JP2008233882A - 光学フィルム、並びに光学フィルムを用いた偏光板及び液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】紫外線による劣化が小さく、且つ反射防止能が優れ、湿度による寸法変化を抑制し、膜性が強く、製造工程や取扱時（塗布、搬送時等）における層の剥離を回避でき、かつ透明性、耐傷性に優れた光学フィルムを提供すること。また、紫外線防止に加え、反射防止性その他の光学性能に優れた反射防止フィルムを得ること。また、別に、上記の反射防止フィルムを具備した高品位な偏光板及び液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】脂環式構造を有する重合体からなるフィルム状支持体の少なくとも片面に、紫外線吸収層及びハードコート層をこの順に設けてなる光学フィルムであって、該紫外線吸収層の２００ｎｍ〜３４０ｎｍの波長域における光線透過率が５％以下あり、該紫外線吸収層が金属酸化物微粒子、ポリマー粒子から選ばれる少なくとも１種の紫外線吸収剤を含有する光学フィルム。
【選択図】なし

Description

本発明は、光学フィルム、並びにそれを用いた偏光板及び液晶表示装置に関する。

情報産業の著しい発達に伴って、各所で表示装置が活用されるようになっている。特に液晶表示装置の発達はめざましく、様々な機器に搭載されるようになった。これら液晶表示装置において、設置環境での表示品質の安定性は重要な項目となっている。

液晶表示装置に使用される偏光板は、通常、２枚の保護フィルムで偏光子をサンドイッチして作られており、偏光板保護フィルムとしてはトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が好ましく用いられている。しかしながら、ＴＡＣは水分をある程度透過させるため長期間の高湿状態や低湿状態にさらされると光漏れ等が発生し、表示品質が保てず問題となる場合がある。

一方、脂環式構造を有する重合体は、透明性、耐熱性、耐薬品性に優れているのに加え、低吸水性であるため、偏光板保護フィルムに用いることが知られている。しかしながらこの方法では、ＴＡＣを用いた場合に比べ、偏光板の、上記に挙げたような耐久性は向上するものの、脂環式構造を有する重合体が３００ｎｍより長波長の紫外線を吸収しないため、偏光板保護フィルム自体が紫外線によって劣化したり、その下層の偏光子や、カラーフィルター、液晶分子などが劣化したりするという問題があった。

紫外線による劣化を防止するため、紫外線をカットすることが検討されており、その方法としては、紫外線吸収剤を、脂環式構造を有する重合体フィルムに含ませる技術が開示されている（特許文献１参照）。
特開２００２−２４９６００号公報

しかしながら、紫外線吸収剤を含んだ脂環式構造を有する重合体フィルムは、偏光板保護フィルムの強度向上のためなどにしばしば積層して用いられるハードコート層との密着性が悪く、フィルムからハードコート層が剥がれてしまうという問題があった。
本発明は、前記従来における諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、紫外線による劣化が小さく、且つ反射防止能、湿度による寸法変化の抑制に優れ、膜性が強く、製造工程や取扱時（塗布、搬送時等）における層の剥離を回避でき、かつ透明性、耐傷性に優れた光学フィルムを提供することを目的とする。また本発明は紫外線防止に加え、反射防止性その他の光学性能に優れた反射防止フィルムを得ることである。本発明の別の目的は、上記の反射防止フィルムを具備した高品位な偏光板及び液晶表示装置を提供することにある。

本発明者らは、鋭意検討の結果、脂環式構造を有する重合体からなる支持体上に紫外線防止層、ハードコート層を順次積層し、紫外線吸収剤として金属酸化物微粒子、ポリマー粒子から選ばれる少なくとも一種を含有することで紫外線防止性と反射防止を両立させ、バランスのよい反射防止フィルムが得られることを見出した。

本発明によれば、下記構成の光学フィルム、偏光板、及び液晶表示装置が提供され、上記目的が達成される。

（１）
脂環式構造を有する重合体からなるフィルム状支持体の少なくとも片面に、紫外線吸収層及びハードコート層をこの順に設けてなる光学フィルムであって、該紫外線吸収層の２００ｎｍ〜３４０ｎｍの波長域における光線透過率が５％以下あり、該紫外線吸収層が金属酸化物微粒子、ポリマー粒子から選ばれる少なくとも１種の紫外線吸収剤を含有する光学フィルム。
（２）
金属酸化物微粒子が、平均一次粒子径１〜１００ｎｍの範囲の酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄から選ばれる少なくとも１種を含有する（１）に記載の光学フィルム。
（３）
金属酸化物微粒子がルチル結晶化度２０〜７０％である微粒子酸化チタンからなる（１）又は（２）に記載の光学フィルム。
（４）
ポリマー粒子が２００〜３４０ｎｍの紫外線領域に吸収能を有している化合物からなる（１）に記載の光学フィルム。
（５）
ポリマー粒子の原料として用いることのできる紫外線吸収性のモノマーが、２−ヒドロキシベンゾフェノン誘導体、及び／又は、２−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール誘導体が、ビニル化合物の主鎖に側鎖として結合したものからなる（１）又は（４）に記載の光学フィルム。
（６）
紫外線吸収層が導電性金属酸化物を含有する（１）〜（５）のいずれかに記載の光学フィルム。
（７）
紫外線吸収層が５０〜２０００ｎｍ厚である（１）〜（６）のいずれかに記載の光学フィルム。
（８）
内部ヘイズが１０〜９０％である（１）〜（７）のいずれかに記載の光学フィルム。
（９）
光学フィルムの最外層に、これに隣接する層の屈折率よりも屈折率の低い低屈折率層を有する（１）〜（８）のいずれかに記載の光学フィルム。
（１０）
光学フィルムの、波長３８０ｎｍの光の透過率が０〜５０％であり、且つ波長６００ｎｍの光の透過率が８０〜１００％である（１）〜（９）のいずれかに記載の光学フィルム。
（１１）
フィルム状支持体の透湿度が６０℃、９５％相対湿度で３００ｇ／ｍ²・日以下である（１）〜（１０）のいずれかに記載の光学フィルム。
（１２）
フィルム状支持体の膜厚が５〜２００μｍである（１）〜（１１）のいずれかに記載の光学フィルム。
（１３）
フィルム状支持体のガラス転移温度が８０℃以上である（１）〜（１２）のいずれかに記載の光学フィルム。
（１４）
フィルム状支持体の少なくとも一方の面が、コロナ放電処理されている（１）〜（１３）のいずれかに記載の光学フィルム。
（１５）
フィルム状支持体の少なくとも一方の面が、グロー放電処理されている（１）〜（１３）のいずれかに記載の光学フィルム。
（１６）
偏光子と（１）〜（１５）のいずれかに記載の光学フィルムとを有する偏光板。
（１７）
偏光子を挟んで、保護フィルムとして、一方の側に（１）〜（１５）のいずれかに記載の光学フィルムを有し、他方の側にセルロースエステルフィルムを主成分とするフィルムを有する（１６）に記載の偏光板。
（１８）
他方の側の保護フィルムが視野角補償機能を持つ（１７）に記載の偏光板。
（１９）
他方の側の保護フィルムが、光学異方性層が塗設されたものである（１７）又は（１８）に記載の偏光板。
（２０）
液晶セルを挟む偏光板のうち少なくとも一方が（１６）〜（１９）のいずれかに記載の偏光板である液晶表示装置。
（２１）
さらに輝度向上フィルムが搭載されている（２０）に記載の液晶表示装置。
（２２）
輝度向上フィルムと隣接する偏光板保護フィルムが密接している（２１）に記載の液晶表示装置。
（２３）
前記液晶表示装置がＴＮ方式、ＶＡ方式、ＩＰＳ方式、ＥＣＢ方式、又はＯＣＢ方式のＴＦＴ液晶表示装置である（２０）〜（２２）のいずれかに記載の液晶表示装置。

本発明に係る脂環式構造を有する重合体からなるフィルムに、金属酸化物微粒子、ポリマー粒子から選ばれる少なくとも１種の紫外線吸収剤を含有する紫外線吸収層と、ハードコート層とを積層して光学フィルムを形成することにより、紫外線による劣化が小さく、且つ反射防止能が優れ、湿度による寸法変化が抑制された光学フィルムが得られる。またハードコート層積層時に、紫外線吸収層中の紫外線吸収剤の揮散による白粉が発生しないため、ハジキ等の製造時の欠陥が発生しない光学フィルムが得られる。このようなフィルムによる本発明の偏光板、液晶表示装置は、様々な使用環境でも視認性に優れた高品質の画像を得ることができる。更に、膜の特性が強く、製造工程や取扱時（塗布、搬送時等）における層の剥離を回避でき、耐擦傷性にも優れている。

以下、本発明について更に詳細に説明する。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」等も同様である。

＜光学フィルム＞
〔脂環式構造を含有する重合体〕
本発明において用いられる、脂環式構造を含有する重合体は、重合体の繰り返し単位中に脂環式構造を有するものであり、主鎖中に脂環式構造を含有する重合体、及び測鎖に脂環式構造を含有する重合体のいずれも用いることができる。

脂環式構造としては、例えばシクロアルカン構造、シクロアルケン構造等が挙げられるが、熱安定性等の観点からシクロアルカン構造が好ましい。脂環式構造を構成する炭素数は特に制限はないが、通常４〜３０個、好ましくは５〜２０個、より好ましくは５〜１５個である。脂環式構造を構成する炭素原子数がこの範囲にあると、耐熱性及び柔軟性に優れた透明プラスチックフィルムを得ることができ、本発明の光学フィルムのフィルム状支持体として好ましく用いることができる。

脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択すればよいが、通常５０質量％以上、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上である。脂環式構造を有する繰り返し単位が過度に少ないと耐熱性が低下し好ましくない。なお脂環式構造含有重合体における脂環式構造を有する繰り返し単位以外の繰り返し単位は、使用目的に応じて適宜選択される。

［脂環式構造含有重合体の具体例］
脂環式構造含有重合体の具体例としては、（ｉ）ノルボルネン系重合体、（ｉｉ）単環の環状オレフィン系重合体、（ｉｉｉ）環状共役ジエン系重合体、（ｉｖ）ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物が挙げられる。これらの中でも、透明性や成形性の観点から、ノルボルネン系重合体が好ましい。

（ｉ）ノルボルネン系重合体
ノルボルネン系重合体としては、具体的には、ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体と開環重合可能なその他の単量体との開環共重合体、及びこれらの水素化物、ノルボルネン系単量体の付加重合体、ノルボルネン系単量体と共重合可能なその他の単量体との付加重合体等が挙げられる。これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネン系単量体の開環（共）重合体の水素化物が特に好ましい。

ノルボルネン系単量体としては、例えば、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（慣用名：ノルボルネン）、トリシクロ［４．３．０．１^2.5］デカ−３，７−ジエン（慣用名：シクロペンタジエン）、７，８−ベンゾトリシクロ［４，３．０．１^2.5］デカ−３−エン（慣用名：メタノテトラヒドロフルオレン）、テトラシクロ［４．４．０．１^2.5．１^7.10］ドデカ−３−エン（慣用名：テトラシクロドデセン）、及びこれらの化合物
の誘導体、例えば環に置換基を導入するもの等を挙げることができる。ここで置換基としては、例えばアルキル基、アルケニル基、アルコシキカルボニル基、カルボキシル基等を挙げることができる。またこれらの置換基は、同一又は、相異なって複数個が環に結合してもよい。ノルボルネン系単量体は１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

ノルボルネン系単量体と開環重合可能なその他の単量体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等のモノ環状オレフィン類及びその誘導体；シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエン等の環状共役ジエン及びその誘導体；等が挙げられる。

ノルボルネン系単量体の開環重合体及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能なその他の単量体との開環共重合体は、単量体を開環重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。開環重合触媒としては、公知のものを使用できる。

ノルボルネン系単量体と付加共重合可能なその他の単量体としては、例えばエチレン、プロピレン等の炭素数２〜２０のα−オレフィン及びこれらの誘導体；シクロブテン、シクロペンテン等のシクロオレフィン及びこれらの誘導体；１，４−ヘキサジエン等の非共役ジエン等が挙げられる。これらの単量体は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中ではα−オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。

ノルボルネン系単量体の付加重合体、及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能な他の単量体との付加共重合物は、単量体を付加重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。付加重合触媒としては、公知のものを使用することができる。

ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体と開環重合可能なその他の単量体との開環共重合体の水素化物は、公知の水素化触媒を用い、炭素−炭素不飽和結合を好ましくは９０％以上水素化することによって得られる。

上記ノルボルネン系（共）重合体としては、例えば、日本ゼオン（株）製、商品名“ＺＥＯＮＯＲ”、“ＺＥＯＮＥＸ”；ジェイエスアール（株）製、商品名“ＡＲＴＯＮ”；日立化成工業（株）製、商品名“ＯＰＴＯＲＥＺ”；三井化学（株）製、商品名“ＡＰＥＬ”等が市販されている。

（ｉｉ）単環の環状オレフィン系重合体
単環の環状オレフィン系重合体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等の付加重合体重合体を挙げることができる。

（ｉｉｉ）環状共役ジエン系重合体
環状共役ジエン系重合体としては、例えば、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン等の環状共役ジエン系単量体を１，２−付加重合、又は１，４−付加重合した重合体を挙げることができる。

（ｉｖ）ビニル脂環式炭化水素重合体及びこれらの水素化物
ビニル脂環式炭化水素重合体は、ビニルシクロアルカン又はビニルシクロアルケン由来の繰り返し単位を有する重合体である。ビニル脂環式炭化水素重合体としては、例えば、ビニルシクロヘキサン等のビニル脂環式炭化水素化合物の重合体、及びその水素化物；スチレン、α−メチルスチレン等のビニル芳香族炭化水素化合物の重合体の芳香環部分の水素化物等が挙げられる。また、ビニル脂環式炭化水素重合体は、ビニル脂環式炭化水素化合物やビニル芳香族炭化水素化合物と、これらの単量体と共重合可能な他の単量体とのランダム共重合体、ブロック共重合体等の共重合体、及びその水素化物であってもよい。

本発明の脂環式構造を有する重合体の分子量は、溶媒としてシクロヘキサン（重合体が溶解しない場合はトルエン）を用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより測定した、ポリイソプレン又はポリスチレン換算の重量平均分子量が、通常１０，０００〜３００，０００、好ましくは２０，０００〜２００，０００の範囲である。分子量がこのような範囲にある時に、透明プラスチックフィルムの機械的強度と成形加工性とが高度にバランスされ、本発明の光学フィルムのフィルム状支持体として好適である。

本発明の脂環式構造を有する重合体のガラス転移温度は、使用目的に応じて適宜選択されればよいが、好ましくは８０℃以上、より好ましくは１００℃〜２５０℃の範囲である。ガラス転移温度がこのような範囲にある時、透明プラスチックフィルムは、高温下での使用における変形や応力が生じることなく耐久性に優れており、本発明の光学フィルムのフィルム状支持体として好適である。

〔フィルム状支持体〕
本発明の脂環式構造を有する重合体からなるフィルム状支持体は前記重合体を公知の成形方法によりフィルム状に成形することにより得ることができる。

フィルム状に成形する方法としては、溶液キャスティング法、又は溶融押出成形法が挙げられる。中でも、フィルム中の揮発成分の含有量や厚さムラを少なくできる点、及び生産性の観点から、溶融押出成形法が好ましい。さらに溶融押出成形法としては、Ｔダイ等のダイスを用いる方法やインフレーション法等が挙げられるが、厚み精度に優れる点でＴダイを用いる方法が好ましい。

フィルムを成形する方法としてＴダイを用いる方法を採用する場合、Ｔダイを有する押出機における溶融温度は、用いる重合体のガラス転移温度よりも８０℃〜１８０℃高い温度にすることが好ましく、１００℃〜１５０℃高い温度にすることがより好ましい。押出機での溶融温度が過度に低いと重合体の流動性が低下し、逆に溶融温度が過度に高いと重合体が劣化する可能性がある。

さらに、フィルム状に成形する前に、用いる重合体を予備乾燥しておくことが好ましい。予備乾燥は、例えば原料をペレットの形態にして、熱風乾燥機を用いて行われる。乾燥温度は１００℃以上が好ましく、乾燥時間は２時間以上が好ましい。予備乾燥を行うことにより、フィルム中の揮発成分量を低減させることができる。さらに押し出す重合体の発泡を防ぐことができる。

用いる重合体は、その飽和吸水率が０．０５％未満であることが好ましい。飽和吸水率が０．０５％未満であるものを使用することにより、得られるフィルム状支持体の上に積層体を形成する時に、水分が放出されて品質が劣化したり、生産性が低下したりすることがない。また、吸湿によりフィルムが伸縮して、積層している層がフィルム状支持体から剥離することもない。特に、大型画面液晶表示装置において使用する場合には、吸湿による寸法変化が引き起こす画像品質の悪化を解消することができる。

フィルム状支持体の厚みは、５〜２００μｍが好ましく、３０〜１２０μｍがより好ましく、４０〜８０μｍが更に好ましい。基材フィルムの厚みが該下限値以上であれば、フィルム強度が弱くなるなどの問題が生じにくく、該上限値以下であれば、質量が増加しすぎて、特に２０インチ以上の大型テレビに用いた場合に不利になるなどの弊害が生じにくいので好ましい。

次に透湿性につき詳述する。
透湿度の測定法は、「高分子の物性ＩＩ」（高分子実験講座４ 共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適宜適用することができる。

〔透湿度の測定法１〕
本発明にかかるフィルム試料７０ｍｍφを６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、調湿前後の質量差より、ＪＩＳ Ｚ−０２０８に従った透湿カップを用いて、透湿度＝調湿後質量−調湿前質量で単位面積あたりの水分量（ｇ／ｍ²）を算出した。吸湿剤を
いれていないブランクのカップで透湿度の値を補正することは行わなかった。
上記測定法で測定した市販されているセルロースアセテートフィルムの透湿度は、一般に、厚さ８０μｍで上記条件での透湿度が１，４００〜１，５００ｇ／ｍ²・日である。
それに対し、本発明に用いられるフィルム状支持体の透湿度の上限は３００ｇ／ｍ²・
日以下であることが好ましく、２００ｇ／ｍ²・日以下であることがより好ましく、１５
０ｇ／ｍ²・日以下であることが特に好ましい。上記上限値より透湿度が高いと、長期使
用時に、温度や湿度の変化によるフィルム状支持体のサイズ変化により偏光板としたとき、表示画像のムラが発生し、その低減の効果が低い。下限は特に制限はないが、０ｇ／ｍ²・日より大きいことが好ましく、偏光板加工時の生産性の観点からは５ｇ／ｍ²・日以上が好ましく、１ｇ／ｍ²・日以上がより好ましい。したがって、本発明の光学フィルムの透湿度は、５〜１５０ｇ／ｍ²・日の範囲にすることが特に好ましい。この範囲であれば、偏光板としての性能（偏光度、単板透過率）が悪化することがなく、長期使用時に、温度や湿度の変化による偏光膜のサイズ変化起因の、表示画像のムラが発生することを抑制できる。

〔紫外線吸収層〕
本発明に用いる紫外線吸収層は、２００〜３４０ｎｍの領域で光を吸収する物質を入れることで紫外線による劣化を防止する。具体的には、２００〜３４０ｎｍの領域における光線透過率を５％以下とする。更には、波長３８０ｎｍの光の透過率を０〜５０％とすることが好ましい。また、表示装置に使用されるため、６００ｎｍ（可視光領域の代表）の透過率は高いことが好ましい。

［紫外線吸収剤］
本発明に用いる紫外線吸収剤は、ハードコート層の塗設の際の紫外線吸収剤の揮散が少なく、且つ、紫外線吸収層と脂環式構造を有する重合体からなるフィルム状支持体との密着性及び、紫外線吸収層とハードコート層の密着性の観点から、ポリマー粒子、無機粒子の紫外線吸収剤が好ましい。

（無機粒子紫外線吸収剤）
本発明で用いる無機粒子紫外線吸収剤は微粒子金属酸化物が好ましい。微粒子金属酸化物とは、平均一次粒子径が１〜１００ｎｍの範囲にあり紫外線防御効果を有するものを指し、例えば微粒子酸化チタン、微粒子酸化亜鉛、微粒子酸化セリウム、微粒子酸化鉄が挙げられる。これらの微粒子金属酸化物の１種以上、好ましくは２種以上を組み合わせて使用することが好ましい。例えば微粒子酸化チタンと微粒子酸化亜鉛を組み合わせることが好ましい。微粒子金属酸化物の粒度分布は特にシャープである必要はなく、シャープであってもブロードであっても構わない。また、微粒子金属酸化物の形状としては、球状、針状、棒状、紡錘状、不定形状、板状など特に限定されず、さらに結晶形についてもアモルファス、ルチル型、アナターゼ型など特に限定されない。

さらに、これらの微粒子金属酸化物は、従来公知の表面処理、例えばフッ素化合物処理、シリコーン処理、シリコーン樹脂処理、ペンダント処理、シランカップリング剤処理、チタンカップリング剤処理、油剤処理、Ｎ−アシル化リジン処理、ポリアクリル酸処理、金属石鹸処理、アミノ酸処理、無機化合物処理、プラズマ処理、メカノケミカル処理などによって事前に表面処理されていることが好ましく、特にシリコーン、シラン、フッ素化合物、アミノ酸系化合物、金属石鹸から選ばれる一種以上の表面処理剤により撥水化処理されていることが好ましい。

シリコーン処理の例としては、メチルヒドロゲンポリシロキサンの被覆・加熱処理が挙げられ、シランとしてはアルキルシラン処理が挙げられ、フッ素化合物としてはペルフルオロアルキルリン酸エステル、ペルフルオロポリエーテル、ペルフルオロアルキルシリコーン、ペルフルオロアルキル・ポリエーテル共変性シリコーン、ペルフルオロアルキルシランなどが挙げられ、アミノ酸系化合物としては、Ｎ−ラウロイル−Ｌ−リジンなどが挙げられ、さらに金属石鹸としてはステアリン酸アルミニウムなどが挙げられる。

さらに、本発明で用いる微粒子金属酸化物は、光触媒活性を抑制するために、粒子表面にシリカ、アルミナから選ばれる金属酸化物層が設けてあることが好ましく、特に好ましくは微粒子金属酸化物をシリカ、アルミナで被覆した後、上記撥水化表面処理が行われていることが好ましい。また、特開２００１−１９１８７３号、特開２００５−２７２２６７号、特開２００５−２７２２７０号の各公報記載の方法を用いて、光触媒活性を抑制することもできる。

微粒子酸化物の市販品としては、例えば、微粒子酸化亜鉛としては、“ＦＩＮＥＸ−２５”、“ＦＩＮＥＸ−５０”、“ＦＩＮＥＸ−７５”｛以上、堺化学工業（株）｝；“ＭＺ５００”シリーズ、“ＭＺ７００”シリーズ｛以上、テイカ（株）｝“ＺｎＯ−３５０”｛以上、住友大阪セメント（株）｝等が挙げられる。微粒子酸化チタンとしては、“ＴＴＯ−５５、５１、Ｓ、Ｍ、Ｄ”シリーズ｛以上、石原産業（株）｝；“ＪＲ”シリーズ、“ＪＡ”シリーズ｛以上、テイカ（株）｝等が挙げられる。また、微粒子酸化セリウムとしては、（株）ニッキ又はセイミケミカル（株）から販売されている高純度酸化セリウムが含まれる。このうち特に酸化チタンであることが好ましい。

本発明で用いられる酸化チタンの平均一次粒子径又は平均一次短軸粒子径は１〜４５ｎｍであることが好ましく、より好ましくは３〜４０ｎｍ、さらに好ましくは５〜３０ｎｍである。ここで、「平均一次粒子径」とは、一次粒子形状が球状又はほぼ球状である場合の球相当径の平均値であり、「平均一次短軸粒子径」とは、一次粒子形状が円柱形又は紡錘形である場合の短軸粒子径の平均値である。紡錘型又は円柱形形状（好ましくは紡錘型）の粒子の場合には、長軸径は、好ましくは３〜２００ｎｍ、より好ましくは５〜１５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜１００ｎｍである。さらに長軸径／短軸径比（以下アスペクト比という）は好ましくは２〜１０、より好ましくは２．５〜８、さらに好ましくは３〜６である。

（表面処理剤）
本発明の微粒子酸化チタンは、酸化アルミニウム及び／又は酸化珪素で表面処理をしたものが使用できる。酸化アルミニウムの好ましい使用量は酸化チタンに対し１〜３０質量％、より好ましくは２〜２０質量％である。酸化珪素も１〜３０質量％、好ましくは２〜２０質量％である。表面処理剤量は該下限値以上であれば、分散不良や経時での分散物の沈降などが発生し難く、該上限値以下であれば、酸化チタン量の実質的な減量となって、目的の紫外線吸収能が低下するなどの好ましくない結果が生じ難いので好ましい。

その他無機物、有機物を問わず、種々の表面処理剤で表面処理したものも好ましく使用できる。無機の表面処理剤としては、酸化ジルコニウム及び酸化亜鉛等が好ましい。有機物では、シロキサン、ステアリン酸、トリメチロールプロパンなどがあげられる。

処理剤の使用量は酸化チタンに対し、３〜４５％(質量)が好ましく、より好ましくは５〜３５質量％である。処理剤の使用量は多いほうが、分散性などは改良されるが、酸化チタンの量が相対的に低下して紫外線の吸収が小さくなり、所期の目的である光安定性の効果が損なわれることがあるため、上記２つの性能が両立できるように適切に選択することが好ましい。

このような酸化チタンの表面処理は、例えば次のようにして行うことができる。合成された酸化チタンをヘキサメタリン酸ナトリウム等のリン酸塩などで分散し、ｐＨを表面処理剤の溶解性に応じて調整する。この中に、酸化アルミニウム及び／又は二酸化珪素を懸濁液にしたものを混合し、混合後表面処理剤の溶解性が低下するｐＨに調節する。このことによって表面処理剤が酸化チタンの表面に沈積し、付着する結果となる。必要に応じ、表面処理剤と酸化チタンの濃度を調節や反応温度と反応後の高温処理等を実施する事で、付着量や形態を変えることが可能である。

本発明の紫外線吸収剤は、目的に応じて塗設量を選択できるが、上記酸化チタンが０．０１〜２０ｇ／ｍ²となるように使用するのが好ましい。使用量が多いと紫外線の吸収は
大きくなり、該上限値以下であれば透明性の低下が抑制できる。より好ましい量は０．０２〜１０ｇ／ｍ²、さらに好ましくは０．０５〜２ｇ／ｍ²である。

次に、本発明の効果に大きく影響するルチル結晶化度について説明する。ルチル結晶化度の算出は、測定する酸化チタンと珪素（具体的には酸化珪素等を使用）を質量で１：５になるように混合する。その後Ｘ線回折で、ルチル（１，１，０）面のピーク面積とシリカのピーク面積の比をとる。標準試料として、“ＭＴ６００Ｂ”｛テイカ（株）製微粒子酸化チタン、平均一次粒子径５０ｎｍ、無表面処理｝を測定し、これをルチル結晶化度１００％とし、各測定試料との比率を算出する。本発明においてこの値をルチル結晶化度と定義する。ルチル結晶化度が大きいと、結晶は強固に形成されており、耐薬品性や耐候性などに優れる。逆にルチル結晶化度が低いと、耐薬品性や耐候性は低下する。また、ルチル結晶化度で、屈折率が変化するため、本発明においてルチル結晶化度の範囲は、２０〜７０％であり、好ましい範囲は３０〜６０％、より好ましい範囲は３５〜５５％である。この範囲であれば、強い光照射時に、活性酸素の影響などで膜のワレや、共存する有機化合物の酸化による着色が発生しない。

ルチル結晶化度の制御は、後に説明する微粒子酸化チタンの製造工程のうち、表面処理後の焼成温度、乾燥温度及び時間、酸とアルカリによる後処理（リーチング）の温度、濃度、時間で制御が可能である。またこれと関係するが、粒子径によっても制御することが可能である。

本発明に使用可能な酸化チタンには、種々の製造方法が利用できるが、チタニウム塩の中和加水分解、チタン酸ナトリウムの中和法、チタンアルコキシドの加水分解及びチタンアルコキシドの気相分解法などで製造できる。

チタニウム塩の中和加水分解法を具体的に説明すると、四塩化チタンを加水分解後、焼成、粉砕整粒、表面処理、洗浄、乾燥して仕上げの粉砕のプロセスから製造できる。チタン酸ナトリウム中和法では加水分解ののち、アルカリ、酸リーチング処理を実施し、表面処理工程に進んでいき、焼成過程は経由しない。この焼成を経由しない製造工程を湿式法と定義する。

本発明に使用できる原料酸化チタンは、焼成法、湿式法でも使用できるが、円柱状又は紡錘状の酸化チタンは、一般的には湿式法で調製される。粒子径やアスペクト比の違いは、原料の四塩化チタンの純度、加水分解速度、焼成温度、乾燥温度、酸とアルカリによる後処理（リーチング）条件（濃度、時間、温度)及び表面処理剤(種類と量)等で制御する
事ができる。また湿式法は易分散性である特徴を持つ。一方焼成法は焼成する温度や時間で結晶系や表面処理剤量を調整することができる。耐候性に優れる性質を有する。

（ポリマー粒子紫外線吸収剤）
本発明において用いることのできる紫外線吸収性ポリマー粒子は、２００〜３４０ｎｍの紫外線領域に吸収能を有していれば特にその構成成分に限定はなく、公知の紫外線吸収剤母核を有する成分を用いることができる。例えば、紫外線吸収剤母核としては、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、サリチル酸フェニルエステル系、トリアジン系の母核が挙げられる。

｛紫外線吸収性モノマー（ａ）｝
本発明において、ポリマー粒子紫外線吸収剤の原料として用いることのできる紫外線吸収性モノマー（ａ）は、好ましくは、下記一般式（１）で示される２−ヒドロキシベンゾフェノン誘導体、及び／又は、下記一般式（２）で示される２−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール誘導体が、ビニル化合物の主鎖に側鎖として結合したものである。
一般式（１）：

式中、Ｒ¹は水素、炭素数１〜６の低級アルキル基又はアルコキシ基を、Ｙは炭素数１〜１０の低級アルキレン基もしくはオキシアルキレン基、又は単結合（この場合はＸがベンゼン環に直接結合する）を、Ｘはエステル結合、アミド結合、エーテル結合又はウレタン結合を、Ｒ²は水素原子又は低級アルキル基をそれぞれ表す。

なお、一般式（１）の紫外線吸収性モノマーは、例えば、ＢＰ−Ｙ−ＯＨ（ＢＰ：２−ヒドロキシベンゾフェノン骨格）等の官能基を有する紫外線吸収性化合物と、ＣＨ₂＝ＣＲ²−ＣＯＯＨのような官能基を有する重合性ビニル化合物とを反応させ、エステル結合
Ｘ（−ＣＯＯ−）により重合性ビニル化合物中に紫外線吸収性化合物残基を結合、導入することにより得られる。

一般式（１）の紫外線吸収性モノマーの具体例としては、２−ヒドロキシ−４−アクリロイルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メタクリロイルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−アクリロイルオキシ）エトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−メタクリロイルオキシ）エトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−メチル−２−アクリロイルオキシ）エトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。

一般式（２）：

式中、Ｒ³は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を、Ｒ⁴は水素原子又は炭素数１〜６の炭化水素基を、Ｙは炭素数１〜１０のアルキレン基もしくはオキシアルキレン基、又は単結合（この場合はＸがベンゼン環に直接結合する）を、Ｘはエステル結合、アミド結合、エーテル結合又はウレタン結合を、Ｙ’は炭素数１〜８のアルキレン基もしくはアミノアルキレン基、又は単結合（この場合はＸとＣが直接結合する）を、Ｒ²は水素原子又は低級アルキル基をそれぞれ表す。

一般式（２）の紫外線吸収性モノマーの具体例としては、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（メタクリロイルオキシ）エチルフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（メタクリロイルオキシ）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（アクリロイルオキシ）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−（メタクリロイルオキシ）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−メチル−５’−（アクリロイルオキシ）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（メタクリロイルオキシプロピル）フェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（アクリロイルオキシエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−メチル−５’−（アクリロイルオキシエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（メタクリロイルオキシプロピル）フェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（アクロイルオキシブチル）フェニル］−５−メチルベンゾトリアゾール、［２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−（アクリロイルオキシエトキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。

本発明のポリマー粒子紫外線吸収剤は一般式（１）で示される２−ヒドロキシベンゾフェノン誘導体と、一般式（２）で示される２−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール誘導体のような、紫外線吸収特性の異なる２種類以上のモノマーを併用することで、紫外線吸収効果を一層向上することができる。一般式（１）と一般式（２）の重量比は０／１００〜１００／０が好ましく、２０／８０〜８０／２０がより好ましい。

｛共重合可能な反応性モノマー（ｂ）｝
また、上記の紫外線吸収性モノマー（ａ）と共重合可能な反応性モノマー（ｂ）（以下コモノマーともいう）は、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、アクリロニトリル、アルキルビニルエーテル、カルボン酸ビニルエステル、スチレンなどである。反応性モノマーのアルキル基の炭素数は特に制約されないが、好ましくは１〜１８である。これらコモノマーの具体例としては以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

アクリル酸、アルキルアクリル酸（メタクリル酸等のような）、アクリル酸から誘導されるエステル又はアミド（例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、ｎ−ブチルアクリルアミド、ｔ−ブチルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、２−エチルエキシルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ｂ−ヒドロキシルメタクリレート等）、ビニルエステル（例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルラウレート等）、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、芳香族ビニル化合物（例えばスチレン及び、例えばビニルトルエン、ビニルアセトフェノン、スルホスチレン等のスチレンの誘導体）、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、塩化ビニリデン、ビニルアルキルエーテル（例えばビニルエチルエーテル等）、マレイン酸のエステル、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニルピリジン、２−又は４−ビニルピリジン、重合性官能基を含有するスルホン酸（例えば、アクリルアミド−２、２'−ジメチルプロパンスルホン酸、２−スルホエチルメタクリレート、３−ス
ルホプロピルメタクリレート等）。これらのモノマーのうち、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、及び芳香族ビニル化合物が好ましい。

特に好ましいコモノマーの具体例には、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド、２−ヒドロキシエチルアクリレート、ビニルアセテート、スチレン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、２−スルホエチルメタクリレート及びその金属塩、並びに２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸及びその金属塩がある。

本発明に係るポリマー粒子を構成するモノマーは、分子内に複数の重合性官能基を有する架橋性モノマーを含有することが好ましい。

架橋性モノマーとしては、具体的には、ジビニルベンゼン、トリビニルベンゼン、ジビニルトルエン、ジビニルキシレン、エチルジビニルベンゼン、ジビニルナフタレン、ジビニルアルキルベンゼン類、ジビニルフェナントレン、ジビニルビフェニル、ジビニルジフェニルメタン、ジビニルベンジル、ジビニルフェニルエーテル、ジビニルジフェニルスルフィド等の芳香族系モノマー；ジビニルフラン等の酸素含有モノマー；ジビニルスルフィド、ジビニルスルホン等の硫黄含有モノマー；ブタジエン、イソプレン、ペンタジエン等の脂肪族モノマー；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、デカンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリレート及び、ヒドロキノン、カテコール、レゾルシノール、ソルビトールなどの多価アルコールの（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ’−メチレンビス（メタ）アクリルアミド、トリアリルアミン等のポリアミン誘導体；トリアリルイソシアヌレート、テトラアリロキシエタン、ジアリルフタレート等の多酸の不飽和アルコールエステルなどが例示できる。これらは１種をそれぞれ単独で又は、２種以上を併用して使用することができる。

これらの中で、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、トリビニルベンゼン、ジビニルナフタレン等が好ましい。

紫外線吸収性モノマー（ａ）と反応性モノマー（ｂ）との共重合比は、質量比で、（ａ）／（ｂ）＝５／９５〜１００／０の範囲が好ましく、更に好ましくは３０／７０〜９０／１０、最も好ましくは４０／６０〜８０／２０である。また、反応性モノマー（ｂ）は、単官能のモノマー（ｂｓ）と上記多官能の架橋性モノマー（ｂｍ）と併用することができる。両者の混合比は、質量比で、（ｂｓ）／（ｂｍ）＝１００／０〜０／１００の範囲が好ましく、９５／５〜１０／９０が更に好ましく、９０／１０〜７０／３０が最も好ましい。モノマーの構成比をこの範囲にすることで、ポリマー粒子の塗布液での安定性、塗膜の支持体との密着性、塗膜のハードコート層との密着性に優れたポリマー粒子が得られる。

本発明に係る紫外線吸収性ポリマー粒子の製造法は、懸濁重合、乳化重合、ソープフリー乳化重合、分散重合、シード重合等のいずれの方法で製造されてもよい。これらの製造法は、例えば「高分子合成の実験法」（大津隆行、木下雅悦共著、化学同人社）ｐ．１３０及び１４６〜１４７の記載、「合成高分子」１ｐ．２４６〜２９０、「合成高分子」３ｐ．１〜１０８等に記載の方法、及び特許第２５４３５０３号、同第３５０８３０４号、同第２７４６２７５号、同第３５２１５６０号、同第３５８０３２０号、特開平１０−１５６１号、特開平７−２９０８号、特開平５−２９７５０６号、特開２００２−１４５９１９号各公報等に記載の方法を参考にすることができる。

例えば、乳化重合、懸濁重合では水媒体中でモノマーを微細化して重合する方法が一例として挙げられる。

乳化重合に用いる界面活性剤としては、ドデシルベンゼンスルホン酸塩、ドデシル硫酸塩、ラウリル硫酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩等のアニオン系界面活性剤；ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールモノステアレート等のノニオン系界面活性剤等を挙げることができる。また保護コロイド型分散安定剤として、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸ナトリウム、スチレン−無水マレイン酸共重合体の加水分解物、アルギン酸ナトリウム、水溶性セルロース誘導体等のポリマーやオリゴマー類を挙げることもできる。

また、無機塩類及び／又は分散安定剤の存在下で、水を分散媒体として油溶性重合開始剤により開始された付加重合反応で行う懸濁重合方法では、水溶性塩類として、例えば塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化カルシウム、硫酸マグネシウム等を用いこともできる。重合開始剤としてはアゾビス化合物｛アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）等｝、過酸化物類（過酸化ベンゾイル、過酸化−ｔ−ブチル等）などが挙げられる。

さらに、予め微小重合体を作っておき、これにモノマーを含浸させて粒子を太らせるような、いわゆる多段重合法も好ましい。

本発明においては、コア／シェル型ポリマー粒子を用いることが好ましい。紫外線吸収剤自身の耐光性や熱安定性を向上させるためには、ポリマー粒子のコア部に紫外線吸収剤を含有せしめ、外部から保護することが好ましい。また、シェル部の重合体のＴｇ、分子量、組成を制御することで、支持体やハードコートとの密着性や耐久性を改良することが可能となる。このようなコア／シェル型粒子には、例えば、大成ファインケミカル（株）製のＵＶ吸収剤含有マイクロエマルジョン“ＳＥ−２５３８Ｅ”などが挙げられる。

重合体粒子の形状は、真球又は不定形のいずれも使用できる。粒度分布は塗布面状の均質性、塗膜と支持体界面の密着性などの理由から単分散性粒子が好ましい。例えば、平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定するとき、この粗大粒子の割合が全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１%以下である。

本発明の重合体粒子の粒子サイズは、１０〜３０００ｎｍを用いることができるが、好ましくは１０〜２０００ｎｍ、更に好ましくは３０〜１０００ｎｍ、最も好ましくは３０〜３００ｎｍである。

この紫外線吸収剤の分子量は、１０００〜１００万程度であり、好ましくは１０万〜１００万程度である。

本発明に用いることのできる紫外線吸収性ポリマーの具体例としては、特開平６−８２９６２号公報に記載のＰ−１〜Ｐ−２７、特開平９−３４０５７公報に記載のＩＰ−１〜ＩＰ−５３を挙げることができる。

本発明の紫外線吸収剤は、目的に応じて塗設量を選択できるが、上記紫外線吸収性ポリマーが０．０１〜２０ｇ／ｍ²となるように使用するのが好ましい。使用量が多いと紫外線の吸収は大きくなり、該上限値以下であれば透明性の低下が抑制できる。より好ましい量は０．０２〜１０ｇ／ｍ²、さらに好ましくは０．０５〜２ｇ／ｍ²である。

［粒子を固定するためのバインダー］
本発明に用いることのできる紫外線吸収層は、金属酸化物粒子、ポリマー粒子以外に、粒子を固定するためのバインダーを用いることができる。

バインダーとしては、ウレタン系ポリマー、反応性官能基を有するシリコーン化合物、オレフィン系ポリマー、ビニルエステル系ラテックス、（メタ）アクリル酸系ラテックス、スチレン系ラテックス、親水性ポリマー、紫外線硬化型や熱硬化型の重合性化合物などが好ましいが、特にオレフィン系ポリマー、ビニルエステル系ラテックス、（メタ）アクリル酸系ラテックス、スチレン系ラテックス、親水性ポリマーが好ましい。

（オレフィン系ポリマー）
オレフィン系ポリマーは、特に限定されるものではなく、炭素、水素、酸素、窒素を含むオレフィン系二重結合を持つ化合物からなる重合体であればよい。例えばエチレン、プロピレン、ブテン、ブタジエン等が挙げられる。これらは単独重合、又は２種類以上の共重合体でもよい。特に、側鎖や末端に、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、イソシアネート基、ニトロ基、カルボニル基等の高い極性を有する化合物を用いた場合に、基材及びハードコート層と高い密着性を示す。

本発明のオレフィン系ポリマーをバインダーとする紫外線吸収層は、適当な混合装置、例えばホモミキサー等を用いて適当な溶媒に溶解することによって調整することができる。

（反応性官能基を有するシリコーン化合物）
また、紫外線吸収層のバインダーの別の好ましい例として、反応性官能基を有するシリコーン化合物を挙げることができる。このような反応性官能基を有するシリコーン化合物としては、例えば、イソシアネート基含有アルコキシシラノール化合物、アミノ基含有アルコキシシラノール化合物、メルカプト基含有アルコキシシラノール化合物、カルボキシ基含有アルコキシシラノール化合物、エポキシ基含有アルコキシシラノール化合物、ビニル型不飽和基含有アルコキシシラノール化合物、ハロゲン基含有アルコキシシラノール化合物を挙げることができる。これらの各種アルコキシシラノール化合物の中でもアミノ基含有アルコキシシラノール化合物が好ましい。

また、上記反応性官能基を有するシリコーン化合物には、他の添加剤が加えられていてもよい。このような添加剤としては、例えば、テルペン樹脂、フェノール樹脂、テルペン−フェノール樹脂、ロジン樹脂、キシレン樹脂などの粘着付与剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、耐熱安定剤などの安定剤を挙げることができる。

なお、脂環式構造を有する重合体を含むフィルム状支持体の表面に、予めコロナ処理、グロー放電処理、低ＵＶ処理などの表面処理を施すことにより、該フィルム状支持体と、反応性官能基を有するシリコーン化合物を含む紫外線吸収層との密着性が向上する。

更に、上記反応性官能基を有するシリコーン化合物には、該シリコーン化合物の反応性を上げるため、チタン系、スズ系などの触媒が加えられていてもよい。該触媒を添加することで、ハードコート層やフィルム状支持体との接着を強固にすることができる。

（溶媒）
溶媒は特に限定されるものではなく、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、トルエン、キシレンなどの芳香族化合物、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類などを例示することができる。特にトルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒、ジクロロメタン、四塩化炭素などの塩素系溶媒、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭化水素系溶媒、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒等のシクロオレフィン系フィルムを溶解、膨潤する溶媒を用いると、シクロオレフィン系フィルムとの相互作用が強くなることから、本発明における「脂環式構造を有する重合体からなるフィルム状支持体」とのより高い密着性が得られ、更に層間境界が曖昧となることにより、干渉縞が消えやすくなる。また溶媒の使用量は、例えば紫外線吸収剤やバインダーの固形分１００質量部に対して、５〜７０質量部程度である。

（各種ラテックス）
また、紫外線吸収層の別の好ましい例として、脂環式構造を有する重合体を主成分とするフィルム状支持体上に、アクリル酸エステル系ラテックス、メタクリル酸系ラテックス、スチレン系ラテックスをバインダーとする紫外線吸収層を形成することもできる。またラテックスとしては、（ａ）ジオレフィン系単量体、（ｂ）ビニル単量体、（ｃ）１種以上の分子内に２個以上のビニル基、アクリロイル基、メタアクリロイル又はアリル基を有する単量体からなる単量体混合物に対し、（ｄ）α−メチルスチレンダイマーと他の重合連鎖移動剤とからなる重合連鎖移動剤の存在下において、水性媒体中で乳化重合して得られる共重合体ラテックスを用いてもよい。

共重合体を形成する一方の単量体である（ａ）ジオレフィン単量体には、共役ジエンであるブタジエン、イソプレン、クロロプレン、等を挙げることができ、とりわけブタジエンが好ましく用いられる。

本発明において、紫外線吸収層形成用バインダーとして用いられる共重合体の第２成分である（ｂ）ビニル単量体としては、ビニル基を固有する単量体なら何でもよいが、好ましくは下記に示すものであり、スチレン、アクリロニトリル、メタクリル酸メチル、塩化ビニル、酢酸ビニル及びこれらの誘導体、アクリル酸のアルキルエステル、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクロレイン、メタアクロレイン、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、Ｎ−メチロール化アクリルアミド、Ｎ−メチロール化メタクリルアミド、ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート等を挙げることができる。

上記スチレンの誘導体としては、例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、ジメトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、テトラクロスチレン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフルオルスチレン、２−ブロム−４−トリフルオルメチルスチレン、４−フルオル−３−トリフルオルメチルスチレン、ビニル安息香酸メチルエステル等を挙げることができる。

アクリル酸のエステルの中で好ましいものとしては、メタクリル酸メチル、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを挙げることができる。

また、本発明において上記バインダーとして用いられる共重合体の第３成分である、（ｃ）分子内に２個以上のビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基を有する単量体としては、ジビニルベンゼン、１，５−ヘキサジエン−３−イン、ヘキサトリエン、ジビニルエーテル、ジビニルスルホン、ジアリルフタレート、ジアリルカルビノール、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート等の、通常、ビニル単量体の重合の際に添加される、いわゆる架橋剤を挙げることができる。

本発明における上記共重合体中の（ａ）ジオレフィン単量体の含有量は、共重合体全体の１０〜６０質量％、特に１５〜４０質量％であることが好ましい。（ｂ）ビニル単量体としては全体の９０〜４０質量％であることが好ましいが、特に、上記ビニル単量体、とりわけスチレン類が共重合全体の７０〜４０質量％であることが好ましい。（ｃ）分子内に２個以上のビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基を有する単量体は、（ａ）ジオレフィン単量体と（ｂ）ビニル単量体との合計に対して０．０１〜１０質量％、特に０．１〜５質量％であることが好ましい。

（ｄ）重合連鎖移動剤中のα−メチルスチレンダイマーとしては、異性体として、（イ）２−４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン、（ロ）２−４−ジフェニル−４−メチル−２−ペンテン、（ハ）１−１−３−トリメチル−３−フェニルインダンがある。α−メチルスチレンダイマーとして好ましい組成は、（イ）成分が４０質量％以上、（ロ）成分及び／又は（ハ）成分が６０質量％以下、さらに好ましくは（イ）成分が５０質量％以上、（ロ）成分及び／又は（ハ）成分が５０質量％以下、特に好ましくは（イ）成分が７０質量％以上、（ロ）成分及び／又は（ハ）成分が３０質量％以下である。（イ）成分の組成比率が増加するに従って連鎖移動効果が優れたものになる。

α−メチルスチレンダイマーは、本発明の目的を損なわない範囲で、不純物、例えば、未反応のα−メチルスチレン、前記（イ）、（ロ）、（ハ）成分以外のα−メチルスチレンオリゴマー、α−メチルスチレンポリマーを含むものであってもよい。α−メチルスチレンダイマーを使用する場合、その目的を損なわないものであれば、α−メチルスチレンダイマーを合成後、これを未精製の状態で使用することができる。

（ｄ）重合連鎖移動剤中のα−メチルスチレンダイマーの割合は、一般に２〜１００質量％、好ましくは３〜１００質量％、さらに好ましくは５〜９５質量％である。このα−メチルスチレンダイマーの割合が該下限値以上であれば、接着強度と耐ブロッキング性に優れた共重合体ラテックスを得ることができるので好ましい。また、α−メチルスチレンダイマーと他の重合連鎖移動剤との併用により、重合時における反応性を高めることができる。

（ｄ）重合連鎖移動剤の使用量は、単量体混合物１００質量部当たり、一般に０．３〜１０質量部、好ましくは０．５〜７質量部である。この（ｄ）重合連鎖移動剤の使用量が該下限値以上であれば耐ブロッキング性が良好であり、一方、該上限値以下であれば接着強度が良好であり好ましい。なお、α−メチルスチレンダイマーの使用量については、単量体混合物の１００質量部当たり、０．１〜５質量部の範囲で使用することが好ましい。

次に、（ｄ）重合連鎖移動剤におけるα−メチルスチレンダイマーと併用する他の連鎖移動剤としては、一般の乳化重合に使用されている公知の重合連鎖移動剤を使用することができる。具体的には、例えば、オクチルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｔ−ドデシルメルカプタン、ｎ−ヘキサデシルメルカプタン、ｎ−テトラデシルメルカプタン、ｔ−テトラデシルメルカプタンなどのメルカプタン類；ジメチルキサントゲンジスルフィド、ジエチルキサントゲンジスルフィド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィドなどのキサントゲンジスルフィド類；テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィドなどのチウラムジスルフィド類；四塩化炭素、臭化エチレンなどのハロゲン化炭化水素類；ペンタフェニルエタンなどの炭化水素類；およびアクロレイン、メタクロレイン、アリルアルコール、２−エチルヘキシルチオグリコレート、ターピノーレン、α−テルピネン、γ−テルピネン、ジペンテンなどを挙げることができる。これらは単独でも、あるいは２種以上を組み合わせて使用することもできる。これらのうち、メルカプタン類、キサントゲンジスルフィド類、チウラムジスルフィド類、四塩化炭素などが好適に使用される。

本発明における共重合体ラテックスは、上記の単量体混合物及び重合連鎖移動剤を使用する点を除けば、従来公知の乳化重合法によって製造することができる。すなわち、水等の水性媒体に単量体混合物及び重合開始剤、乳化剤、重合連鎖移動剤等を加えて乳化重合を行うことによって得られる。

（ジクロロ−ｓ−トリアジン系架橋剤）
本発明において、脂環式構造を有する重合体フィルム支持体上に紫外線吸収層を形成する際に、共重合体ラテックスに対してジクロロ−ｓ−トリアジン系架橋剤を併用することが好ましい。ジクロロ−ｓ−トリアジン系架橋剤の併用により常湿条件下、高湿条件下、低湿条件下での接着力が著しく向上し、低湿条件下での亀裂が生じなくなり、その他、帯電防止性、耐傷性、耐水性、耐溶剤性等に優れた効果を付与できる。

本発明に使用されるジクロロ−ｓ−トリアジン系架橋剤は、下記一般式（３）及び（４）に示すものである。
一般式（３）：

一般式（３）中、Ａはアルキル基、環状アルキル基、アリール基、アルアルキル基、金属、水素原子である。

一般式（４）：

一般式（４）中、Ｒ⁵、Ｒ⁶は、水素、アルキル基、環状アルキル基、アリール基、アルアルキル基、−ＮＨＲ⁷（Ｒ⁷はアルキル基、アシル基）、Ｒ⁵とＲ⁶は結合して環を形成することができ、また、Ｏ、Ｓ、Ｎ−Ｒ⁸（Ｒ⁸はアルキル基）を含む５〜６員の環を形成していてもよい。

これらのジクロロ−ｓ−トリアジン系架橋剤は、単量体混合物に対して０．１〜１００質量部添加することができる。ジクロロ−ｓ−トリアジン系架橋剤の添加量が０．１質量部以上であれば、接着力の充分な向上がえられ、その他、低湿条件下での亀裂防止効果や帯電防止性、耐傷性、耐水性、耐溶剤性等の効果も充分なものとなるので好ましい。一方、ジクロロ−ｓ−トリアジン系架橋剤の添加量が１００質量部以下であれば、未反応の架橋剤が多量に残ったり、上層のハードコート層との接着性が低下させたりする不都合が生じないので好ましい。

これらのジクロロ−ｓ−トリアジン系架橋剤の具体例としては、次に示すものがある。

（親水性ポリマー）
親水性ポリマーとして、ゼラチン、フタル化ゼラチン、マレイン化ゼラチン等のアシル化ゼラチン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等のセルロース誘導体、アクリル酸、メタクリル酸もしくはアミド等をゼラチンにグラフトさせたグラフト化ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリヒドロキシアルキルアクリレート、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドン−酢酸ビニルコポリマー、カゼイン、アガロース、アルブミン、アルギン酸ソーダ、ポリスクリド、寒天、でんぷん、グラフトでんぷん、ポリアクリルアミド、Ｎ−置換アクリルアミド、Ｎ−置換メタクリルアミド等の単独もしくは共重合体、又はそれらの部分加水分解物等、合成又は天然の親水性高分子化合物が用いられる。これらのものは、単独又は混合して使用される。好ましい親水性ポリマーとしては、ゼラチン又はその誘導体である。

［紫外線吸収層の形成］
本発明に係る紫外線吸収層形成用の塗液は、一般によく知られた塗布方法、例えば、ディップコート法、エアナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビヤコート法、あるいは米国特許第２６８１２９４号明細書に記載のホッパーを使用するエクストルージョン法等により塗布することができる。

紫外線吸収層の厚さとしては５０〜２０００ｎｍの範囲が好ましい。この範囲であれば、十分な接着性と透明性を両立することができる。好ましくは１００〜１５００ｎｍ、さらに好ましくは２００〜１０００ｎｍである。

紫外線吸収層は光学干渉ムラの発生を低減するため、内部及び表面に光散乱機能を付与することが好ましい。光散乱機能の付与については、後述のハードコート層記載と同様な方法を用いることができる。

〔光学フィルムの層構成〕
以下本発明のフィルムの上に形成することのできる光学フィルムについて説明する。

本発明の光学フィルムは、透明な基材フィルム（フィルム状支持体ともいう）上に、目的に応じて必要な機能層を単独又は複数層設けることにより作製することができる。好ましい一つの態様としては、基材上に光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層された反射防止フィルムを挙げることができる。

反射防止フィルムは、最も単純な構成では、基材上に低屈折率層のみを塗設した構成である。更に反射率を低下させるには、反射防止層を、基材よりも屈折率の高い高屈折率層と、基材よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成することが好ましい。構成例としては、基材側から高屈折率層／低屈折率層の２層のものや、屈折率の異なる３層を、中屈折率層（基材又はハードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。

中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層を有する基材上に、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順に塗布することもできる。例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等に記載の構成が挙げられる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例えば、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）などが挙げられる。

［反射防止フィルムの構成］
本発明の反射防止フィルムの好ましい層構成の例を下記に示す。本発明の反射防止フィルムは、光学干渉により反射率を低減できるものであれば、特にこれらの層構成のみに限定されるものではない。下記構成において基材フィルムは、フィルムで構成されたフィルム状支持体を指している。

・基材フィルム／紫外線吸収層／低屈折率層
・基材フィルム／紫外線吸収層／帯電防止層／低屈折率層
・基材フィルム／紫外線吸収層／防眩層／低屈折率層
・基材フィルム／紫外線吸収層／防眩層／帯電防止層／低屈折率層
・基材フィルム／紫外線吸収層／ハードコート層／防眩層／低屈折率層
・基材フィルム／紫外線吸収層／ハードコート層／防眩層／帯電防止層／低屈折率層
・基材フィルム／紫外線吸収層／ハードコート層／帯電防止層／防眩層／低屈折率層
・基材フィルム／紫外線吸収層／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
・基材フィルム／紫外線吸収層／ハードコート層／帯電防止層／高屈折率層／低屈折率層
・基材フィルム／紫外線吸収層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・基材フィルム／紫外線吸収層／防眩層／高屈折率層／低屈折率層
・基材フィルム／紫外線吸収層／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・基材フィルム／紫外線吸収層／帯電防止層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・帯電防止層／基材フィルム／紫外線吸収層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・基材フィルム／紫外線吸収層／帯電防止層／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・帯電防止層／基材フィルム／紫外線吸収層／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・帯電防止層／基材フィルム／紫外線吸収層／防眩層／高屈折率層／低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層

［反射防止フィルム以外の光学フィルムの構成］
また、別の態様として、光学干渉を積極的には用いずに、ハードコート性、防湿性、ガスバリア性、防眩性、防汚性などの付与の目的のために必要な層を設けた光学フィルムも好ましい。

上記態様のフィルムの好ましい層構成の例を下記に示す。下記構成において基材フィルムは、フィルムで構成されたフィルム状支持体を指している。
・基材フィルム／紫外線吸収層／ハードコート層
・基材フィルム／紫外線吸収層／ハードコート層／ハードコート層
・基材フィルム／紫外線吸収層／防眩層
・基材フィルム／紫外線吸収層／防眩層／防眩層
・基材フィルム／紫外線吸収層／ハードコート層／防眩層
・基材フィルム／紫外線吸収層／防眩層／ハードコート層
・基材フィルム／紫外線吸収層／帯電防止層／ハードコート層
・基材フィルム／紫外線吸収層／防湿層／ハードコート層
・基材フィルム／紫外線吸収層／ガスバリア層／ハードコート層
・基材フィルム／紫外線吸収層／ハードコート層／防汚層
・帯電防止層／基材フィルム／紫外線吸収層／ハードコート層
・帯電防止層／基材フィルム／紫外線吸収層／防眩層

これらの層は、蒸着、大気圧プラズマ、塗布などの方法により形成することができる。生産性の観点からは、塗布により形成することが好ましい。

以下各構成層について説明する。

［ハードコート層］
本発明のフィルムは、フィルムの物理的強度を付与するために、透明なフィルム状支持体の一方の面に、必須の構成層としてハードコート層を設けてなるものである。ハードコート層は、２層以上の積層から構成されてもよい。

本発明におけるハードコート層の屈折率は、光学干渉ムラ低減のため、下層の紫外線吸収層との屈折率差を小さくすることが好ましい。ハードコート層の屈折率は１．４８〜２．００の範囲にあることが好ましく、より好ましくは１．５２〜１．９０であり、更に好ましくは１．５５〜１．８０である。この範囲であれば、本発明の好ましい態様である、ハードコート層の上に低屈折率層が少なくとも１層ある態様でも、反射防止性能と反射光の色味が両立することができる。

ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好ましくは１μｍ〜２０μｍ、さらに好ましくは２μｍ〜１０μｍ、最も好ましくは３μｍ〜７μｍである。

また、ハードコート層の硬度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

さらに、ＪＩＳ Ｋ−５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明なフィルム状支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。

電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

上記の重合性不飽和基を有するモノマーの代わりに、又はそれに加えて、架橋性の官能基をバインダーに導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を有するモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋性官能基を有するバインダーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。

ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が１．０〜１５．０μｍ、好ましくは１．５〜１０．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子を含有してもよい。以下、内部散乱性を付与した層を「光拡散層」ということがある。

ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、高屈折率モノマー、無機粒子、又は両者を加えることができる。無機粒子には、屈折率を制御する効果に加えて、バインダーの架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後、上記多官能モノマー及び／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体であって、その中に無機粒子が分散されているものをバインダーと称する。

光学干渉ムラを低減する観点から、ハードコート層は適度のヘイズを有することが好ましい。ヘイズは、表面散乱又は内部散乱に起因する表面ヘイズ、内部ヘイズのいずれを有してもよいが、本発明のフィルムは、目的に応じて、表面ヘイズ及び内部ヘイズを自由に設定可能である。

画像の鮮明性を維持し、表面の反射率を抑えて、ハードコート層の内部及び表面にて光散乱機能を付与しない場合は、ヘイズ値は低い程よく、具体的には１０％以下が好ましく、更に好ましくは５％以下であり、最も好ましくは２％以下である。

一方、ハードコート層の表面散乱にて、防眩機能を付与する場合は、表面ヘイズが５％〜１５％であることが好ましく、５％〜１０％であることがより好ましい。

また、ハードコート層の内部散乱により液晶パネルの模様や色ムラ、輝度ムラ、ギラツキなどを見難くしたり、散乱により視野角を拡大したりする機能を付与する場合は、内部ヘイズ値（全ヘイズ値から表面ヘイズ値を引いた値）は１０％〜９０％であることが好ましく、更に好ましくは１５％〜８０％であり、最も好ましくは２０％〜７０％である。

ハードコート層の表面凹凸形状については、画像の鮮明性を維持する目的で、クリアな表面を得るためには、表面粗さを示す特性のうち、例えば中心線平均粗さ（Ｒａ）を０．０８μｍ以下とすることが好ましい。Ｒａは、より好ましくは０．０７μｍ以下であり、更に好ましくは０．０６μｍ以下である。本発明のフィルムにおいては、フィルムの表面凹凸にはハードコート層の表面凹凸が支配的であり、ハードコート層の中心線平均粗さを調節することにより、反射防止フィルムの中心線平均粗さを上記範囲とすることができる。

画像の鮮明性を維持する目的では、表面の凹凸形状を調整することに加えて、透過画像鮮明度を調整することが好ましい。クリアな反射防止フィルムの透過画像鮮明度は６０％以上が好ましい。透過画像鮮明度は、一般にフィルムを透過して映す画像の呆け具合を示す指標であり、この値が大きい程、フィルムを通して見る画像が鮮明で良好であることを示す。透過画像鮮明度は好ましくは７０％以上であり、更に好ましくは８０％以上である。

（光ラジカル重合開始剤）
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類（特開２００１−１３９６６３号公報等）、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。これらの開始剤は単独でも混合して用いてもよい。

「最新ＵＶ硬化技術」，（株）技術情報協会，１９９１年，ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」（加藤清視著、平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。

市販の光ラジカル重合開始剤としては、日本化薬（株）製の「カヤキュアー（ＤＥＴＸ−Ｓ，ＢＰ−１００，ＢＤＭＫ，ＣＴＸ，ＢＭＳ，２−ＥＡＱ，ＡＢＱ，ＣＰＴＸ，ＥＰＤ，ＩＴＸ，ＱＴＸ，ＢＴＣ，ＭＣＡなど）」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製の「イルガキュア（６５１，１８４，５００，９０７，３６９，１１７３，２９５９，４２６５，４２６３など）」、サートマー社製の“Ｅｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴ０４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）”等、及びそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。

光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。

（面状改良剤）
フィルム状支持体上のいずれかの層を作製するのに用いる塗布液には、面状故障（塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥など）を改良するために、フッ素系及びシリコーン系の少なくともいずれかの面状改良剤を添加することが好ましい。

面状改良剤は、塗布液の表面張力を１ｍＮ／ｍ以上変化させることが好ましい。ここで、塗布液の表面張力が１ｍＮ／ｍ以上変化するとは、面状改良剤を添加後の塗布液の表面張力が、塗布／乾燥時での濃縮過程を含めて、面状改良剤を添加してない塗布液の表面張力と比較して、１ｍＮ／ｍ以上変化することを意味する。好ましくは、塗布液の表面張力を１ｍＮ／ｍ以上下げる効果がある面状改良剤であり、更に好ましく２ｍＮ／ｍ以上下げる面状改良剤、特に好ましくは３ｍＮ／ｍ以上下げる面状改良剤である。

フッ素系の面状改良剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基を含有する化合物が挙げられる。好ましい化合物の例は、特開２００５−１１５３５９号、特開２００５−２２１９６３号、特開２００５−２３４４７６号の各公報に記載の化合物を挙げることができる。

［防眩層］
防眩層は、表面散乱による防眩性を寄与する目的で形成される。以下、防眩層を「光散乱層」ということがある。
フィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート層に、表面散乱性を付与して、ハードコート層と防眩層を兼ねる層とすることもできる。以下、ハードコート層と防眩層を兼ねる層を「防眩性ハードコート層」ということがある。本発明において好ましくは、「防眩性ハードコート層」である。

防眩性を付与する方法としては、特開平６−１６８５１号公報記載のような表面に微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムをラミネートして形成する方法；特開２０００−２０６３１７号公報記載のように電離放射線照射量の差による電離放射線硬化型樹脂の硬化収縮により形成する方法；特開２０００−３３８３１０号公報記載のように乾燥にて透光性樹脂に対する良溶媒の質量比が減少することにより透光性微粒子及び透光性樹脂とをゲル化させつつ固化させて塗膜表面に凹凸を形成する方法；特開２０００−２７５４０４号公報記載のように外部からの圧力により表面凹凸を付与する方法；特開２０００−２７５４０４号公報記載のように外部からの圧力により表面凹凸を付与する方法；特開２００５−１９５８１９号公報記載のように複数のポリマーの混合溶液から溶媒が蒸発する過程で相分離することを利用して表面凹凸を形成する方法；などが知られており、これら公知の方法を利用することができる。

（透光性粒子の使用）
本発明で用いることができる防眩性ハードコート層の１つの好ましい態様は、ハードコート性を付与することのできるバインダー、防眩性を付与するための透光性粒子、および溶媒を必須成分として含有し、透光性粒子自体の突起あるいは複数の粒子の集合体で形成される突起によって表面の凹凸を形成されるものである。

上記透光性粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ₂粒子等の無機化合物の
粒子；アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。中でも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、シリカ粒子が好ましい。マット粒子の形状は、球形又は不定形のいずれも使用できる。

また、粒子径の異なる２種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。例えば、１３３ｐｐｉ以上の高精細ディスプレイに防眩性反射防止フィルムを貼り付けた場合に、「ギラツキ」と呼ばれる表示画像品位上の不具合が発生する場合がある。「ギラツキ」は、防眩性反射防止フィルム表面に存在する凹凸により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与するマット粒子よりも小さな粒子径で、バインダーの屈折率と異なるマット粒子を併用することにより大きく改善することができる。

上記マット粒子は、形成された防眩性ハードコート層中のマット粒子量が好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ²、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ²となるように防眩層に含有される。

防眩性ハードコート層の膜厚は、１〜２０μｍが好ましく、２〜１０μｍがより好ましい。該範囲内とすることで、ハードコート性、カール、脆性を満足することができる。

一方、防眩性ハードコート層の中心線平均粗さ（Ｒａ）を０．０９〜０．４０μｍの範囲が好ましい。０．４０μｍを超えると、ギラツキや外光が反射した際の表面の白化等の問題が発生する。また、透過画像鮮明度の値は、５〜６０％とするのが好ましい。

防眩性ハードコート層の硬度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

（相分離）
本発明で用いることができる、透光性粒子を使用して防眩性を発現する方法以外の防眩性を付与する手法の一例として、複数のポリマーのスピノーダル分解により塗膜の表面に凹凸を形成する手法が挙げられる。また、特に相分離した相の屈折率に差を与えることで、良好な光拡散性を付与することが可能となる。

スピノーダル分解により作成される光散乱層は、互いに屈折率の異なる複数のポリマーで構成され、通常、使用雰囲気（特に、約１０〜３０℃程度の室温下）において、少なくとも共連続相構造を有する相分離構造を形成している。そして、前記共連続相構造は、複数のポリマーを含む液相（常温で液相、例えば、混合液又は溶液）からのスピノーダル分解により形成されている。この共連続相構造は、通常、複数のポリマーを含み、且つ常温で液相を形成する組成物（例えば、混合液又は溶液）を用い、溶媒の蒸発を経たスピノーダル分解により形成されている。このような光散乱層は、液相から形成されるため、均一で微細な共連続相構造を有している。このような透過型光散乱層を用いると、入射光が実質的に等方的に散乱し、かつ透過散乱光に指向性を付与できる。そのため、高い光散乱性と指向性とを両立できる。

光散乱性を高めるため、使用される複数のポリマーは、屈折率の差が、例えば、０．０１〜０．２程度、好ましくは０．１〜０．１５程度となるように組み合わせて使用できる。屈折率の差が０．０１以上であれば透過散乱光の強度が低下することがなく、また屈折率の差が０．２以下であれば透過散乱光に高い指向性を付与することができ好ましい。

複数のポリマーは、例えば、スチレン系重合体、（メタ）アクリル系重合体、ビニルエステル系重合体、ビニルエーテル系重合体、ハロゲン含有重合体、オレフィン系重合体（脂環式オレフィン系重合体を含む）、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂、ポリスルホン系樹脂（ポリエーテルスルホン、ポリスルホンなど）、ポリフェニレンエーテル系樹脂（２，６−キシレノールの重合体など）、セルロース誘導体（セルロースエステル類、セルロースカーバメート類、セルロースエーテル類など）、シリコーン樹脂（ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサンなど）、ゴム又はエラストマー（ポリブタジエン、ポリイソプレンなどのジエン系ゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴムなど）などから適当に組み合わせて選択できる。

好ましいポリマーには、例えば、スチレン系重合体、（メタ）アクリル系重合体、ビニルエステル系重合体、ビニルエーテル系重合体、ハロゲン含有重合体、脂環式オレフィン系重合体、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂、及びゴム又はエラストマーなどが含まれる。複数のポリマーとしては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーを溶解可能な共通溶媒）に可溶なポリマーが使用される。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高いポリマー、例えば、スチレン系重合体、（メタ）アクリル系重合体、脂環式オレフィン系重合体、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類など）などが好ましい。

これらの複数のポリマーは適当に組み合わせて使用できる。例えば、複数のポリマーの組み合わせにおいて、少なくとも１つのポリマーを、セルロース誘導体、特にセルロースエステル類（例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロースＣ₂〜₄アルキルカルボン酸エステル類）とし、他のポリマーと組み合わせてもよい。

ポリマーのガラス転移温度は、例えば、−１００℃〜２５０℃、好ましくは−５０〜２３０℃、さらに好ましくは０〜２００℃程度（例えば、５０〜１８０℃程度）の範囲から選択できる。なお、フィルムの強度や剛性の点から、構成ポリマーのうち少なくとも１つのポリマーのガラス転移温度は、５０℃以上（例えば、７０〜２００℃程度）、好ましくは１００℃以上（例えば、１００〜１７０℃程度）であるのが有利である。

ポリマーの重量平均分子量は、例えば、１，０００，０００以下（１０，０００〜１，０００，０００程度）、好ましくは１０，０００〜７００，０００程度の範囲から選択できる。

複数のポリマーを含む液相から溶媒を蒸発させてスピノーダル分解する湿式法を採用することが好ましい。原理的には複数のポリマーの相溶性の如何にかかわらず、実質的に等方性の共連続相構造を有する光散乱層を形成できる。そのため、互いに相溶性の複数のポリマーを組み合わせて構成してもよいが、通常、スピノーダル分解により相分離構造を容易に制御し、効率よく共連続相構造を形成するため、非相溶性（相分離性）の複数のポリマーを組み合わせる場合が多い。

複数のポリマーは、第１のポリマーと第２のポリマーとの組み合わせにより構成でき、第１のポリマー及び第２のポリマーは、それぞれ単一の樹脂で構成してもよく複数の樹脂で構成してもよい。第１のポリマーと第２のポリマーとの組み合わせは特に制限されない。例えば、第１のポリマーがセルロース誘導体（例えば、セルロースアセテートプロピオネートなどのセルロースエステル類）である場合、第２のポリマーは、スチレン系樹脂（ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体など）、（メタ）アクリル系樹脂（ポリメタクリル酸メチルなど）、脂環式オレフィン系樹脂（ノルボルネンを単量体とする重合体など）、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂（前記ポリＣ₂〜₄アルキレンアリレート系コポリエステルなど）などであってもよい。

第１のポリマーと第２のポリマーとの割合は、例えば、前者／後者＝１０／９０〜９０／１０（質量比）程度、好ましくは２０／８０〜８０／２０（質量比）程度、さらに好ましくは３０／７０〜７０／３０（質量比）程度、特に４０／６０〜６０／４０（質量比）程度である。両方のポリマーの割合が該範囲であれば、分離した相間の体積比が偏って散乱光の強度が低下するなどの問題が生じないので好ましい。なお、３種以上の複数のポリマーでハードコート層を形成する場合には、各ポリマーの含有量は、通常、１〜９０質量％（例えば、１〜７０質量％、好ましくは５〜７０質量％、さらに好ましくは１０〜７０質量％）程度の範囲から選択できる。

共連続相構造とは、共連続構造や三次元的に連続又は繋がった構造と称される場合があり、少なくとも２種の構成ポリマー相が連続している構造（例えば、網目構造）を意味する。このタイプの光散乱層は、共連続相構造を有していればよく、共連続相構造と液滴相構造（独立又は孤立した相構造）とが混在した構造を有していてもよい。

なお、スピノーダル分解において、相分離の進行に伴って共連続相構造を形成し、さらに相分離を進行させると、連続相が自らの表面張力により非連続化し、液滴相構造（球状、真球状などの独立相の海島構造）となる。従って、相分離の程度によって、共連続相構造と液滴相構造との中間的構造、すなわち、上記共連続相から液滴相に移行する過程の相構造も形成できる。本明細書では、該中間的構造も共連続相構造という。なお、相分離構造が共連続相構造と液滴構造との混在構造である場合、液滴相（独立ポリマー相）の割合は、例えば、３０％以下（体積比）、好ましくは１０％以下（体積比）であってもよい。共連続相構造の形状は特に制限されず、ネットワーク状、特にランダムなネットワーク状であってもよい。

上記共連続相構造は、通常、層又は光学フィルム面内において異方性が低減されており、実質的に等方性である。なお、等方性とは、光学フィルム面内のどの方向に対しても共連続相構造の平均相間距離が実質的に等しいことを意味する。

共連続相構造は、通常、相間距離（同一相間の距離）に規則性を有する。そのため、光学フィルムに入射した光はブラッグ反射により透過散乱光が特定方向に指向する。従って、反射型液晶表示装置に装着しても、透過した散乱光を一定の方向に指向させることができ、表示画面を高度に明るくすることができ、従来の粒子分散型の透過型光散乱シートでは解決できなかった問題点、すなわち、パネルへの光源（例えば、蛍光灯など）の映りを回避できる。

光学フィルムにおいて共連続相の平均相間距離は、例えば、０．５〜２０μｍ（例えば、１〜２０μｍ）、好ましくは１〜１５μｍ（例えば、１〜１０μｍ）程度である。平均相間距離が小さすぎると、高い散乱光強度を得ることが困難であり、平均相間距離が大きすぎると、透過散乱光の指向性が低下する。

なお、共連続層の平均相間距離は、光散乱層又は光学フィルムの顕微鏡写真（透過型顕微鏡、位相差顕微鏡、共焦点レーザー顕微鏡など）から算出することができる。また、後述する散乱光の指向性の評価法と同様の方法により、散乱光強度が極大になる散乱角度θを測定し、下記のブラッグ反射条件の式より共連続相の平均相間距離ｄを算出してもよい。
数式１：２ｄ・ｓｉｎ（θ／２）＝λ
（式中、ｄは共連続相の平均相間距離、θは散乱角度、λは光の波長を示す）

（エンボス）
光散乱層の作成手法として、透光性粒子を使用して防眩性を発現する以外の手法の一例として、エンボス法により光散乱層を作成する手法が挙げられる。エンボス法により作成される光散乱層とは、透明基板上に、表面が微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムで賦形された電離放射線硬化型樹脂組成物、又は熱硬化型樹脂組成物から本質的に構成される光層が形成されたものである。

上記光散乱層の製造方法は、樹脂が電離放射線硬化型樹脂組成物の場合には、透明基板上に電離放射線硬化型樹脂組成物を塗工し、次に塗工された電離放射線硬化型樹脂組成物の未硬化状態の塗膜上に、表面に微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムをラミネートし、次に該賦型フィルムがラミネートされた塗膜上に電離放射線を照射することにより、該電離放射線硬化型樹脂組成物の塗膜を硬化させ、次に硬化した電離放射線硬化型樹脂の塗膜から賦型フィルムを剥離する製造方法で製造することが好ましい。

また、樹脂が熱硬化型樹脂組成物の場合には、透明基板上に熱硬化型樹脂組成物を塗工し、次に塗工された熱硬化型樹脂組成物の未硬化状態の塗膜上に表面に微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムをラミネートし、次に該賦型フィルムがラミネートされた該塗膜を加熱して硬化させ、次に硬化した熱硬化型樹脂組成物の塗膜から賦型フィルムを剥離する製造方法で製造することが好ましい。

賦型フィルムを未硬化の電離放射線硬化型樹脂組成物の塗膜上にラミネートする際には、塗工した樹脂が溶媒希釈系のものであれば、溶媒を乾燥した後にラミネートを行い、また、塗工した樹脂が無溶媒系のものであれば、そのままラミネートを行う。

エンボス法の光散乱層に用いられる電離放射線硬化型樹脂組成物の皮膜形成成分は、好ましくは、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル重合体、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン重合体、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、並びに、反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー及び多官能モノマー、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を比較的多量に含有するものが使用できる。

特に好適には、ポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートの混合物が用いられる。その理由は、ポリエステルアクリレートは塗膜が非常に硬くてハードコートを得るのに適しているが、ポリエステルアクリレート単独ではその塗膜は衝撃性が低く、脆くなるので、塗膜に耐衝撃性及び柔軟性を与えるためにポリウレタンアクリレートを併用する。ポリエステルアクリレート１００質量部に対するポリウレタンアクリレートの配合割合は、３０質量部以下とするのが好ましい。この値以下であれば塗膜が柔らかすぎてハード性がなくなるなどの不都合が生じないので好ましい。

さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂組成物を紫外線硬化型樹脂組成物とするには、この中に光ラジカル重合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノスルフィド、チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。特に本発明では、オリゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を混合するのが好ましい。

［高屈折率層、中屈折率層］
本発明のフィルムには、高屈折率層、中屈折率層を設け、後述の低屈折率層とともに光学干渉を利用すると反射防止性を高めることができる。

以下の本明細書では、この高屈折率層と中屈折率層を高屈折率層と総称して呼ぶことがある。なお、本発明において、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層の「高」、「中」、「低」とは層相互の相対的な屈折率の大小関係を表す。また透明支持体（フィルム状支持体）との関係でいえば屈性率は、透明支持体＞低屈折率層、高屈折率層＞透明支持体の関係を満たすことが好ましい。
また、本明細書では高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層を総称して反射防止層と総称して呼ぶことがある。

高屈折率層の上に低屈折率層を構築して、反射防止フィルムを作製するためには、高屈折率層の屈折率は１．５５〜２．４０であることが好ましく、より好ましくは１．６０〜２．２０、更に好ましくは、１．６５〜２．１０、最も好ましくは１．８０〜２．００である。

フィルム状支持体から近い順に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を塗設し、反射防止フィルムを作成する場合、高屈折率層の屈折率は、１．６５〜２．４０であることが好ましく、１．７０〜２．２０であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は１．５５〜１．８０であることが好ましい。

高屈折率層及び中屈折率層に用いられる無機粒子の具体例としては、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、インヂウム錫オキシド（ＩＴＯ）
とＳｉＯ₂等が挙げられる。ＴｉＯ₂及びＺｒＯ₂が高屈折率化の点で特に好ましい。該無
機フィラーは、表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。

高屈折率層における無機粒子の含有量は、高屈折率層の質量に対し１０〜９０質量％であることが好ましく、より好ましくは１５〜８０質量％、特に好ましくは１５〜７５質量％である。無機粒子は高屈折率層内で２種類以上を併用してもよい。

高屈折率層の上に低屈折率層を有する場合、高屈折率層の屈折率は透明なフィルム状支持体の屈折率より高いことが好ましい。

高屈折率層に、芳香環を含む電離放射線硬化性化合物、フッ素以外のハロゲン化元素（例えば、Ｂｒ，Ｉ，Ｃｌ等）を含む電離放射線硬化性化合物、Ｓ，Ｎ，Ｐ等の原子を含む電離放射線硬化性化合物などの架橋又は重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。

高屈折率層の膜厚は、用途により適切に設計することができる。高屈折率層を後述する光学干渉層として用いる場合、３０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは５０〜１７０ｎｍ、特に好ましくは６０〜１５０ｎｍである。

高屈折率層のヘイズは、防眩機能を付与する粒子を含有しない場合、低いほど好ましい。５％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３％以下、特に好ましくは１％以下である。高屈折率層は、前記透明フィルム状支持体の上に直接、又は他の層を介して構築することが好ましい。

［低屈折率層］
本発明の光学フィルムの反射率を低減するため、低屈折率層を用いることが好ましい。

低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４６であることが好ましく、１．２５〜１．４６であることがより好ましく、１．３０〜１．４０であることが特に好ましい。

低屈折率層の厚さは、５０〜２００ｎｍであることが好ましく、７０〜１００ｎｍであることがさらに好ましい。

低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。

具体的な低屈折率層の硬度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

また、光学フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９０°以上であることが好ましい。更に好ましくは９５°以上であり、特に好ましくは１００°以上である。

低屈折率層を形成するための好ましい硬化物組成の態様としては、（１）架橋性又は重合性の官能基を有する含フッ素ポリマーを含有する組成物、（２）含フッ素のオルガノシラン材料の加水分解縮合物を主成分とする組成物、（３）２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーと中空構造を有する無機微粒子を含有する組成物などが挙げられる。

（１）架橋性又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物
架橋性又は重合性の官能基を有する含フッ素化合物としては、含フッ素モノマーと架橋性又は重合性の官能基を有するモノマーの共重合体を挙げることができる。含フッ素モノマーとしては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオリド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、ペルフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類［例えば「ビスコート６ＦＭ」｛大阪有機化学工業（株）製｝や“Ｍ−２０２０”｛ダイキン工業（株）製｝等］、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等である。

架橋性基付与のためのモノマーとしては、１つの態様として、グリシジルメタクリレートのように分子内に予め架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーを挙げることができる。また別の態様としては、水酸基等の官能基を有するモノマーを用い含フッ素共重合体を合成後、さらにそれら置換基を修飾して架橋性又は重合性の官能基を導入するモノマーを使用する方法である。これらモノマーとしては、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー｛例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等｝が挙げられる。後者の態様は特開平１０−２５３８８号公報及び特開平１０−１４７７３９号公報により開示されている。

上記含フッ素共重合体には、溶解性、分散性、塗布性、防汚性、帯電防止性などの観点から、適宜共重合可能な成分を含むことができる。特に防汚性・滑り性付与のためには、シリコーンを導入することが好ましく、主鎖にも側鎖にも導入することができる。

主鎖へのポリシロキサン部分構造導入方法は、例えば特開平６−９３１００号公報に記載のアゾ基含有ポリシロキサンアミド｛市販のものでは“ＶＰＳ-０５０１、１００１"（商品名）、和光純薬工業（株）製｝等のポリマー型開始剤を用いる方法が挙げられる。また、側鎖に導入する方法は、例えば“Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．”，２０００巻，ｐ．７８，１９５５年、特開昭５６−２８２１９号公報等に記載のごとく、反応性基を片末端に有するポリシロキサン［例えば「サイラプレーン」シリーズ｛チッソ（株）製｝など］を高分子反応によって導入する方法、ポリシロキサン含有シリコンマクロマーを重合させる方法によって合成することができ、どちらの方法も好ましく用いることができる。

上記の含フッ素共重合体に対しては、特開２０００−１７０２８号公報に記載のごとく、適宜、重合性不飽和基を有する硬化剤を併用してもよい。また、特開２００２−１４５９５２号公報に記載のごとく、含フッ素の多官能の重合性不飽和基を有する化合物との併用も好ましい。多官能の重合性不飽和基を有する化合物の例としては、上記の２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを挙げることができる。また、特開２００４−１７０９０１号公報に記載のオルガノランの加水分解縮合物も好ましく、特に（メタ）アクリロイル基を含有するオルガノシランの加水分解縮合物が好ましい。これら化合物は、特にポリマー本体に重合性不飽和基を有する化合物を用いた場合に耐擦傷性改良に対する併用効が大きく好ましい。

含フッ素共重合体自身が単独で十分な硬化性を有しない場合には、架橋性化合物を配合することにより、必要な硬化性を付与することができる。例えばポリマー本体に水酸基含有する場合には、各種アミノ化合物を硬化剤として用いることが好ましい。架橋性化合物として用いられるアミノ化合物は、例えば、ヒドロキシアルキルアミノ基及びアルコキシアルキルアミノ基のいずれか一方又は両方を合計で２個以上含有する化合物であり、具体的には、例えば、メラミン系化合物、尿素系化合物、ベンゾグアナミン系化合物、グリコールウリル系化合物等を挙げることができる。これら化合物の硬化には、有機酸又はその塩を用いるのが好ましい。

以上述べた含フッ素共重合体の具体例は、特開２００３−２２２７０２号公報、特開２００３−１８３３２２号公報等に記載されている。

（２）含フッ素のオルガノシラン材料の加水分解縮合物
含フッ素オルガノシラン化合物の加水分解縮合物を主成分とする組成物も、屈折率が低く、塗膜表面の硬度が高く好ましい。フッ素化アルキル基に対して片末端又は両末端に加水分解性のシラノールを含有する化合物とテトラアルコキシシランの縮合物が好ましい。具体的組成物は、特開２００２−２６５８６６号公報、特許第３１７１５２号公報に記載されている。

（３）２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーと中空構造を有する無機微粒子を含有する組成物
さらに、別の好ましい態様として、低屈折率の粒子とバインダーからなる低屈折率層が挙げられる。低屈折率粒子としては有機でも無機でもよいが、内部に空孔を有する粒子が好ましい。中空粒子の具体例は、特開２００２−７９６１６号公報に記載のシリカ系粒子が挙げられる。粒子の屈折率は１．１５〜１．４０が好ましく、１．２０〜１．３０が更に好ましい。バインダーとしては、前記防眩層の項で述べた２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを挙げることができる。

本発明の低屈折率層には、前記防眩層の項で述べた重合開始剤を添加することが好ましい。重合開始剤は、ラジカル重合性化合物を含有する場合、該化合物に対して１〜１０質量部、好ましくは１〜５質量部の量を使用できる。

本発明における低屈折層には、無機粒子を併用することができる。耐擦傷性を付与するために、低屈折率層の厚さの１５％〜１５０％、好ましくは３０％〜１００％、更に好ましくは４５％〜６０％の粒径を有する微粒子を使用するのがよい。

本発明の低屈折率層には、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のポリシロキサン系又はフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することができる。

［帯電防止層］
本発明においては、帯電防止層を設けることがフィルム表面での静電気防止の点で好ましい。帯電防止層を形成する方法は、例えば、導電性微粒子と反応性硬化樹脂を含む導電性塗工液を塗工する方法、又は透明膜を形成する金属や金属酸化物等を蒸着やスパッタリングして導電性薄膜を形成する方法等の、従来公知の方法を挙げることができる。帯電防止層は、支持体に直接又は、支持体との接着を強固にするプライマー層を介して形成することができる。また、帯電防止層を反射防止層の一部として使用することもできる。この場合、最表層から近い層で使用する場合には、膜の厚さが薄くても十分に帯電防止性を得ることができる。
また、紫外線吸収層が導電性金属酸化物を含有することにより、紫外線吸収層と帯電防止層を兼ねることもできる。

帯電防止層の厚さは、０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０３〜７μｍであることがより好ましく、０．０５〜５μｍであることがさらに好ましい。

帯電防止層の表面抵抗は、１０⁵〜１０¹²Ω／ｓｑであることが好ましく、１０⁵〜１０⁹Ω／ｓｑであることがさらに好ましく、１０⁵〜１０⁸Ω／ｓｑであることが最も好ましい。帯電防止層の表面抵抗は、四探針法により測定することができる。

帯電防止層は、実質的に透明であることが好ましい。具体的には、帯電防止層のヘイズが、１０％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。また波長５５０ｎｍの光の透過率が、５０％以上であることが好ましく、６０％以上であることがより好ましく、６５％以上であることがさらに好ましく、７０％以上であることが最も好ましい。

本発明における帯電防止層は、硬度が優れており、具体的な帯電防止層の硬度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましく、３Ｈ以上であることがさらに好ましく、４Ｈ以上であることが最も好ましい。

［塗布溶媒］
上記各構成層のうち、基材フィルム（フィルム状支持体）に隣接して塗布される層には、基材フィルムを溶解する少なくとも一種類以上の溶媒と、基材フィルムを溶解しない少なくとも１種類以上の溶媒を含有することが好ましい。このような態様にすることで、基材フィルムへの隣接層成分の過剰な染み込み防止と、隣接層と基材フィルムとの密着性確保の両立を図ることができる。また、基材フィルムを溶解する溶媒のうちの少なくとも１種類が、基材フィルムを溶解しない溶媒のうちの少なくとも１種類よりも高沸点であることがより好ましい。さらに好ましくは、基材フィルムを溶解する溶媒のうち最も沸点の高い溶媒と、基材フィルムを溶解しない溶媒のうち最も沸点の高い溶媒との沸点温度差が、３０℃以上であることであり、最も好ましくは４０℃以上であることである。

透明基材フィルムを溶解する溶媒の総量（Ａ）と透明基材フィルムを溶解しない溶媒の総量（Ｂ）の質量割合（Ａ／Ｂ）は、５／９５〜５０／５０が好ましく、より好ましくは１０／９０〜４０／６０であり、さらに好ましく１５／８５〜３０／７０である。

＜光学フィルムの用途＞
〔偏光板〕
本発明の光学フィルムは、偏光子の少なくとも一方の面に、保護フィルムとして貼り合わせることで偏光板を構成する。偏光子の他方の面の保護フィルムは、透湿度が７００〜３０００ｇ／ｍ²・日、さらには１０００〜１７００ｇ／ｍ²・日のフィルムを貼り合わせることが好ましい。通常、汎用のセルロースアセテートフィルム、例えばトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が好適に用いられる。

偏光子の、上記他方の面には、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよいが、溶液製膜法で製造され、且つ１０〜１００％の延伸倍率でロールフィルム形態における巾方向に延伸したセルロースアセテートフィルムを用いることもできる。

また本発明の偏光板において、一方の面の保護フィルムが本発明の光学フィルムであるのに対して、他方の面の保護フィルムが液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルム（位相差フィルム）であってもよい。光学補償フィルムは、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。

さらに本発明の偏光板において、一方の面の保護フィルムが本発明の光学フィルムであるのに対して、他方の面の保護フィルムが、Ｒｅが０〜１０ｎｍ、Ｒｔｈが−２０〜２０ｎｍであるフィルム（例えば、特開２００５−３０１２２７号公報段落番号［００９５］参照）であってもよい。

偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子、ポリエン系偏光子などがある。ヨウ素系偏光子及び染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造される。

本発明の光学フィルムは、液晶表示装置等とともに用いられる際には、液晶セルと反対側の視認側に配置することが好ましい。

〔液晶表示装置〕
本発明の光学フィルム及び偏光板は、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、ディスプレイの最表層に用いることが好ましい。

液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。さらに、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に１枚配置されてもよいし、また液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置されてもよい。

［液晶セルのモード］
液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード又はＥＣＢモードであることが好ましい。

（ＴＮモード）
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。

（ＶＡモード）
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。

ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ Ｔｅｃｈ． Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。

（ＯＣＢモード）
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルであり、米国特許第４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）液晶モードと呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。

（ＩＰＳモード）
ＩＰＳモードの液晶セルは、ネマチック液晶に横電界をかけてスイッチングする方式であり、詳しくはＰｒｏｃ．ＩＤＲＣ（Ａｓｉａ Ｄｉｓｐｌａｙ ’９５），ｐ．５７７−５８０及び同ｐ．７０７−７１０に記載されている。

（ＥＣＢモード）
ＥＣＢモードの液晶セルは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向している。ＥＣＢモードは、最も単純な構造を有する液晶表示モードの一つであって、例えば特開平５−２０３９４６号公報に詳細が記載されている。

［輝度向上フィルム］
輝度向上フィルムとしては、光源（バックライト）からの出射光を透過偏光と反射偏光又は散乱偏光に分離するような機能を有する偏光変換素子が用いられる。かかる輝度向上フィルムは、反射偏光または散乱偏光のバックライトからの再帰光を利用して、直線偏光の出射効率を向上できる。

例えば、異方性反射偏光子があげられる。異方性反射偏光子としては、一方の振動方向の直線偏光を透過し、他方の振動方向の直線偏光を反射する異方性多重薄膜があげられる。

異方性多重薄膜としては、例えば３Ｍ製の“ＤＢＥＦ”が挙げられる（例えば、特開平４−２６８５０５号公報等参照）。また異方性反射偏光子としては、コレステリック液晶層とλ／４板の複合体が挙げられる。かかる複合体としては、日東電工製の“ＰＣＦ”が挙げられる（特開平１１−２３１１３０号公報等参照）。また異方性反射偏光子としては、反射グリッド偏光子が挙げられる。反射グリッド偏光子としては、金属に微細加工を施し可視光領域でも反射偏光を出すような金属格子反射偏光子（米国特許第６２８８８４０号明細書等参照）、金属の微粒子を高分子マトリック中に入れて延伸したようなもの（特開平８−１８４７０１号公報等参照）が挙げられる。

また、異方性散乱偏光子が挙げられる。異方性散乱偏光子としては、３Ｍ製のＤＲＰが挙げられる（米国特許第５８２５５４３号明細書参照）。

さらに、ワンパスで偏光変換できるような偏光素子が挙げられる。例えば、スメクテイックＣ^*を用いたものなどがあげられる（特開２００１−２０１６３５号公報等参照）。異方性回折格子を用いることができる。

輝度向上フィルムを使用している液晶表示装置の場合には、本発明の光学フィルムを保護フィルムとして用いた偏光板は視認側の偏光板にのみ使用し、バックライト側の輝度向上フィルムと接している側のフィルムはＲｅ、Ｒｔｈともに３００ｎｍ以下のフィルムを用いた偏光板を使用することが好ましい。このことにより、複屈折干渉が抑えられ、虹ムラ、色味変化が大幅に改善する。

さらに、Ｒｅが０〜１０ｎｍであり、Ｒｔｈが−３０〜２５ｎｍであるフィルムを用いることがより好ましい。例えば、好ましいものとして“ＴＡＣ”｛富士フイルム（株）製｝、特に好ましい物として“Ｚ−ＴＡＣ”｛富士フイルム（株）製｝、“Ｏ−ＰＥＴ”｛カネボウ（株）製｝、「アルテスタフィルム」｛三菱瓦斯化学（株）製｝等が挙げられる。

また、輝度向上フィルムを用いる場合には、偏光板と輝度向上フィルムを密着させることが、偏光板への水分の浸入を防ぎ、光漏れを抑制するため好ましい。偏光板と輝度向上フィルムとを貼り合わせる接着剤には特に制限されない。例えばアクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルエーテル、酢酸ビニル／塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィン、エポキシ系、フッ素系、天然ゴム、合成ゴム等のゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを、適宜に選択して用いることができる。特に、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましく用いうる。

〔タッチパネル〕
本発明の光学フィルムは、特開平５−１２７８２２号公報、特開２００２−４８９１３号公報等に記載されるタッチパネルなどに応用することができる。

〔有機ＥＬ素子〕
本発明の光学フィルムは、有機ＥＬ素子等の基板（基材フィルム）や保護フィルムとして用いることができる。

本発明の光学フィルムを有機ＥＬ素子等に用いる場合には、特開平１１−３３５６６１号、特開平１１−３３５３６８号、特開２００１−１９２６５１号、特開２００１−１９２６５２号、特開２００１−１９２６５３号、特開２００１−３３５７７６号、特開２００１−２４７８５９号、特開２００１−１８１６１６号、特開２００１−１８１６１７号、特開２００２−１８１８１６号、特開２００２−１８１６１７号、特開２００２−０５６９７６号等の各公報記載の内容を応用することができる。また、特開２００１−１４８２９１号、特開２００１−２２１９１６号、特開２００１−２３１４４３号の各公報記載の内容と併せて用いることが好ましい。

本発明をさらに詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特別の断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。

＜光学フィルムの作製＞
合成例１：ペルフルオロオレフィン共重合体（１）の合成
内容量１００ｍＬのステンレス製撹拌機付オートクレーブに、酢酸エチル４０ｍＬ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇ及び過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は０．５３ＭＰａであった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａに達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶媒を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解し、ヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍＬに溶解、氷冷下、アクリル酸クロリド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることにより、下記のペルフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２１であった。

ペルフルオロオレフィン共重合体（１）：

合成例２：紫外線吸収性ポリマー粒子（Ｊ）の合成
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、水６００部を充填し、これにポリビニルアルコール０．７部とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム２．７部を加えて溶解した。次に、これに紫外線吸収性モノマー、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（メタクリロイルオキシ）エチルフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール｛商品名“ＲＵＶＡ−９３”、大塚化学（株）製｝６０．０部、メタクリル酸メチル３９．０部、エチレングリコールジメタクリレート１．０部及び過酸化ベンゾイル２．０部の混合液を加え撹拌した。この混合液を、ホモジナイザーを用いて９０００ｒｐｍで１５分間分散して均一にした。次いで窒素ガスを吹き込みながら７５℃で４時間撹拌を続けた。その後遠心分離法で軽く脱水し、生成物を水で洗浄、乾燥しポリマー粒子（Ｊ）を作製した。

〔紫外線吸収層用塗布液の調製〕
配合例１−１：紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ａ）の調製
紡錘形微粒子酸化チタン（ＴＩ−Ａ）｛平均一次粒子径の、短軸径８ｎｍ（粒子両端における短軸径５ｎｍ）、長軸径３２ｎｍ、アスペクト比４、ルチル結晶化度５５％｝５部に対し、分散剤ポリアクリル酸ナトリウム｛「ポイズ−５３０」（商品名）、花王（株）製｝５．２部、凝集防止剤グリセリン１０．５部及び水４９．３部を混合し、「ディゾルバー」｛特殊機化工業（株）製｝にて、３０００回転／分で３０分間分散した。そののち横型サンドグラインダーで、２５００回転／分で５回通し分散物（ＵＶ１）を得た。
分散物（ＵＶ１）に、ゼラチンを、該塗布液（ＵＶ１）中の紡錘形微粒子酸化チタン（ＴＩ−Ａ）／ゼラチンの比が２／１になるように混合し、紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ａ）を調製した。

配合例１−２：紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ｂ）の調製
配合例１−１において、微粒子酸化チタン（ＴＩ−Ａ）を用いる代わりに、微粒子酸化チタン“ＴＩ−Ｂ”｛球状、平均一次粒径１２ｎｍ、ルチル結晶化度３５％、酸化アルミニウム１０％（対酸化チタン）で表面処理｝用いた以外は配合例１−１と同様にして、分散物（ＵＶ２）を得た。
分散物（ＵＶ２）に、ゼラチンを、該塗布液（ＵＶ２）中の紡錘形微粒子酸化チタン（ＴＩ−Ａ）／ゼラチンの比が２／１になるように混合し、紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ｂ）を調製した。

配合例１−３：紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ｃ）の調製
配合例１−１において、さらに「透明導電ＩＴＯインキＸ５００」｛平均分散径１００〜１４０ｎｍの微粒子状ＩＴＯ、住友金属鉱山（株）製｝を、酸化チタン（ＴＩ−Ａ）／ゼラチン／ＩＴＯ比が２／１／２となるように添加した以外は同様にして、紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ｃ）を調製した。

配合例１−４：紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ｄ）の調製
下記を混合して紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ｄ）を調製した。
｛紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ｄ）の組成｝
スチレンブタジエンラテックス（固形分５０％） ２５８部
２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジンナトリウム塩
（固形分８％） ４９部
紫外線吸収性ポリマー粒子（Ｊ）
合成例２で合成したもの ６００部
蒸留水 ９３部

配合例１−５：紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ｅ）の調製
配合例１−４において、紫外線吸収ポリマー粒子（Ｊ）と蒸留水の代わりに、大成ファインケミカル（株）製のＵＶ吸収剤含有マイクロエマルジョン粒子、“ＳＥ−２５３８Ｅ”を用いた以外は配合例１−４と同様にして紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ｅ）を調製した。

配合例１−６：紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ｆ）の調製
配合例１−４において、紫外線吸収ポリマー粒子（Ｊ）を除いた以外は配合例１−４と同様にして紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ｆ）を調製した。

配合例１−７：紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ｇ）の調製
メチルメタクリレート５０％と、紫外線吸収性モノマーとして２−［２’−ヒドロキシ−５’−（メタクリロイルオキシ）エチルフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール｛商品名“ＲＵＶＡ−９３”、大塚化学（株）製｝５０％とを共重合させてなる数平均分子量２５万のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（高分子ＵＶ剤）を酢酸エチルに溶解させ、３０％の高分子量紫外線吸収剤を含む紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ｇ）を調製した。

配合例１−８：紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ｈ）の調製
紫外線硬化型ウレタンアクリレートオリゴマー｛「紫光ＵＶ７６４０Ｂ」、アクリロイル基数：１分子当たり平均６〜７個、分子量：１５００、日本合成化学工業（株）製｝１００部、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン｛「ダロキュア１１７３」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝４部、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド（「ルシリンＴＰＯ」、ＢＡＳＦ社製）２部、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェノール｛“ＴＩＮＵＶＩＮ３２８”、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝２０部、メチルイソブチルケトン１００部を混合し、紫外線硬化型の紫外線吸収剤を含む紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ｈ）を調製した。

〔紫外線吸収層の塗設〕
参考例１：サンプルＡの作製
シクロオレフィン系フィルム｛「ゼオノアフィルムＺＦ１４−１００」、日本ゼオン（株）製、厚さ１００μｍ、透湿度３０ｇ／ｍ²・ｄ、ガラス転移温度１３６℃｝の一方の
面（光散乱層との接着界面となる面）に、塗布直前にコロナ放電処理を行い、紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ａ）を３５０ｎｍの吸光度が１となるように塗設した（サンプルＡ）。

透湿度の測定法は、「高分子の物性ＩＩ」（高分子実験講座４ 共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができ、本発明にかかるフィルム試料７０ｍｍφを６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、ＪＩＳ Ｚ−０２０８に従った透湿カップを用いて、透湿度＝調湿後質量−調湿前質量で単位面積あたりの水分量（ｇ／ｍ²）を算出した。吸湿剤を入
れていないブランクのカップで透湿度の値を補正は行わなかった。

参考例２：サンプルＢの作製
参考例１において、紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ａ）を用いる代わりに、紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ｂ）を用いた以外は参考例１と同様にしてサンプルＢを作製した。

参考例３：サンプルＣの作製
参考例１において、紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ａ）を用いる代わりに、紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ｃ）を用いた以外は参考例１と同様にしてサンプルＣを作製した。

これらサンプルＡ〜Ｃの２００ｎｍ〜３４０ｎｍの波長域における光線透過率はいずれも５％以下であった。

参考例４：サンプルＤの作製
シクロオレフィン系フィルム「ゼオノアフィルムＺＦ１４−１００」の一方の面（光散乱層との接着界面となる面）に、塗布直前にグロー放電処理を行い、紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ｄ）を塗布し、１３０℃で２分乾燥し、厚さ０．１１μｍの紫外線吸収層を形成してサンプルＤを作製した。

参考例５及び６：サンプルＥ及びＦの作製
参考例４において、紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ｄ）を用いる代わりに、紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ｅ）又は（ＵＶ−Ｆ）を用いた以外は参考例４と同様にしてサンプルＥ及びＦを作製した。

２００ｎｍ〜３４０ｎｍの波長域における光線透過率はサンプルＤ、Ｅは５％以下、サンプルＦは５％を超えていた。

参考例７：サンプルＧの作製
配合例１−７で調製した紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ｇ）を、「ゼオノアフィルムＺＦ１４−１００」の一方の面（光散乱層との接着界面となる面）に、塗布直前にコロナ放電処理を行い、＃５のメイヤーバーを用いて塗布した。フィルムに張力をかけた状態でこれをオーブンで８０℃、１０分間乾燥させ、厚さ０．４μｍのサンプルＧを作製した。２００ｎｍ〜３４０ｎｍの波長域における光線透過率は５％以下であった。

参考例８：サンプルＨの作製
配合例１−８で調製した紫外線吸収層用塗布液（ＵＶ−Ｈ）を、「ゼオノアフィルムＺＦ１４−１００」の一方の面（光散乱層との接着界面となる面）に、塗布直前にコロナ放電処理を行い、＃５のメイヤーバーを用いて塗布した。フィルムに張力をかけた状態でこれをオーブンで８０℃、１０分間乾燥させ、厚さ１．０μｍのサンプルＨを作製した。２００ｎｍ〜３４０ｎｍの波長域における光線透過率は５％以下であった。

参考例で得られたサンプルＡ〜Ｈについて、その構成及び２００ｎｍ〜３４０ｎｍの波長域における光線透過率の値を、紫外線吸収層用塗布液の組成と共に表１に示す。

なお、表１における略号は次のとおりである。
“ＺＦ１４−１００”：シクロオレフィン系フィルム「ゼオノアフィルムＺＦ１４−１００」、日本ゼオン（株）製、厚さ１００μｍ、含水率０．０１％以下、ガラス転移温度１３６℃。
“ＴｉＯ₂（ＴＩ−Ａ）”：紡錘形微粒子酸化チタン“ＴＩ−Ａ”、（石原産業（株）
）製、平均一次粒子径の、短軸径８ｎｍ（粒子両端における短軸径５ｎｍ）、長軸径３２ｎｍ、アスペクト比４、ルチル結晶化度４４％。
“ＴｉＯ₂（ＴＩ−Ｂ）”：球状微粒子酸化チタン“ＴＩ−Ｂ”、（石原産業（株））製、平均一次粒径１２ｎｍ、ルチル結晶化度４４％、酸化アルミニウム１０％（対酸化チタン）で表面処理。
“ＩＴＯ”：「透明導電ＩＴＯインキＸ５００」、住友金属鉱山（株）製、平均分散径１００〜１４０ｎｍの微粒子状ＩＴＯ。
ポリマー粒子（Ｊ）：紫外線吸収性ポリマー粒子（Ｊ）、合成例２で合成。
高分子ＵＶ剤：メチルメタクリレート５０％と、紫外線吸収性モノマー“ＲＵＶＡ−９３”５０％とを共重合させてなる数平均分子量２５万のベンゾトリアゾール系紫外線吸収ポリマー。
“ＳＥ−２５３８Ｅ”：ＵＶ吸収剤含有マイクロエマルジョン粒子、大成ファインケミカル（株）製。
“ＴＩＮＵＶＩＮ３２８”：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェノール、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製。
「ＳＢラテックス」：スチレンブタジエンラテックス「Nipol LX407H」、日本ゼオン（株）製、固形分５０％。
「紫光ＵＶ７６４０Ｂ」：紫外線硬化型ウレタンアクリレートオリゴマー、日本合成化学工業（株）製、アクリロイル基数：１分子当たり平均６〜７個、分子量：１５００。

〔ハードコート層用塗布液の調製〕
配合例２−１：防眩性ハードコート層用塗布液（ＨＣ１）の調製
｛防眩性ハードコート層用塗布液（ＨＣ１）の組成｝
“ＰＥＴ−３０” ５０．０ｇ
「イルガキュア１８４」 ２．０ｇ
“ＳＸ−３５０”（３０％） １．７ｇ
架橋アクリル−スチレン粒子（３０％） １３．３ｇ
“ＦＰ−１３” ０．０５ｇ
“ＫＢＭ−５１０３” １０．０ｇ
トルエン ３８．５ｇ

上記を混合して得た塗布液を、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して防眩性ハードコート層用塗布液（ＨＣ１）を調製した。

配合例２−２：光拡散性ハードコート層用塗布液（ＨＣ２）の調製
｛光拡散性ハードコート層用塗布液（ＨＣ２）の組成｝
「デソライトＺ７４０４」 １００ｇ
“ＤＰＨＡ” ３１ｇ
“ＫＢＭ−５１０３” １０ｇ
“ＫＥ−Ｐ１５０” ８．９ｇ
“ＭＸＳ−３００” ３．４ｇ
ＭＥＫ １９ｇ
ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン） １３ｇ

上記を混合して得た塗布液を、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して光拡散性ハードコート層用塗布液（ＨＣ２）を調製した。

〔低屈折率層層用塗布液の調製〕
合成例３：ゾル液ａの調製
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン｛“ＫＢＭ−５１０３”、信越化学工業（株）製｝１００部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液ａを得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。

配合例３−１：低屈折率層用塗布液（ＬＬ１）の調製
｛低屈折率層用塗布液（ＬＬ１）の組成｝
“ＤＰＨＡ” ３．３ｇ
中空シリカ（１８．２％） ４０．０ｇ
“ＲＭＳ−０３３” ０．７ｇ
「イルガキュア９０７」 ０．２ｇ
ゾル液ａ ６．２ｇ
ＭＥＫ ２９９．６ｇ

上記塗布溶液を攪拌後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用塗布液（ＬＬ１）を調製した。

配合例３−２：低屈折率層用塗布液（ＬＬ２）の調製
｛低屈折率層用塗布液（ＬＬ２）の組成｝
「オプスターＪＴＡ１１３」（６％） １３．０ｇ
“ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ”（３０％） １．３ｇ
ゾル液ａ ０．６ｇ
ＭＥＫ ５．０ｇ
シクロヘキサノン ０．６ｇ

上記塗布溶液を攪拌後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用塗布液（ＬＬ２）を調製した。

上記配合例２−１〜２−２及び３−１〜３−２でそれぞれ使用した化合物を以下に示す。
“ＰＥＴ−３０”：ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物、日本化薬（株）製。
「イルガキュア１８４」：重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製。
“ＳＸ−３５０”：平均粒径３．５μｍ架橋ポリスチレン粒子、屈折率１．６１、綜研化学（株）製、３０％トルエン分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用。
架橋アクリル−スチレン粒子：平均粒径３．５μｍ、屈折率１．５５、綜研化学（株）製、３０％トルエン分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用。

“ＦＰ−１３”：含フッ素ポリマー、

“ＫＢＭ−５１０３”：シランカップリング剤、信越化学工業（株）製。
「デソライトＺ７４０４」：ＺｒＯ₂微粒子含有ハードコート剤、屈折率１．６２、固形分濃度６０％、酸化ジルコニウム微粒子含量７０％（対固形分）、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径約２０ｎｍ、溶媒組成：ＭＩＢＫ／ＭＥＫ＝９／１、ＪＳＲ（株）製。
“ＤＰＨＡ”：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、屈折率１．５２、日本化薬（株）製。
“ＫＥＰ−１５０”：平均粒径１．５μｍシリカ粒子、屈折率１．４６、日本触媒（株）製、３０％ＭＥＫ分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用。
“ＭＸＳ−３００”：平均粒径３μｍポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）粒子、屈折率１．４９、綜研化学（株）製、３０％ＭＩＢＫ分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用。

中空シリカ：下記の合成例４で調製した中空シリカ微粒子分散液。
“ＲＭＳ−０３３”：反応性シリコーン（Ｇｅｌｅｓｔ社製）。
「イルガキュア９０７」：光重合開始剤｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝。
ゾル液ａ：前記合成例３で調製したもの。
「オプスターＪＴＡ１１３」：熱架橋性含フッ素ポリマー、屈折率１．４４、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製。
“ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ”：コロイダルシリカ分散物、ＭＥＫ−ＳＴの粒子サイズ違い、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製。

合成例４：中空シリカ微粒子分散液の調製
中空シリカ微粒子ゾル“ＣＳ６０−ＩＰＡ”｛イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業（株）製、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚さ１０ｎｍ、シリカ濃度２０％、シリカ粒子の屈折率１．３１｝５００部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン“ＫＢＭ−５１０３”｛信越化学(株)製｝３０部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５部加え混合した後に、イオン交換水９部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８部を添加し、中空シリカ分散液を得た。得られた中空シリカ分散液の固形分濃度は１８％、溶媒乾燥後の屈折率は１．３１であった。

〔光学フィルムの作製〕
［実施例１］
｛光学フィルム（ＯＦ１）の作製｝
参考例１で作製したサンプルＡの紫外線吸収層上に、防眩性ハードコート層用塗布液（ＨＣ１）を、線数１３５本／ｉｎ、深度６０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、搬送速度１０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの「空冷メタルハライドランプ」｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／
ｃｍ²、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、防眩性ハードコート層（厚さ６μｍ）を形成して巻き取ることにより、光学フィルム（ＯＦ１）を作製した。

｛光学フィルム（ＯＦ２）の作製｝
作製した光学フィルム（ＯＦ１）を再び巻き出して、その防眩性ハードコート層上に、低屈折率層用塗布液（ＬＬ２）を、線数２００本／ｉｎ、深度３０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、搬送速度２０ｍ／分の条件で塗布し、１２０℃で７５秒乾燥の後、更に１０分乾燥させてから窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの「空冷メタルハライドランプ」｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成して巻き取ることにより、光学フィルム（ＯＦ２）｛反射防止フィルム｝を作製した。

｛光学フィルム（ＯＦ３）〜（ＯＦ１１）および（ＯＦｒ１）〜（ＯＦｒ２）の作製｝
表２に示すように、紫外線吸収層形成フィルムとしてサンプルＡ〜Ｇのいずれかを用い、ハードコート層用塗布液として、防眩性ハードコート層用塗布液（ＨＣ１）又は光拡散性ハードコート層用塗布液（ＨＣ２）を用い、低屈折率層用塗布液として低屈折率層用塗布液（ＬＬ１）又は（ＬＬ２）を用いて、ハードコート層及び低屈折率層をそれぞれ形成し、あるいは低屈折率層を形成しない以外は光学フィルム（ＯＦ１）および（ＯＦ２）と同様にして光学フィルム（ＯＦ３）〜（ＯＦ１１）および（ＯＦｒ１）〜（ＯＦｒ２）をそれぞれ作製した。

｛光学フィルム（ＯＦｒ３）の作製｝
表２に示すように、紫外線吸収層形成フィルムとしてサンプルＨを用い、防眩性ハードコート層用塗布液（ＨＣ１）を用いて光学フィルム（ＯＦｒ３）を作製した。

｛光学フィルム（ＯＦｒ４）〜（ＯＦｒ７）の作製｝
膜厚８０μｍ、幅１３４０ｍｍのトリアセチルセルロースフィルム“ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ”｛富士フイルム（株）製、厚さ８０μｍ、透湿度１４００ｇ／ｍ²・ｄ｝上に、表２に示すように、直接、防眩性ハードコート層用塗布液（ＨＣ１）又は光拡散性ハードコート層用塗布液（ＨＣ２）を、線数１３５本／インチ、深度６０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、搬送速度１０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、防眩性ハードコート層（厚さ６μｍ）または光拡散性ハードコート層（厚さ３．４μｍ）を形成して巻き取った。

次いで表２に示すように、低屈折率層用塗布液（ＬＬ１）もしくは（ＬＬ２）を用いて低屈折率層を形成し、又は低屈折率層を形成せずに、比較用の光学フィルム（ＯＦｒ４）〜（ＯＦｒ７）をそれぞれ作製した。

〔光学フィルムの評価〕
得られたこれらの光学フィルム試料について、透過率を測定したところ、本発明試料１〜１１は、いずれも３８０ｎｍの透過率が０〜５０％、６００ｎｍの透過率が８０〜１００％であった。さらに以下の項目の評価を行った。結果を表２に示す。

（１）平均反射率
分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を用いた。

（２）塗布時の白粉性評価
紫外線吸収層を塗布したサンプルを一端巻き取り、ハードコート層を塗布するために、サンプルを巻きだした時に、紫外線吸収層面に接するローラーに付着する白粉の量で評価する。１００ｍ送り出した時に付着が目視で観測される状態を△とする。
○：ローラー付着がなく、面状欠陥がない。
△：ローラー付着 目視であり。ハードコート層にハジキなし。
×：ローラー付着 目視であり。ハードコート層にハジキあり。

（３）ヘイズ ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準じて得られた光学フィルムの全ヘイズ値（Ｈ）を測定する。

（４）消しゴム耐擦傷性
光学フィルムをガラス面上に粘着剤で固定し、直径８ｍｍ、厚さ４ｍｍにくりぬいた消しゴム、“ＭＯＮＯ”（商品名）｛トンボ鉛筆（株）製｝を擦り試験機のヘッドとして、光学フィルムの表面に５００ｇ／ｃｍ²の荷重で垂直に上方から押し付けた後、２５℃、
６０ＲＨ％の条件下においてストローク長３．５ｃｍ、擦り速度１．８ｃｍ／ｓにて２００往復擦った後、付着した消しゴムを除去後、試料の擦り部を目視で表面の傷つき度合を確認し、このテストを３回繰り返し、平均して４段階で評価した。
○：ほとんどキズが認められない。
△：僅かにキズが認められる。
×：はっきりとキズが認められる。
××：キズが擦りあと全面に認められる。

（５）密着性評価
光学フィルムのハードコート層を有する側の表面に、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れて合計１００個の正方形の升目を刻み、日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ“ＮＯ．３１Ｂ”を圧着して密着試験を同じ場所で繰り返し３回行った。剥がれの有無を目視で観察し、下記の４段階評価を行った。
◎：１００個の升目中に剥がれが全く認められなかったもの
○：１００個の升目中に剥がれが認められたものが２升以内のもの
△：１００個の升目中に剥がれが認められたものが３〜１０升のもの
×：１００個の升目中に剥がれが認められたものが１０升を超えたもの

（６）耐光性評価
保護フィルム、偏光子、光学フィルムの３枚を、この順序に張り合わせて、偏光板を作成した。この時、保護フィルムとしては、ノルボルネン系重合体フィルム「ゼオノアフィルムＺＦ１４−１００」｛日本ゼオン（株）製、厚さ１００μｍ｝を使用した。また、偏光板は光学フィルムの低屈折率層側（又はハードコート層側）が表面になる向きで貼り合わせた。作製した偏光板を「アイスーパーＵＶテスター」｛メタルハライドランプ、岩崎電気（株）製｝にセットし、偏光板の低屈折率層側（又はハードコート層側）側から、７０ｍＷ／ｃｍ²の強度の紫外線を２００時間照射した後、偏光板の変色を目視観察した。

低屈折率層の屈折率は１．３８〜１．４５，ハードコート層の屈折率は１．５０〜１．６２であった。

表２に示される結果より、以下のことが明らかである。
本発明の光学フィルムは、耐光性がよく、光拡散層塗布時に白粉が発生しなく、密着性に優れ、光学特性をバランスよく満たし、反射防止フィルムとしてトータルで性能が向上している。

［実施例２］
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム｛“ＴＤ８０Ｕ”、富士フイルム（株）製｝を、１．５ｍｏｌ／Ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬した後、中和、水洗した。次に、このアルカリ処理したＴＡＣフィルムと、実施例１で作製した光学フィルム（ＯＦ１）〜（ＯＦ１１）、（ＯＦｒ１）〜（ＯＦｒ７）の各々とを、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面に接着、保護してそれぞれ偏光板を作製した。ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置“ＭＲＴ−１９１Ｓ”｛三菱電機（株）製｝に設けられている偏光板を剥がし、代わりに得られた各偏光板を、シクロオレフィン系フィルム面又はＴＡＣフィルム面が外側（空気界面側）に、且つ偏光板の透過軸が、製品に貼られていた偏光板と一致するように粘着剤を介して貼り付けた。得られた各液晶表示装置を、６０℃、９０％ＲＨで５０時間、又は７０℃、１０％ＲＨで５０時間処理後に、２５℃、６０％ＲＨでの環境下で２時間放置してから液晶表示装置を黒表示させ、正面からの光漏れを複数の観察者により目視評価した。本発明の光学フィルム（ＯＦ１〜ＯＦ１１）を用いた偏光板では光漏れが観察されなかったが、比較例の光学フィルム（ＯＦｒ１〜ＯＦｒ７）を用いた偏光板では光漏れがはっきり観察された。

［実施例３］
ＶＡ型液晶表示装置“ＬＣ−２６ＧＤ３”｛シャープ（株）製｝に設けられている偏光板を、位相差膜を残したまま剥がし、代わりに実施例２で得られた本発明の偏光板各々を、シクロオレフィン系フィルム面又はＴＡＣフィルム面が外側（空気界面側）に、且つ偏光板の透過軸が、製品に貼られていた偏光板と一致するようにそれぞれ貼り付けた。

さらに、ＩＰＳ型液晶表示装置“Ｔｈ−２６ＬＸ３００”｛松下電器産業（株）製｝に設けられている偏光板を剥がし、代わりに実施例２で得られた本発明の偏光板各々を、ポシクロオレフィン系フィルム面又はＴＡＣフィルム面が外側（空気界面側）に、且つ偏光板の透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するようにそれぞれ貼り付けた。

これらの液晶表示装置についても、６０℃、９０％ＲＨで５０時間、又は７０℃、１０％ＲＨで５０時間処理後に、２５℃、６０％ＲＨでの環境下で２時間放置してから、液晶表示装置を黒表示させ、正面からの光漏れを複数の観察者により目視評価した。本発明の光学フィルム（ＯＦ１〜ＯＦ１１）を用いた偏光板では光漏れがほとんど観察されなかったが、比較例の光学フィルム（ＯＦｒ１〜ＯＦｒ７）を用いた偏光板では光漏れがはっきり観察された。

Claims (23)

1. 脂環式構造を有する重合体からなるフィルム状支持体の少なくとも片面に、紫外線吸収層及びハードコート層をこの順に設けてなる光学フィルムであって、該紫外線吸収層の２００ｎｍ〜３４０ｎｍの波長域における光線透過率が５％以下あり、該紫外線吸収層が金属酸化物微粒子、ポリマー粒子から選ばれる少なくとも１種の紫外線吸収剤を含有する光学フィルム。
2. 金属酸化物微粒子が、平均一次粒子径１〜１００ｎｍの範囲の酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄から選ばれる少なくとも１種を含有する請求項１に記載の光学フィルム。
3. 金属酸化物微粒子がルチル結晶化度２０〜７０％である微粒子酸化チタンからなる請求項１又は２に記載の光学フィルム。
4. ポリマー粒子が２００〜３４０ｎｍの紫外線領域に吸収能を有している化合物からなる請求項１に記載の光学フィルム。
5. ポリマー粒子の原料として用いることのできる紫外線吸収性のモノマーが、２−ヒドロキシベンゾフェノン誘導体、及び／又は、２−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール誘導体が、ビニル化合物の主鎖に側鎖として結合したものからなる請求項１又は４に記載の光学フィルム。
6. 紫外線吸収層が導電性金属酸化物を含有する請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルム。
7. 紫外線吸収層が５０〜２０００ｎｍ厚である請求項１〜６のいずれかに記載の光学フィルム。
8. 内部ヘイズが１０〜９０％である請求項１〜７のいずれかに記載の光学フィルム。
9. 光学フィルムの最外層に、これに隣接する層の屈折率よりも屈折率の低い低屈折率層を有する請求項１〜８のいずれかに記載の光学フィルム。
10. 光学フィルムの、波長３８０ｎｍの光の透過率が０〜５０％であり、且つ波長６００ｎｍの光の透過率が８０〜１００％である請求項１〜９のいずれかに記載の光学フィルム。
11. フィルム状支持体の透湿度が６０℃、９５％相対湿度で３００ｇ／ｍ²・日以下である請求項１〜１０のいずれかに記載の光学フィルム。
12. フィルム状支持体の膜厚が５〜２００μｍである請求項１〜１１のいずれかに記載の光学フィルム。
13. フィルム状支持体のガラス転移温度が８０℃以上である請求項１〜１２のいずれかに記載の光学フィルム。
14. フィルム状支持体の少なくとも一方の面が、コロナ放電処理されている請求項１〜１３のいずれかに記載の光学フィルム。
15. フィルム状支持体の少なくとも一方の面が、グロー放電処理されている請求項１〜１３のいずれかに記載の光学フィルム。
16. 偏光子と請求項１〜１５のいずれかに記載の光学フィルムとを有する偏光板。
17. 偏光子を挟んで、保護フィルムとして、一方の側に請求項１〜１５のいずれかに記載の光学フィルムを有し、他方の側にセルロースエステルフィルムを主成分とするフィルムを有する請求項１６に記載の偏光板。
18. 他方の側の保護フィルムが視野角補償機能を持つ請求項１７に記載の偏光板。
19. 他方の側の保護フィルムが、光学異方性層が塗設されたものである請求項１７又は１８に記載の偏光板。
20. 液晶セルを挟む偏光板のうち少なくとも一方が請求項１６〜１９のいずれかに記載の偏光板である液晶表示装置。
21. さらに輝度向上フィルムが搭載されている請求項２０に記載の液晶表示装置。
22. 輝度向上フィルムと隣接する偏光板保護フィルムが密接している請求項２１に記載の液晶表示装置。
23. 前記液晶表示装置がＴＮ方式、ＶＡ方式、ＩＰＳ方式、ＥＣＢ方式、又はＯＣＢ方式のＴＦＴ液晶表示装置である請求項２０〜２２のいずれかに記載の液晶表示装置。