JP4506918B2 - 反射防止膜、反射防止膜を含む積層体、および反射防止膜の製造方法 - Google Patents
反射防止膜、反射防止膜を含む積層体、および反射防止膜の製造方法 Download PDFInfo
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、硬化性組成物から得られる反射防止膜および反射防止膜を含む積層体に関する。より詳細には、優れた反射防止効果や耐汚染性などを有するとともに、熱硬化および／または酸素存在下において光硬化反応により形成可能である反射防止膜およびその反射防止膜を含む積層体、ならびにその反射防止膜の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
反射防止膜の形成材料として、例えば、熱硬化型ポリシロキサン組成物が知られており、特開昭６１−２４７７４５３号公報、特開平６−２５５９９号公報、特開平７−３３１１１５号公報および特開平１０−２３２３０１号公報などに開示されている。
しかしながら、この熱硬化型ポリシロキサン組成物から得られる反射防止膜は、高温で長時間にわたって加熱処理をする必要があり、生産性が低かったり、あるいは適用基材の種類が限定されるという問題が見られる。
【０００３】
また、反射防止膜の形成材料として、紫外線などの光を利用して硬化させる光硬化性樹脂組成物も知られており、特開平１−１９７５７０号公報、特開平６−１３６０６２号公報、特開平９−２０３８６１号公報および特開平１０−２３９５０２号公報などに開示されている。
しかしながら、光硬化性樹脂組成物における主成分は、フッ素含有ビニル系樹脂であり、光硬化に際してラジカル重合を利用しているため、大気中の酸素による活性ラジカルの失活が生じやすく、しばしば硬化不良を生じる場合が見られる。特に、本発明が対象とする反射防止膜のような薄膜用途においては、大気中の酸素の影響を受けやすく、実質的に光硬化性樹脂組成物を光硬化できないという問題が見られる。また、フッ素含有ビニル系樹脂からなる反射防止膜は、硬度が低く、耐擦傷性に乏しかったり、あるいは、耐候性や耐汚染性に劣るという問題点を有している。
【０００４】
以上述べたように、従来の反射防止膜の形成材料として、熱硬化型ポリシロキサン組成物は、硬化時間が長く、高温加熱処理を必要とするため、適用できる基材が限定され、さらには保存安定性に乏しいという問題点を有している。一方、従来のフッ素含有ビニル系樹脂からなる光硬化性組成物は、酸素の影響を受けやすく、また、得られた反射防止膜における耐擦傷性や耐候性あるいは耐汚染性に劣るという問題点を有している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者らは、鋭意検討した結果、反射防止膜の形成材料として、特定の加水分解性シラン化合物と特定のフッ素含有重合体を組み合わせた熱硬化性組成物、および／またはこれにさらに光酸発生剤とを組み合わせた光硬化性組成物を使用することにより、上述した問題を解決できることを見出した。
本発明は、優れた反射防止効果や耐汚染性などを有するとともに、熱硬化、あるいは酸素存在下においても光硬化反応により形成可能である反射防止膜およびその反射防止膜を含む積層体、ならびにその反射防止膜の製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、（Ａ）下記一般式（１）
（Ｒ1 ）n Ｓｉ（ＯＲ2 ）4-n ・・・・・（１）
（式中、Ｒ1 は、２個存在するときは同一または異なり、炭素数１〜８の１価の有機基を示し、Ｒ2 は、同一または異なり、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜６のアシル基を示し、ｎは０〜２の整数である。）
で表されるオルガノシラン、該オルガノシランの加水分解物および該オルガノシランの縮合物の群から選ばれる少なくとも１種、ならびに
（Ｂ−１）加水分解性基および／または水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基を有するフッ素含有アクリル系重合体（以下「（Ｂ−１）フッ素含有アクリル系重合体」ともいう）
を含有するコーティング組成物を硬化してなる反射防止膜に関する。
また、本発明は、上記（Ａ）成分、ならびに
（Ｂ−２）加水分解性基および／または水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基を有するフッ素含有ビニルエーテル系重合体（以下「（Ｂ−２）フッ素含有ビニルエーテル系重合体」ともいう）
を含有するコーティング組成物を硬化してなる反射防止膜に関する。
以上の本発明の反射防止膜に使用されるコーティング組成物中には、さらに、（Ｂ−３）加水分解性基および／または水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基を有するアクリル系重合体（以下「（Ｂ−３）シリル基含有アクリル系重合体」ともいう）を含有させてもよい。
また、本発明の反射防止膜に使用されるコーティング組成物中には、さらに、（Ｇ）光酸発生剤や、（Ｈ）脱水剤を含有させることにより、この組成物を光硬化性組成物として用いることができる。
次に、本発明は、上記コーティング組成物を成形する工程と、成形したコーティング組成物を熱硬化および／または光硬化する工程を含むことを特徴とする反射防止膜の製造方法に関する。
次に、本発明は、上記反射防止膜を基材上に含むことを特徴とする反射防止膜を含む積層体に関する。
本発明の反射防止膜は、大気中においても酸素の影響を受けることなく形成することが可能であり、例えば、ガラス、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂またはアクリル系樹脂からなる基材を含む積層体とすることにより、カメラのレンズ部、テレビ（ＣＲＴ）の画面表示部、あるいは液晶表示装置におけるカラーフィルターなどの広範な反射防止膜の利用分野において、優れた反射防止効果や耐久性、耐汚染性を得ることができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に用いられるコーティング組成物を構成する各成分について、順次説明する。
（Ａ）成分
本発明のコーティング組成物に配合される（Ａ）成分は、上記一般式（１）で表されるオルガノシラン（以下「オルガノシラン（１）」という）、オルガノシラン（１）の加水分解物、およびオルガノシラン（１）の縮合物から選択された少なくとも１種である。すなわち、（ａ）成分は、これら３種のうちの１種だけでもよいし、任意の２種の混合物であってもよいし、３種類すべてを含んだ混合物であってもよい。
ここで、上記オルガノシラン（１）の加水分解物は、オルガノシラン（１）に２〜４個含まれるＯＲ2 基がすべて加水分解されている必要はなく、例えば、１個だけが加水分解されているもの、２個以上が加水分解されているもの、あるいはこれらの混合物であってもよい。
また、上記オルガノシラン（１）の縮合物は、オルガノシラン（１）の加水分解物のシラノール基が縮合してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成したものであるが、本発明では、シラノール基がすべて縮合している必要はなく、僅かな一部のシラノール基が縮合したもの、縮合の程度が異なっているものの混合物などをも包含した概念である。
【０００８】
一般式（１）において、Ｒ1 の炭素数１〜８の１価の有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基などのアルキル基や、ビニル基、アリル基、シクロヘキシル基、フェニル基、アシル基、グリシジル基、（メタ）アクリルオキシ基、ウレイド基、アミド基、フルオロアセトアミド基、イソシアナート基などのほか、これらの基の置換誘導体などを挙げることができる。
【０００９】
Ｒ1 の置換誘導体における置換基としては、例えば、ハロゲン原子、置換もしくは非置換のアミノ基、水酸基、メルカプト基、イソシアナート基、グリシドキシ基、３，４−エポキシシクロヘキシル基、（メタ）アクリルオキシ基、ウレイド基、アンモニウム塩基などを挙げることができる。ただし、これらの置換誘導体からなるＲ1 の炭素数は、置換基中の炭素原子を含めて８以下である。
一般式（１）中に、Ｒ1 が２個存在するときは、相互に同一でも異なってもよい。
【００１０】
また、Ｒ2 の炭素数１〜５のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基などを挙げることができ、炭素数１〜６のアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基、カプロイル基などを挙げることができる。
一般式（１）中に複数個存在するＲ2 は、相互に同一でも異なってもよい。
【００１１】
このようなオルガノシラン（１）の具体例としては、
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシランなどのテトラアルコキシシラン類；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｉ−プロピルトリメトキシシラン、ｉ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−ペンチルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘプチルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリエトキシシラン、２−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、２−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−イソシアナートプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシランなどのトリアルコキシシラン類；ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジエトキシシラン、ジ−ｉ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｉ−プロピルジエトキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−ペンチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ペンチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−ヘキシルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ヘキシルジエトキシシラン、ジ−ｎ−ヘプチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ヘプチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−オクチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−オクチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−シクロヘキシルジメトキシシラン、ジ−ｎ−シクロヘキシルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランなどのジアルコキシシラン類のほか、メチルトリアセチルオキシシラン、ジメチルジアセチルオキシシランなどを挙げることができる。
【００１２】
これらのうち、トリアルコキシシラン類、ジアルコキシシラン類が好ましく、また、トリアルコキシシラン類としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシランが好ましく、さらに、ジアルコキシシラン類としては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシランが好ましい。
【００１３】
本発明において、オルガノシラン（１）としては、特に、トリアルコキシシランのみ、あるいは、トリアルコキシシラン４０〜９５モル％とジアルコキシシラン６０〜５モル％との組み合わせが好ましい。ジアルコキシシランをトリアルコキシシランと併用することにより、得られる塗膜を柔軟化し、耐アルカリ性を向上させることができる。
【００１４】
オルガノシラン（１）は、そのまま、あるいは加水分解物および／または縮合物として使用される。オルガノシラン（１）を加水分解物および／または縮合物として使用する場合は、予め加水分解・縮合させて（Ａ）成分として使用することもできるが、後述するように、オルガノシラン（１）を残りの成分と混合して組成物を調製する際に、適量の水を添加することにより、オルガノシラン（１）を加水分解・縮合させて、（Ａ）成分とすることが好ましい。
（Ａ）成分が縮合物として使用されるとき、該縮合物のポリスチレン換算重量平均分子量（以下「Ｍｗ」という）は、好ましくは、８００〜１００，０００、さらに好ましくは、１，０００〜５０，０００である。
【００１５】
また、（Ａ）成分の市販品には、三菱化学（株）製のＭＫＣシリケート、コルコート社製のエチルシリケート、東レ・ダウコーニング社製のシリコンレジン、東芝シリコーン（株）製のシリコンレジン、信越化学工業（株）製のシリコンレジン、日本ユニカ（株）製のシリコンオリゴマーなどがあり、これらをそのまま、または縮合させて使用してもよい。
【００１６】
本発明において、（Ａ）成分は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００１７】
（Ｂ）成分
本発明における（Ｂ）成分は、加水分解性基および／または水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基（以下「特定シリル基」という）を有するフッ素系重合体である。これらのフッ素系重合体としては、上記（Ｂ−１）成分および（Ｂ−２）成分が挙げられる。
なお、（Ｂ）成分としては、上記（Ｂ−１）成分および／または（Ｂ−２）成分に、さらに上記（Ｂ−３）シリル基含有アクリル系重合体を併用することができる。
このような（Ｂ）成分は、本発明の組成物から得られる塗膜を硬化させる際に、そのシリル基の加水分解性基および／または水酸基が、上記（Ａ）成分と共縮合することにより、優れた塗膜性能をもたらすことができる。
また、（Ｂ）成分〔（Ｂ−１）〜（Ｂ−２）成分〕は、フッ素原子を含有することから、優れた撥水性および撥油性による防汚性機能のほか、剥離・非粘着機能を有する高硬度の塗膜を形成することができる。
【００１８】
（Ｂ）成分における特定シリル基の含有量は、ケイ素原子の量に換算して、特定シリル基の導入前の重合体に対して、通常、０．００１〜２０重量％、好ましくは０．００５〜１８重量％である。
【００１９】
（Ｂ−１）フッ素含有アクリル系重合体；
（Ｂ−１）成分は、加水分解性基および／または特定シリル基を有し、好ましくは、特定シリル基が重合体分子鎖の末端および／または側鎖に有するフッ素含有アクリル系重合体である。
【００２０】
特定シリル基は、好ましくは下記一般式（２）
（式中、Ｘはハロゲン原子、アルコキシ基、アシロキシ基、アミノキシ基、フェノキシ基、チオアルコキシ基、アミノ基などの加水分解性基または水酸基を示し、Ｒ3 は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアラルキル基を示し、ｉは１〜３の整数である）で表される。
【００２１】
（Ｂ−１）成分は、例えば、（Ｂ−ａ）フッ素原子を含有する単量体（以下「（Ｂ−ａ）単量体」という）、（Ｂ−ｂ）アルキル（メタ）アクリレート（以下「（Ｂ−ｂ）単量体」という）、（Ｂ−ｃ）シリル基を有する単量体（以下「（Ｂ−ｃ）単量体」という）を重合して得られ、また、必要に応じて、（Ｂ−ｄ）これらの単量体と共重合可能な他の単量体（以下「（Ｂ−ｄ）単量体」という）をさらに含めて重合して得てもよい。
【００２２】
上記（Ｂ−ａ）単量体としては、例えば、少なくとも１個の重合性の不飽和二重結合基および少なくとも１個のフッ素原子を有する化合物を挙げることができる。
具体的には、
（イ）テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレンなどのフルオロオレフィン類；
（ロ）ＣＨ2 ＝ＣＨ−Ｏ−Ｒｆ
（Ｒｆは、フッ素原子を含むアルキル基もしくはアルコキシアルキル基を示す）で表される（フルオロアルキル）ビニルエーテル、または、（フルオロアルコキシアルキル）ビニルエーテル類；
（ハ）パーフルオロ（メチルビニルエーテル）、パーフルオロ（エチルビニルエーテル）、パーフルオロ（プロピルビニルエーテル）、パーフルオロ（ブチルビニルエーテル）、パーフルオロ（イソブチルビニルエーテル）などのパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）類；
（ニ）パーフルオロ（プロポキシプロピルビニルエーテル）などのパーフルオロ（アルコキシアルキルビニルエーテル）類；
（ホ）２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレートなどのフッ素含有（メタ）アクリル酸エステル類；
などを挙げることができる。
【００２３】
これらのフッ素原子を含有する単量体は、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて使用してもよい。好ましくは、（ホ）群の単量体単独、または、（ホ）群の単量体と（イ）〜（ニ）群から選ばれる単量体との組み合わせが使用される。特に、フッ素含有単量体として、ヘキサフルオロプロピレンとパーフルオロアルキルパーフルオロビニルエーテルまたはパーフルオロアルコキシアルキルパーフルオロビニルエーテルとを組み合わせて使用することが好ましい。
なお、（Ｂ−ａ）フッ素原子を含有する単量体の使用量は、（Ｂ）成分を構成する全単量体中に、好ましくは５〜９５重量％、さらに好ましくは１０〜９０重量％程度である。
【００２４】
上記（Ｂ−ｂ）単量体としては、炭素数４〜１２のものが好ましく、具体的には、メチル（メタ）アクリレート、 エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、ｉ−アミル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、２−エチルへキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルメタクリレートなどが挙げられる。
これらは、１種単独あるいは２種以上を併用して用いることができる。
なお、（Ｂ−ｂ）単量体の使用量は、（Ｂ）成分を構成する全単量体中に、好ましくは５〜９５重量％、さらに好ましくは１０〜９０重量％程度である。
【００２５】
上記（Ｂ−ｃ）単量体としては、例えば、
下記一般式（３）
〔式中のＸ，Ｒ3 ，ｉは、上記一般式（２）におけるそれぞれＸ，Ｒ3 ，ｉと同義であり、Ｒ4 は、重合性二重結合を有する有機基を示す）で表されるシラン化合物（以下「不飽和シラン化合物」という）などを挙げることができる。
【００２６】
上記不飽和シラン化合物の具体例としては、
ＣＨ2 ＝ＣＨＳｉ（ＣＨ3)（ＯＣＨ3)2 、
ＣＨ2 ＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ3)3 、ＣＨ2 ＝ＣＨＳｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）3 、
ＣＨ2 ＝ＣＨＳｉ（ＣＨ3)Ｃｌ2 、ＣＨ2 ＝ＣＨＳｉＣｌ3 、
ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2)2 Ｓｉ（ＣＨ3)（ＯＣＨ3)2 、
ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2)2 Ｓｉ（ＯＣＨ3)3 、
ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2)3 Ｓｉ（ＣＨ3)（ＯＣＨ3)2 、
ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2)3 Ｓｉ（ＯＣＨ3)3 、
ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2)2 Ｓｉ（ＣＨ3)Ｃｌ2 、
ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2)2 ＳｉＣｌ3 、
ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2)3 Ｓｉ（ＣＨ3)Ｃｌ2 、
ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2)3 ＳｉＣｌ3 、
ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3)ＣＯＯ（ＣＨ2)2 Ｓｉ（ＣＨ3)（ＯＣＨ3)2 、
ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3)ＣＯＯ（ＣＨ2)2 Ｓｉ（ＯＣＨ3)3 、
ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3)ＣＯＯ（ＣＨ2)3 Ｓｉ（ＣＨ3)（ＯＣＨ3)2 、
ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3)ＣＯＯ（ＣＨ2)3 Ｓｉ（ＯＣＨ3)3 、
ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3)ＣＯＯ（ＣＨ2)2 Ｓｉ（ＣＨ3)Ｃｌ2 、
ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3)ＣＯＯ（ＣＨ2)2 ＳｉＣｌ3 、
ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3)ＣＯＯ（ＣＨ2)3 Ｓｉ（ＣＨ3)Ｃｌ2 、
ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3)ＣＯＯ（ＣＨ2)3 ＳｉＣｌ3 、
【００２７】
【化１】
【化２】
【化３】
【化４】
【００２８】
を挙げることができる。
これらは、１種単独あるいは２種以上を併用して用いることができる。
なお、（Ｂ−ｃ）単量体の使用量は、（Ｂ）成分を構成する全単量体中に、好ましくは０．１〜９５重量％、さらに好ましくは１〜９０重量％程度である。
【００２９】
（Ｂ−ｄ）単量体としては、例えば、
（イ）スチレン、α−メチルスチレン、４−メチルスチレン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メトキシスチレン、２−ヒドロキシメチルスチレン、４−エチルスチレン、４−エトキシスチレン、３，４−ジメチルスチレン、３，４−ジエチルスチレン、２−クロロスチレン、３−クロロスチレン、４−クロロ−３−メチルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン、２，４−ジクロロスチレン、２，６−ジクロロスチレン、１−ビニルナフタレンなどの芳香族ビニル単量体；
【００３０】
（ロ）ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアミル（メタ）アクリレート、ヒドロキシへキシル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；
アリルグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレートなどのエポキシ化合物；
【００３１】
（ハ）ジビニルベンゼン、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、 テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートなどの多官能性単量体；
【００３２】
（ニ）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、マレイン酸アミド、マレイミドなどの酸アミド化合物；
（ホ）塩化ビニル、塩化ビニリデン、脂肪酸ビニルエステルなどのビニル化合物；
（ヘ）１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、２−ネオペンチル−１，３−ブタジエン、２−クロロ−１，３−ブタジエン、２−シアノ−１，３−ブタジエン、イソプレン、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基などの置換基で置換された置換直鎖共役ペンタジエン類、直鎖状および側鎖状の共役ヘキサジエンなどの脂肪族共役ジエン；
（ト）（メタ）アクリル酸、フマル酸、イタコン酸、モノアルキルイタコン酸、マレイン酸、クロトン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸などのエチレン性不飽和カルボン酸；
【００３３】
（チ）アクリロニトリル、メタアクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物；
トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、ペンタデカフルオロオクチル（メタ）アクリレートなどのフッ素原子含有単量体；
（リ）４−（メタ）アクリロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−（メタ）アクリロイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−（メタ）アクリロイルオキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジンなどのピペリジン系モノマー；
そのほかジカプロラクトンなどが挙げられる。
【００３４】
これらは、１種単独あるいは２種以上を併用して用いることができる。
なお、（Ｂ−ｄ）単量体の使用量は、（Ｂ）成分を構成する全単量体中に、好ましくは０．１〜８０重量％、さらに好ましくは０．５〜６０重量％程度である。
【００３５】
上記（Ｂ−１）成分を製造する際の重合方法としては、例えば、一括して単量体を添加して重合する方法、単量体の一部を重合したのち、その残りを連続的にあるいは断続的に添加する方法、もしくは、単量体を重合の始めから連続的に添加する方法などが挙げられる。また、これらの重合方法を組み合わせた重合方法を採用することもできる。好ましい重合方法としては、溶液重合が挙げられる。溶液重合に使用される溶媒は、通常のものを使用できるが、そのうち、ケトン類、アルコール類が好ましい。この重合において、重合開始剤、分子量調整剤、キレート化剤、無機電解質は、公知のものを使用することができる。
【００３６】
（Ｂ−１）成分のポリスチレン換算数平均分子量（以下「Ｍｎ」という）は、好ましくは、１，０００〜５０，０００、さらに好ましくは、３，０００〜３０，０００である。
【００３７】
本発明において、（Ｂ−１）成分は、単独でまたは上記のようにして得られた２種以上を混合して使用することができる。
【００３８】
本発明における（Ｂ−１）成分の使用量は、（Ａ）成分におけるオルガノシラン（１）１００重量部に対して、通常、３０〜５００重量部、好ましくは、４０〜４００重量部、さらに好ましくは、５０〜３００重量部である。この場合、（Ｂ−１）成分の使用量が３０重量部未満では、得られる塗膜の耐アルカリ性、耐クラック性が低下するがある。一方、５００重量部を超えると、塗膜の耐候性、耐熱性、耐摩耗性などが低下する傾向がある。
【００３９】
（Ｂ−２）フッ素含有ビニルエーテル系重合体；
本発明における（Ｂ−２）成分は、上記特定シリル基を重合体分子鎖の末端および／または側鎖に有するフッ素含有ビニルエーテル系重合体である。
【００４０】
（Ｂ−２）成分は、上記の（Ｂ−ａ）単量体、上記の（Ｂ−ｃ）単量体、（Ｂ−ｅ）ビニルエーテル単量体（以下「（Ｂ−ｅ）単量体」という）を重合して得られ、また、必要に応じて、（Ｂ−ｆ）これらの単量体と共重合可能な他の単量体（以下「（Ｂ−ｆ）単量体」という）をさらに含めて重合して得てもよい。
【００４１】
上記（Ｂ−ｅ）単量体としては、例えば、
（イ）ビニルグリシジルエーテル、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、３−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、３−ヒドロキシブチルビニルエーテル、５−ヒドロキシペンチルビニルエーテル、６−ヒドロキシヘキシルビニルエーテルなどのビニルエーテル類；
【００４２】
（ロ）アリルグリシジルエーテル、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、４−ヒドロキシブチルアリルエーテル、グリセロールモノアリルエーテルなどのアリルエーテル類；
（ハ）メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、ｎ−ペンチルビニルエーテル、ｎ−ヘキシルビニルエーテル、ｎ−オクチルビニルエーテル、ｎ−ドデシルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテルなどのアルキルビニルエーテルもしくはシクロアルキルビニルエーテル類；
などを挙げることができる。
これらは、１種単独であるいは２種以上を併用して用いることができる。
なお、（Ｂ−ｅ）単量体の使用量は、（Ｂ）成分を構成する全単量体中に、好ましくは０．１〜９５重量％、さらに好ましくは０．５〜９０重量％程度である。
【００４３】
なお、（Ｂ−ａ）単量体および（Ｂ−ｃ）単量体の種類および使用量は、（Ｂ−１）フッ素含有アクリル系重合体におけるものと同様である。また、（Ｂ−ｆ）単量体の種類は、（Ｂ−１）成分において示した（Ｂ−ｄ）成分のほかに、（Ｂ−ｂ）成分も適用することができ、（Ｂ−ｆ）成分のその使用量も、これらの単量体の使用量と同様である。
【００４４】
（Ｂ−２）成分を製造する際の重合方法は、（Ｂ−１）成分において例示した重合方法を適用することができ、好ましい重合方法としては、溶液重合が挙げらる。溶液重合の際に用いられる溶媒は、通常のものを使用することができ、好ましくは、ケトン類、アルコール類を挙げることができる。また、この重合においても、重合開始剤、分子量調整剤、キレート化剤および無機電解質は、公知のものを使用することができる。
【００４５】
（Ｂ−２）成分のＭｎは、好ましくは、１，０００〜７０，０００、さらに好ましくは、３，０００〜３０，０００である。
【００４６】
本発明において、（Ｂ−２）成分は、単独でまたは上記のようにして得られた２種以上を混合して使用することができる。
【００４７】
本発明における（Ｂ−２）成分の使用量は、（Ａ）成分におけるオルガノシラン（１）１００重量部に対して、通常、５０〜８００重量部、好ましくは、６０〜７００重量部、さらに好ましくは、８０〜５００重量部である。この場合、（Ｂ−２）成分の使用量が５０重量部未満では、得られる塗膜の耐アルカリ性、耐クラック性が低下する傾向がある。一方、８００重量部を超えると、塗膜の耐候性が低下する傾向がある。
【００４８】
なお、本発明において、上記（Ｂ−１）成分と上記（Ｂ−２）成分とを組み合わせて、本発明の組成物を得てもよい。
【００４９】
（Ｂ−３）シリル基含有アクリル系重合体；
（Ｂ−３）成分は、加水分解性基および／または水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基を有するアクリル系重合体である。
（Ｂ−３）成分は、例えば、上記（Ｂ−ｂ）アルキル（メタ）アクリレート、および（Ｂ−ｃ）シリル基を有する単量体を重合して得られ、また、必要に応じて、（Ｂ−ｄ）これらの単量体と共重合可能な他の単量体をさらに含めて重合して得てもよい。
（Ｂ−３）成分における各単量体の組成比は、上記（Ｂ−１）成分や（Ｂ−２）成分における各単量体の組成比と同様である。
【００５０】
なお、（Ｂ−３）成分を製造する際の重合方法は、（Ｂ−１）成分において例示した重合方法を適用することができ、好ましい重合方法としては、溶液重合が挙げられる。溶液重合の際に用いられる溶媒は、通常のものを使用することができ、好ましくは、ケトン類、アルコール類を挙げることができる。また、この重合においても、重合開始剤、分子量調整剤、キレート化剤および無機電解質は、公知のものを使用することができる。
【００５１】
（Ｂ−３）成分のポリスチレン換算数平均分子量（以下「Ｍｎ」という）は、好ましくは、１，０００〜５０，０００、さらに好ましくは、３，０００〜３０，０００である。
【００５２】
本発明において、（Ｂ−３）成分は、単独でまたは上記のようにして得られた２種以上を混合して使用することができる。
【００５３】
本発明における（Ｂ−３）成分の使用量は、（Ａ）成分におけるオルガノシラン（１）１００重量部に対して、０〜８００重量部、好ましくは、０．５〜７００重量部、さらに好ましくは、１〜６００重量部である。この場合、（Ｂ−３）成分の使用量が８００重量部を超えると、塗膜の硬度や耐候性、耐熱性、耐摩耗性などの塗膜強度や耐久性が低下する傾向がある。
【００５４】
さらに、本発明の組成物には、下記の（Ｃ）〜（Ｆ）成分を配合することができる。以下、これらの成分につき説明する。
【００５５】
（Ｃ）成分
（Ｃ）成分は、水および／または有機溶剤からなる。
本発明の組成物は、上記（Ａ）成分および（Ｂ）成分を必須とし、後述する（Ｄ）〜（Ｆ）成分などを含有するものであり、通常、組成物を調製する際に、水がオルガノシラン（１）や（Ｂ）成分を加水分解・縮合反応させ、あるいは、粒子状成分を分散させるために添加される。
本発明における水の使用量は、（Ａ）成分におけるオルガノシラン（１）１モルに対して、通常、０．５〜３モル、好ましくは、０．７〜２モル程度である。
【００５６】
また、上記有機溶剤は、主として、（Ａ）〜（Ｂ）成分や、（Ｄ）〜（Ｆ）成分などを均一に混合させ、組成物の全固形分濃度を調整すると同時に、種々の塗装方法に適用できるようにし、かつ組成物の分散安定性および保存安定性をさらに向上させるために使用される。
【００５７】
このような有機溶剤としては、上記各成分を均一に混合できるものであれば特に限定されないが、例えば、アルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などを挙げることができる。
これらの有機溶剤のうち、アルコール類の具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、ｎ−ヘキシルアルコール、ｎ−オクチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどを挙げることができる。
【００５８】
また、芳香族炭化水素類の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを、エーテル類の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどを、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトンなどを、エステル類の具体例としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸プロピレンなどを挙げることができる。
これらの有機溶剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００５９】
本発明の組成物の全固形分濃度は、好ましくは、５０重量％以下であり、使用目的に応じて適宜調整される。例えば、薄膜形成基材への含浸を目的とするときには、通常、２０重量％以下であり、また厚膜形成を目的で使用するときには、通常、２０〜５０重量％、好ましくは３０〜４５重量％である。組成物の全固形分濃度が５０重量％を超えると、保存安定性が低下する傾向がある。
【００６０】
（Ｄ）成分
（Ｄ）成分は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分などの加水分解・縮合反応を促進する触媒である。
（Ｄ）成分を使用することにより、得られる塗膜の硬化速度を高めるとともに、使用されるオルガノシラン成分の重縮合反応により生成されるポリシロキサン樹脂の分子量が大きくなり、強度、長期耐久性などに優れた塗膜を得ることができ、かつ塗膜の厚膜化や塗装作業も容易となる。
【００６１】
このような（Ｄ）成分としては、酸性化合物、アルカリ性化合物、塩化合物、アミン化合物、有機金属化合物および／またはその部分加水分解物（以下、有機金属化合物および／またはその部分加水分解物をまとめて「有機金属化合物等」という）が好ましい。
上記酸性化合物としては、例えば、酢酸、塩酸、硫酸、リン酸、アルキルチタン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、フタル酸などを挙げることができ、好ましくは、酢酸である。
また、上記アルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどを挙げることができ、好ましくは、水酸化ナトリウムである。
また、上記塩化合物としては、例えば、ナフテン酸、オクチル酸、亜硝酸、亜硫酸、アルミン酸、炭酸などのアルカリ金属塩などを挙げることができる。
【００６２】
また、上記アミン化合物としては、例えば、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ピペリジン、ピペラジン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、エタノールアミン、トリエチルアミン、３−アミノプロピル・トリメトキシシラン、３−アミノプロピル・トリエトキシシラン、３−（２−アミノエチル）−アミノプロピル・トリメトキシシラン、３−（２−アミノエチル）−アミノプロピル・トリエトキシシラン、３−（２−アミノエチル）−アミノプロピル・メチル・ジメトキシシラン、３−アニリノプロピル・トリメトキシシランや、アルキルアミン塩類、四級アンモニウム塩類のほか、エポキシ樹脂の硬化剤として用いられる各種変性アミンなどを挙げることができ、好ましくは、３−アミノプロピル・トリメトキシシラン、３−アミノプロピル・トリエトキシシラン、３−（２−アミノエチル）−アミノプロピル・トリエトキシシランである。
【００６３】
また、上記有機金属化合物等としては、例えば、下記一般式（４）で表される化合物（以下「有機金属化合物（４）」という）、同一のスズ原子に結合した炭素数１〜１０のアルキル基を１〜２個有する４価スズの有機金属化合物（以下「有機スズ化合物」という）、あるいは、これらの化合物の部分加水分解物などを挙げることができる。
【００６４】
Ｍ（ＯＲ5)p （Ｒ6 ＣＯＣＨＣＯＲ7)q ・・・（４）
〔式中、Ｍはジルコニウム、チタンまたはアルミニウムを示し、Ｒ5 およびＲ6 は、同一または異なって、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基などの炭素数１〜６の１価の炭化水素基を示し、Ｒ7 は、Ｒ5 およびＲ6 と同様の炭素数１〜６の１価の炭化水素基のほか、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ラウリルオキシ基、ステアリルオキシ基などの炭素数１〜１６のアルコキシル基を示し、ｐおよびｑは０〜４の整数で、（ｐ＋ｑ）＝（Ｍの原子価）である。〕
【００６５】
有機金属化合物（４）の具体例としては、
（イ）テトラ−ｎ−ブトキシジルコニウム、トリ−ｎ−ブトキシ・エチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどの有機ジルコニウム化合物；
【００６６】
（ロ）テトラ−ｉ−プロポキシチタニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトン）チタニウムなどの有機チタン化合物；
（ハ）トリ−ｉ−プロポキシアルミニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・エチルアセトアセテートアルミニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・アセチルアセトナートアルミニウム、ｉ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどの有機アルミニウム化合物
などを挙げることができる。
【００６７】
これらの有機金属化合物（４）およびその部分加水分解物のうち、トリ−ｎ−ブトキシ・エチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・エチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、あるいは、これらの化合物の部分加水分解物が好ましい。
【００６８】
また、有機スズ化合物の具体例としては、
（Ｃ4 Ｈ9 ）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣ11Ｈ23）2 、
（Ｃ4 Ｈ9 ）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣＨ3 ）2 、
（Ｃ4 Ｈ9 ）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ4 Ｈ9 ）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣ8 Ｈ17）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣ11Ｈ23）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣＨ3 ）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ4 Ｈ9 ）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ8 Ｈ17）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ16Ｈ33）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ17Ｈ35）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ18Ｈ37）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ20Ｈ41）2 、
【００６９】
などのカルボン酸型有機スズ化合物；
【００７０】
（Ｃ4 Ｈ9 ）2 Ｓｎ（ＳＣＨ2 ＣＯＯＣ8 Ｈ17）2 、
（Ｃ4 Ｈ9 ）2 Ｓｎ（ＳＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯＯＣ8 Ｈ17）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＳＣＨ2 ＣＯＯＣ8 Ｈ17）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＳＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯＯＣ8 Ｈ17）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＳＣＨ2 ＣＯＯＣ12Ｈ25）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＳＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯＯＣ12Ｈ25）2 、
（Ｃ4 Ｈ9 ）Ｓｎ（ＳＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ8 Ｈ17）3 、
（Ｃ8 Ｈ17）Ｓｎ（ＳＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ8 Ｈ17）3 、
【００７１】
などのメルカプチド型有機スズ化合物；
【００７２】
などのスルフィド型有機スズ化合物；
【００７３】
などのクロライド型有機スズ化合物；
（Ｃ4 Ｈ9 ）2 ＳｎＯ、（Ｃ8 Ｈ17）2 ＳｎＯなどの有機スズオキサイドや、これらの有機スズオキサイドとエチルシリケート、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、フタル酸ジオクチルなどのエステル化合物との反応生成物
などを挙げることができる。
【００７４】
（Ｄ）成分は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができ、また亜鉛化合物やその他の反応遅延剤と混合して使用することもできる。
【００７５】
（Ｄ）成分は、組成物を調製する際に配合してもよく、また、塗膜を形成する段階で組成物に配合してもよく、さらには、組成物の調製と塗膜の形成との両方の段階で配合してもよい。
（Ｄ）成分の使用量は、有機金属化合物等以外の場合、上記（Ａ）成分におけるオルガノシラン（１）１００重量部に対して、通常、０〜１００重量部、好ましくは、０．０１〜８０重量部、さらに好ましくは、０．１〜５０重量部であり、有機金属化合物等の場合、上記（Ａ）成分におけるオルガノシラン（１）１００重量部に対して、通常、０〜１００重量部、好ましくは、０．１〜８０重量部、さらに好ましくは、０．５〜５０重量部である。この場合、（Ｄ）成分の使用量が１００重量部を超えると、組成物の保存安定性が低下したり、塗膜にクラックが発生しやすくなる傾向がある。
【００７６】
（Ｅ）成分
（Ｅ）成分は、下記一般式（５）
Ｒ6 ＣＯＣＨ2 ＣＯＲ7 ・・・（５）
〔式中、Ｒ6 およびＲ7 は、有機金属化合物（４）における上記各一般式のそれぞれＲ6 およびＲ7 と同義である〕で表されるβ−ジケトン類およびβ−ケトエステル類、カルボン酸化合物、ジヒドロキシ化合物、アミン化合物、およびオキシアルデヒド化合物からなる群から選択される少なくとも１種である。
このような（Ｅ）成分は、特に、上記（Ｄ）成分として有機金属化合物等を使用する場合に併用することが好ましい。
【００７７】
（Ｅ）成分は、組成物の安定性向上剤として作用するものである。すなわち、（Ｅ）成分が上記有機金属化合物等の金属原子に配位して、該有機金属化合物等による上記（Ａ）成分と（Ｂ）成分の共縮合反応を促進する作用を適度にコントロールすることにより、得られる組成物の保存安定性をさらに向上させる作用をなすものと推定される。
【００７８】
（Ｅ）成分の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロピル、アセト酢酸−ｎ−ブチル、アセト酢酸−ｓｅｃ−ブチル、アセト酢酸−ｔ−ブチル、ヘキサン−２，４−ジオン、ヘプタン−２，４−ジオン、ヘプタン−３，５−ジオン、オクタン−２，４−ジオン、ノナン−２，４−ジオン、５−メチルヘキサン−２，４−ジオン、マロン酸、シュウ酸、フタル酸、グリコール酸、サリチル酸、アミノ酢酸、イミノ酢酸、エチレンジアミン四酢酸、グリコール、カテコール、エチレンジアミン、２，２−ビピリジン、１，１０−フェナントロリン、ジエチレントリアミン、２−エタノールアミン、ジメチルグリオキシム、ジチゾン、メチオニン、サリチルアルデヒドなどを挙げることができる。これらのうち、アセチルアセトン、アセト酢酸エチルが好ましい。
（Ｅ）成分は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００７９】
（Ｅ）成分の使用量は、上記有機金属化合物等における有機金属化合物１モルに対して、通常、２モル以上、好ましくは３〜２０モルである。この場合、（Ｅ）成分の使用量が２モル未満では、得られる組成物の保存安定性の向上効果が不充分となる傾向がある。
【００８０】
（Ｆ）成分
（Ｆ）成分は、無機化合物の粉体および／またはゾルもしくはコロイドからなり、塗膜の所望の特性に応じて配合される。
【００８１】
（Ｆ）成分をなす化合物の具体例としては、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、ＡｌＧａＡｓ、Ａｌ（ＯＨ）3 、Ｓｂ2 Ｏ5 、Ｓｉ3 Ｎ4 、ＳｎＯ2 、Ｓｎ−Ｉｎ2 Ｏ3 、Ｉｎ2 Ｏ3 、Ｓｂ−Ｉｎ2 Ｏ3 、ＩｎＰ、ＩｎＳｂ、ＩｎＡｓ、ＩｎＧａＡｌＰ、ＭｇＦ、ＣｅＦ3 、ＣｅＯ2 、３Ａｌ2 Ｏ3 ・２ＳｉＯ2 、ＢｅＯ、ＳｉＣ、ＡｌＮ、Ｆｅ、Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｃｏ、Ｃｏ−ＦｅＯx 、ＣｒＯ2 、Ｆｅ4 Ｎ、ＢａＴｉＯ3 、ＢａＯ−Ａｌ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 、Ｂａフェライト、ＳｍＣＯ5 、ＹＣＯ5 、ＣｅＣＯ5 、ＰｒＣＯ5 、Ｓｍ2 ＣＯ17、Ｎｄ2 Ｆｅ14Ｂ、ＺｒＯ2 、Ａｌ4 Ｏ3 、ＡｌＮ、ＳｉＣ、α−Ｓｉ、ＳｉＮ4 、ＣｏＯ、Ｓｂ−ＳｎＯ2 、ＭｎＯ2 、ＭｎＢ、Ｃｏ3 Ｏ4 、Ｃｏ3 Ｂ、ＬｉＴａＯ3 、ＭｇＯ、ＭｇＡｌ2 Ｏ4 、ＢｅＡｌ2 Ｏ4 、ＺｒＳｉＯ4 、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＳｂ、ＺｎＴｅ、ＰｂＴｅ、ＰｂＳ、ＰｂＳｅ、ＧｅＳｉ、ＦｅＳｉ2 、ＣｒＳｉ2 、ＣｏＳｉ2 、ＭｎＳｉ1.73、Ｍｇ2 Ｓｉ、β−Ｂ、ＢａＣ、ＢＰ、ＴｉＢ2 、ＺｒＢ2 、ＨｆＢ2 、Ｒｕ2 Ｓｉ3 、ＲｕＯ2 、ＴｉＯ2 、ＴｉＯ3 、ＳｒＴｉＯ3 、ＦｅＴｉＯ3 、ＰｂＴｉＯ3 、Ａｌ2 ＴｉＯ5 、Ｚｎ2 ＳｉＯ4 、Ｚｒ2 ＳｉＯ4 、２ＭｇＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 −５ＳｉＯ2 、ＷＯ3 、Ｂｉ2 Ｏ3 、ＣｄＯ、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＣｄＦｅＯ3 、ＭｏＳ2 、ＬａＲｈＯ3 、ＧａＮ、ＣｄＰ、Ｎｂ2 Ｏ5 、ＧａＡｓＰ、Ｌｉ2 Ｏ−Ａｌ2 Ｏ3 −４ＳｉＯ2 、Ｍｇフェライト、Ｎｉフェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト、Ｌｉフェライト、Ｓｒフェライトなどを挙げることができる。
これら（Ｆ）成分は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００８２】
（Ｆ）成分の存在形態には、粉体、水に分散した水系のゾルもしくはコロイド、イソプロピルアルコールなどの極性溶媒や、トルエンなどの非極性溶媒中に分散した溶媒系のゾルもしくはコロイドがある。溶媒系のゾルもしくはコロイドの場合、半導体の分散性によってはさらに水や溶媒にて希釈して用いてもよく、また分散性を向上させるために表面処理して用いてもよい。
【００８３】
（Ｆ）成分が水系のゾルもしくはコロイド、あるいは溶媒系のゾルもしくはコロイドである場合、固形分濃度は４０重量％以下が好ましい。
【００８４】
（Ｆ）成分を組成物中に配合する方法としては、組成物の調製後に添加してもよく、あるいは、組成物の調製時に添加して、（Ｆ）成分を、上記（Ａ）成分、（Ｂ）成分などと共加水分解・縮合させてもよい。
【００８５】
（Ｆ）成分の使用量は、上記（Ａ）成分におけるオルガノシラン（１）１００重量部に対して、固形分で、通常、０〜５００重量部、好ましくは、０．１〜４００重量部である。
【００８６】
他の添加剤
また、本発明の組成物には、得られる塗膜の着色、厚膜化などのために、別途充填材を添加・分散させることもできる。
このような充填材としては、例えば、非水溶性の有機顔料や無機顔料、顔料以外の、粒子状、繊維状もしくは鱗片状のセラミックス、金属あるいは合金、ならびにこれらの金属の酸化物、水酸化物、炭化物、窒化物、硫化物などを挙げることができる。
【００８７】
上記充填材の具体例としては、鉄、銅、アルミニウム、ニッケル、銀、亜鉛、フェライト、カーボンブラック、ステンレス鋼、二酸化ケイ素、顔料用酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化コバルト、合成ムライト、水酸化アルミニウム、水酸化鉄、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素、クレー、ケイソウ土、消石灰、石膏、タルク、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、ベントナイト、雲母、亜鉛緑、クロム緑、コバルト緑、ビリジアン、ギネー緑、コバルトクロム緑、シェーレ緑、緑土、マンガン緑、ピグメントグリーン、群青、紺青、ピグメントグリーン、岩群青、コバルト青、セルリアンブルー、ホウ酸銅、モリブデン青、硫化銅、コバルト紫、マルス紫、マンガン紫、ピグメントバイオレット、亜酸化鉛、鉛酸カルシウム、ジンクエロー、硫化鉛、クロム黄、黄土、カドミウム黄、ストロンチウム黄、チタン黄、リサージ、ピグメントエロー、亜酸化銅、カドミウム赤、セレン赤、クロムバーミリオン、ベンガラ、亜鉛白、アンチモン白、塩基性硫酸鉛、チタン白、リトポン、ケイ酸鉛、酸化ジルコン、タングステン白、鉛亜鉛華、バンチソン白、フタル酸鉛、マンガン白、硫酸鉛、黒鉛、ボーン黒、ダイヤモンドブラック、サーマトミック黒、植物性黒、チタン酸カリウムウィスカー、二硫化モリブデンなどを挙げることができる。
これらの充填材は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
充填材の使用量は、組成物の全固形分１００重量部に対して、通常、３００重量部以下である。
【００８８】
さらに、本発明の組成物には、所望により、オルトギ酸メチル、オルト酢酸メチル、テトラエトキシシランなどの公知の脱水剤；ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリカルボン酸型高分子界面活性剤、ポリカルボン酸塩、ポリリン酸塩、ポリアクリル酸塩、ポリアミドエステル塩、ポリエチレングリコールなどの分散剤；メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースなどのセルロース類や、ひまし油誘導体、フェロけい酸塩などの増粘剤；炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、亜硝酸アンモニウム、水素化ホウ素ナトリウム、カルシウムアジドなどの無機発泡剤や、アゾビスイソブチロニトリルなどのアゾ化合物、ジフェニルスルホン−３，３′−ジスルホヒドラジンなどのヒドラジン化合物、セミカルバジド化合物、トリアゾール化合物、Ｎ−ニトロソ化合物などの有機発泡剤のほか、界面活性剤、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、染料などの他の添加剤を配合することもできる。
【００８９】
また、組成物のコーティング性をより向上させるためにレベリング剤を配合することができる。このようなレベリング剤のうち、フッ素系のレベリング剤（商品名。以下同様）としては、例えば、ビーエムヘミー（ＢＭ−ＣＨＥＭＩＥ）社のＢＭ１０００、ＢＭ１１００；エフカケミカルズ社のエフカ７７２、エフカ７７７；共栄社化学（株）製のフローレンシリーズ；住友スリーエム（株）のＦＣシリーズ；東邦化学（株）のフルオナールＴＦシリーズなどを挙げることができ、シリコーン系のレベリング剤としては、例えば、ビックケミー社のＢＹＫシリーズ；シュメグマン（Ｓｓｈｍｅｇｍａｎｎ）社のＳｓｈｍｅｇｏシリーズ；エフカケミカルズ社のエフカ３０、エフカ３１、エフカ３４、エフカ３５、エフカ３６、エフカ３９、エフカ８３、エフカ８６、エフカ８８などを挙げることができ、エーテル系またはエステル系のレベリング剤としては、例えば、日信化学工業（株）のカーフィノール；花王（株）のエマルゲン、ホモゲノールなどを挙げることができる。
【００９０】
このようなレベリング剤を配合することにより、塗膜の仕上がり外観が改善され、薄膜としても均一に塗布することができる。
レベリング剤の使用量は、全組成物に対して、好ましくは、０．０１〜５重量％、さらに好ましくは０．０２〜３重量％である。
【００９１】
レベリング剤を配合する方法としては、組成物を調製する際に配合してもよく、また塗膜を形成する段階で組成物に配合してもよく、さらには組成物の調製と塗膜の形成との両方の段階で配合してもよい。
【００９２】
本発明の組成物を調製するに際しては、（Ｄ）成分と（Ｅ）成分とを使用しない場合は、各成分の混合方法は特に限定されないが、（Ｄ）成分と（Ｅ）成分とを使用する場合は、好ましくは、（Ａ）〜（Ｆ）成分のうち（Ｅ）成分を除いた混合物を得たのち、これに（Ｅ）成分を添加する方法が採用される。
【００９３】
組成物の調製法の具体例としては、下記（ｉ）〜（ｉｖ）の方法などを挙げることができる。
（ｉ）（Ａ）成分を構成するオルガノシラン（１）、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分および必要量の有機溶剤からなる混合物に、所定量の水を加えて加水分解・縮合反応を行ったのち、（Ｅ）成分を添加する方法。
（ii）（Ａ）成分を構成するオルガノシラン（１）、および必要量の有機溶剤からなる混合物に、所定量の水を加えて加水分解・縮合反応を行い、次いで（Ｂ）成分および（Ｄ）成分を加えて混合して、さらに縮合反応を行ったのち、（Ｅ）成分を添加する方法。
【００９４】
（ｉｉｉ）（Ａ）成分を構成するオルガノシラン（１）、（Ｄ）成分および必要量の有機溶剤からなる混合物に、所定量の水を加えて加水分解・縮合反応を行い、次いで（Ｂ）成分を加えて混合して、さらに部分縮合反応を行ったのち、（Ｅ）成分を添加する方法。
（ｉｖ）（Ａ）成分を構成するオルガノシラン（１）の一部、（Ｂ）成分、（Ｄ）成分および必要量の有機溶剤からなる混合物に、所定量の水を加えて加水分解・縮合反応を行い、次いでオルガノシラン（１）の残部を添加して、さらに加水分解・部分縮合反応を行なったのち、（Ｅ）成分を添加する方法。
【００９５】
なお、本発明においては、（Ａ）〜（Ｅ）成分以外の成分は、組成物を調製する適宜の段階で添加することができる。
【００９６】
以上の本発明の組成物は、保存安定性に優れ、優れた反射防止効果、耐汚染性を有するとともに熱硬化により形成可能である反射防止膜およびその反射防止膜を含む積層体ならびにその反射防止膜を提供することができる。
【００９７】
本発明の組成物を基材に塗布する際には、刷毛、ロールコーター、フローコーター、遠心コーター、超音波コーターなどを用いたり、ディップコート、流し塗り、スプレー、スクリーンプロセス、電着、蒸着などの塗布方法により、１回塗りで厚さ０．０５〜１００μｍ程度、２〜３回塗りでは厚さ０．１〜２００μｍ程度の塗膜を形成することができる。その後、常温で乾燥するか、あるいは、３０〜２００℃程度の温度で数秒〜数十分程度加熱して乾燥（熱硬化）することにより、各種の基材に塗膜を形成することができる。
【００９８】
本発明の組成物を適用しうる基材としては、例えば、鉄、アルミニウム、ステンレスなどの金属；セメント、コンクリート、ＡＬＣ、フレキシブルボード、モルタル、スレート、石膏、セラミックス、レンガなどの無機窯業系材料；フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂）などのプラスチック成型品；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタン、ポリイミドなどのプラスチックフィルムや、木材、紙、ガラスなどを挙げることができる。また、本発明の組成物は、劣化塗膜の再塗装にも有用である。
【００９９】
これらの基材には、下地調整、密着性向上、多孔質基材の目止め、平滑化、模様付けなどを目的として、予め表面処理を施すこともできる。
金属系基材に対する表面処理としては、例えば、研磨、脱脂、メッキ処理、クロメート処理、火炎処理、カップリング処理などを挙げることができ、プラスチック系基材に対する表面処理としては、例えば、ブラスト処理、薬品処理、脱脂、火炎処理、酸化処理、蒸気処理、コロナ放電処理、紫外線照射処理、プラズマ処理、イオン処理などを挙げることができ、無機窯業系基材に対する表面処理としては、例えば、研磨、目止め、模様付けなどを挙げることができ、木質基材に対する表面処理としては、例えば、研磨、目止め、防虫処理などを挙げることができ、紙質基材に対する表面処理としては、例えば、目止め、防虫処理などを挙げることができ、さらに劣化塗膜に対する表面処理としては、例えば、ケレンなどを挙げることができる。
【０１００】
本発明の組成物による塗布操作は、基材の種類や状態、塗布方法によって異なる。例えば、金属系基材の場合、防錆の必要があればプライマーを用い、無機窯業系基材の場合、基材の特性（表面荒さ、含浸性、アルカリ性など）により塗膜の隠ぺい性が異なるため、通常はプライマーを用いる。また、劣化塗膜の再塗装の場合、旧塗膜の劣化が著しいときはプライマーを用いる。
それ以外の基材、例えば、プラスチック、木材、紙、ガラスなどの場合は、用途に応じてプライマーを用いても用いなくてもよい。
【０１０１】
プライマーの種類は特に限定されず、基材と組成物との密着性を向上させる作用を有するものであればよく、基材の種類、使用目的に応じて選択する。プライマーは、単独でまたは２種以上を混合して使用することができ、また顔料などの着色成分を含むエナメルでも、該着色成分を含まいクリヤーでもよい。
【０１０２】
プライマーの種類としては、例えば、アルキド樹脂、アミノアルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フッ素樹脂、アクリルシリコン樹脂、アクリルエマルジョン、エポキシエマルジョン、ポリウレタンエマルジョン、ポリエステルエマルジョンや、本発明における（Ａ）成分からなる組成物、（Ａ）成分と（Ｂ−３）成分とからなる組成物などを挙げることができる。また、これらのプライマーには、厳しい条件での基材と塗膜との密着性が必要な場合、各種の官能基を付与することもできる。このような官能基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、カルボニル基、アミド基、アミン基、グリシジル基、アルコキシシリル基、エーテル結合、エステル結合などを挙げることができる。
なお、これらのプライマー成分は、密着性を向上させるための密着性向上成分として、本発明に用いられるコーティング組成物中に添加することもできる。
【０１０３】
以上の本発明に用いられるコーティング組成物は、熱硬化性組成物として用いられるが、この組成物に、さらに（Ｇ）光酸発生や、（Ｈ）脱水剤を配合することにより、光硬化性組成物として用いることができる。以下、光硬化性組成物について説明する。
【０１０４】
（Ｇ）光酸発生剤
▲１▼定義
本発明に用いられる組成物に添加する（Ｇ）光酸発生剤は、光などのエネルギー線を照射することにより、（Ａ）成分である加水分解性のオルガノシランを光硬化（架橋）可能な酸性活性物質を放出することができる化合物と定義される。
なお、光酸発生剤を分解させて、カチオンを発生するするために照射する光エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線などを挙げることができる。ただし、一定のエネルギーレベルを有し、硬化速度が大（速く）であり、しかも照射装置が比較的安価で、小型な観点から、紫外線を使用することが好ましい。
【０１０５】
なお、本発明の積層体を形成するにおいて、組成物に、光酸発生剤とともに後述するラジカル発生剤を併用することも好ましい。中性の活性物質であるラジカルは、シラノール基の縮合反応を促進することはないが、（Ａ）成分中にラジカル重合性の官能基を有する場合に、この官能基の重合を推進させることができる。したがって、光硬化性組成物をより効率的に硬化させることができる。
【０１０６】
▲２▼光酸発生剤の種類
次に、本発明に用いられる光酸発生剤の種類を説明する。この光酸発生剤としては、一般式（６）で表される構造を有するオニウム塩（第１群の化合物）や一般式（７）で表される構造を有するスルホン酸誘導体（第２群の化合物）を挙げることができる。
【０１０７】
〔Ｒ8 a Ｒ9 b Ｒ10 c Ｒ11 d Ｗ〕+m〔ＭＺm+n 〕-m （６）
〔一般式（６）中、カチオンはオニウムイオンであり、ＷはＳ，Ｓｅ，Ｔｅ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｏ，Ｉ，Ｂｒ，Ｃｌまたは−Ｎ≡Ｎであり、Ｒ8 〜Ｒ11は同一または異なる有機基であり、ａ，ｂ，ｃおよびｄはそれぞれ０〜３の整数であって、（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）はＷの価数に等しい。また、Ｍはハロゲン化物錯体〔ＭＸm+n 〕の中心原子を構成する金属またはメタロイドであり、例えば、Ｂ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｆｅ，Ｓｎ，Ｂｉ，Ａｌ，Ｃａ，Ｉｎ，Ｔｉ，Ｚｎ，Ｓｃ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｃｏである。Ｚは、例えば、Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒなどのハロゲン原子またはアリール基であり、ｍはハロゲン化物錯体イオンの正味の電荷であり、ｎはＭの原子価である。〕
【０１０８】
Ｑs −〔Ｓ（＝Ｏ）2 −Ｒ12〕t （７）
〔一般式（７）中、Ｑは一価もしくは二価の有機基、Ｒ12は炭素数１〜１２の一価の有機基、添え字ｓは０または１、添え字ｔは１または２である。〕
【０１０９】
まず、第１群の化合物であるオニウム塩は、光を受けることにより酸性活性物質を放出することができる化合物である。このような第１群の化合物のうち、より有効なオニウム塩は芳香族オニウム塩であり、特に好ましくは下記一般式（８）で表されるジアリールヨードニウム塩である。
［Ｒ13−Ａｒ1 −Ｉ+ −Ａｒ2 −Ｒ14］［Ｙ- ］ （８）
〔一般式（８）中、Ｒ13およびＲ14は、それぞれ１価の有機基であり、同一でも異なっていてもよく、Ｒ13およびＲ14の少なくとも一方は炭素数が４以上のアルキル基を有しており、Ａｒ1 およびＡｒ2 はそれぞれ芳香族基であり、同一でも異なっていてもよく、Ｙ- は１価の陰イオンであり、周期律表３族，５族のフッ化物陰イオン、もしくはＣｌＯ4 - ，ＣＦ3 - およびＳＯ3 - から選ばれる陰イオンである。〕
【０１１０】
また、第２群の化合物としての一般式（７）で表されるスルホン酸誘導体の例を示すと、ジスルホン類、ジスルホニルジアゾメタン類、ジスルホニルメタン類、スルホニルベンゾイルメタン類、イミドスルホネート類、ベンゾインスルホネート類、１−オキシ−２−ヒドロキシ−３−プロピルアルコールのスルホネート類、ピロガロールトリスルホネート類、ベンジルスルホネート類を挙げることができる。
また、一般式（７）で表されるスルホン酸誘導体のうち、より好ましくはイミドスルホネート類であり、さらに好ましくはイミドスルホネートのうち、トリフルオロメチルスルホネート誘導体である。
【０１１１】
▲３▼光酸発生剤の添加量
次に、光硬化性組成物に使用される光酸発生剤の添加量（含有割合）について説明する。
この光酸発生剤の添加量は特に制限されるものではないが、（Ａ）成分を構成するオルガノシラン（１）１００重量部に対して、通常、０．１〜１５重量部の範囲内の値とするのが好ましい。光酸発生剤の添加量が０．１重量部未満となると、光硬化性が低下し、充分な硬化速度が得られない場合がある。一方、光酸発生剤の添加量が１５重量部を超えると、得られる硬化物の耐候性や耐熱性が低下する場合がある。
したがって、光硬化性と得られる硬化物の耐候性などとのバランスがより良好な観点から、光酸発生剤の添加量を、オルガノシラン（１）１００重量部に対して１〜１０重量部の範囲内の値とすることがより好ましい。
【０１１２】
（Ｈ）脱水剤
▲１▼定義
本発明の光硬化性組成物に使用される脱水剤は、化学反応により水以外の物質に変換する化合物、物理吸着または包接により、光硬化性および保存安定性に影響を与えなくする化合物と定義される。
すなわち、このような脱水剤を含有することにより、光硬化性組成物の耐候性や耐熱性を損なうことなく、保存安定性や光硬化性という相反する特性を向上させることができる。この理由として、外部から侵入してくる水を、脱水剤が有効に吸収するために光硬化性組成物の保存安定性が向上し、一方、光硬化反応である縮合反応においては、生成した水を順次に脱水剤が有効に吸収するために光硬化性組成物の光硬化性が向上するものと考えられる。
【０１１３】
▲２▼脱水剤の種類
次に、光硬化性組成物に使用される脱水剤の種類を説明する。この脱水剤の種類は特に制限されるものでないが、有機化合物として、カルボン酸エステル、アセタール類（ケタール類を含む）、およびカルボン酸無水物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物であることが好ましい。また、無機化合物として、脱水機能を有するセラミック粉体の使用も好ましい。これらの脱水剤は、優れた脱水効果を示し、少量の添加で脱水剤の機能を効率的に発揮することができる。
【０１１４】
また、脱水剤としてのカルボン酸エステルは、カルボン酸オルトエステルやカルボン酸シリルエステルなどの中から選ばれる。
ここで、好ましいカルボン酸オルトエステルとしては、オルトギ酸メチル、オルトギ酸エチル、オルトギ酸プロピル、オルトギ酸ブチル、オルト酢酸メチル、オルト酢酸エチル、オルト酢酸プロピル、オルト酢酸ブチル、オルトプロピオン酸メチルおよびオルトプロピオン酸エチルなどが挙げられる。また、これらのカルボン酸オルトエステルのうち、より優れた脱水効果を示し、保存安定性や光硬化性をより向上させることができる観点から、オルトギ酸エステルが、本発明における脱水剤として特に好ましい。
また、好ましいカルボン酸シリルエステルとしては、酢酸トリメチルシリル、酢酸トリブチルシリル、ギ酸トリメチルシリル、シュウ酸トリメチルシリルなどが挙げられる。
【０１１５】
また、好ましいアセタール類としては、例えば、アセトンジメチルアセタール、アセトンジエチルアセタール、メチルエチルケトンジメチルアセタール、メチルエチルケトンジメチルアセタール、シクロヘキサノンジメチルアセタールおよびシクロヘキサノンジエチルアセタールが挙げられる。これらのアセタール類は、優れた脱水効果を示し、光硬化性組成物の保存安定性や光硬化性をより向上させることができる。
【０１１６】
また、好ましいカルボン酸無水物としては、例えば、ギ酸無水物、無水酢酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、安息香酸無水物、酢酸安息香酸無水物などが挙げられる。特に、無水酢酸および無水コハク酸は、脱水効果に特に優れており好ましい。
【０１１７】
また、好ましい脱水機能を有するセラミック粉体としては、シリカゲル粒子、アルミナ粒子、シリカアルミナ粒子、活性白土、ゼオライトなどが挙げられる。これらのセラミック粉体は、水に対して、強い親和力を有しており、優れた脱水効果を発揮することができる。
【０１１８】
▲３▼脱水剤の添加量
次に、光硬化性組成物に使用される脱水剤の添加量について説明する。脱水剤の添加量は特に制限されるものではないが、（Ａ）成分を構成するオルガノシラン（１）１００重量部に対して、通常、０．１〜１００重量部の範囲内の値とするのが好ましい。この理由は、脱水剤の添加量が０．１重量部未満となると、添加効果の発現に乏しく、保存安定性や光硬化性の向上効果が低い場合があるためであり、一方、脱水剤の添加量が１００重量部を超えると、保存安定性や光硬化性の向上効果が飽和する場合がある。
したがって、より好ましくは、脱水剤の添加量を、オルガノシラン（１）１００重量部に対して、０．５〜５０重量部の範囲内の値とすることであり、さらに好ましくは、１〜１０重量部の範囲内の値とすることである。
【０１１９】
（Ｇ）〜（Ｈ）成分以外のその他の添加剤
光硬化性組成物には、本発明の目的や効果を損なわない範囲において、ラジカル性光重合開始剤、光増感剤、有機溶剤、重合禁止剤、重合開始助剤、レベリング剤、濡れ性改良剤、界面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、無機充填剤、顔料、染料などの添加剤をさらに含有させることも好ましい。
【０１２０】
反射防止膜
▲１▼反射防止膜の形成方法
光硬化性組成物から反射防止膜を形成する場合、コーテイングする方法を採ることが好ましい。このようなコーテイング方法としては、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、またはインクジェット法などの方法を用いることができる。これらのうち、基材が板状の場合には、特にディッピング法を用いることが好ましい。
【０１２１】
また、光硬化性組成物を光硬化する手段も特に制限されるものではないが、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマーランプなどの光源を用いて、波長１５０〜４００ｎｍの光を照射することが好ましい。また、レーザ光、あるいはレンズ、ミラーなどを用いて得られた収束光などを走査させながら光硬化性組成物に光照射することも好ましい。さらに、所定のパターンの光透過部を有するマスクを用い、このマスクを介して非収束光を組成物に光照射したり、あるいは、多数の光ファイバーを束ねてなる導光部材を用い、この導光部材における所定のパターンに対応する光ファイバーを介して光照射することも好ましい。
【０１２２】
▲２▼厚さ
反射防止膜の厚さは特に制限されるものではないが、例えば一層の場合、０．０５〜５０μｍの範囲内の値であることが好ましい。この理由は、厚さが０．０５μｍ未満となると、反射防止効果や基材に対する密着力が低下する場合があるためであり、一方、厚さが５０μｍを超えると、光干渉が生じて反射防止効果が低下する場合があるためである。
したがって、反射防止膜が一層の場合、その厚さを０．０５〜５０μｍの範囲内の値とするのがより好ましく、０．６〜２０μｍの範囲内の値とするのがさらに好ましい。
【０１２３】
なお、反射防止膜を複数層設けて多層構造とする場合には、その厚さを反射防止膜が一層の場合の好ましい厚さに層数を掛けた値とするのが良い。例えば、反射防止膜を２層設ける場合には、合計した厚さを０．１〜２００μｍの範囲内の値とするのが好ましい。
【０１２４】
▲３▼屈折率
反射防止膜の屈折率の値は、低いほど優れた反射防止効果が得られるものの、具体的に、１．７（−）以下の値が好ましく、より好ましくは１．３〜１．６（−）の範囲内の値であり、１．３〜１．５（−）の範囲内の値であることがさらに好ましい。この理由は、屈折率が１．３（−）未満となると、使用可能な材料の種類が過度に制限される場合があるためであり、一方、屈折率が１．７（−）を超えると、反射防止効果が著しく低下する場合があるためである。
【０１２５】
なお、反射防止膜を複数層設ける場合には、そのうちの少なくとも一層が上述した範囲内の屈折率の値を有していれば良く、したがって、その他の反射防止膜は１．７（−）を超える屈折率の値を有していても良い。
【０１２６】
積層体
次に、本発明の積層体は、上記反射防止膜を基材表面に有する積層体である。なお、積層体は、少なくとも基材と、反射防止膜とを含んでいれば良く、種々の変形例が含まれる。なお、以下の積層体の構成例は、（Ｇ）〜（Ｈ）成分を含まない、上記の熱硬化性組成物にも適用可能である。
以下、本発明の積層体を、図１〜図３を参照しつつ具体的に説明する。
図１は、基材上１２に直接形成された反射防止膜１０を含む積層体１４の断面図であり、図２は、基材１２と反射防止膜１０との間にハードコート層１６を介在させた積層体１８の断面図である。また、図３は、下側から、基材１２と、ハードコート層１６と、第１の高屈折率層２０と、第１の反射防止膜２２と、第２の高屈折率層２４と、第２の反射防止膜２６とを順次に形成して構成した多層構造の積層体２８の断面図である。
【０１２７】
図１に示す積層体１４の場合、反射防止膜１０を直接基材１２上に形成することができるので、構成が単層とシンプルであり、しかも精度良く形成することができる。
また、図２に示す積層体１８のように、反射防止膜１０と基材１２との間に、ハードコート層１６を介在させると、反射防止膜１０の基材１２に対する密着力をより向上させることができ、また、ハードコート層１６の機械的特性に起因して積層体１８としての耐久性がより向上する。なお、ハードコート層１６は、例えば、ＳｉＯ2 、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂などの材料から構成するのが好ましく、さらには、その厚さを１〜５０μｍの範囲内の値とするのが好ましく、より好ましくは５〜１０μｍの範囲内の値とする。
【０１２８】
また、図３に示す積層体２８のように、第１および第２の反射防止層２２，２６のほかに、比較的高い屈折率の値、例えば、１．５〜２．０（−）の範囲内の値を有する、厚さ５０〜２００ｎｍの第１および第２の高屈折率層２０，２４を、それぞれ第１および第２の反射防止層２２，２６と接して設けることも好ましい。このように、本発明の反射防止層に接して高屈折率層２０，２４を設け、しかも複数層設けることにより、より優れた反射防止効果を得ることができる。
また、高屈折率層２０，２４を設ける場合、より優れた反射防止効果が得られることから、反射防止層２２，２６と、高屈折率層２０，２４との間の屈折率差を０．０５（−）以上の値とするのが好ましく、０．１〜０．５（−）の範囲内の値とするのがより好ましく、０．１５〜０．５（−）の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
【０１２９】
また、図２〜図３の積層体１８，２８に示すように、ハードコート層１６や高屈折率層２０，２４あるいはプライマー層（図示しない）を設ける場合にも、その上に本発明の光硬化性組成物をコーティングしたのち、紫外線などを照射することにより、反射防止膜１０，２２，２６を容易に形成することができる。その場合、反射防止効果の一端を担う高屈折率層２０，２４を含めて、本発明の反射防止膜（反射防止層）と称する場合がある。
【０１３０】
また、図１〜図３に示す積層体１４，１８，２８における基材１２の種類は、光が透過する際に反射防止効果が所望されるものであれば特に制限されるものではないが、例えば、ガラス、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂またはアクリル系樹脂などを挙げることができる。基材１２がガラスの場合には、具体的な積層体として、カメラのレンズ部やテレビ（ＣＲＴ、ＬＣＤ）の画面表示部あるいは窓ガラスなどが挙げられる。また、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂またはアクリル系樹脂からなる基材１２の場合には、液晶表示装置におけるカラーフィルターなどが挙げられる。
【０１３１】
反射防止膜の製造方法
本発明の反射防止膜の製造方法は、その第１の工程は、上述した光硬化性組成物を基材上で成形する工程（成形工程と称する場合がある）であり、第２の工程は、露光機を用いて露光することにより、光硬化性組成物を光硬化させる工程（露光工程と称する場合がある）である。
【０１３２】
（１）第１の工程
光硬化性組成物の成形方法は特に制限されるものではないが、例えば、ディップコータやスピンコータ、あるいはバーコータを用いて、光硬化性組成物を塗布、形成することが好ましい。具体的に、スピンコータを用いた場合、スピンコータ内に、基材を固定したのち、一例として、回転数１，０００ｒｐｍの条件で、予め粘度調整した光硬化性組成物を回転塗布することが好ましい。
また、光硬化性組成物の成形後（光硬化前）の厚さは特に制限されるものではないが、例えば、５０〜１，０００ｎｍの範囲内の値であることが好ましい。この理由は、成形後の厚さが５０ｎｍ未満では、光硬化性組成物を所定形状に保持することが困難となる場合があり、一方、１，０００ｎｍを超えると、光干渉などが生じて、反射防止膜としたときに、反射防止効果が乏しくなる場合があるためである。
【０１３３】
また、第１の工程において、光硬化性組成物の成形後に、１００〜１５０℃の温度で予備加熱（プリベイク）することが好ましい。このような条件で光硬化性組成物を予備加熱することにより、光硬化性組成物における揮発部分を有効に除去することができ、光硬化性組成物の成形品が型崩れすることがなくなる。また、（Ａ）成分を構成するオルガノシラン（１）のシラノールの一部を反応させることができ、基材に対する密着力や現像時における耐薬品（現像剤）性を向上させることもできる。
ただし、過度に加熱して、現像特性が逆に低下しないように、１１０〜１４０℃の温度で加熱することがより好ましく、１１５〜１３０℃の温度で加熱することがより好ましい。
【０１３４】
さらに、加熱時間については、加熱温度を考慮して定めるのが好ましいが、１００〜１５０℃の温度で予備加熱する場合、１〜２０分の加熱時間とするのが好ましい。この理由は、加熱時間が１分未満となると、シラノールの反応が不均一となる場合があり、一方、加熱時間が１０分を超えると、シラノールが過度に反応して、現像液を用いて精度良く現像することが困難となる場合があるためである。したがって、加熱時間を２〜１５分の範囲内の値とするのが好ましく、３〜１０分の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
なお、加熱手段については特に制限されるものではなく、例えば、オーブンや赤外線ランプを用いることができる。
【０１３５】
（２）第２の工程
また、第２の工程における光硬化方法は、全面露光して光硬化させることはもちろんのこと、所定パターンを有するフォトマスク介して非収束光を光硬化性組成物にパターン露光したり、あるいは、多数の光ファイバーを束ねた導光部材を用い、フォトマスクのパターンに対応する光ファイバーからのみ光照射して、パターン露光することも好ましい。
このようにパターン露光することにより、露光して硬化させた光硬化物部分と、露光せず未硬化の光硬化性組成物部分とを精度良く形成することができる。具体的に、マスクパターンのライン／スペース（比率５０／５０）が１０μｍ以上の範囲、より好ましくは３０μｍ以上の範囲、さらに好ましくは、５０μｍ以上の範囲において、光硬化させたのち、現像により基材の露出部を再現性良く形成できることが確認されている。
したがって、未硬化の光硬化性組成物部分のみを、現像液を用いて容易にウエット現像（除去）することができ、基材の露出部、すなわち反射防止膜が設けられていない部分を短時間かつ容易に形成することができる。よって、このような基材の露出部を利用して、所望の部材を強固に接着固定などをすることができる。
【０１３６】
さらに、第２の工程において、光硬化物である反射防止膜をさらに加熱することも好ましい。その場合、基材もしくは塗膜の分解開始温度以下である温度２５〜２００℃、５分〜７２時間の条件で加熱するのが好ましい。このように反射防止膜を加熱することにより、より耐熱性や耐候性に優れた反射防止膜（積層体）を得ることができる。
【０１３７】
【実施例】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明の範囲はこれら実施例の記載に限定されるものではない。また、実施例中、各成分の配合量は特に記載のない限り重量部を意味している。
【０１３８】
参考例１〔フッ素含有アクリル系重合体（Ｂ−１）の調製〕
還流冷却器、撹拌機を備えた反応器に、表１に示す単量体成分と、イソブチルアルコール１０５部、メチルエチルケトン７０部、メタノール３５部を加えて混合したのち、撹拌下で８０℃に加温し、この混合物に、アゾビスイソバレロニトリル４部をキシレン１０部に溶解した溶液を３０分かけて滴下し、さらに８０℃で５時間反応させて、固形分濃度４０％のフッ素含有アクリル系重合体〔（Ｂ−１）成分〕を得た。
【０１３９】
【表１】
【０１４０】
（＊１）１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルメタクリレート
（＊２）４−メタクリロイルオキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン
【０１４１】
参考例２〔フッ素含有ビニルエーテル系重合体（Ｂ−２）の調製〕
（１）フッ素含有ビニルエーテル系重合体の重合
内容積１．０リットルの電磁攪拌機を備えたステンレス製のオートクレーブを窒素ガスを用いて充分に置換した。次いで、このオートクレーブ内に、メチルイソブチルケトン（重合溶剤）１５０部と、エチルビニルエーテル３０部とビニルトリメトキシシラン５部、ノニオン性反応性乳化剤ＮＥ−３０〔旭電化工業（株）製〕１０部と、ラジカル発生剤としてアゾ基含有ポリジメチルシロキサンＶＰＳ−１００１〔和光純薬工業（株）製〕１部と、過酸化ラウロイル０．５部とを収容した。そして、共重合成分などを充分に攪拌したのち、ドライアイスおよびメタノールを用いて−５０℃まで冷却し、再度窒素ガスを用いて系内の酸素を除去した。
次いで、ヘキサフルオロプロピレン（ガス）６５部をオートクレーブ内に導入したのち、オートクレーブ内の温度を７０℃に昇温した。なお、７０℃に達した時点での、オートクレーブ内の圧力は５．９ｋｇｆ／ｃｍ2 であった。
【０１４２】
次いで、オートクレーブ内の共重合成分などを攪拌しながら、温度を７０℃に保持したまま２０時間かけてラジカル重合反応を行った。そして、オートクレーブ内の圧力が２．５ｋｇｆ／ｃｍ2 まで低下した時点で、オートクレーブを水冷し て反応を停止させた。オートクレーブ内の温度が室温まで降下したのを確認したのち、オートクレーブを開放し、未反応モノマーを系外に放出させるとともに、フッ素含有共重合体溶液（ポリマー溶液）を取り出した。
得られたフッ素含有共重合体溶液を、多量のメタノールに投入し、フッ素含有共重合体を析出させた。その後、多量のメタノールを用いてフッ素含有共重合体を洗浄し、さらに温度５０℃の真空乾燥を行い、水酸基を有するフッ素含有重合体の精製物を得た。得られた共重合体について、以下のような評価項目をそれぞれ５回測定し平均した。
【０１４３】
▲１▼重量平均分子量の測定
得られたフッ素含有共重合体の精製物を、濃度０．５％となるようにＴＨＦ（テトラヒドロフラン）に溶解させた。次いで、ＧＰＣ装置ＨＬＣ−８０２０〔東ソー（株）製〕を用いて、フッ素含有共重合体のＧＰＣカラムからの溶出時間を屈折率計（ＲＩ）で検出し、得られた溶出時間から、ポリスチレン換算分子量として、フッ素含有共重合体の重量平均分子量を算出した。その結果、得られたフッ素含有共重合体の重量平均分子量は、３０，０００であった。
【０１４４】
▲２▼フッ素含量の測定
得られたフッ素含有共重合体のフッ素含量を、アリザリンコンプレクソン法に準拠して測定した。その結果、得られたフッ素含有共重合体のフッ素含量は、４６．１％であった。結果を表２に示す。
【０１４５】
参考例３〜５
参考例２と同様にして、フッ素含有共重合体（Ｂ−２’）、（Ｂ−２''）、（Ｂ−２''' ）を得た。結果を表２に示す。
【０１４６】
【表２】
【０１４７】
参考例６〔シリル基含有アクリル系重合体（Ｂ−３）の調製〕
還流冷却器、攪拌機を備えた反応器に、メチルメタクリレート６３部、２−エチルヘキシルアクリレート５．７部、ｎ−ブチルアクリレート４．３部、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１１．３部、アクリル酸３．９などを混合し、１，１−トリメチルアミンメタクリルイミド２部およびｉ−プロピルアルコール１５０部、メチルエチルケトン５０部、メタノール２５部を加えて混合したのち、攪拌しながら８０℃に加温し、この混合物にアゾビスイソバレロニトリル４部をキシレン１０部に溶解した溶液を３０分間かけて滴下したのち、８０℃で５時間反応させて固形分４０％のシリル基含有アクリル系重合体〔（Ｂ−３）成分〕を得た。結果を表３に示す。
【０１４８】
【表３】
【０１４９】
（＊１）１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルメタクリレート
（＊２）４−メタクリロイルオキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン
【０１５０】
合成例１〜１９
（熱硬化性組成物の調製）
攪拌機および蒸留装置を備えた容器内に、メチルトリメトキシシラン７０部、参考例１で得られたＢ成分、ジ−ｉプロポキシエチルアセトアセテートトリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム５部と、電気伝導率が８×１０-5Ｓ・ｃｍ-1のイオン交換水１０部、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコールとを収容したのち、温度６０℃、５時間の条件で加熱攪拌したのち、アセチルアセトンを加えて熱硬化性組成物Ａを得た。得られたポリシロキサン溶液１について、ＧＰＣを用いてポリスチレン換算の重量平均分子量を測定したところ、１６，０００という値が得られた。
また、表４〜６に示すように、同様にして、組成物Ｂ〜Ｓを得た。結果を表４〜６に示す。
なお、表５中、「ＭＴＭＳ」は「メチルトリメトキシシラン」を、「ＰＴＭＳ」は「フェニルトリメトキシシラン」を、「γ−ＭＰＴＭＳ」は「γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン」を、「ＧＰＴＭＳ」は「グリシドキシプロピルトリメトキシシラン」を、「ＤＭＤＭＳ」は「ジメチルジメトキシシラン」を示す。
【０１５１】
【表４】
【０１５２】
【表５】
【０１５３】
【表６】
【０１５４】
（＊１）：トルエン分散酸化亜鉛（固形分濃度３０％）
（＊２）：水分散（ｐＨ４）アナターゼ型酸化チタン（固形分３０％）
（＊３）：メチルエチルケトン分散シリカゾル（固形分３０％）
（＊４）；下記合成例２０の組成物
（＊５）；下記合成例２１の組成物
【０１５５】
合成例２０＜コーティング組成物の合成＞
還流冷却器、撹拌機を備えた反応器に、メチルトリメトキシシラン７０部、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン３０部、水２０部、ｉ−プロピルアルコール１５０部および１０-2ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液２０部を加えてよく攪拌し、６０℃で４時間反応させた。次いで、室温まで冷却し、トルエン分散酸化亜鉛（固形分濃度３０％）２０部を添加して、固形分濃度２０％の組成物を得た。得られた組成物１００部に、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセテート）チタニウムのイソプロピルアルコール溶液２０％品を３０部添加、よく攪拌し、コーティング組成物（ii−１）を得た。表７に示す。
【０１５６】
合成例２１＜コーティング組成物の合成＞
還流冷却器、撹拌機を備えた反応器に、表７に記載した種類、部数の各成分（後添加成分以外）を加えてよく攪拌し、６０℃で４時間反応させた。次いで、室温まで冷却し、後添加成分を添加して固形分濃度２０％の組成物を得た。
【０１５７】
【表７】
【０１５８】
（＊１）：ｉ−プロピルアルコール分散コロイダルシリカ（固形分濃度３０％）（＊２）：トルエン分散酸化亜鉛（固形分濃度３０％）
【０１５９】
実施例１〜１９
（１）反射防止性
上記合成例で得られた熱硬化性組成物１００部に対し、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタニウムのｉ−プロピルアルコール溶液（固形分濃度２０％）を１５部添加しよく混合したのち、ポリカーボネート板上にディップコートし、１００℃×１０分加熱乾燥して０．１μｍの反射防止膜を含む積層体を形成した。得られた積層体（反射防止膜）の反射防止効果を分光反射率測定装置〔大型試料室積分球付属装置１５０−０９０９０を組み込んだ自記分光光度計Ｕ−３４１０、日立製作所（株）製〕により、図４に示すように波長４００〜８００ｎｍの範囲で反射率を測定して評価した。すなわち、アルミの蒸着膜における反射率を基準（１００％）として、各波長における積層体（反射防止膜）の反射率を測定し、そのうち波長５５０ｎｍにおける光の反射率から以下の基準で反射防止効果を評価した。結果を表８〜１０に示す。
◎：反射率が１％以下の値である。
○：反射率が２％以下の値である。
△：反射率が３％以下の値である。
×：反射率が３％を超える値である。
【０１６０】
（２）透明性
上記（１）と同様に、熱硬化性組成物を石英板上にスピンコートし加熱乾燥したのち、厚さ１０μｍの透明性測定用の光硬化物（反射防止膜）を形成した。次いで、分光光度計を用いて、得られた光硬化物における波長５５０ｎｍの光透過率（Ｔ／％）を測定し、得られた光透過率から以下の基準で透明性を評価した。結果を表８〜１０に示す。
○：光透過率が９５％以上の値である。
△：光透過率が８０〜９５％未満の値である。
×：光透過率が８０％未満の値である。
【０１６１】
（３）屈折率
上記（１）と同様に、熱硬化性組成物をポリテトラフルオロエチレン製フィルムにバーコーターを用いて塗布し加熱硬化したのち、厚さ２０μｍの屈折率測定用の反射防止膜を形成した。得られた光硬化物におけるＮａ−Ｄ線の屈折率を、測定温度２５℃の条件で、アッベ屈折率計を用いて測定した。結果を表８〜１０に示す。
【０１６２】
（４）耐候性
上記（１）と同様に、熱硬化性組成物を石英板上にスピンコートし加熱硬化したのち、厚さ２μｍの反射防止膜）を形成した。得られた硬化物についてＪＩＳＤ０２０５に準拠して（湿度５０％、温度６３℃、降雨１８分／１２０分照射の条件）、サンシャインカーボンアーク灯式耐光性試験機を用い、促進耐候試験を実施した。そして、促進耐候試験１，０００時間後および２，０００時間後における光硬化物の外観を目視で観察し、以下の基準で以て耐候性を評価した。また、同時に、ＪＩＳ Ｋ７１０３に準拠した黄変度を△ＹＩ値で以て測定し、同様に光硬化物の耐候性を評価した。結果を表８〜１０に示す。
○：外観変化（クラックなど）が無く、また△ＹＩ値が０．１以下である。
△：外観変化（クラックなど）がほとんど無く、また△ＹＩ値が２以下である。
×：外観変化（クラックなど）が認められるか、△ＹＩ値が２を超えている。
【０１６３】
（５）耐擦傷性
上記（１）と同様に、熱硬化性組成物をポリカーボネート板上にディップコートし加熱硬化したのち、厚さ０．１μｍの反射防止膜を含む積層体を形成した。得られた積層体における反射防止膜の表面を、ペーパー（キムワイプ、十条キンバリー（株）製）により、荷重１ｋｇ／ｃｍ2 の条件で２５回こすり、傷の発生具合 や剥離具合および鉛筆硬度試験から、以下の基準に照らして反射防止膜の耐擦傷性を評価した。結果を表８〜１０に示す。
◎：反射防止膜に傷の発生や剥離は観察されず、鉛筆硬度が２Ｈ以上である。
○：反射防止膜に傷の発生や剥離は観察されず、鉛筆硬度が２Ｈ未満である。
△：反射防止膜の剥離は観察されないが、微細な傷の発生が観察される。
×：反射防止膜の一部が剥離したり、筋状の傷の発生が多数観察される。
【０１６４】
（６）耐汚染性
上記（１）と同様に、熱硬化性組成物をポリカーボネート板上にディップコートし加熱硬化したのち、厚さ０．１μｍの反射防止膜を含む積層体を形成した。得られた積層体における反射防止膜の耐汚染性を、汚染物質（指紋および黒マジック）を用いてスポット試験を行い、以下の基準で判断した。結果を表８〜１０に示す。
◎：指紋および黒マジックについて、それぞれ乾布を用いて１回で拭き取ることができる。
○：指紋については、乾布を用いて１０回未満で拭き取ることができ、黒マジックについては、エチルアルコールを用いて１０回未満で拭き取ることができる。
△：指紋については、乾布を用いて１０回以上で拭き取ることができ、黒マジックについては、エチルアルコールを用いて１０回以上で拭き取ることができる。
×：指紋については、乾布を用いて拭き取ることができず、黒マジックについては、エチルアルコールを用いて拭き取ることができない。
【０１６５】
【表８】
【０１６６】
【表９】
【０１６７】
【表１０】
【０１６８】
合成例２２〜２８
（光硬化性組成物の調製）
攪拌機および蒸留装置を備えた容器内に、メチルトリメトキシシラン７０部、参考例１で得られたＢ成分３０部、、ジ−ｉプロポキシエチルアセトアセテートトリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム５部と、電気伝導率が８×１０-5Ｓ・ｃｍ-1のイオン交換水１０部、メチルエチルケトン１００部とを収容したのち、温度６０℃、５時間の条件で加熱攪拌することにより加水分解縮合を行った。次いで、容器内の温度を８０℃に昇温させたのち、メチルイソブチルケトン（以下「ＭＩＢＫ」と略記）を滴下しながら、加水分解により副生したメタノールを蒸留除去した。そして、最終的に固形分を２２％に調整し、（Ａ）成分であるポリシロキサンを含有する溶液（以下「ポリシロキサン溶液２」と称する）を得た。得られたポリシロキサン溶液２について、ＧＰＣを用いてポリスチレン換算の重量平均分子量を測定したところ、１２，０００という値が得られた。
次いで、得られたポリシロキサン溶液２（固形分および溶剤の合計）１００部あたり、（Ｂ）成分の光酸発生剤として、ＳＩ−１００Ｌ〔三新化学（株）製〕を３部、脱水剤として、オルト蟻酸メチル〔和光純薬工業（株）製〕５部をそれぞれ添加して、光硬化性組成物Ｔを得た。
同様にして、光硬化性組成物Ｕ〜Ｚを調製した。結果を表１１に示す。
なお、表１１中、「ＭＴＭＳ」は「メチルトリメトキシシラン」を、「ＰＴＭＳ」は「フェニルトリメトキシシラン」を、「γ−ＭＰＴＭＳ」は「γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン」を、「ＧＰＴＭＳ」は「グリシドキシプロピルトリメトキシシラン」を、「ＤＭＤＭＳ」は「ジメチルジメトキシシラン」を示す。
【０１６９】
【表１１】
【０１７０】
実施例２０〜２６
（光硬化性組成物からの反射防止膜の形成および評価）
（１）光硬化性１
得られた光硬化性組成物（溶液）に、ＭＩＢＫとｎ−ブタノールとの等量混合溶媒を添加して、固形分濃度を３％に調整した。次いで、大気条件下に、ポリカーボネート板〔厚さ１ｍｍ、帝人化成（株）製〕上に、ディップコータを用いて塗膜を形成した。
次いで、室温（２５℃）、２分の条件で乾燥して、厚さ０．１μｍの塗膜を得たのち、大気下、温度２５℃、露光量が１００ｍＪ／ｃｍ2 （照射時間１秒）、２００ｍＪ／ｃｍ2 （照射時間２秒）および３００ｍＪ／ｃｍ2 （照射時間３秒）となるように、オーク製作所（株）製のコンベア式高圧水銀ランプ（２ｋＷ）を用いて紫外線を照射し、反射防止膜を形成した。また、窒素中、温度２５℃の条件で、同様に紫外線を照射して、反射防止膜を形成した。得られた反射防止膜につき、指触で表面タックを測定し、以下の基準で光硬化性を評価した。結果を表１２に示す。
◎：１００ｍＪ／ｃｍ2 露光後、反射防止膜の表面タックがない。
○：２００ｍＪ／ｃｍ2 露光後、反射防止膜の表面タックがない。
△：３００ｍＪ／ｃｍ2 露光後、反射防止膜の表面タックがない。
×：３００ｍＪ／ｃｍ2 露光後、反射防止膜の表面タックがある。
【０１７１】
（２）光硬化性２
得られた光硬化性組成物（溶液）を温度４０℃で１ヶ月間および３ヶ月間保管したのち、目視で外観変化（粘度増加）を測定し、さらに上記（１）の光硬化性を測定して、以下の基準で長期保存後の光硬化性を評価した。得られた結果を表１２に、保存安定性として示す。
◎：３ヶ月経過後も、外観変化や光硬化性の変化は観察されない。
○：１ヶ月経過後も、外観変化や光硬化性の変化は観察されない。
×：１ヶ月経過後に、外観変化あるいは光硬化性の低下が観察される。
【０１７２】
（３）反射防止性
光硬化性組成物をポリカーボネート板上にディップコートしたのち、前記コンベア式高圧水銀ランプを用いて、大気中で露光量が２００ｍＪ／ｃｍ2 となるように紫外線を照射して、厚さ０．１μｍの反射防止膜を含む積層体を形成した。得られた積層体（反射防止膜）の反射防止効果を分光反射率測定装置〔大型試料室積分球付属装置１５０−０９０９０を組み込んだ自記分光光度計Ｕ−３４１０、日立製作所（株）製〕により図４に示すように波長４００〜８００ｎｍの範囲で反射率を測定して評価した。すなわち、アルミの蒸着膜における反射率を基準（１００％）として、各波長における積層体（反射防止膜）の反射率を測定し、そのうち波長５５０ｎｍにおける光の反射率から以下の基準で反射防止効果を評価した。結果を表１２に示す。
◎：反射率が１％以下の値である。
○：反射率が２％以下の値である。
△：反射率が３％以下の値である。
×：反射率が３％を超える値である。
【０１７３】
（４）透明性
光硬化性組成物を石英板上にスピンコートしたのち、前記コンベア式高圧水銀ランプを用いて、大気中で露光量が２００ｍＪ／ｃｍ2 となるように紫外線を照射し、厚さ１０μｍの透明性測定用の光硬化物（反射防止膜）を形成した。次いで、分光光度計を用いて、得られた光硬化物における波長５５０ｎｍの光透過率（Ｔ／％）を測定し、得られた光透過率から以下の基準で透明性を評価した。結果を表１２に示す。
○：光透過率が９５％以上の値である。
△：光透過率が８０〜９５％未満の値である。
×：光透過率が８０％未満の値である。
【０１７４】
（５）屈折率
光硬化性組成物をポリテトラフルオロエチレン製フィルム上にバーコータを用いて塗布したのち、前記コンベア式高圧水銀ランプを用いて、大気中で露光量が２００ｍＪ／ｃｍ2 となるように紫外線を照射し、厚さ２０μｍの屈折率測定用の 光硬化物（反射防止膜）を形成した。得られた光硬化物におけるＮａ−Ｄ線の屈折率を、測定温度２５℃の条件で、アッベ屈折率計を用いて測定した。結果を表１２に示す。
【０１７５】
（６）耐候性
光硬化性組成物を石英板上にスピンコートしたのち、前記コンベア式高圧水銀ランプを用いて、大気中で露光量が２００ｍＪ／ｃｍ2 となるように紫外線を照射し、厚さ２μｍの耐候性測定用の光硬化物（反射防止膜）を形成した。得られた光硬化物についてＪＩＳ Ｄ０２０５に準拠して（湿度５０％、温度６３℃、降雨１８分／１２０分照射の条件）、サンシャインカーボンアーク灯式耐光性試験機を用い、促進耐候試験を実施した。そして、促進耐候試験１，０００時間後および２，０００時間後における光硬化物の外観を目視で観察し、以下の基準で以て耐候性を評価した。また、同時に、ＪＩＳ Ｋ７１０３に準拠した黄変度を△ＹＩ値で以て測定し、同様に光硬化物の耐候性を評価した。結果を表１２に示す。
○：外観変化（クラックなど）が無く、また△ＹＩ値が０．１以下である。
△：外観変化（クラックなど）がほとんど無く、また△ＹＩ値が２以下である。
×：外観変化（クラックなど）が認められるか、△ＹＩ値が２を超えている。
【０１７６】
（７）耐擦傷性
光硬化性組成物をポリカーボネート板上にディップコートしたのち、前記コンベア式高圧水銀ランプを用いて、大気中で露光量が２００ｍＪ／ｃｍ2 となるように紫外線を照射し、厚さ０．１μｍの反射防止膜を含む積層体を形成した。得られた積層体における反射防止膜の表面を、ペーパー〔キムワイプ、十条キンバリー（株）製〕により、荷重１ｋｇ／ｃｍ2 の条件で２５回こすり、傷の発生具合や剥離具合および鉛筆硬度試験から、以下の基準に照らして反射防止膜の耐擦傷性を評価した。結果を表１２に示す。
◎：反射防止膜に傷の発生や剥離は観察されず、鉛筆硬度が２Ｈ以上である。
○：反射防止膜に傷の発生や剥離は観察されず、鉛筆硬度が２Ｈ未満である。
△：反射防止膜の剥離は観察されないが、微細な傷の発生が観察される。
×：反射防止膜の一部が剥離したり、筋状の傷の発生が多数観察される。
【０１７７】
（８）耐汚染性
光硬化性組成物をポリカーボネート板上にディップコートしたのち、前記コンベア式高圧水銀ランプを用いて、大気中で、露光量が２００ｍＪ／ｃｍ2 となるように紫外線を照射し、厚さ０．１μｍの反射防止膜を含む積層体を形成した。得られた積層体における反射防止膜の耐汚染性を、汚染物質（指紋および黒マジック）を用いてスポット試験を行い、以下の基準で判断した。結果を表１２に示す。
◎：指紋および黒マジックについて、それぞれ乾布を用いて１回で拭き取ることができる。
○：指紋については、乾布を用いて１０回未満で拭き取ることができ、黒マジックについては、エチルアルコールを用いて１０回未満で拭き取ることができる。
△：指紋については、乾布を用いて１０回以上で拭き取ることができ、黒マジックについては、エチルアルコールを用いて１０回以上で拭き取ることができる。
×：指紋については、乾布を用いて拭き取ることができず、黒マジックについては、エチルアルコールを用いて拭き取ることができない。
【０１７８】
【表１２】
【０１７９】
実施例２７
実施例２０におけるポリカーボネート板の替わりに、ポリエチレンテレフタレートフィルム〔厚さ１８８μｍ、東洋紡（株）製〕を基材として用いたほかは、実施例２０の組成物Ｔを用いて反射防止膜を形成して、図５に示すように反射率などを測定し、評価した。得られた結果を表１３に示す。ただし、透明性、屈折率および耐候性については、実施例１の繰り返し試験となるため、実施例２７ではこれらの評価試験を省略し、表には実施例２０で得られた結果を示してある。
【０１８０】
実施例２８
（高屈折率膜の形成）
金属酸化物微粒子含有コート剤Ｎｏ．１３５２〔住友大阪セメント（株）製〕１００部と、シランカップリング剤ＴＥＳＯＸ〔東亜合成（株）製〕５部と、光ラジカル発生剤イルガキュア１８４〔チバスペシャリティケミカルズ（株）製〕３部とを混合後、さらにＭＩＢＫとｔ−ブチルアルコールとの等量混合溶液を添加して、固形分３％の高屈折率膜溶液を光硬化性組成物Ｔ′として調製した。
得られた光硬化性組成物Ｔ′を、ディップコータを用いてポリカーボネート板に塗布したのち、高圧水銀ランプを用いて、窒素中で、露光量が２００ｍＪ／ｃｍ2 となるように紫外線を照射し、厚さが０．１μｍであり、屈折率の値が１．７（−）である高屈折率膜を形成した。
【０１８１】
（反射防止膜の形成および評価）
得られた高屈折率膜上に、実施例２０で調製した光硬化性組成物Ｔと同様の光硬化性組成物から反射防止膜（評価用の光硬化物を含む）を形成して評価した。なお、透明性、屈折率および耐候性については、実施例２０の繰り返し試験となるため、実施例２８ではこれらの評価試験を省略し、表１３には実施例２０で得られた結果を示してある。
【０１８２】
実施例２９
実施例２９において、前記で調製した光硬化性組成物Ｔを用いたほかは同様に、高屈折率膜および反射防止膜を形成して評価した。結果を表１３に示す。なお、透明性、屈折率および耐候性については前記の繰り返し試験となるため、これらの評価試験を省略し、表には前記実施例で得られた結果を示してある。
【０１８３】
実施例３０
（ハードコート層の形成）
アクリルモノマーであるＤＰＨＡ４０部と、アロニックスＴＯ−７５６〔東亜合成（株）製〕６０部と、前述したイルガキュア１８４を３部混合してハードコート層用の光硬化性組成物Ｕ′を調製した。得られた光硬化性組成物Ｕ′を、バーコータを用いてポリカーボネート板に塗布したのち、高圧水銀ランプを用いて、窒素中で、露光量が５００ｍＪ／ｃｍ2 となるように紫外線を照射し、厚さが５．０μｍであるハードコート層を形成した。
【０１８４】
（反射防止膜の形成および評価）
得られたハードコート層上に、上記実施例２０と同様に、高屈折率膜および反射防止膜を形成して評価した。結果を表１３に示す。
【０１８５】
【表１３】
【０１８６】
【発明の効果】
本発明の反射防止膜あるいはその反射防止膜を含む積層体によれば、反射防止膜の形成材料として特定の加水分解性シラン化合物とフッ素系重合体を含む熱硬化性組成物、あるいは、これにさらに光酸発生剤を含む光硬化性組成物を使用することから、熱硬化により、あるいは酸素存在下においても光硬化反応により、反射防止膜が形成可能であり、しかも得られた反射防止膜あるいは当該反射防止膜を含む積層体において、優れた反射防止効果や耐汚染性を得ることが可能となった。
【０１８７】
また、反射防止膜の形成材料として、特定の加水分解性シラン化合物とフッ素系重合体、さらにはこれに光酸発生剤と、脱水剤とを組み合わせることにより、保存安定性や光硬化性に優れた光硬化性組成物を得ることができ、したがって、熱硬化により、あるいは酸素存在下においてもより速い光硬化反応により、反射防止膜が形成可能であり、しかも得られた反射防止膜あるいは当該反射防止膜を含む積層体において、優れた反射防止効果や耐汚染性を得ることが可能となった。
【０１８８】
さらに、本発明の反射防止膜の製造方法によれば、反射防止膜の形成材料として特定の加水分解性シラン化合物とフッ素系重合体を含む熱硬化性組成物、あるいはこれにさらに光酸発生剤とからなる光硬化性組成物を使用して、基材上に反射防止膜を形成することから、優れた反射防止効果や耐汚染性を有する反射防止膜を、熱硬化により、あるいは酸素存在下においても光硬化反応を利用として形成することが可能となった。そのほか、本発明の反射防止膜の製造方法によれば、パターン露光することにより、任意の箇所に反射防止膜を形成することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の積層体の断面を示す図である（その１）。
【図２】本発明の積層体の断面を示す図である（その２）。
【図３】本発明の積層体の断面を示す図である（その３）。
【図４】実施例１の反射防止膜（大気中硬化）および使用した基板（ポリカーボネート板）における反射率測定チャートである。
【図５】実施例２の反射防止膜（大気中硬化）および使用した基板（ＰＥＴフィルム）における反射率測定チャートである。
【符号の説明】
１０，２２，２６ 反射防止膜
１２ 基材
１４，１８，２８ 積層体
１６ ハードコート層
２０，２２ 高屈折率層
【発明の属する技術分野】
本発明は、硬化性組成物から得られる反射防止膜および反射防止膜を含む積層体に関する。より詳細には、優れた反射防止効果や耐汚染性などを有するとともに、熱硬化および／または酸素存在下において光硬化反応により形成可能である反射防止膜およびその反射防止膜を含む積層体、ならびにその反射防止膜の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
反射防止膜の形成材料として、例えば、熱硬化型ポリシロキサン組成物が知られており、特開昭６１−２４７７４５３号公報、特開平６−２５５９９号公報、特開平７−３３１１１５号公報および特開平１０−２３２３０１号公報などに開示されている。
しかしながら、この熱硬化型ポリシロキサン組成物から得られる反射防止膜は、高温で長時間にわたって加熱処理をする必要があり、生産性が低かったり、あるいは適用基材の種類が限定されるという問題が見られる。
【０００３】
また、反射防止膜の形成材料として、紫外線などの光を利用して硬化させる光硬化性樹脂組成物も知られており、特開平１−１９７５７０号公報、特開平６−１３６０６２号公報、特開平９−２０３８６１号公報および特開平１０−２３９５０２号公報などに開示されている。
しかしながら、光硬化性樹脂組成物における主成分は、フッ素含有ビニル系樹脂であり、光硬化に際してラジカル重合を利用しているため、大気中の酸素による活性ラジカルの失活が生じやすく、しばしば硬化不良を生じる場合が見られる。特に、本発明が対象とする反射防止膜のような薄膜用途においては、大気中の酸素の影響を受けやすく、実質的に光硬化性樹脂組成物を光硬化できないという問題が見られる。また、フッ素含有ビニル系樹脂からなる反射防止膜は、硬度が低く、耐擦傷性に乏しかったり、あるいは、耐候性や耐汚染性に劣るという問題点を有している。
【０００４】
以上述べたように、従来の反射防止膜の形成材料として、熱硬化型ポリシロキサン組成物は、硬化時間が長く、高温加熱処理を必要とするため、適用できる基材が限定され、さらには保存安定性に乏しいという問題点を有している。一方、従来のフッ素含有ビニル系樹脂からなる光硬化性組成物は、酸素の影響を受けやすく、また、得られた反射防止膜における耐擦傷性や耐候性あるいは耐汚染性に劣るという問題点を有している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者らは、鋭意検討した結果、反射防止膜の形成材料として、特定の加水分解性シラン化合物と特定のフッ素含有重合体を組み合わせた熱硬化性組成物、および／またはこれにさらに光酸発生剤とを組み合わせた光硬化性組成物を使用することにより、上述した問題を解決できることを見出した。
本発明は、優れた反射防止効果や耐汚染性などを有するとともに、熱硬化、あるいは酸素存在下においても光硬化反応により形成可能である反射防止膜およびその反射防止膜を含む積層体、ならびにその反射防止膜の製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、（Ａ）下記一般式（１）
（Ｒ1 ）n Ｓｉ（ＯＲ2 ）4-n ・・・・・（１）
（式中、Ｒ1 は、２個存在するときは同一または異なり、炭素数１〜８の１価の有機基を示し、Ｒ2 は、同一または異なり、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜６のアシル基を示し、ｎは０〜２の整数である。）
で表されるオルガノシラン、該オルガノシランの加水分解物および該オルガノシランの縮合物の群から選ばれる少なくとも１種、ならびに
（Ｂ−１）加水分解性基および／または水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基を有するフッ素含有アクリル系重合体（以下「（Ｂ−１）フッ素含有アクリル系重合体」ともいう）
を含有するコーティング組成物を硬化してなる反射防止膜に関する。
また、本発明は、上記（Ａ）成分、ならびに
（Ｂ−２）加水分解性基および／または水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基を有するフッ素含有ビニルエーテル系重合体（以下「（Ｂ−２）フッ素含有ビニルエーテル系重合体」ともいう）
を含有するコーティング組成物を硬化してなる反射防止膜に関する。
以上の本発明の反射防止膜に使用されるコーティング組成物中には、さらに、（Ｂ−３）加水分解性基および／または水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基を有するアクリル系重合体（以下「（Ｂ−３）シリル基含有アクリル系重合体」ともいう）を含有させてもよい。
また、本発明の反射防止膜に使用されるコーティング組成物中には、さらに、（Ｇ）光酸発生剤や、（Ｈ）脱水剤を含有させることにより、この組成物を光硬化性組成物として用いることができる。
次に、本発明は、上記コーティング組成物を成形する工程と、成形したコーティング組成物を熱硬化および／または光硬化する工程を含むことを特徴とする反射防止膜の製造方法に関する。
次に、本発明は、上記反射防止膜を基材上に含むことを特徴とする反射防止膜を含む積層体に関する。
本発明の反射防止膜は、大気中においても酸素の影響を受けることなく形成することが可能であり、例えば、ガラス、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂またはアクリル系樹脂からなる基材を含む積層体とすることにより、カメラのレンズ部、テレビ（ＣＲＴ）の画面表示部、あるいは液晶表示装置におけるカラーフィルターなどの広範な反射防止膜の利用分野において、優れた反射防止効果や耐久性、耐汚染性を得ることができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に用いられるコーティング組成物を構成する各成分について、順次説明する。
（Ａ）成分
本発明のコーティング組成物に配合される（Ａ）成分は、上記一般式（１）で表されるオルガノシラン（以下「オルガノシラン（１）」という）、オルガノシラン（１）の加水分解物、およびオルガノシラン（１）の縮合物から選択された少なくとも１種である。すなわち、（ａ）成分は、これら３種のうちの１種だけでもよいし、任意の２種の混合物であってもよいし、３種類すべてを含んだ混合物であってもよい。
ここで、上記オルガノシラン（１）の加水分解物は、オルガノシラン（１）に２〜４個含まれるＯＲ2 基がすべて加水分解されている必要はなく、例えば、１個だけが加水分解されているもの、２個以上が加水分解されているもの、あるいはこれらの混合物であってもよい。
また、上記オルガノシラン（１）の縮合物は、オルガノシラン（１）の加水分解物のシラノール基が縮合してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成したものであるが、本発明では、シラノール基がすべて縮合している必要はなく、僅かな一部のシラノール基が縮合したもの、縮合の程度が異なっているものの混合物などをも包含した概念である。
【０００８】
一般式（１）において、Ｒ1 の炭素数１〜８の１価の有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基などのアルキル基や、ビニル基、アリル基、シクロヘキシル基、フェニル基、アシル基、グリシジル基、（メタ）アクリルオキシ基、ウレイド基、アミド基、フルオロアセトアミド基、イソシアナート基などのほか、これらの基の置換誘導体などを挙げることができる。
【０００９】
Ｒ1 の置換誘導体における置換基としては、例えば、ハロゲン原子、置換もしくは非置換のアミノ基、水酸基、メルカプト基、イソシアナート基、グリシドキシ基、３，４−エポキシシクロヘキシル基、（メタ）アクリルオキシ基、ウレイド基、アンモニウム塩基などを挙げることができる。ただし、これらの置換誘導体からなるＲ1 の炭素数は、置換基中の炭素原子を含めて８以下である。
一般式（１）中に、Ｒ1 が２個存在するときは、相互に同一でも異なってもよい。
【００１０】
また、Ｒ2 の炭素数１〜５のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基などを挙げることができ、炭素数１〜６のアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基、カプロイル基などを挙げることができる。
一般式（１）中に複数個存在するＲ2 は、相互に同一でも異なってもよい。
【００１１】
このようなオルガノシラン（１）の具体例としては、
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシランなどのテトラアルコキシシラン類；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｉ−プロピルトリメトキシシラン、ｉ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−ペンチルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘプチルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリエトキシシラン、２−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、２−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−イソシアナートプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシランなどのトリアルコキシシラン類；ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジエトキシシラン、ジ−ｉ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｉ−プロピルジエトキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−ペンチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ペンチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−ヘキシルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ヘキシルジエトキシシラン、ジ−ｎ−ヘプチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ヘプチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−オクチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−オクチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−シクロヘキシルジメトキシシラン、ジ−ｎ−シクロヘキシルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランなどのジアルコキシシラン類のほか、メチルトリアセチルオキシシラン、ジメチルジアセチルオキシシランなどを挙げることができる。
【００１２】
これらのうち、トリアルコキシシラン類、ジアルコキシシラン類が好ましく、また、トリアルコキシシラン類としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシランが好ましく、さらに、ジアルコキシシラン類としては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシランが好ましい。
【００１３】
本発明において、オルガノシラン（１）としては、特に、トリアルコキシシランのみ、あるいは、トリアルコキシシラン４０〜９５モル％とジアルコキシシラン６０〜５モル％との組み合わせが好ましい。ジアルコキシシランをトリアルコキシシランと併用することにより、得られる塗膜を柔軟化し、耐アルカリ性を向上させることができる。
【００１４】
オルガノシラン（１）は、そのまま、あるいは加水分解物および／または縮合物として使用される。オルガノシラン（１）を加水分解物および／または縮合物として使用する場合は、予め加水分解・縮合させて（Ａ）成分として使用することもできるが、後述するように、オルガノシラン（１）を残りの成分と混合して組成物を調製する際に、適量の水を添加することにより、オルガノシラン（１）を加水分解・縮合させて、（Ａ）成分とすることが好ましい。
（Ａ）成分が縮合物として使用されるとき、該縮合物のポリスチレン換算重量平均分子量（以下「Ｍｗ」という）は、好ましくは、８００〜１００，０００、さらに好ましくは、１，０００〜５０，０００である。
【００１５】
また、（Ａ）成分の市販品には、三菱化学（株）製のＭＫＣシリケート、コルコート社製のエチルシリケート、東レ・ダウコーニング社製のシリコンレジン、東芝シリコーン（株）製のシリコンレジン、信越化学工業（株）製のシリコンレジン、日本ユニカ（株）製のシリコンオリゴマーなどがあり、これらをそのまま、または縮合させて使用してもよい。
【００１６】
本発明において、（Ａ）成分は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００１７】
（Ｂ）成分
本発明における（Ｂ）成分は、加水分解性基および／または水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基（以下「特定シリル基」という）を有するフッ素系重合体である。これらのフッ素系重合体としては、上記（Ｂ−１）成分および（Ｂ−２）成分が挙げられる。
なお、（Ｂ）成分としては、上記（Ｂ−１）成分および／または（Ｂ−２）成分に、さらに上記（Ｂ−３）シリル基含有アクリル系重合体を併用することができる。
このような（Ｂ）成分は、本発明の組成物から得られる塗膜を硬化させる際に、そのシリル基の加水分解性基および／または水酸基が、上記（Ａ）成分と共縮合することにより、優れた塗膜性能をもたらすことができる。
また、（Ｂ）成分〔（Ｂ−１）〜（Ｂ−２）成分〕は、フッ素原子を含有することから、優れた撥水性および撥油性による防汚性機能のほか、剥離・非粘着機能を有する高硬度の塗膜を形成することができる。
【００１８】
（Ｂ）成分における特定シリル基の含有量は、ケイ素原子の量に換算して、特定シリル基の導入前の重合体に対して、通常、０．００１〜２０重量％、好ましくは０．００５〜１８重量％である。
【００１９】
（Ｂ−１）フッ素含有アクリル系重合体；
（Ｂ−１）成分は、加水分解性基および／または特定シリル基を有し、好ましくは、特定シリル基が重合体分子鎖の末端および／または側鎖に有するフッ素含有アクリル系重合体である。
【００２０】
特定シリル基は、好ましくは下記一般式（２）
【００２１】
（Ｂ−１）成分は、例えば、（Ｂ−ａ）フッ素原子を含有する単量体（以下「（Ｂ−ａ）単量体」という）、（Ｂ−ｂ）アルキル（メタ）アクリレート（以下「（Ｂ−ｂ）単量体」という）、（Ｂ−ｃ）シリル基を有する単量体（以下「（Ｂ−ｃ）単量体」という）を重合して得られ、また、必要に応じて、（Ｂ−ｄ）これらの単量体と共重合可能な他の単量体（以下「（Ｂ−ｄ）単量体」という）をさらに含めて重合して得てもよい。
【００２２】
上記（Ｂ−ａ）単量体としては、例えば、少なくとも１個の重合性の不飽和二重結合基および少なくとも１個のフッ素原子を有する化合物を挙げることができる。
具体的には、
（イ）テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレンなどのフルオロオレフィン類；
（ロ）ＣＨ2 ＝ＣＨ−Ｏ−Ｒｆ
（Ｒｆは、フッ素原子を含むアルキル基もしくはアルコキシアルキル基を示す）で表される（フルオロアルキル）ビニルエーテル、または、（フルオロアルコキシアルキル）ビニルエーテル類；
（ハ）パーフルオロ（メチルビニルエーテル）、パーフルオロ（エチルビニルエーテル）、パーフルオロ（プロピルビニルエーテル）、パーフルオロ（ブチルビニルエーテル）、パーフルオロ（イソブチルビニルエーテル）などのパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）類；
（ニ）パーフルオロ（プロポキシプロピルビニルエーテル）などのパーフルオロ（アルコキシアルキルビニルエーテル）類；
（ホ）２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレートなどのフッ素含有（メタ）アクリル酸エステル類；
などを挙げることができる。
【００２３】
これらのフッ素原子を含有する単量体は、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて使用してもよい。好ましくは、（ホ）群の単量体単独、または、（ホ）群の単量体と（イ）〜（ニ）群から選ばれる単量体との組み合わせが使用される。特に、フッ素含有単量体として、ヘキサフルオロプロピレンとパーフルオロアルキルパーフルオロビニルエーテルまたはパーフルオロアルコキシアルキルパーフルオロビニルエーテルとを組み合わせて使用することが好ましい。
なお、（Ｂ−ａ）フッ素原子を含有する単量体の使用量は、（Ｂ）成分を構成する全単量体中に、好ましくは５〜９５重量％、さらに好ましくは１０〜９０重量％程度である。
【００２４】
上記（Ｂ−ｂ）単量体としては、炭素数４〜１２のものが好ましく、具体的には、メチル（メタ）アクリレート、 エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、ｉ−アミル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、２−エチルへキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルメタクリレートなどが挙げられる。
これらは、１種単独あるいは２種以上を併用して用いることができる。
なお、（Ｂ−ｂ）単量体の使用量は、（Ｂ）成分を構成する全単量体中に、好ましくは５〜９５重量％、さらに好ましくは１０〜９０重量％程度である。
【００２５】
上記（Ｂ−ｃ）単量体としては、例えば、
下記一般式（３）
【００２６】
上記不飽和シラン化合物の具体例としては、
ＣＨ2 ＝ＣＨＳｉ（ＣＨ3)（ＯＣＨ3)2 、
ＣＨ2 ＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ3)3 、ＣＨ2 ＝ＣＨＳｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）3 、
ＣＨ2 ＝ＣＨＳｉ（ＣＨ3)Ｃｌ2 、ＣＨ2 ＝ＣＨＳｉＣｌ3 、
ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2)2 Ｓｉ（ＣＨ3)（ＯＣＨ3)2 、
ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2)2 Ｓｉ（ＯＣＨ3)3 、
ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2)3 Ｓｉ（ＣＨ3)（ＯＣＨ3)2 、
ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2)3 Ｓｉ（ＯＣＨ3)3 、
ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2)2 Ｓｉ（ＣＨ3)Ｃｌ2 、
ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2)2 ＳｉＣｌ3 、
ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2)3 Ｓｉ（ＣＨ3)Ｃｌ2 、
ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2)3 ＳｉＣｌ3 、
ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3)ＣＯＯ（ＣＨ2)2 Ｓｉ（ＣＨ3)（ＯＣＨ3)2 、
ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3)ＣＯＯ（ＣＨ2)2 Ｓｉ（ＯＣＨ3)3 、
ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3)ＣＯＯ（ＣＨ2)3 Ｓｉ（ＣＨ3)（ＯＣＨ3)2 、
ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3)ＣＯＯ（ＣＨ2)3 Ｓｉ（ＯＣＨ3)3 、
ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3)ＣＯＯ（ＣＨ2)2 Ｓｉ（ＣＨ3)Ｃｌ2 、
ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3)ＣＯＯ（ＣＨ2)2 ＳｉＣｌ3 、
ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3)ＣＯＯ（ＣＨ2)3 Ｓｉ（ＣＨ3)Ｃｌ2 、
ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3)ＣＯＯ（ＣＨ2)3 ＳｉＣｌ3 、
【００２７】
【化１】
を挙げることができる。
これらは、１種単独あるいは２種以上を併用して用いることができる。
なお、（Ｂ−ｃ）単量体の使用量は、（Ｂ）成分を構成する全単量体中に、好ましくは０．１〜９５重量％、さらに好ましくは１〜９０重量％程度である。
【００２９】
（Ｂ−ｄ）単量体としては、例えば、
（イ）スチレン、α−メチルスチレン、４−メチルスチレン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メトキシスチレン、２−ヒドロキシメチルスチレン、４−エチルスチレン、４−エトキシスチレン、３，４−ジメチルスチレン、３，４−ジエチルスチレン、２−クロロスチレン、３−クロロスチレン、４−クロロ−３−メチルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン、２，４−ジクロロスチレン、２，６−ジクロロスチレン、１−ビニルナフタレンなどの芳香族ビニル単量体；
【００３０】
（ロ）ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアミル（メタ）アクリレート、ヒドロキシへキシル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；
アリルグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレートなどのエポキシ化合物；
【００３１】
（ハ）ジビニルベンゼン、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、 テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートなどの多官能性単量体；
【００３２】
（ニ）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ′−メチレンビスアクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、マレイン酸アミド、マレイミドなどの酸アミド化合物；
（ホ）塩化ビニル、塩化ビニリデン、脂肪酸ビニルエステルなどのビニル化合物；
（ヘ）１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、２−ネオペンチル−１，３−ブタジエン、２−クロロ−１，３−ブタジエン、２−シアノ−１，３−ブタジエン、イソプレン、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基などの置換基で置換された置換直鎖共役ペンタジエン類、直鎖状および側鎖状の共役ヘキサジエンなどの脂肪族共役ジエン；
（ト）（メタ）アクリル酸、フマル酸、イタコン酸、モノアルキルイタコン酸、マレイン酸、クロトン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸などのエチレン性不飽和カルボン酸；
【００３３】
（チ）アクリロニトリル、メタアクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物；
トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、ペンタデカフルオロオクチル（メタ）アクリレートなどのフッ素原子含有単量体；
（リ）４−（メタ）アクリロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−（メタ）アクリロイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−（メタ）アクリロイルオキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジンなどのピペリジン系モノマー；
そのほかジカプロラクトンなどが挙げられる。
【００３４】
これらは、１種単独あるいは２種以上を併用して用いることができる。
なお、（Ｂ−ｄ）単量体の使用量は、（Ｂ）成分を構成する全単量体中に、好ましくは０．１〜８０重量％、さらに好ましくは０．５〜６０重量％程度である。
【００３５】
上記（Ｂ−１）成分を製造する際の重合方法としては、例えば、一括して単量体を添加して重合する方法、単量体の一部を重合したのち、その残りを連続的にあるいは断続的に添加する方法、もしくは、単量体を重合の始めから連続的に添加する方法などが挙げられる。また、これらの重合方法を組み合わせた重合方法を採用することもできる。好ましい重合方法としては、溶液重合が挙げられる。溶液重合に使用される溶媒は、通常のものを使用できるが、そのうち、ケトン類、アルコール類が好ましい。この重合において、重合開始剤、分子量調整剤、キレート化剤、無機電解質は、公知のものを使用することができる。
【００３６】
（Ｂ−１）成分のポリスチレン換算数平均分子量（以下「Ｍｎ」という）は、好ましくは、１，０００〜５０，０００、さらに好ましくは、３，０００〜３０，０００である。
【００３７】
本発明において、（Ｂ−１）成分は、単独でまたは上記のようにして得られた２種以上を混合して使用することができる。
【００３８】
本発明における（Ｂ−１）成分の使用量は、（Ａ）成分におけるオルガノシラン（１）１００重量部に対して、通常、３０〜５００重量部、好ましくは、４０〜４００重量部、さらに好ましくは、５０〜３００重量部である。この場合、（Ｂ−１）成分の使用量が３０重量部未満では、得られる塗膜の耐アルカリ性、耐クラック性が低下するがある。一方、５００重量部を超えると、塗膜の耐候性、耐熱性、耐摩耗性などが低下する傾向がある。
【００３９】
（Ｂ−２）フッ素含有ビニルエーテル系重合体；
本発明における（Ｂ−２）成分は、上記特定シリル基を重合体分子鎖の末端および／または側鎖に有するフッ素含有ビニルエーテル系重合体である。
【００４０】
（Ｂ−２）成分は、上記の（Ｂ−ａ）単量体、上記の（Ｂ−ｃ）単量体、（Ｂ−ｅ）ビニルエーテル単量体（以下「（Ｂ−ｅ）単量体」という）を重合して得られ、また、必要に応じて、（Ｂ−ｆ）これらの単量体と共重合可能な他の単量体（以下「（Ｂ−ｆ）単量体」という）をさらに含めて重合して得てもよい。
【００４１】
上記（Ｂ−ｅ）単量体としては、例えば、
（イ）ビニルグリシジルエーテル、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、３−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、３−ヒドロキシブチルビニルエーテル、５−ヒドロキシペンチルビニルエーテル、６−ヒドロキシヘキシルビニルエーテルなどのビニルエーテル類；
【００４２】
（ロ）アリルグリシジルエーテル、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、４−ヒドロキシブチルアリルエーテル、グリセロールモノアリルエーテルなどのアリルエーテル類；
（ハ）メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、ｎ−ペンチルビニルエーテル、ｎ−ヘキシルビニルエーテル、ｎ−オクチルビニルエーテル、ｎ−ドデシルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテルなどのアルキルビニルエーテルもしくはシクロアルキルビニルエーテル類；
などを挙げることができる。
これらは、１種単独であるいは２種以上を併用して用いることができる。
なお、（Ｂ−ｅ）単量体の使用量は、（Ｂ）成分を構成する全単量体中に、好ましくは０．１〜９５重量％、さらに好ましくは０．５〜９０重量％程度である。
【００４３】
なお、（Ｂ−ａ）単量体および（Ｂ−ｃ）単量体の種類および使用量は、（Ｂ−１）フッ素含有アクリル系重合体におけるものと同様である。また、（Ｂ−ｆ）単量体の種類は、（Ｂ−１）成分において示した（Ｂ−ｄ）成分のほかに、（Ｂ−ｂ）成分も適用することができ、（Ｂ−ｆ）成分のその使用量も、これらの単量体の使用量と同様である。
【００４４】
（Ｂ−２）成分を製造する際の重合方法は、（Ｂ−１）成分において例示した重合方法を適用することができ、好ましい重合方法としては、溶液重合が挙げらる。溶液重合の際に用いられる溶媒は、通常のものを使用することができ、好ましくは、ケトン類、アルコール類を挙げることができる。また、この重合においても、重合開始剤、分子量調整剤、キレート化剤および無機電解質は、公知のものを使用することができる。
【００４５】
（Ｂ−２）成分のＭｎは、好ましくは、１，０００〜７０，０００、さらに好ましくは、３，０００〜３０，０００である。
【００４６】
本発明において、（Ｂ−２）成分は、単独でまたは上記のようにして得られた２種以上を混合して使用することができる。
【００４７】
本発明における（Ｂ−２）成分の使用量は、（Ａ）成分におけるオルガノシラン（１）１００重量部に対して、通常、５０〜８００重量部、好ましくは、６０〜７００重量部、さらに好ましくは、８０〜５００重量部である。この場合、（Ｂ−２）成分の使用量が５０重量部未満では、得られる塗膜の耐アルカリ性、耐クラック性が低下する傾向がある。一方、８００重量部を超えると、塗膜の耐候性が低下する傾向がある。
【００４８】
なお、本発明において、上記（Ｂ−１）成分と上記（Ｂ−２）成分とを組み合わせて、本発明の組成物を得てもよい。
【００４９】
（Ｂ−３）シリル基含有アクリル系重合体；
（Ｂ−３）成分は、加水分解性基および／または水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基を有するアクリル系重合体である。
（Ｂ−３）成分は、例えば、上記（Ｂ−ｂ）アルキル（メタ）アクリレート、および（Ｂ−ｃ）シリル基を有する単量体を重合して得られ、また、必要に応じて、（Ｂ−ｄ）これらの単量体と共重合可能な他の単量体をさらに含めて重合して得てもよい。
（Ｂ−３）成分における各単量体の組成比は、上記（Ｂ−１）成分や（Ｂ−２）成分における各単量体の組成比と同様である。
【００５０】
なお、（Ｂ−３）成分を製造する際の重合方法は、（Ｂ−１）成分において例示した重合方法を適用することができ、好ましい重合方法としては、溶液重合が挙げられる。溶液重合の際に用いられる溶媒は、通常のものを使用することができ、好ましくは、ケトン類、アルコール類を挙げることができる。また、この重合においても、重合開始剤、分子量調整剤、キレート化剤および無機電解質は、公知のものを使用することができる。
【００５１】
（Ｂ−３）成分のポリスチレン換算数平均分子量（以下「Ｍｎ」という）は、好ましくは、１，０００〜５０，０００、さらに好ましくは、３，０００〜３０，０００である。
【００５２】
本発明において、（Ｂ−３）成分は、単独でまたは上記のようにして得られた２種以上を混合して使用することができる。
【００５３】
本発明における（Ｂ−３）成分の使用量は、（Ａ）成分におけるオルガノシラン（１）１００重量部に対して、０〜８００重量部、好ましくは、０．５〜７００重量部、さらに好ましくは、１〜６００重量部である。この場合、（Ｂ−３）成分の使用量が８００重量部を超えると、塗膜の硬度や耐候性、耐熱性、耐摩耗性などの塗膜強度や耐久性が低下する傾向がある。
【００５４】
さらに、本発明の組成物には、下記の（Ｃ）〜（Ｆ）成分を配合することができる。以下、これらの成分につき説明する。
【００５５】
（Ｃ）成分
（Ｃ）成分は、水および／または有機溶剤からなる。
本発明の組成物は、上記（Ａ）成分および（Ｂ）成分を必須とし、後述する（Ｄ）〜（Ｆ）成分などを含有するものであり、通常、組成物を調製する際に、水がオルガノシラン（１）や（Ｂ）成分を加水分解・縮合反応させ、あるいは、粒子状成分を分散させるために添加される。
本発明における水の使用量は、（Ａ）成分におけるオルガノシラン（１）１モルに対して、通常、０．５〜３モル、好ましくは、０．７〜２モル程度である。
【００５６】
また、上記有機溶剤は、主として、（Ａ）〜（Ｂ）成分や、（Ｄ）〜（Ｆ）成分などを均一に混合させ、組成物の全固形分濃度を調整すると同時に、種々の塗装方法に適用できるようにし、かつ組成物の分散安定性および保存安定性をさらに向上させるために使用される。
【００５７】
このような有機溶剤としては、上記各成分を均一に混合できるものであれば特に限定されないが、例えば、アルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などを挙げることができる。
これらの有機溶剤のうち、アルコール類の具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、ｎ−ヘキシルアルコール、ｎ−オクチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどを挙げることができる。
【００５８】
また、芳香族炭化水素類の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを、エーテル類の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどを、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトンなどを、エステル類の具体例としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸プロピレンなどを挙げることができる。
これらの有機溶剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００５９】
本発明の組成物の全固形分濃度は、好ましくは、５０重量％以下であり、使用目的に応じて適宜調整される。例えば、薄膜形成基材への含浸を目的とするときには、通常、２０重量％以下であり、また厚膜形成を目的で使用するときには、通常、２０〜５０重量％、好ましくは３０〜４５重量％である。組成物の全固形分濃度が５０重量％を超えると、保存安定性が低下する傾向がある。
【００６０】
（Ｄ）成分
（Ｄ）成分は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分などの加水分解・縮合反応を促進する触媒である。
（Ｄ）成分を使用することにより、得られる塗膜の硬化速度を高めるとともに、使用されるオルガノシラン成分の重縮合反応により生成されるポリシロキサン樹脂の分子量が大きくなり、強度、長期耐久性などに優れた塗膜を得ることができ、かつ塗膜の厚膜化や塗装作業も容易となる。
【００６１】
このような（Ｄ）成分としては、酸性化合物、アルカリ性化合物、塩化合物、アミン化合物、有機金属化合物および／またはその部分加水分解物（以下、有機金属化合物および／またはその部分加水分解物をまとめて「有機金属化合物等」という）が好ましい。
上記酸性化合物としては、例えば、酢酸、塩酸、硫酸、リン酸、アルキルチタン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、フタル酸などを挙げることができ、好ましくは、酢酸である。
また、上記アルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどを挙げることができ、好ましくは、水酸化ナトリウムである。
また、上記塩化合物としては、例えば、ナフテン酸、オクチル酸、亜硝酸、亜硫酸、アルミン酸、炭酸などのアルカリ金属塩などを挙げることができる。
【００６２】
また、上記アミン化合物としては、例えば、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ピペリジン、ピペラジン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、エタノールアミン、トリエチルアミン、３−アミノプロピル・トリメトキシシラン、３−アミノプロピル・トリエトキシシラン、３−（２−アミノエチル）−アミノプロピル・トリメトキシシラン、３−（２−アミノエチル）−アミノプロピル・トリエトキシシラン、３−（２−アミノエチル）−アミノプロピル・メチル・ジメトキシシラン、３−アニリノプロピル・トリメトキシシランや、アルキルアミン塩類、四級アンモニウム塩類のほか、エポキシ樹脂の硬化剤として用いられる各種変性アミンなどを挙げることができ、好ましくは、３−アミノプロピル・トリメトキシシラン、３−アミノプロピル・トリエトキシシラン、３−（２−アミノエチル）−アミノプロピル・トリエトキシシランである。
【００６３】
また、上記有機金属化合物等としては、例えば、下記一般式（４）で表される化合物（以下「有機金属化合物（４）」という）、同一のスズ原子に結合した炭素数１〜１０のアルキル基を１〜２個有する４価スズの有機金属化合物（以下「有機スズ化合物」という）、あるいは、これらの化合物の部分加水分解物などを挙げることができる。
【００６４】
Ｍ（ＯＲ5)p （Ｒ6 ＣＯＣＨＣＯＲ7)q ・・・（４）
〔式中、Ｍはジルコニウム、チタンまたはアルミニウムを示し、Ｒ5 およびＲ6 は、同一または異なって、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基などの炭素数１〜６の１価の炭化水素基を示し、Ｒ7 は、Ｒ5 およびＲ6 と同様の炭素数１〜６の１価の炭化水素基のほか、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ラウリルオキシ基、ステアリルオキシ基などの炭素数１〜１６のアルコキシル基を示し、ｐおよびｑは０〜４の整数で、（ｐ＋ｑ）＝（Ｍの原子価）である。〕
【００６５】
有機金属化合物（４）の具体例としては、
（イ）テトラ−ｎ−ブトキシジルコニウム、トリ−ｎ−ブトキシ・エチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどの有機ジルコニウム化合物；
【００６６】
（ロ）テトラ−ｉ−プロポキシチタニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトン）チタニウムなどの有機チタン化合物；
（ハ）トリ−ｉ−プロポキシアルミニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・エチルアセトアセテートアルミニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・アセチルアセトナートアルミニウム、ｉ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどの有機アルミニウム化合物
などを挙げることができる。
【００６７】
これらの有機金属化合物（４）およびその部分加水分解物のうち、トリ−ｎ−ブトキシ・エチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・エチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、あるいは、これらの化合物の部分加水分解物が好ましい。
【００６８】
また、有機スズ化合物の具体例としては、
（Ｃ4 Ｈ9 ）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣ11Ｈ23）2 、
（Ｃ4 Ｈ9 ）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣＨ3 ）2 、
（Ｃ4 Ｈ9 ）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ4 Ｈ9 ）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣ8 Ｈ17）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣ11Ｈ23）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣＨ3 ）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ4 Ｈ9 ）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ8 Ｈ17）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ16Ｈ33）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ17Ｈ35）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ18Ｈ37）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ20Ｈ41）2 、
【００６９】
【００７０】
（Ｃ4 Ｈ9 ）2 Ｓｎ（ＳＣＨ2 ＣＯＯＣ8 Ｈ17）2 、
（Ｃ4 Ｈ9 ）2 Ｓｎ（ＳＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯＯＣ8 Ｈ17）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＳＣＨ2 ＣＯＯＣ8 Ｈ17）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＳＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯＯＣ8 Ｈ17）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＳＣＨ2 ＣＯＯＣ12Ｈ25）2 、
（Ｃ8 Ｈ17）2 Ｓｎ（ＳＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯＯＣ12Ｈ25）2 、
（Ｃ4 Ｈ9 ）Ｓｎ（ＳＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ8 Ｈ17）3 、
（Ｃ8 Ｈ17）Ｓｎ（ＳＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ8 Ｈ17）3 、
【００７１】
【００７２】
【００７３】
（Ｃ4 Ｈ9 ）2 ＳｎＯ、（Ｃ8 Ｈ17）2 ＳｎＯなどの有機スズオキサイドや、これらの有機スズオキサイドとエチルシリケート、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、フタル酸ジオクチルなどのエステル化合物との反応生成物
などを挙げることができる。
【００７４】
（Ｄ）成分は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができ、また亜鉛化合物やその他の反応遅延剤と混合して使用することもできる。
【００７５】
（Ｄ）成分は、組成物を調製する際に配合してもよく、また、塗膜を形成する段階で組成物に配合してもよく、さらには、組成物の調製と塗膜の形成との両方の段階で配合してもよい。
（Ｄ）成分の使用量は、有機金属化合物等以外の場合、上記（Ａ）成分におけるオルガノシラン（１）１００重量部に対して、通常、０〜１００重量部、好ましくは、０．０１〜８０重量部、さらに好ましくは、０．１〜５０重量部であり、有機金属化合物等の場合、上記（Ａ）成分におけるオルガノシラン（１）１００重量部に対して、通常、０〜１００重量部、好ましくは、０．１〜８０重量部、さらに好ましくは、０．５〜５０重量部である。この場合、（Ｄ）成分の使用量が１００重量部を超えると、組成物の保存安定性が低下したり、塗膜にクラックが発生しやすくなる傾向がある。
【００７６】
（Ｅ）成分
（Ｅ）成分は、下記一般式（５）
Ｒ6 ＣＯＣＨ2 ＣＯＲ7 ・・・（５）
〔式中、Ｒ6 およびＲ7 は、有機金属化合物（４）における上記各一般式のそれぞれＲ6 およびＲ7 と同義である〕で表されるβ−ジケトン類およびβ−ケトエステル類、カルボン酸化合物、ジヒドロキシ化合物、アミン化合物、およびオキシアルデヒド化合物からなる群から選択される少なくとも１種である。
このような（Ｅ）成分は、特に、上記（Ｄ）成分として有機金属化合物等を使用する場合に併用することが好ましい。
【００７７】
（Ｅ）成分は、組成物の安定性向上剤として作用するものである。すなわち、（Ｅ）成分が上記有機金属化合物等の金属原子に配位して、該有機金属化合物等による上記（Ａ）成分と（Ｂ）成分の共縮合反応を促進する作用を適度にコントロールすることにより、得られる組成物の保存安定性をさらに向上させる作用をなすものと推定される。
【００７８】
（Ｅ）成分の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロピル、アセト酢酸−ｎ−ブチル、アセト酢酸−ｓｅｃ−ブチル、アセト酢酸−ｔ−ブチル、ヘキサン−２，４−ジオン、ヘプタン−２，４−ジオン、ヘプタン−３，５−ジオン、オクタン−２，４−ジオン、ノナン−２，４−ジオン、５−メチルヘキサン−２，４−ジオン、マロン酸、シュウ酸、フタル酸、グリコール酸、サリチル酸、アミノ酢酸、イミノ酢酸、エチレンジアミン四酢酸、グリコール、カテコール、エチレンジアミン、２，２−ビピリジン、１，１０−フェナントロリン、ジエチレントリアミン、２−エタノールアミン、ジメチルグリオキシム、ジチゾン、メチオニン、サリチルアルデヒドなどを挙げることができる。これらのうち、アセチルアセトン、アセト酢酸エチルが好ましい。
（Ｅ）成分は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００７９】
（Ｅ）成分の使用量は、上記有機金属化合物等における有機金属化合物１モルに対して、通常、２モル以上、好ましくは３〜２０モルである。この場合、（Ｅ）成分の使用量が２モル未満では、得られる組成物の保存安定性の向上効果が不充分となる傾向がある。
【００８０】
（Ｆ）成分
（Ｆ）成分は、無機化合物の粉体および／またはゾルもしくはコロイドからなり、塗膜の所望の特性に応じて配合される。
【００８１】
（Ｆ）成分をなす化合物の具体例としては、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、ＡｌＧａＡｓ、Ａｌ（ＯＨ）3 、Ｓｂ2 Ｏ5 、Ｓｉ3 Ｎ4 、ＳｎＯ2 、Ｓｎ−Ｉｎ2 Ｏ3 、Ｉｎ2 Ｏ3 、Ｓｂ−Ｉｎ2 Ｏ3 、ＩｎＰ、ＩｎＳｂ、ＩｎＡｓ、ＩｎＧａＡｌＰ、ＭｇＦ、ＣｅＦ3 、ＣｅＯ2 、３Ａｌ2 Ｏ3 ・２ＳｉＯ2 、ＢｅＯ、ＳｉＣ、ＡｌＮ、Ｆｅ、Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｃｏ、Ｃｏ−ＦｅＯx 、ＣｒＯ2 、Ｆｅ4 Ｎ、ＢａＴｉＯ3 、ＢａＯ−Ａｌ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 、Ｂａフェライト、ＳｍＣＯ5 、ＹＣＯ5 、ＣｅＣＯ5 、ＰｒＣＯ5 、Ｓｍ2 ＣＯ17、Ｎｄ2 Ｆｅ14Ｂ、ＺｒＯ2 、Ａｌ4 Ｏ3 、ＡｌＮ、ＳｉＣ、α−Ｓｉ、ＳｉＮ4 、ＣｏＯ、Ｓｂ−ＳｎＯ2 、ＭｎＯ2 、ＭｎＢ、Ｃｏ3 Ｏ4 、Ｃｏ3 Ｂ、ＬｉＴａＯ3 、ＭｇＯ、ＭｇＡｌ2 Ｏ4 、ＢｅＡｌ2 Ｏ4 、ＺｒＳｉＯ4 、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＳｂ、ＺｎＴｅ、ＰｂＴｅ、ＰｂＳ、ＰｂＳｅ、ＧｅＳｉ、ＦｅＳｉ2 、ＣｒＳｉ2 、ＣｏＳｉ2 、ＭｎＳｉ1.73、Ｍｇ2 Ｓｉ、β−Ｂ、ＢａＣ、ＢＰ、ＴｉＢ2 、ＺｒＢ2 、ＨｆＢ2 、Ｒｕ2 Ｓｉ3 、ＲｕＯ2 、ＴｉＯ2 、ＴｉＯ3 、ＳｒＴｉＯ3 、ＦｅＴｉＯ3 、ＰｂＴｉＯ3 、Ａｌ2 ＴｉＯ5 、Ｚｎ2 ＳｉＯ4 、Ｚｒ2 ＳｉＯ4 、２ＭｇＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 −５ＳｉＯ2 、ＷＯ3 、Ｂｉ2 Ｏ3 、ＣｄＯ、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＣｄＦｅＯ3 、ＭｏＳ2 、ＬａＲｈＯ3 、ＧａＮ、ＣｄＰ、Ｎｂ2 Ｏ5 、ＧａＡｓＰ、Ｌｉ2 Ｏ−Ａｌ2 Ｏ3 −４ＳｉＯ2 、Ｍｇフェライト、Ｎｉフェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト、Ｌｉフェライト、Ｓｒフェライトなどを挙げることができる。
これら（Ｆ）成分は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００８２】
（Ｆ）成分の存在形態には、粉体、水に分散した水系のゾルもしくはコロイド、イソプロピルアルコールなどの極性溶媒や、トルエンなどの非極性溶媒中に分散した溶媒系のゾルもしくはコロイドがある。溶媒系のゾルもしくはコロイドの場合、半導体の分散性によってはさらに水や溶媒にて希釈して用いてもよく、また分散性を向上させるために表面処理して用いてもよい。
【００８３】
（Ｆ）成分が水系のゾルもしくはコロイド、あるいは溶媒系のゾルもしくはコロイドである場合、固形分濃度は４０重量％以下が好ましい。
【００８４】
（Ｆ）成分を組成物中に配合する方法としては、組成物の調製後に添加してもよく、あるいは、組成物の調製時に添加して、（Ｆ）成分を、上記（Ａ）成分、（Ｂ）成分などと共加水分解・縮合させてもよい。
【００８５】
（Ｆ）成分の使用量は、上記（Ａ）成分におけるオルガノシラン（１）１００重量部に対して、固形分で、通常、０〜５００重量部、好ましくは、０．１〜４００重量部である。
【００８６】
他の添加剤
また、本発明の組成物には、得られる塗膜の着色、厚膜化などのために、別途充填材を添加・分散させることもできる。
このような充填材としては、例えば、非水溶性の有機顔料や無機顔料、顔料以外の、粒子状、繊維状もしくは鱗片状のセラミックス、金属あるいは合金、ならびにこれらの金属の酸化物、水酸化物、炭化物、窒化物、硫化物などを挙げることができる。
【００８７】
上記充填材の具体例としては、鉄、銅、アルミニウム、ニッケル、銀、亜鉛、フェライト、カーボンブラック、ステンレス鋼、二酸化ケイ素、顔料用酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化コバルト、合成ムライト、水酸化アルミニウム、水酸化鉄、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素、クレー、ケイソウ土、消石灰、石膏、タルク、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、ベントナイト、雲母、亜鉛緑、クロム緑、コバルト緑、ビリジアン、ギネー緑、コバルトクロム緑、シェーレ緑、緑土、マンガン緑、ピグメントグリーン、群青、紺青、ピグメントグリーン、岩群青、コバルト青、セルリアンブルー、ホウ酸銅、モリブデン青、硫化銅、コバルト紫、マルス紫、マンガン紫、ピグメントバイオレット、亜酸化鉛、鉛酸カルシウム、ジンクエロー、硫化鉛、クロム黄、黄土、カドミウム黄、ストロンチウム黄、チタン黄、リサージ、ピグメントエロー、亜酸化銅、カドミウム赤、セレン赤、クロムバーミリオン、ベンガラ、亜鉛白、アンチモン白、塩基性硫酸鉛、チタン白、リトポン、ケイ酸鉛、酸化ジルコン、タングステン白、鉛亜鉛華、バンチソン白、フタル酸鉛、マンガン白、硫酸鉛、黒鉛、ボーン黒、ダイヤモンドブラック、サーマトミック黒、植物性黒、チタン酸カリウムウィスカー、二硫化モリブデンなどを挙げることができる。
これらの充填材は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
充填材の使用量は、組成物の全固形分１００重量部に対して、通常、３００重量部以下である。
【００８８】
さらに、本発明の組成物には、所望により、オルトギ酸メチル、オルト酢酸メチル、テトラエトキシシランなどの公知の脱水剤；ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリカルボン酸型高分子界面活性剤、ポリカルボン酸塩、ポリリン酸塩、ポリアクリル酸塩、ポリアミドエステル塩、ポリエチレングリコールなどの分散剤；メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースなどのセルロース類や、ひまし油誘導体、フェロけい酸塩などの増粘剤；炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、亜硝酸アンモニウム、水素化ホウ素ナトリウム、カルシウムアジドなどの無機発泡剤や、アゾビスイソブチロニトリルなどのアゾ化合物、ジフェニルスルホン−３，３′−ジスルホヒドラジンなどのヒドラジン化合物、セミカルバジド化合物、トリアゾール化合物、Ｎ−ニトロソ化合物などの有機発泡剤のほか、界面活性剤、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、染料などの他の添加剤を配合することもできる。
【００８９】
また、組成物のコーティング性をより向上させるためにレベリング剤を配合することができる。このようなレベリング剤のうち、フッ素系のレベリング剤（商品名。以下同様）としては、例えば、ビーエムヘミー（ＢＭ−ＣＨＥＭＩＥ）社のＢＭ１０００、ＢＭ１１００；エフカケミカルズ社のエフカ７７２、エフカ７７７；共栄社化学（株）製のフローレンシリーズ；住友スリーエム（株）のＦＣシリーズ；東邦化学（株）のフルオナールＴＦシリーズなどを挙げることができ、シリコーン系のレベリング剤としては、例えば、ビックケミー社のＢＹＫシリーズ；シュメグマン（Ｓｓｈｍｅｇｍａｎｎ）社のＳｓｈｍｅｇｏシリーズ；エフカケミカルズ社のエフカ３０、エフカ３１、エフカ３４、エフカ３５、エフカ３６、エフカ３９、エフカ８３、エフカ８６、エフカ８８などを挙げることができ、エーテル系またはエステル系のレベリング剤としては、例えば、日信化学工業（株）のカーフィノール；花王（株）のエマルゲン、ホモゲノールなどを挙げることができる。
【００９０】
このようなレベリング剤を配合することにより、塗膜の仕上がり外観が改善され、薄膜としても均一に塗布することができる。
レベリング剤の使用量は、全組成物に対して、好ましくは、０．０１〜５重量％、さらに好ましくは０．０２〜３重量％である。
【００９１】
レベリング剤を配合する方法としては、組成物を調製する際に配合してもよく、また塗膜を形成する段階で組成物に配合してもよく、さらには組成物の調製と塗膜の形成との両方の段階で配合してもよい。
【００９２】
本発明の組成物を調製するに際しては、（Ｄ）成分と（Ｅ）成分とを使用しない場合は、各成分の混合方法は特に限定されないが、（Ｄ）成分と（Ｅ）成分とを使用する場合は、好ましくは、（Ａ）〜（Ｆ）成分のうち（Ｅ）成分を除いた混合物を得たのち、これに（Ｅ）成分を添加する方法が採用される。
【００９３】
組成物の調製法の具体例としては、下記（ｉ）〜（ｉｖ）の方法などを挙げることができる。
（ｉ）（Ａ）成分を構成するオルガノシラン（１）、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分および必要量の有機溶剤からなる混合物に、所定量の水を加えて加水分解・縮合反応を行ったのち、（Ｅ）成分を添加する方法。
（ii）（Ａ）成分を構成するオルガノシラン（１）、および必要量の有機溶剤からなる混合物に、所定量の水を加えて加水分解・縮合反応を行い、次いで（Ｂ）成分および（Ｄ）成分を加えて混合して、さらに縮合反応を行ったのち、（Ｅ）成分を添加する方法。
【００９４】
（ｉｉｉ）（Ａ）成分を構成するオルガノシラン（１）、（Ｄ）成分および必要量の有機溶剤からなる混合物に、所定量の水を加えて加水分解・縮合反応を行い、次いで（Ｂ）成分を加えて混合して、さらに部分縮合反応を行ったのち、（Ｅ）成分を添加する方法。
（ｉｖ）（Ａ）成分を構成するオルガノシラン（１）の一部、（Ｂ）成分、（Ｄ）成分および必要量の有機溶剤からなる混合物に、所定量の水を加えて加水分解・縮合反応を行い、次いでオルガノシラン（１）の残部を添加して、さらに加水分解・部分縮合反応を行なったのち、（Ｅ）成分を添加する方法。
【００９５】
なお、本発明においては、（Ａ）〜（Ｅ）成分以外の成分は、組成物を調製する適宜の段階で添加することができる。
【００９６】
以上の本発明の組成物は、保存安定性に優れ、優れた反射防止効果、耐汚染性を有するとともに熱硬化により形成可能である反射防止膜およびその反射防止膜を含む積層体ならびにその反射防止膜を提供することができる。
【００９７】
本発明の組成物を基材に塗布する際には、刷毛、ロールコーター、フローコーター、遠心コーター、超音波コーターなどを用いたり、ディップコート、流し塗り、スプレー、スクリーンプロセス、電着、蒸着などの塗布方法により、１回塗りで厚さ０．０５〜１００μｍ程度、２〜３回塗りでは厚さ０．１〜２００μｍ程度の塗膜を形成することができる。その後、常温で乾燥するか、あるいは、３０〜２００℃程度の温度で数秒〜数十分程度加熱して乾燥（熱硬化）することにより、各種の基材に塗膜を形成することができる。
【００９８】
本発明の組成物を適用しうる基材としては、例えば、鉄、アルミニウム、ステンレスなどの金属；セメント、コンクリート、ＡＬＣ、フレキシブルボード、モルタル、スレート、石膏、セラミックス、レンガなどの無機窯業系材料；フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂）などのプラスチック成型品；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタン、ポリイミドなどのプラスチックフィルムや、木材、紙、ガラスなどを挙げることができる。また、本発明の組成物は、劣化塗膜の再塗装にも有用である。
【００９９】
これらの基材には、下地調整、密着性向上、多孔質基材の目止め、平滑化、模様付けなどを目的として、予め表面処理を施すこともできる。
金属系基材に対する表面処理としては、例えば、研磨、脱脂、メッキ処理、クロメート処理、火炎処理、カップリング処理などを挙げることができ、プラスチック系基材に対する表面処理としては、例えば、ブラスト処理、薬品処理、脱脂、火炎処理、酸化処理、蒸気処理、コロナ放電処理、紫外線照射処理、プラズマ処理、イオン処理などを挙げることができ、無機窯業系基材に対する表面処理としては、例えば、研磨、目止め、模様付けなどを挙げることができ、木質基材に対する表面処理としては、例えば、研磨、目止め、防虫処理などを挙げることができ、紙質基材に対する表面処理としては、例えば、目止め、防虫処理などを挙げることができ、さらに劣化塗膜に対する表面処理としては、例えば、ケレンなどを挙げることができる。
【０１００】
本発明の組成物による塗布操作は、基材の種類や状態、塗布方法によって異なる。例えば、金属系基材の場合、防錆の必要があればプライマーを用い、無機窯業系基材の場合、基材の特性（表面荒さ、含浸性、アルカリ性など）により塗膜の隠ぺい性が異なるため、通常はプライマーを用いる。また、劣化塗膜の再塗装の場合、旧塗膜の劣化が著しいときはプライマーを用いる。
それ以外の基材、例えば、プラスチック、木材、紙、ガラスなどの場合は、用途に応じてプライマーを用いても用いなくてもよい。
【０１０１】
プライマーの種類は特に限定されず、基材と組成物との密着性を向上させる作用を有するものであればよく、基材の種類、使用目的に応じて選択する。プライマーは、単独でまたは２種以上を混合して使用することができ、また顔料などの着色成分を含むエナメルでも、該着色成分を含まいクリヤーでもよい。
【０１０２】
プライマーの種類としては、例えば、アルキド樹脂、アミノアルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フッ素樹脂、アクリルシリコン樹脂、アクリルエマルジョン、エポキシエマルジョン、ポリウレタンエマルジョン、ポリエステルエマルジョンや、本発明における（Ａ）成分からなる組成物、（Ａ）成分と（Ｂ−３）成分とからなる組成物などを挙げることができる。また、これらのプライマーには、厳しい条件での基材と塗膜との密着性が必要な場合、各種の官能基を付与することもできる。このような官能基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、カルボニル基、アミド基、アミン基、グリシジル基、アルコキシシリル基、エーテル結合、エステル結合などを挙げることができる。
なお、これらのプライマー成分は、密着性を向上させるための密着性向上成分として、本発明に用いられるコーティング組成物中に添加することもできる。
【０１０３】
以上の本発明に用いられるコーティング組成物は、熱硬化性組成物として用いられるが、この組成物に、さらに（Ｇ）光酸発生や、（Ｈ）脱水剤を配合することにより、光硬化性組成物として用いることができる。以下、光硬化性組成物について説明する。
【０１０４】
（Ｇ）光酸発生剤
▲１▼定義
本発明に用いられる組成物に添加する（Ｇ）光酸発生剤は、光などのエネルギー線を照射することにより、（Ａ）成分である加水分解性のオルガノシランを光硬化（架橋）可能な酸性活性物質を放出することができる化合物と定義される。
なお、光酸発生剤を分解させて、カチオンを発生するするために照射する光エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線などを挙げることができる。ただし、一定のエネルギーレベルを有し、硬化速度が大（速く）であり、しかも照射装置が比較的安価で、小型な観点から、紫外線を使用することが好ましい。
【０１０５】
なお、本発明の積層体を形成するにおいて、組成物に、光酸発生剤とともに後述するラジカル発生剤を併用することも好ましい。中性の活性物質であるラジカルは、シラノール基の縮合反応を促進することはないが、（Ａ）成分中にラジカル重合性の官能基を有する場合に、この官能基の重合を推進させることができる。したがって、光硬化性組成物をより効率的に硬化させることができる。
【０１０６】
▲２▼光酸発生剤の種類
次に、本発明に用いられる光酸発生剤の種類を説明する。この光酸発生剤としては、一般式（６）で表される構造を有するオニウム塩（第１群の化合物）や一般式（７）で表される構造を有するスルホン酸誘導体（第２群の化合物）を挙げることができる。
【０１０７】
〔Ｒ8 a Ｒ9 b Ｒ10 c Ｒ11 d Ｗ〕+m〔ＭＺm+n 〕-m （６）
〔一般式（６）中、カチオンはオニウムイオンであり、ＷはＳ，Ｓｅ，Ｔｅ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｏ，Ｉ，Ｂｒ，Ｃｌまたは−Ｎ≡Ｎであり、Ｒ8 〜Ｒ11は同一または異なる有機基であり、ａ，ｂ，ｃおよびｄはそれぞれ０〜３の整数であって、（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）はＷの価数に等しい。また、Ｍはハロゲン化物錯体〔ＭＸm+n 〕の中心原子を構成する金属またはメタロイドであり、例えば、Ｂ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｆｅ，Ｓｎ，Ｂｉ，Ａｌ，Ｃａ，Ｉｎ，Ｔｉ，Ｚｎ，Ｓｃ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｃｏである。Ｚは、例えば、Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒなどのハロゲン原子またはアリール基であり、ｍはハロゲン化物錯体イオンの正味の電荷であり、ｎはＭの原子価である。〕
【０１０８】
Ｑs −〔Ｓ（＝Ｏ）2 −Ｒ12〕t （７）
〔一般式（７）中、Ｑは一価もしくは二価の有機基、Ｒ12は炭素数１〜１２の一価の有機基、添え字ｓは０または１、添え字ｔは１または２である。〕
【０１０９】
まず、第１群の化合物であるオニウム塩は、光を受けることにより酸性活性物質を放出することができる化合物である。このような第１群の化合物のうち、より有効なオニウム塩は芳香族オニウム塩であり、特に好ましくは下記一般式（８）で表されるジアリールヨードニウム塩である。
［Ｒ13−Ａｒ1 −Ｉ+ −Ａｒ2 −Ｒ14］［Ｙ- ］ （８）
〔一般式（８）中、Ｒ13およびＲ14は、それぞれ１価の有機基であり、同一でも異なっていてもよく、Ｒ13およびＲ14の少なくとも一方は炭素数が４以上のアルキル基を有しており、Ａｒ1 およびＡｒ2 はそれぞれ芳香族基であり、同一でも異なっていてもよく、Ｙ- は１価の陰イオンであり、周期律表３族，５族のフッ化物陰イオン、もしくはＣｌＯ4 - ，ＣＦ3 - およびＳＯ3 - から選ばれる陰イオンである。〕
【０１１０】
また、第２群の化合物としての一般式（７）で表されるスルホン酸誘導体の例を示すと、ジスルホン類、ジスルホニルジアゾメタン類、ジスルホニルメタン類、スルホニルベンゾイルメタン類、イミドスルホネート類、ベンゾインスルホネート類、１−オキシ−２−ヒドロキシ−３−プロピルアルコールのスルホネート類、ピロガロールトリスルホネート類、ベンジルスルホネート類を挙げることができる。
また、一般式（７）で表されるスルホン酸誘導体のうち、より好ましくはイミドスルホネート類であり、さらに好ましくはイミドスルホネートのうち、トリフルオロメチルスルホネート誘導体である。
【０１１１】
▲３▼光酸発生剤の添加量
次に、光硬化性組成物に使用される光酸発生剤の添加量（含有割合）について説明する。
この光酸発生剤の添加量は特に制限されるものではないが、（Ａ）成分を構成するオルガノシラン（１）１００重量部に対して、通常、０．１〜１５重量部の範囲内の値とするのが好ましい。光酸発生剤の添加量が０．１重量部未満となると、光硬化性が低下し、充分な硬化速度が得られない場合がある。一方、光酸発生剤の添加量が１５重量部を超えると、得られる硬化物の耐候性や耐熱性が低下する場合がある。
したがって、光硬化性と得られる硬化物の耐候性などとのバランスがより良好な観点から、光酸発生剤の添加量を、オルガノシラン（１）１００重量部に対して１〜１０重量部の範囲内の値とすることがより好ましい。
【０１１２】
（Ｈ）脱水剤
▲１▼定義
本発明の光硬化性組成物に使用される脱水剤は、化学反応により水以外の物質に変換する化合物、物理吸着または包接により、光硬化性および保存安定性に影響を与えなくする化合物と定義される。
すなわち、このような脱水剤を含有することにより、光硬化性組成物の耐候性や耐熱性を損なうことなく、保存安定性や光硬化性という相反する特性を向上させることができる。この理由として、外部から侵入してくる水を、脱水剤が有効に吸収するために光硬化性組成物の保存安定性が向上し、一方、光硬化反応である縮合反応においては、生成した水を順次に脱水剤が有効に吸収するために光硬化性組成物の光硬化性が向上するものと考えられる。
【０１１３】
▲２▼脱水剤の種類
次に、光硬化性組成物に使用される脱水剤の種類を説明する。この脱水剤の種類は特に制限されるものでないが、有機化合物として、カルボン酸エステル、アセタール類（ケタール類を含む）、およびカルボン酸無水物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物であることが好ましい。また、無機化合物として、脱水機能を有するセラミック粉体の使用も好ましい。これらの脱水剤は、優れた脱水効果を示し、少量の添加で脱水剤の機能を効率的に発揮することができる。
【０１１４】
また、脱水剤としてのカルボン酸エステルは、カルボン酸オルトエステルやカルボン酸シリルエステルなどの中から選ばれる。
ここで、好ましいカルボン酸オルトエステルとしては、オルトギ酸メチル、オルトギ酸エチル、オルトギ酸プロピル、オルトギ酸ブチル、オルト酢酸メチル、オルト酢酸エチル、オルト酢酸プロピル、オルト酢酸ブチル、オルトプロピオン酸メチルおよびオルトプロピオン酸エチルなどが挙げられる。また、これらのカルボン酸オルトエステルのうち、より優れた脱水効果を示し、保存安定性や光硬化性をより向上させることができる観点から、オルトギ酸エステルが、本発明における脱水剤として特に好ましい。
また、好ましいカルボン酸シリルエステルとしては、酢酸トリメチルシリル、酢酸トリブチルシリル、ギ酸トリメチルシリル、シュウ酸トリメチルシリルなどが挙げられる。
【０１１５】
また、好ましいアセタール類としては、例えば、アセトンジメチルアセタール、アセトンジエチルアセタール、メチルエチルケトンジメチルアセタール、メチルエチルケトンジメチルアセタール、シクロヘキサノンジメチルアセタールおよびシクロヘキサノンジエチルアセタールが挙げられる。これらのアセタール類は、優れた脱水効果を示し、光硬化性組成物の保存安定性や光硬化性をより向上させることができる。
【０１１６】
また、好ましいカルボン酸無水物としては、例えば、ギ酸無水物、無水酢酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、安息香酸無水物、酢酸安息香酸無水物などが挙げられる。特に、無水酢酸および無水コハク酸は、脱水効果に特に優れており好ましい。
【０１１７】
また、好ましい脱水機能を有するセラミック粉体としては、シリカゲル粒子、アルミナ粒子、シリカアルミナ粒子、活性白土、ゼオライトなどが挙げられる。これらのセラミック粉体は、水に対して、強い親和力を有しており、優れた脱水効果を発揮することができる。
【０１１８】
▲３▼脱水剤の添加量
次に、光硬化性組成物に使用される脱水剤の添加量について説明する。脱水剤の添加量は特に制限されるものではないが、（Ａ）成分を構成するオルガノシラン（１）１００重量部に対して、通常、０．１〜１００重量部の範囲内の値とするのが好ましい。この理由は、脱水剤の添加量が０．１重量部未満となると、添加効果の発現に乏しく、保存安定性や光硬化性の向上効果が低い場合があるためであり、一方、脱水剤の添加量が１００重量部を超えると、保存安定性や光硬化性の向上効果が飽和する場合がある。
したがって、より好ましくは、脱水剤の添加量を、オルガノシラン（１）１００重量部に対して、０．５〜５０重量部の範囲内の値とすることであり、さらに好ましくは、１〜１０重量部の範囲内の値とすることである。
【０１１９】
（Ｇ）〜（Ｈ）成分以外のその他の添加剤
光硬化性組成物には、本発明の目的や効果を損なわない範囲において、ラジカル性光重合開始剤、光増感剤、有機溶剤、重合禁止剤、重合開始助剤、レベリング剤、濡れ性改良剤、界面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、無機充填剤、顔料、染料などの添加剤をさらに含有させることも好ましい。
【０１２０】
反射防止膜
▲１▼反射防止膜の形成方法
光硬化性組成物から反射防止膜を形成する場合、コーテイングする方法を採ることが好ましい。このようなコーテイング方法としては、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、またはインクジェット法などの方法を用いることができる。これらのうち、基材が板状の場合には、特にディッピング法を用いることが好ましい。
【０１２１】
また、光硬化性組成物を光硬化する手段も特に制限されるものではないが、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマーランプなどの光源を用いて、波長１５０〜４００ｎｍの光を照射することが好ましい。また、レーザ光、あるいはレンズ、ミラーなどを用いて得られた収束光などを走査させながら光硬化性組成物に光照射することも好ましい。さらに、所定のパターンの光透過部を有するマスクを用い、このマスクを介して非収束光を組成物に光照射したり、あるいは、多数の光ファイバーを束ねてなる導光部材を用い、この導光部材における所定のパターンに対応する光ファイバーを介して光照射することも好ましい。
【０１２２】
▲２▼厚さ
反射防止膜の厚さは特に制限されるものではないが、例えば一層の場合、０．０５〜５０μｍの範囲内の値であることが好ましい。この理由は、厚さが０．０５μｍ未満となると、反射防止効果や基材に対する密着力が低下する場合があるためであり、一方、厚さが５０μｍを超えると、光干渉が生じて反射防止効果が低下する場合があるためである。
したがって、反射防止膜が一層の場合、その厚さを０．０５〜５０μｍの範囲内の値とするのがより好ましく、０．６〜２０μｍの範囲内の値とするのがさらに好ましい。
【０１２３】
なお、反射防止膜を複数層設けて多層構造とする場合には、その厚さを反射防止膜が一層の場合の好ましい厚さに層数を掛けた値とするのが良い。例えば、反射防止膜を２層設ける場合には、合計した厚さを０．１〜２００μｍの範囲内の値とするのが好ましい。
【０１２４】
▲３▼屈折率
反射防止膜の屈折率の値は、低いほど優れた反射防止効果が得られるものの、具体的に、１．７（−）以下の値が好ましく、より好ましくは１．３〜１．６（−）の範囲内の値であり、１．３〜１．５（−）の範囲内の値であることがさらに好ましい。この理由は、屈折率が１．３（−）未満となると、使用可能な材料の種類が過度に制限される場合があるためであり、一方、屈折率が１．７（−）を超えると、反射防止効果が著しく低下する場合があるためである。
【０１２５】
なお、反射防止膜を複数層設ける場合には、そのうちの少なくとも一層が上述した範囲内の屈折率の値を有していれば良く、したがって、その他の反射防止膜は１．７（−）を超える屈折率の値を有していても良い。
【０１２６】
積層体
次に、本発明の積層体は、上記反射防止膜を基材表面に有する積層体である。なお、積層体は、少なくとも基材と、反射防止膜とを含んでいれば良く、種々の変形例が含まれる。なお、以下の積層体の構成例は、（Ｇ）〜（Ｈ）成分を含まない、上記の熱硬化性組成物にも適用可能である。
以下、本発明の積層体を、図１〜図３を参照しつつ具体的に説明する。
図１は、基材上１２に直接形成された反射防止膜１０を含む積層体１４の断面図であり、図２は、基材１２と反射防止膜１０との間にハードコート層１６を介在させた積層体１８の断面図である。また、図３は、下側から、基材１２と、ハードコート層１６と、第１の高屈折率層２０と、第１の反射防止膜２２と、第２の高屈折率層２４と、第２の反射防止膜２６とを順次に形成して構成した多層構造の積層体２８の断面図である。
【０１２７】
図１に示す積層体１４の場合、反射防止膜１０を直接基材１２上に形成することができるので、構成が単層とシンプルであり、しかも精度良く形成することができる。
また、図２に示す積層体１８のように、反射防止膜１０と基材１２との間に、ハードコート層１６を介在させると、反射防止膜１０の基材１２に対する密着力をより向上させることができ、また、ハードコート層１６の機械的特性に起因して積層体１８としての耐久性がより向上する。なお、ハードコート層１６は、例えば、ＳｉＯ2 、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂などの材料から構成するのが好ましく、さらには、その厚さを１〜５０μｍの範囲内の値とするのが好ましく、より好ましくは５〜１０μｍの範囲内の値とする。
【０１２８】
また、図３に示す積層体２８のように、第１および第２の反射防止層２２，２６のほかに、比較的高い屈折率の値、例えば、１．５〜２．０（−）の範囲内の値を有する、厚さ５０〜２００ｎｍの第１および第２の高屈折率層２０，２４を、それぞれ第１および第２の反射防止層２２，２６と接して設けることも好ましい。このように、本発明の反射防止層に接して高屈折率層２０，２４を設け、しかも複数層設けることにより、より優れた反射防止効果を得ることができる。
また、高屈折率層２０，２４を設ける場合、より優れた反射防止効果が得られることから、反射防止層２２，２６と、高屈折率層２０，２４との間の屈折率差を０．０５（−）以上の値とするのが好ましく、０．１〜０．５（−）の範囲内の値とするのがより好ましく、０．１５〜０．５（−）の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
【０１２９】
また、図２〜図３の積層体１８，２８に示すように、ハードコート層１６や高屈折率層２０，２４あるいはプライマー層（図示しない）を設ける場合にも、その上に本発明の光硬化性組成物をコーティングしたのち、紫外線などを照射することにより、反射防止膜１０，２２，２６を容易に形成することができる。その場合、反射防止効果の一端を担う高屈折率層２０，２４を含めて、本発明の反射防止膜（反射防止層）と称する場合がある。
【０１３０】
また、図１〜図３に示す積層体１４，１８，２８における基材１２の種類は、光が透過する際に反射防止効果が所望されるものであれば特に制限されるものではないが、例えば、ガラス、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂またはアクリル系樹脂などを挙げることができる。基材１２がガラスの場合には、具体的な積層体として、カメラのレンズ部やテレビ（ＣＲＴ、ＬＣＤ）の画面表示部あるいは窓ガラスなどが挙げられる。また、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂またはアクリル系樹脂からなる基材１２の場合には、液晶表示装置におけるカラーフィルターなどが挙げられる。
【０１３１】
反射防止膜の製造方法
本発明の反射防止膜の製造方法は、その第１の工程は、上述した光硬化性組成物を基材上で成形する工程（成形工程と称する場合がある）であり、第２の工程は、露光機を用いて露光することにより、光硬化性組成物を光硬化させる工程（露光工程と称する場合がある）である。
【０１３２】
（１）第１の工程
光硬化性組成物の成形方法は特に制限されるものではないが、例えば、ディップコータやスピンコータ、あるいはバーコータを用いて、光硬化性組成物を塗布、形成することが好ましい。具体的に、スピンコータを用いた場合、スピンコータ内に、基材を固定したのち、一例として、回転数１，０００ｒｐｍの条件で、予め粘度調整した光硬化性組成物を回転塗布することが好ましい。
また、光硬化性組成物の成形後（光硬化前）の厚さは特に制限されるものではないが、例えば、５０〜１，０００ｎｍの範囲内の値であることが好ましい。この理由は、成形後の厚さが５０ｎｍ未満では、光硬化性組成物を所定形状に保持することが困難となる場合があり、一方、１，０００ｎｍを超えると、光干渉などが生じて、反射防止膜としたときに、反射防止効果が乏しくなる場合があるためである。
【０１３３】
また、第１の工程において、光硬化性組成物の成形後に、１００〜１５０℃の温度で予備加熱（プリベイク）することが好ましい。このような条件で光硬化性組成物を予備加熱することにより、光硬化性組成物における揮発部分を有効に除去することができ、光硬化性組成物の成形品が型崩れすることがなくなる。また、（Ａ）成分を構成するオルガノシラン（１）のシラノールの一部を反応させることができ、基材に対する密着力や現像時における耐薬品（現像剤）性を向上させることもできる。
ただし、過度に加熱して、現像特性が逆に低下しないように、１１０〜１４０℃の温度で加熱することがより好ましく、１１５〜１３０℃の温度で加熱することがより好ましい。
【０１３４】
さらに、加熱時間については、加熱温度を考慮して定めるのが好ましいが、１００〜１５０℃の温度で予備加熱する場合、１〜２０分の加熱時間とするのが好ましい。この理由は、加熱時間が１分未満となると、シラノールの反応が不均一となる場合があり、一方、加熱時間が１０分を超えると、シラノールが過度に反応して、現像液を用いて精度良く現像することが困難となる場合があるためである。したがって、加熱時間を２〜１５分の範囲内の値とするのが好ましく、３〜１０分の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
なお、加熱手段については特に制限されるものではなく、例えば、オーブンや赤外線ランプを用いることができる。
【０１３５】
（２）第２の工程
また、第２の工程における光硬化方法は、全面露光して光硬化させることはもちろんのこと、所定パターンを有するフォトマスク介して非収束光を光硬化性組成物にパターン露光したり、あるいは、多数の光ファイバーを束ねた導光部材を用い、フォトマスクのパターンに対応する光ファイバーからのみ光照射して、パターン露光することも好ましい。
このようにパターン露光することにより、露光して硬化させた光硬化物部分と、露光せず未硬化の光硬化性組成物部分とを精度良く形成することができる。具体的に、マスクパターンのライン／スペース（比率５０／５０）が１０μｍ以上の範囲、より好ましくは３０μｍ以上の範囲、さらに好ましくは、５０μｍ以上の範囲において、光硬化させたのち、現像により基材の露出部を再現性良く形成できることが確認されている。
したがって、未硬化の光硬化性組成物部分のみを、現像液を用いて容易にウエット現像（除去）することができ、基材の露出部、すなわち反射防止膜が設けられていない部分を短時間かつ容易に形成することができる。よって、このような基材の露出部を利用して、所望の部材を強固に接着固定などをすることができる。
【０１３６】
さらに、第２の工程において、光硬化物である反射防止膜をさらに加熱することも好ましい。その場合、基材もしくは塗膜の分解開始温度以下である温度２５〜２００℃、５分〜７２時間の条件で加熱するのが好ましい。このように反射防止膜を加熱することにより、より耐熱性や耐候性に優れた反射防止膜（積層体）を得ることができる。
【０１３７】
【実施例】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明の範囲はこれら実施例の記載に限定されるものではない。また、実施例中、各成分の配合量は特に記載のない限り重量部を意味している。
【０１３８】
参考例１〔フッ素含有アクリル系重合体（Ｂ−１）の調製〕
還流冷却器、撹拌機を備えた反応器に、表１に示す単量体成分と、イソブチルアルコール１０５部、メチルエチルケトン７０部、メタノール３５部を加えて混合したのち、撹拌下で８０℃に加温し、この混合物に、アゾビスイソバレロニトリル４部をキシレン１０部に溶解した溶液を３０分かけて滴下し、さらに８０℃で５時間反応させて、固形分濃度４０％のフッ素含有アクリル系重合体〔（Ｂ−１）成分〕を得た。
【０１３９】
【表１】
（＊１）１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルメタクリレート
（＊２）４−メタクリロイルオキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン
【０１４１】
参考例２〔フッ素含有ビニルエーテル系重合体（Ｂ−２）の調製〕
（１）フッ素含有ビニルエーテル系重合体の重合
内容積１．０リットルの電磁攪拌機を備えたステンレス製のオートクレーブを窒素ガスを用いて充分に置換した。次いで、このオートクレーブ内に、メチルイソブチルケトン（重合溶剤）１５０部と、エチルビニルエーテル３０部とビニルトリメトキシシラン５部、ノニオン性反応性乳化剤ＮＥ−３０〔旭電化工業（株）製〕１０部と、ラジカル発生剤としてアゾ基含有ポリジメチルシロキサンＶＰＳ−１００１〔和光純薬工業（株）製〕１部と、過酸化ラウロイル０．５部とを収容した。そして、共重合成分などを充分に攪拌したのち、ドライアイスおよびメタノールを用いて−５０℃まで冷却し、再度窒素ガスを用いて系内の酸素を除去した。
次いで、ヘキサフルオロプロピレン（ガス）６５部をオートクレーブ内に導入したのち、オートクレーブ内の温度を７０℃に昇温した。なお、７０℃に達した時点での、オートクレーブ内の圧力は５．９ｋｇｆ／ｃｍ2 であった。
【０１４２】
次いで、オートクレーブ内の共重合成分などを攪拌しながら、温度を７０℃に保持したまま２０時間かけてラジカル重合反応を行った。そして、オートクレーブ内の圧力が２．５ｋｇｆ／ｃｍ2 まで低下した時点で、オートクレーブを水冷し て反応を停止させた。オートクレーブ内の温度が室温まで降下したのを確認したのち、オートクレーブを開放し、未反応モノマーを系外に放出させるとともに、フッ素含有共重合体溶液（ポリマー溶液）を取り出した。
得られたフッ素含有共重合体溶液を、多量のメタノールに投入し、フッ素含有共重合体を析出させた。その後、多量のメタノールを用いてフッ素含有共重合体を洗浄し、さらに温度５０℃の真空乾燥を行い、水酸基を有するフッ素含有重合体の精製物を得た。得られた共重合体について、以下のような評価項目をそれぞれ５回測定し平均した。
【０１４３】
▲１▼重量平均分子量の測定
得られたフッ素含有共重合体の精製物を、濃度０．５％となるようにＴＨＦ（テトラヒドロフラン）に溶解させた。次いで、ＧＰＣ装置ＨＬＣ−８０２０〔東ソー（株）製〕を用いて、フッ素含有共重合体のＧＰＣカラムからの溶出時間を屈折率計（ＲＩ）で検出し、得られた溶出時間から、ポリスチレン換算分子量として、フッ素含有共重合体の重量平均分子量を算出した。その結果、得られたフッ素含有共重合体の重量平均分子量は、３０，０００であった。
【０１４４】
▲２▼フッ素含量の測定
得られたフッ素含有共重合体のフッ素含量を、アリザリンコンプレクソン法に準拠して測定した。その結果、得られたフッ素含有共重合体のフッ素含量は、４６．１％であった。結果を表２に示す。
【０１４５】
参考例３〜５
参考例２と同様にして、フッ素含有共重合体（Ｂ−２’）、（Ｂ−２''）、（Ｂ−２''' ）を得た。結果を表２に示す。
【０１４６】
【表２】
参考例６〔シリル基含有アクリル系重合体（Ｂ−３）の調製〕
還流冷却器、攪拌機を備えた反応器に、メチルメタクリレート６３部、２−エチルヘキシルアクリレート５．７部、ｎ−ブチルアクリレート４．３部、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１１．３部、アクリル酸３．９などを混合し、１，１−トリメチルアミンメタクリルイミド２部およびｉ−プロピルアルコール１５０部、メチルエチルケトン５０部、メタノール２５部を加えて混合したのち、攪拌しながら８０℃に加温し、この混合物にアゾビスイソバレロニトリル４部をキシレン１０部に溶解した溶液を３０分間かけて滴下したのち、８０℃で５時間反応させて固形分４０％のシリル基含有アクリル系重合体〔（Ｂ−３）成分〕を得た。結果を表３に示す。
【０１４８】
【表３】
（＊１）１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルメタクリレート
（＊２）４−メタクリロイルオキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン
【０１５０】
合成例１〜１９
（熱硬化性組成物の調製）
攪拌機および蒸留装置を備えた容器内に、メチルトリメトキシシラン７０部、参考例１で得られたＢ成分、ジ−ｉプロポキシエチルアセトアセテートトリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム５部と、電気伝導率が８×１０-5Ｓ・ｃｍ-1のイオン交換水１０部、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコールとを収容したのち、温度６０℃、５時間の条件で加熱攪拌したのち、アセチルアセトンを加えて熱硬化性組成物Ａを得た。得られたポリシロキサン溶液１について、ＧＰＣを用いてポリスチレン換算の重量平均分子量を測定したところ、１６，０００という値が得られた。
また、表４〜６に示すように、同様にして、組成物Ｂ〜Ｓを得た。結果を表４〜６に示す。
なお、表５中、「ＭＴＭＳ」は「メチルトリメトキシシラン」を、「ＰＴＭＳ」は「フェニルトリメトキシシラン」を、「γ−ＭＰＴＭＳ」は「γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン」を、「ＧＰＴＭＳ」は「グリシドキシプロピルトリメトキシシラン」を、「ＤＭＤＭＳ」は「ジメチルジメトキシシラン」を示す。
【０１５１】
【表４】
【表５】
【表６】
（＊１）：トルエン分散酸化亜鉛（固形分濃度３０％）
（＊２）：水分散（ｐＨ４）アナターゼ型酸化チタン（固形分３０％）
（＊３）：メチルエチルケトン分散シリカゾル（固形分３０％）
（＊４）；下記合成例２０の組成物
（＊５）；下記合成例２１の組成物
【０１５５】
合成例２０＜コーティング組成物の合成＞
還流冷却器、撹拌機を備えた反応器に、メチルトリメトキシシラン７０部、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン３０部、水２０部、ｉ−プロピルアルコール１５０部および１０-2ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液２０部を加えてよく攪拌し、６０℃で４時間反応させた。次いで、室温まで冷却し、トルエン分散酸化亜鉛（固形分濃度３０％）２０部を添加して、固形分濃度２０％の組成物を得た。得られた組成物１００部に、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセテート）チタニウムのイソプロピルアルコール溶液２０％品を３０部添加、よく攪拌し、コーティング組成物（ii−１）を得た。表７に示す。
【０１５６】
合成例２１＜コーティング組成物の合成＞
還流冷却器、撹拌機を備えた反応器に、表７に記載した種類、部数の各成分（後添加成分以外）を加えてよく攪拌し、６０℃で４時間反応させた。次いで、室温まで冷却し、後添加成分を添加して固形分濃度２０％の組成物を得た。
【０１５７】
【表７】
（＊１）：ｉ−プロピルアルコール分散コロイダルシリカ（固形分濃度３０％）（＊２）：トルエン分散酸化亜鉛（固形分濃度３０％）
【０１５９】
実施例１〜１９
（１）反射防止性
上記合成例で得られた熱硬化性組成物１００部に対し、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタニウムのｉ−プロピルアルコール溶液（固形分濃度２０％）を１５部添加しよく混合したのち、ポリカーボネート板上にディップコートし、１００℃×１０分加熱乾燥して０．１μｍの反射防止膜を含む積層体を形成した。得られた積層体（反射防止膜）の反射防止効果を分光反射率測定装置〔大型試料室積分球付属装置１５０−０９０９０を組み込んだ自記分光光度計Ｕ−３４１０、日立製作所（株）製〕により、図４に示すように波長４００〜８００ｎｍの範囲で反射率を測定して評価した。すなわち、アルミの蒸着膜における反射率を基準（１００％）として、各波長における積層体（反射防止膜）の反射率を測定し、そのうち波長５５０ｎｍにおける光の反射率から以下の基準で反射防止効果を評価した。結果を表８〜１０に示す。
◎：反射率が１％以下の値である。
○：反射率が２％以下の値である。
△：反射率が３％以下の値である。
×：反射率が３％を超える値である。
【０１６０】
（２）透明性
上記（１）と同様に、熱硬化性組成物を石英板上にスピンコートし加熱乾燥したのち、厚さ１０μｍの透明性測定用の光硬化物（反射防止膜）を形成した。次いで、分光光度計を用いて、得られた光硬化物における波長５５０ｎｍの光透過率（Ｔ／％）を測定し、得られた光透過率から以下の基準で透明性を評価した。結果を表８〜１０に示す。
○：光透過率が９５％以上の値である。
△：光透過率が８０〜９５％未満の値である。
×：光透過率が８０％未満の値である。
【０１６１】
（３）屈折率
上記（１）と同様に、熱硬化性組成物をポリテトラフルオロエチレン製フィルムにバーコーターを用いて塗布し加熱硬化したのち、厚さ２０μｍの屈折率測定用の反射防止膜を形成した。得られた光硬化物におけるＮａ−Ｄ線の屈折率を、測定温度２５℃の条件で、アッベ屈折率計を用いて測定した。結果を表８〜１０に示す。
【０１６２】
（４）耐候性
上記（１）と同様に、熱硬化性組成物を石英板上にスピンコートし加熱硬化したのち、厚さ２μｍの反射防止膜）を形成した。得られた硬化物についてＪＩＳＤ０２０５に準拠して（湿度５０％、温度６３℃、降雨１８分／１２０分照射の条件）、サンシャインカーボンアーク灯式耐光性試験機を用い、促進耐候試験を実施した。そして、促進耐候試験１，０００時間後および２，０００時間後における光硬化物の外観を目視で観察し、以下の基準で以て耐候性を評価した。また、同時に、ＪＩＳ Ｋ７１０３に準拠した黄変度を△ＹＩ値で以て測定し、同様に光硬化物の耐候性を評価した。結果を表８〜１０に示す。
○：外観変化（クラックなど）が無く、また△ＹＩ値が０．１以下である。
△：外観変化（クラックなど）がほとんど無く、また△ＹＩ値が２以下である。
×：外観変化（クラックなど）が認められるか、△ＹＩ値が２を超えている。
【０１６３】
（５）耐擦傷性
上記（１）と同様に、熱硬化性組成物をポリカーボネート板上にディップコートし加熱硬化したのち、厚さ０．１μｍの反射防止膜を含む積層体を形成した。得られた積層体における反射防止膜の表面を、ペーパー（キムワイプ、十条キンバリー（株）製）により、荷重１ｋｇ／ｃｍ2 の条件で２５回こすり、傷の発生具合 や剥離具合および鉛筆硬度試験から、以下の基準に照らして反射防止膜の耐擦傷性を評価した。結果を表８〜１０に示す。
◎：反射防止膜に傷の発生や剥離は観察されず、鉛筆硬度が２Ｈ以上である。
○：反射防止膜に傷の発生や剥離は観察されず、鉛筆硬度が２Ｈ未満である。
△：反射防止膜の剥離は観察されないが、微細な傷の発生が観察される。
×：反射防止膜の一部が剥離したり、筋状の傷の発生が多数観察される。
【０１６４】
（６）耐汚染性
上記（１）と同様に、熱硬化性組成物をポリカーボネート板上にディップコートし加熱硬化したのち、厚さ０．１μｍの反射防止膜を含む積層体を形成した。得られた積層体における反射防止膜の耐汚染性を、汚染物質（指紋および黒マジック）を用いてスポット試験を行い、以下の基準で判断した。結果を表８〜１０に示す。
◎：指紋および黒マジックについて、それぞれ乾布を用いて１回で拭き取ることができる。
○：指紋については、乾布を用いて１０回未満で拭き取ることができ、黒マジックについては、エチルアルコールを用いて１０回未満で拭き取ることができる。
△：指紋については、乾布を用いて１０回以上で拭き取ることができ、黒マジックについては、エチルアルコールを用いて１０回以上で拭き取ることができる。
×：指紋については、乾布を用いて拭き取ることができず、黒マジックについては、エチルアルコールを用いて拭き取ることができない。
【０１６５】
【表８】
【表９】
【表１０】
合成例２２〜２８
（光硬化性組成物の調製）
攪拌機および蒸留装置を備えた容器内に、メチルトリメトキシシラン７０部、参考例１で得られたＢ成分３０部、、ジ−ｉプロポキシエチルアセトアセテートトリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム５部と、電気伝導率が８×１０-5Ｓ・ｃｍ-1のイオン交換水１０部、メチルエチルケトン１００部とを収容したのち、温度６０℃、５時間の条件で加熱攪拌することにより加水分解縮合を行った。次いで、容器内の温度を８０℃に昇温させたのち、メチルイソブチルケトン（以下「ＭＩＢＫ」と略記）を滴下しながら、加水分解により副生したメタノールを蒸留除去した。そして、最終的に固形分を２２％に調整し、（Ａ）成分であるポリシロキサンを含有する溶液（以下「ポリシロキサン溶液２」と称する）を得た。得られたポリシロキサン溶液２について、ＧＰＣを用いてポリスチレン換算の重量平均分子量を測定したところ、１２，０００という値が得られた。
次いで、得られたポリシロキサン溶液２（固形分および溶剤の合計）１００部あたり、（Ｂ）成分の光酸発生剤として、ＳＩ−１００Ｌ〔三新化学（株）製〕を３部、脱水剤として、オルト蟻酸メチル〔和光純薬工業（株）製〕５部をそれぞれ添加して、光硬化性組成物Ｔを得た。
同様にして、光硬化性組成物Ｕ〜Ｚを調製した。結果を表１１に示す。
なお、表１１中、「ＭＴＭＳ」は「メチルトリメトキシシラン」を、「ＰＴＭＳ」は「フェニルトリメトキシシラン」を、「γ−ＭＰＴＭＳ」は「γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン」を、「ＧＰＴＭＳ」は「グリシドキシプロピルトリメトキシシラン」を、「ＤＭＤＭＳ」は「ジメチルジメトキシシラン」を示す。
【０１６９】
【表１１】
実施例２０〜２６
（光硬化性組成物からの反射防止膜の形成および評価）
（１）光硬化性１
得られた光硬化性組成物（溶液）に、ＭＩＢＫとｎ−ブタノールとの等量混合溶媒を添加して、固形分濃度を３％に調整した。次いで、大気条件下に、ポリカーボネート板〔厚さ１ｍｍ、帝人化成（株）製〕上に、ディップコータを用いて塗膜を形成した。
次いで、室温（２５℃）、２分の条件で乾燥して、厚さ０．１μｍの塗膜を得たのち、大気下、温度２５℃、露光量が１００ｍＪ／ｃｍ2 （照射時間１秒）、２００ｍＪ／ｃｍ2 （照射時間２秒）および３００ｍＪ／ｃｍ2 （照射時間３秒）となるように、オーク製作所（株）製のコンベア式高圧水銀ランプ（２ｋＷ）を用いて紫外線を照射し、反射防止膜を形成した。また、窒素中、温度２５℃の条件で、同様に紫外線を照射して、反射防止膜を形成した。得られた反射防止膜につき、指触で表面タックを測定し、以下の基準で光硬化性を評価した。結果を表１２に示す。
◎：１００ｍＪ／ｃｍ2 露光後、反射防止膜の表面タックがない。
○：２００ｍＪ／ｃｍ2 露光後、反射防止膜の表面タックがない。
△：３００ｍＪ／ｃｍ2 露光後、反射防止膜の表面タックがない。
×：３００ｍＪ／ｃｍ2 露光後、反射防止膜の表面タックがある。
【０１７１】
（２）光硬化性２
得られた光硬化性組成物（溶液）を温度４０℃で１ヶ月間および３ヶ月間保管したのち、目視で外観変化（粘度増加）を測定し、さらに上記（１）の光硬化性を測定して、以下の基準で長期保存後の光硬化性を評価した。得られた結果を表１２に、保存安定性として示す。
◎：３ヶ月経過後も、外観変化や光硬化性の変化は観察されない。
○：１ヶ月経過後も、外観変化や光硬化性の変化は観察されない。
×：１ヶ月経過後に、外観変化あるいは光硬化性の低下が観察される。
【０１７２】
（３）反射防止性
光硬化性組成物をポリカーボネート板上にディップコートしたのち、前記コンベア式高圧水銀ランプを用いて、大気中で露光量が２００ｍＪ／ｃｍ2 となるように紫外線を照射して、厚さ０．１μｍの反射防止膜を含む積層体を形成した。得られた積層体（反射防止膜）の反射防止効果を分光反射率測定装置〔大型試料室積分球付属装置１５０−０９０９０を組み込んだ自記分光光度計Ｕ−３４１０、日立製作所（株）製〕により図４に示すように波長４００〜８００ｎｍの範囲で反射率を測定して評価した。すなわち、アルミの蒸着膜における反射率を基準（１００％）として、各波長における積層体（反射防止膜）の反射率を測定し、そのうち波長５５０ｎｍにおける光の反射率から以下の基準で反射防止効果を評価した。結果を表１２に示す。
◎：反射率が１％以下の値である。
○：反射率が２％以下の値である。
△：反射率が３％以下の値である。
×：反射率が３％を超える値である。
【０１７３】
（４）透明性
光硬化性組成物を石英板上にスピンコートしたのち、前記コンベア式高圧水銀ランプを用いて、大気中で露光量が２００ｍＪ／ｃｍ2 となるように紫外線を照射し、厚さ１０μｍの透明性測定用の光硬化物（反射防止膜）を形成した。次いで、分光光度計を用いて、得られた光硬化物における波長５５０ｎｍの光透過率（Ｔ／％）を測定し、得られた光透過率から以下の基準で透明性を評価した。結果を表１２に示す。
○：光透過率が９５％以上の値である。
△：光透過率が８０〜９５％未満の値である。
×：光透過率が８０％未満の値である。
【０１７４】
（５）屈折率
光硬化性組成物をポリテトラフルオロエチレン製フィルム上にバーコータを用いて塗布したのち、前記コンベア式高圧水銀ランプを用いて、大気中で露光量が２００ｍＪ／ｃｍ2 となるように紫外線を照射し、厚さ２０μｍの屈折率測定用の 光硬化物（反射防止膜）を形成した。得られた光硬化物におけるＮａ−Ｄ線の屈折率を、測定温度２５℃の条件で、アッベ屈折率計を用いて測定した。結果を表１２に示す。
【０１７５】
（６）耐候性
光硬化性組成物を石英板上にスピンコートしたのち、前記コンベア式高圧水銀ランプを用いて、大気中で露光量が２００ｍＪ／ｃｍ2 となるように紫外線を照射し、厚さ２μｍの耐候性測定用の光硬化物（反射防止膜）を形成した。得られた光硬化物についてＪＩＳ Ｄ０２０５に準拠して（湿度５０％、温度６３℃、降雨１８分／１２０分照射の条件）、サンシャインカーボンアーク灯式耐光性試験機を用い、促進耐候試験を実施した。そして、促進耐候試験１，０００時間後および２，０００時間後における光硬化物の外観を目視で観察し、以下の基準で以て耐候性を評価した。また、同時に、ＪＩＳ Ｋ７１０３に準拠した黄変度を△ＹＩ値で以て測定し、同様に光硬化物の耐候性を評価した。結果を表１２に示す。
○：外観変化（クラックなど）が無く、また△ＹＩ値が０．１以下である。
△：外観変化（クラックなど）がほとんど無く、また△ＹＩ値が２以下である。
×：外観変化（クラックなど）が認められるか、△ＹＩ値が２を超えている。
【０１７６】
（７）耐擦傷性
光硬化性組成物をポリカーボネート板上にディップコートしたのち、前記コンベア式高圧水銀ランプを用いて、大気中で露光量が２００ｍＪ／ｃｍ2 となるように紫外線を照射し、厚さ０．１μｍの反射防止膜を含む積層体を形成した。得られた積層体における反射防止膜の表面を、ペーパー〔キムワイプ、十条キンバリー（株）製〕により、荷重１ｋｇ／ｃｍ2 の条件で２５回こすり、傷の発生具合や剥離具合および鉛筆硬度試験から、以下の基準に照らして反射防止膜の耐擦傷性を評価した。結果を表１２に示す。
◎：反射防止膜に傷の発生や剥離は観察されず、鉛筆硬度が２Ｈ以上である。
○：反射防止膜に傷の発生や剥離は観察されず、鉛筆硬度が２Ｈ未満である。
△：反射防止膜の剥離は観察されないが、微細な傷の発生が観察される。
×：反射防止膜の一部が剥離したり、筋状の傷の発生が多数観察される。
【０１７７】
（８）耐汚染性
光硬化性組成物をポリカーボネート板上にディップコートしたのち、前記コンベア式高圧水銀ランプを用いて、大気中で、露光量が２００ｍＪ／ｃｍ2 となるように紫外線を照射し、厚さ０．１μｍの反射防止膜を含む積層体を形成した。得られた積層体における反射防止膜の耐汚染性を、汚染物質（指紋および黒マジック）を用いてスポット試験を行い、以下の基準で判断した。結果を表１２に示す。
◎：指紋および黒マジックについて、それぞれ乾布を用いて１回で拭き取ることができる。
○：指紋については、乾布を用いて１０回未満で拭き取ることができ、黒マジックについては、エチルアルコールを用いて１０回未満で拭き取ることができる。
△：指紋については、乾布を用いて１０回以上で拭き取ることができ、黒マジックについては、エチルアルコールを用いて１０回以上で拭き取ることができる。
×：指紋については、乾布を用いて拭き取ることができず、黒マジックについては、エチルアルコールを用いて拭き取ることができない。
【０１７８】
【表１２】
実施例２７
実施例２０におけるポリカーボネート板の替わりに、ポリエチレンテレフタレートフィルム〔厚さ１８８μｍ、東洋紡（株）製〕を基材として用いたほかは、実施例２０の組成物Ｔを用いて反射防止膜を形成して、図５に示すように反射率などを測定し、評価した。得られた結果を表１３に示す。ただし、透明性、屈折率および耐候性については、実施例１の繰り返し試験となるため、実施例２７ではこれらの評価試験を省略し、表には実施例２０で得られた結果を示してある。
【０１８０】
実施例２８
（高屈折率膜の形成）
金属酸化物微粒子含有コート剤Ｎｏ．１３５２〔住友大阪セメント（株）製〕１００部と、シランカップリング剤ＴＥＳＯＸ〔東亜合成（株）製〕５部と、光ラジカル発生剤イルガキュア１８４〔チバスペシャリティケミカルズ（株）製〕３部とを混合後、さらにＭＩＢＫとｔ−ブチルアルコールとの等量混合溶液を添加して、固形分３％の高屈折率膜溶液を光硬化性組成物Ｔ′として調製した。
得られた光硬化性組成物Ｔ′を、ディップコータを用いてポリカーボネート板に塗布したのち、高圧水銀ランプを用いて、窒素中で、露光量が２００ｍＪ／ｃｍ2 となるように紫外線を照射し、厚さが０．１μｍであり、屈折率の値が１．７（−）である高屈折率膜を形成した。
【０１８１】
（反射防止膜の形成および評価）
得られた高屈折率膜上に、実施例２０で調製した光硬化性組成物Ｔと同様の光硬化性組成物から反射防止膜（評価用の光硬化物を含む）を形成して評価した。なお、透明性、屈折率および耐候性については、実施例２０の繰り返し試験となるため、実施例２８ではこれらの評価試験を省略し、表１３には実施例２０で得られた結果を示してある。
【０１８２】
実施例２９
実施例２９において、前記で調製した光硬化性組成物Ｔを用いたほかは同様に、高屈折率膜および反射防止膜を形成して評価した。結果を表１３に示す。なお、透明性、屈折率および耐候性については前記の繰り返し試験となるため、これらの評価試験を省略し、表には前記実施例で得られた結果を示してある。
【０１８３】
実施例３０
（ハードコート層の形成）
アクリルモノマーであるＤＰＨＡ４０部と、アロニックスＴＯ−７５６〔東亜合成（株）製〕６０部と、前述したイルガキュア１８４を３部混合してハードコート層用の光硬化性組成物Ｕ′を調製した。得られた光硬化性組成物Ｕ′を、バーコータを用いてポリカーボネート板に塗布したのち、高圧水銀ランプを用いて、窒素中で、露光量が５００ｍＪ／ｃｍ2 となるように紫外線を照射し、厚さが５．０μｍであるハードコート層を形成した。
【０１８４】
（反射防止膜の形成および評価）
得られたハードコート層上に、上記実施例２０と同様に、高屈折率膜および反射防止膜を形成して評価した。結果を表１３に示す。
【０１８５】
【表１３】
【発明の効果】
本発明の反射防止膜あるいはその反射防止膜を含む積層体によれば、反射防止膜の形成材料として特定の加水分解性シラン化合物とフッ素系重合体を含む熱硬化性組成物、あるいは、これにさらに光酸発生剤を含む光硬化性組成物を使用することから、熱硬化により、あるいは酸素存在下においても光硬化反応により、反射防止膜が形成可能であり、しかも得られた反射防止膜あるいは当該反射防止膜を含む積層体において、優れた反射防止効果や耐汚染性を得ることが可能となった。
【０１８７】
また、反射防止膜の形成材料として、特定の加水分解性シラン化合物とフッ素系重合体、さらにはこれに光酸発生剤と、脱水剤とを組み合わせることにより、保存安定性や光硬化性に優れた光硬化性組成物を得ることができ、したがって、熱硬化により、あるいは酸素存在下においてもより速い光硬化反応により、反射防止膜が形成可能であり、しかも得られた反射防止膜あるいは当該反射防止膜を含む積層体において、優れた反射防止効果や耐汚染性を得ることが可能となった。
【０１８８】
さらに、本発明の反射防止膜の製造方法によれば、反射防止膜の形成材料として特定の加水分解性シラン化合物とフッ素系重合体を含む熱硬化性組成物、あるいはこれにさらに光酸発生剤とからなる光硬化性組成物を使用して、基材上に反射防止膜を形成することから、優れた反射防止効果や耐汚染性を有する反射防止膜を、熱硬化により、あるいは酸素存在下においても光硬化反応を利用として形成することが可能となった。そのほか、本発明の反射防止膜の製造方法によれば、パターン露光することにより、任意の箇所に反射防止膜を形成することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の積層体の断面を示す図である（その１）。
【図２】本発明の積層体の断面を示す図である（その２）。
【図３】本発明の積層体の断面を示す図である（その３）。
【図４】実施例１の反射防止膜（大気中硬化）および使用した基板（ポリカーボネート板）における反射率測定チャートである。
【図５】実施例２の反射防止膜（大気中硬化）および使用した基板（ＰＥＴフィルム）における反射率測定チャートである。
【符号の説明】
１０，２２，２６ 反射防止膜
１２ 基材
１４，１８，２８ 積層体
１６ ハードコート層
２０，２２ 高屈折率層
Claims (4)
- （Ａ）下記一般式（１）
（Ｒ1 ）nＳｉ（ＯＲ2 ）4-n・・・・・（１）
（式中、Ｒ1 は、２個存在するときは同一または異なり、炭素数１〜８の１価の有機基を示し、Ｒ2 は、同一または異なり、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜６のアシル基を示し、ｎは０〜２の整数である。）で表されるオルガノシラン、該オルガノシランの加水分解物および該オルガノシランの縮合物の群から選ばれる少なくとも１種、
（Ｂ−２）（Ｂ−ａ）（イ）テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレンから選ばれたフルオロオレフィン類、および／または、（ハ）パーフルオロ（メチルビニルエーテル）、パーフルオロ（エチルビニルエーテル）、パーフルオロ（プロピルビニルエーテル）、パーフルオロ（ブチルビニルエーテル）、パーフルオロ（イソブチルビニルエーテル）から選ばれたパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）類、であるフッ素原子を含有する単量体、（Ｂ−ｃ）シリル基を有する単量体、ならびに（Ｂ−ｅ）ビニルエーテル単量体を重合して得られる、加水分解性基および／または水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基を有するフッ素含有ビニルエーテル系重合体、ならびに
（Ｃ）水および有機溶剤
を含有し、ここで水の使用量は（Ａ）成分におけるオルガノシラン（１）１モルに対し０．５〜３モルであり、また有機溶剤の使用量は全固形分濃度が２０〜５０重量％であるように該有機溶剤を含有してなり、かつ（Ａ）成分と（Ｂ−２）成分とを混合して縮合反応させてなる、コーティング組成物を硬化してなる反射防止膜。 - コーティング組成物中、（Ａ）成分におけるオルガノシラン（１）１００重量部に対し、（Ｂ−２）の使用量が５０〜８００重量部であり、かつ（Ｂ−２）成分を構成する、（Ｂ−ａ）が５〜９０重量％、（Ｂ−ｃ）が１〜９０重量％、（Ｂ−ｅ）が０．５〜９０重量％である請求項１記載の反射防止膜。
- 請求項１または２記載のコーティング組成物を成形する工程と、成形したコーティング組成物を熱硬化する工程を含むことを特徴とする反射防止膜の製造方法。
- 請求項１または２記載の反射防止膜を基材上に含むことを特徴とする反射防止膜を含む積層体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000202776A JP4506918B2 (ja) | 2000-07-04 | 2000-07-04 | 反射防止膜、反射防止膜を含む積層体、および反射防止膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000202776A JP4506918B2 (ja) | 2000-07-04 | 2000-07-04 | 反射防止膜、反射防止膜を含む積層体、および反射防止膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002022905A JP2002022905A (ja) | 2002-01-23 |
| JP4506918B2 true JP4506918B2 (ja) | 2010-07-21 |
Family
ID=18700256
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000202776A Expired - Fee Related JP4506918B2 (ja) | 2000-07-04 | 2000-07-04 | 反射防止膜、反射防止膜を含む積層体、および反射防止膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4506918B2 (ja) |
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| US11112599B2 (en) | 2016-03-14 | 2021-09-07 | Lg Chem, Ltd. | Antireflection film having hard coating layer and display device including the same |
| US11680172B2 (en) | 2016-02-19 | 2023-06-20 | Lg Chem, Ltd. | Photocurable coating composition for forming low refractive layer |
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| JP4069369B2 (ja) | 2002-09-25 | 2008-04-02 | 信越化学工業株式会社 | 反射防止膜及び反射防止膜の製造方法 |
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|---|---|
| JP2002022905A (ja) | 2002-01-23 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061120 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090731 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091001 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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