JP2000171604A - 反射防止膜、反射防止膜を含む積層体および反射防止膜の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 優れた反射防止効果や耐汚染性等を有すると
ともに、酸素存在下においても光硬化反応により形成可
能である反射防止膜およびそれを含む積層体並びにその
製造方法を提供する。 【解決手段】下記（Ａ）および（Ｂ）成分を含有する光
硬化性組成物を光硬化してなる反射防止膜およびそれを
含む積層体並びにその製造方法。 （Ａ）一般式（１）で示される加水分解性シラン化合
物、その加水分解物、およびその縮合物からなる群から
選択される少なくとも一つの化合物 （Ｒ¹）_PＳｉ（Ｘ）_4-P （１） ［一般式（１）中、Ｒ¹は炭素数が１〜１２である非加
水分解性の有機基、Ｘは加水分解性基、およびｐは０〜
３の整数である。］ （Ｂ）光酸発生剤

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光硬化性組成物か
ら得られる反射防止膜および反射防止膜を含む積層体並
びに反射防止膜の製造方法に関する。より詳細には、優
れた反射防止効果や耐汚染性等を有するとともに、酸素
存在下においても光硬化反応により形成可能である反射
防止膜およびその反射防止膜を含む積層体並びにその反
射防止膜の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】反射防止膜の形成材料として、例えば、
熱硬化型ポリシロキサン組成物が知られており、特開昭
６１−２４７７４５３号公報、特開平６−２５５９９号
公報、特開平７−３３１１１５号公報および特開平１０
−２３２３０１号公報等に開示されている。しかしなが
ら、かかる熱硬化型ポリシロキサン組成物から得られる
反射防止膜は、高温で、長時間にわたって加熱処理をす
る必要があり、生産性が低かったり、あるいは適用基材
の種類が限定されるという問題が見られた。また、かか
る熱硬化型ポリシロキサン組成物は保存安定性に乏しい
ため、一般的に主剤と硬化剤とが分離した二液性タイプ
であり、取り扱いが煩雑であるという問題が見られた。

【０００３】また、反射防止膜の形成材料として、紫外
線等の光を利用して硬化させる光硬化性樹脂組成物も知
られており、特開平１−１９７５７０号公報、特開平６
−１３６０６２号公報、特開平９−２０３８６１号公報
および特開平１０−２３９５０２号公報等に開示されて
いる。しかしながら、光硬化性樹脂組成物における主成
分はフッ素含有ビニル系樹脂であり、光硬化に際してラ
ジカル重合を利用しているため、大気中の酸素による活
性ラジカルの失活が生じやすく、しばしば硬化不良を生
じる場合が見られた。特に、本発明が対象とする反射防
止膜のような薄膜用途においては、大気中の酸素の影響
を受けやすく、実質的に光硬化性樹脂組成物を光硬化で
きないという問題が見られた。また、フッ素含有ビニル
系樹脂からなる反射防止膜は硬度が低く、耐擦傷性に乏
しかったり、あるいは、耐候性や耐汚染性に劣るという
問題点を有していた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】以上述べたように、従
来の反射防止膜の形成材料として、熱硬化型ポリシロキ
サン組成物は、硬化時間が長く、高温加熱処理を必要と
するため、適用できる基材が限定され、さらには保存安
定性に乏しいという問題点を有していた。一方、従来の
フッ素含有ビニル系樹脂からなる光硬化性組成物は、酸
素の影響を受けやすく、また、得られた反射防止膜にお
ける耐擦傷性や耐候性あるいは耐汚染性に劣るという問
題点を有していた。

【０００５】そこで、本発明の発明者らは鋭意検討した
結果、反射防止膜の形成材料として、特定の加水分解性
シラン化合物と、光酸発生剤とを組み合わせた光硬化性
組成物を使用することにより、上述した問題を解決でき
ることを見出した。すなわち、本発明は、優れた反射防
止効果や耐汚染性等を有するとともに、酸素存在下にお
いても光硬化反応により形成可能である反射防止膜およ
びその反射防止膜を含む積層体並びにその反射防止膜の
製造方法を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、下記（Ａ）お
よび（Ｂ）成分を含有する光硬化性組成物を光硬化して
なる反射防止膜に関する。 （Ａ）一般式（１）で示される加水分解性シラン化合
物、その加水分解物、およびその縮合物からなる群から
選択される少なくとも一つの化合物 （Ｒ¹）_PＳｉ（Ｘ）_4-P （１） ［一般式（１）中、Ｒ¹は炭素数が１〜１２である非加
水分解性の有機基、Ｘは加水分解性基、およびｐは０〜
３の整数である。］ （Ｂ）光酸発生剤 このような反射防止膜であれば、大気中においても酸素
の影響を受けることなく形成することが可能であり、し
かも得られた反射防止膜において、優れた反射防止効果
や耐汚染性を得ることができる。

【０００７】また、本発明の反射防止膜を構成するにあ
たり、使用する光硬化性組成物中に、（Ｄ）成分とし
て、フッ素含有重合体を含有させることが好ましい。こ
のようにフッ素含有重合体を含有させることにより、得
られる反射防止膜の屈折率の値を低下させて反射防止効
果を高めたり、あるいは耐汚染性をより向上させること
ができる。

【０００８】また、本発明の反射防止膜を構成するにあ
たり、使用する光硬化性組成物中に、（Ｅ）成分とし
て、シリカ粒子を含有させることが好ましい。このよう
にシリカ粒子を含有させることにより、得られる反射防
止膜の硬化収縮を低減させたり、反射防止膜の機械的強
度を向上させることができる。

【０００９】また、本発明の反射防止膜を構成するにあ
たり、使用する光硬化性組成物中に、（Ｆ）成分とし
て、反応性希釈剤を含有させることが好ましい。このよ
うに反応性希釈剤を含有させることにより、得られる反
射防止膜の基材に対する密着力を向上させたり、硬化収
縮を低減させたり、あるいは反射防止膜の機械的強度を
調節することができる。

【００１０】また、本発明の別の態様は、上述した反射
防止膜を基材上に含むことを特徴とする反射防止膜を含
む積層体に関する。例えば、ガラス、ポリカーボネート
系樹脂、ポリエステル系樹脂またはアクリル系樹脂から
なる基材を含む積層体とすることにより、カメラのレン
ズ部、テレビ（ＣＲＴ）の画面表示部、あるいは液晶表
示装置におけるカラーフィルター等の広範な反射防止膜
の利用分野において、優れた反射防止効果や耐久性を得
ることができる。

【００１１】また、本発明のさらに別の態様は、反射防
止膜の製造方法であり、下記（Ａ）および（Ｂ）成分を
含有する光硬化性組成物を成形する工程と、成形した光
硬化性組成物を光硬化させて反射防止膜とする工程とを
含むことを特徴とする。（Ａ）一般式（１）で示される
加水分解性シラン化合物、その加水分解物、およびその
縮合物からなる群から選択される少なくとも一つの化合
物 （Ｒ¹）_PＳｉ（Ｘ）_4-P （１） ［一般式（１）中、Ｒ¹は炭素数が１〜１２である非加
水分解性の有機基、Ｘは加水分解性基、およびｐは０〜
３の整数である。］ （Ｂ）光酸発生剤

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の反射防止膜における実施
形態（第１〜第４の実施形態）、反射防止膜を含む積層
体における実施形態（第５の実施形態）、および反射防
止膜の製造方法における実施形態（第６の実施形態）を
適宜図面を参照しながら具体的に説明する。

【００１３】［第１の実施形態］本発明の第１の実施形
態は、加水分解性シラン化合物の加水分解物（Ａ成
分）、光酸発生剤（Ｂ成分）、および脱水剤（Ｃ成分）
を含有する光硬化性組成物を光硬化して得られた反射防
止膜である。このような反射防止膜であれば、大気（空
気）中においても酸素の影響を受けることなく、迅速に
光硬化反応を利用して形成可能であり、また、優れた反
射防止効果や耐汚染性を得ることができ、しかも脱水剤
の働きにより、優れた保存安定性やより高い硬度（例え
ば、鉛筆硬度で２Ｈ以上）を得ることができる。

【００１４】（１）加水分解性シラン化合物における加
水分解物 構造 第１の実施形態で使用する加水分解物は、一般式（１）
で示される加水分解性シラン化合物を加水分解した化合
物である。 （Ｒ¹）_PＳｉ（Ｘ）_4-P （１） ［一般式（１）中、Ｒ¹は炭素数が１〜１２である非加
水分解性の有機基、Ｘは加水分解性基、およびｐは０〜
３の整数である。］

【００１５】ここで、Ｘで表される加水分解性基は、通
常、無触媒、過剰の水の共存下、室温（２５℃）〜１０
０℃の温度範囲内で加熱することにより、加水分解され
てシラノール基を生成することができる基、もしくはシ
ロキサン縮合物を形成することができる基を指す。ま
た、一般式（１）中の添え字ｐは０〜３の整数である
が、より好ましくは０〜２の整数であり、特に好ましく
は１である。ただし、一般式（１）で示される加水分解
性シラン化合物の加水分解物において、一部未加水分解
の加水分解性基が残っていても良く、その場合、加水分
解性シラン化合物と加水分解物との混合物となる。

【００１６】また、加水分解性シラン化合物の加水分解
物というときは、加水分解反応によりアルコキシ基がシ
ラノール基に変わった化合物ばかりでなく、一部のシラ
ノール基同士が縮合した部分縮合物をも意味している。
さらに、加水分解性シラン化合物は、光硬化性組成物を
配合する時点で加水分解されている必要は必ずしもな
く、光照射する段階で、少なくとも一部の加水分解性基
が加水分解されていれば良い。すなわち、第１の実施形
態に使用する光硬化性組成物において、加水分解性シラ
ン化合物を予め加水分解せずに使用した場合には、事前
に水を添加して、加水分解性基を加水分解させ、シラノ
ール基を生成することにより、光硬化性組成物を光硬化
させて反射防止膜を形成することができる。

【００１７】加水分解性シラン化合物の具体例 次に、式（１）で表される加水分解性シラン化合物（単
に、シラン化合物と称する場合がある。）の具体例を説
明する。まず、非重合性の有機基を有するシラン化合物
としては、テトラクロロシラン、テトラアミノシラン、
テトラアセトキシシラン、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラフェ
ノキシシラン、テトラベンジロキシシラン、トリメトキ
シシラン、トリエトキシシラン等の４個の加水分解性基
で置換されたシラン化合物が挙げられる。

【００１８】また、同様に、メチルトリクロロシラン、
メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラ
ン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリブ
トキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ペンタフル
オロフェニルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキ
シシラン、ｄ３−メチルトリメトキシシラン、ノナフル
オロブチルエチルトリメトキシシラン、トリフルオロメ
チルトリメトキシシラン等の３個の加水分解性基で置換
されたシラン化合物が挙げられる。

【００１９】また、同様に、ジメチルジクロロシラン、
ジメチルジアミノシラン、ジメチルジアセトキシシラ
ン、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシ
シラン、ジブチルジメトキシシラン等の２個の加水分解
性基で置換されたシラン化合物、及びトリメチルクロロ
シラン、ヘキサメチルジシラザン、トリメチルシラン、
トリブチルシラン、トリメチルメトキシシラン、トリブ
チルエトキシシラン等の１個の加水分解性基で置換され
たシラン化合物を挙げることができる。

【００２０】また、重合性の有機基を有するシラン化合
物としては、一般式（１）における非加水分解性の有機
基Ｒ^１に重合性の有機基を含むシラン化合物、一般式
（１）における加水分解性基Ｘに重合性の有機基を有す
るシラン化合物のいずれかを用いることができる。

【００２１】ここで、いずれの重合性の有機基において
も、当該有機基の炭素数は１〜１２の範囲内の値である
ことが好ましい。具体的に、一般式（１）における非加
水分解の有機基Ｒ^１に重合性の有機基を含むシラン化合
物としては（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、ビニルトリメトキシシラン、グリシジロキシト
リメトキシシラン、３−（３−メチル−３−オキセタン
メトキシ）プロピルトリメトキシシラン、オキサシクロ
ヘキシルトリメトキシシラン等を挙げることができる。

【００２２】また、一般式（１）における加水分解性基
Ｘに重合性の有機基を含むシラン化合物の例としては、
テトラ（メタ）アクリロキシシラン、テトラキス［２−
（メタ）アクリロキシエトキシ］シラン、テトラグリシ
ジロキシシラン、テトラキス（２−ビニロキシエトキ
シ）シラン、テトラキス（２−ビニロキシブトキシ）シ
ラン、テトラキス（３−メチル−３−オキセタンメトキ
シ）シラン、メチルトリ（メタ）アクリロキシシラン、
メチル［２−（メタ）アクリロキシエトキシ］シラン、
メチル−トリグリシジロキシシラン、メチルトリス（３
−メチル−３−オキセタンメトキシ）シランを挙げるこ
とができる。これらは、１種単独または２種以上を組み
合わせて使用することができる。

【００２３】加水分解性シラン化合物の加水分解物 次に、加水分解性シラン化合物の加水分解物における分
子量について説明する。かかる分子量は、移動相にテト
ラヒドロフランを使用したゲルパーミエーションクロマ
トグラフィー（以下、ＧＰＣと略記する。）を用い、ポ
リスチレン換算の重量平均分子量として測定することが
できる。そして、加水分解物の重量平均分子量を、通常
５００〜１００００の範囲内の値とするのが好ましい。
加水分解物における重量平均分子量の値が５００未満の
場合、塗膜の成膜性が低下する場合があり、一方、１０
０００を越えると光硬化性が低下する場合がある。した
がって、より好ましくは加水分解物における重量平均分
子量を、１０００〜５０００の範囲内の値とすることで
ある。

【００２４】（２）光酸発生剤 定義 光硬化性組成物に添加する光酸発生剤（Ｂ成分）は、光
等のエネルギー線を照射することにより、（Ａ）成分で
ある加水分解性シラン化合物を光硬化（架橋）可能な酸
性活性物質を放出することができる化合物と定義され
る。なお、光酸発生剤を分解させて、カチオンを発生す
るするために照射する光エネルギー線としては、可視
光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線等を挙げ
ることができる。ただし、一定のエネルギーレベルを有
し、硬化速度が大（速く）であり、しかも照射装置が比
較的安価で、小型な観点から、紫外線を使用することが
好ましい。

【００２５】また、第１の実施形態の積層体を形成する
において、光硬化性組成物に、光酸発生剤とともに後述
するラジカル発生剤を併用することも好ましい。中性の
活性物質であるラジカルは、シラノール基の縮合反応を
促進することはないが、（Ａ）成分中にラジカル重合性
の官能基を有する場合に、かかる官能基の重合を推進さ
せることができる。したがって、光硬化性組成物をより
効率的に硬化させることができる。

【００２６】光酸発生剤の種類 次に、第１の実施形態に使用する光酸発生剤の種類を説
明する。かかる光酸発生剤としては、一般式（２）で表
される構造を有するオニウム塩（第１群の化合物）や一
般式（３）で表される構造を有するスルホン酸誘導体
（第２群の化合物）を挙げることができる。

【００２７】 [Ｒ² _aＲ³ _bＲ⁴ _cＲ⁵ _dＷ]^+m [ＭＺ_m+n]^-m （２） ［一般式（２）中、カチオンはオニウムイオンであり、
ＷはＳ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、Ｉ、
Ｂｒ、Ｃｌまたは−Ｎ≡Ｎであり、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およ
びＲ⁵は同一または異なる有機基であり、ａ、ｂ、ｃお
よびｄはそれぞれ０〜３の整数であって、（ａ＋ｂ＋ｃ
＋ｄ）はＷの価数に等しい。また、Ｍはハロゲン化物錯
体[ＭＸ_m+n]の中心原子を構成する金属またはメタロイ
ドであり、例えばＢ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂ
ｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、
Ｍｎ、Ｃｏである。Ｚは、例えばＦ、Ｃｌ、Ｂｒ等のハ
ロゲン原子またはアリール基であり、ｍはハロゲン化物
錯体イオンの正味の電荷であり、ｎはＭの原子価であ
る。］

【００２８】 Ｑ_S−〔Ｓ（＝Ｏ）₂−Ｒ⁶〕_t （３） ［一般式（３）中、Ｑは一価もしくは二価の有機基、Ｒ
6は炭素数１〜１２の一価の有機基、添え字ｓは０又は
１、添え字ｔは１又は２である。］

【００２９】まず、第１群の化合物であるオニウム塩
は、光を受けることにより酸性活性物質を放出すること
ができる化合物である。このような第１群の化合物のう
ち、より有効なオニウム塩は芳香族オニウム塩であり、
特に好ましくは下記一般式（４）で表されるジアリール
ヨードニウム塩である。 ［Ｒ⁷−Ａｒ¹−Ｉ⁺−Ａｒ²−Ｒ⁸］［Ｙ^-］ （４） ［一般式（４）中、 Ｒ⁷およびＲ⁸は、それぞれ１価の
有機基であり、同一でも異なっていてもよく、Ｒ⁷およ
びＲ⁸の少なくとも一方は炭素数が４以上のアルキル基
を有しており、Ａｒ¹およびＡｒ²はそれぞれ芳香族基で
あり、同一でも異なっていてもよく、Ｙ^-は１価の陰イ
オンであり、周期律表３族、５族のフッ化物陰イオンも
しくは、ＣｌＯ₄ ^-、ＣＦ₃−ＳＯ₃ ^-から選ばれる陰イオ
ンである。］

【００３０】また、第２群の化合物としての一般式
（３）で表されるスルホン酸誘導体の例を示すと、ジス
ルホン類、ジスルホニルジアゾメタン類、ジスルホニル
メタン類、スルホニルベンゾイルメタン類、イミドスル
ホネート類、ベンゾインスルホネート類、１−オキシ−
２−ヒドロキシ−３−プロピルアルコールのスルホネー
ト類、ピロガロールトリスルホネート類、ベンジルスル
ホネート類を挙げることができる。また、一般式（３）
で表されるスルホン酸誘導体のうち、より好ましくはイ
ミドスルホネート類であり、さらに好ましくはイミドス
ルホネートのうち、トリフルオロメチルスルホネート誘
導体である。

【００３１】光酸発生剤の添加量 次に、光硬化性組成物に使用される光酸発生剤の添加量
（含有割合）について説明する。かかる光酸発生剤の添
加量は特に制限されるものではないが、（Ａ）成分１０
０重量部に対して、通常０．１〜１５重量部の範囲内の
値とするのが好ましい。光酸発生剤の添加量が０．１重
量部未満となると、光硬化性が低下し、十分な硬化速度
が得られない場合がある。一方、光酸発生剤の添加量が
１５重量部を超えると、得られる硬化物の耐候性や耐熱
性が低下する場合がある。したがって、光硬化性と得ら
れる硬化物の耐候性等とのバランスがより良好な観点か
ら、光酸発生剤の添加量を、（Ａ）成分１００重量部に
対して１〜１０重量部の範囲内の値とすることがより好
ましい。

【００３２】（３）脱水剤 定義 光硬化性組成物に使用される脱水剤は、化学反応により
水以外の物質に変換する化合物、物理吸着または包接に
より、光硬化性および保存安定性に影響を与えなくする
化合物と定義される。すなわち、このような脱水剤を含
有することにより、光硬化性組成物の耐候性や耐熱性を
損なうことなく、保存安定性や光硬化性という相反する
特性を向上させることができる。この理由として、外部
から侵入してくる水を、脱水剤が有効に吸収するために
光硬化性組成物の保存安定性が向上し、一方、光硬化反
応である縮合反応においては、生成した水を順次に脱水
剤が有効に吸収するために光硬化性組成物の光硬化性が
向上するものと考えられる。

【００３３】脱水剤の種類 次に、光硬化性組成物に使用される脱水剤の種類を説明
する。かかる脱水剤の種類は特に制限されるものでない
が、有機化合物として、カルボン酸エステル、アセター
ル類（ケタール類を含む。）、およびカルボン酸無水物
からなる群から選択される少なくとも一つの化合物であ
ることが好ましい。また、無機化合物として、脱水機能
を有するセラミック粉体の使用も好ましい。これらの脱
水剤は、優れた脱水効果を示し、少量の添加で脱水剤の
機能を効率的に発揮することができる。

【００３４】また、脱水剤としてのカルボン酸エステル
は、カルボン酸オルトエステルやカルボン酸シリルエス
テル等の中から選ばれる。ここで、好ましいカルボン酸
オルトエステルとしては、オルト蟻酸メチル、オルト蟻
酸エチル、オルト蟻酸プロピル、オルト蟻酸ブチル、オ
ルト酢酸メチル、オルト酢酸エチル、オルト酢酸プロピ
ル、オルト酢酸ブチル、オルトプロピオン酸メチルおよ
びオルトプロピオン酸エチル等が挙げられる。また、こ
れらのカルボン酸オルトエステルのうち、より優れた脱
水効果を示し、保存安定性や光硬化性をより向上させる
ことができる観点から、オルト蟻酸エステルが、本発明
における脱水剤として特に好ましい。また、好ましいカ
ルボン酸シリルエステルとしては、酢酸トリメチルシリ
ル、酢酸トリブチルシリル、蟻酸トリメチルシリル、シ
ュウ酸トリメチルシリル等が挙げられる。

【００３５】また、好ましいアセタール類としては、例
えば、アセトンジメチルアセタール、アセトンジエチル
アセタール、メチルエチルケトンジメチルアセタール、
メチルエチルケトンジメチルアセタール、シクロヘキサ
ノンジメチルアセタールおよびシクロヘキサノンジエチ
ルアセタールが挙げられる。これらのアセタール類は優
れた脱水効果を示し、光硬化性組成物の保存安定性や光
硬化性をより向上させることができる。

【００３６】また、好ましいカルボン酸無水物として
は、例えば、蟻酸無水物、無水酢酸、無水コハク酸、無
水マレイン酸、無水フタル酸、安息香酸無水物、酢酸安
息香酸無水物等が挙げられる。特に、無水酢酸および無
水コハク酸は、脱水効果に特に優れており好ましい。

【００３７】また、好ましい脱水機能を有するセラミッ
ク粉体としては、シリカゲル粒子、アルミナ粒子、シリ
カアルミナ粒子、活性白土、ゼオライト等が挙げられ
る。これらのセラミック粉体は、水に対して、強い親和
力を有しており、優れた脱水効果を発揮することができ
る。

【００３８】脱水剤の添加量 次に、光硬化性組成物に使用される脱水剤の添加量につ
いて説明する。脱水剤の添加量は特に制限されるもので
はないが、（Ａ）成分１００重量部に対して、通常、
０．１〜１００重量部の範囲内の値とするのが好まし
い。この理由は、脱水剤の添加量が０．１重量部未満と
なると、添加効果の発現に乏しく、保存安定性や光硬化
性の向上効果が低い場合があるためであり、一方、脱水
剤の添加量が１００重量部を越えると、保存安定性や光
硬化性の向上効果が飽和する場合がある。したがって、
より好ましくは、脱水剤の添加量を（Ａ）成分１００重
量部に対して、０．５〜５０重量部の範囲内の値とする
ことであり、さらに好ましくは、１〜１０重量部の範囲
内の値とすることである。

【００３９】（４）添加剤 光硬化性組成物には、本発明の目的や効果を損なわない
範囲において、ラジカル性光重合開始剤、光増感剤、有
機溶剤、重合禁止剤、重合開始助剤、レベリング剤、濡
れ性改良剤、界面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化
防止剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、無機充填
剤、顔料、染料等の添加剤をさらに含有させることも好
ましい。

【００４０】（５）反射防止膜 反射防止膜の形成方法 光硬化性組成物から反射防止膜を形成する場合、コーテ
イングする方法を採ることが好ましい。このようなコー
テイング方法としては、ディッピング法、スプレー法、
バーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カー
テンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、
またはインクジェット法等の方法を用いることができ
る。これらのうち、基材が板状の場合には、特にディッ
ピング法を用いることが好ましい。

【００４１】また、光硬化性組成物を光硬化する手段も
特に制限されるものではないが、例えば、高圧水銀ラン
プ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマ
ーランプ等の光源を用いて、波長１５０〜４００ｎｍの
光を照射することが好ましい。また、レーザ光、あるい
はレンズ、ミラー等を用いて得られた収束光等を走査さ
せながら光硬化性組成物に光照射することも好ましい。
さらに、所定のパターンの光透過部を有するマスクを用
い、このマスクを介して非収束光を組成物に光照射した
り、あるいは、多数の光ファイバーを束ねてなる導光部
材を用い、この導光部材における所定のパターンに対応
する光ファイバーを介して光照射することも好ましい。

【００４２】厚さ 反射防止膜の厚さは特に制限されるものではないが、例
えば一層の場合、５０〜１０００ｎｍの範囲内の値であ
ることが好ましい。この理由は、厚さが５０ｎｍ未満と
なると、反射防止効果や基材に対する密着力が低下する
場合があるためであり、一方、厚さが１０００ｎｍを超
えると、光干渉が生じて反射防止効果が低下する場合が
あるためである。したがって、反射防止膜が一層の場
合、その厚さを５０〜５００ｎｍの範囲内の値とするの
がより好ましく、６０〜２００ｎｍの範囲内の値とする
のがさらに好ましい。

【００４３】なお、反射防止膜を複数層設けて多層構造
とする場合には、その厚さを反射防止膜が一層の場合の
好ましい厚さに層数を掛けた値とするのが良い。例え
ば、反射防止膜を２層設ける場合には、合計した厚さを
１００〜２０００ｎｍの範囲内の値とするのが好まし
い。

【００４４】屈折率 反射防止膜の屈折率の値は低い程、優れた反射防止効果
が得られるものの、具体的に、１．７（−）以下の値が
好ましく、より好ましくは１．３〜１．６（−）の範囲
内の値であり、１．３〜１．５（−）の範囲内の値であ
ることがさらに好ましい。この理由は、屈折率が１．３
（−）未満となると、使用可能な材料の種類が過度に制
限される場合があるためであり、一方、屈折率が１．７
（−）を超えると、反射防止効果が著しく低下する場合
があるためである。

【００４５】なお、反射防止膜を複数層設ける場合に
は、そのうちの少なくとも一層が上述した範囲内の屈折
率の値を有していれば良く、したがって、その他の反射
防止膜は１．７（−）を超える屈折率の値を有していて
も良い。

【００４６】［第２の実施形態］本発明の第２の実施形
態は、加水分解性シラン化合物の加水分解物（Ａ成
分）、光酸発生剤（Ｂ成分）、脱水剤（Ｃ成分）および
フッ素含有重合体（Ｄ成分）を含有する光硬化性組成物
を光硬化してなる反射防止膜である。このようにフッ素
含有重合体を添加（配合）することにより、得られる反
射防止膜の屈折率の値を低下させたり、耐汚染性を向上
させることができる。したがって、極め細かく屈折率の
値を調節したり、反射防止膜の用途を拡大することがで
きる。以下、第２の実施形態に使用するフッ素含有重合
体について詳細に説明するが、加水分解性シラン化合物
の加水分解物（Ａ成分）、光酸発生剤（Ｂ成分）、脱水
剤（Ｃ成分）等については、第２の実施形態においても
第１の実施形態と同様のものが使用できるため、ここで
の説明は省略する。

【００４７】（１）フッ素含有重合体（フッ素含有単量
体）の種類 フッ素含有重合体の種類は、フッ素原子を分子内に有す
る重合体であれば特に制限されるものではないが、例え
ば、フルオロオレフィン類、パーフルオロアルキルビニ
ルエーテル、パーフルオロアルコキシアルキルビニルエ
ーテル、フルオロアルキルビニルエーテル、フルオロア
ルコキシアルキルビニルエーテル類、フッ素含有（メ
タ）アクリル酸エステル類等のフッ素含有単量体を重合
して得られる重合体であるのが好ましい。

【００４８】より具体的には、トリフルオロエチレン、
テトラフルオロエチレン、ペンタフルオロプロピレン、
ヘキサフルオロプロピレンなどのフルオロオレフィン
類、フルオロアルキルビニルエーテル類、フルオロアル
コキシアルキルビニルエーテル類が好ましく、特に、ヘ
キサフルオロプロピレンが好ましい。

【００４９】（２）共重合成分１ また、フッ素含有重合体を重合して得るに当たり、加水
分解性シリル基含有単量体、エポキシ基含有単量体、オ
キセタン基含有単量体、水酸基（ヒドロキシ基）含有単
量体およびカルボキシル基含有単量体からなる群から選
択される少なくとも一つの共重合成分１（反応性基含有
単量体）を共重合することが好ましい。このような反応
性基含有単量体を共重合することにより、官能基とし
て、加水分解性シリル基、エポキシ基、オキセタン基、
水酸基およびカルボキシル基を分子内に容易に導入する
ことができる。したがって、フッ素含有重合体と、加水
分解性シラン化合物との相溶性が向上し、さらには、フ
ッ素含有重合体を加水分解性シラン化合物と反応させる
こともできる。

【００５０】また、このような共重合性成分の使用量に
ついても特に制限されるものではないが、例えば、共重
合成分の全体量を１００モル％としたときに、使用量を
１〜７０モル％の範囲内の値とするのが好ましい。その
理由は、使用量が１モル％未満となると、添加効果が乏
しい場合があり、一方、７０モル％を超えると、得られ
たフッ素含有重合体がゲル化しやすい場合があるためで
ある。したがって、添加効果とゲル化防止とのバランス
がより良好な観点から、使用量を３〜５０モル％の範囲
内の値とするのがより好ましい。

【００５１】（３）共重合成分２ また、フッ素含有重合体を重合して得るに当たり、収率
をより向上させたり、フッ素含有量を容易に調節できる
観点から、上述した以外の共重合成分（共重合成分
２）、例えば、メチルビニルエーテル等のアルキルビニ
ルエーテル類；酢酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステ
ル類；エチレン、プロピレン等のα−オレフィン類；メ
チル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エス
テル類が挙げられる。なお、これらの共重合性成分は、
一種単独で使用してもよいし、あるいは２種以上を組み
合せて使用してもよい。

【００５２】また、これらの共重合成分の使用量につい
ても特に制限されるものではないが、例えば、共重合成
分の全体量を１００モル％としたときに、使用量を１０
〜７０モル％の範囲内の値とするのが好ましい。この理
由は、使用量が１０モル％未満となると、添加効果が乏
しい場合があり、一方、７０モル％を超えると、相対的
にフッ素含有単量体の使用量が減少し、幅広い範囲で、
屈折率の値を調節することが困難となったり、あるいは
有機溶剤への溶解性が低下する場合があるためである。

【００５３】（４）フッ素含有重合体のラジカル重合 上述したフッ素含有重合体は、ラジカル重合開始剤（ラ
ジカル発生剤）の存在下にフッ素含有単量体等をラジカ
ル重合することにより得ることができる。より具体的に
はラジカル重合法として、例えば、乳化重合法、懸濁重
合法、塊状重合法および溶液重合法等を採用することが
できる。また、ラジカル重合法における重合操作につい
ても、回分式、半連続式、連続式など目的に応じて適宜
選択することができる。

【００５４】ここで、ラジカル重合開始剤としては、例
えばケトンパーオキサイド類；ハイドロパーオキサイド
類；パーオキシエステル類；アゾ系化合物；過硫酸塩；
ヨウ素含有フッ素化合物が挙げられる。これらのラジカ
ル重合開始剤は、一種単独で使用することも、あるいは
２種以上を組み合わせて用いることもできる。また、ラ
ジカル重合速度を調節する観点から、上述したラジカル
重合開始剤とともに、亜硫酸水素ナトリウム、ピロ亜硫
酸ナトリウムなどの無機還元剤や、ナフテン酸コバル
ト、ジメチルアニリンなどの有機還元剤を使用すること
も好ましい。

【００５５】また、好ましいラジカル重合開始剤とし
て、下記一般式（５）で表されるアゾ基含有ポリシロキ
サン化合物を使用することも好ましい。このようなラジ
カル重合開始剤を使用することにより、ラジカル重合反
応を生じさせるとともに、得られる含フッ素重合体中に
シロキサン結合を容易に導入することができる。

【００５６】

【化１】

【００５７】［一般式（５）中、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹³〜Ｒ
¹⁶は炭素数１〜６の一価の有機基であり、Ｒ¹¹およびＲ
¹²は−ＣＮまたは−ＣＯＯＣＨ₃であり、ｐ、ｑ、ｓ、
ｙ、ｔは１〜６の整数であり、ｚは１〜２０の整数であ
る。］

【００５８】また、一般式（５）で表される化合物とし
て、具体的に下記式（６）で表される化合物がより好ま
しい。

【００５９】

【化２】

【００６０】［式（６）中、ｙおよびｚは、一般式
（５）おける内容と同様である。］

【００６１】（５）フッ素含量 フッ素含有重合体中のフッ素含量は特に制限されるもの
ではないが、例えば、３重量％以上の値、より好ましく
は５〜６０重量％の範囲内の値とすることである。フッ
素含有重合体中のフッ素含量が３重量％未満である場合
には、反射防止効果が低下したり、幅広い範囲において
屈折率の値を変化させることが困難となる場合があるた
めである。なお、フッ素含有重合体中のフッ素含量は、
アリザリンコンプレクソン法を用いて測定することがで
き、重合時におけるフッ素含有単量体の使用量（含有割
合）や種類を調整することにより、容易に制御すること
ができる。

【００６２】（５）フッ素含有重合体の添加量 フッ素含有重合体の添加量は、特に制限されるものでは
ないが、例えば、（Ａ）成分１００重量部に対して、
０．５〜２５０重量部の範囲内の値とするのが好まし
い。この理由は、フッ素含有重合体の添加量が０．５重
量部未満となると、添加効果が発現しない場合があり、
一方、２５０重量部を超えると保存安定性や塗装性が低
下する場合があるためである。したがって、確実に添加
効果が得られ、またより保存安定性が優れている観点か
ら、フッ素含有重合体の添加量を、（Ａ）成分１００重
量部に対して、１〜２００重量部の範囲内の値とするの
がより好ましく、３〜１５０重量部の範囲内の値とする
のがさらに好ましい。

【００６３】［第３の実施形態］本発明の第３の実施形
態は、加水分解性シラン化合物の加水分解物（Ａ成
分）、光酸発生剤（Ｂ成分）、脱水剤（Ｃ成分）および
シリカ粒子（Ｅ成分）を含有する光硬化性組成物を基材
上で光硬化してなる反射防止膜である。このようにシリ
カ粒子を添加（配合）することにより、得られる反射防
止膜の硬化収縮を低減することができる。また、反射防
止膜の機械的強度、例えば、ヤング率の値を高くして、
耐擦傷性をより向上させることもできる。以下、第３の
実施形態に使用するシリカ粒子の詳細について説明する
が、加水分解性シラン化合物の加水分解物（Ａ成分）、
光酸発生剤（Ｂ成分）、脱水剤（Ｃ成分）等について
は、第１の実施形態と同様のものが使用できるため、こ
こでの説明は省略する。

【００６４】（１）シリカ粒子の添加量 第３の実施形態に使用するシリカ粒子の添加量は、特に
制限されるものではないが、例えば、（Ａ）成分１００
重量部に対して、０．１〜１００重量部の範囲内の値と
するのが好ましい。この理由は、シリカ粒子の添加量が
０．１重量部未満となると、添加効果が発現しない場合
があり、一方、１００重量部を超えると保存安定性や塗
装性が低下する場合があるためである。したがって、確
実に添加効果が得られるとともに、保存安定性がより優
れていることから、シリカ粒子の添加量を、（Ａ）成分
１００重量部に対して、０．２〜８０重量部の範囲内の
値とするのがより好ましく、０．５〜５０重量部の範囲
内の値とするのがさらに好ましい。

【００６５】（２）シリカ粒子の種類 第３の実施形態に使用するシリカ粒子は、シリカを主成
分とする粒子であれば良く、シリカ以外の他の成分を含
んでいても良い。そのようなシリカ以外の成分としては
アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、及びＴ
ｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｂ、Ｓｎ、Ｐ等の酸化物を挙げること
ができる。また、シリカ粒子の平均粒子径を、０.００
１〜０．２μｍの範囲内の値とするのが好ましい。さら
に、シリカ粒子を用いて透明な光硬化性組成物あるいは
反射防止膜を形成することを目的とする場合には、より
好ましくは０.００１〜０.０１μｍの範囲内の値とする
ことである。

【００６６】また、使用するシリカ粒子の屈折率（温度
２５℃、Ｎａ−Ｄ線、以下、同様）と、光硬化性組成物
の屈折率との差を、０．０２（−）以下とするように、
シリカ粒子を選択することが好ましい。屈折率差を、こ
のような値とすることにより、反射防止膜の透明性をよ
り高めることができる。

【００６７】［第４の実施形態］本発明の第４の実施形
態は、加水分解性シラン化合物の加水分解物（Ａ成
分）、光酸発生剤（Ｂ成分）、脱水剤（Ｃ成分）および
反応性希釈剤（Ｆ成分）を含有する光硬化性組成物を基
材上で光硬化してなる反射防止膜である。このように反
応性希釈剤を添加（配合）することにより、基材に対す
る密着力を向上させたり、得られる反射防止膜の硬化収
縮を低減したり、あるいは反射防止膜の機械的強度を制
御することができる。さらに、ラジカル重合性の反応性
希釈剤を用いた場合には、ラジカル発生剤を添加するこ
とにより、光硬化性組成物の光硬化性をよりきめ細かく
調節することができる。また、カチオン重合性の反応性
希釈剤を用いた場合には、光硬化性や機械的特性を調節
することができる。以下、第４の実施形態における反応
性希釈剤（Ｆ成分）の詳細について説明するが、加水分
解性シラン化合物の加水分解物（Ａ成分）、光酸発生剤
（Ｂ成分）および脱水剤（Ｃ成分）等については、第１
の実施形態と同様のものが使用できるため、ここでの説
明は省略する。

【００６８】反応性希釈剤の配合量 第４の実施形態において、反応性希釈剤の配合量（添加
量）は特に制限されるものではないが、例えば、（Ａ）
成分１００重量部に対して、０．１〜８０重量部の範囲
内の値とするのが好ましい。この理由は、反応性希釈剤
の配合量が０．１重量部未満となると、添加効果が発現
しない場合があり、一方、８０重量部を超えると、得ら
れる反射防止膜の耐候性が低下する場合があるためであ
る。したがって、反応性希釈剤の配合量を１〜５０重量
部の範囲内の値とするのがより好ましく、２〜２０重量
部の範囲内の値とするのがさらに好ましい。

【００６９】反応性希釈剤の種類 次に、第４の実施形態に使用する反応性希釈剤の種類に
ついて説明する。かかる反応性希釈剤としてカチオン重
合性モノマーおよびエチレン性不飽和モノマーあるいは
いずれか一方のモノマーを配合することが好ましい。具
体的に、カチオン重合性モノマーとしては、エポキシ化
合物、オキセタン化合物、オキソラン化合物、環状アセ
タール化合物、環状ラクトン化合物、チイラン化合物、
チエタン化合物、ビニルエーテル化合物、スピロオルソ
エステル化合物、環状エーテル化合物、環状チオエーテ
ル化合物等を挙げることができる。

【００７０】また、エチレン性不飽和モノマーはエチレ
ン性不飽和結合（Ｃ＝Ｃ）を分子中に有する化合物であ
り、１分子中に１個のエチレン性不飽和結合を有する単
官能モノマー、および１分子中に２個以上のエチレン性
不飽和結合を有する多官能モノマーと定義することがで
きる。好ましいエチレン性不飽和モノマーとして、例え
ば、イソボルニル（メタ）アクリレート、ラウリル（メ
タ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレー
トポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、
ボルニル（メタ）アクリレート、メチルトリエチレンジ
グリコール（メタ）アクリレートを挙げることができ
る。

【００７１】［第５の実施形態］本発明の第５の実施形
態は、第１〜第４の実施形態で説明した反射防止膜を基
材表面に有する積層体である。なお、積層体は少なくと
も基材と、反射防止膜とを含んでいれば良く、種々の変
形例が含まれる。以下、第５の実施形態の積層体を、図
１〜図３を参照しつつ具体的に説明する。図１は、基材
上１２に直接形成された反射防止膜１０を含む積層体１
４の断面図であり、図２は、基材１２と反射防止膜１０
との間にハードコート層１６を介在させた積層体１８の
断面図である。また、図３は、下側から、基材１２と、
ハードコート層１６と、第１の高屈折率層２０と、第１
の反射防止膜２２と、第２の高屈折率層２４と、第２の
反射防止膜２６とを順次に形成して構成した多層構造の
積層体２８の断面図である。

【００７２】図１に示す積層体１４の場合、反射防止膜
１０を直接基材１２上に形成することができるので、構
成が単層とシンプルであり、しかも精度良く形成するこ
とができる。また、図２に示す積層体１８のように、反
射防止膜１０と基材１２との間に、ハードコート層１６
を介在させると、反射防止膜１０の基材１２に対する密
着力をより向上させることができ、また、ハードコート
層１６の機械的特性に起因して積層体１８としての耐久
性がより向上する。なお、ハードコート層１６は、例え
ば、ＳｉＯ₂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、メラ
ミン系樹脂等の材料から構成するのが好ましく、さらに
は、その厚さを１〜５０μｍの範囲内の値とするのが好
ましく、より好ましくは５〜１０μｍの範囲内の値とす
ることである。

【００７３】また、図３に示す積層体２８のように、第
１および第２の反射防止層２２、２６のほかに、比較的
高い屈折率の値、例えば、１．５〜２．０（−）の範囲
内の値を有する、厚さ５０〜２００ｎｍの第１および第
２の高屈折率層２０、２４を、それぞれ第１および第２
の反射防止層２２、２６と接して設けることも好まし
い。このように本発明の反射防止層に接して高屈折率層
２０、２４を設け、しかも複数層設けることにより、よ
り優れた反射防止効果を得ることができる。また、高屈
折率層２０、２４を設ける場合、より優れた反射防止効
果が得られることから、反射防止層２２、２６と、高屈
折率層２０、２４との間の屈折率差を０．０５（−）以
上の値とするのが好ましく、０．１〜０．５（−）の範
囲内の値とするのがより好ましく、０．１５〜０．５
（−）の範囲内の値とするのがさらに好ましい。

【００７４】また、図２〜図３の積層体１８、２８に示
すようにハードコート層１６や高屈折率層２０、２４、
あるいはプライマー層（図示しない。）を設ける場合に
も、その上に本発明の光硬化性組成物をコーティングし
た後に紫外線等を照射することにより、反射防止膜１
０、２２、２６を容易に形成することができる。その場
合、反射防止効果の一端を担う高屈折率層２０、２４を
含めて本発明の反射防止膜（反射防止層）と称する場合
がある。

【００７５】また、図１〜図３に示す積層体１４、１
８、２８における基材１２の種類は、光が透過する際に
反射防止効果が所望されるものであれば特に制限される
ものではないが、例えば、ガラス、ポリカーボネート系
樹脂、ポリエステル系樹脂またはアクリル系樹脂等を挙
げることができる。基材１２がガラスの場合には、具体
的な積層体として、カメラのレンズ部やテレビ（ＣＲ
Ｔ、ＬＣＤ）の画面表示部あるいは窓ガラス等が挙げら
れる。また、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系
樹脂またはアクリル系樹脂からなる基材１２の場合に
は、液晶表示装置におけるカラーフィルター等が挙げら
れる。

【００７６】［第６の実施形態］本発明の第６の実施形
態は、以下に示す第１の工程および第２の工程を含む反
射防止膜（反射防止膜を基材表面に有する積層体）の製
造方法に関する実施形態である。なお、第１の工程は、
上述した第１〜５の実施形態のいずれか一つの光硬化性
組成物を基材上で成形する工程（成形工程と称する場合
がある。）であり、第２の工程は、露光機を用いて露光
することにより、光硬化性組成物を光硬化させる工程
（露光工程と称する場合がある。）である。

【００７７】（１）第１の工程 光硬化性組成物の成形方法は特に制限されるものではな
いが、例えば、ディップコータやスピンコータ、あるい
はバーコータを用いて、光硬化性組成物を塗布、形成す
ることが好ましい。具体的に、スピンコータを用いた場
合、スピンコータ内に、基材を固定した後、一例とし
て、回転数１０００ｒｐｍの条件で、予め粘度調整した
光硬化性組成物を回転塗布することが好ましい。また、
光硬化性組成物の成形後（光硬化前）の厚さは特に制限
されるものではないが、例えば、５０〜１０００ｎｍの
範囲内の値であることが好ましい。この理由は、成形後
の厚さが５０ｎｍ未満では、光硬化性組成物を所定形状
に保持することが困難となる場合があり、一方、１００
０ｎｍを超えると、光干渉等が生じて、反射防止膜とし
たときに、反射防止効果が乏しくなる場合があるためで
ある。

【００７８】また、第１の工程において、光硬化性組成
物の成形後に、１００〜１５０℃の温度で予備加熱（プ
リベイク）することが好ましい。このような条件で光硬
化性組成物を予備加熱することにより、光硬化性組成物
における揮発部分を有効に除去することができ、光硬化
性組成物の成形品が型崩れすることがなくなる。また、
加水分解性シラン化合物（Ａ成分）のシラノールの一部
を反応させることができ、基材に対する密着力や現像時
における耐薬品（現像剤）性を向上させることもでき
る。ただし、過度に加熱して、現像特性が逆に低下しな
いように、１１０〜１４０℃の温度で加熱することがよ
り好ましく、１１５〜１３０℃の温度で加熱することが
より好ましい。

【００７９】さらに、加熱時間については、加熱温度を
考慮して定めるのが好ましいが、１００〜１５０℃の温
度で予備加熱する場合、１〜２０分の加熱時間とするの
が好ましい。この理由は、加熱時間が１分未満となる
と、シラノールの反応が不均一となる場合があり、一
方、加熱時間が１０分を超えると、シラノールが過度に
反応して、現像液を用いて精度良く現像することが困難
となる場合があるためである。したがって、加熱時間を
２〜１５分の範囲内の値とするのが好ましく、３〜１０
分の範囲内の値とするのがさらに好ましい。なお、加熱
手段については特に制限されるものではなく、例えば、
オーブンや赤外線ランプを用いることができる。

【００８０】（２）第２の工程 また、第２の工程における光硬化方法は第１の実施形態
で一部説明したとおりであるが、全面露光して光硬化さ
せることはもちろんのこと、所定パターンを有するフォ
トマスク介して非収束光を光硬化性組成物にパターン露
光したり、あるいは、多数の光ファイバーを束ねた導光
部材を用い、フォトマスクのパターンに対応する光ファ
イバーからのみ光照射して、パターン露光することも好
ましい。このようにパターン露光することにより、露光
して硬化させた光硬化物部分と、露光せず未硬化の光硬
化性組成物部分とを精度良く形成することができる。具
体的に、マスクパターンのライン／スペース（比率５０
／５０）が１０μｍ以上の範囲、より好ましくは３０μ
ｍ以上の範囲、さらに好ましくは、５０μｍ以上の範囲
において、光硬化させた後、現像により基材の露出部を
再現性良く形成できることが確認されている。したがっ
て、未硬化の光硬化性組成物部分のみを、現像液を用い
て容易にウエット現像（除去）することができ、基材の
露出部、すなわち反射防止膜が設けられていない部分を
短時間かつ容易に形成することができる。よって、この
ような基材の露出部を利用して、所望の部材を強固に接
着固定等することができる。

【００８１】さらに、第２の工程において、光硬化物で
ある反射防止膜をさらに加熱することも好ましい。その
場合、基材もしくは塗膜の分解開始温度以下である温度
２５〜２００℃、５分〜７２時間の条件で加熱するのが
好ましい。このように反射防止膜を加熱することによ
り、より耐熱性や耐候性に優れた反射防止膜（積層体）
を得ることができる。

【００８２】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明
の範囲はこれら実施例の記載に限定されるものではな
い。また、実施例中、各成分の配合量は特に記載のない
限り重量部を意味している。

【００８３】［実施例１］ （光硬化性組成物の調製）撹拌機および蒸留装置を備え
た容器内に、メチルトリメトキシシラン（ＭＴＭＳ、８
０．０ｇ、０．５５８モル）と、電気伝導率が８×１０
^-5Ｓ・ｃｍ^-1のイオン交換水（１６．０ｇ、０．８８９
モル）とを収容した後、温度６０℃、６時間の条件で加
熱撹拌することにより、メチルトリメトキシシランの加
水分解を行った。次いで、容器内の温度を８０℃に昇温
させた後、メチルイソブチルケトン（以下、ＭＩＢＫと
略記）を滴下しながら、加水分解により副生したメタノ
ールを蒸留除去した。そして、最終的に固形分を２２重
量％に調整し、（Ａ）成分であるポリシロキサンを含有
する溶液（以下、ポリシロキサン溶液１と称する。）を
得た。得られたポリシロキサン溶液１について、ＧＰＣ
を用いてポリスチレン換算の重量平均分子量を測定した
ところ、１５００という値が得られた。次いで、得られ
たポリシロキサン溶液１（固形分および溶剤の合計）１
００重量部あたり、（Ｂ）成分の光酸発生剤として、Ｓ
Ｉ−１００Ｌ（三新化学（株）製）を３重量部、（Ｃ）
成分の脱水剤として、オルト蟻酸メチル（和光純薬工業
（株）製）５重量部をそれぞれ添加して、光硬化性組成
物Ａを得た。

【００８４】（反射防止膜の形成および評価） （１）光硬化性１ 得られた光硬化性組成物Ａ（溶液）に、ＭＩＢＫとｎ−
ブタノールとの等量混合溶媒を添加して、固形分濃度を
３重量％に調整した。次いで、大気条件下に、ポリカー
ボネート板（厚さ１ｍｍ、帝人化成（株）製）上に、デ
ィップコータを用いて塗膜を形成した。次いで、室温
（２５℃）、２分の条件で乾燥して、厚さ０．１μｍの
塗膜を得た後、大気下、温度２５℃、露光量が１００ｍ
Ｊ／ｃｍ²（照射時間１秒）、２００ｍＪ／ｃｍ²（照射
時間２秒）および３００ｍＪ／ｃｍ²（照射時間３秒）
となるように、オーク製作所（株）製のコンベア式高圧
水銀ランプ（２ｋＷ）を用いて紫外線を照射し、反射防
止膜を形成した。また、窒素中、温度２５℃の条件で、
同様に紫外線を照射して、反射防止膜を形成した。得ら
れた反射防止膜につき、指触で表面タックを測定し、以
下の基準で光硬化性を評価した。結果を表１に示す。さ
らに、 ◎：１００ｍＪ／ｃｍ²露光後、反射防止膜の表面タッ
クがない。 ○：２００ｍＪ／ｃｍ²露光後、反射防止膜の表面タッ
クがない。 △：３００ｍＪ／ｃｍ²露光後、反射防止膜の表面タッ
クがない。 ×：３００ｍＪ／ｃｍ²露光後、反射防止膜の表面タッ
クがある。

【００８５】（２）光硬化性２ 得られた光硬化性組成物（溶液）を温度４０℃で１ヶ月
間および３ヶ月間保管した後、目視で外観変化（粘度増
加）を測定し、さらに上記（１）の光硬化性を測定し
て、以下の基準で長期保存後の光硬化性を評価した。得
られた結果を表１に、保存安定性として示す。 ◎：３ヶ月経過後も、外観変化や光硬化性の変化は観察
されない。 ○：１ヶ月経過後も、外観変化や光硬化性の変化は観察
されない。 ×：１ヶ月経過後に、外観変化あるいは光硬化性の低下
が観察される。

【００８６】（３）反射防止性 光硬化性組成物をポリカーボネート板上にディップコー
トした後、前記コンベア式高圧水銀ランプを用いて、大
気中で露光量が２００ｍＪ／ｃｍ²となるように紫外線
を照射して、厚さ０．１μｍの反射防止膜を含む積層体
を形成した。得られた積層体（反射防止膜）の反射防止
効果を分光反射率測定装置（大型試料室積分球付属装置
１５０−０９０９０を組み込んだ自記分光光度計Ｕ−３
４１０、日立製作所（株）製）により図４に示すように
波長４００〜８００ｎｍの範囲で反射率を測定して評価
した。すなわち、アルミの蒸着膜における反射率を基準
（１００％）として、各波長における積層体（反射防止
膜）の反射率を測定し、そのうち波長５５０ｎｍにおけ
る光の反射率から以下の基準で反射防止効果を評価し
た。結果を表１に示す。 ◎：反射率が１％以下の値である。 ○：反射率が２％以下の値である。 △：反射率が３％以下の値である。 ×：反射率が３％を超える値である。

【００８７】（４）透明性 光硬化性組成物を石英板上にスピンコートした後、前記
コンベア式高圧水銀ランプを用いて、大気中で露光量が
２００ｍＪ／ｃｍ²となるように紫外線を照射し、厚さ
１０μｍの透明性測定用の光硬化物（反射防止膜）を形
成した。次いで、分光光度計を用いて、得られた光硬化
物における波長５５０ｎｍの光透過率（Ｔ／％）を測定
し、得られた光透過率から以下の基準で透明性を評価し
た。結果を表１に示す。 ○：光透過率が９５％以上の値である。 △：光透過率が８０〜９５％未満の値である。 ×：光透過率が８０％未満の値である。

【００８８】（５）屈折率 光硬化性組成物をポリテトラフルオロエチレン製フィル
ム上にバーコータを用いて塗布した後、前記コンベア式
高圧水銀ランプを用いて、大気中で露光量が２００ｍＪ
／ｃｍ²となるように紫外線を照射し、厚さ２０μｍの
屈折率測定用の光硬化物（反射防止膜）を形成した。得
られた光硬化物におけるＮａ−Ｄ線の屈折率を、測定温
度２５℃の条件で、アッベ屈折率計を用いて測定した。
結果を表１に示す。

【００８９】（６）耐候性 光硬化性組成物を石英板上にスピンコートした後、前記
コンベア式高圧水銀ランプを用いて、大気中で露光量が
２００ｍＪ／ｃｍ²となるように紫外線を照射し、厚さ
２μｍの耐候性測定用の光硬化物（反射防止膜）を形成
した。得られた光硬化物についてＪＩＳ Ｄ０２０５に
準拠して（湿度５０％、温度６３℃、降雨１８分／１２
０分照射の条件）、サンシャインカーボンアーク灯式耐
光性試験機を用い、促進耐候試験を実施した。そして、
促進耐候試験１０００時間後および２０００時間後にお
ける光硬化物の外観を目視で観察し、以下の基準で以て
耐候性を評価した。また、同時に、ＪＩＳ Ｋ７１０３
に準拠した黄変度を△ＹＩ値で以て測定し、同様に光硬
化物の耐候性を評価した。結果を表１に示す。 ○：外観変化（クラック等）が無く、また△ＹＩ値が
０．１以下である。 △：外観変化（クラック等）がほとんど無く、また△Ｙ
Ｉ値が２以下である。 ×：外観変化（クラック等）が認められるか、△ＹＩ値
が２を超えている。

【００９０】（７）耐擦傷性 光硬化性組成物をポリカーボネート板上にディップコー
トした後、前記コンベア式高圧水銀ランプを用いて、大
気中で露光量が２００ｍＪ／ｃｍ²となるように紫外線
を照射し、厚さ０．１μｍの反射防止膜を含む積層体を
形成した。得られた積層体における反射防止膜の表面
を、ペーパー（キムワイプ、十条キンバリー（株）製）
により、荷重１ｋｇ／ｃｍ²の条件で２５回こすり、傷
の発生具合や剥離具合および鉛筆硬度試験から、以下の
基準に照らして反射防止膜の耐擦傷性を評価した。結果
を表１に示す。 ◎：反射防止膜に傷の発生や剥離は観察されず、鉛筆硬
度が２Ｈ以上である。 〇：反射防止膜に傷の発生や剥離は観察されず、鉛筆硬
度が２Ｈ未満である。 △：反射防止膜の剥離は観察されないが、微細な傷の発
生が観察される。 ×：反射防止膜の一部が剥離したり、筋状の傷の発生が
多数観察される。

【００９１】（８）耐汚染性 光硬化性組成物をポリカーボネート板上にディップコー
トした後、前記コンベア式高圧水銀ランプを用いて、大
気中で、露光量が２００ｍＪ／ｃｍ²となるように紫外
線を照射し、厚さ０．１μｍの反射防止膜を含む積層体
を形成した。得られた積層体における反射防止膜の耐汚
染性を、汚染物質（指紋および黒マジック）を用いてス
ポット試験を行い、以下の基準で判断した。結果を表１
に示す。 ◎：指紋および黒マジックについて、それぞれ乾布を用
いて１回で拭き取ることができる。 ○：指紋については乾布を用いて１０回未満で拭き取る
ことができ、黒マジックについては、エチルアルコール
を用いて１０回未満で拭き取ることができる。 △：指紋については乾布を用いて１０回以上で拭き取る
ことができ、黒マジックについては、エチルアルコール
を用いて１０回以上で拭き取ることができる。 ×：指紋については乾布を用いて拭き取ることができ
ず、黒マジックについては、エチルアルコールを用いて
拭き取ることができない。

【００９２】［実施例２］実施例１におけるポリカーボ
ネート板の替わりに、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム（厚さ１８８μｍ、東洋紡（株）製）を基材として
用いたほかは、実施例１と同様に光硬化性組成物Ａから
反射防止膜を形成して、図５に示すように反射率等を測
定し、評価した。得られた結果を表１に示す。ただし、
透明性、屈折率および耐候性については、実施例１の繰
り返し試験となるため、実施例２ではこれらの評価試験
を省略し、表１には実施例１で得られた結果を示してあ
る。

【００９３】［実施例３］ （光硬化性樹脂組成物の調製） （１）フッ素含有重合体の重合 内容積１．０リットルの電磁撹拌機を備えたステンレス
製のオートクレーブを窒素ガスを用いて十分に置換し
た。次いで、このオートクレーブ内に、酢酸エチル（重
合溶剤）３００ｇと、エチルビニルエーテル２４．０ｇ
と、ヒドロキシブチルビニルエーテル２５．８ｇと、ノ
ニオン性反応性乳化剤ＮＥ−３０（旭電化工業（株）
製）１０．０ｇと、ラジカル発生剤としてアゾ基含有ポ
リジメチルシロキサンＶＰＳ−１００１（和光純薬工業
（株）製）１．０ｇと、過酸化ラウロイル０．５ｇとを
収容した。そして、共重合成分等を十分に撹拌した後、
ドライアイスおよびメタノールを用いて−５０℃まで冷
却し、再度窒素ガスを用いて系内の酸素を除去した。次
いで、ヘキサフルオロプロピレン（ガス）９９．９ｇを
オートクレーブ内に導入した後、オートクレーブ内の温
度を７０℃に昇温した。なお、７０℃に達した時点で
の、オートクレーブ内の圧力は５．９ｋｇｆ／ｃｍ2で
あった。

【００９４】次いで、オートクレーブ内の共重合成分等
を撹拌しながら、温度を７０℃に保持したまま２０時間
かけてラジカル重合反応を行った。そして、オートクレ
ーブ内の圧力が２．５ｋｇｆ／ｃｍ²まで低下した時点
で、オートクレーブを水冷して反応を停止させた。オー
トクレーブ内の温度が室温まで降下したのを確認した
後、オートクレーブを開放し、未反応モノマーを系外に
放出させるとともに、フッ素含有共重合体溶液（ポリマ
ー溶液）を取り出した。得られたフッ素含有共重合体溶
液を、多量のメタノールに投入し、フッ素含有共重合体
を析出させた。その後、多量のメタノールを用いてフッ
素含有共重合体を洗浄し、さらに温度５０℃の真空乾燥
を行い、水酸基を有するフッ素含有重合体の精製物を得
た。得られた共重合体１について、以下のような評価項
目をそれぞれ５回測定し平均した。

【００９５】重量平均分子量の測定 得られたフッ素含有共重合体の精製物を、濃度０．５重
量％となるようにＴＨＦ（テトラヒドロフラン）に溶解
させた。次いで、ＧＰＣ装置ＨＬＣ−８０２０（東ソー
（株）製）を用いて、フッ素含有共重合体のＧＰＣカラ
ムからの溶出時間を屈折率計（ＲＩ）で検出し、得られ
た溶出時間から、ポリスチレン換算分子量として、フッ
素含有共重合体の重量平均分子量を算出した。その結
果、得られたフッ素含有共重合体の重量平均分子量は、
４２，０００であった。

【００９６】フッ素含量の測定 得られたフッ素含有共重合体のフッ素含量を、アリザリ
ンコンプレクソン法に準拠して測定した。その結果、得
られたフッ素含有共重合体のフッ素含量は、４６．１重
量％であった。

【００９７】（２）フッ素含有共重合体の変性 得られた水酸基を有するフッ素含有共重合体１００ｇ
と、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン２
０ｇと、メチルイソブチルケトン５００ｇと、ジブチル
スズジラウレート０．０１ｇとを撹拌機付きの反応容器
内に収容した。次いで、撹拌しながら、窒素ガス雰囲気
下、温度２０℃、１２時間の条件で、水酸基を有するフ
ッ素含有共重合体とγ−イソシアネートプロピルトリエ
トキシシランとを反応させた。

【００９８】次いで、得られた反応液の一部を取り出
し、これに所定量のジブチルアミンを添加して、反応液
中の未反応のγ−イソシアネートプロピルトリエトキシ
シランと反応させた。なお、反応しなかったジブチルア
ミン量を、０．１Ｎの塩酸を用いて滴定し、未反応のγ
−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン量を求め
た。その結果、反応液中において、γ−イソシアネート
プロピルトリエトキシシランは完全に消費されており、
γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシランと水酸
基を有するフッ素含有共重合体とが十分に反応している
ことが確認された。また、反応溶液の一部をＮａＣｌ板
上に塗布し、窒素雰囲気下で乾燥することにより塗膜を
形成した。この塗膜について赤外線スペクトルを測定し
たところ、イソシアネート基に由来したピークは観察さ
れず、一方で、イソシアネート基が反応した生成したウ
レタン基に由来する新たなピークが観察された。したが
って、以上の滴定および赤外線スペクトルの結果から、
γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシランとフッ
素含有共重合体との反応は完結し、シラン変性されたフ
ッ素含有共重合体が得られたことが確認された。

【００９９】さらに、シラン変性されたフッ素含有共重
合体を含むことが確認された反応液の一部を取り出し、
これを多量のメタノール中に投入し、シラン変性された
フッ素含有共重合体を析出させた。その後、多量のメタ
ノールを用いて、シラン変性されたフッ素含有共重合体
を洗浄し、さらに温度５０℃の真空乾燥を行い、シラン
変性されたフッ素含有重合体の精製物を得た。

【０１００】（３）シラン化合物の縮合 実施例１と同様に、ＭＴＭＳ縮合物溶液である、固形分
濃度が２２重量％のポリシロキサン溶液１を得た。

【０１０１】（４）光硬化性樹脂組成物の調製 シラン変性されたフッ素含有重合体の精製物を、ＭＩＢ
Ｋに溶解させて、固形分濃度が２２重量％の共重合体溶
液とした。この共重合体溶液３０ｇと、ポリシロキサン
溶液１ ７０ｇと、光酸発生剤としてのＳＩ−１００Ｌ
０．６６ｇとを撹拌機付きの容器内に収容後、均一に
混合撹拌して光硬化性樹脂組成物Ｂを得た。

【０１０２】（反射防止膜の形成および評価）得られた
光硬化性樹脂組成物Ｂを用い、実施例１と同様に反射防
止膜（評価用の光硬化物を含む。）を形成して評価し
た。結果を表１に示す。

【０１０３】［実施例４］ （光硬化性組成物の調製）撹拌機付の容器内に、メチル
トリメトキシシラン（５３．２８ｇ、０．３９１８モ
ル）と、メタノール分散コロイド状シリカ（１３３．２
ｇ、シリカ含量３０重量％、日産化学（株）製メタノー
ルシリカゾル）と電気伝導率が８×１０^-5Ｓ・ｃｍ^-1の
イオン交換水（１１．２８ｇ、０．６２８モル）とを収
容した後、温度６０℃、６時間の条件で加熱撹拌するこ
とにより加水分解を行った。次いで、ＭＩＢＫを滴下し
ながら、加水分解により副生したメタノールを蒸留除去
した。そして、最終的に固形分を２２重量％に調整し、
本発明の（Ａ）成分であるポリシロキサンおよび（Ｅ）
成分であるシリカ粒子を含有するポリシロキサン溶液
（以下、ポリシロキサン溶液２と称する。）を得た。得
られたポリシロキサン溶液２について、ＧＰＣを用いて
ポリスチレン換算の重量平均分子量を測定したところ、
１８００という値が得られた。次いで、得られたポリシ
ロキサン溶液２（固形分および溶剤）１００重量部あた
り、（Ｂ）成分として、光酸発生剤ＳＩ−１００Ｌ（三
新化学（株）製）を３重量部、（Ｃ）成分として、脱水
剤であるオルト蟻酸メチル５重量部をそれぞれ添加し
て、光硬化性組成物Ｃを得た。

【０１０４】（反射防止膜の形成および評価）得られた
光硬化性樹脂組成物Ｃを用い、実施例１と同様に反射防
止膜（評価用の光硬化物を含む。）を形成して評価し
た。結果を表１に示す。

【０１０５】［実施例５］実施例１で調製した光硬化性
組成物Ａに、反応性希釈剤ＫＲＭ−２１１０（旭電化
（株）製）を５重量部添加して、光硬化性組成物Ｄとし
たほかは、実施例１と同様に反射防止膜（評価用の光硬
化物を含む。）を形成して評価した。結果を表１に示
す。

【０１０６】［実施例６］ （高屈折率膜の形成）金属酸化物微粒子含有コート剤Ｎ
ｏ．１３５２（住友大阪セメント（株）製）１００重量
部と、シランカップリング剤ＴＥＳＯＸ（東亜合成
（株）製）５重量部と、光ラジカル発生剤イルガキュア
１８４（チバスペシャリティケミカルズ（株）製）３重
量部とを混合後、さらにＭＩＢＫとｔ−ブチルアルコー
ルとの等量混合溶液を添加して、固形分３重量％の高屈
折率膜溶液を光硬化性組成物Ｅとして調製した。得られ
た光硬化性組成物Ｅを、ディップコータを用いてポリカ
ーボネート板に塗布した後、高圧水銀ランプを用いて、
窒素中で、露光量が２００ｍＪ／ｃｍ²となるように紫
外線を照射し、厚さが０．１μｍであり、屈折率の値が
１．７（−）である高屈折率膜を形成した。

【０１０７】（反射防止膜の形成および評価）得られた
高屈折率膜上に、実施例１で調製した光硬化性組成物Ａ
と同様の光硬化性組成物から反射防止膜（評価用の光硬
化物を含む。）を形成して評価した。なお、透明性、屈
折率および耐候性については、実施例１の繰り返し試験
となるため、実施例６ではこれらの評価試験を省略し、
表１には実施例１で得られた結果を示してある。

【０１０８】［実施例７］実施例６において、実施例１
で調製した光硬化性組成物Ａを使用する代わりに、実施
例３で調製した光硬化性組成物Ｂを用いたほかは、実施
例６と同様に、高屈折率膜および反射防止膜を形成して
評価した。結果を表１に示す。なお、透明性、屈折率お
よび耐候性については、実施例３の繰り返し試験となる
ため、実施例６ではこれらの評価試験を省略し、表１に
は実施例３で得られた結果を示してある。

【０１０９】［実施例８］ （ハードコート層の形成）アクリルモノマーであるＤＰ
ＨＡ４０重量部と、アロニックスＴＯ−７５６（東亜合
成（株）製）６０重量部と、前述したイルガキュア１８
４ ３重量部とを混合してハードコート層用の光硬化性
組成物Ｆを調製した。得られた光硬化性組成物Ｆを、バ
ーコータを用いてポリカーボネート板に塗布した後、高
圧水銀ランプを用いて、窒素中で、露光量が５００ｍＪ
／ｃｍ²となるように紫外線を照射し、厚さが５．０μ
ｍであるハードコート層を形成した。

【０１１０】（反射防止膜の形成および評価）得られた
ハードコート層上に、実施例７と同様に、高屈折率膜お
よび反射防止膜を形成して評価した。結果を表１に示
す。

【０１１１】［実施例９］ （光硬化性組成物の作製）実施例１と同様にして、ポリ
シロキサン溶液１を作製した。次いで、得られたポリシ
ロキサン溶液１ １００重量部あたり、光酸発生剤ＳＩ
−１００Ｌ（三新化学（株）製）を３．０重量部添加し
て、光硬化性組成物Ｇを得た。すなわち、実施例６にお
いては、実施例１と異なり脱水剤を添加せず、光硬化性
組成物Ｇを調製した。

【０１１２】（反射防止膜の形成および評価）実施例１
と同様に、光硬化性組成物Ｇから反射防止膜（評価用の
光硬化物を含む。）を形成して評価した。それぞれの結
果を表１に示す。実施例１における結果との比較から、
実施例９においては脱水剤を添加していないため、光硬
化性組成物Ｇにおける光硬化性や保存安定性が相対的に
低下しているものの、その他の特性は同等であることが
確認された。

【０１１３】［比較例１および２］ （光硬化性組成物の調製）フッ素系ポリマーＫＹＮＥＲ
ＡＤＳ（エルフーアトム社製）８０重量部に対して、
アクリルモノマーであるＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）
２０重量部と、光ラジカル発生剤イルガキュア１８４
（チバスペシャリティケミカルズ（株）製）３重量部を
添加し、さらに固形分濃度３重量％となるようにＭＩＢ
Ｋに溶解させて、光硬化性組成物Ｈを得た。

【０１１４】（光硬化性組成物の評価）実施例１（基
材：ポリカ−ボネート板）および実施例２（基材：ＰＥ
Ｔフィルム）と同様に、得られた光硬化性組成物Ｈから
基板の種類を変えて反射防止膜（評価用の光硬化物を含
む。）を形成して評価した。それぞれの結果を表１に示
す。なお、透明性、屈折率および耐候性については、比
較例１と比較例２において繰り返し試験となるため、比
較例２ではこれらの評価試験を省略し、表１には比較例
１で得られた結果を示してある。

【０１１５】

【表１】

【０１１６】

【発明の効果】本発明の反射防止膜あるいはその反射防
止膜を含む積層体によれば、反射防止膜の形成材料とし
て特定の加水分解性シラン化合物と、光酸発生剤とから
なる光硬化性組成物を使用することから、酸素存在下に
おいても光硬化反応により反射防止膜が形成可能であ
り、しかも得られた反射防止膜あるいは当該反射防止膜
を含む積層体において、優れた反射防止効果や耐汚染性
を得ることが可能となった。

【０１１７】また、反射防止膜の形成材料として、特定
の加水分解性シラン化合物と、光酸発生剤と、脱水剤と
を組み合わせることにより保存安定性や光硬化性に優れ
た光硬化性組成物を得ることができ、したがって、酸素
存在下においてもより速い光硬化反応により反射防止膜
が形成可能であり、しかも得られた反射防止膜あるいは
当該反射防止膜を含む積層体において、優れた反射防止
効果や耐汚染性を得ることが可能となった。

【０１１８】さらに、本発明の反射防止膜の製造方法に
よれば、反射防止膜の形成材料として特定の加水分解性
シラン化合物と、光酸発生剤とからなる光硬化性組成物
を使用して、基材上に反射防止膜を形成することから、
優れた反射防止効果や耐汚染性を有する反射防止膜を、
酸素存在下においても光硬化反応を利用として形成する
ことが可能となった。その他、本発明の反射防止膜の製
造方法によれば、パターン露光することにより、任意の
箇所に反射防止膜を形成することが可能となった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の積層体の断面を示す図である（その
１）。

【図２】本発明の積層体の断面を示す図である（その
２）。

【図３】本発明の積層体の断面を示す図である（その
３）。

【図４】実施例１の反射防止膜（大気中硬化）および使
用した基板（ポリカーボネート板）における反射率測定
チャートである。

【図５】実施例２の反射防止膜（大気中硬化）および使
用した基板（ＰＥＴフィルム）における反射率測定チャ
ートである。

【符号の説明】

１０、２２、２６ 反射防止膜 １２ 基材 １４、１８、２８ 積層体 １６ ハードコート層 ２０、２２ 高屈折率層

フロントページの続き (72)発明者 佐藤 穂積 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 Ｆターム(参考） 2K009 AA04 AA07 AA15 CC09 CC26 CC42 DD02 DD05 4F100 AA20A AA20H AK17A AK42B AK45B AK52A AR00A AR00H AT00B BA02 BA10A BA10B CA02A CA04A CA30A DE01A DE01H GB90 JB14A JD15A JD15H JL06 JN06

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記（Ａ）および（Ｂ）成分を含有する
   光硬化性組成物を光硬化してなる反射防止膜。 （Ａ）一般式（１）で示される加水分解性シラン化合
   物、その加水分解物、およびその縮合物からなる群から
   選択される少なくとも一つの化合物 （Ｒ¹）_PＳｉ（Ｘ）_4-P （１） ［一般式（１）中、Ｒ¹は炭素数が１〜１２である非加
   水分解性の有機基、Ｘは加水分解性基、およびｐは０〜
   ３の整数である。］ （Ｂ）光酸発生剤
2. 【請求項２】 前記光硬化性組成物中に、（Ｃ）成分と
   して、脱水剤を含有させてなる請求項１に記載の反射防
   止膜。
3. 【請求項３】 前記光硬化性組成物中に、（Ｄ）成分と
   して、フッ素含有重合体を含有させてなる請求項１また
   は２に記載の反射防止膜。
4. 【請求項４】 前記光硬化性組成物中に、（Ｅ）成分と
   して、シリカ粒子を含有させてなる請求項１〜３のいず
   れか一項に記載の反射防止膜。
5. 【請求項５】 前記光硬化性組成物中に、（Ｆ）成分と
   して、反応性希釈剤を含有させてなる請求項１〜４のい
   ずれか一項に記載の反射防止膜。
6. 【請求項６】 請求項１〜５のいずれか一項に記載の反
   射防止膜を基材上に含むことを特徴とする反射防止膜を
   含む積層体。
7. 【請求項７】 下記（Ａ）および（Ｂ）成分を含有する
   光硬化性組成物を成形する工程と、成形した光硬化性組
   成物を光硬化させて反射防止膜とする工程とを含むこと
   を特徴とする反射防止膜の製造方法。 （Ａ）一般式（１）で示される加水分解性シラン化合
   物、その加水分解物、およびその縮合物からなる群から
   選択される少なくとも一つの化合物 （Ｒ¹）_PＳｉ（Ｘ）_4-P （１） ［一般式（１）中、Ｒ¹は炭素数が１〜１２である非加
   水分解性の有機基、Ｘは加水分解性基、およびｐは０〜
   ３の整数である。］ （Ｂ）光酸発生剤