JP2007147798A - 反射防止フィルムおよび光学製品 - Google Patents

Abstract

【課題】干渉縞等の光の干渉による視認不良がなく十分な光学性能を有し、かつ表面の耐擦傷性に優れ、光学製品に好適に用いることができる反射防止フィルム、およびこの光学製品を提供すること。
【解決手段】本発明の反射防止フィルムは、複数の熱可塑性樹脂層が積層されてなる基材フィルムと、この基材フィルムの少なくとも一方の面に積層される反射防止層とを備え、下記（１）、（２）を満たす。（１）第ｉ番目の熱可塑性樹脂層における３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の波長λでの屈折率ｎ_ｉ（λ）と、第ｉ＋１番目の熱可塑性樹脂層における３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の波長λでの屈折率ｎ_ｉ＋１（λ）とが、すべてのｉにおいて｜ｎ_ｉ（λ）−ｎ_ｉ＋１(λ)｜≦０．０５の関係を満たす。（２）第ｉ番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率をＡ_ｉ、第ｉ＋１番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率をＡ_ｉ＋１とし、｜Ａ_ｉ＋１−Ａ_ｉ｜≧０．５ＧＰａとなるようなｉを少なくとも１つ含む。
【選択図】図２

Description

本発明は、反射防止フィルムおよび光学製品に関し、特に、干渉縞等の光の干渉による視認不良がなく、色再現性に優れるといった十分な光学性能を有し、かつ可撓性および表面の耐擦傷性に優れ、光学製品に好適に用いることができる反射防止フィルム、およびこの反射防止フィルムを備える光学製品に関する。

近年、例えば、フラットパネルディスプレイ等の光学製品には、軽量化・薄型化等の観点から、ガラス製の部材に代わってプラスチック製の部材が多用されている。しかしながら、プラスチック製の部材は、表面が傷つき易いという欠点がある。このため、プラスチック製の部材の表面に保護フィルムを設けて、部材表面の耐擦傷性を向上させることが行われている。

このような保護フィルムとしては、例えば、プラスチック製の基材フィルムの表面に硬化性樹脂を含む組成物を塗工した後、この硬化性樹脂を熱または紫外線等により硬化させて、基材フィルムの表面に硬化性樹脂からなるハードコート層を形成したものがある。この保護フィルムによれば、ハードコート層の硬度によって、プラスチック製の部材等の表面硬度を向上できる。このような構成は、上記保護フィルムの表面に反射防止層を設けた反射防止フィルムにおいても同様である。

しかしながら、このような硬化性樹脂からなるハードコート層を用いて、厚みが大きくなるように形成した場合には、この硬化性樹脂が硬化する際に収縮を起こすことがあり、この収縮に伴って保護フィルムの反りや、ハードコート層のひび割れ、表面の面状が悪化する等の問題があった。このため、保護フィルムをディスプレイ等の表面に設けた場合には、面状の悪化に伴って表示画像に干渉縞が生じ、ディスプレイの視認性が損なわれていた。

そこで、保護フィルムとしては、基材フィルムを、複数の熱可塑性樹脂層からなる構成としたものが提案されている。例えば、特許文献１には、多層構造からなる耐衝撃層を有する光学フィルタであって、プラズマディスプレイパネルに貼付した際に、その衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊ以上であるものが開示されている。また、特許文献２には、２種類以上の熱可塑性樹脂から構成される多層構造を有し、面衝撃強度が１８Ｊ／ｍｍ以上であるものが開示されている。

特開２００５−８８４８５号公報 特開２００４−１３０７６２号公報

しかしながら、これらの多層構造からなる基材フィルムでは、外部の衝撃を吸収する機能を有するものの、衝撃に抵抗する機能を有しておらず、その強度が不十分で耐擦傷性に劣るという問題がある。

本発明の目的は、干渉縞等の光の干渉による視認不良がなく、色再現性に優れるといった十分な光学性能を有し、かつ可撓性および表面の耐擦傷性に優れ、光学製品に好適に用いることができる反射防止フィルム、およびこの光学製品を提供することにある。

上記課題を解決するために、本発明の反射防止フィルムは、ｋ個（ｋは２以上の整数）の熱可塑性樹脂層が積層されてなる基材フィルムと、この基材フィルムの少なくとも一方の面に積層される反射防止層と、を備え、下記（１）、（２）の関係を満たすことを特徴とする反射防止フィルム。
（１）前記ｋ個の熱可塑性樹脂層において、第ｉ番目の熱可塑性樹脂層における、波長３８０ｎｍでの屈折率ｎ_ｉ（３８０）および波長７８０ｎｍでの屈折率ｎ_ｉ（７８０）と、第ｉ＋１番目の熱可塑性樹脂層における、波長３８０ｎｍでの屈折率ｎ_ｉ＋１（３８０）および波長７８０ｎｍでの屈折率ｎ_ｉ＋１（７８０）とが、ｉ＝１〜ｋ−１において、｜｜ｎ_ｉ（３８０）-ｎ_ｉ＋１（３８０）｜−｜ｎ_ｉ（７８０）-ｎ_ｉ＋１（７８０）｜｜≦０．０２である。
（２）前記第ｉ番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率をＡ_ｉ、前記第ｉ＋１番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率をＡ_ｉ＋１とし、｜Ａ_ｉ＋１−Ａ_ｉ｜≧０．５ＧＰａとなるようなｉ（ｉ＝１〜ｋ−１）を少なくとも１つ含む。

本発明の反射防止フィルムによれば、干渉縞等の光の干渉による視認不良がなく、色再現性に優れるといった十分な光学性能を有し、かつ可撓性および表面の耐擦傷性に優れるという十分な光学性能を有し、かつ表面の耐擦傷性および可撓性に優れる。このため、本発明の反射防止フィルムは、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）や、陰極管表示装置（ＣＲＴ）等のディスプレイ等の光学製品に好適に用いることができる。

本発明の反射防止フィルムは、ｋ個の熱可塑性樹脂層が積層されてなる基材フィルムと、この基材フィルムの少なくとも一方の面に積層される反射防止層とを備えている。

＜基材フィルム＞
基材フィルムは、ｋ個の熱可塑性樹脂層が積層された積層体として構成され、例えば、２層の積層体や、３層以上の積層体とすることができる。この中でも、基材フィルムが、７層以下の積層体であることが好ましく、５層以下の積層体であることがより好ましい。基材フィルムを構成する熱可塑性樹脂層の積層数を上記の通りとすることにより、各熱可塑性樹脂層の面状や厚みの制御の容易化を図ることができる。

ｋ個の熱可塑性樹脂層において、第ｉ番目の熱可塑性樹脂層における、波長３８０ｎｍでの屈折率ｎ_ｉ（３８０）および波長７８０ｎｍでの屈折率ｎ_ｉ（７８０）と、第ｉ＋１番目の熱可塑性樹脂層における、波長３８０ｎｍでの屈折率ｎ_ｉ＋１（３８０）および波長７８０ｎｍでの屈折率ｎ_ｉ＋１（７８０）とが、ｉ＝１〜ｋ−１において、｜｜ｎ_ｉ（３８０）-ｎ_ｉ＋１（３８０）｜−｜ｎ_ｉ（７８０）-ｎ_ｉ＋１（７８０）｜｜≦０．０２の関係（関係１）を満たすことが必要である。このような関係１は、換言すれば、隣り合う熱可塑性樹脂層相互の可視光領域の上限付近および下限付近における屈折率の差が小さいということである。さらに、上記関係１は、｜｜ｎ_ｉ（３８０）-ｎ_ｉ＋１（３８０）｜−｜ｎ_ｉ（７８０）-ｎ_ｉ＋１（７８０）｜｜≦０．０１となることがより好ましい。上記関係１を満たすことにより、本反射防止フィルムをディスプレイの表示面に貼付した場合でも、十分な色再現性を奏することができる。

ここで、ｉ番目の熱可塑性樹脂層と、ｉ＋１番目の熱可塑性樹脂層とは、互いに隣り合う熱可塑性樹脂層であることを示している。この際、第ｉ番目の熱可塑性樹脂層と第ｉ＋１番目の熱可塑性樹脂層とは、直接に接していてもよいし、後述する接着層を介して接していてもよい。

また、ｋ個の熱可塑性樹脂層において、第ｉ番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率をＡ_ｉ、第ｉ＋１番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率をＡ_ｉ＋１とし、｜Ａ_ｉ＋１−Ａ_ｉ｜≧０．５ＧＰａとなるようなｉ（ｉ＝１〜ｋ−１）を少なくとも１つ含むという関係（関係２）を満たしていることが必要である。このような関係２を満たすことにより、干渉縞等による光学性能の低下を防止しつつ、可撓性および表面の耐擦傷性を高めることができる。

ここで、ｋ個の熱可塑性樹脂層のうち、前記Ａｉ≧３ＧＰａとなるようなｉ（ｉ＝１〜ｋ−１）を少なくとも１つ含むことが好ましい。この場合には、反射防止フィルムに十分な硬度を付与でき、表面の耐擦傷性を高めることができる。

また、ｋ個の熱可塑性樹脂層において、最も表面側となる位置に配置される熱可塑性樹脂層（以下、第ｋ層ということがある）の引張弾性率は、この熱可塑性樹脂層と隣り合う熱可塑性樹脂層（第ｋ−１層）の引張弾性率よりも大きいことが好ましい。同様に、最も裏面側となる位置に配置される熱可塑性樹脂層（つまり、前記第ｋ層とは最も離れた位置の熱可塑性樹脂層であり、以下、第１層ということがある）の引張弾性率は、この熱可塑性樹脂層と隣り合う熱可塑性樹脂層（第２層）の引張弾性率よりも大きいことが好ましい。

上述した関係１，関係２を満たした上で、各熱可塑性樹脂層を構成する熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、および脂環式オレフィンポリマーなどを挙げることができる。

脂環式オレフィンポリマーとしては、特開平０５−３１０８４５号公報、米国特許第５１７９１７１号公報に記載されている環状オレフィンランダム多元共重合体、特開平０５−９７９７８号公報、米国特許第５２０２３８８号公報に記載されている水素添加重合体、特開平１１−１２４４２９号公報（国際公開９９／２０６７６号公報）に記載されている熱可塑性ジシクロペンタジエン開環重合体及びその水素添加物等が挙げられる。

また、前記熱可塑性樹脂には、顔料や染料等の着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤などの配合剤が適宜配合されたものを用いることができる。

各熱可塑性樹脂層は、１ｍｍ厚に成形した際に、４００〜７００ｎｍの可視領域の光の透過率が８０％以上のものが好ましく、８５％以上のものがより好ましく、９０％以上のものがさらに好ましい。このような熱可塑性樹脂としては、透明性の観点から非晶性の樹脂が好ましい。なお、非晶性の樹脂とは、融点を有しない樹脂であり、前記熱可塑性樹脂の中から選択できる。また、熱可塑性樹脂は、ガラス転移温度が６０〜２００℃であるものが好ましく、１００〜１８０℃であるものがより好ましい。なお、ガラス転移温度は、示差走査熱量分析（ＤＳＣ）により測定できる。

各熱可塑性樹脂層の厚みは、特に限定されないが、１μｍ以上であることが好ましく、５μｍ〜１００μｍがより好ましく、１０μｍ〜５０μｍがさらに好ましい。ｋ個の熱可塑性樹脂層からなる基材フィルムの総厚みは、２００μｍ以下であることが好ましく、４０μｍ〜１００μｍであることがより好ましい。

ここで、前記第ｋ層の厚みと前記第１層の厚みとが、略等しくなることが好ましい。具体的には、第ｋ層の厚みと第１層の厚みとの差の絶対値が、２０μｍ以下となることが好ましく、１５μｍ以下となることがより好ましい。

また、第ｋ層と第１層との間に設けられる熱可塑性樹脂層（以下、中間層ということがある）の厚みと、第ｋ層の厚みまたは第１層の厚みとの比（中間層の厚み：第ｋ層または第１層の厚み）は、５：１〜１：５であることが好ましい。

また、ｋ個の熱可塑性樹脂層のうち、第ｋ層および第１層の各表面（隣り合う熱可塑性樹脂層が設けられていない側の面）に、線状凹部や線状凸部が形成されず、その表面が平らであることが好ましい。仮に、線状凹部や線状凸部が形成されていたとしても、深さが５０ｎｍ未満、または、幅が５００ｎｍより大きい線状凹部や、高さが５０ｎｍ未満、または、幅が５００ｎｍより大きい線状凸部であることが好ましい。より好ましくは、深さが３０ｎｍ未満、または、幅が７００ｎｍの線状凹部であり、高さが３０ｎｍ未満、または、幅が７００ｎｍより大きい線状凸部である。このような構成とすることにより、線状凹部や線状凸部での光の屈折等に基づく、光の干渉や光漏れの発生を防止でき、光学性能を向上できる。

上述した線状凹部の深さ、線状凸部の高さ、及びこれらの幅は、次に述べる方法で求めることができる。基材フィルムに光を照射して、透過光をスクリーンに映し、スクリーン上に現れる光の明又は暗の縞の有る部分（この部分は凹部の深さ及び凸部の高さが大きい部分である。）を３０ｍｍ角で切り出す。切り出したフィルム片の表面を三次元表面構造解析顕微鏡（視野領域５ｍｍ×７ｍｍ）を用いて観察し、これを３次元画像に変換し、この３次元画像からＭＤ方向の断面プロファイルを求める。断面プロファイルは、視野領域で１ｍｍ間隔で求める。この断面プロファイルに、平均線を引き、この平均線から凹部の底までの長さが凹部深さ、または平均線から凸部の頂までの長さが凸部高さとなる。平均線とプロファイルとの交点間の距離が幅となる。これら凹部深さ及び凸部高さの測定値からそれぞれ最大値を求め、その最大値を示した凹部又は凸部の幅をそれぞれ求める。以上から求められた凹部深さ及び凸部高さの最大値、その最大値を示した凹部の幅及び凸部の幅を、そのフィルムの線状凹部の深さ、線状凸部の高さ及びそれらの幅とする。

このような大きさの線状凸部及び線状凹部を有しない熱可塑性樹脂層は、例えば、Ｔダイ式の押出成形法においては、ダイのリップ部の表面粗さを小さくする、リップ先端部にクロム、ニッケル、チタンなどのメッキを施す、リップ先端部にセラミックスを溶射する、リップの内面にＰＶＤ（Ｐｈｉｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法などによりＴｉＮ、ＴｉＡｌＮ、ＴｉＣ、ＣｒＮ、ＤＬＣ（ダイアモンド状カーボン）などの被膜を形成する、ダイから押し出された直後の溶融樹脂周りの温度分布、空気流れなどを均一に調整する、熱可塑性樹脂層を形成する樹脂としてメルトフローレート値が同程度のものを選択するなどの手段を行うことによって、またキャスト成形法においては、表面粗さが小さいキャスト支持フィルムを用いる、塗布機の表面粗さを小さくする、さらに塗布層の乾燥時の温度分布、乾燥温度、乾燥時間を調整するなどの手段を行うことによって、得ることができる。

隣り合う熱可塑性樹脂層は、直接に接していても良いし、接着層を介して接していてもよい。なお、前記接着には、粘着の概念も含まれている。

ここで、基材フィルムが２層の積層体である場合において、隣り合う熱可塑性樹脂層が直接接する場合には、各層を構成する熱可塑性樹脂には、異なる種類のものが用いられる。また、隣り合う熱可塑性樹脂層が接着層を介して間接的に接する場合には、各層を構成する熱可塑性樹脂には、同種のものを用いてもよい。

また、基材フィルムが３層以上の積層体である場合において、隣り合う熱可塑性樹脂層が直接接する場合には、隣り合う熱可塑性樹脂層を構成する熱可塑性樹脂には、異なる種類のものが用いられるが、隣り合わない熱可塑性樹脂層を構成する熱可塑性樹脂には、同種のものを用いてもよい。また、隣り合う熱可塑性樹脂層が接着層を介して間接的に接する場合には、各層を構成する熱可塑性樹脂には、同種のものを用いてもよい。

前記接着層としては、その平均厚みが、通常０．０１〜３０μｍ、好ましくは０．１〜１０μｍである。接着層を構成する接着剤としては、アクリル接着剤、ウレタン接着剤、ポリエステル接着剤、ポリビニルアルコール接着剤、ポリオレフィン接着剤、変性ポリオレフィン接着剤、ポリビニルアルキルエーテル接着剤、ゴム接着剤、塩化ビニル・酢酸ビニル接着剤、スチレン・ブタジエン・スチレン共重合体（ＳＢＳ共重合体）接着剤、その水素添加物（ＳＥＢＳ共重合体）接着剤、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン-スチレン共重合体などのエチレン接着剤、および、エチレン・メタクリル酸メチル共重合体、エチレン・アクリル酸メチル共重合体、エチレン・メタクリル酸エチル共重合体、およびエチレン・アクリル酸エチル共重合体などのアクリル酸エステル接着剤、などを挙げることができる。

以上のような基材フィルムは、その製法によっては特に限定されない。基材フィルムを、例えば、単層の熱可塑性樹脂フィルムを貼り合わせることによって得られたもの、複数の熱可塑性樹脂を共押出成形して得られたもの、熱可塑性樹脂フィルムに熱可塑性樹脂溶液をキャストして得られたもの等とすることができる。この中でも、生産性等の観点から、基材フィルムは、共押出成形により得られたものであることが好ましい。この場合には、複雑な工程（例えば、乾燥工程や塗工工程）を経なくてもよいため、ゴミ等の外部異物の混入が少なく、優れた光学性能を発揮できる。

＜反射防止層＞
反射防止層は、外光の移りこみ等を防止するための層である。このような反射防止層を有する反射防止フィルムは、入射角５°、波長４３０〜７００ｎｍにおける反射率が２．０％以下であるとともに、波長５５０ｎｍにおける反射率が１．０％以下であることが好ましい。この反射防止層の厚みは、０．０１〜１μｍであることが好ましく、０．０２〜０．５μｍであることがより好ましい。なお、フィルムの反射率は、当該フィルムの幅方向の中心位置で測定される。

反射防止層としては、公知のものを選択でき、例えば、無機化合物からなる低屈折率層と無機化合物からなり、前記低屈折率層よりも高い屈折率である高屈折率層とを繰り返し積層したもの、高屈折率層の上に、この高屈折率層よりも低い屈折率である低屈折率層を積層したもの、基材フィルムの屈折率よりも低い屈折率である低屈折率層からなるもの等を挙げることができる。低屈折率層の屈折率としては、１．３０〜１．４５であることが好ましい。なお、反射防止層を複数層として構成した場合には、各層の厚みは、０．０１〜３μｍであることが好ましく、０．０２〜１μｍであることがより好ましい。

（低屈折率層）
低屈折率層とは、基材フィルムまたは、基材フィルムとの間に設けられるハードコート層等のその他の層よりも屈折率の低い層のことである。低屈折率層を形成する方法としては、特に限定されないが、例えば、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法、ＣＶＤ等の化学的気相成長法、湿式コーティング法等を用いることができる。湿式コーティング法としては、硬化法およびゾルゲル法を挙げることができる。

また、低屈折率層を硬化法により形成する場合において、低屈折率層を形成する材料としては、フッ素化合物を含んでなる組成物を用いることができる。フッ素化合物としては、含フッ素モノマー、含フッ素シラン化合物、含フッ素界面活性剤、含フッ素エーテル、フッ素系化合物と称するフッ素系モノマー、オリゴマー類等を挙げることができる。

前記含フッ素モノマーとしては、１，１−ジフルオロエチレン（フッ化ビニリデン）、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、および３，３，３−トリフルオロプロピレン等のフルオロオレフィン類；パーフロロ（メチルビニルエーテル）、パーフロロ（エチルビニルエーテル）、パーフロロ（プロピルビニルエーテル）、パーフロロ（ブチルビニルエーテル）、およびパーフロロ（イソブチルビニルエーテル）等のパーフロロ（アルキルビニルエーテル）類；パーフロロ（プロポキシプロピルビニルエーテル）等のパーフロロ（アルコキシアルキルビニルエーテル）類；その他を挙げることができる。これらは、それぞれ単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

前記含フッ素シラン化合物としては、例えば、一般式：ＣＦ_３（ＣＦ_２）_ｎＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＲ’）_３（式中、Ｒ’は、炭素数１〜５個のアルキル基を示し、ｎは０〜１２の整数を示す）で表される化合物を挙げることができる。具体的には、たとえば、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、およびヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシランなどがあげられる。これらのなかでも前記ｎが２〜６の化合物が好ましい。これらは、それぞれ単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

低屈折率層の形成において、上記含フッ素化合物に加えて、さらに必要に応じて無機微粒子、多官能重合性化合物、Ｘ_ｊＳｉＹ_４−ｊ（式中、Ｘは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表し、ｊは０〜２の整数を表し、ｊが２の時、Ｘは同一であっても相異なっていてもよい。Ｙは加水分解性基を表し、Ｙは同一であっても相異なっていてもよい）で表される加水分解性基を有するシラン化合物の加水分解物および／またはその部分縮合物から構成される組成物を用いてもよい。

前期無機微粒子は、前記低屈折率層の屈折率の調整や、耐傷性の向上を目的として、添加できる。無機微粒子の具体例としては、シリカ、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、およびアルミナが挙げられる。低屈折率化の観点から、フッ素系粒子および／または中空粒子を用いることが好ましい。

前記中空粒子とは、内部に中空部分を有する粒子である。中空粒子の屈折率は、１．１７〜１．４０であることが好ましく、１．１７〜１．３５であることがより好ましく、１．１７〜１．３０であることがさらに好ましい。

また、中空粒子としては、無機中空粒子が好ましい。無機中空粒子を構成する無機化合物としては、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｂ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＳｎＯ_２、Ｃｅ_２Ｏ_３、Ｐ_２Ｏ_５、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＭｏＯ_３、ＺｎＯ_２、ＷＯ_３、ＴｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２−ＺｒＯ_２、Ｉｎ_２Ｏ_３−ＳｎＯ_２、Ｓｂ_２Ｏ_３−ＳｎＯ_２などを例示することができる。なお、上記「−」は、複合酸化物であることを示す。これらの中でも、無機中空粒子としては、特にシリカ系中空粒子が好ましい。

中空粒子の外殻は細孔を有する多孔質なものであってもよく、また、細孔が閉塞されて中空部分が外殻の外側で密封されているものであってもよい。外殻は、内側層と外側層などからなる多層構造であることが好ましい。外側層の形成に含フッ素有機珪素化合物を用いた場合は、中空粒子の屈折率が低くなるとともに、マトリックスへの分散性もよくなり、さらに低屈折率層に防汚性を付与する効果も生じる。この含フッ素有機珪素化合物の具体例としては、３，３，３-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル-３，３，３-トリフルオロプロピルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、およびトリデカフルオロオクチルトリメトキシシランなどが挙げられる。

外殻の厚みは、通常１〜５０ｎｍ、好ましくは５〜２０ｎｍである。また、外殻の厚みは、中空粒子の平均粒径の１／５０〜１／５の範囲にあることが好ましい。また、中空粒子の中空部分には、中空粒子を調製するときに使用した溶媒および／または乾燥時に浸入する気体が存在してもよいし、中空粒子の中空部分を形成するための前駆体物質がその中空部分に残存していてもよい。この前駆体物質は、外殻によって包囲された核粒子から核粒子の構成成分の一部を除去した後に残存する多孔質物質である。核粒子には、種類の異なる無機酸化物からなる多孔質の複合酸化物粒子を用いることができる。前駆体物質は、外殻に付着してわずかに残存していることもあるし、中空粒子の中空部分内の大部分を占めることもある。

なお、この多孔質物質の細孔内にも上記溶媒あるいは気体が存在してもよい。このときの核粒子の構成成分の除去量が多くなると、中空粒子の中空部分の容積が増大して屈折率の低い中空粒子が得られるため、当該中空粒子を用いることにより低屈折率層を簡単に得ることができ、反射防止性能に優れたものとすることができる。

中空粒子の粒径は、５ｎｍ〜２，０００ｎｍの範囲であることが好ましく、２０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲であることがより好ましい。中空粒子の粒径が上記範囲内にあることにより、反射防止層の透明性を維持することができる。ここで、中空粒子の粒径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径である。

中空粒子は、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に記載された方法に基づいて製造できる。また、市販の中空粒子を用いてもよい。また、中空粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。中空粒子と界面活性化剤またはカップリング剤とを反応させる方法などによって、中空粒子の表面に水酸基等の親水基やアクリロイル基を導入してもよい。

前記多官能重合性化合物としては、電離放射線で硬化する官能基を１分子中に３個以上有するモノマーが好ましい。官能基の種類は、アクリル基、ビニル基、およびアリル基等のエチレン性不飽和結合を有するものを好ましく用いることができる。具体的には、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、およびペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート等のジアクリレート；トリメチロールプロパントリアクリレートおよびペンタエリスリトールトリアクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート誘導体やジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の多官能（メタ）アクリレート、または、これらのラジカル重合性モノマーが重合したオリゴマーを例示することができる。なお、（メタ）アクリレートとは、メタクリレートおよびアクリレートを示している。多官能重合性化合物の配合量は、前記フッ素化合物１００重量部に対し、１０〜５００重量部とするのが好ましい。

前記Ｘ_ｊＳｉＹ_４−ｊで表される加水分解性基を有するシラン化合物において、前記Ｘは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表す。置換基を有してもよい一価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、およびオクチル基等のアルキル基；シクロペンチル基およびシクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニル基、４−メチルフェニル基、１−ナフチル基、および２−ナフチル基等の置換基を有してもよいアリール基；ビニル基およびアリル基等のアルケニル基；ベンジル基、フェネチル基、および３−フェニルプロピル基等のアラルキル基；クロロメチル基、γ−クロロプロピル基、および３，３，３−トリフルオロプロピル基等のハロアルキル基；γ−メタクリロキシプロピル基等のアルケニルカルボニルオキシアルキル基；γ−グリシドキシプロピル基、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル基等のエポキシ基を有するアルキル基；γ−メルカプトプロピル基等のメルカプト基を有するアルキル基；３−アミノプロピル基等のアミノ基を有するアルキル基；トリフルオロメチル基等のパーフルオロアルキル基等を挙げることができる。これらの中でも、合成の容易性、入手可能性等から、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基、およびパーフルオロアルキル基が好ましい。

前記Ｙは、加水分解性基を示す。加水分解性基は、所望により酸または塩基触媒の存在下に加水分解して、−（Ｏ−Ｓｉ）−Ｏ−結合を生じさせる基である。加水分解性基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、およびプロポキシ基等のアルコキシル基；アセトキシ基およいプロピオニルオキシ基等のアシルオキシ基；オキシム基（−Ｏ−Ｎ＝Ｃ−Ｒ^１（Ｒ^２））、エノキシ基（−Ｏ−Ｃ（Ｒ^１）＝Ｃ（Ｒ^２）Ｒ^３）、アミノ基、アミノキシ基（−Ｏ−Ｎ（Ｒ^１）Ｒ^２）、およびアミド基（−Ｎ（Ｒ^１）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^２）等を挙げることができる。これらの基において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３は、それぞれ独立して水素原子または一価の炭化水素基を表す。これらの中でも、Ｙとしては、入手容易性等からアルコキシル基が好ましい。

Ｘ_ｊＳｉＹ_４−ｊで表されるシラン化合物としては、前記ｋが０〜２の整数である珪素化合物が好ましい。その具体例としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン類、およびアミドシラン類等を挙げることができる。これらの中でも、入手容易性等からアルコキシシラン類がより好ましい。

前記ｊが０であるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシランおよびテトラエトキシシラン等を例示でき、前記ｊが１であるオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、および３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等を例示できる。前記ｊが２であるジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、およびメチルフェニルジメトキシシラン等を例示できる。

前記低屈折率層は、上述したフッ素化合物等を含む組成物を有機溶媒で希釈した塗工液を調製し、この塗工液を基材フィルムの上に塗布し硬化させた硬化膜であることが好ましい。この有機溶媒としては、イソプロピルアルコール、メタノール、およびエタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、およびシクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチルおよび酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエンおよびキシレン等の芳香族炭化水素；または、これらの混合物を挙げることができる。

有機溶媒と前記組成物との混合割合は、特に限定されないが、塗工液において、固形分濃度が０．１〜２０重量％、好ましくは０．５〜１０重量％となるように混合することが好ましい。

また、前記塗工液には、重合開始剤（光ラジカル開始剤や熱ラジカル開始剤）、硬化剤、架橋剤、紫外線遮断剤、紫外線吸収剤、表面調整剤（レベリング剤）、あるいは、その他の成分が添加されていてもよい。

前記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、およびフルオロアミン化合物などが用いられる。具体的には、光ラジカル重合開始剤としては、商品名イルガキュア１８４（チバ・スペシャリティケミカルズ社製）を用いることができる。光ラジカル重合開始剤の配合量は、前記フッ素化合物１００重量部に対して、０．５〜１５重量部とすることが好ましい。

前記熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。具体的には、有機過酸化物として、過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、およびブチルヒドロぺルオキシド；無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、および過硫酸カリウム等；アゾ化合物として、２−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、２−アゾ−ビス−プロピオニトリル、および２−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等；ジアゾ化合物として、ジアゾアミノベンゼンおよびｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。

前記低屈折率層の製造方法は、例えば、以下のようにすることができる。すなわち、前記塗工液（組成物）を、基材フィルムや、この基材フィルム上に形成された後述する他の層の上に膜状に塗工した後、乾燥させ、電離放射線および／または加熱により硬化させて得ることができる。乾燥条件や硬化条件は、使用する溶媒の沸点、飽和蒸気圧等に基づいて適宜決定できる。

特に、塗工される他の層が着色したり、分解したりするのを抑えるために、加熱する場合には、５０〜１５０℃の範囲内の温度で１分〜１８０分加熱することが好ましく、７５〜１０５℃の範囲内の温度で５分〜６０分加熱することがより好ましい。また、活性光線を照射する場合は、その照射光として紫外線を用いることが好ましい。この際、活性光線による照射エネルギーは、５０〜５００ｍＪ／ｃｍ^２であることが好ましく、１００〜４５０ｍＪ／ｃｍ^２であることがより好ましく、２００〜４００ｍＪ／ｃｍ^２であることがさらに好ましい。

また、低屈折率層を形成するための材料としては、エアロゲル等の微小空気層（気泡）を有する材料で形成されたものを用いることもできる。エアロゲルは、マトリックス中に微小な気泡が分散した透明性多孔質体である。気泡の大きさは大部分が２００ｎｍ以下であり、気泡の含有量は、通常１０〜６０体積％、好ましくは２０〜４０体積％である。エアロゲルには、シリカエアロゲルと、中空粒子をマトリックス中に分散させた多孔質体とがある。

シリカエアロゲルは、米国特許第４，４０２，９２７号公報、米国特許第４，４３２，９５６号公報、および米国特許第４，６１０，８６３号公報などに開示されているように、アルコキシシランの加水分解重合反応によって得られたシリカ骨格からなるゲル状化合物を、アルコールあるいは二酸化炭素などの溶媒（分散媒）で湿潤状態にし、そしてこの溶媒を超臨界乾燥で除去することによって製造できる。また、シリカエアロゲルは、米国特許第５，１３７，２７９号公報、米国特許５，１２４，３６４号公報などに開示されているように、ケイ酸ナトリウムを原料として、上記と同様にして製造できる。

本発明において、特開平５-２７９０１１号公報および特開平７-１３８３７５号公報（米国特許第５４９６５２７号公報）に開示されているようにして、アルコキシシランの加水分解、重合反応によって得られたゲル状化合物を疎水化処理して、シリカエアロゲルに疎水性を付与することが好ましい。この疎水性を付与した疎水性シリカエアロゲルは、湿気や水などが浸入し難くなり、シリカエアロゲルの屈折率や光透過性などの性能が劣化することを防ぐことができる。

中空粒子をマトリックス中に分散させた多孔質体としては、特開２００１-２３３６１１号公報および特開２００３-１４９６４２号公報に開示されているような多孔質体が挙げられる。マトリックスに用いる材料は、中空粒子の分散性、多孔質体の透明性、多孔質体の強度などの条件に適合する材料から選択され、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ブチラール樹脂、フェノール樹脂、酢酸ビニル樹脂、アルコキシシランなどの加水分解性有機珪素化合物およびその加水分解物などが挙げられる。この中でも、中空粒子の分散性、多孔質体の強度から、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、加水分解性有機珪素化合物およびその加水分解物が好ましい。また、中空粒子としては、前述したものを用いることができる。

（その他の層）
前記反射防止層は、前記低屈折率層の防汚性を高めるために、前記低屈折率層の上（観察側）にさらに防汚層を有していてもよい。防汚層の形成材料としては、低屈折率層の機能を阻害せず、防汚層としての要求性能を満たす限り特に制限はなく、通常、疎水基を有する化合物が好ましい。具体的に、防汚層の形成材料としては、パーフロロアルキルシラン化合物、パーフロロポリエーテルシラン化合物、およびフッ素含有シリコーン化合物を挙げることができる。また、防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、例えば、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法；ＣＶＤ等の化学的気相成長法；湿式コーティング法；等を用いることができる。防汚層の厚みは、２０ｎｍ以下が好ましく、１〜１０ｎｍがより好ましい。また、反射防止層は、前記防汚層のほかに、防眩層、ガスバリア層、透明帯電防止層、プライマー層、電磁波遮蔽層、および下塗り層を有してもよい。

また、基材フィルムと反射防止層との間には、ハードコート層が設けられていてもよい。ハードコート層は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４で示される鉛筆硬度試験（試験板はガラス板）で「２Ｈ」以上の表面硬度を示す層である。このようなハードコート層を形成するための材料としては、有機シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系、およびウレタンアクリレート系などの有機材料、および、二酸化珪素などの無機材料を挙げることができる。これらの中でも、接着性、生産性に優れることから、ウレタンアクリレート系および多官能アクリレート系の材料が好ましい。

ハードコート層は、屈折率が１．６０以上であることが好ましい。この場合には、当該ハードコート層の上に、このハードコート層よりも低い屈折率の低屈折率層を設けることにより、反射防止効果を付与することができる。また、ハードコート層の厚みは、５μｍ以下であることが好ましい。この場合には、硬化収縮による表面の面状悪化を、問題ない程度に抑えることができる。

以上のようなハードコート層が設けられた基材フィルムは、作製された状態で測定した際に、ハードコート層側の鉛筆硬度が４Ｈ以上であることが好ましい。これにより、表面の耐擦傷性を十分に確保できる。

また、本発明は、以上のような反射防止フィルムと、この反射防止フィルムが貼付された光学部材とを備える光学製品とすることができる。光学部材としては、例えば、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）の表示面側に配置される部材（表面基板）とすることができる。このような表面基板としては、液晶表示装置（ＬＣＤ）に用いられる偏光板や、タッチパネル、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、電界放射型ディスプレイ（ＦＥＤ）、およびエレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）等に用いられる前面板等を挙げることができる。また、本発明の反射防止フィルムを陰極管表示装置（ＣＲＴ）の表示面側の表面基板に貼付することもできる。また、本発明の反射防止フィルムは、自動車や電車等、建築物等に設けられている窓ガラスに貼付して用いることもできる。

ここで、本発明の反射防止フィルムを光学部材の表面基板に貼付する場合には、接着剤（粘着剤も含む）を介して、反射防止フィルムの第１番目の熱可塑性樹脂層（基板フィルムの片面に反射防止層を設けた場合において、反射防止層から最も離れた位置の熱可塑性樹脂層である第１層）と表面基板とを積層する。なお、第一層と表面基板との間に他の機能性フィルム（本発明で用いられる反射防止層を含む）が設けられてもよい。

ここで、前記表面基板としては、ガラス製のものや、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリメチルメタクリレートおよびポリエチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、およびポリスチレン樹脂製のもの等を挙げることができる。

また、表面基板に貼付される第１層における３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の波長λでの屈折率ｎ_１（λ）と、表面基板における３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の波長λでの屈折率ｎ_ｐ（λ）とが、｜ｎ_１（λ）−ｎ_ｐ(λ)｜≦０．０５の関係を満たすことが好ましい。この関係を満たすことにより、前記第１層と表面基板と間の屈折率差に基づく界面反射を抑え、干渉縞の発生を抑えることができる。

さらに、前記第１層における、波長３８０ｎｍでの屈折率ｎ_１（３８０）および波長７８０ｎｍでの屈折率ｎ_１（７８０）と、表面基板における、波長３８０ｎｍでの屈折率ｎ_ｐ（３８０）および波長７８０ｎｍでの屈折率ｎ_ｐ（７８０）とが、｜｜ｎ_１（３８０）-ｎ_ｐ（３８０）｜−｜ｎ_１（７８０）-ｎ_ｐ（７８０）｜｜≦０．０２の関係を満たすことが好ましい。さらに、上記関係は、｜｜ｎ_１（３８０）-ｎ_ｐ（３８０）｜−｜ｎ_１（７８０）-ｎ_ｐ（７８０）｜｜≦０．０１となることがより好ましい。これらの関係を満たすことにより、本反射防止フィルムを光学部材の表面基板に貼付した場合に、十分な色再現性を発揮できる。

本発明について、実施例および比較例により、より詳細に説明する。
実施例および比較例に示す反射防止フィルムは、下記の方法により評価を行った。

＜熱可塑性樹脂層の引張弾性率＞
単層の熱可塑性樹脂層を形成した後、１ｃｍ×２５ｃｍの試験片を切り出し、ＡＳＴＭ８８２に基づき、引張試験機（テンシロンＵＴＭ−１０Ｔ−ＰＬ、東洋ボールドウィン社製）を用いて、引張速度２５ｍｍ／ｍｉｎの条件で、熱可塑性樹脂層の引張弾性率を測定した。同様の測定を５回行い、その算術平均値を引張弾性率の代表値とする。

＜基材フィルムの厚み＞
基材フィルムをエポキシ樹脂に包埋したのち、ミクロトーム（ＲＵＢ-２１００、大和工業社製）を用いてスライスし、走査電子顕微鏡を用いて断面を観察し、基材フィルムの厚みを測定する。

＜熱可塑性樹脂層の屈折率と波長分散＞
単層の熱可塑性樹脂層を形成し、この熱可塑性樹脂層について、プリズムカプラー（ｍｏｄｅｌ２０１０、Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社製）を用いて、温度２０℃±２℃、湿度６０±５％の条件下で、波長６３３ｎｍ、４０７ｎｍ、５３２ｎｍにおける屈折率の値から、Ｃａｕｃｙの分散式により、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの屈折率を算出する。

＜反射防止フィルムの反射率＞
基材フィルムにおける反射防止層が積層された面と反対側の面に、黒ビニルテープＮｏ．２１（日東電工社製）を貼り、分光光度計（紫外可視近赤外分光光度計 V−５７０、日本分光社製）を用い、入射角５°で波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの反射スペクトルを測定し、波長５５０ｎｍにおける反射率を求める。なお、反射率は、フィルムの幅方向の中心位置で測定する。

＜ハードコート層および低屈折率層の屈折率＞
上記各層の屈折率について、高速分光エリプソメトリ(Ｍ−２０００Ｕ、Ｊ.Ａ.Ｗｏｏｌｌａｍ社製)を用い、温度２０℃±２℃、湿度６０±５％の条件下で、入射角度をそれぞれ５５、６０，６５度で測定した場合の、波長領域４００〜１０００ｎｍのスペクトルから算出する。なお、屈折率は、フィルムの幅方向の中心位置で測定する。

＜全光線透過率＞
ＡＳＴＭ Ｄ１００３に準拠して、濁度計（ＮＤＨ-３００Ａ、日本電色工業社製）を用いて測定する。なお、同様の測定を５回行い、その算術平均値を全光線透過率の代表値とする。

＜ヘイズ＞
ＪＩＳ Ｋ７３６１−１９９７に準拠して、濁度計（ＮＤＨ-３００Ａ、日本電色工業社製）を用いて測定する。なお、同様の測定を５回行い、その算術平均値をヘイズの代表値とする。

＜鉛筆硬度＞
ＪＩＳ−５６００−５−４に基づいて、作製されたハードコートフィルムにて５００ｇ荷重で測定する。ハードコート層が積層された基材フィルムの上に鉛筆をおき、４５度の角度、上から５００ｇの荷重を掛けて５ｍｍ程度引っかき、傷の付き具合を確認する。

＜干渉縞＞
暗幕のような光を通さない黒布の上に反射防止フィルムを置き、三波長蛍光灯（ナショナル ＦＬ２０ＳＳ・ＥＮＷ／１８、松下電器社製）で照らして、反射防止フィルムの表面を目視観察し、以下の基準で評価した。
◎：干渉縞が見えない。
○：干渉縞がうっすらと見える。
△：干渉縞が目立つ。
×：干渉縞が目立ち、かつギラツキが生じる。

＜可撓性試験＞
反射防止フィルムを１ｃｍ×５ｃｍに打ち抜いて試験フィルムを得た。この得られた試験フィルムを３ｍｍφのスチール製の棒に巻きつけ、巻きつけたフィルムが棒のところで折れるか否かをテストした。合計１０回テストを行い、折れなかった回数によって下記指標で可撓性を表した。
○：折れたフィルム片が１枚以下
×：折れたフィルム片が２枚以上

＜視認性＞
市販の液晶テレビ（シャープ社製、ＬＣ-１３Ｃ５-Ｓ）の表面に、本実施例または比較例で得られた反射防止フィルムを貼り合わせ、この液晶テレビの表示品位を以下の基準で評価した。
○：長時間（例えば１〜２時間くらい）使用しても作業者が不快に感じない。
×：長時間の使用で作業者が不快に感じる。

＜色再現性試験＞
市販の液晶テレビ（ＬＣ−１３Ｃ５−Ｓ シャープ社製）から液晶表示パネルを取り外し、この液晶表示パネルから視認者側の偏光板を液晶セルから剥がし、代わりに、本実施例または比較例で得られた反射防止フィルムを、剥がした偏光板に用いられているのと同じ偏光子に貼付して作製された偏光板を、反射防止フィルムが視認者側となるように、前記液晶セルに貼り合せて液晶表示パネルを得た。次いで、この液晶表示パネルを周囲明るさ５００ルクスの環境下に設置し、反射色を目視により観察して、以下の基準で評価した。
○：反射色が黒色である。
×：反射色が青色である。

以下、実施例および比較例について説明する。
まず、実施例および比較例に用いたハードコート層および低屈折率層を形成するための組成物についてそれぞれ説明する。

＜ハードコート層形成用組成物用Ｈの調製＞
６官能ウレタンアクリレートオリゴマー３０部、ブチルアクリレート４０部、イソボロニルメタクリレート３０部、および２，２-ジフェニルエタン-１-オン１０部を、ホモジナイザーで混合し、五酸化アンチモン微粒子（平均粒子径２０ｎｍ、水酸基がパイロクロア構造の表面に現れているアンチモン原子に１つの割合で結合している。）の４０％メチルイソブチルケトン溶液を、五酸化アンチモン微粒子の重量がハードコート層形成用組成物全固形分の５０重量％を占める割合で混合して、ハードコート層形成用組成物Ｈを調製した。

＜低屈折率層形成用組成物Ｌ１の調製＞
テトラメトキシシランのオリゴマー２１部、メタノール３６部、水２部、および０．０１Ｎの塩酸水溶液２部を混合し、２５℃の高温槽中で２時間撹拌して、重量平均分子量８５０のシリコーンレジンを得た。次に、中空シリカ微粒子のイソプロパノール分散ゾル（固形分２０％、平均一次粒子径約３５ｎｍ、外殻厚み約８ｎｍ）を前記シリコーンレジンに加えて、中空シリカ微粒子／シリコーンレジン（縮合化合物換算）が固形分基準の重量比で８：２となるようにした。最後に全固形分が１％になるようにメタノールで希釈して低屈折率層形成用組成物Ｌ１を調製した。

＜低屈折率層形成用組成物Ｌ２の調製＞
還流管を備えつけた４つ口反応フラスコにエタノール２００部を投入し、撹拌下にこのエタノールに蓚酸１２０部を少量づつ添加することにより、蓚酸のエタノール溶液を調製した。次いで、この溶液をその還流温度まで加熱し、還流下のこの溶液中に、ヘプタデカフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン５０部、テトラメトキシシラン１０部、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン５０部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２０部、および２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン５部を攪拌混合しの混合物を滴下した。滴下終了後も、還流下に加熱を５時間続けた後冷却した。次に、中空シリカ微粒子として中空シリカイソプロパノール分散ゾル（触媒化成工業社製、固形分２０重量％、平均一次粒子径約３５ｎｍ、外殻厚み約８ｎｍ）を、中空微粒子の割合が固形分基準で７０重量％になるように添加し、メタノールにて固形分が１重量％になるように希釈することにより低屈折率層形成用組成物Ｌ２を調製した。

＜低屈折率層形成用組成物Ｌ３の調製＞
含フッ素モノマーである、フッ化ビニデリン７０重量部およびテトラフルオロエチレン３０重量部を、メチルイソブチルケトンに溶解した。次に、この溶解物に、中空シリカイソプロパノール分散ゾル（触媒化成工業社製、固形分２０重量％、平均一次粒子径約３５ｎｍ、外殻厚み約８ｎｍ）を、含フッ素モノマー固形分に対して中空シリカ固形分で３０質量％、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（信越化学社製）を前記固形分に対して３質量％、光ラジカル発生剤イルガキュア１８４（チバ・スペシャリティケミカルズ社製）を前記固形分に対して５質量％添加し、低屈折率層形成用組成物Ｌ３を調製した。

次に、実施例および比較例の構成、評価結果について説明する。
＜実施例１＞
（基材フィルム１の作製）
熱可塑性樹脂層を構成するためのポリメチルメタクリレート樹脂（表及び図中ＰＭＭＡと表記、吸水率０．３％）を、目開き１０μｍのリーフディスク形状のポリマーフィルターを設置したダブルフライト型一軸押出機に投入し、押出機出口温度２６０℃で溶融樹脂をダイスリップの表面粗さＲａが０．１μｍであるマルチマニホールドダイの一方に供給した。

また、熱可塑性樹脂層を構成するための脂環式オレフィンポリマー（ノルボルネン系モノマーの開環重合体水素添加物、表及び図中ＣＯＰと表記、吸水率０．０１％未満）を、目開き１０μｍのリーフディスク形状のポリマーフィルターを設置したダブルフライト型の他の一軸押出機に導入し、押出機出口温度２６０℃で溶融樹脂をダイスリップの表面粗さＲａが０．１μｍであるマルチマニホールドダイの他方に供給した。

そして、溶融状態のポリメチルメタクリレート樹脂、脂環式オレフィンポリマー、接着剤としてエチレン−酢酸ビニル共重合体のそれぞれをマルチマニホールドダイから２６０℃で吐出させ、１３０℃に温度調整された冷却ロールにキャストし、その後、５０℃に温度調整された冷却ロールに通して、ポリメチルメタクリレート樹脂層（２０μｍ）−接着層（４μｍ）−脂環式オレフィンポリマー層（３２μｍ）−接着層（４μｍ）−ポリメチルメタクリレート樹脂層（２０μｍ）の３層構成（接着層は除く）からなる、幅６００ｍｍ、厚さ７２μｍの基材フィルム１を共押出成形により得た。

ポリメチルメタクリレート樹脂層は、いずれも屈折率ｎ（λ）が図１に示す分布を有し、脂環式オレフィンポリマー層は、屈折率ｎ（λ）が図１に示す分布を有していた。
ポリメチルメタクリレート樹脂層は、波長３８０ｎｍにおける屈折率が１．５１２であり、波長７８０ｎｍにおける屈折率が１．４８８であった。脂環式オレフィンポリマー層は、波長３８０ｎｍにおける屈折率が１．５５５であり、波長７８０ｎｍにおける屈折率が１．５２９であった。

（反射防止層の形成）
基材フィルム１の両面に、高周波発信機（出力０．８ＫＷ）を用いてコロナ放電処理を行い、表面張力が０．０５５Ｎ／ｍの基材フィルム１Ａを得た。次に、基材フィルム１の片面に、ダイコーターを用いてハードコート層形成用組成物Ｈを塗工し、８０℃の乾燥炉の中で５分間乾燥させて被膜を得た。さらに、この皮膜に紫外線を照射（積算照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２）して、厚さ５μｍのハードコート層を形成し、積層フィルム１Ｂを得た。ハードコート層の屈折率は１．６２であり、ハードコート層側の鉛筆硬度が４Ｈであった。

積層フィルム１Ｂのハードコート層側に、ワイヤーバーコーターを用いて低屈折率層形成用組成物Ｌ１を塗工し、１時間放置して乾燥させ、得られた被膜を１２０℃で１０分間、酸素雰囲気下で熱処理し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層（屈折率１．３７）を形成し、反射防止フィルム１を得た。

＜実施例２＞
実施例１で用いた３層構成のフィルムを得るためのマルチマニホールドダイを２層構成のフィルムを得るためのマルチマニホールドダイに置き換えて、実施例１同様にしてポリメチルメタクリレート樹脂層（３２μｍ）−接着層（４μｍ）−脂環式オレフィンポリマー層（４４μｍ）の２層構成（接着層を除く）からなる、幅６００ｍｍ、厚さ８０μｍの基材フィルム２を得た。評価結果を表１に示す。

ポリメチルメタクリレート樹脂層は、波長３８０ｎｍにおける屈折率が１．５１２であり、波長７８０ｎｍにおける屈折率が１．４８８であった。脂環式オレフィンポリマー層は、波長３８０ｎｍにおける屈折率が１．５５５であり、波長７８０ｎｍにおける屈折率が１．５２９であった。

そして、実施例１で用いたフィルム１に代えて基材フィルム２を用い、ポリメチルメタクリレート樹脂層側にハードコート層、低屈折率層をこの順に積層した他は実施例１と同様にして反射防止フィルム２を得た。評価結果を表１に示す。

＜実施例３＞
実施例１において低屈折率層形成用組成物Ｌ１の代わりに、低屈折率層形成用組成物Ｌ２を用いた他は、実施例１と同様にして反射防止フィルム３を得た。評価結果を表１に示す。

＜実施例４＞
実施例１において低屈折率層形成用組成物Ｌ１の代わりに、ハードコート層側に低屈折率層形成用組成物Ｌ３を塗工した。低屈折率層形成用組成物Ｌ３を塗工してから１時間放置して乾燥させた後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ²、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、低屈折率層（屈折率１．４３）を形成し、反射防止フィルム４を得た。評価結果を表１に示す。

＜比較例１＞
波長３８０ｎｍにおける屈折率が１．７１５であり、波長７８０ｎｍにおける屈折率が１．６３１である厚さ３０μｍのポリエチレンテレフタレート（表及び図中ＰＥＴと表記、吸水率０．５％）フィルムの両面に、厚さ２０μｍのポリメチルメタクリレート樹脂の単層フィルムを圧着ラミネートにより積層し、基材フィルム３を得た。

基材フィルム１を基材フィルム３に変えた他は、実施例１と同様にして反射防止フィルム５を得た。ポリエチレンテレフタレート樹脂層は、屈折率ｎ（λ）が図１に示す分布を有し、ポリメチルメタクリレート樹脂層はいずれも屈折率ｎ（λ）が図１に示す分布を有していた。ポリエチレンテレフタレートフィルムは、波長３８０ｎｍにおける屈折率が１．７１５であり、波長７８０ｎｍにおける屈折率が１．６３１であった。

図２には、ポリメチルメタクリレート樹脂層の屈折率ｎ（λ）とポリエチレンテレフタレート樹脂層の屈折率ｎ（λ）との差の絶対値の分布を示した。ポリメチルメタクリレート樹脂層とポリエチレンテレフタレート樹脂層とは、上記関係２を満たしていなかった。また、評価結果を表１に示す。

＜比較例２＞
実施例１において、脂環式オレフィンポリマーの代わりにポリカーボネート樹脂（表及び図中ＰＣと表記、吸水率０．２％）を使用した他は、実施例１と同様にして３層構造の基材フィルム４を作製した。そして、基材フィルム１をこの基材フィルム４に変えた他は実施例１と同様にして反射防止フィルム６を得た。

ポリカーボネート樹脂層は、屈折率ｎ（λ）が図１に示す分布を有し、ポリメチルメタクリレート樹脂層はいずれも屈折率ｎ（λ）が図１に示す分布を有していた。

図２にポリメチルメタクリレート樹脂層の屈折率ｎ（λ）とポリカーボネート樹脂層の屈折率ｎ（λ）との差の絶対値の分布を示した。ポリカーボネート樹脂層は、波長３８０ｎｍにおける屈折率が１．６０８、波長７８０ｎｍにおける屈折率が１．５５６であった。ポリメチルメタクリレート樹脂層とポリカーボネート樹脂層とは、上記関係２を満たしていなかった。また、評価結果を表１に示す。

＜比較例３＞
基材フィルム１に代えて、ポリメチルメタクリレート樹脂（表及び図中ＰＭＭＡと表記）からなる厚み８０μｍの単層押出成形フィルムを、基材フィルム５として用いた他は実施例１と同様にして反射防止フィルム７を得た。図１にポリメタクリレートの単層フィルム層の屈折率ｎ(λ)を示す。また、評価結果を表１に示す。

＜比較例４＞
基材フィルム１に代えて、トリアセチルセルロース（表及び図中ＴＡＣと表記）からなる厚み８０μｍの単層キャスト成形フィルムを、基材フィルム６として用いた他は実施例１と同様にして反射防止フィルム８を得た。トリアセチルセルロースの単層フィルム層の屈折率ｎ(λ)を図１に示す。また、評価結果を表１に示す。

表１に示すように、実施例１〜４の反射防止フィルムは、反射防止性能を有しつつ、色再現性に優れ、かつ十分な表面硬度および可撓性を有することがわかる。これに対して、比較例１，２の反射防止フィルムは、色再現性および視認性が不十分であることがわかる。また、比較例３の反射防止フィルムは、可撓性が不十分であり、比較例４の反射防止フィルムは、色再現性が不十分であった。さらに、比較例１，２，４では、表面硬度が不十分であった。

本実施例で用いた、各熱可塑性樹脂層の屈折率ｎ（λ）を示す図である。 本実施例で用いた、各熱可塑性樹脂層の屈折率ｎ（λ）の差の絶対値の分布を示す図である。

符号の説明

ＰＭＭＡ・・・ポリメチルメタクリレート樹脂
ＣＯＰ・・・脂環式オレフィンポリマー
ＴＡＣ・・・トリアセチルセルロース
ＰＣ・・・ポリカーボネート樹脂
ＰＥＴ・・・ポリエチレンテレフタレート樹脂

Claims (11)

1. ｋ個（ｋは２以上の整数）の熱可塑性樹脂層が積層されてなる基材フィルムと、
   この基材フィルムの少なくとも一方の面に積層される反射防止層と、を備え、
   下記（１）、（２）の関係を満たすことを特徴とする反射防止フィルム。
   （１）前記ｋ個の熱可塑性樹脂層において、第ｉ番目の熱可塑性樹脂層における、波長３８０ｎｍでの屈折率ｎ_ｉ（３８０）および波長７８０ｎｍでの屈折率ｎ_ｉ（７８０）と、第ｉ＋１番目の熱可塑性樹脂層における、波長３８０ｎｍでの屈折率ｎ_ｉ＋１（３８０）および波長７８０ｎｍでの屈折率ｎ_ｉ＋１（７８０）とが、ｎ＝１〜ｋ−１において、｜｜ｎ_ｉ（３８０）-ｎ_ｉ＋１（３８０）｜−｜ｎ_ｉ（７８０）-ｎ_ｉ＋１（７８０）｜｜≦０．０２である。
   （２）前記第ｉ番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率をＡ_ｉ、前記第ｉ＋１番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率をＡ_ｉ＋１とし、｜Ａ_ｉ＋１−Ａ_ｉ｜≧０．５ＧＰａとなるようなｉ（ｉ＝1〜ｋ−１）を少なくとも１つ含む。
2. 請求項１に記載の反射防止フィルムにおいて、
   入射角５°、波長４３０ｎｍ〜７００ｎｍにおける反射率が２．０％以下であり、波長５５０ｎｍにおける反射率が１．０％以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
3. 請求項１または２に記載の反射防止フィルムにおいて、
   前記基材フィルムの総厚みが２００μｍ以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
4. 請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルムにおいて、
   前記Ａｉ≧３ＧＰａとなるようなｉ（ｉ＝１〜ｋ−１）を少なくとも１つ含むことを特徴とする反射防止フィルム。
5. 請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルムにおいて、
   各熱可塑性樹脂層の厚みが、それぞれ１μｍ以上であることを特徴とする反射防止フィルム。
6. 請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルムにおいて、
   各熱可塑性樹脂層は、それぞれ非晶性樹脂を含んでなることを特徴とする反射防止フィルム。
7. 請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止フィルムにおいて、
   前記基材フィルムは、共押出成形により得られることを特徴とする反射防止フィルム。
8. 請求項１〜７のいずれかに記載の反射防止フィルムにおいて、
   前記反射防止層は、フッ素化合物を含んでなる低屈折率層を有することを特徴とする反射防止フィルム。
9. 請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止フィルムにおいて、
   前記基材フィルムの表面に積層されたハードコート層を有することを特徴とする反射防止フィルム。
10. 請求項１〜９のいずれかに記載の反射防止フィルムにおいて、
    前記反射防止層側の表面の鉛筆硬度が４Ｈ以上であることを特徴とする反射防止フィルム。
11. 光学部材と、この光学部材の表面に積層される請求項１〜１０のいずれかに記載の反射防止フィルムとを備えることを特徴とする光学製品。
    
    

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