JP6712335B2 - 光学補償層付偏光板およびそれを用いた有機ｅｌパネル - Google Patents
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Description
本発明は、光学補償層付偏光板およびそれを用いた有機ＥＬパネルに関する。
近年、薄型ディスプレイの普及と共に、有機ＥＬパネルを搭載したディスプレイ（有機ＥＬ表示装置）が提案されている。有機ＥＬパネルは反射性の高い金属層を有するため、外光反射や背景の映り込み等の問題を生じやすい。そこで、円偏光板を視認側に設けることにより、これらの問題を防ぐことが知られている。一般的な円偏光板として、位相差フィルム（代表的には、λ／４板）を、その遅相軸が偏光子の吸収軸に対して約４５°の角度をなすように積層したものが知られている。円偏光板は、代表的には、偏光子の片側または両側に当該偏光子を保護するための保護フィルムを含む。ここで、内側（有機ＥＬセル側）保護フィルムが光学異方性を有すると円偏光板の反射防止特性に悪影響を与える場合が多い。一方で、このような悪影響を回避するために内側保護フィルムを光学的に等方性に構成しようとすると、機械的特性（例えば、強度、平滑性）が不十分となってしまい、結果として、円偏光板の機械的特性が不十分となってしまう場合が多い。以上のように、優れた反射防止特性と優れた機械的強度とを同時に満足し得る円偏光板が強く望まれている。
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、優れた反射色相および視野角特性を実現し、かつ、優れた機械的強度を有する光学補償層付偏光板を提供することにある。
本発明の光学補償層付偏光板は、有機ＥＬパネルに用いられ、偏光子と光学異方性層と第１の光学補償層と第２の光学補償層とをこの順に備える。該光学異方性層は、ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示し、Ｒｅ（５５０）が０ｎｍ〜２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が１０ｎｍより大きく１００ｎｍ以下であり；該第１の光学補償層は、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの屈折率特性を示し、Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）の関係を満たし；該第２の光学補償層は、ｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙの屈折率特性を示し；該第１の光学補償層と該第２の光学補償層との積層体のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍ〜１６０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−５０ｎｍ〜３７ｎｍであり、；該第１の光学補償層のＲｅ（５５０）は８０ｎｍ〜２００ｎｍである。ここで、Ｒｅ（４５０）およびＲｅ（５５０）は、それぞれ、２３℃における波長４５０ｎｍおよび５５０ｎｍの光で測定した面内位相差を表し、Ｒｔｈ（５５０）は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差を表す。
本発明の光学補償層付偏光板は、有機ＥＬパネルに用いられ、偏光子と光学異方性層と第１の光学補償層と第２の光学補償層とをこの順に備える。該光学異方性層は、ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示し、Ｒｅ（５５０）が０ｎｍ〜２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が１０ｎｍより大きく１００ｎｍ以下であり；該第１の光学補償層は、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの屈折率特性を示し、Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）の関係を満たし；該第２の光学補償層は、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示し；該第１の光学補償層と該第２の光学補償層との積層体のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍ〜１６０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−５０ｎｍ〜３７ｎｍである。
１つの実施形態においては、上記光学異方性層の引張強度は１００Ｎ／ｍｍ２〜３００Ｎ／ｍｍ２である。
１つの実施形態においては、上記偏光子の吸収軸と上記第１の光学補償層の遅相軸とのなす角度は３５°〜５５°である。
１つの実施形態においては、上記第１の光学補償層は斜め延伸して得られた位相差フィルムである。
１つの実施形態においては、上記光学補償層付偏光板は、上記第２の光学補償層の上記第１の光学補償層と反対側に導電層および基材をこの順にさらに備える。
本発明の別の局面によれば、有機ＥＬパネルが提供される。この有機ＥＬパネルは、上記の光学補償層付偏光板を備える。
本発明の光学補償層付偏光板は、有機ＥＬパネルに用いられ、偏光子と光学異方性層と第１の光学補償層と第２の光学補償層とをこの順に備える。該光学異方性層は、ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示し、Ｒｅ（５５０）が０ｎｍ〜２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が１０ｎｍより大きく１００ｎｍ以下であり；該第１の光学補償層は、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの屈折率特性を示し、Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）の関係を満たし；該第２の光学補償層は、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示し；該第１の光学補償層と該第２の光学補償層との積層体のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍ〜１６０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−５０ｎｍ〜３７ｎｍである。
１つの実施形態においては、上記光学異方性層の引張強度は１００Ｎ／ｍｍ２〜３００Ｎ／ｍｍ２である。
１つの実施形態においては、上記偏光子の吸収軸と上記第１の光学補償層の遅相軸とのなす角度は３５°〜５５°である。
１つの実施形態においては、上記第１の光学補償層は斜め延伸して得られた位相差フィルムである。
１つの実施形態においては、上記光学補償層付偏光板は、上記第２の光学補償層の上記第１の光学補償層と反対側に導電層および基材をこの順にさらに備える。
本発明の別の局面によれば、有機ＥＬパネルが提供される。この有機ＥＬパネルは、上記の光学補償層付偏光板を備える。
本発明によれば、光学補償層付偏光板において、偏光子の内側保護フィルムとしても機能し得る光学異方性層を設け、かつ、それぞれ所定の屈折率特性を有する第１の光学補償層および第２の光学補償層の積層体の面内位相差および厚み方向位相差を所定の範囲で最適化することにより、優れた反射色相および視野角特性を実現し、かつ、優れた機械的強度を有する光学補償層付偏光板を得ることができる。
以下、本発明の好ましい実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。
（４）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
（５）実質的に直交または平行
「実質的に直交」および「略直交」という表現は、２つの方向のなす角度が９０°±１０°である場合を包含し、好ましくは９０°±７°であり、さらに好ましくは９０°±５°である。「実質的に平行」および「略平行」という表現は、２つの方向のなす角度が０°±１０°である場合を包含し、好ましくは０°±７°であり、さらに好ましくは０°±５°である。さらに、本明細書において単に「直交」または「平行」というときは、実質的に直交または実質的に平行な状態を含み得るものとする。
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。
（４）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
（５）実質的に直交または平行
「実質的に直交」および「略直交」という表現は、２つの方向のなす角度が９０°±１０°である場合を包含し、好ましくは９０°±７°であり、さらに好ましくは９０°±５°である。「実質的に平行」および「略平行」という表現は、２つの方向のなす角度が０°±１０°である場合を包含し、好ましくは０°±７°であり、さらに好ましくは０°±５°である。さらに、本明細書において単に「直交」または「平行」というときは、実質的に直交または実質的に平行な状態を含み得るものとする。
Ａ．光学補償層付偏光板の全体構成
図１は、本発明の１つの実施形態による光学補償層付偏光板の概略断面図である。本実施形態の光学補償層付偏光板１００は、偏光子１０と光学異方性層２０と第１の光学補償層３０と第２の光学補償層４０とをこの順に備える。図示例では、第１の光学補償層３０が第２の光学補償層４０よりも偏光子１０側となるように配置されているが、第２の光学補償層４０が偏光子１０側に配置されていてもよい。本実施形態においては、光学異方性層２０は、偏光子１０の保護層としても機能し得る。必要に応じて、偏光子１０の光学異方性層２０と反対側に保護層（図示せず）を設けてもよい。さらに、必要に応じて、第２の光学補償層４０の第１の光学補償層３０と反対側（すなわち、第２の光学補償層４０の外側）に導電層および基材をこの順に設けてもよい（いずれも図示せず）。基材は、導電層に密着積層されている。本明細書において「密着積層」とは、２つの層が接着層（例えば、接着剤層、粘着剤層）を介在することなく直接かつ固着して積層されていることをいう。導電層および基材は、代表的には、基材と導電層との積層体として光学補償層付偏光板１００に導入され得る。導電層および基材をさらに設けることにより、光学補償層付偏光板１００は、インナータッチパネル型入力表示装置に好適に用いられ得る。
図１は、本発明の１つの実施形態による光学補償層付偏光板の概略断面図である。本実施形態の光学補償層付偏光板１００は、偏光子１０と光学異方性層２０と第１の光学補償層３０と第２の光学補償層４０とをこの順に備える。図示例では、第１の光学補償層３０が第２の光学補償層４０よりも偏光子１０側となるように配置されているが、第２の光学補償層４０が偏光子１０側に配置されていてもよい。本実施形態においては、光学異方性層２０は、偏光子１０の保護層としても機能し得る。必要に応じて、偏光子１０の光学異方性層２０と反対側に保護層（図示せず）を設けてもよい。さらに、必要に応じて、第２の光学補償層４０の第１の光学補償層３０と反対側（すなわち、第２の光学補償層４０の外側）に導電層および基材をこの順に設けてもよい（いずれも図示せず）。基材は、導電層に密着積層されている。本明細書において「密着積層」とは、２つの層が接着層（例えば、接着剤層、粘着剤層）を介在することなく直接かつ固着して積層されていることをいう。導電層および基材は、代表的には、基材と導電層との積層体として光学補償層付偏光板１００に導入され得る。導電層および基材をさらに設けることにより、光学補償層付偏光板１００は、インナータッチパネル型入力表示装置に好適に用いられ得る。
第１の光学補償層３０は、屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係を示し、遅相軸を有する。偏光子１０と第１の光学補償層３０とは、偏光子１０の吸収軸と第１の光学補償層３０の遅相軸とが所定の角度をなすように積層されている。偏光子１０の吸収軸と第１の光学補償層３０の遅相軸とのなす角度は、好ましくは３５°〜５５°であり、より好ましくは３８°〜５２°であり、さらに好ましくは４２°〜４８°であり、特に好ましくは約４５°である。上記角度がこのような範囲であれば、優れた反射防止機能を実現することができる。
光学補償層付偏光板は、枚葉状であってもよく、長尺状であってもよい。
以下、光学補償層付偏光板を構成する各層および光学フィルムについて詳細に説明する。
Ａ−１．偏光子
偏光子１０としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。
偏光子１０としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。
単層の樹脂フィルムから構成される偏光子の具体例としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理および延伸処理が施されたもの、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。好ましくは、光学特性に優れることから、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られた偏光子が用いられる。
上記ヨウ素による染色は、例えば、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。上記一軸延伸の延伸倍率は、好ましくは３〜７倍である。延伸は、染色処理後に行ってもよいし、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。必要に応じて、ＰＶＡ系フィルムに、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。例えば、染色の前にＰＶＡ系フィルムを水に浸漬して水洗することで、ＰＶＡ系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ＰＶＡ系フィルムを膨潤させて染色ムラなどを防止することができる。
積層体を用いて得られる偏光子の具体例としては、樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたＰＶＡ系樹脂層（ＰＶＡ系樹脂フィルム）との積層体、あるいは、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子は、例えば、ＰＶＡ系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂層を形成して、樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を得ること；当該積層体を延伸および染色してＰＶＡ系樹脂層を偏光子とすること；により作製され得る。本実施形態においては、延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温（例えば、９５℃以上）で空中延伸することをさらに含み得る。得られた樹脂基材／偏光子の積層体はそのまま用いてもよく（すなわち、樹脂基材を偏光子の保護層としてもよく）、樹脂基材／偏光子の積層体から樹脂基材を剥離し、当該剥離面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。このような偏光子の製造方法の詳細は、例えば特開２０１２−７３５８０号公報に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
偏光子の厚みは、好ましくは２５μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ〜１２μｍであり、さらに好ましくは３μｍ〜１２μｍであり、特に好ましくは３μｍ〜８μｍである。偏光子の厚みがこのような範囲であれば、加熱時のカールを良好に抑制することができ、および、良好な加熱時の外観耐久性が得られる。
偏光子は、好ましくは、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光子の単体透過率は、上記のとおり４３．０％〜４６．０％であり、好ましくは４４．５％〜４６．０％である。偏光子の偏光度は、好ましくは９７．０％以上であり、より好ましくは９９．０％以上であり、さらに好ましくは９９．９％以上である。
Ａ−２．光学異方性層
光学異方性層２０は、ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示す。したがって、光学異方性層は遅相軸を有する場合がある。この場合、光学異方性層の遅相軸は、偏光子の吸収軸に対して実質的に直交または平行である。
光学異方性層２０は、ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示す。したがって、光学異方性層は遅相軸を有する場合がある。この場合、光学異方性層の遅相軸は、偏光子の吸収軸に対して実質的に直交または平行である。
光学異方性層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ〜２０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は５ｎｍ〜１００ｎｍであり。面内位相差および厚み方向位相差がこのような範囲であれば、第１の光学補償層および第２の光学補償層の積層体について後述するような光学特性の最適化を行うことにより、得られる光学補償層付円偏光板の優れた反射防止特性を維持することができる。同時に、優れた機械的強度を有する光学補償層付円偏光板を得ることができる。１つの実施形態においては、光学異方性層のＲｅ（５５０）は、好ましくは０ｎｍ〜１５ｎｍであり、より好ましくは０ｎｍ〜１０ｎｍである。この場合、光学異方性層のＲｔｈ（５５０）は、好ましくは５ｎｍ〜６０ｎｍであり、より好ましくは１０ｎｍ〜２０ｎｍである。この実施形態によれば、第１の光学補償層および第２の光学補償層の積層体について後述するような光学特性の最適化を行うことにより、優れた機械的強度を維持しつつ、非常に優れた反射色相および視野角特性を実現することができる。別の実施形態においては、光学異方性層のＲｅ（５５０）は、好ましくは１０ｎｍ〜２０ｎｍであり、より好ましくは１５ｎｍ〜２０ｎｍである。この場合、光学異方性層のＲｔｈ（５５０）は、好ましくは３０ｎｍ〜７０ｎｍであり、より好ましくは３５ｎｍ〜５０ｎｍである。この実施形態によれば、許容可能な反射防止特性を維持しつつ、非常に優れた機械的強度を実現することができる。
光学異方性層の引張強度は、好ましくは１００Ｎ／ｍｍ２〜３００Ｎ／ｍｍ２であり、より好ましくは１００Ｎ／ｍｍ２〜２００Ｎ／ｍｍ２である。引張強度がこのような範囲であれば、上記のような面内位相差および厚み方向位相差において偏光子の保護層として適切な機械的強度を実現することができる。なお、引張強度は、ＪＩＳ Ｋ ７１６１に準じて測定され得る。
光学異方性層の平滑性は、例えば、算術平均粗さＲａを指標として表され得る。光学異方性層の算術平均粗さＲａは、好ましくは０．００１μｍ〜０．１μｍであり、より好ましくは０．００１μｍ〜０．０５μｍである。平滑性がこのような範囲であれば、光学異方性層の位相差ムラが低減され得る。
光学異方性層は、上記のような光学的特性および機械的特性を満足する限りにおいて、任意の適切な材料で構成され得る。構成材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、（メタ）アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、（メタ）アクリル系、ウレタン系、（メタ）アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。当該ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。光学異方性層は、上記材料で構成されるフィルムをそのまま用いてもよく、当該フィルムを延伸して形成してもよい。
光学異方性層の厚みは、好ましくは１０μｍ〜８０μｍであり、より好ましくは１５μｍ〜４０μｍである。このような厚みであれば、所望の面内位相差および厚み方向位相差と所望の機械的強度とを実現することができる。
Ａ−３．第１の光学補償層
第１の光学補償層３０は、上述のとおり、屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係を示す。第１の光学補償層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは８０ｎｍ〜２００ｎｍであり、より好ましくは１００ｎｍ〜１８０ｎｍであり、さらに好ましくは１１０ｎｍ〜１７０ｎｍである。第１の光学補償層の面内位相差がこのような範囲であれば、第１の光学補償層の遅相軸方向を偏光子の吸収軸方向に対して上記のように３５°〜５５°（特に、約４５°）の角度をなすよう設定することにより、優れた反射防止機能を実現することができる。
第１の光学補償層３０は、上述のとおり、屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係を示す。第１の光学補償層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは８０ｎｍ〜２００ｎｍであり、より好ましくは１００ｎｍ〜１８０ｎｍであり、さらに好ましくは１１０ｎｍ〜１７０ｎｍである。第１の光学補償層の面内位相差がこのような範囲であれば、第１の光学補償層の遅相軸方向を偏光子の吸収軸方向に対して上記のように３５°〜５５°（特に、約４５°）の角度をなすよう設定することにより、優れた反射防止機能を実現することができる。
第１の光学補償層は、いわゆる逆分散の波長依存性を示す。具体的には、その面内位相差は、Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）の関係を満たす。このような関係を満たすことにより、優れた反射色相を達成することができる。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、好ましくは０．８以上１未満であり、より好ましくは０．８以上０．９５以下である。
第１の光学補償層のＮｚ係数は、好ましくは１〜３であり、より好ましくは１〜２．５であり、さらに好ましくは１〜１．５であり、特に好ましくは１〜１．３である。このような関係を満たすことにより、より優れた反射色相を達成し得る。
第１の光学補償層は、その吸水率が好ましくは３％以下であり、より好ましくは２．５％以下、さらに好ましくは２％以下である。このような吸水率を満足することにより、表示特性の経時変化を抑制することができる。なお、吸水率は、ＪＩＳ Ｋ ７２０９に準拠して求めることができる。
第１の光学補償層は、代表的には、任意の適切な樹脂で形成された位相差フィルムである。この位相差フィルムを形成する樹脂としては、好ましくは、ポリカーボネート樹脂が用いられる。
上記ポリカーボネート樹脂としては、本発明の効果が得られる限りにおいて、任意の適切なポリカーボネート樹脂を用いることができる。好ましくは、ポリカーボネート樹脂は、フルオレン系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、イソソルビド系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、脂環式ジオール、脂環式ジメタノール、ジ、トリまたはポリエチレングリコール、ならびに、アルキレングリコールまたはスピログリコールからなる群から選択される少なくとも１つのジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、を含む。好ましくは、ポリカーボネート樹脂は、フルオレン系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、イソソルビド系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、脂環式ジメタノールに由来する構造単位ならびに／あるいはジ、トリまたはポリエチレングリコールに由来する構造単位と、を含み；さらに好ましくは、フルオレン系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、イソソルビド系ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、ジ、トリまたはポリエチレングリコールに由来する構造単位と、を含む。ポリカーボネート樹脂は、必要に応じてその他のジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含んでいてもよい。なお、本発明に好適に用いられ得るポリカーボネート樹脂の詳細は、例えば、特開２０１４−１０２９１号公報、特開２０１４−２６２６６号公報に記載されており、当該記載は本明細書に参考として援用される。
前記ポリカーボネート樹脂のガラス転移温度は、１１０℃以上１８０℃以下であることが好ましく、より好ましくは１２０℃以上１６５℃以下である。ガラス転移温度が過度に低いと耐熱性が悪くなる傾向にあり、フィルム成形後に寸法変化を起こす可能性があり、又、得られる有機ＥＬパネルの画像品質を下げる場合がある。ガラス転移温度が過度に高いと、フィルム成形時の成形安定性が悪くなる場合があり、又フィルムの透明性を損なう場合がある。なお、ガラス転移温度は、ＪＩＳ Ｋ ７１２１（１９８７）に準じて求められる。
前記ポリカーボネート樹脂の分子量は、還元粘度で表すことができる。還元粘度は、溶媒として塩化メチレンを用い、ポリカーボネート濃度を０．６ｇ／ｄＬに精密に調製し、温度２０．０℃±０．１℃でウベローデ粘度管を用いて測定される。還元粘度の下限は、通常０．３０ｄＬ／ｇが好ましく、より好ましくは０．３５ｄＬ／ｇ以上である。還元粘度の上限は、通常１．２０ｄＬ／ｇが好ましく、より好ましくは１．００ｄＬ／ｇ、更に好ましくは０．８０ｄＬ／ｇである。還元粘度が前記下限値より小さいと成形品の機械的強度が小さくなるという問題が生じる場合がある。一方、還元粘度が前記上限値より大きいと、成形する際の流動性が低下し、生産性や成形性が低下するという問題が生じる場合がある。
位相差フィルムは、代表的には、樹脂フィルムを少なくとも一方向に延伸することにより作製される。
上記樹脂フィルムの形成方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。例えば、溶融押出し法（例えば、Ｔダイ成形法）、キャスト塗工法（例えば、流延法）、カレンダー成形法、熱プレス法、共押出し法、共溶融法、多層押出し、インフレーション成形法等が挙げられる。好ましくは、Ｔダイ成形法、流延法およびインフレーション成形法が用いられる。
樹脂フィルム（未延伸フィルム）の厚みは、所望の光学特性、後述の延伸条件などに応じて、任意の適切な値に設定され得る。好ましくは５０μｍ〜３００μｍである。
上記延伸は、任意の適切な延伸方法、延伸条件（例えば、延伸温度、延伸倍率、延伸方向）が採用され得る。具体的には、自由端延伸、固定端延伸、自由端収縮、固定端収縮などの様々な延伸方法を、単独で用いることも、同時もしくは逐次で用いることもできる。延伸方向に関しても、水平方向、垂直方向、厚さ方向、対角方向等、様々な方向や次元に行なうことができる。延伸の温度は、樹脂フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）に対し、Ｔｇ−３０℃〜Ｔｇ＋６０℃であることが好ましく、より好ましくはＴｇ−１０℃〜Ｔｇ＋５０℃である。
上記延伸方法、延伸条件を適宜選択することにより、上記所望の光学特性（例えば、屈折率特性、面内位相差、Ｎｚ係数）を有する位相差フィルムを得ることができる。
１つの実施形態においては、位相差フィルムは、樹脂フィルムを一軸延伸もしくは固定端一軸延伸することにより作製される。固定端一軸延伸の具体例としては、樹脂フィルムを長手方向に走行させながら、幅方向（横方向）に延伸する方法が挙げられる。延伸倍率は、好ましくは１．１倍〜３．５倍である。
別の実施形態においては、位相差フィルムは、長尺状の樹脂フィルムを長手方向に対して角度θの方向に連続的に斜め延伸することにより作製される。斜め延伸を採用することにより、フィルムの長手方向に対して角度θの配向角（角度θの方向に遅相軸）を有する長尺状の延伸フィルムが得られ、例えば、偏光子との積層に際してロールツーロールが可能となり、製造工程を簡略化することができる。偏光子の吸収軸は、その製造方法に起因して長尺状フィルムの長手方向または幅方向に発現するので、上記角度θは、偏光子の吸収軸と第１の光学補償層の遅相軸とのなす角度であり得る。
斜め延伸に用いる延伸機としては、例えば、横および／または縦方向に、左右異なる速度の送り力もしくは引張り力または引き取り力を付加し得るテンター式延伸機が挙げられる。テンター式延伸機には、横一軸延伸機、同時二軸延伸機等があるが、長尺状の樹脂フィルムを連続的に斜め延伸し得る限り、任意の適切な延伸機が用いられ得る。
位相差フィルム（延伸フィルム、すなわち第１の光学補償層）の厚みは、好ましくは２０μｍ〜１００μｍであり、より好ましくは２０μｍ〜８０μｍであり、さらに好ましくは２０μｍ〜６５μｍである。このような厚みであれば、上記所望の面内位相差および厚み方向位相差が得られ得る。
Ａ−４．第２の光学補償層
第２の光学補償層４０は、上述のとおり、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙの関係を示す。第２の光学補償層の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは−２６０ｎｍ〜−１０ｎｍ、より好ましくは−２３０ｎｍ〜−１５ｎｍ、さらに好ましくは−２１５ｎｍ〜−２０ｎｍである。このような光学特性を有する第２の光学補償層を設けることにより、斜め方向から見たときの反射色相が顕著に改善され、結果として、非常に優れた視野角特性を有する光学補償層付偏光板が得られ得る。
第２の光学補償層４０は、上述のとおり、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙの関係を示す。第２の光学補償層の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは−２６０ｎｍ〜−１０ｎｍ、より好ましくは−２３０ｎｍ〜−１５ｎｍ、さらに好ましくは−２１５ｎｍ〜−２０ｎｍである。このような光学特性を有する第２の光学補償層を設けることにより、斜め方向から見たときの反射色相が顕著に改善され、結果として、非常に優れた視野角特性を有する光学補償層付偏光板が得られ得る。
１つの実施形態においては、第２の光学補償層は、その屈折率がｎｘ＝ｎｙの関係を示す。ここで、「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。具体的には、Ｒｅ（５５０）が１０ｎｍ未満であることをいう。別の実施形態においては、第２の光学補償層は、その屈折率がｎｘ＞ｎｙの関係を示す。したがって、第２の光学補償層は、遅相軸を有する場合がある。第２の光学補償層の遅相軸は、偏光子の吸収軸に対して実質的に直交または平行である。また、第２の光学補償層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、より好ましくは１０ｎｍ〜８０ｎｍである。
第２の光学補償層は、任意の適切な材料で形成され得る。好ましくは、ホメオトロピック配向に固定された液晶層である。ホメオトロピック配向させることができる液晶材料（液晶化合物）は、液晶モノマーであっても液晶ポリマーであってもよい。当該液晶化合物および当該液晶層の形成方法の具体例としては、特開２００２−３３３６４２号公報の［００２０］〜［００４２］に記載の液晶化合物および形成方法が挙げられる。この場合、厚みは、好ましくは０．１μｍ〜５μｍであり、より好ましくは０．２μｍ〜３μｍである。
別の好ましい具体例として、第２の光学補償層は、特開２０１２−３２７８４号公報に記載のフマル酸ジエステル系樹脂で形成された位相差フィルムであってもよい。この場合、厚みは、好ましくは５μｍ〜８０μｍであり、より好ましくは１０μｍ〜５０μｍである。
Ａ−５．積層体
上記第１の光学補償層と第２の光学補償層との積層体の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、１２０ｎｍ〜１６０ｎｍであり、好ましくは１３０ｎｍ〜１５０ｎｍである。当該積層体の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、−４０ｎｍ〜８０ｎｍであり、好ましくは−２０ｎｍ〜５０ｎｍである。積層体の光学特性をこのように設定することにより、上記のような光学異方性層を用いることによる光学補償層付偏光板の反射防止特性に対する悪影響を回避することができる。結果として、優れた反射色相および視野角特性を実現し、かつ、優れた機械的強度を有する光学補償層付偏光板を得ることができる。
上記第１の光学補償層と第２の光学補償層との積層体の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、１２０ｎｍ〜１６０ｎｍであり、好ましくは１３０ｎｍ〜１５０ｎｍである。当該積層体の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、−４０ｎｍ〜８０ｎｍであり、好ましくは−２０ｎｍ〜５０ｎｍである。積層体の光学特性をこのように設定することにより、上記のような光学異方性層を用いることによる光学補償層付偏光板の反射防止特性に対する悪影響を回避することができる。結果として、優れた反射色相および視野角特性を実現し、かつ、優れた機械的強度を有する光学補償層付偏光板を得ることができる。
Ａ−６．保護層
保護層は、偏光子の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成される。保護層には、必要に応じて、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、アンチグレア処理等の表面処理が施されていてもよい。さらに／あるいは、保護層には、必要に応じて、偏光サングラスを介して視認する場合の視認性を改善する処理（代表的には、（楕）円偏光機能を付与すること、超高位相差を付与すること）が施されていてもよい。このような処理を施すことにより、偏光サングラス等の偏光レンズを介して表示画面を視認した場合でも、優れた視認性を実現することができる。したがって、光学補償層付偏光板は、屋外で用いられ得る画像表示装置にも好適に適用され得る。保護層の厚みは、代表的には５ｍｍ以下であり、好ましくは１ｍｍ以下、より好ましくは１μｍ〜５００μｍ、さらに好ましくは５μｍ〜１５０μｍである。なお、表面処理が施されている場合、保護層の厚みは、表面処理層の厚みを含めた厚みである。
保護層は、偏光子の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成される。保護層には、必要に応じて、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、アンチグレア処理等の表面処理が施されていてもよい。さらに／あるいは、保護層には、必要に応じて、偏光サングラスを介して視認する場合の視認性を改善する処理（代表的には、（楕）円偏光機能を付与すること、超高位相差を付与すること）が施されていてもよい。このような処理を施すことにより、偏光サングラス等の偏光レンズを介して表示画面を視認した場合でも、優れた視認性を実現することができる。したがって、光学補償層付偏光板は、屋外で用いられ得る画像表示装置にも好適に適用され得る。保護層の厚みは、代表的には５ｍｍ以下であり、好ましくは１ｍｍ以下、より好ましくは１μｍ〜５００μｍ、さらに好ましくは５μｍ〜１５０μｍである。なお、表面処理が施されている場合、保護層の厚みは、表面処理層の厚みを含めた厚みである。
Ａ−７．導電層または基材付導電層
導電層は、任意の適切な成膜方法（例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法等）により、任意の適切な基材上に、金属酸化物膜を成膜して形成され得る。成膜後、必要に応じて加熱処理（例えば、１００℃〜２００℃）を行ってもよい。加熱処理を行うことにより、非晶質膜が結晶化し得る。金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム−スズ複合酸化物、スズ−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物が挙げられる。インジウム酸化物には２価金属イオンまたは４価金属イオンがドープされていてもよい。好ましくはインジウム系複合酸化物であり、より好ましくはインジウム−スズ複合酸化物（ＩＴＯ）である。インジウム系複合酸化物は、可視光領域（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）で高い透過率（例えば、８０％以上）を有し、かつ、単位面積当たりの表面抵抗値が低いという特徴を有している。
導電層は、任意の適切な成膜方法（例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法等）により、任意の適切な基材上に、金属酸化物膜を成膜して形成され得る。成膜後、必要に応じて加熱処理（例えば、１００℃〜２００℃）を行ってもよい。加熱処理を行うことにより、非晶質膜が結晶化し得る。金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム−スズ複合酸化物、スズ−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物が挙げられる。インジウム酸化物には２価金属イオンまたは４価金属イオンがドープされていてもよい。好ましくはインジウム系複合酸化物であり、より好ましくはインジウム−スズ複合酸化物（ＩＴＯ）である。インジウム系複合酸化物は、可視光領域（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）で高い透過率（例えば、８０％以上）を有し、かつ、単位面積当たりの表面抵抗値が低いという特徴を有している。
導電層が金属酸化物を含む場合、該導電層の厚みは、好ましくは５０ｎｍ以下であり、より好ましくは３５ｎｍ以下である。導電層の厚みの下限は、好ましくは１０ｎｍである。
導電層の表面抵抗値は、好ましくは３００Ω／□以下であり、より好ましくは１５０Ω／□以下であり、さらに好ましくは１００Ω／□以下である。
導電層は、上記基材から第２の光学補償層に転写されて導電層単独で光学補償層付偏光板の構成層とされてもよく、基材との積層体（基材付導電層）として第２の光学補償層に積層されてもよい。代表的には、上記のとおり、導電層および基材は、基材付導電層として光学補償層付偏光板に導入され得る。
基材を構成する材料としては、任意の適切な樹脂が挙げられる。好ましくは、透明性に優れた樹脂である。具体例としては、環状オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂が挙げられる。
好ましくは、上記基材は光学的に等方性であり、したがって、導電層は等方性基材付導電層として光学補償層付偏光板に用いられ得る。光学的に等方性の基材（等方性基材）を構成する材料としては、例えば、ノルボルネン系樹脂やオレフィン系樹脂などの共役系を有さない樹脂を主骨格としている材料、ラクトン環やグルタルイミド環などの環状構造をアクリル系樹脂の主鎖中に有する材料などが挙げられる。このような材料を用いると、等方性基材を形成した際に、分子鎖の配向に伴う位相差の発現を小さく抑えることができる。
基材の厚みは、好ましくは１０μｍ〜２００μｍであり、より好ましくは２０μｍ〜６０μｍである。
Ａ−８．その他
本発明の光学補償層付偏光板を構成する各層の積層には、任意の適切な粘着剤層または接着剤層が用いられる。粘着剤層は、代表的にはアクリル系粘着剤で形成される。接着剤層は、代表的にはポリビニルアルコール系接着剤で形成される。
本発明の光学補償層付偏光板を構成する各層の積層には、任意の適切な粘着剤層または接着剤層が用いられる。粘着剤層は、代表的にはアクリル系粘着剤で形成される。接着剤層は、代表的にはポリビニルアルコール系接着剤で形成される。
図示しないが、光学補償層付偏光板１００の第２の光学補償層４０側（導電層および基材が設けられる場合には基材側）には、粘着剤層が設けられていてもよい。粘着剤層が予め設けられていることにより、他の光学部材（例えば、有機ＥＬセル）へ容易に貼り合わせることができる。なお、この粘着剤層の表面には、使用に供されるまで、剥離フィルムが貼り合わされていることが好ましい。
Ｂ．製造方法
上記光学補償層付偏光板の製造方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。１つの実施形態においては、長尺状で長手方向に吸収軸を有する偏光子と、光学異方性層を構成する長尺状の樹脂フィルムと、第１の光学補償層を構成する長尺状の位相差フィルムとを、それぞれ長手方向に搬送しながら、それぞれの長手方向を揃えるようにして積層して積層フィルムを得る工程と、この積層フィルムを搬送しながら第２の光学補償層を第１の光学補償層表面に塗布形成する工程とを含む方法により製造され得る。偏光子、光学異方性層および第１の光学補償層は、同時に積層してもよく、偏光子と光学異方性層とを先に積層してもよく、光学異方性層と第１の光学補償層とを先に積層してもよい。また、第１の光学補償層と第２の光学補償層の積層体を先に形成し、当該積層体を上記の積層に供してもよい。ここで、偏光子１０の吸収軸と第１の光学補償層３０の遅相軸とのなす角度は、上述のとおり、好ましくは３５°〜５５°であり、より好ましくは３８°〜５２°であり、さらに好ましくは４２°〜４８°であり、特に好ましくは約４５°である。
上記光学補償層付偏光板の製造方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。１つの実施形態においては、長尺状で長手方向に吸収軸を有する偏光子と、光学異方性層を構成する長尺状の樹脂フィルムと、第１の光学補償層を構成する長尺状の位相差フィルムとを、それぞれ長手方向に搬送しながら、それぞれの長手方向を揃えるようにして積層して積層フィルムを得る工程と、この積層フィルムを搬送しながら第２の光学補償層を第１の光学補償層表面に塗布形成する工程とを含む方法により製造され得る。偏光子、光学異方性層および第１の光学補償層は、同時に積層してもよく、偏光子と光学異方性層とを先に積層してもよく、光学異方性層と第１の光学補償層とを先に積層してもよい。また、第１の光学補償層と第２の光学補償層の積層体を先に形成し、当該積層体を上記の積層に供してもよい。ここで、偏光子１０の吸収軸と第１の光学補償層３０の遅相軸とのなす角度は、上述のとおり、好ましくは３５°〜５５°であり、より好ましくは３８°〜５２°であり、さらに好ましくは４２°〜４８°であり、特に好ましくは約４５°である。
本実施形態においては、第１の光学補償層を構成する長尺状の位相差フィルムは、その長手方向に対して角度θの方向に遅相軸を有する。角度θは、上記のような偏光子の吸収軸と第１の光学補償層の遅相軸とのなす角度であり得る。このような位相差フィルムは、斜め延伸により得られ得る。このような構成によれば、上述のように、光学補償層付偏光板の製造においてロールツーロールが可能となり、製造工程を格段に短縮することができる。
Ｃ．有機ＥＬパネル
本発明の有機ＥＬパネルは、有機ＥＬセルと、該有機ＥＬセルの視認側に上記Ａ項に記載の光学補償層付偏光板と、を備える。光学補償層付偏光板は、第２の光学補償層が有機ＥＬセル側となるように（偏光子が視認側となるように）積層されている。
本発明の有機ＥＬパネルは、有機ＥＬセルと、該有機ＥＬセルの視認側に上記Ａ項に記載の光学補償層付偏光板と、を備える。光学補償層付偏光板は、第２の光学補償層が有機ＥＬセル側となるように（偏光子が視認側となるように）積層されている。
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。なお、各特性の測定方法は以下の通りである。
（１）厚み
ダイヤルゲージ（ＰＥＡＣＯＣＫ社製、製品名「ＤＧ−２０５」、ダイヤルゲージスタンド（製品名「ｐｄｓ−２」））を用いて測定した。
（２）位相差
各光学補償層および光学異方性層から５０ｍｍ×５０ｍｍのサンプルを切り出して測定サンプルとし、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製のＡｘｏｓｃａｎを用いて測定した。測定波長は４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、測定温度は２３℃であった。
また、アタゴ社製のアッベ屈折率計を用いて平均屈折率を測定し、得られた位相差値から屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出した。
（３）吸水率
ＪＩＳ Ｋ ７２０９に記載の「プラスチックの吸水率及び沸騰吸水率試験方法」に準拠して測定した。試験片の大きさは５０ｍｍ辺の正方形で、水温２５℃の水に２４時間試験片を浸水させた後、浸水前後の重量変化を測定することにより求めた。単位は％である。
（４）引張強度
光学異方性層について、ＪＩＳ Ｋ ７１６１に記載の「プラスチックの引っ張り特性」に準拠して引張強度を測定した。
（５）平滑性
光学異方性層について、光干渉型顕微鏡「ＷＹＫＯ ＮＴ−３３００」（Ｖｅｅｃｏ社製）を用いて、算術平均粗さＲａを測定した。
（６）反射色相および視野角特性
得られた有機ＥＬパネルに黒画像を表示させ、Ａｕｏｒｏｎｉｃ−ＭＥＲＣＨＥＲＳ社製の視野角測定評価装置コノスコープを用いて反射色相を測定した。「視野角特性」は、ＣＩＥ表色系のｘｙ色度図における正面方向の反射色相と斜め方向の反射色相（極角４５°における最大値または最小値）との２点間距離Δｘｙを示す。このΔｘｙが０．１５よりも小さいと、視野角特性が良好と評価される。
（７）機械的特性
得られた光学補償層付偏光板について、上記（４）と同様にして引張強度を測定した。
ダイヤルゲージ（ＰＥＡＣＯＣＫ社製、製品名「ＤＧ−２０５」、ダイヤルゲージスタンド（製品名「ｐｄｓ−２」））を用いて測定した。
（２）位相差
各光学補償層および光学異方性層から５０ｍｍ×５０ｍｍのサンプルを切り出して測定サンプルとし、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製のＡｘｏｓｃａｎを用いて測定した。測定波長は４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、測定温度は２３℃であった。
また、アタゴ社製のアッベ屈折率計を用いて平均屈折率を測定し、得られた位相差値から屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出した。
（３）吸水率
ＪＩＳ Ｋ ７２０９に記載の「プラスチックの吸水率及び沸騰吸水率試験方法」に準拠して測定した。試験片の大きさは５０ｍｍ辺の正方形で、水温２５℃の水に２４時間試験片を浸水させた後、浸水前後の重量変化を測定することにより求めた。単位は％である。
（４）引張強度
光学異方性層について、ＪＩＳ Ｋ ７１６１に記載の「プラスチックの引っ張り特性」に準拠して引張強度を測定した。
（５）平滑性
光学異方性層について、光干渉型顕微鏡「ＷＹＫＯ ＮＴ−３３００」（Ｖｅｅｃｏ社製）を用いて、算術平均粗さＲａを測定した。
（６）反射色相および視野角特性
得られた有機ＥＬパネルに黒画像を表示させ、Ａｕｏｒｏｎｉｃ−ＭＥＲＣＨＥＲＳ社製の視野角測定評価装置コノスコープを用いて反射色相を測定した。「視野角特性」は、ＣＩＥ表色系のｘｙ色度図における正面方向の反射色相と斜め方向の反射色相（極角４５°における最大値または最小値）との２点間距離Δｘｙを示す。このΔｘｙが０．１５よりも小さいと、視野角特性が良好と評価される。
（７）機械的特性
得られた光学補償層付偏光板について、上記（４）と同様にして引張強度を測定した。
［実施例１］
（ポリカーボネート樹脂フィルムの作製）
撹拌翼および１００℃に制御された還流冷却器を具備した縦型反応器２器からなるバッチ重合装置を用いて重合を行った。９，９−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＢＨＥＰＦ）、イソソルビド（ＩＳＢ）、ジエチレングリコール（ＤＥＧ）、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）、および酢酸マグネシウム４水和物を、モル比率でＢＨＥＰＦ／ＩＳＢ／ＤＥＧ／ＤＰＣ／酢酸マグネシウム＝０．３４８／０．４９０／０．１６２／１．００５／１．００×１０−５になるように仕込んだ。反応器内を十分に窒素置換した後（酸素濃度０．０００５〜０．００１ｖｏｌ％）、熱媒で加温を行い、内温が１００℃になった時点で撹拌を開始した。昇温開始４０分後に内温を２２０℃に到達させ、この温度を保持するように制御すると同時に減圧を開始し、２２０℃に到達してから９０分で１３．３ｋＰａにした。重合反応とともに副生するフェノール蒸気を１００℃の還流冷却器に導き、フェノール蒸気中に若干量含まれるモノマー成分を反応器に戻し、凝縮しないフェノール蒸気は４５℃の凝縮器に導いて回収した。
（ポリカーボネート樹脂フィルムの作製）
撹拌翼および１００℃に制御された還流冷却器を具備した縦型反応器２器からなるバッチ重合装置を用いて重合を行った。９，９−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＢＨＥＰＦ）、イソソルビド（ＩＳＢ）、ジエチレングリコール（ＤＥＧ）、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）、および酢酸マグネシウム４水和物を、モル比率でＢＨＥＰＦ／ＩＳＢ／ＤＥＧ／ＤＰＣ／酢酸マグネシウム＝０．３４８／０．４９０／０．１６２／１．００５／１．００×１０−５になるように仕込んだ。反応器内を十分に窒素置換した後（酸素濃度０．０００５〜０．００１ｖｏｌ％）、熱媒で加温を行い、内温が１００℃になった時点で撹拌を開始した。昇温開始４０分後に内温を２２０℃に到達させ、この温度を保持するように制御すると同時に減圧を開始し、２２０℃に到達してから９０分で１３．３ｋＰａにした。重合反応とともに副生するフェノール蒸気を１００℃の還流冷却器に導き、フェノール蒸気中に若干量含まれるモノマー成分を反応器に戻し、凝縮しないフェノール蒸気は４５℃の凝縮器に導いて回収した。
第１反応器に窒素を導入して一旦大気圧まで復圧させた後、第１反応器内のオリゴマー化された反応液を第２反応器に移した。次いで、第２反応器内の昇温および減圧を開始して、５０分で内温２４０℃、圧力０．２ｋＰａにした。その後、所定の攪拌動力となるまで重合を進行させた。所定動力に到達した時点で反応器に窒素を導入して復圧し、反応液をストランドの形態で抜出し、回転式カッターでペレット化を行い、ＢＨＥＰＦ／ＩＳＢ／ＤＥＧ＝３４．８／４９．０／１６．２［ｍｏｌ％］の共重合組成のポリカーボネート樹脂を得た。このポリカーボネート樹脂の還元粘度は０．４３０ｄＬ／ｇ、ガラス転移温度は１２８℃であった。
（第１の光学補償層の作製）
得られたポリカーボネート樹脂を８０℃で５時間真空乾燥をした後、単軸押出機（いすず化工機社製、スクリュー径２５ｍｍ、シリンダー設定温度：２２０℃）、Ｔダイ（幅９００ｍｍ、設定温度：２２０℃）、チルロール（設定温度：１２５℃）および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み１３０μｍのポリカーボネート樹脂フィルムを作製した。得られたポリカーボネート樹脂フィルムの吸水率は１．２％であった。
得られたポリカーボネート樹脂を８０℃で５時間真空乾燥をした後、単軸押出機（いすず化工機社製、スクリュー径２５ｍｍ、シリンダー設定温度：２２０℃）、Ｔダイ（幅９００ｍｍ、設定温度：２２０℃）、チルロール（設定温度：１２５℃）および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み１３０μｍのポリカーボネート樹脂フィルムを作製した。得られたポリカーボネート樹脂フィルムの吸水率は１．２％であった。
上記のようにして得られたポリカーボネート樹脂フィルムを、特開２０１４−１９４４８３号公報の実施例１に準じた方法で斜め延伸し、位相差フィルムを得た。
位相差フィルムの具体的な作製手順は以下のとおりである：ポリカーボネート樹脂フィルム（厚み１３０μｍ、幅７６５ｍｍ）を延伸装置の予熱ゾーンで１４２℃に予熱した。予熱ゾーンにおいては、左右のクリップのクリップピッチは１２５ｍｍであった。次に、フィルムが第１の斜め延伸ゾーンＣ１に入ると同時に、右側クリップのクリップピッチの増大を開始し、第１の斜め延伸ゾーンＣ１において１２５ｍｍから１７７．５ｍｍまで増大させた。クリップピッチ変化率は１．４２であった。第１の斜め延伸ゾーンＣ１において、左側クリップのクリップピッチについてはクリップピッチの減少を開始し、第１の斜め延伸ゾーンＣ１において１２５ｍｍから９０ｍｍまで減少させた。クリップピッチ変化率は０．７２であった。さらに、フィルムが第２の斜め延伸ゾーンＣ２に入ると同時に、左側クリップのクリップピッチの増大を開始し、第２の斜め延伸ゾーンＣ２において９０ｍｍから１７７．５ｍｍまで増大させた。一方、右側クリップのクリップピッチは、第２の斜め延伸ゾーンＣ２において１７７．５ｍｍのまま維持した。また、上記斜め延伸と同時に、幅方向にも１．９倍の延伸を行った。なお、上記斜め延伸は１３５℃で行った。次いで、収縮ゾーンにおいて、ＭＤ収縮処理を行った。具体的には、左側クリップおよび右側クリップのクリップピッチをともに１７７．５ｍｍから１６５ｍｍまで減少させた。ＭＤ収縮処理における収縮率は７．０％であった。
以上のようにして、位相差フィルム（厚み４０μｍ）を得た。得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１４７ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１６７ｎｍであり（ｎｘ：１．５９７７、ｎｙ：１．５９４０４、ｎｚ：１．５９３５）、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。位相差フィルムの遅相軸方向は、長手方向に対して４５°であった。
（第２の光学補償層の作製）
下記化学式（Ｉ）（式中の数字６５および３５はモノマーユニットのモル％を示し、便宜的にブロックポリマー体で表している：重量平均分子量５０００）で示される側鎖型液晶ポリマー２０重量部、ネマチック液晶相を示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製：商品名ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２）８０重量部および光重合開始剤（チバスペシャリティーケミカルズ社製：商品名イルガキュア９０７）５重量部をシクロペンタノン２００重量部に溶解して液晶塗工液を調製した。そして、基材フィルム（ノルボルネン系樹脂フィルム：日本ゼオン（株）製、商品名「ゼオネックス」）に当該塗工液をバーコーターにより塗工した後、８０℃で４分間加熱乾燥することによって液晶を配向させた。この液晶層に紫外線を照射し、液晶層を硬化させることにより、基材上に第２の光学補償層となる液晶固化層（厚み：１．１０μｍ）を形成した。この層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−１３５ｎｍであり（ｎｘ：１．５７２３、ｎｙ：１．５７２３、ｎｚ：１．５７５７）、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示した。
下記化学式（Ｉ）（式中の数字６５および３５はモノマーユニットのモル％を示し、便宜的にブロックポリマー体で表している：重量平均分子量５０００）で示される側鎖型液晶ポリマー２０重量部、ネマチック液晶相を示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製：商品名ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２）８０重量部および光重合開始剤（チバスペシャリティーケミカルズ社製：商品名イルガキュア９０７）５重量部をシクロペンタノン２００重量部に溶解して液晶塗工液を調製した。そして、基材フィルム（ノルボルネン系樹脂フィルム：日本ゼオン（株）製、商品名「ゼオネックス」）に当該塗工液をバーコーターにより塗工した後、８０℃で４分間加熱乾燥することによって液晶を配向させた。この液晶層に紫外線を照射し、液晶層を硬化させることにより、基材上に第２の光学補償層となる液晶固化層（厚み：１．１０μｍ）を形成した。この層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−１３５ｎｍであり（ｎｘ：１．５７２３、ｎｙ：１．５７２３、ｎｚ：１．５７５７）、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示した。
（積層体の作製）
上記位相差フィルム（第１の光学補償層）に、アクリル系粘着剤を介してロールツーロールにより上記液晶固化層（第２の光学補償層）を貼り合わせた後、上記基材フィルムを除去して、位相差フィルムに液晶固化層が転写された積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１４７ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は３２ｎｍであった。
上記位相差フィルム（第１の光学補償層）に、アクリル系粘着剤を介してロールツーロールにより上記液晶固化層（第２の光学補償層）を貼り合わせた後、上記基材フィルムを除去して、位相差フィルムに液晶固化層が転写された積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１４７ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は３２ｎｍであった。
（偏光子の作製）
厚み３０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂フィルム（クラレ製、製品名「ＰＥ３０００」）の長尺ロールを、ロール延伸機により長尺方向に５．９倍になるように長尺方向に一軸延伸しながら同時に膨潤、染色、架橋、洗浄処理を施し、最後に乾燥処理を施すことにより厚み１２μｍの偏光子を作製した。
具体的には、膨潤処理は２０℃の純水で処理しながら２．２倍に延伸した。次いで、染色処理は得られる偏光子の単体透過率が４５．０％になるようにヨウ素濃度が調整されたヨウ素とヨウ化カリウムの重量比が１：７である３０℃の水溶液中において処理しながら１．４倍に延伸した。更に、架橋処理は、２段階の架橋処理を採用し、１段階目の架橋処理は４０℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．２倍に延伸した。１段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は５．０重量％で、ヨウ化カリウム含有量は３．０重量％とした。２段階目の架橋処理は６５℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．６倍に延伸した。２段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は４．３重量％で、ヨウ化カリウム含有量は５．０重量％とした。また、洗浄処理は、２０℃のヨウ化カリウム水溶液で処理した。洗浄処理の水溶液のヨウ化カリウム含有量は２．６重量％とした。最後に、乾燥処理は７０℃で５分間乾燥させて偏光子を得た。
厚み３０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂フィルム（クラレ製、製品名「ＰＥ３０００」）の長尺ロールを、ロール延伸機により長尺方向に５．９倍になるように長尺方向に一軸延伸しながら同時に膨潤、染色、架橋、洗浄処理を施し、最後に乾燥処理を施すことにより厚み１２μｍの偏光子を作製した。
具体的には、膨潤処理は２０℃の純水で処理しながら２．２倍に延伸した。次いで、染色処理は得られる偏光子の単体透過率が４５．０％になるようにヨウ素濃度が調整されたヨウ素とヨウ化カリウムの重量比が１：７である３０℃の水溶液中において処理しながら１．４倍に延伸した。更に、架橋処理は、２段階の架橋処理を採用し、１段階目の架橋処理は４０℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．２倍に延伸した。１段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は５．０重量％で、ヨウ化カリウム含有量は３．０重量％とした。２段階目の架橋処理は６５℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．６倍に延伸した。２段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は４．３重量％で、ヨウ化カリウム含有量は５．０重量％とした。また、洗浄処理は、２０℃のヨウ化カリウム水溶液で処理した。洗浄処理の水溶液のヨウ化カリウム含有量は２．６重量％とした。最後に、乾燥処理は７０℃で５分間乾燥させて偏光子を得た。
（光学異方性層の作製）
市販の長尺ロール状トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（厚み２５μｍ）をそのまま使用した。このフィルムのＲｅ（５５０）は０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１７ｎｍであった。また、このフィルムの引張強度は１２０Ｎ／ｍｍ２であり、算術平均粗さＲａは０．０５μｍであった。
市販の長尺ロール状トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（厚み２５μｍ）をそのまま使用した。このフィルムのＲｅ（５５０）は０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１７ｎｍであった。また、このフィルムの引張強度は１２０Ｎ／ｍｍ２であり、算術平均粗さＲａは０．０５μｍであった。
（偏光板の作製）
上記偏光子の両面に、ポリビニルアルコール系接着剤を介して、上記光学異方性層およびＴＡＣフィルムの片面にハードコート処理により形成されたハードコート（ＨＣ）層を有するＨＣ−ＴＡＣフィルム（厚み：３２μｍ、保護層に対応する）をそれぞれロールツーロールにより貼り合わせ、保護層／偏光子／光学異方性層の構成を有する長尺状の偏光板を得た。
上記偏光子の両面に、ポリビニルアルコール系接着剤を介して、上記光学異方性層およびＴＡＣフィルムの片面にハードコート処理により形成されたハードコート（ＨＣ）層を有するＨＣ−ＴＡＣフィルム（厚み：３２μｍ、保護層に対応する）をそれぞれロールツーロールにより貼り合わせ、保護層／偏光子／光学異方性層の構成を有する長尺状の偏光板を得た。
（光学補償層付偏光板の作製）
上記で得られた偏光板の光学異方性層面と上記で得られた第１の光学補償層／第２の光学補償層の積層体の第１の光学補償層面とを、アクリル系粘着剤を介してロールツーロールにより貼り合わせ、保護層／偏光子／光学異方性層／第１の光学補償層／第２の光学補償層の構成を有する長尺状の光学補償層付偏光板を得た。得られた光学補償層付偏光板の機械的特性（引張強度）を上記（７）の手順で測定したところ、実用上良好な特性を示した。
上記で得られた偏光板の光学異方性層面と上記で得られた第１の光学補償層／第２の光学補償層の積層体の第１の光学補償層面とを、アクリル系粘着剤を介してロールツーロールにより貼り合わせ、保護層／偏光子／光学異方性層／第１の光学補償層／第２の光学補償層の構成を有する長尺状の光学補償層付偏光板を得た。得られた光学補償層付偏光板の機械的特性（引張強度）を上記（７）の手順で測定したところ、実用上良好な特性を示した。
（有機ＥＬパネルの作製）
得られた光学補償層付偏光板の第２の光学補償層側にアクリル系粘着剤で粘着剤層を形成し、寸法５０ｍｍ×５０ｍｍに切り出した。
三星無線社製のスマートフォン（Ｇａｌａｘｙ−Ｓ５）を分解して有機ＥＬパネルを取り出した。この有機ＥＬパネルに貼り付けられている偏光フィルムを剥がし取り、かわりに、上記で切り出した光学補償層付偏光板を貼り合わせて有機ＥＬパネルを得た。
得られた有機ＥＬパネルの反射特性を上記（６）の手順で測定した。その結果、正面方向および斜め方向のいずれにおいてもニュートラルな反射色相が実現されていることを確認した。また、視野角特性の結果を表１に示す。
得られた光学補償層付偏光板の第２の光学補償層側にアクリル系粘着剤で粘着剤層を形成し、寸法５０ｍｍ×５０ｍｍに切り出した。
三星無線社製のスマートフォン（Ｇａｌａｘｙ−Ｓ５）を分解して有機ＥＬパネルを取り出した。この有機ＥＬパネルに貼り付けられている偏光フィルムを剥がし取り、かわりに、上記で切り出した光学補償層付偏光板を貼り合わせて有機ＥＬパネルを得た。
得られた有機ＥＬパネルの反射特性を上記（６）の手順で測定した。その結果、正面方向および斜め方向のいずれにおいてもニュートラルな反射色相が実現されていることを確認した。また、視野角特性の結果を表１に示す。
［実施例２〜１１および比較例１〜６］
表１に示す構成で光学補償層付偏光板および有機ＥＬパネルを作製した。得られた光学補償層付偏光板および有機ＥＬパネルを実施例１と同様の評価に供した。表１に示すように、実施例２〜１１の有機ＥＬパネルの視野角特性は良好である一方で、比較例１〜４および６の有機ＥＬパネルの視野角特性は不十分であった。なお、実施例２〜１１ならびに比較例１〜４および６の光学補償層付偏光板はいずれも、機械的特性（引張強度）が実用上良好な特性を示した。比較例５の有機ＥＬパネルの視野角特性は良好であったが、比較例５の光学補償層付偏光板の機械的特性（引張強度）は実用上不十分であった。
表１に示す構成で光学補償層付偏光板および有機ＥＬパネルを作製した。得られた光学補償層付偏光板および有機ＥＬパネルを実施例１と同様の評価に供した。表１に示すように、実施例２〜１１の有機ＥＬパネルの視野角特性は良好である一方で、比較例１〜４および６の有機ＥＬパネルの視野角特性は不十分であった。なお、実施例２〜１１ならびに比較例１〜４および６の光学補償層付偏光板はいずれも、機械的特性（引張強度）が実用上良好な特性を示した。比較例５の有機ＥＬパネルの視野角特性は良好であったが、比較例５の光学補償層付偏光板の機械的特性（引張強度）は実用上不十分であった。
本発明の光学補償層付偏光板は、有機ＥＬパネルに好適に用いられる。
１０ 偏光子
２０ 光学異方性層
３０ 第１の光学補償層
４０ 第２の光学補償層
１００ 光学補償層付偏光板
２０ 光学異方性層
３０ 第１の光学補償層
４０ 第２の光学補償層
１００ 光学補償層付偏光板
Claims (7)
- 偏光子と光学異方性層と第１の光学補償層と第２の光学補償層とをこの順に備え、
該光学異方性層が、ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示し、Ｒｅ（５５０）が０ｎｍ〜２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が１０ｎｍより大きく１００ｎｍ以下であり、
該第１の光学補償層が、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの屈折率特性を示し、Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）の関係を満たし、
該第２の光学補償層が、ｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙの屈折率特性を示し、
該第１の光学補償層と該第２の光学補償層との積層体のＲｅ（５５０）が１２０ｎｍ〜１６０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が−５０ｎｍ〜３７ｎｍであり、
該第１の光学補償層のＲｅ（５５０）が８０ｎｍ〜２００ｎｍであり、
有機ＥＬパネルに用いられる、
光学補償層付偏光板：
ここで、Ｒｅ（４５０）およびＲｅ（５５０）は、それぞれ、２３℃における波長４５０ｎｍおよび５５０ｎｍの光で測定した面内位相差を表し、Ｒｔｈ（５５０）は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差を表し、層の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ（５５０）＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。 - 偏光子と光学異方性層と第１の光学補償層と第２の光学補償層とをこの順に備え、
該光学異方性層が、ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示し、Ｒｅ（５５０）が０ｎｍ〜２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が１０ｎｍより大きく１００ｎｍ以下であり、
該第１の光学補償層が、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの屈折率特性を示し、Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）の関係を満たし、
該第２の光学補償層が、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示し、
該第１の光学補償層と該第２の光学補償層との積層体のＲｅ（５５０）が１２０ｎｍ〜１６０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が−５０ｎｍ〜３７ｎｍであり、
有機ＥＬパネルに用いられる、
光学補償層付偏光板：
ここで、Ｒｅ（４５０）およびＲｅ（５５０）は、それぞれ、２３℃における波長４５０ｎｍおよび５５０ｎｍの光で測定した面内位相差を表し、Ｒｔｈ（５５０）は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差を表し、層の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ（５５０）＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。 - 前記光学異方性層の引張強度が１００Ｎ／ｍｍ２〜３００Ｎ／ｍｍ２である、請求項１または２に記載の光学補償層付偏光板。
- 前記偏光子の吸収軸と前記第１の光学補償層の遅相軸とのなす角度が３５°〜５５°である、請求項１から３のいずれかに記載の光学補償層付偏光板。
- 前記第１の光学補償層が斜め延伸して得られた位相差フィルムである、請求項１から４のいずれかに記載の光学補償層付偏光板。
- 前記第２の光学補償層の前記第１の光学補償層と反対側に導電層および基材をこの順にさらに備える、請求項１から５のいずれかに記載の光学補償層付偏光板。
- 請求項１から６のいずれかに記載の光学補償層付偏光板を備える、有機ＥＬパネル。
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