WO2017138611A1

WO2017138611A1 - 光学積層体及びその製造方法、前面板、並びに画像表示装置

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Publication number: WO2017138611A1
Application number: PCT/JP2017/004741
Authority: WO
Inventors: 佳奈山本; 恒川　雅行; 迅希岩崎; 崇尚野村; 中川　博喜; 孝則濱田; 英司大石; 邦聡芳片; 正隆中島
Original assignee: 大日本印刷株式会社
Priority date: 2016-02-09
Filing date: 2017-02-09
Publication date: 2017-08-17
Also published as: CN108602311A; JP2021192097A; JP6950535B2; JPWO2017138611A1; TWI713693B; CN108602311B; TW201741144A; JP7056701B2; US20190113791A1; KR20180114028A; JP2021008117A; JP7251573B2

Abstract

［１］基材フィルム、透明導電層、及び表面保護層を順に有する光学積層体であって、ＪＩＳ　Ｋ６９１１に準拠して測定した表面抵抗率の平均値が１．０×１０^７Ω／□以上、１．０×１０^１０Ω／□以下の範囲にあり、かつ該表面抵抗率の標準偏差σが５．０×１０^８Ω／□以下である光学積層体、［２］基材フィルム、透明導電層、及び表面保護層を順に有する光学積層体であって、該基材フィルムがシクロオレフィンポリマーフィルムであり、該光学積層体全体の厚みに対する該基材フィルムの厚みの比率が８０％以上、９５％以下であり、動的粘弾性測定装置を用いて周波数１０Ｈｚ、引張荷重５０Ｎ、昇温速度２℃／分の条件で測定した、温度１５０℃における該光学積層体の伸び率が５．０％以上、２０％以下である光学積層体、［３］セルロース系基材フィルム、安定化層、及び導電層を順に有する光学積層体であって、ＪＩＳ　Ｋ６９１１に準拠して測定した表面抵抗率の平均値が１．０×１０^７Ω／□以上、１．０×１０^１２Ω／□以下の範囲にあり、かつ該表面抵抗率の標準偏差σを該平均値で除した値が０．２０以下である光学積層体、光学積層体の製造方法、前面板及び画像表示装置である。

Description

光学積層体及びその製造方法、前面板、並びに画像表示装置

　本発明は、光学積層体及びその製造方法、前面板、並びに画像表示装置に関する。

　近年、スマートフォン、タブレット端末を代表する携帯型液晶端末には、タッチパネル機能が搭載されている。タッチパネルの方式には、静電容量式、光学式、超音波式、電磁誘導式、抵抗膜式などが知られている。その中でも、指先と導電層との間での静電容量の変化を捉えて入力する静電容量式のタッチパネルは、抵抗膜式と並び、現在のタッチパネルの主流となってきている。
　このようなタッチパネル機能を搭載した液晶表示装置は、従来は液晶表示装置上にタッチパネルを取り付けた外付け型が主流であった。外付け型は、液晶表示装置とタッチパネルとを別々に製造した後に一体化するため、いずれか一方に不良があっても片方は利用可能であり、歩留まりに優れるものであるが、厚みや重さが増えるという問題があった。
　このような問題を解消するものとして、液晶表示装置の液晶表示素子と偏光板との間にタッチパネルを組み込んだ、いわゆるオンセル型のタッチパネル搭載液晶表示装置が登場している。そして、さらに近年では、オンセル型よりもさらに厚みや重さを低減するものとして、タッチ機能を液晶表示素子の中に組み込んだ、いわゆるインセル型のタッチパネルを搭載した液晶表示装置（インセルタッチパネル搭載液晶表示装置）が開発され始めている。

　インセルタッチパネル搭載液晶表示装置は、タッチ機能を組み込んだ液晶表示素子上に、種々の機能を有するフィルム等を接着層を介して貼り合わせた光学積層体を設置した構成からなっている。種々の機能を有するフィルム等とは、例えば、位相差板、偏光子、偏光子の保護フィルム、カバーガラス等が挙げられる。

　インセルタッチパネル搭載液晶表示装置を軽量化、薄型化するために、表示素子上に設けられる光学積層体を工夫する試みがなされている。その方法として、光学積層体を特定の層構成にして該光学積層体を構成する部材を削減することや、該光学積層体を構成するフィルムの厚みを薄くすることなどが挙げられる。
　また、各方式のタッチパネルの中でも、静電容量式のタッチパネルでは、安定した動作性を発現する観点から、タッチパネルセンサー部の電位が安定していることが特に重要である。静電容量式タッチパネルの安定した動作性を確保するためには等電位面が必要であり、かつ、該等電位面が環境変化による影響を受けず、経時安定性を有することがより好ましい。そのために、表示素子上に設けられる前記光学積層体を特定の層構成とすることが検討されている。
　例えば特許文献１，２には、特定の層構成及び厚みを有するインセルタッチパネル液晶表示素子の前面用の光学積層体が開示されている。液晶表示素子よりも操作者側に位置する光学積層体の任意の箇所にタッチパネルセンサーとは異なる２種類の導電層を設けることで、タッチパネル表面を低導電率で且つ導電性の経時変化が少ないものとすることができる。

　またタッチパネルを搭載した液晶表示装置においては、従来の外付け型やオンセル型では、液晶表示素子より操作者側に位置していたタッチパネルが導電性部材として働いていたが、インセル型への切り替えにより、液晶表示素子よりも操作者側に導電性部材が存在しなくなる。これによりインセル型のタッチパネルを搭載した液晶表示装置は、タッチパネルを指でタッチした際に液晶画面が部分的に白濁するという問題が生じていた。この白濁は、タッチパネル表面で発生した静電気を逃がすことができないために起こるものである。しかしながら、特許文献１，２では、液晶表示素子よりも操作者側に位置する光学積層体の任意の箇所に導電層を設けることで、該表面で生じた静電気を逃がし、上記白濁も防止できることも見出されている。

　さらにタッチパネル搭載液晶表示装置においては、偏光サングラスを通しての視認性を改良する検討も行われている。当該視認性の改良とは、表示素子の前面に光学積層体を配置した際に、偏光サングラスを通して見た表示画面に色の異なるムラ（以下、「ニジムラ」ともいう）が観察される場合があり、これを改良するものである。当該視認性の改良方法としては、偏光子よりも視認者側となる位置に直線偏光を乱す光学異方性を有する層を設ける方法が知られている。

　例えば前述の特許文献１には、位相差板、偏光子及び透明基材をこの順に有し、さらに導電層を有してなり、該透明基材として前記偏光子から出射される直線偏光を乱す光学異方性を有するものを用いた、特定の層構成及び厚みを有するインセルタッチパネル液晶表示素子の前面用の光学積層体が開示されている。特許文献２には、位相差板、偏光子及び表面保護フィルムをこの順に有し、さらに導電層を有してなり、該表面保護フィルムとして前記偏光子から出射される直線偏光を乱す光学異方性を有するものを用いた、特定の厚みを有するインセルタッチパネル液晶表示素子の前面用の光学積層体が開示されている。

　上記直線偏光を乱す光学異方性を有する透明基材又は表面保護フィルムとしては、１／４波長位相差のプラスチックフィルム等が挙げられる。通常、該プラスチックフィルムは延伸フィルムである。しかしながら、一般的な延伸処理を施した延伸フィルムの光軸の向きは、その幅方向に対して、平行方向あるいは直交方向であるため、直線偏光子の透過軸と１／４波長位相差のプラスチックフィルムの光軸を合わせるように貼り合わせるためには、該フィルムを斜め枚葉に裁断する必要がある。そのため製造工程が煩雑になる上、斜めに裁断するため、無駄になるフィルムが多いという問題があった。また、タッチパネルの製造にあたりロールトゥロールで製造することができず、連続的製造が困難であるという問題もある。

　特許文献３には、ロールトゥロールなどによる連続的な製造が可能で、光学的にも好適な静電容量式タッチパネルセンサーとして、斜め延伸フィルムの少なくとも一方の面上に直接または間接的に導電層を有する静電容量式タッチパネルセンサーが開示されている。該斜め延伸フィルムを用いることでロールトゥロールによる連続的な製造が可能になる。また該斜め延伸フィルムに使用される材料としては、シクロオレフィンポリマーが特に好ましいものとして挙げられている。

　また帯電防止層を有する光学フィルムとして、特許文献４には、透明なフィルム上に、帯電防止層、保護層、微粒子を分散させた樹脂層からなる光散乱層を順次有し、該帯電防止層に特定の針状金属酸化物粒子を含有する光学フィルムが開示され、透明なフィルム（支持体）として脂環式構造を有する重合体樹脂フィルムが例示されている（段落０２０７を参照）。

国際公開第２０１４／０６９３７７号国際公開第２０１４／０６９３７８号特開２０１３－２４２６９２号公報特開２００７－１０２２０８号公報

　タッチパネル搭載液晶表示装置を軽量化、薄型化するために光学積層体を構成するフィルムの厚みを薄くすると、厚みの薄いフィルムはコシがないため、例えば該フィルム上に導電層を直接形成する際などにフィルムの平面性の確保が困難となり、得られる導電層付きフィルムに波打ちなどが発生する場合がある。該フィルムが波打つと、導電層の厚みぶれが生じることによりフィルム面内の表面抵抗率にばらつきが発生する。このようなフィルムを静電容量式タッチパネルの前面板に用いると、タッチパネルの動作性が低下するため好ましくない。例えば、導電層形成用の基材フィルムとしてシクロオレフィンポリマーフィルムなどの１／４波長位相差のプラスチックフィルムを用いることが光学特性の点からは好ましいが、シクロオレフィンポリマーフィルムはコシがなく強度が低いため、前述のような問題が顕著である。

　また、シクロオレフィンポリマーフィルムは低極性であることから、樹脂成分からなる層との密着性が低いことが一般に知られている。したがって、該フィルムに樹脂成分からなる層を直接設ける場合には、コロナ処理などによる表面処理を行わなければ、密着性を付与することが非常に困難である。しかしながら特許文献１～４のいずれにも、このような課題の示唆はない。
　特許文献４には、光学フィルムに用いる支持体として脂環式構造を有する重合体樹脂フィルムが例示されているが、該樹脂フィルムへの密着性に優れる帯電防止層、及びこれを有する光学フィルムについては記載されていない。

　また、特許文献３に開示されている導電層はタッチパネルセンサーであり、特許文献１及び２に開示されている、タッチパネルの動作安定性を確保し、かつタッチパネル表面で生じた静電気を逃がすために設けられる導電層とは機能が全く異なるものである。タッチパネルセンサーとしての導電層にはより高い導電性が必要とされ、その表面抵抗率は好ましくは１００～１０００Ω／□である（特許文献３の段落００２７参照）。通常、タッチパネルセンサーとしての導電層を形成するには、絶縁性の高い樹脂成分を多く含む樹脂組成物を用いることは一般的ではなく、例えば特許文献３の実施例に記載されているようにインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）をスパッタリングにより製膜する方法などが用いられる。

　その他の課題として、画像視認性の点から、画像表示素子よりも視認者側に位置する光学積層体は、可視光領域において光透過性が高いことも重要である。しかしながら光学積層体における導電層が厚すぎると、可視光領域の光透過性が低下するおそれがある。一方、該導電層の厚みを薄くすると導電性の確保などが困難になるおそれがある。
　さらに、該光学積層体を静電容量式のタッチパネルを搭載した画像表示装置に適用する場合には、タッチパネルの動作性を安定させる観点から、該光学積層体は表面抵抗率の面内均一性が良好であることが好ましい。

　一方、前述したニジムラの改良のために、光学積層体に１／４波長位相差のプラスチックフィルムを用いることは有効である。しかしながら、上記偏光解消効果には優れるものの、前記１／４波長位相差のプラスチックフィルムを光学積層体に用いた場合には、該フィルムに積層される他層との界面反射に由来する干渉縞が生じて画像視認性が低下する場合がある。また、該フィルムと他層との接着性が低く加工特性に劣るなどの問題もある。さらに、当該フィルムは高価格である。

　そこで、トリアセチルセルロースをはじめとするセルロース系フィルムを使用した光学積層体の開発が検討されている。セルロース系フィルムは光透過性が高く、リタデーション値が小さいため光学特性に優れる。またセルロース系フィルムは、その性質上、溶剤や、その他の分子量１，０００未満の低分子量成分が浸透しやすい。このため、セルロース系フィルム上に溶剤や上記低分子量成分を含む材料を用いて他層を形成する際に、該溶剤及び低分子量成分がセルロース系フィルムに浸透する。この効果により、セルロース系フィルムと該他層との界面が不明瞭になることから前記干渉縞が発生せず、かつ、層間の接着性も良好になる。さらに、セルロース系フィルムは比較的安価であるという利点もある。

　しかしながら、セルロース系フィルムは上述したような浸透性を有するため、この上に溶剤や上記低分子量成分を含む材料を用いて導電層を形成しようとすると、該導電層の膜厚が安定せず、あるいは、導電層形成用材料がセルロース系フィルム中に浸透して、必要な導電性及びその面内均一性が得られないなどの問題が生じる。さらに、セルロース系フィルムは気候に応じて水分含量が変化しやすく、吸湿により目視で判別できるほどフィルムに歪みが生じる場合もある。該フィルムに歪みがあると、その上に形成される導電層の厚みぶれが生じることによっても、フィルム面内の表面抵抗率にばらつきが発生する。このようなフィルムを静電容量式タッチパネルの前面に用いると、タッチパネルの動作性が低下するため好ましくない。特に、インセル型タッチパネルにおいては表面抵抗率のばらつきが少ないことが重要視される。

　本発明の第一の課題は、静電容量方式のタッチパネル搭載画像表示装置等に適用した場合に、タッチパネルの動作性を安定して発現しうる光学積層体、これを有する前面板及び画像表示装置を提供することにある。
　本発明の第二の課題は、シクロオレフィンポリマーフィルムである基材フィルム、透明導電層及び表面保護層を順に有し、該透明導電層がシクロオレフィンポリマーフィルムに対する密着性に優れ、可視光領域での光透過性が高く、かつ表面抵抗率の面内均一性が良好であり、特に静電容量方式のタッチパネル搭載画像表示装置に適用した場合に、タッチパネルの動作性を安定して発現しうる光学積層体、これを有する前面板及び画像表示装置を提供することにある。
　本発明の第三の課題は、基材フィルムとしてセルロース系基材フィルムを用いた場合にも、静電容量方式のタッチパネル搭載画像表示装置等に適用した場合に、タッチパネルの動作性を安定して発現しうる光学積層体、これを有する前面板及び画像表示装置を提供することにある。
　本発明の第四の課題は、基材フィルム、透明導電層、及び表面保護層を有する光学積層体の製造において、コシがなく強度の低い基材フィルムを用いても表面抵抗率の面内均一性が良好な光学積層体の製造方法を提供することにある。

　本発明者らは、特定の層構成及び導電特性を有する光学積層体により、上記第一の課題を解決できることを見出した。
　すなわち第一の形態に係る本発明（以下「第一発明」ともいう）は、下記に関する。
［１］基材フィルム、透明導電層、及び表面保護層を順に有する光学積層体であって、ＪＩＳ　Ｋ６９１１に準拠して測定した表面抵抗率の平均値が１．０×１０^７Ω／□以上、１．０×１０^１０Ω／□以下の範囲にあり、かつ該表面抵抗率の標準偏差σが５．０×１０^８Ω／□以下である光学積層体。
［２］上記［１］に記載の光学積層体、偏光子及び位相差板を順に有する前面板。
［３］表示素子の視認者側に、上記［１］に記載の光学積層体又は上記［２］に記載の前面板が設けられた画像表示装置。

　本発明者らは、特定の層構成を有し、かつ所定の伸び特性を有する光学積層体とすることにより、上記第二の課題を解決できることを見出した。
　すなわち第二の形態に係る本発明（以下「第二発明」ともいう）は、下記に関する。
［１］基材フィルム、透明導電層、及び表面保護層を順に有する光学積層体であって、該基材フィルムがシクロオレフィンポリマーフィルムであり、該光学積層体全体の厚みに対する該基材フィルムの厚みの比率が８０％以上、９５％以下であり、動的粘弾性測定装置を用いて周波数１０Ｈｚ、引張荷重５０Ｎ、昇温速度２℃／分の条件で測定した、温度１５０℃における該光学積層体の伸び率が５．０％以上、２０％以下である、光学積層体。
［２］上記［１］に記載の光学積層体、偏光子及び位相差板を順に有する前面板。
［３］表示素子の視認者側に、上記［１］に記載の光学積層体又は上記［２］に記載の前面板が設けられた画像表示装置。

　本発明者らは、特定の層構成及び導電特性を有する光学積層体により、上記第三の課題を解決できることを見出した。
　すなわち第三の形態に係る本発明（以下「第三発明」ともいう）は、下記に関する。
［１］セルロース系基材フィルム、安定化層、及び導電層を順に有する光学積層体であって、ＪＩＳ　Ｋ６９１１に準拠して測定した表面抵抗率の平均値が１．０×１０^７Ω／□以上、１．０×１０^１２Ω／□以下の範囲にあり、かつ該表面抵抗率の標準偏差σを該平均値で除した値が０．２０以下である光学積層体。
［２］上記［１］に記載の光学積層体、偏光子及び位相差板を順に有する前面板。
［３］表示素子の視認者側に、上記［１］に記載の光学積層体又は［２］に記載の前面板が設けられた画像表示装置。

　また本発明者らは、特定の工程を有する光学積層体の製造方法により、上記第四の課題を解決できることを見出した。
　すなわち第四の形態に係る本発明（以下「第四発明」ともいう）は、下記に関する。
［１］基材フィルム、透明導電層、及び表面保護層を順に有する光学積層体の製造方法であって、該基材フィルムの一方の面に、粘着層を介して裏面フィルムを積層し、次いで、該基材フィルムの他方の面に該透明導電層及び該表面保護層を順に形成する工程を有し、かつ、下記条件（１）を満たす、光学積層体の製造方法。
　条件（１）：前記基材フィルム、前記粘着層、及び前記裏面フィルムからなる、幅２５ｍｍ、長さ１００ｍｍの積層体を、該長さ方向の一端から２５ｍｍの部分を水平に固定し、残りの長さ７５ｍｍの部分を自重により変形させた際に、該積層体の固定部から長さ方向の他端までの鉛直距離が４５ｍｍ以下である。
［２］基材フィルム、透明導電層、及び表面保護層を順に有する光学積層体の製造方法であって、該基材フィルムの一方の面に、粘着層を介して裏面フィルムを積層し、次いで、該基材フィルムの他方の面に該透明導電層及び該表面保護層を順に形成する工程を有し、該粘着層及び該裏面フィルムの合計厚みが２０～２００μｍであり、かつ、該粘着層及び該裏面フィルムからなる積層物が、ＪＩＳ　Ｋ７１６１－１：２０１４に準拠して引張速度５ｍｍ／分で測定される引張弾性率が８００Ｎ／ｍｍ^２以上、１０，０００Ｎ／ｍｍ^２以下である、光学積層体の製造方法。
［３］基材フィルムの一方の面に、該基材フィルム側から粘着層及び裏面フィルムを順に有し、該基材フィルムの他方の面に、該基材フィルム側から透明導電層及び表面保護層を順に有し、かつ、下記条件（１）を満たす、透明積層体。
　条件（１）：前記基材フィルム、前記粘着層、及び前記裏面フィルムからなる、幅２５ｍｍ、長さ１００ｍｍの積層体を、該長さ方向の一端から２５ｍｍの部分を水平に固定し、残りの長さ７５ｍｍの部分を自重により変形させた際に、該積層体の固定部から長さ方向の他端までの鉛直距離が４５ｍｍ以下である。
［４］基材フィルムの一方の面に、該基材フィルム側から粘着層及び裏面フィルムを順に有し、該基材フィルムの他方の面に、該基材フィルム側から透明導電層及び表面保護層を順に有し、該粘着層及び該裏面フィルムの合計厚みが２０～２００μｍであり、かつ、該粘着層及び該裏面フィルムからなる積層物が、ＪＩＳ　Ｋ７１６１－１：２０１４に準拠して引張速度５ｍｍ／分で測定される引張弾性率が８００Ｎ／ｍｍ^２以上、１０，０００Ｎ／ｍｍ^２以下である、透明積層体。

　第一発明に係る光学積層体は、表面抵抗率の面内均一性が良好であることから、特に静電容量式のタッチパネルを搭載した画像表示装置を構成する部材として好適に用いられる。当該光学積層体を有することにより、当該タッチパネルは安定した動作性を発現する。
　第二発明に係る光学積層体は、所定の範囲の伸び特性を有することから、基材フィルムであるシクロオレフィンポリマーフィルムと透明導電層との密着性に優れ、かつ表面抵抗率の面内均一性も良好であるため、特に静電容量式のタッチパネルを搭載した画像表示装置の前面板を構成する部材として好適に用いられる。当該光学積層体を有することにより、当該タッチパネルは安定した動作性を発現する。また光学積層体において、シクロオレフィンポリマーフィルムとして斜め延伸された１／４波長位相差フィルムを用いた場合には、偏光サングラスを通しての視認性も良好であり、かつロールトゥロール法による連続的な製造も可能となる。
　さらに第二発明に係る光学積層体は、全体の厚みに対する基材フィルムの厚みの比率が８０％以上であることから、可視光透過性も良好である。
　第三発明に係る光学積層体は、基材フィルムとしてセルロース系基材フィルムを用いた場合にも表面抵抗率の面内均一性が良好であることから、特に静電容量式のタッチパネルを搭載した画像表示装置を構成する部材として好適に用いられる。当該光学積層体を有することにより、タッチパネルは安定した動作性を発現する。
　第四発明に係る光学積層体の製造方法によれば、基材フィルム、透明導電層、及び表面保護層を有する光学積層体の製造においてコシがなく強度の低い基材フィルムを用いても、表面抵抗率の面内均一性が良好な光学積層体を製造することができる。該光学積層体は、特に静電容量式のタッチパネルを搭載した画像表示装置を構成する部材として好適に用いられる。

本発明の光学積層体における表面抵抗率の測定方法の一例を説明する平面模式図である。第一発明に係る光学積層体（Ｉ）及び第二発明に係る光学積層体（ＩＩ）の一実施形態を示す断面模式図である。第三発明に係る光学積層体（ＩＩＩ）の一実施形態を示す断面模式図である。第三発明に係る光学積層体（ＩＩＩ）の一実施形態を示す断面模式図である。本発明の前面板の一実施形態を示す断面模式図である。本発明の前面板の一実施形態を示す断面模式図である。本発明の画像表示装置の一実施形態を示す断面模式図である。本発明の画像表示装置の一実施形態を示す断面模式図である。第四発明に係る光学積層体の製造方法において、条件（１）で規定する鉛直距離の測定方法を示す模式図である。第四発明における光学積層体及び透明積層体の一実施形態を示す断面模式図である。第四発明における前面板の一実施形態を示す断面模式図である。第四発明におけるインセルタッチパネル搭載画像表示装置の一実施形態を示す断面模式図である。実施例２－１において、シクロオレフィンポリマー上に形成した透明導電層を採取し、透過法で測定した赤外分光（ＩＲ）スペクトルである。実施例２－１で使用した電離放射線硬化性樹脂（Ａ）単独の硬化物のＩＲスペクトルである。実施例２－１で使用した電離放射線硬化性樹脂（Ｂ）単独の硬化物のＩＲスペクトルである。

　以下、第一発明から第四発明について説明する。なお、適宜、第一発明に係る光学積層体を「光学積層体（Ｉ）」、第二発明に係る光学積層体を「光学積層体（ＩＩ）」、第三発明に係る光学積層体を「光学積層体（ＩＩＩ）」と称する。また第四発明に係る光学積層体の製造方法を適宜「本発明の製造方法」と称する。

［第一発明：光学積層体（Ｉ）］
　第一発明に係る本発明の光学積層体（Ｉ）は、基材フィルム、透明導電層、及び表面保護層を順に有しており、ＪＩＳ　Ｋ６９１１に準拠して測定した表面抵抗率の平均値が１．０×１０^７Ω／□以上、１．０×１０^１０Ω／□以下の範囲にあり、かつ該表面抵抗率の標準偏差σが５．０×１０^８Ω／□以下であることを特徴とする。
　上記表面抵抗率の平均値が１．０×１０^７Ω／□以上であると、静電容量式のタッチパネルの動作性が安定する。また、表面抵抗率の平均値が１．０×１０^１０Ω／□以下であれば、上述した液晶画面の白濁も効果的に防止できる。当該表面抵抗率の平均値は、上記観点から、好ましくは１．０×１０^８Ω／□以上であり、好ましくは２．０×１０^９Ω／□以下、より好ましくは１．５×１０^９Ω／□以下、さらに好ましくは１．０×１０^９Ω／□以下の範囲である。
　また、表面抵抗率の標準偏差σが５．０×１０^８Ω／□を超えると、表面抵抗率の面内のばらつきが大きいため、静電容量式タッチパネルに用いた際に動作性が低下する。この観点から、当該表面抵抗率の標準偏差σは、好ましくは１．０×１０^８Ω／□以下、より好ましくは８．０×１０^７Ω／□以下である。

　上記表面抵抗率はＪＩＳ　Ｋ６９１１：１９９５に準拠して測定されるが、その平均値及び標準偏差は、例えば下記方法Ａにより測定することができる。
　方法Ａ：光学積層体の表面保護層面側で、該光学積層体の外周から１．５ｃｍ内側の領域（ａ）内を縦及び横に各々ｎ等分する直線（ｂ）を引き、領域（ａ）の頂点、直線（ｂ）同士の交点、及び領域（ａ）を構成する四辺と直線（ｂ）との交点において、表面抵抗率を測定する。ｎは１～４の整数であり、前記光学積層体の面積が１０インチ未満の場合はｎ＝１、１０インチ以上２５インチ未満の場合はｎ＝２、２５インチ以上４０インチ未満の場合はｎ＝３、４０インチ以上の場合はｎ＝４とする。
　ここで、光学積層体の外周から１．５ｃｍ内側の領域（ａ）とは、光学積層体の四辺の各々から該光学積層体の内側に向かって１．５ｃｍ内側に平行移動した直線に囲まれた領域であり、具体的には図１の破線（ａ）で囲まれた領域である。図１において、１は光学積層体であり、ｄは光学積層体の外周からの距離（１．５ｃｍ）を示す。また直線（ｂ）は、領域（ａ）内を縦及び横に各々ｎ等分する直線であり、図１の一点鎖線（ｂ）で表される。そして、図１において黒点で示した、領域（ａ）の頂点、直線（ｂ）同士の交点、及び領域（ａ）を構成する四辺と直線（ｂ）との交点のそれぞれにおいて表面抵抗率を測定し、その平均値及び標準偏差を算出する。図１はｎ＝４の場合を示したものである。
　なお、ｎ＝１の場合は直線（ｂ）を引かず、領域（ａ）の頂点において表面抵抗率を測定するものとする。
　ｎは測定対象となる光学積層体の面積に応じて変更することができる。また、測定時の操作性の観点から、光学積層体を適宜カットしてから表面抵抗率を測定してもよい。
　上記表面抵抗率は、抵抗率計、及びプローブとしてＵＲＳプローブを使用し、温度２５±４℃、湿度５０±１０％の環境下で５００Ｖの印加電圧にて測定する。ＵＲＳプローブは光学積層体への接地面積が小さいため、表面抵抗率の面内のばらつきの測定精度が高いことから、上記表面抵抗率の測定にはＵＲＳプローブを用いる必要がある。該表面抵抗率は、具体的には実施例に記載の方法により測定できる。

　また、表面抵抗率の経時安定性の観点から、該光学積層体（Ｉ）を８０℃で２５０時間保持した後に測定される表面抵抗率の、該保持前の表面抵抗率に対する比（光学積層体（Ｉ）を８０℃で２５０時間保持した後の表面抵抗率／光学積層体（Ｉ）を８０℃で２５０時間保持する前の表面抵抗率）が、すべての測定点において０．４０～２．５の範囲であることが好ましい。より好ましくは、０．５０～２．０の範囲である。当該表面抵抗率の比は、具体的には実施例に記載の方法により測定できる。
　当該表面抵抗率の比が上記範囲であると、該光学積層体（Ｉ）は環境変化による表面抵抗率の変化が少ないことから、静電容量式のタッチパネルに用いた際に安定した動作性を長期間維持することができる。

　光学積層体（Ｉ）の表面抵抗率の平均値及び標準偏差を上記範囲に調整する方法としては、（１）透明導電層の形成に用いる材料及び厚みの選択、（２）表面保護層の形成に用いる材料及び厚みの選択、及び（３）特定の透明導電層と表面保護層とを組み合わせた層構成の適用、などが挙げられる。これらについては後述する。

　なお本発明の光学積層体（Ｉ）は、画像表示装置の最表面ではなく、画像表示装置に設けられるカバーガラスなどの表面保護部材よりも内側に配置することを想定したものである（後述する図７を参照）。後述する他の光学積層体についても同様である。
　以下、本発明の光学積層体（Ｉ）を構成する各層について説明する。

（基材フィルム）
　本発明の光学積層体（Ｉ）に用いる基材フィルムは、光透過性を有するフィルム（以下、「光透過性基材フィルム」ともいう。）が好ましい。光透過性基材フィルムとしては、従来公知の光学フィルムに用いられている樹脂基材等が挙げられる。光透過性基材フィルムの全光線透過率は通常７０％以上であり、８５％以上であることが好ましい。なお、全光線透過率は、紫外可視分光光度計を用い、室温、大気中で測定することができる。
　光透過性基材フィルムを構成する材料としては、アセチルセルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、（メタ）アクロニトリル系樹脂、シクロオレフィンポリマー等が挙げられる。

　なかでも、基材フィルムは、光学異方性を有することがより好ましい（以下、光学異方性を有する基材フィルムを「光学異方性基材」ともいう）。光学異方性基材は偏光子から出射される直線偏光を乱す性質を有する。
　偏光子から直線偏光が出射される構成を有する画像表示装置（例えば液晶表示装置）の場合、表示素子よりも視認者側に光学積層体を配置した際に、偏光サングラスを通して見た表示画面に色の異なるムラ（ニジムラ）が観察される場合がある。しかしながら、偏光子よりも視認者側となる位置に直線偏光を乱す光学異方性を有する層を設けることでこれを防止できる。

　光学異方性基材としては、リタデーション値３０００～３００００ｎｍのプラスチックフィルム（以下、「高リタデーションフィルム」ともいう）又は１／４波長位相差のプラスチックフィルム（以下、「１／４波長位相差フィルム」ともいう）等が挙げられる。偏光子から出射された光が高リタデーションフィルムに入射すると、該フィルムを通る光は波長による位相差変動が極端に大きくなるため、表示画面を偏光サングラスを通して見た際のニジムラを視認し難くするという効果を奏する。また１／４波長位相差フィルムは、偏光子から出射された直線偏光を円偏光に変換する性質を有するためニジムラを防止できる。ニジムラ防止効果の観点からは、１／４波長位相差フィルムを用いることがより好ましい。

　リタデーション値３０００～３００００ｎｍの高リタデーションフィルムは、リタデーション値を３０００ｎｍ以上とすることにより、表示画面を偏光サングラスで観察した際に、表示画面にニジムラが生じることを防止できる。なお、リタデーション値を上げすぎてもニジムラ改善効果の向上が見られなくなるため、リタデーション値を３００００ｎｍ以下とすることにより、膜厚を必要以上に厚くすることを防止できる。高リタデーションフィルムのリタデーション値は、６０００～３００００ｎｍであることが好ましい。
　なお、上述したリタデーション値は、波長５８９．３ｎｍ前後の波長に対して満たしていることが好ましい。

　リタデーション値（ｎｍ）は、プラスチックフィルムの面内において最も屈折率が大きい方向（遅相軸方向）の屈折率（ｎｘ）と、遅相軸方向と直交する方向（進相軸方向）の屈折率（ｎｙ）と、プラスチックフィルムの厚み（ｄ）（ｎｍ）とにより、以下の式によって表されるものである。
　リタデーション値（Ｒｅ）＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ
　また、上記リタデーション値は、例えば、王子計測機器社製ＫＯＢＲＡ－ＷＲによって測定（測定角０°、測定波長５８９．３ｎｍ）することができる。
　あるいは、上記リタデーション値は、２枚の偏光板を用いて、基材の配向軸方向（主軸の方向）を求め、配向軸方向に対して直交する二つの軸の屈折率（ｎｘ、ｎｙ）を、アッベ屈折率差計（株式会社アタゴ製、ＮＡＲ－ＡＴ）によって求め、大きい屈折率を示す軸を遅相軸と定義する。このようにして求めた屈折率差（ｎｘ－ｎｙ）に、電気マイクロメータ（アンリツ株式会社製）を用いて測定した厚みを掛けて、リタデーション値が得られる。
　なお、第一発明では、上記ｎｘ－ｎｙ（以下、「Δｎ」という場合もある）は、０．０５以上が好ましく、０．０７以上がより好ましく、０．１０以上がさらに好ましい。Δｎが０．０５以上であれば、基材フィルムの厚みが薄くても高いリタデーション値を得ることができるので、前述のニジムラ抑制及び薄型化を両立することができる。

　高リタデーションフィルムを構成する材料としては、前記光透過性基材フィルムとして例示したものを用いることができる。これらの中でもポリエステル系樹脂が好ましく、その中でも、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）がより好ましい。

　高リタデーションフィルムは、例えば、上記ＰＥＴ等のポリエステル系樹脂からなる場合、材料のポリエステルを溶融し、シート状に押出し成形された未延伸ポリエステルをガラス転移温度以上の温度においてテンター等を用いて横延伸後、熱処理を施すことにより得ることができる。横延伸温度としては、８０～１３０℃が好ましく、９０～１２０℃がより好ましい。また、横延伸倍率は２．５～６．０倍が好ましく、３．０～５．５倍がより好ましい。延伸倍率を２．５倍以上とすることにより、延伸張力を大きくでき、得られるフィルムの複屈折が大きくなり、リタデーション値を３０００ｎｍ以上にすることができる。また、横延伸倍率を６．０倍以下とすることにより、フィルムの透明性の低下を防止することができる。

　上述した方法で作製した高リタデーションフィルムのリタデーション値を３０００ｎｍ以上に制御する方法としては、延伸倍率や延伸温度、作製する高リタデーションフィルムの膜厚を適宜設定する方法が挙げられる。具体的には、例えば、延伸倍率が高いほど、延伸温度が低いほど、また、膜厚が厚いほど、高いリタデーション値を得やすくなる。

　光学異方性基材のうち、１／４波長位相差のプラスチックフィルムとしては、５５０ｎｍの位相差が１３７．５ｎｍである正１／４波長位相差フィルムを用いることができるが、５５０ｎｍの位相差が８０～１７０ｎｍである、略１／４波長位相差フィルムを用いることもできる。これら正１／４波長位相差フィルム及び略１／４波長位相差フィルムは、偏光サングラスで観察した際に、液晶表示装置の表示画像にニジムラが生じることを防止することができること、及び高リタデーションフィルムに比べて、膜厚を薄くできる点で好適である。

　１／４波長位相差フィルムは、プラスチックフィルムを１軸や２軸等で延伸処理したり、プラスチックフィルム中あるいはプラスチックフィルム上に設ける層の中で、液晶材料を規則的に配列させたりすることにより形成することができる。プラスチックフィルムとしては例えば、ポリカーボネートやポリエステル、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレン、酢酸セルロース系ポリマーポリアミド、シクロオレフィンポリマー等からなるものを用いることができる。これらの中でも、プラスチックフィルムを延伸処理したものや、プラスチックフィルム上に液晶材料を含む液晶層を設けたものが好ましく、延伸工程で１／４波長位相差を与えられる製造工程の容易さの観点からプラスチックフィルムを延伸処理したものがより好ましく、特にポリカーボネート、シクロオレフィンポリマーやポリエステルフィルムを延伸処理したものが好ましい。

　光学積層体（Ｉ）では、基材フィルムとしてシクロオレフィンポリマーフィルムを用いることがより好ましい。シクロオレフィンポリマーフィルムは、透明性、低吸湿性、耐熱性に優れる。なかでも、当該シクロオレフィンポリマーフィルムは、斜め延伸された１／４波長位相差フィルムであることが好ましい。シクロオレフィンポリマーフィルムが１／４波長位相差フィルムであると、上述のように液晶画面等の表示画面を偏光サングラスで観察した際にニジムラが生じることを防止できる効果が高いため、視認性が良好である。またシクロオレフィンポリマーフィルムが斜め延伸されたフィルムであると、光学積層体（Ｉ）と画像表示装置の前面板を構成する偏光子とを両者の光軸を合わせるように貼り合わせる際にも、光学積層体（Ｉ）を斜め枚葉に裁断する必要がない。そのため、ロールトゥロールによる連続的な製造が可能になるとともに、斜め枚葉に裁断することによる無駄が少なくなるという効果を奏する。
　一般的な延伸処理を施した延伸フィルムの光軸の向きは、その幅方向に対して、平行方向あるいは直交方向である。そのため、直線偏光子の透過軸と１／４波長位相差フィルムの光軸を合わせるように貼り合わせるためには、該フィルムを斜め枚葉に裁断する必要がある。そのため製造工程が煩雑になる上、斜めに裁断するため、無駄になるフィルムが多い。また、ロールトゥロールで製造することができず、連続的製造が困難である。しかしながら、基材フィルムとして斜め延伸フィルムを用いることでこれらの問題を解決できる。

　シクロオレフィンポリマーとしては、ノルボルネン系樹脂、単環の環状オレフィン系樹脂、環状共役ジエン系樹脂、ビニル脂環式炭化水素系樹脂、及び、これらの水素化物などを挙げることができる。なかでも、透明性及び成形性の観点から、ノルボルネン系樹脂が好ましい。
　ノルボルネン系樹脂としては、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体もしくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との開環共重合体又はそれらの水素化物；ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体もしくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との付加共重合体又はそれらの水素化物；などを挙げることができる。

　斜め延伸フィルムの配向角は、フィルムの幅方向に対して、好ましくは２０～７０°、より好ましくは３０～６０°、さらに好ましくは４０～５０°であり、４５°が特に好ましい。斜め延伸フィルムの配向角が４５°であると完全な円偏光になるためである。また、光学積層体（Ｉ）を偏光子の光軸と合わせるように貼り合わせる際にも斜め枚葉に裁断する必要がなく、ロールトゥロールによる連続的な製造が可能になる。

　上記シクロオレフィンポリマーフィルムは、シクロオレフィンポリマーを製膜、延伸する際に、延伸倍率や延伸温度、膜厚を適宜調整することにより得ることができる。市販のシクロオレフィンポリマーとしては、「Ｔｏｐａｓ」（商品名、Ｔｉｃｏｎａ社製）、「アートン」（商品名、ＪＳＲ（株）製）、「ゼオノア」及び「ゼオネックス」（いずれも商品名、日本ゼオン（株）製））、「アペル」（三井化学（株）製）などが挙げられる。
　また、市販のシクロオレフィンポリマーフィルムを用いることもできる。当該フィルムとしては、「ゼオノアフィルム」（商品名、日本ゼオン（株）製）、「アートンフィルム」（商品名、ＪＳＲ（株）製）などが挙げられる。

　光学積層体（Ｉ）に用いる基材フィルムは、本発明の効果を損なわない範囲で、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、可塑剤、着色剤などの添加剤を含有することができる。なかでも、基材フィルムは紫外線吸収剤を含有していることが好ましい。基材フィルムが紫外線吸収剤を含有することにより、外光紫外線による劣化を防止する効果があるためである。
　当該紫外線吸収剤としては特に制限はなく、公知の紫外線吸収剤を用いることができる。例えば、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾオキサジン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、シアノアクリレート系化合物等が挙げられる。なかでも、耐候性、色味の観点から、ベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。上記紫外線吸収剤は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
　基材フィルム中の紫外線吸収剤の含有量は、好ましくは０．１～１０質量％、より好ましくは０．５～５質量％、さらに好ましくは１～５質量％である。紫外線吸収剤の含有量が上記範囲であれば、波長３８０ｎｍにおける光学積層体（Ｉ）の透過率を３０％以下に抑えることができ、かつ紫外線吸収剤を含有することによる黄色味を抑えることができる。

　基材フィルムの厚みは、強度、加工適性、及び光学積層体（Ｉ）を用いる前面板及び画像表示装置の薄型化の観点から、４～２００μｍの範囲が好ましく、４～１７０μｍがより好ましく、２０～１３５μｍがさらに好ましく、２０～１２０μｍがよりさらに好ましい。

（透明導電層）
　本発明の光学積層体（Ｉ）が有する透明導電層は、静電容量式のタッチパネルに適用すると、タッチパネルの面内電位を一定にし、動作性を安定させるという効果を奏する。この効果を発揮する観点からは、特に、後述する導通性表面保護層と組み合わせることが好ましい。またインセルタッチパネルにおいて、透明導電層は、従来の外付け型やオンセル型において導電性部材として働いていたタッチパネルの代替的役割を有する。インセルタッチパネルを搭載した液晶表示素子の前面に上記透明導電層を有する光学積層体を用いると、該透明導電層は液晶表示素子より操作者側に位置することになるので、タッチパネル表面で発生した静電気を逃がすことができ、該静電気により液晶画面が部分的に白濁することを防止できる。この観点から、透明導電層は厚みを薄くしても十分な導電性を付与することができ、着色が少なく、透明性が良好であり、耐候性に優れ、導電性の経時的変化が少ないことが好ましい。

　当該透明導電層を構成する材料には特に制限はないが、電離放射線硬化性樹脂と導電性粒子とを含む電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であることが好ましい。なかでも、表面抵抗率の面内均一性及び経時安定性、並びに、基材フィルムとしてシクロオレフィンポリマーフィルムを用いる場合の密着性に優れる点から、透明導電層は、分子内に脂環式構造を有する電離放射線硬化性樹脂（Ａ）と導電性粒子とを含む電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であることがより好ましい。
　なお本明細書において電離放射線硬化性樹脂組成物とは、電離放射線を照射することにより硬化する樹脂組成物である。電離放射線としては、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するもの、例えば、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるほか、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も用いられる。

　シクロオレフィンポリマーフィルムは低極性であることから、樹脂成分からなる層との密着性が低いことが一般に知られている。したがって、該フィルムに樹脂成分からなる導電層を直接設ける場合には、コロナ処理やプライマー層形成などによる表面処理を行わなければ、密着性を付与することが非常に困難である。しかしながら、分子内に脂環式構造を有する電離放射線硬化性樹脂（Ａ）と導電性粒子とを含む電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて形成された透明導電層は、シクロオレフィンポリマーフィルム上にコロナ処理やプライマー層形成などの煩雑な表面処理を行わなくても、該フィルムへの密着性に優れる。
　上記樹脂組成物により上記効果が得られる理由は定かではないが、電離放射線硬化性樹脂（Ａ）は分子内にシクロオレフィンポリマーと類似する低極性の構造を有していること、及び、硬化収縮の発生が少ないことから、シクロオレフィンポリマーフィルムへの密着性に優れると考えられる。光学積層体（Ｉ）は透明導電層の上に表面保護層を有する構成であるが、当該表面保護層は画像表示装置に設けられる表面保護部材よりも内側に位置することを想定したものである。したがって当該表面保護層及びその下に位置する透明導電層は、画像表示装置の最表面において該表示装置の傷つきを防止するためのハードコートと同等の硬度を有する必要はなく、前面板あるいは画像表示装置の製造工程中に傷がつかない程度の硬度を有していればよい。通常、高硬度のハードコートを形成するための電離放射線硬化性樹脂組成物としては架橋率が高いものを使用するが、該樹脂組成物は硬化収縮も増大する。しかしながら本発明における透明導電層の形成には架橋率の高い樹脂組成物を使用する必要がないため、より硬化収縮の影響を低減することができ、シクロオレフィンポリマーフィルムへの密着性も向上する。
　また、上記電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて形成された透明導電層は、表面抵抗率の面内均一性及び経時安定性にも優れるものとなる。この理由は、電離放射線硬化性樹脂（Ａ）を含む樹脂組成物は硬化収縮の発生が少ないことから収縮応力の発生などによる変形が少なく、さらに低極性であることから低吸湿性であり、経時安定性が良好になると考えられる。

〔分子内に脂環式炭化水素構造を有する電離放射線硬化性樹脂（Ａ）〕
　透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物は、上記観点から、分子内に脂環式炭化水素構造を有する電離放射線硬化性樹脂（Ａ）（以下、単に「電離放射線硬化性樹脂（Ａ）」ともいう）を含むことが好ましい。ここで、脂環式炭化水素構造とは、脂環式炭化水素化合物から誘導される環を意味する。該脂環式炭化水素化合物は、飽和であっても不飽和であってもよく、単環であっても、２以上の単環から構成される多環であってもよい。また、当該脂環式炭化水素構造は置換基を有していてもよい。
　前記脂環式炭化水素構造としては、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環等のシクロアルカン環；シクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロヘプテン環、シクロオクテン環等のシクロアルケン環；ジシクロペンタン環、ノルボルナン環、デカヒドロナフタレン環、ジシクロペンテン環、ノルボルネン環等のビシクロ環；テトラヒドロジシクロペンタジエン環、ジヒドロジシクロペンタジエン環、アダマンタン環等のトリシクロ環；などが例示されるが、これらに限定されるわけではない。
　これらの中でも、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化収縮を抑制して基材フィルムへの密着性を向上させる観点から、前記脂環式炭化水素構造は２以上の単環から構成される多環構造を含むことが好ましく、ビシクロ環又はトリシクロ環を含むことがより好ましい。当該単環の環員数は、好ましくは４～７、より好ましくは５～６である。また、該環構造は、同一環員数を有する２以上の単環から構成される構成単位を含むものがより好ましい。電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化時、あるいは硬化後に収縮応力が生じたとしても歪の方向が偏らないため、形成される透明導電層のシクロオレフィンポリマーフィルムへの密着性、表面抵抗率の面内均一性及びその経時安定性が良好になるからである。
　特に好ましい脂環式炭化水素構造としては、下記式（１）で示されるテトラヒドロジシクロペンタジエン環及び下記式（２）で示されるジヒドロジシクロペンタジエン環から選ばれる少なくとも１種を挙げることができる。

　電離放射線硬化性樹脂（Ａ）は、分子内に電離放射線硬化性官能基を少なくとも１つ有する。該電離放射線硬化性官能基としては特に制限されないが、硬化性及び硬化物の硬度の観点からラジカル重合性官能基であることが好ましい。ラジカル重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合含有基が挙げられる。なかでも、硬化性の観点からは（メタ）アクリロイル基であることが好ましい。

　電離放射線硬化性樹脂（Ａ）の具体例としては、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、１－アダマンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートなどの単官能（メタ）アクリレート；ジメチロール－トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールルジ（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ノルボルナンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ｐ－メンタン－１，８－ジオールジ（メタ）アクリレート、ｐ－メンタン－２，８－ジオールジ（メタ）アクリレート、ｐ－メンタン－３，８－ジオールジ（メタ）アクリレート、ビシクロ［２．２．２］－オクタン－１－メチル－４－イソプロピル－５，６－ジメチロールジ（メタ）アクリレートなどの多官能（メタ）アクリレートなどが挙げられ、これらは１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。なかでも、硬化収縮が過度に発生し、また硬化物の柔軟性が低下して基材フィルムへの密着性が低下するのを防止する観点から、単官能又は２官能（メタ）アクリレートが好ましく、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、及びジメチロール－トリシクロデカンジ（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも１種がより好ましく、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート及びジシクロペンタニル（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも１種がさらに好ましい。

　市販品の電離放射線硬化性樹脂（Ａ）としては、ＦＡ－５１１ＡＳ、ＦＡ－５１２ＡＳ、ＦＡ－５１３ＡＳ、ＦＡ－５１２Ｍ、ＦＡ－５１３Ｍ、ＦＡ－５１２ＭＴ（いずれも商品名、日立化成（株）製）、ライトエステルＤＣＰ－Ａ、ＤＣＰ－Ｍ（いずれも商品名、共栄社化学（株）製）、Ａ－ＤＣＰ、ＤＣＰ（いずれも商品名、新中村化学工業（株）製）などが挙げられる。これらは、前記式（１）で示されるテトラヒドロジシクロペンタジエン環又は前記式（２）で示されるジヒドロジシクロペンタジエン環を有する電離放射線硬化性樹脂である。

　電離放射線硬化性樹脂（Ａ）の分子量は特に制限されないが、基材フィルムとしてシクロオレフィンポリマーフィルムを使用した場合の密着性の観点から、分子量が３５０以下のものが好ましく、１５０～３５０のものがより好ましく、１５０～３００のものがさらに好ましく、１５０～２３０のものがよりさらに好ましい。電離放射線硬化性樹脂（Ａ）の分子量が３５０以下であると、分子量が高い樹脂よりもシクロオレフィンポリマーフィルムに湿潤しやすい。このため、該フィルム上に電離放射線硬化性樹脂組成物を塗布した際に該フィルム側に電離放射線硬化性樹脂（Ａ）が選択的に移動して湿潤し、その状態で電離放射線により硬化するので、形成される透明導電層の該フィルムへの密着性がさらに向上するものと考えられる。加えて、電離放射線硬化性樹脂（Ａ）の分子量が３５０以下であると、電離放射線硬化性官能基に対する脂環式炭化水素構造部分の体積割合が高いため、硬化収縮をより抑制することができることから、シクロオレフィンポリマーフィルムへの密着性が向上すると考えられる。

〔電離放射線硬化性樹脂（Ｂ）〕
　透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物は、前記電離放射線硬化性樹脂（Ａ）以外の電離放射線硬化性樹脂（Ｂ）を含んでもよい。電離放射線硬化性樹脂（Ａ）に電離放射線硬化性樹脂（Ｂ）を組み合わせて用いることで、樹脂組成物の硬化性及び塗工性、並びに、形成される透明導電層の硬度、耐候性などを向上させることができる点で好ましい。
　電離放射線硬化性樹脂（Ｂ）は、慣用されている重合性モノマー及び重合性オリゴマーないしはプレポリマーのうち、前記電離放射線硬化性樹脂（Ａ）以外のものを適宜選択して用いることができる。
　重合性モノマーとしては、分子中に（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート単量体が好適であり、なかでも多官能性（メタ）アクリレートモノマーが好ましい。
　多官能性（メタ）アクリレートモノマーとしては、分子内に（メタ）アクリロイル基を２個以上有する（メタ）アクリレートモノマーであればよく、特に制限はない。具体的にはエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、イソシアヌレートジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートなどのトリ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの４官能以上の（メタ）アクリレート；上記した多官能性（メタ）アクリレートモノマーのエチレンオキシド変性品、プロピレンオキシド変性品、カプロラクトン変性品、プロピオン酸変性品などが好ましく挙げられる。これらのなかでも、優れた硬度が得られる観点から、トリ（メタ）アクリレートよりも多官能の、すなわち３官能以上の（メタ）アクリレートが好ましい。これらの多官能性（メタ）アクリレートモノマーは１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　重合性オリゴマーとしては、分子中にラジカル重合性官能基を持つオリゴマー、例えば、エポキシ（メタ）アクリレート系、ウレタン（メタ）アクリレート系、ポリエステル（メタ）アクリレート系、ポリエーテル（メタ）アクリレート系のオリゴマーなどが好ましく挙げられる。さらに、重合性オリゴマーとしては、ポリブタジエンオリゴマーの側鎖に（メタ）アクリレート基をもつ疎水性の高いポリブタジエン（メタ）アクリレート系オリゴマー、主鎖にポリシロキサン結合をもつシリコーン（メタ）アクリレート系オリゴマーなども好ましく挙げられる。これらのオリゴマーは１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　重合性オリゴマーは、重量平均分子量（ＧＰＣ法で測定した標準ポリスチレン換算の重量平均分子量）が１，０００～２０，０００であることが好ましく、１，０００～１５，０００であることがより好ましい。
　また、重合性オリゴマーは、好ましくは２官能以上であり、より好ましくは３～１２官能、さらに好ましくは３～１０官能である。官能基数が上記範囲内であると、優れた硬度の透明導電層が得られる。

　上記電離放射線硬化性樹脂（Ｂ）のなかでも、重量平均分子量が１，０００以上の重合性オリゴマーを用いることが好ましく、重量平均分子量は１，０００～２０，０００がより好ましく、２，０００～１５，０００がさらに好ましい。形成される透明導電層に硬度を付与しつつ、架橋率が高すぎることによる硬化収縮の増大を抑え、基材フィルムへの密着性を維持できるからである。また、初期密着性だけでなく、紫外線等の環境因子を考慮した際の経時的な密着性（以下、「耐久密着性」ともいう。）を良好にすることができる。特に分子量３５０以下の電離放射線硬化性樹脂（Ａ）を用いた場合に、シクロオレフィンポリマーフィルム等の基材フィルムに塗布した際に低分子量の（Ａ）成分と高分子量の（Ｂ）成分とが相分離しやすくなり、（Ａ）成分が該フィルム側に選択的に移動して該フィルムに湿潤することで、形成される透明導電層の密着性がより向上する。また分子量３５０以下の電離放射線硬化性樹脂（Ａ）を用いると樹脂組成物の粘度が低くなる場合があるため、（Ｂ）成分として重量平均分子量が１，０００以上の重合性オリゴマーを使用して塗工性を向上させることが好ましい。

　透明導電層に関して、上記のように電離放射線硬化性樹脂（Ａ）がシクロオレフィンポリマーフィルム側に選択的に移動し、該フィルムに湿潤していることについては、赤外分光（ＩＲ）スペクトルなどにより確認することができる。例えば、シクロオレフィンポリマーフィルム上に透明導電層を形成した後、該透明導電層を採取して透過法で測定したＩＲスペクトルと、電離放射線硬化性樹脂（Ａ）、（Ｂ）についてそれぞれ単独で測定したＩＲスペクトルとを比較する。この場合、透明導電層を採取して測定したＩＲスペクトルにおいて、電離放射線硬化性樹脂（Ａ）に由来する吸収の割合が該（Ａ）成分の実際の配合割合に比べて低くなっていれば、電離放射線硬化性樹脂（Ａ）がシクロオレフィンポリマーフィルム側に選択的に移動して該フィルムに湿潤していると予測できる。

　透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物中の電離放射線硬化性樹脂（Ａ）の含有量は、該樹脂組成物を構成する樹脂成分の合計量に対し、好ましくは２０質量％以上であり、より好ましくは２０～９０質量％、さらに好ましくは２５～８０質量％、よりさらに好ましくは３０～７０質量％である。電離放射線硬化性樹脂（Ａ）が該樹脂組成物を構成する樹脂成分の合計量に対し２０質量％以上であれば、基材フィルムとしてシクロオレフィンポリマーフィルムを使用した場合も密着性に優れ、表面抵抗率の面内均一性及びその経時安定性にも優れる透明導電層を形成できる。
　また透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物中の電離放射線硬化性樹脂（Ｂ）の含有量は、該樹脂組成物を構成する樹脂成分の合計量に対し、好ましくは８０質量％以下であり、より好ましくは１０～８０質量％、さらに好ましくは２０～７５質量％、よりさらに好ましくは３０～７０質量％である。

〔導電性粒子〕
　導電性粒子は、電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて形成される透明導電層において、透明性を損なわずに導電性を付与するために用いられる。したがって当該導電性粒子は、透明導電層の厚みを薄くしても十分な導電性を付与することができ、着色が少なく、透明性が良好であり、耐候性に優れ、導電性の経時的変化が少ないものが好ましい。また、透明導電層の柔軟性が高すぎることにより上層である表面保護層の表面保護性能を低下させるのを回避する観点から、高硬度の粒子が好ましい。
　このような導電性粒子としては、金属粒子、金属酸化物粒子、及び、コア粒子の表面に導電性被覆層を形成したコーティング粒子などが好適に用いられる。
　金属粒子を構成する金属としては、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔなどが挙げられる。金属酸化物粒子を構成する金属酸化物としては、例えば、酸化錫（ＳｎＯ_２）、酸化アンチモン（Ｓｂ_２Ｏ_５）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ）、フッ素化酸化スズ（ＦＴＯ）、ＺｎＯなどが挙げられる。
　コーティング粒子としては、例えば、コア粒子の表面に導電性被覆層が形成された構成の粒子が挙げられる。コア粒子としては特に限定されず、例えば、コロイダルシリカ粒子、酸化ケイ素粒子等の無機粒子、フッ素樹脂粒子、アクリル樹脂粒子、シリコーン樹脂粒子等のポリマー粒子、及び、有機質無機質複合体粒子などが挙げられる。また、導電性被覆層を構成する材料としては、例えば、上述した金属又はこれらの合金や、上述した金属酸化物などが挙げられる。これらは１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
　なかでも、長期保管、耐熱性、耐湿熱性、耐候性が良好であるという観点から、導電性粒子は金属微粒子及び金属酸化物微粒子から選ばれる少なくとも１種が好ましく、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）粒子がより好ましい。

　導電性粒子は、平均一次粒子径が５～４０ｎｍであることが好ましい。５ｎｍ以上とすることにより、導電性粒子同士が透明導電層中で接触しやすくなるため、十分な導電性を付与するための導電性粒子の添加量を抑えることができる。また、４０ｎｍ以下とすることにより、透明性やその他の層との間の密着性が損なわれることを防止することができる。導電性粒子の平均一次粒子径のより好ましい下限は６ｎｍ、より好ましい上限は２０ｎｍである。

　ここで、導電性粒子の平均一次粒子径は、以下の（１）～（３）の作業により算出できる。
（１）光学積層体の断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）で撮像する。ＴＥＭ又はＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋＶ～３０ｋＶ、倍率は５万～３０万倍とすることが好ましい。
（２）観察画像から任意の１０個の粒子を抽出し、個々の粒子の粒子径を算出する。粒子径は、粒子の断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、該２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。
（３）同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子径の数平均から得られる値を粒子の平均一次粒子径とする。

　上記電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて得られる透明導電層は、厚みを薄くしても十分な導電性を付与することができ、着色が少なく、透明性が良好であり、耐候性に優れ、導電性の経時的変化が少ないことが好ましい。したがって当該樹脂組成物中の導電性粒子の含有量は、上記性能を付与できる範囲であれば特に制限はない。
　表面抵抗率の平均値を１．０×１０^７Ω／□以上、１．０×１０^１０Ω／□以下にする観点から、上記電離放射線硬化性樹脂組成物中の導電性粒子の含有量は、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対し、好ましくは１００～４００質量部、より好ましくは１５０～３５０質量部、さらに好ましくは２００～３００質量部である。導電性粒子の含有量を電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対し１００質量部以上にすることにより、光学積層体の表面抵抗率の平均値を１．０×１０^１０Ω／□以下にしやすく、４００質量部以下とすることにより、光学積層体の表面抵抗率の平均値を１．０×１０^７Ω／□以上にしやすい上、透明導電層が脆くならず、硬度を維持できるためである。

　電離放射線硬化性樹脂が紫外線硬化性樹脂である場合には、透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物は、光重合開始剤や光重合促進剤を含むことが好ましい。
　光重合開始剤としては、アセトフェノン、α－ヒドロキシアルキルフェノン、アシルホスフィンオキサイド、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α－アシルオキシムエステル、チオキサントン類等が挙げられる。また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合障害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステルなどが挙げられる。
　上記光重合開始剤、光重合促進剤は、それぞれ、１種を単独で、又は２種以上組み合わせて用いることができる。
　透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物が光重合開始剤を含む場合、その含有量は、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対し、好ましくは０．１～１０質量部、より好ましくは１～１０質量部、さらに好ましくは１～８質量部である。

　また透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物は、必要に応じその他の成分、例えば、屈折率調整剤、防眩剤、防汚剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、レベリング剤、易滑剤などの添加剤をさらに含有することができる。
　さらに、当該樹脂組成物は、溶剤を含有することができる。当該溶剤としては、樹脂組成物に含まれる各成分を溶解する溶剤であれば特に制限なく用いることができるが、ケトン類、エーテル類、アルコール類、あるいはエステル類が好ましい。上記溶剤は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
　当該樹脂組成物中の溶剤の含有量は、通常２０～９９質量％であり、好ましくは３０～９９質量％、より好ましくは７０～９９質量％である。溶剤の含有量が上記範囲内であると、基材フィルムへの塗工性に優れる。

　透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物の製造方法については特に制限はなく、従来公知の方法及び装置を用いて製造することができる。例えば、前記電離放射線硬化性樹脂、導電性粒子、並びに必要に応じ各種添加剤、溶剤を添加して混合することにより製造できる。導電性粒子は、予め溶剤に分散して調製した分散液を用いてもよい。

　透明導電層の厚みは、透明性を損なわずに所望の導電性を付与する点から、０．１～１０μｍであることが好ましく、０．３～５μｍであることがより好ましく、０．３～３μｍであることがさらに好ましい。
　透明導電層の厚みは、例えば、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出できる。ＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋＶ～３０ｋＶとすることが好ましく、ＳＴＥＭの観察倍率は１０００～７０００倍とすることが好ましい。

（表面保護層）
　本発明の光学積層体（Ｉ）は、前面板あるいは画像表示装置の製造工程上の傷つきを防止する観点から、表面保護層を有する。
　後述する本発明の画像表示装置（図７）に例示されるように、当該表面保護層は画像表示装置の最表面に設けられる表面保護部材よりも内側に位置することを想定したものである。したがって当該表面保護層は、画像表示装置の最表面の傷つきを防止するためのハードコートとは異なり、前面板あるいは画像表示装置の製造工程中に傷がつかない程度の硬度を有していればよい。

　表面保護層は、前面板あるいは画像表示装置の製造工程上の傷つきを防止する観点から、電離放射線硬化性樹脂を含む電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であることが好ましい。
　電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂は、慣用されている重合性モノマー及び重合性オリゴマーないしはプレポリマーの中から適宜選択して用いることができ、硬化性及び表面保護層の硬度を向上させる観点から、重合性モノマーであることが好ましい。
　重合性モノマーとしては、分子内にラジカル重合性官能基を有する（メタ）アクリレート系モノマーが好適であり、中でも多官能（メタ）アクリレート系モノマーが好ましい。多官能（メタ）アクリレート系モノマーとしては、前述の透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物において例示したものと同様のものが挙げられる。多官能（メタ）アクリレート系モノマーの分子量は、表面保護層の硬度を向上させる観点から、１，０００未満が好ましく、２００～８００がより好ましい。
　多官能（メタ）アクリレート系モノマーは１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　多官能（メタ）アクリレート系モノマーの官能基数は２以上であれば特に制限はないが、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化性及び表面保護層の硬度を向上させる観点から、２～８が好ましく、より好ましくは２～６、さらに好ましくは３～６である。

　電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化性、及び表面保護層の硬度を向上させる観点から、電離放射線硬化性樹脂中の多官能（メタ）アクリレート系モノマーの含有量は４０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましく、６０～１００質量％がさらに好ましい。

　電離放射線硬化性樹脂は、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化性、及び表面保護層の硬度を向上させる観点から、上記重合性モノマーのみで構成されることが好ましいが、重合性オリゴマーを併用してもよい。重合性オリゴマーとしては、前述の透明導電層形成用電離放射線硬化性樹脂組成物において例示したものと同様のものが挙げられる。

　電離放射線硬化性樹脂組成物は、さらに熱可塑性樹脂を含むこともできる。熱可塑性樹脂を併用することにより、透明導電層との接着性の向上や塗布膜の欠陥を有効に防止できるためである。
　該熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、酢酸ビニル樹脂、ビニルエーテル樹脂、ハロゲン含有樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ナイロン、セルロース樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン樹脂などの熱可塑性樹脂の単体及び共重合体、あるいは、これらの混合樹脂を好ましく挙げられる。これらの樹脂は、非結晶性であり、かつ溶剤に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性などの観点から、スチレン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂などが好ましく、（メタ）アクリル樹脂がより好ましく、ポリメチルメタクリレートがさらに好ましい。
　これらの熱可塑性樹脂は、分子中に反応性官能基を有さないことが好ましい。分子中に反応性官能基を有すると、硬化収縮量が大きくなり、表面保護層の透明導電層への接着性が低下するおそれがあるが、これを回避できるためである。また、熱可塑性樹脂が分子中に反応性官能基を有さないものであると、得られる光学積層体の表面抵抗率の制御が容易になる。なお、反応性基としては、アクリロイル基、ビニル基等の不飽和二重結合を有する官能基、エポキシ環、オキセタン環等の環状エーテル基、ラクトン環等の開環重合基、ウレタンを形成するイソシアネート基等が挙げられる。なお、これらの反応性官能基は、表面保護層の透明導電層への接着性や表面抵抗率に影響しない程度であれば含まれていてもよい。
　電離放射線硬化性樹脂組成物が熱可塑性樹脂を含む場合には、その含有量は、電離放射線硬化性樹脂組成物中の樹脂成分中、好ましくは１０質量％以上である。また、得られる表面保護層の耐擦傷性の観点から、好ましくは８０質量％以下であり、より好ましくは５０質量％以下である。なお、ここでいう「電離放射線硬化性樹脂組成物中の樹脂成分」には、電離放射線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、及びその他の樹脂を含むものである。

　電離放射線硬化性樹脂が紫外線硬化性樹脂である場合には、表面保護層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物は、光重合開始剤や光重合促進剤を含むことが好ましい。光重合開始剤、光重合促進剤は、前述の透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物において例示したものと同様のものが挙げられ、それぞれ、１種を単独で、又は２種以上組み合わせて用いることができる。
　光重合開始剤を用いる場合には、電離放射線硬化性樹脂組成物中の光重合開始剤の含有量は、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対し、好ましくは０．１～１０質量部、より好ましくは１～１０質量部、さらに好ましくは１～８質量部である。

　表面保護層は、紫外線吸収剤を含むことが好ましい。光学積層体（Ｉ）を画像表示装置に適用した際に、表面保護層よりも内側（表示素子側）に位置する透明導電層及び基材フィルム、及び光学積層体よりも内側（表示素子側）に位置する偏光子、位相差板、表示素子などの部材に対する、外光紫外線による劣化を防止するためである。
　表面保護層に用いられる紫外線吸収剤には特に制限はなく、例えば、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾオキサジン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、シアノアクリレート系化合物、及びこれらの重合体などが挙げられる。なかでも、紫外線吸収性の観点から、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物及びこれらの重合体から選ばれる１種以上が好ましく、紫外線吸収性、電離放射線硬化性樹脂組成物への溶解性の観点から、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物及びこれらの重合体から選ばれる１種以上がより好ましい。
　これらは１種を単独で、又は２種以上組み合わせて用いることができる。

　表面保護層中の紫外線吸収剤の含有量は、該表面保護層を構成する電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対し、好ましくは０．２～６０質量部、より好ましくは０．２～３０質量部、さらに好ましくは０．２～２０質量部である。紫外線吸収剤の含有量が電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対し０．２質量部以上であれば外光紫外線による劣化防止効果が十分であり、６０質量部以下であれば、前面板あるいは画像表示装置の製造工程上の傷つきを防止するだけの十分な硬度を保持しながら、紫外線吸収剤に由来する着色の少ない表面保護層とすることができる。

　表面保護層は、さらに通電粒子を含むことが好ましい。通電粒子とは、該通電粒子を含む表面保護層と、透明導電層との間の導通を取る役割を果たす粒子をいう。すなわち、通電粒子を含む表面保護層（以下、「導通性表面保護層」ともいう）は、基材フィルムと表面保護層との間に透明導電層を有する場合に好ましく設けられる。
　表面保護層が導通性表面保護層であると、本発明の光学積層体（Ｉ）、偏光子及び位相差板を順に積層した前面板とした際に、導通性表面保護層及び透明導電層が最表面に位置することから、導通性表面保護層又は透明導電層表面へのアース処理を容易に行うことができる。また、本発明の光学積層体（Ｉ）が透明導電層と導通性表面保護層とを有することにより、透明導電層の導電性が低くても表面抵抗率の面内均一性が良好であり、かつ、表面抵抗率が経時的にも安定しやすくなる。
　本発明の光学積層体（Ｉ）は、前述のように、表面抵抗率の平均値が１．０×１０^７Ω／□以上、１．０×１０^１０Ω／□以下であり、タッチパネルセンサー（電極）用の透明導電層と比較すると導電性は非常に低いものである。このような低導電性範囲で面内均一性を実現するのは困難である。しかしながら透明導電層と導通性表面保護層とを組み合わせることにより、表面抵抗率について高い面内均一性を達成することが容易になる。

　通電粒子としては特に限定されず、前述の導電性粒子と同様の金属粒子、金属酸化物粒子、及び、コア粒子の表面に導電性被覆層を形成したコーティング粒子等が挙げられる。なお、透明導電層からの導通を良好にする観点から、通電粒子は金メッキ粒子であることが好ましい。

　通電粒子の平均一次粒子径は、表面保護層の厚みに応じて適宜選択することができる。具体的には、通電粒子の平均一次粒子径は、表面保護層の厚みに対し５０％超、１５０％以下であることが好ましく、７０％超、１２０％以下であることがより好ましく、８５％超、１１５％以下であることがさらに好ましい。表面保護層の厚みに対する通電粒子の平均一次粒子径を上記とすることにより、透明導電層からの導通を良好にすることができ、かつ通電粒子が表面保護層から脱落することを防止できる。
　表面保護層中の通電粒子の平均一次粒子径は、以下の（１）～（３）の作業により算出できる。
（１）光学顕微鏡にて光学積層体の透過観察画像を撮像する。倍率は５００～２０００倍が好ましい。
（２）観察画像から任意の１０個の粒子を抽出し、個々の粒子の粒子径を算出する。粒子径は、粒子の断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、該２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。
（３）同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子径の数平均から得られる値を粒子の平均一次粒子径とする。

　表面保護層中の通電粒子の含有量は、該表面保護層を構成する電離放射線硬化性樹脂組成物中の電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して、０．５～４．０質量部であることが好ましく、０．５～３．０質量部であることがより好ましい。通電粒子の含有量を０．５質量部以上とすることにより、透明導電層からの導通を良好にすることができる。また、該含有量を４．０質量部以下とすることにより表面保護層の被膜性及び硬度の低下を防止できる。

　表面保護層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物には、その他の各種添加成分として、耐摩耗剤、艶消剤、耐傷フィラー等の充填剤、離型剤、分散剤、レベリング剤、ヒンダードアミン系の光安定剤（ＨＡＬＳ）等を含有させることができる。

　さらに、表面保護層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物は、溶剤を含有することができる。当該溶剤としては、樹脂組成物に含まれる各成分を溶解する溶剤であれば特に制限なく用いることができるが、ケトン類、あるいはエステル類が好ましく、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンから選ばれる少なくとも１種がより好ましい。上記溶剤は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
　電離放射線硬化性樹脂組成物中の溶剤の含有量は、通常２０～９０質量％であり、好ましくは３０～８５質量％、より好ましくは４０～８０質量％である。

　表面保護層の厚みは、光学積層体の用途や要求特性に応じて適宜選択できるが、硬度、加工適性、及び本発明の光学積層体を用いる表示装置の薄型化の観点からは、１～３０μｍが好ましく、２～２０μｍがより好ましく、２～１０μｍがさらに好ましい。表面保護層の厚みは、透明導電層と同様の方法で測定することができる。

　本発明の光学積層体（Ｉ）は、前述の基材フィルム、透明導電層、及び表面保護層を順に有していればよく、必要に応じその他の層を有してもよい。
　例えば、基材フィルムとは反対側の面に、さらに機能層を有していてもよい。機能層としては、反射防止層、屈折率調整層、防眩層、耐指紋層、防汚層、耐擦傷性層、抗菌層等が挙げられる。また、これら機能層は、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物から形成されてなるものが好ましく、電離放射線硬化性樹脂組成物から形成されてなるものがより好ましい。
　また該機能層として、上記以外に、本発明の効果を損なわない範囲で、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、可塑剤、着色剤などの添加剤を含有する層を設けることもできる。さらに、液晶表示装置に適用する光学積層体である場合、偏光サングラスを着用して液晶表示画面を見た時に生じる見えにくさや着色ムラを防止する目的で、高リタデーション層を設けることもできる。但し、１／４波長位相差機能を有する層が存在する場合は、該高リタデーション層は不要である。
　機能層の厚みは、光学積層体の用途や要求特性に応じて適宜選択できるが、硬度、加工適性、及び光学積層体を用いる表示装置の薄型化の観点からは、０．０５～３０μｍが好ましく、０．１～２０μｍがより好ましく、０．５～１０μｍがさらに好ましい。機能層が前述した高リタデーション層の場合は、厚みはこの限りではなく、好ましいリタデーションが得られる厚みであってよい。該機能層の厚みは、前記透明導電層と同様の方法で測定することができる。

　また本発明の光学積層体（Ｉ）の基材フィルム側の面には、製造工程用フィルムとして裏面フィルムを有していてもよい。これにより、基材フィルムとして厚みの薄いフィルムや、コシのないシクロオレフィンポリマーフィルムなどを用いた場合であっても、光学積層体の製造時及び加工時に平面性を維持し、表面抵抗率の面内均一性を保つことができる。当該裏面フィルムとしては特に制限はなく、ポリエステル系樹脂フィルム、ポリオレフィン系樹脂フィルムなどを用いることができる。保護性能の点からは弾性率の高いフィルムが好ましく、ポリエステル系樹脂フィルムがより好ましい。
　裏面フィルムの厚みは、光学積層体の製造時及び加工時の平面性維持の観点から、好ましくは１０μｍ以上であり、より好ましくは２０～２００μｍである。
　裏面フィルムは、例えば粘着層を介して、光学積層体の基材フィルム側の面と積層される。なお裏面フィルムは製造工程用フィルムであるため、例えば光学積層体を後述する偏光子と貼り合わせる際などに剥離される。

［第二発明：光学積層体（ＩＩ）］
　第二発明に係る本発明の光学積層体（ＩＩ）は、基材フィルム、透明導電層、及び表面保護層を順に有しており、該基材フィルムがシクロオレフィンポリマーフィルムであり、該光学積層体全体の厚みに対する該基材フィルムの厚みの比率が８０％以上、９５％以下であり、動的粘弾性測定装置を用いて周波数１０Ｈｚ、引張荷重５０Ｎ、昇温速度２℃／分の条件で測定した、温度１５０℃における該光学積層体の伸び率が５．０％以上、２０％以下であることを特徴とする。本発明の光学積層体（ＩＩ）は、上記の条件を満たすことにより、基材フィルムであるシクロオレフィンポリマーフィルムに対する透明導電層の密着性が良好で、可視光領域での光透過性が高く、かつ表面抵抗率の面内均一性が良好なものとなる。
　光学積層体全体の厚みに対する基材フィルムの厚みの比率が８０％未満であると、光学積層体の強度が低下する。また可視光領域での光透過性や所定の伸び特性が得られないことがある。一方、光学積層体全体の厚みに対する基材フィルムの厚みの比率が９５％を超えると、光学積層体における透明導電層及び表面保護層の厚み比率が低くなるので、所望の表面抵抗率や面内均一性、耐傷付き性が得られない。
　上記観点から、光学積層体（ＩＩ）全体の厚みに対する基材フィルムの厚みの比率は、好ましくは８２％以上、より好ましくは８５％以上であり、好ましくは９４％以下、より好ましくは９３％以下である。

　さらに本発明の光学積層体（ＩＩ）は、動的粘弾性測定装置を用いて周波数１０Ｈｚ、引張荷重５０Ｎ、昇温速度２℃／分の条件で測定した、温度１５０℃における伸び率が５．０％以上、２０％以下である。上記伸び率が５．０％未満であると、シクロオレフィンポリマーフィルムと透明導電層との密着性が低下する。一方、本発明の光学積層体（ＩＩ）の上記伸び率が２０％を超えると、変形による透明導電層の厚みにばらつきが生じやすく、表面抵抗率の面内均一性を確保することが困難となる。その結果、静電容量式のタッチパネルに用いた場合、動作性が不安定になるおそれがある。
　上記観点から、本発明の光学積層体（ＩＩ）の上記伸び率は、好ましくは６．０％以上、より好ましくは７．０％以上であり、好ましくは１８％以下、より好ましくは１５％以下である。
　光学積層体（ＩＩ）の伸び率は動的粘弾性測定装置を用いて測定することができ、具体的には実施例に記載の方法により測定できる。

　本発明の光学積層体（ＩＩ）の上記伸び率が上記範囲であることによりシクロオレフィンポリマーフィルムと透明導電層との密着性が得られる理由については、以下のように推察される。光学積層体（ＩＩ）の該伸び率が５．０％以上であれば、基材フィルムであるシクロオレフィンポリマーフィルムに対し、後述する、透明導電層を形成するための材料に含まれる低分子量成分が湿潤しやすくなる。そのため、形成される透明導電層の密着性が向上する。一方、光学積層体（ＩＩ）の該伸び率が２０％以下であれば、基材フィルムとして弾性率が低く変形しやすいシクロオレフィンポリマーフィルムを用いた場合でも、透明導電層や表面保護層を有する光学積層体全体がその変形に追従することができるので、密着性を維持することができる。

　光学積層体（ＩＩ）の伸び率を上記範囲に調整する方法としては、（１）基材フィルムであるシクロオレフィンポリマーフィルムの選択、（２）透明導電層の形成に用いる材料の選択、（３）表面保護層の形成に用いる材料の選択、（４）基材フィルム、透明導電層、表面保護層の厚み及び／又は厚み比の調整などが挙げられる。これらの方法は２種以上を組み合わせてもよい。各方法の好ましい態様については後述する。

（基材フィルム）
　本発明の光学積層体（ＩＩ）には、基材フィルムとしてシクロオレフィンポリマーフィルムを用いる。シクロオレフィンポリマーフィルムは、透明性、低吸湿性、耐熱性に優れる。なかでも、当該シクロオレフィンポリマーフィルムは、斜め延伸された１／４波長位相差フィルムであることが好ましい。シクロオレフィンポリマーフィルムが１／４波長位相差フィルムであると、液晶画面等の表示画面を偏光サングラスで観察した際に、表示画面に色の異なるムラ（ニジムラ）が生じることを防止できるため、視認性が良好である。またシクロオレフィンポリマーフィルムが斜め延伸されたフィルムであると、本発明の光学積層体（ＩＩ）と、前面板を構成する偏光子とを両者の光軸を合わせるように貼り合わせる際にも、本発明の光学積層体（ＩＩ）を斜め枚葉に裁断する必要がない。そのため、ロールトゥロールによる連続的な製造が可能になるとともに、斜め枚葉に裁断することによる無駄が少なくなるという効果を奏する。

　光学積層体（ＩＩ）全体の伸び率を５．０％以上に調整しやすくし、透明導電層との密着性を向上させる観点から、シクロオレフィンポリマーフィルムは、動的粘弾性測定装置を用いて周波数１０Ｈｚ、引張荷重５０Ｎ、昇温速度２℃／分の条件で測定した、温度１５０℃における単独での伸び率が、好ましくは５．０％以上、より好ましくは６．０％以上、さらに好ましくは７．０％以上であり、光学積層体（ＩＩ）の表面抵抗率の面内均一性を維持する観点から、好ましくは２５％以下、より好ましくは１８％以下、さらに好ましくは１５％以下である。当該伸び率の測定方法は前述の光学積層体の場合と同じである。
　また透明導電層との密着性を向上させる観点から、シクロオレフィンポリマーフィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）は好ましくは１５０℃以下、より好ましくは１４０℃以下、さらに好ましくは１３０℃以下である。シクロオレフィンポリマーフィルムのＴｇが１５０℃以下であると、透明導電層を形成するための材料に含まれる低分子量成分により湿潤しやすく、これにより基材フィルムであるシクロオレフィンポリマーと透明導電層との密着性が向上するという効果が得られる。
　シクロオレフィンポリマーフィルムのＴｇは、例えば示差走査熱量計により測定することができる。

　シクロオレフィンポリマーとしては、ノルボルネン系樹脂、単環の環状オレフィン系樹脂、環状共役ジエン系樹脂、ビニル脂環式炭化水素系樹脂、及び、これらの水素化物などを挙げることができる。なかでも、透明性及び成形性の観点から、ノルボルネン系樹脂が好ましい。ノルボルネン系樹脂としては、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体もしくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との開環共重合体又はそれらの水素化物；ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体もしくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との付加共重合体又はそれらの水素化物；などを挙げることができる。

　光学積層体（ＩＩ）に用いるシクロオレフィンポリマーフィルムは、本発明の効果を損なわない範囲で、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、可塑剤、着色剤などの添加剤を含有することができる。好ましい添加剤及びその含有量は、光学積層体（Ｉ）の基材フィルムにおいて記載した添加剤及びその含有量と同じである。

　斜め延伸フィルムの配向角は、フィルムの幅方向に対して、好ましくは２０～７０°、より好ましくは３０～６０°、さらに好ましくは４０～５０°であり、４５°が特に好ましい。斜め延伸フィルムの配向角が４５°であると完全な円偏光になるためである。また、本発明の光学積層体を偏光子の光軸と合わせるように貼り合わせる際にも斜め枚葉に裁断する必要がなく、ロールトゥロールによる連続的な製造が可能になる。

　上記シクロオレフィンポリマーフィルムは、シクロオレフィンポリマーを製膜、延伸する際に、延伸倍率や延伸温度、膜厚を適宜調整することにより得ることができる。市販のシクロオレフィンポリマーとしては、「Ｔｏｐａｓ」（商品名、Ｔｉｃｏｎａ社製）、「アートン」（商品名、ＪＳＲ（株）製）、「ゼオノア」及び「ゼオネックス」（いずれも商品名、日本ゼオン（株）製）、「アペル」（三井化学（株）製）などが挙げられる。
　また、市販のシクロオレフィンポリマーフィルムを用いることもできる。当該フィルムとしては、「ゼオノアフィルム」（商品名、日本ゼオン（株）製）、「アートンフィルム」（商品名、ＪＳＲ（株）製）などが挙げられる。

　光学積層体（ＩＩ）に用いるシクロオレフィンポリマーフィルムの全光線透過率は通常７０％以上であり、好ましくは８５％以上である。なお、全光線透過率は、紫外可視分光光度計を用いて測定することができる。
　また、シクロオレフィンポリマーフィルムの厚みは、強度、加工適性、及び光学積層体（ＩＩ）を用いる前面板及び画像表示装置の薄型化の観点から、４～２００μｍの範囲が好ましく、４～１７０μｍがより好ましく、２０～１３５μｍがさらに好ましく、２０～１２０μｍがよりさらに好ましい。

（透明導電層）
　本発明の光学積層体（ＩＩ）が有する透明導電層は、静電容量式のタッチパネルに適用すると、タッチパネルの面内電位を一定にし、動作性を安定させるという効果を奏する。この効果を発揮する観点からは、特に、後述する導通性表面保護層と組み合わせることが好ましい。またインセルタッチパネルにおいて、透明導電層は、従来の外付け型やオンセル型において導電性部材として働いていたタッチパネルの代替的役割を有する。インセルタッチパネルを搭載した液晶表示素子の前面に上記透明導電層を有する光学積層体を用いると、該透明導電層は液晶表示素子より操作者側に位置することになるので、タッチパネル表面で発生した静電気を逃がすことができ、該静電気により液晶画面が部分的に白濁することを防止できる。この観点から、透明導電層は厚みを薄くしても十分な導電性を付与することができ、着色が少なく、透明性が良好であり、耐候性に優れ、導電性の経時的変化が少ないことが好ましい。

　さらに透明導電層は、光学積層体（ＩＩ）の引張伸び率を所定の範囲になるよう調整して、基材フィルムであるシクロオレフィンポリマーフィルムへの密着性を発現する観点から、柔軟性を有することが好ましい。この観点から、基材フィルムと透明導電層とからなる積層物の、ＪＩＳ　Ｋ７１６１－１：２０１４に準拠して引張試験法により温度２３±２℃、引張速度０．５ｍｍ／分の条件で測定される応力－ひずみ曲線の上降伏点におけるひずみ値は、好ましくは１．０％以上、より好ましくは１．５％以上、さらに好ましくは２．０％以上である。また、光学積層体（ＩＩ）の表面抵抗率の面内均一性を維持する観点、及び、柔軟性が高すぎることにより上層である表面保護層の表面保護性能を低下させるのを回避する観点から、当該上降伏点におけるひずみ値は、好ましくは８．０％以下、より好ましくは６．０％以下、さらに好ましくは５．０％以下である。なお、上記積層物の上降伏点におけるひずみ値は、基材フィルムであるシクロオレフィンポリマーフィルム単独での上降伏点におけるひずみ値よりも高い値であることが好ましい。換言すると、透明導電層の上降伏点におけるひずみ値が、シクロオレフィンポリマーフィルムの上降伏点におけるひずみ値よりも高いことが好ましい。
　上記ひずみ値はＪＩＳ　Ｋ７１６１－１：２０１４に準拠した方法で引張試験機を用いて測定することができ、詳しくは実施例に記載の方法により測定できる。

　当該透明導電層を構成する材料には特に制限はないが、透明導電層は、電離放射線硬化性樹脂と導電性粒子とを含む電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であることが好ましい。なかでも、光学積層体（ＩＩ）の引張伸び率を所定の範囲に調整する観点、表面抵抗率の面内均一性及び経時安定性、並びに、基材フィルムであるシクロオレフィンポリマーフィルムへの密着性に優れる点から、分子内に脂環式構造を有する電離放射線硬化性樹脂（Ａ）と導電性粒子とを含む電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であることがより好ましい。
　また、透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物は、前記電離放射線硬化性樹脂（Ａ）以外の電離放射線硬化性樹脂（Ｂ）を含んでもよい。電離放射線硬化性樹脂（Ａ）に電離放射線硬化性樹脂（Ｂ）を組み合わせて用いることで、樹脂組成物の硬化性及び塗工性、並びに、形成される透明導電層の硬度、耐候性などを向上させることができる点で好ましい。
　透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物を構成する各成分、及びその好ましい態様は、光学積層体（Ｉ）の透明導電層において記載したものと同じである。

　上記電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて得られる透明導電層は、厚みを薄くしても十分な導電性を付与することができ、着色が少なく、透明性が良好であり、耐候性に優れ、導電性の経時的変化が少ないことが好ましい。
　例えば、静電容量式のインセルタッチパネル搭載液晶表示装置に用いる光学積層体においては、タッチパネルを安定して動作させる観点、及び、指でタッチした際などに、タッチパネル表面で発生した静電気に起因する液晶画面の白濁を防止する観点から、光学積層体（ＩＩ）の表面抵抗率の平均値を１．０×１０^７Ω／□以上、１．０×１０^１０Ω／□以下にすることが好ましい。当該表面抵抗率の平均値は、上記観点から、好ましくは１．０×１０^８Ω／□以上であり、好ましくは２．０×１０^９Ω／□以下、より好ましくは１．５×１０^９Ω／□以下、さらに好ましくは１．０×１０^９Ω／□以下の範囲である。
　上記表面抵抗率は、前述の光学積層体（Ｉ）に記載した方法と同様の方法で測定できる。

　透明導電層の厚みは、光学積層体の伸び率を所定の範囲に調整する観点、及び透明性を損なわずに所望の導電性を付与する点から、０．１～１０μｍであることが好ましく、０．３～５μｍであることがより好ましく、０．３～３μｍであることがさらに好ましい。透明導電層の厚みは前述の光学積層体（Ｉ）に記載した方法と同様の方法で測定できる。

（表面保護層）
　表面保護層は、光学積層体の伸び率を所定の範囲に調整する観点、及び画像表示装置の製造工程上の傷つきを防止する観点から、電離放射線硬化性樹脂を含む電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であることが好ましい。
　電離放射線硬化性樹脂組成物を構成する各成分、及びその好ましい態様は、光学積層体（Ｉ）の表面保護層において記載したものと同じである。

　表面保護層の厚みは、光学積層体（ＩＩ）の用途や要求特性に応じて適宜選択できるが、光学積層体（ＩＩ）の引張伸び率を所定の範囲に調整する観点、硬度、加工適性、及び本発明の光学積層体（ＩＩ）を用いる表示装置の薄型化の観点からは、０．９～４０μｍが好ましく、２～２０μｍがより好ましく、２～１０μｍがさらに好ましい。表面保護層の厚みは、透明導電層と同様の方法で測定することができる。

　光学積層体（ＩＩ）は、光学積層体（Ｉ）と同様に、前述の基材フィルム、透明導電層、及び表面保護層を順に有していればよく、必要に応じその他の層を有してもよい。また光学積層体（Ｉ）と同様に、本発明の光学積層体（ＩＩ）の基材フィルム側の面には、製造工程用フィルムとして裏面フィルムを有していてもよい。

（光学積層体（Ｉ）（ＩＩ）の製造方法）
　本発明の光学積層体（Ｉ）（ＩＩ）の製造方法には特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。例えば、基材フィルム、透明導電層、及び表面保護層を順に有する３層構成の光学積層体であれば、基材フィルム上に前述の透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて透明導電層を形成し、この上に表面保護層を形成することにより製造できる。基材フィルムには、透明導電層形成面と反対側の面に予め裏面フィルムを積層しておいてもよい。
　まず、透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物を前述の方法で調製した後、硬化後に所望の厚みとなるように基材フィルム上に塗布する。塗布方法としては特に制限はなく、ダイコート、バーコート、ロールコート、スリットコート、スリットリバースコート、リバースロールコート、グラビアコートなどが挙げられる。さらに、必要に応じて乾燥させて、基材フィルム上に未硬化樹脂層を形成する。
　次いで、該未硬化樹脂層に、電子線、紫外線等の電離放射線を照射して該未硬化樹脂層を硬化させ、透明導電層を形成する。ここで、電離放射線として電子線を用いる場合、その加速電圧については、用いる樹脂や層の厚みに応じて適宜選定し得るが、通常加速電圧７０～３００ｋＶ程度で未硬化樹脂層を硬化させることが好ましい。
　電離放射線として紫外線を用いる場合には、通常波長１９０～３８０ｎｍの紫外線を含むものを放射する。紫外線源としては特に制限はなく、例えば高圧水銀燈、低圧水銀燈、メタルハライドランプ、カーボンアーク燈等が用いられる。

　表面保護層は、前述の表面保護層形成用電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて形成することが好ましい。例えば、前記の電離放射線硬化性樹脂、及び必要に応じ用いられる紫外線吸収剤、通電粒子、その他の各種添加剤を、それぞれ所定の割合で均質に混合し、電離放射線硬化性樹脂組成物からなる塗工液を調製する。このようにして調製された塗工液を、透明導電層上に塗布し、必要に応じて乾燥させた後硬化させて、電離放射線硬化性樹脂組成物からなる表面保護層を形成することができる。樹脂組成物の塗布方法及び硬化方法は、前述の透明導電層の形成方法と同様である。
　光学積層体（Ｉ）（ＩＩ）は、後述する第四発明に係る製造方法を用いて製造することもできる。

（光学積層体（Ｉ）（ＩＩ）の構成）
　ここで、本発明の光学積層体（Ｉ）及び（ＩＩ）について、図２を用いて説明する。図２は本発明の光学積層体（Ｉ）及び（ＩＩ）の実施形態の一例を示す断面模式図である。図２に示す光学積層体１Ａは、基材フィルム２Ａ、透明導電層３Ａ、及び表面保護層４Ａを順に有している。透明導電層３Ａは好ましくは前述した電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物である。また、図２に示す表面保護層４Ａは通電粒子４１Ａを含む導通性表面保護層である。

　図２の構成を有する光学積層体は、表面抵抗率の面内均一性が良好であることから、静電容量式のタッチパネルに用いると該タッチパネルに安定した動作性を付与でき、特にインセル型のタッチパネルを搭載した画像表示装置において好適に用いられる。前述のように、インセルタッチパネル搭載液晶表示装置では、タッチパネル表面で発生する静電気により液晶画面が白濁するという現象が起こる。そこで、インセルタッチパネル搭載液晶表示素子の前面に図２の光学積層体を用いれば、帯電防止機能が付与されるので静電気を逃がすことができ、上記白濁を防止することができる。

　特に、表面保護層４Ａが導通性表面保護層であることが好ましい。導通性表面保護層中の通電粒子４１Ａが、導通性表面保護層の表面と透明導電層３Ａとの間の導通を取り、透明導電層に達した静電気をさらに厚み方向に流して、表面保護層の表面側（操作者側）に所望の表面抵抗率を付与することができる。さらには、表面抵抗率の面内均一性及び経時安定性が良好になり、静電容量式タッチパネルの動作性が安定して発現される。
　透明導電層は面方向（Ｘ方向、Ｙ方向）及び厚み方向（ｚ方向）への導電性を有しているのに対して、導通性表面保護層は、厚み方向の導電性を有していれば足りる。したがって、導通性表面保護層は面方向の導電性は必ずしも必要ないという点で役割が相違する。

［第三発明：光学積層体（ＩＩＩ）］
　第三発明に係る本発明の光学積層体（ＩＩＩ）は、セルロース系基材フィルム、安定化層、及び導電層を順に有しており、ＪＩＳ　Ｋ６９１１に準拠して測定した表面抵抗率の平均値が１．０×１０^７Ω／□以上、１．０×１０^１２Ω／□以下の範囲にあり、かつ該表面抵抗率の標準偏差σを該平均値で除した値が０．２０以下であることを特徴とする。
　第三発明において「安定化層」とは、光学積層体（ＩＩＩ）の表面抵抗率の面内均一性を安定化させる機能を有する層であり、詳しくは後述する。当該安定化層を有することで、本発明の光学積層体（ＩＩＩ）は、基材フィルムとしてセルロース系基材フィルムを用いても表面抵抗率の面内均一性が高く、静電容量式タッチパネルに用いた際に安定した動作性を発現することができる。
　当該表面抵抗率の平均値は、１．０×１０^７Ω／□以上であり、また、光学積層体（ＩＩＩ）を静電容量式タッチパネルに用いた際の動作性及び動作精度の観点から、好ましくは５．０×１０^１１Ω／□以下、より好ましくは１．０×１０^１１Ω／□以下、さらに好ましくは５．０×１０^１０Ω／□以下である。
　また、光学積層体（ＩＩＩ）の前記表面抵抗率の標準偏差σを該平均値で除した値（［表面抵抗率の標準偏差σ］／［表面抵抗率の平均値］）が０．２０を超えると、表面抵抗率の面内のばらつきが大きいため、静電容量式タッチパネルに用いた際に動作性が低下する。この観点から、当該［表面抵抗率の標準偏差σ］／［表面抵抗率の平均値］は、好ましくは０．１８以下、より好ましくは０．１５以下である。

　光学積層体（ＩＩＩ）の表面抵抗率の平均値は１．０×１０^７Ω／□以上、１．０×１０^１２Ω／□以下であり、この範囲であれば静電容量式タッチパネルに用いた際に動作性が良好である。また、該表面抵抗率の平均値が１．０×１０^７Ω／□以上、１．０×１０^１０Ω／□以下である場合にはタッチパネル操作における動作精度が良好であり、１．０×１０^１０Ω／□超、１．０×１０^１２Ω／□以下である場合にはタッチパネル操作における感度が良好になる。

　上記表面抵抗率はＪＩＳ　Ｋ６９１１：１９９５に準拠して測定されるが、その平均値及び標準偏差は、例えば光学積層体（Ｉ）において記載した方法Ａにより測定することができる。

　また、表面抵抗率の経時安定性の観点から、該光学積層体（ＩＩＩ）を８０℃で２５０時間保持した後に測定される表面抵抗率の、該保持前の表面抵抗率に対する比（光学積層体（ＩＩＩ）を８０℃で２５０時間保持した後の表面抵抗率／光学積層体（ＩＩＩ）を８０℃で２５０時間保持する前の表面抵抗率）が、すべての測定点において０．４０～２．５の範囲であることが好ましい。より好ましくは、０．５０～２．０の範囲である。当該表面抵抗率の比は、具体的には実施例に記載の方法により測定できる。
　当該表面抵抗率の比が上記範囲であると、該光学積層体（ＩＩＩ）は環境変化による表面抵抗率の変化が少ないことから、静電容量式のタッチパネルに用いた際に安定した動作性を長期間維持することができる。

　光学積層体（ＩＩＩ）の表面抵抗率の平均値及びばらつきを上記範囲に調整する方法としては、（１）安定化層の形成に用いる材料及び厚みの選択、（２）導電層の形成に用いる材料及び厚みの選択、並びに（３）特定の層構成の適用、などが挙げられる。これらについては後述する。

（セルロース系基材フィルム）
　光学積層体（ＩＩＩ）に用いる基材フィルムは、セルロース系基材フィルムである。セルロース系基材フィルムの全光線透過率は通常７０％以上であり、８５％以上であることが好ましい。なお、全光線透過率は、紫外可視分光光度計を用い、室温、大気中で測定することができる。
　セルロース系基材フィルムとしては、光透過性に優れる点からセルロースエステルフィルムが好ましく、例えば、トリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）、ジアセチルセルロースフィルムが挙げられる。なかでも、光透過性に優れ、屈折率異方性が小さい点から、トリアセチルセルロースフィルムが好ましい。
　なお、トリアセチルセルロースフィルムとしては、純粋なトリアセチルセルロース以外に、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどの、セルロースとエステルを形成する脂肪酸として酢酸以外の成分を併用したフィルムでもよい。
　またセルロース系基材フィルムは、１軸又は２軸等で延伸処理されたものでもよい。

　セルロース系基材フィルムは、光学特性に優れ、かつ、前記浸透性を有する点で好ましい。
　通常、光学積層体に用いる基材フィルムと、これに隣接する層との屈折率が異なる場合には、その界面に由来する界面反射、あるいは干渉縞が発生することがある。このような光学積層体を画像表示装置に適用すると、画像の視認性を低下させる場合がある。しかしながら、セルロース系基材フィルムのような浸透性基材上に安定化層を形成する場合には、該安定化層形成用の樹脂組成物を塗布した際に、該組成物中の溶剤や低分子量成分がセルロース系基材フィルムに含浸する。この状態で該組成物を硬化させると、基材フィルムと安定化層との界面付近に浸透層が形成されて界面が不明瞭になる。その結果、基材フィルムと安定化層とで屈折率が異なる材料を用いた場合でも、上記界面反射及びこれに由来する干渉縞を低減させることができるという効果を有する。

　光学積層体（ＩＩＩ）に用いるセルロース系基材フィルムは、本発明の効果を損なわない範囲で、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、可塑剤、着色剤などの添加剤を含有することができる。なかでも、セルロース系基材フィルムは紫外線吸収剤を含有していることが好ましい。該基材フィルムが紫外線吸収剤を含有することにより、外光紫外線による劣化を防止する効果があるためである。
　当該紫外線吸収剤としては特に制限はなく、公知の紫外線吸収剤を用いることができる。例えば、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾオキサジン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、シアノアクリレート系化合物等が挙げられる。なかでも、耐候性、色味の観点から、ベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。上記紫外線吸収剤は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
　セルロース系基材フィルム中の紫外線吸収剤の含有量は、好ましくは０．１～１０質量％、より好ましくは０．５～５質量％、さらに好ましくは１～５質量％である。紫外線吸収剤の含有量が上記範囲であれば、波長３８０ｎｍにおける光学積層体（ＩＩＩ）の透過率を３０％以下に抑えることができ、かつ紫外線吸収剤を含有することによる黄色味を抑えることができる。

　セルロース系基材フィルムの厚みは、強度、加工適性、及び光学積層体（ＩＩＩ）を用いる前面板及び画像表示装置の薄型化の観点から、４～２００μｍの範囲が好ましく、４～１７０μｍがより好ましく、２０～１３５μｍがさらに好ましく、２０～１００μｍがよりさらに好ましい。

（安定化層）
　光学積層体（ＩＩＩ）が有する安定化層は、光学積層体（ＩＩＩ）の表面抵抗率の面内均一性を安定化させる機能を有する層である。当該安定化層を有することで、光学積層体（ＩＩＩ）は前記セルロース系基材フィルムを用いた場合でも、表面抵抗率の面内均一性を高くすることができ、静電容量式タッチパネルに用いた際に安定した動作性を発現することができる。
　安定化層が上記効果を奏する理由については、次のように考えられる。セルロース系基材フィルムは浸透性を有するため、この上に溶剤、その他の分子量１，０００未満の低分子量成分、並びに導電剤（後述する導電性粒子など）を含む材料を用いて導電層を形成しようとすると、該導電層の膜厚が安定せず、あるいは、導電層形成用材料中の上記各成分が基材フィルム中に浸透して、必要な導電性及びその面内均一性が得られないなどの問題が生じる。しかしながら、セルロース系基材フィルム上に安定化層を形成すると、この上に導電層形成用材料を塗布した際に、該材料中の上記各成分の基材フィルムへの浸透が抑制される。その結果、安定化層上に形成される導電層中の導電性粒子が散在せず、局在化させることができるので、目標とする導電性が得られ、かつ、表面抵抗率のばらつきも抑えることができると考えられる。また、得られる光学積層体を高温環境下で保存した後の表面抵抗率の安定性も良好になる。

　当該安定化層は、上記特性を付与する観点から、電離放射線硬化性樹脂を含む電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であることが好ましい。安定化層が電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であれば、セルロース系基材フィルムへの導電層形成用材料の浸透を効果的に抑制することができる。そのため、該安定化層を有する光学積層体（ＩＩＩ）は、セルロース系基材フィルムを用いた場合でも目標とする導電性が得られ、かつ、表面抵抗率の面内均一性も高くすることができる。さらに、安定化層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物は、セルロース系基材フィルム上に塗布した際に、該樹脂組成物中の低分子量成分が該基材フィルムに浸透する。この状態で該樹脂組成物が硬化して安定化層が形成されるので、セルロース系基材フィルムと安定化層との密着性も良好になる。

＜電離放射線硬化性樹脂＞
　安定化層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂は、慣用されている重合性モノマー及び重合性オリゴマーないしはプレポリマーを適宜選択して用いることができる。なかでも、電離放射線硬化性樹脂としては重合性モノマー及び／又は重合性オリゴマーが好ましく、セルロース系基材フィルムへの導電層形成用材料の浸透抑制、並びにセルロース系基材フィルムに対する安定化層の密着性向上の観点から、分子量１，０００未満の重合性モノマーがより好ましい。
　重合性モノマーとしては、分子中に（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート単量体が好適であり、なかでも多官能性（メタ）アクリレートモノマーが好ましい。
　多官能性（メタ）アクリレートモノマーとしては、分子内に（メタ）アクリロイル基を２個以上有する（メタ）アクリレートモノマーであればよく、特に制限はない。具体的にはエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、イソシアヌレートジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートなどのトリ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの４官能以上の（メタ）アクリレート；上記した多官能性（メタ）アクリレートモノマーのエチレンオキシド変性品、プロピレンオキシド変性品、カプロラクトン変性品、プロピオン酸変性品などが好ましく挙げられる。これらのなかでも、優れた硬度が得られる観点から、トリ（メタ）アクリレートよりも多官能の、すなわち３官能以上の（メタ）アクリレートが好ましく、セルロース系基材フィルムへの導電層形成用材料の浸透抑制、並びにセルロース系基材フィルムに対する安定化層の密着性向上の観点から、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート及びペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも１種がより好ましい。これらの多官能性（メタ）アクリレートモノマーは１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　重合性オリゴマーとしては、分子中にラジカル重合性官能基を持つオリゴマー、例えば、エポキシ（メタ）アクリレート系、ウレタン（メタ）アクリレート系、ポリエステル（メタ）アクリレート系、ポリエーテル（メタ）アクリレート系のオリゴマーなどが好ましく挙げられる。さらに、重合性オリゴマーとしては、ポリブタジエンオリゴマーの側鎖に（メタ）アクリレート基をもつ疎水性の高いポリブタジエン（メタ）アクリレート系オリゴマー、主鎖にポリシロキサン結合をもつシリコーン（メタ）アクリレート系オリゴマーなども好ましく挙げられる。これらのオリゴマーは１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　重合性オリゴマーは、重量平均分子量（ＧＰＣ法で測定した標準ポリスチレン換算の重量平均分子量）が１，０００～２０，０００であることが好ましく、１，０００～１５，０００であることがより好ましい。
　また、重合性オリゴマーは、好ましくは２官能以上であり、より好ましくは３～１２官能、さらに好ましくは３～１０官能である。官能基数が上記範囲内であると、得られる安定化層は、セルロース系基材フィルムへの導電層形成用材料の浸透を効果的に抑制できる。

　電離放射線硬化性樹脂組成物は、さらに熱可塑性樹脂を含むこともできる。熱可塑性樹脂を併用することにより、基材フィルムとの接着性の向上や塗布膜の欠陥を有効に防止できる。
　該熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、酢酸ビニル樹脂、ビニルエーテル樹脂、ハロゲン含有樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ナイロン、セルロース樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン樹脂などの熱可塑性樹脂の単体及び共重合体、あるいは、これらの混合樹脂を好ましく挙げられる。これらの樹脂は、非結晶性であり、かつ溶剤に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性などの観点から、スチレン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂などが好ましく、（メタ）アクリル樹脂がより好ましく、ポリメチルメタクリレートがさらに好ましい。
　これらの熱可塑性樹脂は、分子中に反応性官能基を有さないことが好ましい。分子中に反応性官能基を有すると、硬化収縮量が大きくなり、安定化層の接着性が低下するおそれがあるが、これを回避できるためである。また、熱可塑性樹脂が分子中に反応性官能基を有さないものであれば、得られる光学積層体の表面抵抗率の制御が容易になる。なお、反応性基としては、アクリロイル基、ビニル基等の不飽和二重結合を有する官能基、エポキシ環、オキセタン環等の環状エーテル基、ラクトン環等の開環重合基、ウレタンを形成するイソシアネート基等が挙げられる。なお、これらの反応性官能基は、安定化層の接着性や表面抵抗率に影響しない程度であれば含まれていてもよい。

　安定化層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物中の電離放射線硬化性樹脂の含有量は、該樹脂組成物を構成する樹脂成分の合計量に対し、好ましくは２０質量％以上であり、より好ましくは２０～９５質量％、さらに好ましくは２５～８５質量％、よりさらに好ましくは３０～８０質量％である。電離放射線硬化性樹脂が該樹脂組成物を構成する樹脂成分の合計量に対し２０質量％以上であれば、密着性に優れ、低分子量成分の浸透の少ない安定化層を形成できる。なお、ここでいう「電離放射線硬化性樹脂組成物中の樹脂成分」には、電離放射線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、及びその他の樹脂を含むものである。
　電離放射線硬化性樹脂組成物が熱可塑性樹脂を含む場合には、その含有量は、電離放射線硬化性樹脂組成物中の樹脂成分中、好ましくは１０質量％以上である。また、得られる安定化層の基材フィルムとの密着性の観点から、好ましくは８０質量％以下であり、より好ましくは５０質量％以下である。セルロース系基材フィルムへの導電層形成用材料の浸透を効果的に抑制する観点からは、安定化層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物は熱可塑性樹脂を含まないことが好ましい。

　安定化層の形成に用いられる電離放射線硬化性樹脂が紫外線硬化性樹脂である場合には、安定化層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物は、光重合開始剤や光重合促進剤を含むことが好ましい。
　光重合開始剤としては、アセトフェノン、α－ヒドロキシアルキルフェノン、アシルホスフィンオキサイド、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α－アシルオキシムエステル、チオキサントン類等が挙げられる。また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合障害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルエステルなどが挙げられる。
　上記光重合開始剤、光重合促進剤は、それぞれ、１種を単独で、又は２種以上組み合わせて用いることができる。
　安定化層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物が光重合開始剤を含む場合、その含有量は、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対し、好ましくは０．１～１０質量部、より好ましくは１～１０質量部、さらに好ましくは５～１０質量部である。

　また安定化層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物は、必要に応じその他の成分、例えば、屈折率調整剤、防眩剤、防汚剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、レベリング剤、易滑剤などの添加剤をさらに含有することができる。
　さらに、当該樹脂組成物は、溶剤を含有することができる。当該溶剤としては、樹脂組成物に含まれる各成分を溶解する溶剤であれば特に制限なく用いることができるが、ケトン類、エーテル類、アルコール類、あるいはエステル類が好ましい。上記溶剤は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
　当該樹脂組成物中の溶剤の含有量は、通常２０～９９質量％であり、好ましくは３０～９９質量％、より好ましくは７０～９９質量％である。溶剤の含有量が上記範囲内であると、塗工性に優れる。

　安定化層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物の製造方法については特に制限はなく、従来公知の方法及び装置を用いて製造することができる。例えば、前記電離放射線硬化性樹脂、並びに必要に応じ各種添加剤、溶剤を添加して混合することにより製造できる。

　安定化層の厚みは、前述の効果を奏することで光学積層体（ＩＩＩ）の表面抵抗率の面内均一性を得る点から、好ましくは５０ｎｍ以上、より好ましくは７０ｎｍ以上、さらに好ましくは９０ｎｍ以上、よりさらに好ましくは２００ｎｍ以上である。また、光学積層体（ＩＩＩ）の反りを抑制する観点からは、１０μｍ未満であることが好ましく、８．０μｍ以下であることがより好ましく、５．０μｍ以下であることがさらに好ましい。
　安定化層の厚みは、例えば、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出できる。ＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋＶ～３０ｋＶとすることが好ましく、ＳＴＥＭの観察倍率は１０００～７０００倍とすることが好ましい。

（導電層）
　光学積層体（ＩＩＩ）が有する導電層は、静電容量式のタッチパネルに適用すると、タッチパネルの面内電位を一定にし、動作性を安定化させるという効果を奏する。またインセルタッチパネルにおいて、導電層は、従来の外付け型やオンセル型において導電性部材として働いていたタッチパネルの代替的役割を有する。インセルタッチパネルを搭載した液晶表示素子の前面に上記導電層を有する光学積層体を用いると、該導電層は液晶表示素子より操作者側に位置することになるので、タッチパネル表面で発生した静電気を逃がすことができ、該静電気により液晶画面が部分的に白濁することを防止できる。この観点から、導電層は厚みを薄くしても十分な導電性を付与することができ、着色が少なく、透明性が良好であり、耐候性に優れ、導電性の経時的変化が少ないことが好ましい。

　当該導電層を構成する材料には特に制限はないが、上記特性を付与する観点から、電離放射線硬化性樹脂と導電性粒子とを含む電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であることが好ましい。また、導電層上に後述する機能層を積層しない場合には、前面板あるいは画像表示装置の製造工程上の傷つきを防止できる程度の硬度を付与することが望ましいためである。

＜電離放射線硬化性樹脂＞
　導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂は、慣用されている重合性モノマー及び重合性オリゴマーないしはプレポリマーを適宜選択して用いることができる。
　重合性モノマーとしては、分子中に（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート単量体が好適であり、なかでも多官能性（メタ）アクリレートモノマーが好ましい。
　多官能性（メタ）アクリレートモノマー及びその好ましい態様は、前述の安定化層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物において例示したものと同じである。多官能性（メタ）アクリレートモノマーは１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　重合性オリゴマー及びその好ましい態様は、前述の安定化層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物において例示したものと同じである。
　重合性オリゴマーは、重量平均分子量が１，０００～２０，０００であることが好ましく、１，０００～１５，０００であることがより好ましい。
　また、重合性オリゴマーは、好ましくは２官能以上であり、より好ましくは３～１２官能、さらに好ましくは３～１０官能である。官能基数が上記範囲内であると、優れた硬度の導電層が得られる。

　導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂は、前記安定化層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂との屈折率差が小さいことがより好ましく、この観点から、両電離放射線硬化性樹脂が同一種であることが好ましい。この場合、安定化層と導電層との界面反射に由来する干渉縞の発生を低減することができるので、画像視認性が向上する。その理由としては、形成される安定化層と導電層との屈折率が近いと、安定化層と導電層との間に明瞭な界面が存在する場合でも該界面に由来する干渉縞が生じ難いためである。また、安定化層と導電層に用いる電離放射線硬化性樹脂が同一種であると、安定化層の上に導電層を形成する際に、導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物が安定化層表面に湿潤しやすく、安定化層と導電層との界面に、層厚みに影響は与えないが干渉縞を生じない程度のわずかな荒れが生じるためと考えられる。さらに、安定化層と導電層に用いる電離放射線硬化性樹脂が同一種であると、安定化層と導電層との密着性も良好になるという効果も奏する。
　ここでいう同一種の電離放射線硬化性樹脂とは、１種類の電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には同一の樹脂であり、２種以上の電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には、同一の樹脂の組み合わせである。

　電離放射線硬化性樹脂組成物は、さらに熱可塑性樹脂を含むこともできる。熱可塑性樹脂を併用することにより導電層の収縮が抑制され、これにより安定化層との接着性及び耐久密着性、表面抵抗率の面内均一性を向上させ、表面抵抗率の経時変化を抑制でき、塗布膜の欠陥を有効に防止できる。
　該熱可塑性樹脂及びその好ましい態様は、前述の安定化層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物において例示したものと同じである。

　導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物中の電離放射線硬化性樹脂の含有量は、該樹脂組成物を構成する樹脂成分の合計量に対し、好ましくは２０質量％以上であり、より好ましくは３０～１００質量％、さらに好ましくは４０～１００質量％、よりさらに好ましくは５０～１００質量％である。電離放射線硬化性樹脂が該樹脂組成物を構成する樹脂成分の合計量に対し２０質量％以上であれば、密着性に優れ、表面抵抗率の面内均一性及びその経時安定性にも優れる導電層を形成できる。
　電離放射線硬化性樹脂組成物が熱可塑性樹脂を含む場合には、その含有量は、電離放射線硬化性樹脂組成物中の樹脂成分中、好ましくは１０質量％以上である。また、得られる導電層の耐擦傷性の観点から、好ましくは８０質量％以下であり、より好ましくは５０質量％以下である。

＜導電性粒子＞
　導電性粒子は、電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて形成される導電層において、透明性を損なわずに導電性を付与するために用いられる。したがって当該導電性粒子は、導電層の厚みを薄くしても十分な導電性を付与することができ、着色が少なく、透明性が良好であり、耐候性に優れ、導電性の経時的変化が少ないものが好ましい。また、導電層の柔軟性が高すぎることにより表面保護性能を低下させるのを回避する観点から、高硬度の粒子が好ましい。
　このような導電性粒子としては、金属粒子、金属酸化物粒子、及び、コア粒子の表面に導電性被覆層を形成したコーティング粒子などが好適に用いられる。
　金属粒子を構成する金属としては、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔなどが挙げられる。金属酸化物粒子を構成する金属酸化物としては、例えば、酸化錫（ＳｎＯ_２）、酸化アンチモン（Ｓｂ_２Ｏ_５）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ）、フッ素化酸化スズ（ＦＴＯ）、ＺｎＯなどが挙げられる。
　コーティング粒子としては、例えば、コア粒子の表面に導電性被覆層が形成された構成の粒子が挙げられる。コア粒子としては特に限定されず、例えば、コロイダルシリカ粒子、酸化ケイ素粒子等の無機粒子、フッ素樹脂粒子、アクリル樹脂粒子、シリコーン樹脂粒子等のポリマー粒子、及び、有機質無機質複合体粒子などが挙げられる。また、導電性被覆層を構成する材料としては、例えば、上述した金属又はこれらの合金や、上述した金属酸化物などが挙げられる。これらは１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
　なかでも、長期保管、耐熱性、耐湿熱性、耐候性が良好であるという観点から、導電性粒子は金属微粒子及び金属酸化物微粒子から選ばれる少なくとも１種が好ましく、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）粒子がより好ましい。

　導電性粒子は、平均一次粒子径が５～４０ｎｍであることが好ましい。５ｎｍ以上とすることにより、導電性粒子同士が導電層中で接触しやすくなるため、十分な導電性を付与するための導電性粒子の添加量を抑えることができる。さらに、導電性粒子の平均一次粒子径が５ｎｍ以上であることで、導電性粒子のセルロース系基材フィルム内への過度の浸透を避けることができる。また、該平均一次粒子径を４０ｎｍ以下とすることにより、透明性やその他の層との間の密着性が損なわれることを防止することができる。導電性粒子の平均一次粒子径のより好ましい下限は６ｎｍ、より好ましい上限は２０ｎｍである。
　導電性粒子の平均一次粒子径は、光学積層体（Ｉ）において記載した導電性粒子の平均一次粒子径の測定方法と同様の方法で測定できる。

　上記電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて得られる導電層は、厚みを薄くしても十分な導電性を付与することができ、着色が少なく、透明性が良好であり、耐候性に優れ、導電性の経時的変化が少ないことが好ましい。したがって当該樹脂組成物中の導電性粒子の含有量は、上記性能を付与できる範囲であれば特に制限はない。
　表面抵抗率の平均値を１．０×１０^７Ω／□以上、１．０×１０^１２Ω／□以下にする観点から、上記電離放射線硬化性樹脂組成物中の導電性粒子の含有量は、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対し、好ましくは５～４００質量部、より好ましくは２０～３００質量部、さらに好ましくは２５～２００質量部である。導電性粒子の含有量を電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対し５質量部以上にすることにより、光学積層体の表面抵抗率の平均値を１．０×１０^１２Ω／□以下にしやすく、４００質量部以下とすることにより、該表面抵抗率の平均値を１．０×１０^７Ω／□以上にしやすい上、導電層が脆くならず、硬度を維持できるためである。

　導電層は、表面抵抗率の面内均一性を向上する観点から、さらに通電粒子を含んでもよい。
　導電層が通電粒子を含む層であると、本発明の光学積層体（ＩＩＩ）、偏光子及び位相差板を順に積層した前面板とした際に、該導電層又はこれに隣接する導電性の層が最表面に位置することから、これらの層表面からアース処理を容易に行うことができる。また、表面抵抗率が低くても表面抵抗率の面内均一性が良好であり、かつ、表面抵抗率が経時的にも安定しやすくなる。
　光学積層体（ＩＩＩ）は、前述のように、表面抵抗率の平均値が１．０×１０^７Ω／□以上、１．０×１０^１２Ω／□以下であり、タッチパネルセンサー（電極）用の透明導電層と比較すると導電性は非常に低いものである。このような低導電性範囲で面内均一性を実現するのは困難である。しかしながら上記構成とすることにより、表面抵抗率について高い面内均一性を達成することが容易になる。

　通電粒子としては特に限定されず、前述の導電性粒子と同様の金属粒子、金属酸化物粒子、及び、コア粒子の表面に導電性被覆層を形成したコーティング粒子等が挙げられる。なお、導通を良好にする観点から、通電粒子は金メッキ粒子であることが好ましい。

　通電粒子の平均一次粒子径は、導電層の厚みに応じて適宜選択することができる。具体的には、通電粒子の平均一次粒子径は、導電層の厚みに対し５０％超、１５０％以下であることが好ましく、７０％超、１２０％以下であることがより好ましく、８５％超、１１５％以下であることがさらに好ましい。導電層の厚みに対する通電粒子の平均一次粒子径を上記とすることにより、導通を良好にすることができ、かつ通電粒子が導電層から脱落することを防止できる。
　導電層中の通電粒子の平均一次粒子径は、光学積層体（Ｉ）において記載した通電粒子の平均一次粒子径の測定方法と同様の方法で測定できる。

　導電層が通電粒子を含む場合、その含有量は、該導電層を構成する電離放射線硬化性樹脂組成物中の電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して、０．５～４．０質量部であることが好ましく、０．５～２．５質量部であることがより好ましい。通電粒子の含有量を０．５質量部以上とすることにより、導通を良好にすることができる。また、該含有量を４．０質量部以下とすることにより導電層の被膜性及び硬度の低下を防止できる。

　導電層の形成に用いられる電離放射線硬化性樹脂が紫外線硬化性樹脂である場合には、導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物は、光重合開始剤や光重合促進剤を含むことが好ましい。光重合開始剤、光重合促進剤及びこれらの好ましい態様は、前述の安定化層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物において例示したものと同じである。
　光重合開始剤、光重合促進剤は、それぞれ、１種を単独で、又は２種以上組み合わせて用いることができる。
　導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物が光重合開始剤を含む場合、その含有量は、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対し、好ましくは０．１～１０質量部、より好ましくは１～１０質量部、さらに好ましくは１～８質量部である。

　また導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物は、必要に応じその他の成分、例えば、屈折率調整剤、防眩剤、防汚剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、レベリング剤、易滑剤などの添加剤をさらに含有することができる。
　さらに、当該樹脂組成物は、溶剤を含有することができる。当該溶剤としては、樹脂組成物に含まれる各成分を溶解する溶剤であれば特に制限なく用いることができるが、ケトン類、エーテル類、アルコール類、あるいはエステル類が好ましい。上記溶剤は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
　導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる溶剤は、前記安定化層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる溶剤と同一種であることが好ましい。この場合、安定化層と導電層との界面反射に由来する干渉縞の発生を低減することができるので、画像視認性が向上する。その理由としては、安定化層の上に導電層を積層する際に、導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物中の溶剤が安定化層表面に湿潤しやすく、安定化層と導電層との界面に、層厚みに影響は与えないが干渉縞を生じない程度のわずかな荒れが生じるためと考えられる。
　ここでいう同一種の溶剤とは、１種類の溶剤を用いる場合には同一の溶剤であり、２種以上の溶剤を用いる場合には、同一の溶剤の組み合わせである。
　当該樹脂組成物中の溶剤の含有量は、通常２０～９９質量％であり、好ましくは３０～９９質量％、より好ましくは７０～９９質量％である。溶剤の含有量が上記範囲内であると、塗工性に優れる。

　導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物の製造方法については特に制限はなく、従来公知の方法及び装置を用いて製造することができる。例えば、前記電離放射線硬化性樹脂、導電性粒子、並びに必要に応じ各種添加剤、溶剤を添加して混合することにより製造できる。導電性粒子は、予め溶剤に分散して調製した分散液を用いてもよい。

　導電層の厚みは、透明性を損なわずに所望の導電性を付与する点、及び後述する機能層を設けない場合に前面板あるいは画像表示装置の製造工程上の傷つきを防止する観点から、０．５～２０μｍであることが好ましく、１．０～１０μｍであることがより好ましく、１．０～５．０μｍであることがさらに好ましい。
　導電層の厚みは、前記安定化層の厚みと同様の方法で測定することができる。

（機能層）
　光学積層体（ＩＩＩ）は、前記導電層の上又は下にさらに機能層を有してもよい。該機能層としては、表面保護層、反射防止層、屈折率調整層、防眩層、耐指紋層、防汚層、耐擦傷性層、抗菌層等が挙げられる。これら機能層は、光学積層体（ＩＩＩ）の最表面に設ける場合、前面板あるいは画像表示装置の製造工程上の傷つきを防止する観点から、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であることが好ましく、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であることがより好ましい。
　当該電離放射線硬化性樹脂組成物としては、前述した安定化層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物と同様のものを用いることができる。
　また該機能層として、上記以外に、本発明の効果を損なわない範囲で、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、可塑剤、着色剤などの添加剤を含有する層を設けることもできる。さらに、液晶表示装置に適用する光学積層体である場合、偏光サングラスを着用して液晶表示画面を見た時に生じる見えにくさや着色ムラを防止する目的で、高リタデーション層を設けることもできる。但し、１／４波長位相差機能を有する層が存在する場合は該高リタデーション層は不要である。

　導電層上に機能層を設ける場合は、該導電層は、さらに通電粒子を含んでもよい。機能層が通電粒子を含む機能層（以下、「導通性機能層」ともいう）であると、本発明の光学積層体（ＩＩＩ）、偏光子及び位相差板を順に積層した前面板とした際に、導通性機能層及び導電層が最表面に位置することから、導通性機能層又は導電層表面へのアース処理を容易に行うことができる。また、光学積層体（ＩＩＩ）が導電層と導通性機能層とを有することにより、導電層の導電性が低くても表面抵抗率の面内均一性が良好であり、かつ、表面抵抗率が経時的にも安定しやすくなる。

　機能層に用いる通電粒子としては、前記と同様のものが挙げられる。通電粒子の平均一次粒子径は、機能層の厚みに応じて適宜選択することができる。具体的には、通電粒子の平均一次粒子径は、機能層の厚みに対し５０％超、１５０％以下であることが好ましく、７０％超、１２０％以下であることがより好ましく、８５％超、１１５％以下であることがさらに好ましい。機能層の厚みに対する通電粒子の平均一次粒子径を上記とすることにより、導電層からの導通を良好にすることができ、かつ通電粒子が機能層から脱落することを防止できる。

　機能層中の通電粒子の含有量は、該機能層を構成する電離放射線硬化性樹脂組成物中の電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して、０．５～４．０質量部であることが好ましく、０．５～３．０質量部であることがより好ましい。通電粒子の含有量を０．５質量部以上とすることにより、導電層からの導通を良好にすることができる。また、該含有量を４．０質量部以下とすることにより機能層の被膜性及び硬度の低下を防止できる。

　機能層の厚みは、光学積層体の用途や要求特性に応じて適宜選択できるが、硬度、加工適性、及び本発明の光学積層体（ＩＩＩ）を用いる表示装置の薄型化の観点からは、０．０５～３０μｍが好ましく、０．１～２０μｍがより好ましく、０．５～１０μｍがさらに好ましい。機能層が前述した高リタデーション層の場合は、厚みはこの限りではなく、好ましいリタデーションが得られる厚みであってよい。該機能層の厚みは、導電層と同様の方法で測定することができる。

　また光学積層体（ＩＩＩ）の基材フィルム側の面には、製造工程用フィルムとして裏面フィルムを有していてもよい。これにより、光学積層体（ＩＩＩ）の製造時及び加工時に平面性を維持し、表面抵抗率の面内均一性を保つことができる。当該裏面フィルムとしては特に制限はなく、ポリエステル系樹脂フィルム、ポリオレフィン系樹脂フィルムなどを用いることができる。保護性能の点からは弾性率の高いフィルムが好ましく、ポリエステル系樹脂フィルムがより好ましい。
　裏面フィルムの厚みは、光学積層体（ＩＩＩ）の製造時及び加工時の平面性維持の観点から、好ましくは１０μｍ以上であり、より好ましくは２０～２００μｍである。
　裏面フィルムは、例えば粘着層を介して、光学積層体（ＩＩＩ）の基材フィルム側の面と積層される。なお裏面フィルムは製造工程用フィルムであるため、例えば光学積層体（ＩＩＩ）を後述する偏光子と貼り合わせる際などに剥離される。

（光学積層体（ＩＩＩ）の製造方法）
　光学積層体（ＩＩＩ）の製造方法には特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。例えば、セルロース系基材フィルム、安定化層、及び導電層を順に有する３層構成の光学積層体であれば、基材フィルム上に前述の安定化層を形成し、この上に前述の導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて導電層を形成することにより製造できる。セルロース系基材フィルムには、導電層形成面と反対側の面に予め裏面フィルムを積層しておいてもよい。
　まず、安定化層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物を前述の方法で調製した後、硬化後に所望の厚みとなるように塗布し、必要に応じて乾燥させて未硬化樹脂層を形成する。塗布方法としては特に制限はなく、ダイコート、バーコート、ロールコート、スリットコート、スリットリバースコート、リバースロールコート、グラビアコートなどが挙げられる。該未硬化樹脂層に、電子線、紫外線等の電離放射線を照射して該未硬化樹脂層を硬化させ、基材フィルム上に安定化層を形成する。ここで、電離放射線として電子線を用いる場合、その加速電圧については、用いる樹脂の種類や層の厚みに応じて適宜選定し得るが、通常加速電圧７０～３００ｋＶ程度で未硬化樹脂層を硬化させることが好ましい。
　電離放射線として紫外線を用いる場合には、通常波長１９０～３８０ｎｍの紫外線を含むものを放射する。紫外線源としては特に制限はなく、例えば高圧水銀燈、低圧水銀燈、メタルハライドランプ、カーボンアーク燈等が用いられる。
　次いで、該安定化層上に、好ましくは前述の導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて導電層を形成する。該電離放射線硬化性樹脂組成物の塗布方法及び硬化方法は、前述の安定化層の場合と同様である。

　機能層は、前述の電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて形成することが好ましい。例えば、前記の電離放射線硬化性樹脂、及び必要に応じ用いられる紫外線吸収剤、通電粒子、その他の各種添加剤を、それぞれ所定の割合で均質に混合し、電離放射線硬化性樹脂組成物からなる塗工液を調製する。このようにして調製された塗工液を、安定化層上又は導電層上に塗布し、必要に応じて乾燥させた後硬化させて、電離放射線硬化性樹脂組成物からなる機能層を形成することができる。該樹脂組成物の塗布方法及び硬化方法は、前述の安定化層の場合と同様である。

（光学積層体（ＩＩＩ）の構成）
　ここで、本発明の光学積層体（ＩＩＩ）について、図３及び図４を用いて説明する。図３及び図４は光学積層体（ＩＩＩ）の実施形態の一例を示す断面模式図である。図３に示す光学積層体１Ｂは、セルロース系基材フィルム２Ｂ、安定化層５Ｂ、及び導電層６Ｂを順に有している。導電層６Ｂは好ましくは前述した電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物である。図４に示す光学積層体１Ｃは、セルロース系基材フィルム２Ｃ、安定化層５Ｃ、導電層６Ｃ、及び機能層７Ｃを順に有している。導電層６Ｃは好ましくは前述した電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物である。また、図４に示す機能層７Ｃは通電粒子７１Ｃを含む導通性機能層である。

　図３、図４の構成を有する光学積層体は、表面抵抗率の面内均一性が良好であることから、静電容量式のタッチパネルに用いると該タッチパネルに安定した動作性を付与でき、特にインセル型のタッチパネルを搭載した画像表示装置において好適に用いられる。前述のように、インセルタッチパネル搭載液晶表示装置では、タッチパネル表面で発生する静電気により液晶画面が白濁するという現象が起こる。そこで、インセルタッチパネル搭載液晶表示素子の前面に図３、図４の光学積層体を用いれば、帯電防止機能が付与されるので静電気を逃がすことができ、上記白濁を防止することができる。

　特に、図４の構成を有する光学積層体１Ｃは、機能層７Ｃが導通性機能層であることが好ましい。導通性機能層中の通電粒子７１Ｃが、導通性機能層の表面と導電層６Ｃとの間の導通を取り、導電層に達した静電気をさらに厚み方向に流して、機能層の表面側（操作者側）に所望の表面抵抗率を付与することができる。さらには、表面抵抗率の面内均一性及び経時安定性が良好になり、静電容量式タッチパネルの動作性が安定して発現される。
　導電層は面方向（Ｘ方向、Ｙ方向）及び厚み方向（ｚ方向）への導電性を有しているのに対して、導通性機能層は、厚み方向の導電性を有していれば足りる。したがって、導通性機能層は面方向の導電性は必ずしも必要ないという点で役割が相違する。

（光学積層体の特性）
　本発明の光学積層体（Ｉ）～（ＩＩＩ）（以下、これらを単に「本発明の光学積層体」ともいう）は、画像表示装置に適用した場合の視認性の点から、波長４００ｎｍにおける透過率が６０％以上であることが好ましく、６５％以上であることがより好ましい。
　また本発明の光学積層体は、波長２００～３８０ｎｍの紫外光領域において波長３８０ｎｍにおける透過率が最大であり、かつ波長３８０ｎｍにおける透過率が３０％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましい。波長３８０ｎｍにおける透過率が３０％以下であれば外光紫外線による劣化防止効果が良好である。
　光学積層体の透過率は、紫外可視分光光度計等により測定することができ、具体的には実施例に記載の方法により測定できる。

［前面板］
　本発明の前面板は、前述した本発明の光学積層体、偏光子及び位相差板を順に有する。本発明の前面板は、後述する画像表示装置に適用する際には、画像表示装置の視認者側から、前述した本発明の光学積層体、偏光子及び位相差板を順に有し、該光学積層体が該視認者側から前記表面保護層、前記透明導電層、及び前記基材フィルムを順に有する構成となるよう設けられる。
　図５に示す前面板１０Ａは本発明の前面板の一例の断面図であり、光学積層体１Ａ、偏光子８Ａ、及び位相差板９Ａを順に有する。１Ａは光学積層体（Ｉ）又は（ＩＩ）である。このような構成を有することで、画像表示装置に用いる前面板としての必要機能を付与しつつ、薄型化を図ることができる。
　図６に示す前面板１０Ｂは本発明の前面板の一例の断面図であり、光学積層体１Ｂ、偏光子８Ｂ、及び位相差板９Ｂを順に有する。１Ｂは光学積層体（ＩＩＩ）である。このような構成を有することで、画像表示装置に用いる前面板としての必要機能を付与しつつ、薄型化を図ることができる。
　図５に示す構成では、光学積層体１Ａは偏光子８Ａの表面保護フィルムとしても機能する。また図６に示す構成では、光学積層体１Ｂは偏光子８Ｂの表面保護フィルムとしても機能する。したがって、光学積層体１Ａ又は１Ｂを当該前面板に用いることで、従来偏光子の表面保護フィルムとして用いていたＴＡＣフィルム、及びこれを他の層と貼り合わせるのに用いていた粘着層を削減することができ、前面板及び画像表示装置を薄型化することが可能となる。

（偏光子）
　前面板を構成する偏光子としては、特定の振動方向をもつ光のみを透過する機能を有する偏光子であれば如何なるものでもよく、例えばＰＶＡ系フィルムなどを延伸し、ヨウ素や二色性染料などで染色したＰＶＡ系偏光子、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物などのポリエン系偏光子、コレステリック液晶を用いた反射型偏光子、薄膜結晶フィルム系偏光子等が挙げられる。これらの中でも、水により接着性を発現し、別途接着層を設けることなく、位相差板や光学積層体を接着することができる、ＰＶＡ系偏光子が好適である。

　ＰＶＡ系偏光子としては、例えば、ＰＶＡ系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料などの二色性物質を吸着させて一軸延伸したものが挙げられる。これらの中でも、接着性の観点から、ＰＶＡ系フィルムとヨウ素などの二色性物質からなる偏光子が好適に用いられる。
　ＰＶＡ系フィルムを構成するＰＶＡ系樹脂は、ポリ酢酸ビニルをケン化してなるものである。
　偏光子の厚みは、２～３０μｍが好ましく、３～３０μｍがより好ましい。

（位相差板）
　前面板を構成する位相差板は、少なくとも位相差層を有する構成からなる。位相差層としては、延伸ポリカーボネートフィルム、延伸ポリエステルフィルム、延伸環状オレフィンフィルム等の延伸フィルムの態様、屈折率異方性材料を含有する層の態様が挙げられる。前者と後者の態様では、リタデーションの制御及び薄型化の観点から、後者の態様が好ましい。
　屈折率異方性材料を含有する層（以下、「異方性材料含有層」という場合もある）は、当該層の単独で位相差板を構成するものであっても、樹脂フィルム上に異方性材料含有層を有する構成であってもよい。

　樹脂フィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、（メタ）アクロニトリル系樹脂、シクロオレフィンポリマー、セルロース系樹脂等が挙げられ、これらのうち１種又は２種以上を用いることができる。これらの中でも、寸法安定性及び光学的安定性の観点から、シクロオレフィンポリマーが好ましい。
　屈折率異方性材料としては、棒状化合物、円盤状化合物及び液晶分子等が挙げられる。

　屈折率異方性材料を用いる場合、屈折率異方性材料の配向方向により、種々のタイプの位相差板とすることができる。
　例えば、屈折率異方性材料の光軸が異方性材料含有層の法線方向を向くとともに常光線屈折率よりも大きな異常光線屈折率を異方性材料含有層の法線方向に有する、いわゆる正のＣプレートが挙げられる。
　また別の態様では、屈折率異方性材料の光軸が異方性材料含有層と並行するとともに常光線屈折率よりも大きな異常光線屈折率を異方性材料含有層の面内方向に有する、いわゆる正のＡプレートであってもよい。
　またさらには、液晶分子の光軸を異方性材料含有層と並行として、法線方向に螺旋構造をとったコレステリック配向とすることにより、異方性材料含有層全体として常光線屈折率よりも小さな異常光線屈折率を位相差層の法線方向とした、いわゆる負のＣプレートであってもよい。
　さらには、負の複屈折異方性を有するディスコティック液晶を、その光軸を異方性材料含有層の面内方向に有する、負のＡプレートとすることも可能である。
　またさらに異方性材料含有層は、該層に対して斜めであってもよく、またはその角度が層に垂直な方向で変化しているハイブリッド配向プレートであってもよい。
　このような種々のタイプの位相差板は、例えば、特開２００９－０５３３７１号公報に記載の方法により製造することができる。

　位相差板は、上述した正もしくは負のＣプレートやＡプレート、またはハイブリッド配向プレートのいずれか一つのプレートからなるものであってもよいが、これらの１種又は２種以上を組み合わせた二以上のプレートからなるものであってもよい。例えば、インセルタッチパネルの液晶素子がＶＡ方式の場合、正のＡプレートと負のＣプレートを組み合わせて用いることが好ましく、ＩＰＳ方式の場合、正のＣプレートと正のＡプレートや２軸プレートを組み合わせて用いることが好ましいが、視野角を補償できるものであればどの組み合わせでもよく、様々な組み合わせが考えられ、適宜選択することができる。
　なお、位相差板を二以上のプレートからなるものとする場合、薄型化の観点から、一つのプレートを延伸フィルムとして、当該延伸フィルム上に異方性材料含有層（他のプレート）を積層する態様が好ましい。

　位相差板の厚みは、２５～６０μｍが好ましく、２５～３０μｍがより好ましい。なお、位相差板を二以上のプレートからなるものとする場合、一つのプレートを延伸フィルムとして、当該延伸フィルム上に異方性材料含有層（他のプレート）を積層する態様とすることにより、上記厚み範囲内にしやすくできる。

　本発明の前面板は、本発明の効果を阻害しない範囲で、上記以外のフィルムや層を有していてもよい。ただし、薄型化や透明性の観点からは、位相差板、偏光子及び光学積層体は、他の層を介さず積層されていることが好ましい。なお、ここでいう「他の層を介さず積層」とは、完全に他の層の介在を排除する趣旨ではない。例えば、基材フィルムに予め設けられている易接着層のようなごく薄い層までを排除する趣旨ではない。

　本発明の前面板の厚みは、用いられる表示装置や層構成により適宜選択できる。当該前面板をインセルタッチパネル搭載画像表示装置に用いる場合は、当該前面板の厚みは９０～８００μｍであることが好ましく、９０～５００μｍであることがより好ましく、９０～３５０μｍであることがさらに好ましい。

［前面板の製造方法］
　本発明の前面板の製造方法には特に制限はなく、該前面板を構成する部材を公知の方法で貼り合わせることにより製造できる。貼り合わせの方式は枚葉方式、連続方式のいずれでもよいが、製造効率の点からは連続方式を用いることが好ましい。
　特に、本発明の前面板の製造方法は、光学積層体と偏光子とをロールトゥロールで貼り合わせる工程を有することが好ましい。前述したように、本発明の光学積層体で基材フィルムとしてシクロオレフィンポリマーを用いる場合、該シクロオレフィンポリマーフィルムが斜め延伸されたフィルムであると、本発明の光学積層体と偏光子とを両者の光軸を合わせるように貼り合わせる際にも、本発明の光学積層体を斜め枚葉に裁断する必要がない。そのため、ロールトゥロールによる連続的な製造が可能であり、斜め枚葉に裁断することによる無駄も少ないため製造コストの点からも好ましい。
　例えば、前述した本発明の光学積層体の基材フィルム側の面と偏光子とを貼り合わせた後、該偏光子と位相差板とをロールトゥロールで貼り合わせる方法；偏光子と位相差板とを貼り合わせた後、該偏光子と本発明の光学積層体の基材フィルム側の面とをロールトゥロールで貼り合わせる方法；が挙げられる。

［画像表示装置］
　本発明の画像表示装置は、表示素子の視認者側に、上述した本発明の光学積層体又は前面板が設けられたものである。当該光学積層体又は前面板は、該光学積層体が有する導電層面が視認者側を向くように配置されることが好ましい。

　画像表示装置を構成する表示素子としては、液晶表示素子、プラズマ表示素子、無機ＥＬ表示素子、有機ＥＬ表示素子等が挙げられる。これらの中でも、本発明の効果を奏する観点からは、液晶表示素子又は有機ＥＬ表示素子が好ましく、液晶表示素子がより好ましい。
　表示素子の具体的な構成は特に制限されない。例えば液晶表示素子の場合、下部ガラス基板、下部透明電極、液晶層、上部透明電極、カラーフィルター及び上部ガラス基板を順に有する基本構成からなり、超高精細の液晶表示素子では、該下部透明電極及び上部透明電極が高密度にパターニングされている。

　本発明の効果の点からは、前記表示素子がインセルタッチパネル搭載液晶表示素子であることがより好ましい。インセルタッチパネル搭載液晶表示素子は、２枚のガラス基板に液晶を挟んでなる液晶表示素子の内部にタッチパネル機能を組み込んだものである。なお、インセルタッチパネル搭載液晶表示素子の液晶の表示方式としては、ＩＰＳ方式、ＶＡ方式、マルチドメイン方式、ＯＣＢ方式、ＳＴＮ方式、ＴＳＴＮ方式等が挙げられる。
　インセルタッチパネル搭載液晶表示素子は、例えば、特開２０１１－７６６０２号公報、特開２０１１－２２２００９号公報に記載されている。

　タッチパネルとしては、静電容量式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネル、光学式タッチパネル、超音波式タッチパネル及び電磁誘導式タッチパネル等が挙げられる。本発明の効果の点からは、静電容量式タッチパネルが好ましい。
　抵抗膜式タッチパネルは、導電膜を有する上下一対の透明基板の導電膜同士が対向するようにスペーサーを介して配置されてなる構成を基本構成として、該基本構成に回路が接続されてなるものである。
　静電容量式タッチパネルは、表面型及び投影型等が挙げられ、投影型が多く用いられている。投影型の静電容量式タッチパネルは、Ｘ軸電極と、該Ｘ軸電極と直交するＹ軸電極とを絶縁体を介して配置した基本構成に、回路が接続されてなるものである。該基本構成をより具体的に説明すると、（１）１枚の透明基板上の別々の面にＸ軸電極及びＹ軸電極を形成する態様、（２）透明基板上にＸ軸電極、絶縁体層、Ｙ軸電極をこの順で形成する態様、（３）透明基板上にＸ軸電極を形成し、別の透明基板上にＹ軸電極を形成し、接着剤層等を介して積層する態様等が挙げられる。また、これら基本態様に、さらに別の透明基板を積層する態様が挙げられる。

　その他、タッチパネルを搭載した画像表示装置としては、表示素子上にタッチパネルを有するものも挙げられる。この場合、本発明の光学積層体は、タッチパネルの構成部材として設けられてもよく、タッチパネルの上又は下に設けられてもよい。

　図７及び図８は、本発明の画像表示装置の好ましい実施形態である、インセルタッチパネル搭載画像表示装置の一実施形態を示す断面模式図である。図７において、インセルタッチパネル搭載画像表示装置１００Ａは、視認者側から、表面保護部材１１Ａ、前記光学積層体１Ａ、偏光子８Ａ、位相差板９Ａ及びインセルタッチパネル搭載液晶表示素子１２Ａを順に有する。光学積層体１Ａ、偏光子８Ａ、及び位相差板９Ａは前面板１０Ａに対応する。また光学積層体１Ａは視認者側となる表面保護部材１１Ａ側から、表面保護層４Ａ、透明導電層３Ａ、及び基材フィルム２Ａを順に有する。
　図８において、インセルタッチパネル搭載画像表示装置１００Ｂは、視認者側から、表面保護部材１１Ｂ、前記光学積層体１Ｂ、偏光子８Ｂ、位相差板９Ｂ及びインセルタッチパネル搭載液晶表示素子１２Ｂを順に有し、光学積層体１Ｂは表面保護部材１１Ｂ側から、導電層６Ｂ、安定化層５Ｂ、及びセルロース系基材フィルム２Ｂを順に有する。

　表面保護部材１１Ａ、１１Ｂはインセルタッチパネル搭載画像表示装置の表面を保護する目的で設けられ、例えばカバーガラスや、珪素含有膜を有する表面保護フィルムなどを用いることができる。

　インセルタッチパネル搭載液晶表示素子と、前面板とは、例えば、接着層を介して貼り合わせることができる。接着層は、ウレタン系、アクリル系、ポリエステル系、エポキシ系、酢酸ビニル系、塩ビ・酢ビ共重合物、セルロース系等の接着剤を使用することができる。接着層の厚みは１０～２５μｍ程度である。
　このような本発明のインセルタッチパネル搭載液晶表示装置は、本発明の光学積層体を有することで、安定した動作性を発現するとともに、前述したような偏光サングラスにより観察した際のニジムラの防止、静電気発生による液晶表示画面の白濁の防止、及び前面板の構成部材である偏光子の保護及び外光紫外線による劣化防止、等の各種機能を満たしつつ、全体の薄型化が可能であるという点で、極めて有用なものである。なお、インセルタッチパネル搭載液晶表示装置内において、光学積層体の透明導電層表面からアース処理がなされていることが好ましい。

［第四発明：光学積層体の製造方法］
　第四発明に係る本発明の光学積層体の製造方法（以下「本発明の製造方法」ともいう）は、基材フィルム、透明導電層、及び表面保護層を順に有する光学積層体の製造方法である。
　詳しくは、本発明の製造方法は、基材フィルムの一方の面に、粘着層を介して裏面フィルムを積層し、次いで、該基材フィルムの他方の面に該透明導電層及び該表面保護層を順に形成する工程を有し、かつ、下記条件（１）を満たすことを特徴とする（本発明の態様４－１）。
　条件（１）：前記基材フィルム、前記粘着層、及び前記裏面フィルムからなる、幅２５ｍｍ、長さ１００ｍｍの積層体を、該長さ方向の一端から２５ｍｍの部分を水平に固定し、残りの長さ７５ｍｍの部分を自重により変形させた際に、該積層体の固定部から長さ方向の他端までの鉛直距離が４５ｍｍ以下である。
　また、本発明の製造方法は、基材フィルムの一方の面に、粘着層を介して裏面フィルムを積層し、次いで、該基材フィルムの他方の面に該透明導電層及び該表面保護層を順に形成する工程を有し、該粘着層及び該裏面フィルムの合計厚みが２０～２００μｍであり、かつ、該裏面フィルムが、ＪＩＳ　Ｋ７１６１－１：２０１４に準拠して引張速度５ｍｍ／分で測定される引張弾性率が８００Ｎ／ｍｍ^２以上、１０，０００Ｎ／ｍｍ^２以下であることを特徴とする（本発明の態様４－２）。

　基材フィルム、透明導電層、及び表面保護層を順に有する光学積層体において、コシがなく強度が低い基材フィルムを用いる場合には、該基材フィルム上に透明導電層を直接形成する際に該フィルムの平面性の確保が困難であり、形成される透明導電層に厚みぶれが生じることがある。この厚みぶれにより面内の表面抵抗率にばらつきが発生すると、製造された光学積層体を静電容量式のタッチパネルを搭載した画像表示装置などに用いた際に動作性が不安定になるなどの問題が生じる。
　しかしながら本発明の製造方法においては、該基材フィルムの一方の面に、粘着層を介して、裏面フィルムを積層して所定の条件を満たす積層体を形成し、その後に該基材フィルムの他方の面に透明導電層等を形成する（本発明の態様４－１）。あるいは、該基材フィルムの一方の面に、所定の条件を満たす粘着層及び裏面フィルムを積層し、その後に該基材フィルムの他方の面に透明導電層等を形成する（本発明の態様４－２）。これにより、特に電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて形成される透明導電層の厚みぶれを抑制し、表面抵抗率の面内均一性を向上させることができる。
　特に、基材フィルムとしてシクロオレフィンポリマーフィルムを用いる場合には、本発明の製造方法は生産性向上の観点からもより有効である。シクロオレフィンポリマーフィルムはより優れた光学特性を得る点で基材フィルムとして好適であるが、コシがなく、かつ裂けやすいため、生産ロスが生じやすいからである。
　なお、裏面フィルムが透明性を有すると、光学積層体に該裏面フィルムを貼付した状態で、異物や欠陥の有無のみならず、透明導電層の厚みを光学的手法により測定して、この厚みのばらつきから、表面抵抗率の面内均一性も検査できるという効果も奏するためより好ましい。特にインライン検査を行う点ではこの方法は有用である。インライン検査が可能であると、光学積層体の製造において工程管理しやすく、生産ロスを減らすことができる。
　光学的手法による上記透明導電層の厚みの均一性の測定方法としては、単色平行光を透明導電層の斜め方向から低角度で入射させ、観測される干渉縞の均一性を目視観察する方法や、ヘイズメーター等により複数箇所の全光線透過率を測定する方法、干渉顕微鏡等により干渉法で複数箇所の厚みを測定する方法などが挙げられる。

　本発明の態様４－１に係る製造方法は、下記条件（１）を満たすことを特徴とする。
　条件（１）：前記基材フィルム、前記粘着層、及び前記裏面フィルムからなる、幅２５ｍｍ、長さ１００ｍｍの積層体を、該長さ方向の一端から２５ｍｍの部分を水平に固定し、残りの長さ７５ｍｍの部分を自重により変形させた際に、該積層体の固定部から長さ方向の他端までの鉛直距離が４５ｍｍ以下である。
　上記鉛直距離が４５ｍｍを超えると、透明導電層を形成する被対象物である積層体のたわみが大きいため、表面抵抗率の面内均一性が良好な光学積層体を製造することが困難になる。この観点から、上記鉛直距離は好ましくは４０ｍｍ以下、より好ましくは３５ｍｍ以下である。
　上記条件（１）で規定する鉛直距離の測定方法を、図９を用いてより詳細に説明する。図９（ａ）は基材フィルム２Ｄ、粘着層１３Ｄ、及び裏面フィルム１４Ｄからなる、幅２５ｍｍ、長さ１００ｍｍの積層体である。該積層体の長さ方向の一端から２５ｍｍの部分Ｂを、図９（ｂ）に示すように２枚のガラス板ｇで挟み、水平に固定する。そして、該積層体の残りの長さ７５ｍｍの部分Ａを自重により変形させ、該積層体の固定部から長さ方向の他端までの鉛直距離ｘを測定する。鉛直距離ｘは、具体的には実施例に記載の方法で測定できる。たわみのない場合、鉛直距離ｘは０ｍｍである。
　なお、積層体を裁断する方向（積層体を構成するフィルムのＭＤ方向、ＴＤ方向）によって上記鉛直距離ｘの値が異なる場合にも、ＭＤ方向、ＴＤ方向いずれかにおいて当該鉛直距離ｘが４５ｍｍ以下であればよい。

　また、本発明の態様４－２に係る製造方法では、前記粘着層及び裏面フィルムの合計厚みが２０～２００μｍであり、かつ、該粘着層及び裏面フィルムからなる積層物が、ＪＩＳ　Ｋ７１６１－１：２０１４に準拠して引張速度５ｍｍ／分で測定される引張弾性率が８００Ｎ／ｍｍ^２以上、１０，０００Ｎ／ｍｍ^２以下である。上記合計厚み又は引張弾性率を下回る場合には、基材フィルム上に透明導電層及び表面保護層を形成する際にフィルムの平面性を維持することが困難になる。また、上記合計厚み又は引張弾性率を上回る場合には、透明積層体の加工性が低下する。また、裏面フィルムを貼付した状態で光学積層体を光学的手法により検査することが困難になることがある。
　粘着層及び裏面フィルムの合計厚みは、光学積層体の製造時の平面性維持の観点から、好ましくは２５μｍ以上であり、光学積層体の製造時の平面性維持及び加工性、検査の容易性の観点から、より好ましくは２５～２００μｍ、さらに好ましくは３０～１００μｍである。

　粘着層及び裏面フィルムからなる積層物は、光学積層体の製造時に平面性を維持する観点から、たわみが少ないことが好ましい。具体的には、幅２５ｍｍ、長さ１００ｍｍの積層物を、該長さ方向の一端から２５ｍｍの部分を水平に固定し、残りの長さ７５ｍｍの部分を自重により変形させた際に、該積層物の固定部から長さ方向の他端までの鉛直距離が７０ｍｍ以下であることが好ましい。これにより、表面抵抗率の面内均一性が良好な光学積層体を製造することができる。積層物の当該鉛直距離は、６０ｍｍ以下であることがより好ましく、５５ｍｍ以下であることがさらに好ましい。
　当該鉛直距離は、条件（１）と同様に測定することができ、具体的には実施例に記載の方法で測定できる。なお、裏面フィルムを裁断する方向（ＭＤ方向、ＴＤ方向）によって上記鉛直距離の値が異なる場合には、ＭＤ方向、ＴＤ方向いずれかにおいて当該鉛直距離が７０ｍｍ以下であればよい。
　粘着層及び裏面フィルムからなる積層物のたわみは、光学積層体に用いる基材フィルムのたわみより大きくてもよい。基材フィルム、粘着層、及び裏面フィルムからなる積層体の状態でのたわみを小さくすることができれば、本発明の効果を得ることができるためである。

　粘着層及び裏面フィルムからなる積層物は、光学積層体の検査の容易性の観点から、全光線透過率が７０％以上でかつヘイズが３０％以下であることが好ましく、全光線透過率が８５％以上でかつヘイズが１０％以下であることがより好ましく、さらには全光線透過率が９０％以上でかつヘイズが５％以下であることがより好ましい。全光線透過率及びヘイズは、具体的には実施例に記載の方法により測定できる。

　以下、第四発明に係る本発明の製造方法で得られる光学積層体を構成する各層、及び本発明の製造方法に用いられる工程部材について説明する。

（基材フィルム）
　基材フィルムは光学積層体を構成する部材である。第四発明に用いる基材フィルムは、厚みが４～１００μｍであり、かつ、ＪＩＳ　Ｋ７１６１－１：２０１４に準拠して引張速度５ｍｍ／分で測定される引張弾性率が５００Ｎ／ｍｍ^２以上、５，０００Ｎ／ｍｍ^２以下であることが好ましい。当該基材フィルムはコシがなく強度が低いため、該フィルム上に透明導電層を直接形成する際には、形成される透明導電層に厚みぶれが生じやすい。しかしながら本発明の製造方法によれば、上記のような物性を有する基材フィルムを用いても、表面抵抗率の面内均一性が良好な光学積層体を製造することができる。
　基材フィルムの厚みは、本発明の効果を得る観点、強度、加工適性、及び光学積層体を設ける前面板及び画像表示装置の薄型化の観点から、４～８０μｍの範囲がより好ましく、４～６０μｍがさらに好ましく、４～５０μｍがよりさらに好ましい。
　また、基材フィルムの上記引張弾性率は、光学積層体の強度の観点から、より好ましくは８００Ｎ／ｍｍ^２以上、さらに好ましくは１，０００Ｎ／ｍｍ^２以上であり、本発明の効果の有効性の観点から、より好ましくは４，０００Ｎ／ｍｍ^２以下、さらに好ましくは３，０００Ｎ／ｍｍ^２以下である。上記引張弾性率は、具体的には実施例に記載の方法で測定される。

　また第四発明に用いる基材フィルムは、たわみが大きいものでもよい。具体的には、幅２５ｍｍ、長さ１００ｍｍの基材フィルムを、該長さ方向の一端から２５ｍｍの部分を水平に固定し、残りの長さ７５ｍｍの部分を自重により変形させた際に、該フィルムの固定部から長さ方向の他端までの鉛直距離が４５ｍｍ超である基材フィルムを用いることができる。該フィルム上に透明導電層を直接形成する際には、形成される透明導電層に厚みぶれが生じやすいが、本発明の製造方法によれば、上記のような物性を有する基材フィルムを用いても、表面抵抗率の面内均一性が良好な光学積層体を製造することができる。なお、基材フィルムを裁断する方向（ＭＤ方向、ＴＤ方向）によって上記鉛直距離の値が異なる場合には、ＭＤ方向、ＴＤ方向いずれかにおいて当該鉛直距離が４５ｍｍ超であればよい。
　当該鉛直距離は、条件（１）と同様に測定することができ、具体的には実施例に記載の方法で測定できる。

　第四発明に用いる基材フィルムの種類及びその好ましい態様は、光学積層体（Ｉ）において記載したものと同じである。すなわち、基材フィルムは、光透過性を有するフィルムが好ましく、リタデーション値３０００～３００００ｎｍのプラスチックフィルム（高リタデーションフィルム）又は１／４波長位相差のプラスチックフィルム（１／４波長位相差フィルム）がより好ましく、シクロオレフィンポリマーフィルムがさらに好ましい。シクロオレフィンポリマーフィルムは、透明性、低吸湿性、耐熱性に優れる。なかでも、当該シクロオレフィンポリマーフィルムは、斜め延伸された１／４波長位相差フィルムであることが好ましい。シクロオレフィンポリマーフィルムが１／４波長位相差フィルムであると、上述のように液晶画面等の表示画面を偏光サングラスで観察した際にニジムラが生じることを防止できる効果が高いため、視認性が良好である。またシクロオレフィンポリマーフィルムが斜め延伸されたフィルムであると、該基材フィルムを用いた光学積層体と前面板を構成する偏光子とを、両者の光軸を合わせるように貼り合わせる際にも、該光学積層体を斜め枚葉に裁断する必要がない。そのため、ロールトゥロールによる連続的な製造が可能になるとともに、斜め枚葉に裁断することによる無駄が少なくなるという効果を奏する。
　一般的な延伸処理を施した延伸フィルムの光軸の向きは、その幅方向に対して、平行方向あるいは直交方向である。そのため、直線偏光子（偏光子）の透過軸と１／４波長位相差フィルムの光軸を合わせるように貼り合わせるためには、該フィルムを斜め枚葉に裁断する必要がある。そのため製造工程が煩雑になる上、斜めに裁断するため、無駄になるフィルムが多い。また、ロールトゥロールで製造することができず、連続的製造が困難である。しかしながら、基材フィルムとして斜め延伸フィルムを用いることでこれらの問題を解決できる。

　斜め延伸フィルムの配向角は、フィルムの幅方向に対して、好ましくは２０～７０°、より好ましくは３０～６０°、さらに好ましくは４０～５０°であり、４５°が特に好ましい。斜め延伸フィルムの配向角が４５°であると完全な円偏光になるためである。また、光学積層体を偏光子の光軸と合わせるように貼り合わせる際にも斜め枚葉に裁断する必要がなく、ロールトゥロールによる連続的な製造が可能になる。

（透明導電層）
　第四発明に用いる透明導電層を構成する材料には特に制限はないが、透明導電層は電離放射線硬化性樹脂と導電性粒子とを含む電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であることが好ましい。なかでも、表面抵抗率の面内均一性及び経時安定性、並びに、基材フィルムとしてシクロオレフィンポリマーフィルムを用いる場合の密着性に優れる点から、透明導電層は、分子内に脂環式構造を有する電離放射線硬化性樹脂（Ａ）と導電性粒子とを含む電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であることがより好ましい。
　また、透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物は、前記電離放射線硬化性樹脂（Ａ）以外の電離放射線硬化性樹脂（Ｂ）を含んでもよい。電離放射線硬化性樹脂（Ａ）に電離放射線硬化性樹脂（Ｂ）を組み合わせて用いることで、樹脂組成物の硬化性及び塗工性、並びに、形成される透明導電層の硬度、耐候性などを向上させることができる点で好ましい。
　透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物を構成する各成分、及びその好ましい態様は、光学積層体（Ｉ）の透明導電層において記載したものと同じである。

　上記電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて得られる透明導電層は、厚みを薄くしても十分な導電性を付与することができ、着色が少なく、透明性が良好であり、耐候性に優れ、導電性の経時的変化が少ないことが好ましい。
　例えば、静電容量式のインセルタッチパネルを搭載した液晶表示素子の前面に設ける透明導電層においては、タッチパネルを安定して動作させる観点、及び、指でタッチした際などに、タッチパネル表面で発生した静電気に起因する液晶画面の白濁を防止する観点から、表面抵抗率の平均値を１．０×１０^７Ω／□以上、１．０×１０^１０Ω／□以下にすることが好ましい。表面抵抗率は、光学積層体（Ｉ）において記載した方法と同様の方法で測定できる。

　透明導電層の厚みは、透明性を損なわずに所望の導電性を付与する点から、０．１～１０μｍであることが好ましく、０．３～５μｍであることがより好ましく、０．３～３μｍであることがさらに好ましい。透明導電層の厚みは、光学積層体（Ｉ）において記載した方法と同様の方法で測定することができる。

（表面保護層）
　第四発明により製造される光学積層体は、前面板あるいは画像表示装置の製造工程上の傷つきを防止する観点から、表面保護層を有する。
　後述する画像表示装置（図１２）に例示されるように、当該表面保護層は画像表示装置の最表面に設けられる表面保護部材よりも内側に位置することを想定したものである。したがって当該表面保護層は、画像表示装置の最表面の傷つきを防止するためのハードコートとは異なり、前面板あるいは画像表示装置の製造工程中に傷がつかない程度の硬度を有していればよい。

　表面保護層は、光学積層体の表面に硬度を付与し、前面板あるいは画像表示装置の製造工程上の傷つきを防止する観点から、電離放射線硬化性樹脂を含む電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であることが好ましい。
　表面保護層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物を構成する各成分、及びその好ましい態様は、光学積層体（Ｉ）の表面保護層において記載したものと同じである。

　表面保護層の厚みは、光学積層体の用途や要求特性に応じて適宜選択できるが、硬度、加工適性、及び光学積層体を用いる表示装置の薄型化の観点からは、１～３０μｍが好ましく、２～２０μｍがより好ましく、２～１０μｍがさらに好ましい。表面保護層の厚みは、前述した透明導電層の厚みと同様の方法で測定することができる。

　第四発明における光学積層体は、任意の箇所に、さらに機能層を有してもよい。該機能層としては、反射防止層、屈折率調整層、防眩層、耐指紋層、防汚層、耐擦傷性層、抗菌層等が挙げられる。これら機能層は、光学積層体の最表面に設ける場合、前面板あるいは画像表示装置の製造工程上の傷つきを防止する観点から、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であることが好ましく、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であることがより好ましい。

（裏面フィルム）
　第四発明に係る本発明の製造方法においては、まず、上述した基材フィルムの一方の面に、粘着層を介して、裏面フィルムを積層する。これにより、光学積層体の構成部材としてコシがなく強度の低い基材フィルムを用いた場合であっても、該光学積層体の製造時に平面性を維持することができるので、光学積層体の表面抵抗率の面内均一性を保つことができる。
　裏面フィルムを使用すると、特に基材フィルムとして表面平滑性が高いフィルムを用いる場合に、光学積層体の巻き取り時のブロッキングも防止できるため好ましい。また裏面フィルムが高い透明性を有すると、該フィルムを貼付した状態でも光学積層体の異物や欠陥の有無、並びに透明導電層の厚みの均一性などを光学的手法により容易に検査することができるためより好ましい。

　裏面フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリエステル系樹脂フィルム、ポリプロピレン（ＰＰ）などのポリオレフィン系樹脂フィルムなどを用いることができる。本発明の効果を得る観点からは、ポリエステル系樹脂フィルムが好ましく、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムがより好ましい。また、光学積層体の製造時の取り扱い性の観点から、これらのフィルムは帯電防止性を有することが好ましい。

（粘着層）
　裏面フィルムは、粘着層を介して、光学積層体の基材フィルム側の面と積層される。当該粘着層及び裏面フィルムは、最終的には光学積層体から剥離される部材である。そのため、当該粘着層は、裏面フィルムの接着性に優れるとともに、基材フィルムから剥離しやすいことが好ましい。
　上記観点から、粘着層の厚みは、好ましくは３～３０μｍ、より好ましくは１０～２５μｍである。粘着層の厚みが３μｍ以上であれば裏面フィルムとの接着性が良好であり、３０μｍ以下であれば、裏面フィルムと基材フィルムとの間の剥離性が良好である。
　粘着層の厚みは、前述した透明導電層の厚みと同様の方法で測定することができる。

　粘着層を形成するための粘着剤としては特に制限はなく、ウレタン系粘着剤、アクリル系粘着剤、ポリエステル系粘着剤などの公知の粘着剤を用いることができる。なかでも、裏面フィルムを積層した状態で光学積層体の検査を容易にする観点からは、全光線透過率が高くヘイズが小さい粘着剤が好ましく、アクリル系粘着剤が好ましい。

　本発明の製造方法では、例えば、裏面フィルムの一方の面に上記粘着剤を所望の厚みとなるように塗工し、必要に応じて乾燥させて、粘着層を形成する。次に該粘着層に剥離シートを貼付して巻き取った後、該剥離シートを剥がしながら基材フィルムの一方の面と貼り合わせて、基材フィルムと裏面フィルムとを粘着層を介して積層することができる。もしくは、裏面フィルムの一方の面に上記粘着剤を所望の厚みとなるように塗工し、必要に応じて乾燥させ、基材フィルムと貼り合わせをすることで基材フィルムと裏面フィルムとを粘着層を介して積層することができる。
　次いで、該基材フィルムの他方の面に、好ましくは前述の透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて透明導電層を形成し、この上に表面保護層を形成する。まず、透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物を前述の方法で調製した後、硬化後に所望の厚みとなるように基材フィルム上に塗布する。塗布方法としては特に制限はなく、ダイコート、バーコート、ロールコート、スリットコート、スリットリバースコート、リバースロールコート、グラビアコートなどが挙げられる。さらに、必要に応じて乾燥させて、基材フィルム上に未硬化樹脂層を形成する。
　次いで、該未硬化樹脂層に、電子線、紫外線等の電離放射線を照射して該未硬化樹脂層を硬化させ、透明導電層を形成する。ここで、電離放射線として電子線を用いる場合、その加速電圧については、用いる樹脂や層の厚みに応じて適宜選定し得るが、通常加速電圧７０～３００ｋＶ程度で未硬化樹脂層を硬化させることが好ましい。
　電離放射線として紫外線を用いる場合には、通常波長１９０～３８０ｎｍの紫外線を含むものを放射する。紫外線源としては特に制限はなく、例えば高圧水銀燈、低圧水銀燈、メタルハライドランプ、カーボンアーク燈等が用いられる。

　表面保護層は、前述の表面保護層形成用電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて形成することが好ましい。例えば、前記の電離放射線硬化性樹脂、及び必要に応じ用いられる紫外線吸収剤、通電粒子、その他の各種添加剤を、それぞれ所定の割合で均質に混合し、電離放射線硬化性樹脂組成物からなる塗工液を調製する。このようにして調製された塗工液を、透明導電層上に塗布し、必要に応じて乾燥させた後硬化させて、電離放射線硬化性樹脂組成物からなる表面保護層を形成することができる。樹脂組成物の塗布方法及び硬化方法は、前述の透明導電層の形成方法と同様である。

［透明積層体］
　第四発明に係る透明積層体は、基材フィルムの一方の面に、該基材フィルム側から粘着層及び裏面フィルムを順に有し、該基材フィルムの他方の面に、該基材フィルム側から透明導電層及び表面保護層を順に有し、かつ、下記条件（１）を満たすものである。
　条件（１）：前記基材フィルム、前記粘着層、及び前記裏面フィルムからなる、幅２５ｍｍ、長さ１００ｍｍの積層体を、該長さ方向の一端から２５ｍｍの部分を水平に固定し、残りの長さ７５ｍｍの部分を自重により変形させた際に、該積層体の固定部から長さ方向の他端までの鉛直距離が４５ｍｍ以下である。
　あるいは、第四発明に係る透明積層体は、基材フィルムの一方の面に、該基材フィルム側から粘着層及び裏面フィルムを順に有し、該基材フィルムの他方の面に、該基材フィルム側から透明導電層及び表面保護層を順に有し、該粘着層及び該裏面フィルムの合計厚みが２０～２００μｍであり、かつ、該粘着層及び該裏面フィルムからなる積層物が、ＪＩＳ　Ｋ７１６１－１：２０１４に準拠して引張速度５ｍｍ／分で測定される引張弾性率が８００Ｎ／ｍｍ^２以上、１０，０００Ｎ／ｍｍ^２以下である。
　第四発明に係る透明積層体は、好ましくは前述の方法により製造される。また当該透明積層体における基材フィルム、粘着層、裏面フィルム、透明導電層、表面保護層、積層体及びそれらの好ましい範囲については、前記と同じである。

＜光学積層体及び透明積層体の層構成＞
　ここで、第四発明における光学積層体及び透明積層体について、図１０を用いて説明する。図１０は第四発明により得られる光学積層体及び第四発明に係る透明積層体の実施形態の一例を示す断面模式図である。図１０に示す光学積層体１Ｄは、基材フィルム２Ｄ、透明導電層３Ｄ、及び表面保護層４Ｄを順に有している。透明導電層３Ｄは好ましくは前述した電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物である。また、図１０に示す表面保護層４Ｄは通電粒子４１Ｄを含む導通性表面保護層である。
　また第四発明の透明積層体１’は、光学積層体１Ｄの基材フィルム側の面に、粘着層１３Ｄ及び裏面フィルム１４Ｄを順に有する構成である。

　第四発明の透明積層体は、上記構成を有することから、光学積層体の基材フィルム側の面を保護しつつ、光学的手法による光学積層体の検査を容易に行うことができる。検査の容易性の観点から、第四発明の透明積層体は、全光線透過率が７０％以上でかつヘイズが３０％以下であることが好ましく、全光線透過率が８０％以上でかつヘイズが１０％以下であることがより好ましい。全光線透過率及びヘイズは、具体的には実施例に記載の方法で測定できる。

　また本発明の製造方法で得られる光学積層体１Ｄは、表面抵抗率の面内均一性が良好であることから、静電容量式のタッチパネルに用いると該タッチパネルに安定した動作性を付与でき、特にインセル型のタッチパネルを搭載した画像表示装置において好適に用いられる。また前述のように、インセルタッチパネル搭載液晶表示装置では、タッチパネル表面で発生する静電気により液晶画面が白濁するという現象が起こる。そこで、インセルタッチパネル搭載液晶表示素子の前面に当該光学積層体を用いれば、帯電防止機能が付与されるので静電気を逃がすことができ、上記白濁を防止することができる。

　特に、透明導電層３Ｄを有する光学積層体の表面保護層１Ｄが導通性表面保護層であることが好ましい。導通性表面保護層中の通電粒子４１Ｄが、導通性表面保護層の表面と透明導電層３Ｄとの間の導通を取り、透明導電層に達した静電気をさらに厚み方向に流して、表面保護層の表面側（操作者側）に所望の表面抵抗率を付与することができる。さらには、表面抵抗率の面内均一性及び経時安定性が良好になり、静電容量式タッチパネルの動作性が安定して発現される。

［前面板の製造方法］
　第四発明はまた、前面板の製造方法も提供する。当該前面板は、表面保護層、透明導電層、基材フィルム、偏光子及び位相差板を順に有する。表面保護層、透明導電層、及び基材フィルムは、前述した光学積層体の構成部材に対応する。
　図１１は第四発明における前面板１０Ｄの一例の断面図であり、表面保護層４Ｄ、透明導電層３Ｄ、及び基材フィルム２Ｄからなる光学積層体１Ｄ、偏光子８Ｄ、及び位相差板９Ｄを順に有する。このような構成を有することで、画像表示装置に用いる前面板としての必要機能を付与しつつ、薄型化を図ることができる。

　第四発明における前面板の製造方法は、前記透明積層体の粘着層及び裏面フィルムを剥離し、該透明積層体における基材フィルム側の面と偏光子とをロールトゥロールで貼り合わせる工程を有する。すなわち該製造方法は、透明積層体の粘着層及び裏面フィルムを剥離して除去し、露出した光学積層体１Ｄの基材フィルム２Ｄ側の面と偏光子８Ｄとをロールトゥロールで貼り合わせる工程を有することを特徴とする。前述したように、光学積層体における基材フィルムとしてシクロオレフィンポリマーを用いる場合、該シクロオレフィンポリマーフィルムが斜め延伸されたフィルムであると、光学積層体と偏光子とを両者の光軸を合わせるように貼り合わせる際にも、該光学積層体を斜め枚葉に裁断する必要がない。そのため、ロールトゥロールによる連続的な製造が可能であり、斜め枚葉に裁断することによる無駄も少ないため製造コストの点からも好ましい。また、ロールトゥロール方式での製造においては、工程中に光学積層体に張力がかかるため、シクロオレフィンポリマーフィルムのように裂けやすい基材フィルムを用いる場合には、第四発明の前面板の製造方法はより有効である。
　具体的には、例えば、前述した第四発明の透明積層体から粘着層及び裏面フィルムを剥離し、露出した光学積層体の基材フィルム側の面と偏光子とを貼り合わせた後、該偏光子と位相差板とをロールトゥロールで貼り合わせる方法；偏光子と位相差板とを貼り合わせた後、該偏光子と、第四発明の透明積層体から粘着層及び裏面フィルムを剥離して露出した光学積層体の基材フィルム側の面とをロールトゥロールで貼り合わせる方法；が挙げられる。

　第四発明における前面板を構成する偏光子、位相差板、他の層、並びにこれらの好ましい態様は前記と同じである。

　第四発明の製造方法により得られる光学積層体又は前面板は、画像表示装置に適用できる。該画像表示装置及びその好ましい態様は前記と同じであり、インセルタッチパネル搭載液晶表示装置であることが好ましい。

　図１２は、画像表示装置の好ましい実施形態である、インセルタッチパネル搭載画像表示装置の一実施形態を示す断面模式図である。図１２において、インセルタッチパネル搭載画像表示装置１００Ｄは、視認者側から、表面保護部材１１Ｄ、光学積層体１Ｄ、偏光子８Ｄ、位相差板９Ｄ及びインセルタッチパネル搭載液晶表示素子１２Ｄを順に有する。光学積層体１Ｄ、偏光子８Ｄ、及び位相差板９Ｄは前面板１０Ｄに対応する。また光学積層体１Ｄは視認者側となる表面保護部材１１Ｄ側から、表面保護層４Ｄ、透明導電層３Ｄ、及び基材フィルム２Ｄを順に有する。

　表面保護部材１１Ｄはインセルタッチパネル搭載画像表示装置の表面を保護する目的で設けられ、例えばカバーガラスや、珪素含有膜を有する表面保護フィルムなどを用いることができる。

　インセルタッチパネル搭載液晶表示素子と、前面板とは、例えば、接着層を介して貼り合わせることができる。接着層は、ウレタン系、アクリル系、ポリエステル系、エポキシ系、酢酸ビニル系、塩ビ・酢ビ共重合物、セルロース系等の接着剤を使用することができる。接着層の厚みは１０～２５μｍ程度である。
　このようなインセルタッチパネル搭載液晶表示装置は、第四発明の製造方法で得られる光学積層体を有することで、安定した動作性を発現するとともに、前述したような偏光サングラスにより観察した際のニジムラの防止、静電気発生による液晶表示画面の白濁の防止、及び前面板の構成部材である偏光子の保護及び外光紫外線による劣化防止、等の各種機能を満たしつつ、全体の薄型化が可能であるという点で、極めて有用なものである。

　次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。実施例において、「部」及び「％」は特に断りのない限り質量基準とする。

実施例１－１～１－５、比較例１－１～１－３（光学積層体（Ｉ）の作製及び評価）
　実施例１－１～１－５及び比較例１－１～１－３における各評価は以下のようにして行った。

［透明導電層及び表面保護層の厚み］
　透明導電層及び表面保護層の厚みは、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出した。

［透明導電層及び表面保護層の密着性］
　実施例及び比較例で作製した光学積層体の表面保護層側の面に１ｍｍ角碁盤目カットを１００マス入れ、ニチバン製セロテープ（登録商標）Ｎｏ．４０５（産業用２４ｍｍ）を貼り、ヘラで擦って密着させ９０度方向に３回急速剥離を行った。剥離作業は、温度２５±４℃、湿度５０±１０％の環境下で行った。残っている升目を目視確認し、表に％表示した。

［光学積層体の透過率］
　実施例及び比較例で作製した光学積層体の波長４００ｎｍ及び３８０ｎｍにおける透過率を紫外可視分光光度計「ＵＶＰＣ－２４５０」（（株）島津製作所製）を用いて測定した。測定は、温度２５±４℃、湿度５０±１０％の環境下で行い、光入射面は基材フィルム側とした。

［表面抵抗率］
　ＪＩＳ　Ｋ６９１１：１９９５に準拠して、製造直後の光学積層体の表面保護層面の表面抵抗率（Ω／□）を測定した。高抵抗率計ハイレスターＵＰ　ＭＣＰ－ＨＴ４５０（三菱化学（株）製）を用い、プローブにはＵＲＳプローブ　ＭＣＰ－ＨＴＰ１４（三菱化学（株）製）を使用、温度２５±４℃、湿度５０±１０％の環境下で５００Ｖの印加電圧にて表面抵抗率（Ω／□）の測定を実施した。

［表面抵抗率の平均値及び標準偏差］
　光学積層体を８０ｃｍ×１２０ｃｍ（面積：５６．８インチ）に切り出し、図１に示すように、その表面保護層面側において、該光学積層体の外周から１．５ｃｍ内側の領域（ａ）内を縦及び横に各々４等分する直線（ｂ）を引き、領域（ａ）の頂点、直線（ｂ）同士の交点、及び領域（ａ）を構成する四辺と直線（ｂ）との交点において、ＪＩＳ　Ｋ６９１１：１９９５に準拠して表面抵抗率を測定し、合計２５点の測定値の平均値及び標準偏差を求めた。測定には、高抵抗率計ハイレスターＵＰ　ＭＣＰ－ＨＴ４５０（三菱化学（株）製）を用い、プローブにはＵＲＳプローブ　ＭＣＰ－ＨＴＰ１４（三菱化学（株）製）を使用、温度２５±４℃、湿度５０±１０％の環境下で５００Ｖの印加電圧にて行った。

［表面抵抗率の経時安定性］
　光学積層体を８０℃で２５０時間保持した後の表面抵抗率（Ω／□）を上記と同様の方法で合計２５点測定した。それぞれの測定点において、（８０℃２５０時間保持後の表面抵抗率）／（８０℃２５０時間保持前の、製造直後の表面抵抗率）の比を算出し、下記基準で評価した。
Ａ：すべての測定点において、表面抵抗率比が０．５０～２．０の範囲である
Ｂ：すべての測定点において、表面抵抗率比が０．４０～２．５の範囲であり、かつ該表面抵抗率比が０．４０以上、０．５０未満又は２．０超、２．５以下になる測定点が少なくとも１点存在する
Ｃ：表面抵抗率比が０．４０未満もしくは２．５超になる測定点が少なくとも１点存在する

［視認性］
　ソニーエリクソン社製「エクスペリアＰ」に組み込まれている、静電容量式のインセルタッチパネル搭載液晶表示素子上に、実施例及び比較例で得られた光学積層体を、厚み２０μｍの接着層（大日本印刷（株）製の両面接着シート「ノンキャリア　ＦＣ２５Ｋ３Ｅ４６」の接着層を転写したもの）を介して貼り合わせた。画面を白表示もしくは略白表示にして、市販の偏光サングラス越しに、もしくは偏光板越しに様々な角度から目視でニジムラ（虹模様）が視認できるかどうかを評価した。
Ａ：ニジ模様は視認できない
Ｂ：ニジ模様が視認される

［液晶画面の白濁］
　ソニーエリクソン社製「エクスペリアＰ」に組み込まれている、静電容量式のインセルタッチパネル搭載液晶表示素子上に、実施例及び比較例の光学積層体を、厚み２０μｍの接着層（大日本印刷（株）製の両面接着シート「ノンキャリア　ＦＣ２５Ｋ３Ｅ４６」の接着層を転写したもの）を介して貼り合わせた後、光学積層体の透明導電層に固着した導線を導電性部材に接続した。次いで、光学積層体の最表面の上にさらに保護フィルム（ＰＥＴフィルム）を貼合した。次いで、貼合した保護フィルムを除去してすぐに液晶表示装置を駆動して手でタッチした際に白濁現象が発生するかどうかを目視により評価した。
Ａ：白濁は視認できない
Ｂ：僅かに白濁が視認される場合もあるが、極めて微視的である
Ｃ：白濁が目立って視認される

［動作性］
　上述のインセルタッチパネル搭載液晶表示素子上に、実施例及び比較例の光学積層体を、厚み２０μｍの接着層（大日本印刷（株）製の両面接着シート「ノンキャリア　ＦＣ２５Ｋ３Ｅ４６」の接着層を転写したもの）を介して貼り合わせた。次いで、光学積層体の最表面の上から手でタッチした際に液晶・タッチセンサーが不具合なく駆動しているかどうかを目視により評価した。
Ａ：問題なく駆動している
Ｂ：僅かに動作不良が見られることがあるが駆動する
Ｃ：動作しない

製造例１（透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物Ａの調製）
　電離放射線硬化性樹脂（Ａ）であるジシクロペンテニルアクリレート（日立化成（株）製「ＦＡ-５１１ＡＳ」）５０質量部、電離放射線硬化性樹脂（Ｂ）であるペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製「ＫＡＹＡＲＡＤ　ＰＥＴ－３０」）５０質量部、導電性粒子であるアンチモン錫酸化物粒子（日揮触媒化成（株）製「Ｖ３５６０」、ＡＴＯ分散液、ＡＴＯ平均一次粒子径８ｎｍ）３００質量部、光重合開始剤である１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン（ＢＡＳＦ社製「イルガキュア（Ｉｒｇ）１８４」）５質量部、及び溶剤（メチルイソブチルケトン）４０００質量部を添加して攪拌し、固形分濃度１０質量％の透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物Ａを調製した。

製造例２（透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｂの調製）
　電離放射線硬化性樹脂（Ａ）として、ジシクロペンテニルアクリレート５０質量部に替えてジシクロペンタニルメタクリレート（日立化成（株）製「ＦＡ－５１３Ｍ」）を５０質量部使用したこと以外は、上記電離放射線硬化性樹脂組成物Ａと同様にして、透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｂを調製した。

製造例３（表面保護層形成用電離放射線硬化性樹脂組成物Ａの調製）
　電離放射線硬化性樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製「ＰＥＴ－３０」）１００質量部と、トリアジン系紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ社製「Ｔｉｎｕｖｉｎ４６０」）１０質量部とを、固形分濃度が４０質量％となるようにメチルイソブチルケトン中に添加して攪拌し、溶液ａを得た。
　次いで、溶液ａの固形分１００質量部に対して、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製「イルガキュア（Ｉｒｇ）１８４」）７質量部、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製「ルシリンＴＰＯ」）１．５質量部を添加して攪拌し溶解させて、最終固形分濃度が４０質量％の溶液ｂを調製した。
　次いで、溶液ｂの固形分１００質量部に対し、レベリング剤（ＤＩＣ株式会社製「メガファックＲＳ７１」）を固形分比で０．４質量部添加して撹拌した。さらに、この溶液の固形分１００質量部に対し、通電粒子として金メッキ粒子の分散液（ＤＮＰファインケミカル株式会社製、ブライト分散液、金メッキ粒子の平均一次粒子径４．６μｍ、固形分濃度２５質量％）を固形分で２．５質量部添加して攪拌を行い、表面保護層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物Ａを調製した。

実施例１－１（光学積層体（Ｉ）の作製）
［透明導電層の形成］
　基材フィルムとして厚み１００μｍのシクロオレフィンポリマーフィルム（日本ゼオン株式会社製「ＺＦ１４」、１／４波長位相差フィルム）を用いて、該フィルム上に、前述した透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物Ａを乾燥後の厚みが１μｍとなるようスリットリバースコート法により塗布して未硬化樹脂層を形成した。得られた未硬化樹脂層を８０℃で１分間乾燥させた後、紫外線照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線を照射して硬化させ、厚み１．０μｍの透明導電層を形成した。

［表面保護層の形成］
　前記透明導電層上に、前述の表面保護層形成用電離放射線硬化性樹脂組成物Ａをスリットリバースコートにより、乾燥後の厚みが４．５μｍとなるよう塗布して未硬化樹脂層を形成した。得られた未硬化樹脂層を８０℃で１分間乾燥させた後、紫外線照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線を照射して硬化させ、厚み４．５μｍの表面保護層を形成し、光学積層体を得た。
　得られた光学積層体について、前記評価を行った。評価結果を表１に示す。

実施例１－２
　透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物Ａを前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｂに変更したこと以外は、実施例１－１と同様にして光学積層体を作製し、前記評価を行った。評価結果を表１に示す。

実施例１－３
　基材フィルムを厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡（株）製「コスモシャインＡ４１００」、光学異方性フィルム）に変更したこと以外は、実施例１－１と同様にして光学積層体を作製し、前記評価を行った。評価結果を表１に示す。

実施例１－４
　透明導電層の厚みを表１に示すとおりに変更したこと以外は、実施例１－３と同様にして光学積層体を作製し、前記評価を行った。評価結果を表１に示す。

実施例１－５
　透明導電層の厚みを表１に示すとおりに変更したこと以外は、実施例１－１と同様にして光学積層体を作製し、前記評価を行った。評価結果を表１に示す。

比較例１－１
　表面保護層の厚みを表１に示すとおりに変更したこと以外は、実施例１－１と同様にして光学積層体を作製し、前記評価を行った。評価結果を表１に示す。

比較例１－２
　透明導電層の厚みを表１に示すとおりに変更したこと以外は、比較例１－１と同様にして光学積層体を作製し、前記評価を行った。評価結果を表１に示す。

比較例１－３
　基材フィルムを厚み８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（富士フイルム（株）製「ＴＤ８０ＵＬ」）に変更したこと以外は、実施例１－１と同様にして光学積層体を作製し、前記評価を行った。評価結果を表１に示す。

　表１から明らかなように、本発明の光学積層体（Ｉ）は静電容量式タッチパネルに適用した際には動作性が良好であり、また経時安定性、視認性にも優れるものであった。

実施例２－１～２－２、比較例２－１～２－２（光学積層体（ＩＩ）の作製及び評価）
　実施例２－１～２－２及び比較例２－１～２－２における各評価は以下のようにして行った。
　なお、透明導電層及び表面保護層の厚み、密着性、光学積層体の透過率、表面抵抗率、表面抵抗率の平均値及び標準偏差の評価方法は前記と同じである。

［伸び率］
　シクロオレフィンポリマーフィルム単独、又は実施例及び比較例で作製した光学積層体を幅５ｍｍ、長さ２０ｍｍに切り出して試験片を作製した。動的粘弾性測定装置「Ｒｈｅｏｇｅｌ－Ｅ４０００」（（株）ユービーエム製）を用いて、該試験片の温度１５０℃における伸び率を測定した。測定条件は下記の通りである。
（測定条件）
周波数：１０Ｈｚ
引張荷重：５０Ｎ
加振状態：連続加振
ひずみ制御：１０μｍ
測定温度範囲：２５℃～２００℃
昇温速度：２℃／分

［ひずみ値］
　実施例及び比較例で作製した基材フィルムと透明導電層との積層物を幅１５ｍｍ、長さ１５０ｍｍに切り出して試験片を作製した。該試験片を引張試験機にセットし、ＪＩＳ　Ｋ７１６１－１：２０１４に準拠して引張試験を行った。標線間距離は５０ｍｍとし、温度２３±２℃、引張速度０．５ｍｍ／分において一定速度で引っ張り、伸び（ｍｍ）と荷重（Ｎ）を測定して、下記式からひずみ値及び応力を算出した。５回測定を行い、応力－ひずみ曲線の上降伏点におけるひずみ値の平均値を求めた。
　　ひずみ値（％）＝伸び（ｍｍ）／５０（ｍｍ）×１００
　　応力（ＭＰａ）＝荷重（Ｎ）／積層物の断面積（ｍｍ^２）

実施例２－１（光学積層体（ＩＩ）の作製）
［透明導電層の形成］
　基材フィルムとして厚み１００μｍのシクロオレフィンポリマーフィルム（日本ゼオン株式会社製「ＺＦ１４」、１／４波長位相差フィルム）を用いて、該フィルム上に、前述した透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物Ａを乾燥後の厚みが１．０μｍとなるようスリットリバースコート法により塗布して未硬化樹脂層を形成した。得られた未硬化樹脂層を８０℃で１分間乾燥させた後、紫外線照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線を照射して硬化させ、厚み１．０μｍの透明導電層を形成した。

［表面保護層の形成］
　前記透明導電層上に、前述の表面保護層形成用電離放射線硬化性樹脂組成物Ａをスリットリバースコートにより、乾燥後の厚みが４．５μｍとなるよう塗布して未硬化樹脂層を形成した。得られた未硬化樹脂層を８０℃で１分間乾燥させた後、紫外線照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線を照射して硬化させ、厚み４．５μｍの表面保護層を形成し、光学積層体を得た。
　得られた光学積層体について、前記評価を行った。評価結果を表２に示す。

実施例２－２、比較例２－１～２－２
　光学積層体を構成する材料及び構成を表２に示すものに変更したこと以外は、実施例２－１と同様の方法で光学積層体を作製し、前記評価を行った。結果を表２に示す。

　なお、表２に示す各成分は下記のとおりである。表２に示す質量部は、固形分換算での質量部である。
・シクロオレフィンポリマーフィルム
ＣＯＰ１；日本ゼオン（株）製「ＺＦ１４」、厚み：１００μｍ、温度１５０℃における伸び率：９．９％
ＣＯＰ２；日本ゼオン（株）製「ＺＤ１２」、厚み：４７μｍ、温度１５０℃における伸び率：１２％
ＣＯＰ３；日本ゼオン（株）製「ＺＤ１６」、厚み：６０μｍ、温度１５０℃における伸び率：３．３％
・電離放射線硬化性樹脂（Ａ）
ジシクロペンテニルアクリレート；日立化成（株）製「ＦＡ－５１１ＡＳ」
・電離放射線硬化性樹脂（Ｂ）
ペンタエリスリトールトリアクリレート；日本化薬（株）製「ＰＥＴ－３０」、３～４官能の重合性モノマー、重量平均分子量２９８
・導電性粒子
アンチモン錫酸化物粒子（日揮触媒化成（株）製「Ｖ３５６０」、ＡＴＯ分散液、ＡＴＯ平均一次粒子径８ｎｍ）
・光重合開始剤
１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン；ＢＡＳＦ社製「イルガキュア（Ｉｒｇ）１８４」
・溶剤
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）

［参考例；赤外分光スペクトルの測定］
　実施例２－１で使用したシクロオレフィンポリマーフィルム及び透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物Ａを用いた。実施例２－１で使用したシクロオレフィンポリマーフィルム（日本ゼオン（株）製「ＺＦ１４」）上に、透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物Ａを乾燥後の厚みが１．０μｍとなるようスリットリバースコート法により塗布して未硬化樹脂層を形成した。得られた未硬化樹脂層を８０℃で１分間乾燥させた後、紫外線照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線を照射して硬化させた。得られた硬化層をメスにより採取し、赤外分光光度計（サーモフィッシャーサイエンティフィック（株）製「ＮＩＣＯＬＥＴ　６７００」）で、透過法によりＩＲスペクトルを測定した（図１３）。
　一方、透明導電層形成用電離放射線樹脂組成物Ａに含まれる電離放射線硬化性樹脂（Ａ）（ＦＡ－５１１ＡＳ）１００質量部に対し、光重合開始剤である「イルガキュア１８４」５質量部を添加した電離放射線硬化性樹脂組成物Ａ１の硬化物、電離放射線硬化性樹脂（Ｂ）（ＰＥＴ－３０）１００質量部に対し、光重合開始剤である「イルガキュア１８４」５質量部を添加した電離放射線硬化性樹脂組成物Ｂ１の硬化物をそれぞれ作製し、同様の方法で硬化層を作製、採取して、透過法によりＩＲスペクトルを測定した（図１４，１５）。
　図１３～１５から判るように、透明導電層を採取して測定したＩＲスペクトル（図１３）においては、図１４に示される、電離放射線硬化性樹脂（Ａ）中の脂環式構造に由来する３０００ｃｍ^－１前後の吸収がほとんど認められないことがわかる。このことから、電離放射線硬化性樹脂（Ａ）はシクロオレフィンポリマーフィルム側に選択的に移動し、湿潤していると予測できる。

実施例３－１～３－４、比較例３－１～３－２（光学積層体（ＩＩＩ）の作製及び評価）
　実施例３－１～３－４及び比較例３－１～３－２における各評価は以下のようにして行った。
　なお、光学積層体の透過率、及び動作性の評価方法は前記と同じである。

［導電層及び安定化層の厚み］
　導電層及び安定化層の厚みは、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出した。

［導電層及び安定化層の密着性］
　実施例及び比較例で作製した光学積層体の導電層側の面に１ｍｍ角碁盤目カットを１００マス入れ、ニチバン製セロテープ（登録商標）Ｎｏ．４０５（産業用２４ｍｍ）を貼り、ヘラで擦って密着させ９０度方向に３回急速剥離を行った。剥離作業は、温度２５±４℃、湿度５０±１０％の環境下で行った。残っている升目を目視確認し、表３に％表示した。

［表面抵抗率］
　ＪＩＳ　Ｋ６９１１：１９９５に準拠して、製造直後の光学積層体の導電層面の表面抵抗率（Ω／□）を測定した。高抵抗率計ハイレスターＵＰ　ＭＣＰ－ＨＴ４５０（三菱化学（株）製）を用い、プローブにはＵＲＳプローブ　ＭＣＰ－ＨＴＰ１４（三菱化学（株）製）を使用、温度２５±４℃、湿度５０±１０％の環境下で５００Ｖの印加電圧にて表面抵抗率（Ω／□）の測定を実施した。

［表面抵抗率の平均値及び標準偏差］
　光学積層体を８０ｃｍ×１２０ｃｍ（面積：５６．８インチ）に切り出し、図１に示すように、その導電層面側において、該光学積層体の外周から１．５ｃｍ内側の領域（ａ）内を縦及び横に各々４等分する直線（ｂ）を引き、領域（ａ）の頂点、直線（ｂ）同士の交点、及び領域（ａ）を構成する四辺と直線（ｂ）との交点において、ＪＩＳ　Ｋ６９１１：１９９５に準拠して表面抵抗率を測定し、合計２５点の測定値の平均値及び標準偏差を求めた。測定には、高抵抗率計ハイレスターＵＰ　ＭＣＰ－ＨＴ４５０（三菱化学（株）製）を用い、プローブにはＵＲＳプローブ　ＭＣＰ－ＨＴＰ１４（三菱化学（株）製）を使用、温度２５±４℃、湿度５０±１０％の環境下で５００Ｖの印加電圧にて行った。

［視認性（干渉縞の有無）］
　実施例及び比較例の光学積層体の基材フィルム側の面に黒テープ（ヤマト株式会社製ビニールテープ　Ｎｏ．２００－３８－２１、黒、幅３８ｍｍ）を貼り合わせ、反対面（導電層側の面）から目視にて干渉模様の有無を確認した。
Ａ：干渉模様が視認できない
Ｂ：色ムラを伴わない干渉模様が視認できる
Ｃ：色ムラを伴う干渉模様が視認できる

［タッチパネル感度］
　ソニーエリクソン社製「エクスペリアＰ」に組み込まれている、静電容量式のインセルタッチパネル搭載液晶表示素子上に、実施例及び比較例の光学積層体を、厚み２０μｍの接着層（大日本印刷（株）製の両面接着シート「ノンキャリア　ＦＣ２５Ｋ３Ｅ４６」の接着層を転写したもの）を介して貼り合わせた後、光学積層体の透明導電層に固着した導線を導電性部材に接続した。次いで、光学積層体の最表面の上にさらに保護フィルム（ＰＥＴフィルム）を貼合した。次いで、貼合した保護フィルムを除去してすぐに液晶表示装置を駆動し、手袋（ミドリ安全（株）製「スマホ手袋スマートタッチ」）を装着した手で前述した表面抵抗率の測定点をタッチした際に動作エラーが発生する確率をカウントし、下記基準で評価した。
Ａ：エラー確率０％以上２０％未満
Ｂ：エラー確率２０％以上６０％未満
Ｃ：エラー確率６０％以上

製造例４（安定化層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物Ａの調製）
　電離放射線硬化性樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製「ＰＥＴ－３０」）１００質量部を、固形分濃度が１５質量％となるようにメチルイソブチルケトン中に添加して攪拌し、溶液ａを得た。
　次いで、溶液ａの固形分１００質量部に対して、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製「イルガキュア（Ｉｒｇ）１８４」）７質量部、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製「ルシリンＴＰＯ」）１．５質量部を添加して攪拌し溶解させて、最終固形分濃度が１５質量％の溶液ｂを調製した。
　次いで、溶液ｂの固形分１００質量部に対し、レベリング剤（ＤＩＣ株式会社製「メガファックＲＳ７１」）を固形分比で０．４質量部添加して攪拌を行い、安定化層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物Ａを調製した。

製造例５（導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物Ａの調製）
　電離放射線硬化性樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製「ＫＡＹＡＲＡＤ　ＰＥＴ－３０」）１００質量部、導電性粒子であるアンチモン錫酸化物粒子（日揮触媒化成（株）製「Ｖ３５６０」、ＡＴＯ分散液、ＡＴＯ平均一次粒子径８ｎｍ）１００質量部、光重合開始剤である１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン（ＢＡＳＦ社製「イルガキュア（Ｉｒｇ）１８４」）５質量部、及び溶剤（メチルイソブチルケトン）１１００質量部を添加して攪拌し、固形分濃度１５質量％の導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物Ａを調製した。

製造例６（導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｂの調製）
　電離放射線硬化性樹脂として、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製「ＫＡＹＡＲＡＤ　ＰＥＴ－３０」）１００質量部に替えて、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製「ＫＡＹＡＲＡＤ　ＰＥＴ－３０」）５０質量部、熱可塑性樹脂として、アクリルポリマー（ＤＮＰファインケミカル社製「ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ」を５０質量部使用したこと以外は、上記導電層形成用電離放射線硬化性樹脂組成物Ａと同様にして、固形分濃度１５質量％の導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｂを調製した。

製造例７（導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｃの調製）
　導電性粒子であるアンチモン錫酸化物粒子（日揮触媒化成（株）製「Ｖ３５６０」、ＡＴＯ分散液、ＡＴＯ平均一次粒子径８ｎｍ）の量を１００質量部から２０質量部に変更したこと以外は、上記導電層形成用電離放射線硬化性樹脂組成物Ａと同様にして、固形分濃度１５質量％の導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｃを調製した。

実施例３－１（光学積層体（ＩＩＩ）の作製）
［安定化層の形成］
　基材フィルムとして厚み８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム株式会社製「ＴＤ８０ＵＬ」）を用いて、該フィルム上に、前述した安定化層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物Ａをスリットリバースコート法により塗布して、未硬化樹脂層を形成した。得られた未硬化樹脂層を８０℃で１分間乾燥させた後、紫外線照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線を照射して硬化させ、厚み１．０μｍの安定化層を形成した。

［導電層の形成］
　前記安定化層上に、前述した導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物Ａを乾燥後の厚みが４．０μｍとなるようスリットリバースコート法により塗布して未硬化樹脂層を形成した。得られた未硬化樹脂層を８０℃で１分間乾燥させた後、紫外線照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線を照射して硬化させ、厚み４．０μｍの導電層を形成し、光学積層体を得た。
　得られた光学積層体について、前記評価を行った。評価結果を表３に示す。

実施例３－２～３－４
　導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物の種類、安定化層及び導電層の厚みを表３に示すとおりに変更したこと以外は、実施例３－１と同様にして光学積層体を作製し、前記評価を行った。評価結果を表３に示す。

比較例３－１
　安定化層を形成しなかったこと以外は、実施例３－２と同様にして光学積層体を作製し、前記評価を行った。評価結果を表３に示す。

比較例３－２
　導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物の種類を変更したこと以外は、実施例３－２と同様にして光学積層体を作製し、前記評価を行った。評価結果を表３に示す。

　表３から明らかなように、本発明の光学積層体（ＩＩＩ）は静電容量式タッチパネルに適用した際には動作性が良好であり、また経時安定性にも優れるものであった。一方、比較例３－１に示すように、安定化層を有さない光学積層体は表面抵抗率のばらつきが大きく、視認性、並びに静電容量式タッチパネルに適用した際の動作性も低下した。さらに、表面抵抗率の経時安定性も低下した。また比較例３－２に示すように、光学積層体の表面抵抗率の平均値が１．０×１０^７Ω／□以上、１．０×１０^１２Ω／□以下の範囲であっても、所定の条件を満たさない場合には、同様に視認性及び静電容量式タッチパネルに適用した際の動作性が低下した。

実施例４－１～４－５、比較例４－１（光学積層体及び透明積層体の製造）
　実施例４－１～４－５、比較例４－１における各評価は以下のようにして行った。
［透明導電層、表面保護層及び粘着層の厚み］
　透明導電層、表面保護層及び粘着層の厚みは、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出した。

［条件（１）で規定する鉛直距離（たわみ）］
　基材フィルム、粘着層、及び裏面フィルムからなる積層体を幅２５ｍｍ、長さ１００ｍｍに切り出した。このサンプルを厚み２ｍｍ、１００ｍｍ角の２枚のガラス板を用いて、該サンプルの長さ方向の一端から２５ｍｍの部分までを挟み込み、上から１ｋｇの重りを載せ水平台に固定した。ガラス板の端部から出た、サンプルの残りの長さ７５ｍｍの部分を自重で変形させ、サンプル固定部から、サンプルの長さ方向の他端までの鉛直距離を測定した。
　基材フィルム単独、並びに、粘着層及び裏面フィルムからなる積層物の鉛直距離（たわみ）についても、上記と同様に測定した。

［引張弾性率］
　測定対象となる各種フィルムからＪＩＳ　Ｋ６２５１：２０１０に準拠してダンベル状１号形試験片を作製した。該試験片を引張試験機（テンシロンＲＴＧ１３１０、（株）エー・アンド・デイ製）にセットし、ＪＩＳ　Ｋ７１６１－１：２０１４に準拠して引張試験を行った。標線間距離は８０ｍｍとし、温度２３±２℃、引張速度５ｍｍ／分において一定速度で引っ張り、伸び（ｍｍ）と荷重（Ｎ）を測定して、下記式からひずみ及び応力を算出した。引張試験開始直後の応力－ひずみ曲線の傾きから引張弾性率（Ｎ／ｍｍ^２）を算出した。
　　ひずみ（％）＝伸び（ｍｍ）／５０（ｍｍ）×１００
　　応力（ＭＰａ）＝荷重（Ｎ）／試験片の断面積（ｍｍ^２）

［全光線透過率及びヘイズ］
　全光線透過率及びヘイズは、ＨＭ－１５０（（株）村上色彩技術研究所製）を用いて測定した。全光線透過率はＪＩＳ　Ｋ７３６１－１：１９９７に、ヘイズはＪＩＳ　Ｋ７１３６：２０００に準拠して測定した。測定は、温度２５±４℃、湿度５０±１０％の環境下で行い、光入射面は基材フィルム側とした。

［表面抵抗率の面内均一性］
　光学積層体を８０ｃｍ×１２０ｃｍ（面積：５６．８インチ）に切り出し、図１に示すように、その表面保護層面側において、該光学積層体の外周から１．５ｃｍ内側の領域（ａ）内を縦及び横に各々４等分する直線（ｂ）を引き、領域（ａ）の頂点、直線（ｂ）同士の交点、及び領域（ａ）を構成する四辺と直線（ｂ）との交点において、ＪＩＳ　Ｋ６９１１：１９９５に準拠して表面抵抗率（Ω／□）を測定し、合計２５点の測定値の平均値及び標準偏差を求めた。測定には、高抵抗率計ハイレスターＵＰ　ＭＣＰ－ＨＴ４５０（三菱化学（株）製）を用い、プローブにはＵＲＳプローブ　ＭＣＰ－ＨＴＰ１４（三菱化学（株）製）を使用、温度２５±４℃、湿度５０±１０％の環境下で５００Ｖの印加電圧にて行った。
　本実施例では表面抵抗率の平均値がいずれも同程度であることから、表面抵抗率の標準偏差の値が小さいほど面内均一性が良好であると判断した。具体的には、表面抵抗率の面内均一性は下記基準で評価した。
Ａ：表面抵抗率の標準偏差が２．００×１０^７Ω／□以下
Ｂ：表面抵抗率の標準偏差が２．００×１０^７Ω／□超

［検査の容易性］
　各例で得られた透明積層体を用いて、明室蛍光灯下にて光学積層体の欠点検査を実施し、下記基準で評価した。
Ａ：欠点の確認が容易である
Ｂ：欠点の確認が難しい
Ｃ：欠点の確認が非常に難しい、もしくはできない

実施例４－１（光学積層体及び透明積層体の製造）
　アクリル系粘着剤（クラレ株式会社製「ＬＡ２１４０」）を溶媒［メチルエチルケトン／トルエン（溶媒配合比＝質量基準で１：１）］中に、固形分２０％（質量基準）となるよう溶解し、粘着剤塗工液を調製した。該粘着剤塗工液を、コーターにより乾燥後膜厚が１５μｍになるように裏面フィルムである厚さ３８μｍの二軸延伸ポリエステルフィルム上に塗布し、１００℃で１分間乾燥して、裏面フィルムと粘着層との積層体を作製した。
　なお、粘着層と裏面フィルムとの初期粘着力は、７０ｍＮ／２５ｍｍであった。
　次に、基材フィルムである厚み４７μｍのシクロオレフィンポリマーフィルム（日本ゼオン（株）製「ＺＦ１４」、斜め延伸された１／４波長位相差フィルム）の一方の面と、上記積層体の粘着層側の面とを貼り合わせ、基材フィルムに粘着層を介して裏面フィルムを積層した。
　次いで、該基材フィルムの他方の面に、前述した透明導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物Ａを乾燥後の厚みが１μｍとなるようスリットリバースコート法により塗布して未硬化樹脂層を形成した。得られた未硬化樹脂層を８０℃で１分間乾燥させた後、紫外線照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線を照射して硬化させ、厚み１μｍの透明導電層を形成した。
　前記透明導電層上に、前述の表面保護層形成用電離放射線硬化性樹脂組成物Ａをスリットリバースコートにより、乾燥後の厚みが４．５μｍとなるよう塗布して未硬化樹脂層を形成した。得られた未硬化樹脂層を８０℃で１分間乾燥させた後、紫外線照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線を照射して硬化させ、厚み４．５μｍの表面保護層を形成し、裏面フィルム及び粘着層を有する光学積層体（透明積層体）を得た。
　得られた透明積層体について、前記評価を行った。評価結果を表４に示す。表面抵抗率の標準偏差は１．７７×１０^７Ω／□であった。

実施例４－２～４－５、比較例４－１
　粘着層の厚み、及び裏面フィルムの種類を表４に示すとおりに変更したこと以外は、実施例４－１と同様の方法で光学積層体及び透明積層体を製造した。評価結果を表４に示す。なお比較例４－１において、表面抵抗率の標準偏差は２．１０×１０^７Ω／□であった。

　第一発明に係る光学積層体は、表面抵抗率の面内均一性が良好であることから、特に静電容量式のタッチパネルを搭載した画像表示装置を構成する部材として好適に用いられる。当該光学積層体を有することにより、当該タッチパネルは安定した動作性を発現する。
　第二発明に係る光学積層体は、所定の範囲の伸び特性を有することから、基材フィルムであるシクロオレフィンポリマーフィルムと透明導電層との密着性に優れ、かつ表面抵抗率の面内均一性も良好であるため、特に静電容量式のタッチパネルを搭載した画像表示装置の前面板を構成する部材として好適に用いられる。当該光学積層体を有することにより、当該タッチパネルは安定した動作性を発現する。また光学積層体において、シクロオレフィンポリマーフィルムとして斜め延伸された１／４波長位相差フィルムを用いた場合には、偏光サングラスを通しての視認性も良好であり、かつロールトゥロール法による連続的な製造も可能となる。
　さらに第二発明に係る光学積層体は、全体の厚みに対する基材フィルムの厚みの比率が８０％以上であることから、可視光透過性も良好である。
　第三発明に係る光学積層体は、基材フィルムとしてセルロース系基材フィルムを用いた場合にも表面抵抗率の面内均一性が良好であることから、特に静電容量式のタッチパネルを搭載した画像表示装置を構成する部材として好適に用いられる。当該光学積層体を有することにより、タッチパネルは安定した動作性を発現する。
　第四発明に係る光学積層体の製造方法によれば、基材フィルム、透明導電層及び表面保護層を有する光学積層体の製造においてコシがなく強度の低い基材フィルムを用いても、表面抵抗率の面内均一性が良好な光学積層体を製造することができる。該光学積層体は、特に静電容量式のタッチパネルを搭載した画像表示装置を構成する部材として好適に用いられる。

　１，１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄ　　光学積層体
　１’　　　　　　　　　　　　　透明積層体
　２Ａ，２Ｄ　　　　　　　　　　基材フィルム
　２Ｂ，２Ｃ　　　　　　　　　　セルロース系基材フィルム
　３Ａ，３Ｄ　　　　　　　　　　透明導電層
　４Ａ，４Ｄ　　　　　　　　　　表面保護層
　４１Ａ，４１Ｄ　　　　　　　　通電粒子
　５Ｂ，５Ｃ　　　　　　　　　　安定化層
　６Ｂ，６Ｃ　　　　　　　　　　導電層
　７Ｃ　　　　　　　　　　　　　機能層
　７１Ｃ　　　　　　　　　　　　通電粒子
　８Ａ，８Ｂ，８Ｄ　　　　　　　偏光子
　９Ａ，９Ｂ，９Ｄ　　　　　　　位相差板
　１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｄ　　　　前面板
　１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｄ　　　　表面保護部材
　１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｄ　　　　インセルタッチパネル搭載液晶表示素子
　１３Ｄ　　　　　　　　　　　　粘着層
　１４Ｄ　　　　　　　　　　　　裏面フィルム
　１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｄ　インセルタッチパネル搭載画像表示装置

Claims

　基材フィルム、透明導電層、及び表面保護層を順に有する光学積層体であって、ＪＩＳ　Ｋ６９１１に準拠して測定した表面抵抗率の平均値が１．０×１０^７Ω／□以上、１．０×１０^１０Ω／□以下の範囲にあり、かつ該表面抵抗率の標準偏差σが５．０×１０^８Ω／□以下である光学積層体。
　前記光学積層体を８０℃で２５０時間保持した後に測定される表面抵抗率の、該保持前の表面抵抗率に対する比が、すべての測定点において０．４０～２．５の範囲である、請求項１に記載の光学積層体。
　前記基材フィルムが１／４波長位相差のプラスチックフィルムである、請求項１に記載の光学積層体。
　前記基材フィルムがシクロオレフィンポリマーフィルムである、請求項１に記載の光学積層体。
　前記表面保護層が該表面保護層の厚みに対し５０％超、１５０％以下の平均一次粒子径を有する通電粒子を含む、請求項１に記載の光学積層体。
　前記透明導電層が分子内に脂環式構造を有する電離放射線硬化性樹脂（Ａ）と導電性粒子とを含む電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物である、請求項１に記載の光学積層体。
　前記透明導電層の厚みが０．１～１０μｍである、請求項１に記載の光学積層体。
　基材フィルム、透明導電層、及び表面保護層を順に有する光学積層体であって、該基材フィルムがシクロオレフィンポリマーフィルムであり、該光学積層体全体の厚みに対する該基材フィルムの厚みの比率が８０％以上、９５％以下であり、動的粘弾性測定装置を用いて周波数１０Ｈｚ、引張荷重５０Ｎ、昇温速度２℃／分の条件で測定した、温度１５０℃における該光学積層体の伸び率が５．０％以上、２０％以下である、光学積層体。
　動的粘弾性測定装置を用いて周波数１０Ｈｚ、引張荷重５０Ｎ、昇温速度２℃／分の条件で測定した、温度１５０℃における前記基材フィルムの伸び率が５．０％以上、２５％以下である、請求項８に記載の光学積層体。
　セルロース系基材フィルム、安定化層、及び導電層を順に有する光学積層体であって、ＪＩＳ　Ｋ６９１１に準拠して測定した表面抵抗率の平均値が１．０×１０^７Ω／□以上、１．０×１０^１２Ω／□以下の範囲にあり、かつ該表面抵抗率の標準偏差σを該平均値で除した値が０．２０以下である光学積層体。
　前記安定化層の厚みが５０ｎｍ以上、１０μｍ未満である、請求項１０に記載の光学積層体。
　前記安定化層が電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物である、請求項１０に記載の光学積層体。
　前記導電層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂が前記安定化層形成用の電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂と同一種である、請求項１２に記載の光学積層体。
　請求項１～１３のいずれか１項に記載の光学積層体、偏光子及び位相差板を順に有する前面板。
　表示素子の視認者側に、請求項１～１３のいずれか１項に記載の光学積層体が設けられた画像表示装置。
　前記表示素子がインセルタッチパネル搭載液晶表示素子である、請求項１５に記載の画像表示装置。
　基材フィルム、透明導電層、及び表面保護層を順に有する光学積層体の製造方法であって、該基材フィルムの一方の面に、粘着層を介して裏面フィルムを積層し、次いで、該基材フィルムの他方の面に該透明導電層及び該表面保護層を順に形成する工程を有し、かつ、下記条件（１）を満たす、光学積層体の製造方法。
　条件（１）：前記基材フィルム、前記粘着層、及び前記裏面フィルムからなる、幅２５ｍｍ、長さ１００ｍｍの積層体を、該長さ方向の一端から２５ｍｍの部分を水平に固定し、残りの長さ７５ｍｍの部分を自重により変形させた際に、該積層体の固定部から長さ方向の他端までの鉛直距離が４５ｍｍ以下である。
　基材フィルム、透明導電層、及び表面保護層を順に有する光学積層体の製造方法であって、該基材フィルムの一方の面に、粘着層を介して裏面フィルムを積層し、次いで、該基材フィルムの他方の面に該透明導電層及び該表面保護層を順に形成する工程を有し、該粘着層及び該裏面フィルムの合計厚みが２０～２００μｍであり、かつ、該粘着層及び該裏面フィルムからなる積層物が、ＪＩＳ　Ｋ７１６１－１：２０１４に準拠して引張速度５ｍｍ／分で測定される引張弾性率が８００Ｎ／ｍｍ^２以上、１０，０００Ｎ／ｍｍ^２以下である、光学積層体の製造方法。
　基材フィルムの一方の面に、該基材フィルム側から粘着層及び裏面フィルムを順に有し、該基材フィルムの他方の面に、該基材フィルム側から透明導電層及び表面保護層を順に有し、かつ、下記条件（１）を満たす、透明積層体。
　条件（１）：前記基材フィルム、前記粘着層、及び前記裏面フィルムからなる、幅２５ｍｍ、長さ１００ｍｍの積層体を、該長さ方向の一端から２５ｍｍの部分を水平に固定し、残りの長さ７５ｍｍの部分を自重により変形させた際に、該積層体の固定部から長さ方向の他端までの鉛直距離が４５ｍｍ以下である。
　基材フィルムの一方の面に、該基材フィルム側から粘着層及び裏面フィルムを順に有し、該基材フィルムの他方の面に、該基材フィルム側から透明導電層及び表面保護層を順に有し、該粘着層及び該裏面フィルムの合計厚みが２０～２００μｍであり、かつ、該粘着層及び該裏面フィルムからなる積層物が、ＪＩＳ　Ｋ７１６１－１：２０１４に準拠して引張速度５ｍｍ／分で測定される引張弾性率が８００Ｎ／ｍｍ^２以上、１０，０００Ｎ／ｍｍ^２以下である、透明積層体。