JP2005316428A - 干渉縞の発生を防止した帯電防止性反射防止フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、干渉縞の発生を防止し、且つ帯電防止性を有し、塗膜密着性に優れた、反射防止フィルムを提供。
【解決手段】一番目の反射防止フィルムは、透明基材フィルム１上に、高分子型帯電防止剤、架橋基を有する低分子型帯電防止剤、及び導電性帯電防止剤から選ばれた帯電防止剤が含まれ、且つハード性を有する帯電防止性ハードコート層２−１、さらに、直接接する下層の屈折率よりも低い屈折率の低屈折率層３、をこの順で形成してなる反射防止フィルムに関するものである。該透明基材フィルム１と該帯電防止性ハードコート層２−１の屈折率の差の絶対値が０．０３以内であることにより干渉縞の発生を防止する。
【選択図】 図１

Description

本発明は、干渉縞の発生を防止し、しかも、埃が付着することを防止した帯電防止性を有し、塗膜密着性に優れた、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のディスプレイ等の光学物品の表面に用いられる反射防止フィルムに関する。

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のディスプレイ等の光学物品の表示面は、その視認性を高めるために、蛍光灯などの外部光源から照射された光線の反射が少ないことが求められており、反射防止を行うために、透明基材フィルム上に直接又は他の層を介して、下層の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層を形成した反射防止フィルムを光学物品の表面に貼付することが行われている。さらに、光学物品の表面に傷が付くと視認性を悪くするため、反射防止フィルムにハード性能を付与することが行われている。また、プラスチックからなる光学物品は絶縁性であるので静電気等により帯電し、表面に埃が付着すると視野性が悪くなるために、光学物品に帯電防止性を付与することが求められている。

反射防止フィルムにこれらの帯電防止性及びハード性能を付与したものとして、透明基材フィルム上に金属酸化物を含有させた帯電防止層を形成し、さらにその上にハードコート層を形成し、最上層として下層の屈折率よりも低い屈折率の低屈折率層を形成した帯電防止性反射防止フィルムは、例えば、特開２００１−２５５４０３号公報（特許文献１）により知られている。また、透明基材フィルム上に金属酸化物を含有させた帯電防止性ハードコート層を形成した帯電防止性反射防止フィルムは特開２００３−３０１０１８号公報（特許文献２）、特開２００２−３７５１（特許文献２６）により知られている。

更に、有機系帯電防止性ハードコートに低屈折層を積層した反射防止フィルムは特開２００２−２５６０５３（特許文献２７）により知られている。
特開２００１−２５５４０３号公報 特開２００３−３０１０１８号公報 特公昭４９−２３８２８号公報 特公昭４９−２３８２７号公報 特公昭４７−２８９３７号公報 特開平７−４１６９５号公報 特公昭５５−７３４号公報 特開昭５０−５４６７２号公報 特開昭５９−１４７３５号公報 特開昭５７−１８１７５号公報 特開昭５７−１８１７６号公報 特開昭５７−５６０５９号公報 特公昭５３−１３２２３号公報 特公昭５７−１５３７６号公報 特公昭５３−４５２３１号公報 特公昭５５−１４５７８３号公報 特公昭５５−６５９５０号公報 特公昭５５−６７７４６号公報 特公昭５７−１１３４２号公報 特公昭５７−１９７３５号公報 特公昭５８−５６８５８号公報 特開昭６１−２７８５３号公報 特開昭６２−９３４６号公報 特開平１０−２７９８３３号公報 特開２０００−８０１６９号公報 特開２００２−３７５１号公報 特開２００２−２５６０５３号公報

前記特許文献１及び特許文献２に記載の反射防止フィルムは、ディスプレイ表面への粉塵吸着による視野性の低下を防止するために、帯電防止材料として金属酸化物を用いた帯電防止層を形成している。ところで、金属酸化物は一般的にバインダー樹脂よりも屈折率が高く、金属酸化物を添加した帯電防止層は、基材フィルムやハードコート層の屈折率よりも高い屈折率となり、基材フィルムと帯電防止層、或いはハードコート層と帯電防止層との間で屈折率差が生ずる。これらの屈折率差により、干渉縞が発生しディスプレイ等の光学物品の視認性を悪くするという問題があった。

例えば、従来の一般的な帯電防止層を形成した反射防止フィルムの一例を挙げれば、トリアセチルセルロースフィルム（透明基材フィルム）では屈折率が約１．５前後であり、金属酸化物含有帯電防止層では屈折率が約１．５７〜１．６０であり、ハードコート層では約１．５０前後であり、互いに接する各層の屈折率差が大きいため、透明基材フィルムと帯電防止層との界面、及び帯電防止層とハードコート層との界面でそれぞれ表面側から入射した外光が反射し、これらの反射光が干渉を引き起し、干渉ムラ（色ムラ）として観察される。

このような屈折率差による干渉縞の発生を防止するために、金属酸化物に比べて屈折率が高くない界面活性剤を帯電防止剤として用いることが考えられる。しかしながら、界面活性剤はブリードアウトしやすく、他の層との密着性が低下するという問題がある。更に湿度依存性が大きく、耐水性に劣るという問題が挙げられる。

そこで本発明は、干渉縞の発生を防止し、且つ帯電防止性を有し、塗膜密着性に優れ、高温高湿度試験後における塗膜の透明性が良好な反射防止フィルムを提供することを目的とする。

前記した課題を解決するための本発明の一番目の反射防止フィルムは、透明基材フィルム上に、高分子型帯電防止剤、架橋基を有する低分子型帯電防止剤及び導電性帯電防止剤から選ばれた帯電防止剤、並びに電離放射線硬化型樹脂が含まれてなる帯電防止性ハードコート層、さらに、直接接する下層の屈折率よりも低い屈折率の低屈折率層をこの順で形成してなる反射防止フィルムであって、該透明基材フィルムと該帯電防止性ハードコート層の屈折率の差の絶対値が０．０３以内であることにより干渉縞の発生を防止したことを特徴とする。

上記本発明の一番目の反射防止フィルムでは、ハードコート層に帯電防止性の機能を付与しているが、帯電防止性とハード性の機能の二つの機能を分けて別々の層として設けてもよい。即ち、本発明の二番目の反射防止フィルムは、透明基材フィルム上に、高分子型帯電防止剤、架橋基を有する低分子型帯電防止剤及び導電性帯電防止剤から選ばれた帯電防止剤、並びにバインダー樹脂が含まれてなる帯電防止層、さらにこの上に電離放射線硬化型樹脂が含まれてなるハードコート層、またさらに、直接接する下層の屈折率よりも低い屈折率の低屈折率層をこの順で形成してなる反射防止フィルムであって、該透明基材フィルムと該帯電防止層の屈折率の差、及び該帯電防止層と該ハードコート層の屈折率差の絶対値が共に０．０３以内であることにより干渉縞の発生を防止したことを特徴とする。

本発明の反射防止フィルムにおける帯電防止性ハードコート層、或いは帯電防止層には、金属酸化物に比べて屈折率の低い有機系帯電防止材料が使用されているために、透明基材フィルムの屈折率と帯電防止層の屈折率の差の絶対値を０．０３以内、また、帯電防止層とハードコート層の屈折率の差の絶対値を０．０３以内に調整することができる。

本発明の反射防止フィルムは、反応基導入型又は塩類導入型高分子型帯電防止材料、又は導電性高分子型帯電防止材料を含有させた帯電防止層を用いているので、透明基材フィルムと、帯電防止性ハードコート層又は帯電防止層との屈折率の差の絶対値を０．０３以内、また、帯電防止層とハードコート層の屈折率差の絶対値を０．０３以内とすることができ、透明基材フィルムと、帯電防止性ハードコート層又は帯電防止層との界面、また、帯電防止層とハードコート層との界面での干渉縞の発生を防止することができる。

図１は、本発明の第１の形態の反射防止フィルムの層構成を示す概略断面図である。図１の反射防止フィルムは、透明基材フィルム１上に、帯電防止性ハードコート層２−１が形成されており、さらにその上に低屈折率層３が形成されている。

図２は、本発明の第２の形態の反射防止フィルムの層構成を示す概略断面図である。図２の反射防止フィルムは、ハード性と帯電防止性を２層に分けて構成した反射防止フィルムであり、即ち、透明基材フィルム１上に、帯電防止層２−２が形成されており、さらにその上にハードコート層２−３が形成され、さらにその上に低屈折率層３が形成されている。

帯電防止性ハードコート層／帯電防止層
本発明の反射防止フィルムに用いられる帯電防止性ハードコート層又は帯電防止層は、１．０×１０^１３Ω／□以下であることが埃付着防止のために必要である。１．０×１０^１３Ω／□〜１．０×１０^１２Ω／□では帯電するが静電荷が蓄積しないため、フィルムなどに埃付着防止性が得られる。好ましくは、静電荷が帯電するが、すぐ減衰する範囲１．０×１０^１２Ω／□〜１．０×１０^１０Ω／□であり、より好ましくは帯電しない範囲１．０×１０^１０Ω／□以下であり、最も好ましくは１．０×１０^８Ω／□以下である。

有機系帯電防止剤として、従来、最も一般的に行われている方法は、低分子量の界面活性剤を用い、帯電防止層形成用のコーティング組成物に添加して塗膜を形成して帯電防止層とするか、界面活性剤を表面に塗布する方法である。しかし、低分子量の界面活性剤は次に挙げるような欠点を有している。・水洗い、布拭きなどにより帯電防止剤が脱落し、帯電防止効果に持続性がない。・帯電防止剤のブリードアウトにより、ブロッキングを起こすなど表面特性が悪化する。・耐熱性が悪いものが多く、成形加工時に分解しやすいため、また、塗膜の界面において集中し、塗膜の密着性を損なうため、剥離が起こりやすくなることから、本発明では低分子量の界面活性剤を用いない。

１）帯電防止剤
本発明の反射防止フィルムの帯電防止性ハードコート層又は帯電防止層に用いることができる帯電防止剤には、高分子型帯電防止剤、架橋基を有する低分子型帯電防止剤、導電性帯電防止剤が挙げられる。本発明の反射防止フィルムの帯電防止性ハードコート層又は帯電防止層を形成するためのコーティング組成物は、これらの帯電防止剤の何れかが電離放射線硬化型樹脂に添加されたものである。

高分子型帯電防止剤には、特公昭４９−２３８２８号公報（特許文献３）、特公昭４９−２３８２７号公報（特許文献４）、特公昭４７−２８９３７号公報（特許文献５）、特開平７−４１６９５号公報（特許文献３）にみられるようなアニオン性高分子化合物；特公昭５５−７３４号公報（特許文献７）、特開昭５０−５４６７２号公報（特許文献８）、特開昭５９−１４７３５号公報（特許文献９）、特開昭５７−１８１７５号公報（特許文献１０）、特開昭５７−１８１７６号公報（特許文献１１）、特開昭５７−５６０５９号公報（特許文献１２）などにみられるような、主鎖中に解離基を持つアイオネン型ポリマー；特公昭５３−１３２２３号公報（特許文献１３）、特公昭５７−１５３７６号公報（特許文献１４）、特公昭５３−４５２３１号公報（特許文献１５）、特公昭５５−１４５７８３号公報（特許文献１６）、特公昭５５−６５９５０号公報（特許文献１７）、特公昭５５−６７７４６号公報（特許文献１８）、特公昭５７−１１３４２号公報（特許文献１９）、特公昭５７−１９７３５号公報（特許文献２０）、特公昭５８−５６８５８号公報（特許文献２１）、特開昭６１−２７８５３号公報（特許文献２２）、特開昭６２−９３４６号公報（特許文献２３）、特開平１０−２７９８３３号公報（特許文献２４）、特開２０００−８０１６９号公報（特許文献２５）にみられるようなカチオン性高分子化合物を挙げることができる。特に好ましい高分子型帯電防止剤としては、これらの何れの高分子型帯電防止剤のうち、分子架橋基を有する化合物であり、最も反射防止フィルムの耐衝撃層に用いるのに好ましいのは４級アンモニウムカチオンを含有する構造体である。更に４級アンモニウム系帯電防止剤は、隣接する他の層との密着性（リコート性）がよくなる、且つ耐高温度・湿度試験後においての透明性の低下が最も抑制されるので好ましい。

高分子型帯電防止剤に含まれる４級アンモニウム塩の構造を次に挙げるが、本発明はこれに限られるものではない。

Ｒ_２、Ｒ_２’、Ｒ_２‘’：アルキル鎖
Ｘ⁻：アニオン（Ｃｌ⁻、Ｂｒ⁻、Ｉ⁻、Ｆ⁻、ＨＳＯ４⁻ＳＯ４^２−、ＮＯ３⁻、ＰＯ４^３−、ＨＰＯ４^２−、Ｈ２ＰＯ４⁻、Ｃ６Ｈ５、ＳＯ３⁻、ＯＨ⁻など）
式中Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５、Ｒ_６は炭素数１〜４の置換あるいは未置換のアルキル基を表わし、Ｒ_３とＲ_４及び／またはＲ_５とＲ_６が結合してピペラジンなどの含窒素複素環を形成してもよい。Ａ、Ｂ及びＤはそれぞれ炭素数２〜１０の置換あるいは未置換のアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ_７ＣＯＲ_８−、−Ｒ_９ＣＯＯＲ_１０ＯＣＯＲ_１１−、−Ｒ_１２ＯＣＲ_１３ＣＯＯＲ_１４−、−Ｒ_１５−（ＯＲ_１６）_ｍ−、−Ｒ_１７ＣＯＮＨＲ_１８ＮＨＣＯＲ_１９−、−Ｒ_２０ＯＣＯＮＨＲ_２１ＮＨＣＯＲ_２２−または−Ｒ_２５ＮＨＣＯＮＨＲ_２４ＮＨＣＯＮＨＲ_２５−を表す。Ｒ_７、Ｒ_８、Ｒ_９、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_１４、Ｒ_１５、Ｒ_１６、Ｒ_１７、Ｒ_１９、Ｒ_２０、Ｒ_２２、Ｒ_２３およびＲ_２５はアルキレン基、Ｒ_１０、Ｒ_１３、Ｒ_１８、Ｒ_２１およびＲ_２４はそれぞれ置換または未置換のアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基、アルキレンアリーレン基から選ばれる連結基、ｍは１〜４の正の整数を表し、Ｘ-はアニオンを表す。

以下に、上記４級アンモニウ塩を含有した高分子化合物の具体例を挙げるが本発明はこれに限定されない。

高分子型帯電防止剤の４級アンモニウム塩が含まれているｘの値は１〜７０ｍｏｌ％であればよい。４級アンモニウ塩量が１ｍｏｌ％以下だと、帯電防止性能が発揮されず、７０ｍｏｌ％以上であると樹脂成分との相溶性が悪くなる。より好ましくは３〜５０ｍｏｌ％である。

高分子型帯電防止剤は、低分子量の界面活性剤に比べ、持続性に優れる永久制電性樹脂が得られ、帯電防止剤のブリードアウトも防止できるため、帯電防止層の上部に低屈折率層を積層した際に、低屈折率層との密着性の改善が期待できる。また、帯電防止剤を構成する化合物一分子内に重合性官能基を有するものであれば、帯電防止剤が紫外線照射或いは電子線照射により、ハードコート成分である電離放射線硬化型バインダーと化学結合を起こすため、ハードコート中に固定され、ブリードアウトや、水洗い、布拭きなどによる帯電防止剤の脱落が低減できるので好ましい。

低分子型帯電防止剤において、分子中に分子架橋基を有するものであれば、紫外線照射により、ハードコート成分である電離放射線硬化型バインダーと化学結合を起こすため、ハードコート中に固定され、ブリードアウトや、水洗い、布拭きなどによる帯電防止剤の脱落が低減できるので好ましい。このような分子架橋基を有する低分子型帯電防止剤には、アニオン性、ノニオン性或いはカチオン性化合物の何れであってもよい。

導電性帯電防止剤としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）が挙げられる。この他にも分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げることができる。これらの導電性帯電防止剤は、高分子であるため低分子量の界面活性剤に比べ、持続性に優れる永久制電性樹脂が得られ、帯電防止剤のブリードアウトも防止でき、帯電防止層の上部に低屈折率層を積層した際に、低屈折率層との密着性の改善が期待できる。

２）バインダー樹脂
帯電防止性ハードコート層又は帯電防止層のバインダー樹脂として用いられる電離放射線硬化型樹脂には、電離放射線の照射を受けた時に直接、又は開始剤の作用を受けて間接的に、重合や二量化等の大分子化を進行させる反応を起こす重合性官能基を有するモノマー、オリゴマー及びポリマーを用いることができる。具体的には、アクリル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合を有するラジカル重合性のモノマー、オリゴマーが好ましく、バインダー成分の分子間で架橋結合が生じるように、一分子内に重合性官能基を２個以上、好ましくは３個以上有する多官能のバインダー成分であることが望ましい。しかしながら、その他の電離放射線硬化性のバインダー成分を用いることも可能であり、例えば、エポキシ基含有化合物のような光カチオン重合性のモノマーやオリゴマーを用いてもよい。また、導電性を向上させるには、イオン伝搬性を良好にするような、ＥＯ変性など親水性のバインダーであることが好ましい。さらに、分子中に水酸基を残したバインダー成分を用いるのが好ましい。バインダー中の水酸基は、水素結合によりハードコート層や低屈折率層等の隣接層に対する密着性を向上させることが可能となる。

更にカール防止などの機能を付加させるためには以下のバインダー樹脂を用いることが好ましい。

光透過性基材がトリアセテートセルロース（ＴＡＣ）の場合に使用する樹脂は、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエーテル樹脂、多価アルコール、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（メタ）アクリレートモノステアレート等の（メタ）アクリレート樹脂が選ばれる。

具体的には、４超過の官能基を有する、変性ペンタエリスリトールアクリレートとしては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートおよび、それらの変性体から選ばれる。

３以下の官能基を有するイソシアヌル酸変性アクリレート樹脂またはビスフェノール変性アクリレート樹脂としては、変性イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレート、変性イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート、ビスフェノールＦ ＥＯ変性ジアクリレート、ビスフェノールＡ ＥＯ変性ジアクリレート、エポキシ変性ビスフェノールＡジアクリレートなどから選ばれる。

光透過性基材がポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の場合に使用する樹脂は、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエーテル樹脂、多価アルコール、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（メタ）アクリレートモノステアレート等の（メタ）アクリレート樹脂が選ばれる。

具体的には、４超過の官能基を有する、変性ペンタエリスリトールアクリレートとしては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートおよびそれらの変性体から選ばれる。

３以下の官能基を有するイソシアヌル酸変性アクリレート樹脂またはビスフェノール変性アクリレート樹脂としては、変性イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレート、変性イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート、ビスフェノールＦ ＥＯ変性ジアクリレート、ビスフェノールＡ ＥＯ変性ジアクリレート、エポキシ変性ビスフェノールＡジアクリレートなどから選ばれる。これらは、バインダー樹脂中に最低１種類あればよい。

該バインダー樹脂が光硬化型樹脂である場合には、ラジカル重合を開始させるために光開始剤を用いることが望ましい。光開始剤には特に限定されないが、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオロアミン化合物類などが挙げられる。

なお、本発明の二番目の反射防止フィルムのように、帯電防止層とハードコート層が別の塗膜として積層される場合には、帯電防止層に用いる樹脂は、ハード性能を有さなくてもよく、電離放射線硬化型樹脂に限定されず、隣接する層との接着性を有するものが好ましい。帯電防止層とハードコート層が別の塗膜として積層される場合には、帯電防止層の膜厚は、帯電防止性ハードコート層を形成する場合よりも薄くすることができる。

３）溶剤
帯電防止性ハードコート層又は帯電防止層形成用のコーティング組成物には、固形成分を溶解分散するための有機溶剤が必須であり、その種類は特に限定されない。例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。干渉縞の発生を防止するためには、光透過性基材に対して浸透性のある溶剤（浸透溶剤）を使用（または併用）するのが好ましい。本発明にあっては、浸透性溶剤の「浸透性」とは、光透過性基材に対して浸透性、膨潤性、湿潤性等のすべての概念を包含する意である。浸透性溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、フェノール類；またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、エステルン類（より好ましくは酢酸メチル）が挙げられる。

光透過性基材がトリアセテートセルロース（ＴＡＣ）の場合に使用する溶剤は、アセトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエタン、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ニトロメタン、１，４―ジオキサン、ジオキソラン、Ｎ―メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール、ジイソプロピルエーテル、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブが挙げられる。

光透過性基材がポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の場合に使用する溶剤は、フェノール、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、クロロフェノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、アセトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエタン、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ニトロメタン、１，４―ジオキサン、ジオキソラン、Ｎ―メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール、ジイソプロピルエーテル、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブが挙げられる。

特に、光透過性基材がトリアセテートセルロース（ＴＡＣ）の場合に使用する溶剤は酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトンなどが適している。

光透過性基材がポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の場合に使用する溶剤は、フェノール、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、クロロフェノール、ヘキサフルオロイソプロパノールが特に適している。

４）その他の成分
帯電防止性ハードコート層又は帯電防止層形成用のコーティング組成物の上記以外の成分には、必要に応じて電離放射線硬化性のバインダー成分の重合開始剤を含有するが、さらに、その他の成分を配合してもよい。例えば、必要に応じて紫外線遮蔽剤、紫外線吸収剤、表面調整剤（レベリング剤）などを用いることができる。

５）調製法
帯電防止性ハードコート層又は帯電防止層形成用組成物は、既にインキ化されたものを用いても良いし、帯電防止剤、電離放射線硬化型バインダー、光開始剤、溶剤などを組み合わせて調製しても良い。上記各成分を用いて帯電防止性ハードコート層又は帯電防止層形成用のコーティング組成物を調製するには、塗工液の一般的な調製法に従って分散処理すればよい。例えば、各必須成分及び各所望成分を任意の順序で混合処理してコーティング組成物を得ることができる。

帯電防止性ハードコート層又は帯電防止層形成用のコーティング組成物は、例えば、スピンコート法、デイップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等の各種方法で基材上に塗布することができる。塗工物は、通常は、必要に応じて乾燥し、その後、紫外線や電子線等の電離放射線を放射して硬化させることにより帯電防止層が形成される。

透明基材フィルム
透明基材フィルムの材質は、特に限定されないが、反射防止フィルムに用いられる一般的な材料を用いることができ、例えば、トリアセテートセルロース（ＴＡＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース、ポリエーテルサルホン、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、トリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、（メタ）アクリロニトリル等の各種樹脂で形成したフィルム等を例示することができる。基材の厚さは、通常２５μｍ〜１０００μｍ程度である。

ハードコート層
本発明の二番目の反射防止フィルムのように、帯電防止性とハードコート性の機能を分けて、帯電防止層とハードコート層の二層を形成する場合には、ハードコート層には一般的に使用されるハードコート層を用いることができる。ハードコート層形成用のコーティング組成物には、前記に詳述した帯電防止性ハードコート層のバインダーに用いた電離放射線硬化型樹脂を用いることができ、電離放射線硬化型樹脂が塗膜にハード性能を与える。

低屈折率層
本発明の反射防止フィルムの最上層に積層される低屈折率層は、一般的に用いられている低屈折率層を形成する公知の方法を用いてよい。例えば、シリカやフッ化マグネシウム等の低屈折率無機微粒子とバインダー樹脂を含む塗工液、空隙を有するシリカやフッ化マグネシウム等の低屈折率無機微粒子とバインダー樹脂を含む塗工液、或いはフツ素系樹脂等を含有する塗工液を用いて塗膜を形成するか、或いは低屈折率無機物微粒子を蒸着により薄膜を形成することにより低屈折率層を得ることができる。

「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造をとった結果、或いは微粒子が集合体を形成した結果、気体が屈折率１．０の空気である場合、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の空気の占有率に反比例して屈折率が低下した微粒子及びその集合体のことを言う。例えば、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラムや表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子や、断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子のうち、本発明に使用できる平均粒子径の範囲のものが好ましく使用できる。

（１）実施例１〜４、比較例１〜３について
層構成Ｉ（基材／ＡＳ＋ＨＣ／ＡＲ）
下記の実施例１〜３、及び比較例１〜３において、透明基材フィルム／帯電防止性ハードコート層／低屈折率層からなる反射防止フィルムの作製は以下のようにして行った。

透明基材フィルムはトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムフィルム（ＴＦ−Ｔ８０ＵＺ：商品名、富士フィルム（株）製、屈折率１．４９）を用いて、該透明基材フィルム上に下記の実施例１〜４、及び比較例１〜３に示す帯電防止性ハードコート層形成用コーティング組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン（株）製）を用いて、照射量１００ｍＪ／ｃｍ²で紫外線照射によりハードコート層を硬化させ、膜厚約５μｍの帯電防止性ハードコート層を有する透明基材フィルム／帯電防止性ハードコート層からなる積層フィルムを得た。

得られた、透明基材フィルム／帯電防止性ハードコート層からなる積層フィルム上に、下記に示す組成の低屈折率層形成用コーティング組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン（株）製）を用いて照射量２６０ｍＪ／ｃｍ²で紫外線照射を行ない、塗膜を硬化させて、低屈折率層の膜厚を約１００ｎｍとした透明基材フィルム／帯電防止性ハードコート層／低屈折率層からなる積層体（反射防止フィルム）を得た。

低屈折率層形成用コーティング組成物の組成
空隙を有するシリカゾル
(触媒化成工業製 ２０％ イソプロピルアルコール溶液) １４．２８質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(ＰＥＴＡ) １．９０質量部
イルガキュア９０７
(商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製) ０．０２質量部
イルガキュア１８４
(商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製) ０．０７質量部
ＴＳＦ４４６０(商品名、ＧＥ東芝シリコーン(株)製：
アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル) ０．２４質量部
メチルイソブチルケトン ８３．４９質量部
下記の実施例１〜４及び比較例１〜３にて得られた反射防止フィルムの表面抵抗率、最低反射率、低屈折率層の屈折率、透明基材フィルムの屈折率、干渉縞の発生の有無、塗膜密着性については次のように行った。

表面抵抗率（Ω／□）
表面低効率を高抵抗率計（ハイレスタ・ＨＴ−２１０、商品名、三菱油化（株）製）を用い、印加電圧５００Ｖ、１０秒にて積層体最表面の測定を行った。

最低反射率
５℃正反射測定装置を備えた分光光度計（島津製作所（株）製、ＵＶ−３１００ＰＣ：商品名）を用いて反射率を測定した。なお、反射率は、波長５５０ｎｍ付近で極小値となったときの値を示した。

屈折率
トリアセチルセルロースフィルム基材（ＦＴ−Ｔ８０ＵＺ：商品名、富士フィルム（株）製、屈折率１．４９）上に膜厚が約０．１μｍとなるようにバーコーティングを行った。島津製作所（株）製分光光度計（ＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて絶対反射率を測定した。なお、低屈折率層の膜厚は、反射率の極小値が波長５５０ｎｍ付近になるように設定した。得られた反射率曲線から、シミュレーションを用いて低屈折率層の屈折率を求めた。

干渉縞
フナテック（株）製の干渉縞検査ランプ（Ｎａランプ）を用い、目視にて検査し、干渉縞の発生がほとんど見られない場合を良好として○、ぼんやり見えるものを普通として△、はっきり見えるものを不良として×とした。

塗膜密着性
ＪＩＳ Ｋ５４００記載の碁盤目剥離法（１ｍｍ間隔で１００個の碁盤目を入れ、セロファンテープ（ニチバン社製）で試験を行った。評価方法は、セロファンテープを常に新しいものにして、５回剥離試験を行う。剥離後、９０％以上傷や剥離がないものには○、５０％以上のものには△、それ以下は×とした。

塗膜透明性
ヘイズ値測定
ＪＩＳ Ｋ ７１０５：１９８１「プラスチックの光学的特性試験方法」に準じて、防眩性積層体の最
表面のヘイズ値を測定した。

耐高温・高湿度下での環境試験
８０℃、９０％の高温高湿槽中に塗工サンプルを５００時間放置、５００時間後のＨａｚｅ、表面抵抗値を測定した。

［実施例１］
帯電防止性ハードコート層形成用のコーティング組成物として次の成分を混合して、本実施例１のコーティング組成物を得た。
ＡＳＣ―ＥＸ―９０００（商品名、共栄社化学工業株式会社製、帯電防止性ハードコートとしてインキ化されたものであり、組成は、ｉ．４級アンモニウム塩含有高分子ポリマー、ii．電離放射線硬化型樹脂、iii．親水性アクリレートオリゴマーを含み、ii．及びiii．の成分とも、ＵＶ硬化によって反応する反応基を有している。）
７５質量部
酢酸メチル ２５質量部
該コーティング組成物を用いて上記製造方法により製造した反射防止フィルムについて、上記方法にて測定した物性を下記の表１に示す。

［実施例２］
帯電防止性ハードコート層形成用のコーティング組成物として次の成分を混合して、本実施例２のコーティング組成物を得た。
ＵＶ−１０００ＮＴ５（商品名、日本化成化学株式会社製、帯電防止性ハードコートとしてインキ化されたものであり、４級アンモニウム系高分子帯電防止剤である。）
６０質量部
メチルエチルケトン ３０質量部
該コーティング組成物を用いて上記製造方法により製造した反射防止フィルムについて、上記方法にて測定した物性を下記の表１に示す。

［実施例３］
帯電防止性ハードコート層形成用のコーティング組成物として次の成分を混合して、本実施例４のコーティング組成物を得た。

ＵＴ−３８０６（商品名、日本合成社製、帯電防止性ハードコートとしてインキ化されたものであり、４級アンモニウム系高分子帯電防止剤である。］
７５質量部
酢酸メチル ２５質量部
該コーティング組成物を用いて上記製造方法により製造した反射防止フィルムについて、上記方法にて測定した物性を下記の表１に示す。

［比較例１］帯電防止剤を用いない例
ハードコート層形成用のコーティング組成物として次の成分を混合して、比較例１のコーティング組成物を得た。
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） ２８．５７質量部
イルガキュア９０７
（商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製） ０．１１質量部
メチルイソブチルケトン ８３．２６質量部
該コーティング組成物を用いて上記製造方法により製造した反射防止フィルムについて、上記方法にて測定した物性を下記の表１に示す。

［比較例２］帯電防止剤として金属酸化物を用いた例
帯電防止性ハードコート層形成用のコーティング組成物として次の成分を混合して、比較例２のコーティング組成物を得た。
スズ酸化インジウム分散液
（固形分３０％、メチルイソブチルケトン溶液） ３３．３質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） １０．０質量部
イルガキュア１８４
（商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製） ０．０５質量部
メチルイソブチルケトン ９０．３質量部
該コーティング組成物を用いて上記製造方法により製造した反射防止フィルムについて、上記方法にて測定した物性を下記の表１に示す。

［比較例３］分子中に架橋基を持たない低分子型帯電防止剤を用いた例
帯電防止性ハードコート層形成用のコーティング組成物として次の成分を混合して、比較例３のコーティング組成物を得た。
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） １５．０質量部
ＪＰ−５１８−Ｏ［商品名、城北化学工業株式会社製：
アルキル鎖リン酸エステル（分子中に架橋基を持たない
低分子型帯電防止剤に属する。）］ １５．０質量部
イルガキュア１８４
（商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製） ０．０５質量部
メチルイソブチルケトン ６８．５質量部
該コーティング組成物を用いて上記製造方法により製造した反射防止フィルムについて、上記方法にて測定した物性を下記の表１に示す。

［比較例４］
帯電防止性ハードコート層形成用のコーティング組成物として次の成分を混合して、比較例４のコーティング組成物を得た。
Ｕ−６０１ＬＰＡ６０（新中村化学株式会社製：活性エネルギー線反応性帯電防止剤）
３０重量部
トルエン ７０重量部

（２）実施例４〜６、比較例４〜８について
下記の実施例５、及び比較例５〜８において、透明基材フィルム／帯電防止層／ハードコート層／低屈折率層からなる反射防止フィルムの作製は以下のようにして行った。

透明基材フィルムとして厚み８０μｍのＴＡＣフィルム（トリアセチルセルロースフィ上に下記の実施例５、及び比較例４〜６に示す帯電防止層形成用コーティング組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン（株）製）を用いて、照射量２０ｍＪ／ｃｍ²で紫外線照射を行ない、帯電防止層を硬化させて、膜厚約１μｍの帯電防止層を作製した。

得られた透明基材フィルム／帯電防止層からなる積層フィルム上に、下記に示すハードコート層形成用コーティング組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン（株）製）を用いて、照射量１００ｍＪ／ｃｍ²で紫外線照射を行ない、ハードコート層を硬化させ、膜厚約５μｍのハードコート層を有する透明基材フィルム／帯電防止層／ハードコート層からなる積層フィルムを得た。

得られた透明基材フィルム／帯電防止層／ハードコート層からなる積層フィルム上に、上記の「（１）実施例１〜４、及び比較例１〜３について」の欄に示した低屈折率層形成組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン（株）製）を用いて照射量２６０ｍＪ／ｃｍ²で紫外線照射を行ない、塗膜を硬化させて、低屈折率層の膜厚が約１００ｎｍの透明基材フィルム／帯電防止層／ハードコート層／低屈折率層からなる積層体（反射防止フィルム）を得た。

実施例５及び比較例４〜６の各反射防止フィルムについて、表面抵抗率（Ω／□）、最低反射率、屈折率、干渉縞の発生の有無、塗膜密着性に関する測定は、上記の「（１）実施例１〜４、及び比較例１〜３について」の欄に示した通りに行った。

ハードコート層形成用コーティング組成物の組成
下記の組成の成分を配合してハードコート層形成用コーティング組成物を調製した。
ペンタエリスリトールアクリレート（ＰＥＴＡ） ３０．０質量部
イルガキュア１８４
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製） １．５質量部
メチルイソブチルケトン ７３．５質量部
金およびニッケルで表面処理を施した平均粒径５μｍの有機ビーズ（日本化学工業
(株)製、ブライト２０ＧＮＲ−４．６ＥＨ：商品名） ０．１５質量部
［実施例４］上記層構成上に実施例１のコーティング溶液を塗布
［実施例５］上記層構成上に実施例２のコーティング溶液を塗布
［実施例６］上記層構成上に実施例３のコーティング溶液を塗布
該コーティング組成物を用いて上記製造方法により製造した反射防止フィルムについて、上記方法にて測定した物性を下記の表２に示す。

［比較例４］帯電防止層を形成しない例
前記実施例５において、帯電防止層を形成しないことを除いて全て実施例５と同一にして比較例４の反射防止フィルムを得た。比較例４の反射防止フィルムについて、上記方法にて測定した物性を下記の表２に示す。

［比較例５］帯電防止剤として金属酸化物を用いた例
帯電防止層形成用のコーティング組成物として次の成分を混合して、比較例５のコーティング組成物を得た。
スズ酸化インジウム分散液（固形分３０％、メチルイソブチルケトン溶液）
３３．３質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） １０．０質量部
イルガキュア１８４
（商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製） ０．０５質量部
メチルイソブチルケトン ９０．３質量部
該コーティング組成物を用いて上記製造方法により製造した反射防止フィルムについて、上記方法にて測定した物性を下記の表２に示す。

［比較例６］分子中に架橋基を持たない低分子型帯電防止剤を用いた例
帯電防止層形成用のコーティング組成物として次の成分を混合して、比較例６のコーティング組成物を得た。
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ） １５．０質量部
ＪＰ−５１８−Ｏ［商品名、城北化学工業株式会社製：アルキル鎖リン酸エステル
（分子中に架橋基を持たない低分子型帯電防止剤に属する。）］
１５．０質量部
イルガキュア１８４
（商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製） ０．０５質量部
メチルイソブチルケトン ６８．５質量部
該コーティング組成物を用いて上記製造方法により製造した反射防止フィルムについて、上記方法にて測定した物性を下記の表２に示す。

本発明の反射防止フィルムは、埃が付着することを防止でき、干渉縞の発生防止に優れ、塗膜密着性に優れているので、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のディスプレイ等の光学物品の表面に用いられる反射防止フィルムに有用である。

本発明の第１の形態の反射防止フィルムの層構成を示す概略断面図である。 本発明の第２の形態の反射防止フィルムの層構成を示す概略断面図である。

符号の説明

１ 透明基材フィルム
２−１ 帯電防止性ハードコート層
２−２ 帯電防止層
２−３ ハードコート層
３ 低屈折率層

Claims (5)

1. 透明基材フィルム上に、
   高分子型帯電防止剤、架橋基を有する低分子型帯電防止剤及び導電性帯電防止剤から選ばれた帯電防止剤、並びに電離放射線硬化型樹脂が含まれてなる帯電防止性ハードコート層、
   直接接する下層の屈折率よりも低い屈折率の低屈折率層、および
   をこの順で形成してなる反射防止フィルムであって、該透明基材フィルムと該帯電防止性ハードコート層の屈折率の差の絶対値が０．０３以内であることにより干渉縞の発生を防止するようにした、反射防止フィルム。
2. 透明基材フィルム上に、
   高分子型帯電防止剤、架橋基を有する低分子型帯電防止剤及び導電性帯電防止剤から選ばれた帯電防止剤、並びにバインダー樹脂が含まれてなる帯電防止層、
   電離放射線硬化型樹脂が含まれてなるハードコート層、および
   直接接する下層の屈折率よりも低い屈折率の低屈折率層、
   をこの順で形成してなる反射防止フィルムであって、該透明基材フィルムと該帯電防止層の屈折率の差、及び該帯電防止層と該ハードコート層の屈折率差が共に±０．０３以内であることにより干渉縞の発生を防止するようにした、反射防止フィルム。
3. 前記高分子型帯電防止剤が分子架橋基を有する化合物である、請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
4. 前記高分子型帯電防止剤が、四級アンモニウムカチオンを含有する構造体である、請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
5. 前記反射防止フィルムを温度８０℃、湿度９０％の環境下で５００時間サンプルを置いた後のヘイズ変化が３以内である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。

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