JP2012138019A - タッチパネル付き表示装置 - Google Patents
タッチパネル付き表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012138019A JP2012138019A JP2010291165A JP2010291165A JP2012138019A JP 2012138019 A JP2012138019 A JP 2012138019A JP 2010291165 A JP2010291165 A JP 2010291165A JP 2010291165 A JP2010291165 A JP 2010291165A JP 2012138019 A JP2012138019 A JP 2012138019A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- touch panel
- transparent electrode
- film
- display
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Position Input By Displaying (AREA)
Abstract
【解決手段】 光透過性を有する基材8を備えるとともに、少なくとも基材8の片面側に透明電極層9と該透明電極部9に通電可能に配設された取出電極部10とを有するタッチパネル部材2と、表示面を有し該表示面に画像を表示させる表示モジュール50を少なくとも含む表示パネル3とが、空気層4を介在して積層されてなるタッチパネル付き表示装置1において、前記タッチパネル部材2が、前記透明電極層9上に粘着層11を設け、一方の面に凹凸構造を有する反射防止層12を、該粘着層11上に直接積層しており、且つ、前記反射防止層12の凹凸構造を有する面側を、前記表示パネル3の表示面に対向させて配置されて構成される。
【選択図】 図1
Description
前記タッチパネル部材は、前記透明電極層上に粘着層を設け、一方の面に凹凸構造を有する反射防止層を、該粘着層上に直接積層しており、且つ、前記反射防止層の凹凸構造を有する面側を、前記表示パネルの表示面に対向させて配置されている、ことを特徴とするタッチパネル付き表示装置。
(2)粘着層は、取出電極部を被覆して形成されており、
前記粘着層は、該粘着層中の塩化物イオンの濃度が5μg/g以下である、上記(1)に記載のタッチパネル付き表示装置、
(3)透明電極層は、互いに間隔を置いて配置される複数の第1電極片と、互いに間隔を置いて配置される複数の第2電極片と、を備えて形成され、
第1電極片と第2電極片は、互いに離間しており、且つ、タッチパネル部材の平面視上互いに交差しつつ、1つの基材上に配置されている、上記(1)または(2)に記載のタッチパネル付き表示装置、
(4)反射防止層は、表示パネルの表示面から離間している、上記(1)から(3)のいずれかに記載のタッチパネル付き表示装置、を要旨とするものである。
タッチパネル付き表示装置1は、図1に示すように、タッチパネル部材2と表示パネル3とが空気層4を介在させつつ積層されて構成される。このとき、タッチパネル部材2と表示パネル3の位置関係は、ハウジング5で保持される。
タッチパネル部材2は、光透過性を有する基材8を備えるとともに、少なくとも基材8の片面側に透明電極層9を有し、その透明電極層9に通電可能に配設された取出電極部10を有して構成される。図1,2のタッチパネル部材2の例では、透明電極層9としては、第1の透明電極層9aと第2の透明電極層9bとが形成されており、それぞれ基材8の片面側に形成される。すなわち1つの基材8の一方面側に、第1の透明電極層9aが形成され、同じ基材8の他方面側に、第2の透明電極層9bが形成される。第1の透明電極層9aと第2の透明電極層9bのいずれについてもその上に粘着層11(11a,11b)を積層している。第2の透明電極層9bの面上に積層された粘着層11bの表面側には、反射防止層12が直接積層される。
基材8は、光透過性を有する部材であれば適宜選択可能であるが、取り扱いの容易性の点で、フィルム材が好ましく用いられる。
基材8をなすフィルム材は、光透過可能な絶縁フィルムであれば特に限定されることなく適宜選択可能である。フィルム材としては、例えば、ポリメチルメタクリレート等のアクリル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、もしくはシンジオタクティック・ポリスチレン等、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、フッ素樹脂、もしくはポリエーテルニトリル等、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリシクロヘキセン、もしくはポリノルボルネン系樹脂等、または、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリサルホン、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、もしくは熱可塑性ポリイミド等からなるフィルムを挙げることができる。
透明電極層9は、光透過性を有する層であり且つ導電性材料からなる層である。導電性材料としては、例えば、インジウム錫オキサイド(ITO)、酸化インジウム、インジウム亜鉛オキサイド(IZO)、酸化錫(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)等の透明導電性金属酸化物、ポリアニリン、ポリアセチレン等の導電性高分子等を挙げることができる。
透明電極層9として、第1の透明電極層9aと第2の透明電極層9bが形成されている。第1の透明電極層9aと第2の透明電極層9bの厚みは、それぞれ適宜選択可能である。第1の透明電極層9aと第2の透明電極層9bは、透明性の確保と製膜性の点で、それぞれ、その厚みを15nm以上500nm以下程度とされることが多い。
取出電極部10は、透明電極層9に対して電気的に接続されて配設される。図1、2の例では、第1の透明電極層9aに接続される取出電極部10a、第2の透明電極層9bに接続される取出電極部10bが形成される。ただし、図1、図3、および図10では、図2AのA−A線の位置での断面に対応する断面が図示される都合上、取出電極部10a、10bのうち取出電極部10bのみが記載される。
粘着層11は、図1、図2に示すように、透明電極層9よりも基材8から離れた位置側すなわち、基材8の厚さ方向にて内外方向を想定した場合に外側に配置されて、透明電極層9を覆っている。すなわち、タッチパネル部材2には、粘着層11として、粘着層11aと粘着層11bが形成され、図1に示すように、それぞれ第1の透明電極層9a、第2の透明電極層9bを覆っている。
塩化物イオン濃度は、次のようなイオン抽出により特定される。すなわち、粘着層11を15cm2(厚さ50um)切り出して試験片(Es1(g)(通常、約0.05mg程度))とする。この試験片を、温調装置(ポリフッ化エチレン繊維製のルツボ)に純水30mlと共に入れて試験液を調製し、温調装置を小型恒温試験器(楠本化成(株)製)に投入しイオン抽出を行う。イオン抽出は、温度121℃、24時間、圧力2atmの条件で実施される。その後、試験液をろ過し、DIONEX(株)製のイオンクロマトグラフ(IC20)を用いて、ろ液に含まれるイオン性不純物の測定を行う。これにより、ろ液に抽出された塩化物イオンの量(Es2(μg))が特定される。そして、この値Es2と、試験片の重量Es1と基づき、Es2/Es1により、塩化物イオンの濃度が特定される。
反射防止層12は、透明電極層9上に形成される粘着層11bの表面に直接積層される。反射防止層12は、空気層4側に露出している。
反射防止層12を形成するための積層体は、凹凸構造部15を形成した材料を製造する方法を適宜採用することで調製することができるが、凹凸構造部15がモスアイ構造をなしている部分である場合、具体的に次の第1の製造方法、第2の製造方法に示すような、従前より公知なモスアイフィルムの製造方法を適宜選択して調製することが可能である。
モスアイフィルムの第1の製造方法について説明する。図7Aに示すように、まず、基材フィルム17を構成する樹脂材料からなる長尺な原反フィルム18を送出ロール19から送出方向を矢印Kの方向に送りだし、原反フィルム18の一方面上に、突起形成用樹脂材料を塗工して塗工膜20を形成する。図7Aおよび図7B中、符号25は突起形成用樹脂材料を塗工するためのコーターである。突起形成用樹脂材料には、紫外線硬化型樹脂であって光透過性を有する透明樹脂が用いられる。次に、塗工膜20を形成した原反フィルム18が、周面に多数の凹凸を有する賦形ロール21に通ぜられる。このとき、原反フィルム18は、その塗工膜20の形成面側を賦形ロール21の凹凸面に対面させることとなり、塗工膜20には、賦形ロール21の凹凸に対応する凹凸が形成され、さらに、図7A中、符号Qで示すように、原反フィルム18は、その塗工膜20の非形成面側からエネルギー線、この場合は紫外線を照射されて、突起形成用樹脂材料の露光が行なわれる。これにより、塗工膜20は、所定パターンの凹凸を賦形された状態で硬化される。ここで賦形ロール21に形成された凹凸のパターンは、モスアイ構造をなす凹凸構造部15のパターンに対応するパターンとなっており、塗工膜20に形成される凹凸構造の部分は、凹凸構造部15をなす構造部となる。これにより、原反フィルム18に凹凸構造部15をなす構造部を形成したモスアイ構造形成体41が形成される。このモスアイ構造形成体41を所定の形状に裁断してモスアイフィルムが形成される。このモスアイフィルムが粘着層11b上に積層されると、これが反射防止層12をなすことになる。なお、モスアイ構造を構成する凹凸構造は極めて破損しやすいことから、図7Aに示すように、原反フィルム18に凹凸構造部15を形成したモスアイ構造形成体41には、凹凸構造部15の表面側に凹凸構造保護用フィルム22がさらに積層されてもよい。
モスアイフィルムの第2の製造方法について説明する。図7Bに示すように、まず、基材フィルム17を準備し、この基材フィルム17の一方面上に、突起形成用樹脂材料を塗工して塗工膜24を形成する。塗工膜24の形成は、コーター25などを適宜用いて実施される。突起形成用樹脂材料には、紫外線硬化型樹脂であって光透過性を有する透明樹脂が用いられる。その一方で、多数の凹凸を面上に有する平面形状の金型23を準備する。金型23に形成された凹凸のパターンは、モスアイ構造をなす凹凸構造部15のパターンに対応するパターンとなっている。金型23を用い、基材フィルム17の塗工膜24の形成面側に金型23の凹凸面を対面させつつ金型23を塗工膜24に押し当てる。このとき塗工膜24には、金型の凹凸に対応する凹凸が形成される。さらに、図7B中、符号Qに示すように、基材フィルム17は、その塗工膜24の非形成面側からエネルギー線、この場合は紫外線を照射されて、突起形成用樹脂材料の露光が行なわれる。これにより、塗工膜24は、凹凸構造部15のパターンを賦形された状態で硬化される。こうして、基材フィルム17上にモスアイ構造を有する凹凸構造部15を形成したモスアイフィルムが形成される。このモスアイフィルムが粘着層11b上に積層されると、これが反射防止層12をなすことになる。
タッチパネル部材2は、上記したような透明電極層9として第1の透明電極層9aと第2の透明電極層9bの両方を1つの基材8に積層したものに限定されず、図10A,Bに示すように、第1の透明電極層9aと第2の透明電極層9bがそれぞれ別々の基材8a、8bに積層されたものであってもよい。基板8aと基板8bが粘着層11cを介して互いに固定される。取出電極部10もそれぞれの基板8a、8bに形成される。なお、図10では、基板8bに形成される取出電極部10(10b)のみを表示している。このようなタッチパネル部材2においても、図2等の例と同様に、タッチパネル部材2の平面視上、第1の透明電極層9aを構成する第1電極片31と第2の透明電極層9bを構成する第2電極片32とは、交差する。基板8a、8bのうち空気層4側に近いほうに配置されるものは、透明電極層9の積層面側を、空気層4側を向けて配置されるとともに、透明電極層9の上に粘着層11bを直接積層され、さらに粘着層11bの上に反射防止層12を直接積層される。基板8a、8bのうち空気層4側から遠いほうに配置されるものは、透明電極層9の積層面側を、図10Aに示すようにタッチパネル部材2の外面側に向けて配置されてもよいし、図10Bに示すように空気層4側に向けて配置されてもよい。また、図10A,Bにおいて、基板8aと第1の透明電極層9aの積層体と、基板8bと第2の透明電極層9aの積層体の配置が入れ替えられてもよい。
タッチパネル部材2には、図3Aに示すように、密着性向上層26が基材8と透明電極層9の間に配設されてもよい。密着性向上層26は、タッチパネル部材2において透明電極層9の密着性を向上させる効果をもたらしうる。密着性向上層26としては、二酸化ケイ素(SiO2)の膜などを挙げることができる。密着性向上層26として二酸化ケイ素の膜が用いられると、密着性向上層26を、透明電極層9のパターンを見えにくくするための不可視化層として機能させることができる。密着性向上層26の厚みは、適宜選択可能であるが、密着性向上層26に不可視化層としての機能を効果的に発揮させる観点では、15nm以上500nm以下であることが好ましい。
タッチパネル部材2には、図3Bに示すように、アンダーコート層27が、基材8と透明電極層9の間に配設されてもよい。アンダーコート層27は、タッチパネル部材2に密着性向上層26を設ける場合には、基材8と密着性向上層26の間に配設される。ここで、PETフィルムなどの基材8には熱可塑性材料などが含まれていることがあるが、このような熱可塑性材料は、経時的に基材8から外部に染み出してくることがある(以下、「ブリードアウト」とも言う。)。この点、基材8上にアンダーコート層27が形成されていることで、ブリードアウトの発生を抑止することができる。アンダーコート層27としては、アクリル樹脂を挙げることができる。アンダーコート層27の厚みは適宜選択可能であるが1μm以上100μm以下であることが好ましい。
タッチパネル部材2には、図1、2に示すように、粘着層11(11a)の外側露出面上に、表面材28が取り付けられる。この表面材28としては、光透過可能な板材を適宜使用可能であり、具体的には、表面保護用フィルムやガラス材などを挙げることができる。表面材28は、偏光板などの所定の機能を備えるものであってもよい。
上記のように構成されるタッチパネル部材2は、特に表面型静電容量方式、投影型静電容量方式などの静電容量方式の位置検出方式のタッチパネル用の部材として使用可能なものである。こうした位置検出方式を用いた位置検出は、位置検出を行なう公知の回路部材を取出電極部に電気的に接続して適宜実現可能である。
タッチパネル部材2の製造方法は、基材8上に透明電極層9と取出電極部10を形成する工程(以下、「電極形成工程」とも言う。)と、透明電極層9の上に粘着層11を形成する工程(以下、「粘着層形成工程」とも言う。)と、反射防止層12を積層する工程(以下、「反射防止層形成工程」とも言う。)とを備えてなる。
基材8を準備する。電極形成工程の実施前に、必要に応じて、前処理として、基材8上には、アンダーコート層27や密着性向上層26を形成していてもよい。アンダーコート層27や密着性向上層26の形成には、公知の方法が適宜用いられてよい。
電極形成工程は、透明電極層9を形成する工程(以下、「透明電極層形成工程」とも言う。)と取出電極部10を形成する工程(以下、「取出電極形成工程」とも言う。)を備えて構成される。透明電極層形成工程と取出電極形成工程は、いずれが先に実施されてもよく、また同時に実施されてもよい。ここでは、透明電極層形成工程、取出電極形成工程の順に実施される場合を例として説明する。
図8Aに示すように、第1導電膜60を、基材8の一方面29a上に一面形成し、第2導電膜61を、基材8の他方の面29b上に一面形成する。これは、例えば次のようにスパッタリングを用いて実現することができる。
この工程は、基材8の上に金属配線13をパターン形成して取出電極部10となす工程であり、透明電極層形成工程と同様の方法にて実施されうる。すなわち、積層体67を用いて、その上にスパッタリングにより金属配線13を構成する金属物質を一面ベタに塗工して、金属物質膜を形成する。その後、金属物質膜上に感光性材料を塗工して、塗工膜を形成し、フォトリソグラフィー法により塗工膜をパターニングする。すなわち、塗工膜の上に所定パターンのフォトマスクを配置し、フォトマスクを介して塗工膜に向けた露光を行ない、さらに塗工膜の現像を実施する。感光性材料が上記したネガ型レジスト材料である場合、金属配線13の非形成部分に対応する金属物質膜については露出され、金属配線13の形成部分に対応した金属物質膜の部分は塗工膜で被覆された状態となる。この状態で、金属物質膜の露出部分をエッチング除去する。エッチングの後、残った塗工膜が剥離処理にて取り除かれる。こうして、金属物質膜がパターニングされ、金属配線13がパターン形成される。フォトリソグラフィー法によれば、寸法が30μ以下程度という比較的に細かなパターンをパターニングすることも可能である。
粘着層形成工程では、第1の透明電極層9a、第2の透明電極層9b上にそれぞれ粘着層11a、粘着層11bを形成する。これは、例えば次のように実現できる。粘着層11aをなすことになる粘着剤層を剥離性のフィルム材上に形成して粘着剤層を露出させている第1粘着フィルムを準備する。ついで、その第1粘着フィルムを、粘着層11aをなすことになる粘着剤層の露出面側を第1の透明電極層に対面させて貼り合わせ、フィルム材を粘着剤層から剥離して取り除く。また、粘着層11bをなすことになる粘着剤層を剥離性のフィルム材上に形成して粘着剤層を露出させている第2粘着フィルムを準備する。ついで、その第2粘着フィルムを、粘着層11bをなすことになる粘着剤層の露出面側を第2の透明電極層に対面させて貼り合わせ、フィルム材を粘着剤層から剥離して取り除く。このとき、第1の透明電極層、第2の透明電極層上に積層された粘着剤層は、それぞれ粘着層11a、粘着層11bをなす。
上記の第1の製造方法や第2の製造方法などを適宜用いて片面に凹凸構造部15をなす凹凸構造を形成したモスアイフィルムを調製する。粘着層11bの表面上に、モスアイフィルムを貼り付けることで、モスアイフィルムが反射防止層12をなす。こうして粘着層11bに反射防止層12が積層される。なお、モスアイフィルムは、その凹凸構造の非形成面側を粘着層11bに向かい合わせて貼り付けられる。
粘着層11a上に表面材28を貼り付ける工程が実施される。
表示パネル3は、表示モジュール50を少なくとも含むものである。表示パネル3としては、従前より公知な液晶ディスプレイ用の液晶パネルや、有機ELディスプレイ用のELパネルなど、視覚情報を表示可能な表示パネルを適宜用いることができる。
タッチパネル付き表示装置1は、タッチパネル部材2と表示パネル3とをハウジング5に収容して構成される。ハウジング5には、タッチパネル部材2と表示パネル3を収容可能な形状に形成されたタッチパネル収容部6と表示パネル収容部7とが形成されている。このとき、図1、9に示すように、タッチパネル部材2は、反射防止層12の積層面側を、表示パネル3の表示面50aに対向させて間隔をあけて配置され、タッチパネル部材と表示パネルとの隙間の空間部分として空気層4が形成される。なお、ハウジング5には、樹脂製や金属製など特に限定されず、タッチパネル部材2と表示パネル3を収容可能な形状に形成されたものを適宜用いることができる。
圧力負荷試験は、タッチパネル付き表示装置1のタッチパネル部材2の中心に、5mmφの圧子を用いて2kgの荷重を印加し、反射防止層12が表示パネル3の表示面50aから離間している状態が維持されているかを測定する試験である。
上記のように調製されたタッチパネル部材2と、表示パネル3と、これらを収容するためのハウジング5を準備する。
モスアイフィルムの製造方法としては、上記の第2の製造方法を用いた。
タッチパネル部材用の基材として、縦50mm×横75mm、厚さ150μmの矩形のPETフィルム(東レ製、ルミラーT60)を準備した。
アクリレート化合物(4官能アクリレート)(東亞合成株式会社製、アロニックスM405)100重量部、イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)5重量部、をイソブチルアルコールに溶解させた液(以下、「アンダーコート層形成液」とも言う。)を準備した。アンダーコート層形成液をバーコート法(K303マルチコーター(松尾産業株式会社製))によりタッチパネル部材用の基材の一方面上に塗布して塗布膜を形成し、塗布膜に波長365nm、照射エネルギー300mJ/m2で紫外線を照射して、塗布膜を硬化させることにより、厚さ1μmのアンダーコート層が形成された。アンダーコート層は、タッチパネル部材用の基材フィルムの片面側に塗工形成された後、反対面側についても同様にして形成された。
タッチパネル部材用の基材の両面にアンダーコート層を形成した積層体を用い、その積層体の両面に二酸化ケイ素(SiO2)をスパッタリング(小型スパッタ装置(株式会社アルバック製))して二酸化ケイ素膜を形成し、これを密着性向上層となした。二酸化ケイ素膜からなる密着性向上層は、積層体の両面いずれの面に形成されているものについても、膜厚みが30nmの層であった。
上記で得られた密着性向上層を積層した積層体(以下、「密着性向上層付積層体」とも言う。)を用い、密着性向上層付積層体に更に透明電極層と取出電極部を形成した。透明電極層を形成するための導電性材料としては、ITOが準備され、取出電極部は、金属配線と接続部とを備えるものとした。金属配線を形成するための金属物質としては、APCが準備された。なお、透明電極層と金属配線のパターニングの際に、接続部のパターン形成があわせて実施された。
密着性向上層付積層体の両面に形成されたそれぞれの密着性向上層の上に、導電性材料の膜を形成することで導電膜として第1導電膜と第2導電膜を形成し、さらに、第1導電膜、第2導電膜のそれぞれの上に金属物質の膜を形成することで金属物質膜を形成した。第1導電膜の厚さ、第2導電膜の厚さは、いずれも30nmであった。また、第1導電膜、第2導電膜のそれぞれの上に形成された金属物質膜については、いずれも膜厚が100nmであった。導電膜と金属物質膜の膜厚は、タッチパネル部材の金属配線に接続されてタッチ位置を検出するための演算を行なう駆動回路の内容などの設計仕様といった諸条件に基づき、予め定められる。
感光性材料としてポジ型レジスト材料(AZマテリアルズ社製)を準備した。密着性向上層付積層体の両面側に形成されたそれぞれの金属物質膜の上にポジ型レジスト材料を塗布して厚さ1.0μmで感光性膜を形成し、感光性膜付積層体を得た。ポジ型レジスト材料の塗布は、カーテンコート法(カーテンコーター(株式会社セリテック製))により実施された。
第1の透明電極層の形成パターンと第1の透明電極層に接続される金属配線の形成パターンの両方をあわせたパターンに対応した所定のパターンを有する第1フォトマスクを準備した。さらに、第2の透明電極層の形成パターンと第2の透明電極層に接続される金属配線の形成パターンの両方をあわせたパターンに対応した所定のパターンを有する第2フォトマスクを準備した。第1フォトマスクは、第1の透明電極層の非形成部分と第1の透明電極層に接続される金属配線の非形成部分に対応した部分を光透過可能に構成している。第2フォトマスクは、第2の透明電極層の非形成部分と第2の透明電極層に接続される金属配線の非形成部分に対応した部分を光透過可能に構成している。
現像処理を施して得られた感光性膜付積層体を用い、感光性膜付積層体の金属物質膜および導電膜の両層についてエッチングした。エッチングは、感光性膜付積層体の両面に形成された金属物質膜および導電膜について施された。エッチング液には、塩化鉄溶液を用いた。これにより、金属物質膜および導電膜のうち、第1の透明電極層の形成部分と第1の透明電極層に接続される金属配線の形成部分に対応した部分とが、感光性膜付積層体の一方面側に残り、第2の透明電極層の形成部分と第2の透明電極層に接続される金属配線の形成部分に対応した部分が、感光性膜付積層体の他方面側に残る。
次に、第1の透明電極層の形成パターンに対応した所定のパターンを有する第3フォトマスクを準備した。さらに、第2の透明電極層の形成パターンに対応した所定のパターンを有する第4フォトマスクを準備した。第3フォトマスクは、第1の透明電極層の形成部分を光透過可能に構成している。第4フォトマスクは、第2の透明電極層の形成部分を光透過可能に構成している。なお、第3フォトマスク、第4フォトマスクには、それぞれ感光性膜付積層体との位置関係を指定するアライメントマークが設けられている。
第2パターニングを施して得られた感光性膜付積層体を用い、感光性膜付積層体の両面の金属物質膜についてエッチングした。エッチング液には、燐酸、硝酸、酢酸、水を4:1:4:4の割合で混合してなる燐硝酢酸液を用いた。これにより、金属物質膜のうち、第1の透明電極層に接続される金属配線の形成部分に対応した部分が、感光性膜付積層体の一方面側に残り、第2の透明電極層に接続される金属配線の形成部分に対応した部分が、感光性膜付積層体の他方面側に残る。第1導電膜は、このエッチングにより第1の透明電極層の形成部分が露出して第1の透明電極層をなし、第2導電膜は、第2の透明電極層の形成部分が露出して第2の透明電極層をなす。導電膜のうち、第1の透明電極層に接続される金属配線の形成部分に対応した部分、および、第2の透明電極層に接続される金属配線の形成部分に対応した部分は、いずれも透明電極層から延設された部分であり、且つ、金属物質膜で覆われた部分となっており、金属配線と透明電極層との接続部を形成する。
[タッチパネル部材]
透明電極層付積層体を用い、これに粘着層と反射防止層および表面材を積層し、タッチパネル部材を調製した。
剥離紙に粘着剤の層を積層してなる両面粘着テープ(日栄化工製MHM(粘着剤の層の厚さは、50μm)を準備した。両面粘着テープに形成されている粘着剤の層が透明電極層付積層体に積層される粘着層をなすことになる。透明電極層付積層体の両面に形成されている透明電極層の両方について、透明電極層を被覆するように両面粘着テープの粘着剤の層が貼り付けられて、粘着剤の層が積層され、粘着層となした。なお、粘着剤の層は、透明電極層のみならず取出電極部をも覆うように積層された。
粘着層に含まれる塩化物イオンの濃度は、両面粘着テープに形成されている粘着剤の層に含まれる塩化物イオンの濃度として次のように特定された。表1に示すとおり、塩化物イオンの濃度は、4.6μg/gであった。
反射防止層は、上記で調製されたモスアイフィルムの粘着層への貼り付けによって積層される。モスアイフィルムを、透明電極層付積層体の両面に形成されている透明電極層に積層された粘着層のうち、第2の透明電極層上に積層された粘着層に対して貼り付ける。このとき、モスアイフィルムは、凹凸構造部を表側に向けて、凹凸構造部の非形成面側を粘着層に向かい合わせて、粘着層上に直接貼り合わせられた。
表面材としては、厚さ0.5mmのガラス材(コーニング社製、ゴリラガラス)が準備された。このガラス材は、粘着層のうち、モスアイフィルムを積層しなかったほうの粘着層に対して貼り付けられた。こうして、タッチパネル部材を得た。
タッチパネル部材を、楠本化成株式会社製の絶縁劣化評価システムSIR−12に接続し、電圧を印加した状態で恒温恒湿槽(恒温恒湿試験機楠本化成(株)品ETAC事業部HIFLEX FH14PH)に投入した。この際、恒温恒湿槽は、温度60℃、相対湿度90%RHとした。タッチパネル部材には、基材の両面のうち反射防止層の積層面側上に形成された透明電極層において、互いに隣接する電極片間に電位差(3.3V)が発生するように直流電流が印加された。すなわち、互いに隣接する電極片に対して、一方端位置の電極片から、それぞれ0V、3.3V、0V、3.3V・・・の順に、交互に直流電圧が印加された。この状態で、タッチパネル部材を240時間放置し、上記絶縁劣化評価システムで電極片間の絶縁抵抗値をモニタリングした。イオンマイグレーションが生じれば、電極片間の絶縁抵抗値が下がるため、このモニタリングにより、イオンマイグレーションの発生を確認することができる。なお、モニタリングのパターンは、原則、毎秒1回ずつ絶縁抵抗値を測定し、絶縁抵抗値が1.0×106(Ω)(閾値)を下回ると、200mm秒ごとに1回ずつ絶縁抵抗値を測定するようなパターンとなっている。このとき、絶縁抵抗値が1.0×106(Ω)を下回った値として測定された場合に、イオンマイグレーションが1回発生したと判定される。この発生回数は、積算記録される。したがって、絶縁抵抗値の値が大きく下がってしまう場合と、モニタリングによってイオンマイグレーションの発生があったと判定されたとして積算記録がなされた回数(カウント数)が多い場合には、イオンマイグレーションが大きく生じていることになる。上記モニタリングが実施されている間、絶縁抵抗値の値がどのような値であったかについて、結果を表1に示す。
デンドライトの有無の確認は、タッチパネル部材の金属配線の部分について光学顕微鏡で観察(倍率20倍)することにより、実施された。デンドライトの有無確認の結果を表1に示す。なお、デンドライトとは、金属配線に生じる樹枝状の突起物を示す。
イオンマイグレーション抑制確認試験において、下記(基準1)または(基準2)のいずれか一方でも満たされてしまった場合は、タッチパネル部材は「不良」と評価される。下記(基準1)と(基準2)のいずれも満たさない場合は、タッチパネル部材は「良好」と評価される。
(基準2) 絶縁抵抗値として1.0×104Ω以下の値が計測される。
上記のタッチパネル部材と、ハウジングと、表示パネルを準備し、ハウジングに表示パネルを収容するとともに、間隔をあけてタッチパネル部材を収容した。ハウジングには、樹脂製の成型品が用いられ、表示パネルとタッチパネル部材の隙間間隔が2mmとなるように、表示パネル収容部とタッチパネル収容部の位置を調整されたものを用いた。表示パネルとしては、液晶パネルが選択された。表示パネルとタッチパネル部材の間に形成された空間が、空気層をなす。こうして、タッチパネル付き表示装置が得られた。
タッチパネル付き表示装置を暗室環境下で全面白表示させ、そのときの正面輝度を分光放射輝度計(トプコン社製;SR−UL1)により測定した。結果、正面輝度は382cd/m2であった(表1)。
圧力負荷試験は、タッチパネル付き表示装置のタッチパネル部材の中心部に、5mmφの圧子を用いて2kgの荷重を印加し、反射防止層と表示パネルとの接触の有無を確認した。反射防止層と表示パネルとが接触することなく、空隙が保持されていた。空隙が保持されている場合には、タッチパネル付き表示装置の品質は「○」(良好)であると評価し、空隙が保持されていない場合には、タッチパネル付き表示装置の品質は「×」(不良)であると評価した。結果を表1に示す。なお、タッチパネル部材の中心部としては、タッチパネル部材を平面視した場合における、矩形のタッチパネル部材の対角線の交点の部分とした。
粘着層を形成するための両面粘着テープとして、DIC製ZC7032W(粘着剤の層の厚さは、50μm)を用いたほかは、実施例1と同様にしてタッチパネル部材を調製し、粘着層に含まれる塩化物イオンの濃度を測定した。結果を表1に示す。また、このタッチパネル部材を用いて、イオンマイグレーション抑制確認試験、デンドライトの有無確認試験を行ない、さらに、実施例1と同様にしてタッチパネル付き表示装置を組み立て(表示パネルとタッチパネル部材の隙間間隔は2mm)、正面輝度の測定試験、圧力負荷試験を行なった。結果を表1に示す。また、タッチパネル部材の良否の評価について、実施例1と同様に行なったところ、良好と評価された。
反射防止層に代えて厚さ100μmのPETフィルム(東レ製、ルミラーT60)を積層したほかは、実施例1と同様にしてタッチパネル部材を調製した。結果を表1に示す。また、このタッチパネル部材を用いて、イオンマイグレーション抑制確認試験、デンドライトの有無確認試験を行ない、さらに、実施例1と同様にしてタッチパネル付き表示装置を組み立て(表示パネルとタッチパネル部材の隙間間隔は2mm)、正面輝度の測定試験、圧力負荷試験を行なった。結果を表1に示す。
透明電極層の上に粘着層付き保護フィルムを積層し、さらにその上に粘着層と反射防止層を設けたほかは、実施例1と同様にしてタッチパネル部材を調製した。なお、粘着層付き保護フィルムは、厚さ100μmのPETフィルム(東レ製、ルミラーT60)の一方面上に、両面粘着テープ(日栄化工製MHM(粘着剤の層の厚さは、50μm)の粘着剤の層をPETフィルム面に向けて貼り付け、剥離紙を取り除くことで形成される。そして、粘着層付き保護フィルムの粘着剤の層を透明電極層に対向させて貼りつけ、PETフィルムの露出面側に、粘着層を積層し、さらに反射防止層を設けることで、タッチパネル部材が形成される。
粘着層を形成するための両面粘着テープとして、積水化学#5405(粘着剤の層の厚さは、50μm)を用いたほかは、実施例1と同様にしてタッチパネル部材を調製し、粘着層に含まれる塩化物イオンの濃度を測定した。また、このタッチパネル部材を用いて、イオンマイグレーション抑制確認試験、デンドライトの有無確認試験を行ない、さらに、実施例1と同様にしてタッチパネル付き表示装置を組み立て(表示パネルとタッチパネル部材の隙間間隔は2mm)、正面輝度の測定試験、圧力負荷試験を行なった。結果を表1に示す。表1にも示すとおり、参考例1のタッチパネル部材では、イオンマイグレーション抑制確認試験において、モニタリング開始から88時間経過後で絶縁抵抗値が1.4×102(Ω)に低下した。
2 タッチパネル部材
3 表示パネル
4 空気層
5 ハウジング
6 タッチパネル収容部
7 表示パネル収容部
8 基材
9,9a,9b 透明電極層
10 取出電極部
11,11a,11b 粘着層
12 反射防止層
13 金属配線
14 凸部
15 凹凸構造部
16 接続部
17 基材フィルム
18 原反フィルム
19 送出ロール
20 塗工膜
21 賦形ロール
22 凹凸構造保護用フィルム
23 金型
24 塗工膜
25 コーター
26 密着性向上層
27 アンダーコート層
28 表面材
29 基材の面
29a、29b 基材の一方の面、他方の面
31 第1電極片
32 第2電極片
33,34 電極素片
35,36 連結材
40 位置検出用エリア形成部
41 モスアイ構造形成体
50 表示モジュール
50a 表示面
60 第1導電膜
61 第2導電膜
62 積層体
63 第1感光性膜
64 第2感光性膜
65 感光性膜付積層体
66 フォトマスク
67 積層体
90 第1電極形成部
91 第2電極形成部
92 第1電極片
93 第2電極片
94,95 電極素片
96,97 連結材
Claims (4)
- 光透過性を有する基材を備えるとともに、少なくとも基材の片面側に透明電極層と該透明電極層に通電可能に配設された取出電極部とを有するタッチパネル部材と、表示面を有し該表示面に画像を表示させる表示モジュールを少なくとも含む表示パネルとが、空気層を介在して積層されてなるタッチパネル付き表示装置において、
前記タッチパネル部材は、前記透明電極層上に粘着層を設け、一方の面に凹凸構造を有する反射防止層を、該粘着層上に直接積層しており、且つ、前記反射防止層の凹凸構造を有する面側を、前記表示パネルの表示面に対向させて配置されている、ことを特徴とするタッチパネル付き表示装置。 - 粘着層は、取出電極部を被覆して形成されており、
前記粘着層は、該粘着層中の塩化物イオンの濃度が5μg/g以下である、請求項1に記載のタッチパネル付き表示装置。 - 透明電極層は、互いに間隔を置いて配置される複数の第1電極片と、互いに間隔を置いて配置される複数の第2電極片と、を備えて形成され、
第1電極片と第2電極片は、互いに離間しており、且つ、タッチパネル部材の平面視上互いに交差しつつ、1つの基材上に配置されている、請求項1または2に記載のタッチパネル付き表示装置。 - 反射防止層は、表示パネルの表示面から離間している、請求項1から3のいずれかに記載のタッチパネル付き表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010291165A JP2012138019A (ja) | 2010-12-27 | 2010-12-27 | タッチパネル付き表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010291165A JP2012138019A (ja) | 2010-12-27 | 2010-12-27 | タッチパネル付き表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012138019A true JP2012138019A (ja) | 2012-07-19 |
Family
ID=46675362
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010291165A Pending JP2012138019A (ja) | 2010-12-27 | 2010-12-27 | タッチパネル付き表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2012138019A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104007872A (zh) * | 2013-02-27 | 2014-08-27 | 星电株式会社 | 触摸板 |
JP2016505991A (ja) * | 2013-01-07 | 2016-02-25 | マイクロソフト テクノロジー ライセンシング,エルエルシー | ディスプレイの近傍の容量性タッチ表面 |
KR20180011924A (ko) * | 2016-07-25 | 2018-02-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
JPWO2017138611A1 (ja) * | 2016-02-09 | 2018-12-13 | 大日本印刷株式会社 | 光学積層体及びその製造方法、前面板、並びに画像表示装置 |
CN113359340A (zh) * | 2021-05-28 | 2021-09-07 | 上海易教科技股份有限公司 | 显示装置及智慧黑板 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0316147A (ja) * | 1989-03-09 | 1991-01-24 | Hitachi Chem Co Ltd | 回路の接続方法及びそれに用いる接着剤フィルム |
JPH0962443A (ja) * | 1995-08-25 | 1997-03-07 | Sanyo Electric Co Ltd | 入出力一体型表示装置 |
JP2001264520A (ja) * | 2000-03-16 | 2001-09-26 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルム、偏光素子、および表示装置、ならびに反射防止フィルムの製造方法 |
JP2003050673A (ja) * | 2001-08-06 | 2003-02-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止機能付きの透明タッチパネル、及びそれを用いた表示装置 |
JP2004205990A (ja) * | 2002-12-26 | 2004-07-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止性能を有する微細凹凸パターンの作製方法及び反射防止物品 |
JP2004264989A (ja) * | 2003-02-28 | 2004-09-24 | Sumitomo Wiring Syst Ltd | タッチパネル装置 |
JP2008083491A (ja) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Epson Imaging Devices Corp | 電気光学装置及び電子機器 |
WO2010113868A1 (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-07 | シャープ株式会社 | 表示装置及び光学フィルム |
JP2010231186A (ja) * | 2009-03-04 | 2010-10-14 | Sony Corp | 表示装置 |
-
2010
- 2010-12-27 JP JP2010291165A patent/JP2012138019A/ja active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0316147A (ja) * | 1989-03-09 | 1991-01-24 | Hitachi Chem Co Ltd | 回路の接続方法及びそれに用いる接着剤フィルム |
JPH0962443A (ja) * | 1995-08-25 | 1997-03-07 | Sanyo Electric Co Ltd | 入出力一体型表示装置 |
JP2001264520A (ja) * | 2000-03-16 | 2001-09-26 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルム、偏光素子、および表示装置、ならびに反射防止フィルムの製造方法 |
JP2003050673A (ja) * | 2001-08-06 | 2003-02-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止機能付きの透明タッチパネル、及びそれを用いた表示装置 |
JP2004205990A (ja) * | 2002-12-26 | 2004-07-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止性能を有する微細凹凸パターンの作製方法及び反射防止物品 |
JP2004264989A (ja) * | 2003-02-28 | 2004-09-24 | Sumitomo Wiring Syst Ltd | タッチパネル装置 |
JP2008083491A (ja) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Epson Imaging Devices Corp | 電気光学装置及び電子機器 |
JP2010231186A (ja) * | 2009-03-04 | 2010-10-14 | Sony Corp | 表示装置 |
WO2010113868A1 (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-07 | シャープ株式会社 | 表示装置及び光学フィルム |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016505991A (ja) * | 2013-01-07 | 2016-02-25 | マイクロソフト テクノロジー ライセンシング,エルエルシー | ディスプレイの近傍の容量性タッチ表面 |
CN104007872A (zh) * | 2013-02-27 | 2014-08-27 | 星电株式会社 | 触摸板 |
JP2014194749A (ja) * | 2013-02-27 | 2014-10-09 | Hosiden Corp | タッチパネル |
JPWO2017138611A1 (ja) * | 2016-02-09 | 2018-12-13 | 大日本印刷株式会社 | 光学積層体及びその製造方法、前面板、並びに画像表示装置 |
KR20180011924A (ko) * | 2016-07-25 | 2018-02-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
US11864407B2 (en) | 2016-07-25 | 2024-01-02 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device with structure for preventing organic material overflow |
KR102668184B1 (ko) * | 2016-07-25 | 2024-05-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
CN113359340A (zh) * | 2021-05-28 | 2021-09-07 | 上海易教科技股份有限公司 | 显示装置及智慧黑板 |
CN113359340B (zh) * | 2021-05-28 | 2022-11-15 | 上海易教科技股份有限公司 | 显示装置及智慧黑板 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5234868B1 (ja) | 光学機能付き静電容量方式タッチセンサー | |
WO2011030773A1 (ja) | 狭額縁タッチ入力シートとその製造方法および狭額縁タッチ入力シートに用いる導電性シート | |
TWI425407B (zh) | 防銹性優異的窄框緣觸控輸入薄片及其製造方法 | |
KR101677508B1 (ko) | 도전성 적층체, 터치패널 및 표시 장치 | |
JP5078534B2 (ja) | 透明面状体及び透明タッチスイッチ | |
JP4601710B1 (ja) | 狭額縁タッチ入力シートとその製造方法 | |
JP5906572B2 (ja) | 表示用前面板の製造方法、および表示装置の製造方法 | |
CN104321693A (zh) | 具有宽带防反射膜的显示器 | |
EP1046946A1 (en) | Liquid crystal display of touch input type, and method of manufacture | |
WO2016188071A1 (zh) | 一体化前置光源组件及其制作方法、反射式显示装置 | |
KR20130028623A (ko) | 터치 적층 구조 | |
JP2012242928A (ja) | 加飾透明保護基板一体型タッチパネル | |
JP2012138019A (ja) | タッチパネル付き表示装置 | |
WO2014112323A1 (ja) | 偏光サングラス対応のタッチ機能付偏光板とその製造方法、液晶表示装置 | |
JP2013143042A (ja) | タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサの製造方法、および、タッチパネルセンサを製造するための積層体 | |
KR20120110885A (ko) | 편광판 일체형 터치 센서 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 | |
JP5259539B2 (ja) | 保護フィルム付き狭額縁タッチ入力シート、保護フィルム付き積層狭額縁タッチ入力シート及びこれらの製造方法 | |
JP2012138016A (ja) | タッチパネル部材 | |
JP6465393B2 (ja) | 導電性パターンシートの製造方法、導電性パターンシート、導電性パターンシートを備えたタッチパネルセンサおよびフォトマスク | |
KR101328763B1 (ko) | 터치스크린용 투명 회로 기판 및 그 제조 방법 | |
JP4870836B1 (ja) | 狭額縁タッチ入力シートの製造方法 | |
JP6278261B2 (ja) | タッチパネルセンサ、タッチパネル装置、表示装置、並びに、タッチパネルセンサの製造方法 | |
KR101477072B1 (ko) | 광학 기능이 부가된 정전 용량 방식 터치 센서 | |
TW201719202A (zh) | 附有電極之彩色濾光片基板、使用其之顯示裝置、及此等之製造方法 | |
KR20140106864A (ko) | 투명기판에 금속미세회로부가 형성된 터치 패널기판과 그 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131028 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140619 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140702 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140828 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150121 |