JP2001013304A - 光学部品 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 68
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 67
- 239000012788 optical film Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 21
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 11
- 239000010436 fluorite Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims abstract description 7
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(IV) oxide Inorganic materials O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 12
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
- C03C17/3447—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a halide
- C03C17/3452—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a halide comprising a fluoride
-
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
- C03C2217/734—Anti-reflective coatings with specific characteristics comprising an alternation of high and low refractive indexes
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 生産性がよく、低コストで提供可能であり、
紫外光領域内の広帯域で反射防止効果の良好な反射防止
膜を有する光学部品を提供する。 【解決手段】 石英もしくは蛍石からなる光学部品の表
面に、設計波長λを２３０ｎｍから３００ｎｍとして前
記表面側から空気側へ順に、第１層として、光学的膜厚
が０．９×λ／４以上、１．３×λ／４以下のＡｌ２Ｏ
３薄膜と、第２層として、光学的膜厚が２．０×λ／４
以上、２．６×λ／４以下のＨｆＯ２薄膜と、第３層と
して、光学的膜厚が０．９×λ／４以上、１．３×λ／
４以下のＭｇＦ２薄膜とを有する反射防止膜を設けた。
紫外光領域内の広帯域で反射防止効果の良好な反射防止
膜を有する光学部品を提供する。 【解決手段】 石英もしくは蛍石からなる光学部品の表
面に、設計波長λを２３０ｎｍから３００ｎｍとして前
記表面側から空気側へ順に、第１層として、光学的膜厚
が０．９×λ／４以上、１．３×λ／４以下のＡｌ２Ｏ
３薄膜と、第２層として、光学的膜厚が２．０×λ／４
以上、２．６×λ／４以下のＨｆＯ２薄膜と、第３層と
して、光学的膜厚が０．９×λ／４以上、１．３×λ／
４以下のＭｇＦ２薄膜とを有する反射防止膜を設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、表面に反射防止膜
を設けた光学部品、詳しくは２３０ｎｍ以上３００ｎｍ
以下の紫外光領域で使用される光学部品に関する。
を設けた光学部品、詳しくは２３０ｎｍ以上３００ｎｍ
以下の紫外光領域で使用される光学部品に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学部品の表面に形成する反射防止膜の
材料であって、可視光域で一般に用いられる光学薄膜材
料の多くは、光の波長が３００ｎｍ以下において透明で
ないため、可視光域に用いる反射防止膜の殆どは３００
ｎｍ以下の波長域で使用することはできない。従って、
紫外光用の反射防止膜には、３００ｎｍ以下で透明であ
る材料を適用せざるを得ない。従来、紫外光用の反射防
止膜としては、例えば、蛍石や石英等の光学素子基板の
表面に、高屈折率材料のＡｌ２Ｏ３と低屈折率材料のＳ
ｉＯ２とを積層した反射防止膜などが知られている。そ
の一つとして、特開平９−２５８００６号公報に開示さ
れた反射防止膜がある。
材料であって、可視光域で一般に用いられる光学薄膜材
料の多くは、光の波長が３００ｎｍ以下において透明で
ないため、可視光域に用いる反射防止膜の殆どは３００
ｎｍ以下の波長域で使用することはできない。従って、
紫外光用の反射防止膜には、３００ｎｍ以下で透明であ
る材料を適用せざるを得ない。従来、紫外光用の反射防
止膜としては、例えば、蛍石や石英等の光学素子基板の
表面に、高屈折率材料のＡｌ２Ｏ３と低屈折率材料のＳ
ｉＯ２とを積層した反射防止膜などが知られている。そ
の一つとして、特開平９−２５８００６号公報に開示さ
れた反射防止膜がある。
【０００３】これは、Ａｌ２Ｏ３とＳｉＯ２とを交互に
６〜８層、積層することによって、光学部品の反射率が
０．２％以下である波長帯域幅が３０ｎｍ確保されると
いう、反射防止効果の良好な帯域が広い反射防止膜を得
ている。
６〜８層、積層することによって、光学部品の反射率が
０．２％以下である波長帯域幅が３０ｎｍ確保されると
いう、反射防止効果の良好な帯域が広い反射防止膜を得
ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、上記従来技
術にはつぎのような問題点があった。すなわち、上記反
射防止膜は、層数が６層以上となっていて非常に多いた
め、生産性が悪く、光学部品の製造コストが高くなると
いう問題点があった。
術にはつぎのような問題点があった。すなわち、上記反
射防止膜は、層数が６層以上となっていて非常に多いた
め、生産性が悪く、光学部品の製造コストが高くなると
いう問題点があった。
【０００５】本発明は上記従来の問題点に鑑みてなされ
たもので、請求項１に係る発明の課題は、生産性がよ
く、低コストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯域
で反射防止効果の良好な反射防止膜を有する光学部品を
提供することである。
たもので、請求項１に係る発明の課題は、生産性がよ
く、低コストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯域
で反射防止効果の良好な反射防止膜を有する光学部品を
提供することである。
【０００６】請求項２に係る発明の課題は、生産性がよ
く、低コストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯域
で反射防止効果の優れた反射防止膜を有する光学部品を
提供することである。
く、低コストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯域
で反射防止効果の優れた反射防止膜を有する光学部品を
提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１に係る発明は、石英もしくは蛍石からなる
光学部品の表面に、設計波長λを２３０ｎｍから３００
ｎｍとして前記表面側から空気側へ順に、第１層とし
て、光学的膜厚が０．９×λ／４以上、１．３×λ／４
以下のＡｌ２Ｏ３薄膜と、第２層として、光学的膜厚が
２．０×λ／４以上、２．６×λ／４以下のＨｆＯ２薄
膜と、第３層として、光学的膜厚が０．９×λ／４以
上、１．３×λ／４以下のＭｇＦ２薄膜とを有する反射
防止膜を設けた。
に、請求項１に係る発明は、石英もしくは蛍石からなる
光学部品の表面に、設計波長λを２３０ｎｍから３００
ｎｍとして前記表面側から空気側へ順に、第１層とし
て、光学的膜厚が０．９×λ／４以上、１．３×λ／４
以下のＡｌ２Ｏ３薄膜と、第２層として、光学的膜厚が
２．０×λ／４以上、２．６×λ／４以下のＨｆＯ２薄
膜と、第３層として、光学的膜厚が０．９×λ／４以
上、１．３×λ／４以下のＭｇＦ２薄膜とを有する反射
防止膜を設けた。
【０００８】請求項２に係る発明は、石英もしくは蛍石
からなる光学部品の表面に、設計波長λを２３０ｎｍか
ら３００ｎｍとして前記表面側から空気側へ順に、第１
層として、光学的膜厚が１．１５×λ／４以上、１．３
０×λ／４以下のＡｌ２Ｏ３薄膜と、第２層として、光
学的膜厚が２．３０×λ／４以上、２．４５×λ／４以
下のＨｆＯ２薄膜と、第３層として、光学的膜厚が１．
００×λ／４以上、１．１０×λ／４以下のＭｇＦ２薄
膜とを有する反射防止膜を設けた。
からなる光学部品の表面に、設計波長λを２３０ｎｍか
ら３００ｎｍとして前記表面側から空気側へ順に、第１
層として、光学的膜厚が１．１５×λ／４以上、１．３
０×λ／４以下のＡｌ２Ｏ３薄膜と、第２層として、光
学的膜厚が２．３０×λ／４以上、２．４５×λ／４以
下のＨｆＯ２薄膜と、第３層として、光学的膜厚が１．
００×λ／４以上、１．１０×λ／４以下のＭｇＦ２薄
膜とを有する反射防止膜を設けた。
【０００９】請求項１に係る発明の光学部品では、該光
学部品表面に設ける反射防止膜の層数を３層と少なくし
ても、光学的膜厚を最適化することによって、紫外光領
域内の広帯域で、良好な反射防止機能を有する反射防止
膜が得られる。
学部品表面に設ける反射防止膜の層数を３層と少なくし
ても、光学的膜厚を最適化することによって、紫外光領
域内の広帯域で、良好な反射防止機能を有する反射防止
膜が得られる。
【００１０】請求項２に係る発明の光学部品では、該光
学部品表面に設ける反射防止膜の層数を３層と少なくし
ても、光学的膜厚の許容範囲をさらに限定することによ
って、紫外光領域内の広帯域で、より反射率が低い優れ
た反射防止膜が得られる。
学部品表面に設ける反射防止膜の層数を３層と少なくし
ても、光学的膜厚の許容範囲をさらに限定することによ
って、紫外光領域内の広帯域で、より反射率が低い優れ
た反射防止膜が得られる。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明では、３００ｎｍ以下の波
長の光に対して透明であって、高い機械的強度を持ち、
それぞれ屈折率の異なるＡｌ２Ｏ３、ＨｆＯ２、ＭｇＦ
２を光学部品表面に設ける反射防止膜の各層の材料とし
て用いることにより、光学部品表面に設ける反射防止膜
の層数を３層と少なくしても、その光学的膜厚を最適化
することによって、紫外光領域内の広帯域で、良好な反
射防止機能を有する反射防止膜が得られる。請求項１に
示した材料（Ａｌ２Ｏ３、ＨｆＯ２、ＭｇＦ２）を用い
ても、請求項１で示した膜構成とせず、また、光学的膜
厚を請求項１に示した所定の範囲としないと、所望の反
射防止機能を得ることが困難でる。逆に、請求項１で示
した膜構成、光学的膜厚にすると、３層であっても十分
な反射防止機能が得られ、従って、層数が少ないことに
より、生産性が良く、低コストで、反射防止効果の良好
な反射防止膜を有する光学部品を提供することができ
る。
長の光に対して透明であって、高い機械的強度を持ち、
それぞれ屈折率の異なるＡｌ２Ｏ３、ＨｆＯ２、ＭｇＦ
２を光学部品表面に設ける反射防止膜の各層の材料とし
て用いることにより、光学部品表面に設ける反射防止膜
の層数を３層と少なくしても、その光学的膜厚を最適化
することによって、紫外光領域内の広帯域で、良好な反
射防止機能を有する反射防止膜が得られる。請求項１に
示した材料（Ａｌ２Ｏ３、ＨｆＯ２、ＭｇＦ２）を用い
ても、請求項１で示した膜構成とせず、また、光学的膜
厚を請求項１に示した所定の範囲としないと、所望の反
射防止機能を得ることが困難でる。逆に、請求項１で示
した膜構成、光学的膜厚にすると、３層であっても十分
な反射防止機能が得られ、従って、層数が少ないことに
より、生産性が良く、低コストで、反射防止効果の良好
な反射防止膜を有する光学部品を提供することができ
る。
【００１２】また、請求項２で示した膜構成で、各層の
光学的膜厚の許容範囲をさらに限定された範囲に絞るこ
とにより、紫外光領域でより反射率の低い優れた反射防
止膜が得られ、これを表面に設けた光学部品を提供する
ことができる。
光学的膜厚の許容範囲をさらに限定された範囲に絞るこ
とにより、紫外光領域でより反射率の低い優れた反射防
止膜が得られ、これを表面に設けた光学部品を提供する
ことができる。
【００１３】本発明は、３００ｎｍ以下、２３０ｎｍ以
上の波長域において特に有効であり、この波長域を設計
波長λとして採用する場合に効果が高い。３００ｎｍ以
下で効果が高いのは、３００ｎｍ以下の波長域では、透
明な反射防止膜の材料が殆どなくなるためである。２３
０ｎｍ以上において効果が高いのは、Ａｌ２Ｏ３および
ＭｇＦ２は、光の波長が２００ｎｍ以下で若干の光吸収
が発生し、また、ＨｆＯ２は、光の波長が２３０ｎｍ以
下で若干の光吸収が発生するためである。ただし、２３
０ｎｍ以下の波長域においては、本発明に用いられる反
射防止膜は若干の光吸収は発生するが、反射防止効果を
十分に持つため、１９０ｎｍ以上の波長域において使用
することができる。
上の波長域において特に有効であり、この波長域を設計
波長λとして採用する場合に効果が高い。３００ｎｍ以
下で効果が高いのは、３００ｎｍ以下の波長域では、透
明な反射防止膜の材料が殆どなくなるためである。２３
０ｎｍ以上において効果が高いのは、Ａｌ２Ｏ３および
ＭｇＦ２は、光の波長が２００ｎｍ以下で若干の光吸収
が発生し、また、ＨｆＯ２は、光の波長が２３０ｎｍ以
下で若干の光吸収が発生するためである。ただし、２３
０ｎｍ以下の波長域においては、本発明に用いられる反
射防止膜は若干の光吸収は発生するが、反射防止効果を
十分に持つため、１９０ｎｍ以上の波長域において使用
することができる。
【００１４】また、応用面から考察すれば、ＫｒＦエキ
シマレーザの波長が２４８ｎｍであり、本発明の光学部
品に前記波長（２４８ｎｍ）近傍において反射率が低く
なる反射防止膜を設けた場合、ことのほか利用価値が高
い。さらに、ＡｒＦエキシマレーザの波長が１９３ｎｍ
であり、本発明はこの波長域においても利用することが
できるため、１９３ｎｍ近傍において使用する光学部品
に本発明を適用しても、十分な反射防止効果が得られ
る。
シマレーザの波長が２４８ｎｍであり、本発明の光学部
品に前記波長（２４８ｎｍ）近傍において反射率が低く
なる反射防止膜を設けた場合、ことのほか利用価値が高
い。さらに、ＡｒＦエキシマレーザの波長が１９３ｎｍ
であり、本発明はこの波長域においても利用することが
できるため、１９３ｎｍ近傍において使用する光学部品
に本発明を適用しても、十分な反射防止効果が得られ
る。
【００１５】以下、具体的な実施の形態として、実施の
形態１〜３を説明するが、本発明は、これらの実施の形
態に限定されるものではなく、設計波長λを２３０ｎｍ
から３００ｎｍとし、第１層のＡｌ２Ｏ３薄膜の光学的
膜厚の範囲を０．９×λ／４以上、１．３×λ／４以
下、第２層のＨｆＯ２薄膜の光学的膜厚の範囲を２．３
×λ／４以上、２．６×λ／４以下、および第３層のＭ
ｇＦ２薄膜の光学的膜厚の範囲を０．９×λ／４以上、
１．３×λ／４以下とすれば、実用上、分光反射率特性
が良好な反射防止膜を有する光学部品を得ることができ
る。また、第１層から第３層までの光学的膜厚の範囲を
それぞれ、上記設計波長λの範囲で、１．１５×λ／４
以上１．３×λ／４以下、２．３０×λ／４以上２．４
５×λ／４以下、および１．００×λ／４以上１．１０
×λ／４以下とすれば、より反射率が低い優れた反射防
止効果を有する光学部品を得ることができる。また、こ
れらの実施の形態では、光学部品としてガラスレンズの
場合について説明するが、プリズム、ミラーなど他の光
学部品の場合においても同様の効果を得ることができ
る。
形態１〜３を説明するが、本発明は、これらの実施の形
態に限定されるものではなく、設計波長λを２３０ｎｍ
から３００ｎｍとし、第１層のＡｌ２Ｏ３薄膜の光学的
膜厚の範囲を０．９×λ／４以上、１．３×λ／４以
下、第２層のＨｆＯ２薄膜の光学的膜厚の範囲を２．３
×λ／４以上、２．６×λ／４以下、および第３層のＭ
ｇＦ２薄膜の光学的膜厚の範囲を０．９×λ／４以上、
１．３×λ／４以下とすれば、実用上、分光反射率特性
が良好な反射防止膜を有する光学部品を得ることができ
る。また、第１層から第３層までの光学的膜厚の範囲を
それぞれ、上記設計波長λの範囲で、１．１５×λ／４
以上１．３×λ／４以下、２．３０×λ／４以上２．４
５×λ／４以下、および１．００×λ／４以上１．１０
×λ／４以下とすれば、より反射率が低い優れた反射防
止効果を有する光学部品を得ることができる。また、こ
れらの実施の形態では、光学部品としてガラスレンズの
場合について説明するが、プリズム、ミラーなど他の光
学部品の場合においても同様の効果を得ることができ
る。
【００１６】（実施の形態１）図１は実施の形態１を示
し、光学部品の反射防止膜の分光反射率特性を示す図表
である。下記の表１は、本実施の形態の光学部品の構成
を示し、基板は石英（ＳｉＯ２）製のレンズであり、こ
のレンズ表面に３層の反射防止膜を設けたものである。
表１は、反射防止膜の第１、第２および第３層の薄膜の
それぞれにつき、材質、光学的膜厚（単位ｎｍ）および
屈折率を示す。ただし、設計波長λ＝２５０ｎｍとして
いる。なお、所望の反射防止機能を得るために、第２層
には高い屈折率をもつＨｆＯ２、第３層には低い屈折率
をもつＭｇＦ２、第１層には、その中間の屈折率をもつ
Ａｌ２Ｏ３を採用している。
し、光学部品の反射防止膜の分光反射率特性を示す図表
である。下記の表１は、本実施の形態の光学部品の構成
を示し、基板は石英（ＳｉＯ２）製のレンズであり、こ
のレンズ表面に３層の反射防止膜を設けたものである。
表１は、反射防止膜の第１、第２および第３層の薄膜の
それぞれにつき、材質、光学的膜厚（単位ｎｍ）および
屈折率を示す。ただし、設計波長λ＝２５０ｎｍとして
いる。なお、所望の反射防止機能を得るために、第２層
には高い屈折率をもつＨｆＯ２、第３層には低い屈折率
をもつＭｇＦ２、第１層には、その中間の屈折率をもつ
Ａｌ２Ｏ３を採用している。
【００１７】
【表１】
【００１８】つぎに、この光学部品の成膜方法について
説明する。基板であるガラスレンズを、図示しない真空
槽に入れ、この真空槽内を１×１０−４Ｐａまで排気し
た後、ガラスレンズのレンズ面上に電子ビーム蒸着法に
より、ガラスレンズ側から光学的膜厚１．００×λ／４
のＡｌ２Ｏ３、光学的膜厚２．００×λ／４のＨｆ
Ｏ ２、光学的膜厚１．００×λ／４のＭｇＦ２を順に成
膜した。
説明する。基板であるガラスレンズを、図示しない真空
槽に入れ、この真空槽内を１×１０−４Ｐａまで排気し
た後、ガラスレンズのレンズ面上に電子ビーム蒸着法に
より、ガラスレンズ側から光学的膜厚１．００×λ／４
のＡｌ２Ｏ３、光学的膜厚２．００×λ／４のＨｆ
Ｏ ２、光学的膜厚１．００×λ／４のＭｇＦ２を順に成
膜した。
【００１９】このようにして成膜された反射防止膜の垂
直入射光の波長２００〜４００ｎｍでの分光反射率特性
を測定したところ、図１に示す結果を得た。すなわち、
波長２１０〜３１０ｎｍの範囲（波長帯域幅１００ｎ
ｍ）で反射率０．５％以下、波長２３０〜２７０ｎｍの
範囲（波長帯域幅４０ｎｍ）で反射率０．２％以下、波
長２５０ｎｍで反射率が０．１以下という良好な分光反
射率特性を得ることができた。
直入射光の波長２００〜４００ｎｍでの分光反射率特性
を測定したところ、図１に示す結果を得た。すなわち、
波長２１０〜３１０ｎｍの範囲（波長帯域幅１００ｎ
ｍ）で反射率０．５％以下、波長２３０〜２７０ｎｍの
範囲（波長帯域幅４０ｎｍ）で反射率０．２％以下、波
長２５０ｎｍで反射率が０．１以下という良好な分光反
射率特性を得ることができた。
【００２０】本実施の形態によれば、光学部品表面に設
ける反射防止膜の層数を３層と少なくしても、その光学
的膜厚を最適化することによって、生産性がよく、低コ
ストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯域で、反射
防止効果の良好な反射防止膜を有する光学部品を得るこ
とができる。
ける反射防止膜の層数を３層と少なくしても、その光学
的膜厚を最適化することによって、生産性がよく、低コ
ストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯域で、反射
防止効果の良好な反射防止膜を有する光学部品を得るこ
とができる。
【００２１】（実施の形態２）図２および図３は実施の
形態２を示し、図２は基板が石英からなる光学部品の反
射防止膜の分光反射率特性を示す図表、図３は基板が蛍
石からなる光学部品の反射防止膜の分光反射率特性を示
す図表である。本実施の形態の光学部品は、反射防止膜
の光学的膜厚のみが異なり、他の構成および成膜方法
は、実施の形態１と同様のため、異なる部分のみ説明
し、同様部分の説明を省略する。
形態２を示し、図２は基板が石英からなる光学部品の反
射防止膜の分光反射率特性を示す図表、図３は基板が蛍
石からなる光学部品の反射防止膜の分光反射率特性を示
す図表である。本実施の形態の光学部品は、反射防止膜
の光学的膜厚のみが異なり、他の構成および成膜方法
は、実施の形態１と同様のため、異なる部分のみ説明
し、同様部分の説明を省略する。
【００２２】下記の表２は、本実施の形態の光学部品の
構成を示し、基板は石英（ＳｉＯ２）または蛍石（Ｃａ
Ｆ２）製のレンズであり、このレンズ表面に３層の反射
防止膜を設けたものである。表２は、反射防止膜の第
１、第２および第３層の薄膜のそれぞれにつき、材質、
光学的膜厚（単位ｎｍ）および屈折率を示す。ただし、
設計波長λ＝２５０ｎｍとしている。
構成を示し、基板は石英（ＳｉＯ２）または蛍石（Ｃａ
Ｆ２）製のレンズであり、このレンズ表面に３層の反射
防止膜を設けたものである。表２は、反射防止膜の第
１、第２および第３層の薄膜のそれぞれにつき、材質、
光学的膜厚（単位ｎｍ）および屈折率を示す。ただし、
設計波長λ＝２５０ｎｍとしている。
【００２３】
【表２】
【００２４】実施の形態１と同様に成膜された異なる基
板〔石英（ＳｉＯ２）および蛍石（ＣａＦ２）〕の２種
類の光学部品について、反射防止膜の垂直入射光の波長
２００〜４００ｎｍの範囲での分光反射率特性を測定し
たところ、基板として石英（ＳｉＯ２）を用いた場合は
図２に、基板として蛍石（ＣａＦ２）を用いた場合は図
３に示す結果を得た。基板として石英（ＳｉＯ２）を用
いた場合では、２３０〜２８５ｎｍの範囲（波長帯域幅
５５ｎｍ）で反射率０．２％以下、基板として蛍石（Ｃ
ａＦ２）を用いた場合では、２２５ｎｍ〜２９０ｎｍの
範囲（波長帯域幅６５ｎｍ）で反射率が０．２％以下と
なって、実施の形態１よりも反射率が低い帯域がより広
くなっている。
板〔石英（ＳｉＯ２）および蛍石（ＣａＦ２）〕の２種
類の光学部品について、反射防止膜の垂直入射光の波長
２００〜４００ｎｍの範囲での分光反射率特性を測定し
たところ、基板として石英（ＳｉＯ２）を用いた場合は
図２に、基板として蛍石（ＣａＦ２）を用いた場合は図
３に示す結果を得た。基板として石英（ＳｉＯ２）を用
いた場合では、２３０〜２８５ｎｍの範囲（波長帯域幅
５５ｎｍ）で反射率０．２％以下、基板として蛍石（Ｃ
ａＦ２）を用いた場合では、２２５ｎｍ〜２９０ｎｍの
範囲（波長帯域幅６５ｎｍ）で反射率が０．２％以下と
なって、実施の形態１よりも反射率が低い帯域がより広
くなっている。
【００２５】本実施の形態によれば、光学部品表面に設
ける反射防止膜の層数を３層と少なくしても、光学的膜
厚の許容範囲をさらに限定することによって、生産性が
よく、低コストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯
域で、より反射率が低い優れた反射防止膜を有する光学
部品を得ることができる。
ける反射防止膜の層数を３層と少なくしても、光学的膜
厚の許容範囲をさらに限定することによって、生産性が
よく、低コストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯
域で、より反射率が低い優れた反射防止膜を有する光学
部品を得ることができる。
【００２６】（実施の形態３）図４は実施の形態３を示
し、光学部品の反射防止膜の分光反射率特性を示す図表
である。本実施の形態の光学部品は、反射防止膜の光学
的膜厚のみが異なり、他の構成および成膜方法は、実施
の形態１と同様のため、異なる部分のみ説明し、同様部
分の説明を省略する。
し、光学部品の反射防止膜の分光反射率特性を示す図表
である。本実施の形態の光学部品は、反射防止膜の光学
的膜厚のみが異なり、他の構成および成膜方法は、実施
の形態１と同様のため、異なる部分のみ説明し、同様部
分の説明を省略する。
【００２７】下記の表３は、本実施の形態の光学部品の
構成を示し、基板は石英（ＳｉＯ２）製のレンズであ
り、このレンズ表面に３層の反射防止膜を設けたもので
ある。表３は、反射防止膜の第１、第２および第３層の
薄膜のそれぞれにつき、材質、光学的膜厚（単位ｎｍ）
および屈折率を示す。ただし、設計波長λ＝２５０ｎｍ
としている。
構成を示し、基板は石英（ＳｉＯ２）製のレンズであ
り、このレンズ表面に３層の反射防止膜を設けたもので
ある。表３は、反射防止膜の第１、第２および第３層の
薄膜のそれぞれにつき、材質、光学的膜厚（単位ｎｍ）
および屈折率を示す。ただし、設計波長λ＝２５０ｎｍ
としている。
【００２８】
【表３】
【００２９】実施の形態１と同様に成膜された光学部品
について、反射防止膜の垂直入射光の波長２００〜４０
０ｎｍの範囲での分光反射率特性を測定したところ、図
４に示す結果を得た。ここで、２２０〜２９５ｎｍの範
囲（波長帯域幅７５ｎｍ）で反射率０．２％以下となっ
て、実施の形態１よりも反射率が低い帯域がより広くな
っている。
について、反射防止膜の垂直入射光の波長２００〜４０
０ｎｍの範囲での分光反射率特性を測定したところ、図
４に示す結果を得た。ここで、２２０〜２９５ｎｍの範
囲（波長帯域幅７５ｎｍ）で反射率０．２％以下となっ
て、実施の形態１よりも反射率が低い帯域がより広くな
っている。
【００３０】本実施の形態によれば、光学部品表面に設
ける反射防止膜の層数を３層と少なくしても、光学的膜
厚の許容範囲をさらに限定することによって、生産性が
よく、低コストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯
域で、より反射率が低い優れた反射防止膜を有する光学
部品を得ることができる。
ける反射防止膜の層数を３層と少なくしても、光学的膜
厚の許容範囲をさらに限定することによって、生産性が
よく、低コストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯
域で、より反射率が低い優れた反射防止膜を有する光学
部品を得ることができる。
【００３１】
【発明の効果】請求項１に係る発明によれば、光学部品
表面に設ける反射防止膜の層数を３層と少なくしても、
光学的膜厚を最適化することによって、生産性がよく、
低コストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯域で、
反射防止効果の良好な反射防止膜を有する光学部品を得
ることができる。請求項２に係る発明によれば、光学部
品表面に設ける反射防止膜の層数を３層と少なくして
も、光学的膜厚の許容範囲をさらに限定することによっ
て、生産性がよく、低コストで提供可能であり、紫外光
領域内の広帯域で、より反射率が低い優れた反射防止膜
を有する光学部品を得ることができる。
表面に設ける反射防止膜の層数を３層と少なくしても、
光学的膜厚を最適化することによって、生産性がよく、
低コストで提供可能であり、紫外光領域内の広帯域で、
反射防止効果の良好な反射防止膜を有する光学部品を得
ることができる。請求項２に係る発明によれば、光学部
品表面に設ける反射防止膜の層数を３層と少なくして
も、光学的膜厚の許容範囲をさらに限定することによっ
て、生産性がよく、低コストで提供可能であり、紫外光
領域内の広帯域で、より反射率が低い優れた反射防止膜
を有する光学部品を得ることができる。
【図１】実施の形態１の光学部品の反射防止膜の分光反
射率特性を示す図表である。
射率特性を示す図表である。
【図２】実施の形態２の基板が石英からなる光学部品の
反射防止膜の分光反射率特性を示す図表である。
反射防止膜の分光反射率特性を示す図表である。
【図３】実施の形態２の基板が蛍石からなる光学部品の
反射防止膜の分光反射率特性を示す図表である。
反射防止膜の分光反射率特性を示す図表である。
【図４】実施の形態３の光学部品の反射防止膜の分光反
射率特性を示す図表である。
射率特性を示す図表である。
Claims (2)
- 【請求項１】 石英もしくは蛍石からなる光学部品の表
面に、設計波長λを２３０ｎｍから３００ｎｍとして前
記表面側から空気側へ順に、 第１層として、光学的膜厚が０．９×λ／４以上、１．
３×λ／４以下のＡｌ ２Ｏ３薄膜と、第２層として、光
学的膜厚が２．０×λ／４以上、２．６×λ／４以下の
ＨｆＯ２薄膜と、第３層として、光学的膜厚が０．９×
λ／４以上、１．３×λ／４以下のＭｇＦ２薄膜とを有
する反射防止膜を設けたことを特徴とする光学部品。 - 【請求項２】 石英もしくは蛍石からなる光学部品の表
面に、設計波長λを２３０ｎｍから３００ｎｍとして前
記表面側から空気側へ順に、 第１層として、光学的膜厚が１．１５×λ／４以上、
１．３０×λ／４以下のＡｌ２Ｏ３薄膜と、第２層とし
て、光学的膜厚が２．３０×λ／４以上、２．４５×λ
／４以下のＨｆＯ２薄膜と、第３層として、光学的膜厚
が１．００×λ／４以上、１．１０×λ／４以下のＭｇ
Ｆ２薄膜とを有する反射防止膜を設けたことを特徴とす
る光学部品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11185767A JP2001013304A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | 光学部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11185767A JP2001013304A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | 光学部品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001013304A true JP2001013304A (ja) | 2001-01-19 |
Family
ID=16176533
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11185767A Withdrawn JP2001013304A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | 光学部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001013304A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006011126A2 (en) * | 2004-07-28 | 2006-02-02 | The Provost, Fellows And Scholars Of The College Of The Holy And Undivided Trinity Of Queen Elizabeth, Near Dublin | Thin magnetic films |
| JP2007127681A (ja) * | 2005-11-01 | 2007-05-24 | Tokai Kogaku Kk | プラスチックレンズ |
| WO2013146816A1 (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-03 | 株式会社島津製作所 | 分光計測用フォトダイオードアレイ及び分光計測装置 |
| WO2018123898A1 (ja) * | 2016-12-28 | 2018-07-05 | Ｄｏｗａエレクトロニクス株式会社 | 反射防止膜および深紫外発光デバイス |
| EP3882672A1 (en) * | 2020-03-18 | 2021-09-22 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Synthetic quartz glass substrate with antireflection film, window material, lid for optical element package, optical element package, and light irradiation device |
| EP4403532A1 (en) | 2023-01-20 | 2024-07-24 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Window material for optical element, lid for optical element package, and optical element package |
-
1999
- 1999-06-30 JP JP11185767A patent/JP2001013304A/ja not_active Withdrawn
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006011126A2 (en) * | 2004-07-28 | 2006-02-02 | The Provost, Fellows And Scholars Of The College Of The Holy And Undivided Trinity Of Queen Elizabeth, Near Dublin | Thin magnetic films |
| WO2006011126A3 (en) * | 2004-07-28 | 2006-06-08 | Near Dublin The Provost Fellow | Thin magnetic films |
| JP2007127681A (ja) * | 2005-11-01 | 2007-05-24 | Tokai Kogaku Kk | プラスチックレンズ |
| WO2013146816A1 (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-03 | 株式会社島津製作所 | 分光計測用フォトダイオードアレイ及び分光計測装置 |
| JPWO2013146816A1 (ja) * | 2012-03-27 | 2015-12-14 | 株式会社島津製作所 | 分光計測用フォトダイオードアレイ及び分光計測装置 |
| US9429471B2 (en) | 2012-03-27 | 2016-08-30 | Shimadzu Corporation | Photodiode array for spectrometric measurements and spectrometric measurement system |
| WO2018123898A1 (ja) * | 2016-12-28 | 2018-07-05 | Ｄｏｗａエレクトロニクス株式会社 | 反射防止膜および深紫外発光デバイス |
| JP2018109657A (ja) * | 2016-12-28 | 2018-07-12 | Ｄｏｗａエレクトロニクス株式会社 | 反射防止膜および深紫外発光デバイス |
| CN110140067A (zh) * | 2016-12-28 | 2019-08-16 | 同和电子科技有限公司 | 防反射膜及深紫外发光器件 |
| CN110140067B (zh) * | 2016-12-28 | 2021-04-13 | 同和电子科技有限公司 | 防反射膜及深紫外发光器件 |
| US11009629B2 (en) | 2016-12-28 | 2021-05-18 | Dowa Electronics Materials Co., Ltd. | Anti-reflection film and deep ultraviolet light-emitting device |
| EP3882672A1 (en) * | 2020-03-18 | 2021-09-22 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Synthetic quartz glass substrate with antireflection film, window material, lid for optical element package, optical element package, and light irradiation device |
| JP2021148902A (ja) * | 2020-03-18 | 2021-09-27 | 信越化学工業株式会社 | 反射防止膜付き合成石英ガラス基板、窓材、光学素子パッケージ用リッド、光学素子パッケージおよび光照射装置 |
| JP7136151B2 (ja) | 2020-03-18 | 2022-09-13 | 信越化学工業株式会社 | 反射防止膜付き合成石英ガラス基板、窓材、光学素子パッケージ用リッド、光学素子パッケージおよび光照射装置 |
| EP4403532A1 (en) | 2023-01-20 | 2024-07-24 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Window material for optical element, lid for optical element package, and optical element package |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060905 |