JP2001013304A - 光学部品 - Google Patents
光学部品Info
- Publication number
- JP2001013304A JP2001013304A JP11185767A JP18576799A JP2001013304A JP 2001013304 A JP2001013304 A JP 2001013304A JP 11185767 A JP11185767 A JP 11185767A JP 18576799 A JP18576799 A JP 18576799A JP 2001013304 A JP2001013304 A JP 2001013304A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical
- film
- antireflection
- optical component
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 68
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 67
- 239000012788 optical film Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 21
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 11
- 239000010436 fluorite Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims abstract description 7
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(IV) oxide Inorganic materials O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 12
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
- C03C17/3447—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a halide
- C03C17/3452—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a halide comprising a fluoride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
- C03C2217/734—Anti-reflective coatings with specific characteristics comprising an alternation of high and low refractive indexes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 生産性がよく、低コストで提供可能であり、
紫外光領域内の広帯域で反射防止効果の良好な反射防止
膜を有する光学部品を提供する。 【解決手段】 石英もしくは蛍石からなる光学部品の表
面に、設計波長λを230nmから300nmとして前
記表面側から空気側へ順に、第1層として、光学的膜厚
が0.9×λ/4以上、1.3×λ/4以下のAl2O
3薄膜と、第2層として、光学的膜厚が2.0×λ/4
以上、2.6×λ/4以下のHfO2薄膜と、第3層と
して、光学的膜厚が0.9×λ/4以上、1.3×λ/
4以下のMgF2薄膜とを有する反射防止膜を設けた。
紫外光領域内の広帯域で反射防止効果の良好な反射防止
膜を有する光学部品を提供する。 【解決手段】 石英もしくは蛍石からなる光学部品の表
面に、設計波長λを230nmから300nmとして前
記表面側から空気側へ順に、第1層として、光学的膜厚
が0.9×λ/4以上、1.3×λ/4以下のAl2O
3薄膜と、第2層として、光学的膜厚が2.0×λ/4
以上、2.6×λ/4以下のHfO2薄膜と、第3層と
して、光学的膜厚が0.9×λ/4以上、1.3×λ/
4以下のMgF2薄膜とを有する反射防止膜を設けた。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、表面に反射防止膜
を設けた光学部品、詳しくは230nm以上300nm
以下の紫外光領域で使用される光学部品に関する。
を設けた光学部品、詳しくは230nm以上300nm
以下の紫外光領域で使用される光学部品に関する。
【0002】
【従来の技術】光学部品の表面に形成する反射防止膜の
材料であって、可視光域で一般に用いられる光学薄膜材
料の多くは、光の波長が300nm以下において透明で
ないため、可視光域に用いる反射防止膜の殆どは300
nm以下の波長域で使用することはできない。従って、
紫外光用の反射防止膜には、300nm以下で透明であ
る材料を適用せざるを得ない。従来、紫外光用の反射防
止膜としては、例えば、蛍石や石英等の光学素子基板の
表面に、高屈折率材料のAl2O3と低屈折率材料のS
iO2とを積層した反射防止膜などが知られている。そ
の一つとして、特開平9−258006号公報に開示さ
れた反射防止膜がある。
材料であって、可視光域で一般に用いられる光学薄膜材
料の多くは、光の波長が300nm以下において透明で
ないため、可視光域に用いる反射防止膜の殆どは300
nm以下の波長域で使用することはできない。従って、
紫外光用の反射防止膜には、300nm以下で透明であ
る材料を適用せざるを得ない。従来、紫外光用の反射防
止膜としては、例えば、蛍石や石英等の光学素子基板の
表面に、高屈折率材料のAl2O3と低屈折率材料のS
iO2とを積層した反射防止膜などが知られている。そ
の一つとして、特開平9−258006号公報に開示さ
れた反射防止膜がある。
【0003】これは、Al2O3とSiO2とを交互に
6〜8層、積層することによって、光学部品の反射率が
0.2%以下である波長帯域幅が30nm確保されると
いう、反射防止効果の良好な帯域が広い反射防止膜を得
ている。
6〜8層、積層することによって、光学部品の反射率が
0.2%以下である波長帯域幅が30nm確保されると
いう、反射防止効果の良好な帯域が広い反射防止膜を得
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、上記従来技
術にはつぎのような問題点があった。すなわち、上記反
射防止膜は、層数が6層以上となっていて非常に多いた
め、生産性が悪く、光学部品の製造コストが高くなると
いう問題点があった。
術にはつぎのような問題点があった。すなわち、上記反
射防止膜は、層数が6層以上となっていて非常に多いた
め、生産性が悪く、光学部品の製造コストが高くなると
いう問題点があった。
【0005】本発明は上記従来の問題点に鑑みてなされ
たもので、請求項1に係る発明の課題は、生産性がよ
く、低コストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯域
で反射防止効果の良好な反射防止膜を有する光学部品を
提供することである。
たもので、請求項1に係る発明の課題は、生産性がよ
く、低コストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯域
で反射防止効果の良好な反射防止膜を有する光学部品を
提供することである。
【0006】請求項2に係る発明の課題は、生産性がよ
く、低コストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯域
で反射防止効果の優れた反射防止膜を有する光学部品を
提供することである。
く、低コストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯域
で反射防止効果の優れた反射防止膜を有する光学部品を
提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1に係る発明は、石英もしくは蛍石からなる
光学部品の表面に、設計波長λを230nmから300
nmとして前記表面側から空気側へ順に、第1層とし
て、光学的膜厚が0.9×λ/4以上、1.3×λ/4
以下のAl2O3薄膜と、第2層として、光学的膜厚が
2.0×λ/4以上、2.6×λ/4以下のHfO2薄
膜と、第3層として、光学的膜厚が0.9×λ/4以
上、1.3×λ/4以下のMgF2薄膜とを有する反射
防止膜を設けた。
に、請求項1に係る発明は、石英もしくは蛍石からなる
光学部品の表面に、設計波長λを230nmから300
nmとして前記表面側から空気側へ順に、第1層とし
て、光学的膜厚が0.9×λ/4以上、1.3×λ/4
以下のAl2O3薄膜と、第2層として、光学的膜厚が
2.0×λ/4以上、2.6×λ/4以下のHfO2薄
膜と、第3層として、光学的膜厚が0.9×λ/4以
上、1.3×λ/4以下のMgF2薄膜とを有する反射
防止膜を設けた。
【0008】請求項2に係る発明は、石英もしくは蛍石
からなる光学部品の表面に、設計波長λを230nmか
ら300nmとして前記表面側から空気側へ順に、第1
層として、光学的膜厚が1.15×λ/4以上、1.3
0×λ/4以下のAl2O3薄膜と、第2層として、光
学的膜厚が2.30×λ/4以上、2.45×λ/4以
下のHfO2薄膜と、第3層として、光学的膜厚が1.
00×λ/4以上、1.10×λ/4以下のMgF2薄
膜とを有する反射防止膜を設けた。
からなる光学部品の表面に、設計波長λを230nmか
ら300nmとして前記表面側から空気側へ順に、第1
層として、光学的膜厚が1.15×λ/4以上、1.3
0×λ/4以下のAl2O3薄膜と、第2層として、光
学的膜厚が2.30×λ/4以上、2.45×λ/4以
下のHfO2薄膜と、第3層として、光学的膜厚が1.
00×λ/4以上、1.10×λ/4以下のMgF2薄
膜とを有する反射防止膜を設けた。
【0009】請求項1に係る発明の光学部品では、該光
学部品表面に設ける反射防止膜の層数を3層と少なくし
ても、光学的膜厚を最適化することによって、紫外光領
域内の広帯域で、良好な反射防止機能を有する反射防止
膜が得られる。
学部品表面に設ける反射防止膜の層数を3層と少なくし
ても、光学的膜厚を最適化することによって、紫外光領
域内の広帯域で、良好な反射防止機能を有する反射防止
膜が得られる。
【0010】請求項2に係る発明の光学部品では、該光
学部品表面に設ける反射防止膜の層数を3層と少なくし
ても、光学的膜厚の許容範囲をさらに限定することによ
って、紫外光領域内の広帯域で、より反射率が低い優れ
た反射防止膜が得られる。
学部品表面に設ける反射防止膜の層数を3層と少なくし
ても、光学的膜厚の許容範囲をさらに限定することによ
って、紫外光領域内の広帯域で、より反射率が低い優れ
た反射防止膜が得られる。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明では、300nm以下の波
長の光に対して透明であって、高い機械的強度を持ち、
それぞれ屈折率の異なるAl2O3、HfO2、MgF
2を光学部品表面に設ける反射防止膜の各層の材料とし
て用いることにより、光学部品表面に設ける反射防止膜
の層数を3層と少なくしても、その光学的膜厚を最適化
することによって、紫外光領域内の広帯域で、良好な反
射防止機能を有する反射防止膜が得られる。請求項1に
示した材料(Al2O3、HfO2、MgF2)を用い
ても、請求項1で示した膜構成とせず、また、光学的膜
厚を請求項1に示した所定の範囲としないと、所望の反
射防止機能を得ることが困難でる。逆に、請求項1で示
した膜構成、光学的膜厚にすると、3層であっても十分
な反射防止機能が得られ、従って、層数が少ないことに
より、生産性が良く、低コストで、反射防止効果の良好
な反射防止膜を有する光学部品を提供することができ
る。
長の光に対して透明であって、高い機械的強度を持ち、
それぞれ屈折率の異なるAl2O3、HfO2、MgF
2を光学部品表面に設ける反射防止膜の各層の材料とし
て用いることにより、光学部品表面に設ける反射防止膜
の層数を3層と少なくしても、その光学的膜厚を最適化
することによって、紫外光領域内の広帯域で、良好な反
射防止機能を有する反射防止膜が得られる。請求項1に
示した材料(Al2O3、HfO2、MgF2)を用い
ても、請求項1で示した膜構成とせず、また、光学的膜
厚を請求項1に示した所定の範囲としないと、所望の反
射防止機能を得ることが困難でる。逆に、請求項1で示
した膜構成、光学的膜厚にすると、3層であっても十分
な反射防止機能が得られ、従って、層数が少ないことに
より、生産性が良く、低コストで、反射防止効果の良好
な反射防止膜を有する光学部品を提供することができ
る。
【0012】また、請求項2で示した膜構成で、各層の
光学的膜厚の許容範囲をさらに限定された範囲に絞るこ
とにより、紫外光領域でより反射率の低い優れた反射防
止膜が得られ、これを表面に設けた光学部品を提供する
ことができる。
光学的膜厚の許容範囲をさらに限定された範囲に絞るこ
とにより、紫外光領域でより反射率の低い優れた反射防
止膜が得られ、これを表面に設けた光学部品を提供する
ことができる。
【0013】本発明は、300nm以下、230nm以
上の波長域において特に有効であり、この波長域を設計
波長λとして採用する場合に効果が高い。300nm以
下で効果が高いのは、300nm以下の波長域では、透
明な反射防止膜の材料が殆どなくなるためである。23
0nm以上において効果が高いのは、Al2O3および
MgF2は、光の波長が200nm以下で若干の光吸収
が発生し、また、HfO2は、光の波長が230nm以
下で若干の光吸収が発生するためである。ただし、23
0nm以下の波長域においては、本発明に用いられる反
射防止膜は若干の光吸収は発生するが、反射防止効果を
十分に持つため、190nm以上の波長域において使用
することができる。
上の波長域において特に有効であり、この波長域を設計
波長λとして採用する場合に効果が高い。300nm以
下で効果が高いのは、300nm以下の波長域では、透
明な反射防止膜の材料が殆どなくなるためである。23
0nm以上において効果が高いのは、Al2O3および
MgF2は、光の波長が200nm以下で若干の光吸収
が発生し、また、HfO2は、光の波長が230nm以
下で若干の光吸収が発生するためである。ただし、23
0nm以下の波長域においては、本発明に用いられる反
射防止膜は若干の光吸収は発生するが、反射防止効果を
十分に持つため、190nm以上の波長域において使用
することができる。
【0014】また、応用面から考察すれば、KrFエキ
シマレーザの波長が248nmであり、本発明の光学部
品に前記波長(248nm)近傍において反射率が低く
なる反射防止膜を設けた場合、ことのほか利用価値が高
い。さらに、ArFエキシマレーザの波長が193nm
であり、本発明はこの波長域においても利用することが
できるため、193nm近傍において使用する光学部品
に本発明を適用しても、十分な反射防止効果が得られ
る。
シマレーザの波長が248nmであり、本発明の光学部
品に前記波長(248nm)近傍において反射率が低く
なる反射防止膜を設けた場合、ことのほか利用価値が高
い。さらに、ArFエキシマレーザの波長が193nm
であり、本発明はこの波長域においても利用することが
できるため、193nm近傍において使用する光学部品
に本発明を適用しても、十分な反射防止効果が得られ
る。
【0015】以下、具体的な実施の形態として、実施の
形態1〜3を説明するが、本発明は、これらの実施の形
態に限定されるものではなく、設計波長λを230nm
から300nmとし、第1層のAl2O3薄膜の光学的
膜厚の範囲を0.9×λ/4以上、1.3×λ/4以
下、第2層のHfO2薄膜の光学的膜厚の範囲を2.3
×λ/4以上、2.6×λ/4以下、および第3層のM
gF2薄膜の光学的膜厚の範囲を0.9×λ/4以上、
1.3×λ/4以下とすれば、実用上、分光反射率特性
が良好な反射防止膜を有する光学部品を得ることができ
る。また、第1層から第3層までの光学的膜厚の範囲を
それぞれ、上記設計波長λの範囲で、1.15×λ/4
以上1.3×λ/4以下、2.30×λ/4以上2.4
5×λ/4以下、および1.00×λ/4以上1.10
×λ/4以下とすれば、より反射率が低い優れた反射防
止効果を有する光学部品を得ることができる。また、こ
れらの実施の形態では、光学部品としてガラスレンズの
場合について説明するが、プリズム、ミラーなど他の光
学部品の場合においても同様の効果を得ることができ
る。
形態1〜3を説明するが、本発明は、これらの実施の形
態に限定されるものではなく、設計波長λを230nm
から300nmとし、第1層のAl2O3薄膜の光学的
膜厚の範囲を0.9×λ/4以上、1.3×λ/4以
下、第2層のHfO2薄膜の光学的膜厚の範囲を2.3
×λ/4以上、2.6×λ/4以下、および第3層のM
gF2薄膜の光学的膜厚の範囲を0.9×λ/4以上、
1.3×λ/4以下とすれば、実用上、分光反射率特性
が良好な反射防止膜を有する光学部品を得ることができ
る。また、第1層から第3層までの光学的膜厚の範囲を
それぞれ、上記設計波長λの範囲で、1.15×λ/4
以上1.3×λ/4以下、2.30×λ/4以上2.4
5×λ/4以下、および1.00×λ/4以上1.10
×λ/4以下とすれば、より反射率が低い優れた反射防
止効果を有する光学部品を得ることができる。また、こ
れらの実施の形態では、光学部品としてガラスレンズの
場合について説明するが、プリズム、ミラーなど他の光
学部品の場合においても同様の効果を得ることができ
る。
【0016】(実施の形態1)図1は実施の形態1を示
し、光学部品の反射防止膜の分光反射率特性を示す図表
である。下記の表1は、本実施の形態の光学部品の構成
を示し、基板は石英(SiO2)製のレンズであり、こ
のレンズ表面に3層の反射防止膜を設けたものである。
表1は、反射防止膜の第1、第2および第3層の薄膜の
それぞれにつき、材質、光学的膜厚(単位nm)および
屈折率を示す。ただし、設計波長λ=250nmとして
いる。なお、所望の反射防止機能を得るために、第2層
には高い屈折率をもつHfO2、第3層には低い屈折率
をもつMgF2、第1層には、その中間の屈折率をもつ
Al2O3を採用している。
し、光学部品の反射防止膜の分光反射率特性を示す図表
である。下記の表1は、本実施の形態の光学部品の構成
を示し、基板は石英(SiO2)製のレンズであり、こ
のレンズ表面に3層の反射防止膜を設けたものである。
表1は、反射防止膜の第1、第2および第3層の薄膜の
それぞれにつき、材質、光学的膜厚(単位nm)および
屈折率を示す。ただし、設計波長λ=250nmとして
いる。なお、所望の反射防止機能を得るために、第2層
には高い屈折率をもつHfO2、第3層には低い屈折率
をもつMgF2、第1層には、その中間の屈折率をもつ
Al2O3を採用している。
【0017】
【表1】
【0018】つぎに、この光学部品の成膜方法について
説明する。基板であるガラスレンズを、図示しない真空
槽に入れ、この真空槽内を1×10−4Paまで排気し
た後、ガラスレンズのレンズ面上に電子ビーム蒸着法に
より、ガラスレンズ側から光学的膜厚1.00×λ/4
のAl2O3、光学的膜厚2.00×λ/4のHf
O 2、光学的膜厚1.00×λ/4のMgF2を順に成
膜した。
説明する。基板であるガラスレンズを、図示しない真空
槽に入れ、この真空槽内を1×10−4Paまで排気し
た後、ガラスレンズのレンズ面上に電子ビーム蒸着法に
より、ガラスレンズ側から光学的膜厚1.00×λ/4
のAl2O3、光学的膜厚2.00×λ/4のHf
O 2、光学的膜厚1.00×λ/4のMgF2を順に成
膜した。
【0019】このようにして成膜された反射防止膜の垂
直入射光の波長200〜400nmでの分光反射率特性
を測定したところ、図1に示す結果を得た。すなわち、
波長210〜310nmの範囲(波長帯域幅100n
m)で反射率0.5%以下、波長230〜270nmの
範囲(波長帯域幅40nm)で反射率0.2%以下、波
長250nmで反射率が0.1以下という良好な分光反
射率特性を得ることができた。
直入射光の波長200〜400nmでの分光反射率特性
を測定したところ、図1に示す結果を得た。すなわち、
波長210〜310nmの範囲(波長帯域幅100n
m)で反射率0.5%以下、波長230〜270nmの
範囲(波長帯域幅40nm)で反射率0.2%以下、波
長250nmで反射率が0.1以下という良好な分光反
射率特性を得ることができた。
【0020】本実施の形態によれば、光学部品表面に設
ける反射防止膜の層数を3層と少なくしても、その光学
的膜厚を最適化することによって、生産性がよく、低コ
ストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯域で、反射
防止効果の良好な反射防止膜を有する光学部品を得るこ
とができる。
ける反射防止膜の層数を3層と少なくしても、その光学
的膜厚を最適化することによって、生産性がよく、低コ
ストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯域で、反射
防止効果の良好な反射防止膜を有する光学部品を得るこ
とができる。
【0021】(実施の形態2)図2および図3は実施の
形態2を示し、図2は基板が石英からなる光学部品の反
射防止膜の分光反射率特性を示す図表、図3は基板が蛍
石からなる光学部品の反射防止膜の分光反射率特性を示
す図表である。本実施の形態の光学部品は、反射防止膜
の光学的膜厚のみが異なり、他の構成および成膜方法
は、実施の形態1と同様のため、異なる部分のみ説明
し、同様部分の説明を省略する。
形態2を示し、図2は基板が石英からなる光学部品の反
射防止膜の分光反射率特性を示す図表、図3は基板が蛍
石からなる光学部品の反射防止膜の分光反射率特性を示
す図表である。本実施の形態の光学部品は、反射防止膜
の光学的膜厚のみが異なり、他の構成および成膜方法
は、実施の形態1と同様のため、異なる部分のみ説明
し、同様部分の説明を省略する。
【0022】下記の表2は、本実施の形態の光学部品の
構成を示し、基板は石英(SiO2)または蛍石(Ca
F2)製のレンズであり、このレンズ表面に3層の反射
防止膜を設けたものである。表2は、反射防止膜の第
1、第2および第3層の薄膜のそれぞれにつき、材質、
光学的膜厚(単位nm)および屈折率を示す。ただし、
設計波長λ=250nmとしている。
構成を示し、基板は石英(SiO2)または蛍石(Ca
F2)製のレンズであり、このレンズ表面に3層の反射
防止膜を設けたものである。表2は、反射防止膜の第
1、第2および第3層の薄膜のそれぞれにつき、材質、
光学的膜厚(単位nm)および屈折率を示す。ただし、
設計波長λ=250nmとしている。
【0023】
【表2】
【0024】実施の形態1と同様に成膜された異なる基
板〔石英(SiO2)および蛍石(CaF2)〕の2種
類の光学部品について、反射防止膜の垂直入射光の波長
200〜400nmの範囲での分光反射率特性を測定し
たところ、基板として石英(SiO2)を用いた場合は
図2に、基板として蛍石(CaF2)を用いた場合は図
3に示す結果を得た。基板として石英(SiO2)を用
いた場合では、230〜285nmの範囲(波長帯域幅
55nm)で反射率0.2%以下、基板として蛍石(C
aF2)を用いた場合では、225nm〜290nmの
範囲(波長帯域幅65nm)で反射率が0.2%以下と
なって、実施の形態1よりも反射率が低い帯域がより広
くなっている。
板〔石英(SiO2)および蛍石(CaF2)〕の2種
類の光学部品について、反射防止膜の垂直入射光の波長
200〜400nmの範囲での分光反射率特性を測定し
たところ、基板として石英(SiO2)を用いた場合は
図2に、基板として蛍石(CaF2)を用いた場合は図
3に示す結果を得た。基板として石英(SiO2)を用
いた場合では、230〜285nmの範囲(波長帯域幅
55nm)で反射率0.2%以下、基板として蛍石(C
aF2)を用いた場合では、225nm〜290nmの
範囲(波長帯域幅65nm)で反射率が0.2%以下と
なって、実施の形態1よりも反射率が低い帯域がより広
くなっている。
【0025】本実施の形態によれば、光学部品表面に設
ける反射防止膜の層数を3層と少なくしても、光学的膜
厚の許容範囲をさらに限定することによって、生産性が
よく、低コストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯
域で、より反射率が低い優れた反射防止膜を有する光学
部品を得ることができる。
ける反射防止膜の層数を3層と少なくしても、光学的膜
厚の許容範囲をさらに限定することによって、生産性が
よく、低コストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯
域で、より反射率が低い優れた反射防止膜を有する光学
部品を得ることができる。
【0026】(実施の形態3)図4は実施の形態3を示
し、光学部品の反射防止膜の分光反射率特性を示す図表
である。本実施の形態の光学部品は、反射防止膜の光学
的膜厚のみが異なり、他の構成および成膜方法は、実施
の形態1と同様のため、異なる部分のみ説明し、同様部
分の説明を省略する。
し、光学部品の反射防止膜の分光反射率特性を示す図表
である。本実施の形態の光学部品は、反射防止膜の光学
的膜厚のみが異なり、他の構成および成膜方法は、実施
の形態1と同様のため、異なる部分のみ説明し、同様部
分の説明を省略する。
【0027】下記の表3は、本実施の形態の光学部品の
構成を示し、基板は石英(SiO2)製のレンズであ
り、このレンズ表面に3層の反射防止膜を設けたもので
ある。表3は、反射防止膜の第1、第2および第3層の
薄膜のそれぞれにつき、材質、光学的膜厚(単位nm)
および屈折率を示す。ただし、設計波長λ=250nm
としている。
構成を示し、基板は石英(SiO2)製のレンズであ
り、このレンズ表面に3層の反射防止膜を設けたもので
ある。表3は、反射防止膜の第1、第2および第3層の
薄膜のそれぞれにつき、材質、光学的膜厚(単位nm)
および屈折率を示す。ただし、設計波長λ=250nm
としている。
【0028】
【表3】
【0029】実施の形態1と同様に成膜された光学部品
について、反射防止膜の垂直入射光の波長200〜40
0nmの範囲での分光反射率特性を測定したところ、図
4に示す結果を得た。ここで、220〜295nmの範
囲(波長帯域幅75nm)で反射率0.2%以下となっ
て、実施の形態1よりも反射率が低い帯域がより広くな
っている。
について、反射防止膜の垂直入射光の波長200〜40
0nmの範囲での分光反射率特性を測定したところ、図
4に示す結果を得た。ここで、220〜295nmの範
囲(波長帯域幅75nm)で反射率0.2%以下となっ
て、実施の形態1よりも反射率が低い帯域がより広くな
っている。
【0030】本実施の形態によれば、光学部品表面に設
ける反射防止膜の層数を3層と少なくしても、光学的膜
厚の許容範囲をさらに限定することによって、生産性が
よく、低コストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯
域で、より反射率が低い優れた反射防止膜を有する光学
部品を得ることができる。
ける反射防止膜の層数を3層と少なくしても、光学的膜
厚の許容範囲をさらに限定することによって、生産性が
よく、低コストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯
域で、より反射率が低い優れた反射防止膜を有する光学
部品を得ることができる。
【0031】
【発明の効果】請求項1に係る発明によれば、光学部品
表面に設ける反射防止膜の層数を3層と少なくしても、
光学的膜厚を最適化することによって、生産性がよく、
低コストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯域で、
反射防止効果の良好な反射防止膜を有する光学部品を得
ることができる。請求項2に係る発明によれば、光学部
品表面に設ける反射防止膜の層数を3層と少なくして
も、光学的膜厚の許容範囲をさらに限定することによっ
て、生産性がよく、低コストで提供可能であり、紫外光
領域内の広帯域で、より反射率が低い優れた反射防止膜
を有する光学部品を得ることができる。
表面に設ける反射防止膜の層数を3層と少なくしても、
光学的膜厚を最適化することによって、生産性がよく、
低コストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯域で、
反射防止効果の良好な反射防止膜を有する光学部品を得
ることができる。請求項2に係る発明によれば、光学部
品表面に設ける反射防止膜の層数を3層と少なくして
も、光学的膜厚の許容範囲をさらに限定することによっ
て、生産性がよく、低コストで提供可能であり、紫外光
領域内の広帯域で、より反射率が低い優れた反射防止膜
を有する光学部品を得ることができる。
【図1】実施の形態1の光学部品の反射防止膜の分光反
射率特性を示す図表である。
射率特性を示す図表である。
【図2】実施の形態2の基板が石英からなる光学部品の
反射防止膜の分光反射率特性を示す図表である。
反射防止膜の分光反射率特性を示す図表である。
【図3】実施の形態2の基板が蛍石からなる光学部品の
反射防止膜の分光反射率特性を示す図表である。
反射防止膜の分光反射率特性を示す図表である。
【図4】実施の形態3の光学部品の反射防止膜の分光反
射率特性を示す図表である。
射率特性を示す図表である。
Claims (2)
- 【請求項1】 石英もしくは蛍石からなる光学部品の表
面に、設計波長λを230nmから300nmとして前
記表面側から空気側へ順に、 第1層として、光学的膜厚が0.9×λ/4以上、1.
3×λ/4以下のAl 2O3薄膜と、第2層として、光
学的膜厚が2.0×λ/4以上、2.6×λ/4以下の
HfO2薄膜と、第3層として、光学的膜厚が0.9×
λ/4以上、1.3×λ/4以下のMgF2薄膜とを有
する反射防止膜を設けたことを特徴とする光学部品。 - 【請求項2】 石英もしくは蛍石からなる光学部品の表
面に、設計波長λを230nmから300nmとして前
記表面側から空気側へ順に、 第1層として、光学的膜厚が1.15×λ/4以上、
1.30×λ/4以下のAl2O3薄膜と、第2層とし
て、光学的膜厚が2.30×λ/4以上、2.45×λ
/4以下のHfO2薄膜と、第3層として、光学的膜厚
が1.00×λ/4以上、1.10×λ/4以下のMg
F2薄膜とを有する反射防止膜を設けたことを特徴とす
る光学部品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11185767A JP2001013304A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | 光学部品 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11185767A JP2001013304A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | 光学部品 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001013304A true JP2001013304A (ja) | 2001-01-19 |
Family
ID=16176533
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11185767A Withdrawn JP2001013304A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | 光学部品 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001013304A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006011126A2 (en) * | 2004-07-28 | 2006-02-02 | The Provost, Fellows And Scholars Of The College Of The Holy And Undivided Trinity Of Queen Elizabeth, Near Dublin | Thin magnetic films |
JP2007127681A (ja) * | 2005-11-01 | 2007-05-24 | Tokai Kogaku Kk | プラスチックレンズ |
WO2013146816A1 (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-03 | 株式会社島津製作所 | 分光計測用フォトダイオードアレイ及び分光計測装置 |
WO2018123898A1 (ja) * | 2016-12-28 | 2018-07-05 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | 反射防止膜および深紫外発光デバイス |
EP3882672A1 (en) * | 2020-03-18 | 2021-09-22 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Synthetic quartz glass substrate with antireflection film, window material, lid for optical element package, optical element package, and light irradiation device |
EP4403532A1 (en) | 2023-01-20 | 2024-07-24 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Window material for optical element, lid for optical element package, and optical element package |
-
1999
- 1999-06-30 JP JP11185767A patent/JP2001013304A/ja not_active Withdrawn
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006011126A2 (en) * | 2004-07-28 | 2006-02-02 | The Provost, Fellows And Scholars Of The College Of The Holy And Undivided Trinity Of Queen Elizabeth, Near Dublin | Thin magnetic films |
WO2006011126A3 (en) * | 2004-07-28 | 2006-06-08 | Near Dublin The Provost Fellow | Thin magnetic films |
JP2007127681A (ja) * | 2005-11-01 | 2007-05-24 | Tokai Kogaku Kk | プラスチックレンズ |
WO2013146816A1 (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-03 | 株式会社島津製作所 | 分光計測用フォトダイオードアレイ及び分光計測装置 |
JPWO2013146816A1 (ja) * | 2012-03-27 | 2015-12-14 | 株式会社島津製作所 | 分光計測用フォトダイオードアレイ及び分光計測装置 |
US9429471B2 (en) | 2012-03-27 | 2016-08-30 | Shimadzu Corporation | Photodiode array for spectrometric measurements and spectrometric measurement system |
WO2018123898A1 (ja) * | 2016-12-28 | 2018-07-05 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | 反射防止膜および深紫外発光デバイス |
JP2018109657A (ja) * | 2016-12-28 | 2018-07-12 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | 反射防止膜および深紫外発光デバイス |
CN110140067A (zh) * | 2016-12-28 | 2019-08-16 | 同和电子科技有限公司 | 防反射膜及深紫外发光器件 |
CN110140067B (zh) * | 2016-12-28 | 2021-04-13 | 同和电子科技有限公司 | 防反射膜及深紫外发光器件 |
US11009629B2 (en) | 2016-12-28 | 2021-05-18 | Dowa Electronics Materials Co., Ltd. | Anti-reflection film and deep ultraviolet light-emitting device |
EP3882672A1 (en) * | 2020-03-18 | 2021-09-22 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Synthetic quartz glass substrate with antireflection film, window material, lid for optical element package, optical element package, and light irradiation device |
JP2021148902A (ja) * | 2020-03-18 | 2021-09-27 | 信越化学工業株式会社 | 反射防止膜付き合成石英ガラス基板、窓材、光学素子パッケージ用リッド、光学素子パッケージおよび光照射装置 |
JP7136151B2 (ja) | 2020-03-18 | 2022-09-13 | 信越化学工業株式会社 | 反射防止膜付き合成石英ガラス基板、窓材、光学素子パッケージ用リッド、光学素子パッケージおよび光照射装置 |
EP4403532A1 (en) | 2023-01-20 | 2024-07-24 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Window material for optical element, lid for optical element package, and optical element package |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5850309A (en) | Mirror for high-intensity ultraviolet light beam | |
US6310905B1 (en) | Mirror for an ultraviolet laser and method | |
JP3924806B2 (ja) | 反射防止膜 | |
JP4190773B2 (ja) | 反射防止膜と光学レンズ及び光学レンズユニット | |
JP2002250801A (ja) | 大きな入射角度における紫外線反射防止コーティング | |
JP3799696B2 (ja) | エキシマレーザー用ミラー | |
JP4171362B2 (ja) | 反射防止膜付き透明基板 | |
JP2001013304A (ja) | 光学部品 | |
JP2002107506A (ja) | 反射防止膜およびこれを用いた光学部品 | |
JPH10253802A (ja) | 反射防止膜 | |
JP2003043202A (ja) | 反射防止膜及び光学部品 | |
JPS6177002A (ja) | 光反射防止膜 | |
JP2005031297A (ja) | 液晶表示装置の反射防止膜付き透明基板 | |
JPH077124B2 (ja) | 反射防止膜 | |
JPH11167003A (ja) | 2波長反射防止膜 | |
JP2000357654A (ja) | 反射防止膜、光学素子、露光装置、及び電子物品 | |
JP2009031406A (ja) | 非偏光ビームスプリッター及びそれを利用した光学計測機器 | |
JPH06160602A (ja) | 2波長反射防止膜 | |
JP4455022B2 (ja) | 反射防止膜および対物レンズ | |
JPS63142301A (ja) | 塁積効果の少ない光学薄膜 | |
EP0994368A2 (en) | Anti-reflective films, optical elements and reduction-projection exposure apparatus utilizing same | |
JPH08313728A (ja) | 帯域フィルター | |
JPH11248903A (ja) | 反射防止膜 | |
JPH07244202A (ja) | 2波長反射防止膜 | |
JP2004085975A (ja) | 酸化物多層膜光学素子およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060905 |