸條12的棱線且沿表面凹凸片的厚度方向切斷時的剖面CS(由圖中虛線包圍的部分)。根據與剖面CS相當的剖面形狀，獲取凸條12的頂部12a中的凸條12的延伸方向上的粗糙度曲線(基準長度1：200μm)。根據粗糙度曲線，並依據依照JIS B 0601：1994的計算式來求出算術平均粗糙度Ra。針對隨機選擇的5部位的凸條12的頂部12a，分別求出算術平均粗糙度Ra。隨機選擇的5部位的凸條12設為求出表面凹凸片的凸條的平均高度時所選擇的5部位的凸條。求出5部位的凸條12的頂部12a的算術平均粗糙度Ra的平均值，並將其設為凸條12的頂部12a的平均粗糙度。
(相對正面亮度)
如圖14及圖15所示般設置螢幕20、投影機40(佳能(CANON)公司製造，液晶投影機，LV-X420)及分光放射計(拓普康科技家(TOPCON TECHNO HOUSE)公司製造，SR-3)。再者，為了方便說明，圖式中設置有螢幕20，但於對螢幕20以外的 螢幕進行評價的情況下，亦可設置代替螢幕20的螢幕(例如螢幕21、參照用螢幕等)。
螢幕20是以凸條的延伸方向沿著圖中的z軸的方式且以螢幕20的面方向與包含圖中的y軸與z軸的yz面平行的方式配置。
投影機40配置於螢幕20的與具有反射層的面相反的一側，即，具有凸條及凹條的面側(正面側)。
圖中的符號的含義如下所述。
SH：螢幕20的垂直方向的長度、SW：螢幕20的水平方向的長度、O：螢幕20的正面的中心點、P：投影機40的出光透鏡面的中心點、S：分光放射計中的測定點、SFH：自地板至螢幕20的下端為止的高度、PFH：自地板至投影機40的出光透鏡面的中心點P為止的高度、SCFH：自地板至螢幕20的正面的中心點O為止的高度(自地板至分光放射計中的測定點S為止的高度)、SPL：自螢幕20的正面的中心點O至投影機40的出光透鏡面的中心點P為止的水平距離。
自投影機40投射白色的圖像光L，並測定自測定點S的分光放射計至螢幕20的正面的中心點O中的正面亮度。
代替螢幕20而設置後述的參照用螢幕，除此以外，同樣地測 定參照用螢幕的正面亮度(亦將該參照用螢幕的正面亮度稱為標準正面亮度)。利用下式來求出相對正面亮度。
相對正面亮度=正面亮度/標準正面亮度×100
此處，所謂正面亮度是指各實施例或比較例的正面亮度。
(左右60°亮度比)
與測定相對正面亮度時同樣地設置螢幕20、投影機40及分光放射計。再者，為了方便說明，圖式中設置有螢幕20，但於對螢幕20以外的螢幕進行評價的情況下，亦可設置代替螢幕20的螢幕(例如螢幕21等)。
如圖16所示，將包含測定點S與中心點O的x軸設為基軸，使分光放射計自測定點S移動至y軸方向的右60°的測定點RGT60。自投影機40投射白色的圖像光L，並測定自測定點RGT60的分光放射計至螢幕20的正面的中心點O中的亮度。此處，將以該RGT60為測定點的亮度稱為右60°亮度。另外，將包含測定點S與中心點O的x軸設為基軸，使分光放射計自測定點S移動至y軸方向的左60°的測定點LFT60。自投影機40投射白色的圖像光L，並測定自測定點LFT60的分光放射計至螢幕20的正面的中心點O中的亮度。此處，將以該LFT60為測定點的亮度稱為左60°亮度。繼而，利用下式來求出左右60°亮度比。
左右60°亮度比={(右60°亮度+左60°亮度)/2}/正面亮度×100
(100°亮度差比)
與測定相對正面亮度時同樣地設置螢幕20、投影機40及分光放射計。再者，為了方便說明，圖式中設置有螢幕20，但於對螢幕20以外的螢幕進行評價的情況下，亦可設置代替螢幕20的螢幕(例如螢幕21等)。
如圖17所示，將包含測定點S與中心點O的x軸設為基軸，使分光放射計自測定點S移動至y軸方向的右10°的測定點RGT10。自投影機40投射白色的圖像光L，並測定自測定點RGT10的分光放射計至螢幕20的正面的中心點O中的亮度。此處，將以該RGT10為測定點的亮度稱為右10°亮度，同樣地，將以RGTn為測定點的亮度設為右n°亮度(n為正整數)。繼而，對自測定點RGT20、測定點RGT30、測定點RGT40、測定點RGT50的分光放射計至螢幕20的正面的中心點O中的右20°亮度、右30°亮度、右40°亮度、右50°亮度進行測定。
另外，將包含測定點S與中心點O的x軸設為基軸，使分光放射計自測定點S移動至y軸方向的左10°的測定點LFT10。自投影機40投射白色的圖像光L，並測定自測定點LFT10的分光放射計至螢幕20的正面的中心點O中的亮度。此處，將以該LFT10為測定點的亮度稱為左10°亮度，同樣地，將以LFTn為測定點的亮度設為左n°亮度(n為正整數)。繼而，對自測定點LFT20、測 定點LFT30、測定點LFT40、測定點LFT50的分光放射計至螢幕20的正面的中心點O中的左20°亮度、左30°亮度、左40°亮度、左50°亮度進行測定。
繼而，如上所述般於10部位所測定的各亮度(RGT10、RGT20、RGT30、RGT40、RGT50、LFT10、LFT20、LFT30、LFT40、LFT50處的亮度)中，決定亮度的最大值與亮度的最小值，根據該最大值與該最小值的差，並利用下式來求出100°亮度差比。
100°亮度差比=(亮度的最大值-亮度的最小值)/正面亮度×100
(色偏移)
代替分光放射計而設置色彩亮度計(柯尼卡美能達(KONICAMINOLTA)公司製造，CS-200)，除此以外，與測定相對正面亮度時同樣地設置螢幕20、投影機40及色彩亮度計。再者，為了方便說明，圖式中設置有螢幕20，但於對螢幕20以外的螢幕進行評價的情況下，亦可設置代替螢幕20的螢幕(例如螢幕21等)。
自投影機40投射白色的圖像光L，並測定自測定點S的色彩亮度計至螢幕20的正面的中心點O中的色度u'、v'。
代替螢幕20而設置後述的參照用螢幕，除此以外，同樣地測定色度u"、v"。
根據利用螢幕20所測定的色度u'與利用參照用螢幕所測定的色度u"的差△u'(=u'-u")及利用螢幕20所測定的色度v'與利用參照用螢幕所測定的v"的差△v'(=v'-v")，並利用下式來求出色偏移(△JND)。
△JND=(△u'2+△v'2)2/1/0.004
[製造例1]
(參照用光擴散片用塗佈液)
製備下述組成的參照用光擴散片用塗佈液。
丙烯酸樹脂(不揮發成分100%，玻璃轉移溫度105℃，重量平均分子量60萬)：8質量份、交聯聚苯乙烯(polystyrene)粒子(積水化成品工業公司製造，SBX-6，平均粒子徑6.4μm，無玻璃轉移溫度)：13.2質量份、交聯聚苯乙烯粒子(積水化成品工業公司製造，SBX-12，平均粒子徑11.7μm，無玻璃轉移溫度)：9.6質量份、交聯聚苯乙烯粒子(積水化成品工業公司製造，SBX-17，平均粒子徑16.1μm，無玻璃轉移溫度)：1.2質量份、甲苯：68質量份。
(參照用光擴散片)
於基材(東洋紡公司製造，透明PET膜，A4300，厚度250μm)的單面，使用棒塗佈機，以乾燥後的光擴散層的塗佈量成為8g/m2 的方式塗佈參照用光擴散片用塗佈液並加以乾燥。藉此，獲得包括基材層與光擴散層的參照用光擴散片。
(參照用螢幕)
於參照用光擴散片的與光擴散層相反的一側的面，以厚度成為200nm的方式蒸鍍鋁。藉此，獲得包括光擴散片與反射層的參照用螢幕。於參照用螢幕中，於包含透明PET膜的基材層的其中一面形成有具有表面凹凸的光擴散層，於基材層的另一面形成有反射層。
[實施例1]
(轉印輥)
於表面的材質為銅的輥本體的表面，使用雷射雕刻裝置附屬的鐿纖維雷射(IPG光子學(IPG Photonics)公司製造)，在雷射光的光束徑2.8μm、雷射輸出200W、雷射脈衝長120ns、輥周速45cm/s的條件下雕刻多個沿輥本體的周方向延伸的凹條。
對雕刻有多個凹條的輥本體進行5分鐘水清洗(純水、25kHz的超音波清洗)。繼而，利用酸性液(濃度10%(v/v)的硫酸水溶液)在50℃下進行12分鐘酸清洗後，利用電鑄液(胺基磺酸鎳(nickel sulfamate)600g/升、氯化鎳5g/升、硼酸40g/升、萘磺酸鈉0.5g/升、月桂基硫酸鈉(sodium naphthalene sulfonate)1g/升)，在液溫50℃、電流密度1.5A/dm2的條件下進行22分鐘電解電鍍。藉此，獲得具有如圖7所示般的表面凹凸的轉印輥。將轉印輥的凹條的平均深度、凹條的平均間隔、凹條的縱橫比、凹條 的底部的平均粗糙度示於表1中。
(表面凹凸片)
於基材(東洋紡公司製造，透明PET膜，A4300，厚度250μm)的單面，以厚度成為20μm的方式塗佈液狀的紫外線硬化型樹脂(丙烯酸樹脂，黏度50cPs)，從而獲得帶樹脂塗膜的基材。以將樹脂塗膜按壓於轉印輥的表面的方式使帶樹脂塗膜的基材接觸於轉印輥。以來自金屬鹵化物燈的紫外線照射量成為700mJ/cm2的方式對接觸於轉印輥的帶樹脂塗膜的基材照射紫外線，從而使樹脂塗膜中的紫外線硬化型樹脂硬化。將帶硬化樹脂塗膜的基材自轉印輥剝離。藉此，獲得於包含透明PET膜的基材層的表面具有以紫外線硬化型樹脂的硬化物為主成分的表面層的表面凹凸片。於表面凹凸片的表面層的表面轉印有轉印輥的表面凹凸反轉而成的如圖1所示般的表面凹凸。另外，於設置於表面層的背面的基材層未轉印轉印輥的表面凹凸，且基材層與表面層的界面平滑。將表面凹凸片的凸條的平均高度、凸條的平均間隔、凸條的縱橫比、凸條的頂部的平均粗糙度示於表1中。
(螢幕)
於表面凹凸片的與表面層相反的一側的面，以厚度成為200nm的方式蒸鍍鋁。藉此，獲得包括表面凹凸片與反射層的反射型螢幕。於螢幕中，於包含透明PET膜的基材層的其中一面形成有具有如圖10所示般的表面凹凸的表面層，於基材層的另一面形成有反射層。將螢幕所顯示的圖像的相對正面亮度、左右60°亮度 比、100°亮度差比及色偏移示於表1中。
[實施例2]
將雷射輸出變更為180W，並將酸清洗變更為11分鐘，除此以外，與實施例1同樣地獲得轉印輥。將轉印輥的凹條的平均深度、凹條的平均間隔、凹條的縱橫比、凹條的底部的平均粗糙度示於表1中。
除使用實施例2的轉印輥以外，與實施例1同樣地獲得表面凹凸片。將表面凹凸片的凸條的平均高度、凸條的平均間隔、凸條的縱橫比、凸條的頂部的平均粗糙度示於表1中。
除使用實施例2的表面凹凸片以外，與實施例1同樣地獲得螢幕。將螢幕所顯示的圖像的相對正面亮度、左右60°亮度比、100°亮度差比及色偏移示於表1中。
[實施例3]
將雷射輸出變更為240W，不進行酸清洗且將電解電鍍變更為25分鐘，除此以外，與實施例1同樣地獲得轉印輥。將轉印輥的凹條的平均深度、凹條的平均間隔、凹條的縱橫比、凹條的底部的平均粗糙度示於表1中。
除使用實施例3的轉印輥以外，與實施例1同樣地獲得表面凹凸片。將表面凹凸片的凸條的平均高度、凸條的平均間隔、凸條的縱橫比、凸條的頂部的平均粗糙度示於表1中。
除使用實施例3的表面凹凸片以外，與實施例1同樣地獲得螢幕。將螢幕所顯示的圖像的相對正面亮度、左右60°亮度比、100° 亮度差比及色偏移示於表1中。
[實施例4]
將雷射光的光束徑變更為1.8μm，將雷射輸出變更為164W，將酸清洗變更為38分鐘，將電解電鍍變更為18分鐘，除此以外，與實施例1同樣地獲得轉印輥。將轉印輥的凹條的平均深度、凹條的平均間隔、凹條的縱橫比、凹條的底部的平均粗糙度示於表1中。
除使用實施例4的轉印輥以外，與實施例1同樣地獲得表面凹凸片。將表面凹凸片的凸條的平均高度、凸條的平均間隔、凸條的縱橫比、凸條的頂部的平均粗糙度示於表1中。
除使用實施例4的表面凹凸片以外，與實施例1同樣地獲得螢幕。將螢幕所顯示的圖像的相對正面亮度、左右60°亮度比、100°亮度差比及色偏移示於表1中。
[實施例5]
將雷射輸出變更為190W，將酸清洗變更為4分鐘，將電解電鍍變更為21分鐘，除此以外，與實施例1同樣地獲得轉印輥。將轉印輥的凹條的平均深度、凹條的平均間隔、凹條的縱橫比、凹條的底部的平均粗糙度示於表1中。
除使用實施例5的轉印輥以外，與實施例1同樣地獲得表面凹凸片。將表面凹凸片的凸條的平均高度、凸條的平均間隔、凸條的縱橫比、凸條的頂部的平均粗糙度示於表1中。
除使用實施例5的表面凹凸片以外，與實施例1同樣地獲得 螢幕。將螢幕所顯示的圖像的相對正面亮度、左右60°亮度比、100°亮度差比及色偏移示於表1中。
[比較例1]
將雷射光的光束徑變更為1.8μm，將雷射輸出變更為340W，將酸清洗變更為32分鐘，將電解電鍍變更為30分鐘，除此以外，與實施例1同樣地獲得轉印輥。將轉印輥的凹條的平均深度、凹條的平均間隔、凹條的縱橫比、凹條的底部的平均粗糙度示於表2中。
除使用比較例1的轉印輥以外，與實施例1同樣地獲得表面凹凸片。將表面凹凸片的凸條的平均高度、凸條的平均間隔、凸條的縱橫比、凸條的頂部的平均粗糙度示於表2中。
除使用比較例1的表面凹凸片以外，與實施例1同樣地獲得螢幕。將螢幕所顯示的圖像的相對正面亮度、左右60°亮度比、100°亮度差比及色偏移示於表2中。
[比較例2]
將雷射輸出變更為132W，不進行酸清洗且將電解電鍍變更為25分鐘，除此以外，與實施例1同樣地獲得轉印輥。將轉印輥的凹條的平均深度、凹條的平均間隔、凹條的縱橫比、凹條的底部的平均粗糙度示於表2中。
除使用比較例2的轉印輥以外，與實施例1同樣地獲得表面凹凸片。將表面凹凸片的凸條的平均高度、凸條的平均間隔、凸條的縱橫比、凸條的頂部的平均粗糙度示於表2中。
除使用比較例2的表面凹凸片以外，與實施例1同樣地獲得螢幕。將螢幕所顯示的圖像的相對正面亮度、左右60°亮度比、100°亮度差比及色偏移示於表2中。
[比較例3]
將雷射輸出變更為400W，將雷射脈衝長變更為200ns，將輥周速變更為30cm/s，將酸清洗變更為125分鐘，將電解電鍍變更為35分鐘，除此以外，與實施例1同樣地獲得轉印輥。將轉印輥的凹條的平均深度、凹條的平均間隔、凹條的縱橫比、凹條的底部的平均粗糙度示於表2中。
除使用比較例3的轉印輥以外，與實施例1同樣地獲得表面凹凸片。將表面凹凸片的凸條的平均高度、凸條的平均間隔、凸條的縱橫比、凸條的頂部的平均粗糙度示於表2中。
除使用比較例3的表面凹凸片以外，與實施例1同樣地獲得螢幕。將螢幕所顯示的圖像的相對正面亮度、左右60°亮度比、100°亮度差比及色偏移示於表2中。
[比較例4]
將雷射輸出變更為240W，將輥周速變更為38cm/s，將酸清洗變更為95分鐘，將電解電鍍變更為10分鐘，除此以外，與實施例1同樣地獲得轉印輥。將轉印輥的凹條的平均深度、凹條的平均間隔、凹條的縱橫比、凹條的底部的平均粗糙度示於表2中。
除使用比較例4的轉印輥以外，與實施例1同樣地獲得表面凹凸片。將表面凹凸片的凸條的平均高度、凸條的平均間隔、凸 條的縱橫比、凸條的頂部的平均粗糙度示於表2中。
除使用比較例4的表面凹凸片以外，與實施例1同樣地獲得螢幕。將螢幕所顯示的圖像的相對正面亮度、左右60°亮度比、100°亮度差比及色偏移示於表2中。
Figure 108106765-A0305-02-0057-1
Figure 108106765-A0305-02-0057-2
實施例1~實施例5的螢幕的表面凹凸片的凸條的縱橫 比為0.07以上、0.40以下，且凸條的頂部的平均粗糙度為0.10μm以上、0.90μm以下，因此螢幕所顯示的圖像的相對正面亮度高，左右60°亮度比及100°亮度差比低且色偏移少。
比較例1的螢幕的表面凹凸片的凸條的縱橫比超過0.40，因此螢幕所顯示的圖像的左右60°亮度比高。
比較例2的螢幕的表面凹凸片的凸條的縱橫比未滿0.07，因此螢幕所顯示的圖像的100°亮度差比高。
比較例3的螢幕的表面凹凸片的凸條的頂部的平均粗糙度超過0.90μm，因此螢幕所顯示的圖像的相對正面亮度低。
比較例4的螢幕的表面凹凸片的凸條的頂部的平均粗糙度未滿0.10μm，因此螢幕所顯示的圖像的色偏移大。
[比較例5]
(轉印輥)
在表面的材質為鎳磷的輥本體的表面的周方向上，使用車刀(切削工具)進行超精密切削加工後，藉由噴砂而對凸條的頂面及凹條的表面進行表面粗糙化。對雕刻有多個凹條的輥本體進行5分鐘水清洗(純水、25kHz的超音波清洗)，從而獲得轉印輥。
(表面凹凸片)
使用比較例5的轉印輥，與實施例1同樣地獲得圖21的表面凹凸片。表面凹凸片的凸條141的平均高度H為20μm，凸條141的平均間隔P為100μm，凸條141的縱橫比為0.20，凸條141的頂部141a及凹條142的底部142a的平均粗糙度為0.80μm。
再者，比較例5的轉印輥的凹條相當於圖21的表面凹凸片的凸條141，轉印輥的凸條相當於圖21的表面凹凸片的凹條142，比較例5的轉印輥與表面凹凸片彼此為反轉形狀。
另外，於圖21的凸條141的頂部141a及凹條142的底部142a形成有微細凹凸，但於圖21中，省略微細凹凸的圖示。
(螢幕)
除使用比較例5的表面凹凸片以外，與實施例1同樣地獲得螢幕。以目視對螢幕進行評價，結果正面過於明亮而明顯不適合用作螢幕。因此，不進行相對正面亮度、左右60°亮度比、100°亮度差比及色偏移等的評價。
[比較例6]
(轉印輥)
在表面的材質為鎳磷的輥本體的表面的周方向上，使用車刀(切削工具)進行超精密切削加工後，藉由噴砂而對切削面進行表面粗糙化。對雕刻有多個凹條的輥本體進行5分鐘水清洗(純水、25kHz的超音波清洗)，從而獲得轉印輥。
(表面凹凸片)
使用比較例6的轉印輥，與實施例1同樣地獲得表面凹凸片。表面凹凸片的凸條的平均高度H1為50μm，凸條的平均間隔P1為140μm，凸條的縱橫比為0.36，凸條151的頂部151a的平均粗糙度為0.50μm。
再者，比較例6的轉印輥的凹條相當於圖22的表面凹凸片的 凸條，比較例6的轉印輥與表面凹凸片彼此為反轉形狀。
另外，於圖22的凸條151的頂部151a形成有微細凹凸，但於圖22中，省略微細凹凸的圖示。
(螢幕)
除使用比較例6的表面凹凸片以外，與實施例1同樣地獲得螢幕。以目視對螢幕進行評價，結果在水平方向上存在明暗的不均而明顯不適合用作螢幕。因此，不進行相對正面亮度、左右60°亮度比、100°亮度差比及色偏移等的評價。
[比較例7]
(轉印輥)
在表面的材質為鎳磷的輥本體的表面的周方向上，使用車刀(切削工具)進行超精密切削加工。對雕刻有多個凹條的輥本體進行5分鐘水清洗(純水、25kHz的超音波清洗)，從而獲得轉印輥。
(表面凹凸片)
使用比較例7的轉印輥，與實施例1同樣地獲得表面凹凸片。表面凹凸片的凸條的平均高度H2為40μm，凸條的平均間隔P2為140μm，凸條的縱橫比為0.29，凸條161的頂部161a的平均粗糙度為0.03μm。另外，比較例7的凹凸形狀為將凸條161及凹條162這兩種光柵形狀組合而成的形狀。凸條161的h2為20μm，W2為95μm，凹條162的h3為20μm，W3為45μm。
再者，比較例7的轉印輥的凹條相當於圖23的表面凹凸片的 凸條161，轉印輥的凸條相當於圖23的表面凹凸片的凹條162，比較例7的轉印輥與表面凹凸片彼此為反轉形狀。
另外，於圖23的凸條161的頂部161a形成有微細凹凸，但於圖23中，省略微細凹凸的圖示。
(螢幕)
除使用比較例7的表面凹凸片以外，與實施例1同樣地獲得螢幕。以目視對螢幕進行評價，結果在水平方向上存在明暗的不均而明顯不適合用作螢幕。因此，不進行相對正面亮度、左右60°亮度比、100°亮度差比及色偏移等的評價。
將實施例1~實施例5及比較例1~比較例7的表面凹凸片的頻度比率(%)示於表3中。頻度比率是藉由下述式(A)而算出的值，具體而言，利用後述方法來算出。
式(A)：頻度比率(%)=頻度數(T)/頻度數(S)×100
此處，頻度數(S)是根據將凸條的平均高度與凸條的平均間隔設為相同的正弦曲線所算出的傾斜角的頻度分佈圖中的最多頻度角-2°~89°的範圍中的頻度數的合計。另外，頻度數(T)是於將正弦曲線中的最多頻度角設為角度(Mθs)時，根據將表面凹凸片沿與凸條的延伸方向正交的方向且為表面凹凸片的厚度方向切斷時的剖面形狀中的高度資料所算出的傾斜角的頻度分佈圖中的角度(Mθs)-2°~89°的範圍中的頻度數的合計。
此處，頻度數(T)是以如下方式算出。
首先，使用雷射顯微鏡(基恩士(KEYENCE)公司製造，VK-8500)，在物鏡50倍、高度方向的測定間距0.05μm的條件下獲取實施例及比較例中所獲得的表面凹凸片的測定區域M(參照圖18(a))的高度資料。此時，測定間隔在與表面凹凸片10的凸條12的延伸方向正交的方向(相當於圖18(a)的y方向)及表面凹凸片10的凸條12的延伸方向(相當於圖18(a)的z方向)上分別設為0.2913μm。再者，測定區域M設為在與表面凹凸片10的凸條12的延伸方向正交的方向(相當於圖18(a)的y方向)上成為295.0869μm(與1014個資料對應)且在表面凹凸片10的凸條12的延伸方向(相當於圖18(a)的z方向)上成為215.8533μm(與742個資料對應)的區域。
繼而，將座標(n,β)中的資料的修正值定為座標(n,β)~座標(n+9,β)這10點平均值，並對利用所述測定方法而獲得的表面凹凸片10的表面凹凸的高度的測定資料進行修正。當提取座標(1,β)至座標(1014,β)的位置的資料時，如圖18(c)所示，可獲得以0.2913μm的間隔對將表面凹凸片10在z軸上的β值的位置沿與凸條12的延伸方向正交的方向(y方向)且為表面凹凸片10的厚度方向(x方向)切斷時的剖面進行測定而得的表面凹凸片10的表面凹凸的高度的測定資料。而且，為了修正各座標軸中的測定資料的誤差，針對座標(1,β)至座標(1005,β)的測定資料，將座標(n,β)中的資料的修正值定為座標(n,β)~座標 (n+9,β)這10點平均值並加以修正。
繼而，針對座標(1,β)至座標(1004,β)的修正值，根據以所述方式獲得的測定資料來求出傾斜角。傾斜角θs(n,β)是根據下述式(10)而求出。
式(10)：傾斜角(n,β)=arctan(h/0.2913)
此處，h為Av(n,β)與Av(n+1,β)這兩點的高度的差的絕對值(h的長度單位設為μm)。另外，傾斜角(n,β)設為絕對值。即，圖19(a)的傾斜角θs(n,β)及圖19(b)的傾斜角θs(n+1,β)均為正值。例如，針對實施例1的表面凹凸片，利用所述方法進行測定，當將橫軸設為傾斜角、將縱軸設為頻度並加以圖表化時，獲得如圖20(a)般的頻度分佈圖。
另一方面，頻度數(S)是根據將成為測定對象的表面凹凸片的凸條的平均高度與凸條的平均間隔設為相同的正弦曲線所算出的傾斜角的頻度分佈圖中的最多頻度角-2°~89°的範圍中的頻度數的合計。實施例1的表面凹凸片的凸條的平均高度為7.1μm，凸條的平均間隔為36μm，因此根據凸條的平均高度與凸條的平均間隔相同的正弦曲線所算出的傾斜角的頻度分佈圖(理論值)如圖20(b)所述。此處，於根據凸條的平均高度與凸條的平均間隔相同的正弦曲線所算出的傾斜角的頻度分佈圖中，成為最多頻度的傾斜角(以下，亦稱為最多頻度角)為31°，因此最多頻 度角-2°成為29°。因此，實施例1(圖20(b))中，頻度數(S)成為29°~89°的範圍中的頻度數的合計，實際的頻度數的合計值算出為215922。另一方面，成為測定對象的表面凹凸片中的頻度數(T)成為29°~89°的範圍中的頻度數的合計，實際的頻度數的合計值算出為249387。其結果，根據式(A)而算出的頻度比率(%)成為115%。以如上所述的程序，針對實施例2~實施例5及比較例1~比較例7亦算出頻度比率(%)。再者，實施例2~實施例5的頻度分佈圖示於圖24中，比較例1~比較例7的頻度分佈圖示於圖25中。
[表3]
Figure 108106765-A0305-02-0065-3
再者，將多種具有凸條的平均高度與凸條的平均間隔的光柵形狀的理論計算的結果示於表4中。如此，光柵透鏡的頻度比率均低於98%。
Figure 108106765-A0305-02-0066-4
[產業上的可利用性]
本發明的表面凹凸片有效用作構成反射型螢幕的構件。
10:表面凹凸片
12:凸條
12a:頂部
13:凹條
14:基材層
15:表面層

Claims (6)

  1. 一種表面凹凸片，其於至少一表面具有多個凸條與形成於相鄰的兩個所述凸條之間的凹條，且所述表面凹凸片中，所述凸條的平均高度與所述凸條的平均間隔的比(平均高度/平均間隔)為0.07以上、0.40以下，根據所述凸條的頂部中的所述凸條的延伸方向上的粗糙度曲線所求出的平均粗糙度為0.10μm以上、0.90μm以下，根據將所述表面凹凸片沿著與所述凸條的延伸方向正交的方向且為所述表面凹凸片的厚度方向切斷時的剖面形狀中的高度資料算出傾斜角而算出所述傾斜角的頻度數(T)，根據下述式(A)來算出頻度比率(%)的情況下，頻度比率(%)為98%以上；式(A)：頻度比率(%)=頻度數(T)/頻度數(S)×100此處，頻度數(S)是根據將所述凸條的平均高度與所述凸條的平均間隔設為相同的正弦曲線所算出的傾斜角的頻度分佈圖中的最多頻度角-2°~89°的範圍中的頻度數的合計，頻度數(T)是於將所述正弦曲線中的最多頻度角設為角度(Mθs)時，根據將所述表面凹凸片沿著與所述凸條的延伸方向正交的方向且為所述表面凹凸片的厚度方向切斷時的剖面形狀中的高度資料所算出的傾斜角的頻度分佈圖中的角度(Mθa)-2°~89°的範圍中的頻度數的合計。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的表面凹凸片，其為於基材的至少一表面具有所述凸條及所述凹條的單層片。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的表面凹凸片，包括：基材層以及至少一層的表面層，且於所述表面層的表面具有所述凸條及所述凹條。
  4. 一種螢幕，包括：如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的表面凹凸片以及反射層。
  5. 一種圖像顯示系統，包括：如申請專利範圍第4項所述的螢幕以及對所述螢幕投射圖像光的投影機。
  6. 一種轉印輥，其於表面具有多個凹條與形成於相鄰的兩個所述凹條之間的凸條，且所述轉印輥中，所述凹條的平均深度與所述凹條的平均間隔的比(平均深度/平均間隔)為0.07以上、0.40以下，根據所述凹條的底部中的所述凹條的延伸方向上的粗糙度曲線所求出的平均粗糙度為0.10μm以上、0.90μm以下，根據將所述轉印輥沿與所述凹條的延伸方向正交的方向且為相對於所述轉印輥的中心軸而垂直的方向切斷時的剖面形狀中的深度資料算出傾斜角而算出所述傾斜角的頻度數(T)，根據下述式(A)來算出頻度比率(%)的情況下，頻度比率(%)為98%以上； 式(A)：頻度比率(%)=頻度數(T)/頻度數(S)×100此處，頻度數(S)是根據將所述凹條的平均深度與所述凹條的平均間隔設為相同的正弦曲線所算出的傾斜角的頻度分佈圖中的最多頻度角-2°~89°的範圍中的頻度數的合計，頻度數(T)是於將所述正弦曲線中的最多頻度角設為角度(Mθs)時，根據將所述轉印輥沿著與所述凹條的延伸方向正交的方向且為相對於所述轉印輥的中心軸而垂直的方向切斷時的剖面形狀中的深度資料所算出的傾斜角的頻度分佈圖中的角度(Mθs)-2°~89°的範圍中的頻度數的合計。
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