TW202223456A - 附光學補償層之偏光板及使用其之有機el面板 - Google Patents

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林大輔
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Abstract

本發明提供一種附光學補償層之偏光板，其維持正面方向之優異之抗反射特性，且斜方向之抗反射特性亦優異，並且斜方向之色相為中性。 本發明之附光學補償層之偏光板用於有機EL面板。該附光學補償層之偏光板依次具備偏光元件、第一光學補償層及第二光學補償層。第一光學補償層顯示出nx≧nz＞ny之折射率特性，Re(550)為90 nm～180 nm。第二光學補償層顯示出nx＞ny＝nz之折射率特性，Re(550)為100 nm～180 nm。第一光學補償層之Re(450)及Re(550)實質上相等，第二光學補償層滿足Re(450)＞Re(550)。

Description

附光學補償層之偏光板及使用其之有機EL面板
本發明係關於一種附光學補償層之偏光板及使用其之有機EL面板。
近年來，隨著薄型顯示器之普及，提出有搭載了有機EL面板之顯示器(有機EL顯示裝置)。有機EL面板具有反射性較高之金屬層，因此容易產生外界光反射或背景映入等問題。因此，已知藉由將圓偏光板設置於視認側來防止該等問題。作為通常之圓偏光板，已知有將相位差膜(代表性地為λ/4板)以其遲相軸相對於偏光元件之吸收軸形成約45°之角度之方式積層而成者。此外，為了進一步改善抗反射特性，嘗試了將具有各種光學特性之相位差膜(光學補償層)積層。然而，先前之圓偏光板均存在斜方向之反射率較大(即，斜方向之抗反射特性不足)之問題。進而，先前之圓偏光板亦均存在斜方向之色相中有預期外之著色之問題。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第3325560號公報
[發明所欲解決之問題]
本發明係為了解決上述先前問題而完成者，其主要目的在於提供一種附光學補償層之偏光板，其維持正面方向之優異之抗反射特性，且斜方向之抗反射特性亦優異，並且能夠實現斜方向之色相為中性之有機EL面板。 [解決問題之技術手段]
本發明之附光學補償層之偏光板可用於有機EL面板。該附光學補償層之偏光板依次具備偏光元件、第一光學補償層及第二光學補償層。該第一光學補償層顯示出nx≧nz＞ny之折射率特性，Re(550)為90 nm～180 nm，Nz係數為0～0.8，該偏光元件之吸收軸方向與該第一光學補償層之遲相軸方向所成之角度實質上平行，該第一光學補償層之Re(450)及Re(550)實質上相等。該第二光學補償層顯示出nx＞ny＝nz之折射率特性，Re(550)為100 nm～180 nm，該偏光元件之吸收軸方向與該第二光學補償層之遲相軸方向所成之角度為35°～55°，該第二光學補償層滿足Re(550)＞Re(450)。此處，Re(450)及Re(550)分別表示以23℃下之波長為450 nm及550 nm之光測得之面內相位差。 一實施方式中，上述第一光學補償層顯示出nx＞nz＞ny之折射率特性，Re(550)為90 nm～170 nm，Nz係數為0.1～0.5，該偏光元件之吸收軸方向與該第一光學補償層之遲相軸方向所成之角度為5°～25°，該第一光學補償層之Re(450)及Re(550)實質上相等。該第二光學補償層顯示出nx＞ny＝nz之折射率特性，Re(550)為60 nm～140 nm，該第一光學補償層之遲相軸方向與該第二光學補償層之遲相軸方向所成之角度為50°～70°，該第二光學補償層滿足Re(550)＞Re(450)。此處，Re(450)及Re(550)分別表示以23℃下之波長為450 nm及550 nm之光測得之面內相位差。 根據本發明之另一態樣，提供有機EL面板。該有機EL面板具備上述之附光學補償層之偏光板。 [發明之效果]
根據本發明，於附光學補償層之偏光板中，自偏光元件側起依次配置有第一光學補償層及第二光學補償層，該第一光學補償層顯示出nx＞nz＞ny或nx＝nz＞ny之折射率特性，具有特定之面內相位差，並且顯示平坦之色散特性，該第二光學補償層顯示出nx＞ny＝nz之折射率特性，具有特定之面內相位差，並且滿足Re(550)＞Re(450)，藉此能夠獲得維持正面方向之優異之抗反射特性，且斜方向之抗反射特性亦優異，並且斜方向之色相為中性之附光學補償層之偏光板。
以下，對本發明之較佳實施方式進行說明，但本發明不限於該等實施方式。
(術語及符號之定義) 本說明書中之術語及符號之定義如下所述。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」係面內之折射率最大之方向(即遲相軸方向)之折射率，「ny」係面內與遲相軸正交之方向(即進相軸方向)之折射率，「nz」係厚度方向之折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」係以23℃下之波長為λ nm之光測得之面內相位差。Re(λ)係在將層(膜)之厚度設定為d( nm)時由式：Re＝(nx－ny)×d來求出。例如，「Re(550)」係以23℃下之波長為550 nm之光測得之面內相位差。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」係以23℃下之波長為λ nm之光測得之厚度方向之相位差。Rth(λ)係在將層(膜)之厚度設定為d(nm)時由式：Rth＝(nx－nz)×d來求出。例如，「Rth(550)」係以23℃下之波長為550 nm之光測得之厚度方向之相位差。 (4)Nz係數 Nz係數由Nz＝Rth/Re求出。 (5)實質上正交或平行 「實質上正交」及「大致正交」之表述包括兩個方向所成之角度為90°±10°之情況，較佳為90°±7°，進而較佳為90°±5°。「實質上平行」及「大致平行」之表述包括兩個方向所成之角度為0°±10°之情況，較佳為0°±7°，進而較佳為0°±5°。進而，於本說明書中，僅記為「正交」或「平行」時，可包括實質上正交或實質上平行之狀態。
A.附光學補償層之偏光板之整體構成 圖1係本發明之一實施方式之附光學補償層之偏光板之概略剖視圖。本實施方式之附光學補償層之偏光板100依次具備偏光元件10、第一光學補償層30及第二光學補償層40。就實用而言，可如圖示例般於偏光元件10之與第一光學補償層30相反側設置保護層20。又，附光學補償層之偏光板可於偏光元件10與第一光學補償層30之間具備另一保護層(亦稱為內側保護層)。圖示例中，省略內側保護層。於該情形時，第一光學補償層30亦能夠作為內側保護層發揮功能。進而，根據需要可於第二光學補償層40之與第一光學補償層30相反側(即，第二光學補償層40之外側)依次設置導電層及基材(均未圖示)。基材與導電層密接積層。本說明書中，「密接積層」係指兩層不隔著接著層(例如接著劑層、黏著劑層)而直接並且固著地積層。導電層及基材代表性地可以基材與導電層之積層體之形式導入附光學補償層之偏光板100。藉由進而設置導電層及基材，附光學補償層之偏光板100可適用於內部觸控面板型輸入顯示裝置。進而/或者，根據需要可對附光學補償層之偏光板(實質上為保護層20)實施改善隔著偏光太陽鏡進行視認時之視認性之處理(代表性地為賦予(橢)圓偏光功能、賦予超高相位差)。藉由實施此種處理，即便於隔著偏光太陽鏡等偏光透鏡視認顯示畫面時，亦能夠實現優異之視認性。因此，附光學補償層之偏光板亦可適用於在室外能夠使用之圖像顯示裝置。
一實施方式中，第一光學補償層30之折射率特性顯示出nx≧nz＞ny之關係，並且具有遲相軸。第一光學補償層30之面內相位差Re(550)為90 nm～180 nm。於該情形時，第一光學補償層之Nz係數為0～0.8，第一光學補償層30之遲相軸與偏光元件10之吸收軸所成之角度實質上平行，第一光學補償層之Re(450)及Re(550)實質上相等。即，具有相位差值幾乎不會隨著測定光之波長之變化而變化之平坦之色散特性。進而，第二光學補償層40之折射率特性顯示出nx＞ny＝nz之關係，並且具有遲相軸。第二光學補償層40之面內相位差Re(550)為100 nm～180 nm。於該情形時，第二光學補償層30之遲相軸與偏光元件10之吸收軸所成之角度為35°～55°，較佳為38°～52°，更佳為42°～48°，進而較佳為約45°。進而，第二光學補償層滿足Re(550)＞Re(450)。即，具有相位差值隨著測定光之波長之變大而變大之逆色散特性。另一實施方式中，第一光學補償層30之折射率特性顯示出nx＞nz＞ny之關係，並且具有遲相軸。第一光學補償層30之面內相位差Re(550)較佳為90 nm～170 nm。於該情形時，第一光學補償層之Nz係數較佳為0.1～0.5，第一光學補償層30之遲相軸與偏光元件10之吸收軸所成之角度較佳為5°～25°，更佳為8°～22°，進而較佳為10°～20°，尤佳為約13°。進而，第二光學補償層40之折射率特性顯示出nx＞ny＝nz之關係，並且具有遲相軸。第二光學補償層40之面內相位差Re(550)為60 nm～140 nm。於該情形時，第二光學補償層30之遲相軸與偏光元件10之吸收軸所成之角度較佳為50°～70°，更佳為53°～67°，進而較佳為55°～65°，尤佳為約58°。自偏光元件側起依次配置第一光學補償層及第二光學補償層，該第一光學補償層顯示上述之折射率特性，具有特定之面內相位差，並且顯示平坦之色散特性，該第二光學補償層顯示上述之折射率特性，具有特定之面內相位差，並且顯示逆色散特性，藉此能夠維持由優異之圓偏光功能帶來之正面方向之優異之抗反射特性，並且能夠防止自斜方向觀察時由偏光元件之吸收軸之表觀上之軸偏移導致的漏光等。其結果為，於將附光學補償層之偏光板應用於有機EL面板之情形時，能夠於斜方向上實現優異之抗反射特性，進而能夠於斜方向上實現中性(即無預期外之著色)之色相。
以下，對構成附光學補償層之偏光板之各層及光學膜進行詳細說明。
A-1.偏光元件 作為偏光元件10，可採用任意適當之偏光元件。例如，形成偏光元件之樹脂膜可為單層之樹脂膜，亦可為兩層以上之積層體。
作為由單層之樹脂膜構成之偏光元件之具體例，可例舉：對聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜實施利用碘或二色性染料等二色性物質之染色處理及延伸處理而獲得之偏光元件、PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系配向膜等。自光學特性優異之方面考慮，較佳為使用對PVA系膜利用碘進行染色並進行單軸延伸而獲得之偏光元件。
上述利用碘而進行之染色例如藉由將PVA系膜浸漬於碘水溶液中來進行。上述單軸延伸之延伸倍率較佳為3～7倍。延伸可在染色處理後進行，亦可一面染色一面進行。又，亦可在延伸後進行染色。根據需要對PVA系膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如，藉由在染色之前使PVA系膜浸漬於水中來進行水洗，不僅能夠將PVA系膜表面之污漬或抗黏連劑洗淨，而且能夠使PVA系膜膨潤而防止染色不均等。
作為使用積層體而獲得之偏光元件之具體例，可例舉：使用樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)之積層體或者樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而獲得之偏光元件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而獲得之偏光元件例如可藉由如下方式來製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材並使之乾燥而在樹脂基材上形成PVA系樹脂層，藉此獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；對該積層體進行延伸及染色而將PVA系樹脂層製成偏光元件。於本實施方式中，延伸代表性地包含使積層體浸漬於硼酸水溶液中來進行延伸。進而，延伸根據需要可進而包含於硼酸水溶液中之延伸之前將積層體於高溫(例如95℃以上)下進行空中延伸。所獲得之樹脂基材/偏光元件之積層體可直接使用(即，可將樹脂基材作為偏光元件之保護層)，亦可將樹脂基材自樹脂基材/偏光元件之積層體剝離並於該剝離面積層與目的相對應之任意適當之保護層來使用。此種偏光元件之製造方法之詳細內容例如記載於日本專利特開2012-73580號(日本專利第5414738號)中。該公報之整體之記載內容作為參考援引於本說明書中。
偏光元件之厚度較佳為25 μm以下，更佳為1 μm～12 μm，進而較佳為3 μm～12 μm，尤佳為3 μm～8 μm。若偏光元件之厚度為此種範圍，則能夠良好地抑制加熱時之捲曲，並且獲得良好之加熱時之外觀耐久性。
偏光元件較佳為於波長為380 nm～780 nm之任意波長下顯示吸收二色性。偏光元件之單體透過率較佳為42.0%～46.0%，更佳為44.5%～46.0%。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上，更佳為99.0%以上，進而較佳為99.9%以上。
A-2.第一光學補償層 第一光學補償層30之折射率特性顯示出nx＞nz＞ny或nx＝nz＞ny之關係，並且具有遲相軸。進而，第一光學補償層30顯示相位差值幾乎不會隨著測定光之波長之變化而變化之平坦之波長色散特性。具體而言，第一光學補償層之Re(450)/Re(550)較佳為0.99～1.03。
一實施方式中，第一光學補償層30之折射率特性顯示出nx≧nz＞ny之關係，面內相位差Re(550)為90 nm～180 nm。若第一光學補償層之面內相位差為此種範圍，則藉由使第一光學補償層之遲相軸方向相對於偏光元件之吸收軸方向實質上平行，能夠防止由偏光元件之吸收軸之表觀上之軸偏移導致的斜方向之抗反射功能之降低。進而，於該情形時，一實施方式中，第一光學補償層之Nz係數為0～0.8。若Nz係數為此種範圍，則藉由將第一光學補償層之遲相軸與偏光元件之吸收軸之角度調整為特定之角度，能夠達成更優異之斜方向之抗反射特性。
另一實施方式中，上述第一光學補償層30之折射率特性顯示出nx＞nz＞ny之關係，面內相位差Re(550)較佳為90 nm～170 nm，更佳為100 nm～160 nm，進而較佳為120 nm～140 nm。若第一光學補償層之面內相位差為此種範圍，則藉由如上所述地以相對於偏光元件之吸收軸方向成為5°～25°(尤其是約13°)之角度之方式設定第一光學補償層之遲相軸方向，能夠防止由偏光元件之吸收軸之表觀上之軸偏移導致的斜方向之抗反射功能之降低。進而，於該情形時，第一光學補償層之Nz係數較佳為0.1～0.5，更佳為0.15～0.45，進而較佳為0.2～0.4。若Nz係數為此種範圍，則藉由將第一光學補償層之遲相軸與偏光元件之吸收軸之角度調整為特定之角度，能夠達成更優異之斜方向之抗反射特性。
第一光學補償層代表性地由樹脂膜形成，該樹脂膜由能夠實現上述特性之任意適當之樹脂形成。作為形成該樹脂膜之樹脂，例如可例舉：聚碳酸酯系樹脂、環狀烯烴系樹脂、纖維素系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚酯碳酸酯樹脂。該等之中，可適當地使用環狀烯烴系樹脂或聚碳酸酯系樹脂。
環狀烯烴系樹脂係以環狀烯烴作為聚合單元進行聚合之樹脂之總稱，例如可例舉於日本專利特開平1-240517號公報、日本專利特開平3-14882號公報、日本專利特開平3-122137號公報中記載之樹脂。作為具體例，可例舉：環狀烯烴之開環(共聚物)聚合物、環狀烯烴之加成聚合物、環狀烯烴與乙烯、丙烯等α-烯烴之共聚物(代表性地為無規共聚物)及利用不飽和羧酸及其衍生物對該等進行改性而成之接枝改性物以及該等之氫化物。作為環狀烯烴之具體例，可例舉降𦯉烯系單體。作為降𦯉烯系單體，可例舉日本專利特開2015-210459號公報等中記載之單體。上述環狀烯烴系樹脂在市售有各種製品。作為具體例，可例舉：日本ZEON公司製造之商品名「ZEONEX」、「ZEONOR」、JSR公司製造之商品名「Arton」、TICONA公司製造之商品名「TOPAS」、三井化學公司製造之商品名「APEL」。
作為聚碳酸酯系樹脂，只要能獲得本發明之效果，就可使用任意適當之聚碳酸酯樹脂。較佳為聚碳酸酯樹脂包含來自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元及來自選自由脂環式二醇、脂環式二甲醇、二乙二醇、三乙二醇或聚乙二醇以及伸烷基二醇或螺二醇所組成之群中之至少一種二羥基化合物之結構單元。更佳為聚碳酸酯樹脂包含來自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元、來自脂環式二甲醇之結構單元以及/或者來自二乙二醇、三乙二醇或聚乙二醇之結構單元。聚碳酸酯樹脂根據需要可包含來自其他二羥基化合物之結構單元。再者，本發明中可適當使用之聚碳酸酯樹脂及相位差膜之製造方法之詳細情況例如記載於國際公開公報第2011/062239號，該記載作為參考援用於本說明書中。
第一光學補償層例如可藉由如下方式來形成：將使上述樹脂溶解或分散於任意適當之溶劑而成之塗佈液塗佈於收縮性膜而形成塗膜，並使該塗膜收縮。代表性地，塗膜之收縮係將收縮性膜與塗膜之積層體進行加熱而使收縮性膜收縮，藉由此種收縮性膜之收縮而使塗膜收縮。塗膜之收縮率較佳為0.50～0.99，更佳為0.60～0.98，進而較佳為0.70～0.95。加熱溫度較佳為130℃～170℃，更佳為150℃～160℃。一實施方式中，使塗膜收縮時，可將積層體沿著與該收縮方向正交之方向延伸。於該情形時，積層體之延伸倍率較佳為1.01倍～3.0倍，更佳為1.05倍～2.0倍，進而較佳為1.10倍～1.50倍。作為構成收縮性膜之材料之具體例，可例舉：聚烯烴、聚酯、丙烯酸樹脂、聚醯胺、聚碳酸酯、降𦯉烯樹脂、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、纖維素樹脂、聚醚碸、聚碸、聚醯亞胺、聚丙烯酸、乙酸酯樹脂、聚芳酯、聚乙烯醇、液晶聚合物。該等可單獨使用，亦可組合使用。收縮性膜較佳為由該等材料形成之延伸膜。
第一光學補償層之厚度較佳為10 μm～150 μm，更佳為10 μm～100 μm，進而較佳為10 μm～30 μm。若為此種厚度，則能夠獲得上述期望之面內相位差及Nz係數。
A-3.第二光學補償層 第二光學補償層40之折射率特性顯示出nx＞ny＝nz之關係，並且具有遲相軸。進而，第二光學補償層顯示相位差值隨著測定光之波長變大而變大之逆色散波長特性。即，滿足Re(550)＞Re(450)。藉由滿足此種關係，能夠實現優異之反射色相。
第二光學補償層40之面內相位差Re(550)為100 nm～180 nm，較佳為110 nm～170 nm，更佳為130 nm～150 nm。若第二光學補償層之面內相位差為此種範圍，則藉由如上所述地以相對於偏光元件之吸收軸方向成為35°～55°(尤其是約45°)之角度之方式設定第二光學補償層之遲相軸方向，能夠實現優異之抗反射特性。
另一實施方式中，如上所述，第二光學補償層40之折射率特性顯示出nx＞ny＝nz之關係。第二光學補償層之面內相位差Re(550)較佳為90 nm～170 nm，更佳為90 nm～120 nm，進而較佳為90 nm～100 nm。若第二光學補償層之面內相位差為此種範圍，則藉由如上所述地以相對於偏光元件之吸收軸方向較佳為成為50°～70°(尤佳為約58°)之角度之方式設定第二光學補償層之遲相軸方向，能夠實現優異之抗反射特性。
第二光學補償層代表性地為由能夠實現上述特性之任意適當之樹脂形成之相位差膜。作為形成該相位差膜之樹脂，可較佳地使用聚碳酸酯樹脂。
作為上述聚碳酸酯樹脂，只要能夠獲得本發明之效果，則可使用任意適當之聚碳酸酯樹脂。較佳為聚碳酸酯樹脂包含來自茀系二羥基化合物之結構單元、來自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元及來自選自由脂環式二醇、脂環式二甲醇、二乙二醇、三乙二醇或聚乙二醇以及伸烷基二醇或螺二醇所組成之群中之至少一種二羥基化合物之結構單元。較佳為聚碳酸酯樹脂包含來自茀系二羥基化合物之結構單元、來自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元、來自脂環式二甲醇之結構單元以及/或者來自二乙二醇、三乙二醇或聚乙二醇之結構單元；進而較佳為包含來自茀系二羥基化合物之結構單元、來自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元及來自二乙二醇、三乙二醇或聚乙二醇之結構單元。聚碳酸酯樹脂根據需要可包含來自其他二羥基化合物之結構單元。此外，本發明中可適當使用之聚碳酸酯樹脂之詳細情況例如記載於日本專利特開2014-10291號公報、日本專利特開2014-26266號公報(日本專利第5528606號)，該記載作為參考援引於本說明書中。
相位差膜(即第二光學補償層)代表性地藉由將樹脂膜沿著至少一個方向延伸來製作。
作為上述樹脂膜之形成方法，可採用任意適當之方法。例如，可例舉：熔融擠出法(例如T模成形法)、澆鑄塗敷法(例如流延法)、壓延成型法、熱壓製法、共擠出法、共熔融法、多層擠出、吹塑成型法等。較佳為使用T模成形法、流延法及吹塑成型法。
樹脂膜(未延伸膜)之厚度根據期望之光學特性、後述之延伸條件等設定為任意適當之值。較佳為50 μm～300 μm。
上述延伸可採用任意適當之延伸方法、延伸條件(例如延伸溫度、延伸倍率、延伸方向)。具體而言，可單獨使用自由端延伸、固定端延伸、自由端收縮、固定端收縮等各種延伸方法，亦可同時或逐步使用上述方法。關於延伸方向亦可於水平方向、垂直方向、厚度方向、對角方向等各種方向或維度上進行。延伸之溫度相對於樹脂膜之玻璃轉移溫度(Tg)較佳為Tg－30℃～Tg＋60℃，更佳為Tg－10℃～Tg＋50℃。
藉由適當選擇上述延伸方法、延伸條件，能夠獲得具有上述期望之光學特性(例如折射率特性、面內相位差、Nz係數)之相位差膜(即第二光學補償層)。
相位差膜(延伸膜、即第二光學補償層)之厚度較佳為20 μm～100 μm，更佳為20 μm～80 μm，進而較佳為20 μm～65 μm。若為此種厚度，則能夠獲得上述期望之面內相位差及厚度方向相位差。
藉由將上述A-2.中記載之第一光學補償層與該A-3.中記載之第二光學補償層組合，能夠獲得以下之附光學補償層之偏光板，其維持正面方向之優異之抗反射特性，且斜方向之抗反射特性亦優異，進而能夠實現斜方向之色相為中性之有機EL面板。
A-4.保護層 保護層20由可用作偏光元件之保護層之任意適當之膜形成。作為成為該膜之主成分之材料之具體例，可例舉：三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降𦯉烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂等。又，亦可例舉：(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、矽酮系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。此外，例如亦可例舉矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又，亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中所記載之聚合物膜。作為該膜之材料，例如可使用含有於側鏈具有經取代或未經取代之醯亞胺基之熱塑性樹脂及於側鏈具有經取代或未經取代之苯基及腈基之熱塑性樹脂之樹脂組合物，例如可例舉具有包含異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺之交替共聚物及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組合物。該聚合物膜例如可為上述樹脂組合物之擠出成型物。
根據需要可對保護層20實施硬塗處理、抗反射處理、防黏處理、防眩處理等表面處理。
保護層20之厚度代表性地為5 mm以下，較佳為1 mm以下，更佳為1 μm～500 μm，進而較佳為5 μm～150 μm。再者，於實施了表面處理之情形時，保護層之厚度為包括表面處理層之厚度在內之厚度。
於偏光元件10與第一光學補償層30之間設置有內側保護層之情形時，該內側保護層較佳為在光學上為各向同性。本說明書中，「在光學上為各向同性」係指面內相位差Re(550)為0 nm～10 nm，且厚度方向之相位差Rth(550)為-10 nm～+10 nm。內側保護層只要在光學上為各向同性，則可由任意適當之材料構成。該材料例如可自以上對保護層20描述之材料中適當選擇。
內側保護層之厚度較佳為5 μm～200 μm，更佳為10 μm～100 μm，進而較佳為15 μm～95 μm。
A-5.其他 構成附光學補償層之偏光板之各層隔著任意適當之黏著劑層或接著劑層貼合。
雖未圖示，但亦可於附光學補償層之偏光板100之第二光學補償層40側設置黏著劑層。藉由預先設置黏著劑層，能夠容易地與其他光學構件(例如有機EL面板)貼合。此外，較佳為於該黏著劑層之表面貼合剝離膜直至供於使用。藉由暫時黏貼剝離膜，能夠保護黏著劑層並形成卷。
B.有機EL面板 本發明之有機EL面板具備有機EL單元及設置於該有機EL單元之視認側之上述A項中記載之附光學補償層之偏光板。附光學補償層之偏光板以第二光學補償層成為有機EL單元側之方式(偏光元件成為視認側之方式)積層。 [實施例]
以下，藉由實施例對本發明進行具體說明，但本發明不限於該等實施例。再者，各特性之測定方法如下所述。
(1)厚度 使用針盤量規(PEACOCK公司製造，製品名為「DG-205」、針盤量規架(製品名為「pds-2」))來進行測定。 (2)相位差 自構成實施例及比較例之附光學補償層之偏光板各自之光學補償層之相位差膜切出50 mm×50 mm之樣品作為測定樣品，使用Axometrics公司製造之Axoscan進行測定。測定波長為450 nm、550 nm，測定溫度為23℃。 另又，使用Atago公司製造之阿貝折射計測定平均折射率，並由所獲得之相位差值算出折射率nx、ny、nz。 (3)正面反射亮度 隔著黏著劑層以使光學補償層成為有機EL側之方式將由實施例及比較例獲得之附光學補償層之偏光板與有機EL顯示裝置(LG顯示器性，製品名為「55C7P」)之有機EL面板之視認側貼合，獲得有機EL顯示裝置。 使有機EL顯示黑圖像，使用柯尼卡美能達公司製造之分光測色計(製品名為「CM-2600D」)測得了正面反射亮度。 (4)斜方向之反射特性 使用由實施例及比較例獲得之附光學補償層之偏光板之特性進行模擬。對斜方向(極角60°)進行評價。模擬中使用Shintech公司製造之「LCD MASTER Ver.6.084」。使用LCD Master之擴展功能進行反射特性之模擬。
[實施例1] (i)第一光學補償層之製作 作為樹脂膜，使用市售之環狀烯烴系樹脂膜(JSR公司製造，製品名為「Arton(R5000)」)。厚度為130 μm，Tg為137℃。隔著丙烯酸系黏著劑層(厚度為15 μm)將厚度為60 μm之收縮性膜(東麗公司製造，商品名「TORAYFAN BO2873」)貼合於該膜之兩側，並供於自由端單軸延伸，獲得構成第一光學補償層之相位差膜。將延伸溫度設定為165℃，將延伸倍率設定為1.14倍。所獲得之第一光學補償層之Re(550)為101 nm，Nz係數為0。Re(450)/Re(550)為1.00。
(ii)第二光學補償層之製作 (ii-1)聚碳酸酯樹脂膜之製作 使用包含兩台具備攪拌翼及被控制成100℃之回流冷卻器之立式反應器之分批聚合裝置進行聚合。將9,9-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]茀(BHEPF)、異山梨醇(ISB)、二乙二醇(DEG)、碳酸二苯酯(DPC)及乙酸鎂四水合物以莫耳比率計成為BHEPF/ISB/DEG/DPC/乙酸鎂＝0.348/0.490/0.162/1.005/1.00×10 -5之方式投入。對反應器內充分地進行了氮氣置換(氧濃度為0.0005～0.001體積%)，然後藉由熱媒進行加熱，在內溫成為100℃之時刻開始攪拌。開始升溫40分鐘後使內溫達到220℃，以保持該溫度之方式進行控制，同時開始減壓，在達到220℃後以90分鐘設定成13.3 kPa。將隨著聚合反應而副產之苯酚蒸氣導入至100℃之回流冷卻器，使苯酚蒸氣中小量包含之單體成分返回至反應器，將未冷凝之苯酚蒸氣導入至45℃之冷凝器而進行回收。
向第一反應器導入氮氣而使之暫時恢復至大氣壓，然後將第一反應器內之經低聚物化之反應液轉移至第二反應器。繼而，開始第二反應器內之升溫及減壓，並以50分鐘設定成內溫為240℃、壓力為0.2 kPa。然後，進行聚合直至成為特定之攪拌動力為止。在達到特定動力之時刻向反應器導入氮氣而恢復壓力，以線料之形態抽出反應液，以旋轉式切割器進行粒料化，獲得BHEPF/ISB/DEG＝34.8/49.0/16.2[莫耳%]之共聚組成之聚碳酸酯樹脂。該聚碳酸酯樹脂之比濃黏度為0.430 dL/g、玻璃轉移溫度為128℃。
(ii-2)第二光學補償層之製作 對所獲得之聚碳酸酯樹脂於80℃下進行5小時真空乾燥，然後使用具備單軸擠出機(五十鈴化工機公司製造，螺桿直徑為25 mm，缸體設定溫度：220℃)、T型模頭(寬度為900 mm，設定溫度：220℃)、冷卻輥(設定溫度：125℃)及捲取機之膜製膜裝置，製作厚度為130 μm之聚碳酸酯樹脂膜。所獲得之聚碳酸酯樹脂膜之吸水率為1.2%。
藉由按照日本專利特開2014-194483號公報之實施例1之方法對如上所述地獲得之聚碳酸酯樹脂膜進行斜向延伸，獲得構成第二光學補償層之相位差膜。所獲得之相位差膜(即第二光學補償層)之Re(550)為137 nm，Nz係數為1.0，Re(450)/Re(550)為0.89。
(iii)偏光元件之製作 一面藉由輥延伸機將厚度為30 μm之聚乙烯醇(PVA)系樹脂膜(東麗製造，製品名為「PE3000」)之長條輥沿著長度方向單軸延伸至5.9倍一面同時實施膨潤、染色、交聯、洗淨處理，最後實施乾燥處理，藉此製作厚度為12 μm之偏光元件。 具體而言，膨潤處理係一面以20℃之純水進行處理一面延伸至2.2倍。繼而，染色處理係一面以使所獲得之偏光元件之單體透過率成為45.0%之方式於調整了碘濃度之碘與碘化鉀之重量比為1：7之30℃之水溶液中進行處理一面延伸至1.4倍。進而，交聯處理採用兩個階段之交聯處理，第一個階段之交聯處理係一面於40℃之溶解有硼酸及碘化鉀之水溶液中進行處理一面延伸至1.2倍。第一階段之交聯處理之水溶液之硼酸含量設定為5.0重量%，碘化鉀含量設定為3.0重量%。第二階段之交聯處理係一面於65℃之溶解有硼酸及碘化鉀之水溶液中進行處理一面延伸至1.6倍。第二階段之交聯處理之水溶液之硼酸含量設定為4.3重量%，碘化鉀含量設定為5.0重量%。又，洗淨處理於20℃之碘化鉀水溶液中進行處理。洗淨處理之水溶液之碘化鉀含量設定為2.6重量%。最後，乾燥處理係以70℃進行5分鐘乾燥而獲得偏光元件。
(iv)偏光板之製作 隔著聚乙烯醇系接著劑藉由卷對卷於上述偏光元件之單側貼合具有藉由硬塗處理形成於TAC膜(25 μm)之單面之硬塗(HC)層(7 μm)之HC-TAC膜(厚度：32 μm，與保護層相對應)，獲得具有保護層/偏光元件之構成之長條狀之偏光板。
(v)附光學補償層之偏光板之製作 藉由卷對卷將上述(iv)之偏光板、上述(i)之相位差膜(第一光學補償層)與上述(ii)之相位差膜(第二光學補償層)貼合，獲得相位差膜積層體。將上述收縮性膜剝離去除，獲得具有保護層/偏光元件/第一光學補償層/第二光學補償層之構成之附光學補償層之偏光板。偏光元件之吸收軸與第一光學補償層之遲相軸實質上平行，偏光元件之吸收軸與第二光學補償層之遲相軸所成之角度成為45°。
將所獲得之附光學補償層之偏光板供於上述(3)之評價。進而，使用所獲得之附光學補償層之偏光板之特性進行上述(4)之反射特性之模擬。將結果示於表1。
[實施例2] 除了採用表1中記載之延伸溫度、延伸倍率以外，與實施例1同樣地獲得具有保護層/偏光元件/第一光學補償層/第二光學補償層之構成之附光學補償層之偏光板。該第一光學補償層之Re(550)為138 nm，Nz係數為0.5，Re(450)/Re(550)為1.00。該第二光學補償層之Re(550)為137 nm，Nz係數為1.0，Re(450)/Re(550)為0.89。進而，除了使用該附光學補償層之偏光板以外，與實施例1同樣地製作有機EL面板。將所獲得之附光學補償層之偏光板及有機EL面板供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[實施例3] 除了採用表1中記載之延伸溫度、延伸倍率以外，與實施例1同樣地獲得具有保護層/偏光元件/第一光學補償層/第二光學補償層之構成之附光學補償層之偏光板。該第一光學補償層之Re(550)為173 nm，Nz係數為0.64，Re(450)/Re(550)為1.00。該第二光學補償層之Re(550)為137 nm，Nz係數為1.0，Re(450)/Re(550)為0.89。進而，除了使用該附光學補償層之偏光板以外，與實施例1同樣地製作有機EL面板。將所獲得之附光學補償層之偏光板及有機EL面板供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[實施例4] 採用表1中記載之延伸溫度、延伸倍率。藉由卷對卷將上述第一光學補償層與上述第二光學補償層貼合，獲得具有第一光學補償層/第二光學補償層之構成之積層體。第一光學補償層之遲相軸與第二光學補償層之遲相軸所成之角度為45°。將該積層體裁切成特定尺寸，進而以偏光元件之吸收軸與第一光學補償層之遲相軸所成之角度成為13°、偏光元件之吸收軸與第二光學補償層之遲相軸所成之角度成為58°之方式進行偏光板之裁切及貼合，獲得具有保護層/偏光元件/第一光學補償層/第二光學補償層之構成之附光學補償層之偏光板。對構成附光學補償層之偏光板之各層進行裁切並進行貼合之步驟(RtoS)之次數為一次。該第一光學補償層之Re(550)為133 nm，Nz係數為0.27，Re(450)/Re(550)為1.00。該第二光學補償層之Re(550)為98 nm，Nz係數為1.0，Re(450)/Re(550)為0.89。進而，除了使用該附光學補償層之偏光板以外，與實施例1同樣地製作有機EL面板。將所獲得之附光學補償層之偏光板及有機EL面板供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[比較例1] (i)第一光學補償層之製作 與實施例1之第二光學補償層同樣地製作第一光學補償層。該第一光學補償層之Re(550)為139 nm，Nz係數為1.10，Re(450)/Re(550)為0.89。
(ii)第二光學補償層之製作 將由下述化學式(II)(式中之數字65及35表示單體單元之莫耳%，方便起見以嵌段聚合物之形式表示；重量平均分子量為5000)表示之側鏈型液晶聚合物20重量份、顯示向列型液晶相之聚合性液晶(BASF公司製造：商品名為PaliocolorLC242)80重量份及光聚合起始劑(汽巴精化公司製造：商品名為IRGACURE 907)5重量份溶解於環戊酮200重量份中，製備液晶塗敷液。然後，藉由線棒塗佈機於基材膜(降𦯉烯系樹脂膜：日本ZEON股份有限公司製造，製品名為「ZEONEX」)塗敷該塗敷液，然後以80℃進行加熱乾燥4分鐘，藉此使液晶配向。藉由對該液晶層照射紫外線而使液晶層硬化，於基材上形成成為第二光學補償層之液晶固化層(厚度：0.58 μm)。所獲得之第二光學補償層之Re(550)為0 nm，Rth(550)為-71。
[化1]
Figure 02_image001
除了使用上述(i)及(ii)中獲得之第一光學補償層及第二光學補償層以及將偏光元件之吸收軸與第一光學補償層之遲相軸所成之角度設定為45°以外，與實施例1同樣地獲得具有保護層/偏光元件/第一光學補償層/第二光學補償層之構成之附光學補償層之偏光板。進而，除了使用該附光學補償層之偏光板以外，與實施例1同樣地製作有機EL面板。將所獲得之附光學補償層之偏光板及有機EL面板供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[比較例2] 除了將第二光學補償層之厚度設定為0.44 μm以外，與比較例1同樣地獲得具有保護層/偏光元件/第一光學補償層/第二光學補償層之構成之附光學補償層之偏光板。第一光學補償層之Re(550)為139 nm，Nz係數為1.00，Re(450)/Re(550)為1.00。第二光學補償層之Re(550)為0 nm，Rth(550)為-54。進而，除了使用該附光學補償層之偏光板以外，與實施例1同樣地製作有機EL面板。將所獲得之附光學補償層之偏光板及有機EL面板供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
表1
   實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 比較例1 比較例2
第一光學補償層 Re(550)(nm) 101 138 173 133 139 139
Nz係數 0.00 0.50 0.64 0.27 1.10 1.00
延伸溫度(℃) 165 141 130 154 137 143
延伸倍率 14 7 3 16 1.42 1.51
第二光學補償層 Re(550)(nm) 137 137 137 98 0 0
Nz係數 1.00 1.00 1.00 1.00 -71 ※ -54 ※
延伸溫度(℃) 144 144 144 144 - -
延伸倍率 1.51 1.51 1.51 1.40 - -
正面反射亮度 0.040 0.040 0.040 0.047 0.037 0.037
極角60°亮度 0.284 0.284 0.284 0.169 0.399 0.366
RtoS次數 0 0 0 - 0 0
※表示厚度方向之相位差(Rth)。
[評價] 由表1可知：本發明之實施例之附光學補償層之偏光板能夠維持正面方向之優異之抗反射特性，且斜方向之抗反射特性亦優異。進而，根據實施例，亦確認到能夠將斜方向之色相設定為中性。 [產業上之可利用性]
本發明之附光學補償層之偏光板可適用於有機EL面板。
10:偏光元件 20:保護層 30:第一光學補償層 40:第二光學補償層 100:附光學補償層之偏光板
圖1係本發明之一實施方式之附光學補償層之偏光板之概略剖視圖。
10:偏光元件
20:保護層
30:第一光學補償層
40:第二光學補償層
100:附光學補償層之偏光板

Claims (3)

  1. 一種附光學補償層之偏光板，其用於有機EL面板，並且依次具備偏光元件、第一光學補償層及第二光學補償層， 該第一光學補償層顯示出nx≧nz＞ny之折射率特性，Re(550)為90 nm～180 nm，Nz係數為0～0.8，該偏光元件之吸收軸方向與該第一光學補償層之遲相軸方向所成之角度實質上平行， 該第二光學補償層顯示出nx＞ny＝nz之折射率特性，Re(550)為100 nm～180 nm，該偏光元件之吸收軸方向與該第二光學補償層之遲相軸方向所成之角度為35°～55°， 該第一光學補償層之Re(450)及Re(550)實質上相等，該第二光學補償層滿足Re(550)＞Re(450)， 此處，Re(450)及Re(550)分別表示以23℃下之波長為450 nm及550 nm之光測得之面內相位差。
  2. 一種附光學補償層之偏光板，其用於有機EL面板，並且依次具備偏光元件、第一光學補償層及第二光學補償層， 該第一光學補償層顯示出nx＞nz＞ny之折射率特性，Re(550)為90 nm～170 nm，Nz係數為0.1～0.5，該偏光元件之吸收軸方向與該第一光學補償層之遲相軸方向所成之角度為5°～25°， 該第二光學補償層顯示出nx＞ny＝nz之折射率特性，Re(550)為60 nm～140 nm，該第一光學補償層之遲相軸方向與該第二光學補償層之遲相軸方向所成之角度為50°～70°， 該第一光學補償層之Re(450)及Re(550)實質上相等，該第二光學補償層滿足Re(550)＞Re(450)， 此處，Re(450)及Re(550)分別表示以23℃下之波長為450 nm及550 nm之光測得之面內相位差。
  3. 一種有機EL面板，其具備如請求項1或2之附光學補償層之偏光板。
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