TW201741144A - 光學積層體及其製造方法、前面板、及圖像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

一種光學積層體、光學積層體之製造方法、前面板及圖像顯示裝置；[1]一種光學積層體，其係依序具有基材膜、透明導電層及表面保護層者，依據JIS K6911測得之表面電阻率之平均值處於1.0×107Ω/□以上1.0×1010Ω/□以下之範圍，且該表面電阻率之標準偏差σ為5.0×108Ω/□以下；[2]一種光學積層體，其係依序具有基材膜、透明導電層及表面保護層者，該基材膜為環烯烴聚合物膜，該基材膜之厚度相對於該光學積層體整體之厚度之比率為80%以上95%以下，使用動態黏彈性測量裝置於頻率10Hz、拉伸荷重50N、升溫速度2℃/分鐘之條件測得之於溫度150℃的該光學積層體之伸長率為5.0%以上20%以下；[3]一種光學積層體，其係依序具有纖維素系基材膜、穩定化層及導電層者，依據JIS K6911測得之表面電阻率之平均值處於1.0×107Ω/□以上1.0×1012Ω/□以下之範圍，且該表面電阻率之標準偏差σ除以該平均值而獲得之值為0.20以下。

Description

光學積層體及其製造方法、前面板、及圖像顯示裝置
本發明係關於一種光學積層體及其製造方法、前面板及圖像顯示裝置。
近年來，於智慧型手機、代表平板終端之攜帶型液晶終端搭載有觸控面板功能。關於觸控面板之方式，已知有靜電電容式、光學式、超音波式、電磁感應式、電阻膜式等。其中，捕捉指尖與導電層之間的靜電電容之變化而輸入的靜電電容式之觸控面板與電阻膜式正並列成為現在觸控面板之主流。
以往，此種搭載有觸控面板功能之液晶顯示裝置，於液晶顯示裝置上安裝有觸控面板之外置型為主流。外置型由於係於分別製造液晶顯示裝置與觸控面板後進行一體化，因此即便任一者存在不良，另一者亦可利用，良率優異，但存在厚度或重量增加之問題。
作為解決此種問題者，出現於液晶顯示裝置之液晶顯示元件與偏光板之間併入觸控面板之所謂搭載表嵌型之觸控面板之液晶顯示裝置。此外，進而近年來，作為與表嵌型相比進一步降低厚度或重量者，而開始開發將觸控功能併入液晶顯示元件中之所謂搭載有內嵌型之觸控面板之液晶顯示 裝置(搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示裝置)。
搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示裝置採用如下構成：於併入有觸控功能之液晶顯示元件上設置經由接著層而貼合有具有各種功能之膜等的光學積層體。所謂具有各種功能之膜等例如可列舉相位差板、偏光元件、偏光元件之保護膜、覆蓋玻璃等。
為了將搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示裝置進行輕量化、薄型化，而嘗試研究設置於顯示元件上之光學積層體。作為該方法，可列舉將光學積層體製成特定之層構成而削減構成該光學積層體之構件、或減小構成該光學積層體之膜之厚度等。
又，於各方式之觸控面板中，靜電電容式之觸控面板就表現出穩定之動作性之觀點而言，尤其重要的是觸控面板感測器部之電位穩定。為了確保靜電電容式觸控面板之穩定之動作性，必須為等電位面，且更佳為該等電位面不受環境變化影響，具有經時穩定性。為此，研究將設置於顯示元件上之上述光學積層體製成特定之層構成。
例如於專利文獻1、2中揭示有一種具有特定之層構成及厚度之內嵌觸控面板液晶顯示元件之前表面用的光學積層體。藉由在位於較液晶顯示元件更靠近操作者側位置的光學積層體之任意部位設置與觸控面板感測器不同之兩種導電層，可將觸控面板表面製成低導電率且導電性之經時變化少者。
又，於搭載有觸控面板之液晶顯示裝置中，以往之外置型或表嵌型中位於較液晶顯示元件更靠近操作者側位置的觸控面板作為導電性構件而發揮作用，藉由切換為內嵌型，而於較液晶顯示元件更靠近操作者 側之位置不存在導電性構件。由此導致搭載有內嵌型之觸控面板的液晶顯示裝置於以手指觸摸觸控面板時會產生液晶畫面局部白濁之問題。該白濁係因無法釋放觸控面板表面產生之靜電而引起。然而，於專利文獻1、2中亦發現，藉由在位於較液晶顯示元件更靠近操作者側之位置的光學積層體之任意部位設置導電層，可釋放該表面產生之靜電，亦可防止上述白濁。
進而於搭載觸控面板之液晶顯示裝置中，亦正研究改良通過偏光太陽眼鏡之目視辨認性。於將光學積層體配置於顯示元件之前表面時，存在通過偏光太陽眼鏡所見之顯示畫面可觀察到顏色不同之不均(以下亦稱為「虹不均」)之情形，該所謂目視辨認性之改良係指改良該情形。作為該目視辨認性之改良方法，已知有於較偏光元件更靠近目視辨認者側之位置設置具有擾亂直線偏光之光學異向性之層的方法。
例如於上述之專利文獻1中揭示有一種具有特定之層構成及厚度之內嵌觸控面板液晶顯示元件之前表面用的光學積層體，其依序具有相位差板、偏光元件及透明基材，進而具有導電層而成，且使用具有擾亂自上述偏光元件出射之直線偏光的光學異向性者作為該透明基材。於專利文獻2中揭示有一種具有特定之厚度之內嵌觸控面板液晶顯示元件之前表面用的光學積層體，其依序具有相位差板、偏光元件及表面保護膜，進而具有導電層而成，且使用具有擾亂自上述偏光元件出射之直線偏光的光學異向性者作為該表面保護膜。
作為上述具有擾亂直線偏光之光學異向性之透明基材或表面保護膜，可列舉1/4波長相位差之塑膠膜等。通常，該塑膠膜為延伸膜。然而，已實施通常之延伸處理的延伸膜之光軸之朝向相對於其寬度方向為 平行方向或正交方向，因此為了以使直線偏光元件之透過軸與1/4波長相位差之塑膠膜之光軸重合之方式進行貼合，必須將該膜裁切為斜向單片。因此，製造步驟變得繁雜，而且由於進行斜向裁切，因此存在浪費之膜多的問題。又，於製造觸控面板時，亦存在無法藉由輥對輥進行製造，難以進行連續製造之問題。
於專利文獻3中作為可進行利用輥對輥等之連續製造且光學上亦適宜之靜電電容式觸控面板感測器，揭示有一種於斜向延伸膜之至少一面上直接或間接具有導電層之靜電電容式觸控面板感測器。藉由使用該斜向延伸膜，變得能夠進行利用輥對輥之連續製造。又，作為該斜向延伸膜所使用之材料，可列舉環烯烴聚合物作為尤佳者。
又，作為具有防靜電層之光學膜，於專利文獻4中揭示有一種光學膜，其於透明之膜上依序具有防靜電層、保護層、由分散有微粒之樹脂層構成之光散射層，且於該防靜電層中含有特定之針狀金屬氧化物粒子，並且作為透明之膜(支持體)而例示有一種具有脂環式結構之聚合物樹脂膜(參照段落0207)。
專利文獻1：國際公開第2014/069377號
專利文獻2：國際公開第2014/069378號
專利文獻3：日本專利特開2013-242692號公報
專利文獻4：日本專利特開2007-102208號公報
若為了將搭載觸控面板之液晶顯示裝置進行輕量化、薄型化而減小構成光學積層體之膜之厚度，則由於厚度薄之膜無塑性，因此例如於在該膜上直接形成導電層時等難以確保膜之平面性，而存在所獲得之附導電層的膜產生波紋等之情形。若該膜產生波紋，則導電層產生厚度不一，導致膜面內之表面電阻率產生不均。若將此種膜用於靜電電容式觸控面板之前面板，則觸控面板之動作性降低，故而欠佳。例如，就光學特性之方面而言，較佳使用環烯烴聚合物膜等1/4波長相位差之塑膠膜作為導電層形成用之基材膜，但由於環烯烴聚合物膜無塑性，強度低，因此如上述之問題顯著。
又，通常已知由於環烯烴聚合物膜為低極性，因此與由樹脂成分構成之層的密接性低。因此，於將由樹脂成分構成之層直接設置於該膜上之情形時，若進行利用電暈處理等之表面處理，則非常難以賦予密接性。然而，於專利文獻1~4中均未提示此種課題。
於專利文獻4中，作為光學膜所使用之支持體，例示有具有脂環式結構之聚合物樹脂膜，但並未記載與該樹脂膜之密接性優異之防靜電層及具有其之光學膜。
又，專利文獻3所揭示之導電層為觸控面板感測器，與專利文獻1及2所揭示之為了確保觸控面板之動作穩定性、且釋放觸控面板表面產生之靜電而設置之導電層相比功能完全不同。作為觸控面板感測器之導電層必需更高之導電性，其表面電阻率較佳為100~1000Ω/□(參照專利文獻3之段落0027)。通常，為了形成作為觸控面板感測器之導電層，一般不使用大量含有絕緣性高之樹脂成分的樹脂組成物，而使用例如專利文 獻3之實施例記載般藉由濺鍍將氧化銦錫(ITO)製膜之方法等。
作為其他課題，就圖像目視辨認性之方面而言，亦重要的是位於較圖像顯示元件更靠近目視辨認者側之位置的光學積層體於可見光區域透光性高。然而，若光學積層體中之導電層過厚，則有可見光區域之透光性降低之虞。另一方面，若減小該導電層之厚度，則有導電性之確保等變得困難之虞。
進而，於將該光學積層體應用於搭載有靜電電容式之觸控面板的圖像顯示裝置之情形時，就使觸控面板之動作性穩定之觀點而言，該光學積層體較佳表面電阻率之面內均一性良好。
另一方面，為了改良上述之虹不均，有效的是將1/4波長相位差之塑膠膜用於光學積層體中。然而，上述消偏光效果雖然優異，但於將上述1/4波長相位差之塑膠膜用於光學積層體之情形時，存在產生由與積層於該膜上之其他層之界面反射引起之干擾條紋而圖像目視辨認性降低之情形。又，亦存在該膜與其他層之接著性變低，加工特性變差等問題。進而，該膜價格高。
因此，業界正研究開發使用以三乙醯纖維素為代表之纖維素系膜之光學積層體。纖維素系膜之透光性高，延遲值小，因此光學特性優異。又，纖維素系膜於其性質方面，溶劑或其他分子量未達1,000之低分子量成分容易滲透。因此，於使用含有溶劑或上述低分子量成分之材料於纖維素系膜上形成其他層時，該溶劑及低分子量成分會滲透至纖維素系膜中。藉由該效果，纖維素系膜與該其他層之界面變得不明了，因此不會產生上述干擾條紋，且層間之接著性亦變得良好。進而，纖維素系膜亦具有 價格相對較低之優點。
然而，由於纖維素系膜具有如上述之滲透性，因此若欲使用含有溶劑或上述低分子量成分之材料於其上形成導電層，則產生如下問題：該導電層之膜厚不穩定，或導電層形成用材料滲透至纖維素系膜中，無法獲得必需之導電性及其面內均一性等。進而，纖維素系膜之水分含量容易隨氣候發生變化，亦存在因吸濕導致膜產生目視可判別之程度的應變之情形。若該膜有應變，則形成於其上之導電層產生厚度不一，由此亦會導致膜面內之表面電阻率產生不均。若將此種膜用於靜電電容式觸控面板之前表面，則觸控面板之動作性降低，故而欠佳。尤其受到重視的是內嵌型觸控面板中表面電阻率之不均少。
本發明之第一課題在於提供一種於應用於搭載有靜電電容方式之觸控面板的圖像顯示裝置等之情形時可穩定地表現觸控面板之動作性的光學積層體、具有其之前面板及圖像顯示裝置。
本發明之第二課題在於提供一種光學積層體、具有其之前面板及圖像顯示裝置，該光學積層體依序具有作為環烯烴聚合物膜之基材膜、透明導電層及表面保護層，該透明導電層對環烯烴聚合物膜之密接性優異，可見光區域內之透光性高，且表面電阻率之面內均一性良好，尤其是於應用於搭載有靜電電容方式之觸控面板的圖像顯示裝置之情形時，可穩定地表現觸控面板之動作性。
本發明之第三課題在於提供一種即便於使用纖維素系基材膜作為基材膜之情形時，於應用於搭載有靜電電容方式之觸控面板之圖像顯示裝置等之情形時亦可穩定地表現觸控面板之動作性之光學積層體、具有其之前面 板及圖像顯示裝置。
本發明之第四課題在於提供一種即便於具有基材膜、透明導電層及表面保護層之光學積層體之製造中使用無塑性且強度低之基材膜，表面電阻率之面內均一性亦良好之光學積層體之製造方法。
本發明人等發現，藉由具有特定之層構成及導電特性之光學積層體，可解決上述第一課題。
即，第一形態之本發明(以下亦稱為「第一發明」)係關於下述內容。
[1]一種光學積層體，依序具有基材膜、透明導電層及表面保護層，依據JIS K6911測得之表面電阻率之平均值處於1.0×107Ω/□以上1.0×1010Ω/□以下之範圍，且該表面電阻率之標準偏差σ為5.0×108Ω/□以下。
[2]一種前面板，依序具有如上述[1]記載之光學積層體、偏光元件及相位差板。
[3]一種圖像顯示裝置，於顯示元件之目視辨認者側設置有上述[1]記載之光學積層體或上述[2]記載之前面板。
本發明人等發現，藉由製成具有特定之層構成、且具有特定之伸長特性之光學積層體，可解決上述第二課題。
即，第二形態之本發明(以下亦稱為「第二發明」)係關於下述內容。
[1]一種光學積層體，依序具有基材膜、透明導電層及表面保護層，該基材膜為環烯烴聚合物膜，該基材膜之厚度相對於該光學積層體整體之厚度的比率為80%以上95%以下，使用動態黏彈性測量裝置於頻率10Hz、拉伸荷重50N、升溫速度2℃/分鐘之條件測得之於溫度150℃的該光學積層 體之伸長率為5.0%以上20%以下。
[2]一種前面板，依序具有上述[1]記載之光學積層體、偏光元件及相位差板。
[3]一種圖像顯示裝置，於顯示元件之目視辨認者側設置有上述[1]記載之光學積層體或上述[2]記載之前面板。
本發明人等發現，藉由具有特定之層構成及導電特性之光學積層體，可解決上述第三課題。
即，第三形態之本發明(以下亦稱為「第三發明」)係關於下述內容。
[1]一種光學積層體，依序具有纖維素系基材膜、穩定化層及導電層，依據JIS K6911測得之表面電阻率之平均值處於1.0×107Ω/□以上1.0×1012Ω/□以下之範圍，且該表面電阻率之標準偏差σ除以該平均值而獲得之值為0.20以下。
[2]一種前面板，依序具有上述[1]記載之光學積層體、偏光元件及相位差板。
[3]一種圖像顯示裝置，於顯示元件之目視辨認者側設置有上述[1]記載之光學積層體或[2]記載之前面板。
又，本發明人等發現，藉由具有特定之步驟之光學積層體之製造方法，可解決上述第四課題。
即，第四形態之本發明(以下亦稱為「第四發明」)係關於下述內容。
[1]一種光學積層體之製造方法，依序具有基材膜、透明導電層及表面保護層，具有下述步驟：隔著黏著層將背面膜積層於該基材膜之一面，繼而於該基材膜之另一面依序形成該透明導電層及該表面保護層；且滿足下 述條件(1)： 條件(1)：於將由上述基材膜、上述黏著層及上述背面膜構成之寬25mm、長100mm之積層體自該長度方向之一端起到25mm為止之部分水平地固定，藉由本身重量使剩餘長度75mm之部分變形時，自該積層體之固定部起至長度方向之另一端為止之鉛直距離為45mm以下。
[2]一種光學積層體之製造方法，依序具有基材膜、透明導電層及表面保護層，具有下述步驟：隔著黏著層將背面膜積層於該基材膜之一面，繼而於該基材膜之另一面依序形成該透明導電層及該表面保護層；該黏著層及該背面膜之合計厚度為20~200μm，且由該黏著層及該背面膜構成之積層物依據JIS K7161-1：2014以拉伸速度5mm/分鐘測得之拉伸彈性率為800N/mm2以上10,000N/mm2以下。
[3]一種透明積層體，於基材膜之一面自該基材膜側起依序具有黏著層及背面膜，於該基材膜之另一面自該基材膜側起依序具有透明導電層及表面保護層，且滿足下述條件(1)：條件(1)：於將由上述基材膜、上述黏著層及上述背面膜構成之寬25mm、長100mm之積層體自該長度方向之一端起到25mm為止之部分水平地固定，藉由本身重量使剩餘長度75mm之部分變形時，自該積層體之固定部起至長度方向之另一端為止之鉛直距離為45mm以下。
[4]一種透明積層體，於基材膜之一面自該基材膜側起依序具有黏著層及背面膜，於該基材膜之另一面自該基材膜側起依序具有透明導電層及表面保護層，該黏著層及該背面膜之合計厚度為20~200μm，且由該黏著層及該背面膜構成之積層物依據JIS K7161-1：2014以拉伸速度5mm/分鐘測 得之拉伸彈性率為800N/mm2以上10,000N/mm2以下。
第一發明之光學積層體由於表面電阻率之面內均一性良好，因此尤其適宜用作構成搭載有靜電電容式之觸控面板的圖像顯示裝置之構件。藉由具有該光學積層體，該觸控面板表現出穩定之動作性。
第二發明之光學積層體由於具有特定範圍之伸長特性，因此作為基材膜之環烯烴聚合物膜與透明導電層之密接性優異，且表面電阻率之面內均一性亦良好，故而尤其適宜用作構成搭載有靜電電容式之觸控面板的圖像顯示裝置之前面板之構件。藉由具有該光學積層體，該觸控面板表現出穩定之動作性。又，於光學積層體中，於使用經斜向延伸之1/4波長相位差膜作為環烯烴聚合物膜之情形時，通過偏光太陽眼鏡之目視辨認性亦良好，且亦變得能夠進行利用輥對輥法之連續製造。
進而，第二發明之光學積層體由於基材膜之厚度相對於整體之厚度的比率為80%以上，因此可見光穿透性亦良好。
第三發明之光學積層體由於在使用纖維素系基材膜作為基材膜之情形時，表面電阻率之面內均一性亦良好，因此尤其適宜用作構成搭載有靜電電容式之觸控面板的圖像顯示裝置之構件。藉由具有該光學積層體，觸控面板表現出穩定之動作性。
根據第四發明之光學積層體之製造方法，即便於具有基材膜、透明導電層及表面保護層之光學積層體的製造中使用無塑性且強度低之基材膜，亦可製造表面電阻率之面內均一性良好之光學積層體。該光學積層體尤其適宜用作構成搭載有靜電電容式之觸控面板的圖像顯示裝置之構件。
1、1A、1B、1C、1D‧‧‧光學積層體
1'‧‧‧透明積層體
2A、2D‧‧‧基材膜
2B、2C‧‧‧纖維素系基材膜
3A、3D‧‧‧透明導電層
4A、4D‧‧‧表面保護層
41A、41D‧‧‧通電粒子
5B、5C‧‧‧穩定化層
6B、6C‧‧‧導電層
7C‧‧‧功能層
71C‧‧‧通電粒子
8A、8B、8D‧‧‧偏光元件
9A、9B、9D‧‧‧相位差板
10A、10B、10D‧‧‧前面板
11A、11B、11D‧‧‧表面保護構件
12A、12B、12D‧‧‧搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示元件
13D‧‧‧黏著層
14D‧‧‧背面膜
100A、100B、100D‧‧‧搭載有內嵌觸控面板之圖像顯示裝置
圖1係對本發明之光學積層體的表面電阻率之測量方法之一例進行說明之平面示意圖。
圖2係表示第一發明之光學積層體(I)及第二發明之光學積層體(II)的一實施形態之剖面示意圖。
圖3係表示第三發明之光學積層體(III)的一實施形態之剖面示意圖。
圖4係表示第三發明之光學積層體(III)的一實施形態之剖面示意圖。
圖5係表示本發明之前面板的一實施形態之剖面示意圖。
圖6係表示本發明之前面板的一實施形態之剖面示意圖。
圖7係表示本發明之圖像顯示裝置的一實施形態之剖面示意圖。
圖8係表示本發明之圖像顯示裝置的一實施形態之剖面示意圖。
圖9係表示第四發明之光學積層體的製造方法中條件(1)所規定之鉛直距離的測量方法之示意圖。
圖10係表示第四發明中之光學積層體及透明積層體的一實施形態之剖面示意圖。
圖11係表示第四發明中之前面板的一實施形態之剖面示意圖。
圖12係表示第四發明中之搭載有內嵌觸控面板之圖像顯示裝置的一實施形態之剖面示意圖。
圖13係於實施例2-1中採集形成於環烯烴聚合物上之透明導電層，並藉由穿透法測量而獲得的紅外分光(IR)光譜。
圖14係僅實施例2-1所使用之游離輻射硬化性樹脂(A)之硬化物的 IR光譜。
圖15係僅實施例2-1所使用之游離輻射硬化性樹脂(B)之硬化物的IR光譜。
以下，對第一發明至第四發明進行說明。再者，適當地將第一發明之光學積層體稱為「光學積層體(I)」，將第二發明之光學積層體稱為「光學積層體(II)」，將第三發明之光學積層體稱為「光學積層體(III)」。又，將第四發明之光學積層體之製造方法適當地稱為「本發明之製造方法」。
[第一發明：光學積層體(I)]
第一發明之本發明的光學積層體(I)之特徵在於：依序具有基材膜、透明導電層及表面保護層，依據JIS K6911測得之表面電阻率之平均值處於1.0×107Ω/□以上1.0×1010Ω/□以下之範圍，且該表面電阻率之標準偏差σ為5.0×108Ω/□以下。
若上述表面電阻率之平均值為1.0×107Ω/□以上，則靜電電容式之觸控面板之動作性穩定。又，若表面電阻率之平均值為1.0×1010Ω/□以下，則亦可有效地防止上述之液晶畫面之白濁。就上述觀點而言，該表面電阻率之平均值較佳為1.0×108Ω/□以上，且較佳為2.0×109Ω/□以下、更佳為1.5×109Ω/□以下、進而較佳為1.0×109Ω/□以下之範圍。
又，若表面電阻率之標準偏差σ超過5.0×108Ω/□，則由於表面電阻率之面內之不均大，因此於用於靜電電容式觸控面板時動作性降低。就該觀點而言，該表面電阻率之標準偏差σ較佳為1.0×108Ω/□以下，更佳為 8.0×107Ω/□以下。
上述表面電阻率係依據JIS K6911：1995進行測量，但其平均值及標準偏差例如可藉由下述方法A進行測量。
方法A：於光學積層體之表面保護層面側，作沿縱向及橫向分別將距該光學積層體之外周1.5cm之內側之區域(a)內進行n等分之直線(b)，於區域(a)之頂點、直線(b)彼此之交點及構成區域(a)之四邊與直線(b)之交點測量表面電阻率。n為1~4之整數，於上述光學積層體之面積未達10吋之情形時設為n=1，於為10吋以上且未達25吋之情形時設為n=2，於為25吋以上且未達40吋之情形時設為n=3，於為40吋以上之情形時設為n=4。
此處，所謂距光學積層體之外周1.5cm之內側之區域(a)係由自光學積層體之四邊之各邊向該光學積層體之內側平行移動至1.5cm內側之直線圍成之區域，具體而言，為圖1之由虛線(a)圍成之區域。於圖1中，1為光學積層體，d表示距光學積層體之外周之距離(1.5cm)。又，直線(b)係沿縱向及橫向分別將區域(a)內進行n等分之直線，由圖1之單點鏈線(b)表示。此外，於圖1中黑點表示之區域(a)之頂點、直線(b)彼此之交點及構成區域(a)之四邊與直線(b)之交點之各點處測量表面電阻率，算出其平均值及標準偏差。圖1表示n=4之情形。
再者，於n=1之情形時不作直線(b)，於區域(a)之頂點測量表面電阻率。
n可根據成為測量對象之光學積層體的面積而變更。又，就測量時之操作性之觀點而言，亦可將光學積層體適當切割後測量表面電阻率。
上述表面電阻率係使用電阻率計及作為探針之URS探針，於溫度25±4℃、濕度50±10%之環境下以500V之施加電壓進行測量。URS探針由於對光學積層體之接地面積小，故而表面電阻率之面內之不均之測量精度高，因此上述表面電阻率之測量必須使用URS探針。具體而言，該表面電阻率可藉由實施例記載之方法進行測量。
又，就表面電阻率之經時穩定性之觀點而言，較佳於將該光學積層體(I)於80℃保持250小時後測得之表面電阻率相對於該保持前之表面電阻率之比(將光學積層體(I)於80℃保持250小時後之表面電阻率/將光學積層體(I)於80℃保持250小時前之表面電阻率)於全部測量點均為0.40~2.5之範圍。更佳為0.50~2.0之範圍。具體而言，該表面電阻率之比可藉由實施例記載之方法進行測量。
若該表面電阻率之比為上述範圍，則該光學積層體(I)由於由環境變化引起之表面電阻率之變化少，因此於用於靜電電容式之觸控面板時可長期維持穩定之動作性。
作為將光學積層體(I)之表面電阻率之平均值及標準偏差調整至上述範圍之方法，可列舉：(1)透明導電層之形成所使用之材料及厚度之選擇、(2)表面保護層之形成所使用之材料及厚度之選擇及(3)組合特定之透明導電層與表面保護層而成之層構成之應用等。下文對該等進行說明。
再者，假定本發明之光學積層體(I)不配置於圖像顯示裝置之最表面，而配置於較設置於圖像顯示裝置之覆蓋玻璃等表面保護構件更靠內側之位置(參照下述之圖7)。下述之其他光學積層體亦相同。
以下，對構成本發明之光學積層體(I)之各層進行說明。
(基材膜)
本發明之光學積層體(I)所使用之基材膜較佳具有透光性之膜(以下亦稱為「透光性基材膜」)。作為透光性基材膜，可列舉以往公知之光學膜所使用之樹脂基材等。透光性基材膜之總光線穿透率通常為70%以上，較佳為85%以上。再者，總光線穿透率可使用紫外可見分光光度計，於室溫、大氣中進行測量。
作為構成透光性基材膜之材料，可列舉：乙醯纖維素系樹脂、聚酯系樹脂、聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚胺酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚系樹脂、聚醚酮系樹脂、(甲基)丙烯腈系樹脂、環烯烴聚合物等。
其中，基材膜更佳為具有光學異向性(以下亦將具有光學異向性之基材膜稱為「光學異向性基材」)。光學異向性基材具有擾亂自偏光元件出射之直線偏光之性質。
於具有自偏光元件出射直線偏光之構成的圖像顯示裝置(例如液晶顯示裝置)之情形時，於在較顯示元件更靠近目視辨認者側之位置配置光學積層體時，存在通過偏光太陽眼鏡所見之顯示畫面可觀察到顏色不同之不均(虹不均)之情形。然而，藉由在相較於偏光元件更靠近目視辨認者側之位置設置具有擾亂直線偏光之光學異向性之層，可防止該情況。
作為光學異向性基材，可列舉延遲值3000~30000nm之塑膠膜(以下亦稱為「高延遲膜」)或1/4波長相位差之塑膠膜(以下亦稱為「1/4波長相位差膜」)等。若自偏光元件出射之光入射至高延遲膜，則 通過該膜之光之由波長引起之相位差變動變得極大，因此發揮使通過偏光太陽眼鏡觀察顯示畫面時之虹不均難以目視辨認之效果。又，1/4波長相位差膜由於具有將自偏光元件出射之直線偏光轉換為圓偏光之性質，因此可防止虹不均。就防止虹不均之效果之觀點而言，更佳為使用1/4波長相位差膜。
延遲值3000~30000nm之高延遲膜藉由將延遲值設為3000nm以上，於藉由偏光太陽眼鏡觀察顯示畫面時，可防止顯示畫面產生虹不均。再者，由於即便過度提高延遲值，亦未見改善虹不均之效果有所提高，因此藉由將延遲值設為30000nm以下，可防止使膜厚過厚。高延遲膜之延遲值較佳為6000~30000nm。
再者，較佳對於波長589.3nm左右之波長，滿足上述之延遲值。
延遲值(nm)係藉由塑膠膜之面內折射率最大之方向(遲相軸方向)之折射率(nx)、與遲相軸方向正交之方向(進相軸方向)之折射率(ny)及塑膠膜之厚度(d)(nm)，以如下之式表示。
延遲值(Re)=(nx-ny)×d
又，上述延遲值例如可藉由王子計測機器公司製造之KOBRA-WR進行測量(測量角0°，測量波長589.3nm)。
或者關於上述延遲值，使用兩塊偏光板，求出基材之配向軸方向(主軸之方向)，藉由阿貝(Abbe)折射率差計(愛宕股份有限公司製造，NAR-AT)求出相對於配向軸方向正交之兩軸之折射率(nx、ny)，將顯示出較大之折射率之軸定義為遲相軸。由此求出之折射率差(nx-ny)乘以使用電測微計(安立股份有限公司製造)測得之厚度，可獲得延遲值。
再者，於第一發明中，上述nx-ny(以下有時亦稱為「△n」)較佳為0.05以上，更佳為0.07以上，進而較佳為0.10以上。若△n為0.05以上，則即便基材膜之厚度薄，亦可獲得高延遲值，因此可同時實現上述之虹不均之抑制及薄型化。
作為構成高延遲膜之材料，可使用上述作為透光性基材膜所例示者。該等中，較佳為聚酯系樹脂，其中，更佳為聚對酞酸乙二酯(PET)或聚萘二甲酸乙二酯(PEN)。
高延遲膜於例如由上述PET等聚酯系樹脂構成之情形時，可藉由在玻璃轉移溫度以上之溫度使用拉幅機等將使材料之聚酯熔融、並以片狀擠出而成形之未延伸聚酯進行橫向延伸後實施熱處理而獲得。作為橫向延伸溫度，較佳為80~130℃，更佳為90~120℃。又，橫向延伸倍率較佳為2.5~6.0倍，更佳為3.0~5.5倍。藉由將延伸倍率設為2.5倍以上，可增大延伸張力，獲得之膜的雙折射變大，可使延遲值成為3000nm以上。又，藉由將橫向延伸倍率設為6.0倍以下，可防止膜之透明性降低。
作為將藉由上述之方法製作之高延遲膜之延遲值控制為3000nm以上之方法，可列舉適當設定延伸倍率或延伸溫度、製作之高延遲膜之膜厚之方法。具體而言，例如，延伸倍率越高，延伸溫度越低，又，膜厚越厚，越容易獲得高延遲值。
光學異向性基材中，作為1/4波長相位差之塑膠膜，可使用550nm之相位差為137.5nm之正1/4波長相位差膜，亦可使用550nm之相位差為80~170nm之大致1/4波長相位差膜。該等正1/4波長相位差膜及大致1/4波長相位差膜於在藉由偏光太陽眼鏡觀察時可防止液晶顯 示裝置之顯示圖像產生虹不均及與高延遲膜相比可減小膜厚之方面而言較為適宜。
1/4波長相位差膜可藉由利用單軸或雙軸等對塑膠膜進行延伸處理、或者使液晶材料於塑膠膜中或設置於塑膠膜上之層中規則排列而形成。作為塑膠膜，例如可使用由聚碳酸酯或聚酯、聚乙烯醇、聚苯乙烯、聚碸、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯、乙酸纖維素系聚合物聚醯胺、環烯烴聚合物等構成者。該等中，較佳為對塑膠膜進行延伸處理而成者、或於塑膠膜上設置含有液晶材料之液晶層者，就可藉由延伸步驟賦予1/4波長相位差之製造步驟之容易性之觀點而言，更佳為對塑膠膜進行延伸處理而成者，尤佳為對聚碳酸酯、環烯烴聚合物或聚酯膜進行延伸處理而成者。
於光學積層體(I)中，更佳為使用環烯烴聚合物膜作為基材膜。環烯烴聚合物膜之透明性、低吸濕性、耐熱性優異。其中，該環烯烴聚合物膜較佳為經斜向延伸之1/4波長相位差膜。若環烯烴聚合物膜為1/4波長相位差膜，則如上所述以偏光太陽眼鏡觀察液晶畫面等顯示畫面時可防止產生虹不均之效果高，因此目視辨認性良好。又，若環烯烴聚合物膜為經斜向延伸之膜，則即便於以使光學積層體(I)與構成圖像顯示裝置之前面板的偏光元件之光軸重合之方式將兩者貼合時，亦無需將光學積層體(I)裁切為斜向單片。因此，變得能夠進行利用輥對輥之連續製造，並且發揮出因裁切為斜向單片引起之浪費減少之效果。
通常之已實施延伸處理之延伸膜的光軸之朝向相對於其寬度方向為平行方向或正交方向。因此，為了以使直線偏光元件之透過軸與1/4波長相位差膜之光軸重合之方式進行貼合，必須將該膜裁切為斜向單片。因此， 製造步驟變得繁雜，而且由於進行斜向裁切，因此浪費之膜多。又，無法藉由輥對輥進行製造，難以連續製造。然而，藉由使用斜向延伸膜作為基材膜可解決該等問題。
作為環烯烴聚合物，可列舉：降莰烯系樹脂、單環之環狀烯烴系樹脂、環狀共軛二烯系樹脂、乙烯基脂環烴系樹脂及該等之氫化物等。其中，就透明性及成形性之觀點而言，較佳為降莰烯系樹脂。
作為降莰烯系樹脂，可列舉：具有降莰烯結構之單體之開環聚合物或具有降莰烯結構之單體與其他單體之開環共聚物或該等之氫化物；具有降莰烯結構之單體之加成聚合物或具有降莰烯結構之單體與其他單體之加成共聚物或該等之氫化物等。
斜向延伸膜之配向角相對於膜之寬度方向，較佳為20~70°，更佳為30~60°，進而較佳為40~50°，尤佳為45°。其原因在於：若斜向延伸膜之配向角為45°，則成為完全之圓偏光。又，即便於以使光學積層體(I)與偏光元件之光軸重合之方式進行貼合時，亦無需裁切為斜向單片，變得能夠進行利用輥對輥之連續製造。
上述環烯烴聚合物膜可藉由在將環烯烴聚合物進行製膜、延伸時，適當調整延伸倍率或延伸溫度、膜厚而獲得。作為市售之環烯烴聚合物，可列舉：「Topas」(商品名，Ticona公司製造)、「Arton」(商品名，JSR股份有限公司製造)、「Zeonor」及「Zeonex」(均為商品名，日本傑恩股份有限公司製造)、「Apel」(三井化學股份有限公司製造)等。
又，亦可使用市售之環烯烴聚合物膜。作為該膜，可列舉：「Zeonor膜」(商品名，日本傑恩股份有限公司製造)、「Arton膜」(商品名，JSR股份有 限公司製造)等。
光學積層體(I)所使用之基材膜可於不損及本發明之效果之範圍內含有抗氧化劑、熱穩定劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、滑劑、塑化劑、著色劑等添加劑。其中，基材膜較佳含有紫外線吸收劑。其原因在於：藉由基材膜含有紫外線吸收劑，具有防止由外界光紫外線引起之劣化之效果。
作為該紫外線吸收劑，並無特別限制，可使用公知之紫外線吸收劑。例如可列舉：二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、三系化合物、苯并系化合物、水楊酸酯系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物等。其中，就耐候性、色調之觀點而言，較佳為苯并三唑系化合物。上述紫外線吸收劑可單獨使用一種，或可組合兩種以上而使用。
基材膜中之紫外線吸收劑之含量較佳為0.1~10質量%，更佳為0.5~5質量%，進而較佳為1~5質量%。若紫外線吸收劑之含量為上述範圍，則可將波長380nm下之光學積層體(I)之穿透率抑制為30%以下，且可抑制因含有紫外線吸收劑而產生之黃色調。
基材膜之厚度就強度、加工適性、以及使用光學積層體(I)之前面板及圖像顯示裝置之薄型化之觀點而言，較佳為4~200μm之範圍，更佳為4~170μm，進而較佳為20~135μm，進而更佳為20~120μm。
(透明導電層)
本發明之光學積層體(I)所具有之透明導電層若應用於靜電電容式之觸控面板，則發揮使觸控面板之面內電位變得恆定而使動作性穩定之效果。就發揮出該效果之觀點而言，尤其較佳與下述之導通性表面保護層加 以組合。又，於內嵌觸控面板中，透明導電層具有於以往之外置型或表嵌型中作為導電性構件發揮作用之觸控面板之代替作用。若使用於搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示元件之前表面具有上述透明導電層之光學積層體，則該透明導電層會位於較液晶顯示元件更靠近操作者側之位置，因此可釋放觸控面板表面產生之靜電，而可防止因該靜電導致液晶畫面發生局部白濁之情況。就該觀點而言，透明導電層較佳即便減小厚度，亦可賦予充分之導電性，著色少，透明性良好，耐候性優異，導電性之經時性變化少。
構成該透明導電層之材料並無特別限制，較佳為含有游離輻射硬化性樹脂與導電性粒子之游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物。其中，就表面電阻率之面內均一性及經時穩定性、以及使用環烯烴聚合物膜作為基材膜之情形時之密接性優異之方面而言，透明導電層更佳為含有分子內具有脂環式結構之游離輻射硬化性樹脂(A)與導電性粒子之游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物。
再者，於本說明書中，所謂游離輻射硬化性樹脂組成物係藉由照射游離輻射而硬化之樹脂組成物。作為游離輻射，可使用電磁波或帶電粒子束中具有可使分子進行聚合或交聯之能量子者，例如可使用紫外線(UV)或電子束(EB)，除此以外，亦可使用X射線、γ射線等電磁波、α射線、離子束等帶電粒子束。
通常已知環烯烴聚合物膜由於為低極性，因此與由樹脂成分構成之層的密接性低。因此，於在該膜上直接設置由樹脂成分構成之導電層之情形時，若不進行電暈處理或藉由形成底塗層等進行之表面處理，則非常難以賦予密接性。然而，使用含有分子內具有脂環式結構之游離輻射 硬化性樹脂(A)與導電性粒子之游離輻射硬化性樹脂組成物形成之透明導電層即便於環烯烴聚合物膜上不進行電暈處理或底塗層形成等繁雜之表面處理，對該膜之密接性亦優異。
藉由上述樹脂組成物獲得上述效果之理由尚不確定，認為由於游離輻射硬化性樹脂(A)於分子內具有類似於環烯烴聚合物之低極性之結構及少發生硬化收縮，因此對環烯烴聚合物膜之密接性優異。光學積層體(I)為於透明導電層上具有表面保護層之構成，假定該表面保護層位於較設置於圖像顯示裝置之表面保護構件更靠近內側之位置。因此，該表面保護層及位於其下之透明導電層無需具有與圖像顯示裝置之最表面用以防止該顯示裝置之損傷之硬塗層相同之硬度，只要具有於前面板或圖像顯示裝置之製造步驟中不損傷之程度之硬度即可。通常，作為用以形成高硬度之硬塗層之游離輻射硬化性樹脂組成物，使用交聯率高者，但該樹脂組成物之硬化收縮亦增大。然而，由於本發明中之透明導電層之形成無需使用交聯率高之樹脂組成物，因此可進一步減小硬化收縮之影響，對環烯烴聚合物膜之密接性亦提高。
又，使用上述游離輻射硬化性樹脂組成物形成之透明導電層的表面電阻率之面內均一性及經時穩定性亦優異。認為其原因在於：含有游離輻射硬化性樹脂(A)之樹脂組成物由於少發生硬化收縮，因此由產生收縮應力等引起之變形少，進而由於為低極性，因此為低吸濕性，經時穩定性變得良好。
〔分子內具有脂環烴結構之游離輻射硬化性樹脂(A)〕
就上述觀點而言，透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物較 佳為含有分子內具有脂環烴結構之游離輻射硬化性樹脂(A)(以下亦簡稱為「游離輻射硬化性樹脂(A)」)。此處，所謂脂環烴結構意指由脂環烴化合物衍生之環。該脂環烴化合物可飽和，亦可不飽和，可為單環，亦可為由2個以上之單環構成之多環。又，該脂環烴結構亦可具有取代基。
作為上述脂環烴結構，可例示：環丙烷環、環丁烷環、環戊烷環、環己烷環、環庚烷環、環辛烷環等環烷烴環；環戊烯環、環己烯環、環庚烯環、環辛烯環等環烯烴環；二環戊烷環、降莰烷環、十氫萘環、二環戊烯環、降莰烯環等雙環；四氫二環戊二烯環、二氫二環戊二烯環、金剛烷環等三環；等，但並不限定於該等。
該等中，就抑制游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化收縮、提高對基材膜之密接性之觀點而言，上述脂環烴結構較佳為含有由2個以上之單環構成之多環結構，更佳為含有雙環或三環。該單環之環員數較佳為4~7，更佳為5~6。又，該環結構更佳為含有由具有相同環員數之2個以上之單環構成之構成單元者。其原因在於：由於在游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化時、或硬化後即便產生收縮應力，應變之方向亦不會偏，因此形成之透明導電層之對環烯烴聚合物膜之密接性、表面電阻率之面內均一性及其經時穩定性變得良好。
作為尤佳之脂環烴結構，可列舉選自下述式(1)所表示之四氫二環戊二烯環及下述式(2)所表示之二氫二環戊二烯環中之至少一種。
游離輻射硬化性樹脂(A)於分子內具有至少一個游離輻射硬化性官能基。作為該游離輻射硬化性官能基，並無特別限制，就硬化性及硬化物之硬度之觀點而言，較佳為自由基聚合性官能基。作為自由基聚合性官能基，可列舉(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等含乙烯性不飽和鍵之基。其中，就硬化性之觀點而言，較佳為(甲基)丙烯醯基。
作為游離輻射硬化性樹脂(A)之具體例，可列舉：(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸1-金剛烷基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯基氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯等單官能(甲基)丙烯酸酯；二羥甲基-三環癸烷二(甲基)丙烯酸酯、五環十五烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、環己烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、降莰烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、對薄荷烷-1,8-二醇二(甲基)丙烯酸酯、對薄荷烷-2,8-二醇二(甲基)丙烯酸酯、對薄荷烷-3,8-二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙環[2.2.2]-辛烷-1-甲基-4-異丙基-5,6-二羥甲基二(甲基)丙烯酸酯等多官能(甲基)丙烯酸酯等，該等可單獨使用一種，或可組合兩種以上而使用。其中，就防止過度產生硬化收縮、且防止硬化物之柔軟性降低而對基材膜之密接性降低之觀點而言，較佳為單官能或2官能(甲基)丙烯酸酯，更佳為選自(甲基)丙烯酸二環戊烯基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯基氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、及二羥甲基-三環癸烷二(甲基)丙烯酸酯中之至少一種，進而較佳為選自(甲基)丙烯酸二環戊烯基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯基氧基乙酯及 (甲基)丙烯酸二環戊酯中之至少一種。
作為市售品之游離輻射硬化性樹脂(A)，可列舉：FA-511AS、FA-512AS、FA-513AS、FA-512M、FA-513M、FA-512MT(均為商品名，日立化成股份有限公司製造)、Lightester DCP-A、DCP-M(均為商品名，共榮社化學股份有限公司製造)、A-DCP、DCP(均為商品名，新中村化學工業股份有限公司製造)等。該等為具有上述式(1)表示之四氫二環戊二烯環或上述式(2)表示之二氫二環戊二烯環之游離輻射硬化性樹脂。
游離輻射硬化性樹脂(A)之分子量並無特別限制，就使用環烯烴聚合物膜作為基材膜之情形時之密接性之觀點而言，較佳為分子量為350以下者，更佳為150~350者，進而較佳為150~300者，進而更佳為150~230者。若游離輻射硬化性樹脂(A)之分子量為350以下，則與分子量較高之樹脂相比，更容易潤濕環烯烴聚合物膜。因此認為，於在該膜上塗佈游離輻射硬化性樹脂組成物時游離輻射硬化性樹脂(A)選擇性地移動至該膜側而潤濕，於該狀態下藉由游離輻射而硬化，因此所形成之透明導電層對該膜之密接性進一步提高。除此以外，認為若游離輻射硬化性樹脂(A)之分子量為350以下，則脂環烴結構部分相對於游離輻射硬化性官能基之體積比例高，故而可進一步抑制硬化收縮，因此對環烯烴聚合物膜之密接性提高。
〔游離輻射硬化性樹脂(B)〕
透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物亦可含有上述游離輻射硬化性樹脂(A)以外之游離輻射硬化性樹脂(B)。藉由將游離輻射硬化性樹脂(A)與游離輻射硬化性樹脂(B)組合使用，可提高樹脂組成物之 硬化性及塗敷性、以及所形成之透明導電層的硬度、耐候性等，就該方面而言較佳。
游離輻射硬化性樹脂(B)可適當選擇使用慣用之聚合性單體及聚合性低聚物或預聚物中上述游離輻射硬化性樹脂(A)以外者。
作為聚合性單體，宜為分子中具有(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸酯單體，其中較佳為多官能性(甲基)丙烯酸酯單體。
作為多官能性(甲基)丙烯酸酯單體，只要為分子內具有2個以上(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸酯單體即可，並無特別限制。具體而言，可較佳地列舉：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯單硬脂酸酯、二(甲基)丙烯酸二環戊酯、三聚異氰酸二(甲基)丙烯酸酯等二(甲基)丙烯酸酯；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三聚異氰酸三(丙烯醯氧基乙基)酯等三(甲基)丙烯酸酯；新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等4官能以上之(甲基)丙烯酸酯；上述之多官能性(甲基)丙烯酸酯單體之環氧乙烷改質品、環氧丙烷改質品、己內酯改質品、丙酸改質品等。該等中，就可獲得優異之硬度之觀點而言，較佳為較三(甲基)丙烯酸酯更多官能、即3官能以上之(甲基)丙烯酸酯。該等多官能性(甲基)丙烯酸酯單體可單獨使用一種，亦可組合兩種以上而使用。
作為聚合性低聚物，可較佳地列舉分子中具有自由基聚合性官能基之低聚物，例如可列舉：環氧(甲基)丙烯酸酯系、(甲基)丙烯酸胺酯系、聚酯(甲基)丙烯酸酯系、聚醚(甲基)丙烯酸酯系之低聚物等。進而，作 為聚合性低聚物，亦可較佳地列舉聚丁二烯低聚物之側鏈具有(甲基)丙烯酸酯基之疏水性高之聚丁二烯(甲基)丙烯酸酯系低聚物、主鏈具有聚矽氧烷鍵之聚矽氧(甲基)丙烯酸酯系低聚物等。該等低聚物可單獨使用一種，亦可組合兩種以上而使用。
聚合性低聚物之重量平均分子量(藉由GPC法測得之標準聚苯乙烯換算之重量平均分子量)較佳為1,000~20,000，更佳為1,000~15,000。
又，聚合性低聚物較佳為2官能以上，更佳為3~12官能，進而較佳為3~10官能。若官能基數為上述範圍內，則可獲得硬度優異之透明導電層。
上述游離輻射硬化性樹脂(B)中，較佳使用重量平均分子量為1,000以上之聚合性低聚物，重量平均分子量更佳為1,000~20,000，進而較佳為2,000~15,000。其原因在於：可對所形成之透明導電層賦予硬度，並且抑制因交聯率過高引起之硬化收縮之增大，維持對基材膜之密接性。又，不僅可使初始密接性良好，而且可使考慮紫外線等環境因素時之經時性之密接性(以下亦稱為「耐久密接性」)良好。尤其於使用分子量350以下之游離輻射硬化性樹脂(A)之情形時，於塗佈於環烯烴聚合物膜等基材膜時低分子量之(A)成分與高分子量之(B)成分容易相分離，(A)成分選擇性移動至該膜側而潤濕該膜，藉此所形成之透明導電層之密接性進一步提高。又，若使用分子量350以下之游離輻射硬化性樹脂(A)，則存在樹脂組成物之黏度變低之情形，因此較佳使用重量平均分子量為1,000以上之聚合性低聚物作為(B)成分而提高塗敷性。
關於透明導電層，關於如上所述游離輻射硬化性樹脂(A)選擇性地移動至環烯烴聚合物膜側而潤濕該膜，可藉由紅外分光(IR)光 譜等進行確認。例如，於在環烯烴聚合物膜上形成透明導電層後，將採集該透明導電層並藉由穿透法測得之IR光譜與分別單獨測量游離輻射硬化性樹脂(A)、(B)而獲得之IR光譜進行比較。於該情形時，於採集透明導電層測得之IR光譜中，若來自游離輻射硬化性樹脂(A)之吸收之比例低於該(A)成分之實際之摻合比例，則可預測游離輻射硬化性樹脂(A)選擇性地移動至環烯烴聚合物膜側而潤濕該膜。
透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物中的游離輻射硬化性樹脂(A)之含量相對於構成該樹脂組成物的樹脂成分之合計量，較佳為20質量%以上，更佳為20~90質量%，進而較佳為25~80質量%，進而更佳為30~70質量%。若游離輻射硬化性樹脂(A)相對於構成該樹脂組成物之樹脂成分之合計量為20質量%以上，則於使用環烯烴聚合物膜作為基材膜之情形時亦可形成密接性優異、表面電阻率之面內均一性及其經時穩定性亦優異之透明導電層。
又，透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物中的游離輻射硬化性樹脂(B)之含量相對於構成該樹脂組成物的樹脂成分之合計量，較佳為80質量%以下，更佳為10~80質量%，進而較佳為20~75質量%，進而更佳為30~70質量%。
〔導電性粒子〕
導電性粒子於使用游離輻射硬化性樹脂組成物所形成之透明導電層中，係用於在不損及透明性之情況下賦予導電性。因此，該導電性粒子較佳即便減小透明導電層之厚度，亦可賦予充分之導電性，著色少，透明性良好，耐候性優異，導電性之經時性變化少者。又，就避免因透明導電層 之柔軟性過高而使作為上層之表面保護層的表面保護性能降低之情況的觀點而言，較佳為高硬度之粒子。
作為此種導電性粒子，可適宜地使用金屬粒子、金屬氧化物粒子及於核心粒子之表面形成有導電性被覆層的包衣粒子等。
作為構成金屬粒子之金屬，例如可列舉：Au、Ag、Cu、Al、Fe、Ni、Pd、Pt等。作為構成金屬氧化物粒子之金屬氧化物，例如可列舉：氧化錫(SnO2)、氧化銻(Sb2O5)、氧化銻錫(ATO)、氧化銦錫(ITO)、氧化鋁鋅(AZO)、摻氟氧化錫(FTO)、ZnO等。
作為包衣粒子，例如可列舉於核心粒子之表面形成有導電性被覆層之構成的粒子。作為核心粒子，並無特別限定，例如可列舉：矽酸膠、氧化矽粒子等無機粒子；氟樹脂粒子、丙烯酸樹脂粒子、聚矽氧樹脂粒子等聚合物粒子；及有機無機複合體粒子等。又，作為構成導電性被覆層之材料，例如可列舉上述之金屬或該等之合金、或上述之金屬氧化物等。該等可單獨使用一種，或可組合兩種以上而使用。
其中，就長期保管、耐熱性、耐濕熱性、耐候性良好之觀點而言，導電性粒子較佳為選自金屬微粒及金屬氧化物微粒中之至少一種，更佳為氧化銻錫(ATO)粒子。
導電性粒子較佳平均一次粒徑為5~40nm。藉由設為5nm以上，導電性粒子彼此於透明導電層中變得容易接觸，因此可抑制用以賦予充分之導電性的導電性粒子之添加量。又，藉由設為40nm以下，可防止透明性或與其他層之間的密接性受損。導電性粒子之平均一次粒徑更佳之下限為6nm，更佳之上限為20nm。
此處，導電性粒子之平均一次粒徑可藉由以下(1)~(3)之作業而算出。
(1)藉由穿透式電子顯微鏡(TEM)或掃描穿透式電子顯微鏡(STEM)拍攝光學積層體之剖面。較佳TEM或STEM之加速電壓設為10kV~30kV，倍率設為5萬~30萬倍。
(2)自觀察圖像中選取任意10個粒子，算出各粒子之粒徑。粒徑係以任意平行之兩條直線夾著粒子之剖面時，作為該兩條直線間距離達到最大之兩條直線之組合下之直線間距離而測量。
(3)對同一樣品之其他畫面之觀察圖像進行5次同樣之作業，以由合計50個粒子之粒徑的數量平均所獲得之值作為粒子之平均一次粒徑。
使用上述游離輻射硬化性樹脂組成物獲得之透明導電層較佳即便減小厚度，亦可賦予充分之導電性，著色少，透明性良好，耐候性優異，導電性之經時性變化少。因此，該樹脂組成物中之導電性粒子之含量只要為可賦予上述性能之範圍，則無特別限制。
就將表面電阻率之平均值設為1.0×107Ω/□以上1.0×1010Ω/□以下之觀點而言，上述游離輻射硬化性樹脂組成物中之導電性粒子的含量相對於游離輻射硬化性樹脂100質量份，較佳為100~400質量份、更佳為150~350質量份、進而較佳為200~300質量份。其原因在於：藉由將導電性粒子之含量設為相對於游離輻射硬化性樹脂100質量份為100質量份以上，容易將光學積層體之表面電阻率的平均值設為1.0×1010Ω/□以下，藉由設為400質量份以下，容易將光學積層體之表面電阻率之平均值設為1.0×107Ω/□以上，並且透明導電層不會變脆，而可維持硬度。
於游離輻射硬化性樹脂為紫外線硬化性樹脂之情形時，透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物較佳含有光聚合起始劑或光聚合促進劑。
作為光聚合起始劑，可列舉：苯乙酮、α-羥基烷基苯酮、醯基氧化膦、二苯甲酮、米其勒酮、安息香、二苯乙二酮二甲基縮酮、苯甲醯基苯甲酸酯、α-醯基肟酯、9-氧硫類等。又，光聚合促進劑可減輕硬化時由空氣引起之聚合故障而加速硬化速度，例如可列舉：對二甲基胺基苯甲酸異戊酯、對二甲基胺基苯甲酸乙酯等。
上述光聚合起始劑、光聚合促進劑分別可單獨使用一種，或可組合兩種以上而使用。
於透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物含有光聚合起始劑之情形時，其含量相對於游離輻射硬化性樹脂100質量份，較佳為0.1~10質量份，更佳為1~10質量份，進而較佳為1~8質量份。
又，透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物可視需要而進而含有其他成分，例如可進而含有折射率調整劑、防眩劑、防污劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、調平劑、易滑劑等添加劑。
進而，該樹脂組成物可含有溶劑。作為該溶劑，只要為溶解樹脂組成物所含之各成分之溶劑，則可無特別限制地使用，較佳為酮類、醚類、醇類、或酯類。上述溶劑可單獨使用一種，或可組合兩種以上而使用。
該樹脂組成物中之溶劑之含量通常為20~99質量%，較佳為30~99質量%，更佳為70~99質量%。若溶劑之含量為上述範圍內，則對基材膜之塗敷性優異。
關於透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物之製造方法，並無特別限制，可使用以往公知之方法及裝置而製造。例如，可藉由將上述游離輻射硬化性樹脂、導電性粒子及視需要添加各種添加劑、溶劑加以混合而製造。導電性粒子亦可預先分散於溶劑中而使用所製備之分散液。
透明導電層之厚度就於不損及透明性之情況下賦予所需之導電性方面而言，較佳為0.1~10μm，更佳為0.3~5μm，進而較佳為0.3~3μm。
透明導電層之厚度例如可自使用掃描穿透式電子顯微鏡(STEM)拍攝之剖面的圖像中測量20處之厚度，根據20處之值的平均值而算出。STEM之加速電壓較佳設為10kV~30kV，STEM之觀察倍率較佳設為1000~7000倍。
(表面保護層)
本發明之光學積層體(I)就防止前面板或圖像顯示裝置之製造步驟上之損傷的觀點而言具有表面保護層。
如下述之本發明的圖像顯示裝置(圖7)所例示般，假定該表面保護層位於較設置於圖像顯示裝置之最表面的表面保護構件更靠內側之位置。因此，該表面保護層與用以防止圖像顯示裝置之最表面之損傷的硬塗層不同，只要具有於前面板或圖像顯示裝置之製造步驟中不損傷之程度之硬度即可。
表面保護層就防止前面板或圖像顯示裝置之製造步驟上之損傷的觀點而言，較佳含有游離輻射硬化性樹脂之游離輻射硬化性樹脂組 成物的硬化物。
游離輻射硬化性樹脂組成物所含之游離輻射硬化性樹脂可自慣用之聚合性單體及聚合性低聚物或預聚物中適當選擇使用，就提高硬化性及表面保護層之硬度的觀點而言，較佳為聚合性單體。
作為聚合性單體，宜為分子內具有自由基聚合性官能基之(甲基)丙烯酸酯系單體，其中，較佳為多官能(甲基)丙烯酸酯系單體。作為多官能(甲基)丙烯酸酯系單體，可列舉與上述之透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物中例示者相同者。多官能(甲基)丙烯酸酯系單體之分子量就提高表面保護層之硬度的觀點而言，較佳為未達1,000，更佳為200~800。
多官能(甲基)丙烯酸酯系單體可單獨使用一種，亦可組合兩種以上而使用。
多官能(甲基)丙烯酸酯系單體之官能基數只要為2以上，則無特別限制，就提高游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化性及表面保護層之硬度的觀點而言，較佳為2~8，更佳為2~6，進而較佳為3~6。
就提高游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化性及表面保護層之硬度的觀點而言，游離輻射硬化性樹脂中之多官能(甲基)丙烯酸酯系單體的含量較佳為40質量%以上，更佳為50質量%以上，進而較佳為60~100質量%。
游離輻射硬化性樹脂就提高游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化性及表面保護層之硬度的觀點而言，較佳僅由上述聚合性單體構成，但亦可併用聚合性低聚物。作為聚合性低聚物，可列舉與上述之透明導電層形成用游離輻射硬化性樹脂組成物中所例示者相同者。
游離輻射硬化性樹脂組成物亦可進而含有熱塑性樹脂。其原因在於，藉由併用熱塑性樹脂，可提高與透明導電層之接著性或有效地防止塗佈膜之缺陷。
作為該熱塑性樹脂，例如可較佳地列舉：苯乙烯樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、聚烯烴樹脂、乙酸乙烯酯樹脂、乙烯醚樹脂、含鹵素樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚醯胺樹脂、尼龍、纖維素樹脂、聚矽氧樹脂、聚胺酯樹脂等熱塑性樹脂之單體及共聚物或該等之混合樹脂。該等樹脂較佳為非晶性且可溶於溶劑。尤其是就製膜性、透明性或耐候性等觀點而言，較佳為苯乙烯樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、聚烯烴樹脂、聚酯樹脂、纖維素樹脂等，更佳為(甲基)丙烯酸樹脂，進而較佳為聚甲基丙烯酸甲酯。
該等熱塑性樹脂較佳分子中不具有反應性官能基。其原因在於：若分子中具有反應性官能基，則有硬化收縮量變大，表面保護層對透明導電層之接著性降低之虞，而可避免該情況。又，若熱塑性樹脂為分子中不具有反應性官能基者，則變得容易控制獲得之光學積層體的表面電阻率。再者，作為反應性基，可列舉：丙烯醯基、乙烯基等具有不飽和雙鍵之官能基；環氧環、氧環丁烷環等環狀醚基；內酯環等開環聚合基；形成胺酯之異氰酸酯基等。再者，該等反應性官能基若為不會影響表面保護層對透明導電層之接著性或表面電阻率之程度，則亦可含有。
於游離輻射硬化性樹脂組成物含有熱塑性樹脂之情形時，其含量於游離輻射硬化性樹脂組成物中之樹脂成分中，較佳為10質量%以上。又，就獲得之表面保護層之耐擦傷性的觀點而言，較佳為80質量%以下，更佳為50質量%以下。再者，此處所謂之「游離輻射硬化性樹脂組成物中之樹脂 成分」中包含游離輻射硬化性樹脂、熱塑性樹脂及其他樹脂。
於游離輻射硬化性樹脂為紫外線硬化性樹脂之情形時，表面保護層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物較佳含有光聚合起始劑或光聚合促進劑。光聚合起始劑、光聚合促進劑可列舉與上述之透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物中所例示者相同者，分別可單獨使用一種，或可組合兩種以上而使用。
於使用光聚合起始劑之情形時，游離輻射硬化性樹脂組成物中之光聚合起始劑的含量，相對於游離輻射硬化性樹脂100質量份，較佳為0.1~10質量份，更佳為1~10質量份，進而較佳為1~8質量份。
表面保護層較佳含有紫外線吸收劑。其原因在於：於將光學積層體(I)應用於圖像顯示裝置時，可防止外界光紫外線導致位於較表面保護層更靠內側(顯示元件側)之位置的透明導電層及基材膜、以及位於較光學積層體更靠內側(顯示元件側)之位置的偏光元件、相位差板、顯示元件等構件劣化。
表面保護層所使用之紫外線吸收劑並無特別限制，例如可列舉：二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、三系化合物、苯并系化合物、水楊酸酯系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物及該等之聚合物等。其中，就紫外線吸收性之觀點而言，較佳為選自二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、三系化合物及該等之聚合物中之一種以上，就紫外線吸收性、於游離輻射硬化性樹脂組成物中之溶解性的觀點而言，更佳為選自苯并三唑系化合物、三系化合物及該等之聚合物中之一種以上。
該等可單獨使用一種，或可組合兩種以上而使用。
表面保護層中之紫外線吸收劑的含量相對於構成該表面保護層之游離輻射硬化性樹脂組成物所含之游離輻射硬化性樹脂100質量份，較佳為0.2~60質量份，更佳為0.2~30質量份，進而較佳為0.2~20質量份。若紫外線吸收劑之含量相對於游離輻射硬化性樹脂100質量份為0.2質量份以上，則防止由外界光紫外線引起之劣化的效果充分，若為60質量份以下，則可製成保持可防止前面板或圖像顯示裝置之製造步驟上之損傷的充分之硬度並且來自紫外線吸收劑之著色少的表面保護層。
表面保護層較佳進而含有通電粒子。所謂通電粒子係指發揮使含有該通電粒子之表面保護層與透明導電層之間導通之作用的粒子。即，含有通電粒子之表面保護層(以下亦稱為「導通性表面保護層」)可於在基材膜與表面保護層之間具有透明導電層之情形時較佳地設置。
若表面保護層為導通性表面保護層，則於製成依序積層本發明之光學積層體(I)、偏光元件及相位差板而成之前面板時，由於導通性表面保護層及透明導電層位於最表面，因此可容易地進行對導通性表面保護層或透明導電層表面之接地處理。又，藉由本發明之光學積層體(I)具有透明導電層與導通性表面保護層，即便透明導電層之導電性低，表面電阻率之面內均一性亦良好，且表面電阻率亦容易經時性地穩定。
本發明之光學積層體(I)如上述般，表面電阻率之平均值為1.0×107Ω/□以上1.0×1010Ω/□以下，與觸控面板感測器(電極)用之透明導電層相比，導電性非常低。於此種低導電性範圍內難以實現面內均一性。然而，藉由組合透明導電層與導通性表面保護層，關於表面電阻率而言容易達成高之面內均一性。
作為通電粒子，並無特別限定，可列舉與上述之導電性粒子同樣之金屬粒子、金屬氧化物粒子及於核心粒子表面形成有導電性被覆層之包衣粒子等。再者，就使自透明導電層起之導通變得良好之觀點而言，通電粒子較佳為鍍金粒子。
通電粒子之平均一次粒徑可根據表面保護層之厚度而適當選擇。具體而言，通電粒子之平均一次粒徑相對於表面保護層之厚度，較佳為超過50%且為150%以下，更佳為超過70%且為120%以下，進而較佳為超過85%且為115%以下。藉由將相對於表面保護層之厚度之通電粒子的平均一次粒徑設為上述範圍，可使自透明導電層起之導通變得良好，且可防止通電粒子自表面保護層脫落。
表面保護層中之通電粒子的平均一次粒徑可藉由以下之(1)~(3)之作業而算出。
(1)藉由光學顯微鏡拍攝光學積層體之透過觀察圖像。倍率較佳為500~2000倍。
(2)自觀察圖像中選取任意10個粒子，算出各粒子之粒徑。粒徑係以任意平行之兩條直線夾著粒子之剖面時，作為該兩條直線間距離達到最大之兩條直線之組合下的直線間距離而測量。
(3)對同一樣品之其他畫面的觀察圖像進行5次同樣之作業，以由合計50個粒子之粒徑之數量平均所獲得之值作為粒子之平均一次粒徑。
表面保護層中之通電粒子的含量相對於構成該表面保護層之游離輻射硬化性樹脂組成物中之游離輻射硬化性樹脂100質量份，較佳為0.5~4.0質量份，更佳為0.5~3.0質量份。藉由將通電粒子之含量設為 0.5質量份以上，可使自透明導電層起之導通變得良好。又，藉由將該含量設為4.0質量份以下，可防止表面保護層之被膜性及硬度降低。
於表面保護層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物中，可含有耐磨耗劑、消光劑、耐劃傷填料等填充劑、脫模劑、分散劑、調平劑、受阻胺系之光穩定劑(HALS)等作為其他各種添加成分。
進而，表面保護層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物可含有溶劑。作為該溶劑，只要為溶解樹脂組成物所含之各成分的溶劑，則可無特別限制地使用，較佳為酮類、或酯類，更佳為選自甲基乙基酮及甲基異丁基酮中之至少一種。上述溶劑可單獨使用一種，或可組合兩種以上而使用。
游離輻射硬化性樹脂組成物中之溶劑的含量通常為20~90質量%，較佳為30~85質量%，更佳為40~80質量%。
表面保護層之厚度可根據光學積層體之用途或要求特性而適當選擇，就硬度、加工適性及使用本發明之光學積層體之顯示裝置的薄型化之觀點而言，較佳為1~30μm，更佳為2~20μm，進而較佳為2~10μm。表面保護層之厚度可藉由與透明導電層同樣之方法進行測量。
本發明之光學積層體(I)只要依序具有上述之基材膜、透明導電層及表面保護層即可，亦可視需要而具有其他層。
例如，亦可於與基材膜為相反側之面進而具有功能層。作為功能層，可列舉：防反射層、折射率調整層、防眩層、耐指紋層、防污層、耐擦傷性層、抗菌層等。又，該等功能層較佳為由熱硬化性樹脂組成物或游離輻射硬化性樹脂組成物形成者，更佳為由游離輻射硬化性樹脂組成物形成者
又，作為該功能層，除了上述以外，亦可於不損及本發明之效果的範圍內，設置含有抗氧化劑、熱穩定劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、滑劑、塑化劑、著色劑等添加劑之層。進而，於為應用於液晶顯示裝置之光學積層體之情形時，為了防止於佩戴偏光太陽眼鏡觀察液晶顯示畫面時產生之模糊不清或著色不均，亦可設置高延遲層。但於存在具有1/4波長相位差功能之層的情形時，不需要該高延遲層。
功能層之厚度可根據光學積層體之用途或要求特性而適當選擇，就硬度、加工適性及使用光學積層體之顯示裝置的薄型化之觀點而言，較佳為0.05~30μm，更佳為0.1~20μm，進而較佳為0.5~10μm。於功能層為上述之高延遲層的情形時，厚度並不限於此，為可獲得較佳延遲之厚度即可。該功能層之厚度可藉由與上述透明導電層同樣之方法進行測量。
又，亦可於本發明之光學積層體(I)之基材膜側一面具有背面膜作為製造步驟用膜。藉此，即便於使用厚度薄之膜、或無塑性之環烯烴聚合物膜等作為基材膜之情形時，亦可於製造光學積層體時及加工時維持平面性，保持表面電阻率之面內均一性。作為該背面膜，並無特別限制，可使用聚酯系樹脂膜、聚烯烴系樹脂膜等。就保護性能之方面而言，較佳為彈性率高之膜，更佳為聚酯系樹脂膜。
背面膜之厚度就維持製造光學積層體時及加工時之平面性的觀點而言，較佳為10μm以上，更佳為20~200μm。
背面膜例如可隔著黏著層而與光學積層體之基材膜側一面積層。再者，由於背面膜係製造步驟用膜，因此於例如將光學積層體與下述之偏光元件貼合時等將其剝離。
[第二發明：光學積層體(II)]
第二發明之本發明之光學積層體(II)之特徵在於：其依序具有基材膜、透明導電層及表面保護層，該基材膜為環烯烴聚合物膜，該基材膜之厚度相對於該光學積層體整體之厚度之比率為80%以上95%以下，使用動態黏彈性測量裝置於頻率10Hz、拉伸荷重50N、升溫速度2℃/分鐘之條件測得之於溫度150℃的該光學積層體之伸長率為5.0%以上20%以下。本發明之光學積層體(II)藉由滿足上述之條件，透明導電層對作為基材膜之環烯烴聚合物膜的密接性良好，可見光區域內之透光性高，且表面電阻率之面內均一性良好。
若基材膜之厚度相對於光學積層體整體之厚度的比率未達80%，則光學積層體之強度降低。又，存在無法獲得可見光區域內之透光性或特定之伸長特性之情況。另一方面，若基材膜之厚度相對於光學積層體整體之厚度的比率超過95%，則光學積層體中之透明導電層及表面保護層的厚度比率變低，因此無法獲得所需之表面電阻率或面內均一性、耐損傷性。
就上述觀點而言，基材膜之厚度相對於光學積層體(II)整體之厚度的比率較佳為82%以上，更佳為85%以上，較佳為94%以下，更佳為93%以下。
進而，本發明之光學積層體(II)之使用動態黏彈性測量裝置於頻率10Hz、拉伸荷重50N、升溫速度2℃/分鐘之條件測得之於溫度150℃的伸長率為5.0%以上20%以下。若上述伸長率未達5.0%，則環烯烴聚合物膜與透明導電層之密接性降低。另一方面，若本發明之光學積層體(II)之上述伸長率超過20%，則容易產生因變形引起之透明導電層的厚度不均，難以確保表面電阻率之面內均一性。其結果為，於用於靜電電容式之觸控 面板之情形時，有動作性變得不穩定之虞。
就上述觀點而言，本發明之光學積層體(II)之上述伸長率較佳為6.0%以上，更佳為7.0%以上，且較佳為18%以下，更佳為15%以下。
光學積層體(II)之伸長率可使用動態黏彈性測量裝置進行測量，具體而言，可藉由實施例所記載之方法進行測量。
關於藉由本發明之光學積層體(II)之上述伸長率為上述範圍而可獲得環烯烴聚合物膜與透明導電層之密接性之原因，推測如下。若光學積層體(II)之該伸長率為5.0%以上，則對於作為基材膜之環烯烴聚合物膜而言，下述之用以形成透明導電層之材料所含的低分子量成分容易將其潤濕。因此，所形成之透明導電層密接性提高。另一方面，若光學積層體(II)之該伸長率為20%以下，則即便於使用彈性率低且易變形之環烯烴聚合物膜作為基材膜之情形時，具有透明導電層或表面保護層之光學積層體整體亦可追隨該變形，因此可維持密接性。
作為將光學積層體(II)之伸長率調整至上述範圍之方法，可列舉：(1)作為基材膜之環烯烴聚合物膜之選擇、(2)透明導電層之形成所使用之材料的選擇、(3)表面保護層之形成所使用之材料的選擇、(4)基材膜、透明導電層、表面保護層之厚度及/或厚度比之調整等。該等方法亦可組合兩種以上。下文對各方法之較佳之態樣進行說明。
(基材膜)
本發明之光學積層體(II)使用環烯烴聚合物膜作為基材膜。環烯烴聚合物膜於透明性、低吸濕性、耐熱性方面優異。其中，該環烯烴聚合物膜較佳為經斜向延伸之1/4波長相位差膜。若環烯烴聚合物膜為1/4波長相 位差膜，則以偏光太陽眼鏡觀察液晶畫面等顯示畫面時可防止顯示畫面產生顏色不同之不均(虹不均)，因此目視辨認性良好。又，若環烯烴聚合物膜為經斜向延伸之膜，則即便於以使本發明之光學積層體(II)與構成前面板之偏光元件之光軸重合之方式將兩者貼合時，亦無需將本發明之光學積層體(II)裁切為斜向單片。因此，變得能夠進行利用輥對輥之連續製造，並且發揮出因裁切為斜向單片引起之浪費減少之效果。
就容易將光學積層體(II)整體之伸長率調整為5.0%以上，而提高與透明導電層之密接性的觀點而言，環烯烴聚合物膜之使用動態黏彈性測量裝置於頻率10Hz、拉伸荷重50N、升溫速度2℃/分鐘之條件測得之於溫度150℃的以單獨計之伸長率較佳為5.0%以上，更佳為6.0%以上，進而較佳為7.0%以上，就維持光學積層體(II)之表面電阻率之面內均一性的觀點而言，較佳為25%以下，更佳為18%以下，進而較佳為15%以下。該伸長率之測量方法與上述之光學積層體之情形相同。
又，就提高與透明導電層之密接性的觀點而言，環烯烴聚合物膜之玻璃轉移溫度(Tg)較佳為150℃以下，更佳為140℃以下，進而較佳為130℃以下。若環烯烴聚合物膜之Tg為150℃以下，則容易藉由用以形成透明導電層之材料所含的低分子量成分進行潤濕，藉此可獲得作為基材膜之環烯烴聚合物與透明導電層之密接性提高的效果。
環烯烴聚合物膜之Tg例如可藉由示差掃描熱量計進行測量。
作為環烯烴聚合物，可列舉：降莰烯系樹脂、單環之環狀烯烴系樹脂、環狀共軛二烯系樹脂、乙烯基脂環烴系樹脂及該等之氫化物等。其中，就透明性及成形性之觀點而言，較佳為降莰烯系樹脂。作為降莰烯 系樹脂，可列舉：具有降莰烯結構之單體之開環聚合物或具有降莰烯結構之單體與其他單體之開環共聚物或者該等之氫化物；具有降莰烯結構之單體的加成聚合物或具有降莰烯結構之單體與其他單體之加成共聚物或者該等之氫化物等。
光學積層體(II)使用之環烯烴聚合物膜可於不損及本發明之效果的範圍內含有抗氧化劑、熱穩定劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、滑劑、塑化劑、著色劑等添加劑。較佳之添加劑及其含量與光學積層體(I)之基材膜中所記載之添加劑及其含量相同。
斜向延伸膜之配向角相對於膜之寬度方向，較佳為20~70°，更佳為30~60°，進而較佳為40~50°，尤佳為45°。其原因在於：若斜向延伸膜之配向角為45°，則成為完全之圓偏光。又，即便於以使本發明之光學積層體與偏光元件之光軸重合之方式進行貼合時，亦無需裁切為斜向單片，變得能夠進行利用輥對輥之連續製造。
上述環烯烴聚合物膜可藉由在將環烯烴聚合物進行製膜、延伸時，適當調整延伸倍率或延伸溫度、膜厚而獲得。作為市售之環烯烴聚合物，可列舉：「Topas」(商品名，Ticona公司製造)、「Arton」(商品名，JSR股份有限公司製造)、「Zeonor」及「Zeonex」(均為商品名，日本傑恩股份有限公司製造)、「Apel」(三井化學股份有限公司製造)等。
又，亦可使用市售之環烯烴聚合物膜。作為該膜，可列舉：「Zeonor膜」(商品名，日本傑恩股份有限公司製造)、「Arton膜」(商品名，JSR股份有限公司製造)等。
光學積層體(II)使用之環烯烴聚合物膜的總光線穿透率通 常為70%以上，較佳為85%以上。再者，總光線穿透率可使用紫外可見分光光度計進行測量。
又，環烯烴聚合物膜之厚度就強度、加工適性、以及使用光學積層體(II)之前面板及圖像顯示裝置薄型化之觀點而言，較佳為4~200μm之範圍，更佳為4~170μm，進而較佳為20~135μm，進而更佳為20~120μm。
(透明導電層)
本發明之光學積層體(II)所具有之透明導電層若應用於靜電電容式之觸控面板，則發揮出使觸控面板之面內電位變得恆定而使動作性穩定之效果。就發揮出該效果之觀點而言，尤其較佳與下述之導通性表面保護層加以組合。又，於內嵌觸控面板中，透明導電層具有於以往之外置型或表嵌型中作為導電性構件發揮作用之觸控面板的代替作用。若使用於搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示元件的前表面具有上述透明導電層之光學積層體，則該透明導電層會位於較液晶顯示元件更靠近操作者側之位置，因此可釋放觸控面板表面產生之靜電，而可防止因該靜電導致液晶畫面發生局部白濁之情況。就該觀點而言，透明導電層較佳即便減小厚度，亦可賦予充分之導電性，著色少，透明性良好，耐候性優異，導電性之經時性變化少。
進而，就將光學積層體(II)之拉伸伸長率調整為特定範圍，表現出對作為基材膜之環烯烴聚合物膜之密接性之觀點而言，較佳透明導電層具有柔軟性。就該觀點而言，由基材膜與透明導電層構成之積層物之依據JIS K7161-1：2014且藉由拉伸試驗法於溫度23±2℃、拉伸速度0.5mm/分鐘之條件測得之應力-應變曲線之上降伏點處之應變值較佳為1.0%以 上，更佳為1.5%以上，進而較佳為2.0%以上。又，就維持光學積層體(II)之表面電阻率之面內均一性的觀點及避免因柔軟性過高而使作為上層之表面保護層之表面保護性能降低的觀點而言，該上降伏點處之應變值較佳為8.0%以下，更佳為6.0%以下，進而較佳為5.0%以下。再者，上述積層物之上降伏點處之應變值較佳為高於僅作為基材膜之環烯烴聚合物膜之上降伏點處之應變值的值。換言之，較佳為透明導電層之上降伏點處之應變值高於環烯烴聚合物膜之上降伏點處之應變值。
上述應變值可藉由依據JIS K7161-1：2014之方法且使用拉伸試驗機進行測量，詳細而言，可藉由實施例記載之方法進行測量。
構成該透明導電層之材料並無特別限制，透明導電層較佳含有游離輻射硬化性樹脂與導電性粒子之游離輻射硬化性樹脂組成物的硬化物。其中，就將光學積層體(II)之拉伸伸長率調整為特定範圍的觀點、表面電阻率之面內均一性及經時穩定性、以及對作為基材膜之環烯烴聚合物膜之密接性優異之方面而言，更佳為含有分子內具有脂環式結構之游離輻射硬化性樹脂(A)與導電性粒子之游離輻射硬化性樹脂組成物的硬化物。
又，透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物亦可含有上述游離輻射硬化性樹脂(A)以外之游離輻射硬化性樹脂(B)。藉由將游離輻射硬化性樹脂(A)與游離輻射硬化性樹脂(B)組合使用，可提高樹脂組成物之硬化性及塗敷性、以及所形成之透明導電層之硬度、耐候性等，就該方面而言較佳。
構成透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物的各成分及其較佳之態樣係與光學積層體(I)之透明導電層中記載者相同。
使用上述游離輻射硬化性樹脂組成物而獲得之透明導電層較佳即便減小厚度，亦可賦予充分之導電性，著色少，透明性良好，耐候性優異，導電性之經時性變化少。
例如，於搭載有靜電電容式之內嵌觸控面板之液晶顯示裝置使用之光學積層體中，就使觸控面板穩定地動作之觀點及於以手指觸摸等時防止因觸控面板表面產生之靜電引起之液晶畫面白濁的觀點而言，較佳將光學積層體(II)之表面電阻率之平均值設為1.0×107Ω/□以上1.0×1010Ω/□以下。就上述觀點而言，該表面電阻率之平均值較佳為1.0×108Ω/□以上，較佳為2.0×109Ω/□以下、更佳為1.5×109Ω/□以下、進而較佳為1.0×109Ω/□以下之範圍。
上述表面電阻率可藉由與上述之光學積層體(I)記載之方法同樣的方法進行測量。
就將光學積層體之伸長率調整為特定範圍之觀點及於不損及透明性之情況下賦予所需之導電性的方面而言，透明導電層之厚度較佳為0.1~10μm，更佳為0.3~5μm，進而較佳為0.3~3μm。透明導電層之厚度可藉由與上述之光學積層體(I)記載之方法同樣的方法進行測量。
(表面保護層)
表面保護層就將光學積層體之伸長率調整為特定之範圍的觀點及防止圖像顯示裝置之製造步驟上之損傷的觀點而言，較佳含有游離輻射硬化性樹脂之游離輻射硬化性樹脂組成物的硬化物。
構成游離輻射硬化性樹脂組成物之各成分及其較佳之態樣與光學積層體(I)之表面保護層中記載者相同。
表面保護層之厚度可根據光學積層體(II)之用途或要求特性而適當選擇，就將光學積層體(II)之拉伸伸長率調整為特定之範圍的觀點、硬度、加工適性及使用本發明之光學積層體(II)之顯示裝置之薄型化的觀點而言，較佳為0.9~40μm，更佳為2~20μm，進而較佳為2~10μm。表面保護層之厚度可藉由與透明導電層同樣之方法進行測量。
光學積層體(II)只要與光學積層體(I)同樣地依序具有上述之基材膜、透明導電層及表面保護層即可，亦可視需要而具有其他層。又，亦可與光學積層體(I)同樣地於本發明之光學積層體(II)之基材膜側一面具有背面膜作為製造步驟用膜。
(光學積層體(I)(II)之製造方法)
本發明之光學積層體(I)(II)之製造方法並無特別限制，可使用公知之方法。例如，若為依序具有基材膜、透明導電層及表面保護層之3層構成的光學積層體，則可藉由使用上述之透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物於基材膜上形成透明導電層，並於其上形成表面保護層而製造。對於基材膜，亦可在與透明導電層形成面相反側之面預先積層背面膜。
首先，藉由上述之方法製備透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物後，以硬化後成為所需之厚度之方式將其塗佈於基材膜上。作為塗佈方法，並無特別限制，可列舉：模嘴塗佈、棒塗、輥塗、狹縫式塗佈、狹縫式反向塗佈、反向輥塗、凹版塗佈等。進而，視需要加以乾燥，而於基材膜上形成未硬化樹脂層。
其次，對該未硬化樹脂層照射電子束、紫外線等游離輻射而使該未硬化樹脂層硬化，從而形成透明導電層。此處，於使用電子束作為游離輻射 之情形時，關於其加速電壓，可根據所使用之樹脂或層之厚度而適當選定，通常較佳以加速電壓70~300kV左右使未硬化樹脂層硬化。
於使用紫外線作為游離輻射之情形時，通常放射包含波長190~380nm之紫外線者。作為紫外線源，並無特別限制，例如可使用高壓水銀燈、低壓水銀燈、金屬鹵素燈、碳弧燈等。
表面保護層較佳使用上述之表面保護層形成用游離輻射硬化性樹脂組成物而形成。例如，將上述之游離輻射硬化性樹脂及視需要使用之紫外線吸收劑、通電粒子、其他各種添加劑分別以特定之比例均質地混合，而製備由游離輻射硬化性樹脂組成物構成之塗敷液。將以上述方式製備之塗敷液塗佈於透明導電層上，視需要加以乾燥後將其硬化，而可形成由游離輻射硬化性樹脂組成物構成之表面保護層。樹脂組成物之塗佈方法及硬化方法與上述之透明導電層之形成方法相同。
光學積層體(I)(II)亦可使用下述之第四發明之製造方法進行製造。
(光學積層體(I)(II)之構成)
此處，使用圖2對本發明之光學積層體(I)及(II)進行說明。圖2係表示本發明之光學積層體(I)及(II)之實施形態之一例的剖面示意圖。圖2所示之光學積層體1A依序具有基材膜2A、透明導電層3A及表面保護層4A。透明導電層3A較佳為上述之游離輻射硬化性樹脂組成物的硬化物。又，圖2所示之表面保護層4A為含有通電粒子41A之導通性表面保護層。
具有圖2之構成的光學積層體由於表面電阻率之面內均一性良好，因此若用於靜電電容式之觸控面板，則可對該觸控面板賦予穩定之動作性，尤其適宜用於搭載有內嵌型之觸控面板的圖像顯示裝置。如上 述，於搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示裝置中，由觸控面板表面產生之靜電引起液晶畫面發生白濁之現象。因此，若將圖2之光學積層體用於搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示元件之前表面，則會賦予防靜電功能，因此可釋放靜電，而可防止上述白濁。
尤其較佳表面保護層4A為導通性表面保護層。導通性表面保護層中之通電粒子41A可使導通性表面保護層之表面與透明導電層3A之間導通，使到達透明導電層之靜電進而沿厚度方向流動，而對表面保護層之表面側(操作者側)賦予所需之表面電阻率。進而，表面電阻率之面內均一性及經時穩定性變得良好，而穩定地表現出靜電電容式觸控面板之動作性。
透明導電層具有朝向面方向(X方向、Y方向)及厚度方向(z方向)之導電性，相對於此，導通性表面保護層具有厚度方向之導電性即可。因此，導通性表面保護層於面方向之導電性並非必需之方面而言作用有所不同。
[第三發明：光學積層體(III)]
第三發明之本發明之光學積層體(III)之特徵在於：其依序具有纖維素系基材膜、穩定化層及導電層，依據JIS K6911測得之表面電阻率之平均值處於1.0×107Ω/□以上1.0×1012Ω/□以下之範圍，且該表面電阻率之標準偏差σ除以該平均值而獲得之值為0.20以下。
於第三發明中，所謂「穩定化層」係具有使光學積層體(III)之表面電阻率之面內均一性穩定的功能之層，下文進行詳細說明。藉由具有該穩定化層，本發明之光學積層體(III)即便使用纖維素系基材膜作為基材膜， 表面電阻率之面內均一性亦高，於用於靜電電容式觸控面板時可表現出穩定之動作性。
該表面電阻率之平均值為1.0×107Ω/□以上，又，就將光學積層體(III)用於靜電電容式觸控面板時之動作性及動作精度之觀點而言，較佳為5.0×1011Ω/□以下，更佳為1.0×1011Ω/□以下，進而較佳為5.0×1010Ω/□以下。
又，若光學積層體(III)之上述表面電阻率之標準偏差σ除以該平均值而獲得之值([表面電阻率之標準偏差σ]/[表面電阻率之平均值])超過0.20，則由於表面電阻率之面內之不均大，因此於用於靜電電容式觸控面板時動作性降低。就該觀點而言，該[表面電阻率之標準偏差σ]/[表面電阻率之平均值]較佳為0.18以下，更佳為0.15以下。
光學積層體(III)之表面電阻率的平均值為1.0×107Ω/□以上1.0×1012Ω/□以下，若為該範圍，則於用於靜電電容式觸控面板時動作性良好。又，於該表面電阻率之平均值為1.0×107Ω/□以上1.0×1010Ω/□以下之情形時，觸控面板操作中之動作精度良好，於超過1.0×1010Ω/□且為1.0×1012Ω/□以下之情形時，觸控面板操作中之感度良好。
上述表面電阻率係依據JIS K6911：1995進行測量，但其平均值及標準偏差例如可藉由光學積層體(I)中記載之方法A進行測量。
又，就表面電阻率之經時穩定性的觀點而言，較佳於將該光學積層體(III)於80℃保持250小時後測得之表面電阻率相對於該保持前之表面電阻率的比(將光學積層體(III)於80℃保持250小時後之表面電阻率/將光學積層體(III)於80℃保持250小時前之表面電阻率)於全部 測量點均為0.40~2.5之範圍。更佳為0.50~2.0之範圍。具體而言，該表面電阻率之比可藉由實施例記載之方法進行測量。
若該表面電阻率之比為上述範圍，則該光學積層體(III)由於由環境變化引起之表面電阻率之變化少，因此於用於靜電電容式之觸控面板時可長期維持穩定之動作性。
作為將光學積層體(III)之表面電阻率之平均值及不均調整至上述範圍之方法，可列舉：(1)穩定化層之形成所使用之材料及厚度之選擇、(2)導電層之形成所使用之材料及厚度之選擇及(3)特定之層構成之應用等。下文對該等進行說明。
(纖維素系基材膜)
光學積層體(III)所使用之基材膜為纖維素系基材膜。纖維素系基材膜之總光線穿透率通常為70%以上，較佳為85%以上。再者，總光線穿透率可使用紫外可見分光光度計，於室溫下、大氣中進行測量。
作為纖維素系基材膜，就透光性優異之方面而言，較佳為纖維素酯膜，例如可列舉：三乙醯纖維素膜(TAC膜)、二乙醯纖維素膜。其中，就透光性優異、折射率異向性小之方面而言，較佳為三乙醯纖維素膜。
再者，作為三乙醯纖維素膜，亦可為除了純三乙醯纖維素以外亦併用醋酸丙酸纖維素、醋酸丁酸纖維素等由乙酸以外者作為與纖維素形成酯之脂肪酸的成分而成之膜。
又，纖維素系基材膜亦可藉由單軸或雙軸等進行延伸處理。
纖維素系基材膜於光學特性優異、且具有上述滲透性之方面而言較佳。
通常，於光學積層體使用之基材膜與鄰接於其之層的折射率不同之情形時，存在產生來自該界面之界面反射、或干擾條紋之情況。若將此種光學積層體應用於圖像顯示裝置，則存在降低圖像之目視辨認性之情形。然而，於在如纖維素系基材膜之滲透性基材上形成穩定化層之情形時，於塗佈該穩定化層形成用之樹脂組成物時，該組成物中之溶劑或低分子量成分會含浸於纖維素系基材膜中。若於該狀態下使該組成物硬化，則於基材膜與穩定化層之界面附近形成滲透層而界面變得不明了。其結果為具有即便於基材膜與穩定化層使用折射率不同之材料之情形時，亦可減少上述界面反射及由其引起之干擾條紋之效果。
光學積層體(III)所使用之纖維素系基材膜可於不損及本發明之效果的範圍內含有抗氧化劑、熱穩定劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、滑劑、塑化劑、著色劑等添加劑。其中，纖維素系基材膜較佳含有紫外線吸收劑。其原因在於：藉由該基材膜含有紫外線吸收劑，具有防止由外界光紫外線引起之劣化的效果。
作為該紫外線吸收劑，並無特別限制，可使用公知之紫外線吸收劑。例如可列舉：二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、三系化合物、苯并系化合物、水楊酸酯系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物等。其中，就耐候性、色調之觀點而言，較佳為苯并三唑系化合物。上述紫外線吸收劑可單獨使用一種，或可組合兩種以上而使用。
纖維素系基材膜中之紫外線吸收劑的含量較佳為0.1~10質量%，更佳為0.5~5質量%，進而較佳為1~5質量%。若紫外線吸收劑之含量為上述範圍，則可將波長380nm之光學積層體(III)的穿透率抑制為30%以下， 且可抑制因含有紫外線吸收劑而產生之黃色調。
纖維素系基材膜之厚度就強度、加工適性、以及使用光學積層體(III)之前面板及圖像顯示裝置之薄型化的觀點而言，較佳為4~200μm之範圍，更佳為4~170μm，進而較佳為20~135μm，進而更佳為20~100μm。
(穩定化層)
光學積層體(III)具有之穩定化層係具有使光學積層體(III)之表面電阻率之面內均一性穩定的功能之層。藉由具有該穩定化層，光學積層體(III)即便於使用上述纖維素系基材膜之情形時，亦可提高表面電阻率之面內均一性，於用於靜電電容式觸控面板時可表現出穩定之動作性。
關於穩定化層發揮上述效果之理由，認為如以下所述。由於纖維素系基材膜具有滲透性，因此若欲使用含有溶劑、其他分子量未達1,000之低分子量成分及導電劑(下述之導電性粒子等)之材料於其上形成導電層，則會產生該導電層之膜厚不穩定、或導電層形成用材料中之上述各成分滲透至基材膜中而無法獲得必需之導電性及其面內均一性等問題。然而，若於纖維素系基材膜上形成穩定化層，則於將導電層形成用材料塗佈於其上時，該材料中之上述各成分對基材膜之滲透受到抑制。其結果，認為形成於穩定化層上之導電層中之導電性粒子可非分散存在而是局部存在，因此可獲得目標導電性，且亦可抑制表面電阻率之不均。又，將所獲得之光學積層體於高溫環境下保存後之表面電阻率的穩定性亦變得良好。
該穩定化層就賦予上述特性之觀點而言，較佳含有游離輻射硬化性樹脂之游離輻射硬化性樹脂組成物的硬化物。若穩定化層為游離輻 射硬化性樹脂組成物之硬化物，則可有效地抑制導電層形成用材料對纖維素系基材膜之滲透。因此，具有該穩定化層之光學積層體(III)即便於使用纖維素系基材膜之情形時亦可獲得目標導電性，且亦可提高表面電阻率之面內均一性。進而，穩定化層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物於塗佈於纖維素系基材膜上時，該樹脂組成物中之低分子量成分會滲透至該基材膜中。於該狀態下該樹脂組成物硬化而形成穩定化層，因此纖維素系基材膜與穩定化層之密接性亦變得良好。
<游離輻射硬化性樹脂>
穩定化層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物所含之游離輻射硬化性樹脂可適當選擇使用慣用之聚合性單體及聚合性低聚物或預聚物。其中，作為游離輻射硬化性樹脂，較佳為聚合性單體及/或聚合性低聚物，就抑制導電層形成用材料對纖維素系基材膜之滲透及提高穩定化層對纖維素系基材膜之密接性之觀點而言，更佳為分子量未達1,000之聚合性單體。
作為聚合性單體，宜為分子中具有(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸酯單體，其中較佳為多官能性(甲基)丙烯酸酯單體。
作為多官能性(甲基)丙烯酸酯單體，只要為分子內具有2個以上(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸酯單體即可，並無特別限制。具體而言，可較佳地列舉：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯單硬脂酸酯、二(甲基)丙烯酸二環戊酯、三聚異氰酸二(甲基)丙烯酸酯等二(甲基)丙烯酸酯；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三聚異氰酸三(丙烯醯氧基乙基)酯等三(甲基)丙烯酸酯；新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五 (甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等4官能以上之(甲基)丙烯酸酯；上述之多官能性(甲基)丙烯酸酯單體之環氧乙烷改質品、環氧丙烷改質品、己內酯改質品、丙酸改質品等。該等中，就可獲得優異之硬度的觀點而言，較佳較三(甲基)丙烯酸酯更多官能、即3官能以上之(甲基)丙烯酸酯，就抑制導電層形成用材料對纖維素系基材膜之滲透及提高穩定化層對纖維素系基材膜之密接性的觀點而言，更佳為選自三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯及新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯中之至少一種。該等多官能性(甲基)丙烯酸酯單體可單獨使用一種，亦可組合兩種以上而使用。
作為聚合性低聚物，可較佳地列舉分子中具有自由基聚合性官能基之低聚物，例如可列舉：環氧(甲基)丙烯酸酯系、(甲基)丙烯酸胺酯系、聚酯(甲基)丙烯酸酯系、聚醚(甲基)丙烯酸酯系之低聚物等。進而，作為聚合性低聚物，亦可較佳地列舉聚丁二烯低聚物之側鏈具有(甲基)丙烯酸酯基之疏水性高的聚丁二烯(甲基)丙烯酸酯系低聚物、主鏈具有聚矽氧烷鍵之聚矽氧(甲基)丙烯酸酯系低聚物等。該等低聚物可單獨使用一種，亦可組合兩種以上而使用。
聚合性低聚物之重量平均分子量(藉由GPC法測得之標準聚苯乙烯換算之重量平均分子量)較佳為1,000~20,000，更佳為1,000~15,000。
又，聚合性低聚物較佳為2官能以上，更佳為3~12官能，進而較佳為3~10官能。若官能基數為上述範圍內，則獲得之穩定化層可有效地抑制導電層形成用材料對纖維素系基材膜之滲透。
游離輻射硬化性樹脂組成物亦可進而含有熱塑性樹脂。藉由併用熱塑性樹脂，可提高與基材膜之接著性或有效地防止塗佈膜之缺陷。
作為該熱塑性樹脂，例如可較佳地列舉：苯乙烯樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、聚烯烴樹脂、乙酸乙烯酯樹脂、乙烯醚樹脂、含鹵素樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚醯胺樹脂、尼龍、纖維素樹脂、聚矽氧樹脂、聚胺酯樹脂等熱塑性樹脂之單體及共聚物或該等之混合樹脂。該等樹脂較佳為非晶性且可溶於溶劑。尤其是就製膜性、透明性或耐候性等觀點而言，較佳為苯乙烯樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、聚烯烴樹脂、聚酯樹脂、纖維素樹脂等，更佳為(甲基)丙烯酸樹脂，進而較佳為聚甲基丙烯酸甲酯。
該等熱塑性樹脂較佳分子中不具有反應性官能基。其原因在於：若分子中具有反應性官能基，則有硬化收縮量變大，穩定化層之接著性降低之虞，而可避免該情況。又，若熱塑性樹脂為分子中不具有反應性官能基者，則變得容易控制獲得之光學積層體的表面電阻率。再者，作為反應性基，可列舉：丙烯醯基、乙烯基等具有不飽和雙鍵之官能基；環氧環、氧環丁烷環等環狀醚基；內酯環等開環聚合基；形成胺酯之異氰酸酯基等。再者，該等反應性官能基若為不會影響穩定化層之接著性或表面電阻率之程度，則亦可含有。
穩定化層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物中之游離輻射硬化性樹脂的含量相對於構成該樹脂組成物之樹脂成分的合計量，較佳為20質量%以上，更佳為20~95質量%，進而較佳為25~85質量%，進而更佳為30~80質量%。若游離輻射硬化性樹脂相對於構成該樹脂組成物之樹脂成分的合計量為20質量%以上，則可形成密接性優異，低分子量成分之滲透少的穩定化層。再者，此處所謂之「游離輻射硬化性樹脂組成物中之樹脂成分」中包含游離輻射硬化性樹脂、熱塑性樹脂及其他樹脂。
於游離輻射硬化性樹脂組成物含有熱塑性樹脂之情形時，其含量於游離輻射硬化性樹脂組成物中之樹脂成分中，較佳為10質量%以上。又，就獲得之穩定化層與基材膜之密接性的觀點而言，較佳為80質量%以下，更佳為50質量%以下。就有效地抑制導電層形成用材料對纖維素系基材膜之滲透的觀點而言，較佳穩定化層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物不含熱塑性樹脂。
於用以形成穩定化層之游離輻射硬化性樹脂為紫外線硬化性樹脂之情形時，穩定化層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物較佳含有光聚合起始劑或光聚合促進劑。
作為光聚合起始劑，可列舉：苯乙酮、α-羥基烷基苯酮、醯基氧化膦、二苯甲酮、米其勒酮、安息香、二苯乙二酮二甲基縮酮、苯甲醯基苯甲酸酯、α-醯基肟酯、9-氧硫類等。又，光聚合促進劑可減輕硬化時由空氣引起之聚合故障而加速硬化速度，例如可列舉：對二甲基胺基苯甲酸異戊酯、對二甲基胺基苯甲酸乙酯等。
上述光聚合起始劑、光聚合促進劑分別可單獨使用一種，或可組合兩種以上而使用。
於穩定化層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物含有光聚合起始劑之情形時，其含量相對於游離輻射硬化性樹脂100質量份，較佳為0.1~10質量份，更佳為1~10質量份，進而較佳為5~10質量份。
又，穩定化層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物可視需要而進而含有其他成分，例如可進而含有折射率調整劑、防眩劑、防污劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、調平劑、易滑劑等添加劑。
進而，該樹脂組成物可含有溶劑。作為該溶劑，只要為溶解樹脂組成物所含之各成分之溶劑，則可無特別限制地使用，較佳為酮類、醚類、醇類、或酯類。上述溶劑可單獨使用一種，或可組合兩種以上而使用。
該樹脂組成物中之溶劑的含量通常為20~99質量%，較佳為30~99質量%，更佳為70~99質量%。若溶劑之含量為上述範圍內，則塗敷性優異。
關於穩定化層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物的製造方法，並無特別限制，可使用以往公知之方法及裝置而製造。例如可藉由將上述游離輻射硬化性樹脂及視需要添加各種添加劑、溶劑加以混合而製造。
穩定化層之厚度就藉由發揮上述之效果而獲得光學積層體(III)之表面電阻率之面內均一性的方面而言，較佳為50nm以上，更佳為70nm以上，進而較佳為90nm以上，進而更佳為200nm以上。又，就抑制光學積層體(III)之翹曲之觀點而言，較佳為未達10μm，更佳為8.0μm以下，進而較佳為5.0μm以下。
穩定化層之厚度例如可自使用掃描穿透式電子顯微鏡(STEM)拍攝之剖面的圖像中測量20處之厚度，根據20處之值的平均值而算出。STEM之加速電壓較佳設為10kV~30kV，STEM之觀察倍率較佳設為1000~7000倍。
(導電層)
光學積層體(III)具有之導電層若應用於靜電電容式之觸控面板，則發揮使觸控面板之面內電位變得恆定而使動作性穩定之效果。又，於內嵌觸控面板中，導電層具有於以往之外置型或表嵌型中作為導電性構件發揮 作用之觸控面板之代替作用。若將具有上述導電層之光學積層體用於搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示元件之前表面，則該導電層會位於較液晶顯示元件更靠近操作者側之位置，因此可釋放觸控面板表面產生之靜電，而可防止因該靜電導致液晶畫面發生局部白濁之情況。就該觀點而言，導電層較佳即便減小厚度，亦可賦予充分之導電性，著色少，透明性良好，耐候性優異，導電性之經時性變化少。
構成該導電層之材料並無特別限制，就賦予上述特性之觀點而言，較佳含有游離輻射硬化性樹脂與導電性粒子之游離輻射硬化性樹脂組成物的硬化物。又，其原因在於：於不在導電層上積層下述之功能層之情形時，較理想為賦予可防止前面板或圖像顯示裝置之製造步驟上之損傷之程度的硬度。
<游離輻射硬化性樹脂>
導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物所含之游離輻射硬化性樹脂可適當選擇使用慣用之聚合性單體及聚合性低聚物或預聚物。
作為聚合性單體，宜為分子中具有(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸酯單體，其中較佳為多官能性(甲基)丙烯酸酯單體。
多官能性(甲基)丙烯酸酯單體及其較佳之態樣與上述之穩定化層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物中例示者相同。多官能性(甲基)丙烯酸酯單體可單獨使用一種，亦可組合兩種以上而使用。
聚合性低聚物及其較佳之態樣與上述之穩定化層形成用的游離輻射硬化性樹脂組成物中例示者相同。
聚合性低聚物之重量平均分子量較佳為1,000~20,000，更佳為1,000~ 15,000。
又，聚合性低聚物較佳為2官能以上，更佳為3~12官能，進而較佳為3~10官能。若官能基數為上述範圍內，則可獲得硬度優異之導電層。
導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物所含之游離輻射硬化性樹脂更佳為與上述穩定化層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物所含的游離輻射硬化性樹脂之折射率差小，就該觀點而言，較佳兩游離輻射硬化性樹脂為同一種類。於該情形時，由於可減少由穩定化層與導電層之界面反射引起之干擾條紋之產生，因此圖像目視辨認性提高。其原因在於：若所形成之穩定化層與導電層之折射率接近，則即便於在穩定化層與導電層之間存在明晰之界面的情形時，亦難以產生由該界面引起之干擾條紋。又，認為其原因在於：若穩定化層與導電層使用之游離輻射硬化性樹脂為同一種類，則於在穩定化層上形成導電層時，導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物容易潤濕穩定化層表面，於穩定化層與導電層之界面產生不會對層厚造成影響且不會產生干擾條紋之程度的少許粗糙。進而，若穩定化層與導電層使用之游離輻射硬化性樹脂為同一種類，則亦發揮穩定化層與導電層之密接性亦變得良好之效果。
此處所謂同一種類之游離輻射硬化性樹脂於使用一種游離輻射硬化性樹脂之情形時為同一樹脂，於使用兩種以上之游離輻射硬化性樹脂之情形時為同一樹脂之組合。
游離輻射硬化性樹脂組成物亦可進而含有熱塑性樹脂。藉由併用熱塑性樹脂，導電層之收縮受到抑制，藉此可提高與穩定化層之接著性及耐久密接性、表面電阻率之面內均一性，抑制表面電阻率之經時變化， 而可有效地防止塗佈膜之缺陷。
該熱塑性樹脂及其較佳之態樣與上述之穩定化層形成用的游離輻射硬化性樹脂組成物中例示者相同。
導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物中之游離輻射硬化性樹脂的含量相對於構成該樹脂組成物之樹脂成分的合計量，較佳為20質量%以上，更佳為30~100質量%，進而較佳為40~100質量%，進而更佳為50~100質量%。若游離輻射硬化性樹脂相對於構成該樹脂組成物之樹脂成分的合計量為20質量%以上，則可形成密接性優異，表面電阻率之面內均一性及其經時穩定性亦優異之導電層。
於游離輻射硬化性樹脂組成物含有熱塑性樹脂之情形時，其含量於游離輻射硬化性樹脂組成物中之樹脂成分中，較佳為10質量%以上。又，就獲得之導電層之耐擦傷性的觀點而言，較佳為80質量%以下，更佳為50質量%以下。
<導電性粒子>
導電性粒子於使用游離輻射硬化性樹脂組成物形成之導電層中，係用於在不損及透明性之情況下賦予導電性。因此，該導電性粒子較佳為即便減小導電層之厚度，亦可賦予充分之導電性，著色少，透明性良好，耐候性優異，導電性之經時性變化少者。又，就避免因導電層之柔軟性過高導致降低表面保護性能之情況的觀點而言，較佳為高硬度之粒子。
作為此種導電性粒子，可適宜地使用金屬粒子、金屬氧化物粒子，以及於核心粒子之表面形成有導電性被覆層之包衣粒子等。
作為構成金屬粒子之金屬，例如可列舉：Au、Ag、Cu、Al、Fe、Ni、 Pd、Pt等。作為構成金屬氧化物粒子之金屬氧化物，例如可列舉：氧化錫(SnO2)、氧化銻(Sb2O5)、氧化銻錫(ATO)、氧化銦錫(ITO)、氧化鋁鋅(AZO)、摻氟氧化錫(FTO)、ZnO等。
作為包衣粒子，例如可列舉於核心粒子之表面形成有導電性被覆層之構成的粒子。作為核心粒子，並無特別限定，例如可列舉：矽酸膠、氧化矽粒子等無機粒子；氟樹脂粒子、丙烯酸樹脂粒子、聚矽氧樹脂粒子等聚合物粒子；及有機無機複合體粒子等。又，作為構成導電性被覆層之材料，例如可列舉上述之金屬或該等之合金、或上述之金屬氧化物等。該等可單獨使用一種，或可組合兩種以上而使用。
其中，就長期保管、耐熱性、耐濕熱性、耐候性良好之觀點而言，導電性粒子較佳為選自金屬微粒及金屬氧化物微粒中之至少一種，更佳為氧化銻錫(ATO)粒子。
導電性粒子較佳平均一次粒徑為5~40nm。藉由設為5nm以上，導電性粒子彼此於導電層中變得容易接觸，因此可抑制用以賦予充分之導電性之導電性粒子的添加量。進而，藉由導電性粒子之平均一次粒徑為5nm以上，可避免導電性粒子向纖維素系基材膜內之過度滲透。又，藉由將該平均一次粒徑設為40nm以下，可防止透明性或與其他層之間的密接性受損。導電性粒子之平均一次粒徑的更佳下限為6nm，更佳上限為20nm。
導電性粒子之平均一次粒徑可藉由與光學積層體(I)中記載之導電性粒子之平均一次粒徑的測量方法同樣之方法進行測量。
使用上述游離輻射硬化性樹脂組成物獲得之導電層較佳即 便減小厚度，亦可賦予充分之導電性，著色少，透明性良好，耐候性優異，導電性之經時性變化少。因此，該樹脂組成物中之導電性粒子的含量只要為可賦予上述性能之範圍，則無特別限制。
就將表面電阻率之平均值設為1.0×107Ω/□以上1.0×1012Ω/□以下的觀點而言，上述游離輻射硬化性樹脂組成物中之導電性粒子的含量相對於游離輻射硬化性樹脂100質量份，較佳為5~400質量份，更佳為20~300質量份，進而較佳為25~200質量份。其原因在於：藉由將導電性粒子之含量設為相對於游離輻射硬化性樹脂100質量份為5質量份以上，容易使光學積層體之表面電阻率的平均值成為1.0×1012Ω/□以下，藉由設為400質量份以下，容易使該表面電阻率之平均值成為1.0×107Ω/□以上，並且導電層不會變脆，而可維持硬度。
導電層就提高表面電阻率之面內均一性的觀點而言，亦可進而含有通電粒子。
若導電層為含有通電粒子之層，則於製成依序積層本發明之光學積層體(III)、偏光元件及相位差板而成之前面板時，由於該導電層或與其鄰接的導電性之層位於最表面，因此可容易地自該等層表面起進行接地處理。又，即便表面電阻率低，表面電阻率之面內均一性亦良好，且表面電阻率亦容易經時性地穩定。
光學積層體(III)如上述，表面電阻率之平均值為1.0×107Ω/□以上1.0×1012Ω/□以下，與觸控面板感測器(電極)用之透明導電層相比，導電性非常低。於此種低導電性範圍內難以實現面內均一性。然而，藉由製成上述構成，關於表面電阻率而言容易達成高面內均一性。
作為通電粒子，並無特別限定，可列舉與上述之導電性粒子同樣之金屬粒子、金屬氧化物粒子，以及於核心粒子之表面形成有導電性被覆層之包衣粒子等。再者，就使導通良好之觀點而言，通電粒子較佳為鍍金粒子。
通電粒子之平均一次粒徑可根據導電層之厚度而適當選擇。具體而言，通電粒子之平均一次粒徑相對於導電層之厚度，較佳為超過50%且為150%以下，更佳為超過70%且為120%以下，進而較佳為超過85%且為115%以下。藉由將相對於導電層之厚度的通電粒子之平均一次粒徑設為上述範圍，可使導通變得良好，且可防止通電粒子自導電層脫落。
導電層中之通電粒子的平均一次粒徑可藉由與光學積層體(I)中記載之通電粒子的平均一次粒徑之測量方法同樣之方法進行測量。
於導電層含有通電粒子之情形時，其含量相對於構成該導電層之游離輻射硬化性樹脂組成物中的游離輻射硬化性樹脂100質量份，較佳為0.5~4.0質量份，更佳為0.5~2.5質量份。藉由將通電粒子之含量設為0.5質量份以上，可使導通變得良好。又，藉由將該含量設為4.0質量份以下，可防止導電層之被膜性及硬度降低。
於導電層之形成使用之游離輻射硬化性樹脂為紫外線硬化性樹脂之情形時，導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物較佳含有光聚合起始劑或光聚合促進劑。光聚合起始劑、光聚合促進劑及該等之較佳態樣與上述之穩定化層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物中例示者相同。
光聚合起始劑、光聚合促進劑分別可單獨使用一種，或可組合兩種以 上而使用。
於導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物含有光聚合起始劑之情形時，其含量相對於游離輻射硬化性樹脂100質量份，較佳為0.1~10質量份，更佳為1~10質量份，進而較佳為1~8質量份。
又，導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物可視需要而進而含有其他成分，例如可進而含有折射率調整劑、防眩劑、防污劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、調平劑、易滑劑等添加劑。
進而，該樹脂組成物可含有溶劑。作為該溶劑，只要為溶解樹脂組成物所含之各成分的溶劑，則可無特別限制地使用，較佳為酮類、醚類、醇類、或酯類。上述溶劑可單獨使用一種，或可組合兩種以上而使用。
導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物所含的溶劑較佳與上述穩定化層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物所含之溶劑為同一種類。於該情形時，由於可減少由穩定化層與導電層之界面反射引起的干擾條紋之產生，因此圖像目視辨認性提高。認為其原因在於：於將導電層積層於穩定化層上時，導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物中的溶劑容易潤濕穩定化層表面，於穩定化層與導電層之界面產生不會對層厚造成影響且不會產生干擾條紋之程度的粗糙。
此處所謂之同一種類的溶劑於使用一種溶劑之情形時為同一溶劑，於使用兩種以上之溶劑的情形時為同一溶劑之組合。
該樹脂組成物中之溶劑的含量通常為20~99質量%，較佳為30~99質量%，更佳為70~99質量%。若溶劑之含量為上述範圍內，則塗敷性優異。
關於導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物的製造方 法，並無特別限制，可使用以往公知之方法及裝置而製造。例如，可藉由將上述游離輻射硬化性樹脂、導電性粒子及視需要添加各種添加劑、溶劑加以混合而製造。導電性粒子亦可預先分散於溶劑中而使用製備之分散液。
導電層之厚度就於不損及透明性之情況下賦予所需的導電性之方面及於不設置下述功能層之情形時防止前面板或圖像顯示裝置之製造步驟上的損傷之觀點而言，較佳為0.5~20μm，更佳為1.0~10μm，進而較佳為1.0~5.0μm。
導電層之厚度可藉由與上述穩定化層之厚度同樣的方法進行測量。
(功能層)
光學積層體(III)亦可進而於上述導電層上或其下具有功能層。作為該功能層，可列舉：表面保護層、防反射層、折射率調整層、防眩層、耐指紋層、防污層、耐擦傷性層、抗菌層等。該等功能層於設置於光學積層體(III)之最表面的情形時，就防止前面板或圖像顯示裝置之製造步驟上的損傷之觀點而言，較佳為熱硬化性樹脂組成物或游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物，更佳為游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物。
作為該游離輻射硬化性樹脂組成物，可使用與上述之穩定化層形成用的游離輻射硬化性樹脂組成物相同者。
又，作為該功能層，除了上述以外，亦可於不損及本發明之效果的範圍內，設置含有抗氧化劑、熱穩定劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、滑劑、塑化劑、著色劑等添加劑之層。進而，於為應用於液晶顯示裝置之光學積層體的情形時，為了防止於佩戴偏光太陽眼鏡觀察液晶顯示畫面時產生之模糊不清或著色不均，亦可設置高延遲層。但於存在具有1/4波長相位差 功能之層的情形時，不需要該高延遲層。
於將功能層設置於導電層上之情形時，該導電層可進而含有通電粒子。若功能層為含有通電粒子之功能層(以下亦稱為「導通性功能層」)，則於製成依序積層本發明之光學積層體(III)、偏光元件及相位差板而成之前面板時，由於導通性功能層及導電層位於最表面，因此可容易地進行對導通性功能層或導電層表面之接地處理。又，藉由光學積層體(III)具有導電層與導通性功能層，即便導電層之導電性低，表面電阻率之面內均一性亦良好，且表面電阻率亦容易經時性地穩定。
作為功能層使用之通電粒子，可列舉與上述相同者。通電粒子之平均一次粒徑可根據功能層之厚度而適當選擇。具體而言，通電粒子之平均一次粒徑相對於功能層之厚度，較佳為超過50%且為150%以下，更佳為超過70%且為120%以下，進而較佳為超過85%且為115%以下。藉由將相對於功能層之厚度的通電粒子之平均一次粒徑設為上述範圍，可使自導電層起之導通變得良好，且可防止通電粒子自功能層脫落。
功能層中之通電粒子的含量相對於構成該功能層之游離輻射硬化性樹脂組成物中的游離輻射硬化性樹脂100質量份，較佳為0.5~4.0質量份，更佳為0.5~3.0質量份。藉由將通電粒子之含量設為0.5質量份以上，可使自導電層起之導通變得良好。又，藉由將該含量設為4.0質量份以下，可防止功能層之被膜性及硬度降低。
功能層之厚度可根據光學積層體之用途或要求特性而適當選擇，就硬度、加工適性及使用本發明之光學積層體(III)之顯示裝置的薄型化之觀點而言，較佳為0.05~30μm，更佳為0.1~20μm，進而較佳 為0.5~10μm。於功能層為上述之高延遲層的情形時，厚度並不限於此，為可獲得較佳之延遲的厚度即可。該功能層之厚度可藉由與導電層同樣之方法進行測量。
又，亦可於光學積層體(III)之基材膜側一面具有背面膜作為製造步驟用膜。藉此，可於製造光學積層體(III)時及加工時維持平面性，保持表面電阻率之面內均一性。作為該背面膜，並無特別限制，可使用聚酯系樹脂膜、聚烯烴系樹脂膜等。就保護性能之方面而言，較佳為彈性率高之膜，更佳為聚酯系樹脂膜。
背面膜之厚度就維持製造光學積層體(III)時及加工時之平面性的觀點而言，較佳為10μm以上，更佳為20~200μm。
背面膜例如可隔著黏著層而與光學積層體(III)之基材膜側一面積層。再者，由於背面膜係製造步驟用膜，因此於例如將光學積層體(III)與下述之偏光元件貼合時等將其剝離。
(光學積層體(III)之製造方法)
光學積層體(III)之製造方法並無特別限制，可使用公知之方法。例如，若為依序具有纖維素系基材膜、穩定化層及導電層之3層構成之光學積層體，則可藉由在基材膜上形成上述之穩定化層，並且使用上述之導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物於其上形成導電層而製造。對於纖維素系基材膜，亦可在與導電層形成面相反側之面預先積層背面膜。
首先，藉由上述之方法製備穩定化層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物後，以硬化後成為所需之厚度的方式進行塗佈，並且視需要加以乾燥而形成未硬化樹脂層。作為塗佈方法，並無特別限制，可列舉：模嘴塗佈、 棒塗、輥塗、狹縫式塗佈、狹縫式反向塗佈、反向輥塗、凹版塗佈等。對該未硬化樹脂層照射電子束、紫外線等游離輻射而使該未硬化樹脂層硬化，從而於基材膜上形成穩定化層。此處，於使用電子束作為游離輻射之情形時，關於其加速電壓，可根據使用之樹脂的種類或層之厚度而適當選定，通常較佳以加速電壓70~300kV左右使未硬化樹脂層硬化。
於使用紫外線作為游離輻射之情形時，通常放射包含波長190~380nm之紫外線者。作為紫外線源，並無特別限制，例如可使用高壓水銀燈、低壓水銀燈、金屬鹵素燈、碳弧燈等。
其次，較佳使用上述之導電層形成用的游離輻射硬化性樹脂組成物於該穩定化層上形成導電層。該游離輻射硬化性樹脂組成物之塗佈方法及硬化方法與上述之穩定化層的情形相同。
功能層較佳使用上述之游離輻射硬化性樹脂組成物而形成。例如，將上述之游離輻射硬化性樹脂及視需要使用之紫外線吸收劑、通電粒子、其他各種添加劑分別以特定之比例均質地混合，而製備由游離輻射硬化性樹脂組成物構成之塗敷液。將以上述方式製備之塗敷液塗佈於穩定化層上或導電層上，視需要加以乾燥後將其硬化，而可形成由游離輻射硬化性樹脂組成物構成之功能層。該樹脂組成物之塗佈方法及硬化方法與上述之穩定化層的情形相同。
(光學積層體(III)之構成)
此處，使用圖3及圖4對本發明之光學積層體(III)進行說明。圖3及圖4係表示光學積層體(III)之實施形態之一例的剖面示意圖。圖3所示之光學積層體1B依序具有纖維素系基材膜2B、穩定化層5B及導電層6B。 導電層6B較佳為上述之游離輻射硬化性樹脂組成物的硬化物。圖4所示之光學積層體1C依序具有纖維素系基材膜2C、穩定化層5C、導電層6C及功能層7C。導電層6C較佳為上述之游離輻射硬化性樹脂組成物的硬化物。又，圖4所示之功能層7C係含有通電粒子71C之導通性功能層。
具有圖3、圖4之構成的光學積層體由於表面電阻率之面內均一性良好，因此若用於靜電電容式之觸控面板，則可對該觸控面板賦予穩定之動作性，尤其適宜用於搭載有內嵌型之觸控面板的圖像顯示裝置。如上述，於搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示裝置中，由觸控面板表面產生之靜電引起液晶畫面發生白濁之現象。因此，若將圖3、圖4之光學積層體用於搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示元件的前表面，則會賦予防靜電功能，因此可釋放靜電，而可防止上述白濁。
具有圖4之構成之光學積層體1C尤其較佳功能層7C為導通性功能層。導通性功能層中之通電粒子71C可使導通性功能層之表面與導電層6C之間導通，使到達導電層之靜電進而沿厚度方向流動，而對功能層之表面側(操作者側)賦予所需之表面電阻率。進而，表面電阻率之面內均一性及經時穩定性變得良好，而穩定地表現出靜電電容式觸控面板之動作性。
導電層具有朝向面方向(X方向、Y方向)及厚度方向(z方向)之導電性，相對於此，導通性功能層具有厚度方向之導電性即可。因此，導通性功能層於並非必需面方向之導電性之方面而言作用有所不同。
(光學積層體之特性)
本發明之光學積層體(I)~(III)(以下亦將該等簡稱為「本發明之光 學積層體」)就應用於圖像顯示裝置之情形時的目視辨認性之方面而言，波長400nm之穿透率較佳為60%以上，更佳為65%以上。
又，本發明之光學積層體較佳為於波長200~380nm之紫外光區域中，波長380nm之穿透率最大，且波長380nm之穿透率為30%以下，更佳為25%以下。若波長380nm之穿透率為30%以下，則防止由外界光紫外線引起之劣化的效果良好。
光學積層體之穿透率可藉由紫外可見分光光度計等進行測量，具體而言，可藉由實施例記載之方法進行測量。
[前面板]
本發明之前面板依序具有上述之本發明的光學積層體、偏光元件及相位差板。本發明之前面板於應用於下述的圖像顯示裝置時，係以成為如下構成之方式設置：自圖像顯示裝置之目視辨認者側起，依序具有上述之本發明的光學積層體、偏光元件及相位差板，該光學積層體自該目視辨認者側起依序具有上述表面保護層、上述透明導電層及上述基材膜。
圖5所示之前面板10A為本發明的前面板之一例的剖面圖，其依序具有光學積層體1A、偏光元件8A及相位差板9A。1A為光學積層體(I)或(II)。藉由具有此種構成，可賦予作為圖像顯示裝置使用之前面板的必需功能，並且實現薄型化。
圖6所示之前面板10B為本發明的前面板之一例的剖面圖，其依序具有光學積層體1B、偏光元件8B及相位差板9B。1B為光學積層體(III)。藉由具有此種構成，可賦予作為圖像顯示裝置使用之前面板的必需功能，並且實現薄型化。
於圖5所示之構成中，光學積層體1A亦作為偏光元件8A之表面保護膜而發揮功能。又，於圖6所示之構成中，光學積層體1B亦作為偏光元件8B之表面保護膜而發揮功能。因此，藉由將光學積層體1A或1B用於該前面板，可減少以往用作偏光元件之表面保護膜的TAC膜及用於將其與其他層貼合之黏著層，而可將前面板及圖像顯示裝置薄型化。
(偏光元件)
作為構成前面板之偏光元件，只要為具有僅使具有特定振動方向的光透過之功能的偏光元件，則可為任意者，例如可列舉將PVA系膜等進行延伸並以碘或二色性染料等加以染色而成之PVA系偏光元件、PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等多烯系偏光元件、使用膽固醇狀液晶之反射型偏光元件、薄膜結晶膜系偏光元件等。該等中，適宜為藉由水而表現出接著性、無需另行設置接著層而可將相位差板或光學積層體接著之PVA系偏光元件。
作為PVA系偏光元件，例如可列舉使碘或二色性染料等二色性物質吸附於PVA系膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜並進行單軸延伸而成者。該等中，就接著性之觀點而言，可適宜地使用由PVA系膜與碘等二色性物質構成之偏光元件。
構成PVA系膜之PVA系樹脂係將聚乙酸乙烯酯皂化而成者。
偏光元件之厚度較佳為2~30μm，更佳為3~30μm。
(相位差板)
構成前面板之相位差板係由至少具有相位差層之構成組成。作為相位 差層，可列舉：延伸聚碳酸酯膜、延伸聚酯膜、延伸環狀烯烴膜等延伸膜之態樣；含有折射率異向性材料之層之態樣。於前者與後者之態樣中，就控制延遲及薄型化之觀點而言，較佳為後者之態樣。
含有折射率異向性材料之層(以下有時亦簡稱為「含異向性材料層」)可為僅由該層構成相位差板者，亦可為於樹脂膜上具有含異向性材料層之構成。
作為構成樹脂膜之樹脂，可列舉：聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、聚乙烯系樹脂、聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚胺酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚系樹脂、聚醚酮系樹脂、(甲基)丙烯腈系樹脂、環烯烴聚合物、纖維素系樹脂等，該等中可使用一種或兩種以上。該等中，就尺寸穩定性及光學穩定性之觀點而言，較佳為環烯烴聚合物。
作為折射率異向性材料，可列舉棒狀化合物、圓盤狀化合物及液晶分子等。
於使用折射率異向性材料之情形時，可根據折射率異向性材料之配向方向而製成各種類型之相位差板。
例如，可列舉折射率異向性材料之光軸朝向含異向性材料層之法線方向並且沿含異向性材料層之法線方向具有大於尋常光折射率之非尋常光折射率之所謂正C板。
又，於其他態樣中，亦可為折射率異向性材料之光軸與含異向性材料層平行並且沿含異向性材料層之面內方向具有大於尋常光折射率之非尋常光折射率之所謂正A板。
又進而，亦可為藉由設為使液晶分子之光軸與含異向性材料層平行且於法線方向成為螺旋結構之膽固醇配向，而使含異向性材料層整體於相位差層之法線方向上具有小於尋常光折射率之非尋常光折射率之所謂負C板。
進而，亦可製成使具有負雙折射異向性之圓盤型液晶於含異向性材料層之面內方向具有其光軸之負A板。
又進而，亦可為含異向性材料層相對於該層傾斜，或者其角度於垂直於層之方向變化之混合配向板。
此種類型之相位差板例如可藉由日本專利特開2009-053371號公報記載之方法而製造。
相位差板可為由上述之正或負之C板或A板、或混合配向板之任一塊板構成者，亦可為由將該等之一種或兩種以上組合而成之兩塊以上的板構成者。例如，於內嵌觸控面板之液晶元件為VA方式之情形時，較佳組合正A板與負C板而使用，於為IPS方式之情形時，較佳組合正C板與正A板或雙軸板而使用，只要可補償視野角，則可為任意組合，可考慮各種組合而適當選擇。
再者，於將相位差板製成由兩塊以上板構成者之情形時，就薄型化之觀點而言，較佳為將一塊板製成延伸膜、並且於該延伸膜上積層含異向性材料層(另一塊板)之態樣。
相位差板之厚度較佳為25~60μm，更佳為25~30μm。再者，於將相位差板製成由兩塊以上板構成者之情形時，藉由製成將一塊板製成延伸膜、並且於該延伸膜上積層含異向性材料層(另一塊板)之態樣，可容易地使其處於上述厚度範圍內。
本發明之前面板亦可於不妨礙本發明之效果之範圍內具有上述以外之膜或層。但就薄型化或透明性之觀點而言，相位差板、偏光元件及光學積層體較佳不隔著其他層而積層。再者，此處所謂「不隔著其他層而積層」並非意在完全排除介置其他層之情況。例如，並非意在甚至排除如預先設置於基材膜之易接著層般極薄之層。
本發明之前面板之厚度可根據使用之顯示裝置或層構成而適當選擇。於將該前面板用於搭載有內嵌觸控面板之圖像顯示裝置之情形時，該前面板之厚度較佳為90~800μm，更佳為90~500μm，進而較佳為90~350μm。
[前面板之製造方法]
本發明之前面板之製造方法並無特別限制，可藉由利用公知之方法將構成該前面板之構件進行貼合而製造。貼合之方式可為單片方式、連續方式之任一種，就製造效率之方面而言，較佳使用連續方式。
本發明之前面板之製造方法尤其較佳具有藉由輥對輥將光學積層體與偏光元件貼合之步驟。如上述，於本發明之光學積層體中使用環烯烴聚合物作為基材膜之情形時，若該環烯烴聚合物膜為經斜向延伸之膜，則即便於以使本發明之光學積層體與偏光元件之光軸重合之方式將兩者貼合時，亦無需將本發明之光學積層體裁切為斜向單片。因此，變得能夠進行利用輥對輥之連續製造，由裁切為斜向單片引起之浪費亦少，因此就製造成本之方面而言較佳。
例如可列舉：將上述之本發明的光學積層體之基材膜側一面與偏光元件貼合後，藉由輥對輥將該偏光元件與相位差板貼合之方法；將偏光元件 與相位差板貼合後，藉由輥對輥將該偏光元件與本發明的光學積層體之基材膜側一面貼合之方法。
[圖像顯示裝置]
本發明之圖像顯示裝置於顯示元件之目視辨認者側設置有上述之本發明的光學積層體或前面板。該光學積層體或前面板較佳以該光學積層體具有之導電層面朝向目視辨認者側之方式配置。
作為構成圖像顯示裝置之顯示元件，可列舉：液晶顯示元件、電漿顯示元件、無機EL顯示元件、有機EL顯示元件等。該等中，就發揮本發明之效果的觀點而言，較佳為液晶顯示元件或有機EL顯示元件，更佳為液晶顯示元件。
顯示元件之具體的構成並無特別限制。例如於液晶顯示元件之情形時，由依序具有下部玻璃基板、下部透明電極、液晶層、上部透明電極、彩色濾光片及上部玻璃基板之基本構成組成，於超高精細之液晶顯示元件中，該下部透明電極及上部透明電極被高密度地圖案化。
就本發明之效果之方面而言，更佳為上述顯示元件為搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示元件。搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示元件係於在2塊玻璃基板間夾持有液晶而成的液晶顯示元件之內部併入有觸控面板功能者。再者，作為搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示元件之液晶的顯示方式，可列舉：IPS方式、VA方式、多領域(multidomain)方式、OCB方式、STN方式、TSTN方式等。
搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示元件例如於日本專利特開2011-76602號公報、日本專利特開2011-222009號公報中有記載。
作為觸控面板，可列舉：靜電電容式觸控面板、電阻膜式觸控面板、光學式觸控面板、超音波式觸控面板及電磁感應式觸控面板等。就本發明之效果之方面而言，較佳為靜電電容式觸控面板。
電阻膜式觸控面板係以具有導電膜之上下一對透明基板之導電膜彼此相對向之方式隔著間隔件配置而成之構成為基本構成，並且於該基本構成上連接電路而成者。
靜電電容式觸控面板可列舉表面型及投影型等，多使用投影型。投影型之靜電電容式觸控面板係於隔著絕緣體而配置有X軸電極及與該X軸電極正交之Y軸電極之基本構成上連接電路而成者。若進一步具體說明該基本構成，則可列舉：(1)於1塊透明基板上之不同面上形成X軸電極及Y軸電極之態樣；(2)於透明基板上依序形成X軸電極、絕緣體層、Y軸電極之態樣；(3)於透明基板上形成X軸電極，於另一透明基板上形成Y軸電極，並且隔著接著劑層等進行積層之態樣等。又，可列舉於該等基本態樣上進一步積層其他透明基板之態樣。
除此以外，作為搭載有觸控面板之圖像顯示裝置，亦可列舉於顯示元件上具有觸控面板者。於該情形時，本發明之光學積層體可作為觸控面板之構成構件而設置，亦可設置於觸控面板上或其下。
圖7及圖8係表示作為本發明之圖像顯示裝置之較佳實施形態之搭載有內嵌觸控面板的圖像顯示裝置之一實施形態的剖面示意圖。於圖7中，搭載有內嵌觸控面板之圖像顯示裝置100A自目視辨認者側起依序具有表面保護構件11A、上述光學積層體1A、偏光元件8A、相位差板9A及搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示元件12A。光學積層體1A、偏光元件8A 及相位差板9A與前面板10A相對應。又，光學積層體1A自成為目視辨認者側之表面保護構件11A側起依序具有表面保護層4A、透明導電層3A及基材膜2A。
於圖8中，搭載有內嵌觸控面板之圖像顯示裝置100B自目視辨認者側起依序具有表面保護構件11B、上述光學積層體1B、偏光元件8B、相位差板9B及搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示元件12B，光學積層體1B自表面保護構件11B側起依序具有導電層6B、穩定化層5B及纖維素系基材膜2B。
設置表面保護構件11A、11B之目的在於保護搭載有內嵌觸控面板之圖像顯示裝置之表面，例如可使用覆蓋玻璃、或具有含矽膜之表面保護膜等。
搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示元件與前面板例如可經由接著層而貼合。接著層可使用胺酯系、丙烯酸系、聚酯系、環氧系、乙酸乙烯酯系、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、纖維素系等之接著劑。接著層之厚度為10~25μm左右。
此種本發明之搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示裝置藉由具有本發明之光學積層體，而表現出穩定之動作性，同時滿足如上述之防止藉由偏光太陽眼鏡觀察時之虹不均、防止因產生靜電引起之液晶顯示畫面之白濁、保護作為前面板之構成構件之偏光元件及防止由外界光紫外線引起之劣化等各種功能，並且可實現整體之薄型化，就該等方面而言，其為極有用者。再者，於搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示裝置內中，較佳自光學積層體之透明導電層表面起進行接地處理。
[第四發明：光學積層體之製造方法]
第四發明之本發明的光學積層體之製造方法(以下亦稱為「本發明之製造方法」)係依序具有基材膜、透明導電層及表面保護層之光學積層體之製造方法。
詳細而言，本發明之製造方法之特徵在於：其包括隔著黏著層而於基材膜之一面積層背面膜，繼而於該基材膜之另一面依序形成該透明導電層及該表面保護層之步驟，且滿足下述條件(1)(本發明之態樣4-1)。
條件(1)：於將由上述基材膜、上述黏著層及上述背面膜構成之寬25mm、長100mm之積層體自該長度方向之一端起到25mm為止之部分水平地固定，藉由本身重量使剩餘長度75mm之部分變形時，自該積層體之固定部起至長度方向之另一端為止之鉛直距離為45mm以下。
又，本發明之製造方法之特徵在於：其包括隔著黏著層而於基材膜之一面積層背面膜，繼而於該基材膜之另一面依序形成該透明導電層及該表面保護層之步驟，該黏著層及該背面膜之合計厚度為20~200μm，且該背面膜依據JIS K7161-1：2014以拉伸速度5mm/分鐘測得之拉伸彈性率為800N/mm2以上10,000N/mm2以下(本發明之態樣4-2)。
於依序具有基材膜、透明導電層及表面保護層之光學積層體中，於使用無塑性且強度低之基材膜之情形時，存在於在該基材膜上直接形成透明導電層時難以確保該膜之平面性，形成之透明導電層產生厚度不一之情況。若該厚度不一導致面內之表面電阻率產生不均，則於將製造之光學積層體用於搭載有靜電電容式之觸控面板之圖像顯示裝置等時產生動作性變得不穩定等問題。
然而，於本發明之製造方法中，隔著黏著層於該基材膜之一面積層背 面膜而形成滿足特定之條件的積層體，然後於該基材膜之另一面形成透明導電層等(本發明之態樣4-1)。或者於該基材膜之一面積層滿足特定之條件的黏著層及背面膜，然後於該基材膜之另一面形成透明導電層等(本發明之態樣4-2)。藉此，尤其可抑制使用游離輻射硬化性樹脂組成物形成的透明導電層之厚度不一，提高表面電阻率之面內均一性。
尤其是於使用環烯烴聚合物膜作為基材膜之情形時，就提高生產性之觀點而言，本發明之製造方法亦更有效。其原因在於：環烯烴聚合物膜雖然於獲得更優異之光學特性之方面而言，適宜作為基材膜，但由於無塑性、且容易破裂，因此容易產生生產損失。
再者，若背面膜具有透明性，則於將該背面膜貼附於光學積層體之狀態下，不僅可檢查有無異物或缺陷，而且藉由光學手法測量透明導電層之厚度，根據該厚度之不均亦可檢查表面電阻率之面內均一性，由於亦發揮上述效果，故而更佳。尤其就進行線內檢查之方面而言，該方法有用。若可進行線內檢查，則於光學積層體之製造中容易進行步驟管理，可減少生產損失。
作為利用光學手法之上述透明導電層的厚度均一性之測量方法，可列舉：以低角度自透明導電層之斜向入射單色平行光並且目視觀察所觀測之干擾條紋之均一性的方法；或藉由測霧計等測量數處之總光線穿透率的方法；藉由干擾顯微鏡等，利用干擾法測量數處之厚度的方法等。
本發明之態樣4-1之製造方法之特徵在於滿足下述條件(1)。
條件(1)：於將由上述基材膜、上述黏著層及上述背面膜構成之寬25mm、長100mm之積層體自該長度方向之一端起到25mm為止之部分水平 地固定，藉由本身重量使剩餘長度75mm之部分變形時，自該積層體之固定部起至長度方向之另一端為止之鉛直距離為45mm以下。
若上述鉛直距離超過45mm，則作為形成透明導電層之被對象物的積層體之彎曲大，因此難以製造表面電阻率之面內均一性良好的光學積層體。就該觀點而言，上述鉛直距離較佳為40mm以下，更佳為35mm以下。
使用圖9進一步對上述條件(1)所規定之鉛直距離的測量方法進行詳細說明。圖9(a)係由基材膜2D、黏著層13D及背面膜14D構成之寬25mm、長100mm之積層體。以圖9(b)所示之方式，藉由2塊玻璃板g夾持自該積層體之長度方向之一端起到25mm為止之部分B並將其水平固定。然後，藉由本身重量使該積層體之剩餘長度75mm之部分A變形，對自該積層體之固定部起至長度方向之另一端為止之鉛直距離x進行測量。具體而言，鉛直距離x可藉由實施例記載之方法進行測量。於不存在彎曲之情形時，鉛直距離x為0mm。
再者，即便於因裁切積層體之方向(構成積層體之膜之MD方向、TD方向)不同而上述鉛直距離x之值不同之情形時，只要於MD方向、TD方向任一方向上該鉛直距離x為45mm以下即可。
又，於本發明之態樣4-2的製造方法中，上述黏著層及背面膜之合計厚度為20~200μm，且由該黏著層及背面膜構成之積層物依據JIS K7161-1：2014以拉伸速度5mm/分鐘測得之拉伸彈性率為800N/mm2以上10,000N/mm2以下。於低於上述合計厚度或拉伸彈性率之情形時，於在基材膜上形成透明導電層及表面保護層時難以維持膜之平面性。又，於高於上述合計厚度或拉伸彈性率之情形時，透明積層體之加工性降低。又，存 在於貼附有背面膜之狀態下難以藉由光學手法檢查光學積層體之情況。
黏著層及背面膜之合計厚度就維持製造光學積層體時之平面性的觀點而言，較佳為25μm以上，就維持製造光學積層體時之平面性及加工性、檢查之容易性的觀點而言，更佳為25~200μm，進而較佳為30~100μm。
由黏著層及背面膜構成之積層物就於製造光學積層體時維持平面性之觀點而言，較佳彎曲較少。具體而言，於將寬25mm、長100mm之積層物之自該長度方向之一端起到25mm為止之部分水平地固定，藉由本身重量使剩餘長度75mm之部分變形時，較佳自該積層物之固定部至長度方向之另一端為止的鉛直距離為70mm以下。藉此，可製造表面電阻率之面內均一性良好的光學積層體。積層物之該鉛直距離更佳為60mm以下，進而較佳為55mm以下。
該鉛直距離可以與條件(1)同樣之方式進行測量，具體而言，可藉由實施例記載之方法進行測量。再者，於因裁切背面膜之方向(MD方向、TD方向)不同而上述鉛直距離之值不同的情形時，只要於MD方向、TD方向任一方向上該鉛直距離為70mm以下即可。
由黏著層及背面膜構成之積層物的彎曲亦可大於光學積層體使用之基材膜的彎曲。其原因在於：只要可減小由基材膜、黏著層及背面膜構成之積層體之狀態下的彎曲，則可獲得本發明之效果。
由黏著層及背面膜構成之積層物就檢查光學積層體之容易性的觀點而言，較佳總光線穿透率為70%以上且霧度為30%以下，更佳總光線穿透率為85%以上且霧度為10%以下，進而更佳總光線穿透率為90%以上且霧度為5%以下。具體而言，總光線穿透率及霧度可藉由實施例記載 之方法進行測量。
以下，對構成藉由第四發明的本發明之製造方法獲得之光學積層體的各層及本發明之製造方法使用之步驟構件進行說明。
(基材膜)
基材膜係構成光學積層體之構件。第四發明使用之基材膜較佳厚度為4~100μm，且依據JIS K7161-1：2014以拉伸速度5mm/分鐘測得之拉伸彈性率為500N/mm2以上5,000N/mm2以下。由於該基材膜無塑性且強度低，因此於在該膜上直接形成透明導電層時，形成之透明導電層容易產生厚度不一。然而，根據本發明之製造方法，即便使用具有如上述之物性的基材膜，亦可製造表面電阻率之面內均一性良好的光學積層體。
基材膜之厚度就獲得本發明之效果之觀點、強度、加工適性及設置光學積層體之前面板及圖像顯示裝置之薄型化的觀點而言，更佳為4~80μm之範圍，進而較佳為4~60μm，進而更佳為4~50μm。
又，基材膜之上述拉伸彈性率就光學積層體之強度的觀點而言，更佳為800N/mm2以上，進而較佳為1,000N/mm2以上，就本發明之效果之有效性的觀點而言，更佳為4,000N/mm2以下，進而較佳為3,000N/mm2以下。具體而言，上述拉伸彈性率可藉由實施例記載之方法進行測量。
又，第四發明使用之基材膜亦可為彎曲大者。具體而言，可使用於將寬25mm、長100mm之基材膜之自該長度方向之一端起到25mm為止之部分水平地固定，藉由本身重量使剩餘長度75mm之部分變形時，自該膜之固定部起至長度方向之另一端為止之鉛直距離超過45mm之基材膜。於在該膜上直接形成透明導電層時，形成之透明導電層容易產生厚度 不一，但根據本發明之製造方法，即便使用具有如上述物性之基材膜，亦可製造表面電阻率之面內均一性良好的光學積層體。再者，於因裁切基材膜之方向(MD方向、TD方向)不同而上述鉛直距離之值不同的情形時，只要於MD方向、TD方向任一方向上該鉛直距離超過45mm即可。
該鉛直距離可以與條件(1)同樣之方式進行測量，具體而言，可藉由實施例記載之方法進行測量。
第四發明使用之基材膜的種類及其較佳之態樣與光學積層體(I)中記載者相同。即，基材膜較佳為具有透光性之膜，更佳為延遲值3000~30000nm之塑膠膜(高延遲膜)或1/4波長相位差之塑膠膜(1/4波長相位差膜)，進而較佳為環烯烴聚合物膜。環烯烴聚合物膜之透明性、低吸濕性、耐熱性優異。其中，該環烯烴聚合物膜較佳為經斜向延伸之1/4波長相位差膜。若環烯烴聚合物膜為1/4波長相位差膜，則如上述般以偏光太陽眼鏡觀察液晶畫面等顯示畫面時可防止產生虹不均之效果高，因此目視辨認性良好。又，若環烯烴聚合物膜為經斜向延伸之膜，則即便於以使使用該基材膜之光學積層體與構成前面板之偏光元件之光軸重合的方式將兩者貼合時，亦無需將該光學積層體裁切為斜向單片。因此，變得能夠進行利用輥對輥之連續製造，並且發揮出因裁切為斜向單片引起之浪費減少的效果。
通常之已實施延伸處理之延伸膜的光軸之朝向相對於其寬度方向為平行方向或正交方向。因此，為了以使直線偏光元件(偏光元件)之透過軸與1/4波長相位差膜之光軸重合的方式進行貼合，必須將該膜裁切為斜向單片。因此，製造步驟變得繁雜，而且由於進行斜向裁切，因此浪費之膜 較多。又，無法藉由輥對輥進行製造，難以連續製造。然而，藉由使用斜向延伸膜作為基材膜可解決該等問題。
作為環烯烴聚合物，可列舉：降莰烯系樹脂、單環之環狀烯烴系樹脂、環狀共軛二烯系樹脂、乙烯基脂環烴系樹脂及該等之氫化物等。其中，就透明性及成形性之觀點而言，較佳為降莰烯系樹脂。
作為降莰烯系樹脂，可列舉：具有降莰烯結構之單體的開環聚合物或具有降莰烯結構之單體與其他單體的開環共聚物或該等之氫化物；具有降莰烯結構之單體的加成聚合物或具有降莰烯結構之單體與其他單體的加成共聚物或該等之氫化物等。
斜向延伸膜之配向角相對於膜之寬度方向，較佳為20~70°，更佳為30~60°，進而較佳為40~50°，尤佳為45°。其原因在於：若斜向延伸膜之配向角為45°，則成為完全之圓偏光。又，即便於以使光學積層體與偏光元件之光軸重合的方式進行貼合時，亦無需裁切為斜向單片，變得能夠進行利用輥對輥之連續製造。
(透明導電層)
構成第四發明使用之透明導電層的材料並無特別限制，透明導電層較佳含有游離輻射硬化性樹脂與導電性粒子之游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物。其中，就表面電阻率之面內均一性及經時穩定性、以及使用環烯烴聚合物膜作為基材膜之情形時的密接性優異之方面而言，透明導電層更佳為含有分子內具有脂環式結構之游離輻射硬化性樹脂(A)與導電性粒子之游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物。
又，透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物亦可含有上述游 離輻射硬化性樹脂(A)以外之游離輻射硬化性樹脂(B)。藉由將游離輻射硬化性樹脂(A)與游離輻射硬化性樹脂(B)組合使用，可提高樹脂組成物之硬化性及塗敷性、以及形成之透明導電層的硬度、耐候性等，就該方面而言較佳。
構成透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物之各成分及其較佳之態樣與光學積層體(I)之透明導電層中記載者相同。
使用上述游離輻射硬化性樹脂組成物獲得之透明導電層較佳即便減小厚度，亦可賦予充分之導電性，著色少，透明性良好，耐候性優異，導電性之經時性變化少。
例如，於設置於搭載有靜電電容式之內嵌觸控面板之液晶顯示元件的前表面之透明導電層中，就使觸控面板穩定地動作之觀點及於以手指觸摸等時防止因觸控面板表面產生之靜電引起之液晶畫面之白濁的觀點而言，較佳將表面電阻率之平均值設為1.0×107Ω/□以上1.0×1010Ω/□以下。表面電阻率可藉由與光學積層體(I)中記載之方法同樣之方法進行測量。
透明導電層之厚度就於不損及透明性之情況下賦予所需之導電性的方面而言，較佳為0.1~10μm，更佳為0.3~5μm，進而較佳為0.3~3μm。透明導電層之厚度可藉由與光學積層體(I)中記載之方法同樣之方法進行測量。
(表面保護層)
藉由第四發明而製造之光學積層體就防止前面板或圖像顯示裝置之製造步驟上之損傷的觀點而言具有表面保護層。
如下述之圖像顯示裝置(圖12)所例示般，假定該表面保護層位於較 設置於圖像顯示裝置之最表面的表面保護構件更靠內側之位置。因此，該表面保護層與用以防止圖像顯示裝置之最表面之損傷的硬塗層不同，只要具有於前面板或圖像顯示裝置之製造步驟中不損傷之程度的硬度即可。
表面保護層就對光學積層體之表面賦予硬度、防止前面板或圖像顯示裝置之製造步驟上之損傷的觀點而言，較佳為含有游離輻射硬化性樹脂之游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物。
構成表面保護層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物之各成分及其較佳之態樣與光學積層體(I)之表面保護層中記載者相同。
表面保護層之厚度可根據光學積層體之用途或要求特性而適當選擇，就硬度、加工適性及使用光學積層體之顯示裝置的薄型化之觀點而言，較佳為1~30μm，更佳為2~20μm，進而較佳為2~10μm。表面保護層之厚度可藉由與上述之透明導電層之厚度同樣的方法進行測量。
第四發明中之光學積層體可於任意部位進而具有功能層。作為該功能層，可列舉：防反射層、折射率調整層、防眩層、耐指紋層、防污層、耐擦傷性層、抗菌層等。該等功能層於設置於光學積層體之最表面的情形時，就防止前面板或圖像顯示裝置之製造步驟上之損傷的觀點而言，較佳為熱硬化性樹脂組成物或游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物，更佳為游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物。
(背面膜)
於第四發明之本發明之製造方法中，首先，隔著黏著層於上述之基材膜之一面積層背面膜。藉此，即便於使用無塑性且強度低之基材膜作為光 學積層體之構成構件之情形時，亦可於製造該光學積層體時維持平面性，因此可保持光學積層體之表面電阻率之面內均一性。
若使用背面膜，則尤其是於使用表面平滑性高之膜作為基材膜之情形時，亦可防止捲取光學積層體時之黏連，故而較佳。又，若背面膜具有高透明性，則即便於貼附有該膜之狀態下亦可藉由光學手法容易地檢查光學積層體有無異物或缺陷及透明導電層之厚度的均一性等，故而更佳。
作為背面膜，可使用聚對酞酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)等聚酯系樹脂膜、聚丙烯(PP)等聚烯烴系樹脂膜等。就獲得本發明之效果的觀點而言，較佳為聚酯系樹脂膜，更佳為聚對酞酸乙二酯(PET)膜。又，就製造光學積層體時之操作性的觀點而言，較佳該等膜具有防靜電性。
(黏著層)
背面膜係隔著黏著層而與光學積層體之基材膜側一面積層。該黏著層及背面膜係最終自光學積層體剝離之構件。因此，該黏著層較佳背面膜之接著性優異，並且容易自基材膜剝離。
就上述觀點而言，黏著層之厚度較佳為3~30μm，更佳為10~25μm。若黏著層之厚度為3μm以上，則與背面膜之接著性良好，若為30μm以下，則背面膜與基材膜之間的剝離性良好。
黏著層之厚度可藉由與上述之透明導電層之厚度同樣的方法進行測量。
作為用以形成黏著層之黏著劑，並無特別限制，可使用胺酯系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、聚酯系黏著劑等公知之黏著劑。其中，就於 積層有背面膜之狀態下使光學積層體之檢查變得容易的觀點而言，較佳為總光線穿透率高且霧度小之黏著劑，較佳為丙烯酸系黏著劑。
於本發明之製造方法中，例如，將上述黏著劑以成為所需之厚度的方式塗敷於背面膜之一面，視需要加以乾燥而形成黏著層。其次，於該黏著層上貼附剝離片而捲取後，一面將該剝離片剝離一面將其與基材膜之一面貼合，而可隔著黏著層而積層基材膜與背面膜。或者將上述黏著劑以成為所需之厚度的方式塗敷於背面膜之一面，視需要加以乾燥並且與基材膜貼合，藉此可隔著黏著層而積層基材膜與背面膜。
其次，較佳使用上述之透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物於該基材膜之另一面形成透明導電層，並且於其上形成表面保護層。首先，藉由上述之方法製備透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物後，以硬化後成為所需之厚度的方式將其塗佈於基材膜上。作為塗佈方法，並無特別限制，可列舉：模嘴塗佈、棒塗、輥塗、狹縫式塗佈、狹縫式反向塗佈、反向輥塗、凹版塗佈等。進而，視需要加以乾燥，而於基材膜上形成未硬化樹脂層。
其次，對該未硬化樹脂層照射電子束、紫外線等游離輻射而使該未硬化樹脂層硬化，從而形成透明導電層。此處，於使用電子束作為游離輻射之情形時，關於其加速電壓，可根據使用之樹脂或層之厚度而適當選定，通常較佳以加速電壓70~300kV左右使未硬化樹脂層硬化。
於使用紫外線作為游離輻射之情形時，通常放射包含波長190~380nm之紫外線者。作為紫外線源，並無特別限制，例如可使用高壓水銀燈、低壓水銀燈、金屬鹵素燈、碳弧燈等。
表面保護層較佳使用上述之表面保護層形成用游離輻射硬化性樹脂組成物而形成。例如，將上述之游離輻射硬化性樹脂及視需要使用之紫外線吸收劑、通電粒子、其他各種添加劑分別以特定之比例均質地混合，而製備由游離輻射硬化性樹脂組成物構成之塗敷液。將以上述方式製備之塗敷液塗佈於透明導電層上，視需要加以乾燥後將其硬化，而可形成由游離輻射硬化性樹脂組成物構成之表面保護層。樹脂組成物之塗佈方法及硬化方法與上述之透明導電層的形成方法相同。
[透明積層體]
第四發明之透明積層體係於基材膜之一面自該基材膜側起依序具有黏著層及背面膜，於該基材膜之另一面自該基材膜側起依序具有透明導電層及表面保護層，且滿足下述條件(1)者。
條件(1)：於將由上述基材膜、上述黏著層及上述背面膜構成之寬25mm、長100mm之積層體自該長度方向之一端起到25mm為止之部分水平地固定，藉由本身重量使剩餘長度75mm之部分變形時，自該積層體之固定部起至長度方向之另一端為止之鉛直距離為45mm以下。
或者第四發明之透明積層體於基材膜之一面自該基材膜側起依序具有黏著層及背面膜，於該基材膜之另一面自該基材膜側起依序具有透明導電層及表面保護層，該黏著層及該背面膜之合計厚度為20~200μm，且由該黏著層及該背面膜構成之積層物依據JIS K7161-1：2014以拉伸速度5mm/分鐘測得之拉伸彈性率為800N/mm2以上10,000N/mm2以下。
第四發明之透明積層體較佳藉由上述之方法而製造。又，該透明積層體中之基材膜、黏著層、背面膜、透明導電層、表面保護層、積層體及該 等之較佳之範圍與上述相同。
<光學積層體及透明積層體之層構成>
此處，使用圖10對第四發明中之光學積層體及透明積層體進行說明。圖10係表示藉由第四發明而獲得之光學積層體及第四發明之透明積層體的實施形態之一例的剖面示意圖。圖10所示之光學積層體1D依序具有基材膜2D、透明導電層3D及表面保護層4D。透明導電層3D較佳為上述之游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物。又，圖10所示之表面保護層4D為含有通電粒子41D之導通性表面保護層。
又，第四發明之透明積層體1'係於光學積層體1D之基材膜側一面依序具有黏著層13D及背面膜14D之構成。
第四發明之透明積層體由於具有上述構成，因此可保護光學積層體之基材膜側一面，並且容易地進行利用光學手法之光學積層體的檢查。就檢查之容易性的觀點而言，第四發明之透明積層體較佳為總光線穿透率在70%以上且霧度在30%以下，更佳為總光線穿透率在80%以上且霧度在10%以下。具體而言，總光線穿透率及霧度可藉由實施例記載之方法進行測量。
又，藉由本發明之製造方法獲得之光學積層體1D由於表面電阻率之面內均一性良好，因此若用於靜電電容式之觸控面板，則可對該觸控面板賦予穩定之動作性，尤其適宜用於搭載有內嵌型之觸控面板的圖像顯示裝置。又，如上述，於搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示裝置中，由觸控面板表面產生之靜電引起液晶畫面發生白濁之現象。因此，若將該光學積層體用於搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示元件之前表面，則會賦予防 靜電功能，因此可釋放靜電，而可防止上述白濁。
尤其較佳具有透明導電層3D的光學積層體之表面保護層1D為導通性表面保護層。導通性表面保護層中之通電粒子41D可使導通性表面保護層之表面與透明導電層3D之間導通，使到達透明導電層之靜電進而沿厚度方向流動，而對表面保護層之表面側(操作者側)賦予所需之表面電阻率。進而，表面電阻率之面內均一性及經時穩定性變得良好，而穩定地表現出靜電電容式觸控面板之動作性。
[前面板之製造方法]
又，第四發明亦提供前面板之製造方法。該前面板依序具有表面保護層、透明導電層、基材膜、偏光元件及相位差板。表面保護層、透明導電層及基材膜與上述之光學積層體之構成構件相對應。
圖11係第四發明中之前面板10D的一例之剖面圖，其依序具有由表面保護層4D、透明導電層3D及基材膜2D構成之光學積層體1D、偏光元件8D及相位差板9D。藉由具有此種構成，可賦予作為圖像顯示裝置使用之前面板的必需功能，並且實現薄型化。
第四發明中之前面板之製造方法具有將上述透明積層體之黏著層及背面膜剝離，並藉由輥對輥將該透明積層體中之基材膜側一面與偏光元件貼合之步驟。即該製造方法之特徵在於具有如下步驟：將透明積層體之黏著層及背面膜剝離而去除，並藉由輥對輥將露出之光學積層體1D之基材膜2D側一面與偏光元件8D貼合。如上述，於使用環烯烴聚合物作為光學積層體中之基材膜的情形時，若該環烯烴聚合物膜為經斜向延伸之膜，則即便於以使光學積層體與偏光元件之光軸重合之方式將兩者貼合 時，亦無需將該光學積層體裁切為斜向單片。因此，變得能夠進行利用輥對輥之連續製造，由裁切為斜向單片引起之浪費亦少，因此就製造成本之方面而言較佳。又，於利用輥對輥方式之製造中，由於在步驟中對光學積層體施加張力，因此於使用如環烯烴聚合物膜般容易破裂之基材膜之情形時，第四發明之前面板之製造方法更有效。
具體而言，例如可列舉：將黏著層及背面膜自上述之第四發明的透明積層體剝離，將露出之光學積層體的基材膜側一面與偏光元件貼合後，藉由輥對輥將該偏光元件與相位差板貼合之方法；將偏光元件與相位差板貼合後，藉由輥對輥將該偏光元件與將黏著層及背面膜自第四發明之透明積層體剝離而露出之光學積層體的基材膜側一面貼合之方法。
構成第四發明中之前面板之偏光元件、相位差板、其他層及該等之較佳態樣與上述相同。
藉由第四發明之製造方法而獲得之光學積層體或前面板可應用於圖像顯示裝置。該圖像顯示裝置及其較佳之態樣與上述相同，較佳為搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示裝置。
圖12係表示作為圖像顯示裝置之較佳實施形態之搭載有內嵌觸控面板的圖像顯示裝置之一實施形態的剖面示意圖。於圖12中，搭載有內嵌觸控面板之圖像顯示裝置100D自目視辨認者側依序具有表面保護構件11D、光學積層體1D、偏光元件8D、相位差板9D及搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示元件12D。光學積層體1D、偏光元件8D及相位差板9D與前面板10D相對應。又，光學積層體1D自成為目視辨認者側之表面保護構件11D側起依序具有表面保護層4D、透明導電層3D及基材膜2D。
設置表面保護構件11D之目的在於保護搭載有內嵌觸控面板的圖像顯示裝置之表面，例如可使用覆蓋玻璃、或具有含矽膜之表面保護膜等。
搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示元件與前面板例如可經由接著層而貼合。接著層可使用胺酯系、丙烯酸系、聚酯系、環氧系、乙酸乙烯酯系、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、纖維素系等之接著劑。接著層之厚度為10~25μm左右。
此種搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示裝置藉由具有利用第四發明之製造方法獲得之光學積層體，而表現出穩定之動作性，同時滿足如上述之防止藉由偏光太陽眼鏡觀察時之虹不均、防止因產生靜電引起之液晶顯示畫面之白濁、保護作為前面板之構成構件之偏光元件及防止由外界光紫外線引起之劣化等各種功能，並且可實現整體之薄型化，就該等方面而言，其為極有用者。
實施例
繼而，藉由實施例進一步對本發明進行詳細說明，但本發明並不受該等例任何限定。於實施例中，只要無特別說明，則「份」及「%」為質量基準。
實施例1-1~1-5、比較例1-1~1-3(光學積層體(I)之製作及評價)
實施例1-1~1-5及比較例1-1~1-3中之各評價係以如下方式進行。
[透明導電層及表面保護層之厚度]
透明導電層及表面保護層之厚度係自使用掃描穿透式電子顯微鏡 (STEM)拍攝之剖面的圖像中測量20處之厚度，並且根據20處之值的平均值而算出。
[透明導電層及表面保護層之密接性]
於實施例及比較例中製作之光學積層體的表面保護層側之面上切出100格之1mm見方柵格，貼上Nichiban製造之Sellotape(註冊商標)No.405(產業用24mm)，以刮刀刮擦而使其密接，沿90度方向進行3次急速剝離。剝離作業係於溫度25±4℃、濕度50±10%之環境下進行。目視確認殘留之網格，以%表示於表中。
[光學積層體之穿透率]
使用紫外可見分光光度計「UVPC-2450」(島津製作所股份有限公司製造)測量實施例及比較例中製作之光學積層體於波長400nm及380nm之穿透率。測量係於溫度25±4℃、濕度50±10%之環境下進行，光入射面設為基材膜側。
[表面電阻率]
依據JIS K6911：1995，測量剛製造後之光學積層體的表面保護層面之表面電阻率(Ω/□)。使用高電阻率計Hiresta-UP MCP-HT450(三菱化學股份有限公司製造)，探針係使用URS探針MCP-HTP14(三菱化學股份有限公司製造)，於溫度25±4℃、濕度50±10%之環境下，在500V之施加電壓，實施表面電阻率(Ω/□)之測量。
[表面電阻率之平均值及標準偏差]
將光學積層體切成80cm×120cm(面積：56.8吋)，如圖1所示，於其表面保護層面側，作沿縱向及橫向分別將距該光學積層體之外周1.5cm之 內側之區域(a)內進行4等分之直線(b)，於區域(a)之頂點、直線(b)彼此之交點及構成區域(a)之四邊與直線(b)之交點處，依據JIS K6911：1995測量表面電阻率，求出合計25點之測量值的平均值及標準偏差。測量使用高電阻率計Hiresta-UP MCP-HT450(三菱化學股份有限公司製造)，探針係使用URS探針MCP-HTP14(三菱化學股份有限公司製造)，於溫度25±4℃、濕度50±10%之環境下，在500V之施加電壓進行。
[表面電阻率之經時穩定性]
藉由與上述同樣之方法於合計25點測量將光學積層體於80℃保持250小時後之表面電阻率(Ω/□)。於各測量點算出(於80℃保持250小時後之表面電阻率)/(於80℃保持250小時前之剛製造後之表面電阻率)之比，按照下述基準進行評價。
A：於全部測量點，表面電阻率比為0.50~2.0之範圍
B：於全部測量點，表面電阻率比為0.40~2.5之範圍，且該表面電阻率比為0.40以上且未達0.50或超過2.0且為2.5以下之測量點至少存在1點
C：表面電阻率比未達0.40或超過2.5之測量點至少存在1點
[目視辨認性]
經由厚度20μm之接著層(轉印有大日本印刷股份有限公司製造之雙面接著片「Non-carrier FC25K3E46」之接著層者)將實施例及比較例中獲得之光學積層體貼合於組裝入Sony Ericsson公司製造之「Xperia P」中之搭載靜電電容式之內嵌觸控面板的液晶顯示元件上。使畫面成為白顯示或大致白顯示，對通過市售之偏光太陽眼鏡、或通過偏光板自各種角度是否可以藉由目視來目視辨認到虹不均(虹紋)進行評價。
A：無法目視辨認到虹紋
B：可目視辨認到虹紋
[液晶畫面之白濁]
經由厚度20μm之接著層(轉印有大日本印刷股份有限公司製造之雙面接著片「Non-carrier FC25K3E46」之接著層者)將實施例及比較例之光學積層體貼合於組裝入Sony Ericsson公司製造之「Xperia P」中之搭載靜電電容式之內嵌觸控面板之液晶顯示元件上後，將固定於光學積層體之透明導電層上之導線連接於導電性構件上。繼而，於光學積層體之最表面上進而貼合保護膜(PET膜)。繼而，將貼合之保護膜去除並立即驅動液晶顯示裝置，藉由目視評價於以手觸碰時是否產生白濁現象。
A：無法目視辨認到白濁
B：有時亦會目視辨認到少許白濁，但極為微觀
C：明顯地目視辨認到白濁
[動作性]
經由厚度20μm之接著層(轉印有大日本印刷股份有限公司製造之雙面接著片「Non-carrier FC25K3E46」之接著層者)將實施例及比較例之光學積層體貼合於上述之搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示元件上。繼而，藉由目視評價於自光學積層體之最表面上以手觸碰時液晶-觸控感測器是否會無異常地驅動。
A：無問題地驅動
B：有時可見稍有動作不良，但會驅動
C：不進行動作
製造例1(透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物A之製備)
添加作為游離輻射硬化性樹脂(A)之丙烯酸二環戊烯基酯(日立化成股份有限公司製造之「FA-511AS」)50質量份、作為游離輻射硬化性樹脂(B)之新戊四醇三丙烯酸酯(日本化藥股份有限公司製造之「KAYARAD PET-30」)50質量份、作為導電性粒子之氧化銻錫粒子(日揮觸媒化成股份有限公司製造之「V3560」，ATO分散液，ATO平均一次粒徑8nm)300質量份、作為光聚合起始劑之1-羥基-環己基-苯基-甲酮(BASF公司製造之「Irgacure(Irg)184」)5質量份及溶劑(甲基異丁基酮)4000質量份並加以攪拌，而製備固體成分濃度10質量%之透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物A。
製造例2(透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物B之製備)
使用甲基丙烯酸二環戊酯(日立化成股份有限公司製造之「FA-513M」)50質量份代替丙烯酸二環戊烯基酯50質量份作為游離輻射硬化性樹脂(A)，除此以外，以與上述游離輻射硬化性樹脂組成物A同樣之方式製備透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物B。
製造例3(表面保護層形成用游離輻射硬化性樹脂組成物A之製備)
將作為游離輻射硬化性樹脂之新戊四醇三丙烯酸酯(日本化藥股份有限公司製造之「PET-30」)100質量份、與三系紫外線吸收劑(BASF公司製造之「Tinuvin460」)10質量份以固體成分濃度成為40質量%之方式添 加至甲基異丁基酮中並加以攪拌，而獲得溶液a。
繼而，相對於溶液a之固體成分100質量份，添加光聚合起始劑(BASF公司製造之「Irgacure(Irg)184」)7質量份、光聚合起始劑(BASF公司製造之「Lucirin TPO」)1.5質量份並加以攪拌而使其溶解，從而製備最終固體成分濃度為40質量%之溶液b。
繼而，相對於溶液b之固體成分100質量份，添加以固體成分比計為0.4質量份之調平劑(DIC股份有限公司製造之「Megafac RS71」)並加以攪拌。進而，相對於該溶液之固體成分100質量份，添加以固體成分計為2.5質量份之作為通電粒子之鍍金粒子的分散液(DNP Fine Chemical股份有限公司製造，光亮分散液，鍍金粒子之平均一次粒徑4.6μm，固體成分濃度25質量%)並進行攪拌，從而製備表面保護層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物A。
實施例1-1(光學積層體(I)之製作)
[透明導電層之形成]
使用厚度100μm之環烯烴聚合物膜(日本傑恩股份有限公司製造之「ZF14」，1/4波長相位差膜)作為基材膜，藉由狹縫式反向塗佈法，以乾燥後之厚度成為1μm之方式於該膜上塗佈上述之透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物A而形成未硬化樹脂層。將獲得之未硬化樹脂層於80℃乾燥1分鐘後，以紫外線照射量300mJ/cm2照射紫外線而使其硬化，從而形成厚度1.0μm之透明導電層。
[表面保護層之形成]
藉由狹縫式反向塗佈，以乾燥後之厚度成為4.5μm之方式於上述透明 導電層上塗佈上述之表面保護層形成用游離輻射硬化性樹脂組成物A而形成未硬化樹脂層。將獲得之未硬化樹脂層於80℃乾燥1分鐘後，以紫外線照射量300mJ/cm2照射紫外線而使其硬化，形成厚度4.5μm之表面保護層，從而獲得光學積層體。
對獲得之光學積層體進行上述評價。將評價結果示於表1。
實施例1-2
將透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物A變更為上述之游離輻射硬化性樹脂組成物B，除此以外，以與實施例1-1同樣之方式製作光學積層體，並進行上述評價。將評價結果示於表1。
實施例1-3
將基材膜變更為厚度100μm之聚對酞酸乙二酯(PET)膜(東洋紡股份有限公司製造之「COSMOSHINE A4100」，光學異向性膜)，除此以外，以與實施例1-1同樣之方式製作光學積層體，並進行上述評價。將評價結果示於表1。
實施例1-4
如表1所示般變更透明導電層之厚度，除此以外，以與實施例1-3同樣之方式製作光學積層體，並進行上述評價。將評價結果示於表1。
實施例1-5
如表1所示般變更透明導電層之厚度，除此以外，以與實施例1-1同樣之方式製作光學積層體，並進行上述評價。將評價結果示於表1。
比較例1-1
如表1所示般變更表面保護層之厚度，除此以外，以與實施例1-1同樣 之方式製作光學積層體，並進行上述評價。將評價結果示於表1。
比較例1-2
如表1所示般變更透明導電層之厚度，除此以外，以與比較例1-1同樣之方式製作光學積層體，並進行上述評價。將評價結果示於表1。
比較例1-3
將基材膜變更為厚度80μm之三乙醯纖維素(TAC)膜(富士軟片股份有限公司製造之「TD80UL」)，除此以外，以與實施例1-1同樣之方式製作光學積層體，並進行上述評價。將評價結果示於表1。
根據表1可知，本發明之光學積層體(I)於應用於靜電電容式觸控面板時動作性良好，又，經時穩定性、目視辨認性亦優異。
實施例2-1~2-2、比較例2-1~2-2(光學積層體(II)之製作及評價)
實施例2-1~2-2及比較例2-1~2-2中之各評價係以如下方式進行。
再者，透明導電層及表面保護層之厚度、密接性、光學積層體之穿透率、表面電阻率、表面電阻率之平均值及標準偏差之評價方法與上述相同。
[伸長率]
僅將環烯烴聚合物膜、或者將實施例及比較例中製作之光學積層體切成寬5mm、長20mm而製作試片。使用動態黏彈性測量裝置「Rheogel-E4000」(UBM股份有限公司製造)，對該試片於溫度150℃的伸長率進行測量。測量條件如下所述。
(測量條件)
頻率：10Hz
拉伸荷重：50N
激振狀態：連續激振
應變控制：10μm
測量溫度範圍：25℃~200℃
升溫速度：2℃/分鐘
[應變值]
將實施例及比較例中製作之基材膜與透明導電層之積層物切成寬15mm、長150mm而製作試片。將該試片設置於拉伸試驗機上，依據JIS K7161-1：2014進行拉伸試驗。標線間距離設為50mm，於溫度23±2℃、拉伸速度0.5mm/分鐘以一定速度進行拉伸，測量伸長值(mm)與荷重(N)， 根據下述式算出應變值及應力。進行5次測量，求出應力-應變曲線之上降伏點處之應變值的平均值。
應變值(%)=伸長值(mm)/50(mm)×100
應力(MPa)=荷重(N)/積層物之剖面面積(mm2)
實施例2-1(光學積層體(II)之製作)
[透明導電層之形成]
使用厚度100μm之環烯烴聚合物膜(日本傑恩股份有限公司製造之「ZF14」，1/4波長相位差膜)作為基材膜，藉由狹縫式反向塗佈法，以乾燥後之厚度成為1.0μm之方式於該膜上塗佈上述之透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物A而形成未硬化樹脂層。將獲得之未硬化樹脂層於80℃乾燥1分鐘後，以紫外線照射量300mJ/cm2照射紫外線而使其硬化，從而形成厚度1.0μm之透明導電層。
[表面保護層之形成]
藉由狹縫式反向塗佈，以乾燥後之厚度成為4.5μm之方式於上述透明導電層上塗佈上述之表面保護層形成用游離輻射硬化性樹脂組成物A而形成未硬化樹脂層。將獲得之未硬化樹脂層於80℃乾燥1分鐘後，以紫外線照射量300mJ/cm2照射紫外線而使其硬化，形成厚度4.5μm之表面保護層，從而獲得光學積層體。
對獲得之光學積層體進行上述評價。將評價結果示於表2。
實施例2-2、比較例2-1~2-2
將構成光學積層體之材料及構成變更為如表2所示者，除此以外，藉由與實施例2-1同樣之方法製作光學積層體，並進行上述評價。將結果示於 表2。
再者，表2所示之各成分如下所述。表2所示之質量份係以固體成分換算計之質量份。
．環烯烴聚合物膜
COP1；日本傑恩股份有限公司製造之「ZF14」，厚度：100μm，於溫度150℃的伸長率：9.9%
COP2；日本傑恩股份有限公司製造之「ZD12」，厚度：47μm，於溫度150℃的伸長率：12%
COP3；日本傑恩股份有限公司製造之「ZD16」，厚度：60μm，於溫度150℃的伸長率：3.3%
．游離輻射硬化性樹脂(A)
丙烯酸二環戊烯基酯；日立化成股份有限公司製造之「FA-511AS」
．游離輻射硬化性樹脂(B)
新戊四醇三丙烯酸酯：日本化藥股份有限公司製造之「PET-30」，3~4官能之聚合性單體，重量平均分子量298
．導電性粒子
氧化銻錫粒子(日揮觸媒化成股份有限公司製造之「V3560」，ATO分散液，ATO平均一次粒徑8nm)
．光聚合起始劑
1-羥基-環己基-苯基-甲酮：BASF公司製造之「Irgacure(Irg)184」
．溶劑
甲基異丁基酮(MIBK)
[參考例：紅外分光光譜之測量]
使用實施例2-1使用之環烯烴聚合物膜及透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物A。藉由狹縫式反向塗佈法，以乾燥後之厚度成為1.0μm之方式於實施例2-1使用之環烯烴聚合物膜(日本傑恩股份有限公司製造之「ZF14」)上塗佈透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物A而形成未硬化樹脂層。將獲得之未硬化樹脂層於80℃乾燥1分鐘後，以紫外線照射量300mJ/cm2照射紫外線而使其硬化。藉由手術刀採集獲得之硬化層，利用穿透法以紅外分光光度計(Thermo Fisher Scientific股份有限公司製造之「NICOLET 6700」)測量IR光譜(圖13)。
另一方面，相對於透明導電層形成用游離輻射樹脂組成物A所含之游 離輻射硬化性樹脂(A)(FA-511AS)100質量份，添加作為光聚合起始劑之「Irgacure 184」5質量份而製作游離輻射硬化性樹脂組成物A1之硬化物，相對於游離輻射硬化性樹脂(B)(PET-30)100質量份，添加作為光聚合起始劑之「Irgacure 184」5質量份而製作游離輻射硬化性樹脂組成物B1之硬化物，藉由同樣之方法製作硬化層並進行採集，藉由穿透法測量IR光譜(圖14、15)。
根據圖13~15可知，於採集透明導電層而測得之IR光譜(圖13)中，幾乎未見圖14所示之來自游離輻射硬化性樹脂(A)中之脂環式結構之3000cm-1左右的吸收。由此可預測，游離輻射硬化性樹脂(A)選擇性地移動至環烯烴聚合物膜側而將其潤濕。
實施例3-1~3-4、比較例3-1~3-2(光學積層體(III)之製作及評價)
實施例3-1~3-4及比較例3-1~3-2中之各評價係以如下方式進行。
再者，光學積層體之穿透率及動作性的評價方法與上述相同。
[導電層及穩定化層之厚度]
導電層及穩定化層之厚度係自使用掃描穿透式電子顯微鏡(STEM)拍攝之剖面的圖像中測量20處之厚度，並且根據20處之值的平均值而算出。
[導電層及穩定化層之密接性]
於實施例及比較例中製作之光學積層體的導電層側之面切割100格之1mm見方柵格，貼上Nichiban製造之Sellotape(註冊商標)No.405(產業用24mm)，以刮刀刮擦而使其密接，沿90度方向進行3次急速剝離。剝離作業係於溫度25±4℃、濕度50±10%之環境下進行。目視確認殘留之網格，以 %表示於表3中。
[表面電阻率]
依據JIS K6911：1995，測量剛製造後之光學積層體的導電層面之表面電阻率(Ω/□)。使用高電阻率計Hiresta-UP MCP-HT450(三菱化學股份有限公司製造)，探針係使用URS探針MCP-HTP14(三菱化學股份有限公司製造)，於溫度25±4℃、濕度50±10%之環境下，在500V之施加電壓，實施表面電阻率(Ω/□)之測量。
[表面電阻率之平均值及標準偏差]
將光學積層體切成80cm×120cm(面積：56.8吋)，如圖1所示，於其導電層面側，作沿縱向及橫向分別將距該光學積層體之外周1.5cm之內側之區域(a)內進行4等分之直線(b)，於區域(a)之頂點、直線(b)彼此之交點及構成區域(a)之四邊與直線(b)之交點處，依據JIS K6911：1995測量表面電阻率，求出合計25點之測量值的平均值及標準偏差。測量使用高電阻率計Hiresta-UP MCP-HT450(三菱化學股份有限公司製造)，探針係使用URS探針MCP-HTP14(三菱化學股份有限公司製造)，於溫度25±4℃、濕度50±10%之環境下，在500V之施加電壓進行。
[表面電阻率之經時穩定性]
藉由與上述同樣之方法於合計25點測量將光學積層體於80℃保持250小時後之表面電阻率(Ω/□)。於各測量點算出(於80℃保持250小時後之表面電阻率)/(於80℃保持250小時前之剛製造後之表面電阻率)之比，按照下述基準進行評價。
A：於全部測量點，表面電阻率比為0.50~2.0之範圍
B：於全部測量點，表面電阻率比為0.40~2.5之範圍，且該表面電阻率比為0.40以上且未達0.50或超過2.0且為2.5以下之測量點至少存在1點
C：表面電阻率比未達0.40或超過2.5超之測量點至少存在1點
[目視辨認性(干擾條紋之有無)]
於實施例及比較例之光學積層體的基材膜側一面貼合黑膠帶(Yamato股份有限公司製造之Vinyl Tape No.200-38-21，黑色，寬38mm)，藉由目視自相反面(導電層側之面)確認有無干擾紋。
A：無法目視辨認到干擾紋
B：可目視辨認到未伴隨色不均之干擾紋
C：可目視辨認到伴隨色不均之干擾紋
[觸控面板感度]
經由厚度20μm之接著層(轉印有大日本印刷股份有限公司製造之雙面接著片「Non-carrier FC25K3E46」之接著層者)將實施例及比較例之光學積層體貼合於組裝入Sony Ericsson公司製造之「Xperia P」中之搭載靜電電容式之內嵌觸控面板之液晶顯示元件上後，將固定於光學積層體之透明導電層上之導線連接於導電性構件上。繼而，於光學積層體之最表面上進而貼合保護膜(PET膜)。繼而，將貼合之保護膜去除並立即驅動液晶顯示裝置，對以戴著手套(Midori Anzen股份有限公司製造之「智慧型手機手套Smart Touch」)之手觸摸上述之表面電阻率之測量點時產生動作錯誤之機率進行計數，按照下述基準進行評價。
A：錯誤機率為0%以上且未達20%
B：錯誤機率為20%以上且未達60%
C：錯誤機率為60%以上
製造例4(穩定化層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物A之製備)
以固體成分濃度成為15質量%之方式於甲基異丁基酮中添加作為游離輻射硬化性樹脂之新戊四醇三丙烯酸酯(日本化藥股份有限公司製造之「PET-30」)100質量份並加以攪拌，而獲得溶液a。
繼而，相對於溶液a之固體成分100質量份，添加光聚合起始劑(BASF公司製造之「Irgacure(Irg)184」)7質量份、光聚合起始劑(BASF公司製造之「Lucirin TPO」)1.5質量份並加以攪拌而使其溶解，從而製備最終固體成分濃度為15質量%之溶液b。
繼而，相對於溶液b之固體成分100質量份，添加以固體成分比計為0.4質量份之調平劑(DIC股份有限公司製造之「Megafac RS71」)並進行攪拌，從而製備穩定化層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物A。
製造例5(導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物A之製備)
添加作為游離輻射硬化性樹脂之新戊四醇三丙烯酸酯(日本化藥股份有限公司製造之「KAYARAD PET-30」)100質量份、作為導電性粒子之氧化銻錫粒子(日揮觸媒化成股份有限公司製造之「V3560」，ATO分散液，ATO平均一次粒徑8nm)100質量份、作為光聚合起始劑之1-羥基-環己基-苯基-甲酮(BASF公司製造之「Irgacure(Irg)184」)5質量份及溶劑(甲基異丁基酮)1100質量份並加以攪拌，從而製備固體成分濃度15質量%之導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物A。
製造例6(導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物B之製備)
使用新戊四醇三丙烯酸酯(日本化藥股份有限公司製造之「KAYARAD PET-30」)50質量份代替新戊四醇三丙烯酸酯(日本化藥股份有限公司製造之「KAYARAD PET-30」)100質量份作為游離輻射硬化性樹脂，並且使用丙烯酸聚合物(DNP Fine Chemical公司製造之「HRAG acryl(25)MIBK」50質量份作為熱塑性樹脂，除此以外，以與上述導電層形成用游離輻射硬化性樹脂組成物A同樣之方式製備固體成分濃度15質量%之導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物B。
製造例7(導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物C之製備)
將作為導電性粒子之氧化銻錫粒子(日揮觸媒化成股份有限公司製造之「V3560」，ATO分散液，ATO平均一次粒徑8nm)之量由100質量份變更為20質量份，除此以外，以與上述導電層形成用游離輻射硬化性樹脂組成物A同樣之方式製備固體成分濃度15質量%之導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物C。
實施例3-1(光學積層體(III)之製作)
[穩定化層之形成]
使用厚度80μm之三乙醯纖維素膜(富士軟片股份有限公司製造之「TD80UL」)作為基材膜，藉由狹縫式反向塗佈法於該膜上塗佈上述之穩定化層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物A，而形成未硬化樹脂層。將獲得之未硬化樹脂層於80℃乾燥1分鐘後，以紫外線照射量300mJ/cm2 照射紫外線而使其硬化，從而形成厚度1.0μm之穩定化層。
[導電層之形成]
藉由狹縫式反向塗佈法，以乾燥後之厚度成為4.0μm之方式於上述穩定化層上塗佈上述之導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物A而形成未硬化樹脂層。將獲得之未硬化樹脂層於80℃乾燥1分鐘後，以紫外線照射量300mJ/cm2照射紫外線而使其硬化，形成厚度4.0μm之導電層，而獲得光學積層體。
對獲得之光學積層體進行上述評價。將評價結果示於表3。
實施例3-2~3-4
如表3所示般變更導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物之種類、穩定化層及導電層之厚度，除此以外，以與實施例3-1同樣之方式製作光學積層體，並進行上述評價。將評價結果示於表3。
比較例3-1
除了不形成穩定化層以外，以與實施例3-2同樣之方式製作光學積層體，並進行上述評價。將評價結果示於表3。
比較例3-2
除了變更導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物之種類以外，以與實施例3-2同樣之方式製作光學積層體，並進行上述評價。將評價結果示於表3。
[表3]
根據表3可知，本發明之光學積層體(III)於應用於靜電電容式觸控面板時動作性良好，又，經時穩定性亦優異。另一方面，如比較例3-1所示，不具有穩定化層之光學積層體表面電阻率之不均較大，目視辨認性及應用於靜電電容式觸控面板時之動作性亦降低。進而，表面電阻率之經時穩定性亦降低。又，如比較例3-2所示，即便光學積層體之表面電阻率之平均值為1.0×107Ω/□以上1.0×1012Ω/□以下之範圍，於不滿足特定之條件之情形時，目視辨認性及應用於靜電電容式觸控面板時之動作性同樣降低。
實施例4-1~4-5、比較例4-1(光學積層體及透明積層體之製造)
實施例4-1~4-5、比較例4-1中之各評價係以如下方式進行。
[透明導電層、表面保護層及黏著層之厚度]
透明導電層、表面保護層及黏著層之厚度係自使用掃描穿透式電子顯微鏡(STEM)拍攝之剖面的圖像中測量20處之厚度，並且根據20處之值的平均值而算出。
[條件(1)規定之鉛直距離(彎曲)]
將由基材膜、黏著層及背面膜構成之積層體切成寬25mm、長100mm。對於該樣品，使用厚度2mm、100mm見方之2塊玻璃板，將該樣品自長度方向之一端起到25mm為止之部分夾住，自上方施加1kg之砝碼並固定於水平台上。藉由本身重量使自玻璃板之端部伸出的樣品剩餘長度75mm之部分變形，測量樣品固定部至樣品之長度方向之另一端為止之鉛直距離。
對單獨之基材膜及由黏著層及背面膜構成之積層物之鉛直距離(彎曲)亦進行與上述同樣之測量。
[拉伸彈性率]
依據JIS K6251：2010由成為測量對象之各種膜製作啞鈴狀1號形試片。將該試片設置於拉伸試驗機(Tensilon RTG1310，A&D股份有限公司製造)上，依據JIS K7161-1：2014進行拉伸試驗。標線間距離設為80mm，於溫度23±2℃、拉伸速度5mm/分鐘以一定速度進行拉伸，測量伸長值(mm)與荷重(N)，根據下述式算出應變及應力。根據剛開始拉伸試驗後之應力-應變曲線之斜率算出拉伸彈性率(N/mm2)。
應變(%)=伸長值(mm)/50(mm)×100
應力(MPa)=荷重(N)/試片之剖面面積(mm2)
[總光線穿透率及霧度]
使用HM-150(村上色彩技術研究所股份有限公司製造)測量總光線穿透率及霧度。總光線穿透率係依據JIS K7361-1：1997進行測量，霧度係依據JIS K7136：2000進行測量。測量係於溫度25±4℃、濕度50±10%之環境下進行，光入射面設為基材膜側。
[表面電阻率之面內均一性]
將光學積層體切成80cm×120cm(面積：56.8吋)，如圖1所示，於其表面保護層面側，作沿縱向及橫向分別將距該光學積層體之外周1.5cm之內側之區域(a)內進行4等分之直線(b)，於區域(a)之頂點、直線(b)彼此之交點及構成區域(a)之四邊與直線(b)之交點處，依據JIS K6911：1995測量表面電阻率(Ω/□)，求出合計25點之測量值之平均值及標準偏差。測量使用高電阻率計Hiresta-UP MCP-HT450(三菱化學股份有限公司製造)，探針係使用URS探針MCP-HTP14(三菱化學股份有限公司製造)，於溫度25±4℃、濕度50±10%之環境下，在500V之施加電壓進行。
於本實施例中，由於表面電阻率之平均值均為相同程度，因此表面電阻率之標準偏差之值越小，判斷面內均一性越良好。具體而言，表面電阻率之面內均一性係按照下述基準進行評價。
A：表面電阻率之標準偏差為2.00×107Ω/□以下
B：表面電阻率之標準偏差超過2.00×107Ω/□
[檢查之容易性]
使用各例中獲得之透明積層體，於明室螢光燈下檢查光學積層體之缺點，按照下述基準進行評價。
A：容易確認缺點
B：難以確認缺點
C：非常難以確認缺點，或無法確認缺點
實施例4-1(光學積層體及透明積層體之製造)
以固體成分成為20%(質量基準)之方式將丙烯酸系黏著劑(Kuraray股份有限公司製造之「LA2140」)溶解於溶劑[甲基乙基酮/甲苯(溶劑摻合比=以質量基準計1：1)]中，而製備黏著劑塗敷液。以乾燥後膜厚成為15μm之方式，藉由塗佈機將該黏著劑塗敷液塗佈於作為背面膜之厚度38μm的雙軸延伸聚酯膜上，於100℃乾燥1分鐘，而製作背面膜與黏著層之積層體。
再者，黏著層與背面膜之初始黏著力為70mN/25mm。
其次，將作為基材膜之厚度47μm的環烯烴聚合物膜(日本傑恩股份有限公司製造之「ZF14」，經斜向延伸之1/4波長相位差膜)之一面與上述積層體之黏著層側之面貼合，隔著黏著層將背面膜積層於基材膜上。
繼而，藉由狹縫式反向塗佈法，以乾燥後之厚度成為1μm之方式於該基材膜之另一面塗佈上述之透明導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物A而形成未硬化樹脂層。將獲得之未硬化樹脂層於80℃乾燥1分鐘後，以紫外線照射量300mJ/cm2照射紫外線而使其硬化，從而形成厚度1μm之透明導電層。
藉由狹縫式反向塗佈，以乾燥後之厚度成為4.5μm之方式於上述透明導電層上塗佈上述之表面保護層形成用游離輻射硬化性樹脂組成物A而形成未硬化樹脂層。將獲得之未硬化樹脂層於80℃乾燥1分鐘後，以紫外線照射量300mJ/cm2照射紫外線而使其硬化，形成厚度4.5μm之表面保護 層，從而獲得具有背面膜及黏著層之光學積層體(透明積層體)。
對獲得之透明積層體進行上述評價。將評價結果示於表4。表面電阻率之標準偏差為1.77×107Ω/□。
實施例4-2~4-5、比較例4-1
如表4所示般變更黏著層之厚度及背面膜之種類，除此以外，藉由與實施例4-1同樣之方法製造光學積層體及透明積層體。將評價結果示於表4。再者，於比較例4-1中，表面電阻率之標準偏差為2.10×107Ω/□。
[產業上之可利用性]
第一發明之光學積層體由於表面電阻率之面內均一性良好，因此尤其適宜用作構成搭載有靜電電容式之觸控面板的圖像顯示裝置之構件。藉由具有該光學積層體，該觸控面板表現出穩定之動作性。
第二發明之光學積層體由於具有特定範圍之伸長特性，因此作為基材膜之環烯烴聚合物膜與透明導電層之密接性優異，且表面電阻率之面內均一性亦良好，故而尤其適宜用作構成搭載有靜電電容式之觸控面板的圖像顯示裝置之前面板之構件。藉由具有該光學積層體，該觸控面板表現出穩定之動作性。又，於光學積層體中，於使用經斜向延伸之1/4波長相位差膜作為環烯烴聚合物膜之情形時，通過偏光太陽眼鏡之目視辨認性亦良好，且亦變得能夠進行利用輥對輥法之連續製造。
進而，第二發明之光學積層體由於基材膜之厚度相對於整體之厚度的比率為80%以上，因此可見光穿透性亦良好。
第三發明之光學積層體由於在使用纖維素系基材膜作為基材膜之情形時，表面電阻率之面內均一性亦良好，因此尤其適宜用作構成搭載有靜電電容式之觸控面板的圖像顯示裝置之構件。藉由具有該光學積層體，觸控面板表現出穩定之動作性。
根據第四發明之光學積層體之製造方法，即便於具有基材膜、透明導電層及表面保護層之光學積層體之製造中使用無塑性且強度低之基材膜，亦可製造表面電阻率之面內均一性良好的光學積層體。該光學積層體尤其適宜用作構成搭載有靜電電容式之觸控面板的圖像顯示裝置之構件。
1A‧‧‧光學積層體
2A‧‧‧基材膜
3A‧‧‧透明導電層
4A‧‧‧表面保護層
41A‧‧‧通電粒子

Claims (20)

  1. 一種光學積層體，依序具有基材膜、透明導電層及表面保護層，依據JIS K6911測得之表面電阻率之平均值處於1.0×107Ω/□以上1.0×1010Ω/□以下之範圍，且該表面電阻率之標準偏差σ為5.0×108Ω/□以下。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學積層體，其中，將該光學積層體於80℃保持250小時後測得之表面電阻率相對於該保持前之表面電阻率的比，於全部測量點均為0.40~2.5之範圍。
  3. 如申請專利範圍第1項之光學積層體，其中，該基材膜為1/4波長相位差之塑膠膜。
  4. 如申請專利範圍第1項之光學積層體，其中，該基材膜為環烯烴聚合物膜。
  5. 如申請專利範圍第1項之光學積層體，其中，該表面保護層含有通電粒子，該通電粒子具有相對於該表面保護層厚度超過50%且為150%以下之平均一次粒徑。
  6. 如申請專利範圍第1項之光學積層體，其中，該透明導電層係含有分子內具有脂環式結構之游離輻射硬化性樹脂(A)與導電性粒子之游離輻射硬化性樹脂組成物的硬化物。
  7. 如申請專利範圍第1項之光學積層體，其中，該透明導電層之厚度為0.1~10μm。
  8. 一種光學積層體，依序具有基材膜、透明導電層及表面保護層，該基材膜為環烯烴聚合物膜，該基材膜厚度相對於該光學積層體整體厚度 之比率為80%以上95%以下，使用動態黏彈性測量裝置於頻率10Hz、拉伸荷重50N、升溫速度2℃/分鐘之條件測得之於溫度150℃的該光學積層體之伸長率為5.0%以上20%以下。
  9. 如申請專利範圍第8項之光學積層體，其中，使用動態黏彈性測量裝置於頻率10Hz、拉伸荷重50N、升溫速度2℃/分鐘之條件測得之於溫度150℃的該基材膜之伸長率為5.0%以上25%以下。
  10. 一種光學積層體，依序具有纖維素系基材膜、穩定化層及導電層，依據JIS K6911測得之表面電阻率的平均值處於1.0×107Ω/□以上1.0×1012Ω/□以下之範圍，且該表面電阻率之標準偏差σ除以該平均值而獲得之值為0.20以下。
  11. 如申請專利範圍第10項之光學積層體，其中，該穩定化層之厚度為50nm以上且未達10μm。
  12. 如申請專利範圍第10項之光學積層體，其中，該穩定化層係游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物。
  13. 如申請專利範圍第12項之光學積層體，其中，該導電層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物所含之游離輻射硬化性樹脂與該穩定化層形成用之游離輻射硬化性樹脂組成物所含之游離輻射硬化性樹脂為同一種類。
  14. 一種前面板，依序具有申請專利範圍第1至13項中任一項之光學積層體、偏光元件及相位差板。
  15. 一種圖像顯示裝置，於顯示元件之目視辨認者側設置有申請專利範圍第1至13項中任一項之光學積層體。
  16. 如申請專利範圍第15項之圖像顯示裝置，其中，該顯示元件係搭載有內嵌觸控面板之液晶顯示元件。
  17. 一種光學積層體之製造方法，係依序具有基材膜、透明導電層及表面保護層之光學積層體之製造方法，具有下述步驟：隔著黏著層將背面膜積層於該基材膜之一面，繼而於該基材膜之另一面依序形成該透明導電層及該表面保護層；且滿足下述條件(1)：條件(1)：於將由該基材膜、該黏著層及該背面膜構成之寬25mm、長100mm之積層體自該長度方向之一端起到25mm為止之部分水平地固定，並藉由本身重量使剩餘長度75mm之部分變形時，自該積層體之固定部起至長度方向另一端為止的鉛直距離為45mm以下。
  18. 一種光學積層體之製造方法，係依序具有基材膜、透明導電層及表面保護層之光學積層體之製造方法，具有下述步驟：隔著黏著層將背面膜積層於該基材膜之一面，繼而於該基材膜之另一面依序形成該透明導電層及該表面保護層；該黏著層及該背面膜之合計厚度為20~200μm，且由該黏著層及該背面膜構成之積層物依據JIS K7161-1：2014以拉伸速度5mm/分鐘測得之拉伸彈性率為800N/mm2以上10,000N/mm2以下。
  19. 一種透明積層體，於基材膜之一面自該基材膜側起依序具有黏著層及背面膜，於該基材膜另一面自該基材膜側起依序具有透明導電層及表面保護層，且滿足下述條件(1)：條件(1)：於將由該基材膜、該黏著層及該背面膜構成之寬25mm、 長100mm之積層體自該長度方向之一端起到25mm為止之部分水平地固定，並藉由本身重量使剩餘長度75mm之部分變形時，自該積層體之固定部起至長度方向另一端為止之鉛直距離為45mm以下。
  20. 一種透明積層體，於基材膜之一面自該基材膜側起依序具有黏著層及背面膜，於該基材膜之另一面自該基材膜側起依序具有透明導電層及表面保護層，該黏著層及該背面膜之合計厚度為20~200μm，且由該黏著層及該背面膜構成之積層物依據JIS K7161-1：2014以拉伸速度5mm/分鐘測得之拉伸彈性率為800N/mm2以上10,000N/mm2以下。
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