JP2013500500A - フッ素化ハイブリッド組成物を含有する物品 - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 64
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 54
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 44
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 37
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims abstract description 19
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 18
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 claims abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 39
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 27
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 12
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 7
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 4
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 claims description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 claims description 3
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 claims description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 3
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 3
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000010701 perfluoropolyalkylether Substances 0.000 claims description 2
- VDRSDNINOSAWIV-UHFFFAOYSA-N [F].[Si] Chemical compound [F].[Si] VDRSDNINOSAWIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 abstract description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 abstract description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 25
- -1 cyclic acetals Chemical class 0.000 description 20
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 18
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 13
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 13
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 11
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 11
- 229920001973 fluoroelastomer Polymers 0.000 description 10
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 9
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 6
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 6
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 6
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 5
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 4
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BWTMTZBMAGYMOD-UHFFFAOYSA-N (2,2,3,3,4,4,5,5-octafluoro-6-prop-2-enoyloxyhexyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)COC(=O)C=C BWTMTZBMAGYMOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)CCOC(=O)C=C FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002449 FKM Polymers 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical group C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- BLTXWCKMNMYXEA-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoro-2-(trifluoromethoxy)ethene Chemical compound FC(F)=C(F)OC(F)(F)F BLTXWCKMNMYXEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical group FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N diiodomethane Chemical compound ICI NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical group FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000002924 oxiranes Chemical class 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N stibanylidynetin;hydrate Chemical compound O.[Sn].[Sb] SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 150000003628 tricarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000001124 (E)-prop-1-ene-1,2,3-tricarboxylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- QAERDLQYXMEHEB-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3,3-pentafluoroprop-1-ene Chemical group FC(F)=CC(F)(F)F QAERDLQYXMEHEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003923 2,5-pyrrolediones Chemical class 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 1
- 229920004943 Delrin® Polymers 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INXWLSDYDXPENO-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CO)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C INXWLSDYDXPENO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHGFXGSMYLFWEC-UHFFFAOYSA-N [SiH4].CC(=C)C(O)=O Chemical group [SiH4].CC(=C)C(O)=O AHGFXGSMYLFWEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVNZZHUXIYWJAH-UHFFFAOYSA-N [SiH4].O1C(NCC1)=O Chemical group [SiH4].O1C(NCC1)=O PVNZZHUXIYWJAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NBJODVYWAQLZOC-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(octanoyloxy)stannyl] octanoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCC NBJODVYWAQLZOC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229940091181 aconitic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical group 0.000 description 1
- HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N acryloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C=C HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- JYMITAMFTJDTAE-UHFFFAOYSA-N aluminum zinc oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Al+3].[Zn+2] JYMITAMFTJDTAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- GTZCVFVGUGFEME-IWQZZHSRSA-N cis-aconitic acid Chemical compound OC(=O)C\C(C(O)=O)=C\C(O)=O GTZCVFVGUGFEME-IWQZZHSRSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000012718 coordination polymerization Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical group 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N dibutyltin Chemical compound CCCC[Sn]CCCC AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N ethenamine Chemical compound NC=C UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000004446 fluoropolymer coating Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- BHPYRDLULHDSET-UHFFFAOYSA-N methoxymethane;prop-2-enoic acid Chemical compound COC.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C BHPYRDLULHDSET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- AHKKZIUZTWZKDR-UHFFFAOYSA-N n-[bis(dimethylamino)-methylsilyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)[Si](C)(N(C)C)N(C)C AHKKZIUZTWZKDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N n-propan-2-ylprop-2-enamide Chemical compound CC(C)NC(=O)C=C QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical group 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- ARJOQCYCJMAIFR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(=O)C=C ARJOQCYCJMAIFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 150000004819 silanols Chemical class 0.000 description 1
- 125000005371 silicon functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000007655 standard test method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N succinimide Chemical class O=C1CCC(=O)N1 KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- GTZCVFVGUGFEME-UHFFFAOYSA-N trans-aconitic acid Natural products OC(=O)CC(C(O)=O)=CC(O)=O GTZCVFVGUGFEME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- MLXDKRSDUJLNAB-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F MLXDKRSDUJLNAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVQYIDJXNYHKRK-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F BVQYIDJXNYHKRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- OWOMRZKBDFBMHP-UHFFFAOYSA-N zinc antimony(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[Sb+3] OWOMRZKBDFBMHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Abstract
Description
b)約600〜約100,000の重量平均分子量を有し、任意選択的に反応性官能基を有するフッ素およびケイ素含有ポリマーを含む約0〜約95重量%の成分(II);
c)約600未満の重量平均分子量を有し、そして少なくとも1つの官能基を有する反応性希釈剤を含む約5〜約99.9重量%の成分(III);
d)約10,000未満の数平均分子量を有するフッ素含有の非官能性オリゴマーまたはポリマーを含む約0〜約20重量%の成分(IV);ならびに
e)無機粒子を含む約0〜約80重量%の成分(V);
を含む組成物の反応生成物でコートされた基材を含む物品であって、
組成物の約0.1〜約95重量%が成分(I)および成分(II)の1つまたは両方であり、組成物の約5〜約99.9重量%が成分(III)であり、組成物の残りが成分(IV)〜(V)の1つまたは両方であり、ここで、重量百分率はすべて成分(I)〜(V)の総重量を基準としており、そしてただし両方が存在するとき成分(I)は成分(IV)と同一ではない物品が本明細書において記載される。
反応性希釈剤、および任意選択的に非反応性オリゴマーフルオロ添加物、架橋剤、または無機粒子とともに、フルオロポリマーまたはフルオロおよびケイ素ポリマーを含む組成物であって、特に光学用途において、トップコートとして有用な接着性、機械的特性、耐引っ掻き性、低い表面エネルギー、撥性、および透明性の良好なバランスを、硬化すると、コーティングに提供する組成物、この組成物を含むコーティング付きの物品、およびコーティングの方法が本明細書において開示される。
b)約600〜約100,000の重量平均分子量を有し、任意選択的に反応性官能基を有するフッ素およびケイ素含有ポリマーを含む約0〜約95重量%の成分(II);
c)約600未満の重量平均分子量を有し、そして少なくとも1つの官能基を有する反応性希釈剤を含む約5〜約99.9重量%の成分(III);
d)約10,000未満の数平均分子量を有するフッ素含有の非官能性オリゴマーまたはポリマーを含む約0〜約20重量%の成分(IV);ならびに
e)無機粒子を含む約0〜約80重量%の成分(V)
を含む組成物であって、
組成物の約0.1〜約95重量%が成分(I)および成分(II)の1つまたは両方であり、組成物の約5〜約99.9重量%が成分(III)であり、組成物の残りが成分IVおよびVの1つまたは両方であり、ここで、重量百分率はすべて成分(I)〜(V)の総重量を基準としており、そしてただし両方が存在するとき成分(I)は成分(IV)と同一ではない組成物が本明細書において記載される。
成分(I)は、約600〜約100,000の重量平均分子量を有する、任意選択的に反応性官能基を有するフッ素含有ポリマーを含む。フルオロポリマーとしても知られる、「フッ素含有ポリマー」とは、ハロゲンおよび水素原子の総数の少なくとも10%がフッ素原子であるポリマーを意味する。本出願の目的のためには、フッ素含有ポリマーは、フルオロオレフィン(たとえば、フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン、およびヘキサフルオロプロピレン)、(メタ)アクリル酸の部分もしくは完全フッ素化アルキルエステル誘導体、ならびに部分もしくは完全フッ素化ビニルエーテルを含むフッ素含有ビニルモノマーから得られる。この観点から、フッ素含有ビニルモノマーは、生じた、任意選択的に架橋性の、ポリマーにおいて、約10重量%〜約70重量%、または約30重量%から約50重量%までのフッ素含有率%を与えるために一般に使用される。
成分(II)は、上に定義されたように、約600〜約100,000の重量平均分子量を有する、任意選択的に反応性官能基を有するフッ素およびケイ素含有ポリマーを含む。「フッ素およびケイ素含有ポリマー」とは、さらに1つ以上のケイ素官能基またはケイ素非反応性基を含有する、上に定義されたようなフッ素含有ポリマー、または低分子量フッ素含有置換基/セグメントを有するポリマー主鎖中にケイ素を含有するポリマーを意味する。
で表される。典型的にはAはヒドロキシル、シラン、アミン、不飽和モノカルボン酸、またはエチレン系不飽和基である。より典型的にはAはヒドロキシルまたは−CH=CH2である。
成分(III)は、約600未満の重量平均分子量を有し、そして少なくとも1つの官能基を有する反応性希釈剤を含む。
成分(IV)は、約10,000未満の数平均分子量を有するフッ素含有の非官能性オリゴマーまたはポリマーを含む。「フッ素含有の非官能性オリゴマーまたはポリマー」とは、約10,000未満の重量平均分子量に限定される、そして官能基をまったく持たないフッ素含有オリゴマーまたはポリマーを意味する。フッ素含有オリゴマーは、フルオロオレフィン(たとえば、フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン、およびヘキサフルオロプロピレン)、(メタ)アクリル酸の部分もしくは完全フッ素化アルキルエステル誘導体、および部分もしくは完全フッ素化ビニルエーテルを含むフッ素含有ビニルモノマーから得られる。フッ素含有ビニルモノマーは、生じた、任意選択的に架橋性のポリマー中に、約10重量%、または約30重量%、または約50重量%から約50重量%、または約70重量%、または約90重量%までのフッ素含有率を与えるために一般に使用される。好適なオリゴマーまたはポリマーの一実施形態は、パーフルオロポリアルキルエーテルとも呼ばれる、パーフルオロポリエーテルである。別の実施形態は、化学構造:F−(CF(CF3)−CF2−O)n−CF2CF3(式中、nは約10〜約60である)のオリゴマーである。好適な一例は、Krytox(登録商標)フッ素化オイル(E.I.du Pont de Nemours and Company,Wilmington,DEから入手可能な)のクラスである。
成分(V)は無機粒子を含む。
本発明の別の態様は、上記の組成物を含むコーティングである。
(i)約600〜約100,000の重量平均分子量を有し、任意選択的に反応性官能基を有するフッ素含有ポリマーを含む約0〜約95重量%の成分(I);
(ii)約600〜約100,000の重量平均分子量を有し、任意選択的に反応性官能基を有するフッ素およびケイ素含有ポリマーを含む約0〜約95重量%の成分(II);
(iii)約600未満の重量平均分子量を有し、そして少なくとも1つの官能基を有する反応性希釈剤を含む約5〜約99.9重量%の成分(III);
(iv)約10,000未満の数平均分子量を有するフッ素含有の非官能性オリゴマーまたはポリマーを含む約0〜約20重量%の成分(IV);ならびに
(v)無機粒子を含む約0〜約80重量%の成分(V)
を含み、
ここで、コーティング組成物の約0.1〜約95重量%が成分(I)および成分(II)の1つまたは両方であり、コーティング組成物の約5〜約99.9重量%が成分(III)であり、コーティング組成物の残りが成分(IV)および(V)の1つまたは両方であり、ここで、重量百分率はすべて成分(I)〜(V)の総重量を基準としており、そしてただし両方が存在するとき成分(I)は成分(IV)と同一ではない工程と;
b)コーティング組成物を基材に塗布する工程と;
c)任意選択的に、溶媒をコーティング組成物から少なくとも部分的に除去する工程と;
d)コーティング組成物を硬化させる工程と
を含む、基材上のコーティングの製造方法が本明細書において記載される。
本発明の別の態様は、本組成物の反応生成物でコートされた基材、または、上記のような、乾燥したおよび硬化したコーティング、ならびに前記基材を含む物品である。
本発明の反射防止コーティングでコートされた基材フィルムの3.7cm×7.5cm片を、背面反射を防ぐために、捕捉気泡を排除するやり方で、黒色PVC絶縁用テープ(日東電工、PVCプラスチックテープ#21)のストリップをフィルムの非コート面に接着することによって測定の準備する。このフィルムを次に、分光計の光路に垂直に保持する。垂直入射の約2度内にある反射光を捕捉し、赤外拡張範囲分光計(Filmetrics、モデルF50)に導く。分光計を、その背面が粗くされ、そして黒くされたBK7ガラスの低反射率標準を使って400nm〜1700nm間で較正する。正反射性反射は、約2度の受光角での垂直入射で測定する。反射スペクトルを約1nmの間隔で400nm〜1700nmの範囲で記録する。低ノイズ・スペクトルは、機器がフルレンジにあるかまたは約6%反射で飽和するように長い検出器積分時間を用いることによって得られる。さらなるノイズ減少は、スペクトルの3つ以上の別個の測定値を平均することによって達成される。記録されたスペクトルから報告される反射率は、x、y、および正反射性反射率(RVIS)として報告されるYの色計算の結果である。色座標計算は、タイプC光源を使って10°標準観測者について行う。
曇り度は、BYK−Gardner USA,Columbia,MDから入手可能な「BYK Gardner Haze−Guard Plus」を用いて、ASTM D 1003、「透明プラスチックの曇り度および視感透過率についての標準試験方法(Standard Test Method for Haze and Luminous Transmittance of Transparent Plastics)」の方法に従って測定する。
本発明の反射防止コーティングでコートされた基材フィルムの3.7cm×7.5cm片を、コートされた面を上にして、フィルムの端を接着テープでプレートに固定することによって平坦ガラスプレートの表面上に取り付ける。Liberon銘柄#0000スチールウールを1cm×1cmより僅かに大きいパッチへカットする。1cm×1cmにカットしたソフト(柔軟)発泡体パッドをスチールウールパッドの一面に置き、スリップフィットDelrin(登録商標)スリーブ中に保持された200gの真ちゅう重りを発泡体パッドのトップ上に置く。このスリーブを、ステッピングモーター駆動移動ステージモデルMB2509P5J−S3 CO18762によって移動させる。VELMEX VXMステッピングモーター制御器がこのステッピングモーターを駆動する。スチールウールおよび重りアセンブリをフィルム表面上に置き、5cm/秒の速度で3cmの距離にわたって10サイクル(20パス)の間、フィルム表面の一面に前後に擦りつける。
本方法は、擦過フィルムを画像形成する工程と、この画像のソフトウェア操作によって擦過フィルム上の引っ掻き傷のついたパーセント面積を定量化する工程とを含む。
サンプルの表面張力は、液滴法を用いて表面上で特定液体の接触角を測定することによって分析した。
(1)成分(II):0.2gのCH2=CHSi(CH3)2O[Si(CH3)(CH2CH2CF3)O]x(CH3)2SiCH=CH2(Gelest,Inc.,Morrisville,PA,USAから入手可能な、ポリヒドロメチルシロキサン架橋剤とともに、ビニルテレケリック−末端ポリトリフルオロプロピルメチルシロキサン、1,000より大きい分子量(MW)およびPt触媒、F065)、(2)成分(III):0.05gのF(CF2)8CH2CH2Si(OCH2CH3)3、(3)成分(IV):0.03gのフッ素化オイルKrytox(登録商標)GPL105、300〜900の分子量(E.I.duPont de Nemours and Company,Wilmington,DEから入手可能な)、(4)0.02gのトルエン中10重量%のPt/ViSiO錯体(Gelest,Inc.,Morrisville,PAから入手可能なSIP 6830.3)、(5)0.1gのトリフルオロ酢酸、(6)1gの酢酸プロピルおよび(7)5gのトルエンを含有する未硬化組成物を形成した。未硬化組成物を、プレートを30分間未硬化組成物中に浸漬することによってガラスプレート(Motorola製)上にコートし、引き続きトルエン中に短く浸漬して過剰の組成物を除去し、コートされたガラスを、蓋なし容器中の水からの高湿度のオーブン中65℃で3時間加熱し、最終的に真空オーブン中120℃で1.5時間ベーキングした。得られたきれいな透明で無色のコーティングは、水(106度)、ジヨードメタン(93度)およびヘキサデカン(69度)の高い接触角によって示されるように低い表面張力(<18ダイン/cm)、ならびに紙でのホイッピングに対する目に見える耐引っ掻き性を有した。
(1)成分(II):0.2gのCH2=CHSi(CH3)2O[Si(CH3)(CH2CH2CF3)O]x(CH3)2SiCH=CH2(Gelest,Inc.,Morrisville,PAから入手可能な、ポリヒドロメチルシロキサン架橋剤とともに、ビニルテレケリック−末端ポリトリフルオロプロピルメチルシロキサン、1,000より大きい分子量(MW)、およびPt触媒、F065)、(2)成分(III):0.1gのF(CF2)8CH2CH2Si(OCH2CH3)3、(3)成分(IV):0.02gのフッ素化オイルKrytox(登録商標)GPL105 300〜900の分子量(E.I.duPont de Nemours and Company,Wilmington,DEから入手可能な)、(4)0.03gのトルエン中10重量%のPt/ViSiO錯体(Gelest,Inc.,Morrisville,PAから入手可能なSIP 6830)、(5)0.1gのトリフルオロ酢酸、(6)1gの酢酸プロピルおよび(7)6gのトルエンを含有する未硬化組成物を形成した。未硬化組成物を、プレートを30分間未硬化組成物中に浸漬することによってガラスプレート(Motorola)上にコートし、引き続き酢酸プロピルでリンスして過剰の組成物を除去し、コートされたガラスを、蓋なし容器中の水からの高湿度のオーブン中65℃で2.5時間加熱し、最終的に真空オーブン中120℃で2時間ベーキングした。得られたきれいな透明で無色のコーティングは、水(104度)、ジヨードメタン(87度)およびヘキサデカン(63度)の高い接触角によって示されるように低い表面張力(<18ダイン/cm)ならびに紙でのホイッピングに対する目に見える耐引っ掻き性を有した。
(1)成分(II):0.06gのHO(Si(CH3)(CH2CH2CF3)O)xH(シラノール末端ポリトリフルオロプロピルメチルシロキサン、800〜1200の分子量、FMS−9922、Gelest)、(2)成分(III):0.015gのCH2=CHC(O)OCH2(CF2)4CH2O(O)CCH=CH2(2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロ−1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、MW=370)、(3)成分(III):0.3gの1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、および(4)0.3gの酢酸プロピル、(5)0.03gのIrgacure(登録商標)651を含有する未硬化組成物を形成した。未硬化組成物を、1ミルのドクターブレード・フィルム塗布機を用いてFuji TAC(トリアセチルセルロース)フィルム上にコートし、引き続き窒素で2分間パージし、次にUVランプによって85℃で5分間硬化させた。得られたコーティングは、RVIS=1.44(コートしていないFuji
TACに対して)、RMIN=0.72、曇り度=0.53、および引っ掻き傷のついた%=100を有した。
(1)成分(II):0.04gのHO(Si(CH3)(CH2CH2CF3)O)xH(シラノール末端ポリトリフルオロプロピルメチルシロキサン、MW=800〜1200、FMS−9922、Gelest,Inc.,Morrisville,PAから入手可能な)、(2)成分(II):0.02gのHO(Si(CH3)(CH2CH2CF3)O)yH(シラノール末端ポリトリフルオロプロピルメチルシロキサン、MW=550〜800、FMS−9921、Gelest,Inc.,Morrisville,PAから入手可能な)、(3)成分(III):0.05gのCH2=CHC(O)OCH2(CF2)4CH2O(O)CCH=CH2(2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロ−1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、MW=370)、(4)成分(III):0.3gの1,4−ブタンジオールジアクリレート、および(5)0.3gの酢酸プロピル、(6)0.03gのIrgacure(登録商標)651を含有する未硬化組成物を形成した。未硬化組成物を、1ミルのドクターブレード・フィルム塗布機を用いてFuji TAC(トリアセチルセルロース)フィルム上にコートし、引き続き窒素で2分間パージし、次にUVランプによって85℃で5分間硬化させた。得られたコーティングは、RVIS=1.32(コートしていないFuji TACについての4.3に対して)、RMIN=0.83、曇り度=0.84、および引っ掻き傷のついた%=80を有した。
(1)成分(II):0.06gのHO(Si(CH3)(CH2CH2CF3)O)yH(シラノール末端ポリトリフルオロプロピルメチルシロキサン、MW=550〜800、FMS−9921、Gelest,Inc.,Morrisville,PAから入手可能な)、(2)成分(III):0.05gのF(CF2)8CH2CH2Si(OCH2CH3)3、(3)成分(III):0.3gの1,3−ブタンジオールジアクリレート、および(4)0.3gの酢酸プロピル、(5)0.03gのIrgacure(登録商標)651を含有する未硬化組成物を形成した。未硬化組成物を、1ミルのドクターブレード・フィルム塗布機を用いてFuji TAC(トリアセチルセルロース)フィルム上にコートし、引き続き窒素で2分間パージし、次にUVランプによって85℃で5分間硬化させた。得られたコーティングは、RVIS=1.24(コートしていないFuji TACについての4.3に対して)、RMIN=0.98、曇り度=0.74、および引っ掻き傷のついた%=100を有した。
(1)成分(II):0.037gのHO(Si(CH3)(CH2CH2CF3)O)yH(シラノール末端ポリトリフルオロプロピルメチルシロキサン、MW=800〜1200、FMS−9922、Gelest,Inc.,Morrisville,PAから入手可能な)、(2)成分(I):0.015gのE10−DA、パーフルオロポリエーテルジアクリレート、Mn=1200〜1500(Sartomer Company,Inc.,Exton,PAから入手可能な、製品コードCN4000)、(3)成分(III):0.8gの1,4−ブタンジオールジアクリレート、および(4)0.8gの酢酸プロピル、(5)0.08gのIrgacure(登録商標)651を含有する未硬化組成物を形成した。未硬化組成物を、1ミルのドクターブレード・フィルム塗布機を用いてFuji TAC(トリアセチルセルロース)フィルム上にコートし、引き続き窒素で2分間パージし、次にUVランプによって85℃で5分間硬化させた。得られたコーティングは、RVIS=1.89(コートしていないFuji TACについての4.3に対して)、RMIN=1.72、曇り度=0.56、および引っ掻き傷のついた%=21を有した。
(1)成分(II):0.05gのHO(Si(CH3)(CH2CH2CF3)O)yH(シラノール末端ポリトリフルオロプロピルメチルシロキサン、MW=550〜800、FMS−9921、Gelest,Inc.,Morrisville,PAから入手可能な)、(2)成分(I):0.015gのE10−DA、パーフルオロポリエーテルジアクリレート、Mn=1200〜1500(Sartomer Company,Inc.,Exton,PAから入手可能な、製品コードCN4000)、(3)成分(III):0.8gの1,3−ブタンジオールジアクリレート、および(4)0.8gの酢酸プロピル、(5)0.08gのIrgacure(登録商標)651を含有する未硬化組成物を形成した。未硬化組成物を、1ミルのドクターブレード・フィルム塗布機を用いてFuji TAC(トリアセチルセルロース)フィルム上にコートし、引き続き窒素で2分間パージし、次にUVランプによって85℃で5分間硬化させた。得られたコーティングは、RVIS=1.73(コートしていないFuji TACについての4.3に対して)、RMIN=1.72、曇り度=0.24、および引っ掻き傷のついた%=98を有した。
(1)成分(I):0.11gのViton(登録商標)GF−200Sフルオロエラストマー(MW=30,000〜70,000、E.I.duPont de Nemours and Company,Wilmington,DEから入手可能な)、(2)成分(III):2.0gの1,4−ブタンジオールジアクリレート、および(3)0.19gの酢酸プロピル、(4)2.0gのVertrel(登録商標)XFスペシャルティ流体(E.I.duPont de Nemours and Company,Wilmington,DEから入手可能なフッ素化溶媒)、(5)0.0011gのIrgacure(登録商標)651を含有する未硬化組成物を形成した。未硬化組成物を、0.5ミルのドクターブレード・フィルム塗布機を用いてFuji TAC(トリアセチルセルロース)フィルム上にコートし、引き続き窒素で2分間パージし、次にUVランプによって85℃で5分間硬化させた。得られたコーティングは、47度のヘキサデカン前進接触角および26度の後退接触角を示し、RVIS=3.36(コートしていないFuji TACについての4.3に対して)、曇り度=0.62%を有した。
Claims (14)
- a)約600〜約100,000の質量平均分子量を有し、任意選択的に反応性官能基を有するフッ素含有ポリマーを含んでなる約0〜約95質量%の成分(I);
b)約600〜約100,000の質量平均分子量を有し、任意選択的に反応性官能基を有するフッ素およびケイ素含有ポリマーを含んでなる約0〜約95質量%の成分(II);
c)約600未満の質量平均分子量を有し、そして少なくとも1つの官能基を有する反応性希釈剤を含んでなる約5〜約99.9質量%の成分(III);
d)約10,000未満の数平均分子量を有するフッ素含有の非官能性オリゴマーまたはポリマーを含んでなる約0〜約20質量%の成分(IV);ならびに
e)無機粒子を含む約0〜約80質量%の成分(V);
を含んでなる組成物の反応生成物でコートされた基材を含む物品であって、
組成物の約0.1〜約95質量%が成分(I)および成分(II)の1つまたは両方であり、組成物の約5〜約99.9質量%が成分(III)であり、組成物の残りが成分(IV)〜(V)の1つまたは両方であり、ここで、質量百分率はすべて成分(I)〜(V)の総質量に基づいており、ただし成分(I)および成分(IV)の両方が存在するとき成分(I)は成分(IV)と同一ではない、上記物品。 - 成分(I)が約0.1%〜約2%の質量%で存在し、約10,000〜約70,000の質量平均分子量を有する請求項1に記載の物品。
- 成分(II)が約25%〜約70%の質量%で存在し、約600〜約3,000の質量平均分子量を有する請求項1に記載の物品。
- 成分(III)が、約600未満の質量平均分子量の、少なくとも1つの官能基を有するフッ素含有、ケイ素含有、またはフッ素およびケイ素含有反応性希釈剤である請求項1に記載の物品。
- 成分(III)が約200〜約600の質量平均分子量を有し、そして約15%〜約80%の質量%で存在する請求項1に記載の物品。
- 成分(IV)が約5%〜約13%の質量%で存在し、そして約3,000〜約8,000の質量平均分子量を有する請求項1に記載の物品。
- 成分(IV)がパーフルオロポリアルキルエーテルオリゴマーまたはポリマーである請求項1に記載の物品。
- 成分(V)が約10%〜約40%の質量%で存在する請求項1に記載の物品。
- 成分(V)が導電性または半導性無機粒子を含む請求項1に記載の方法。
- 基材がアセチル化セルロース、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ガラス、ビニル、またはナイロンである請求項1に記載の物品。
- 反応生成物が乾燥され、硬化したコーティングである請求項1に記載の物品。
- 基材が1つ以上の追加のコーティングを含む請求項1に記載の物品。
- ディスプレイ表面、光学ディスプレイ基材、陰極線管ディスプレイ、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、液晶ディスプレイ、ディスプレイパネル、光学レンズ、ウィンドウ、光学偏光子、光学フィルター、光沢印刷物、または写真である請求項1に記載の物品。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US22784009P | 2009-07-23 | 2009-07-23 | |
US61/227,840 | 2009-07-23 | ||
PCT/US2010/042999 WO2011011655A2 (en) | 2009-07-23 | 2010-07-23 | Articles containing fluorinated hybrid compositions |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013500500A true JP2013500500A (ja) | 2013-01-07 |
JP2013500500A5 JP2013500500A5 (ja) | 2013-07-25 |
JP5914331B2 JP5914331B2 (ja) | 2016-05-11 |
Family
ID=42983263
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012521801A Active JP5914331B2 (ja) | 2009-07-23 | 2010-07-23 | フッ素化ハイブリッド組成物を含有する物品 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20110200826A1 (ja) |
EP (2) | EP2617776B1 (ja) |
JP (1) | JP5914331B2 (ja) |
KR (1) | KR20120037499A (ja) |
CN (1) | CN102471583B (ja) |
WO (1) | WO2011011655A2 (ja) |
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- 2010-07-23 CN CN201080032675.4A patent/CN102471583B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2010-07-23 JP JP2012521801A patent/JP5914331B2/ja active Active
- 2010-07-23 WO PCT/US2010/042999 patent/WO2011011655A2/en active Application Filing
- 2010-07-23 EP EP20130164146 patent/EP2617776B1/en not_active Not-in-force
- 2010-07-23 KR KR1020127004570A patent/KR20120037499A/ko not_active Application Discontinuation
- 2010-07-23 EP EP10737451A patent/EP2456827A2/en not_active Withdrawn
-
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- 2016-03-15 US US15/070,327 patent/US20160194520A1/en not_active Abandoned
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US20160194520A1 (en) | 2016-07-07 |
EP2617776B1 (en) | 2014-12-17 |
CN102471583B (zh) | 2017-03-08 |
CN102471583A (zh) | 2012-05-23 |
EP2617776A1 (en) | 2013-07-24 |
WO2011011655A3 (en) | 2011-04-21 |
EP2456827A2 (en) | 2012-05-30 |
JP5914331B2 (ja) | 2016-05-11 |
US20110200826A1 (en) | 2011-08-18 |
KR20120037499A (ko) | 2012-04-19 |
WO2011011655A2 (en) | 2011-01-27 |
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R371 | Transfer withdrawn |
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