JP2000109560A - 光硬化性組成物および硬化膜 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光硬化速度が速く、保存安定性、透明性、耐
熱性、紫外線遮蔽性等の特性に優れ、さらにはプラスチ
ック等の耐熱性の低い基材にも適用できる光硬化性組成
物およびそれから得られる屈折率の値を広範囲に変更可
能な硬化膜を提供する。 【解決手段】 下記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有すること
を特徴とする光硬化性組成物。 （Ａ）一般式（１）で示される加水分解性シラン化合物
およびその加水分解物あるいはいずれか一方の化合物 （Ｒ¹）_PＳｉ（Ｘ）_4-P （１） ［一般式（１）中、Ｒ¹は炭素数が１〜１２である非加
水分解性の有機基、Ｘは加水分解性基、およびｐは０〜
３の整数である。］ （Ｂ）一般式（２）で表される加水分解性チタン化合物
およびその加水分解物あるいはいずれか一方の化合物 Ｔｉ（Ｙ）₄ （２） ［一般式（２）中、Ｙは加水分解性基である。］ （Ｃ）光酸発生剤

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光硬化性組成物お
よびその光硬化性組成物から得られた硬化膜（以下、単
に硬化膜と称する場合がある。）に関する。より詳細に
は、幅広い範囲（例えば、１．４０〜１．９０）で屈折
率の値を調節することができ、また、紫外線を有効に遮
蔽（カット）することが可能な光硬化性組成物およびそ
の硬化膜に関する。

【０００２】本発明の光硬化性組成物、その硬化膜（硬
化物を含む。）は、金属用塗料、スレート材等のサイジ
ング剤、プラスチックフィルムのハードコーテイング、
印刷紙のハードコーテイング、床、壁タイルの汚染防止
膜、光学レンズのハードコーティング、表示素子の保護
膜、反射防止膜、高反射膜、選択透過膜、繊維の被覆強
化材料、光学的立体造形用樹脂、光学レンズ、半導体用
封止剤、半導体用絶縁膜、半導体用接着剤、光学用接着
剤、印刷板材料、光導波路材料および光スイッチング材
料等の用途に好適である。

【０００３】

【従来の技術】透明硬化膜の形成材料として、熱硬化型
ポリシロキサン組成物が知られており、例えば、特開昭
５３−１２９５２号公報、特開昭５５−２５４３２号公
報、特開昭５０−２８０９２号公報に開示されている。
しかしながら、このような熱硬化型ポリシロキサン組成
物から得られた硬化膜は、耐候性や耐擦傷性に優れてい
る反面、高温で、長時間にわたって加熱処理をする必要
があり、生産性が低かったり、あるいは適用基材の種類
が限定されるという問題が見られた。また、かかる熱硬
化型ポリシロキサン組成物は、常温での保管では性能が
低下するため、厳格な温度管理の下、低温状態に保管す
る必要がある等の問題点を有していた。

【０００４】このため、耐候性と耐擦傷性の改良を目的
として、シラン化合物からなる光硬化性組成物が提案さ
れている。例えば、特公表昭５７−５００２４７号公報
においては、非重合性のアルコキシシランの加水分解物
と、アクリル基もしくはグリシジル基を有するアルコキ
シシランの加水分解物と、光開始剤とから構成される光
硬化性組成物が開示されている。また、特公表昭５７−
５００９８４号公報においては、アクリル基もしくはグ
リシジル基を有するアルコキシシランの加水分解物と、
コロイダルシリカと、非シリルの有機アクリレートと、
光開始剤とから構成される光硬化性組成物が開示されて
いる。また、特開平２−１８７１７６号公報において
は、２５モル％以上の有機重合性アルコキシシランと、
金属アルコキシド縮合物と、光開始剤とから構成される
光硬化性組成物が開示されている。また、米国特許５３
８５９５５号においては、エポキシ基含有アルコキシシ
ランと、アルキルアルコキシシランの加水分解物と、コ
ロイダルシリカと、光開始剤とからなる光硬化性組成物
が開示されている。さらに、特開昭６０−１８６５７０
号公報においては、防曇膜の形成を目的として、強酸性
触媒を用いて合成したアルコキシシランの加水分解物
と、光開始剤とを含有してなる光硬化性組成物が提案さ
れている。

【０００５】しかしながら、これらの光硬化性組成物
は、いずれも幅広い範囲で屈折率の値を調節したり、あ
るいは紫外線を遮蔽（カット）することが困難であっ
た。また、これらの光硬化性組成物は、一般に光硬化反
応が遅くて、硬化不良が生じやすく、得られた光硬化物
の耐熱性や耐候性がばらつきやすいという問題も見られ
た。さらに、これらの光硬化性組成物における光硬化速
度を速めようとすると、光硬化性組成物の保存安定性が
低下しやすいという問題も見られた。

【０００６】一方、ポリシロキサン組成物に代わる材料
として、熱硬化型ポリチタノキサン組成物（コーティン
グ材料）が知られている。例えば、特開平１−１２９０
３２号公報には、ラダー構造のポリチタノキサンを有機
溶媒に溶解してなる熱硬化性組成物が開示されている。
また、特開平６−２４２４３２号公報には、アルコキシ
シランの加水分解物と、テトラアルコキシチタンの加水
分解物とを含有してなる熱硬化性組成物が開示されてい
る。さらに、特開平６−３３０００号公報には、アルコ
キシシランの加水分解物と、テトラアルコキシチタンと
を含有してなる熱硬化性組成物が開示されている。しか
しながら、いずれの熱硬化型ポリチタノキサン組成物
も、硬化膜を得るために、高温、長時間の条件、例えば
２００℃、３０分間以上にわたって加熱処理をする必要
があり、生産性が低かったり、あるいは適用基材の種類
が限定されるという問題が見られた。また、上述した熱
硬化型ポリチタノキサン組成物から膜厚の厚い硬化膜
（光学部品等）を形成しようとすると、クラックが生じ
やすいという問題が見られた。さらには、いずれの熱硬
化型ポリチタノキサン組成物も、保存安定性に乏しく、
ゲル化しやすいという問題も見られた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】以上述べたように、従
来の熱硬化型ポリシロキサン組成物あるいは熱硬化型ポ
リチタノキサン組成物は、硬化時間が長くて、かつ高温
加熱処理を必要とするため、適用できる基材が限定さ
れ、さらには保存安定性に乏しいという問題点を有して
いた。また、光硬化型ポリシロキサン組成物において
は、屈折率の値を幅広い範囲で調節したり、紫外線を遮
蔽することが困難であるという問題点を有していた。

【０００８】そこで、本発明の発明者らは鋭意検討した
結果、加水分解性シラン化合物と、加水分解性チタン化
合物と、光酸発生剤とを組み合わせることにより、上述
した問題を解決できることを見出した。すなわち、本発
明は、幅広い範囲で屈折率の値を調節したり、紫外線を
遮蔽したりすることができ、かつ、光硬化性や保存安定
性に優れた光硬化性組成物およびその硬化膜（硬化物を
含む。）を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、下記（Ａ）〜
（Ｃ）成分を含有する光硬化性組成物に関する。（Ａ）
一般式（１）で表される加水分解性シラン化合物、その
加水分解物およびその縮合物からなる群から選択される
少なくとも一つの化合物 （Ｒ¹）_PＳｉ（Ｘ）_4-P （１） ［一般式（１）中、Ｒ¹は炭素数が１〜１２である非加
水分解性の有機基、Ｘは加水分解性基、およびｐは０〜
３の整数である。］ （Ｂ）一般式（２）で表される加水分解性チタン化合
物、その加水分解物およびその縮合物からなる群から選
択される少なくとも一つの化合物 Ｔｉ（Ｙ）₄ （２） ［一般式（２）中、Ｙは加水分解性基である。］ （Ｃ）光酸発生剤

【００１０】このように光硬化性組成物を構成すること
により、高温加熱処理を必要とせず均一な厚さの硬化膜
を短時間で得ることができる。また、得られた硬化膜に
おいて、幅広い範囲で屈折率の値を調節したり、紫外線
を有効に遮蔽したりすることができる。

【００１１】また、本発明の別の態様は、上述した光硬
化性組成物を光硬化してなる硬化膜である。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の実施形態は、加水分解性
シラン化合物の加水分解物（Ａ成分）、加水分解性チタ
ン化合物の加水分解物（Ｂ成分）および光酸発生剤（Ｃ
成分）を含有する光硬化性組成物である。なお、後述す
るように、Ｄ成分として、脱水剤を添加することも好ま
しい。

【００１３】（１）加水分解性シラン化合物における加
水分解物 本発明で使用する加水分解物は、一般式（１）で示され
る加水分解性シラン化合物を加水分解した化合物であ
る。 （Ｒ¹）_PＳｉ（Ｘ）_4-P （１） ［一般式（１）中、Ｒ¹は炭素数が１〜１２である非加
水分解性の有機基、Ｘは加水分解性基、およびｐは０〜
３の整数である。］

【００１４】有機基Ｒ¹ 一般式（１）における有機基Ｒ¹は非加水分解性である
１価の有機基の中から選ぶことができる。このような非
加水分解性の有機基として、非重合性の有機基および重
合性の有機基あるいはいずれか一方の有機基を選ぶこと
ができる。なお、有機基Ｒ¹における非加水分解性と
は、加水分解性基Ｘが加水分解される条件において、そ
のまま安定に存在する性質であることを意味する。

【００１５】ここで、非重合性の有機基Ｒ¹としては、
アルキル基、アリ−ル基、アラルキル基等が挙げられ
る。これらは、直鎖状、分岐状、環状あるいはこれらの
組み合わせであっても良い。また、より具体的なアルキ
ル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、お
よび重水素化アルキル基もしくはハロゲン化アルキル基
が挙げられる。これらのアルキル基のうち、より好まし
くはメチル基である。

【００１６】また、非重合性の有機基Ｒ¹における具体
的なアリール基としては、フェニル基、トリル基、キシ
リル基、ナフチル基、ビフェニル基、および重水素化ア
リール基もしくはハロゲン化アリール基が挙げられる。
これらのうち、より好ましくはフェニル基である。さら
に、非重合性の有機基Ｒ¹における具体的なアラルキル
基としては、ベンジル基およびフェニルエチル基が挙げ
られる。これらのうち、より好ましくはベンジル基であ
る。

【００１７】さらに、非重合性の有機基Ｒ¹は、ヘテロ
原子を含む構造単位とすることも好ましい。そのような
構造単位としては、エーテル結合、エステル結合、スル
フィド結合等を例示することができる。また、ヘテロ原
子を含む場合、非塩基性であることが好ましい。

【００１８】また、重合性の有機基Ｒ¹は、分子中にラ
ジカル重合性の官能基およびカチオン重合性の官能基あ
るいはいずれか一方の官能基を有する有機基であること
が好ましい。このような官能基を導入することにより、
ラジカル重合やカチオン重合を併用して、光硬化性組成
物をより有効に硬化させることができる。

【００１９】また、重合性の有機基Ｒ¹におけるラジカ
ル重合性の官能基、およびカチオン重合性の官能基のう
ち、より好ましいのはカチオン重合性の官能基である。
光酸発生剤により、シラノール基における硬化反応のみ
ならず、カチオン重合性の官能基における硬化反応を同
時に生じさせることができるためである。

【００２０】次に、ラジカル重合性の官能基を有する有
機基Ｒ¹の具体例について説明する。このような有機基
Ｒ¹としては、不飽和炭化水素基を有する有機基、（メ
タ）アクリロキシ基を有する有機基、スチリル基を有す
る有機基、ビニルオキシ基を有する有機基等が挙げられ
る。そして、より具体的な不飽和炭化水素基を有する有
機基としてはビニル基、プロペニル基、ブタジエニル基
等が挙げられる。これらのうち、より好ましくはビニル
基である。また、（メタ）アクリロイル基を有する有機
基の例を示すと、（メタ）アクリロキシメチル基や（メ
タ）アクリロキシプロピル基等が挙げられる。また、ス
チリル基を有する有機基の例を示すと、スチリル基、ス
チリルエチル基、スチリルプロピル基等が挙げられる。
さらに、ビニルオキシ基を有する有機基の例を示すと、
ビニロキシエチル基、ビニロキシプロピル基、ビニロキ
シブチル基、ビニロキシオクチル基、ビニロキシシクロ
ヘキシル基、ビニロキシフェニル基等を挙げることがで
きる。なお、ビニルオキシ基を有する有機基は、後述す
るカチオン重合性の官能基を有する有機基としての機能
も有している。

【００２１】また、カチオン重合性の官能基を有する有
機基Ｒ¹としては、環状エーテル構造を有する有機基、
ビニルオキシ基を有する有機基等が挙げられる。そし
て、より好ましくは、環状エーテル構造を有する有機基
である。かかる環状エーテル基としては、直鎖や環状構
造を有する３〜６員環の環状エーテル構造、より具体的
にはグリシジル基、オキセタニル基、テトラヒドロフラ
ン構造を含む基、及びピラン構造を含む基を挙げること
ができる。また、これらの環状エーテル基のうち、より
好ましいものはグリシジル基、オキセタニル基等の４員
環以下の環状エーテル構造である。

【００２２】また、環状エーテル構造を有する有機基の
具体例を示すと、グリシジルプロピル基、２−（３，４
−エポキシシクロヘキシル）エチル基、メチルオキセタ
ニルメトキシプロピル基、エチルオキセタニルメトキシ
プロピル基等を挙げることができる。

【００２３】加水分解性基Ｘ Ｘで表される加水分解性基は、通常、無触媒、過剰の水
の共存下、室温（２５℃）〜１００℃の温度範囲内で加
熱することにより、加水分解されてシラノール基を生成
することができる基、もしくはシロキサン縮合物を形成
することができる基を指す。また、加水分解性基Ｘに関
する一般式（１）中の添え字ｐは、０〜３の整数である
が、より好ましくは０〜２の整数であり、特に好ましく
は１である。

【００２４】ただし、一般式（１）で示される加水分解
性シラン化合物の加水分解物において、一部未加水分解
の加水分解性基が残っていても良く、その場合、加水分
解性シラン化合物と加水分解物との混合物となる。ま
た、加水分解性シラン化合物の加水分解物というとき
は、加水分解反応により加水分解性基がシラノール基に
変わった化合物ばかりでなく、一部のシラノール基同士
が縮合した部分縮合物をも意味している。

【００２５】さらに、加水分解性シラン化合物は、光硬
化性組成物を配合する時点で加水分解されている必要は
必ずしもなく、光照射する段階で、少なくとも一部の加
水分解性基が加水分解されていれば良い。すなわち、第
１の実施形態の光硬化性組成物において、加水分解性シ
ラン化合物を予め加水分解せずに使用した場合には、事
前に水を添加して、加水分解性基を加水分解させ、シラ
ノール基を生成することにより、光硬化性組成物を光硬
化させることができる。

【００２６】次に、一般式（１）における加水分解性基
Ｘの具体的内容について説明する。本発明において、加
水分解性基Ｘは、水素原子、炭素数１〜１２のアルコキ
シ基、ハロゲン原子およびアミノ基等が挙げられる。

【００２７】好ましい炭素数１〜１２のアルコキシ基と
しては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブト
キシ基、フェノキシベンジロキシ基、メトキシエトキシ
基、アセトキシエトキシ基、２−（メタ）アクリロキシ
エトキシ基、３−（メタ）アクリロキシプロポキシ基、
４−（メタ）アクリロキシブトキシ基、あるいは、グリ
シジロキシ基、２−（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）エトキシ基等のエポキシ基含有アルコキシ基、メチ
ルオキセタニルメトキシ基、エチルオキセタニルメトキ
シ基等のオキセタニル基含有アルコキシ基、オキサシク
ロヘキシロキシ等の６員環エーテル基を有するアルコキ
シ基等を挙げることができる。

【００２８】また、好ましいハロゲン原子としては、フ
ッ素、塩素、臭素、ヨウ素等を挙げることができる。た
だし、このように加水分解性基としてハロゲン原子を含
む加水分解性シラン化合物を用いる場合、光硬化性組成
物の保存安定性を低下させないように注意を払う必要が
ある。すなわち、加水分解により生成するハロゲン化水
素の量にもよるが、かかるハロゲン化水素を、中和、蒸
留等の操作により除去して、光硬化性組成物の保存安定
性に影響を及ぼさないようにすることが好ましい。

【００２９】また、好ましいアミノ基としては、アミノ
基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ブチルアミ
ノ基、ジブチルアミノ基、フェニルアミノ基、ジフェニ
ルアミノ基等を挙げることができる。ただし、このよう
に加水分解性基としてアミノ基を用いた場合、加水分解
によりアミン類が生成する。したがって、光硬化性組成
物の保存安定性に影響を及ぼさないように、光硬化性組
成物を最終的に調製する前に、かかる副生アミン類を除
去することが好ましい。

【００３０】加水分解性シラン化合物の具体例 次に、一般式（１）で表される加水分解性シラン化合物
（単に、シラン化合物と称する場合がある。）の具体例
を説明する。

【００３１】まず、一般式（１）においてｐが０である
シラン化合物としては、テトラクロロシラン、テトラア
ミノシラン、テトラアセトキシシラン、テトラメトキシ
シラン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラ
ン、テトラフェノキシシラン、テトラベンジロキシシラ
ン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン等が挙げ
られる。

【００３２】また、同様に、一般式（１）においてｐが
１であるシラン化合物としては、メチルトリクロロシラ
ン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシ
シラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリ
ブトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ペンタフ
ルオロフェニルトリメトキシシラン、フェニルトリメト
キシシラン、フェニルトリエトキシシラン、重水素化メ
チルトリメトキシシラン、ノナフルオロブチルエチルト
リメトキシシラン、トリフルオロメチルトリメトキシシ
ラン等が挙げられる。

【００３３】また、同様に、一般式（１）においてｐが
２であるシラン化合物としては、ジメチルジクロロシラ
ン、ジメチルジアミノシラン、ジメチルジアセトキシシ
ラン、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキ
シシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジブチルジメ
トキシシラン等が挙げられる。また、同様に、一般式
（１）においてｐが３であるシラン化合物としては、ト
リメチルクロロシラン、ヘキサメチルジシラザン、トリ
メチルシラン、トリブチルシラン、トリメチルメトキシ
シラン、トリブチルエトキシシラン等を挙げることがで
きる。

【００３４】また、重合性の有機基Ｒ¹を有するシラン
化合物としては、Ｘにおける非加水分解性の有機基に重
合性の有機基Ｒ¹を含むシラン化合物、Ｘにおける加水
分解性の有機基に重合性の有機基Ｒ¹を有するシラン化
合物のいずれかを用いることができる。

【００３５】また、光重合性組成物を光硬化させて得ら
れた硬化膜において、比較的高い屈折率の値（１．６０
以上）を得たい場合には、上述したシラン化合物のう
ち、ブチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシ
シラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジブチルジメト
キシシランといった非加水分解性基の炭素数が比較的多
いものを使用することが好ましい。一方、光重合性組成
物を光硬化させて得られた硬化膜において、比較的低い
屈折率の値（１．６０未満）を得たい場合には、上述し
たシラン化合物のうち、テトラクロロシラン、テトラメ
トキシシランといった非加水分解性基をもたないシラン
化合物、あるいはメチルトリメトキシシラン、メチルト
リエトキシシラン、トリフルオロメチルトリメトキシシ
ランといった非加水分解性基の炭素数が比較的少ないも
のを使用することが好ましい。

【００３６】加水分解性シラン化合物の加水分解条件
等 次に、上述した加水分解性シラン化合物を加水分解する
条件やさらに縮合する条件について説明する。これらの
加水分解条件等は、特に制限されるものではないが、一
例として、以下に示す１）〜３）の工程で以て実施する
のが好ましい。

【００３７】１）一般式（１）に示す加水分解性シラン
化合物と、所定量の水とを、撹拌機付の容器内に収容す
る。 ２）次いで、溶液の粘度を調節しながら、有機溶媒を容
器内にさらに収容し、混合溶液とする。 ３）得られた混合溶液を、空気雰囲気中、０℃から有機
溶媒もしくは加水分解性シラン化合物の沸点以下の温度
で、１〜２４時間の間加熱撹拌する。なお、加熱撹拌
中、必要に応じて蒸留によって混合溶液を濃縮したり、
あるいは溶剤を置換することも好ましい。

【００３８】ここで、加水分解性シラン化合物の加水分
解に用いられる水（精製水）は、逆浸透膜処理、イオン
交換処理、蒸留等の方法により精製された水を使用する
ことが好ましい。具体的には電気伝導率が１×１０^-2Ｓ
・ｃｍ^-1以下の値である水を使用することが好ましい。
加水分解に用いられる水の電気伝導率が１×１０^-2Ｓ・
ｃｍ^-1を超えると、光硬化性組成物の保存安定性が低下
する傾向がある。したがって、光硬化性組成物の保存安
定性がより良好な観点から、加水分解に用いられる水の
電気伝導率を１．０×１０^-4Ｓ・ｃｍ^-1以下の値とする
のがより好ましい。

【００３９】加水分解性シラン化合物の加水分解物 次に、加水分解性シラン化合物の加水分解物における分
子量について説明する。かかる分子量は、移動相にテト
ラヒドロフランを使用したゲルパーミエーションクロマ
トグラフィー（以下、ＧＰＣと略記する。）を用い、ポ
リスチレン換算の重量平均分子量として測定することが
できる。そして、加水分解物の重量平均分子量を、通常
５００〜１００００の範囲内の値とするのが好ましい。
加水分解物における重量平均分子量の値が５００未満の
場合、塗膜の成膜性が低下する傾向があり、一方、１０
０００を越えると光硬化性が低下する傾向がある。した
がって、より好ましくは加水分解物における重量平均分
子量を、１０００〜５０００の範囲内の値とすることで
ある。

【００４０】（２）加水分解性チタン化合物における加
水分解物 第１の実施形態で使用する加水分解性チタン化合物（以
下、単にチタン化合物と称する場合がある。）における
加水分解物は、一般式（２）で示されるチタン化合物に
おいてチタノ-ル基を生成させた化合物である。 Ｔｉ（Ｙ）₄ （２） ［一般式（２）中、Ｙは加水分解性基である。］

【００４１】加水分解性基Ｙ Ｙで表される４つの加水分解性基は、それぞれ同一でも
異なっていても良い。また、具体的な加水分解性基Ｙの
種類としては、一般式（１）における加水分解性基Ｘと
同様のものが使用可能である。したがって、ここにおけ
る、加水分解性基Ｙの種類等の説明は省略する。また、
加水分解性基Ｙは、一般式（１）における加水分解性基
Ｘと同様に、一部未加水分解のものが残っていても良
く、あるいは一部のチタノール基同士が縮合して部分縮
合物となっていても良い。また、加水分解性基Ｙの加水
分解条件等についても、一般式（１）における加水分解
性基Ｘと同様の条件を採用することができる。さらに、
加水分解性チタン化合物における加水分解性基Ｙと、一
般式（１）における加水分解性シラン化合物におけるシ
ラノール基とが重縮合していても良い。

【００４２】加水分解性チタン化合物の具体例 次に、一般式（２）で表される加水分解性チタン化合物
（単に、チタン化合物と称する場合がある。）の具体例
を説明する。このようなチタン化合物としては、一般式
（２）における４個の加水分解性基Ｙが、それぞれ非重
合性の加水分解性基であるチタン化合物が挙げられる。
より具体的には、ｏ−アリルオキシ（ポリエチレンオキ
シ）トリイソプロポキシチタン、アリルアセトアセテー
トトリイソプロポキシチタン、ビス（トリエタノールア
ミン）ジイソプロポキシチタン、テトラｎ−ブトキシチ
タン、クロロトリイソプロポキシチタン、ビス（２，４
−ペンタンジオネート）ジｎ−ブトキシチタン、ジクロ
ロジエトキシチタン、ビス（２，４−ペンタンジオネー
ト）ジイソプロポキシチタン、ビス（テトラメチルヘプ
タンジオネート）ジイソプロポキシチタン、ビス（エチ
ルアセテート）ジイソプロポキシチタン、テトラエトキ
シチタン、テトラキス（２−エチルヘキサノキシ）チタ
ン、テトライソブトキシチタン、テトライソプロポキシ
チタン、チタニウムラクテート、テトラメトキシチタ
ン、テトラメトキシプロポキシチタン、テトラメチルフ
ェノキシチタン、テトラｎ−ノニロキシチタン、ビス
（２，４−ペンタンジオネート）チタンオキシド、テト
ラｎ−プロポキシシチタン、テトラステアリルオキシチ
タン、テトラキス（ビス−２，２−（アリルオキシメチ
ル）ブトキシ）チタン、トリｎ−ブチルスタノキシトリ
イソプロポキシチタン、トリ（イソステアロイル）イソ
プロポキシチタン、テトラキス（トリメチルシロキシ）
チタニウム等が挙げられる。

【００４３】また、同様に、一般式（２）における４個
の加水分解性基Ｙのうち、少なくとも一つの加水分解性
基が重合性であるチタン化合物が挙げられる。より具体
的には、メタクリロキシトリイソプロポキシチタン、２
−メタクリルオキシエチルアセトアセテートトリイソプ
ロポキシチタン、メタクリロキシエトキシトリイソプロ
ポキシチタン、２−メトキシエトキシエトキシトリメタ
クリレートチタン等が挙げられる。

【００４４】また、光重合性組成物を光硬化させて得ら
れた硬化膜において、比較的高い屈折率の値（１．６０
以上）を得たい場合には、上述したチタン化合物のう
ち、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テ
トラｎ−プロポキシチタン、テトライソプロポキシチタ
ン、テトラｎ−ブトキシチタンといった加水分解性基の
炭素数が比較的少ないものや、あるいは、テトラメチル
フェノキシチタンといった加水分解性基にベンゼン環を
有するものを使用することが好ましい。一方、光重合性
組成物を光硬化させて得られた硬化膜において、比較的
低い屈折率の値（１．６０未満）を得たい場合には、上
述したチタン化合物のうち、テトラｎ−ノニロキシチタ
ン、テトラステアリルオキシチタン、テトラキス［ビス
−２，２−（アリルオキシメチル）ブトキシ］チタン、
トリ（イソステアリロイル）イソプロポキシチタンとい
った加水分解性基の炭素数が比較的多いものを使用する
ことが好ましい。

【００４５】加水分解性チタン化合物の添加量 次に、本発明における（Ｂ）成分としての加水分解性チ
タン化合物の添加量（含有割合）について説明する。か
かるチタン化合物の添加量は特に制限されるものではな
いが、（Ａ）成分／（Ｂ）成分の重量比が、９９／１〜
１／９９の範囲内の値であることが好ましい。この理由
は、チタン化合物の添加量が、（Ａ）成分／（Ｂ）成分
の重量比として９９／１未満となると、屈折率の値を調
整することが困難となる傾向があり、一方、１／９９を
超えると、光硬化性や保存安定性が低下する傾向がある
ためである。したがって、チタン化合物の添加量を、
（Ａ）成分／（Ｂ）成分の重量比として、９０／１０〜
１０／９０の範囲内の値とするのがより好ましく、８０
／２０〜２０／８０の範囲内の値とするのがさらに好ま
しく、７０／３０〜３０／７０の範囲内の値とするのが
最も好ましい。なお、（Ａ）成分および（Ｂ）成分の重
量は、それぞれ完全加水分解縮合物（加水分解性基が１
００％加水分解してＯＨ基となり、完全に縮合したも
の）に換算したものであり、以下（Ａ）成分および
（Ｂ）成分の重量が問題となる場合についても、同様に
完全加水分解縮合物換算である。

【００４６】（３）光酸発生剤 定義 光硬化性組成物に使用する光酸発生剤（Ｃ成分）は、光
等のエネルギー線を照射することにより、（Ａ）成分で
ある加水分解性シラン化合物を光硬化（架橋）可能な酸
性活性物質を放出することができる化合物と定義され
る。なお、光酸発生剤を分解させて、酸性活性物質を発
生するするために照射する光エネルギー線としては、可
視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線等を挙
げることができる。ただし、一定のエネルギーレベルを
有し、硬化速度が大（速く）であり、しかも照射装置が
比較的安価で、小型な観点から、紫外線を使用すること
が好ましい。

【００４７】光酸発生剤の種類 次に、光酸発生剤の種類を説明する。かかる光酸発生剤
としては、一般式（３）で表される構造を有するオニウ
ム塩（第１群の化合物）や一般式（４）で表される構造
を有するスルフォン酸誘導体（第２群の化合物）を挙げ
ることができる。

【００４８】 [Ｒ² _aＲ³ _bＲ⁴ _cＲ⁵ _dＷ]^+m [ＭＺ_m+n] ^-m （３） ［一般式（３）中、カチオンはオニウムイオンであり、
ＷはＳ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ，Ｉ、
Ｂｒ、Ｃｌまたは−Ｎ≡Ｎであり、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およ
びＲ⁵は同一または異なる有機基であり、ａ、ｂ、ｃお
よびｄはそれぞれ０〜３の整数であって、（ａ＋ｂ＋ｃ
＋ｄ）はＷの価数に等しい。また、Ｍはハロゲン化物錯
体[ＭＸ_m+n]の中心原子を構成する金属またはメタロイ
ドであり、例えばＢ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂ
ｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、
Ｍｎ、Ｃｏである。Ｚは、例えばＦ、Ｃｌ、Ｂｒ等のハ
ロゲン原子またはアリール基であり、ｍはハロゲン化物
錯体イオンの正味の電荷であり、ｎはＭの原子価であ
る。］

【００４９】Ｑ_s−〔Ｓ（＝Ｏ）₂−Ｒ⁶〕_t （４） ［一般式（４）中、Ｑは１価もしくは２価の有機基、Ｒ
⁶は炭素数１〜１２の１価の有機基、添え字ｓは０又は
１、添え字ｔは１又は２である。］

【００５０】まず、第１群の化合物であるオニウム塩
は、光を受けることにより酸性活性物質を放出すること
ができる化合物である。ここで、一般式（３）における
アニオン[ＭＺ_m+n]の具体例としては、テトラフルオロ
ボレート（ＢＦ₄ ^-）、ヘキサフルオロホスフェート（Ｐ
Ｆ₆ ^-）、ヘキサフルオロアンチモネート（ＳｂＦ₆ ^-）、
ヘキサフルオロアルセネート（ＡｓＦ₆ ^-）、ヘキサクロ
ルアンチモネート（ＳｂＣｌ₆ ^-）、テトラフェニルボレ
ート、テトラキス（トリフルオロメチルフェニル）ボレ
ート、テトラキス（ペンタフルオロメチルフェニル）ボ
レート等が挙げられる。

【００５１】また、一般式（３）におけるアニオン[Ｍ
Ｚ_m+n]の代わりに、一般式[ＭＺ_nＯＨ^-]で表されるアニ
オンを使用することも好ましい。さらに、過塩素酸イオ
ン（ＣｌＯ₄ ^-）、トリフルオロメタンスルフォン酸イオ
ン（ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-）、フルオロスルフォン酸イオン（Ｆ
ＳＯ₃ ^-）、トルエンスルフォン酸イオン、トリニトロベ
ンゼンスルフォン酸アニオン、トリニトロトルエンスル
フォン酸アニオン等の他のアニオンを有するオニウム塩
を使用することもできる。

【００５２】また、上述した第１群の化合物のうち、よ
り有効なオニウム塩は芳香族オニウム塩であり、特に好
ましくは下記一般式（５）で表されるジアリールヨード
ニウム塩である。 ［Ｒ⁷−Ａｒ¹−Ｉ⁺−Ａｒ²−Ｒ⁸］［Ｙ^-］ （５） ［一般式（５）中、 Ｒ⁷およびＲ⁸は、それぞれ１価の
有機基であり、同一でも異なっていてもよく、Ｒ⁷およ
びＲ⁸の少なくとも一方は炭素数が４以上のアルキル基
を有しており、Ａｒ¹およびＡｒ²はそれぞれ芳香族基で
あり、同一でも異なっていてもよく、Ｙ^-は１価の陰イ
オンであり、周期律表３族、５族のフッ化物陰イオンも
しくは、ＣｌＯ₄ ^-、ＣＦ₃−ＳＯ₃ ^-から選ばれる陰イオ
ンである。］

【００５３】このようなジアリールヨードニウム塩とし
ては、具体的に、（４−ｎ−デシロキシフェニル）フェ
ニルヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
〔４−（２−ヒドロキシ−ｎ−テトラデシロキシ）フェ
ニル〕フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネ
ート、〔４−（２−ヒドロキシ−ｎ−テトラデシロキ
シ）フェニル〕フェニルヨードニウム トリフルオロス
ルホネート、〔４−（２−ヒドロキシ−ｎ−テトラデシ
ロキシ）フェニル〕フェニルヨードニウム ヘキサフル
オロホスフェート、〔４−（２−ヒドロキシ−ｎ−テト
ラデシロキシ）フェニル〕フェニルヨードニウム テト
ラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（４
−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム ヘキサフルオロ
アンチモネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨー
ドニウム ヘキサフルオロフォスフェート、ビス（４−
ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム トリフルオロスル
ホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウ
ム テトラフルオロボレート、ビス（ドデシルフェニ
ル）ヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ビ
ス（ドデシルフェニル）ヨードニウム テトラフルオロ
ボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム ヘ
キサフルオロフォスフェート、ビス（ドデシルフェニ
ル）ヨードニウム トリフルオロメチルスルフォネート
等の１種または２種以上の組み合わせを挙げることがで
きる。

【００５４】なお、上述した第１群の化合物の市販品例
を示すと、サンエイドＳＩ−６０、ＳＩ−８０、ＳＩ−
１００、ＳＩ−６０Ｌ、ＳＩ−８０Ｌ、ＳＩ−１００
Ｌ、ＳＩ−Ｌ１４５、ＳＩ−Ｌ１５０、ＳＩ−Ｌ１６
０、ＳＩ−Ｌ１１０、ＳＩ−Ｌ１４７（以上、三新化学
工業（株）製）、ＵＶＩ−６９５０、ＵＶＩ−６９７
０、ＵＶＩ−６９７４、ＵＶＩ−６９９０（以上、ユニ
オンカーバイド社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５
０、ＳＰ−１５１、ＳＰ−１７０、ＳＰ−１７１（以
上、旭電化工業（株）製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ２６１
（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）、ＣＩ−２
４８１、ＣＩ−２６２４、ＣＩ−２６３９、ＣＩ−２０
６４（以上、日本曹達（株）製）、ＣＤ−１０１０、Ｃ
Ｄ−１０１１、ＣＤ−１０１２（以上、サートマー社
製）、ＤＳ−１００、ＤＳ−１０１、ＤＡＭ−１０１、
ＤＡＭ−１０２、ＤＡＭ−１０５、ＤＡＭ−２０１、Ｄ
ＳＭ−３０１、ＮＡＩ−１００、ＮＡＩ−１０１、ＮＡ
Ｉ−１０５、ＮＡＩ−１０６、ＳＩ−１００、ＳＩ−１
０１、ＳＩ−１０５、ＳＩ−１０６、ＰＩ−１０５、Ｎ
ＤＩ−１０５、ＢＥＮＺＯＩＮ ＴＯＳＹＬＡＴＥ、Ｍ
ＢＺ−１０１、ＭＢＺ−３０１、ＰＹＲ−１００、ＰＹ
Ｒ−２００、ＤＮＢ−１０１、ＮＢ−１０１、ＮＢ−２
０１、ＢＢＩ−１０１、ＢＢＩ−１０２、ＢＢＩ−１０
３、ＢＢＩ−１０９（以上、ミドリ化学（株）製）、Ｐ
ＣＩ−０６１Ｔ、ＰＣＩ−０６２Ｔ、ＰＣＩ−０２０
Ｔ、ＰＣＩ−０２２Ｔ（以上、日本化薬（株）製）、Ｉ
ＢＰＦ、ＩＢＣＦ（三和ケミカル（株）製）等を挙げる
ことができる。

【００５５】次に、第２群の化合物について説明する。
一般式（４）で表されるスルフォン酸誘導体の例を示す
と、ジスルホン類、ジスルホニルジアゾメタン類、ジス
ルホニルメタン類、スルホニルベンゾイルメタン類、イ
ミドスルホネート類、ベンゾインスルホネート類、１−
オキシ−２−ヒドロキシ−３−プロピルアルコールのス
ルホネート類、ピロガロールトリスルホネート類、ベン
ジルスルホネート類を挙げることができる。また、一般
式（４）の中でより好ましくはイミドスルホネート類で
あり、さらに好ましくはイミドスルホネートのうち、ト
リフルオロメチルスルホネート誘導体である。

【００５６】また、このようなスルホネート類の具体例
を挙げると、ジフェニルジスルホン、ジトシルジスルホ
ン、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス
（クロルフェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（キ
シリルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル
ベンゾイルジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルホ
ニル）メタン、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミド
メチルスルホネート、１，８−ナフタレンジカルボン
酸イミド トシルスルホネート、１，８−ナフタレンジ
カルボン酸イミド トリフルオロメチルスルホネート、
１，８−ナフタレンジカルボン酸イミド カンファース
ルホネート、コハク酸イミド フェニルスルホネート、
コハク酸イミド トシルスルホネート、コハク酸イミド
トリフルオロメチルスルホネート、コハク酸イミド
カンファースルフォネート、フタル酸イミド トリフル
オロスルホネート、シス−５−ノルボルネン−エンド−
２，３−ジカルボン酸イミド トリフルオロメチルスル
ホネート、ベンゾイントシラート、１，２−ジフェニル
−２−ヒドロキシプロピル トシラート、１，２−ジ
（４−メチルメルカプトフェニル）−２−ヒドロキシプ
ロピル トシラート、ピロガロール メチルスルホネー
ト、ピロガロール エチルスルホネート、２，６−ジニ
トロフェニルメチル トシラート、オルト−ニトロフェ
ニルメチル トシラート、パラ−ニトロフェニル トシ
ラートを挙げることができる。

【００５７】光酸発生剤の添加量 次に、光酸発生剤の添加量（含有割合）について説明す
る。かかる光酸発生剤の添加量は特に制限されるもので
はないが、（Ａ）成分１００重量部に対して、通常０．
１〜１５重量部の範囲内の値とするのが好ましい。光酸
発生剤の添加量が０．１重量部未満となると、光硬化性
が低下し、十分な硬化速度が得られない傾向がある。一
方、光酸発生剤の添加量が１５重量部を超えると、得ら
れる硬化物の耐候性や耐熱性が低下する傾向がある。し
たがって、光硬化性と得られる硬化物の耐候性等とのバ
ランスがより良好な観点から、光酸発生剤の添加量を、
（Ａ）成分１００重量部に対して１〜１０重量部の範囲
内の値とすることがより好ましい。

【００５８】（４）脱水剤 脱水剤の定義 脱水剤は、化学反応により水以外の物質に変換する化合
物、物理吸着または包接により、光硬化性および保存安
定性に影響を与えなくする化合物と定義される。すなわ
ち、このような脱水剤を含有することにより、光硬化性
組成物の耐候性や耐熱性を損なうことなく、保存安定性
や光硬化性という相反する特性を向上させることができ
る。この理由として、外部から侵入してくる水を、脱水
剤が有効に吸収するために光硬化性組成物の保存安定性
が向上し、一方、光硬化反応である縮合反応において
は、生成した水を順次に脱水剤が有効に吸収するために
光硬化性組成物の光硬化性が向上するためと考えられ
る。

【００５９】脱水剤の種類 次に、脱水剤の種類を説明する。かかる脱水剤の種類は
特に制限されるものでないが、有機化合物として、カル
ボン酸エステル、アセタール類（ケタール類を含
む。）、およびカルボン酸無水物からなる群から選択さ
れる少なくとも一つの化合物であることが好ましい。ま
た、無機化合物として、脱水機能を有するセラミック粉
体の使用も好ましい。これらの脱水剤は、優れた脱水効
果を示し、少量の添加で脱水剤の機能を効率的に発揮す
ることができる。

【００６０】また、脱水剤としてのカルボン酸エステル
は、カルボン酸オルトエステルやカルボン酸シリルエス
テル等の中から選ばれる。ここで、好ましいカルボン酸
オルトエステルとしては、オルト炭酸メチル、オルト炭
酸エチル、オルト炭酸プロピル、オルト炭酸ブチル、オ
ルト蟻酸メチル、オルト蟻酸エチル、オルト蟻酸プロピ
ル、オルト蟻酸ブチル、オルト酢酸メチル、オルト酢酸
エチル、オルト酢酸プロピル、オルト酢酸ブチル、オル
トプロピオン酸メチルおよびオルトプロピオン酸エチル
等が挙げられる。また、これらのカルボン酸オルトエス
テルのうち、より優れた脱水効果を示し、保存安定性や
光硬化性をより向上させることができる観点から、オル
ト蟻酸エステルが、本発明における脱水剤として特に好
ましい。また、好ましいカルボン酸シリルエステルとし
ては、酢酸トリメチルシリル、酢酸トリブチルシリル、
蟻酸トリメチルシリル、シュウ酸トリメチルシリル等が
挙げられる。

【００６１】なお、カルボン酸エステルのうち、カルボ
ン酸オルトエステルを使用することがより好ましい。カ
ルボン酸オルトエステルは、効率的に水を吸収し、自身
で加水分解することができる。また、カルボン酸オルト
エステルは加水分解して生成する化合物は中性である。
したがって、カルボン酸オルトエステルは、優れた脱水
効果を示し、保存安定性や光硬化性をより向上させるこ
とができる。

【００６２】また、好ましいアセタール類としては、例
えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセ
トアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒ
ド等のケトン類と、１価アルコールとの反応物であるジ
メチルアセタール、ジエチルアセタールおよびジプロピ
ルアセタール、あるいは、エチレングリコール等の２価
アルコールとケトン類とからなるアセタールおよびカル
ボン酸エステルのシリル化反応により製造されるケテン
シリルアセタール類を挙げることができる。そして、こ
れらのアセタール類のうち、アセトンジメチルアセター
ル、アセトンジエチルアセタール、メチルエチルケトン
ジメチルアセタール、メチルエチルケトンジメチルアセ
タール、シクロヘキサノンジメチルアセタールおよびシ
クロヘキサノンジエチルアセタールは、特に優れた脱水
効果を示し、保存安定性や光硬化性をより向上させるこ
とができる観点から本発明における脱水剤としての使用
に好ましい。

【００６３】また、好ましいカルボン酸無水物として
は、例えば、蟻酸無水物、無水酢酸、無水コハク酸、無
水マレイン酸、無水フタル酸、安息香酸無水物、酢酸安
息香酸無水物等が挙げられる。特に、無水酢酸および無
水コハク酸は、脱水効果に特に優れており好ましい。

【００６４】また、好ましい脱水機能を有するセラミッ
ク粉体としては、シリカゲル粒子、アルミナ粒子、シリ
カアルミナ粒子、活性白土、ゼオライト等が挙げられ
る。これらのセラミック粉体は、水に対して、強い親和
力を有しており、優れた脱水効果を発揮することができ
る。

【００６５】脱水剤の性状 次に、脱水剤の性状について説明する。まず、脱水剤
は、常温、常圧条件において、固体もしくは液体であ
り、光硬化性組成物中に溶解または分散して、脱水効果
を発揮する化合物から選ばれる。また、脱水剤が有機化
合物から選ばれる場合、その沸点（常圧条件下）を、４
０〜２００℃の範囲内の値とすることが好ましい。沸点
がこのような範囲内の値であれば、室温（２５℃）〜２
００℃の乾燥条件で効率的に揮発させることができる。
したがって、脱水剤を除去することが容易である。一
方、脱水剤が無機化合物から選ばれる場合、光硬化性樹
脂組成物の塗布性、透明性を損なわないように、均一に
分散して用いられる。

【００６６】脱水剤の添加量 次に、脱水剤の添加量について説明する。脱水剤の添加
量は特に制限されるものではないが、（Ａ）成分および
（Ｂ）成分の合計を１００重量部としたときに、通常、
０．１〜１００重量部の範囲内の値とするのが好まし
い。脱水剤の添加量が０．１重量部未満となると、添加
効果の発現に乏しい傾向があり、また、保存安定性や光
硬化性の向上効果が低い傾向がある。一方、脱水剤の添
加量が１００重量部を越えると、保存安定性や光硬化性
の向上効果が飽和する傾向がある。したがって、より好
ましくは、（Ａ）成分および（Ｂ）成分の合計を１００
重量部としたときに、脱水剤の添加量を０．５〜５０重
量部の範囲内の値とすることであり、さらに好ましく
は、１〜１０重量部の範囲内の値である。

【００６７】（５）添加剤 さらに必要に応じて各種の添加剤を含有することができ
る。このような添加剤としては、エポキシ樹脂、アクリ
ル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリ
ウレタン樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリクロロプレン
樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン
−ブタジエンブロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹
脂、ケトン樹脂、セルロース樹脂、フッ素系ポリマー、
シリコーン系ポリマー、ポリスルフィド系ポリマー等の
有機樹脂（ポリマーあるいはオリゴマー）、もしくはこ
れらの有機樹脂が加水分解性シリル基で置換された化合
物が挙げられる。また、その他の好ましい添加剤とし
て、フェノチアジン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メ
チルフェノール等の重合禁止剤；重合開始助剤；レベリ
ング剤；濡れ性改良剤；界面活性剤；可塑剤；紫外線吸
収剤；酸化防止剤；帯電防止剤；シランカップリング
剤；無機充填剤；顔料；染料等を挙げることもできる。

【００６８】（６）製造方法 本発明の光硬化性組成物は、上述した加水分解性シラン
化合物や脱水剤等を、常法にしたがって混合撹拌するこ
とにより、製造することができる。ただし、高粘度の光
硬化性組成物の製造においては、例えば、プロペラミキ
サー、プラネタリーミキサー、Ｖブレンダ、三本ロー
ル、ハイシェアミキサー等の混合機を使用することが好
ましい。

【００６９】（７）光硬化性樹脂組成物 性状 光硬化性樹脂組成物の粘度を、１〜１００００ｃｐｓ
（２５℃）の範囲内の値とするのが好ましい。この理由
は、粘度がこれらの範囲を超えると、均一な塗膜を形成
することが困難となる傾向があるためである。

【００７０】なお、光硬化性組成物の粘度は、有機溶媒
や反応性希釈剤の種類、あるいは有機溶媒等の配合量を
変更することにより、適宜調製することができる。この
ような有機溶媒としては、例えば、ｎ−ペンタン、ｉ−
ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｉ−ヘキサン、ｎ−ヘプタ
ン、ｉ−ヘプタン、２，２，４−トリメチルペンタン、
ｎ−オクタン、ｉ−オクタン、シクロヘキサン、メチル
シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒；ベンゼン、
トルエン、キシレン、エチルベンゼン、トリメチルベン
ゼン、メチルエチルベンゼン、ｎ−プロピルベンセン、
ｉ−プロピルベンセン、ジエチルベンゼン、ｉ−ブチル
ベンゼン、トリエチルベンゼン、ジ−ｉ−プロピルベン
セン、ｎ−アミルナフタレン、トリメチルベンゼン等の
芳香族炭化水素系溶媒；メタノール、エタノール、ｎ−
プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ
−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、
ｎ−ペンタノール、ｉ−ペンタノール、２−メチルブタ
ノール、ｓｅｃ−ペンタノール、ｔ−ペンタノール、３
−メトキシブタノール、ｎ−ヘキサノール、２−メチル
ペンタノール、ｓｅｃ−ヘキサノール、２−エチルブタ
ノール、ｓｅｃ−ヘプタノール、ヘプタノール−３、ｎ
−オクタノール、２−エチルヘキサノール、ｓｅｃ−オ
クタノール、ｎ−ノニルアルコール、２，６−ジメチル
ヘプタノール−４、ｎ−デカノール、ｓｅｃ−ウンデシ
ルアルコール、トリメチルノニルアルコール、ｓｅｃ−
テトラデシルアルコール、ｓｅｃ−ヘプタデシルアルコ
ール、フェノール、シクロヘキサノール、メチルシクロ
ヘキサノール、３，３，５−トリメチルシクロヘキサノ
ール、ベンジルアルコール、フェニルメチルカルビノー
ル、ジアセトンアルコール、クレゾール等のモノアルコ
ール系溶媒；エチレングリコール、１，２−プロピレン
グリコール、１，３−ブチレングリコール、ペンタンジ
オール−２，４、２−メチルペンタンジオール−２，
４、ヘキサンジオール−２，５、ヘプタンジオール−
２，４、２−エチルヘキサンジオール−１，３、ジエチ
レングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレ
ングリコール、トリプロピレングリコール、グリセリン
等の多価アルコール系溶媒；アセトン、メチルエチルケ
トン、メチル−ｎ−プロピルケトン、メチル−ｎ−ブチ
ルケトン、ジエチルケトン、メチル−ｉ−ブチルケト
ン、メチル−ｎ−ペンチルケトン、エチル−ｎ−ブチル
ケトン、メチル−ｎ−ヘキシルケトン、ジ−ｉ−ブチル
ケトン、トリメチルノナノン、シクロヘキサノン、メチ
ルシクロヘキサノン、２，４−ペンタンジオン、アセト
ニルアセトン、ジアセトンアルコール、アセトフェノ
ン、フェンチョン等のケトン系溶媒；エチルエーテル、
ｉ−プロピルエーテル、ｎ−ブチルエーテル、ｎ−ヘキ
シルエーテル、２−エチルヘキシルエーテル、エチレン
オキシド、１，２−プロピレンオキシド、ジオキソラ
ン、４−メチルジオキソラン、ジオキサン、ジメチルジ
オキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコ
ールジエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−
ブチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ヘキシ
ルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテ
ル、エチレングリコールモノ−２−エチルブチルエーテ
ル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール
モノエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノ−ｎ−ヘキシルエーテル、エト
キシトリグリコール、テトラエチレングリコールジ−ｎ
−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレン
グリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエ
チルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロ
フラン等のエーテル系溶媒；ジエチルカーボネート、酢
酸メチル、酢酸エチル、γ−ブチロラクトン、γ−バレ
ロラクトン、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢
酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、酢酸ｓｅｃ−ブチル、
酢酸ｎ−ペンチル、酢酸ｓｅｃ−ペンチル、酢酸３−メ
トキシブチル、酢酸メチルペンチル、酢酸２−エチルブ
チル、酢酸２−エチルヘキシル、酢酸ベンジル、酢酸シ
クロヘキシル、酢酸メチルシクロヘキシル、酢酸ｎ−ノ
ニル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、酢酸エチ
レングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチレングリ
コールモノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリコール
モノメチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノエ
チルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブ
チルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、酢酸プロピレングリコールモノプロピルエーテル、
酢酸プロピレングリコールモノブチルエーテル、酢酸ジ
プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジプロ
ピレングリコールモノエチルエーテル、ジ酢酸グリコー
ル、酢酸メトキシトリグリコール、プロピオン酸エチ
ル、プロピオン酸ｎ−ブチル、プロピオン酸ｉ−アミ
ル、シュウ酸ジエチル、シュウ酸ジ−ｎ−ブチル、乳酸
メチル、乳酸エチル、乳酸ｎ−ブチル、乳酸ｎ−アミ
ル、マロン酸ジエチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジ
エチル等のエステル系溶媒；Ｎ−メチルホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホル
ムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオン
アミド、Ｎ−メチルピロリドン等の含窒素系溶媒；硫化
ジメチル、硫化ジエチル、チオフェン、テトラヒドロチ
オフェン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、１，３
−プロパンスルトン等の含硫黄系溶媒等の１種単独ある
いは２種以上の組合わせを挙げることができる。

【００７１】コーティング方法 本発明の光硬化性組成物を使用する場合、まず、基材
（適用部材）にコーテイングする方法が一般に採られ
る。ここで、光硬化性組成物のコーテイング方法として
は、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロー
ルコート法、スピンコート法、カーテンコート法、グラ
ビア印刷法、シルクスクリーン法、またはインクジェッ
ト法等の方法を用いることができる。また、各種コーテ
イング方法に適したレオロジー特性に調製するため、必
要に応じて、各種レベリング剤、チクソ付与剤、フィラ
ー、有機溶媒、界面活性剤等を配合することも好まし
い。

【００７２】光照射 本発明の光硬化性組成物に光を照射する手段としては、
特に制限されるものではなく、種々の手段を採用するこ
とができる。例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ラン
プ、メタルハライドランプ、エキシマーランプ等の光源
を用いて、塗膜全面に光照射することができる。また、
レーザ光、あるいはレンズ、ミラー等を用いて得られた
収束光等を走査させながら光硬化性組成物に照射するこ
ともできる。さらに、所定のパターンの光透過部を有す
るマスクを用い、このマスクを介して非収束光を組成物
に照射したり、あるいは、多数の光ファイバーを束ねて
なる導光部材を用い、この導光部材における所定のパタ
ーンに対応する光ファイバーを介して光を組成物に照射
することもできる。

【００７３】また、光硬化させて得られた硬化膜は必要
に応じて、さらに加熱することができる。その場合、通
常、室温から基材もしくは塗膜の分解開始温度以下で、
５分〜７２時間加熱するのが好ましい。このように光硬
化後に、さらに加熱することにより、より耐熱性や耐候
性に優れた硬化膜を得ることができる。

【００７４】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明
はこれら実施例の記載に限定されるものではない。ま
た、実施例中、各成分の配合量は特に記載のない限り重
量部を意味している。

【００７５】［実施例１］ （光硬化性組成物の作製）撹拌機付の容器内に、フェニ
ルトリメトキシシラン（１０１．２ｇ、０．５１モル）
と、電気伝導率が８×１０^-5Ｓ・ｃｍ^-1のイオン交換水
（１４．８ｇ、０．８２モル）とを収容した後、温度６
０℃、６時間の条件で加熱撹拌することにより、フェニ
ルトリメトキシシランの加水分解を行った。次いで、メ
チルイソブチルケトン（以下、ＭＩＢＫと略記）を滴下
しながら、加水分解により副生したメタノールを蒸留除
去した。そして、最終的に固形分を２２重量％に調整し
て、本発明の（Ａ）成分であるポリシロキサンを含有す
る溶液（以下、ポリシロキサン１と称する。）を得た。
得られたポリシロキサン１について、ＧＰＣを用いてポ
リスチレン換算の重量平均分子量を測定したところ、１
５００という値が得られた。

【００７６】また、窒素置換した攪拌機付きの容器内
に、テトラブトキシチタン（１２９．３ｇ、０．３８モ
ル）を収容した後、温度８５℃で加熱撹拌下、電気伝導
度が８×１０^-5Ｓ・ｃｍ^-1のイオン交換水（１３．１
ｇ、０．７３モル）をブチルアルコール２５７．５ｇに
溶解したものを滴下ロートより１時間かけて滴下後、温
度８５℃、２時間加熱撹拌を行った。次いで、ロータリ
ーエバポレータを用いて、溶媒および加水分解により副
生したブチルアルコールを除去することで６３．４ｇの
白色結晶を得た。そして、メチルイソブチルケトン（以
下、ＭＩＢＫと略記）を加えて、最終的に固形分を２２
重量％に調製して、本発明の（Ｂ）成分であるポリチタ
ノキサンを含有する溶液（以下、ポリチタノキサン１と
称する。）を得た。

【００７７】次いで、ポリシロキサン１（固形分および
溶剤）２６重量部と、ポリチタノキサン１（固形分およ
び溶剤）７４重量部と、光酸発生剤としての［４−（２
−ヒドロキシ−ｎ−テトラデシロキシ）フェニル］フェ
ニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート ０．
７重量部と、脱水剤であるオルト蟻酸メチル（ＯＦＭ）
３．０重量部とをそれぞれ均一に混合して、光硬化性組
成物を得た。なお、表１中、ポリシロキサン１（Ｐ−Ｐ
ＴＭＳ）、およびポリチタノキサン１（Ｐ−ＴＢＴ）と
表記してあるが、それぞれ（Ａ）成分であるポリシロキ
サンを含有する溶液および（Ｂ）成分であるポリチタキ
サンを含有する溶液を意味している。

【００７８】（光硬化性組成物の評価） （１）光硬化性 得られた光硬化性組成物を大気条件下、石英板上に回転
塗布し、厚さが０．３μｍとなるように塗膜を形成し
た。形成した塗膜に対して、大気下、温度２５℃で、そ
れぞれ露光量が１００ｍＪ／ｃｍ²（照射時間１秒）、
２００ｍＪ／ｃｍ²（照射時間２秒）、および３００ｍ
Ｊ／ｃｍ²（照射時間３秒）となるように、オーク製作
所（株）製のコンベア式高圧水銀ランプ（２ｋＷ）を用
いて紫外線を照射し、硬化膜を形成した。得られた硬化
膜につき、指触で表面タックを測定し、以下の基準で光
硬化性を評価した。結果を表１に示す。 ◎：１００ｍＪ／ｃｍ²露光後、硬化膜の表面タックが
ない。 ○：２００ｍＪ／ｃｍ²露光後、硬化膜の表面タックが
ない。 △：３００ｍＪ／ｃｍ²露光後、硬化膜の表面タックが
ない。 ×：３００ｍＪ／ｃｍ²露光後、硬化膜の表面タックが
ある。

【００７９】（２）屈折率 光硬化性組成物をシリコンウエハー上に回転塗布した
後、前記コンベア式高圧水銀ランプを用いて、露光量が
２００ｍＪ／ｃｍ²となるように紫外線を照射し、厚さ
０．１５μｍの硬化膜を形成した。得られた硬化膜にお
ける６３３ｎｍにおける屈折率を、エリプソメーターを
用いて測定した。その結果、１．７００という高い屈折
率の値が得られた。

【００８０】（３）透明性 光硬化性組成物を石英板上に回転塗布した後、前記コン
ベア式高圧水銀ランプを用いて、露光量が２００ｍＪ／
ｃｍ²となるように紫外線を照射し、厚さ０．３μｍの
硬化膜を形成した。次いで、分光光度計を用いて、波長
５５０ｎｍにおける光透過率（Ｔ／％）を測定し、得ら
れた光透過率から以下の基準で透明性（光透過性）を評
価した。結果を表１に示す。 ○：光透過率が９５％以上の値である。 △：光透過率が８０〜９５％未満の値である。 ×：光透過率が８０％未満の値である。

【００８１】（４）耐熱性 光硬化性組成物をシリコンウエファー上に回転塗布した
後、前記コンベア式高圧水銀ランプを用いて、露光量が
２００ｍＪ／ｃｍ²となるように紫外線を照射し、厚さ
５μｍの硬化膜を形成した。得られた硬化膜を、２５０
℃と４００℃の熱風乾燥機中に１時間保管した後、倍率
５０倍の顕微鏡を用いて、塗膜外観の異常の有無から以
下の基準で耐熱性を評価した。結果を表１に示す。 ◎：４００℃の加熱でクラックが見られない。 ○：２５０℃の加熱でクラックが見られない。 ×：２５０℃の加熱でクラックが観察される。

【００８２】（５）紫外線遮蔽性 光硬化性組成物を石英板上に回転塗布した後、前記コン
ベア式高圧水銀ランプを用いて、露光量が２００ｍＪ／
ｃｍ²となるように紫外線を照射し、厚さ０．３μｍの
硬化膜を形成した。次いで、分光光度計を用いて、波長
３２０ｎｍにおける光透過率（Ｔ／％）を測定し、得ら
れた光透過率から以下の基準で紫外線遮蔽性を評価し
た。結果を表１に示す。 ○：光透過率が２０％未満の値である。 △：光透過率が２０以上〜５０％未満の値である。 ×：光透過率が５０％以上の値である。

【００８３】（６）保存安定性 光硬化性組成物を温度４０℃で１ヶ月間および３ヶ月間
保管した後、目視で外観変化（粘度増加）を測定し、さ
らに上記（１）の光硬化性を測定して、以下の基準で保
存安定性を評価した。結果を表１に示す。 ◎：３ヶ月経過後も、外観変化や光硬化性の変化は観察
されない。 ○：１ヶ月経過後も、外観変化や光硬化性の変化は観察
されない。 ×：１ヶ月経過後に、外観変化あるいは光硬化性の低下
が観察される。

【００８４】表１に示す結果から理解されるように、実
施例１の光硬化性組成物は、優れた光硬化性および優れ
た保存安定性を有することが確認された。また、得られ
た硬化膜は、高い屈折率を有しており、さらには、優れ
た透明性、耐熱性および紫外線遮蔽性を有していること
も確認された。

【００８５】［実施例２〜４］ （光硬化性組成物の作製）実施例２〜４においては、表
１に示す配合割合で以て、ポリシロキサン１（Ｐ−ＰＴ
ＭＳ）とポリチタノキサン１（Ｐ−ＴＢＴ）とを混合し
て光硬化性組成物の作製し、屈折率の値等への影響を検
討した。すなわち、実施例２においては、ポリシロキサ
ン１ ３２重量部と、ポリチタノキサン１ ６８重量部
と、光酸発生剤としてのＮＤＩ−１０５（ミドリ化学
（株）製）０．７重量部と、オルト蟻酸メチル３．０重
量部とを均一に混合して、光硬化性組成物を得た。ま
た、実施例３においては、ポリシロキサン１ ４１重量
部と、ポリチタノキサン１ ５９重量部と、上記ＮＤＩ
−１０５ ０．７重量部と、オルト蟻酸メチル３．０重
量部とを均一に混合して、光硬化性組成物を得た。さら
に、実施例４においては、ポリシロキサン１ ５６重量
部と、ポリチタノキサン１ ４４重量部と、上記ＮＤＩ
−１０５ ０．７重量部と、オルト蟻酸メチル３．０重
量部とを均一に混合して、光硬化性組成物を得た。

【００８６】（光硬化性組成物の評価）得られた光硬化
性組成物における光硬化性や、硬化膜における屈折率等
を、実施例１と同様に測定した。結果を表１に示す。表
１に示す結果から理解されるように、実施例２〜４の光
硬化性組成物（硬化膜）は、わずかな配合比の変化によ
り、幅広い範囲（１．６〜１．７）で屈折率を変更でき
ることが確認された。なお、実施例２〜４の屈折率に関
する結果を、実施例１の結果を含めて、図１中に点線で
示す。

【００８７】図１は、横軸に、光硬化性組成物中のポリ
チタノキサン量（（Ｐ−ＴＢＴ）／（Ｐ−ＰＴＭＳ＋Ｐ
−ＴＢＴ）×１００、重量％）を採って示しており、縦
軸に屈折率の値（−）を採って示してある。図１中の点
線から理解されるように、ポリチタノキサン量が多くな
る程、屈折率の値は徐々に大きくなり、特に、４０重量
％を超えたあたりから屈折率の値が大きく変化してい
る。したがって、実施例１〜４の光硬化性組成物（硬化
膜）においては、フェニルトリメトキシシランからなる
ポリシロキサン１と、テトラブトキシチタンからなるポ
リチタノキサン１との混合比率を変えることだけで、
１．６０以上の比較的高い値に、屈折率の値を容易に変
更することができることが確認された。

【００８８】なお、実施例２〜４の光硬化性組成物（硬
化膜）は、実施例１の光硬化性組成物と同様に、優れた
光硬化性および保存安定性を有しており、さらには、得
られた硬化膜は、優れた透明性、耐熱性および紫外線遮
蔽性を有していることも確認された。

【００８９】［実施例５〜７］ （光硬化性組成物の作製）実施例１のフェニルトリメト
キシシランの代わりに、メチルトリメトキシシランを使
用したほかは、実施例１と同様に、ポリシロキサン溶液
（ポリシロキサン２と称する。）を作製した。次いで、
ポリシロキサン２と、ポリチタノキサン１とを、混合比
率を変えて、実施例５〜７の光硬化性組成物を作製し
た。

【００９０】すなわち、実施例５においては、ポリシロ
キサン２ ３０重量部と、ポリチタノキサン１ ７０重
量部と、上記ＮＤＩ−１０５ ０．７重量部と、オルト
蟻酸メチル３．０重量部とを均一に混合して、光硬化性
組成物を得た。また、実施例６においては、ポリシロキ
サン２ ５６重量部と、ポリチタノキサン１ ４４重量
部と、上記ＮＤＩ−１０５ ０．７重量部と、オルト蟻
酸メチル３．０重量部とを均一に混合して、光硬化性組
成物を得た。さらに、実施例７においては、ポリシロキ
サン２ ７９重量部と、ポリチタノキサン１ ２１重量
部と、上記ＮＤＩ−１０５ ０．７重量部と、オルト蟻
酸メチル３．０重量部とを均一に混合して、光硬化性組
成物を得た。

【００９１】（光硬化性組成物の評価）実施例１と同様
に、実施例５〜７の光硬化性組成物につき、光硬化性や
保存安定性等の評価を行った。また、硬化膜の屈折率に
ついても、実施例１と同様に測定した。得られた結果を
表１および図１中に実線で示す。表１の結果から理解さ
れるように、加水分解性シラン化合物の種類を変えて
も、光硬化性組成物における、優れた保存安定性や光硬
化性が得られることが確認された。また、硬化膜におけ
る屈折率についても、図１中の実線から理解されるよう
に、メチルトリメトキシシランからなるポリシロキサン
２と、テトラブトキシチタンからなるポリチタノキサン
１との混合比率を変えることだけで、１．６０未満の比
較的低い値に、屈折率の値を容易に変更することができ
ることが確認された。

【００９２】なお、実施例５〜７の光硬化性組成物（硬
化膜）は、実施例１の光硬化性組成物と同様に、優れた
光硬化性および保存安定性を有しており、さらには、得
られた硬化膜は、優れた透明性、耐熱性および紫外線遮
蔽性を有していることも確認された。

【００９３】［比較例１および２］ （光硬化性組成物の作製）比較例１および２において
は、実施例１〜７と異なりポリチタノキサン１を混合し
ないで、光硬化性組成物を作製した。

【００９４】（光硬化性組成物の評価）実施例１と同様
に、得られた光硬化性組成物につき、光硬化性や保存安
定性等の評価を行った。また、硬化膜の屈折率等につい
ても、実施例１と同様に測定した。それぞれの結果を表
１に示す。結果から理解されるように、比較例１および
２においては、紫外線遮蔽性に乏しいことが確認され
た。

【００９５】［比較例３］ （組成物の作製）比較例３においては、表１に示すよう
に、ポリシロキサン１、２を使用せず、ポリチタノキサ
ン１のみを使用して組成物を作製した。すなわち、比較
例３においては、実施例１と同様にして、ポリチタノキ
サン溶液１を作製し、次いで、得られたポリチタノキサ
ン１ １００重量部と、オルト蟻酸メチル３．０重量部
と、光酸発生剤として、［４−（２−ヒドロキシ−ｎ−
テトラデシロキシ）フェニル］フェニルヨードニウムヘ
キサフルオロアンチモネート ０．７重量部とを均一に
混合して組成物を得た。

【００９６】（組成物の評価）実施例１と同様に、得ら
れた組成物の屈折率および光硬化性について、実施例１
と同様に測定した。結果を表１に示す。結果から理解さ
れるように、ポリチタノキサン１のみから得られた組成
物は光硬化させることができなかった。

【００９７】

【表１】

【００９８】

【発明の効果】本発明の光硬化性組成物から得られる硬
化膜によれば、硬化膜の屈折率を広範囲（例えば、１．
４〜１．９）に変更することが可能になった。また、光
硬化性組成物から得られる硬化膜によれば、優れた透明
性、耐熱性および紫外線遮蔽性を有していることも確認
された。したがって、本発明の硬化膜は、反射防止膜、
高反射膜、選択透過膜、光導波路、光スイッチング、光
学レンズ等の光学材料の用途に好適に使用することがで
きる。

【００９９】また、本発明の光硬化性組成物によれば、
光硬化性に優れており、短時間かつ常温で光硬化させる
ことができるため、プラスチック等の耐熱性の低い基材
に対しても適用できるようになった。また、本発明の光
硬化性組成物は保存安定性にも優れており、使い勝手が
良好になった。したがって、本発明の光硬化性組成物
は、塗料、サイジング材、ハードコーテイング剤、汚染
防止膜、保護膜、繊維の被覆強化材料、光学的立体造形
用樹脂、半導体用封止剤、半導体用絶縁膜、接着剤、印
刷板材料等の用途に好適に使用することができる。

【０１００】さらに、本発明の光硬化性組成物におい
て、脱水剤をさらに添加することにより、光硬化速度や
保存安定性をより向上させることができるようになっ
た。

【図面の簡単な説明】

【図１】ポリチタノキサン含量と、屈折率との関係を示
す図である。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｄ 183/04 Ｃ０９Ｄ 183/04 Ｃ０９Ｊ 183/04 Ｃ０９Ｊ 183/04

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有すること
   を特徴とする光硬化性組成物。 （Ａ）一般式（１）で表される加水分解性シラン化合
   物、その加水分解物およびその縮合物からなる群から選
   択される少なくとも一つの化合物 （Ｒ¹）_PＳｉ（Ｘ）_4-P （１） ［一般式（１）中、Ｒ¹は炭素数が１〜１２である非加
   水分解性の有機基、Ｘは加水分解性基、およびｐは０〜
   ３の整数である。］ （Ｂ）一般式（２）で表される加水分解性チタン化合
   物、その加水分解物およびその縮合物からなる群から選
   択される少なくとも一つの化合物 Ｔｉ（Ｙ）₄ （２） ［一般式（２）中、Ｙは加水分解性基である。］ （Ｃ）光酸発生剤
2. 【請求項２】 （Ｄ）成分として、脱水剤をさらに含有
   することを特徴とする請求項１に記載の光硬化性組成
   物。
3. 【請求項３】 前記（Ｂ）成分の添加量を、（Ａ）成分
   ／（Ｂ）成分の重量比で、１／９９〜９９／１の範囲内
   の値とすることを特徴とする請求項１または２に記載の
   光硬化性組成物。
4. 【請求項４】 請求項１〜３のいずれか一項に記載の光
   硬化性組成物を光硬化してなる硬化膜。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の硬化膜において、チタ
   ン含有量を０．１〜５０重量％の範囲内の値とすること
   を特徴とする硬化膜。
6. 【請求項６】 請求項４または５に記載の硬化膜におい
   て、屈折率（温度２５℃、波長５８９ｎｍ、ナトリウム
   Ｄ線使用）を１．６以上の値とすることを特徴とする硬
   化膜。