TW202336467A - 偏光板及有機電致發光顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種當用於有機EL顯示裝置時，脫色得到顯著抑制之偏光板。本發明之實施方式之偏光板具有：偏光元件，其具有彼此對向之第一主面及第二主面；及積層膜，其配置於上述偏光元件之上述第一主面側，自上述偏光元件側起依序包含基材及硬塗層；且上述積層膜之透濕度為300 g/m 2・24 h以上，上述積層膜於65℃、95%RH之環境下放置48小時後，上述積層膜之透濕度之變化率為1.4以上。

Description

偏光板及有機電致發光顯示裝置
本發明係關於一種偏光板及有機電致發光(EL)顯示裝置。
近年來，隨著薄型顯示器之普及，提出了一種搭載了有機EL面板之顯示器(有機EL顯示裝置)。有機EL面板由於具有反射性較高之金屬層，因此容易出現外光反射或背景之映入等問題。因此，已知藉由將使偏光板與相位差板組合而成之附有相位差層之偏光板設置於視認側，從而防止該等問題(例如，專利文獻1及專利文獻2)。但是，設置於有機EL顯示裝置之偏光板存在容易脫色之問題。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2002-372622號公報 專利文獻2：日本專利第3325560號公報
[發明所欲解決之問題]
本發明係為了解決上述先前之課題而成者，其主要目的在於提供一種當用於有機EL顯示裝置時，脫色得到顯著抑制之偏光板。 [解決問題之技術手段]
本發明之實施方式之偏光板具有：偏光元件，其具有彼此對向之第一主面及第二主面；及積層膜，其配置於上述偏光元件之上述第一主面側，自上述偏光元件側起依序包含基材及硬塗層；且上述積層膜之透濕度為300 g/m 2・24 h以上，上述積層膜於65℃、95%RH之環境下放置48小時後，上述積層膜之透濕度之變化率為1.4以上。 於一實施方式中，上述變化率為2.0以下。 於一實施方式中，上述硬塗層之厚度為1 μm以上。 於一實施方式中，上述硬塗層之厚度為8 μm以下。 於一實施方式中，上述積層膜中，上述基材與上述硬塗層之間包含中間層，該中間層含有來自上述基材之成分及來自上述硬塗層之成分。 於一實施方式中，上述偏光板具有配置於上述偏光元件之上述第二主面側之相位差層，上述相位差層之透濕度為350 g/m 2・24 h以上。 於一實施方式中，上述相位差層係與上述偏光元件鄰接地配置。 於一實施方式中，上述相位差層之Re(450)/Re(550)為0.8以上且未達1。 於一實施方式中，上述偏光元件之單體透過率為43.0%以上。 於一實施方式中，上述偏光元件之厚度為10 μm以下。 根據本發明之另一態樣，提供一種有機電致發光顯示裝置。該有機電致發光顯示裝置具有上述偏光板。 [發明之效果]
根據本發明之實施方式，藉由使偏光元件與特定之積層膜組合，從而可實現當用於有機EL顯示裝置時，脫色得到顯著抑制之偏光板。
以下，對本發明之實施方式進行說明，但本發明並不限定於該等實施方式。又，圖式中，為了使說明更加明確，相比於實施方式而言，有時模式性地表示各部之寬度、厚度、形狀等，但無論如何僅為一例，並非限定本發明之解釋。
(用語及記號之定義) 本說明書中之用語及記號之定義如下所述。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」係面內之折射率變為最大時之方向(即，慢軸方向)之折射率，「ny」係面內與慢軸正交之方向(即，快軸方向)之折射率，「nz」係厚度方向之折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」係於23℃下利用波長λ nm之光所測得之面內相位差。例如，「Re(550)」係於23℃下利用波長550 nm之光所測得之面內相位差。當將層(膜)之厚度設為d(nm)時，Re(λ)係由式：Re(λ)＝(nx－ny)×d求出。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」係於23℃下利用波長λ nm之光所測得之厚度方向之相位差。例如，「Rth(550)」係於23℃下利用波長550 nm之光所測得之厚度方向之相位差。當將層(膜)之厚度設為d(nm)時，Rth(λ)係由式：Rth(λ)＝(nx－nz)×d求出。 (4)Nz係數 Nz係數係由Nz＝Rth/Re求出。 (5)角度 於本說明書中，當提到角度時，該角度包含相對於基準方向之順時針方向及逆時針方向此兩個方向之角度。因此，例如「45°」係指±45°。
A.偏光板 圖1係表示本發明之一實施方式之偏光板之概略構成之模式性剖視圖，圖2係表示圖1所示之偏光板之積層膜之概略構成之一例之剖視圖。偏光板(附有相位差層之偏光板)100具有：偏光元件10，其具有彼此對向之第一主面10a及第二主面10b；積層膜20，其配置於偏光元件10之第一主面10a側；相位差層30，其配置於偏光元件10之第二主面10b側；及黏著劑層40。積層膜20中，自偏光元件10側起依序包含基材21及硬塗層22，基材21能夠作為偏光元件10之保護層發揮功能。有機EL顯示裝置中，偏光板100代表性地以積層膜20較偏光元件10更加靠近視認側之方式進行配置。
圖示例中，相位差層30雖為單一層，但亦可不同於圖示例地具有兩層以上之積層構造。具體而言，相位差層30亦可包含光學特性(例如，折射率特性、面內相位差、Nz係數、光彈性係數)不同之兩種以上之層。又，圖示例中，於偏光元件10與相位差層30之間未配置保護層，且相位差層30與偏光元件10鄰接地配置而能夠作為偏光元件10之保護層發揮功能，但偏光板100亦可具有配置於偏光元件10與相位差層30之間之保護層。再者，所謂鄰接，不僅包括直接相鄰，還包括後述之經由接著層相鄰之情況。
構成偏光板之各構件能夠經由任意合適之接著層(未圖示)積層。作為接著層之具體例，可例舉：接著劑層、黏著劑層。例如，積層膜20係經由接著劑層(較佳為使用活性能量線硬化型接著劑)貼合於偏光元件10。例如，相位差層30經由接著劑層(較佳為使用活性能量線硬化型接著劑)、或經由黏著劑層(例如，丙烯酸系黏著劑)貼合於偏光元件10或未圖示之保護層。於相位差層30具有兩層以上之積層構造之情形時，各相位差層例如經由接著劑層(較佳為使用活性能量線硬化型接著劑)貼合。接著劑層之厚度較佳為0.4 μm以上，更佳為0.4 μm～3.0 μm，進而較佳為0.6 μm～1.5 μm。黏著劑層之厚度較佳為1 μm～10 μm。
偏光板100能夠經由配置於偏光元件10之第二主面10b側之黏著劑層40，例如貼附於有機EL面板本體。雖未圖示，但就實用方面而言，於黏著劑層40之表面貼合有剝離襯墊。剝離襯墊能夠暫時接著，直到偏光板被供於使用。藉由使用剝離襯墊，從而例如不僅保護黏著劑層，還能夠形成偏光板之卷。
偏光板可為長條狀，亦可為片狀。此處，所謂「長條狀」，係相對於寬度而言長度足夠長的細長形狀之含義，例如係指長度相對於寬度而言為10倍以上、較佳為20倍以上之細長形狀。長條狀之偏光板能夠捲取成卷狀。
A-1.偏光元件 上述偏光元件代表性地係包含二色性物質(代表性地係碘)之膜。
作為偏光元件之厚度，例如基於薄型化之觀點而言，較佳為15 μm以下，更佳為12 μm以下，進而較佳為10 μm以下，特佳為8 μm以下。另一方面，偏光元件之厚度較佳為1 μm以上，更佳為2 μm以上，進而較佳為3 μm以上。
偏光元件較佳為於波長380 nm～780 nm之任一波長下顯示吸收二色性。偏光元件之單體透過率例如為40.0%以上，較佳為41.5%以上，更佳為43.0%以上，進而較佳為44.5%以上。具有較高之單體透過率之偏光元件中，上述脫色之問題會變得更加明顯。另一方面，單體透過率例如為48.0%以下，亦可為46.0%以下，還可為45.0%以下。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上，更佳為99.0%以上，進而較佳為99.9%以上。
上述單體透過率代表性地係使用紫外可見分光光度計進行測定並進行了視感度補正後之Y值。上述偏光度代表性地係基於使用紫外可見分光光度計進行測定並進行了視感度補正之平行透過率Tp及正交透過率Tc，由下述式求出。 偏光度(%)＝{(Tp－Tc)/(Tp＋Tc)} 1/2×100
偏光元件能夠利用任意合適之方法進行製作。具體而言，偏光元件可由單層之樹脂膜製作，亦可使用兩層以上之積層體來製作。
由上述單層之樹脂膜製造偏光元件之方法代表性地包括如下之步驟，即，對樹脂膜施以藉由碘或二色性染料等二色性物質之染色處理、及延伸處理。作為樹脂膜，例如使用：聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜。該方法亦可進而包括不溶化處理、膨潤處理、交聯處理等。由於此種製造方法在本業界中周知且慣用，因此不對詳細之說明進行贅述。
使用上述積層體所獲得之偏光元件例如能夠使用樹脂基材與樹脂膜或樹脂層(代表性地係PVA系樹脂層)之積層體來製作。具體而言，能夠藉由如下之步驟進行製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材並使其乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，從而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；對該積層體實施延伸及染色而將PVA系樹脂層製成偏光元件。於本實施方式中，較佳為於樹脂基材之單側形成包含鹵化物及PVA系樹脂之PVA系樹脂層。延伸代表性地包含將積層體浸漬於硼酸水溶液中使其延伸之步驟。進而，延伸可視需要進而包含在使積層體於硼酸水溶液中延伸之前，使其於高溫(例如，95℃以上)下進行空中延伸之步驟。除此以外，於本實施方式中，較佳為將積層體供於乾燥收縮處理，該乾燥收縮處理係藉由一面在長邊方向上搬送積層體一面進行加熱，而使其在寬度方向上收縮2%以上。本實施方式之製造方法代表性地包括對積層體依序施以空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理、及乾燥收縮處理。藉由導入輔助延伸，即便於熱塑性樹脂上塗佈PVA之情形時，仍能夠提高PVA之結晶性，能夠達成較高之光學特性。又，藉由同時事先提高PVA之配向性，從而在其後之染色步驟或延伸步驟中浸漬於水中時，可防止PVA之配向性之降低或溶解等問題，能夠達成較高之光學特性。進而，於將PVA系樹脂層浸漬於液體中之情形時，相較於PVA系樹脂層不含鹵化物之情形，能夠抑制PVA分子之配向混亂、及配向性降低，從而能夠達成較高之光學特性。進而，藉由乾燥收縮處理使積層體在寬度方向上收縮，從而能夠達成較高之光學特性。藉由於自所獲得之樹脂基材/偏光元件之積層體剝離了樹脂基材後之剝離面、或與剝離面相反側之面積層保護層，能夠獲得偏光板。此種偏光元件之製造方法之詳情例如記載於日本專利特開2012-73580號公報、日本專利第6470455號中。該等公報之全部記載係以參考之形式援引至本說明書中。
A-2.積層膜 於一實施方式中，如圖2所示，積層膜20具有基材(保護層)21、及硬塗層22，進而，於基材21與硬塗層22之間能夠形成中間層23。本發明之實施方式之偏光板代表性地配置於有機EL顯示裝置之視認側，硬塗層22配置於較基材21更加靠近視認側之位置。硬塗層22亦可作為例如抗反射層、抗沾黏層、防眩層等其他功能層發揮功能。
積層膜之厚度例如為15 μm以上70 μm以下，較佳為20 μm以上50 μm以下。
積層膜於40℃及92%RH下之透濕度為300 g/m 2・24 h以上，較佳為320 g/m 2・24 h以上，更佳為340 g/m 2・24 h以上。另一方面，積層膜於40℃及92%RH下之透濕度例如為900 g/m 2・24 h以下。
施以加濕處理後之積層膜於40℃及92%RH下之透濕度較佳為550 g/m 2・24 h以上，更佳為570 g/m 2・24 h以上，進而較佳為600 g/m 2・24 h以上。加濕處理所帶來之透濕度之變化率(加濕處理後之透濕度/加濕處理前之透濕度)較佳為1.4以上，更佳為1.5以上。藉由使用此種積層膜，能夠顯著地抑制脫色。具體而言，即便於後述之促進氨(銨離子)之產生之高濕環境下，亦具有較高之透濕度，能夠顯著地抑制脫色。另一方面，施以加濕處理後之積層膜於40℃及92%RH下之透濕度例如為1000 g/m 2・24 h以下。加濕處理所帶來之透濕度之變化率(加濕處理後之透濕度/加濕處理前之透濕度)較佳為2.0以下，更佳為1.9以下。再者，加濕處理例如藉由將積層膜於65℃、95%RH之環境下放置48小時而進行。
上述基材能夠包含可用作偏光元件之保護層之任意合適之膜。作為構成此種基材(膜)之材料，例如可例舉：三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂，聚降𦯉烯等環烯烴系樹脂，聚碳酸酯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)等聚酯系樹脂，聚乙烯等聚烯烴系樹脂。較佳地使用三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂作為構成基材之材料。
基材之厚度例如為10 μm以上65 μm以下，較佳為15 μm以上45 μm以下。
上述硬塗層代表性地係藉由將硬塗層形成材料塗佈於上述基材後使塗佈層硬化而形成。硬塗層形成材料代表性地包含作為層形成成分之硬化性化合物。作為硬化性化合物之硬化機制，例如可例舉：熱硬化型、光硬化型。作為硬化性化合物，例如可例舉：單體、低聚物、預聚物。較佳地使用多官能單體或低聚物作為硬化性化合物。作為多官能單體或低聚物，例如可例舉：具有2個以上(甲基)丙烯醯基之單體或低聚物、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯或胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯之低聚物、環氧系單體或低聚物、矽酮系單體或低聚物。
上述硬塗層形成材料亦可包含任意合適之添加劑。作為添加劑，例如可例舉：聚合起始劑、調平劑、抗黏連劑、分散穩定劑、觸變劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、消泡劑、增黏劑、分散劑、界面活性劑、觸媒、填料、潤滑劑、抗靜電劑等。添加劑之種類、組合、含量等能夠根據目的或所需特性，適當地進行設定。
於硬化性化合物為熱硬化型之情形時，加熱溫度例如為60℃～140℃，較佳為60℃～100℃。於硬化性化合物為光硬化型之情形時，硬化處理代表性地藉由紫外線照射而進行。紫外線照射之累計光量例如為100 mJ/cm 2～300 mJ/cm 2。亦可將紫外線照射與加熱組合來進行。
硬塗層之厚度較佳為1 μm以上，更佳為1.5 μm以上，進而較佳為2 μm以上。藉由此種厚度，能夠防止積層膜之透濕度變得過高。又，能夠確保所獲得之偏光板之耐擦傷性。另一方面，硬塗層之厚度較佳為8 μm以下，更佳為7 μm以下，進而較佳為6 μm以下。藉由此種厚度，能夠良好地滿足上述透濕度，極其顯著地抑制脫色。再者，耐擦傷性例如可如下述進行評價，即，使底面安裝有鋼絲絨#0000之圓柱，於負載1.0 kg下以每秒約100 mm之速度往復摩擦硬塗層表面1000次後，藉由目視對硬塗層表面所產生之損傷之程度進行確認。
上述中間層能夠含有來自上述基材之成分及來自上述硬塗層之成分。具體而言，中間層能夠由形成基材之成分與形成硬塗層之成分相容(混合存在)而形成。例如，於基材包含TAC之情形時，作為來自基材之成分，可例舉：TAC、乙酸及纖維素。積層膜中，中間層與基材之界面及中間層與硬塗層之界面可藉由穿透式電子顯微鏡(TEM)觀察來進行確認。
中間層之厚度例如為1 μm以上30 μm以下，較佳為1 μm以上20 μm以下。
硬塗層之厚度相對於中間層之厚度之比(硬塗層之厚度/中間層之厚度)較佳為0.65以下，更佳為0.6以下，進而較佳為0.5以下。根據此種厚度比，可獲得能夠良好地滿足上述透濕度，顯著地抑制脫色之偏光板。本發明人等針對上述課題，即，於將偏光板用於有機EL顯示裝置之情形時偏光板發生脫色，進行了銳意研究，結果發現了脫色之主要原因在於氨(實質上為銨離子)，其源自構成有機EL面板之構件，且容易於高濕環境下產生，藉由使滲入至偏光板(偏光元件)之銨離子儘可能地排出，從而能夠顯著地抑制脫色。並且，藉由使配置於偏光元件之單側(代表性地係視認側)之構件滿足上述特定透濕度，從而可顯著地抑制脫色。具體而言，能夠抑制偏光元件中所含之二色性物質(代表性地係碘錯合物)之分解。再者，基於保護偏光元件不受潮之觀點而言，通常係以儘可能地減小配置於偏光元件之視認側之構件之透濕度之方式進行設計，本發明之實施方式係基於與上述本業界之技術常識完全相反之技術思想。另一方面，硬塗層之厚度相對於中間層之厚度之比較佳為超過0.15，更佳為0.18以上，進而較佳為0.2以上。藉由此種厚度比，例如能夠抑制加濕所帶來之積層膜之透濕度之變化。
中間層例如能夠藉由使可包含於上述硬塗層形成材料中之溶劑含有能夠溶解基材之良溶劑而形成。具體而言，硬塗層形成材料中所含之成分之一部分(代表性地係溶劑)與基材混合及/或滲透於基材中，而使形成基材之成分與形成硬塗層之成分相容(混合存在)，從而能夠形成中間層。
作為上述硬塗層形成材料中可包含之溶劑，例如可例舉：甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、TBA(第三丁醇)、2-甲氧基乙醇等醇類；丙酮、MEK(甲基乙基酮)、MIBK(甲基異丁基酮)、環戊酮等酮類；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、PMA(丙二醇單甲醚乙酸酯)等酯類；二異丙醚、丙二醇單甲醚等醚類；乙二醇、丙二醇等二醇類；乙基溶纖劑、丁基溶纖劑等溶纖劑類；己烷、庚烷、辛烷等脂肪族烴類；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類。該等可單獨地使用1種，亦可併用2種以上。溶劑之含量係以上述硬塗層形成材料之固形物成分濃度例如成為20重量%以上50重量%以下之方式進行設定，溶劑之含量較佳為30重量%以上45重量%以下。
作為上述能夠溶解基材之良溶劑，例如使用基材(溶質)於溶劑100重量份中之溶解量為30重量份以上之溶劑。作為具體例，於基材包含TAC之情形時，作為能夠溶解基材之良溶劑，例如較佳地使用：環戊酮(例如，TAC於環戊酮100重量份中之溶解量為40重量份)、MEK(例如，TAC於MEK 100重量份中之溶解量為60重量份)、環己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯。
於一實施方式中，硬塗層形成材料包含能夠溶解基材之良溶劑、及實質上不溶解基材之不良溶劑。作為實質上不溶解基材之不良溶劑，例如使用基材(溶質)於溶劑100重量份中之溶解量未達30重量份之溶劑，較佳地使用基材(溶質)於溶劑100重量份中之溶解量為10重量份以下之溶劑。於基材包含TAC之情形時，作為實質上不溶解基材之不良溶劑，例如較佳地使用：乙醇、異丙醇、己烷。硬塗層形成材料中，較佳為包含比實質上不溶解基材之不良溶劑更多之能夠溶解基材之良溶劑。能夠溶解基材之良溶劑之含量相對於實質上不溶解基材之不良溶劑之含量的含量比(良溶劑之含量/不良溶劑之含量、重量比)例如超過1且20以下，較佳為1.5以上10以下，更佳為2以上5以下。
A-3.相位差層 相位差層30可如圖所示為單一層，亦可具有積層構造(實質上為兩層構造)。
於相位差層30係單一層之情形時，相位差層30代表性地能夠作為λ/4板發揮功能。相位差層代表性地設置用於對有機EL顯示裝置賦予抗反射特性。相位差層代表性地係折射率特性表現出nx＞ny＝nz之關係。相位差層之面內相位差Re(550)較佳為100 nm～190 nm，更佳為110 nm～170 nm，進而較佳為120 nm～160 nm。再者，此處「ny＝nz」不僅包括ny與nz完全相等之情況，還包括實質上相等之情況。因此，於不損及本發明之效果之範圍內，可存在ny＞nz或ny＜nz之情況。
相位差層之Nz係數較佳為0.9～1.5，更佳為0.9～1.3。藉由滿足此關係，從而能夠獲得具有非常優異之反射色相之有機EL顯示裝置。
於相位差層為單一層之情形時，相位差層較佳為顯示逆波長色散特性，即，相位差值隨著測定光之波長而變大。於該情形時，相位差層之Re(450)/Re(550)較佳為0.8以上且未達1，更佳為0.8以上0.95以下。若為此種構成，則可實現非常優異之抗反射特性。
相位差層之慢軸與偏光元件之吸收軸所成之角度較佳為40°～50°，更佳為42°～48°，進而較佳為約45°。若角度為此範圍，則如上所述藉由將相位差層作為λ/4板，從而能夠獲得具有非常優異之抗反射特性之有機EL顯示裝置。
相位差層若能夠滿足如上述般之特性，則能夠包含任意合適之材料。具體而言，相位差層可為樹脂膜(經延伸之樹脂膜)，亦可為液晶化合物之配向固化層(以下，稱作液晶配向固化層)。
構成相位差層之樹脂膜於40℃及92%RH下之透濕度例如未達350 g/m 2・24 h，亦可為300 g/m 2・24 h以下，亦可為200 g/m 2・24 h以下，還可為100 g/m 2・24 h以下。
作為構成樹脂膜之樹脂之代表例，可例舉：聚碳酸酯系樹脂或聚酯碳酸酯系樹脂(以下，有時簡稱為聚碳酸酯系樹脂)。作為聚碳酸酯系樹脂，若能夠獲得所需之透濕度，則可使用任意合適之聚碳酸酯系樹脂。例如，聚碳酸酯系樹脂包含：來自茀系二羥基化合物之結構單元，來自異山梨酯系二羥基化合物之結構單元，及來自選自由脂環式二醇、脂環式二甲醇、二乙二醇、三乙二醇或聚乙二醇、以及伸烷基二醇或螺二醇所組成之群中之至少一種二羥基化合物之結構單元。聚碳酸酯系樹脂較佳為包含：來自茀系二羥基化合物之結構單元，來自異山梨酯系二羥基化合物之結構單元，來自脂環式二甲醇之結構單元，及/或來自二乙二醇、三乙二醇或聚乙二醇之結構單元；且進而較佳為包含：來自茀系二羥基化合物之結構單元，來自異山梨酯系二羥基化合物之結構單元，及來自二乙二醇、三乙二醇或聚乙二醇之結構單元。聚碳酸酯系樹脂亦可視需要包含來自其他二羥基化合物之結構單元。相位差層能夠藉由使包含如上述般之聚碳酸酯系樹脂之膜，於任意合適之延伸條件下進行延伸而形成。再者，聚碳酸酯系樹脂及相位差層之形成方法之詳情例如記載於日本專利特開2014-10291號公報、日本專利特開2014-26266號公報、日本專利特開2015-212816號公報、日本專利特開2015-212817號公報、日本專利特開2015-212818號公報、日本專利特開2017-54093號公報、日本專利特開2018-60014號公報中。該等公報之記載係作為參考援引至本說明書中。
構成相位差層之液晶配向固化層於40℃及92%RH下之透濕度例如為350 g/m 2・24 h以上，亦可為400 g/m 2・24 h以上。
藉由使用上述液晶化合物，例如可使得所獲得之相位差層之nx與ny之差遠大於非液晶材料，因此能夠顯著減小用於獲得所需之面內相位差之相位差層之厚度。其結果，可實現附有相位差層之偏光板(最終為有機EL顯示裝置)之進一步之薄型化。於本說明書中，所謂「配向固化層」，係指液晶化合物於層內以特定之方向配向，且該配向狀態固定之層。再者，「配向固化層」係包含藉由使液晶單體硬化而獲得之配向硬化層在內之概念。於本實施方式中，代表性地係棒狀之液晶化合物以排列在相位差層之慢軸方向上之狀態配向(水平配向)。作為棒狀之液晶化合物，例如可例舉：液晶聚合物及液晶單體。液晶化合物較佳為能夠聚合。若液晶化合物能夠聚合，則藉由在液晶化合物配向後使其聚合，從而可固定液晶化合物之配向狀態。
液晶配向固化層能夠使用包含能夠聚合之液晶化合物(聚合性液晶化合物)之組合物來形成。於本說明書中，組合物中所含之所謂聚合性液晶化合物，係指具有聚合性基且具有液晶性之化合物。聚合性基係指參與聚合反應之基，較佳為光聚合性基。此處，所謂光聚合性基，係指能夠由於光聚合起始劑所產生之活性自由基或酸等而參與聚合反應之基。
液晶性之表現可為向熱性，亦可為向液性。又，作為液晶相之構成，可為向列型液晶，亦可為層列型液晶。基於製造之容易性之觀點而言，較佳為向熱性之向列型液晶。
於一實施方式中，液晶配向固化層係使用包含下述式(1)所表示之液晶化合物之組合物來形成。 L 1-SP 1-A 1-D 3-G 1-D 1-Ar-D 2-G 2-D 4-A 2-SP 2-L 2(1)
L 1及L 2分別獨立地表示一價有機基，L 1及L 2中之至少一者表示聚合性基。一價有機基包括任意合適之基。作為L 1及L 2中之至少一者所表示之聚合性基，可例舉自由基聚合性基(能夠自由基聚合之基)。作為自由基聚合性基，可使用任意合適之自由基聚合性基。較佳為丙烯醯基或甲基丙烯醯基。基於聚合速度較快，提高生產性之觀點而言，較佳為丙烯醯基。甲基丙烯醯基亦可同樣地用作雙折射性高之液晶之聚合性基。
SP 1及SP 2分別獨立地表示單鍵、直鏈狀或支鏈狀之伸烷基、或者構成碳數1～14之直鏈狀或支鏈狀伸烷基之-CH 2-之1個以上經-O-取代之二價連結基。作為碳數1～14之直鏈狀或支鏈狀之伸烷基，可較佳地例舉：亞甲基、伸乙基、伸丙基、伸丁基、伸戊基及伸己基。
A 1及A 2分別獨立地表示脂環式烴基或芳香族環取代基。A 1及A 2較佳為碳數6以上之芳香族環取代基或碳數6以上之伸環烷基環。
D 1、D 2、D 3及D 4分別獨立地表示單鍵或二價連結基。具體而言， D 1、D 2、D 3及D 4表示單鍵、-O-CO-、-C(=S)O-、-CR 1R 2-、-CR 1R 2-CR 3R 4-、-O-CR 1R 2-、-CR 1R 2-O-CR 3R 4-、-CO-O-CR 1R 2-、-O-CO-CR 1R 2-、-CR 1R 2-O-CO-CR 3R 4-、-CR 1R 2-CO-O-CR 3R 4-、-NR 1-CR 2R 3-、或-CO-NR 1-。然而，D 1、D 2、D 3及D 4中之至少一者表示-O-CO-。其中，較佳為D 3為-O-CO-，更佳為D 3及D 4為-O-CO-。D 1及D 2較佳為單鍵。R 1、R 2、R 3及R 4分別獨立地表示氫原子、氟原子、或碳數1～4之烷基。
G 1及G 2分別獨立地表示單鍵或脂環式烴基。具體而言，G 1及G 2亦可表示未經取代或經取代之碳數5～8之二價脂環式烴基。又，構成脂環式烴基之-CH 2-之1個以上亦可經-O-、-S-或-NH-取代。G 1及G 2較佳地表示單鍵。
Ar表示芳香族烴環或芳香族雜環。Ar例如表示選自由下述式(Ar-1)～(Ar-6)所表示之基所組成之群中之芳香族環。再者，下述式(Ar-1)～(Ar-6)中，＊1表示與D 1之鍵結位置，＊2表示與D 2之鍵結位置。 [化1]
式(Ar-1)中，Q 1表示N或CH，Q 2表示-S-、-O-、或-N(R 5)-。R 5表示氫原子或碳數1～6之烷基。Y 1表示未經取代或經取代之碳數6～12之芳香族烴基、或碳數3～12之芳香族雜環基。
式(Ar-1)～(Ar-6)中，Z 1、Z 2及Z 3分別獨立地表示氫原子、碳數1～20之一價脂肪族烴基、碳數3～20之一價脂環式烴基、碳數6～20之一價芳香族烴基、鹵素原子、氰基、硝基、-NR 6R 7、或-SR 8。R 6～R 8分別獨立地表示氫原子或碳數1～6之烷基，Z 1及Z 2亦可彼此鍵結而形成環。環可為脂環式、雜環、及芳香族環之任一種，較佳為芳香環。所形成之環可經取代基取代。
式(Ar-2)及(Ar-3)中，A 3及A 4分別獨立地表示選自由-O-、-N(R 9)-、-S-、及-CO-所組成之群中之基，R 9表示氫原子或取代基。作為R 9所表示之取代基，可例舉與上述式(Ar-1)中之Y 1可具有之取代基相同者。
式(Ar-2)中，X表示氫原子或者未經取代或具有取代基之第14～16族之非金屬原子。作為X所表示之第14族～第16族之非金屬原子，例如可例舉：氧原子、硫原子、未經取代或具有取代基之氮原子、未經取代或具有取代基之碳原子。作為取代基，可例舉與上述式(Ar-1)中之Y 1可具有之取代基相同者。
式(Ar-3)中，D 5及D 6分別獨立地表示單鍵、-O-CO-、-C(=S)O-、-CR 1R 2-、-CR 1R 2-CR 3R 4-、-O-CR 1R 2-、-CR 1R 2-O-CR 3R 4-、-CO-O-CR 1R 2-、-O-CO-CR 1R 2-、-CR 1R 2-O-CO-CR 3R 4-、-CR 1R 2-CO-O-CR 3R 4-、-NR 1-CR 2R 3-、或-CO-NR 1-。R 1、R 2、R 3及R 4如上所述。
式(Ar-3)中，SP 3及SP 4分別獨立地表示單鍵、碳數1～12之直鏈狀或支鏈狀之伸烷基、或者構成碳數1～12之直鏈狀或支鏈狀之伸烷基之-CH 2-之1個以上經-O-、-S-、-NH-、-N(Q)-、或-CO-取代之二價連結基，Q表示聚合性基。
式(Ar-3)中，L 3及L 4分別獨立地表示一價有機基，L 3及L 4以及上述式(1)中之L 1及L 2中之至少一者表示聚合性基。
式(Ar-4)～(Ar-6)中，Ax表示具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群中之至少一種芳香族環的碳數2～30之有機基。式(Ar-4)～(Ar-6)中，Ax較佳為具有芳香族雜環，更佳為具有苯并噻唑環。式(Ar-4)～(Ar-6)中，Ay表示氫原子、未經取代或可具有取代基之碳數1～6之烷基、或者具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群中之至少一種芳香族環的碳數2～30之有機基。式(Ar-4)～(Ar-6)中，Ay較佳地表示氫原子。
式(Ar-4)～(Ar-6)中，Q 3表示氫原子、或者未經取代或可具有取代基之碳數1～6之烷基。式(Ar-4)～(Ar-6)中，Q 3較佳地表示氫原子。
此種Ar中，可較佳地例舉：上述式(Ar-4)或上述式(Ar-6)所表示之基(原子團)。
液晶聚合物及液晶單體可分別單獨地使用，亦可加以組合。液晶化合物之具體例及液晶配向固化層之形成方法之詳情例如記載於日本專利特開2006-163343號公報、日本專利特開2006-178389號公報、國際公開第2018/123551號公報中。該等公報之記載係作為參考援引至本說明書中。
相位差層之厚度代表性地能夠設定為能夠作為λ/4板適當地發揮功能之厚度。於相位差層係樹脂膜之延伸膜之情形時，相位差層之厚度例如可為10 μm～60 μm。於相位差層係液晶配向固化層之情形時，相位差層之厚度例如可為1 μm～5 μm。
於相位差層30具有積層構造之情形時，相位差層代表性地具有第1液晶配向固化層與第2液晶配向固化層之兩層構造。於該情形時，第1液晶配向固化層或第2液晶配向固化層中之任一者能夠作為λ/2板發揮功能，另一者能夠作為λ/4板發揮功能。此處，對第1液晶配向固化層能夠作為λ/2板發揮功能，而第2液晶配向固化層能夠作為λ/4板發揮功能之情況進行了說明，但兩者亦可反過來。第1液晶配向固化層之厚度能夠以獲得λ/2板所需之面內相位差之方式進行調整，例如可為2.0 μm～4.0 μm。第2液晶配向固化層之厚度能夠以獲得λ/4板所需之面內相位差之方式進行調整，例如可為1.0 μm～2.5 μm。第1液晶配向固化層之面內相位差Re(550)較佳為200 nm～300 nm，更佳為230 nm～290 nm，進而較佳為250 nm～280 nm。第2液晶配向固化層之面內相位差Re(550)如上所述，較佳為100 nm～190 nm，更佳為110 nm～170 nm，進而較佳為120 nm～160 nm。第1液晶配向固化層之慢軸與偏光元件之吸收軸所成之角度較佳為10°～20°，更佳為12°～18°，進而較佳為約15°。第2液晶配向固化層之慢軸與偏光元件之吸收軸所成之角度較佳為70°～80°，更佳為72°～78°，進而較佳為約75°。若為此種構成，則能夠獲得接近於理想之逆波長分散特性之特性，其結果，可實現非常優異之抗反射特性。
於一實施方式中，相位差層30能夠作為阻斷氨(銨離子)滲入至偏光元件10中之阻擋層發揮功能，能夠極其顯著地抑制脫色。於該情形時，相位差層30於40℃及92%RH下之透濕度較佳為未達350 g/m 2・24 h，更佳為300 g/m 2・24 h以下，進而較佳為200 g/m 2・24 h以下，特佳為100 g/m 2・24 h以下。於另一實施方式中，相位差層30之透濕度為350 g/m 2・24 h以上。此種形態中，藉由配置上述積層膜，從而亦可顯著地抑制脫色。再者，於相位差層具有兩層以上之積層構造之情形時，相位差層之透濕度係指能夠包含接著層之積層構造之透濕度。
A-4.其他 黏著劑層40之厚度較佳為10 μm～20 μm。黏著劑層能夠包含任意合適之黏著劑。作為具體例，可例舉：丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、矽酮系黏著劑、聚酯系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、環氧系黏著劑、及聚醚系黏著劑。藉由調整形成黏著劑之基質樹脂之單體之種類、數量、組合及調配比、以及交聯劑之調配量、反應溫度、反應時間等，從而可製備符合目標之具有所需特性之黏著劑。黏著劑之基質樹脂可單獨地使用，亦可組合兩種以上使用。基質樹脂較佳為丙烯酸系樹脂(具體而言，黏著劑層較佳為包含丙烯酸系黏著劑)。
B.有機EL顯示裝置 上述偏光板能夠用於有機EL顯示裝置。因此，本發明之實施方式之有機EL顯示裝置具有上述偏光板。
圖3係表示本發明之一實施方式之有機EL顯示裝置中，於有機EL面板配置了偏光板之狀態之概略之模式性剖視圖。偏光板(附有相位差層之偏光板)100係以偏光元件10較積層膜20更加靠近有機EL面板本體70側之方式進行配置。具體而言，偏光板100經由黏著劑層40貼附於有機EL面板本體70。
有機EL面板本體70具有：基板71；及上部構造層72，其包含含有薄膜電晶體(TFT)等之電路層、有機發光二極體(OLED)、使OLED密封之密封膜等。例如，於使用可撓性基板(例如，樹脂基板)作為基板71之情形時，所獲得之有機EL顯示裝置能夠實現彎曲、撓曲、彎折、捲取等。上部構造層72中，例如包含含氮層(例如，氮化矽、氮氧化矽等氮化物層)，能夠由上部構造層72產生氨(銨離子)。藉由上述偏光板，使得有機EL顯示裝置能夠顯著地抑制脫色。又，能夠於不改變有機EL面板本體之構成之設計之情況下，解決脫色之課題。 [實施例]
以下，根據實施例，對本發明具體地進行說明，但本發明並不受該等實施例所限定。厚度及透濕度之測定方法如下所述。再者，若無明確記載，則實施例及比較例中之「份」及「%」係重量基準。 1.厚度 10 μm以下之厚度係使用干涉膜厚計(大塚電子公司製造、製品名「MCPD-3000」)來進行測定。超過10 μm之厚度係使用數位式測微計(安立公司製造、製品名「KC-351C」)來進行測定。 2.透濕度 透濕度係利用杯式法(JIS Z 0208)求出。
[實施例1] (偏光元件之製作) 作為熱塑性樹脂基材，使用長條狀，且吸水率0.75%、Tg約75℃之非晶質之間苯二甲酸共聚合聚對苯二甲酸乙二酯膜(厚度：100 μm)。對樹脂基材之單面施以電暈處理。 於使聚乙烯醇(聚合度4200、皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改性PVA(日本合成化學工業公司製造、商品名「GOHSEFIMER Z410」)以9：1之重量比加以混合而成之PVA系樹脂100重量份中，添加碘化鉀13重量份後使其溶於水中，從而製備PVA水溶液(塗佈液)。 藉由將上述PVA水溶液塗佈於樹脂基材之電暈處理面，於60℃下進行乾燥，從而形成厚度13 μm之PVA系樹脂層，製作積層體。 將所獲得之積層體於130℃之烘箱內，於周速不同之輥間向縱向(長邊方向)自由端單軸延伸2.4倍(空中輔助延伸處理)。 其次，將積層體於液溫40℃之不溶化浴(相對於水100重量份調配了硼酸4重量份而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒鐘(不溶化處理)。 其次，於液溫30℃之染色浴(相對於水100重量份以1：7之重量比調配了碘與碘化鉀而獲得之碘水溶液)中，一面調整濃度一面浸漬60秒鐘，以使最終所獲得之偏光元件之單體透過率(Ts)成為43.0%(染色處理)。 其次，於液溫40℃之交聯浴(相對於水100重量份調配了碘化鉀3重量份、硼酸5重量份而獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒鐘(交聯處理)。 其後，一面將積層體浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(硼酸濃度4.0重量%、碘化鉀5.0重量%)中，一面於周速不同之輥間以總延伸倍率成為5.5倍之方式於縱向(長邊方向)單軸延伸(水中延伸處理)。 其後，將積層體浸漬於液溫20℃之洗淨浴(相對於水100重量份調配了碘化鉀4重量份而獲得之水溶液)中(洗淨處理)。 其後，一面於保持在90℃之烘箱中進行乾燥，一面使其與表面溫度保持在75℃之SUS(Steel Use Stainless，日本不鏽鋼標準)製之加熱輥接觸約2秒鐘(乾燥收縮處理)。乾燥收縮處理後之積層體的寬度方向之收縮率為5.2%。 如此，於樹脂基材上形成厚度5 μm之偏光元件。
(硬塗層形成材料之製備) 準備紫外線硬化型丙烯酸酯樹脂(DIC(股)製造、商品名「LUXYDIR 17-806」、固形物成分80%)50重量份。將該樹脂以固形物成分每100重量份與光聚合起始劑(IGM Resins公司製造、商品名「OMNIRAD907」)3重量份、調平劑(DIC(股)製造、商品名「GRANDIC PC4100」、固形物成分10%)0.05重量份加以混合而獲得混合物。利用異丙醇(IPA)與環戊酮(CPN)以重量比30：70之混合比混合而成之混合溶劑，對所獲得之混合物，以固形物成分濃度成為36%之方式進行稀釋，從而製得硬塗層形成材料。
(積層膜之製作) 使用棒式塗佈機，將所獲得之硬塗層形成材料(塗佈液)塗佈於厚度25 μm之TAC膜(柯尼卡美能達(股)製造、商品名「KC2UA」)上。藉由於80℃下對該形成有塗佈層之TAC膜進行1分鐘加熱而使塗佈層乾燥後，利用高壓水銀燈照射累計光量300 mJ/cm 2之紫外線而使塗佈層硬化，從而獲得厚度33 μm且於40℃及92%RH下之透濕度為380 g/m 2・24 h之積層膜。
(構成相位差層之液晶配向固化層之製作) 於環戊酮(CPN)400份中加入式(I)所表示之化合物55份、式(II)所表示之化合物25份、及式(III)所表示之化合物20份後，加溫至60℃，進行攪拌使其溶解，在確認溶解後恢復至室溫，加入Irgacure 907(日本巴斯夫股份有限公司製造)3份、MEGAFAC F-554(DIC股份有限公司製造)0.2份、及對甲氧基苯酚(MEHQ)0.1份，進而進行攪拌，從而獲得溶液。溶液透明且均勻。利用0.20 μm之膜濾器對所獲得之溶液進行過濾而獲得聚合性組合物。另一方面，使用旋轉塗佈法，將配向膜用聚醯亞胺溶液塗佈於厚度0.7 mm之玻璃基材，於100℃下進行10分鐘乾燥後，於200℃下進行60分鐘焙燒，從而獲得塗膜。對所獲得之塗膜施以摩擦處理而形成配向膜。摩擦處理係使用市售之摩擦裝置來進行。利用旋轉塗佈法，將上述中所獲得之聚合性組合物塗佈於基材(實質上為配向膜)上，於100℃下進行2分鐘乾燥。使所獲得之塗佈膜冷卻至室溫後，使用高壓水銀燈，以30 mW/cm 2之強度照射紫外線30秒鐘，從而獲得液晶配向固化層。所獲得之液晶配向固化層之面內相位差Re(550)為130 nm，Re(450)/Re(550)為0.851，液晶配向固化層顯示逆波長色散特性。又，所獲得之液晶配向固化層於40℃及92%RH下之透濕度為440 g/m 2・24 h。
[化2] [化3]
(偏光板之製作) 於上述中所獲得之樹脂基材/偏光元件之積層體之偏光元件表面，經由紫外線硬化型接著劑(硬化後之厚度：1.0 μm)貼合上述中所獲得之積層膜。其次，自偏光元件剝離樹脂基材，將上述中所獲得之相位差層(液晶配向固化層)，經由厚度5 μm之丙烯酸系黏著劑層貼合於該剝離面。此時，以偏光元件之吸收軸與相位差層之慢軸成45°之角度之方式進行貼合。其次，於相位差層之表面，藉由丙烯酸系黏著劑形成厚度15 μm之黏著劑層，從而獲得偏光板。
[實施例2] 於硬塗層形成材料之製備中，使用IPA與CPN以重量比20：80之混合比混合而成之混合溶劑，除此以外，與實施例1同樣地進行操作，從而獲得偏光板。再者，所獲得之積層膜於40℃及92%RH下之透濕度為380 g/m 2・24 h。 [實施例3] 於硬塗層形成材料之製備中，使用IPA與CPN以重量比10：90之混合比混合而成之混合溶劑，除此以外，與實施例1同樣地進行操作，從而獲得偏光板。再者，所獲得之積層膜於40℃及92%RH下之透濕度為380 g/m 2・24 h。
[比較例1] 於硬塗層形成材料之製備中，使用IPA與CPN以重量比50：50之混合比混合而成之混合溶劑，除此以外，與實施例1同樣地進行操作，從而獲得偏光板。再者，所獲得之積層膜於40℃及92%RH下之透濕度為380 g/m 2・24 h。
[比較例2] 於硬塗層形成材料之製備中，使用IPA與CPN以重量比65：35之混合比混合而成之混合溶劑，除此以外，與實施例1同樣地進行操作，從而獲得偏光板。再者，所獲得之積層膜於40℃及92%RH下之透濕度為440 g/m 2・24 h。
對實施例及比較例進行下述評價。將評價結果彙總於表1中。 ＜評價＞ 1.積層膜之構成 利用穿透式電子顯微鏡(TEM)，對所獲得之積層膜之剖面進行觀察(倍率：10000倍)，確認積層構造，測定TAC膜(基材)上之層之厚度。 2.積層膜之透濕度變化 將所獲得之積層膜於65℃、95%RH之環境下放置48小時(加濕處理)。測定加濕處理後之積層膜於40℃及92%RH下之透濕度。 3.透過率變化1(氨脫色) 將所獲得之偏光板貼合於表面形成有厚度500 nm之氮氧化矽膜之無鹼玻璃板後，於65℃、95%RH之環境下放置48小時(加濕試驗)。使用紫外可見分光光度計(大塚電子公司製造之「LPF-2000」)，測定加濕試驗前後之偏光板之透過率Ts，算出透過率變化ΔTs(ΔTs＝加濕試驗後之Ts－加濕試驗前之Ts)。再者，藉由將形成有氮氧化矽膜之無鹼玻璃板提供於加濕試驗而確認了氨之產生。 4.透過率變化2(耐濕性) 將所獲得之偏光板貼合於無鹼玻璃板後，於60℃、90%RH之環境下放置500小時(加濕試驗)。使用紫外可見分光光度計(大塚電子公司製造之「LPF-2000」)，測定加濕試驗前後之偏光板之透過率Ts，算出透過率變化ΔTs(ΔTs＝加濕試驗後之Ts－加濕試驗前之Ts)。
[表1]
   HC(HC(Hard Coating，硬塗)層形成用溶劑 積層膜 氨脫色 ∆Ts % 耐濕性∆Ts %
厚度μm 厚度比 透濕度g/m 2・24 h 變化率
IPA CPN HC層 中間層 加濕前 加濕後
實施例1 30 70 3.6 7.5 0.48 380 600 1.58 1.8 1.4
實施例2 20 80 2.5 10 0.25 380 690 1.82 1.3 2.0
實施例3 10 90 2.2 15 0.15 380 770 2.03 2.2 3.2
比較例1 50 50 4.0 5 0.80 380 520 1.37 3.2 1.1
比較例2 65 35 2.7 4 0.68 440 550 1.25 3.1 0.9
於各實施例、比較例中，藉由TEM觀察確認了中間層之形成。於各實施例中，確認了氨脫色之ΔTs為±3%之範圍內。 產業上之可利用性
本發明之實施方式之偏光板例如較好地用於有機EL顯示裝置。
10:偏光元件 10a:第一主面 10b:第二主面 20:積層膜 21:基材 22:硬塗層 23:中間層 30:相位差層 40:黏著劑層 100:偏光板
圖1係表示本發明之一實施方式之偏光板之概略構成之模式性剖視圖。 圖2係表示圖1所示之偏光板之積層膜之概略構成之一例之剖視圖。 圖3係表示本發明之一實施方式之有機EL顯示裝置中，於有機EL面板配置了偏光板之狀態之概略之模式性剖視圖。
10:偏光元件
10a:第一主面
10b:第二主面
20:積層膜
30:相位差層
40:黏著劑層
100:偏光板

Claims (11)

  1. 一種偏光板，其具有： 偏光元件，其具有彼此對向之第一主面及第二主面；及 積層膜，其配置於上述偏光元件之上述第一主面側，自上述偏光元件側起依序包含基材及硬塗層；且 上述積層膜之透濕度為300 g/m 2・24 h以上， 上述積層膜於65℃、95%RH之環境下放置48小時後，上述積層膜之透濕度之變化率為1.4以上。
  2. 如請求項1之偏光板，其中上述變化率為2.0以下。
  3. 如請求項1或2之偏光板，其中上述硬塗層之厚度為1 μm以上。
  4. 如請求項1至3中任一項之偏光板，其中上述硬塗層之厚度為8 μm以下。
  5. 如請求項1至4中任一項之偏光板，其中上述積層膜中，上述基材與上述硬塗層之間包含中間層，該中間層含有來自上述基材之成分及來自上述硬塗層之成分。
  6. 如請求項1至5中任一項之偏光板，其具有配置於上述偏光元件之上述第二主面側之相位差層，上述相位差層之透濕度為350 g/m 2・24 h以上。
  7. 如請求項6之偏光板，其中上述相位差層係與上述偏光元件鄰接地配置。
  8. 如請求項6或7之偏光板，其中上述相位差層之Re(450)/Re(550)為0.8以上且未達1。
  9. 如請求項1至8中任一項之偏光板，其中上述偏光元件之單體透過率為43.0%以上。
  10. 如請求項1至9中任一項之偏光板，其中上述偏光元件之厚度為10 μm以下。
  11. 一種有機電致發光顯示裝置，其具有如請求項1至10中任一項之偏光板。
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