JPWO2004108772A1 - 硬化性表面改質剤およびそれを用いた硬化性表面改質用組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
RfO(CF2CF2O)m(CF2O)nCF2−Aq−T
(式中、Rfは炭素数1〜3のパーフルオロアルキル基、Aは−CF2−末端に結合している架橋基(アルキレン基やオキシアルキレン基などの連結基であって、架橋性の官能基ではない)、Tは反応性官能基)で示されるパーフルオロポリエーテル構造を有するフッ素変性剤と水素含有単量体または重合体(たとえばポリウレタンやポリアクリレートなど)とを重縮合、重付加またはグラフト反応させて得られるフッ素化変性水素含有重合体をガラスなどの基材に塗布しUV架橋やパーオキサイド架橋することにより、表面の摩擦係数を低減し、耐磨耗性を付与でき、表面硬度を高め、対水接触角を高め、耐薬品性を向上できるとされている。
該部位Aが式(1):
該部位Bが自己架橋性官能基Yが末端に1個または2個以上結合してなる部位であり、かつ
該樹脂(I)を構成する含フッ素エチレン性ポリマーから部位Aおよび部位Bを除いたエチレン性ポリマー部位Mが、フッ素原子を含まないかまたはフッ素含有量が10重量%以下で水素原子の一部がフッ素原子に置換されているエチレン性ポリマー部位である
硬化性含フッ素樹脂(I)からなる硬化性表面改質剤に関する(第1の発明)。
などの1種が、架橋による硬化反応性が良好である点で好ましくあげられる。
(b)活性エネルギー線硬化開始剤
からなる活性エネルギー線硬化性の表面改質用組成物に関する(第4の発明)。
(b)活性エネルギー線硬化開始剤、および
(c)ケトン系溶剤、酢酸エステル系溶剤およびアルコール系溶剤よりなる群から選ばれる少なくとも1種の汎用溶剤または該汎用溶剤を含む混合溶剤
からなる活性エネルギー線架橋性の表面改質用組成物にも関する(第5の発明)。
該部位Aが式(1):
該樹脂(II)を構成する含フッ素エチレン性ポリマーから部位Aおよび部位Bを除いたポリマー部位MAがフッ素原子を含まないかまたはフッ素含有量が10重量%以下で水素原子の一部がフッ素原子に置換されているエチレン性ポリマー部位である
含フッ素樹脂(II)、および
(e)反射防止膜材料
からなる反射防止膜形成用組成物を基材に塗布して得られる反射防止膜に関する(第6の発明)。
−(N)−(C)− (4)
[式中、構造単位Nは式(N):
(2)前記汎用溶剤可溶性の含フッ素樹脂(II)
からなる硬化性樹脂組成物にも関する(第7の発明)。
(ii)前記第6の発明で使用する汎用溶剤可溶性の含フッ素樹脂(II)、および
(iii)溶剤
からなる液状組成物を用いて塗布、乾燥し、膜を形成したのち硬化させる硬化物、特に反射防止膜の形成方法にも関する(第8の発明)。
などがあげられる。
などがあげられ、その水酸基を有する構造単位が0〜80モル%、さらには1〜70モル%、特に5〜60モル%であるものが汎用溶剤への溶解性に優れているため好ましい。
−CF2CF2CF2O−、
−CHFCF2CF2O−、
−CHClCF2CF2O−、
−CH2CF2CF2O−、
−CF(CF3)CF2O−、
−CF2CF2O−、
−CF2O−
のフルオロエーテル単位のいずれか1種または2種類以上を合計7個以上必須成分として有している。
(P)p−(R8)q−M (1a)
(式中、Pは式(1)のポリフルオロポリエーテル鎖;R8は2〜4価の有機基;Mはエチレン性ポリマー部位M;pは1〜3の整数、好ましくは1;qは0または1)で示される(P)p−(R8)q−の状態でエチレン性ポリマー部位Mに結合している。
(P)p−(R8)q−の好ましい具体例としては、たとえば
などがあげられる。
が好ましくあげられる。
(Y)r−(R9)s−M (1b)
(式中、Yは自己架橋性官能基;R9は2〜4価の有機基;Mはエチレン性ポリマー部位M;rは1〜3の整数、好ましくは1;sは0または1)で示される(Y)r−(R9)s−の状態でエチレン性ポリマー部位Mに結合している。
などがあげられる。
などが好ましく例示できる。
が好ましくあげられる。
(組合せ1)
(P)p−(R8)q−S1 (A−a)
(式中、P、R8、pおよびqは式(1a)と同じ。S1はエチレン性ポリマーMPの反応性官能基T1と反応し得る反応性官能基)および反応性官能基T2と反応し得る反応性官能基S2を有する部位B導入用の化合物(B−b):
(Y)r−(R9)s−S2 (B−b)
(式中、Y、R9、rおよびsは式(1b)と同じ。S2はエチレン性ポリマーMPの反応性官能基T2と反応し得る反応性官能基)を用いて、エチレン性ポリマーMPの反応性官能基T1およびT2と反応させて導入する方法が、部位の形成が容易である点で有利である。
で示される官能基があげられ、これらの中から互いに反応し得るものを選択すればよい。
T=−OHのときS=−NCO、−COF、−COOH、−CH2Cl、−CH2Br、−NH2、−CH2I、−CH=CH2、−SO2Clまたは
T=
T=−NH2のときS=−SO2Cl、−NCOまたは−CHO;
T=−COClのときS=−OHまたは−NH2;
T=−CH2ClのときS=−COOHまたは−OH
などがあげられる。
などがあげられ、なかでも
が、ポリマー反応の反応性が良好な点で好ましい。
などがあげられ、なかでも
が、ポリマー反応の反応性が良好な点で好ましい。
などがあげられ、なかでも
(P)p−(R8)q−M1 (M−a)
(式中、P、R8、pおよびqは式(1a)と同じ。M1はエチレン性ポリマー部位Mの構造単位を与えるエチレン性の反応基)で示される。
などがあげられる。
(Y)r−(R9)s−M2 (M−b)
(式中、Y、R9、rおよびsは式(1b)と同じ。M2はエチレン性ポリマー部位Mの構造単位を与えるエチレン性の反応基)で示される。
などがあげられる。
などがあげられる。
(P)p−(R8)q−M (1a)
(式中、Pは式(1)のポリフルオロポリエーテル鎖;R8は2価の有機基;Mはエチレン性ポリマー部位;pは1〜3の整数、好ましくは1;qは0または1)で示される(P)p−(R8)q−の状態でエチレン性ポリマー部位Mに結合している含フッ素エチレン性ポリマーがあげられるが、これのみに限定されるものではない。
(Y)r−(R9)s−M (1b)
(式中、Yは自己架橋性官能基;R9は2〜4価の有機基;Mはエチレン性ポリマー部位M;rは1〜3の整数、好ましくは1;sは0または1)で示される(Y)r−(R9)s−の状態でエチレン性ポリマー部位Mに結合している含フッ素エチレン性ポリマーがあげられるが、これのみに限定されるものではない。
(b)活性エネルギー線硬化開始剤
からなる活性エネルギー線硬化性の表面改質用組成物に関する。
が好ましい。このものは、活性エネルギー線硬化開始剤(b)から発生したラジカルまたはカチオンにより容易に架橋反応を開始する。
アセトフェノン、クロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、α−アミノアセトフェノン、ヒドロキシプロピオフェノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリンプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなど
ベンゾイン系
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタールなど
ベンゾフェノン系
ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシ−プロピルベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、ミヒラーズケトンなど
チオキサンソン類
チオキサンソン、クロロチオキサンソン、メチルチオキサンソン、ジエチルチオキサンソン、ジメチルチオキサンソンなど
その他
ベンジル、α−アシルオキシムエステル、アシルホスフィンオキサイド、グリオキシエステル、3−ケトクマリン、2−エチルアンスラキノン、カンファーキノン、アンスラキノンなど
ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ピリジニウム塩など
メタロセン系化合物
鉄アレーン錯体など
スルホン化合物
β−ケトエステル、β−スルホニルスルホンとこれらのα−ジアゾ化合物など
スルホン酸エステル類
アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネートなど
その他
スルホンイミド化合物類、ジアゾメタン化合物類など
(b)活性エネルギー線硬化開始剤、および
(c)ケトン系溶剤、酢酸エステル系溶剤およびアルコール系溶剤よりなる群から選ばれる少なくとも1種の汎用溶剤または該汎用溶剤を含む混合溶剤
からなる活性エネルギー線架橋性の表面改質用組成物に関する。
(1)ディスプレイ
CRT(TVやパソコンモニター)、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機薄膜ELドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管(VFD)、FED(Field Emission Display)などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの保護板、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの
(2)液晶ディスプレイの構成部材
フロントライト、拡散シートなどの液晶ディスプレイの構成部材、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの
(3)各種フィルター
パソコンモニターへ視認性向上のため後付けする光学フィルター、PC、PDA、ATM装置などのタッチパネル(世界的にはタッチセンサー、タッチスクリーンなどともいわれる)、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの
メガネレンズ、プリズム、レンズシート、ペリクル膜、偏光板、光学フィルター、レンチキュラーレンズ、フレネルレンズ、背面投写型ディスプレイのスクリーン、光ファイバーや光カプラーなどの光学部品・光デバイス、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの
ショーウインドー、ショーケース、広告用カバー、フォトスタンド用のカバー、自動車用フロントガラスなどに代表される透明なガラス製または透明なプラスチック製(アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂など)建材、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの
(1)光記録媒体
光磁気ディスク、CD・LD・DVDなどの光ディスク、PDなどの相転移型光ディスク、ホログラム記録などに代表される光記録媒体、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの
(2)磁気記録媒体
磁気テープ、磁気ディスク、磁気ドラム、磁気フレキシブルディスクなどの磁気記録媒体、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの
(e)反射防止膜材料
からなる反射防止膜形成用組成物を基材に塗布して得られる反射防止膜に関する。
(1)ディスプレイ
CRT(TVやパソコンモニター)、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機薄膜ELドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管(VFD)、FED(Field Emission Display)などのディスプレイまたは当該ディスプレイの保護板
(2)液晶ディスプレイの構成部材
フロントライト、拡散シートなどの液晶ディスプレイの構成部材
(3)各種フィルター
パソコンモニターへ視認性向上のため後付けする光学フィルター、PC、PDA、ATM装置などのタッチパネル(世界的にはタッチセンサー、タッチスクリーンなどともいわれる)
メガネレンズ、プリズム、レンズシート、ペリクル膜、偏光板、光学フィルター、レンチキュラーレンズ、フレネルレンズ、背面投写型ディスプレイのスクリーン、光ファイバーや光カプラーなどの光学部品・光デバイス
ショーウインドー、ショーケース、広告用カバー、フォトスタンド用のカバー、自動車用フロントガラスなどに代表される透明なガラス製または透明なプラスチック製(アクリル、ポリカーボネートなど)建材
(1)光記録媒体
光磁気ディスク、CD・LD・DVDなどの光ディスク、PDなどの相転移型光ディスク、ホログラム記録などに代表される光記録媒体
(2)磁気記録媒体
磁気テープ、磁気ディスク、磁気ドラム、磁気フレキシブルディスクなどの磁気記録媒体
−(N)−(C)− (4)
[式中、構造単位Nは式(N):
(2)前記含フッ素樹脂(II)
からなる硬化性樹脂組成物に関する。
特に、式(N)において構造単位Nが式(N2):
式(N)において構造単位Nが式(N3):
が例示できる。
などがあげられる。
が、低屈折率、硬化反応性、溶剤溶解性の点で有利なことから好ましい。
さらには
などが例示できる。
などがあげられる。
が、低屈折率、硬化反応性、溶剤溶解性の点で有利なことから好ましい。
(ii)前記第6の発明で使用する汎用溶剤可溶性の含フッ素樹脂(II)、および
(iii)溶剤
からなる液状組成物を用いて塗布、乾燥し、膜を形成したのち硬化させる硬化物、特に反射防止膜の形成方法にも関する(第8の発明)。
1H−NMR測定条件:300MHz(テトラメチルシラン=0ppm)
19F−NMR測定条件:282MHz(トリクロロフルオロメタン=0ppm)
1H−NMRのデータより、アセタール化率(1.1〜1.3ppm(3H)、4.6〜5.1ppm(1H))およびCH2=CF−C(=O)−(αFアクリロイル)化率(5.2〜5.8ppm(2H))が、19F−NMRのデータより、αFアクリロイル基(−116〜−118ppm(1F))と鎖P(−83ppm(107F)と−129ppm(54F))の比率が定法により算出できる。
(2)IR分析:PERKIN ELMER社製フーリエ変換赤外分光光度計
1760Xで室温にて測定する。
還流冷却器、温度計、攪拌装置、滴下漏斗を備えた200ml容量の四つ口フラスコにジオキサン50ml、水5ml、ポリビニルアルコール(PVA:数平均分子量500)10gおよび濃塩酸4gを加え攪拌しながらアセトアルデヒド3.3gを滴下した。室温で10時間攪拌した後、重曹水中に反応溶液を注ぎ、析出した固体を水洗した後、真空乾燥し、無色透明なアセタール化PVA9.3gを得た(アセタール化率66モル%)。
アセトアルデヒドを5.0g用いた以外は合成例1と同様にしてアセタール化PVAを合成した(アセタール化率95モル%)。
還流冷却器、温度計、攪拌装置、滴下漏斗を備えた100ml容量の四つ口フラスコにジオキサン20ml、合成例1で得たアセタール化PVA2.0g、ピリジン1.0gを入れよく攪拌し溶解させた後、部位B導入用のCH2=CFCOF0.5gをジエチルエーテル5mlに溶解したものを約10分間かけて滴下した。滴下終了後、さらに約3時間攪拌を継続した後、数平均分子量4600の部位A導入用のパーフルオロポリエーテルカルボン酸フロライド:
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)nCF2CF2COF
(n≒26)
0.2gを10mlのHCFC−225に溶解したものを約15分間かけて滴下した。滴下終了後さらに約3時間攪拌を継続した。反応後のジオキサン溶液に、ジエチルエーテル20mlを加え、溶液を分液漏斗に入れ、水洗、2%塩酸水洗浄、さらに水洗を繰り返した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで無水硫酸マグネシウムをろ過により取り除いた。このエーテル溶液からエーテルを溜去して反応生成物を取り出した。
メチルイソブチルケトン(MIBK)、メチルエチルケトン(MEK)、酢酸プロピル、イソプロピルアルコール(IPA)およびMIBKとジオキサンの1/1(重量比)混合溶剤のそれぞれ3gに0.1gの反応生成物(溶質)をそれぞれ加え、完全に溶解する場合を溶解、一部でも溶解せずに残るものを不溶とする。
反応生成物をシャーレ−にキャストすることによりフィルム化し、アタゴ社製のアッベ屈折率計2Tを用い、589nmでの屈折率(nD)を測定する。
還流冷却器、温度計、攪拌装置、滴下漏斗を備えた100ml容量の四つ口フラスコにジオキサン20ml、合成例1で得たアセタール化PVA2.0g、ピリジン0.5gを入れよく攪拌し溶解させた後、数平均分子量4600の部位A導入用のパーフルオロポリエーテルカルボン酸フロライド:
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)nCF2CF2COF
(n≒26)
1.6gを10mlのHCFC−225に溶解したものを約15分間かけて滴下した。滴下終了後さらに約3時間攪拌を継続した。反応後のジオキサン溶液を水中に注ぎ、析出した固体を水洗した後、再度ジオキサンに溶解させた。このジオキサン溶液を水中に注ぎ、析出した固体を真空乾燥し、無色透明な反応生成物を得た。
還流冷却器、温度計、攪拌装置、滴下漏斗を備えた50ml容量の四つ口フラスコにジエチルエーテル10ml、実施例2で得られたパーフルオロポリエーテル構造を有する含フッ素ポリマー1.0g、ピリジン0.5gを入れ良く攪拌し溶解させた後、部位B導入用のCH2=CFCOF1.2gをジエチルエーテル5mlに溶解したものを約10分間かけて滴下した。滴下終了後、さらに約3時間攪拌を継続した。反応後のエーテル溶液を分液漏斗に入れ、水洗、2%塩酸水洗浄、さらに水洗を繰り返した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、次いでエーテル溶液をろ過により分離した。このエーテル溶液からエーテルを溜去して反応生成物を取り出した。
合成例1で得たアセタール化PVAに代えて、合成例2で得たアセタール化PVAを用い、部位A導入用のパーフルオロポリエーテルカルボン酸フロライド:
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)nCF2CF2COF
(n≒26)
0.8g用いた他は実施例1と同様にして反応生成物(ジエチルエーテル溶液)を得た。
還流冷却器、温度計、攪拌装置、滴下漏斗を備えた200ml容量の四つ口フラスコに水30ml、メタノール5ml、PVA10gおよび濃硫酸4gを加え攪拌しながらホルムアルデヒドの35%水溶液29gを滴下した。室温で48時間攪拌した後、重曹水中に反応溶液を注ぎ、析出した固体を水洗した後、真空乾燥し、無色透明なホルマール化PVA8.9gを得た(ホルマール化率41%)。
溶媒にジオキサン20mlと水2mlの混合溶媒を用いた以外は合成例3と同様にしてホルマール化PVAを合成した(ホルマール化率80%)。
合成例1で得たアセタール化PVAに代えて、合成例3で得たホルマール化PVAを用い、部位B導入用のCH2=CFCOFを1.0g用いた他は実施例1と同様にして反応生成物(ジエチルエーテル溶液)を得た。
合成例1で得たアセタール化PVAに代えて、合成例3で得たホルマール化PVAを用いた以外は実施例2と同様にして反応生成物を得た。
実施例2で得られた樹脂(IA)に代えて実施例6で得られた樹脂(IA)を用い、部位B導入用のCH2=CFCOFを1.0g用いた他は実施例3と同様にして反応生成物(ジエチルエーテル溶液)を得た。
合成例1で得られたアセタール化PVAに代えて、合成例4で得たホルマール化PVAを用いた他は実施例1と同様にして反応生成物(ジエチルエーテル溶液)を得た。
架橋基を有するパーフルオロポリエーテル:
実施例1、実施例3、実施例4、実施例5、実施例7、実施例8でそれぞれ得た含フッ素樹脂(I)0.2gに活性エネルギー線硬化開始剤(b)として2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン2.0mgおよびメチルエチルケトン20gを加え、均一な表面改質用コーティング組成物を調製した(実施例9〜14)。
上記(1)で得た表面改質用コーティング組成物を表面処理されていないアクリル板上にスピンコーターにより室温で塗布し、室温で30分間乾燥した。塗布は、スピンコーターの回転速度を300rpmで3秒間保持した後、1000rpmで20秒間保持することにより行なった。
上記(2)で得た表面が改質されたアクリル板について以下の表面物性の評価を行なった。結果を表2に示す。
往復動摩擦係数測定器(東測精密工業(株)製のAFT−15−1S。商品名)を用い、接触面には綿布を使用して測定を行なう。各サンプルの摩擦係数の値は参考例1で作製した対照反射防止膜(コントロール)の摩擦係数を基準(100)としたときの相対値(指数)で評価する。
JIS K5400に準じて測定する。
接触角計(協和界面化学(株)製のCA−DT)を用いて純水およびn−ヘキサデカンの3μlの液量での接触角を測定する。これらの純水とヘキサデカンの接触角から表面自由エネルギー(γS)を算出する。
硬化被膜上にn−ヘキサデカン(nHD)の3μlの液滴を形成し、試験台ごと傾けていき、液滴が下方へ動き出したときに、試料台が水平面となす角度を転落角とする。なお、90度でも転落しなかったものは、「転落せず」とする。
上記アクリル板の塗布面に指を押し付け、指紋の付きやすさを目視で判定する。評価は、つぎの基準とする。
○:指紋が付きにくいか、付いても指紋が目立たない。
△:指紋の付着が少ないが、その指紋は充分に確認できる。
×:未処理のアクリル板と同程度に明確に指紋が付着する。
上記の指紋付着性試験後、付着した指紋をキムワイプ(商品名。十條キンバリー(株)製)で3往復拭き取り、付着した指紋の拭取りやすさを目視で判定する。評価はつぎの基準とする。
○:指紋を完全に拭き取ることができる。
△:指紋の拭取り跡が残る。
×:指紋の拭取り跡が拡がり、除去することが困難である。
(1)ヒドロキシル基含有含フッ素アリルエーテルの単独重合体の調製
撹拌装置および温度計を備えた100mlのガラス製四ツ口フラスコに、パーフルオロ−(1,1,9,9−テトラハイドロ−2,5−ビストリフルオロメチル−3,6−ジオキサノネノール)を20.8gと[H(CF2CF2)3]2の8.0重量%パーフルオロヘキサン溶液を2.2g入れ、充分に窒素置換を行なったのち、窒素気流下20℃で24時間撹拌を行なったところ、高粘度の固体が生成した。
還流冷却器、温度計、撹拌装置、滴下漏斗を備えた200ml容量の四ツ口フラスコに、メチルエチルケトン(MEK)50ml、上記(1)で得たヒドロキシル基含有含フッ素アリルエーテルの単独重合体5.0gと、ピリジン2.5gを仕込み5℃以下に氷冷した。
上記(2)で得たα−フルオロアクリロイル基を有する含フッ素ポリマー溶液にMEKを加え希釈し、ポリマー濃度を5.0重量%に調整した。
上記コーティング組成物を未処理のアクリル板上にスピンコーターにより室温で1000〜2000回転でコートし、50℃で5分間乾燥した。この際、乾燥後の膜厚が90〜110nmとなるように、スピンコーターの回転数を調整した。
表面未処理のアクリル板について、実施例9と同様にして各種物性を測定した。結果を表2に示す。
(1)表面改質用コーティング組成物の調製
実施例1、実施例4、実施例7および実施例8でそれぞれ得た含フッ素樹脂を用いた他は実施例9と同様にして表面改質用コーティング組成物を調製した(実施例15〜18)。
参考例1で作製した対照反射防止膜上に上記(1)で得た表面改質用コーティング組成物をスピンコーターにより室温でコートし、室温で30分間乾燥した。スピンコートは、回転速度300rpmで3秒間保持した後、1000rpmで20秒間保持して行なった。
上記(2)で得た表面改質された反射防止膜(アクリル板上)について実施例9と同様にして、摩擦係数、鉛筆硬度、接触角、転落角、指紋付着性および指紋拭き取り性の評価を行ない、加えて反射率の測定を行なった。結果を表3に示す。
反射率の測定は、5°正反射ユニットを装着した可視紫外分光器を用いて、波長550nmの光について反射率を測定する。
参考例1で作製した対照反射防止膜(コントロール)について、実施例15と同様にして摩擦係数、鉛筆硬度、接触角、転落角、指紋付着性、指紋拭き取り性および反射率の評価を行なった。結果を表3に示す。
(1)コーティング用含フッ素樹脂組成物の調製
参考例1の(3)に記載される方法で調製したコーティング用含フッ素樹脂組成物に、実施例3、実施例7、実施例2および実施例6でそれぞれ得られた含フッ素樹脂50mgをそれぞれ加え、均一な溶液として表面改質用コーティング組成物を調製した(実施例19〜22)。また同様に、参考例1の(3)に記載される方法で調製したコーティング用含フッ素樹脂組成物に、実施例3、実施例7、実施例2および実施例6でそれぞれ得られた含フッ素樹脂100mgをそれぞれ加え(実施例23〜26)均一な溶液として表面改質用コーティング組成物を調製した。さらに同様に、参考例1の(3)に記載される方法で調製したコーティング用含フッ素樹脂組成物に、実施例1で得られた含フッ素樹脂100mgを加え(比較例3)均一な溶液として表面改質用コーティング組成物を調製した。
上記(1)で得た表面改質用コーティング組成物を表面処理されていないアクリル板上にスピンコーターにより室温でコートし、室温で30分間乾燥した。スピンコートの回転速度は300rpmで3秒間保持した後、1000〜1500rpmで20秒間保持した。この際、乾燥後の膜厚が90〜110nmとなるように、スピンコーターの回転数を調整した。
上記(2)で得た表面処理アクリル板について実施例15と同様にして、摩擦係数、鉛筆硬度、接触角、転落角、指紋付着性、指紋拭き取り性および反射率の評価を行なった。結果を表4に示す。
(1)コーティング用含フッ素樹脂組成物の調製
実施例3および実施例7でそれぞれ得た含フッ素樹脂(I)を用いた他は実施例9と同様にして表面改質用コーティング組成物を調製した(実施例27〜28)。同じく実施例2および実施例6でそれぞれ得た含フッ素樹脂(IA)を用いた他は実施例9と同様にして表面改質用コーティング組成物を調製した(比較例4〜5)。
上記(1)で得た表面改質用コーティング組成物を用いた他は実施例9と同様にしてアクリル板上に硬化被膜を作製した。
上記(2)で得た表面改質アクリル板について、つぎの拭き取り処理を施し、拭き取り前後の特性の変化を調べた。結果を表5に示す。
硬化被膜全体をエタノールに浸した綿布で軽く1往復拭き取る。
測定した項目は、摩擦係数の測定、n−ヘキサデカンの接触角、指紋付着性および指紋拭き取り性の測定であり、実施例9と同様の方法で行なった。
参考例1の(2)に記載される方法で得たα−フルオロアクリロイル基を有する含フッ素ポリマー溶液にMEKを加え希釈し、ポリマー濃度を5.0重量%に調整した。このポリマー溶液560gに、実施例3で得られた含フッ素樹脂10gおよび酢酸プロピル200gを加え、攪拌した後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過してコーティング用組成物を調製した。
基材は厚さ100μmのPETフィルムの片面に、ハードコート処理(屈折率1.52、厚さ5μm)を施したものを用い、上記(1)のコーティング用組成物の塗工を行なった。塗工条件は、線数180本/インチ、深度40μmのグラビアパターンを有する直径230mmのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数13rpm、搬送速度5m/分の条件でハードコート処理面上に塗布し、70℃で乾燥の後、窒素パージ下で240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて紫外線を照射し硬化させ巻き取った。
上記(2)で得た表面改質された反射防止フィルムについて実施例9と同様にして、摩擦係数、鉛筆硬度、接触角、指紋付着性および指紋拭き取り性の評価を行ない、加えて下記の方法でヘイズ値、反射率の測定を行なった。結果を表6に示す。
フィルムのヘイズ値は、東洋精機製作所製 直読式ヘイズメーターを用いて、JIS K6714に準じて測定する。
フィルム裏面(コーティングしていない面)を#240の紙やすりでよく研磨し、黒色スプレーで塗装する。このフィルムの反射防止コーティング面の反射率を実施例15記載の反射率の測定法と同様にして測定する。
反射防止コーティングを施していないフィルム(ハードコート処理面)について、実施例29の(3)と同様にして各種物性を測定した。結果を表6に示す。
還流冷却器、温度計、攪拌装置、滴下漏斗を備えた100ml容量の四つ口フラスコにジオキサン20ml、合成例3で得たホルマール化PVA2.0g、ピリジン1.0gを入れよく攪拌し溶解させた後、部位B導入用のCH2=CFCOF1.0gをジエチルエーテル5mlに溶解したものを約10分間かけて滴下した。滴下終了後、さらに約3時間攪拌を継続した。反応後のジオキサン溶液にジエチルエーテル20mlを加え、溶液を分液漏斗に入れ、水洗、2%塩酸水洗浄、さらに水洗を繰り返した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで無水硫酸マグネシウムをろ過により取り除いた。このエーテル溶液からエーテルを溜去して反応生成物を取り出した。
実施例6で得た含フッ素樹脂(IA)0.1gに、合成例5で得られた樹脂(IB)0.1gおよび活性エネルギー線硬化開始剤(b)として2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン2.0mg、メチルエチルケトン20gを加え、均一な表面改質用コーティング組成物を調製した。
実施例9と同様にしてアクリル板の表面処理を行った。
上記(2)で得た表面処理されたアクリル板について、実施例9と同様にして摩擦係数、鉛筆硬度、接触角、転落角、指紋付着性および指紋拭き取り性の評価を行った。結果を表8に示す。
上記(2)で得た表面処理されたアクリル板について、実施例27と同様にして耐溶剤性の評価を行った。結果を表9に示す。
合成例5で得た樹脂(IB)を用いた他は、実施例9の(1)と同様にしてコーティング組成物の調製を行い、これを用いて実施例9の(2)と同様にしてアクリル板の表面処理を行った。この表面処理されたアクリル板について、実施例9の(3)と同様にして摩擦係数、鉛筆硬度、接触角、転落角、指紋付着性および指紋拭き取り性の評価を行った。結果を表8に示す。
実施例30で得た表面改質用コーティング組成物を用いた他は、実施例15の(2)と同様にして反射防止膜の表面改質を行った。
上記(2)で得た表面改質された反射防止膜(アクリル板上)について実施例9と同様にして、摩擦係数、鉛筆硬度、接触角、転落角、指紋付着性および指紋拭き取り性の評価を行ない、加えて実施例15と同様にして反射率の測定を行なった。結果を表10に示す。
(1)反射防止膜の表面改質
比較例7で得たコーティング組成物を用いた他は、実施例15の(2)と同様にして反射防止膜の表面改質を行った。
上記(1)で得た表面改質された反射防止膜(アクリル板上)について実施例9と同様にして、摩擦係数、鉛筆硬度、接触角、転落角、指紋付着性および指紋拭き取り性の評価を行ない、加えて実施例15と同様にして反射率の測定を行なった。結果を表10に示す。
Claims (13)
- 部位Aおよび部位Bを同じかまたは異なる側鎖の少なくとも一部分に有する含フッ素エチレン性ポリマー(IAB)、または部位Aを側鎖の少なくとも一部分に有する含フッ素エチレン性ポリマー(IA)および部位Bを側鎖の少なくとも一部分に有する含フッ素エチレン性ポリマー(IB)からなる汎用溶剤可溶性の硬化性含フッ素樹脂(I)であって、
該部位Aが式(1):
(式中、n1、n2、n3、n4は同じかまたは異なり0または1以上の整数で、かつn1+n2+n3+n4が7〜40の整数;X1は同じかまたは異なりH、FまたはCl;Rfは炭素数1〜10の含フッ素アルキル基)で示されるポリフルオロポリエーテル鎖Pが末端に1個または2個以上結合してなる部位であり、
該部位Bが自己架橋性官能基Yが末端に1個または2個以上結合してなる部位であり、かつ
該樹脂(I)を構成する含フッ素エチレン性ポリマーから部位Aおよび部位Bを除いたエチレン性ポリマー部位Mが、フッ素原子を含まないかまたはフッ素含有量が10重量%以下で水素原子の一部がフッ素原子に置換されているエチレン性ポリマー部位である
硬化性含フッ素樹脂(I)からなる硬化性表面改質剤。 - 汎用溶剤可溶性の硬化性含フッ素樹脂(I)のフッ素含有量が0.1重量%以上で35重量%以下である請求の範囲第1項記載の硬化性表面改質剤。
- 請求の範囲第1項〜第4項のいずれかに記載の硬化性表面改質剤を基材上に塗装したのち硬化させる基材の表面改質方法。
- 基材が、表面が反射防止膜で被覆された基材である請求の範囲第5項記載の表面改質方法。
- 反射防止膜および該反射防止膜直上に形成された請求の範囲第1項〜第4項のいずれかに記載の硬化性表面改質剤の連続または不連続の硬化膜からなる表面改質された多層構造の反射防止膜。
- (a)部位Aおよび部位Bを同じかまたは異なる側鎖の少なくとも一部分に有する含フッ素エチレン性ポリマー(IAB)、または部位Aを側鎖の少なくとも一部分に有する含フッ素エチレン性ポリマー(IA)および部位Bを側鎖の少なくとも一部分に有する含フッ素エチレン性ポリマー(IB)からなる汎用溶剤可溶性の硬化性含フッ素樹脂(I)であって、
該部位Aが式(1):
(式中、n1、n2、n3、n4は同じかまたは異なり0または1以上の整数で、かつn1+n2+n3+n4が7〜40の整数;X1は同じかまたは異なりH、FまたはCl;Rfは炭素数1〜10の含フッ素アルキル基)で示されるポリフルオロポリエーテル鎖Pが末端に1個または2個以上結合してなる部位であり、
該部位Bが自己架橋性官能基Yが末端に1個または2個以上結合してなる部位であり、かつ
該樹脂(I)を構成する含フッ素エチレン性ポリマーから部位Aおよび部位Bを除いたエチレン性ポリマー部位Mが、フッ素原子を含まないかまたはフッ素含有量が10重量%以下で水素原子の一部がフッ素原子に置換されているエチレン性ポリマー部位である
硬化性含フッ素樹脂(I)、および
(b)活性エネルギー線硬化開始剤
からなる活性エネルギー線架橋性の硬化性表面改質用組成物。 - (a)部位Aおよび部位Bを同じかまたは異なる側鎖の少なくとも一部分に有する含フッ素エチレン性ポリマー(IAB)、または部位Aを側鎖の少なくとも一部分に有する含フッ素エチレン性ポリマー(IA)および部位Bを側鎖の少なくとも一部分に有する含フッ素エチレン性ポリマー(IB)からなる汎用溶剤可溶性の硬化性含フッ素樹脂(I)であって、
該部位Aが式(1):
(式中、n1、n2、n3、n4は同じかまたは異なり0または1以上の整数で、かつn1+n2+n3+n4が7〜40の整数;X1は同じかまたは異なりH、FまたはCl;Rfは炭素数1〜10の含フッ素アルキル基)で示されるポリフルオロポリエーテル鎖Pが末端に1個または2個以上結合してなる部位であり、
該部位Bが自己架橋性官能基Yが末端に1個または2個以上結合してなる部位であり、かつ
該樹脂(I)を構成する含フッ素エチレン性ポリマーから部位Aおよび部位Bを除いたエチレン性ポリマー部位Mが、フッ素原子を含まないかまたはフッ素含有量が10重量%以下で水素原子の一部がフッ素原子に置換されているエチレン性ポリマー部位である
硬化性含フッ素樹脂(I)、
(b)活性エネルギー線硬化開始剤、および
(c)ケトン系溶剤、酢酸エステル系溶剤およびアルコール系溶剤よりなる群から選ばれる少なくとも1種の汎用溶剤または該汎用溶剤を含む混合溶剤
からなる活性エネルギー線架橋性の硬化性表面改質用組成物。 - (d)部位Aおよび部位Bを同じかまたは異なる側鎖の少なくとも一部分に有する含フッ素エチレン性ポリマー(IAB)、または部位Aを側鎖の少なくとも一部分に有する含フッ素エチレン性ポリマー(IA)からなる汎用溶剤可溶性でフッ素含有量が1重量%以上で35重量%以下である含フッ素樹脂(II)であって、
該部位Aが式(1):
(式中、n1、n2、n3、n4は同じかまたは異なり0または1以上の整数で、かつn1+n2+n3+n4が7〜40の整数;X1は同じかまたは異なりH、FまたはCl;Rfは炭素数1〜10の含フッ素アルキル基)で示されるポリフルオロポリエーテル鎖Pが末端に1個または2個以上結合してなる部位であり、
該樹脂(II)を構成する含フッ素エチレン性ポリマーから部位Aおよび部位Bを除いたポリマー部位MAがフッ素原子を含まないかまたはフッ素含有量が10重量%以下で水素原子の一部がフッ素原子に置換されているエチレン性ポリマー部位である
含フッ素樹脂(II)、および
(e)反射防止膜材料
からなる反射防止膜形成用組成物を基材に塗布して得られる反射防止膜。 - (1)式(4):
−(N)−(C)− (4)
[式中、構造単位Nは式(N):
(式中、X15およびX16は同じかまたは異なり、HまたはF;X17はH、F、CH3またはCF3;X18およびX19は同じかまたは異なり、H、FまたはCF3;Rf1は炭素数1〜40の含フッ素アルキル基または炭素数2〜100のエーテル結合を有する含フッ素アルキル基にY1またはY2(Y1は末端にエチレン性炭素−炭素二重結合を有する炭素数2〜10の1価の有機基、Y2は水素原子がフッ素原子に置換されていてもよい架橋性環状エーテル構造を1〜5個有する炭素数2〜100の1価の有機基)が1〜3個結合している有機基;aは0〜3の整数;bおよびcは同じかまたは異なり、0または1)で示される含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位、構造単位Cは構造単位Nを与える含フッ素エチレン性単量体と共重合可能な単量体に由来する構造単位である]で示され、構造単位Nを0.1〜100モル%および構造単位Cを0〜99.9モル%含む数平均分子量500〜1000000の含フッ素ポリマー(IIINC)を100モル%まで含む硬化性含フッ素樹脂(III)、および
(2)部位Aおよび部位Bを同じかまたは異なる側鎖の少なくとも一部分に有する含フッ素エチレン性ポリマー(IAB)、または部位Aを側鎖の少なくとも一部分に有する含フッ素エチレン性ポリマー(IA)からなる汎用溶剤可溶性でフッ素含有量が1重量%以上で35重量%以下である含フッ素樹脂(II)であって、
該部位Aが式(1):
(式中、n1、n2、n3、n4は同じかまたは異なり0または1以上の整数で、かつn1+n2+n3+n4が7〜40の整数;X1は同じかまたは異なりH、FまたはCl;Rfは炭素数1〜10の含フッ素アルキル基)で示されるポリフルオロポリエーテル鎖Pが末端に1個または2個以上結合してなる部位であり、
該樹脂(II)を構成する含フッ素エチレン性ポリマーから部位Aおよび部位Bを除いたポリマー部位MAがフッ素原子を含まないかまたはフッ素含有量が10重量%以下で水素原子の一部がフッ素原子に置換されているエチレン性ポリマー部位である
含フッ素樹脂(II)
からなる硬化性樹脂組成物。 - (i)請求の範囲第10項記載の反射防止膜材料(e)または請求の範囲第11項記載の硬化性含フッ素樹脂(III)、
(ii)請求の範囲第10項記載の含フッ素樹脂(II)、および
(iii)溶剤
からなる液状組成物を用いて塗布、乾燥し、膜を形成したのち硬化させる硬化物の形成方法。 - 硬化物が反射防止膜である請求の範囲第12項記載の形成方法。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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