WO2016208716A1 - 帯電防止フィルム及びその製造方法、偏光板並びに液晶表示装置 - Google Patents

帯電防止フィルム及びその製造方法、偏光板並びに液晶表示装置 Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to an antistatic film, a manufacturing method thereof, a polarizing plate, and a liquid crystal display device.
  • An optical film including a polymer containing an alicyclic structure has been conventionally used as a base film layer of a polarizing plate protective film for a liquid crystal display device because of its excellent transparency and heat resistance (Patent Literature). 1).
  • Patent Document 2 it has been proposed to form a conductive antistatic layer on the polarizing plate protective film in order to remove static electricity from the liquid crystal display device (Patent Document 2).
  • a masking film may be bonded to the polarizing plate protective film in order to suppress a decrease in transparency, contamination, and scratches during production, transportation, and storage (Patent Document 3).
  • an optical film including a polymer containing an alicyclic structure has a low elastic modulus and is soft. Therefore, when the optical film is stored for a certain period in a state where the masking film is bonded and rolled, an uneven shape may be formed on the surface of the optical film. For example, when using a masking film with a concavo-convex shape formed on the surface, the concavo-convex shape of the masking film is transferred to the optical film by the pressure when it is wound into a roll, and the concavo-convex shape is formed on the optical film surface. There is.
  • the uneven shape is easily formed on the antistatic layer. Further, the uneven shape formed on the antistatic layer tends to emphasize the uneven shape.
  • a polarizing plate protective film having an antistatic layer having such an uneven shape is provided on a liquid crystal display device, the appearance evaluation of the liquid crystal display device is lowered and visibility may be deteriorated.
  • the present invention was invented in view of the above problems, and an antistatic film capable of improving the visibility of an image and a manufacturing method thereof; a polarizing plate provided with an antistatic film capable of improving the visibility of an image; and An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device including an antistatic film and capable of displaying an image with good visibility.
  • the present inventor has obtained a base film layer made of a thermoplastic resin containing a polymer containing an alicyclic structure and an antistatic layer containing conductive metal oxide particles.
  • An antistatic film provided with an antistatic layer having a surface resistance value in a predetermined range and image clarity on a surface can provide good image visibility when provided in a liquid crystal display device.
  • the present invention is as follows.
  • a base film layer made of a thermoplastic resin containing a polymer containing an alicyclic structure, and an antistatic layer provided on the base film layer and containing conductive metal oxide particles,
  • An antistatic film comprising: The surface resistance value of the antistatic layer is 1.0 ⁇ 10 6 ⁇ / ⁇ or more and 1.0 ⁇ 10 10 ⁇ / ⁇ or less, The antistatic film whose image clarity of the surface of the said antistatic layer is 90 or more.
  • the antistatic film according to [1] wherein a masking film is provided on the surface of the base film layer opposite to the antistatic layer.
  • the masking film is in contact with the base film layer on the base film layer side,
  • the base film layer includes a first surface layer, an intermediate layer, and a second surface layer in this order, The intermediate layer includes an ultraviolet absorber;
  • the thickness of the base film layer is 10 ⁇ m or more and 60 ⁇ m or less,
  • the antistatic layer has a single layer structure, The antistatic film according to any one of [1] to [4], wherein the antistatic layer has a thickness of 0.8 ⁇ m to 10.0 ⁇ m.
  • the in-plane retardation of the base film layer at a wavelength of 550 nm is from 80 nm to 180 nm, and The antistatic film according to [8], wherein the slow axis of the base film layer forms an angle of 45 ° ⁇ 5 ° with respect to the longitudinal direction of the base film layer.
  • a polarizing plate comprising the antistatic film according to any one of [1] to [9].
  • a liquid crystal display device comprising a liquid crystal cell and the polarizing plate according to [10].
  • the surface resistance value of the antistatic layer is 1.0 ⁇ 10 6 ⁇ / ⁇ or more and 1.0 ⁇ 10 10 ⁇ / ⁇ or less
  • an antistatic film capable of improving the visibility of an image and a method for producing the same; a polarizing plate including an antistatic film capable of improving the visibility of an image; A liquid crystal display device capable of displaying a good image can be provided.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an antistatic film according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a polarizing plate according to one embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a liquid crystal display device according to one embodiment of the present invention.
  • long film refers to a film having a length of usually 5 times or more, preferably 10 times or more of the width, specifically, A film having such a length that it is wound up in a roll and stored or transported.
  • the upper limit of the length of the long film is not particularly limited, and can be, for example, 100,000 times or less with respect to the width.
  • nx represents a refractive index in a direction (in-plane direction) perpendicular to the thickness direction of the film and giving the maximum refractive index.
  • ny represents the refractive index in the in-plane direction of the film and perpendicular to the nx direction.
  • nz represents the refractive index in the thickness direction of the film.
  • d represents the thickness of the film.
  • the measurement wavelength is 550 nm unless otherwise specified.
  • (meth) acrylate includes both “acrylate” and “methacrylate”
  • (meth) acryloyl group includes both “acryloyl group” and “methacryloyl group”.
  • the directions of the elements “parallel”, “vertical”, and “orthogonal” include errors within a range that does not impair the effects of the present invention, for example, ⁇ 5 °, unless otherwise specified. You may go out.
  • the longitudinal direction of a long film is usually parallel to the MD direction of the film in the production line.
  • polarizing plate and “1 ⁇ 4 wavelength plate” include not only a rigid member but also a flexible member such as a resin film.
  • the angle formed by the optical axis of each film (the transmission axis of the polarizer, the slow axis of the retardation film, etc.) in the member having a plurality of films is determined from the thickness direction unless otherwise specified. Indicates the angle when viewed.
  • the slow axis of the film represents the slow axis in the plane of the film.
  • the adhesive includes not only a narrowly defined adhesive but also a pressure-sensitive adhesive having a shear storage modulus at 23 ° C. of less than 1 MPa.
  • the narrowly defined adhesive refers to an adhesive having a shear storage elastic modulus of 1 MPa to 500 MPa at 23 ° C. after irradiation with energy rays or after heat treatment.
  • the solid content of a certain liquid means a component remaining after the liquid is dried.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an antistatic film 100 according to an embodiment of the present invention.
  • the antistatic film 100 includes a base film layer 110 and an antistatic layer 120 provided on the base film layer 110.
  • the antistatic layer 120 has a surface resistance value within a predetermined range. Furthermore, the image clarity of the surface 120U of the antistatic layer 120 on the side opposite to the base film layer 110 is not less than a predetermined value.
  • the antistatic film 100 can exhibit an effect of preventing electrification and can improve image visibility.
  • the antistatic film 100 may include a masking film 130 on the surface 110D of the base film layer 110 opposite to the antistatic layer 120, if necessary.
  • the masking film 130 is provided to suppress contamination and scratches during transportation and storage, and is usually peeled off when the antistatic film 100 is used.
  • a base film layer consists of a thermoplastic resin containing the polymer containing an alicyclic structure.
  • the polymer containing an alicyclic structure may be referred to as an “alicyclic structure-containing polymer” as appropriate.
  • the structural unit of the polymer has an alicyclic structure.
  • the alicyclic structure-containing polymer may have an alicyclic structure in the main chain, and may have an alicyclic structure in the side chain. Among these, from the viewpoint of mechanical strength and heat resistance, a polymer containing an alicyclic structure in the main chain is preferable.
  • alicyclic structure examples include a saturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkane) structure and an unsaturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkene, cycloalkyne) structure.
  • cycloalkane saturated alicyclic hydrocarbon
  • cycloalkene unsaturated alicyclic hydrocarbon
  • cycloalkyne unsaturated alicyclic hydrocarbon
  • a cycloalkane structure and a cycloalkene structure are preferable, and a cycloalkane structure is particularly preferable.
  • the number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is preferably 4 or more, more preferably 5 or more, preferably 30 or less, more preferably 20 or less, particularly preferably per alicyclic structure. Is a range of 15 or less. By setting the number of carbon atoms constituting the alicyclic structure within this range, the mechanical strength, heat resistance, and moldability of the thermoplastic resin containing the alicyclic structure-containing polymer are highly balanced.
  • the proportion of structural units having an alicyclic structure can be appropriately selected depending on the purpose of use.
  • the proportion of the structural unit having an alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer is preferably 55% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, and particularly preferably 90% by weight or more.
  • the ratio of the structural unit having an alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer is within this range, the transparency and heat resistance of the thermoplastic resin containing the alicyclic structure-containing polymer are improved.
  • Examples of the alicyclic structure-containing polymer include norbornene-based polymers, monocyclic cyclic olefin-based polymers, cyclic conjugated diene-based polymers, and hydrogenated products thereof.
  • norbornene-based polymers are particularly suitable because of good moldability.
  • the polymer which has an alicyclic structure may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
  • norbornene polymer for example, those described in JP-A-3-14882, JP-A-3-122137, JP-A-4-63807 and the like can be used.
  • Specific examples of the norbornene-based polymer include a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure and a hydrogenated product thereof; an addition polymer of a monomer having a norbornene structure and a hydrogenated product thereof; Things.
  • a monomer having a norbornene structure may be referred to as a “norbornene monomer”.
  • Examples of the ring-opening polymer of the norbornene monomer include a ring-opening homopolymer of one kind of monomer having a norbornene structure, a ring-opening copolymer of two or more kinds of monomers having a norbornene structure, In addition, a ring-opening copolymer with a norbornene-based monomer and an arbitrary monomer copolymerizable therewith can be mentioned.
  • examples of norbornene-based monomer addition polymers include addition homopolymers of one type of monomer having a norbornene structure, addition copolymers of two or more types of monomers having a norbornene structure, and , Norbornene monomers and addition copolymers with any monomer copolymerizable therewith.
  • a hydrogenated product of a ring-opening polymer of a norbornene monomer is particularly preferable from the viewpoints of moldability, heat resistance, low moisture absorption, dimensional stability, and light weight.
  • Examples of the norbornene-based monomer include norbornene; alkyl-substituted derivatives of norbornene; alkylidene-substituted derivatives of norbornene; aromatic-substituted derivatives of norbornene; and polar group-substituted products thereof.
  • Examples of the polar group include a halogen, a hydroxyl group, an ester group, an alkoxy group, a cyano group, an amide group, an imide group, and a silyl group. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.
  • norbornene monomers include 2-norbornene, 5-methyl-2-norbornene, 5,5-dimethyl-2-norbornene, 5-ethyl-2-norbornene, and 5-butyl-2- Norbornene, 5-ethylidene-2-norbornene, 5-methoxycarbonyl-2-norbornene, 5-cyano-2-norbornene, 5-methyl-5-methoxycarbonyl-2-norbornene, 5-phenyl-2-norbornene, 5- Examples include phenyl-5-methyl-2-norbornene, 5-hexyl-2-norbornene, 5-octyl-2-norbornene, and 5-octadecyl-2-norbornene.
  • the norbornene-based monomer includes, for example, a monomer obtained by adding one or more cyclopentadiene to norbornene; an alkyl-substituted derivative of this monomer; an alkylidene-substituted derivative of this monomer; Aromatic substituted derivatives; and these polar group-substituted products.
  • Specific examples of such norbornene monomers include 1,4: 5,8-dimethano-1,2,3,4,4a, 5,8,8a-2,3-cyclopentadienooctahydro.
  • the norbornene-based monomer includes, for example, a monomer having a polycyclic structure which is a multimer of cyclopentadiene; an alkyl-substituted derivative of this monomer; an alkylidene-substituted derivative of this monomer; Aromatic substituted derivatives; and these polar group-substituted products.
  • Specific examples of such norbornene-based monomers include dicyclopentadiene and 2,3-dihydrodicyclopentadiene.
  • Norbornene-based monomers include, for example, adducts of cyclopentadiene and tetrahydroindene; alkyl-substituted derivatives of this adduct; alkylidene-substituted derivatives of this adduct; aromatic-substituted derivatives of this adduct; And polar group substitution products.
  • Specific examples of such norbornene monomers include 1,4-methano-1,4,4a, 4b, 5,8,8a, 9a-octahydrofluorene, 5,8-methano-1,2, 3,4,4a, 5,8,8a-octahydro-2,3-cyclopentadienonaphthalene and the like.
  • a norbornene-type monomer may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
  • X bicyclo [3.3.0] octane-2,4-diyl-ethylene structure and Y: tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] decane- 7,9-diyl-ethylene structure
  • the content of these structural units is 90% by weight or more based on the total structural units of the norbornene polymer
  • the content ratio of X and the content of Y The ratio with respect to the ratio is preferably 100: 0 to 40:60 by weight ratio of X: Y.
  • Examples of the monomer having the X structure as a structural unit include a norbornene-based monomer having a structure in which a five-membered ring is bonded to a norbornene ring. Specific examples thereof include tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] deca-3,7-diene (common name: dicyclopentadiene) and its derivatives (having substituents on the ring), 7,8 -Benzotricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene (common name: methanotetrahydrofluorene) and its derivatives.
  • Examples of the monomer having the Y structure as a structural unit include, for example, tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] deca-3,7-diene (common name: tetracyclododecene) and its derivatives (having a substituent in the ring).
  • the above-described monomer polymerization can be performed by a known method. Moreover, you may obtain a desired polymer by copolymerizing the monomer mentioned above with arbitrary monomers as needed, or hydrogenating.
  • the hydrogenation rate is 90% or more, preferably 95% or more, and more preferably 99% or more, from the viewpoints of heat deterioration resistance and light deterioration resistance.
  • the obtained polymer may be used, if necessary, for example, ⁇ , ⁇ -unsaturated carboxylic acid and derivatives thereof, styrenic hydrocarbons, olefinic unsaturated bonds and organosilicon compounds having hydrolyzable groups, In addition, it may be modified using a modifying agent such as an unsaturated epoxy monomer.
  • the number average molecular weight (Mn) of the alicyclic structure-containing polymer is preferably 10,000 or more, more preferably 15,000 or more, particularly preferably 20,000 or more, preferably 200,000 or less, more preferably. Is 100,000 or less, particularly preferably 50,000 or less.
  • the number average molecular weight of the alicyclic structure-containing polymer can be measured as a polyisoprene conversion value by a GPC (gel permeation chromatography) method using a cyclohexane solvent.
  • the amount of the alicyclic structure-containing polymer is preferably 50% by weight to 100% by weight, more preferably 70% by weight to 100% by weight. By keeping the amount of the alicyclic structure-containing polymer in the above range, a base film layer having desired physical properties can be easily obtained.
  • thermoplastic resin containing the alicyclic structure-containing polymer may contain an optional component in combination with the polymer having an alicyclic structure, if necessary.
  • Optional components include, for example, UV absorbers; inorganic fine particles; stabilizers such as antioxidants, heat stabilizers, near infrared absorbers; resin modifiers such as lubricants and plasticizers; colorants such as dyes and pigments An anti-aging agent; and the like.
  • Arbitrary components may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
  • the base film layer may have a single layer structure including only one layer, or may have a multilayer structure including two or more layers.
  • a base film layer is a multilayer film provided with the 1st surface layer, the intermediate
  • the first surface layer and the second surface layer preferably do not contain an ultraviolet absorber.
  • the polymer contained in the first surface layer, the polymer contained in the intermediate layer, and the polymer contained in the second surface layer may be the same or different. Therefore, the thermoplastic resin contained in the first surface layer and the thermoplastic resin contained in the second surface layer may be different, but are preferably the same because the layer can be easily formed. .
  • a 1st surface layer and a 2nd surface layer are formed with the thermoplastic resin similar to the thermoplastic resin contained in an intermediate
  • UV absorbers examples include organic UV absorbers such as triazine UV absorbers, benzophenone UV absorbers, benzotriazole UV absorbers, and acrylonitrile UV absorbers.
  • organic UV absorbers such as triazine UV absorbers, benzophenone UV absorbers, benzotriazole UV absorbers, and acrylonitrile UV absorbers.
  • triazine-based ultraviolet absorbers are preferable in that the ultraviolet absorption performance near a wavelength of 380 nm is excellent.
  • an ultraviolet absorber that whose molecular weight is 400 or more is preferable.
  • triazine-based ultraviolet absorber for example, a compound having a 1,3,5-triazine ring can be preferably used.
  • triazine-based ultraviolet absorbers include 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5-[(hexyl) oxy] -phenol, 2,4-bis And (2-hydroxy-4-butoxyphenyl) -6- (2,4-dibutoxyphenyl) -1,3,5-triazine.
  • Teinubin 1577 made by Ciba Specialty Chemicals
  • benzotriazole ultraviolet absorber examples include 2,2′-methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol], 2 -(3,5-di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -p-cresol, 2- (2H-benzotriazole-2 -Yl) -4,6-bis (1-methyl-1-phenylethyl) phenol, 2-benzotriazol-2-yl-4,6-di-tert-butylphenol, 2- [5-chloro (2H)- Benzotriazol-2-yl] -4-methyl-6- (tert-butyl) phenol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4,6-di- ert-Butylphenol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl
  • ultraviolet absorber one type may be used alone, or two or more types may be used in combination at any ratio.
  • the amount of the ultraviolet absorber is preferably 1% by weight or more, more preferably 3% by weight or more, preferably 8% by weight or less, more preferably 6% by weight or less.
  • the amount of the ultraviolet absorber indicates the total amount of these ultraviolet absorbers when two or more types of ultraviolet absorbers are used.
  • the ultraviolet absorber is added to the alicyclic structure-containing polymer prior to the production of the base film layer by melt extrusion.
  • the dispersibility of the ultraviolet absorber can be sufficiently increased by setting the amount of the ultraviolet absorber within the above range.
  • the glass transition temperature of the thermoplastic resin is preferably 80 ° C or higher, more preferably 100 ° C or higher, still more preferably 120 ° C or higher, still more preferably 130 ° C or higher, particularly preferably 150 ° C or higher, particularly preferably 160 ° C or higher. And preferably 250 ° C. or lower, more preferably 180 ° C. or lower.
  • the photoelastic coefficient of the thermoplastic resin is preferably 10 ⁇ 10 ⁇ 10 Pa ⁇ 1 or less, more preferably 10 ⁇ 10 ⁇ 12 Pa ⁇ 1 or less, and particularly preferably 4 ⁇ 10 ⁇ 12 Pa ⁇ 1 or less.
  • the glass transition temperature TgA of the thermoplastic resin included in the intermediate layer and the first surface layer and the second surface layer are included.
  • the glass transition temperature TgB of the thermoplastic resin to be satisfied preferably satisfies the relationship of TgB ⁇ TgA ⁇ 15 ° C.
  • the light transmittance at a wavelength of 380 nm of the base film layer is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, and particularly preferably 1% or less. Further, the light transmittance of the base film layer at a wavelength of 280 nm to 370 nm is preferably 1.5% or less, more preferably 1% or less.
  • the base film layer may be an optically isotropic film or a film having optical anisotropy.
  • the base film layer may be an isotropic film having an in-plane retardation Re of 10 nm or less.
  • the retardation Rth in the thickness direction of the base film layer is preferably 10 nm or less.
  • the base film layer may be a retardation film having optical anisotropy.
  • the base film layer may be a film that can function as a quarter-wave plate.
  • the in-plane retardation Re at the measurement wavelength of 550 nm of the base film layer is preferably 80 nm or more, more preferably 95 nm or more, preferably 180 nm or less. More preferably, it is 150 nm or less.
  • the in-plane retardation Re of the base film layer is within the above range, when the antistatic film is incorporated into the liquid crystal display device, even if the installation position is changed with the display surface as the rotation axis, Since the color change of the image is reduced, the image visibility of the liquid crystal display device is excellent.
  • the base film layer can function as a quarter wavelength plate, the thickness direction retardation Rth of the base film layer at a measurement wavelength of 550 nm is preferably 50 nm to 225 nm.
  • the slow axis of the base film layer is an angle within a predetermined range with respect to the longitudinal direction of the base film layer. It is preferable to set so that Hereinafter, the angle formed by the slow axis of the base film layer with respect to the longitudinal direction of the base film layer may be referred to as “orientation angle” as appropriate.
  • the range of the orientation angle is preferably 45 ° ⁇ 5 °, more preferably 45 ° ⁇ 4 °, and particularly preferably 45 ° ⁇ 3 °. If an antistatic film provided with a base film layer having an orientation angle in such a range is used, it is possible to easily produce a polarizing plate that can enhance the visibility of an image with polarized sunglasses.
  • the variation of the in-plane retardation Re of the base film layer is preferably within 10 nm, more preferably within 5 nm, and particularly preferably within 2 nm. Further, the variation in retardation Rth in the thickness direction of the base film layer is preferably within 20 nm, more preferably within 15 nm, and particularly preferably within 10 nm.
  • the amount of the volatile component of the base film layer is preferably 0.1% by weight or less, more preferably 0.05% by weight or less, and further preferably 0.02% by weight or less.
  • the volatile component is a substance having a molecular weight of 200 or less.
  • volatile components include residual monomers and solvents.
  • the amount of volatile components can be quantified by analyzing by gas chromatography as the sum of substances having a molecular weight of 200 or less.
  • the thickness of the base film layer is preferably 10 ⁇ m or more, more preferably 20 ⁇ m or more, preferably 60 ⁇ m or less, more preferably 40 ⁇ m or less. By keeping the thickness of the base film layer within the above range, the antistatic film can be made thin.
  • the thickness of the intermediate layer is preferably 5 ⁇ m or more and 30 ⁇ m or less, and the total thickness of the first surface layer and the second surface layer is 5 ⁇ m.
  • the thickness is preferably 20 ⁇ m or less.
  • the ratio of the thickness of the intermediate layer to the total thickness of the first surface layer and the second surface layer ⁇ (the thickness of the intermediate layer) / (the total thickness of the first surface layer and the second surface layer) ⁇ is the production stability. In view of the above, 1 to 3 is preferable. In addition, the variation in the thickness of the intermediate layer is preferably within ⁇ 2.0 ⁇ m over the entire surface because the image display property of the liquid crystal display device can be improved.
  • the base film layer can be manufactured, for example, by molding a thermoplastic resin into a film shape.
  • a heat melt molding method, a solution casting method, or the like can be used.
  • the hot melt molding method can be classified into, for example, a melt extrusion molding method, a press molding method, an inflation method, an injection molding method, a blow molding method, and a stretch molding method.
  • a melt extrusion method in order to obtain a base film layer having excellent mechanical strength and surface accuracy, it is preferable to use a melt extrusion method.
  • a base film layer having a multilayer structure including a first surface layer, an intermediate layer, and a second surface layer is composed of a thermoplastic resin for forming the first surface layer and a thermoplastic resin for forming the intermediate layer.
  • a thermoplastic resin for forming the second surface layer can be produced by co-extrusion from a die.
  • the coextrusion T-die method is preferable. Examples of the coextrusion T-die method include a feed block method and a multi-manifold method.
  • the melting temperature of the thermoplastic resin in the extruder having a T-die is preferably Tg + 80 ° C. or higher, more preferably Tg + 100 ° C. or higher, preferably Tg + 180 ° C. or lower, more preferably Tg + 150 ° C. or lower. is there.
  • Tg indicates the glass transition temperature of the thermoplastic resin, and is included in the first surface layer and the second surface layer when the base film layer includes the first surface layer, the intermediate layer, and the second surface layer. It shows the glass transition temperature of the thermoplastic resin.
  • the fluidity of the thermoplastic resin can be sufficiently increased, and by setting the melting temperature or less to the upper limit value or less, deterioration of the thermoplastic resin can be suppressed.
  • the temperature of the thermoplastic resin in the extruder is Tg to (Tg + 100) ° C. at the resin inlet, (Tg + 50) to (Tg + 170) ° C. at the extruder outlet, and the die temperature is (Tg + 50) ° C. (Tg + 170) ° C. is preferred.
  • the manufacturing method of the base film layer may include a step of subjecting the film obtained by the above-described forming method to a stretching process. By performing the stretching treatment, the base film layer can exhibit optical properties such as retardation.
  • the stretching treatment can be performed by any method depending on the retardation to be developed in the base film layer.
  • a uniaxial stretching process that performs a stretching process only in one direction may be performed, or a biaxial stretching process that performs a stretching process in two different directions may be performed.
  • a simultaneous biaxial stretching process in which stretching processes are performed simultaneously in two directions may be performed, and a sequential biaxial stretching process in which a stretching process is performed in one direction and then a stretching process is performed in another direction. May be performed.
  • the stretching process includes a longitudinal stretching process for stretching in the film longitudinal direction, a transverse stretching process for stretching in the film width direction, and an oblique stretching process for stretching in an oblique direction that is neither parallel nor perpendicular to the film width direction. Any of these may be performed, and these may be performed in combination.
  • Examples of the stretching method include a roll method, a float method, and a tenter method.
  • the base film layer is a film that can function as a quarter-wave plate
  • the oblique stretching treatment is preferable among the stretching treatments.
  • an antistatic film provided with a base film layer as a quarter-wave plate and a polarizer are used together, usually, the transmission axis of the polarizer and the slow axis of the base film layer are parallel to each other. Bonding is performed so as to intersect at a predetermined angle that is neither vertical nor vertical.
  • the transmission axis of a long polarizer is generally parallel or perpendicular to the longitudinal direction.
  • the antistatic film is used for the lamination. Therefore, it is possible to perform efficient bonding by a roll-to-roll method.
  • JP-A-50-83482 JP-A-2-113920, JP-A-3-182701, JP-A-2000-9912, and JP-A-2002-86554.
  • a method described in JP-A-2002-22944 can be used.
  • Examples of the stretching machine that can be used for the oblique stretching process include a tenter stretching machine.
  • the tenter stretching machine includes a horizontal uniaxial stretching machine, a simultaneous biaxial stretching machine, and the like, and among them, one that can continuously stretch a long film obliquely is preferable.
  • the stretching temperature is preferably Tg-30 ° C or higher, more preferably Tg-10 ° C or higher, preferably Tg + 60 ° C or lower, more preferably, based on the glass transition temperature Tg of the thermoplastic resin contained in the base film layer. Is Tg + 50 ° C. or lower.
  • the draw ratio is preferably 1.01 to 30 times, preferably 1.01 to 10 times, more preferably 1.01 to 5 times.
  • the surface of the base film layer may be subjected to a surface treatment as necessary.
  • a surface treatment such as plasma treatment, corona treatment, alkali treatment, coating treatment, etc., in order to improve adhesion to the antistatic layer. May be.
  • corona treatment is preferable.
  • the dose of corona discharge electrons during the corona treatment is preferably 1 W / m 2 / min to 1000 W / m 2 / min.
  • the water contact angle of the surface of the base film layer subjected to such corona treatment is preferably 10 ° to 50 °. The water contact angle can be measured according to JIS R3257 ⁇ / 2 method.
  • the antistatic layer is a layer provided on the base film layer and includes conductive metal oxide particles.
  • the antistatic layer may be provided indirectly on the base film layer via an arbitrary layer, but is usually provided directly in contact with the surface of the base film layer.
  • the metal oxide particles are usually aggregated so as to be linked in a chain to form a chain linked body, and a conductive path is formed by the chain linked body. Therefore, the antistatic film can exhibit an antistatic function.
  • Metal oxide particles examples of the metal oxide contained in the metal oxide particles include tin oxide; tin oxide doped with antimony, fluorine or phosphorus; indium oxide; indium oxide doped with antimony, tin or fluorine; antimony oxide; Examples include titanium oxide. In particular, tin oxide doped with antimony and indium oxide doped with antimony are preferable. Moreover, these may be used individually by 1 type and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
  • the average particle diameter of the metal oxide particles is preferably 2 nm or more, more preferably 4 nm or more, particularly preferably 5 nm or more, preferably 50 nm or less, more preferably 40 nm or less, and particularly preferably 10 nm or less.
  • the average particle diameter of the metal oxide particles is less likely to be aggregated in a granular form, so that the metal oxide particles are easily aggregated so as to be connected in a chain.
  • the haze of an antistatic layer can be made small by making it into an upper limit or less, the transparency of an antistatic layer can be improved.
  • metal oxide particles can be easily connected in a chain.
  • the average particle diameter of the particles indicates a particle diameter at which the scattering intensity is maximum when it is assumed that the particle size distribution measured by the laser diffraction method shows a normal distribution.
  • the metal oxide particles are preferably those obtained by treating the surface of the particles with a hydrolyzable organosilicon compound.
  • the surface of the particle body made of the metal oxide is usually modified with a hydrolyzate of an organosilicon compound. Therefore, hereinafter, the treatment of the surface of the metal oxide particles with the hydrolyzable organosilicon compound may be referred to as “modification treatment”.
  • modification treatment metal oxide particles whose particle surfaces are treated with a hydrolyzable organosilicon compound may be referred to as “modified particles”. By performing such modification treatment, the chain connection of the metal oxide particles can be strengthened, and the dispersibility of the metal oxide particles can be improved.
  • Examples of the hydrolyzable organosilicon compound include an organosilicon compound represented by the following formula (1).
  • R 1 a Si (OR 2 ) 4-a (1) (In the formula (1), R 1 and R 2 are each independently a group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and an organic group having 1 to 10 carbon atoms. A represents an integer of 0 to 3.)
  • preferred examples of R 1 include a vinyl group, an acrylic group, and an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
  • preferred examples of R 2 include a hydrogen atom, a vinyl group, an aryl group, an acrylic group, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, —CH 2 OC n H 2n + 1 (n is 1 Represents an integer of 4 to 4).
  • an organosilicon compound in which “a” is 0 or 1 is preferable.
  • the tetrafunctional organosilicon compound in which “a” is 0 in the formula (1) is effective in maintaining the connection of the metal oxide particles.
  • the trifunctional organosilicon compound in which “a” is 1 in the formula (1) is effective in improving the dispersibility of the chain-connected metal oxide particles in the antistatic agent.
  • the trifunctional or higher functional organosilicon compound in which “a” is 0 or 1 in the formula (1) usually has a high hydrolysis rate.
  • the organosilicon compound represented by the formula (1) a tetrafunctional organosilicon compound in which “a” is 0 and a trifunctional organosilicon compound in which “a” is 1 are used in combination. preferable.
  • the molar ratio of the tetrafunctional organosilicon compound to the trifunctional organosilicon compound is preferably 20/80 or more, more Preferably it is 30/70 or more, preferably 80/20 or less, more preferably 70/30.
  • the metal oxide particles can be efficiently linked in a chain form. Can do.
  • the metal oxide particles are firmly connected in a chain form. can do.
  • the connecting portion of the metal oxide particles has high activity, the tetrafunctional organosilicon compound having “a” of 0 is easily adsorbed to the connecting portion of the metal oxide particles.
  • tetrafunctional organosilicon compounds are easily hydrolyzed, hydrolysis proceeds simultaneously with the mixing of alcohol, and a large amount of Si—OH is produced.
  • the trifunctional organosilicon compound in which “a” is 1 has low solubility in water, and when mixed with alcohol, it dissolves in water and proceeds with hydrolysis. Therefore, it is considered that the trifunctional organosilicon compound reacts later with Si—OH of the tetrafunctional organosilicon compound that has been previously adsorbed and hydrolyzed on the connecting portion of the metal oxide particles. Therefore, when a tetrafunctional organosilicon compound and a trifunctional organosilicon compound are used in combination, the tetrafunctional organosilicon compound is not mixed with the aqueous dispersion of metal oxide particles at the same time. After mixing the organosilicon compound with an aqueous dispersion of metal oxide particles, it is preferable to mix an alcohol and a trifunctional organosilicon compound.
  • hydrolyzable organosilicon compounds include tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane and tetraethoxysilane; methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltripropoxysilane, and ethyltrimethoxysilane.
  • modified particles metal oxide particles whose particle surfaces are treated with a hydrolyzable organosilicon compound
  • the modified particles are produced in the state of a dispersion.
  • an aqueous dispersion of metal oxide particles to be processed is prepared.
  • the concentration of the metal oxide particles in the aqueous dispersion is preferably 1% by weight or more, more preferably 10% by weight or more, and preferably 40% by weight or less.
  • the pH of the aqueous dispersion is preferably adjusted to 2 or more, more preferably 2.5 or more, and preferably 5 or less, more preferably 4 or less.
  • the pH of the aqueous dispersion is preferably adjusted to 2 or more, more preferably 2.5 or more, and preferably 5 or less, more preferably 4 or less.
  • Examples of the method for adjusting the pH include an ion exchange treatment method using an ion exchange resin, a method of mixing an acid, and the like.
  • the ion exchange resin an H-type cation exchange resin is preferable.
  • the pH of the aqueous dispersion can be shifted to acidic by ion exchange treatment. Further, if the pH is not sufficiently lowered only by the ion exchange resin treatment, an acid may be mixed in the aqueous dispersion as necessary.
  • deionization treatment is also performed during the ion exchange treatment, so that the metal oxide particles are easily aligned in a chain shape.
  • the solid content concentration of the aqueous dispersion after pH adjustment is preferably 10% by weight or more, more preferably 15% by weight or more, and preferably 40% by weight or less, more preferably 35% by weight or less. adjust.
  • the viscosity of the aqueous dispersion of metal oxide particles can be lowered, and mixing by stirring can be sufficiently advanced. Therefore, the hydrolyzable organosilicon compound can be uniformly adsorbed on the metal oxide particles.
  • aqueous dispersion of metal oxide particles prepared as described above and a hydrolyzable organosilicon compound are mixed.
  • hydrolyzable organosilicon compound examples include compounds represented by the above formula (1).
  • the amount of the hydrolyzable organosilicon compound can be appropriately set according to factors such as the type of the organosilicon compound and the particle diameter of the metal oxide particles.
  • the weight ratio of the metal oxide particles to the hydrolyzable organosilicon compound (organosilicon compound / metal oxide particles) is preferably 0.01 or more, more preferably 0.02 or more, preferably 0.5. Below, more preferably 0.3 or less. When two or more types of organosilicon compounds are used, it is preferable that the total amount of the organosilicon compounds satisfies the weight ratio range.
  • the weight ratio By making the weight ratio equal to or higher than the lower limit of the above range, it is possible to suppress the disconnection of chain-connected metal oxide particles in the antistatic agent, and thus an antistatic film having an excellent antistatic function. Is obtained.
  • the dispersibility of the metal oxide particles in the antistatic agent can be improved, the viscosity of the antistatic agent can be lowered, and the antistatic agent can be improved in stability over time. Can be lowered.
  • the weight ratio below the upper limit of the above range it is possible to prevent the hydrolyzate layer of the organosilicon compound that modifies the surface of the metal oxide particles from being excessively thick, so that the surface resistance of the antistatic layer The value can be reduced.
  • a step of hydrolyzing a hydrolyzable organosilicon compound is performed by mixing an aqueous dispersion of metal oxide particles and an alcohol. This step is usually performed after the step of mixing the aqueous dispersion of metal oxide particles and the hydrolyzable organosilicon compound.
  • a tetrafunctional organosilicon compound and a trifunctional organosilicon compound are used in combination, after mixing the tetrafunctional organosilicon compound with an aqueous dispersion of metal oxide particles, It is preferable to mix alcohol with this aqueous dispersion.
  • the trifunctional organosilicon compound is mixed with the aqueous dispersion of metal oxide particles simultaneously with or after mixing the aqueous dispersion of metal oxide particles with the alcohol.
  • alcohol examples include methyl alcohol, ethyl alcohol, normal propyl alcohol, isopropyl alcohol, and butanol. These alcohols may be used alone or in combination of two or more in any ratio. Further, an organic solvent such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, or propylene glycol monoethyl ether may be used in combination with the alcohol.
  • an organic solvent such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, or propylene glycol monoethyl ether may be used in combination with the alcohol.
  • the amount of alcohol is preferably adjusted so that the solid content concentration of the aqueous dispersion of metal oxide particles after mixing with alcohol falls within a desired range.
  • the desired range of the solid content concentration of the aqueous dispersion is preferably 3% by weight or more, more preferably 5% by weight or more, preferably 30% by weight or less, more preferably 25% by weight or less.
  • the solid content concentration of the aqueous dispersion represents the concentration of the total solid content including the organosilicon compound.
  • the amount of the organosilicon compound can be obtained as an amount in terms of silica.
  • the temperature during hydrolysis is preferably 30 ° C or higher, more preferably 40 ° C or higher.
  • the upper limit of the temperature during hydrolysis is usually not more than the boiling point (approximately 100 ° C.) of the solvent used.
  • an acid may be mixed with the aqueous dispersion of metal oxide particles as a hydrolysis catalyst.
  • the acid include hydrochloric acid, nitric acid, acetic acid, and phosphoric acid.
  • an acid may be used individually by 1 type and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
  • a preferred specific example of the operation in hydrolyzing the organosilicon compound is as follows. First, a tetrafunctional organic silicon compound in which “a” is 0 in the formula (1) is mixed with an aqueous dispersion of metal oxide particles, and this aqueous dispersion and alcohol are mixed to obtain a tetrafunctional organic compound. Hydrolysis of the silicon compound is performed. Thereafter, the aqueous dispersion is cooled to room temperature and mixed with the alcohol again if necessary. Thereafter, the trifunctional organosilicon compound in which “a” is 1 in the formula (1) is mixed with the aqueous dispersion, and the temperature is raised to a temperature suitable for the hydrolysis described above for hydrolysis.
  • the chain connection of metal oxide particles can be maintained by the hydrolyzate of the tetrafunctional organosilicon compound. Furthermore, since the bonding of the hydrolyzate of the trifunctional organosilicon compound to the surface of the metal oxide particles is promoted, the dispersibility of the metal oxide particles can be improved.
  • the surface of the metal oxide particles can be modified with the hydrolyzate of the organosilicon compound to obtain modified particles.
  • the modified particles are obtained in the form of a dispersion dispersed in a solvent such as water.
  • the modified particle dispersion can be used as it is for the preparation of the antistatic agent, but may be subjected to a washing treatment or a deionization treatment as necessary.
  • a modified particle dispersion having excellent stability can be obtained.
  • This deionization treatment can be performed using, for example, an ion exchange resin such as a cation exchange resin, an anion exchange resin, or both ion exchange resins.
  • the cleaning treatment can be performed using, for example, an ultrafiltration membrane method.
  • the obtained dispersion of modified particles may be used after solvent replacement, if necessary.
  • solvent substitution dispersibility in the binder polymer and the polar solvent is improved. Therefore, the coating property of the antistatic agent can be improved. Therefore, the smoothness of the surface of the antistatic layer can be improved, and the appearance of defects such as streaks and unevenness in the antistatic layer can be suppressed. Further, the scratch resistance, transparency and adhesion of the antistatic layer can be improved, and the haze can be reduced. Moreover, the manufacturing reliability of the antistatic film can be improved.
  • the above-described conductive metal oxide particles are usually linked in a chain form in a dispersion or antistatic agent containing the metal oxide particles. And since such a connection is maintained also in the antistatic layer, a conductive path is formed in the antistatic layer by the connected metal oxide particles. Therefore, it is speculated that the antistatic layer can exhibit excellent antistatic properties.
  • the metal oxide particles are not aggregated in a granular form but are aggregated so as to be linked in a chain form, the metal oxide particles are difficult to form an aggregate that is large enough to cause visible light scattering. Therefore, it is speculated that it is possible to reduce the haze of the antistatic layer containing such metal oxide particles.
  • the present invention is not limited to the above estimation.
  • the average number of metal oxide particles connected is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, and particularly preferably 5 or more.
  • the antistatic performance of the antistatic layer can be enhanced by setting the average number of metal oxide particles connected to the lower limit value or more.
  • the upper limit of the average number of connections of the metal oxide particles is preferably 20 or less, more preferably 10 or less. By making the average number of metal oxide particles connected to the upper limit or less, chain-connected metal oxide particles can be easily produced.
  • the average number of connections of the metal oxide particles can be measured by the following method.
  • a photograph of the chain-like connected body of metal oxide particles is taken with a transmission electron microscope. From this photograph, the number of links in each chain linked body is determined for 100 chain linked bodies of metal oxide particles. And the average value of the connection number of each chain
  • the amount of the metal oxide particles is preferably 3% by weight or more, more preferably 5% by weight or more, particularly preferably 10% by weight or more, preferably 50% by weight or less, more preferably 30% by weight. % Or less, particularly preferably 20% by weight or less.
  • the antistatic layer usually contains a binder polymer in addition to the metal oxide particles. With the binder polymer, the metal oxide particles can be held in the antistatic layer.
  • the binder polymer a polymer having a structure obtained by polymerizing a polymerizable monomer containing 50% by weight or more of a compound having 3 or more (meth) acryloyl groups in one molecule is preferable.
  • a polymer having a structure obtained by polymerizing a polymerizable monomer containing 50% by weight or more of a compound having 3 or more (meth) acryloyl groups in one molecule is preferable.
  • the surface resistance value of the antistatic layer can be effectively reduced.
  • Examples of the compound having three or more (meth) acryloyl groups in one molecule include pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta ( And (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate.
  • the compound which has 3 or more (meth) acryloyl groups in 1 molecule may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
  • a combination of pentaerythritol tri (meth) acrylate and pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate These combinations may be used as a polymerizable monomer for obtaining a binder polymer.
  • a polymerizable monomer containing a total of 80% by weight or more of a compound having four (meth) acryloyl groups in one molecule, a compound having five, and a compound having six. is preferably used.
  • any monomer compound may be used in combination with a compound having three or more (meth) acryloyl groups in one molecule as described above.
  • Examples of such an arbitrary monomer compound include trifunctional (meth) acrylates such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate and pentaerythritol tri (meth) acrylate; ethylene glycol diacrylate and ethylene glycol dimethacrylate Polyfunctional unsaturated monomers such as diethylene glycol dimethacrylate, allyl methacrylate, diallyl phthalate, trimethylolpropane triacrylate, glyceryl diallyl ether, polyethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate; bisphenoxyethanol full orange acrylate, 2 -Propenoic acid [5,5 '-(9-fluorene-9-ylidene) bis (1,1'-biphenyl)
  • the surface resistance value of the prevention layer can be effectively reduced.
  • the compound having a carboxyl group and a polymerizable carbon-carbon double bond include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, fumaric acid, itaconic acid, muconic acid, and a half of maleic anhydride and monoalcohol.
  • Esters Compounds in which a part of hydroxyl groups in acrylates having hydroxyl groups such as dipentaerythritol pentaacrylate and pentaerythritol triacrylate are added to the carbon-carbon double bond of acrylic acid; dipentaerythritol pentaacrylate and pentaerythritol tris And a compound obtained by reacting a hydroxyl group in an acrylate having a hydroxyl group such as acrylate with a dicarboxylic acid or carboxylic anhydride. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.
  • the acid value of the polymerizable monomer containing 50% by weight or more of a compound having 3 or more (meth) acryloyl groups in one molecule is preferably 0.01 mgKOH / g to 0.5 mgKOH / g.
  • the acid value of the polymerizable monomer is determined according to JIS K 0070 (Test method for acid value, saponification value, ester value, iodine value, hydroxyl value, and unsaponified product of chemical products), and bromothymol blue is used as an indicator. It can be measured.
  • the amount of the binder polymer is preferably 50% by weight or more, more preferably 60% by weight or more, particularly preferably 70% by weight or more, preferably 95% by weight or less, more preferably 90% by weight. It is as follows. By making the amount of the binder polymer within the above range, the adhesion between the antistatic layer and the base film layer can be improved, and the dispersibility of the metal oxide particles in the antistatic layer can be improved. it can. In addition, the thickness of the antistatic layer can be made uniform.
  • the antistatic layer may contain an optional component other than the metal oxide particles and the binder polymer as long as the effects of the present invention are not significantly impaired.
  • arbitrary components may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
  • the antistatic layer can be formed by coating an antistatic agent containing metal oxide particles on the substrate film layer.
  • the antistatic agent is usually in a fluid state at the time of coating, after applying the antistatic agent on the base film layer, a step of curing the coated antistatic agent film is performed.
  • a polymer obtained by polymerizing a polymerizable monomer containing 50% by weight or more of a compound having 3 or more (meth) acryloyl groups in one molecule is used as a binder weight.
  • a preferred method for producing the antistatic layer contained as a combination will be described.
  • an antistatic agent is first prepared.
  • this antistatic agent in this example, a material containing metal oxide particles and a polymerizable monomer for obtaining a binder polymer is used.
  • the polymerizable monomer a polymerizable monomer containing 50% by weight or more of a compound having 3 or more (meth) acryloyl groups in one molecule is used.
  • the polymerizable monomer can be polymerized by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays.
  • the antistatic agent preferably contains a photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator include benzoin derivatives, benzyl ketals, ⁇ -hydroxyacetophenones, ⁇ -aminoacetophenones, acylphosphine oxides, o-acyloximes and the like.
  • Examples of commercially available photopolymerization initiators include combinations of benzophenone / amine, Michler ketone / benzophenone, thioxanthone / amine, etc. (trade names: Irgacure, Darocur, etc., manufactured by Ciba Geigy).
  • a photoinitiator may be used individually by 1 type and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
  • the amount of the photopolymerization initiator is preferably 1 part by weight or more, more preferably 2 parts by weight or more, particularly preferably 3 parts by weight or more, preferably 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymerizable monomer. Hereinafter, it is more preferably 10 parts by weight or less, particularly preferably 5 parts by weight or less.
  • the antistatic agent can contain a solvent.
  • the solvent is preferably one that can dissolve the polymerizable monomer and can easily volatilize.
  • solvents include water; alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, isopropanol, diacetone alcohol, furfuryl alcohol, tetrahydrofurfuryl alcohol, ethylene glycol, hexylene glycol, and isopropyl glycol; methyl acetate Esters such as esters and acetic acid ethyl esters; ethers such as diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether and tetrahydrofuran; acetone , Methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone,
  • hydrophilic solvents are preferable.
  • moisture in the air is adsorbed in the step of drying the antistatic agent, so that formation of a conductive path can be promoted and antistatic performance can be improved.
  • a mixed solvent of ethanol, methanol and 2-propanol also referred to as IPA or isopropanol is preferable.
  • diacetone alcohol cyclohexanone and acetylacetone are preferable because they have a high boiling point and improve the flatness of the coated antistatic agent film after drying.
  • the metal oxide particles are prepared in the form of a dispersion containing water, it is preferable to use a water-soluble solvent as a solvent for the antistatic agent.
  • the amount of the solvent is preferably set so that the solid content concentration of the antistatic agent is within a desired range.
  • the solid content concentration of the antistatic agent is preferably 10% by weight or more, more preferably 20% by weight or more, particularly preferably 30% by weight or more, preferably 70% by weight or less, more preferably 55% by weight. It is as follows.
  • the thickness of the antistatic layer can be easily kept in an appropriate range, and an antistatic layer having sufficient antistatic performance can be easily produced.
  • the haze of the antistatic layer can be lowered, the transparency of the antistatic film can be improved.
  • the crack of an antistatic layer and the curvature of a base film layer can be normally suppressed.
  • the viscosity of the antistatic agent can be lowered, the coating property of the antistatic agent can be improved. Therefore, the flatness of the surface of the antistatic layer can be improved and the occurrence of streak unevenness can be suppressed.
  • the antistatic agent may contain any component that the antistatic layer can contain.
  • the antistatic agent can be obtained by mixing each component contained in the antistatic agent with an appropriate mixing device.
  • the mixing device include a homomixer.
  • this antistatic agent is applied onto the base film layer to form a film of the antistatic agent on the base film layer. Then, if necessary, after removing the solvent from the antistatic agent film by drying, the antistatic agent film is cured by irradiating active energy rays such as ultraviolet rays to polymerize the polymerizable monomer. To obtain an antistatic layer.
  • Examples of the coating method include a bar coating method, a slot coating method, a spin coating method, a roll coating method, a curtain coating method, a die coating method, and a screen printing method.
  • the specific relative humidity during the coating is preferably 40% RH or more, more preferably 45% RH or more, still more preferably 50% RH or more, particularly preferably 52% RH or more, preferably 65%. RH or less, more preferably 60% RH or less, still more preferably 58% RH or less, and particularly preferably 57% RH or less.
  • the relative humidity of the environment at the time of coating is set to be equal to or higher than the lower limit of the above range, discharge due to charging of the base film layer and coating unevenness due to uneven charging can be suppressed. Further, by setting the relative humidity of the environment at the time of coating below the upper limit of the above range, excessive aggregation of the metal oxide particles can be suppressed, so that tearing of the antistatic layer and uneven haze can be suppressed.
  • the significance of setting the relative humidity of the environment at the time of coating to be equal to or lower than the upper limit of the above range will be specifically described.
  • the volatilization of the solvent immediately after application removes heat from the substrate by the amount of heat of vaporization of the solvent, resulting in a surface of the paint film. Condensation may occur. Such a phenomenon is called “brushing”, and the portion where the brushing occurs may be whitened.
  • the antistatic layer contacts the outside air not only on the upper surface of the antistatic agent film but also on the end surface. Therefore, in the vicinity of the end portion of the antistatic agent film, the antistatic agent film has a large area and touches the outside air to start cooling quickly. Therefore, the antistatic agent film easily cools and dew condensation easily occurs. Therefore, in the vicinity of the end portion of the film of the antistatic layer, the antistatic layer is particularly easily broken and haze uneven due to the effect of the brushing.
  • the relative humidity of the environment during coating is less than or equal to the upper limit of the above range, the occurrence of brushing as described above is suppressed. Therefore, tearing of the antistatic layer and uneven haze can be easily suppressed in the entire layer including the vicinity of the end portion of the antistatic layer.
  • the relative humidity of the environment at the time of coating below the upper limit of the above range, by suppressing aggregation of conductive particles due to brushing, by suppressing tearing of the antistatic layer and uneven haze It is significant in that a uniform antistatic layer can be realized.
  • the solvent is removed from the antistatic agent film by drying as necessary.
  • the temperature and pressure at the time of drying can be appropriately set according to conditions such as the type of material of the antistatic layer, the type of solvent, and the thickness of the antistatic layer.
  • the active energy ray is irradiated to the film of the antistatic agent.
  • the polymerizable monomer is polymerized and the film of the antistatic agent is cured, an antistatic layer containing metal oxide particles and a binder polymer is obtained.
  • Irradiation conditions such as the wavelength of the active energy ray and the irradiation amount can be appropriately set according to conditions such as the type of the material of the antistatic layer and the thickness of the antistatic layer.
  • the antistatic layer may have a multilayer structure including two or more layers, but preferably has a single-layer structure consisting of only one layer.
  • the antistatic layer has a single layer structure, the total light transmittance of the antistatic layer can be increased, the production of the antistatic layer can be facilitated, and the thickness of the antistatic film can be reduced.
  • the thickness of the antistatic layer is preferably 0.8 ⁇ m or more, more preferably 1.0 ⁇ m or more, particularly preferably 1.5 ⁇ m or more, preferably 10.0 ⁇ m or less, more preferably 8 ⁇ m or less, and even more preferably 6 ⁇ m or less. Particularly preferably, it is 4.0 ⁇ m or less.
  • the thickness of the antistatic layer can be measured with an interference film thickness meter ("F20 film thickness measurement system" manufactured by Filmetrics).
  • the ratio of the thickness of the antistatic layer to the thickness of the base film layer is preferably 1/50 or more, more preferably 1/25 or more, and particularly preferably 1/12 or more. Yes, preferably 3/10 or less, more preferably 1/5 or less, and particularly preferably 3/25 or less.
  • the surface resistance value of the antistatic layer is usually 1.0 ⁇ 10 6 ⁇ / ⁇ or more, preferably 1.0 ⁇ 10 7 ⁇ / ⁇ or more, more preferably 1.0 ⁇ 10 8 ⁇ / ⁇ or more, Usually, it is 1.0 ⁇ 10 10 ⁇ / ⁇ or less, preferably 5.0 ⁇ 10 9 ⁇ / ⁇ or less, more preferably 1.0 ⁇ 10 9 ⁇ / ⁇ or less.
  • the antistatic layer has such a surface resistance value, the antistatic property of the antistatic film can be enhanced.
  • the antistatic film when the antistatic film is incorporated into a liquid crystal display device including an in-cell type touch panel, occurrence of unevenness in liquid crystal driving due to charging during operation of the touch panel can be suppressed.
  • the antistatic layer when the antistatic layer is electrically connected to the liquid crystal cell of the liquid crystal display device, it is possible to effectively suppress the charging of the liquid crystal cell and further improve the stability of image display.
  • the surface resistance value can be measured using a digital super insulation / micro ammeter (“DSM-8104” manufactured by Hioki Electric Co., Ltd.) in accordance with JIS K6911.
  • the image clarity (DOI: Standard ASTM E430) of the surface of the antistatic layer is usually 90 or more, preferably 92 or more, more preferably 94 or more, and usually 100 or less.
  • the surface of the antistatic layer refers specifically to the surface of the antistatic layer on the side opposite to the base film layer. Since the surface of the antistatic layer has such image clarity, it is possible to suppress the embossed shape of the surface of the antistatic layer from being emphasized, so that the image visibility of a liquid crystal display device equipped with an antistatic film can be improved. Can be good.
  • the above-mentioned measurement of image clarity can be performed based on the standard of ASTM E430. Specifically, using a measuring device such as Gardner WaveScan II (BYK), the sample is irradiated with LED light at an incident angle of 60 °, and the image sharpness is detected from the intensity profile detected at a reflection angle of 60 °. (DOI) can be calculated.
  • a measuring device such as Gardner WaveScan II (BYK)
  • DOI intensity profile detected at a reflection angle of 60 °.
  • Examples of a method for keeping the image clarity of the surface of the antistatic layer within the above range include, for example, a method of smoothing the surface of the base film layer on the side on which the antistatic layer is formed; Smoothing the surface of the substrate film surface; smoothing the surface of the masking film in contact with the substrate film; smoothing the surface of the masking film opposite to the contact surface with the substrate film And a method of smoothing the surface of the antistatic layer.
  • the refractive index of the antistatic layer is preferably 1.500 or more, more preferably 1.510 or more, further preferably 1.515 or more, particularly preferably 1.520 or more, preferably 1.550 or less, more preferably. Is 1.540 or less.
  • the refractive index of the antistatic layer is preferably set so that the difference in refractive index between the antistatic layer and the base film layer is within a predetermined range.
  • the refractive index difference is preferably 0.030 or less, more preferably 0.025 or less, particularly preferably 0.020 or less, and ideally zero.
  • the refractive index of the antistatic layer and the base film layer is a value measured at a wavelength of 407 nm, a wavelength of 532 nm, and a wavelength of 633 nm with a refractive index film thickness measuring device (“Prism coupler” manufactured by Metricon). It is a numerical value at a wavelength of 550 nm, which was originally obtained by performing Cauchy fitting.
  • the refractive index difference can be obtained as an absolute value of the difference between the refractive index of the base film layer and the refractive index of the antistatic layer.
  • the average refractive index of the layer can be adopted as a measured value of the refractive index of the layer.
  • the refractive index of the base film layer has anisotropy.
  • the average value of the refractive index (ns) in the stretching direction, the refractive index (nf) in the in-plane direction perpendicular to the stretching direction, and the refractive index (nz) in the thickness direction is determined by the base film layer. It can be adopted as a measured value of refractive index.
  • the water contact angle on the surface of the antistatic layer is preferably 70 ° to 90 °.
  • the water contact angle on the surface of the antistatic layer is within this range, it is possible to suppress repellency of the adhesive when the antistatic film is bonded to an arbitrary member with the adhesive. Therefore, for example, when the space between the polarizing plate provided with the antistatic film and the touch panel is filled with an interlayer adhesive during the manufacture of the liquid crystal display device, repelling between the interlayer adhesive and the polarizing plate can be suppressed. Therefore, the workability at the time of bonding can be improved, and the bonding strength by the adhesive can be increased.
  • the water contact angle can be measured in accordance with JIS R3257 ⁇ / 2 method.
  • the surface free energy of the antistatic layer is preferably 23 mJ / m 2 or more, more preferably 24 mJ / m 2 or more, preferably 27mJ / m 2 or less, more preferably 26 mJ / cm 2 or less.
  • the surface free energy of the antistatic layer can be calculated by measuring the contact angle of hexadecane and the contact angle of water on the surface of the antistatic layer and using the Owens-Wendt analysis theory from the measured contact angle data.
  • the above analysis theory reference may be made to “DK Owens, RC Wendt, J. Appl. Polym. Sci., 13, 1741, (1969)”.
  • the JIS pencil hardness of the antistatic layer is preferably B or more, more preferably HB or more, and particularly preferably H or more.
  • the antistatic layer can function as a hard coat layer, so that the antistatic film can be improved in scratch resistance.
  • the JIS pencil hardness is determined by tilting a pencil of various hardness by 45 °, applying a load of 500 g from above, scratching the surface of the layer, and starting scratching. Hardness.
  • the surface condition after reciprocation is visually observed, and a load in which no scratch is recognized is obtained.
  • the load in which no scratch is observed is preferably 10 gf or more, more preferably 50 gf or more, and particularly preferably 100 gf or more.
  • the antistatic layer is preferably exposed on the outermost surface of the antistatic film.
  • the masking film is a film bonded to the base film layer in order to protect the base film layer containing the alicyclic structure-containing polymer. Therefore, in the antistatic film, the surface of the masking film on the base film layer side is usually in contact with the surface of the base film layer on the side opposite to the antistatic layer. In the present invention, since the base film layer containing the alicyclic structure-containing polymer is used, when the concavo-convex shape is formed on the surface of the masking film, the concavo-convex shape is formed on the base film when bonded. Easy to be transcribed.
  • the masking film has a surface in contact with the base film layer and a surface on the side opposite to the base film, but the surface on the side opposite to the base film layer is wound into a roll shape. Since it contacts a base film layer through an air interface, the influence of unevenness formation by transfer onto the surface of the base film layer is small.
  • the concavo-convex shape of the surface directly in contact with the base film layer has a greater effect on the concavo-convex formation by transfer to the surface of the base film layer than the concavo-convex shape on the surface opposite to the base film layer of the masking film. give.
  • the arithmetic average roughness Ra of the surface of the masking film in contact with the base film layer and the average interval Sm between the irregularities satisfy the following formulas (i) and (ii).
  • the arithmetic average roughness Ra is preferably less than 0.08 ⁇ m, more preferably 0.045 ⁇ m or less, and particularly preferably 0.025 ⁇ m or less.
  • the average interval Sm between the irregularities is preferably larger than 0.6 mm, more preferably 0.8 mm or more, particularly preferably 0.9 mm or more, and preferably 2.0 mm or less.
  • the arithmetic average roughness Ra and the average interval Sm between the projections and depressions can be measured with an optical interference type roughness meter.
  • NewView series manufactured by Zygo
  • Wyko series manufactured by Beiko Japan
  • VertScan series manufactured by Ryoka System
  • the base film layer containing the alicyclic structure-containing polymer and the masking film are bonded together, wound up in a roll shape, After storage for a period of time, the formation of uneven shapes on the surface of the base film layer can be suppressed. Therefore, when an antistatic layer is formed on the surface of the base film layer, the image clarity on the surface of the antistatic layer can be kept within the desired range described above. Therefore, in the liquid crystal display device including the antistatic film including the antistatic layer, it is possible to effectively improve the visibility of the image.
  • the masking film is preferably a film provided with a support film layer and an adhesive layer. Such a masking film is usually bonded to the base film layer on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer opposite to the support film layer.
  • Examples of the material for the support film layer of the masking film include polyethylene terephthalate film, polyolefin, polyester, acrylic, and triacetyl cellulose. Moreover, these may be used individually by 1 type and may be used combining two or more types by arbitrary ratios. Among these, polyester is preferable from the viewpoints of surface smoothness, heat resistance, and transparency.
  • the polyester is not particularly limited, and for example, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polytriethylene terephthalate, and the like can be suitably used.
  • the thickness of the support film layer of the masking film varies depending on the thickness and required quality of the base film layer of the antistatic film, but is preferably 10 ⁇ m or more, more preferably 15 ⁇ m or more, preferably 100 ⁇ m or less, more preferably 50 ⁇ m or less. It is.
  • the thickness of the support film layer By setting the thickness of the support film layer to be equal to or greater than the lower limit of the above range, it is possible to suppress the occurrence of wrinkles due to the disorder of the appearance of the masking film roll.
  • the thickness of a support film layer below the upper limit of the said range, peeling of the masking film from a base film layer can be suppressed, or film winding can be performed easily.
  • the masking film adhesive layer includes an adhesive layer formed by coating and a self-adhesive layer formed by co-extrusion, but it is formed by coating from the viewpoint of expanding the choice of support film layer.
  • An adhesive layer is preferred.
  • examples of the pressure-sensitive adhesive as the material for the pressure-sensitive adhesive layer include rubber-based pressure-sensitive adhesives, acrylic pressure-sensitive adhesives, polyvinyl ether-based pressure-sensitive adhesives, urethane-based pressure-sensitive adhesives, and silicone-based pressure-sensitive adhesives.
  • an adhesive may be used individually by 1 type and may be used combining two or more types by arbitrary ratios. Among these, acrylic pressure-sensitive adhesives are preferable from the viewpoints of heat resistance and productivity.
  • the thickness of the adhesive layer of the masking film is preferably 2.0 ⁇ m or more, more preferably 5.0 ⁇ m or more, preferably 20.0 ⁇ m or less, more preferably 15.0 ⁇ m or less. Since the adhesive force of the adhesive layer can be increased by setting the thickness of the adhesive layer to be equal to or greater than the lower limit of the above range, the masking film can be prevented from floating and peeling off. Moreover, the adhesive residue at the time of peeling a masking film from a base film layer can be suppressed by making the thickness of an adhesion layer below into the upper limit of the said range.
  • adheresive residue refers to a phenomenon in which the adhesive remains on the base film layer after the masking film is peeled off.
  • the number of defects of the masking film is preferably 5 / m 2 or less, more preferably 1 / m 2 or less.
  • the defect of a masking film means the defect which can be confirmed visually, such as the fish eye of a support film layer, a buried foreign material, the fish eye of an adhesion layer, and an adhering foreign material.
  • the haze of the masking film is preferably 6% or less, more preferably 4% or less, still more preferably 3% or less, and particularly preferably 1% or less.
  • the number of foreign matters having a major axis of 100 ⁇ m or more between the masking film and the base film layer is preferably 1 / m 2 or less. Such foreign matters can be generated from the uneven structure of the base film layer, and so-called “air spots” can be detected as foreign matters.
  • the masking film may be manufactured with a configuration in which a separator is used on the adhesive surface for the purpose of preventing the entry of foreign substances and the purpose of suppressing winding wrinkles. In that case, it is common to perform a mold release treatment on the separator for the purpose of reducing the peeling force between the adhesive surface and the separator and suppressing the peeling charge.
  • silicone release agents such as polydimethylsiloxane, fluorine release agents such as alkyl fluoride, long chain alkyl release agents, and the like are used.
  • silicone-based mold release agents are preferably used because of their good mold release properties and processability.
  • the amount of Si on the surface of the masking film is preferably not more than a predetermined amount.
  • the amount of Si on the surface of the masking film can be measured by X-ray photoelectron spectroscopy or fluorescent X-ray.
  • the amount of Si on the surface of the masking film is preferably 1.0 atm% or less when measured by X-ray photoelectron spectroscopy, and is preferably 0.3 kcps or less when measured by fluorescent X-ray.
  • the antistatic film can be provided with an arbitrary layer in combination with the base film layer, the antistatic layer and the masking film.
  • the antistatic film may have an antireflection layer on the antistatic layer.
  • the antistatic film may be provided with an easy adhesion layer on the surface of the base film layer opposite to the antistatic layer.
  • the haze value of the antistatic film is preferably 0.3% or less, more preferably 0.2% or less, still more preferably 0.1% or less, and particularly preferably 0.05% or less.
  • the haze value of the antistatic film can be measured using a haze meter (“Haze Guard II” manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.) in accordance with JIS K7136.
  • the transmission hue L * of the antistatic film is preferably 94.0 or more, more preferably 94.5 or more, still more preferably 94.7 or more, particularly preferably 95.0 or more, preferably 97.0 or less, More preferably, it is 96.5 or less, More preferably, it is 96.3 or less, Most preferably, it is 96.0 or less.
  • the transmitted hue L * is a coordinate L * in the L * a * b * color system.
  • the transmitted hue L * of the antistatic film can be measured using a C light source with a spectrophotometer (“V-7200” manufactured by JASCO Corporation).
  • the total light transmittance of the antistatic film is preferably 85% or more, more preferably 86% or more, and particularly preferably 88% or more.
  • the total light transmittance of the antistatic film can be measured in the wavelength range of 380 nm to 780 nm using an ultraviolet / visible spectrometer.
  • the antistatic film may be a long film or a single film.
  • the antistatic film is produced as a long film, wound up in a roll shape, and transported and stored.
  • the sheet antistatic film is usually produced by cutting a long antistatic film into a desired shape.
  • the antistatic film can be produced by a production method including a step of forming an antistatic layer on the base film layer.
  • an antistatic film provided with a masking film can be manufactured by the manufacturing method including the process of forming an antistatic layer on a base film layer, and the process of bonding a masking film on a base film layer.
  • the step of bonding the masking film to the base film layer may be performed before or after the step of forming the antistatic layer on the base film layer.
  • a long antistatic film provided with a masking film is a step of bonding a masking film to a base film layer to obtain a multilayer film; a step of winding this multilayer film into a roll; a rolled roll And a step of forming an antistatic layer on the opposite side of the base film layer of the unwound multilayer film from the masking film.
  • the base film layer is stored as a layer contained in a multilayer film wound up in a roll shape, unwound after storage, and used for the formation process of the antistatic layer. During the period of being wound and stored in a roll shape, an uneven shape is easily formed on the surface of the base film layer depending on the pressure between the stacked multilayer films.
  • the winding tension is preferably 50 N / m or more, more preferably 70 N / m or more, particularly preferably 90 N / m or more, preferably 250 N / m or less, more preferably 200 N / m.
  • it is particularly preferably 180 N / m or less.
  • the touch pressure is preferably 0.05 MPa or more, more preferably 0.07 MPa or more, further preferably 0.10 MPa or more, preferably 1.5 MPa or less, more preferably 1.0 MPa or less. More preferably, it is 0.7 MPa or less.
  • the multilayer film By making the touch pressure of the multilayer film above the lower limit value of the range, the multilayer film can be stably wound up, and by making the touch pressure below the upper limit value of the range, on the surface of the base film layer As a result, it is easy to keep the image clarity of the antistatic layer within the predetermined range.
  • the antistatic film manufactured by the above-described manufacturing method is wound into a roll and stored and transported.
  • the antistatic film is unwound from the roll, the masking film is peeled off from the base film layer, and the surface of the base film layer opposite to the antistatic layer is exposed.
  • an optical member such as a polarizer.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a polarizing plate 200 according to an embodiment of the present invention.
  • the polarizing plate 200 can be obtained by using the antistatic film 100 described above as a polarizing plate protective film.
  • Such a polarizing plate 200 uses the above-described antistatic film 100 as a polarizing plate protective film, and includes a polarizer 210 and an antistatic film 100.
  • the antistatic layer 120 is exposed on the outermost surface of the polarizing plate 200 from the viewpoint of utilizing the high hardness of the antistatic layer 120 and from the viewpoint of easily grounding the antistatic layer 120 in the liquid crystal display device. It is preferable.
  • the polarizing plate 200 may include an optional polarizing plate protective film 220 separately from the antistatic film 100 as necessary.
  • a polarizing plate 200 including an arbitrary polarizing plate protective film 220, a polarizer 210, a base film layer 110, and an antistatic layer 120 in this order is shown as an example.
  • Any polarizer can be used.
  • a polarizer what is obtained by carrying out an extending
  • the antistatic film is usually provided so that the base film layer is closer to the polarizer than the antistatic layer.
  • the slow axis of the base film layer of the antistatic film is a predetermined angle with respect to the transmission axis of the polarizer. It is preferable to arrange so as to form ⁇ .
  • the angle ⁇ is preferably 40 ° or more, more preferably 43 ° or more, preferably 50 ° or less, more preferably 48 ° or less, and particularly preferably 45 ° ⁇ 1 °. An angle within the range.
  • a liquid crystal display device including such a polarizing plate
  • linearly polarized light transmitted through the liquid crystal cell and the polarizer can be converted into circularly polarized light or elliptically polarized light by the antistatic film. Therefore, since an image can be displayed with circularly polarized light or elliptically polarized light, the display content can be made visible even when the user of the liquid crystal display device wears polarized sunglasses.
  • an optically isotropic isotropic film may be used, or a retardation film having a desired retardation may be used.
  • the retardation film exhibits an optical compensation function to improve the viewing angle dependency and compensate for the light leakage phenomenon of the polarizer when obliquely viewed. The viewing angle characteristics can be improved.
  • a retardation film for example, a longitudinal uniaxially stretched film, a laterally uniaxially stretched film, a longitudinally and laterally biaxially stretched film, a retardation film obtained by polymerizing a liquid crystalline compound, and the like can be used.
  • the retardation film include a uniaxially or biaxially stretched thermoplastic resin film made of a thermoplastic resin such as a cycloolefin resin.
  • thermoplastic resin films include “Zeonor Film” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., “Essina” and “SCA40” manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., and “Arton Film” manufactured by JSR.
  • the polarizer, the antistatic film and the polarizing plate protective film may be bonded together by an adhesive and integrated. Moreover, the polarizer, the antistatic film, and the polarizing plate protective film may be directly bonded together by a processing method such as plasma processing on the member surface.
  • any adhesive can be used, for example, rubber-based, fluorine-based, acrylic-based, polyvinyl alcohol-based, polyurethane-based, silicone-based, polyester-based, polyamide-based, polyether-based, epoxy-based adhesives, etc. Can be used. Moreover, these adhesives may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
  • an ultraviolet curable adhesive layer such as an acrylic adhesive layer is provided between the polarizer and the antistatic film, and the polarizer and the antistatic film are connected by the ultraviolet curable adhesive layer. It is preferable to bond them together.
  • the thickness of the adhesive layer is preferably 0.1 ⁇ m or more and 2.0 ⁇ m or less.
  • the polarizing plate can be manufactured by a manufacturing method including a step of bonding a polarizer and an antistatic film.
  • the polarizing plate is preferably produced as a long polarizing plate using a long polarizer and a long antistatic film.
  • Such a manufacturing method can be performed by a roll-to-roll method.
  • a method of cutting out the polarizing plate for example, methods such as laser cutting, die cutting, and cutting can be used.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a liquid crystal display device 300 according to an embodiment of the present invention.
  • the above-described antistatic film 100 can be used by being provided in a liquid crystal display device 300.
  • a liquid crystal display device 300 includes a liquid crystal cell 310 and a polarizing plate 200 including the polarizer 210 and the antistatic film 100 described above.
  • the polarizing plate 200 including the polarizer 210 and the antistatic film 100 is provided on the viewing side of the liquid crystal cell 310, and the antistatic film 100 is provided on the viewing side of the polarizer 210.
  • FIG. 3 shows an example of a liquid crystal display device 300 including an arbitrary polarizing plate 320, a liquid crystal cell 310, an arbitrary polarizing plate protective film 220, a polarizer 210, a base film layer 110, and an antistatic layer 120 in this order. .
  • an arbitrary polarizing plate 320 the example provided with the polarizing plate protective film 330, the polarizer 340, and the polarizing plate protective film 350 in this order is shown.
  • the antistatic film Since the antistatic film has an excellent antistatic property by being provided with the antistatic layer, the drive control of the liquid crystal molecules of the liquid crystal cell can be stabilized. Further, since the image clarity of the surface of the antistatic layer is within a predetermined range, the image visibility can be improved. Furthermore, since the base film layer of the antistatic film is made of a thermoplastic resin containing an alicyclic structure-containing polymer, it is heat resistant compared to a conventional liquid crystal display device having a polarizing plate protective film made of a material such as triacetyl cellulose. Property and moisture resistance can be improved.
  • the above-mentioned antistatic film is usually excellent in transparency, the sharpness of the image can be improved. Furthermore, since such an antistatic film does not require the use of a water-based adhesive at the time of bonding, it is possible to suppress deterioration in quality in a durability test under high temperature and high humidity.
  • the base film layer of the antistatic film contains an ultraviolet absorber, the liquid crystal cell is separated from the ultraviolet rays that are exposed when the liquid crystal display device is manufactured and the ultraviolet rays that are exposed when the liquid crystal display device is used. In addition, components such as a polarizer can be protected.
  • the liquid crystal cell an arbitrary one such as a TN method, a VA method, an IPS method or the like can be used.
  • the IPS liquid crystal cell is preferable because the display color of the liquid crystal display does not change when the viewing angle changes. Therefore, the above-described antistatic film is preferably provided in an IPS liquid crystal display device.
  • the liquid crystal display device when used as a touch panel sensor, it is preferable to use an in-cell type liquid crystal cell in order to reduce the thickness of the entire liquid crystal display device. Since the in-cell type liquid crystal cell tends to be easily charged, the advantage of applying the above-described antistatic film can be utilized particularly effectively.
  • the liquid crystal cell and the antistatic layer of the antistatic film are preferably electrically connected.
  • the liquid crystal cell and the antistatic layer of the antistatic film are electrically connected by an electrode (see the extraction electrode 360 in FIG. 3), and the liquid crystal cell and the antistatic layer are electrically connected. Is preferred.
  • the charge stored in the liquid crystal cell can be released to the antistatic layer and charging of the liquid crystal cell can be suppressed, so that the drive control of the liquid crystal molecules in the liquid crystal cell can be effectively stabilized.
  • the antistatic layer is preferably grounded by being electrically connected to an arbitrary conductive member provided in the liquid crystal display device.
  • the antistatic layer and the optional conductive member are usually connected by a conductive wire.
  • This conductive wire is usually fixed to the surface of the antistatic layer by a conductive adhesive material such as silver paste, carbon tape, metal tape or the like. Therefore, it is preferable that the grounding process for electrically connecting the antistatic layer and any conductive member is performed in a state where the surface of the antistatic layer is exposed from the viewpoint of efficiently performing the grounding process.
  • the conducting wire connecting the antistatic layer and any conductive member may be connected to the antistatic layer at one place on the surface of the antistatic layer, and the antistatic layer may be connected to the antistatic layer at several places on the surface of the antistatic layer. It may be connected.
  • any conductive member is preferably 1.0 ⁇ 10 6 ⁇ m or less, more preferably 1.0 ⁇ 10 3 ⁇ m or less, still more preferably 1.0 ⁇ m or less, and particularly preferably 1. 0 ⁇ 10 ⁇ 3 ⁇ m or less.
  • the material of such an arbitrary conductive member include silicon; carbon; metal such as iron, aluminum, copper, gold, and silver; alloy such as nichrome;
  • members such as a liquid crystal cell and a polarizing plate included in the liquid crystal display device may be bonded together with an adhesive as necessary.
  • the adhesive include urethane adhesives, acrylic adhesives, polyester adhesives, epoxy adhesives, vinyl acetate adhesives, vinyl chloride vinyl acetate copolymers, and cellulose adhesives.
  • the thickness of the adhesive layer is preferably 10 ⁇ m to 25 ⁇ m.
  • the thickness of the base film layer was measured with a contact-type film thickness meter (“Dial Gauge” manufactured by Mitutoyo Corporation). The thickness of each layer included in the base film layer was calculated by embedding the base film layer with an epoxy resin, slicing it to a thickness of 0.05 ⁇ m using a microtome, performing cross-sectional observation using a microscope.
  • the in-plane retardation Re and the orientation angle of the base film layer at a wavelength of 550 nm were measured by Axoscan (“Axoscan” manufactured by Axiometric).
  • the arithmetic average roughness Ra of the masking film and the average distance Sm between the projections and depressions are measured using an interference type surface roughness measuring device (“NewView 7300” manufactured by Zygo) on the side of the masking film in contact with the base film layer.
  • the measurement was performed by measuring the surface (adhesive surface side) in the MD direction.
  • the measurement was performed under the condition of an objective lens having a magnification of 1.0.
  • the haze value of the masking film was measured using a haze meter (“Haze Guard II” manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.) in accordance with JIS K7136. The measurement of the haze value was performed by entering light from the support film layer side. It was.
  • the antistatic film was cut into a 10 cm ⁇ 10 cm square to obtain a sample film.
  • the surface resistance value on the surface of the sample film on the antistatic layer side was measured using a digital super insulation / microammeter (“DSM-8104” manufactured by Hioki Electric Co., Ltd.) in accordance with JIS K6911.
  • the thickness of the antistatic layer was measured with an interference film thickness meter (“F20 film thickness measurement system” manufactured by Filmetrics).
  • the haze value of the antistatic film was measured using a haze meter (“Haze Guard II” manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.) in accordance with JIS K7136.
  • the refractive indexes of the base film layer and the antistatic layer were measured at a wavelength of 407 nm, a wavelength of 532 nm, and a wavelength of 633 nm using a refractive index film thickness measuring device (“Prism coupler” manufactured by Metricon).
  • the base film layer is a stretched film, from the refractive index in the stretching direction (ns), the refractive index in the in-plane direction perpendicular to the stretching direction (nf), and the refractive index in the thickness direction (nz), (ns + nf + nz) /
  • the average refractive index of the base film layer was calculated by the formula 3, and this average refractive index was adopted as a measured value of the refractive index of the base film layer.
  • the refractive index (nz) in the thickness direction was approximated and calculated to be equal to the refractive index (nf) in the in-plane direction perpendicular to the stretching direction.
  • the refractive index in the longitudinal direction was adopted as a measured value of the refractive index of the antistatic layer. Based on this measured value, Cauchy fitting was performed, and the refractive indexes of the base film layer and the antistatic layer at a wavelength of 550 nm were calculated. The absolute value of the calculated refractive index difference was calculated and used as the refractive index difference.
  • a mixed solution was prepared by dissolving 130 g of potassium stannate and 30 g of antimonyl potassium tartrate in 400 g of pure water.
  • An aqueous solution in which 1.0 g of ammonium nitrate and 12 g of 15% ammonia water were dissolved in 1000 g of pure water was prepared. While stirring this aqueous solution at 60 ° C., the above mixed solution was added to this aqueous solution over 12 hours for hydrolysis. At this time, a 10% nitric acid solution was simultaneously added to the aqueous solution so as to keep the aqueous solution at pH 9.0. Hydrolysis produced a precipitate in the aqueous solution.
  • the produced precipitate was washed by filtration and then dispersed again in water to prepare a dispersion of a hydroxide of an Sb-doped tin oxide precursor having a solid content concentration of 20% by weight.
  • This dispersion was spray-dried at a temperature of 100 ° C. to obtain a powder.
  • the obtained powder was heat-treated at 550 ° C. for 2 hours in an air atmosphere to obtain an antimony-doped tin oxide powder.
  • this powder was dispersed in 140 parts of an aqueous potassium hydroxide solution having a concentration of 4.3% by weight to obtain an aqueous dispersion.
  • the aqueous dispersion was pulverized with a sand mill for 3 hours while maintaining at 30 ° C. to prepare a sol.
  • this sol was subjected to dealkalization ion treatment with an ion exchange resin until the pH reached 3.0.
  • pure water was added to the sol to prepare a particle dispersion containing antimony-doped tin oxide particles at a solid content concentration of 20% by weight.
  • the pH of this particle dispersion was 3.3.
  • the average particle size of the particles was 9 nm.
  • the dispersion liquid which contains the particle
  • the metal oxide particles (P1) were linked in a chain form by aggregating a plurality. At this time, the average number of connected metal oxide particles (P1) was five.
  • Example 1 (1-1. Production of antistatic agent) Dipentaerythritol hexaacrylate (hereinafter sometimes abbreviated as “DP6A”), dipentaerythritol pentaacrylate (hereinafter sometimes abbreviated as “DP5A”) and dipentaerythritol tetraacrylate (hereinafter “DP4A”).
  • a mixture (PE3A / PE4A) of 222 parts by weight of isophorone diisocyanate, pentaerythritol triacrylate (hereinafter sometimes abbreviated as “PE3A”) and pentaerythritol tetraacrylate (hereinafter sometimes abbreviated as “PE4A”). 75/25 (weight ratio)) 795 parts by weight of polyfunctional urethane acrylate (U1) which is a urethane-reactive acrylate was prepared. The concentration of the solid content of this polyfunctional urethane acrylate (U1) was 100%.
  • thermoplastic resin (COP1) containing a dried alicyclic structure-containing polymer manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., glass transition temperature: 123 ° C.
  • LA-31 benzotriazole-based ultraviolet absorber
  • ADEKA benzotriazole-based ultraviolet absorber
  • thermoplastic resin (J1) was charged into a hopper charged in the single screw extruder. Then, this thermoplastic resin (J1) was melted, and the molten thermoplastic resin (J1) was supplied to the multi-manifold die at an outlet temperature of the extruder of 280 ° C. and a rotation speed of the gear pump of the extruder of 10 rpm. The arithmetic surface roughness Ra of the die slip of this multi-manifold die was 0.1 ⁇ m.
  • thermoplastic resin (COP1) containing an alicyclic structure-containing polymer similar to that used in the production of the thermoplastic resin (J1) was charged into a hopper charged in the single screw extruder.
  • the thermoplastic resin (COP1) was melted, and the molten thermoplastic resin (COP1) was supplied to the multi-manifold die at an exit temperature of the extruder of 285 ° C. and a rotation speed of the gear pump of the extruder of 4 rpm.
  • a molten thermoplastic resin (COP1), a molten thermoplastic resin (J1) containing an ultraviolet absorber, and a molten thermoplastic resin (COP1) are each discharged from a multi-manifold die at 280 ° C., 150
  • the film was cast on a cooling roll whose temperature was adjusted to 0 ° C. to obtain a film before stretching.
  • the air gap amount was set to 50 mm.
  • edge pinning was adopted as a method of casting the discharged resin to a cooling roll.
  • the obtained unstretched film has an 8.5 ⁇ m thick resin layer made of a thermoplastic resin (COP1), an 18 ⁇ m thick resin layer made of a thermoplastic resin (J1) containing an ultraviolet absorber, and a thermoplastic resin (COP1). ) And a resin layer having a thickness of 8.5 ⁇ m in this order. Moreover, the width
  • the film before stretching is stretched as a base film layer by stretching it in an oblique direction that is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction of the film before stretching under the conditions of a stretching temperature of 140 ° C. and a stretching speed of 20 m / min. A film was obtained.
  • the obtained multilayer film includes a 6.0 ⁇ m-thick first surface layer made of a thermoplastic resin (COP1), a 13.0 ⁇ m-thick intermediate layer made of a thermoplastic resin (J1) containing an ultraviolet absorber, and a heat
  • COP1 thermoplastic resin
  • J1 thermoplastic resin
  • a base film layer having a 6.0 ⁇ m thick second surface layer made of a plastic resin (COP1); and a masking film having a thickness of 52 ⁇ m were provided in this order.
  • the multilayer film wound up in a roll shape was stored in a wound state for 24 hours. Then, the multilayer film was pulled out from the roll, and a corona treatment (output 0.4 kW, discharge amount 200 W ⁇ min / m 2 ) was applied to the surface of the base film layer opposite to the masking film 1.
  • the antistatic agent (A1) is applied to the surface subjected to the corona treatment using a die coater so that the thickness of the antistatic layer obtained after curing is 3.0 ⁇ m. A film of A1) was formed.
  • the antistatic agent (A1) was applied in an environment with a relative humidity of 50%.
  • the film of the antistatic agent (A1) was dried at 60 ° C. for 2 minutes, and then cured by irradiation with 250 mJ / cm 2 of light with a high-pressure mercury lamp to obtain an antistatic layer.
  • the antistatic film provided with the masking film 1, the base film layer, and the antistatic layer in this order was obtained.
  • the obtained antistatic film was wound into a roll with a winding tension of 200N.
  • the antistatic layer and the antistatic film thus obtained were evaluated by the method described above.
  • a polarizer was prepared by doping a resin film with iodine and stretching it in one direction. Further, the antistatic film was pulled out from the roll of the antistatic film, the masking film 1 was peeled off, and the surface of the base film layer opposite to the antistatic layer was exposed. Then, the exposed surface of the base film layer and one surface of the polarizer were bonded together with an ultraviolet curable acrylic adhesive. At this time, the slow axis of the base film layer was at an angle of 45 ° with respect to the transmission axis of the polarizer.
  • a cycloolefin film subjected to lateral uniaxial stretching was bonded as a polarizing plate protective film with an ultraviolet curable acrylic adhesive.
  • the slow axis of the cycloolefin film was parallel to the transmission axis of the polarizer.
  • the polarizing plate is provided with a polarizing plate protective film, an adhesive layer, a polarizer, an adhesive layer, a base film layer and an antistatic layer in this order in the thickness direction by irradiating ultraviolet rays to cure the adhesive.
  • a liquid crystal display device was manufactured by incorporating the polarizing plate into a liquid crystal panel including an in-cell type liquid crystal cell including a touch sensor. At this time, the orientation of the polarizing plate was set so that the surface on the antistatic layer side was directed to the viewing side.
  • the image visibility of the manufactured liquid crystal display device was evaluated by the method described above. As a result of the evaluation, when the display surface of the liquid crystal display device was viewed through polarized sunglasses, the color did not change, the image did not blur, and the image could be visually recognized.
  • the stability of the liquid crystal drive of the manufactured liquid crystal display device was evaluated by the method described above. As a result of the evaluation, when the touch panel of the liquid crystal display device was operated, an image could be visually recognized without causing disturbance of liquid crystal driving, and therefore, it was determined as “3”.
  • Example 2 In the step (1-3), the thickness of the antistatic layer was changed to 1.2 ⁇ m by adjusting the coating thickness of the antistatic agent (A1). Except for the above items, the production and evaluation of an antistatic film and the production and evaluation of a liquid crystal display device were carried out in the same manner as in Example 1. In Example 2, in the evaluation of the stability of the liquid crystal drive of the liquid crystal display device, slight unevenness was observed in the liquid crystal drive due to charging, but there was no practical damage.
  • Example 3 In the step (1-3), the thickness of the antistatic layer was changed to 11.0 ⁇ m by adjusting the coating thickness of the antistatic agent (A1). Except for the above items, the production and evaluation of an antistatic film and the production and evaluation of a liquid crystal display device were carried out in the same manner as in Example 1. In Example 3, as the haze value increased, the image of the liquid crystal display device was slightly blurred and the visibility of the liquid crystal display device was slightly worse than in Example 1, but there was no actual harm in use. there were.
  • Example 4 In the step (1-1), the amount of the dispersion of the metal oxide particles (P1) produced in Production Example 1 was changed to 5.0 parts by weight. Except for the above items, the production and evaluation of an antistatic film and the production and evaluation of a liquid crystal display device were carried out in the same manner as in Example 1. In Example 4, compared with Example 1, the refractive index of the antistatic layer is lowered due to the reduced density of the metal oxide particles (P1), and the refractive index of the base film layer and the antistatic layer is reduced. Since the difference became large and interference unevenness occurred, the image of the liquid crystal display device was slightly uneven in color, and the visibility of the liquid crystal display device was slightly deteriorated. Moreover, slight unevenness was observed in the liquid crystal drive due to the increased surface resistance value. However, the image visibility and the stability of the liquid crystal drive were such that there was no actual damage in use.
  • Example 5 In the step (1-1), the amount of the dispersion of the metal oxide particles (P1) produced in Production Example 1 was changed to 100.0 parts by weight. Except for the above items, the production and evaluation of an antistatic film and the production and evaluation of a liquid crystal display device were carried out in the same manner as in Example 1. In Example 5, compared with Example 1, the refractive index of the antistatic layer is increased by increasing the density of the metal oxide particles (P1), and the refractive index of the base film layer and the antistatic layer is increased. Since the difference became large and interference unevenness occurred, the color of the image of the liquid crystal display device was slightly uneven, and the visibility of the liquid crystal display device was slightly deteriorated, but there was no practical harm in use.
  • the masking film 1 was changed to the masking film 2.
  • Example 6 compared with Example 1, since the surface roughness of the masking film was increased, the image clarity (DOI) of the antistatic layer was lowered. For this reason, display unevenness occurs in the image of the liquid crystal display device, and the visibility of the liquid crystal display device is slightly deteriorated, but there is no practical harm in use.
  • DOI image clarity
  • Example 7 In the step (1-2), the stretching temperature of the film before stretching was changed to 143 ° C. Except for the above items, the production and evaluation of an antistatic film and the production and evaluation of a liquid crystal display device were carried out in the same manner as in Example 1. In this Example 7, since the in-plane retardation of the base film layer was lowered as compared with Example 1, when the installation position of the liquid crystal display device was changed, a slight color change was observed. Although the visibility of the device was slightly deteriorated, there was no actual damage in use.
  • Example 8 In the step (1-2), the thickness of the film before stretching was changed to 70 ⁇ m by adjusting the rotation speed of the gear pump when producing the film before stretching, and the stretching temperature of the film before stretching was changed to 147 ° C. . Except for the above items, the production and evaluation of an antistatic film and the production and evaluation of a liquid crystal display device were carried out in the same manner as in Example 1. In this Example 8, since the in-plane retardation of the base film layer increased compared to Example 1, when the installation position of the liquid crystal display device was changed, a slight color change was observed. Although the visibility of the device was slightly deteriorated, there was no actual damage in use.
  • Example 2 Except for the above items, the production and evaluation of an antistatic film and the production and evaluation of a liquid crystal display device were carried out in the same manner as in Example 1.
  • Comparative Example 2 compared with Example 1, the surface roughness of the masking film was increased, and the image definition (DOI) was significantly reduced. As a result, large display unevenness occurs in the image of the liquid crystal display device, resulting in an actual operation failure.
  • DOI image definition
  • the antistatic films produced in the examples all have high antistatic properties since the surface resistance value of the antistatic layer is small.
  • the antistatic films produced in the examples all have high image sharpness and good appearance.
  • a liquid crystal display device provided with the antistatic film manufactured in these Examples is excellent in both image visibility and liquid crystal drive stability. Therefore, according to the present invention, it is confirmed that both the image visibility of the liquid crystal display device and the stability of the liquid crystal drive can be improved, so that the image quality of the liquid crystal display device can be effectively improved.

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Abstract

脂環式構造を含有する重合体を含む熱可塑性樹脂からなる基材フィルム層と、前記基材フィルム層上に設けられ導電性を有する金属酸化物粒子を含む帯電防止層と、を備える、帯電防止フィルムであって、前記帯電防止層の表面抵抗値が、1.0×10Ω/□以上1.0×1010Ω/□以下であり、前記帯電防止層の表面の画像鮮明性が、90以上である、帯電防止フィルム。

Description

帯電防止フィルム及びその製造方法、偏光板並びに液晶表示装置
 本発明は、帯電防止フィルム及びその製造方法、偏光板並びに液晶表示装置に関する。
 脂環式構造を含有する重合体を含む光学フィルムは、透明性及び耐熱性に優れるという理由から、従来から液晶表示装置用の偏光板保護フィルムの基材フィルム層として用いられてきた(特許文献1)。また、偏光板保護フィルムには、液晶表示装置の静電気を除去するために、導電性を有する帯電防止層を形成することが提案されている(特許文献2)。さらに、製造時、運搬時及び保管時の透明性の低下、汚染及び傷を抑制するために、偏光板保護フィルムにはマスキングフィルムが貼り合わせられることがあった(特許文献3)。
特開2006-30870号公報 特開2014-112184号公報 特開2011-112945号公報
 脂環式構造を含有する重合体を含む光学フィルムは、一般に、弾性率が低く柔らかである。そのため、前記の光学フィルムは、マスキングフィルムを貼り合わせてロール状にした状態である程度の期間、保存していると、光学フィルム表面に凹凸形状が形成されることがある。例えば、表面に凹凸形状が形成されたマスキングフィルムを用いた場合、ロール状に巻き取った時の圧力によってマスキングフィルムの凹凸形状が光学フィルムに転写され、光学フィルム表面に凹凸形状が形成されることがある。
 このように凹凸形状が形成された光学フィルムの表面に帯電防止層を形成すると、この帯電防止層にも凹凸形状が形成され易い。また、帯電防止層に形成された凹凸形状は、その凹凸形状が強調される傾向がある。そして、このような凹凸形状が形成された帯電防止層を備えた偏光板保護フィルムを液晶表示装置に設けると、この液晶表示装置の外観評価が低くなり、視認性が劣る可能性がある。
 本発明は前記の課題に鑑みて創案されたもので、画像の視認性を良好にできる帯電防止フィルム及びその製造方法;画像の視認性を良好にできる帯電防止フィルムを備えた偏光板;並びに、帯電防止フィルムを備え、視認性の良好な画像を表示できる液晶表示装置;を提供することを目的とする。
 本発明者は前記の課題を解決するべく鋭意検討した結果、脂環式構造を含有する重合体を含む熱可塑性樹脂からなる基材フィルム層と導電性を有する金属酸化物粒子を含む帯電防止層とを備える帯電防止フィルムであって、所定範囲の表面抵抗値及び表面の画像鮮明性を有する帯電防止層を備えるものが、液晶表示装置に設けられた場合に画像の視認性を良好にできることを見い出し、本発明を完成させた。
 すなわち、本発明は下記の通りである。
 〔1〕 脂環式構造を含有する重合体を含む熱可塑性樹脂からなる基材フィルム層と、前記基材フィルム層上に設けられ導電性を有する金属酸化物粒子を含む帯電防止層と、を備える、帯電防止フィルムであって、
 前記帯電防止層の表面抵抗値が、1.0×10Ω/□以上1.0×1010Ω/□以下であり、
 前記帯電防止層の表面の画像鮮明性が、90以上である、帯電防止フィルム。
 〔2〕 前記帯電防止層とは反対側の前記基材フィルム層の面に、マスキングフィルムを備える、〔1〕記載の帯電防止フィルム。
 〔3〕 前記マスキングフィルムが、前記基材フィルム層側の面で前記基材フィルム層に接していて、
 前記基材フィルム層に接する前記マスキングフィルムの面の算術平均粗さRa及び凹凸間の平均間隔Smが、下記式(i)及び式(ii)を満たす、〔2〕記載の帯電防止フィルム。
 Ra<0.08μm 式(i)
 Sm>0.6mm  式(ii)
 〔4〕 前記基材フィルム層が、第一表面層、中間層及び第二表面層をこの順に備え、
 前記中間層が、紫外線吸収剤を含み、
 前記基材フィルム層の厚みが、10μm以上60μm以下であり、
 前記基材フィルム層の波長380nmにおける光線透過率が、10%以下である、〔1〕~〔3〕のいずれか1項に記載の帯電防止フィルム。
 〔5〕 前記帯電防止層が、単層構造を有し、
 前記帯電防止層の厚みが、0.8μm~10.0μmである、〔1〕~〔4〕のいずれか1項に記載の帯電防止フィルム。
 〔6〕 前記帯電防止層と前記基材フィルム層との屈折率差が、0.03以下である、〔1〕~〔5〕のいずれか1項に記載の帯電防止フィルム。
 〔7〕 前記帯電防止フィルムのヘイズ値が、0.3%以下である、〔1〕~〔6〕のいずれか1項に記載の帯電防止フィルム。
 〔8〕 ロール状に巻き取られた長尺のフィルムである、〔1〕~〔7〕のいずれか1項に記載の帯電防止フィルム。
 〔9〕 前記基材フィルム層の波長550nmにおける面内レターデーションが、80nm~180nmであり、且つ、
 前記基材フィルム層の遅相軸が、前記基材フィルム層の長手方向に対して、45°±5°の角度をなす、〔8〕記載の帯電防止フィルム。
 〔10〕 〔1〕~〔9〕のいずれか1項に記載の帯電防止フィルムを備える、偏光板。
 〔11〕 液晶セルと、〔10〕記載の偏光板とを備えた、液晶表示装置。
 〔12〕 前記液晶セルと、前記帯電防止フィルムの前記帯電防止層とが、導通されている、〔11〕に記載の液晶表示装置。
 〔13〕 前記液晶表示装置がIPS方式である、〔11〕又は〔12〕に記載の液晶表示装置。
 〔14〕 脂環式構造を含有する重合体を含む熱可塑性樹脂からなる基材フィルム層に、マスキングフィルムを貼り合わせて、複層フィルムを得る工程、
 前記複層フィルムをロール状に巻き取る工程、
 巻き取られたロール状の前記複層フィルムを巻き出す工程、及び、
 巻き出された前記複層フィルムの前記基材フィルム層の、前記マスキングフィルムとは反対側に、導電性を有する金属酸化物粒子を含む帯電防止層を形成する工程、を含む帯電防止層の製造方法であって、
 前記帯電防止層の表面抵抗値が、1.0×10Ω/□以上1.0×1010Ω/□以下であり、
 前記帯電防止層の表面の画像鮮明性が、90以上である、帯電防止フィルムの製造方法。
 〔15〕 前記基材フィルム層に接する前記マスキングフィルムの面の算術平均粗さRa及び凹凸間の平均間隔Smが、下記式(i)及び式(ii)を満たす、〔14〕に記載の帯電防止フィルムの製造方法。
 Ra<0.08μm 式(i)
 Sm>0.6mm  式(ii)
 〔16〕 前記複層フィルムをロール状に巻き取る工程において、ゴムロールを前記複層フィルム表面に、タッチ圧が0.05MPa以上、1.5MPa以下の条件で接触させ、巻き取り張力が50N/m以上、250N/m以下の条件で、前記マスキングフィルムが外側になるように巻き取る、〔14〕又は〔15〕に記載の帯電防止フィルムの製造方法。
 本発明によれば、画像の視認性を良好にできる帯電防止フィルム及びその製造方法;画像の視認性を良好にできる帯電防止フィルムを備えた偏光板;並びに、帯電防止フィルムを備え、視認性の良好な画像を表示できる液晶表示装置;を提供できる。
図1は、本発明の一実施形態に係る帯電防止フィルムを模式的に示す断面図である。 図2は、本発明の一実施形態に係る偏光板を模式的に示す断面図である。 図3は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を模式的に示す断面図である。
 以下、本発明について実施形態及び例示物を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
 以下の説明において、「長尺」のフィルムとは、幅に対して、通常5倍以上の長さを有するフィルムをいい、好ましくは10倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するフィルムをいう。長尺のフィルムの長さの上限は、特に制限は無く、例えば、幅に対して10万倍以下としうる。
 以下の説明において、フィルムの面内レターデーションReは、別に断らない限り、Re=(nx-ny)×dで表される値である。また、フィルムの厚み方向のレターデーションRthは、別に断らない限り、Rth={(nx+ny)/2-nz}×dで表される値である。ここで、nxは、フィルムの厚み方向に垂直な方向(面内方向)であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表す。nyは、フィルムの前記面内方向であってnxの方向に直交する方向の屈折率を表す。nzは、フィルムの厚み方向の屈折率を表す。dは、フィルムの厚みを表す。測定波長は、別に断らない限り、550nmである。
 以下の説明において、「(メタ)アクリレート」は「アクリレート」及び「メタクリレート」の両方を包含し、「(メタ)アクリロイル基」は「アクリロイル基」及び「メタクリロイル基」の両方を包含する。
 以下の説明において、要素の方向が「平行」、「垂直」及び「直交」とは、別に断らない限り、本発明の効果を損ねない範囲内、例えば±5°の範囲内での誤差を含んでいてもよい。
 以下の説明において、長尺のフィルムの長手方向は、通常は製造ラインにおけるフィルムのMD方向と平行である。
 以下の説明において、「偏光板」及び「1/4波長板」とは、別に断らない限り、剛直な部材だけでなく、例えば樹脂製のフィルムのように可撓性を有する部材も含む。
 以下の説明において、複数のフィルムを備える部材における各フィルムの光学軸(偏光子の透過軸、位相差フィルムの遅相軸等)がなす角度は、別に断らない限り、前記のフィルムを厚み方向から見たときの角度を表す。
 以下の説明において、フィルムの遅相軸とは、別に断らない限り、当該フィルムの面内における遅相軸を表す。
 以下の説明において、接着剤とは、別に断らない限り、狭義の接着剤のみならず、23℃における剪断貯蔵弾性率が1MPa未満である粘着剤をも包含する。ここで、狭義の接着剤とは、エネルギー線照射後、あるいは加熱処理後、23℃における剪断貯蔵弾性率が1MPa~500MPaである接着剤をいう。
 以下の説明において、ある液体の固形分とは、その液体の乾燥を経て残留する成分のことをいう。
[1.帯電防止フィルムの概要]
 図1は、本発明の一実施形態に係る帯電防止フィルム100を模式的に示す断面図である。図1に示すように、帯電防止フィルム100は、基材フィルム層110と、この基材フィルム層110上に設けられた帯電防止層120とを備える。この帯電防止層120は、所定範囲の表面抵抗値を有する。さらに、基材フィルム層110とは反対側の帯電防止層120の表面120Uの画像鮮明性は、所定値以上である。このような帯電防止フィルム100は、液晶表示装置に設けられた場合に、帯電を防止する作用を発揮でき、且つ、画像の視認性を良好にできる。
 また、帯電防止フィルム100は、必要に応じて、帯電防止層120とは反対側の基材フィルム層110の面110Dに、マスキングフィルム130を備えうる。マスキングフィルム130は、搬送時及び保存時の汚染及び傷を抑制するために設けられたものであり、通常、帯電防止フィルム100の使用時には剥離される。
[2.基材フィルム層]
 基材フィルム層は、脂環式構造を含有する重合体を含む熱可塑性樹脂からなる。脂環式構造を含有する重合体を、以下、適宜「脂環式構造含有重合体」ということがある。脂環式構造含有重合体は、その重合体の構造単位が脂環式構造を有する。脂環式構造含有重合体は、主鎖に脂環式構造を有していてもよく、側鎖に脂環式構造を有していてもよい。中でも、機械的強度及び耐熱性の観点から、主鎖に脂環式構造を含有する重合体が好ましい。
 脂環式構造としては、例えば、飽和脂環式炭化水素(シクロアルカン)構造、不飽和脂環式炭化水素(シクロアルケン、シクロアルキン)構造などが挙げられる。中でも、機械強度及び耐熱性の観点から、シクロアルカン構造及びシクロアルケン構造が好ましく、シクロアルカン構造が特に好ましい。
 脂環式構造を構成する炭素原子数は、一つの脂環式構造あたり、好ましくは4個以上、より好ましくは5個以上であり、好ましくは30個以下、より好ましくは20個以下、特に好ましくは15個以下の範囲である。脂環式構造を構成する炭素原子数をこの範囲にすることにより、当該脂環式構造含有重合体を含む熱可塑性樹脂の機械強度、耐熱性、及び成形性が高度にバランスされる。
 脂環式構造含有重合体において、脂環式構造を有する構造単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択しうる。脂環式構造含有重合体における脂環式構造を有する構造単位の割合は、好ましくは55重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。脂環式構造含有重合体における脂環式構造を有する構造単位の割合がこの範囲にあると、当該脂環式構造含有重合体を含む熱可塑性樹脂の透明性及び耐熱性が良好となる。
 脂環式構造含有重合体としては、例えば、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、及び、これらの水素添加物等が挙げられる。これらの中でも、ノルボルネン系重合体は、成形性が良好なため、特に好適である。また、脂環式構造を有する重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
 ノルボルネン系重合体としては、例えば、特開平3-14882号公報、特開平3-122137号公報、特開平4-63807号公報などに記載のものを用いうる。ノルボルネン系重合体の具体例としては、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体及びその水素添加物;ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体及びその水素添加物;並びに、これらの変性物が挙げられる。以下の説明において、ノルボルネン構造を有する単量体のことを、「ノルボルネン系単量体」ということがある。ノルボルネン系単量体の開環重合体の例としては、ノルボルネン構造を有する1種類の単量体の開環単独重合体、ノルボルネン構造を有する2種類以上の単量体の開環共重合体、並びに、ノルボルネン系単量体及びこれと共重合しうる任意の単量体との開環共重合体が挙げられる。さらに、ノルボルネン系単量体の付加重合体の例としては、ノルボルネン構造を有する1種類の単量体の付加単独重合体、ノルボルネン構造を有する2種類以上の単量体の付加共重合体、並びに、ノルボルネン系単量体及びこれと共重合しうる任意の単量体との付加共重合体が挙げられる。これらの中で、ノルボルネン系単量体の開環重合体の水素添加物は、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性及び軽量性の観点から、特に好適である。
 ノルボルネン系単量体としては、例えば、ノルボルネン;ノルボルネンのアルキル置換誘導体;ノルボルネンのアルキリデン置換誘導体;ノルボルネンの芳香族置換誘導体;並びに、これらの極性基置換体などが挙げられる。ここで極性基としては、例えば、ハロゲン、水酸基、エステル基、アルコキシ基、シアノ基、アミド基、イミド基、シリル基等が挙げられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。このようなノルボルネン系単量体の具体例としては、2-ノルボルネン、5-メチル-2-ノルボルネン、5,5-ジメチル-2-ノルボルネン、5-エチル-2-ノルボルネン、5-ブチル-2-ノルボルネン、5-エチリデン-2-ノルボルネン、5-メトキシカルボニル-2-ノルボルネン、5-シアノ-2-ノルボルネン、5-メチル-5-メトキシカルボニル-2-ノルボルネン、5-フェニル-2-ノルボルネン、5-フェニル-5-メチル-2-ノルボルネン、5-ヘキシル-2-ノルボエルネン、5-オクチル-2-ノルボルネン、5-オクタデシル-2-ノルボルネンなどが挙げられる。
 また、ノルボルネン系単量体としては、例えば、ノルボルネンに一つ以上のシクロペンタジエンが付加した単量体;この単量体のアルキル置換誘導体;この単量体のアルキリデン置換誘導体;この単量体の芳香族置換誘導体;並びに、これらの極性基置換体などが挙げられる。このようなノルボルネン系単量体の具体例としては、1,4:5,8-ジメタノ-1,2,3,4,4a,5,8,8a-2,3-シクロペンタジエノオクタヒドロナフタレン、6-メチル-1,4:5,8-ジメタノ-1,4,4a,5,6,7,8,8a-オクタヒドロナフタレン、1,4:5,10:6,9-トリメタノ-1,2,3,4,4a,5,5a,6,9,9a,10,10a-ドデカヒドロ-2,3-シクロペンタジエノアントラセンなどが挙げられる。
 さらに、ノルボルネン系単量体としては、例えば、シクロペンタジエンの多量体である多環構造の単量体;この単量体のアルキル置換誘導体;この単量体のアルキリデン置換誘導体;この単量体の芳香族置換誘導体;並びに、これらの極性基置換体などが挙げられる。このようなノルボルネン系単量体の具体例としては、ジシクロペンタジエン、2,3-ジヒドロジシクロペンタジエン等が挙げられる。
 また、ノルボルネン系単量体としては、例えば、シクロペンタジエンとテトラヒドロインデンとの付加物;この付加物のアルキル置換誘導体;この付加物のアルキリデン置換誘導体;この付加物の芳香族置換誘導体;並びに、これらの極性基置換体などが挙げられる。このようなノルボルネン系単量体の具体例としては、1,4-メタノ-1,4,4a,4b,5,8,8a,9a-オクタヒドロフルオレン、5,8-メタノ-1,2,3,4,4a,5,8,8a-オクタヒドロ-2,3-シクロペンタジエノナフタレンなどが挙げられる。
 ノルボルネン系単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
 ノルボルネン系重合体の中でも、構造単位として、X:ビシクロ[3.3.0]オクタン-2,4-ジイル-エチレン構造と、Y:トリシクロ[4.3.0.12,5]デカン-7,9-ジイル-エチレン構造とを有し、これらの構造単位の含有量が、ノルボルネン系重合体の構造単位全体に対して90重量%以上であり、かつ、Xの含有割合とYの含有割合との比が、X:Yの重量比で100:0~40:60であるものが好ましい。このような重合体を用いることにより、長期的に寸法変化がなく、光学特性の安定性に優れる基材フィルム層を得ることができる。
 Xの構造を構造単位として有する単量体としては、例えば、ノルボルネン環に五員環が結合した構造を有するノルボルネン系単量体を挙げることができる。その具体例としては、トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ-3,7-ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)及びその誘導体(環に置換基を有するもの)、7,8-ベンゾトリシクロ[4.3.0.12,5]デカ-3-エン(慣用名:メタノテトラヒドロフルオレン)、及びその誘導体を挙げることができる。また、Yの構造を構造単位として有する単量体としては、例えば、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]デカ-3,7-ジエン(慣用名:テトラシクロドデセン)及びその誘導体(環に置換基を有するもの)を挙げることができる。
 上述した単量体の重合は公知の方法で行いうる。また、必要に応じて、上述した単量体を任意の単量体と共重合したり、水素添加したりすることにより、所望の重合体を得てもよい。水素添加する場合、水素添加率は、耐熱劣化性及び耐光劣化性の観点から、90%以上、好ましくは95%以上、より好ましくは99%以上である。
 さらに、得られた重合体を、必要に応じて、例えば、α,β-不飽和カルボン酸及びその誘導体、スチレン系炭化水素、オレフィン系不飽和結合及び加水分解可能な基を有する有機ケイ素化合物、並びに、不飽和エポキシ単量体等の変性剤を用いて変性させてもよい。
 脂環式構造含有重合体の数平均分子量(Mn)は、好ましくは10,000以上、より好ましくは15,000以上、特に好ましくは20,000以上であり、好ましくは200,000以下、より好ましくは100,000以下、特に好ましくは50,000以下である。数平均分子量がこのような範囲にあるときに、基材フィルム層の機械的強度及び成形加工性が高度にバランスされる。
 ここで、脂環式構造含有重合体の数平均分子量は、シクロヘキサン溶媒によるGPC(ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィ)法により、ポリイソプレン換算値として測定しうる。
 脂環式構造含有重合体を含む熱可塑性樹脂において、脂環式構造含有重合体の量は、好ましくは50重量%~100重量%、より好ましくは70重量%~100重量%である。脂環式構造含有重合体の量を前記の範囲に収めることにより、所望の物性を有する基材フィルム層を容易に得られる。
 脂環式構造含有重合体を含む熱可塑性樹脂は、必要に応じて、脂環式構造を有する重合体に組み合わせて任意の成分を含みうる。任意の成分としては、例えば、紫外線吸収剤;無機微粒子;酸化防止剤、熱安定剤、近赤外線吸収剤等の安定剤;滑剤、可塑剤等の樹脂改質剤;染料、顔料等の着色剤;老化防止剤;などの配合剤が挙げられる。任意の成分は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
 基材フィルム層は、1層のみを備える単層構造を有していてもよく、2層以上の層を備える複層構造を有していてもよい。中でも、基材フィルム層は、第一表面層、紫外線吸収剤を含む中間層、及び、第二表面層を厚み方向においてこの順に備える複層フィルムであることが好ましい。すなわち、基材フィルム層は、脂環式構造含有重合体を含む熱可塑性樹脂からなる第一表面層と、脂環式構造含有重合体及び紫外線吸収剤を含む熱可塑性樹脂からなる中間層と、脂環式構造含有重合体を含む熱可塑性樹脂からなる第二表面層とを、厚み方向においてこの順に備えることが好ましい。このような複層フィルムにおいては、第一表面層及び第二表面層によって中間層に含まれる紫外線吸収剤のブリードアウトを抑制することができる。
 ブリードアウトの効果的な抑制のためには、第一表面層及び第二表面層は、紫外線吸収剤を含まないことが好ましい。また、第一表面層に含まれる重合体、中間層に含まれる重合体及び第二表面層に含まれる重合体は、同じでもよく、異なっていてもよい。したがって、第一表面層に含まれる熱可塑性樹脂と、第二表面層に含まれる熱可塑性樹脂とは、異なっていてもよいが、層の形成が容易であることから、同じであることが好ましい。通常、第一表面層及び第二表面層は、紫外線吸収剤を含まないこと以外は中間層に含まれる熱可塑性樹脂と同様の熱可塑性樹脂によって、形成される。
 紫外線吸収剤としては、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、アクリロニトリル系紫外線吸収剤等の有機紫外線吸収剤が挙げられる。中でも、波長380nm付近における紫外線吸収性能が優れているという点で、トリアジン系紫外線吸収剤が好ましい。また、紫外線吸収剤としては、分子量は400以上であるものが好ましい。
 トリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、1,3,5-トリアジン環を有する化合物を好ましく用いうる。トリアジン系紫外線吸収剤の具体例としては、2-(4,6-ジフェニル-1,3,5-トリアジン-2-イル)-5-[(へキシル)オキシ]-フェノール、2,4-ビス(2-ヒドロキシ-4-ブトキシフェニル)-6-(2,4-ジブトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン等が挙げられる。また、トリアジン系紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、「チヌビン1577」(チバスペシャリティーケミカルズ社製)等を挙げることができる。
 ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、2,2’-メチレンビス[4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)-6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)フェノール]、2-(3,5-ジ-tert-ブチル-2-ヒドロキシフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-p-クレゾール、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4,6-ビス(1-メチル-1-フェニルエチル)フェノール、2-ベンゾトリアゾール-2-イル-4,6-ジ-tert-ブチルフェノール、2-[5-クロロ(2H)-ベンゾトリアゾール-2-イル]-4-メチル-6-(tert-ブチル)フェノール、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4,6-ジ-tert-ブチルフェノール、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-メチル-6-(3,4,5,6-テトラヒドロフタルイミジルメチル)フェノール、メチル3-(3-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-5-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート/ポリエチレングリコール300の反応生成物、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-6-(直鎖および側鎖ドデシル)-4-メチルフェノール等が挙げられる。トリアゾール系紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、「アデカスタブLA-31」(旭電化工業社製)等を挙げることができる。
 紫外線吸収剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
 中間層に含まれる熱可塑性樹脂において、紫外線吸収剤の量は、好ましくは1重量%以上、より好ましくは3重量%以上であり、好ましくは8重量%以下、より好ましくは6重量%以下である。ここで、紫外線吸収剤の量とは、2種類以上の紫外線吸収剤を用いる場合には、それらの紫外線吸収剤の全体量のことを示す。紫外線吸収剤の量を前記範囲の下限以上にすることにより、波長200nm~370nmの紫外線の透過を効果的に抑制でき、また、上限以下にすることにより、フィルムの黄色味を抑えることができるので、色味の劣化を抑制できる。さらに、紫外線吸収剤の量を前記範囲とすることにより、多量の紫外線吸収剤を含有しないことから、熱可塑性樹脂の耐熱性の低下を抑制できる。
 脂環式構造含有重合体及び紫外線吸収剤を含む熱可塑性樹脂の製造方法としては、溶融押出法による基材フィルム層の製造時より前に紫外線吸収剤を脂環式構造含有重合体に配合する方法;紫外線吸収剤を高濃度に含むマスターバッチを用いる方法;溶融押出法による基材フィルム層の製造時に紫外線吸収剤を脂環式構造含有重合体に配合する方法、などが挙げられる。これらの方法では、紫外線吸収剤の量を前記範囲とすることにより、紫外線吸収剤の分散性を十分に高めることができる。
 熱可塑性樹脂のガラス転移温度は、好ましくは80℃以上、より好ましくは100℃以上、更に好ましくは120℃以上、より更に好ましくは130℃以上、中でも好ましくは150℃以上、特に好ましくは160℃以上であり、好ましくは250℃以下、より好ましくは180℃以下である。熱可塑性樹脂のガラス転移温度を前記範囲の下限値以上にすることにより、高温環境下における基材フィルム層の耐久性を高めることができ、また、上限値以下にすることにより、延伸処理を容易に行える。
 熱可塑性樹脂の光弾性係数は、好ましくは10×10-10Pa-1以下、より好ましくは10×10-12Pa-1以下、特に好ましくは4×10-12Pa-1以下である。熱可塑性樹脂の光弾性係数を前記範囲に収めることにより、貼り合わせ等のハンドリング時の引っ張りストレスによる基材フィルム層のレターデーション変化を抑制できる。ここで、光弾性係数Cは、複屈折をΔn、応力をσとしたとき、C=Δn/σで表される値である。
 さらに、基材フィルム層が第一表面層、中間層及び第二表面層を備える場合には、中間層に含まれる熱可塑性樹脂のガラス転移温度TgAと第一表面層及び第二表面層に含まれる熱可塑性樹脂のガラス転移温度TgBとは、TgB-TgA<15℃の関係を満たすことが好ましい。
 基材フィルム層の波長380nmにおける光線透過率は、好ましくは10%以下、より好ましくは5%以下、特に好ましくは1%以下である。また、基材フィルム層の波長280nm~370nmにおける光線透過率は、好ましくは1.5%以下、より好ましくは1%以下である。これにより、帯電防止フィルムによって紫外線を遮ることができるので、帯電防止フィルムを備える液晶表示装置において、偏光子及び液晶セルへの紫外線によるダメージを抑制できる。そのため、偏光子の偏光度の低下及び着色を抑制できる。さらに、液晶セルの液晶駆動を安定させることができる。
 ここで光線透過率は、JIS K 0115に準拠して、分光光度計を用いて測定しうる。
 基材フィルム層は、光学的に等方なフィルムであってもよく、光学的な異方性を有するフィルムであってもよい。例えば、基材フィルム層は、10nm以下の面内レターデーションReを有する等方性フィルムであってもよい。基材フィルム層が等方性フィルムである場合、この基材フィルム層の厚み方向のレターデーションRthは10nm以下が好ましい。
 また、例えば、基材フィルム層は、光学的な異方性を有する位相差フィルムであってもよい。具体例を挙げると、基材フィルム層は、1/4波長板として機能しうるフィルムであってもよい。基材フィルム層が1/4波長板として機能しうる場合、その基材フィルム層の測定波長550nmにおける面内レターデーションReは、好ましくは80nm以上、より好ましくは95nm以上であり、好ましくは180nm以下、より好ましくは150nm以下である。基材フィルム層の面内レターデーションReが前記の範囲内であると、帯電防止フィルムを液晶表示装置に組み込んだ際に、表示面を回転軸として設置位置を変えた場合でも、偏光サングラス越しの画像の色味変化が少なくなるために、液晶表示装置の画像の視認性が優れる。また、基材フィルム層が1/4波長板として機能しうる場合、この基材フィルム層の測定波長550nmにおける厚み方向のレターデーションRthは、50nm~225nmが好ましい。
 さらに、基材フィルム層が1/4波長板として機能しうる長尺のフィルムである場合、その基材フィルム層の遅相軸は、基材フィルム層の長手方向に対して所定の範囲の角度をなすように設定されることが好ましい。以下、基材フィルム層の遅相軸が基材フィルム層の長手方向に対してなす角度を、適宜「配向角」ということがある。この配向角の範囲は、好ましくは45°±5°、より好ましくは45°±4°、特に好ましくは45°±3°である。このよう範囲の配向角を有する基材フィルム層を備えた帯電防止フィルムを用いれば、偏光サングラスによる画像の視認性を高められる偏光板の製造を容易にできる。
 基材フィルム層の面内レターデーションReのバラツキは、好ましくは10nm以内、より好ましくは5nm以内、特に好ましくは2nm以内である。また、基材フィルム層の厚み方向のレターデーションRthのバラツキは、好ましくは20nm以内、より好ましくは15nm以内、特に好ましくは10nm以内である。レターデーションRe及びRthのバラツキを前記の範囲に収めることにより、この帯電防止フィルムを適用した液晶表示装置の表示品質を良好なものにすることが可能になる。
 基材フィルム層の揮発性成分の量は、好ましくは0.1重量%以下、より好ましくは0.05重量%以下、さらに好ましくは0.02重量%以下である。揮発性成分の量を少なくすることにより、寸法安定性を向上させて、レターデーション等の光学特性の経時変化を小さくできる。
 ここで、揮発性成分は、分子量200以下の物質である。揮発性成分としては、例えば、残留単量体及び溶媒などが挙げられる。揮発性成分の量は、分子量200以下の物質の合計として、ガスクロマトグラフィーにより分析することにより定量しうる。
 基材フィルム層の厚みは、好ましくは10μm以上、より好ましくは20μm以上であり、好ましくは60μm以下、より好ましくは40μm以下である。基材フィルム層の厚みを前記範囲に収めることにより、帯電防止フィルムの薄膜化が可能になる。また、基材フィルム層が第一表面層、中間層及び第二表面層を備える場合、中間層の厚みは5μm以上30μm以下が好ましく、第一表面層及び第二表面層の厚みは合計で5μm以上20μm以下が好ましい。さらに、中間層の厚みと第一表面層及び第二表面層の合計厚みとの比{(中間層の厚み)/(第一表面層及び第二表面層の合計厚み)}は、生産安定性の観点から、1~3が好ましい。また、中間層の厚みのばらつきは、全面で±2.0μm以内とすることが、液晶表示装置の画像表示性を良好にできるため、好ましい。
 基材フィルム層は、例えば、熱可塑性樹脂をフィルム状に成形することにより製造しうる。成形方法としては、例えば、加熱溶融成形法、溶液流延法などを用いうる。中でも、フィルム中の揮発性成分を低減させられることから、加熱溶融成形法を用いることが好ましい。加熱溶融成形法は、さらに詳細には、例えば溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの中で、機械的強度および表面精度などに優れる基材フィルム層を得るためには、溶融押出成形法を用いるのが好ましい。
 特に、基材フィルム層として2以上の層を備える複層フィルムを製造する場合には、共押出法を用いることが好ましい。例えば、第一表面層、中間層及び第二表面層を備える複層構造の基材フィルム層は、第一表面層を形成するための熱可塑性樹脂と、中間層を形成するための熱可塑性樹脂と、第二表面層を形成するための熱可塑性樹脂とをダイから共押し出しすることにより、製造しうる。このような共押出法の中でも、共押出Tダイ法が好ましい。また、共押出Tダイ法としては、フィードブロック方式及びマルチマニホールド方式を挙げることができる。
 共押出Tダイ法において、Tダイを有する押出機における熱可塑性樹脂の溶融温度は、好ましくはTg+80℃以上、より好ましくはTg+100℃以上であり、好ましくはTg+180℃以下、より好ましくはTg+150℃以下である。ここで「Tg」は、熱可塑性樹脂のガラス転移温度を示し、基材フィルム層が第一表面層、中間層及び第二表面層を備える場合には第一表面層及び第二表面層に含まれる熱可塑性樹脂のガラス転移温度を示す。押出機での溶融温度を前記範囲の下限値以上にすることにより、熱可塑性樹脂の流動性を十分に高めることができ、また、上限値以下にすることにより、熱可塑性樹脂の劣化を抑制できる。
 さらに、溶融押出成形法において、押出機における熱可塑性樹脂の温度は、樹脂投入口ではTg~(Tg+100)℃、押出機出口では(Tg+50)~(Tg+170)℃、ダイス温度は(Tg+50)℃~(Tg+170)℃が好ましい。
 基材フィルム層の製造方法は、上述した成形方法によって得られたフィルムに延伸処理を施す工程を含んでいてもよい。延伸処理を施すことにより、基材フィルム層にレターデーション等の光学特性を発現させることができる。
 延伸処理は、基材フィルム層に発現させたいレターデーションに応じて、任意の方法で行いうる。例えば、一方向のみに延伸処理を行う一軸延伸処理を行ってもよく、異なる2方向に延伸処理を行う二軸延伸処理を行ってもよい。また、二軸延伸処理では、2方向に同時に延伸処理を行う同時二軸延伸処理を行ってもよく、ある方向に延伸処理を行った後で別の方向に延伸処理を行う逐次二軸延伸処理を行ってもよい。さらに、延伸処理は、フィルム長手方向に延伸処理を行う縦延伸処理、フィルム幅方向に延伸処理を行う横延伸処理、フィルム幅方向に平行でもなく垂直でもない斜め方向に延伸処理を行う斜め延伸処理のいずれを行ってもよく、これらを組み合わせて行ってもよい。延伸処理の方式は、例えば、ロール方式、フロート方式、テンター方式などが挙げられる。
 基材フィルム層が1/4波長板として機能しうるフィルムである場合、前記の延伸処理の中でも、斜め延伸処理が好ましい。1/4波長板としての基材フィルム層を備える帯電防止フィルムと偏光子とを貼り合わせて使用する場合には、通常、偏光子の透過軸と基材フィルム層の遅相軸とを、平行でもなく垂直でもない所定の角度で交差するように貼り合わせを行う。また、長尺の偏光子の透過軸は、一般に、その長手方向に平行又は垂直である。この際、斜め延伸処理によって得た基材フィルム層では、その基材フィルム層の長手方向に対して斜め方向に遅相軸が発現しているので、貼り合わせのために帯電防止フィルムを枚葉に裁断する必要が無く、ロール・トゥ・ロール法による効率的な貼り合わせが可能である。
 斜め延伸処理の具体的方法としては、特開昭50-83482号公報、特開平2-113920号公報、特開平3-182701号公報、特開2000-9912号公報、特開2002-86554号公報、特開2002-22944号公報などに記載された方法を用いうる。また、斜め延伸処理に用いうる延伸機は、例えば、テンター延伸機が挙げられる。テンター延伸機には、横一軸延伸機、同時二軸延伸機などがあり、中でも長尺のフィルムを連続的に斜め延伸しうるものが好ましい。
 延伸温度は、基材フィルム層に含まれる熱可塑性樹脂のガラス転移温度Tgを基準として、好ましくはTg-30℃以上、より好ましくはTg-10℃以上であり、好ましくはTg+60℃以下、より好ましくはTg+50℃以下である。
 延伸倍率は、好ましくは1.01倍~30倍、好ましくは1.01倍~10倍、より好ましくは1.01倍~5倍である。
 基材フィルム層の表面には、必要に応じて、表面処理を施してもよい。例えば、帯電防止層を設けられる側の基材フィルム層の面には、帯電防止層との接着性を高めるために、例えば、プラズマ処理、コロナ処理、アルカリ処理、コーティング処理等の表面処理を施してもよい。
 表面処理の中でも、コロナ処理が好ましい。コロナ処理により、基材フィルム層と帯電防止層との接着性を顕著に高めることが可能である。コロナ処理時のコロナ放電電子の照射量は、好ましくは1W/m/min~1000W/m/minである。このようなコロナ処理を施された基材フィルム層の面の水接触角は、好ましくは10°~50°である。水接触角の測定は、JIS R3257 θ/2法に準拠して測定しうる。また、コロナ処理を施した後には、帯電防止層の外観を良好にするために、コロナ処理を施された面に帯電防止層を形成する前に基材フィルム層を除電することが好ましい。
[3.帯電防止層]
 帯電防止層は、基材フィルム層上に設けられた層であって、導電性を有する金属酸化物粒子を含む。この際、帯電防止層は、任意の層を介して基材フィルム層上に間接的に設けられていてもよいが、通常は、基材フィルム層の表面に接するように直接に設けられている。帯電防止層においては、通常は金属酸化物粒子が鎖状に連結するように凝集して鎖状連結体を形成しており、この鎖状連結体によって導電パスが形成されている。そのため、帯電防止フィルムは、帯電防止機能を発揮できる。
 〔3.1.金属酸化物粒子〕
 金属酸化物粒子に含まれる金属酸化物としては、例えば、酸化錫;アンチモン、フッ素又はリンがドーピングされた酸化錫;酸化インジウム;アンチモン、スズ又はフッ素がドーピングされた酸化インジウム;酸化アンチモン;低次酸化チタン等が挙げられる。特に、アンチモンがドーピングされた酸化錫、及び、アンチモンがドーピングされた酸化インジウムが好ましい。また、これらは1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
 金属酸化物粒子の平均粒子径は、好ましくは2nm以上、より好ましくは4nm以上、特に好ましくは5nm以上であり、好ましくは50nm以下、より好ましくは40nm以下、特に好ましくは10nm以下である。金属酸化物粒子の平均粒子径を前記範囲の下限値以上にすることにより、金属酸化物粒子が粒状に凝集し難くなるので、金属酸化物粒子を鎖状に連結するように凝集させ易い。また、上限値以下にすることにより、帯電防止層のヘイズを小さくできるので、帯電防止層の透明性を向上させることができる。さらに、金属酸化物粒子同士を鎖状に連結させ易くできる。
 ここで、粒子の平均粒子径とは、レーザー回折法で測定された粒子径分布が正規分布を示すと仮定した場合において散乱強度が最大となる粒子径を示す。
 また、金属酸化物粒子は、当該粒子の表面を、加水分解性の有機ケイ素化合物で処理されたものであることが好ましい。このような処理を施された金属酸化物粒子は、通常、金属酸化物からなる粒子本体の表面が、有機ケイ素化合物の加水分解物によって修飾されている。そこで、以下、加水分解性の有機ケイ素化合物による金属酸化物粒子の表面の処理を「修飾処理」と呼ぶことがある。また、粒子表面を加水分解性の有機ケイ素化合物で処理された金属酸化物粒子のことを「修飾粒子」ということがある。このような修飾処理を施すことにより、金属酸化物粒子の鎖状の連結を強固にしたり、金属酸化物粒子の分散性を向上させたりすることができる。
 加水分解性の有機ケイ素化合物としては、例えば、下記式(1)で表される有機ケイ素化合物が挙げられる。
 R Si(OR4-a (1)
(式(1)において、R及びRは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1~10の炭化水素基、及び、炭素原子数1~10の有機基からなる群より選ばれる基を表し、aは、0~3の整数を表す。)
 式(1)において、Rとして好ましい例を挙げると、ビニル基、アクリル基、炭素原子数1~8のアルキル基などが挙げられる。
 また、式(1)において、Rとして好ましい例を挙げると、水素原子、ビニル基、アリール基、アクリル基、炭素原子数1~8のアルキル基、-CHOC2n+1(nは1~4の整数を表す。)などが挙げられる。
 式(1)で表される有機ケイ素化合物としては、「a」が0又は1の有機ケイ素化合物が好ましい。式(1)において「a」が0である四官能の有機ケイ素化合物は、金属酸化物粒子の連結を維持することに有効である。また、式(1)において「a」が1である三官能の有機ケイ素化合物は、鎖状に連結した金属酸化物粒子の帯電防止剤中での分散性を向上させることに有効である。更に、式(1)において「a」が0又は1である三官能以上の有機ケイ素化合物は、通常、加水分解速度が速い。
 また、式(1)で表される有機ケイ素化合物としては、「a」が0である四官能の有機ケイ素化合物と「a」が1である三官能の有機ケイ素化合物とを組み合わせて用いることが好ましい。このように組み合わせて用いる場合、四官能の有機ケイ素化合物と三官能の有機ケイ素化合物とのモル比(四官能の有機ケイ素化合物/三官能の有機ケイ素化合物)は、好ましくは20/80以上、より好ましくは30/70以上であり、好ましくは80/20以下、より好ましくは70/30である。四官能の有機ケイ素化合物が過剰とならないようにすることで、金属酸化物粒子が塊りに凝固することを抑制できるので、鎖状の連結を生成させ易い。また、三官能の有機ケイ素化合物が過剰とならないようにすることで、金属酸化物粒子の連結の際におけるゲルの生成を抑制できる。そのため、前記のようなモル比で式(1)で表される四官能の有機ケイ素化合物と三官能の有機ケイ素化合物とを組み合わせることにより、金属酸化物粒子を効率的に鎖状に連結させることができる。
 前記のように、式(1)で表される有機ケイ素化合物として四官能の有機ケイ素化合物と三官能の有機ケイ素化合物とを組み合わせて用いることにより、金属酸化物粒子同士を鎖状に強固に連結することができる。その理由は、明確ではないものの、下記のように推察される。金属酸化物粒子の連結部分は活性が高いので、「a」が0である四官能の有機ケイ素化合物は、金属酸化物粒子の連結部分に吸着しやすい。また、四官能の有機ケイ素化合物は、加水分解しやすいので、アルコールの混合と同時に加水分解が進行し、Si-OHが多く生成する。他方、「a」が1である三官能の有機ケイ素化合物は、水への溶解度が低く、アルコールと混合することで水に溶解して加水分解が進む。そのため、三官能の有機ケイ素化合物は、先に金属酸化物粒子の連結部分に吸着して加水分解した四官能の有機ケイ素化合物のSi-OHに、後から反応すると考えられる。
 したがって、四官能の有機ケイ素化合物と三官能の有機ケイ素化合物とを組み合わせて用いる場合には、これらの有機ケイ素化合物を同時に金属酸化物粒子の水分散液と混合するのではなく、まず、四官能の有機ケイ素化合物を金属酸化物粒子の水分散液と混合したのち、アルコールを混合するとともに三官能の有機ケイ素化合物を混合することが好ましい。
 加水分解性の有機ケイ素化合物の具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等のテトラアルコキシシラン類;メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリプロポキシシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、γ-クロロプロピルトリエトキシシラン、γ-クロロプロピルトリプロポキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-(β-グリシドキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリエトキシシラン等のトリアルコキシ又はトリアシルオキシシラン類;ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ-クロロプロピルメチルジメトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ-メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ-アミニプロピルメチルジメトキシシラン等のジアルコキシシラン又はジアシルシラン類;トリメチルクロロシラン等が挙げられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
 次いで、修飾粒子(粒子表面を加水分解性の有機ケイ素化合物で処理された金属酸化物粒子)の製造方法について説明する。下記に説明する製造方法では、修飾粒子は、分散液の状態で製造される。
 修飾粒子の製造方法では、処理対象となる金属酸化物粒子の水分散液を用意する。このとき、水分散液における金属酸化物粒子の濃度は、好ましくは1重量%以上、より好ましくは10重量%以上であり、好ましくは40重量%以下である。
 次いで、前記の水分散液のpHを、好ましくは2以上、より好ましくは2.5以上、且つ、好ましくは5以下、より好ましくは4以下に調整する。水分散液のpHを前記範囲の下限値以上にすることにより、金属酸化物粒子の球状の凝集を抑制できるので、鎖状の連結を生じさせ易い。また、上限値以下にすることにより、金属酸化物粒子が鎖状に連結する際、連結数を高め易い。そのため、金属酸化物粒子の平均連結数を2以上と多くし易いので、帯電防止フィルムの帯電防止性能を向上させ易い。
 pHを調整する方法としては、イオン交換樹脂を用いたイオン交換処理法、酸を混合する方法、などが挙げられる。イオン交換樹脂としては、H型カチオン交換樹脂が好ましい。通常、イオン交換処理によって、水分散液のpHを酸性にシフトさせることができる。また、イオン交換樹脂処理だけではpHが充分に低くならない場合には、必要に応じて水分散液に酸を混合してもよい。
 また、通常、イオン交換処理の際には、脱イオン処理も行われるので、金属酸化物粒子は鎖状に配向し易くなる。
 pHを調整した後で、金属酸化物粒子の水分散液を濃縮又は希釈することにより、当該水分散液の固形分濃度を、適切な範囲に調整することが好ましい。具体的には、pH調整後の水分散液の固形分濃度を、好ましくは10重量%以上、より好ましくは15重量%以上、且つ、好ましくは40重量%以下、より好ましくは35重量%以下に調整する。金属酸化物粒子の水分散液の固形分濃度を前記範囲の下限値以上にすることにより、金属酸化物粒子の鎖状の連結を生じさせ易い。そのため、金属酸化物粒子の平均連結数を3以上と多くし易いので、帯電防止フィルムの帯電防止性能を向上させ易い。また、上限値以下にすることにより、金属酸化物粒子の水分散液の粘度を低くして、撹拌による混合を十分に進行させることができる。そのため、加水解性の有機ケイ素化合物を金属酸化物粒子に均一に吸着させることができる。
 その後、前記のようにして用意した金属酸化物粒子の水分散液と、加水分解性の有機ケイ素化合物とを混合する。加水分解性の有機ケイ素化合物としては、前記の式(1)で表される化合物が挙げられる。
 加水分解性の有機ケイ素化合物の量は、当該有機ケイ素化合物の種類、金属酸化物粒子の粒子径などの要素に応じて適切に設定しうる。金属酸化物粒子と加水分解性の有機ケイ素化合物との重量比(有機ケイ素化合物/金属酸化物粒子)は、好ましくは0.01以上、より好ましくは0.02以上であり、好ましくは0.5以下、より好ましくは0.3以下である。2種類以上の有機ケイ素化合物を用いる場合、その有機ケイ素化合物の合計量が、前記の重量比の範囲を満たすことが好ましい。前記の重量比を前記範囲の下限値以上にすることにより、鎖状に連結した金属酸化物粒子の連結が帯電防止剤中で切れることを抑制できるので、優れた帯電防止機能を有する帯電防止フィルムが得られる。また、帯電防止剤中での金属酸化物粒子の分散性を向上させたり、帯電防止剤の粘度を低くしたり、帯電防止剤の経時安定性を良好にしたりできるので、帯電防止層のヘイズを低くできる。また、重量比を前記範囲の上限値以下にすることにより、金属酸化物粒子の表面を修飾する有機ケイ素化合物の加水分解物の層が厚くなりすぎることを抑制できるので、帯電防止層の表面抵抗値を小さくできる。
 また、ここで説明する修飾粒子の製造方法では、金属酸化物粒子の水分散液とアルコールとを混合することにより、加水分解性の有機ケイ素化合物を加水分解する工程を行う。この工程は、通常、金属酸化物粒子の水分散液と加水分解性の有機ケイ素化合物とを混合する工程の後で行う。ただし、前述したように、四官能の有機ケイ素化合物と三官能の有機ケイ素化合物とを組み合わせて用いる場合には、四官能の有機ケイ素化合物を金属酸化物粒子の水分散液と混合した後で、この水分散液にアルコールを混合することが好ましい。さらに、前記の金属酸化物粒子の水分散液とアルコールとを混合すると同時又はその後に、三官能の有機ケイ素化合物を、前記の金属酸化物粒子の水分散液に混合することが好ましい。
 アルコールとしては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、ノルマルプロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブタノール等が挙げられる。これらのアルコールは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。また、前記のアルコールに組み合わせて、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等の有機溶媒を用いてもよい。
 アルコールの量は、アルコールとの混合後の金属酸化物粒子の水分散液の固形分濃度が、所望の範囲に収まるように調整することが好ましい。ここで、水分散液の固形分濃度の所望の範囲は、好ましくは3重量%以上、より好ましくは5重量%以上であり、好ましくは30重量%以下、より好ましくは25重量%以下である。また、前記の水分散液の固形分濃度は、有機ケイ素化合物を含む全固形分の濃度を表す。さらに、前記の有機ケイ素化合物の量は、シリカ換算の量として求めうる。
 加水分解の際の温度は、好ましくは30℃以上、より好ましくは40℃以上である。加水分解の際の温度の上限は、通常は使用溶媒の沸点(概ね100℃)以下である。加水分解の際の温度を前記の下限値以上にすることにより、加水分解に要する時間を短くしたり、加水分解性の有機ケイ素化合物の残存を抑制したりでき、また、上限値以下にすることにより、得られる修飾粒子の安定性を良好にできるので、粒子の過剰な凝集を抑制できる。
 さらに、必要に応じて、加水分解触媒として、金属酸化物粒子の水分散液に酸を混合してもよい。酸としては、塩酸、硝酸、酢酸、リン酸が挙げられる。また、酸は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
 有機ケイ素化合物を加水分解する際の操作の好適な具体例は、以下の通りである。
 まず、式(1)において「a」が0である四官能の有機ケイ素化合物を、金属酸化物粒子の水分散液と混合し、この水分散液とアルコールとを混合して、四官能の有機ケイ素化合物の加水分解を行う。その後、水分散液を室温に冷却し、必要に応じて再び前記アルコールと混合する。その後、式(1)において「a」が1である三官能の有機ケイ素化合物を前記の水分散液と混合し、前述の加水分解に適した温度に昇温して、加水分解を行う。これにより、四官能の有機ケイ素化合物の加水分解物によって、金属酸化物粒子の鎖状の連結を維持することができる。さらに、三官能の有機ケイ素化合物の加水分解物の金属酸化物粒子の表面への結合が促進されるので、金属酸化物粒子の分散性を向上させることができる。
 前記のように有機ケイ素化合物を加水分解することにより、金属酸化物粒子の表面を有機ケイ素化合物の加水分解物によって修飾して、修飾粒子を得ることができる。加水分解を行った直後においては、前記の修飾粒子は、水等の溶媒に分散した分散液の状態で得られる。この修飾粒子の分散液は、そのまま帯電防止剤の調製に用いうるが、必要に応じて、洗浄処理又は脱イオン処理を施してもよい。脱イオン処理によりイオン濃度を低下させることで、安定性に優れた修飾粒子の分散液を得ることができる。この脱イオン処理は、例えば、陽イオン交換樹脂、陰イオン交換樹脂、両イオン交換樹脂等のイオン交換樹脂を用いて行いうる。また、洗浄処理は、例えば、限外濾過膜法等を用いて行いうる。
 さらに、得られた修飾粒子の分散液は、必要に応じて、溶媒置換を行ってから用いてもよい。溶媒置換を行うと、バインダ重合体及び極性溶媒への分散性が向上する。そのため、帯電防止剤の塗工性を向上させることができる。したがって、帯電防止層の表面の平滑性を良好にしたり、帯電防止層における筋条及びムラ等の外観上の欠陥の発生を抑制したりできる。さらに、帯電防止層の耐擦傷性、透明性、密着性を向上させたり、ヘイズを小さくしたりできる。また、帯電防止フィルムの製造信頼性を向上させることができる。
 また、得られた修飾粒子の分散液は、必要に応じて、水と混合して用いてもよい。水と混合することにより、通常、修飾粒子の連結数が増加し、得られる帯電防止層の導電性が向上する。そのため、概ね10Ω/□~1010Ω/□の表面抵抗値を有する帯電防止層が得られるので、帯電防止性に優れた帯電防止フィルムが得られる。
 上述した導電性を有する金属酸化物粒子(修飾粒子を含む。)は、通常、当該金属酸化物粒子を含む分散液又は帯電防止剤中において、鎖状に連結している。そして、このような連結は帯電防止層においても維持されているので、連結した金属酸化物粒子により帯電防止層に導電パスが形成される。そのため、帯電防止層は、優れた帯電防止性を発揮できると推察される。また、金属酸化物粒子が粒状に凝集するのではなく、鎖状に連結するように凝集しているので、金属酸化物粒子は、可視光線の散乱を生じうるほど大きな凝集塊を形成し難い。そのため、このような金属酸化物粒子を含む帯電防止層のヘイズを低くすることが可能になっていると推察される。ただし、本発明は前記の推察に制限されるものではない。
 金属酸化物粒子の平均連結数は、好ましくは2個以上、より好ましくは3個以上、特に好ましくは5個以上である。金属酸化物粒子の平均連結数を前記下限値以上にすることにより、帯電防止層の帯電防止性能を高めることができる。金属酸化物粒子の平均連結数の上限は、好ましくは20個以下、より好ましくは10個以下である。金属酸化物粒子の平均連結数を前記上限値以下にすることにより、鎖状に連結した金属酸化物粒子の製造を容易に行うことができる。
 ここで、金属酸化物粒子の平均連結数は、下記の方法により測定しうる。
 金属酸化物粒子の鎖状連結体の写真を、透過型電子顕微鏡によって撮影する。この写真から、金属酸化物粒子の鎖状連結体100個について、それぞれの鎖状連結体における連結数を求める。そして、各鎖状連結体の連結数の平均値を計算し、小数点以下1桁を四捨五入して、金属酸化物粒子の平均連結数を得る。
 帯電防止層において、金属酸化物粒子の量は、好ましくは3重量%以上、より好ましくは5重量%以上、特に好ましくは10重量%以上であり、好ましくは50重量%以下、より好ましくは30重量%以下、特に好ましくは20重量%以下である。金属酸化物粒子の量を前記範囲の下限値以上にすることにより、帯電防止層の表面抵抗値を小さくして、帯電防止性能を良好にできる。また、上限値以下にすることにより、帯電防止層のヘイズを小さくできるので、帯電防止フィルムの透明性を向上させることができる。
 〔3.2.バインダ重合体〕
 帯電防止層は、金属酸化物粒子に加えて、通常、バインダ重合体を含む。バインダ重合体により、金属酸化物粒子を帯電防止層に保持することができる。
 バインダ重合体としては、(メタ)アクリロイル基を1分子中に3個以上有する化合物を50重量%以上含む重合性単量体を重合して得られる構造を有する重合体が好ましい。このような重合体をバインダ重合体として用いることにより、帯電防止層の表面抵抗値を効果的に低くすることができる。
 (メタ)アクリロイル基を1分子中に3個以上有する化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
 また、(メタ)アクリロイル基を1分子中に3個以上有する化合物は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。例えば、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートとペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートとの組み合わせ、並びに、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートとジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートとジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートとの組み合わせを、バインダ重合体を得るための重合性単量体として用いてもよい。
 上述した重合性単量体の中でも、1分子中に(メタ)アクリロイル基を4個有する化合物、5個有する化合物、及び、6個有する化合物を、合計で80重量%以上含む重合性単量体を用いることが、好ましい。
 また、バインダ重合体を得るための重合性単量体としては、前記のような(メタ)アクリロイル基を1分子中に3個以上有する化合物に組み合わせて、任意の単量体化合物を用いてもよい。このような任意の単量体化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等の3官能の(メタ)アクリレート類;エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、メタクリル酸アリル、フタル酸ジアリル、トリメチロールプロパントリアクリレート、グリセリンジアリルエーテル、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート等の多官能不飽和単量体類;ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、2-プロペノイックアシッド[5,5’-(9-フルオレン-9-イリデン)ビス(1,1’-ビフェニル)-2-(ポリオキシエチレン)エステル]、2-プロペノイックアシッド[5,5’-4-(1,1’ビフェニリル)メチレンビス(1,1’-ビフェニル)-2-(ポリオキシエチレン)エステル]等の芳香環及び(メタ)アクリロイル基を有する化合物類;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等の炭素原子数1~30のアルキル(メタ)アクリレート類のアクリル系不飽和単量体類;等が挙げられる。また、これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
 また、任意の単量体化合物として、カルボキシル基と重合性の炭素-炭素二重結合とを有する化合物を、重合性単量体の全量中の0.01重量%~5重量%用いると、帯電防止層の表面抵抗値を効果的に低下させられる。前記のカルボキシル基と重合性の炭素-炭素二重結合とを有する化合物としては、例えば、アクリル酸;メタクリル酸;クロトン酸;フマル酸;イタコン酸;ムコン酸;無水マレイン酸とモノアルコールとのハーフエステル類;ジペンタエリスリトールペンタアクリレート及びペンタエリスリトールトリアクリレート等の水酸基を有するアクリレート類中の水酸基の一部がアクリル酸の炭素-炭素二重結合に付加した化合物;ジペンタエリスリトールペンタアクリレート及びペンタエリスリトールトリアクリレート等の水酸基を有するアクリレート類中の水酸基とジカルボン酸もしくは無水カルボン酸とが反応した化合物;などが挙げられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
 (メタ)アクリロイル基を1分子中に3個以上有する化合物を50重量%以上含む重合性単量体の酸価は、好ましくは0.01mgKOH/g~0.5mgKOH/gである。バインダ重合体を得るための重合性単量体の酸価を前記範囲の下限値以上にすることにより、帯電防止層の表面抵抗値を効果的に低くでき、また、上限値以下にすることにより、帯電防止剤の安定性を良好にできる。
 重合性単量体の酸価は、JIS K 0070(化学製品の酸価、けん化価、エステル価、よう素価、水酸基価及び不けん化物の試験方法)により、指示薬にブロモチモールブルーを用いて測定しうる。
 帯電防止層において、バインダ重合体の量は、好ましくは50重量%以上、より好ましくは60重量%以上、特に好ましくは70重量%以上であり、好ましくは95重量%以下、より好ましくは90重量%以下である。バインダ重合体の量を前記範囲にすることにより、帯電防止層と基材フィルム層との接着性を高めることができ、かつ金属酸化物粒子の帯電防止層中での分散性を向上させることができる。また、帯電防止層の厚みを均一にすることができる。
 〔3.3.任意の成分〕
 帯電防止層は、本発明の効果を著しく損なわない限り、金属酸化物粒子及びバインダ重合体以外に任意の成分を含みうる。また、任意の成分は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
 〔3.4.帯電防止層の製造方法〕
 帯電防止層は、金属酸化物粒子を含む帯電防止剤を前記基材フィルム層上に塗工して形成しうる。また、塗工時点において帯電防止剤は通常は流体状であるので、帯電防止剤を基材フィルム層上に塗工した後には、塗工された帯電防止剤の膜を硬化させる工程を行うことが好ましい。以下、この帯電防止層の製造方法の例として、(メタ)アクリロイル基を1分子中に3個以上有する化合物を50重量%以上含む重合性単量体を重合して得られる重合体をバインダ重合体として含む帯電防止層の好ましい製造方法を説明する。
 本例に示す帯電防止層の製造方法では、まず、帯電防止剤を用意する。この帯電防止剤として、本例では、金属酸化物粒子と、バインダ重合体を得るための重合性単量体とを含むものを用いる。また、この重合性単量体としては、(メタ)アクリロイル基を1分子中に3個以上有する化合物を50重量%以上含む重合性単量体を用いる。
 前記の重合性単量体は、通常、紫外線等の活性エネルギー線の照射により重合しうる。したがって、帯電防止剤は、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン誘導体、ベンジルケタール類、α-ヒドロキシアセトフェノン類、α-アミノアセトフェノン類、アシルフォスフィンオキサイド類、o-アシルオキシム類等が挙げられる。また、市販の光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン/アミン、ミヒラーケトン/ベンゾフェノン、チオキサントン/アミンなどの組み合わせ(商品名:イルガキュアやダロキュアなど、チバガイギー社製)等が挙げられる。光重合開始剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
 光重合開始剤の量は、重合性単量体100重量部に対して、好ましくは1重量部以上、より好ましくは2重量部以上、特に好ましくは3重量部以上であり、好ましくは20重量部以下、より好ましくは10重量部以下、特に好ましくは5重量部以下である。光重合開始剤の量を前記の範囲にすることで、重合性単量体の重合を効率良く進行させることができ、かつ光重合開始剤の過剰混合を避けて、未反応の光重合開始剤起因の帯電防止層の黄変や膜物性の変化を抑制することができる。
 帯電防止剤は、溶媒を含みうる。溶媒としては、重合性単量体を溶解でき、且つ、容易に揮発しうるものが好ましい。このような溶媒としては、例えば、水;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソプロパノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、イソプロピルグリコール等のアルコール類;酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル等のエステル類;ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステル、シクロヘキサノン等のケトン類;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類;トルエン、キシレン等の芳香族化合物;イソホロン等が挙げられる。また、溶媒は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
 前記の溶媒の中でも、親水性の溶媒が好ましい。親水性の溶媒を用いることにより、帯電防止剤を乾燥する工程で、空気中の水分が吸着されることで、導電パスの形成を促進し、帯電防止性能を向上させることが出来る。具体的には、エタノール、メタノール、2-プロパノール(IPA、イソプロパノールともいう)の混合溶媒が好ましい。
 さらに、前記の溶媒の中でも、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノン及びアセチルアセトンは、高沸点であるため、塗工した帯電防止剤の膜の乾燥後の表面の平坦性が向上することから、好ましい。
 また、金属酸化物粒子を、水を含む分散液の状態で用意にする場合には、帯電防止剤の溶媒として、水溶性を有する溶媒を用いることが好ましい。
 溶媒の量は、帯電防止剤の固形分濃度が所望の範囲に収まるように設定することが好ましい。ここで、帯電防止剤の固形分濃度は、好ましくは10重量%以上、より好ましくは20重量%以上、特に好ましくは30重量%以上であり、好ましくは70重量%以下、より好ましくは55重量%以下である。帯電防止剤における固形分の濃度を前記の範囲に収めることにより、帯電防止層の厚みを適切な範囲に収めやすく、充分な帯電防止性能を有する帯電防止層を製造しやすい。さらに、通常は、帯電防止層のヘイズを低くできるので、帯電防止フィルムの透明性を良好にできる。また、通常は、帯電防止層のクラック、基材フィルム層の反りを抑制できる。さらに、帯電防止剤の粘度を低くできるので、帯電防止剤の塗工性を良好にできる。そのため、帯電防止層の表面の平坦性を高めることができ、筋ムラの発生を抑制できる。
 さらに、帯電防止剤は、帯電防止層が含みうる任意の成分を含んでいてもよい。
 帯電防止剤は、帯電防止剤が含む各成分を適切な混合装置で混合することにより、得られる。混合装置としては、例えば、ホモミキサーなどが挙げられる。
 帯電防止剤を用意した後で、この帯電防止剤を基材フィルム層上に塗工して、基材フィルム層上に帯電防止剤の膜を形成する。そして、必要に応じて乾燥により帯電防止剤の膜から溶媒を除去した後で、紫外線等の活性エネルギー線を照射して重合性単量体を重合することにより帯電防止剤の膜を硬化させて、帯電防止層を得る。
 塗工方法としては、例えば、バーコート法、スロットコート法、スピンコート法、ロールコート法、カーテンコート法、ダイコート法、スクリーン印刷法等が挙げられる。
 帯電防止剤の塗工は、所定の相対湿度の環境において行うことが好ましい。前記の塗工時の具体的な相対湿度は、好ましくは40%RH以上、より好ましくは45%RH以上、更に好ましくは50%RH以上、特に好ましくは52%RH以上であり、好ましくは65%RH以下、より好ましくは60%RH以下、更に好ましくは58%RH以下、特に好ましくは57%RH以下である。塗工時の環境の相対湿度を前記範囲の下限値以上にすることにより、金属酸化物粒子を凝集させて鎖状に十分に連結させられるので、帯電防止層の表面抵抗値を効果的に低くできる。さらに、塗工時の環境の相対湿度を前記範囲の下限値以上にすることで、基材フィルム層の帯電による放電や、帯電ムラによる塗工ムラを抑制することができる。また、塗工時の環境の相対湿度を前記範囲の上限値以下にすることにより、金属酸化物粒子の過剰な凝集を抑制できるので、帯電防止層の断裂及びヘイズのムラを抑制できる。
 ここで、塗工時の環境の相対湿度を前記範囲の上限値以下にすることの意義を、具体的に説明する。
 一般に、溶媒を含む塗料を基材上に塗工して塗料膜を形成した場合、塗工直後の溶媒の揮発により、基材から溶媒の気化熱の分だけ熱が奪われ、塗料膜の表面に結露が生じることがある。このような現象は「ブラッシング」と呼ばれ、このブラッシングが生じた部分では見た目が白化することがある。
 前記のようなブラッシングが、仮に基材フィルム層上に形成された帯電防止剤の膜に生じると、当該ブラッシングが生じた部分において帯電防止剤の膜に含まれる金属酸化物粒子の凝集が過剰に進行する可能性がある。金属酸化物粒子の凝集が過剰に進行すると、帯電防止層に断裂が生じたり、帯電防止層のヘイズにムラが生じたりすることがある。
 また、前記のようなブラッシングの影響は、帯電防止剤の膜が外気に触れる面積が広い部分において生じやすい。これは、外気に触れる面積が大きいと、冷却が早く始まり、そのため結露が生じやすいからである。
 通常、帯電防止層の膜の端部近傍においては、帯電防止剤の膜の上面だけでなく、端面においても帯電防止層が外気に触れる。そのため、この帯電防止剤の膜の端部近傍においては、帯電防止剤の膜は大面積で外気に触れて早く冷却が開始されるので、冷えやすく、結露が生じやすい。したがって、この帯電防止層の膜の端部近傍では、前記のブラッシングの影響を受けて、帯電防止層の断裂及びヘイズのムラが特に生じやすい。
 これに対し、塗工時の環境の相対湿度を前記範囲の上限値以下にすると、前記のようなブラッシングの発生は抑制される。そのため、帯電防止層の端部近傍を含めた層全体において、帯電防止層の断裂及びヘイズのムラを、容易に抑制することができる。このように、塗工時の環境の相対湿度を前記範囲の上限値以下にすることには、ブラッシングによる導電性粒子の凝集を抑制し、帯電防止層の断裂及びヘイズのムラを抑制することにより、均一な帯電防止層を実現できる点で、意義がある。
 前記のように帯電防止剤を基材フィルム層上に塗工した後で、必要に応じて乾燥により帯電防止剤の膜から溶媒を除去する。乾燥時の温度及び圧力は、帯電防止層の材料の種類、溶媒の種類、帯電防止層の厚み等の条件に応じて、適切に設定しうる。
 その後、帯電防止剤の膜に、活性エネルギー線を照射する。これにより、重合性単量体が重合して帯電防止剤の膜が硬化するので、金属酸化物粒子及びバインダ重合体を含む帯電防止層が得られる。活性エネルギー線の波長、照射量などの照射条件は、帯電防止層の材料の種類、帯電防止層の厚み等の条件に応じて、適切に設定しうる。
 〔3.5.帯電防止層の構造及び寸法〕
 帯電防止層は、2層以上の層を備える複層構造を有していてもよいが、1層のみからなる単層構造を有していていることが好ましい。帯電防止層が単層構造を有することにより、帯電防止層の全光線透過率を高めたり、帯電防止層の製造を容易にしたり、帯電防止フィルムの厚みを薄くしたりできる。
 帯電防止層の厚みは、好ましくは0.8μm以上、より好ましくは1.0μm以上、特に好ましくは1.5μm以上であり、好ましくは10.0μm以下、より好ましくは8μm以下、更に好ましくは6μm以下、特に好ましくは4.0μm以下である。帯電防止層の厚みを前記の範囲に収めることにより、帯電防止層の表面抵抗値を特定範囲に抑制し、画像視認性と液晶駆動の安定性とを高度にバランスすることができる。さらに、通常は、帯電防止フィルムのカールを抑制したり、帯電防止層の耐擦傷性を良好にしたりできる。
 帯電防止層の厚みは、干渉式膜厚計(フィルメトリクス社製「F20膜厚測定システム」)にて測定しうる。
 帯電防止層の厚みと基材フィルム層の厚みとの比(帯電防止層/基材フィルム層)は、好ましくは1/50以上、より好ましくは1/25以上、特に好ましくは1/12以上であり、好ましくは3/10以下、より好ましくは1/5以下、特に好ましくは3/25以下である。帯電防止層の厚みと基材フィルム層の厚みとの比を前記の範囲に収めることにより、帯電防止フィルムのカールを安定して抑制できる。
 〔3.6.帯電防止層の物性〕
 帯電防止層の表面抵抗値は、通常1.0×10Ω/□以上、好ましくは1.0×10Ω/□以上、より好ましくは1.0×10Ω/□以上であり、通常1.0×1010Ω/□以下、好ましくは5.0×10Ω/□以下、より好ましくは1.0×10Ω/□以下である。帯電防止層がこのような表面抵抗値を有することにより、帯電防止フィルムの帯電防止性を高めることができる。そのため、帯電防止フィルムをインセルタイプのタッチパネルを備える液晶表示装置に組み込んだ場合に、タッチパネルの操作時における帯電による液晶駆動のムラの発生を抑制することができる。特に、帯電防止層を液晶表示装置の液晶セルと導通させた場合、液晶セルの帯電を効果的に抑制して、画像表示の安定性を更に高めることができる。
 表面抵抗値は、JIS K6911に準拠して、ディジタル超絶縁/微少電流計(日置電気社製「DSM-8104」)を用いて測定しうる。
 帯電防止層の表面の画像鮮明性(DOI:規格ASTM E430)は、通常90以上、好ましくは92以上であり、より好ましくは94以上であり、通常100以下である。ここで、帯電防止層の表面とは、詳細には、基材フィルム層とは反対側の帯電防止層の面をいう。帯電防止層の表面がこのような画像鮮明性を有することにより、帯電防止層の表面の凹凸形状が強調されることを抑制できるので、帯電防止フィルムを備えた液晶表示装置の画像の視認性を良好にできる。
 前記の画像鮮明性の測定は、ASTM E430の規格に基づいて行いうる。具体的には、Gardner WaveScanII(BYK社製)などの測定装置を用いて、LED光をサンプルに対して入射角度60°で照射し、反射角度60°で検出した強度のプロファイルから、画像鮮明性(DOI)を算出しうる。
 帯電防止層の表面の画像鮮明性を前記の範囲に収める方法としては、例えば、帯電防止層が形成される側の基材フィルム層の面の表面を平滑にする方法;帯電防止層と反対側の基材フィルムの面の表面を平滑にする方法;基材フィルムと接触する側のマスキングフィルムの表面を平滑にする方法;基材フィルムとの接触面の反対側のマスキングフィルムの表面を平滑にする方法;帯電防止層の表面を平滑にする方法、などが挙げられる。
 帯電防止層の屈折率は、好ましくは1.500以上、より好ましくは1.510以上、更に好ましくは1.515以上、特に好ましくは1.520以上であり、好ましくは1.550以下、より好ましくは1.540以下である。
 さらに、帯電防止層の屈折率は、帯電防止層と基材フィルム層との屈折率差が所定の範囲に収まることように設定することが好ましい。具体的には、前記の屈折率差は、好ましくは0.030以下、より好ましくは0.025以下、特に好ましくは0.020以下であり、理想的にはゼロである。屈折率差をこのように小さくすることにより、基材フィルム層と帯電防止層との界面での光の反射を抑制できるので、帯電防止層の塗工ムラ及びスポットムラを視認し難くできるので、帯電防止フィルムの外観を良好にし易い。また、帯電防止層の表面の画像鮮明性を向上させることができる。そのため、帯電防止フィルムを設けられた液晶表示装置の画像の視認性を効果的に高めることができる。
 ここで、帯電防止層及び基材フィルム層の屈折率は、屈折率膜厚測定装置(Metricon社製「プリズムカプラ」)にて波長407nm、波長532nm、及び波長633nmの3波長で測定した値を元にコーシーフィッティングを行い求めた、波長550nmでの数値である。また、前記の屈折率差は、基材フィルム層の屈折率と帯電防止層の屈折率との差の絶対値として求めうる。ここで、層の屈折率が異方性を有する場合には、その層の平均屈折率を当該層の屈折率の測定値として採用しうる。例えば、基材フィルム層が延伸フィルムである場合、その基材フィルム層の屈折率は異方性を有する。この場合には、延伸方向の屈折率(ns)、延伸方向に垂直な面内方向の屈折率(nf)、及び、厚み方向の屈折率(nz)の平均値を、当該基材フィルム層の屈折率の測定値として採用しうる。
 帯電防止層の表面の水接触角は、好ましくは70°~90°である。帯電防止層の表面の水接触角がこの範囲にあることで、帯電防止フィルムを接着剤で任意の部材と接着する際に、接着剤のハジキを抑制できる。そのため、例えば、液晶表示装置の製造時において帯電防止フィルムを備えた偏光板とタッチパネルとの間を層間接着剤で埋める際に、層間接着剤と偏光板との間のハジキを抑制できる。よって、接着時の作業性を良好にしたり、接着剤による接着強度を高めたりできる。ここで、水接触角は、JIS R3257 θ/2法に準拠して測定しうる。
 帯電防止層の表面自由エネルギーは、好ましくは23mJ/m以上、より好ましくは24mJ/m以上であり、好ましくは27mJ/m以下、より好ましくは26mJ/cm以下である。帯電防止層の表面自由エネルギーを前記の範囲に収めることにより、帯電防止フィルムを接着剤で任意の部材と接着する際に、接着剤のハジキを抑制できる。そのため、接着時の作業性を良好にしたり、接着剤による接着強度を高めたりできる。ここで、帯電防止層の表面自由エネルギーは、帯電防止層の表面におけるヘキサデカンの接触角及び水の接触角を測定し、測定された接触角のデータから、Owens-Wendtの解析理論によって計算しうる。前記の解析理論については、「D.K.Owens, R.C.Wendt, J.Appl.Polym.Sci.,13,1741,(1969)」を参照しうる。
 帯電防止層のJIS鉛筆硬度は、好ましくはB以上、より好ましくはHB以上、特に好ましくはH以上である。帯電防止層のJIS鉛筆硬度を高めることにより、帯電防止層をハードコート層として機能させることができるので、帯電防止フィルムの耐擦傷性を向上させることができる。ここで、JIS鉛筆硬度は、JIS K5600-5-4に準拠して、各種硬度の鉛筆を45°傾けて、上から500g重の荷重を掛けて層の表面を引っ掻き、傷が付きはじめる鉛筆の硬さである。
 帯電防止層の耐擦傷性は、スチールウール#0000にスチールウール1cm角に10gfないし50gfないし100gfないし500gfの荷重をかけた状態で、帯電防止フィルムの帯電防止層の表面を10往復させて、往復させた後の表面状態を目視で観察し、キズが認められない荷重を求める。
 キズが認められない荷重は、好ましくは10gf以上、より好ましくは50gf以上、特に好ましくは100gf以上である。帯電防止層の耐擦傷性を高めることで、偏光板化などの加工工程での不用意な外的要因によるキズ付きを抑制することができる。
 前記のような帯電防止層の高い硬度を活用する観点から、帯電防止フィルムにおいて帯電防止層は最表面に露出していることが好ましい。
[4.マスキングフィルム]
 マスキングフィルムは、脂環式構造含有重合体を含む基材フィルム層を保護するため、基材フィルム層に貼り合わせられるフィルムである。よって、帯電防止フィルムにおいて、基材フィルム層側のマスキングフィルムの面は、通常、帯電防止層とは反対側の基材フィルム層の面に接している。本発明においては、脂環式構造含有重合体を含む基材フィルム層を用いるため、マスキングフィルムの表面上に凹凸形状が形成されていると、貼りあわせた際に基材フィルム上に凹凸形状が転写されやすい。ここで、マスキングフィルムには、基材フィルム層に接する面と、基材フィルムと反対側の面が存在するが、基材フィルム層と反対側の面は、ロール状に巻き取った際に、空気界面を介して基材フィルム層と接触するため、基材フィルム層の表面への転写による凹凸形成の影響は少ない。一方、基材フィルム層と直接接する面の凹凸形状は、マスキングフィルムの基材フィルム層と反対側の面における凹凸形状よりも、基材フィルム層の表面への転写による凹凸形成に、より大きな影響を与える。したがって、基材フィルム層に接するマスキングフィルムの面の算術平均粗さRa及び凹凸間の平均間隔Smは、下記の式(i)及び式(ii)を満たすことが好ましい。
 Ra<0.08μm 式(i)
 Sm>0.6mm  式(ii)
 詳細には、前記の算術平均粗さRaは、好ましくは0.08μm未満、より好ましくは0.045μm以下、特に好ましくは0.025μm以下である。また、前記の凹凸間の平均間隔Smは、好ましくは0.6mmより大きく、より好ましくは0.8mm以上、特に好ましくは0.9mm以上であり、好ましくは2.0mm以下である。前記の算術平均粗さRa及び凹凸間の平均間隔Smは、光干渉式粗さ計で測定しうる。測定装置としては、NewViewシリーズ(Zygo社製)、Wykoシリーズ(日本ビーコ社製)、VertScanシリーズ(菱化システム社製)などを用いうる。
 前記の式(i)及び式(ii)が満たされている場合には、脂環式構造含有重合体を含む基材フィルム層とマスキングフィルムとを貼り合わせ、ロール状に巻き取って、ある程度の期間保存した後に、基材フィルム層の表面における凹凸形状の形成を抑制できる。そのため、この基材フィルム層の表面に帯電防止層を形成した場合に、その帯電防止層の表面の画像鮮明性を上述した所望の範囲に収めることができる。したがって、その帯電防止層を備える帯電防止フィルムを備えた液晶表示装置において、画像の視認性を効果的に高めることが可能である。ここで、基材フィルム層とマスキングフィルムとを貼り合わせた後の前記の保存期間には、特に制限はないが、通常は半年以内と考えられる。
 前記のマスキングフィルムとしては、支持フィルム層及び粘着層を備えるフィルムが好ましい。このようなマスキングフィルムは、通常、支持フィルム層とは反対側の粘着層の面で基材フィルム層と貼り合わせられる。
 マスキングフィルムの支持フィルム層の素材は、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリオレフィン、ポリエステル、アクリル、トリアセチルセルロース等が挙げられる。また、これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。その中でも、表面平滑性、耐熱性及び透明性の観点から、ポリエステルが好ましい。ポリエステルは、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリトリエチレンテレフタレートなどが好適に使用しうる。
 マスキングフィルムの支持フィルム層の厚みは、帯電防止フィルムの基材フィルム層の厚み及び要求品質により異なるが、好ましくは10μm以上、より好ましくは15μm以上であり、好ましくは100μm以下、より好ましくは50μm以下である。支持フィルム層の厚みを前記範囲の下限値以上にすることにより、マスキングフィルムのロールの外観の乱れによるシワの発生を抑制できる。また、支持フィルム層の厚みを前記範囲の上限値以下にすることにより、基材フィルム層からのマスキングフィルムの剥離を抑制したり、フィルムの巻き取りを容易に行ったりできる。
 マスキングフィルムの粘着層としては、コーティングにより形成される粘着層と、共押し出しにより形成される自己粘着層とがあるが、支持フィルム層の選択肢を広げることが可能であるという観点から、コーティングにより形成される粘着層が好ましい。この際、粘着層の材料としての粘着剤は、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、ポリビニルエーテル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤などが挙げられる。また、粘着剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、耐熱性及び生産性の観点から、アクリル系粘着剤が好ましい。
 マスキングフィルムの粘着層の厚みは、好ましくは2.0μm以上、より好ましくは5.0μm以上であり、好ましくは20.0μm以下、より好ましくは15.0μm以下である。粘着層の厚みを前記範囲の下限値以上にすることにより、粘着層の粘着力を高められるので、マスキングフィルムの浮き及び剥がれを抑制できる。また、粘着層の厚みを前記範囲の上限値以下にすることにより、基材フィルム層からマスキングフィルムを剥がす際の糊残りを抑制できる。また、マスキングフィルムの繰り出し張力を低くできるので、基材フィルム層とマスキングフィルムとの貼り合わせ時におけるシワ及び傷の発生を抑制できる。ここで「糊残り」とは、マスキングフィルムの剥離後に基材フィルム層に粘着剤が残留する現象をいう。
 マスキングフィルムの欠点数は、好ましくは5個/m以下、より好ましくは1個/m以下である。ここで、マスキングフィルムの欠点とは、支持フィルム層のフィッシュアイ、埋没異物、粘着層のフィッシュアイ、付着異物等の、目視で確認できる欠陥をいう。欠点の数を前記の範囲に収めることにより、面状検査機を用いて帯電防止層の異物検査を行う際、帯電防止層の異物を正確にカウントし易い。
 マスキングフィルムのヘイズは、6%以下であることが好ましく、より好ましくは4%以下、更に好ましくは3%以下、特に好ましくは1%以下である。マスキングフィルムのヘイズがこのような範囲に収まっていることによって、マスキングフィルムを基材フィルム層に貼り合わせた状態のままで帯電防止層を形成した場合に、マスキングフィルムを剥がすことなく帯電防止層を評価することが可能である。さらに、面状検査機を用いて帯電防止層の異物検査を行う際、帯電防止層の異物を正確にカウントし易い。
 基材フィルム層とマスキングフィルムとが貼り合わせられている場合、マスキングフィルムと基材フィルム層との間にある長径100μm以上の異物の数が、1個/m以下であることが好ましい。このような異物は、基材フィルム層の凹凸構造から生じうるものであり、所謂「エアがみ」が異物として検出されうる。
 マスキングフィルムは、異物の混入を防ぐ目的、及び、巻き取りシワを抑制する目的で、粘着面にセパレーターを用いる構成で製造される場合がある。その場合、粘着面とセパレーターとの剥離力を小さくする目的、及び、剥離帯電を抑制する目的で、セパレーターへ離型処理を行うことが一般的である。離型剤としては、ポリジメチルシロキサンなどのシリコーン系離型剤、フッ化アルキルなどのフッ素系離型剤、長鎖アルキル系離型剤などが用いられる。その中でも、離型性及び加工性が良好である理由で、シリコーン系離型剤が好適に用いられる。ただし、シリコーン系離型剤が基材フィルム層に付着すると、その後の帯電防止層を形成する工程においてムラとなる可能性がある。そのため、マスキングフィルムの表面のSi量は、所定量以下であることが好ましい。マスキングフィルムの表面のSi量は、X線光電子分光又は蛍光X線で測定しうる。マスキングフィルムの表面のSi量は、X線光電子分光での測定では1.0atm%以下が好ましく、蛍光X線での測定では0.3kcps以下が好ましい。
[5.任意の層]
 帯電防止フィルムは、基材フィルム層、帯電防止層及びマスキングフィルムに組み合わせて、任意の層を備えうる。
 例えば、帯電防止フィルムは、帯電防止層上に反射防止層を備えていてもよい。
 また、帯電防止フィルムは、帯電防止層とは反対側の基材フィルム層の面に、易接着層を備えていてもよい。
[6.帯電防止フィルムの物性及び形状]
 帯電防止フィルムのヘイズ値は、好ましくは0.3%以下、より好ましく0.2%以下、更に好ましくは0.1%以下、特に好ましくは0.05%以下である。帯電防止フィルムがこのような範囲のヘイズ値を有することにより、この帯電防止フィルムを備えた液晶表示装置において、ヘイズによる画像視認性の低下を抑制することができ、鮮明な画像を表示することができる。
 帯電防止フィルムのヘイズ値は、JIS K7136に準拠して、ヘイズメーター(東洋精機社製「ヘイズガードII)を用いて測定しうる。
 帯電防止フィルムの透過色相Lは、好ましくは94.0以上、より好ましくは94.5以上、更に好ましくは94.7以上、特に好ましくは95.0以上であり、好ましくは97.0以下、より好ましくは96.5以下、更に好ましくは96.3以下、特に好ましくは96.0以下である。帯電防止フィルムの透過色相Lを前記範囲に収めることにより、この帯電防止フィルムを備えた液晶表示装置において、画像視認性を良好にできる。
 前記の透過色相Lは、L表色系における座標Lである。帯電防止フィルムの透過色相Lは、分光光度計(日本分光社製「V-7200」)により、C光源を用いて測定しうる。
 帯電防止フィルムの全光線透過率は、好ましくは85%以上、より好ましくは86%以上、特に好ましくは88%以上である。
 帯電防止フィルムの全光線透過率は、紫外・可視分光計を用いて、波長380nm~780nmの範囲で測定しうる。
 帯電防止フィルムは、長尺のフィルムであってもよく、枚葉のフィルムであってもよい。通常、製造効率を高める観点から、帯電防止フィルムは、長尺のフィルムとして製造され、ロール状に巻き取られて運搬及び保管される。また、枚葉の帯電防止フィルムを製造する場合には、通常は、長尺の帯電防止フィルムを所望の形状に切り出すことにより、枚葉の帯電防止フィルムを製造する。
[7.帯電防止フィルムの製造方法]
 帯電防止フィルムは、基材フィルム層上に帯電防止層を形成する工程を含む製造方法により、製造しうる。また、マスキングフィルムを備える帯電防止フィルムは、基材フィルム層上に帯電防止層を形成する工程、及び、基材フィルム層にマスキングフィルムを貼り合わせる工程を含む製造方法により、製造しうる。この際、基材フィルム層にマスキングフィルムを貼り合わせる工程は、基材フィルム層上に帯電防止層を形成する工程の前に行ってもよく、後に行ってもよい。また、製造効率を高める観点から、帯電フィルムの製造方法は、ロールツーロールによって行うことが好ましい。
 中でも、マスキングフィルムを備える長尺の帯電防止フィルムは、基材フィルム層にマスキングフィルムを貼り合わせて複層フィルムを得る工程;この複層フィルムをロール状に巻き取る工程;巻き取られたロール状の複層フィルムを巻き出す工程;及び、巻き出された複層フィルムの基材フィルム層の、マスキングフィルムとは反対側に、帯電防止層を形成する工程;を含む製造方法によって製造することが好ましい。この製造方法において、基材フィルム層は、ロール状に巻き取った複層フィルムに含まれる層として保管され、保管後に巻き出されて帯電防止層の形成工程に供される。ロール状に巻き取られて保管された期間中において、巻き重ねられた複層フィルム間の圧力によっては、基材フィルム層の表面に凹凸形状が形成され易くなる。そこで、複層フィルムを巻き取る際の巻き取り張力を調整することにより、巻き重ねられた複層フィルム間の圧力を制御することが好ましい。また、この製造方法において、複層フィルムを巻き取る際は、マスキングフィルムが外側になるように巻き取ることが好ましい。
 具体的には、前記の巻き取り張力は、好ましくは50N/m以上、より好ましくは70N/m以上、特に好ましくは90N/m以上であり、好ましくは250N/m以下、より好ましくは200N/m以下、特に好ましくは180N/m以下である。複層フィルムの巻き取り張力を前記範囲の下限値以上にすることにより、複層フィルムを安定して巻き取ることができ、前記範囲の上限値以下にすることにより、基材フィルム層の表面での凹凸形状の形成を抑制でき、その結果、帯電防止層の画像鮮明性を上述した所定の範囲に収めやすい。
 巻き取りの際に、必要に応じて、ゴムロールを複層フィルム表面に接触させて、巻き取ってもよい。ゴムロールを複層フィルム表面に接触させるタッチ圧を調整することにより、巻き取りの際の複層フィルムのずれを抑制できる。具体的には、前記のタッチ圧は、好ましくは0.05MPa以上、より好ましくは0.07MPa以上、さらに好ましくは0.10MPa以上であり、好ましくは1.5MPa以下、より好ましくは1.0MPa以下、さらに好ましくは、0.7MPa以下である。複層フィルムのタッチ圧を前記範囲の下限値以上にすることにより、複層フィルムを安定して巻き取ることができ、前記範囲の上限値以下にすることにより、基材フィルム層の表面での凹凸形状の形成を抑制でき、その結果、帯電防止層の画像鮮明性を上述した所定の範囲に収めやすい。
 通常、上述した製造方法によって製造された帯電防止フィルムは、ロール状に巻き取られて保存及び運搬される。そして、帯電防止フィルムは、使用時には、ロールから巻き出され、基材フィルム層からマスキングフィルムを剥離されて帯電防止層とは反対側の基材フィルム層の面を露出させられ、この露出した面を偏光子等の光学部材に貼り合わせられて使用される。
[8.偏光板]
 図2は、本発明の一実施形態に係る偏光板200を模式的に示す断面図である。図2に示すように、上述した帯電防止フィルム100を偏光板保護フィルムとして用いることにより、偏光板200を得ることができる。このような偏光板200は、偏光板保護フィルムとして上述した帯電防止フィルム100を用いたものであり、偏光子210と、帯電防止フィルム100とを備える。この際、帯電防止層120の高い硬度を活用する観点、及び、液晶表示装置における帯電防止層120のアースを容易に行う観点から、帯電防止層120は偏光板200の最表面に露出していることが好ましい。さらに、偏光板200は、必要に応じて、帯電防止フィルム100とは別に、任意の偏光板保護フィルム220を備えていてもよい。図2では、任意の偏光板保護フィルム220と、偏光子210と、基材フィルム層110と、帯電防止層120とをこの順に備える偏光板200を例に示す。
 偏光子としては、任意のものを用いうる。偏光子としては、ポリビニルアルコール系フィルムに、ヨウ素などをドープした後、延伸加工することにより得られるものが一般的である。
 帯電防止フィルムは、通常、帯電防止層よりも基材フィルム層の方が偏光子に近くなる向きで設ける。また、特に帯電防止フィルムの基材フィルム層が1/4波長板として機能しうる場合には、偏光子の透過軸に対して帯電防止フィルムの基材フィルム層の遅相軸が、所定の角度θをなすように配置することが好ましい。前記の角度θは、具体的には、好ましくは40°以上、より好ましくは43°以上であり、好ましくは50°以下、より好ましくは48°以下であり、特に好ましくは45°±1°の範囲内の角度である。このような偏光板を備える液晶表示装置においては、液晶セル及び偏光子を透過した直線偏光を、帯電防止フィルムによって円偏光又は楕円偏光に変換することができる。そのため、画像を円偏光又は楕円偏光で表示できるので、液晶表示装置の使用者が偏光サングラスを装着した状態でも、表示内容を視認可能にすることができる。
 任意の偏光板保護フィルムとしては、光学的に等方な等方性フィルムを用いてもよく、所望のレターデーションを有する位相差フィルムを用いてもよい。偏光板保護フィルムとして位相差フィルムを用いる場合、その位相差フィルムは光学補償機能を発揮して、視野角依存性を改善したり、斜視時の偏光子の光漏れ現象を補償して液晶表示装置の視野角特性を改善したりできる。このような位相差フィルムとしては、例えば、縦一軸延伸フィルム、横一軸延伸フィルム、縦横二軸延伸フィルム、液晶性化合物を重合させてなる位相差フィルム、などを用いうる。位相差フィルムの具体例としては、シクロオレフィン樹脂などの熱可塑性樹脂からなる熱可塑性樹脂フィルムを一軸延伸または二軸延伸したものが挙げられる。また、市販の熱可塑性樹脂フィルムとしては、例えば、日本ゼオン社製の「ゼオノアフィルム」;積水化学工業社製の「エスシーナ」及び「SCA40」;JSR社製の「アートンフィルム」などが挙げられる。
 偏光子、帯電防止フィルム及び偏光板保護フィルムは、接着剤によって貼り合わせられて、一体化されていてもよい。また、偏光子、帯電防止フィルム及び偏光板保護フィルムは、部材表面のプラズマ処理等の処理方法によって、直接に貼り合わせられていてもよい。
 接着剤としては、任意の接着剤を使用でき、例えば、ゴム系、フッ素系、アクリル系、ポリビニルアルコール系、ポリウレタン系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリエーテル系、エポキシ系などの接着剤を用いうる。また、これらの接着剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。中でも、偏光子と帯電防止フィルムとの間には、例えばアクリル系接着剤層のような紫外線硬化型の接着剤層を設け、この紫外線硬化型の接着剤層によって偏光子と帯電防止フィルムとを貼り合わせることが好ましい。これにより、偏光子に対する水分の影響を小さくできるので、偏光子の劣化を抑制できる。この際、接着剤層の膜厚は0.1μm以上2.0μm以下が好ましい。
 偏光板は、偏光子と帯電防止フィルムとを貼り合わせる工程を含む製造方法によって製造しうる。この際、製造を効率的に行う観点から、偏光板は、長尺の偏光子と長尺の帯電防止フィルムとを用いて、長尺の偏光板として製造することが好ましい。このような製造方法は、ロールツーロール法によって行うことができる。通常、このような偏光板を用いて液晶表示装置を製造する場合、長尺の偏光板を適切な大きさに切り出し、切り出した偏光板を液晶表示装置に設ける。この際、偏光板を切り出す方法としては、例えば、レーザー切削、型抜き加工、裁断等の方法を用いうる。
[9.液晶表示装置]
 図3は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置300を模式的に示す断面図である。図3に示すように、上述した帯電防止フィルム100は、液晶表示装置300に設けて使用しうる。このような液晶表示装置300は、液晶セル310と、上述した偏光子210及び帯電防止フィルム100を備える偏光板200とを備えるものである。通常、偏光子210及び帯電防止フィルム100を備える偏光板200は、液晶セル310の視認側に設けられ、帯電防止フィルム100は偏光子210の視認側に設けられる。また、図3では、任意の偏光板320、液晶セル310、任意の偏光板保護フィルム220、偏光子210、基材フィルム層110及び帯電防止層120をこの順に備える液晶表示装置300を例に示す。また、任意の偏光板320としては、偏光板保護フィルム330、偏光子340及び偏光板保護フィルム350をこの順に備える例を示す。
 帯電防止フィルムは、帯電防止層を備えることによって優れた帯電防止性を有するので、液晶セルの液晶分子の駆動制御を安定化させることができる。また、帯電防止層の表面の画像鮮明性が所定範囲にあるので、画像の視認性を良好にできる。さらに、帯電防止フィルムの基材フィルム層が脂環式構造含有重合体を含む熱可塑性樹脂からなるので、トリアセチルセルロース等の材料からなる偏光板保護フィルムを備える従来の液晶表示装置に比べ、耐熱性及び耐湿性を良好にできる。
 また、通常、前記の帯電防止フィルムは透明性に優れるので、画像の鮮明性を良好にできる。さらに、このような帯電防止フィルムは、貼り合わせに際して水系の接着剤を使用する必要がないため、高温高湿下での耐久試験での品質低下を抑制できる。また、特に帯電防止フィルムの基材フィルム層が紫外線吸収剤を含む場合、液晶表示装置を製造するときに浴びる紫外線、及び、液晶表示装置を使用するときに浴びる外光中の紫外線から、液晶セル及び偏光子等の構成部材を保護できる。
 液晶セルとしては、TN方式、VA方式、IPS方式等の任意のものを使用しうる。その中でも、IPS方式の液晶セルが、視野角が変わった場合に液晶表示の表示色が変わらないため、好ましい。よって、上述した帯電防止フィルムは、IPS方式の液晶表示装置に設けることが好ましい。
 また、液晶表示装置をタッチパネルセンサーとして使用する場合、液晶表示装置全体の厚さの低減のため、インセルタイプの液晶セルを使用することが好ましい。インセルタイプの液晶セルは、帯電し易い傾向があるので、上述した帯電防止フィルムを適用することの利点を特に有効に活用できる。
 液晶表示装置において、液晶セルと帯電防止フィルムの帯電防止層とは導通されていることが好ましい。具体例を挙げると、液晶セルと帯電防止フィルムの帯電防止層とが電極(図3の引き出し電極360参照。)によって電気的に接続されて、液晶セルと帯電防止層とが導通されていることが好ましい。これにより、液晶セルに貯まった電荷を帯電防止層に逃がして液晶セルの帯電を抑制できるので、液晶セルの液晶分子の駆動制御を効果的に安定化させることができる。
 さらに、液晶表示装置において、帯電防止層は、液晶表示装置が備える任意の導電性部材と電気的に接続されることにより、アースされていることが好ましい。これにより、液晶セルの帯電を効果的に抑制できるので、液晶セルの液晶分子の駆動制御を効果的に安定化させることができる。
 帯電防止層と任意の導電性部材とは、通常、導線により接続される。この導線は、通常、銀ペースト、カーボンテープ、金属テープ等の導電性接着材料により、帯電防止層の表面に固着される。よって、帯電防止層と任意の導電性部材とを電気的に接続するアース処理は、当該アース処理を効率的に行う観点から、帯電防止層の表面が露出した状態によって行われることが好ましい。帯電防止層と任意の導電性部材とを接続する導線は、帯電防止層の表面の1か所で帯電防止層に接続されていてもよく、帯電防止層の表面の複数個所で帯電防止層に接続されていてもよい。
 任意の導電性部材としては、液晶表示装置の画像表示を妨げないようにする観点から、画像を視認できる範囲外に設けられた部材を用いることが好ましい。さらに、任意の導電性部材としては、帯電抑制効果を高める観点から、体積抵抗率が小さい部材を用いることが好ましい。任意の導電性部材の具体的な体積抵抗率は、好ましくは1.0×10Ωm以下、より好ましくは1.0×10Ωm以下、更に好ましくは1.0Ωm以下、特に好ましくは1.0×10-3Ωm以下である。このような任意の導電性部材の材質としては、例えば、ケイ素;炭素;鉄、アルミニウム、銅、金、銀等の金属;ニクロム等の合金;などが挙げられる。
 液晶表示装置において、液晶表示装置に含まれる液晶セル及び偏光板等の部材は、必要に応じて接着剤によって貼り合わせられていてもよい。接着剤としては、例えば、ウレタン系接着剤、アクリル系接着剤、ポリエステル系接着剤、エポキシ系接着剤、酢酸ビニル系接着剤、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、セルロース系接着剤等が挙げられる。接着剤層の厚みは、好ましくは10μm~25μmである。
 以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものでは無く、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。以下の説明において、量を表す「%」及び「部」は、別に断らない限り、重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。
[評価方法]
 (金属酸化物粒子の平均連結数の測定方法)
 金属酸化物粒子の鎖状連結体の写真を、透過型電子顕微鏡によって撮影した。この写真から、金属酸化物粒子の鎖状連結体100個について、それぞれの鎖状連結体における連結数を求め、その平均値を計算し、小数点以下1桁を四捨五入して、金属酸化物粒子の平均連結数を求めた。
 (基材フィルム層の厚みの測定方法)
 基材フィルム層の厚みは、接触式膜厚計(ミツトヨ社製「ダイヤルゲージ」)にて測定した。
 基材フィルム層に含まれる各層の厚みは、基材フィルム層をエポキシ樹脂で包埋した後に、ミクロトームを用いて0.05μm厚みにスライスし、顕微鏡を用い断面観察を行い、算出した。
 (基材フィルム層の測定波長380nmにおける光線透過率の測定方法)
 基材フィルム層の測定波長380nmにおける光線透過率は、分光光度計(日本分光社製「V-650」)で測定した。
 (基材フィルム層の面内レターデーションRe及び配向角の測定)
 波長550nmのおける基材フィルム層の面内レターデーションRe及び配向角は、アクソスキャン(Axiometric社製「Axoscan」)で測定した。
 (マスキングフィルムの表面粗さの測定方法)
 マスキングフィルムの算術平均粗さRa及び凹凸間の平均間隔Smの測定は、干渉式表面粗さ測定装置(Zygo社製「NewView7300」)を用いて、マスキングフィルムの基材フィルム層に接触する側の表面(粘着面側)をMD方向で測定することにより、行った。また、測定は、対物レンズ1.0倍の条件で行った。
 (マスキングフィルムの表面Si量の測定)
 マスキングフィルムの表面のSi量は、X線光電子分光測定により算出した。
 (マスキングフィルムのヘイズの測定方法)
 マスキングフィルムのヘイズ値は、JIS K7136に準拠して、ヘイズメーター(東洋精機社製「ヘイズガードII)を用いて測定した。このヘイズ値の測定は、支持フィルム層側から光を入射して行った。
 (帯電防止層の画像鮮明性の測定方法)
 Gardner WaveScanII(BYK社製)を用いて、基材フィルム層とは反対側の帯電防止層の表面に対して入射角度60°でLED光を照射し、反射角度60°で検出した強度のプロファイルから、画像鮮明性(DOI)を算出した。測定方法は、ASTM E430の規格に準拠した。
 (帯電防止層の表面抵抗値の測定方法)
 帯電防止フィルムを10cm×10cmの正方形に切り出して、試料フィルムを得た。この試料フィルムの帯電防止層側の面における表面抵抗値を、JIS K6911に準拠して、ディジタル超絶縁/微少電流計(日置電気社製「DSM-8104」)を用いて測定した。
 (帯電防止層の厚みの測定方法)
 帯電防止層の厚みは、干渉式膜厚計(フィルメトリクス社製「F20膜厚測定システム」)にて測定した。
 (帯電防止フィルムのヘイズ値の測定方法)
 帯電防止フィルムのヘイズ値は、JIS K7136に準拠して、ヘイズメーター(東洋精機社製「ヘイズガードII)を用いて測定した。
 (基材フィルム層と帯電防止層との屈折率差の測定方法)
 基材フィルム層及び帯電防止層の屈折率を、屈折率膜厚測定装置(Metricon社製「プリズムカプラ」)にて、波長407nm、波長532nm、及び波長633nmの3波長で測定した。基材フィルム層が延伸フィルムである場合は、延伸方向の屈折率(ns)、延伸方向に垂直な面内方向の屈折率(nf)、厚み方向の屈折率(nz)から、(ns+nf+nz)/3の式で基材フィルム層の平均屈折率を計算し、この平均屈折率を当該基材フィルム層の屈折率の測定値として採用した。また、基材フィルム層が、一軸延伸フィルムである場合、厚み方向の屈折率(nz)は、延伸方向に垂直な面内方向の屈折率(nf)と等しいと近似して計算した。帯電防止層は、配向しておらず屈折率はどの方向でも一定であるため、長手方向の屈折率を当該帯電防止層の屈折率の測定値として採用した。この測定した値を元に、コーシーフィッティングを行い、波長550nmでの基材フィルム層及び帯電防止層それぞれの屈折率を算出した。この算出した屈折率の差の絶対値を計算し、屈折率差とした。
 (液晶表示装置の画像の視認性の評価方法)
 液晶表示装置の表示面に画像を表示させた状態で、表示面を、正面から偏光サングラスを通して見た。観察は、表示面に垂直な回転軸を中心にして表示面を45°ずつ回転して、8つの設置方向で行った。
 このとき、いずれの設置方向でも画像の色味が変化せず、画像がクリアに視認できる場合には、画像の視認性が特に良好であるとして「3」と判定した。
 また、画像がわずかにぼやけたり、設置方向によって画像の色味変化がわずかに生じ、画像の視認性がわずかに悪化したが使用上実害のない場合には、画像の視認性が良好であるとして「2」と判定した。
 さらに、画像がひどくぼやけたり、設置方向による色味変化、又は、表示ムラがひどく生じた場合には、画像の視認性が不良であるとして「1」と判定した。
 (液晶表示装置の液晶駆動の安定性の評価方法)
 液晶表示装置のタッチパネルを操作した。このとき、液晶駆動の乱れが発生することなく画像が視認できる場合には、液晶駆動の安定性が特に良好であるとして「3」と判定した。また、まれに液晶駆動の乱れが発生する場合には、液晶駆動の安定性が良好であるとして「2」と判定した。さらに、画像が乱れて表示ムラが見られる場合には、液晶駆動の安定性が不良であるとして「1」と評価した。
[製造例1:金属酸化物粒子の製造]
 錫酸カリウム130gと酒石酸アンチモニルカリウム30gを純水400gに溶解した混合溶液を調製した。
 硝酸アンモニウム1.0gと15%アンモニア水12gを純水1000gに溶解させた水溶液を用意した。この水溶液を60℃で撹拌しながら、この水溶液に前記の混合溶液を12時間かけて添加して、加水分解を行った。また、この際、前記の水溶液をpH9.0に保つように、10%硝酸溶液を前記水溶液に同時に添加した。加水分解により、水溶液中に沈殿物が生成した。
 生成した沈殿物を濾別洗浄した後、再び水に分散させて、固形分濃度20重量%のSbドープ酸化スズ前駆体の水酸化物の分散液を調製した。この分散液を温度100℃で噴霧乾燥して、粉末を得た。得られた粉体を、空気雰囲気下、550℃で2時間加熱処理することにより、アンチモンドープ酸化スズの粉末を得た。
 この粉末60部を、濃度4.3重量%の水酸化カリウム水溶液140部に分散させて、水分散液を得た。この水分散液を30℃に保持しながらサンドミルで3時間粉砕して、ゾルを調製した。次に、このゾルに、イオン交換樹脂で、pHが3.0になるまで脱アルカリイオン処理を行った。次いで、このゾルに純水を加えて、アンチモンドープ酸化スズの粒子を固形分濃度20重量%で含む、粒子分散液を調製した。この粒子分散液のpHは、3.3であった。また粒子の平均粒子径は、9nmであった。
 次いで、前記の粒子分散液100gを25℃に調整し、テトラエトキシシラン(多摩化学製:正珪酸エチル、SiO濃度28.8%)4.0gを3分で添加した後、30分攪拌を行った。その後、これにエタノール100gを1分かけて添加し、30分間で50℃に昇温し、15時間加熱処理を行った。加熱処理後の分散液の固形分濃度は10%であった。
 次いで、限外濾過膜にて、分散媒である水及びエタノールをエタノールに置換した。これにより、金属酸化物粒子(P1)として、シリカで被覆されたアンチモンドープ酸化スズの粒子を固形分濃度20%で含む分散液を得た。前記の金属酸化物粒子(P1)は、複数個が凝集することにより鎖状に連結していた。このとき、金属酸化物粒子(P1)の平均連結数は、5個であった。
[実施例1]
 (1-1.帯電防止剤の製造)
 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(以下、「DP6A」と略記することがある。)、ジペンエリスリトールペンタアクリレート(以下、「DP5A」と略記することがある。)及びジペンタエリスリトールテトラアクリレート(以下、「DP4A」と略記することがある。)を含む、紫外線硬化型の重合性単量体の組成物(R1)を用意した。この重合性単量体の組成物(R1)において、各成分の重量比は、DP6A/DP5A/DP4A=64/17/19であった。また、重合性単量体の組成物(R1)の固形分の濃度は100%であった。
 イソホロンジイソシアネート222重量部と、ペンタエリスリトールトリアクリレート(以下、「PE3A」と略記することがある。)及びペンタエリスリトールテトラアクリレート(以下、「PE4A」と略記することがある。)の混合物(PE3A/PE4A=75/25(重量比))795重量部とのウレタン反応アクリレートである多官能ウレタンアクリレート(U1)を用意した。この多官能ウレタンアクリレート(U1)の固形分の濃度は100%であった。
 エタノール、ノルマルプロピルアルコール、メタノール及び水の混合物であるミックスエタノールを用意した。このミックスエタノールにおいて、各成分の重量比は、エタノール/ノルマルプロピルアルコール/メタノール/水=85.5/9.6/4.9/0.2であった。
 前記の重合性単量体の組成物(R1)29.4重量部、前記の多官能ウレタンアクリレート(U1)12.6重量部、メチルエチルケトン7.3重量部、前記のミックスエタノール7.3重量部、アセチルアセトン7.3重量部、及び光重合開始剤(BASFジャパン株式会社製「イルガキュア184」固形分100%)0.86重量部を十分混合して、混合液を得た。この混合液に、製造例1で製造した金属酸化物粒子(P1)(固形分20%)の分散液35.0重量部、及び、アクリル系界面活性剤(固形分100%)0.24重量部を加え、均一に混合して、帯電防止剤(A1)として活性エネルギー線硬化性を有する液状組成物を得た。
 (1-2.基材フィルム層の製造及びマスキングフィルムとの貼り合わせ)
 乾燥させた脂環式構造含有重合体を含む熱可塑性樹脂(COP1)(日本ゼオン社製、ガラス転移温度123℃)100部、及び、ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤(ADEKA社製「LA-31」)5.5部を、二軸押出機により混合した。次いで、その混合物を、押出機に接続されたホッパーへ投入し、単軸押出機へ供給し溶融押出して、紫外線吸収剤を含む熱可塑性樹脂(J1)を得た。この熱可塑性樹脂(J1)における紫外線吸収剤の量は、5.2重量%であった。
 目開き3μmのリーフディスク形状のポリマーフィルターを備えた、ダブルフライト型のスクリュー径50mm単軸押出機(スクリュー有効長さLとスクリュー径Dとの比L/D=32)を用意した。この単軸押出機に装填されたホッパーへ、前記の熱可塑性樹脂(J1)を投入した。そして、この熱可塑性樹脂(J1)を溶融させ、押出機の出口温度280℃、押出機のギヤポンプの回転数10rpmで、溶融した熱可塑性樹脂(J1)をマルチマニホールドダイに供給した。このマルチマニホールドダイのダイスリップの算術表面粗さRaは、0.1μmであった。
 他方、熱可塑性樹脂(J1)を投入された単軸押出機とは別に、目開き3μmのリーフディスク形状のポリマーフィルターを備えた、スクリュー径50mmの単軸押出機(L/D=32)を用意した。この単軸押出機に装填されたホッパーへ、熱可塑性樹脂(J1)の製造に用いたのと同様の脂環式構造含有重合体を含む熱可塑性樹脂(COP1)を投入した。そして、この熱可塑性樹脂(COP1)を溶融させ、押出機の出口温度285℃、押出機のギヤポンプの回転数4rpmで、溶融した熱可塑性樹脂(COP1)を前記のマルチマニホールドダイに供給した。
 溶融状態の熱可塑性樹脂(COP1)、紫外線吸収剤を含む溶融状態の熱可塑性樹脂(J1)、及び、溶融状態の熱可塑性樹脂(COP1)を、それぞれマルチマニホールドダイから280℃で吐出させ、150℃に温度調整された冷却ロールにキャストして、延伸前フィルムを得た。樹脂の吐出の際、エアギャップ量は50mmに設定した。また、吐出された樹脂を冷却ロールにキャストする方法として、エッジピニングを採用した。
 得られた延伸前フィルムは、熱可塑性樹脂(COP1)からなる厚み8.5μmの樹脂層、紫外線吸収剤を含む熱可塑性樹脂(J1)からなる厚み18μmの樹脂層、及び、熱可塑性樹脂(COP1)からなる厚み8.5μmの樹脂層をこの順に備える、3層構造のフィルムであった。また、延伸前フィルムの幅は1400mm、総厚みは35μmであった。こうして得た延伸前フィルムに、当該延伸前フィルムの幅方向の両端部50mmずつを切り除くトリミング処理を施して、幅を1300mmにした。
 前記の延伸前フィルムを、延伸温度140℃、延伸速度20m/minの条件で、延伸前フィルムの長手方向に対して平行でもなく垂直でもない斜め方向に延伸して、基材フィルム層としての延伸フィルムを得た。
 その後、この基材フィルム層に冷却ゾーンを通過させて冷却した後、基材フィルム層の一方の面に、マスキングフィルム1を貼り合わせて、複層フィルムを得た。前記のマスキングフィルム1は、ポリエチレンテレフタレートからなる支持フィルム層(厚さ38μm)と、アクリル系粘着剤からなる粘着層(厚さ14μm)とを備えていて、粘着層側の表面としての粘着面(算術平均粗さRa=0.01μm、凹凸間の平均間隔Sm=0.9mm)で基材フィルム層に貼り合わせられた。また、マスキングフィルム1の粘着面とは反対側の表面のSi量は1.0atm%以下、マスキングフィルム1のヘイズは3.0%であった。
 その後、得られた複層フィルムの端部をトリミングしながら、巻き取り張力120N/m、ゴム製のタッチロールを用いタッチ圧0.2MPaの条件で、マスキングフィルム1が外側になるように巻き取って、幅1330mmのロール状の複層フィルムを得た。得られた複層フィルムは、熱可塑性樹脂(COP1)からなる厚み6.0μmの第一表面層、紫外線吸収剤を含む熱可塑性樹脂(J1)からなる厚み13.0μmの中間層、及び、熱可塑性樹脂(COP1)からなる厚み6.0μmの第二表面層を備える基材フィルム層;並びに、厚み52μmのマスキングフィルム;を、この順に備えていた。
 複層フィルムのロールから複層フィルムの一部を引き出し、マスキングフィルムを剥離し、上述の方法で、基材フィルム層の面内レターデーションRe、配向角、及び、波長380nmにおける光線透過率を測定した。
 (1-3.帯電防止フィルムの製造)
 ロール状に巻き取られた複層フィルムを、巻き取った状態で24時間保管した。その後、ロールから複層フィルムを引き出し、マスキングフィルム1とは反対側の基材フィルム層の面に、コロナ処理(出力0.4kW、放電量200W・min/m)を施した。このコロナ処理を施された面に、帯電防止剤(A1)を、硬化後に得られる帯電防止層の厚みが3.0μmとなるように、ダイコーターを用いて塗工して、帯電防止剤(A1)の膜を形成した。前記の帯電防止剤(A1)の塗工は、相対湿度50%の環境において行った。
 その後、この帯電防止剤(A1)の膜を、60℃で2分間乾燥したのち、高圧水銀ランプで250mJ/cmの光を照射して硬化させることで、帯電防止層を得た。これにより、マスキングフィルム1、基材フィルム層及び帯電防止層をこの順に備える帯電防止フィルムを得た。得られた帯電防止フィルムは、巻き取り張力200Nで、ロール状に巻き取った。こうして得られた帯電防止層及び帯電防止フィルムの評価を、上述した方法によって行った。
 (1-4.偏光板の製造)
 樹脂フィルムにヨウ素をドープして一方向に延伸して製造された偏光子を用意した。また、前記の帯電防止フィルムのロールから帯電防止フィルムを引き出し、マスキングフィルム1を剥離して、帯電防止層とは反対側の基材フィルム層の面を露出させた。そして、露出した基材フィルム層の面と、前記の偏光子の片面とを、紫外線硬化型のアクリル接着剤で貼り合わせた。この際、基材フィルム層の遅相軸は、偏光子の透過軸に対して45°の角度をなすようにした。
 また、偏光子のもう片面には、偏光板保護フィルムとして、横一軸延伸を施されたシクロオレフィンフィルムを、紫外線硬化型のアクリル接着剤で貼り合せた。この際、シクロオレフィンフィルムの遅相軸は、偏光子の透過軸に対して平行にした。
 その後、紫外線を照射して接着剤を硬化させることにより、偏光板保護フィルム、接着剤の層、偏光子、接着剤の層、基材フィルム層及び帯電防止層を厚み方向においてこの順に備える偏光板を得た。
 (1-5.液晶表示装置の製造)
 タッチセンサーを備える、インセルタイプの液晶セルを含む液晶パネルに、前記の偏光板を組み込んで、液晶表示装置を製造した。この際、偏光板の向きは、帯電防止層側の面が視認側に向くように設定した。
 製造された液晶表示装置の画像の視認性を、上述の方法で評価した。評価の結果、液晶表示装置の表示面を偏光サングラスを通して見たときに、色味が変化せず、ぼやけることが無く、画像を視認できたため、「3」と判定した。
 また、製造された液晶表示装置の液晶駆動の安定性を、上述の方法で評価した。評価の結果、液晶表示装置のタッチパネルを操作した時に、液晶駆動の乱れが発生することなく画像が視認できたので、「3」と判定した。
[実施例2]
 前記工程(1-3)において、帯電防止剤(A1)の塗工厚みを調整することにより、帯電防止層の厚みを1.2μmに変更した。以上の事項以外は実施例1と同様にして、帯電防止フィルムの製造及び評価、並びに、液晶表示装置の製造及び評価を行った。この実施例2では、液晶表示装置の液晶駆動の安定性の評価において、帯電によって液晶駆動にわずかにムラが見られたが、使用上実害の無い程度であった。
[実施例3]
 前記工程(1-3)において、帯電防止剤(A1)の塗工厚みを調整することにより、帯電防止層の厚みを11.0μmに変更した。以上の事項以外は実施例1と同様にして、帯電防止フィルムの製造及び評価、並びに、液晶表示装置の製造及び評価を行った。この実施例3では、ヘイズ値の上昇に伴って、実施例1よりも液晶表示装置の画像がわずかにぼやけ、液晶表示装置の視認性がわずかに悪くなったが、使用上実害の無い程度であった。
[実施例4]
 前記工程(1-1)において、製造例1で製造した金属酸化物粒子(P1)の分散液の量を5.0重量部に変更した。以上の事項以外は実施例1と同様にして、帯電防止フィルムの製造及び評価、並びに、液晶表示装置の製造及び評価を行った。この実施例4では、実施例1と比較して、金属酸化物粒子(P1)の密度が減ったことにより帯電防止層の屈折率が低くなり、基材フィルム層と帯電防止層との屈折率差が大きくなり、干渉ムラが生じたので、液晶表示装置の画像にわずかに色ムラが生じ、液晶表示装置の視認性がわずかに悪くなった。また、表面抵抗値が上がったことで、液晶駆動にわずかにムラが見られた。しかし、画像視認性および液晶駆動の安定性は、使用上実害が無い程度であった。
[実施例5]
 前記工程(1-1)において、製造例1で製造した金属酸化物粒子(P1)の分散液の量を100.0重量部に変更した。以上の事項以外は実施例1と同様にして、帯電防止フィルムの製造及び評価、並びに、液晶表示装置の製造及び評価を行った。この実施例5では、実施例1と比較して、金属酸化物粒子(P1)の密度が増えたことにより帯電防止層の屈折率が高くなり、基材フィルム層と帯電防止層との屈折率差が大きくなり、干渉ムラが生じたので、液晶表示装置の画像にわずかに色ムラが生じ、液晶表示装置の視認性がわずかに悪くなったが、使用上実害が無い程度であった。
[実施例6]
 前記工程(1-2)において、マスキングフィルム1をマスキングフィルム2に変更した。このマスキングフィルム2は、ポリエチレンからなる支持フィルム層(厚さ40μm)と、アクリル系粘着剤からなる粘着層(厚さ10μm)とを備えていて、粘着層側の表面としての粘着面(算術平均粗さRa=0.05μm、凹凸間の平均間隔Sm=0.71mm)で基材フィルム層に貼り合わせられた。また、マスキングフィルム2の粘着面とは反対側の表面のSi量は1.0atm%以下、マスキングフィルム2のヘイズは3.5%であった。以上の事項以外は実施例1と同様にして、帯電防止フィルムの製造及び評価、並びに、液晶表示装置の製造及び評価を行った。この実施例6では、実施例1と比較して、マスキングフィルムの表面粗さが高くなったため、帯電防止層の画像鮮明性(DOI)が低下した。そのため、液晶表示装置の画像に表示ムラが生じ、液晶表示装置の視認性がわずかに悪くなったが、使用上実害が無い程度であった。
[実施例7]
 前記工程(1-2)において、延伸前フィルムの延伸温度を143℃に変更した。以上の事項以外は実施例1と同様にして、帯電防止フィルムの製造及び評価、並びに、液晶表示装置の製造及び評価を行った。この実施例7では、実施例1と比較して、基材フィルム層の面内レターデーションが低下したため、液晶表示装置の設置位置を変化させた際に、色味変化がわずかに見られ液晶表示装置の視認性がわずかに悪くなったが、使用上実害が無い程度であった。
[実施例8]
 前記工程(1-2)において、延伸前フィルムを製造する時のギアポンプの回転数を調整して延伸前フィルムの厚みを70μmに変更し、更に、延伸前フィルムの延伸温度を147℃に変更した。以上の事項以外は実施例1と同様にして、帯電防止フィルムの製造及び評価、並びに、液晶表示装置の製造及び評価を行った。この実施例8では、実施例1と比較して、基材フィルム層の面内レターデーションが増加したため、液晶表示装置の設置位置を変化させた際に、色味変化がわずかに見られ液晶表示装置の視認性がわずかに悪くなったが、使用上実害が無い程度であった。
[比較例1]
 前記工程(1-1)において、製造例1で製造した金属酸化物粒子(P1)の分散液を使用しなかった。以上の事項以外は実施例1と同様にして、帯電防止フィルムの製造及び評価、並びに、液晶表示装置の製造及び評価を行った。この比較例1では、液晶表示装置の液晶駆動に大きなムラが生じ、操作不良といった実害が生じた。
[比較例2]
 前記工程(1-2)において、マスキングフィルム1をマスキングフィルム3に変更した。このマスキングフィルム3は、ポリエチレンからなる支持フィルム層(厚さ30μm)と、微粘着層(厚さ10μm)とを備えていて、微粘着層側の表面としての粘着面(算術平均粗さRa=0.09μm、凹凸間の平均間隔Sm=0.53mm)で基材フィルム層に貼り合わせられた。また、マスキングフィルム3の粘着面とは反対側の表面のSi量は1.0atm%以下、マスキングフィルム3のヘイズは5.5%であった。以上の事項以外は実施例1と同様にして、帯電防止フィルムの製造及び評価、並びに、液晶表示装置の製造及び評価を行った。この比較例2では、実施例1と比較して、マスキングフィルムの表面粗さが高くなり、画像鮮明性(DOI)が大幅に低下した。そのため、液晶表示装置の画像に大きな表示ムラが発生し、操作不良といった実害が生じた。
[結果]
 上述した実施例及び比較例の結果を、下記の表1及び表2に示す。下記の表において、略称の意味は、以下の通りである。
 Re:面内レターデーション。
 Ra:算術平均粗さ。
 Sm:凹凸間の平均間隔。
 屈折率差:基材フィルム層と帯電防止層との屈折率差。
 DOI:帯電防止層の表面の画像鮮明性。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
[検討]
 実施例において製造された帯電防止フィルムは、いずれも帯電防止層の表面抵抗値が小さいので、高い帯電防止性を有することが分かる。また、実施例において製造された帯電防止フィルムは、いずれも画像鮮明性が高く、外観が良好である。さらに、これらの実施例で製造した帯電防止フィルムを備える液晶表示装置は、画像の視認性及び液晶駆動の安定性の両方に優れる。したがって、本発明により、液晶表示装置の画像の視認性及び液晶駆動の安定性の両方を良好にできるので、液晶表示装置の画質を効果的に改善できることが確認された。
 100 帯電防止フィルム
 110 基材フィルム層
 120 帯電防止層
 130 マスキングフィルム
 200 偏光板
 210 偏光子
 220 偏光板保護フィルム
 300 液晶表示装置
 310 液晶セル
 320 偏光板
 330 偏光板保護フィルム
 340 偏光子
 350 偏光板保護フィルム
 360 引き出し電極

Claims (16)

  1.  脂環式構造を含有する重合体を含む熱可塑性樹脂からなる基材フィルム層と、前記基材フィルム層上に設けられ導電性を有する金属酸化物粒子を含む帯電防止層と、を備える、帯電防止フィルムであって、
     前記帯電防止層の表面抵抗値が、1.0×10Ω/□以上1.0×1010Ω/□以下であり、
     前記帯電防止層の表面の画像鮮明性が、90以上である、帯電防止フィルム。
  2.  前記帯電防止層とは反対側の前記基材フィルム層の面に、マスキングフィルムを備える、請求項1記載の帯電防止フィルム。
  3.  前記マスキングフィルムが、前記基材フィルム層側の面で前記基材フィルム層に接していて、
     前記基材フィルム層に接する前記マスキングフィルムの面の算術平均粗さRa及び凹凸間の平均間隔Smが、下記式(i)及び式(ii)を満たす、請求項2記載の帯電防止フィルム。
     Ra<0.08μm 式(i)
     Sm>0.6mm  式(ii)
  4.  前記基材フィルム層が、第一表面層、中間層及び第二表面層をこの順に備え、
     前記中間層が、紫外線吸収剤を含み、
     前記基材フィルム層の厚みが、10μm以上60μm以下であり、
     前記基材フィルム層の波長380nmにおける光線透過率が、10%以下である、請求項1~3のいずれか1項に記載の帯電防止フィルム。
  5.  前記帯電防止層が、単層構造を有し、
     前記帯電防止層の厚みが、0.8μm~10.0μmである、請求項1~4のいずれか1項に記載の帯電防止フィルム。
  6.  前記帯電防止層と前記基材フィルム層との屈折率差が、0.03以下である、請求項1~5のいずれか1項に記載の帯電防止フィルム。
  7.  前記帯電防止フィルムのヘイズ値が、0.3%以下である、請求項1~6のいずれか1項に記載の帯電防止フィルム。
  8.  ロール状に巻き取られた長尺のフィルムである、請求項1~7のいずれか1項に記載の帯電防止フィルム。
  9.  前記基材フィルム層の波長550nmにおける面内レターデーションが、80nm~180nmであり、且つ、
     前記基材フィルム層の遅相軸が、前記基材フィルム層の長手方向に対して、45°±5°の角度をなす、請求項8記載の帯電防止フィルム。
  10.  請求項1~9のいずれか1項に記載の帯電防止フィルムを備える、偏光板。
  11.  液晶セルと、請求項10記載の偏光板とを備えた、液晶表示装置。
  12.  前記液晶セルと、前記帯電防止フィルムの前記帯電防止層とが、導通されている、請求項11に記載の液晶表示装置。
  13.  前記液晶表示装置がIPS方式である、請求項11又は12に記載の液晶表示装置。
  14.  脂環式構造を含有する重合体を含む熱可塑性樹脂からなる基材フィルム層に、マスキングフィルムを貼り合わせて、複層フィルムを得る工程、
     前記複層フィルムをロール状に巻き取る工程、
     巻き取られたロール状の前記複層フィルムを巻き出す工程、及び、
     巻き出された前記複層フィルムの前記基材フィルム層の、前記マスキングフィルムとは反対側に、導電性を有する金属酸化物粒子を含む帯電防止層を形成する工程、を含む帯電防止層の製造方法であって、
     前記帯電防止層の表面抵抗値が、1.0×10Ω/□以上1.0×1010Ω/□以下であり、
     前記帯電防止層の表面の画像鮮明性が、90以上である、帯電防止フィルムの製造方法。
  15.  前記基材フィルム層に接する前記マスキングフィルムの面の算術平均粗さRa及び凹凸間の平均間隔Smが、下記式(i)及び式(ii)を満たす、請求項14に記載の帯電防止フィルムの製造方法。
     Ra<0.08μm 式(i)
     Sm>0.6mm  式(ii)
  16.  前記複層フィルムをロール状に巻き取る工程において、ゴムロールを前記複層フィルム表面に、タッチ圧が0.05MPa以上、1.5MPa以下の条件で接触させ、巻き取り張力が50N/m以上、250N/m以下の条件で、前記マスキングフィルムが外側になるように巻き取る、請求項14又は15に記載の帯電防止フィルムの製造方法。
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