JPH11109103A - 光学部材 - Google Patents
光学部材Info
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- JPH11109103A JPH11109103A JP9270062A JP27006297A JPH11109103A JP H11109103 A JPH11109103 A JP H11109103A JP 9270062 A JP9270062 A JP 9270062A JP 27006297 A JP27006297 A JP 27006297A JP H11109103 A JPH11109103 A JP H11109103A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 使用波長120nm≦λ0≦200nmで、入射光の偏
光方向に依存せず、反射防止効果を奏する光学部材を提
供する。 【解決手段】 凹部が周期的に設けられた１２０ｎｍ〜
２００ｎｍの波長領域用の光学薄膜材料からなる反射防
止層を、或いは１２０ｎｍ〜２００ｎｍ波長領域用の光
学薄膜材料により凸部が周期的に形成されてなる反射防
止層を基板上に有する光学部材。
光方向に依存せず、反射防止効果を奏する光学部材を提
供する。 【解決手段】 凹部が周期的に設けられた１２０ｎｍ〜
２００ｎｍの波長領域用の光学薄膜材料からなる反射防
止層を、或いは１２０ｎｍ〜２００ｎｍ波長領域用の光
学薄膜材料により凸部が周期的に形成されてなる反射防
止層を基板上に有する光学部材。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はＡｒＦレーザー、Ｆ
2レーザー等の１２０ｎｍ〜２００ｎｍの波長領域の光
に有効な反射防止膜に関するものである。
2レーザー等の１２０ｎｍ〜２００ｎｍの波長領域の光
に有効な反射防止膜に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光学系において、レンズ等の光学素子の
表面反射による光量損失やフレア・ゴースト等を低減す
るために反射防止膜を形成する必要がある。このような
反射防止膜の構成として、例えば、高屈折率層と低屈折
率層を交互に積層する構成が挙げられる。また、１２０
ｎｍ〜２００ｎｍの波長領域で使用される光源としてAr
Fエキシマレーザー（λ=193.4nm）やＦ2レーザー（λ=1
57nm）等があるが、これらの光に対して有効な反射防止
膜であるためには、低吸収・高耐レーザー性が要求され
る。しかし、使用波長λ0≦２００ｎｍでは使用可能な
高屈折率物質と低屈折率物質が少なくなる。特に、λ0
≦１８０ｎｍでは、吸収のない使用可能な高屈折率物質
が、現在のところ存在しないため、有効な反射防止効果
を奏する多層反射防止膜を得ることができない。
表面反射による光量損失やフレア・ゴースト等を低減す
るために反射防止膜を形成する必要がある。このような
反射防止膜の構成として、例えば、高屈折率層と低屈折
率層を交互に積層する構成が挙げられる。また、１２０
ｎｍ〜２００ｎｍの波長領域で使用される光源としてAr
Fエキシマレーザー（λ=193.4nm）やＦ2レーザー（λ=1
57nm）等があるが、これらの光に対して有効な反射防止
膜であるためには、低吸収・高耐レーザー性が要求され
る。しかし、使用波長λ0≦２００ｎｍでは使用可能な
高屈折率物質と低屈折率物質が少なくなる。特に、λ0
≦１８０ｎｍでは、吸収のない使用可能な高屈折率物質
が、現在のところ存在しないため、有効な反射防止効果
を奏する多層反射防止膜を得ることができない。
【０００３】一方、単層膜で所望の反射防止効果を得る
方法として、従来から図５に示すように、光学基板１上
に使用波長より小さな周期長で周期的にエッチングによ
り除去してくさび状の薄膜３を形成することによって、
反射防止効果を有する光学部材は知られている。
方法として、従来から図５に示すように、光学基板１上
に使用波長より小さな周期長で周期的にエッチングによ
り除去してくさび状の薄膜３を形成することによって、
反射防止効果を有する光学部材は知られている。
【０００４】
【本発明が解決しようとする課題】しかし、図５に示す
ようなくさび状のパターンでは、入射する光の偏光方向
によって反射防止効果を奏する偏光方向（図中のA方
向）と反射防止の効果がない偏光方向（図中のB方向）
が存在してしまう。即ち、入射光の電場の振動が、くさ
びの稜線方向に成分を持っている場合には、その成分は
反射防止効果が得られない。 また、くさびの周期
長は使用波長の１／１０以下でなければ反射防止の効果
が小さいため、使用波長が短波長化するにしたがって、
くさびの形状を形成することが困難になる。現実問題と
して、使用波長λが１μｍ以下では、くさびの周期長が
0.1μｍ以下になるために、くさびの形状を精度よく形
成（エッチングにより形成）することができない。
ようなくさび状のパターンでは、入射する光の偏光方向
によって反射防止効果を奏する偏光方向（図中のA方
向）と反射防止の効果がない偏光方向（図中のB方向）
が存在してしまう。即ち、入射光の電場の振動が、くさ
びの稜線方向に成分を持っている場合には、その成分は
反射防止効果が得られない。 また、くさびの周期
長は使用波長の１／１０以下でなければ反射防止の効果
が小さいため、使用波長が短波長化するにしたがって、
くさびの形状を形成することが困難になる。現実問題と
して、使用波長λが１μｍ以下では、くさびの周期長が
0.1μｍ以下になるために、くさびの形状を精度よく形
成（エッチングにより形成）することができない。
【０００５】そこで、本発明は、このような問題点に鑑
みてなされてものであり、使用波長120nm≦λ0≦200nm
で、入射光の偏光方向に依存せず、反射防止効果を奏す
る光学部材を提供することを目的とする。
みてなされてものであり、使用波長120nm≦λ0≦200nm
で、入射光の偏光方向に依存せず、反射防止効果を奏す
る光学部材を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するために手段】本発明は第一に、「凹部
が周期的に設けられた１２０ｎｍ〜２００ｎｍの波長領
域用の光学薄膜材料からなる反射防止層を、或いは１２
０ｎｍ〜２００ｎｍ波長領域用の光学薄膜材料により凸
部が周期的に形成されてなる反射防止層を基板上に有す
る光学部材（請求項１）」を提供する。
が周期的に設けられた１２０ｎｍ〜２００ｎｍの波長領
域用の光学薄膜材料からなる反射防止層を、或いは１２
０ｎｍ〜２００ｎｍ波長領域用の光学薄膜材料により凸
部が周期的に形成されてなる反射防止層を基板上に有す
る光学部材（請求項１）」を提供する。
【０００７】また、本発明は第二に、「前記周期長が使
用波長の１／１０以下であることを特徴とする請求項１
記載の光学部材（請求項２）」を提供する。また、本発
明は第三に、「前記１２０ｎｍ〜２００ｎｍの波長領域
用の光学薄膜材料が、ＭｇＦ2、ＣａＦ2、ＬｉＦ、Ｎａ
3ＡｌＦ6、Ｎａ5Ａｌ3Ｆ14、ＡｌＦ 3およびこれらの混
合物質又は化合物の群より選ばれた１つ以上の成分であ
ることを特徴とする請求項１又２記載の光学部材（請求
項３）」を提供する。
用波長の１／１０以下であることを特徴とする請求項１
記載の光学部材（請求項２）」を提供する。また、本発
明は第三に、「前記１２０ｎｍ〜２００ｎｍの波長領域
用の光学薄膜材料が、ＭｇＦ2、ＣａＦ2、ＬｉＦ、Ｎａ
3ＡｌＦ6、Ｎａ5Ａｌ3Ｆ14、ＡｌＦ 3およびこれらの混
合物質又は化合物の群より選ばれた１つ以上の成分であ
ることを特徴とする請求項１又２記載の光学部材（請求
項３）」を提供する。
【０００８】また、本発明は第四に、「前記反射防止層
の実効的な屈折率が基板の屈折率に対して、 ｎ＝（ｎ1）1/2 の関係を満たすこと或いは、前記層の光学的膜厚が使用
波長に対して ｎ・ｄ＝λ0／４ の関係を満たすことを特徴とする請求項１〜３記載の光
学部材。但し、ｎは各凹部の空間（媒質）又は各凸部間
の空間（媒質）を含む反射防止層の屈折率、ｎ1は基板
の屈折率、ｄは前記反射防止層の膜厚、λ0は使用波長
（請求項４）」を提供する。
の実効的な屈折率が基板の屈折率に対して、 ｎ＝（ｎ1）1/2 の関係を満たすこと或いは、前記層の光学的膜厚が使用
波長に対して ｎ・ｄ＝λ0／４ の関係を満たすことを特徴とする請求項１〜３記載の光
学部材。但し、ｎは各凹部の空間（媒質）又は各凸部間
の空間（媒質）を含む反射防止層の屈折率、ｎ1は基板
の屈折率、ｄは前記反射防止層の膜厚、λ0は使用波長
（請求項４）」を提供する。
【０００９】
【発明の実施形態】以下に、本発明の実施形態としての
光学部材について図面を参照しながら説明する。図１
は、本発明にかかる第１実施形態の光学部材の概略斜視
図である。図２は、本発明にかかる第２実施形態の光学
部材の概略斜視図である。
光学部材について図面を参照しながら説明する。図１
は、本発明にかかる第１実施形態の光学部材の概略斜視
図である。図２は、本発明にかかる第２実施形態の光学
部材の概略斜視図である。
【００１０】第１実施形態の光学部材は、基板１上に１
２０ｎｍ〜１８０ｎｍ波長領域用の光学薄膜材料からな
る半径ｒ、高さｄの略円筒状の凸部１ａが周期長Ｓで周
期的に形成されている。第２実施形態の光学部材は、基
板２上に半径ｒ、高さｄの略円筒状の凹部１ａ’が周期
長Ｓで周期的に設けられた１２０ｎｍ〜１８０ｎｍ波長
領域用の光学薄膜１’が形成されている。
２０ｎｍ〜１８０ｎｍ波長領域用の光学薄膜材料からな
る半径ｒ、高さｄの略円筒状の凸部１ａが周期長Ｓで周
期的に形成されている。第２実施形態の光学部材は、基
板２上に半径ｒ、高さｄの略円筒状の凹部１ａ’が周期
長Ｓで周期的に設けられた１２０ｎｍ〜１８０ｎｍ波長
領域用の光学薄膜１’が形成されている。
【００１１】基板２として、１２０ｎｍ〜１８０ｎｍの
波長領域の光を透過する、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ
2）、蛍石（ＣａＦ2）が用いられる。１２０ｎｍ〜１８
０ｎｍの波長領域で使用可能な光学薄膜として、基板と
同じ材料又は基板の屈折率より小さい材料が好ましく、
ＭｇＦ2、ＣａＦ2、ＬｉＦ、Ｎａ3ＡｌＦ6、Ｎａ5Ａｌ3
Ｆ14、ＡｌＦ3およびこれらの混合物質又は化合物の群
より選ばれた１つ以上の成分が挙げられる。
波長領域の光を透過する、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ
2）、蛍石（ＣａＦ2）が用いられる。１２０ｎｍ〜１８
０ｎｍの波長領域で使用可能な光学薄膜として、基板と
同じ材料又は基板の屈折率より小さい材料が好ましく、
ＭｇＦ2、ＣａＦ2、ＬｉＦ、Ｎａ3ＡｌＦ6、Ｎａ5Ａｌ3
Ｆ14、ＡｌＦ3およびこれらの混合物質又は化合物の群
より選ばれた１つ以上の成分が挙げられる。
【００１２】基板２上に凸部１ａを形成し、その凸部１
ａを含む層１（以下、基板上に形成した凸部を含む層と
いう）により、或いは基板上に凹部１ａ’を設けた層
１’を形成することにより、実質的に所望の屈折率を有
する光学薄膜（現在、存在しない）を基板上に形成した
場合と同様な反射防止効果を得ることができる。基板上
に周期的に形成されている円筒状の凸部１ａ又は凹部１
ａ’の周期長Ｓは、使用波長をλ0とすると、 Ｓ≦λ0／10 ・・・ であることが好ましい。
ａを含む層１（以下、基板上に形成した凸部を含む層と
いう）により、或いは基板上に凹部１ａ’を設けた層
１’を形成することにより、実質的に所望の屈折率を有
する光学薄膜（現在、存在しない）を基板上に形成した
場合と同様な反射防止効果を得ることができる。基板上
に周期的に形成されている円筒状の凸部１ａ又は凹部１
ａ’の周期長Ｓは、使用波長をλ0とすると、 Ｓ≦λ0／10 ・・・ であることが好ましい。
【００１３】周期長を使用波長より十分小さくすると、
光は凹凸を認識することが出来ないからである。また、
凸部又は凹部の形状を円筒状にすることによって、入射
光の偏光状態によらず、反射防止効果を有することがで
きる。凸部又は凹部の形状として、円筒状の他に、円
錐、半球、四角柱、四角錐、三角柱、三角錐等が挙げら
れ、これらによっても同様の効果を得ることができる
が、製作しやすいという点では、円筒状が好ましい。
光は凹凸を認識することが出来ないからである。また、
凸部又は凹部の形状を円筒状にすることによって、入射
光の偏光状態によらず、反射防止効果を有することがで
きる。凸部又は凹部の形状として、円筒状の他に、円
錐、半球、四角柱、四角錐、三角柱、三角錐等が挙げら
れ、これらによっても同様の効果を得ることができる
が、製作しやすいという点では、円筒状が好ましい。
【００１４】基板２上に形成した凸部１ａを含む層１又
は凹部１ａ’を設けた層１’の実効的な屈折率ｎは、単
位（一周期）体積当たりに物質（薄膜）が存在する空間
の体積Ｖ1と物質の存在しない（媒質、一般的には空
気）空間の体積Ｖ2の比率によって以下のように算出す
ることができる。 （１）第１の実施形態にかかる光学部材の反射防止膜の
屈折率について（図１） 単位（一周期）体積：Ｖ＝Ｓ2ｄ 円筒（凸部）の体積：Ｖ1＝πｒ2ｄ 媒質（空気）の存在する体積：Ｖ2＝Ｖ−Ｖ1＝（Ｓ2−
πｒ2）ｄ であり、 円筒（凸部）を構成する物質の屈折率：ｎ2 媒質（空気）の屈折率：ｎ0（＝１） とすると、基板上に形成した凸部を含む層の実効的な屈
折率： ｎ＝（ｎ2Ｖ1＋ｎ0Ｖ2）／Ｖ ＝｛（ｎ2πｒ2）＋［ｎ0（Ｓ2−πｒ2）］｝／Ｓ2 ＝１＋（ｎ2−１）πｒ2／Ｓ2＜ｎ2 ・・・ である。
は凹部１ａ’を設けた層１’の実効的な屈折率ｎは、単
位（一周期）体積当たりに物質（薄膜）が存在する空間
の体積Ｖ1と物質の存在しない（媒質、一般的には空
気）空間の体積Ｖ2の比率によって以下のように算出す
ることができる。 （１）第１の実施形態にかかる光学部材の反射防止膜の
屈折率について（図１） 単位（一周期）体積：Ｖ＝Ｓ2ｄ 円筒（凸部）の体積：Ｖ1＝πｒ2ｄ 媒質（空気）の存在する体積：Ｖ2＝Ｖ−Ｖ1＝（Ｓ2−
πｒ2）ｄ であり、 円筒（凸部）を構成する物質の屈折率：ｎ2 媒質（空気）の屈折率：ｎ0（＝１） とすると、基板上に形成した凸部を含む層の実効的な屈
折率： ｎ＝（ｎ2Ｖ1＋ｎ0Ｖ2）／Ｖ ＝｛（ｎ2πｒ2）＋［ｎ0（Ｓ2−πｒ2）］｝／Ｓ2 ＝１＋（ｎ2−１）πｒ2／Ｓ2＜ｎ2 ・・・ である。
【００１５】これは、基板上に光学的膜厚ｄ、屈折率１
＋（ｎ2−１）πｒ2／Ｓ2の薄膜を形成した光学部材と
実質的に同じである。 （２）第２の実施形態にかかる光学部材の反射防止膜の
屈折率について（図２） 単位（一周期）体積：Ｖ＝Ｓ2ｄ 円筒（凹部）の体積（媒質部）：Ｖ1＝πｒ2ｄ 物質（薄膜）の存在する体積：Ｖ2＝Ｖ−Ｖ1＝（Ｓ2−
πｒ2）ｄ であり、 物質（薄膜）の屈折率：ｎ2 媒質（空気）の屈折率：ｎ0（＝１） とすると、 凹部を設けた層の実効的な屈折率： ｎ＝（ｎ0Ｖ1＋ｎ2Ｖ2）／Ｖ ＝｛（ｎ0πｒ2）＋［ｎ2（Ｓ2−πｒ2）］｝／Ｓ2 ＝ｎ2−（ｎ2−１）πｒ2／Ｓ2＜ｎ2 ・・・ である。
＋（ｎ2−１）πｒ2／Ｓ2の薄膜を形成した光学部材と
実質的に同じである。 （２）第２の実施形態にかかる光学部材の反射防止膜の
屈折率について（図２） 単位（一周期）体積：Ｖ＝Ｓ2ｄ 円筒（凹部）の体積（媒質部）：Ｖ1＝πｒ2ｄ 物質（薄膜）の存在する体積：Ｖ2＝Ｖ−Ｖ1＝（Ｓ2−
πｒ2）ｄ であり、 物質（薄膜）の屈折率：ｎ2 媒質（空気）の屈折率：ｎ0（＝１） とすると、 凹部を設けた層の実効的な屈折率： ｎ＝（ｎ0Ｖ1＋ｎ2Ｖ2）／Ｖ ＝｛（ｎ0πｒ2）＋［ｎ2（Ｓ2−πｒ2）］｝／Ｓ2 ＝ｎ2−（ｎ2−１）πｒ2／Ｓ2＜ｎ2 ・・・ である。
【００１６】これは、基板上に光学的膜厚ｄ、屈折率ｎ
2−（ｎ2−１）πｒ2／Ｓ2の薄膜を形成した光学部材と
実質的に同じである。上記のように、基板上に形成した
凸部１ａを含む層１又は凹部１ａ’を設けた層１’の実
効的な屈折率ｎは、円筒状の凸部１ａ又は凹部１ａ’の
体積を変えることによって、空気の屈折率ｎ0（＝１）
から光学薄膜の屈折率ｎ2の範囲で、任意に変えること
ができ、凸部１ａの光学薄膜材料又は凹部１ａ’を設け
た層の光学薄膜材料の屈折率ｎ2より小さい屈折率を得
ることができる。
2−（ｎ2−１）πｒ2／Ｓ2の薄膜を形成した光学部材と
実質的に同じである。上記のように、基板上に形成した
凸部１ａを含む層１又は凹部１ａ’を設けた層１’の実
効的な屈折率ｎは、円筒状の凸部１ａ又は凹部１ａ’の
体積を変えることによって、空気の屈折率ｎ0（＝１）
から光学薄膜の屈折率ｎ2の範囲で、任意に変えること
ができ、凸部１ａの光学薄膜材料又は凹部１ａ’を設け
た層の光学薄膜材料の屈折率ｎ2より小さい屈折率を得
ることができる。
【００１７】反射防止効果は、基板の屈折率より小さい
屈折率の光学薄膜を基板上に形成すれば得られる。しか
し、有効な反射防止効果を得るためには、光学薄膜の屈
折率ｎと光学的膜厚ｎｄが次式を満たす様に光学薄膜を
基板上に形成することにより、目的の波長で反射率が最
も小さくなる。 ｎ＝ｎ1 1/2 （ここで、ｎ1は基板の屈折率） ・・・ ｎ・ｄ＝λ0／４ （ここで、λ0は使用波長） ・・・ したがって、本発明にかかる光学部材は、基板２上に周
期的に形成される円筒状の凸部１ａを含む層又は凹部１
ａ’を設けた層１’の実効的な屈折率ｎと光学的膜厚ｎ
ｄが式、を満たすように設定することによって、有
効な反射防止効果を有する光学部材を提供することがで
きる。
屈折率の光学薄膜を基板上に形成すれば得られる。しか
し、有効な反射防止効果を得るためには、光学薄膜の屈
折率ｎと光学的膜厚ｎｄが次式を満たす様に光学薄膜を
基板上に形成することにより、目的の波長で反射率が最
も小さくなる。 ｎ＝ｎ1 1/2 （ここで、ｎ1は基板の屈折率） ・・・ ｎ・ｄ＝λ0／４ （ここで、λ0は使用波長） ・・・ したがって、本発明にかかる光学部材は、基板２上に周
期的に形成される円筒状の凸部１ａを含む層又は凹部１
ａ’を設けた層１’の実効的な屈折率ｎと光学的膜厚ｎ
ｄが式、を満たすように設定することによって、有
効な反射防止効果を有する光学部材を提供することがで
きる。
【００１８】本発明にかかる光学部材は、基板に使用さ
れる物質もしくは１種類の低屈折率物質を用いれば、反
射防止効果を得ることが可能になる。さらに、第１及び
第２実施形態において、凸部及び凹部は周期的に設けら
れているが、凸部又は凹部の中心間の距離がλ0／１０
以下を満たせば、ランダムに設けてもよい。
れる物質もしくは１種類の低屈折率物質を用いれば、反
射防止効果を得ることが可能になる。さらに、第１及び
第２実施形態において、凸部及び凹部は周期的に設けら
れているが、凸部又は凹部の中心間の距離がλ0／１０
以下を満たせば、ランダムに設けてもよい。
【００１９】
〔実施例１〕まず、蛍石（ＣａＦ2）基板上に膜厚ｄ＝
３１．４ｎｍのフッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）を真空
蒸着法により成膜した。次に、成膜したフッ化マグネシ
ウム（ＭｇＦ2）上に、電子ビーム描画装置、ドライエ
ッチング法を用いて、図２のような周期的に円筒状の穴
（凹部）の空いた微細パターンの加工を行った。円筒状
の凹部は、半径ｒ＝３．７ｎｍ、深さ（＝高さ）ｄ＝３
４．１ｎｍ、周期Ｓ＝１０ｎｍである。
３１．４ｎｍのフッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）を真空
蒸着法により成膜した。次に、成膜したフッ化マグネシ
ウム（ＭｇＦ2）上に、電子ビーム描画装置、ドライエ
ッチング法を用いて、図２のような周期的に円筒状の穴
（凹部）の空いた微細パターンの加工を行った。円筒状
の凹部は、半径ｒ＝３．７ｎｍ、深さ（＝高さ）ｄ＝３
４．１ｎｍ、周期Ｓ＝１０ｎｍである。
【００２０】実施例１で製作した光学部材の入射角θ=
０°における反射特性図を図３に示す。 比較のため
に、従来技術である蛍石基板上にフッ化マグネシウム
（ＭｇＦ 2）単層膜（周期的な穴を空ける前の状態）を
形成した光学部材の入射角θ=０°における反射特性図
を図４に示す。実施例１で製作された光学部材は、λ＝
１５７ｎｍにおける反射率は約０％であるが、従来の光
学部材は、λ＝１５７ｎｍにおける反射率は約１．８％
であることがわかる。
０°における反射特性図を図３に示す。 比較のため
に、従来技術である蛍石基板上にフッ化マグネシウム
（ＭｇＦ 2）単層膜（周期的な穴を空ける前の状態）を
形成した光学部材の入射角θ=０°における反射特性図
を図４に示す。実施例１で製作された光学部材は、λ＝
１５７ｎｍにおける反射率は約０％であるが、従来の光
学部材は、λ＝１５７ｎｍにおける反射率は約１．８％
であることがわかる。
【００２１】本実施例では、本発明にかかる光学部材を
作製する方法として、膜の作製に真空蒸着法、微細パタ
ーンの作製に電子ビーム描画法＋ドライエッチングを用
いたが、この方法に限定されるものではない。その他の
作製法として、膜の作製にはスパッタ法、イオンプレー
ティング法等の物理的成膜法や、CVD法等の化学的成膜
法など、微細パターンの加工にはイオン、中性子等のエ
ネルギー粒子を使用した方法、X線等の光を利用した方
法などでも本発明にかかる光学部材を作製することが可
能である。
作製する方法として、膜の作製に真空蒸着法、微細パタ
ーンの作製に電子ビーム描画法＋ドライエッチングを用
いたが、この方法に限定されるものではない。その他の
作製法として、膜の作製にはスパッタ法、イオンプレー
ティング法等の物理的成膜法や、CVD法等の化学的成膜
法など、微細パターンの加工にはイオン、中性子等のエ
ネルギー粒子を使用した方法、X線等の光を利用した方
法などでも本発明にかかる光学部材を作製することが可
能である。
【００２２】また、本実施例では、平面の光学部材を示
したが、この形状に限定されるものではなく、凸レン
ズ、凹レンズ、メニスカスレンズでも作製可能である。
したが、この形状に限定されるものではなく、凸レン
ズ、凹レンズ、メニスカスレンズでも作製可能である。
【００２３】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明にかかる
光学部材は、基板上に、凹部が周期的に設けられた光学
薄膜を形成し、或いは光学薄膜材料からなる凸部を周期
的に形成したので、任意の波長で偏光の影響が小さい反
射防止効果を得ることができる。 特に１２０ｎｍ〜１
８０ｎｍの波長において、従来の技術では困難であった
反射防止効果を有する光学部材を提供することができ
る。
光学部材は、基板上に、凹部が周期的に設けられた光学
薄膜を形成し、或いは光学薄膜材料からなる凸部を周期
的に形成したので、任意の波長で偏光の影響が小さい反
射防止効果を得ることができる。 特に１２０ｎｍ〜１
８０ｎｍの波長において、従来の技術では困難であった
反射防止効果を有する光学部材を提供することができ
る。
【００２４】複数面使用した光学系に使用することを考
えた場合には、一面あたりの残存反射が大きいと、光学
系全体での透過率（光量）が小さくなってしまう。さら
に、半導体露光装置（ステッパー）のように高精度な光
学系に使用するためには、残存反射は結像性能の劣化を
引き起こすことになる。したがって、１２０ｎｍ〜２０
０ｎｍの領域での高精度な光学系は、従来の技術で作製
した光学部材では実現できないが、本発明の光学部材を
使用することによって実現が可能になる。
えた場合には、一面あたりの残存反射が大きいと、光学
系全体での透過率（光量）が小さくなってしまう。さら
に、半導体露光装置（ステッパー）のように高精度な光
学系に使用するためには、残存反射は結像性能の劣化を
引き起こすことになる。したがって、１２０ｎｍ〜２０
０ｎｍの領域での高精度な光学系は、従来の技術で作製
した光学部材では実現できないが、本発明の光学部材を
使用することによって実現が可能になる。
【図１】は、本発明にかかる第１実施形態の光学部材の
概略斜視図である。
概略斜視図である。
【図２】は、本発明にかかる第２実施形態の光学部材の
概略斜視図である。
概略斜視図である。
【図３】は、実施例１の光学部材の入射角θ=０°にお
ける反射特性図である。
ける反射特性図である。
【図４】は、従来技術である単層膜が形成された光学部
材の入射角θ=０°における反射特性図である。
材の入射角θ=０°における反射特性図である。
【図５】は、従来の光学部材の概略斜視図である。
１・・・凸部を含む層 １ａ・・・凸部 １’・・・凹部を設けた層 １ａ’・・・凹部 ２・・・基板 ３・・・くさび状の薄膜
Claims (4)
- 【請求項１】凹部が周期的に設けられた１２０ｎｍ〜２
００ｎｍの波長領域用の光学薄膜材料からなる反射防止
層を、或いは１２０ｎｍ〜２００ｎｍ波長領域用の光学
薄膜材料により凸部が周期的に形成されてなる反射防止
層を基板上に有する光学部材。 - 【請求項２】前記周期長が使用波長の１／１０以下であ
ることを特徴とする請求項１記載の光学部材。 - 【請求項３】前記１２０ｎｍ〜２００ｎｍの波長領域用
の光学薄膜材料が、ＭｇＦ2、ＣａＦ2、ＬｉＦ、Ｎａ3
ＡｌＦ6、Ｎａ5Ａｌ3Ｆ14、ＡｌＦ3およびこれらの混合
物質又は化合物の群より選ばれた１つ以上の成分である
ことを特徴とする請求項１又２記載の光学部材。 - 【請求項４】前記反射防止層の実効的な屈折率が基板の
屈折率に対して、 ｎ＝（ｎ1）1/2 の関係を満たすこと或いは、前記層の光学的膜厚が使用
波長に対して ｎ・ｄ＝λ0／４ の関係を満たすことを特徴とする請求項１〜３記載の光
学部材。但し、ｎは各凹部の空間（媒質）又は各凸部間
の空間（媒質）を含む反射防止層の屈折率、ｎ1は基板
の屈折率、ｄは前記反射防止層の膜厚、λ0は使用波長
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9270062A JPH11109103A (ja) | 1997-10-02 | 1997-10-02 | 光学部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9270062A JPH11109103A (ja) | 1997-10-02 | 1997-10-02 | 光学部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11109103A true JPH11109103A (ja) | 1999-04-23 |
Family
ID=17480996
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9270062A Pending JPH11109103A (ja) | 1997-10-02 | 1997-10-02 | 光学部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11109103A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004502625A (ja) * | 2000-07-06 | 2004-01-29 | サン−ゴバン グラス フランス | 透明テクスチャー加工基板及びその獲得方法 |
| US7034808B2 (en) | 2001-01-17 | 2006-04-25 | Seiko Epson Corporation | Touch panel and electronic device |
| JP2010513961A (ja) * | 2006-12-22 | 2010-04-30 | シュライフリング ウント アパラーテバウ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 反射減衰量の大きな光回転結合器 |
| US10689523B2 (en) | 2016-03-14 | 2020-06-23 | Lg Chem, Ltd. | Antireflection film and display device |
| US11112599B2 (en) | 2016-03-14 | 2021-09-07 | Lg Chem, Ltd. | Antireflection film having hard coating layer and display device including the same |
-
1997
- 1997-10-02 JP JP9270062A patent/JPH11109103A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004502625A (ja) * | 2000-07-06 | 2004-01-29 | サン−ゴバン グラス フランス | 透明テクスチャー加工基板及びその獲得方法 |
| US7034808B2 (en) | 2001-01-17 | 2006-04-25 | Seiko Epson Corporation | Touch panel and electronic device |
| JP2010513961A (ja) * | 2006-12-22 | 2010-04-30 | シュライフリング ウント アパラーテバウ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 反射減衰量の大きな光回転結合器 |
| US10689523B2 (en) | 2016-03-14 | 2020-06-23 | Lg Chem, Ltd. | Antireflection film and display device |
| US11112599B2 (en) | 2016-03-14 | 2021-09-07 | Lg Chem, Ltd. | Antireflection film having hard coating layer and display device including the same |
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