JP2022071290A - 光学部品および光学機器 - Google Patents
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Abstract
Description
蛍石基板の上にLaF3とAlF3からなるペアをn/2ペア、LaF3とAlF3からなるペアを24-n/2ペア、さらにその上にLaF3、MgF2、LaF3の順に積層している。各層の193nmにおける物理膜厚を表1に示す。各層の物理膜厚は、光学膜厚が193nmの26~29%となるようにしている。
蛍石基板の上にLaF3とAlF3からなるペアを24ペア、さらにその上にLaF3、MgF2、LaF3の順に積層している。各層の193nmにおける物理膜厚を表1に示す。類型Bにおいて、それぞれの層は類型Aの同じ膜種と同様の条件で成膜した。
蛍石基板の上にYbF3とAlF3からなるペアを24ペア、さらにその上にLaF3、MgF2、LaF3の順に積層している。各層の193nmにおける物理膜厚を表1に示す。類型Bにおいて、それぞれの層は類型Aの同じ膜種と同様の条件で成膜した。
類型A、B、Cの光学部品の反射率および表面粗さを比較した結果を表2に示す。表2には、類型Aにおいてnの値を異ならせた場合の特性を記載している。また、図3(c)には、類型A,Bの反射率特性を示ししている。波長193nmで、類型Aのミラーの方が類型Bよりも約0.7%高い反射率を得ることができている。なお、ミラーの反射率は、分光測定器を用いて光線入射角45度で測定した。
20 積層膜
21~24 誘電体層
Claims (23)
- 基体と、
前記基体の上に設けられた第1層群と、前記第1層群と前記基体との間に設けられた第2層群と、を含む積層膜と、
を備え、
前記第2層群において、第1誘電体層と第2誘電体層が交互に積層されており、
前記第1層群において、第3誘電体層と第4誘電体層が交互に積層されており、
前記第1誘電体層の屈折率は前記第2誘電体層の屈折率よりも高く、
前記第3誘電体層の屈折率は前記第4誘電体層の屈折率よりも高く、
前記第1誘電体層の組成と前記第2誘電体層の組成は互いに異なり、
前記第1誘電体層は第1金属元素の化合物を含有し、前記第3誘電体層は第1金属元素とは別の第2金属元素の化合物を含有することを特徴とする光学部品。 - 前記第3誘電体層の前記屈折率は、前記第1誘電体層の屈折率よりも高い、請求項1に記載の光学部品。
- 前記第3誘電体層の前記屈折率と前記第4誘電体層の前記屈折率との差は、前記第1誘電体層の前記屈折率と前記第2誘電体層の前記屈折率との差よりも大きい、請求項1または2に記載の光学部品。
- 前記第1金属元素は希土類元素であり、
前記第2金属元素は希土類元素である、
請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光学部品。 - 前記第1誘電体層は弗化物を含有し、
前記第3誘電体層は弗化物を含有する、
請求項1乃至4のいずれか1項に記載の光学部品。 - 前記第3誘電体層は、弗化ネオジム、弗化ランタン、弗化ガドリニウム、弗化サマリウム、弗化セリウムおよび酸化アルミニウムの少なくともいずれかを含有する、
請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光学部品。 - 前記第1誘電体層は弗化イッテルビウムを含有する、
請求項1乃至6のいずれか1項に記載の光学部品。 - 前記第2誘電体層は金属元素の化合物を含有し、
前記第4誘電体層は金属元素の化合物を含有する、請求項1乃至7のいずれか1項に記載の光学部品。 - 前記第2誘電体層が含有する前記化合物の前記金属元素は典型元素であり、
前記第4誘電体層が含有する前記化合物の前記金属元素は典型元素である、請求項8に記載の光学部品。 - 前記第2誘電体層は弗化物を含有し、
前記第4誘電体層は弗化物を含有する、請求項1乃至9のいずれか1項に記載の光学部品。 - 前記第2誘電体層および前記第4誘電体層のそれぞれは、弗化マグネシウム、弗化アルミニウム、弗化ナトリウム、弗化リチウム、弗化カルシウム、弗化バリウム、弗化ストロンチウム、酸化シリコン、クリオライトおよびチオライトの少なくともいずれかを含有する、請求項1乃至8のいずれか1項に記載の光学部品。
- 基体と、
前記基体の上に設けられた積層膜と、
を備え、
前記積層膜は、第1誘電体層、第2誘電体層、第3誘電体層および第4誘電体層を含み、
前記第1誘電体層は前記第2誘電体層と前記基体との間に配され、前記第1誘電体層と前記第2誘電体層との間の距離は前記第1誘電体層の厚さよりも小さく、
前記第3誘電体層は前記第4誘電体層と前記基体との間に配され、前記第3誘電体層と前記第4誘電体層との間の距離は前記第3誘電体層の厚さよりも小さく、
第1誘電体層は弗化イッテルビウムを含有し、
第3誘電体層は弗化ネオジム、弗化ネオジム、弗化ランタン、弗化ガドリニウム、弗化サマリウム、弗化セリウムおよび酸化アルミニウムの少なくともいずれかを含有し、
前記第2誘電体層および前記第4誘電体層のそれぞれは、弗化マグネシウム、弗化アルミニウム、弗化ナトリウム、弗化リチウム、弗化カルシウム、弗化バリウム、弗化ストロンチウム、酸化シリコン、クリオライトおよびチオライトの少なくともいずれかを含有することを特徴とする光学部品。 - 前記第1誘電体層は、前記基体と前記第3誘電体層との間に設けられている、請求項12に記載の光学部品。
- 前記第1誘電体層の前記基体とは反対側の面は、前記第3誘電体層の前記基体とは反対側の面よりも平坦である、請求項1乃至14のいずれか1項に記載の光学部品。
- 前記積層膜は、前記第1誘電体層に含有される少なくとも2つの元素を含有するi個(i≧2)の誘電体層を含み、かつ、
前記積層膜は、前記第3誘電体層に含有される少なくとも2つの元素を含有するj個(j≧2)の誘電体層を含み、
0.2≦i/j≦5を満たす、請求項1乃至14のいずれか1項に記載の光学部品。 - 前記積層膜の前記基体とは反対側の面の表面粗さが、1.0nmRMS以上かつ3.0nmRMS以下である、請求項1乃至15のいずれか1項に記載の光学部品。
- 前記積層膜は、第5誘電体層を含み、
前記第1誘電体層、前記第2誘電体層、前記第3誘電体層および前記第4誘電体層が、前記第5誘電体層と前記基体との間に設けられており
(ニ)前記第5誘電体層の屈折率は、前記第3誘電体層の屈折率よりも低く、かつ、前記第4誘電体層の屈折率よりも高いこと、および
(ホ)前記第5誘電体層は弗化マグネシウムを含有すること、
の少なくともいずれかを満たす請求項1乃至16のいずれか1項に記載の光学部品。 - 基体と、前記基体の上に設けられた弗化イッテルビウム層と、を備え、
193nmの波長の光に対する前記弗化イッテルビウム層の屈折率が1.65以上であることを特徴とする光学部品。 - 前記基体は単結晶または多結晶である、請求項1乃至18のいずれか1項に記載の光学部品。
- 前記基体は弗化カルシウムを含有する、請求項1乃至19のいずれか1項に記載の光学部品。
- 光源と、請求項1乃至20のいずれか1項に記載の光学部品と、を備え、
前記光学部品が、前記光源からの光を透過および/または反射することを特徴とする光学機器。 - 前記光は紫外光である、請求項21に記載の光学機器。
- レチクルを支持する第1ステージと、基板を支持する第2ステージと、を備え、前記光源および前記光学部品および前記レチクルによって形成されたパターンを前記基板に投影する、請求項21または22に記載の光学機器。
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