JPH08278403A - 低反射積層体フィルム、偏光板および液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】生産性良く低反射積層体フイルム、およびそれ
を用いた偏光板、さらに液晶表示装置を得る。 【構成】低反射積層体フィルムは、ポリカーボネートフ
ィルム上に、ハードコート層と光学干渉層を備える。光
学干渉層は、高屈折率層と低屈折率層とを各々一層以上
含む。高屈折率層は、有機チタン化合物モノマーおよび
／またはそのオリゴマーを、固形分重量比率で７０％以
上含有する塗液の塗布と熱乾燥によって形成する。さら
に低屈折率層は、有機ケイ素化合物モノマーおよび／ま
たはそのオリゴマーの単体および／またはそれらの混合
物を、固形分重量比率で５０％以上含有する塗液の塗布
と熱乾燥によって形成する。また偏光板は、偏光子を挟
持する表面保護板の少なくとも一方に、本発明の低反射
積層体フィルムを用いる。さらに液晶表示装置は、液晶
表示素子の少なくとも一方の側の最表面上に本発明の偏
光板を配置する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ポリカ−ボネ−トフィ
ルムの一方の面に、ハ−ドコ−ト層と、少なくとも一層
以上の高屈折率層と一層以上の低屈折率層からなる光学
干渉層とが順に積層されて成る低反射積層体フィルムで
あり、例えば、偏光板や液晶表示装置、ＣＲＴ等に於い
て、空気との界面で発生する光の反射を減少し、前記機
器における光の透過率を高め、視認性を向上させる場合
等に利用される。

【０００２】

【従来の技術】低反射積層体については、光学レンズ等
の分野を中心に、従来より数多くの提案がなされてお
り、光学干渉層として積層する層の屈折率と光学膜厚が
適当な値を有する事により、積層体と空気界面における
光の反射を減少させる事が可能である。尚、ここで言う
光学膜厚とは層の屈折率と膜厚との積により定義される
量である。例えば、基板面に高屈折率層、低屈折率層を
順に積層した光学干渉層を有し、波長λの光に対して高
屈折率層および低屈折率層の光学膜厚をλ／４と設定し
てなる低反射積層体がよく知られている。

【０００３】このような光学干渉層として積層される高
屈折率層、低屈折率層は、屈折率の安定制御の面から一
般には、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレ−
ティング法等の乾式製膜方法が採られている。

【０００４】そして特に偏光板に関しては、偏光板の両
面を保護する表面保護板として一般にトリアセチルセル
ロ−スフィルムが用いられている。そして、トリアセチ
ルセるロ−スフィルムからなる表面保護板上に、ハ−ド
コ−ト層と数層の無機金属酸化膜層からなる光学干渉層
を積層して作製した低反射性の偏光板が提案されてい
る。

【０００５】こうした低反射性の偏光板は、単独に光学
素子として利用できる他、前述したように液晶表示装置
へも利用できる。すなわち、低反射性の偏光板を液晶表
示装置の表示面側あるいは又背面側に配置することによ
って、外光の映り込みを抑え、同時に液晶表示装置の光
透過率を高めることができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】プラスチックフィルム
もしくはプラスチックシ−トを基板とした低反射積層体
に関しては、プラスチックシ−トを基板とした低反射積
層体シ−トを乾式製膜法を用いて製造する技術が知られ
ており、トリアセチルセルロ−スフィルムを基板とした
低反射積層体フィルムは、スパッタリング法等の乾式製
膜法を用いて製造を行った場合、良好な低反射特性を得
ることが可能である。しかしながら乾式製膜法を用い
て、広幅フィルムに連続的に低反射積層体フィルムを製
造する場合、必要レベルの膜厚と幅方向等での膜厚均一
性を維持しつつ、高い生産性を得ることは現状では難し
い。

【０００７】従って、このような広幅のフィルムに対し
ても膜厚の均一性を確保しつつ、高い生産性を得る為に
は、乾式製膜法以外の方法が必要であり、例えば、ロ−
ルコ−タ−等を用いて連続的に液状の材料を塗布し、熱
乾燥により層形成を行う湿式製膜法を用いることによ
り、フィルム幅１．０ｍ以上を有する広幅のフィルムに
対しても必要レベルの膜厚の均一性を確保しながら、高
い生産性を得ることが可能である。

【０００８】湿式製膜法を用いた低反射積層体の形成に
ついては、ガラスやプラスチック基板上に浸漬法、スピ
ンコ−ト法、スプレ−コ−ト法、カ−テンコ−ト法、液
除去コ−ト法等を用いて低反射積層体を形成した技術が
知られている。しかしながら、このような従来の技術を
用いた場合、優れた低反射特性と機械的強度を得るため
には各層の形成時に非常に長い乾燥時間を必要であり、
発明者らが目標とした広幅のプラスチックフィルム基板
に対する連続生産には応用不可能であり、大きな課題と
なっていた。

【０００９】又、低反射積層体フィルムを用いた偏光板
や液晶表示装置でも低コストでの製造が強く求められて
いる。こうした製造コストは低反射積層体フィルムを製
造する際の生産性に大きく左右される為、この点から
も、優れた特性を有する低反射積層体フィルムを高い生
産性で製造することが大きな課題となっていた。

【００１０】低反射性の偏光板の作製方法としては、偏
光板の表面保護板として広く一般に用いられているトリ
アセチルセルロ−スフィルムに直接低反射積層体を形成
するのが最も簡単な方法である。発明者らもこれまで
に、トリアセチルセルロ−スフィルム基板を用いた低反
射積層体フィルムについて鋭意検討を行い、高い性能を
有する低反射積層体フィルムを広幅のフィルムに対して
連続生産することに成功し、該低反射積層体フィルムの
特許出願を行っている。

【００１１】前述のようにトリアセチルセルロ−スフィ
ルムは現在、偏光板の表面保護板として広く一般に用い
られており、低反射性の偏光板を作製するには、同フィ
ルム上に直接低反射積層体を形成することが最も簡単な
方法である。しかしながらトリアセチルセルロ−スフィ
ルムは、高温高湿環境下での耐久性に劣っているという
問題点を有している。例えば、高温高湿環境下において
は、加水分解によりフィルムの機械的強度、透明性の劣
化が起こる。また、偏光板の表面保護板として同フィル
ムを用いた場合においては、偏光板の変色や偏光度の減
少、ヘイズの増加等、偏光板に性能劣化が起こり、大き
な問題となっていた。

【００１２】本発明ではかかる課題を解決し、低反射積
層体フィルムをより幅広い用途へ利用するために、優れ
た低反射特性と機械的強度を有し、高温高湿下での耐久
性に優れた低反射積層体フィルムを製造することを目的
とする。又、さらにはそうした低反射積層体フィルムを
用いることで、高性能、高耐久性の偏光板や液晶表示装
置を低コストで製造することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の低反射積層体フ
ィルムは、ポリカ−ボネ−トフィルムの少なくとも一方
の面に、ハ−ドコ−ト層と、光学干渉層とが順に積層さ
れて成る低反射積層体フィルムに於て、該ハ−ドコ−ト
層と光学干渉層が湿式製膜法により形成された層であっ
て、光学干渉層は、少なくとも高屈折率層と低屈折率層
をそれぞれ一層以上含み、高屈折率層は少なくとも一層
が、次の一般式（１） Ｔｉ（ＯＲ¹ ）₄ ・・・（１） （ただしＲ¹ は炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基を示
す）にて表される有機チタン化合物モノマ−および又そ
のオリゴマ−を固形分重量比率７０％以上含有する塗液
の塗布ならびに熱乾燥によって形成した、屈折率が１．
６５〜２．２５の範囲内の層であり、さらに低屈折率層
は少なくとも一層が、次の一般式（２）〜（５） Ｓｉ（ＯＲ² ）₄ ・・・（２） Ｓｉ−Ｘ₄ ・・・（３） Ｒ³ −Ｓｉ（ＯＲ² ）₃ ・・・（４） Ｒ³ −Ｓｉ−Ｘ₃ ・・・（５） （ただしＲ² は炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基を、Ｒ
³ はメチル基もしくはエチル基を、Ｘはハロゲン原子を
示す）にて示される有機ケイ素化合物モノマ−および又
そのオリゴマ−を固形分重量比率５０％以上含有する塗
液の塗布ならびに熱乾燥によって形成した、屈折率が
１．３５〜１．５５の範囲内の層であることを特徴とし
ている。

【００１４】又、本発明の偏光板の内の一つは、偏光子
を２枚の表面保護板によって挟持して構成した偏光板に
おいて、少なくとも一方の表面保護板として本発明の低
反射積層体フィルムを、偏光子と接していない面の側に
プライマ−層とハ−ドコ−ト層と光学干渉層を配置して
構成したことを特徴としている。

【００１５】又、本発明の偏光板の内のもう一つは、偏
光子を２枚の表面保護板によって挟持して構成した偏光
板の少なくとも一方の面の側に、本発明の低反射積層体
フィルムを、偏光板と接していない面の側にプライマ−
層とハ−ドコ−ト層と光学干渉層を配置して構成したこ
とを特徴としている。

【００１６】さらに又、本発明の液晶表示装置の内の一
つは、液晶表示素子の少なくとも一方の最表面側に本発
明の偏光板を、低反射積層体フィルムからなる表面保護
板を最表面側にして配置したことを特徴としている。

【００１７】又、本発明の液晶表示装置の内のもう一つ
は、液晶表示素子の少なくとも一方の最表面側に本発明
の偏光板を、低反射積層体フィルムを配置した側を最表
面側にして配置したことを特徴としている。

【００１８】すなわち本発明の低反射積層体フィルムに
おいて、低反射性を得る為の光学設計上からは、光学干
渉層中の高屈折率層は屈折率が１．６５〜２．２５の範
囲にあることが必要である。しかしながら前述のよう
に、広幅フィルムの連続生産に於いては塗工層の乾燥時
間は短くならざるを得ず、かつフィルムの耐熱性等によ
り乾燥温度も高くできない為、前記のような高い屈折率
範囲を有し、かつ層の機械的強度が良好な層を得る事は
一般には難しい。

【００１９】そこで発明者らは鋭意努力の結果、前記の
一般式（１）にて表される有機チタン化合物モノマ−お
よび又そのオリゴマ−を固形分重量比率７０％以上含有
する塗液の塗布ならびに熱乾燥によってなる層を用いる
ことにより、高い屈折率範囲を有し、層の機械的強度が
良好な高屈折率層を得ることができることを見いだし
た。

【００２０】尚この際、前記塗液中に、固形分重量比率
７０％以上の一般式（１）にて表される有機チタン化合
物モノマ−および又そのオリゴマ−が含まれていない場
合には高屈折率層の屈折率は１．６５以上の値を安定に
得ることが困難になり、多くの場合高屈折率層の屈折率
は１．６５を下回る値を示す為に光学設計上優れた低反
射性を得ることが難しくなってしまう。

【００２１】ところで、１．６５以上の屈折率の値を有
する層は、前記の有機チタン化合物を主成分にする層以
外で、例えば粒径１０ｎｍ以下の酸化チタン、酸化タン
タル、酸化セリウム等の金属微粒子を主成分とした層が
あるが、前記の熱乾燥温度条件下においては、高い屈折
率の値を確保しながら、層の硬度や接着性等の機械的特
性をも十分に満足した層を得ることは難しい。

【００２２】また、有機ジルコニウム化合物を主成分に
した層では、層の硬度や接着性等の機械的特性は比較的
優れているものの、前記の熱乾燥温度条件下において
は、必要な高い屈折率の値を得ることは難しい。

【００２３】そして一般式（１）にて表される有機チタ
ン化合物の内、より好ましくはテトラ−ｉ−プロポキシ
チタン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラキス（２
−エチルヘキソキシ）チタン等が用いられる。これらの
有機チタン化合物は、モノマ−状態で用いても、あらか
じめ、モノマ−を若干オリゴマ−化して用いても、もし
くはモノマ−とオリゴマ−を混合して用いてもさしつか
えない。

【００２４】こうした高屈折率層形成用の有機チタン化
合物を主成分とする塗液は、粘度や塗布性の調整の目的
で、固形成分を炭化水素系、アルコ−ル系等の適当な有
機溶媒に溶解させて使用したものが好ましく用いられ
る。

【００２５】かかる溶媒の例としては、例えば、ペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の炭化水素の各種
異性体、ならびにそれらを主成分とする石油エ−テル、
石油ベンジン、石油ナフタ、リグロイン等や、イソプロ
ピルアルコ−ル、ブタノ−ル、ペンタノ−ル等の各種ア
ルコ−ルを用いることができる。

【００２６】さらに本発明の低反射積層体フィルムにお
いて、低反射性を得るための光学設計上からは、光学干
渉層中の低屈折率層は屈折率が１．３５〜１．５５の範
囲にあることが必要である。又、低屈折率層は本発明の
低反射積層体フィルムにおいて最表面側に位置する場
合、特に層の硬度や耐摩耗性等の機械的強度に優れた特
性を有している必要がある。しかしながら前述のよう
に、広幅フィルムの連続生産に於いては乾燥時間は短く
ならざるを得ず、かつフィルムの耐熱性等により乾燥温
度も高くできない為、このように層の硬度や耐摩耗性等
の機械的強度に優れた層を得る事は一般に難しい。

【００２７】そこで発明者らは鋭意努力の結果、少なく
とも一層以上の一般式（２）〜（５）にて示される有機
ケイ素化合物モノマ−および又そのオリゴマ−を固形分
重量比率５０％以上含有する塗液の塗布ならびに熱乾燥
によってなる層を用いることにより、前記の屈折率の範
囲内を示し、かつ硬度や耐摩耗性等の機械的強度に優れ
た層が得られることを見いだした。

【００２８】前記塗液中に、一般式（２）〜（５）にて
表される有機ケイ素化合物モノマ−および又そのオリゴ
マ−を固形分重量比率５０％以上含まれていない場合に
は、低屈折率層の硬度や耐摩耗性等の機械的特性が不十
分になり、好ましくない。

【００２９】一般式（２）〜（５）にて示される有機ケ
イ素化合物の内、より好ましくはテトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラ
ン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン等が用いられる。

【００３０】これらの有機ケイ素化合物は、モノマ−状
態で用いても、モノマ−を若干オリゴマ−化した状態で
用いても、あるいはモノマ−とオリゴマ−とを混合して
用いてもさしつかえない。

【００３１】又、前記の塗液は主成分である有機ケイ素
化合物モノマー、オリゴマーの硬化促進の目的で各種の
硬化剤を含有しても良い。これらの硬化剤の例として
は、ほう酸、リン酸等の無機酸やシュウ酸、マロン酸、
マレイン酸、酒石酸、クエン酸、リンゴ酸、グリコール
酸、ヘキサフルオログルタル酸のカルボン酸等が好まし
く用いられる。これらの硬化剤は前記有機ケイ素化合物
等の主成分に対し、モル比０．０５〜３の範囲で含有さ
れる事が好ましい。

【００３２】こうした低屈折率層形成用の有機ケイ素化
合物を主成分とする塗液は、粘度や塗布性の調整の目的
で、固形成分を炭化水素系、アルコ−ル系等の適当な有
機溶媒に溶解させて使用したものが好ましく用いられ
る。

【００３３】かかる溶媒の例としては、例えばエタノ−
ル、イソプロピルアルコ−ル、ブタノ−ル、ペンタノ−
ル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、酢酸エチ
ル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸ブチル等
を用いることができる。

【００３４】又、前記塗液が低反射積層体最表面の低屈
折率層形成に用いられる場合に於いて、塗液に各種レベ
リング剤、界面活性剤、シリコンオイル等の低表面張力
物質を添加する事が好ましく行われる。これらの成分は
塗膜の撥水、撥油性を高める効果を有し、ひいては低反
射積層体フィルム表面の防汚染性を高める効果を有す
る。これらの成分は上記の効果発現と塗膜の機械的強度
とのバランス上から、塗液の固形分成分に対し０．０１
〜１重量％の範囲で添加する事が好ましい。

【００３５】ところで前述の高屈折率層形成用の有機チ
タン化合物を主成分とする塗液に対しては一般式（６）
〜（７） Ｒ⁴ −Ｓｉ（ＯＲ² ）₃ ・・・（６） （Ｒ² は炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基を、Ｒ³ はメ
チル基もしくはエチル基を、Ｒ⁴ はエポキシ基、アミノ
基、メタクリル基、ビニル基のいずれかを含む有機基を
示す）にて表される有機ケイ素化合物モノマ−および又
そのオリゴマ−を固形分重量比３０％以下の範囲で添加
することも好ましく行われ、高屈折率層の屈折率の微調
整、高屈折率層とハ−ドコ−ト層間あるいは高屈折率層
と低屈折率層間の接着性の調整等を行うことができる。

【００３６】一般式（６）〜（７）にて表される有機ケ
イ素化合物の内、より好ましくはγ−グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメ
チルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキ
シシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピル
トリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミ
ノプロピルメチルジメトキシシラン等が用いられる。

【００３７】又、前述の低屈折率層形成用の有機ケイ素
化合物を主成分とする塗液に対しては一般式（６）〜
（７）にて表される有機ケイ素化合物モノマ−および又
そのオリゴマ−および又粒径１０ｎｍ以下のシリカ微粒
子等を固形分重量比５０％以下の範囲で添加することが
好ましく行われ、低屈折率層と高屈折率層間の接着性の
調整等を行うことができる。

【００３８】本発明の低反射積層体フィルムにおいて用
いることのできる光学干渉層としては、高屈折率層と低
屈折率層を順に一層ずつ積層した光学干渉層の他に、た
とえば中屈折率層と高屈折率層と低屈折率層を順に一層
ずつ積層した光学干渉層を用いることが可能である。こ
の場合、高屈折率層と低屈折率層についてはそれぞれ請
求項記載の高屈折率層と低屈折率層とを用いればよく、
中屈折率層としては、ハ−ドコ−ト層の屈折率層と高屈
折率層の屈折率層のおおよそ中間に位置する屈折率を有
する層を用いればよい。

【００３９】また、たとえば第１高屈折率層と第１低屈
折率層と第２高屈折率層と第２低屈折率を順に積層した
光学干渉層を用いることも可能であり、請求項記載の高
屈折率層を第１高屈折率層と第２高屈折率層に、請求項
記載の低屈折率層を第１低屈折率層と第２低屈折率層に
それぞれ用いればよい。この場合、必ずしも第１高屈折
率層と第２高屈折率層または第１低屈折率層と第２低屈
折率層の屈折率、膜厚等は同等である必要はない。

【００４０】尚、本発明の低反射積層体フィルムにおい
て、光学干渉層として高屈折率層と低屈折率層を順に一
層ずつ積層した光学干渉層を用いた場合には、両層が前
述の範囲の屈折率を有しており、かつ人間が高い視感度
を有する波長５００〜６００ｎｍの範囲の光に対して特
に低反射性を得るという光学設計上、高屈折率層と低屈
折率層の光学膜厚は各々１０〜１８ｎｍの範囲にあるこ
とが好ましい。

【００４１】本発明の基板であるポリカ−ボネ−トフィ
ルムは一般に高温高湿環境下での耐久性に優れた特性を
示す。本発明においてポリカ−ボネ−トフィルムは厚み
が５０μｍから５００μｍのものが好ましく用いられ
る。本発明を偏光板用途に用いる場合には、フィルム面
内でのレタデ−ションの値は６０ｎｍ以下、より好まし
くは３０ｎｍ以下で、遅相軸のバラツキが±３０度以下
のものが好ましく用いられる。面内でのレタデ−ション
の値が６０ｎｍを越える場合、および又は遅相軸のバラ
ツキが±３０度を越えた場合には、フィルムの複屈折性
により生ずる偏光軸の回転の影響で偏光板の性能が大き
く低下するようになるので好ましくない。

【００４２】本発明で用いるハ−ドコ−ト層は、低反射
性を得る為の光学設計上から屈折率が１．４〜１．６５
の範囲にあることが好ましい。またハ−ドコ−ト層の膜
厚は２．０〜１５．０μｍの範囲にあることが好まし
い。これは２．０μｍに満たない膜厚では充分な耐衝撃
性が得られず、１５．０μｍを越える膜厚では屈曲性も
しくは生産においての経済性等に問題を生じる為であ
る。

【００４３】屈折率が該屈折率範囲内にあり、かつ充分
な耐衝撃性の得られるハ−ドコ−ト層としては、熱硬化
型もしくは紫外線硬化型等のハ−ドコ−ト材料を含む塗
液をフィルム上に塗布し乾燥した後に、熱または紫外線
等により硬化を行って層を形成させたものが用いられ
る。

【００４４】熱硬化型ハ−ドコ−ト材料としては、一般
式（８）〜（１２） Ｓｉ（ＯＲ² ）₄ ・・・（８） Ｒ⁵ −Ｓｉ（ＯＲ² ）₃ ・・・（９） Ｒ⁴ −Ｓｉ（ＯＲ² ）₃ ・・・（１１） （Ｒ² は炭素数１〜４の炭化水素基を、Ｒ⁴ はエポキシ
基、アミノ基、メタクリル基、ビニル基のいずれかを含
む有機基を、Ｒ⁵ はメチル基、エチル基もしくはフェニ
ル基を示す）にて示される有機ケイ素化合物モノマ−お
よび又そのオリゴマ−および又シリカ微粒子等を含むケ
イ素系材料の他、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタ
ン樹脂、アルキド樹脂等の有機ポリマ−材料を用いる事
ができるが、ハ−ドコ−ト層の硬度や耐候性の観点から
前記有機ケイ素系材料を含有した熱硬化型ハ−ドコ−ト
材料を用いることがより好ましい。

【００４５】紫外線硬化型ハ−ドコ−ト材料としては、
ポリエステルアクリレ−ト、ポリエ−テルアクリレ−
ト、アクリルアクリレ−ト、エポキシアクリレ−ト等の
アクリル系オリゴマ−とアクリル系モノマ−、ならびに
ラジカル重合開始剤等よりなるラジカル重合型紫外線硬
化樹脂材料や、エポキシ系化合物、ビニルエ−テル系化
合物、環状エ−テル系化合物、スピロ化合物等のモノマ
−およびオリゴマ−と光反応性カチオン重合開始剤より
なるカチオン重合型紫外線硬化樹脂材料、もしくはラジ
カル重合型紫外線硬化樹脂材料とカチオン重合型紫外線
硬化樹脂材料との混合材料を用いることができる。

【００４６】これらのハ−ドコ−ト材料は、塗液の粘度
や塗布性の調整の目的で、炭化水素系、アルコ−ル系等
の適当な有機溶媒等に溶解させてから使用しても差し支
えない。

【００４７】かかる溶媒の例としては、メタノ−ル、エ
タノ−ル、イソプロピルアルコ−ル、ブタノ−ル、ペン
タノ−ル、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オク
タン、メチルシクロヘキサン、アセトン、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、メチルエチルケトン、メチル
イソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、メチル
ブチルケトン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸イ
ソブチル、酢酸ブチル等が用いることができる。

【００４８】又、本発明に用いられるハ−ドコ−ト層に
は、同層の屈折率の調整を目的として、前述のハ−ドコ
−ト材料に酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタ
ル、酸化アンチモン、酸化セリウム等の金属微粒子およ
び有機チタン化合物、有機ジルコニウム化合物、有機ア
ルミニウム化合物、有機タンタル化合物等の有機金属化
合物および該金属のキレ−ト化合物等を添加した材料を
塗布し、硬化させて成る層を用いても差し支えない。

【００４９】又、本発明において、基板であるポリカ−
ボネ−トフィルムとハ−ドコ−ト層との界面の接着性を
向上させる目的で両層の間にプライマ−層を設けても構
わない。プライマ−層は層の屈折率が１．４〜１．６５
の範囲にあることが光学特性上好ましく、膜厚が０．５
〜３．０μｍの範囲にあることが接着性と経済性を同時
に満足させる上で好ましい。

【００５０】このようなプライマ−層としては、アクリ
ル樹脂やアクリル樹脂に有機Ｓｉ系材料を共重合したも
の等を適当な有機溶剤に溶解させた塗液をポリカ−ボネ
−トフィルム上に塗布し、熱乾燥を行って成る層を好ま
しく用いる事ができる。

【００５１】このような塗液の具体例としては、例えば
メチルメタクリレ−トや、トリメトキシシリル基含有ア
クリル重合体等を主成分とし、溶媒として酢酸イソブチ
ル、酢酸ブチル、メチルイソブチルケトン、メチルブチ
ルケトン、エチルセロソルブ等を用いたものが好ましく
用いられる。

【００５２】これらのプライマ−層形成用の塗液中に
は、紫外線吸収剤等を添加しても差し支えない。

【００５３】又、本発明の低反射積層体フィルムにおい
ては光学特性の上から、該フィルムの透過光に対して、
ＪＩＳに定めるヘイズの値が１．０％以下であることが
好ましく、より好ましくは０．５％以下であることが好
ましい。

【００５４】本発明において、基板であるポリカ−ボネ
−トフィルム上に積層されるプライマ−層、ハ−ドコ−
ト層、光学干渉層の各層は、前述のように塗液の塗布乾
燥後、熱または紫外線等により硬化されて形成される
が、これらの塗液の塗布方法としては、ナイフコ−タ
−、バ−コ−タ−、ブレ−ドコ−タ−、スクイズコ−タ
−、リバ−スロ−ルコ−タ−、グラビアロ−ルコ−タ
−、カ−テンコ−タ−、スプレイコ−タ−、ダイコ−タ
−等の公知の塗工機器を用いる塗布方法や浸漬法等の連
続塗工が可能な方法が好ましく用いられる。後述の実施
例においては、基板であるポリカ−ボネ−トフィルムお
よび又トリアセチルセルロ−スフィルム上に積層される
ハ−ドコ−ト層、高屈折率層、低屈折率層を形成する為
の塗液の塗布にバ−コ−タ−を用いているが、例えばロ
−ルコ−タ−のような他の塗工機器を用い、連続走行す
る広幅のフィルムに対して塗液の塗布乾燥および硬化を
行った場合でも同様な結果を得る事ができる。

【００５５】塗液の基材への塗布にあたっては、塗液中
の固形分濃度や基材上への塗液の塗布量等を調整するこ
とにより、層の膜厚および塗布均一性等を調整すること
ができる。又、基材フィルムへの塗布性の向上のため塗
液中に微量の界面活性剤等を添加しても差し支えない。

【００５６】又、本発明においては、フィルム上への低
反射積層体の形成工程終了後、例えばロ−ル状にフィル
ムを巻いた状態等において、６０℃程度の温度でエ−ジ
ングを数日間程度行うことにより、積層体の機械特性や
耐久性等を向上させることが可能であり好ましく行われ
る。

【００５７】又、本発明の低反射積層体フィルムの製造
終了後、フィルム表面に簡単に脱着可能な保護フィルム
等を粘着させて表面を保護しておいても差し支えない。
むろんこの場合、低反射積層体フィルムを実際に使用す
る際においては該保護フィルムを取り外して用いること
ができる。

【００５８】一方、本発明の偏光板の内の一つは、偏光
子を保護する２枚の表面保護板のうち、少なくとも一方
に前記の低反射積層体フィルムからなる表面保護板を用
いたことを特徴としており、もう一つでは偏光板の少な
くとも一方の面に接着して配置することを特徴とした低
反射性の偏光板であり、低反射積層体フィルムを用いた
以外においては、一般の偏光板の製造工程とほぼ同様な
方法を用いて製造される。すなわち本発明の偏光板の製
造は、低反射積層体フィルムの製造終了後、低反射積層
体が形成されなかった側のフィルム面と、偏光子あるい
は偏光板とを適当な粘着剤や接着剤を用いて貼り合わせ
る工程を行う。粘着剤もしくは接着剤には、エチレン−
酢酸ビニル共重合体やアクリル樹脂、ウレタン樹脂、エ
ポキシ樹脂等を主成分とした粘着剤もしくは接着剤を用
いることができる。又、低反射積層体フィルムを偏光板
の表面保護板の一方のみに用いた場合には、他方の表面
保護板としてはトリアセチルセルロ−スフィルムやポリ
カ−ボネ−トフィルム等が好ましく用いられる。

【００５９】また一方、本発明の液晶表示装置は、液晶
表示素子の少なくとも一方の最表面に前記の偏光板を配
置したことを特徴とした液晶表示装置であり、前記の低
反射性の偏光板を用いた以外においては、一般の液晶表
示装置の製造方法とほぼ同様な方法を用いて製造され
る。

【００６０】すなわち本発明の液晶表示装置は、本発明
の偏光板を低反射積層体フィルム面を最表面とする形
で、液晶表示素子の少なくとも一方の側の最表面に配置
して製造される。ここで本発明の偏光板を液晶表示素子
の一方の側のみに配置した場合に於いては、他方の側に
は通常の構成を有する偏光板を配置すればよい。

【００６１】ここで言う液晶表示素子としては、例えば
ツイストネマチック型（ＴＮ型）液晶表示素子やス−パ
−ツイストネマチック型（ＳＴＮ型）液晶表示素子、お
よび強誘電性液晶表示素子、反強誘電性液晶表示素子等
の、素子へ電圧等を印加することによって入射偏光を変
調して表示機能を果たす公知の液晶表示素子一般を用い
ることができる。そしてこれらの液晶表示素子は、光透
過型で用いても、光反射型で用いても差し支えない。

【００６２】尚、通常これらの液晶表示素子は、ガラス
やプラスチック等の基板、透明電極、液晶配向膜、液晶
層、画素駆動素子、ブラックマトリクス、カラ−フィル
タ−および光学補償板等のうちの数種類もしくはそれら
のすべてを含んでなるものである。ここで光学補償板と
は、複屈折性や旋光性等を有した光学素子を示し、例え
ばプラスチックフィルムを延伸してなる位相差板や、プ
ラスチックフィルム上に形成した高分子液晶層の配向状
態を制御してなる公知の光学素子が用いられる。これら
の光学補償板は液晶表示装置の表示色の調整や視野角拡
大の為に用いられる。

【００６３】

【実施例１】１２５μｍ厚のポリカ−ボネ−トフィルム
基板の片面に、プライマ−層、ハ−ドコ−ト層、高屈折
率層、低屈折率層を順に積層し低反射積層体フィルムを
作製した。

【００６４】プライマ−層を形成する為の塗液として
は、プライマ−液（信越化学（株）社製の商品名「ＰＣ
−７Ａ」）を希釈せずにそのまま用い、バ−コ−タ−で
基板上に塗布し、１３０℃で３分間加熱硬化を行って、
プライマ−層を形成した。こうして形成されたプライマ
−層の膜厚は約１．１μｍであった。

【００６５】次にハ−ドコ−ト層を形成する為の塗液と
しては、次にハ−ドコ−ト層を形成する為の塗液として
は、熱硬化型有機ケイ素系ハ−ドコ−ト液（信越化学
（株）社製の商品名「ＫＰ−８５」）を希釈せずにその
まま用い、プライマ−層の形成された基板上にバ−コ−
タ−で塗布し、１３０℃で５分間加熱硬化を行い、つい
で６０℃で２４時間エ−ジングを行ってハ−ドコ−ト層
を形成した。こうして形成されたハ−ドコ−ト層の膜厚
は約９．０μｍであった。

【００６６】次に高屈折率層を形成する為の塗液として
は、ｎ−ヘキサンとｎ−ブタノ−ルの混合溶媒中に、テ
トラ−ｎ−ブトキシチタンのオリゴマ−とγ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシランのモノマ−とを重量比
９：１の比率で溶解させたものを用いた。この塗液をバ
−コ−タ−でハ−ドコ−ト層の形成された基板上に塗布
し、１３０℃で５分間加熱硬化を行って高屈折率層を形
成した。こうして形成された高屈折率層の屈折率は約
１．７３で膜厚は約８１ｎｍであった。

【００６７】次に低屈折率層を形成する為の塗液として
は、エタノ−ル中に、テトラエトキシシランのオリゴマ
−とγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランのモ
ノマ−とを重量比４：１の比率で溶解させたものを用い
た。この塗液をバ−コ−タ−でハ−ドコ−ト層の形成さ
れた基板上に塗布し、１３０℃で５分間加熱硬化を行
い、ついで６０℃で４８時間エ−ジングを行って低屈折
率層を形成した。こうして形成された低屈折率層の屈折
率は約１．４５で膜厚は約９７ｎｍであった。

【００６８】こうして得られた低反射積層体フィルムの
反射干渉色は赤紫色であり、反射率が最小となる波長は
約５６０ｎｍにあって、その最小反射率は約０．３％、
またヘイズは０．２％であった。更に鉛筆硬度はＢであ
り、摩耗傷は３本／ｃｍ以内、碁盤目テストの残存率は
１００％であり、低反射特性、機械的特性とも非常に優
れていた。又、高温高湿環境下の耐久性試験後も、フィ
ルム外観やヘイズ値に大きな変化はなく、耐久性におい
ても優れていた。

【００６９】尚、ここで各層の屈折率と膜厚は、分光反
射率の測定より計算して算出した。また、作製した低反
射積層体フィルムの低反射光学特性は、分光光度計（日
立製作所製Ｕ−３５００型）を用い、５度正反射の条件
にて反射率の測定を行った。この際、低反射積層体が積
層されていない側の基板面に、黒色のスプレ−を用いて
光吸収処理を行い、フィルム裏面での光の反射を防止し
た上で低反射積層体の反射率の測定を行った。

【００７０】また、低反射積層体フィルムのヘイズは、
ＪＩＳ規格Ｋ７１０５に従って測定を行った。

【００７１】また、低反射積層体フィルム表面の表面硬
度は、ＪＩＳ規格Ｋ５４００に従って１ｋｇ荷重での鉛
筆硬度で評価を行った。

【００７２】また、低反射積層体フィルム表面の表面耐
摩耗性は、＃００００のスチ−ルウ−ルに１平方センチ
メ−トルあたり０．１ｋｇの荷重をかけて積層体フィル
ム表面を１０往復した後の、スチ−ウ−ル往復方向の１
センチメ−タ−幅あたりの傷の発生本数で評価した。

【００７３】更に、付着性はＪＩＳ規格Ｋ５４００に従
って碁盤目テスト（碁盤目テ−プ法）を行い、剥がれの
生じていないマス目の残存率にて評価した。

【００７４】又、低反射積層体フィルムの高温高湿環境
下での耐久性については、ナガノ科学機械製作所製恒温
恒湿器ＬＨ−２０を用い、８０℃、９０％ＲＨの高温高
湿環境下で、５００時間の耐久性試験を行い、フィルム
外観の変化とヘイズ値の変化で評価を行った。

【００７５】

【実施例２】実施例１と同様に、１２５μｍ厚のポリカ
−ボネ−トフィルム基板の片面に、プライマ−層、ハ−
ドコ−ト層、高屈折率層、低屈折率層を順に積層し低反
射積層体フィルムを作製した。

【００７６】高屈折率層までの作製過程は実施例１と全
く同様にして行った。

【００７７】実施例２においては、低屈折率層を形成す
る為の塗液として、エタノ−ル中に、テトラエトキシシ
ランのオリゴマ−と粒径１０ｎｍ以下のシリカ微粒子を
重量比２：１の比率で溶解させたものを用いた。この塗
液をバ−コ−タ−でハ−ドコ−ト層の形成された基板上
に塗布し、１３０℃で５分間加熱硬化を行い、その後６
０℃で４８時間エ−ジングを行って低屈折率層を形成し
た。こうして形成された低屈折率層の屈折率は約１．４
７で膜厚は約９５ｎｍであった。

【００７８】こうして得られた低反射積層体フィルムの
反射干渉色は赤紫色であり、反射率が最小となる波長は
約５６０ｎｍにあって、その最小反射率は約０．３％、
またヘイズは０．２％であった。更に鉛筆硬度はＢであ
り、摩耗傷は３本／ｃｍ以内、碁盤目テストの残存率は
１００％であり、低反射特性、機械的特性とも非常に優
れていた。又、高温高湿環境下の耐久性試験後も、フィ
ルム外観やヘイズ値に大きな変化はなく、耐久性におい
ても優れていた。

【００７９】

【実施例３】実施例１と同様に、１２５μｍ厚のポリカ
−ボネ−トフィルム基板の片面に、プライマ−層、ハ−
ドコ−ト層、高屈折率層、低屈折率層を順に積層し低反
射積層体フィルムを作製した。

【００８０】高屈折率層までの作製過程は実施例１と全
く同様にして行った。

【００８１】実施例３においては、低屈折率層を形成す
る為の塗液として、エタノ−ル中に、メチルトリエトキ
シシランのオリゴマ−とγ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシランのモノマ−とを重量比９：１の比率で溶
解させたものを用いた。この塗液をバ−コ−タ−でハ−
ドコ−ト層の形成された基板上に塗布し、１３０℃で５
分間加熱硬化を行い、その後６０℃で４８時間エ−ジン
グを行って低屈折率層を形成した。こうして形成された
低屈折率層の屈折率は約１．４７で膜厚は約９５ｎｍで
あった。

【００８２】こうして得られた低反射積層体フィルムの
反射干渉色は赤紫色であり、反射率が最小となる波長は
約５６０ｎｍにあって、その最小反射率は約０．３％、
ヘイズは０．２％であった。更に鉛筆硬度はＢであり、
摩耗傷は３本／ｃｍ以内、碁盤目テストの残存率は１０
０％であり、低反射特性、機械的特性とも非常に優れて
いた。又、高温高湿環境下の耐久性試験後も、フィルム
外観やヘイズ値に大きな変化はなく、耐久性においても
優れていた。

【００８３】

【実施例４】実施例１と同様に、１２５μｍ厚のポリカ
−ボネ−トフィルム基板の片面に、プライマ−層、ハ−
ドコ−ト層、高屈折率層、低屈折率層を順に積層し低反
射積層体フィルムを作製した。

【００８４】高屈折率層までの作製過程は実施例１と全
く同様にして行った。

【００８５】実施例４においては、低屈折率層を形成す
る為の塗液として、イソプロピルアクコール中に、テト
ラメトキシシランとメチルトリメトキシシランとγ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシランの各モノマ−と
リン酸とを重量比１：２：２：１の比率で溶解させたも
のを用いた。この塗液をバ−コ−タ−でハ−ドコ−ト層
の形成された基板上に塗布し、１３０℃で５分間加熱硬
化を行い、その後６０℃で４８時間エ−ジングを行って
低屈折率層を形成した。こうして形成された低屈折率層
の屈折率は約１．４７で膜厚は約９５ｎｍであった。

【００８６】こうして得られた低反射積層体フィルムの
反射干渉色は赤紫色であり、反射率が最小となる波長は
約５６０ｎｍにあって、その最小反射率は約０．３％、
ヘイズは０．２％であった。更に鉛筆硬度はＢであり、
摩耗傷は１本／ｃｍ以内、碁盤目テストの残存率は１０
０％であり、低反射特性、機械的特性とも非常に優れて
いた。又、高温高湿環境下の耐久性試験後も、フィルム
外観やヘイズ値に大きな変化はなく、耐久性においても
優れていた。

【００８７】

【実施例５】実施例５においては、実施例４で使用した
塗液に、フッ素系界面活性剤（住友スリーエム株式会社
製商品名「フロラードＦＣ４３０」）を固形分重量比
０．１％添加した以外は実施例４と同様の方法で低反射
積層体フィルムを作成した。

【００８８】こうして得られた低反射積層体フィルムは
撥水、撥油性が高く、指紋等の汚れに対する防汚染性に
優れる表面を有していた。また低反射特性、機械的特性
等は未添加の場合（実施例４）と同様であって低下は観
られなかった。

【００８９】

【実施例６】実施例６においては、実施例４で使用した
塗液に、シリコンオイル（東レ・ダウコーニング・シリ
コン株式会社製商品名「ＳＨ２８ＰＡ」）を固形分重量
比０．１％添加した以外は実施例４と同様の方法で低反
射積層体フィルムを作成した。

【００９０】こうして得られた低反射積層体フィルムは
撥水、撥油性が高く、指紋等の汚れに対する防汚染性に
優れる表面を有していた。また低反射特性、機械的特性
等は未添加の場合（実施例４）と同様であって低下は観
られなかった。

【００９１】

【比較例１】実施例と同様に、１２５μｍ厚のポリカ−
ボネ−トフィルム基板の片面に、プライマ−層、ハ−ド
コ−ト層、高屈折率層、低屈折率層を順に積層し低反射
積層体フィルムを作製した。

【００９２】高屈折率層までの作製過程は実施例１と全
く同様にして行った。

【００９３】比較例１においては、低屈折率層を形成す
る為の塗液として、エタノ−ル中に、粒径１０ｎｍ以下
のシリカ微粒子とγ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシランのモノマ−を重量比２：１の比率で溶解させた
ものを用いた。この塗液をバ−コ−タ−でハ−ドコ−ト
層の形成された基板上に塗布し、１３０℃で５分間加熱
硬化を行い、その後６０℃で４８時間エ−ジングを行っ
て低屈折率層を形成した。こうして形成された低屈折率
層の屈折率は約１．５０で膜厚は約９３ｎｍであった。

【００９４】こうして得られた低反射積層体フィルムの
反射干渉色は赤紫色であり、反射率が最小となる波長は
約５６０ｎｍにあって、その最小反射率は約０．４％、
ヘイズは０．３％であった。更に鉛筆硬度はＢであり、
碁盤目テストの残存率は１００％であるが、摩耗傷は５
０本／ｃｍ以上あり、特に耐摩耗性が劣っている為に実
用に耐えうるものではなかった。

【００９５】

【比較例２】実施例と同様に、１２５μｍ厚のポリカ−
ボネ−トフィルム基板の片面に、プライマ−層、ハ−ド
コ−ト層、高屈折率層、低屈折率層を順に積層し低反射
積層体フィルムを作製した。

【００９６】ハ−ドコ−ト層までの作製過程は実施例１
と全く同様にして行った。

【００９７】比較例２においては高屈折率層を形成する
為の塗液として、エタノ−ル中に、粒径１０ｎｍ以下の
酸化チタン微粒子とγ−アミノプロピルトリメトキシシ
ランのモノマ−とを重量比４：１の比率で溶解させたも
のを用いた。この塗液をバ−コ−タ−でハ−ドコ−ト層
の形成された基板上に塗布し、１３０℃で５分間加熱硬
化を行って高屈折率層を形成した。こうして形成された
高屈折率層の屈折率は約１．７０で膜厚は約８２ｎｍで
あった。

【００９８】次に低屈折率層を形成する為の塗液として
は、エタノ−ル中に、テトラエトキシシランのオリゴマ
−とγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランのモ
ノマ−とを重量比４：１の比率で溶解させたものを用い
た。この塗液をバ−コ−タ−でハ−ドコ−ト層の形成さ
れた基板上に塗布し、１３０℃で５分間加熱硬化を行
い、その後６０℃で４８時間エ−ジングを行って低屈折
率層を形成した。こうして形成された低屈折率層の屈折
率は約１．４５で膜厚は約９７ｎｍであった。

【００９９】こうして得られた低反射積層体フィルムの
反射干渉色は赤紫色であり、反射率が最小となる波長は
約５６０ｎｍにあって、その最小反射率は約０．３％、
ヘイズは０．３％であった。更に鉛筆硬度はＢである
が、摩耗傷は５０本／ｃｍ以上、碁盤目テストの残存率
は７０％であり、低反射特性には優れているものの、耐
摩耗性と付着性等の機械的特性に劣っているために実用
に耐えられるものではなかった。

【０１００】

【比較例３】実施例と同様に、１２５μｍ厚のポリカ−
ボネ−トフィルム基板の片面に、プライマ−層、ハ−ド
コ−ト層、高屈折率層、低屈折率層を順に積層し低反射
積層体フィルムを作製した。

【０１０１】ハ−ドコ−ト層までの作製過程は実施例１
と全く同様にして行った。

【０１０２】比較例３においては高屈折率層を形成する
為の塗液として、ｎ−ヘキサンとｎ−ブタノ−ルの混合
溶媒中に、テトラ−ｎ−ブトキシジルコニウムのオリゴ
マ−とγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの
モノマ−とを重量比９：１の比率で溶解させたものを用
いた。この塗液をバ−コ−タ−でハ−ドコ−ト層の形成
された基板上に塗布し、１３０℃で５分間加熱硬化を行
って高屈折率層を形成した。こうして形成された高屈折
率層の屈折率は約１．６２で膜厚は約８６ｎｍであっ
た。

【０１０３】次に低屈折率層を形成する為の塗液として
は、エタノ−ル中に、テトラエトキシシランのオリゴマ
−とγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランのモ
ノマ−とを重量比４：１の比率で溶解させたものを用い
た。この塗液をバ−コ−タ−でハ−ドコ−ト層の形成さ
れた基板上に塗布し、１３０℃で５分間加熱硬化を行
い、その後６０℃で４８時間エ−ジングを行って低屈折
率層を形成した。こうして形成された低屈折率層の屈折
率は約１．４５で膜厚は約９７ｎｍであった。

【０１０４】こうして得られた低反射積層体フィルムの
反射干渉色は赤紫色であり、反射率が最小となる波長は
約５６０ｎｍにあって、その最小反射率は約０．９％、
ヘイズは０．３％であった。更に鉛筆硬度はＢであり、
摩耗傷は１０本／ｃｍ以下、碁盤目テストの残存率は９
０％であり、機械的特性には比較的優れているものの、
低反射特性に劣っているために実用に耐えられるもので
はなかった。

【０１０５】

【比較例４】ケン化処理を施した８０μｍ厚のトリアセ
チルセルロ−スフィルム基板の片面に、プライマ−層、
ハ−ドコ−ト層、高屈折率層、低屈折率層を順に積層し
て、積層体フィルムを作製した。

【０１０６】プライマ−層を形成する為の塗液として
は、プライマ−液（信越化学（株）社製の商品名「ＰＣ
−７Ａ」）を希釈せずにそのまま用い、バ−コ−タ−で
基板上に塗布し、１００℃で３分間加熱硬化を行って、
プライマ−層を形成した。こうして形成されたプライマ
−層の膜厚は約１．１μｍであった。

【０１０７】次にハ−ドコ−ト層を形成する為の塗液と
しては、熱硬化型有機ケイ素系ハ−ドコ−ト液（信越化
学（株）社製の商品名「ＫＰ−８５」）を希釈せずにそ
のまま用い、プライマ−層の形成された基板上にバ−コ
−タ−で塗布し、１００℃で５分間加熱硬化を行い、つ
いで６０℃で２４時間エ−ジングを行ってハ−ドコ−ト
層を形成した。こうして形成されたハ−ドコ−ト層の膜
厚は約９．０μｍであった。

【０１０８】次に高屈折率層を形成する為の塗液として
は、ｎ−ヘキサンとｎ−ブタノ−ルの混合溶媒中に、テ
トラ−ｎ−ブトキシチタンのオリゴマ−とγ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシランのモノマ−とを重量比
９：１の比率で溶解させたものを用いた。この塗液をバ
−コ−タ−でハ−ドコ−ト層の形成された基板上に塗布
し、１００℃で５分間加熱硬化を行って高屈折率層を形
成した。こうして形成された高屈折率層の屈折率は約
１．７０で膜厚は約８２ｎｍであった。

【０１０９】次に低屈折率層を形成する為の塗液として
は、エタノ−ル中に、テトラエトキシシランのオリゴマ
−とγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランのモ
ノマ−とを重量比４：１の比率で溶解させたものを用い
た。この塗液をバ−コ−タ−でハ−ドコ−ト層の形成さ
れた基板上に塗布し、１００℃で５分間加熱硬化を行
い、その後６０℃で４８時間エ−ジングを行って低屈折
率層を形成した。こうして形成された低屈折率層の屈折
率は約１．４５で膜厚は約９７ｎｍであった。

【０１１０】こうして得られた低反射積層体フィルムの
反射干渉色は赤紫色であり、反射率が最小となる波長は
約５６０ｎｍにあって、その最小反射率は約０．１％、
またヘイズは０．２％であった。更に鉛筆硬度はＨであ
り、摩耗傷は５本／ｃｍ以内、碁盤目テストの残存率は
１００％であり、低反射特性、機械的特性とも非常に優
れていた。しかしながら、高温高湿環境下の耐久性試験
後には、フィルム内に部分的に白化が観られ、白化部分
のヘイズ値は３．８％と大きく増加した。又、フィルム
の脆弱化も観られた。以上のように基板としてトリアセ
チルセルロ−スフィルムを用いた場合には、初期の低反
射特性や機械的特性は非常に優れているものの、高温高
湿環境下における耐久性において性能劣化が激しかっ
た。

【０１１１】

【実施例７】実施例１と同様な条件で作製した低反射積
層体フィルムを用いて、偏光板を作製した。偏光子に
は、ポリビニ−ルアルコ−ルの一軸延伸フィルムにヨウ
素を吸着させた９９．９％以上の偏光度を有する偏光子
を用いた。そして実施例１と同様な条件で作製した低反
射積層体フィルムから成る表面保護板を偏光子の一方の
面に接着した。さらに偏光子の他方の面には通常のポリ
カ−ボネ−トフィルム（フィルム厚１２５μｍ）から成
る表面保護板を接着した。

【０１１２】こうして作製した低反射性の偏光板の波長
５６０ｎｍにおける透過率は４４．５％であった。

【０１１３】

【実施例８】実施例７で使用した偏光子と同一の偏光子
の両面に、８０μｍ厚のトリアセチルセルロ−スフィル
ムからなる表面保護板を貼付けて偏光板を作製し、さら
に偏光板の片面に、実施例１と同様な条件で作製した低
反射積層体フィルムを接着して低反射性の偏光板を作製
した。この時、偏光板の他方の面には何も加工を施さな
かった。

【０１１４】こうして作製した低反射性の偏光板の波長
５６０ｎｍにおける透過率は４５．１％であった。

【０１１５】

【比較例５】実施例７で使用した偏光子と同一の偏光子
の両面に、８０μｍ厚のトリアセチルセルロ−スフィル
ムからなる表面保護板を貼付けて偏光板を作製した。

【０１１６】この偏光板の波長５６０ｎｍにおける透過
率は４３．５％であり、実施例７および実施例８の場合
より劣っていた。

【０１１７】

【実施例９】実施例８と同様の方法で作製した低反射性
の偏光板を用いて、液晶表示装置を作製した。

【０１１８】まず、２ｃｍ四方の単一な透明電極により
駆動を行う開口率１００％のツイストネマチック型液晶
セルを作製した。そしてセル片面に、実施例８と同様の
方法で作製した偏光板を、低反射面が表面側になるよう
にして接着した。さらにセルのもう一つの面には、比較
例５と同様の方法で作製した偏光板とアルミニウム製の
反射板をこの順に接着した。こうして、反射型の表示機
能を持つ液晶表示装置を作製した。

【０１１９】この液晶表示装置において波長５６０ｎｍ
に於ける反射率は、ＯＮ状態において約３０．２％、Ｏ
ＦＦ状態において約１．４％を示し、反射表示のコント
ラストは約２１．６であった。

【０１２０】

【比較例６】実施例９において液晶セルに接着した偏光
板を両面とも、比較例５と同様の方法で作製した偏光板
を用いた以外は、実施例９と同様の方法で液晶表示装置
を作製した。

【０１２１】この液晶表示装置において波長５６０ｎｍ
に於ける反射率は、ＯＮ状態において約３２．７％、Ｏ
ＦＦ状態において約５．０％を示し、反射表示のコント
ラストは約６．５であり、実施例９の場合より劣ってい
た。

【０１２２】

【発明の効果】本発明により、広幅のフィルムに対して
湿式製膜法により低反射積層体を連続的に形成する場合
においても、低反射特性と機械的強度に優れ、かつ高温
高湿環境下での耐久性に優れた低反射積層体フィルムが
得ることが可能になった。そして高い生産性での同フィ
ルムの生産が可能となったことによって、同フィルムを
低コストで広い用途に供給することが可能になった。さ
らにはそうした低反射積層体フィルムを用いることで、
必要な特性を有する偏光板や液晶表示装置を、低コスト
で広く供給することが可能になった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０２Ｂ 5/28 Ｇ０２Ｂ 5/30 5/30 Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ 1/1335 ５１０ 1/1335 ５１０ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ポリカ−ボネ−トフィルムの少なくとも
   一方の面に、ハ−ドコ−ト層と、光学干渉層とが順に積
   層されて成る低反射積層体フィルムに於て、該ハ−ドコ
   −ト層と光学干渉層が湿式製膜法により形成された層で
   あって、光学干渉層は、少なくとも高屈折率層と低屈折
   率層をそれぞれ一層以上含み、高屈折率層は少なくとも
   一層が、次の一般式（１） Ｔｉ（ＯＲ¹ ）₄ ・・・（１） （ただしＲ¹ は炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基を示
   す）にて表される有機チタン化合物モノマ−および又そ
   のオリゴマ−を固形分重量比率７０％以上含有する塗液
   の塗布ならびに熱乾燥によって形成した、屈折率が１．
   ６５〜２．２５の範囲内の層であり、さらに低屈折率層
   は少なくとも一層が、次の一般式（２）〜（５） Ｓｉ（ＯＲ² ）₄ ・・・（２） Ｓｉ−Ｘ₄ ・・・（３） Ｒ³ −Ｓｉ（ＯＲ² ）₃ ・・・（４） Ｒ³ −Ｓｉ−Ｘ₃ ・・・（５） （ただしＲ² は炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基を、Ｒ
   ³ はメチル基もしくはエチル基を、Ｘはハロゲン原子を
   示す）にて示される有機ケイ素化合物モノマ−および又
   そのオリゴマ−を固形分重量比率５０％以上含有する塗
   液の塗布ならびに熱乾燥によって形成した、屈折率が
   １．３５〜１．５５の範囲内の層であることを特徴とす
   る低反射積層体フィルム。
2. 【請求項２】 ポリカ−ボネ−トフィルムとハ−ドコ−
   ト層との間に、湿式製膜法を用いて形成されたプライマ
   −層を設けたことを特徴とする請求項１記載の低反射積
   層体フィルム。
3. 【請求項３】 請求項１記載のハ−ドコ−ト層および光
   学干渉層、および請求項２記載のプライマ−層が、連続
   走行するポリカ−ボネ−トフィルム上で塗液の塗布乾燥
   および層の硬化を行うことによって形成された層である
   ことを特徴とした低反射積層体フィルム。
4. 【請求項４】 偏光子を２枚の表面保護板によって挟持
   して構成した偏光板において、少なくとも一方の表面保
   護板として請求項１〜３記載のいずれかに記載の低反射
   積層体フィルムを、偏光子と接していない面の側にプラ
   イマ−層とハ−ドコ−ト層と光学干渉層を配置して構成
   したことを特徴とする偏光板。
5. 【請求項５】 偏光子を２枚の表面保護板によって挟持
   して構成した偏光板の少なくとも一方の面の側に、請求
   項１〜３記載のいずれかの低反射積層体フィルムを、偏
   光板と接していない面の側にプライマ−層とハ−ドコ−
   ト層と光学干渉層を配置して構成したことを特徴とする
   偏光板。
6. 【請求項６】 液晶表示素子の少なくとも一方の最表面
   側に、請求項４記載の偏光板を、低反射積層体フィルム
   からなる表面保護板を最表面側にして配置したことを特
   徴とする液晶表示装置。
7. 【請求項７】 液晶表示素子の少なくとも一方の最表面
   側に、請求項５記載の偏光板を、低反射積層体フィルム
   を配置した側を最表面側にして配置したことを特徴とす
   る液晶表示装置。