CN101398489A - 光学膜、偏振片和图像显示装置 - Google Patents

光学膜、偏振片和图像显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明涉及光学膜，其包括：透明支持体；和至少一个低折射率层，其中所述至少一个低折射率层是由含有下列组分的涂布组合物形成的层：(A)无机细颗粒；(B)含氟共聚物；和(C)多官能含氟丙烯酸酯，所述多官能含氟丙烯酸酯(C)由以上结构式表示，其中Rf表示碳数为1到20的(p+q)价的全氟代饱和烃基，其可具有醚键；p表示2到10的整数；q表示0到8的整数，只要(p+q)是2到10的整数；r表示0到100的整数；且R表示氢原子、甲基、氟原子或三氟甲基。

Description

光学膜、偏振片和图像显示装置
技术领域
本发明涉及光学膜、使用该光学膜的偏振片，以及在显示器的最外表面上使用该光学膜或偏振片的图像显示装置。
背景技术
在图像显示装置(比如阴极射线管显示器(CRT)、等离子显示屏(PDP)、电致发光显示器(ELD)和液晶显示器(LCD))中，防反射膜通常置于显示器的最外表面上，以利用光学干涉原理减少反射，从而防止由于外部光线的反射造成的对比度降低或防止图像的干扰反射。
这种防反射膜通常可通过在支持体上形成折射率低于支持体的折射率的低折射率层至适当的膜厚度而制成。为了实现低反射率，优选使用折射率尽可能低的材料用于所述低折射率层。
此外，防反射膜用于显示器的最外表面上，因此，要求高的抗划伤性。为了在厚度约为100nm的薄膜中实现高的抗划伤性，膜自身的强度以及与下层的牢固的粘合是必要的。为了增大膜强度，已知在膜中加入无机细颗粒的方法。
对于无机细颗粒，除了膜强度的增大外，正在尝试通过加入空心细颗粒来降低折射率。同时，在不引起膜强度由于粘合剂不足而降低的范围内加入充分大量的无机细颗粒是重要的。
另一方面，为了降低材料的折射率，已知引入氟原子的方法，并已提出使用含氟交联材料(参见JP-A-2003-222702(此处使用的术语“JP-A”)表示“未经审查并已公开的日本专利申请”)的方法。
也已公开了在含氟交联材料中加入无机细颗粒以形成具有低折射率和优异的抗划伤性的膜的技术(JP-T-2005-535934(此处使用的术语“JP-T”指的是“PCT专利申请的已公开日文译文”))。然而，在这种情况下，细颗粒的分散性差，且当大量加入细颗粒时，涂膜会变白，这需要改进。
关于这种改进，可考虑在无机细颗粒中加入分散剂，但普通的分散剂往往增大折射率并减小涂膜的强度。因此，需要能够提高细颗粒的分散性并抑制涂膜变白，而不降低膜强度和增大折射率的技术。
另外，已提出可用作润滑剂、表面活性剂或斥水斥油材料的氟基化合物(JP-A-2006-045159)。然而，该化合物是使用氟基溶剂的特殊化合物，不一定满足抗划伤性，因此需要改进。
发明内容
本发明的一个方面是提供防反射膜，确保当使用含氟材料和无机细颗粒形成低折射率层时，折射率低，抗划伤性和防垢耐久性优异，且由于无机细颗粒的聚集造成的变白(白色混浊)得以减少。本发明的另一个方面是提供均使用该光学膜的偏振片和图像显示装置。
为了解决上述问题，经过深入的研究，本发明人发现可通过下列构造解决这些问题并实现目的。本发明基于该发现而完成。
(1)光学膜，其包含：
透明支持体；和
至少一个低折射率层，
其中所述至少一个低折射率层是由含有下列组分的涂布组合物形成的层：(A)无机细颗粒；(B)含氟共聚物；和(C)多官能含氟丙烯酸酯，
所述多官能含氟丙烯酸酯(C)由下列结构式表示：
Figure A200810161026D00051
其中Rf表示碳数为1到20的(p+q)价的全氟代饱和烃基，其可具有醚键；
p表示2到10的整数；
q表示0到8的整数，只要(p+q)为2到10的整数；
r表示0到100的整数；且
R表示氢原子、甲基、氟原子或三氟甲基。
(2)根据上面(1)描述的光学膜，
其中所述无机细颗粒(A)尺寸为5到120nm，并且基于所述涂布组合物中全部固体含量所述无机细颗粒(A)占10到70质量％。
(3)如上面(1)或(2)描述的光学膜，
其中所述无机细颗粒(A)经过使用有机硅烷化合物的水解产物及其部分缩合物中的至少一种的表面处理。
(4)根据上面(1)到(3)任意一项描述的光学膜，
其中所述至少一种无机细颗粒(A)是在颗粒内部具有孔洞的颗粒。
(5)根据上面(1)到(4)任意一项描述的光学膜，
其中所述涂布组合物还含有(D)无氟多官能单体。
(6)根据上面(1)到(5)任意一项描述的光学膜，
其中在所述多官能含氟丙烯酸酯(C)中，r是0到5的整数，p是3到6的整数且q是0到3的整数，只要(p+q)是3到6的整数。
(7)根据上面(6)描述的光学膜，
其中在所述多官能含氟丙烯酸酯(C)中，r是0或1，p是3到6的整数且q是0到3的整数，只要(p+q)是3到6的整数。
(8)根据上面(1)到(7)任意一项描述的光学膜，
其中基于所述涂布组合物的全部固体含量，所述涂布组合物中多官能含氟丙烯酸酯(C)的含量为5到50质量％。
(9)根据上面(1)到(8)任意一项描述的光学膜，
其中所述涂布组合物还含有(E)聚硅氧烷基化合物。
(10)偏振片，其包含：
至少两个保护膜；和
所述至少两个保护膜之间的偏振膜，
其中所述至少两个保护膜中的至少一个是根据上面(1)到(9)任何一项描述的光学膜。
(11)图像显示装置，其包含：
在显示器的最外表面上的根据上面(1)到(9)任意一项描述的光学膜或根据上面(10)描述的偏振片。
发明详述
本发明的一个具体实施方案是包含在其上具有至少一个低折射率层的透明支持体的光学膜，其中所述低折射率层由含有下列组分的涂布组合物形成：(A)无机细颗粒，(B)含氟共聚物和(C)多官能含氟丙烯酸酯(在下文中有时称为“本发明的涂布组合物”)，且所述多官能含氟丙烯酸酯(C)由下列结构式表示：
Figure A200810161026D00071
(其中Rf表示碳数为1到20的(p+q)价的全氟代饱和烃基，其可以具有醚键，p表示2到10的整数，q表示0到8的整数，只要(p+q)表示2到10的整数，r表示0到100的整数，且R表示氢原子、甲基、氟原子或三氟甲基)。
下面详述本发明涂布组合物中所含有的无机细颗粒(A)、含氟共聚物(B)和多官能含氟丙烯酸酯(C)。
[构成本发明低折射率层的组分(A)]
(无机细颗粒)
下面描述可用于本发明的低折射率层的无机细颗粒。在本发明中，从降低折射率并提高抗划伤性的角度，在低折射率层中优选使用无机细颗粒。无机颗粒的平均粒径优选为5到120nm，但考虑到折射率的降低，优选无机低折射率颗粒。
由于低折射率，无机颗粒包括氟化镁细颗粒和二氧化硅细颗粒。特别地，考虑到折射率、分散稳定性和成本，优选二氧化硅细颗粒。无机颗粒的尺寸(初级粒径)优选为5到120nm，更优选为10到100nm，进一步优选为20到100nm，最优选为40到90nm。
如果无机细颗粒的粒径太小，则提高抗划伤性的效果降低，而如果太大，则低折射率层表面上产生微细不均匀，且外观(例如，浓黑色)或积分反射率会劣化。无机细颗粒可以是晶体或无定形，也可以是单分散颗粒或甚至是聚集颗粒，只要满足预定的粒径。形状最优选为球形的，但即使是不定形也没有问题。
无机细颗粒的涂布量优选为1到100mg/m2，更优选为5到80mg/m2，进一步优选为10到60mg/m2。如果涂布量太小，则提高抗划伤性的效果减小，而如果太大，则在低折射率层表面上产生微细不均匀且外观(例如，浓黑色)或积分反射率可劣化。
(多孔或空心细颗粒)
为了降低折射率，优选使用多孔或空心结构细颗粒作为至少一种无机细颗粒(在本发明的上下文中，这里使用的“空心结构细颗粒”有时称作“内部具有孔洞的颗粒”)。这样的颗粒的孔隙率优选为10到80％，更优选为20到60％，最优选为30到60％。从降低折射率和保持颗粒的耐久性的角度来看，空心细颗粒的孔隙率优选在上述范围内。
当多孔或空心细颗粒是二氧化硅时，细颗粒的折射率优选为1.10到1.40，更优选为1.15到1.35，最优选为1.15到1.30。此处使用的折射率表示颗粒作为整体的折射率，并不仅仅表示形成二氧化硅细颗粒的外壳中的二氧化硅的折射率。
多孔或空心二氧化硅的生产方法描述于比如JP-A-2001-233611和JP-A-2002-79616中。特别地，优选孔洞存在于壳体内且壳体的孔隙闭合的颗粒。顺便提及，这样的空心二氧化硅细颗粒的折射率可通过JP-A-2002-79616中描述的方法计算。
多孔或空心二氧化硅的涂布量优选为1到100mg/m2，更优选为5到80mg/m2，进一步优选为10到60mg/m2。如果涂布量太小，则降低折射率或提高抗划伤性的效果减小，而如果太大，则在低折射率层表面上产生微细不均匀且外观(例如，浓黑色)或积分反射率可能劣化。
多孔或空心二氧化硅的平均粒径优选为所述低折射率层的厚度的30％到150％，更优选为35％到80％，进一步优选为40％到60％。换言之，当低折射率层的厚度是100nm时，空心二氧化硅的粒径优选为30到150nm，更优选为35到100nm，进一步优选为40到65nm。在本发明中，内部具有孔洞的颗粒可以具有一定的粒度分布，且其变异系数可优选为60到5％，更优选为50到10％。另外，两种或三种或多种平均粒径不同的颗粒可混合使用。
如果二氧化硅细颗粒的粒径太小，则孔隙部分的比例下降且不能预期折射率降低，而如果太大，则低折射率层表面上产生微细不均匀且外观(例如，浓黑色)或积分反射率会劣化。二氧化硅细颗粒可以是晶体或无定形且优选为单分散颗粒。形状最优选为球形，但即使是不定形也没有问题。
两种或多种平均粒径不同的空心二氧化硅颗粒可组合使用。空心二氧化硅的平均粒径可根据电子显微照片确定。
在本发明中，空心二氧化硅的比表面积优选为20到300m2/g，更优选为30到120m2/g，最优选为40到90m2/g。所述表面积可通过BET法使用氮气确定。
在本发明中，无孔隙颗粒可以和空心二氧化硅组合使用。无孔隙二氧化硅的粒径优选为30到150nm，更优选为35到100nm，最优选为40到80nm。
[多孔或空心细颗粒的制备方法]
空心细颗粒的优选的制备方法描述如下。第一阶段是可通过后处理除去的核心颗粒的形成，第二阶段是壳体层的形成，第三阶段是核心颗粒的溶解，如果需要的话，第四阶段是额外的壳体相的形成。具体地，空心颗粒可根据描述于比如JP-A-2001-233611中的空心二氧化硅细颗粒的制备方法而制备。
多孔颗粒的优选的制备方法为：在第一阶段中，通过控制醇化物的水解度或缩合度或共存物质的种类和数量而制备多孔核心颗粒，在第二阶段中，在核心颗粒的表面形成壳体层。具体地，多孔颗粒可通过描述于比如JP-A-2003-327424、JP-A-2003-335515、JP-A-2003-226516和JP-A-2003-238140的方法制备。
在本发明中，优选减少后面描述的无机细颗粒的吸附水量。吸附水量可通过改变粒径或壳体厚度或选择水热处理条件等而控制或可通过燃烧颗粒而减少。
(涂布颗粒)
吸附水量可通过增大壳体厚度而减少，从而减少颗粒表面上的吸附点，而这是优选的。此外，当壳体由导电组分形成时，还可以有利地赋予电导率。特别地，优选使用二氧化硅基多孔或空心颗粒作为核心颗粒，并使用ZnO2、Y2O3、Sb2O5、ATO、ITO或SnO2作为壳体的组合。下面描述了特别优选的氧化锑涂布的二氧化硅基细颗粒。
在用于本发明的氧化锑涂布的二氧化硅基细颗粒中，多孔的二氧化硅基细颗粒或在内部具有孔洞的二氧化硅基细颗粒用氧化锑涂层涂布。多孔二氧化硅基细颗粒包括多孔二氧化硅细颗粒和主要包含二氧化硅的复合氧化物细颗粒，可适当地使用JP-A-7-133105中披露的通过用二氧化硅等涂布多孔无机氧化物细颗粒的表面而获得的低折射率纳米尺度复合氧化物颗粒。
对于在内部具有孔洞的二氧化硅基细颗粒，还可以适当地使用在JP-A-2001-233611中披露的包含二氧化硅和除二氧化硅之外的无机氧化物并在内部具有孔洞的低折射率纳米尺度二氧化硅基细颗粒。
多孔二氧化硅基细颗粒或内部具有孔洞的二氧化硅基细颗粒的平均粒径优选为4到100nm，更优选为10到90nm。当平均颗粒是4nm或更大时，在制备时没有任何问题就可以获得二氧化硅基细颗粒，获得的颗粒充分稳定且不会引起不能获得单分散的氧化锑涂布的二氧化硅基细颗粒的问题，这种问题在使用小尺寸颗粒时可能发生。当平均粒径是100nm或更小是优选的，因为获得的氧化锑涂布的二氧化硅基细颗粒的平均粒径可降至120nm或更小，且可抑制透明度的降低和雾度的增大(这些问题在通过使用大尺寸氧化锑涂布的二氧化硅基细颗粒形成透明膜时可能发生)。
多孔二氧化硅基细颗粒或内部具有孔洞的二氧化硅基细颗粒的折射率优选为不超过1.45，这是二氧化硅的折射率，更优选为1.40或更小。顺便提及，折射率为1.45到1.46的无孔二氧化硅细颗粒可单独使用，但考虑到抗反射性能，优选使用多孔二氧化硅基细颗粒或内部具有孔洞的二氧化硅基细颗粒。
二氧化硅基细颗粒优选涂有氧化锑，以使涂层的平均厚度为0.5到30nm，优选为1到10nm。当涂层的平均厚度是0.5nm或更大时是优选的，因为二氧化硅基细颗粒可被完全涂布，且获得的氧化锑涂布的二氧化硅基细颗粒可显示足够的电导率。当涂层的厚度是30nm或更小是优选的，因为可获得足够高的增强电导率的效果，且可减少不足折射率(deficient refractiveindex)(这种情况在氧化锑涂布的二氧化硅基细颗粒的平均粒径小时可能遇到)。
用于本发明的氧化锑涂布的二氧化硅基细颗粒的平均粒径优选为5到120nm，更优选为10到100nm。当氧化锑涂布的二氧化硅基细颗粒的平均粒径是5nm或更大时是优选的，因为在制备时没有任何问题就可以获得细颗粒且可抑制获得的颗粒的聚集，还因为不会由于不良分散性而引起使用颗粒形成的透明膜的透明度、雾度、膜强度、与基底的粘合等不足的问题，而这些问题在颗粒小时可能遇到。当氧化锑涂布的二氧化硅基细颗粒的平均粒径是120nm或更小时是优选的，因为形成的透明膜可具有足够的透明度，雾度可以得到降低，且不会发生与基底的粘合不充分的问题。
氧化锑涂布的二氧化硅基细颗粒的折射率优选为1.25到1.60，更优选为1.30到1.50。当折射率是1.25或更高时是优选的，因为在制备时没有问题就可以获得颗粒且获得的颗粒的强度够高。另一方面，当折射率是1.60或更小时，透明膜可显示令人满意的抗反射性能，而这是优选的。
氧化锑涂布的二氧化硅基细颗粒的体积电阻值优选为10到5,000Ω/cm，更优选为10到2,000Ω/cm。当体积电阻值是10Ω/cm或更高时是优选的，因为在制备时没有问题就可以获得颗粒，还因为获得的颗粒的折射率可以是1.6或更小，且透明膜可显示令人满意的抗反射性能。另一方面，当体积电阻值是5,000Ω/cm或更小时，获得的透明膜可发挥令人满意的抗静电性能，而这是优选的。如果需要的话，用于本发明的氧化锑涂布的二氧化硅基细颗粒可在使用前以常规的方式用硅烷偶联剂进行表面处理。
[无机细颗粒的表面处理方法]
下面以多孔或空心无机细颗粒为例描述无机细颗粒的表面处理方法。为了提高用于形成低折射率层的粘合剂中的分散性，无机细颗粒的表面优选用有机硅烷的水解产物和/或其部分缩合物处理，更优选由下式(1)表示的有机硅烷的水解产物和/或其部分缩合物处理，进一步优选地，在处理时使用酸性催化剂和金属螯合物中的一种或两种。
(有机硅烷化合物)
下面详细地描述用于本发明的有机硅烷化合物。
式(1)：
(R10)a1-Si(X11)4-a1
在式(1)中，R10表示取代或未被取代的烷基或取代或未被取代的芳基。烷基的实例包括甲基、乙基、丙基、异丙基、己基、叔丁基、仲丁基、己基、癸基和十六烷基。烷基优选为碳数为1到30的烷基，更优选为1到16，进一步优选为1到6。芳基的实例包括苯基和萘基，优选为苯基。
X11表示羟基或可水解基团。可水解基团的实例包括烷氧基(优选为碳数为1到5的烷氧基，比如甲氧基和乙氧基)、卤素原子(例如，Cl、Br、I)和由R12COO表示的基团(其中R12优选为氢原子或碳数为1到5的烷基，例如CH3COO、C2H5COO)。其中，优选烷氧基，更优选甲氧基和乙氧基。
a1表示1到3的整数，优选为1或2，更优选为1。当存在多个R10或X11时，多个R10或X11可以相同或不同。
对R10中含有的取代基没有特别限制，但其实例包括卤素原子(例如，氟、氯、溴)、羟基、巯基、羧基、环氧基、烷基(例如，甲基、乙基、异丙基、丙基、叔丁基)、芳基(例如，苯基、萘基)、芳香杂环基(例如，呋喃基、吡唑基、吡啶基)、烷氧基(例如，甲氧基、乙氧基、异丙氧基、己氧基)、芳氧基(例如，苯氧基)、烷硫基(例如，甲硫基、乙硫基)、芳硫基(例如，苯硫基)、烯基(例如，乙烯基、1-丙烯基)、酰氧基(例如，乙酰氧基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基)、烷氧基羰基(例如，甲氧基羰基、乙氧基羰基)、芳氧基羰基(例如，苯氧基羰基)、氨基甲酰基(例如，氨基甲酰基、N-甲基氨基甲酰基、N，N-二甲基氨基甲酰基、N-甲基-N-辛基氨基甲酰基)和酰胺基(例如，乙酰胺基、苯甲酰胺基、丙烯酰胺基、甲基丙烯酰胺基)。这些取代基均可进一步被取代。顺便提及，在本发明中，即使当单个原子被取代为氢原子，为了方便，这也作为取代基对待。
当存在多个R10时，至少一个优选为取代的烷基或取代的芳基。首先，取代的烷基或取代的芳基优选进一步具有乙烯基可聚合基团，且在这种情况下，由式(1)表示的化合物可表示为由下式(1-2)表示的含乙烯基可聚合取代基的有机硅烷化合物。
式(1-2)：
Figure A200810161026D00131
在式(1-2)中，R11表示氢原子、甲基、甲氧基、烷氧基羰基、氰基、氟原子或氯原子。烷氧基羰基的实例包括甲氧基羰基和乙氧基羰基。R11优选为氢原子、甲基、甲氧基、甲氧基羰基、氰基、氟原子或氯原子，更优选为氢原子、甲基、甲氧基羰基、氟原子或氯原子，进一步优选为氢原子或甲基。
Y11表示单键、酯基、酰氨基、醚基或脲基，优选为单键、酯基或酰氨基，更优选为单键或酯基，进一步优选为酯基。
L11表示二价连接链，具体是取代或未被取代的亚烷基、取代或未被取代的亚芳基、内部含有连接基(例如，醚、酯、酰氨)的取代或未被取代的亚烷基、或内部含有连接基的取代或未被取代的亚芳基，优选碳数为2到10的取代或未被取代的亚烷基、碳数为6到20的取代或未被取代的亚芳基、或内部含有连接基且碳数为3到10的亚烷基，更优选为未被取代的亚烷基、未被取代的亚芳基或内部具有醚或酯连接基的亚烷基，进一步优选为未被取代的亚烷基或内部具有醚或酯连接基的亚烷基。取代基的实例包括卤素、羟基、巯基、羧基、环氧基、烷基和芳基。这些取代基均可进一步被取代。
a2表示0或1。当存在多个X11时，这多个X11可以相同或不同。a2优选为0。
R10具有和式(1)中的R10相同的含义，优选为取代或未被取代的烷基或未被取代的芳基，更优选为未被取代的烷基或未被取代的芳基。X11同样具有和式(1)中的X11相同的含义，优选为卤素、羟基或未被取代的烷氧基，更优选为氯、羟基或碳数为1到6的未被取代的烷氧基，进一步优选为羟基或碳数为1到3的烷氧基，仍进一步优选为甲氧基。
用于本发明的有机硅烷化合物优选为由下式(2)表示的有机硅烷化合物。
式(2)：
  (Rf-L21)b1-Si(X21)b1-4
在式(2)中，Rf表示直链、支链或环状的碳数为1到20的含氟烷基或碳数为6到14的含氟芳基。Rf优选碳数为3到10的直链、支链或环状的氟烷基，更优选碳数为4到8的直链氟烷基。L21表示碳数为10或更少的二价连接基，优选碳数为1到10的亚烷基，更优选碳数为1到5的亚烷基。亚烷基是内部可具有连接基(例如，醚、酯、酰氨)的直链或支链的、取代或未被取代的亚烷基。亚烷基可具有取代基，在这种情况下，取代基的优选实例包括卤素原子、羟基、巯基、羧基、环氧基、烷基和芳基。X21具有和式(1)中的X11相同的含义，优选为卤素、羟基或未被取代的烷氧基，更优选为氯、羟基或未被取代的碳数为1到6的烷氧基，进一步优选为羟基或碳数为1到3的烷氧基，仍进一步优选为甲氧基。
b1具有和式(1)中的a1相同的含义，表示1到3的整数。b1优选为1或2，更优选为1。
在由式(2)表示的含氟硅烷偶联剂中，优选为由下式(2-1)表示的含氟硅烷偶联剂：
式(2-1)：
CnF2n+1-(CH2)m-Si(X22)3
在式(2-1)中，n表示1到10的整数，m表示1到5的整数。n优选为4到10的整数，m优选为1到3的整数。X22表示甲氧基、乙氧基或氯原子。
两种或多种由式(1)、(1-2)、(2)和(2-1)表示的化合物可组合使用。
下面提出由式(1)、(1-2)、(2)和(2-1)表示的化合物的具体实例，但本发明不限于此。
Figure A200810161026D00151
Figure A200810161026D00171
Figure A200810161026D00181
Figure A200810161026D00191
Figure A200810161026D00201
M-40  NH2CH2CH2CH2Si(OCH3)3
M-41  HS—CH2CH2CH2Si(OCH3)3
M-42  CH3Si(OCH3)3
M-43  CH3Si(OC2H5)3
M-44  C2H5Si(OCH3)3
M-45  t-C4H9Si(OCH3)3
Figure A200810161026D00202
Figure A200810161026D00211
M-49  (CH3)3SiOCH3
M-50  (CH3)3SiCl
M-51  (CH3)3SiNHSi(CH3)3
M-52  C18H37Si(OCH3)3
Figure A200810161026D00212
M-55  C3H7CH2CH2Si(OC2H5)3
M-56  C6F13CH2CH2Si(OCH3)3                M-66  C6F13CH2CH2CH2Si(OCH3)3
M-57  C4F9CH2CH2Si(OCH3)3                 M-67  C4F9CH2CH2CH2Si(OCH3)3
M-58  C8F17CH2CH2Si(OCH3)3                M-68  C8F17CH2CH2CH2CH2Si(OCH3)3
M-59  C6F13CH2CH2Si(OC2H5)3                M-69  C6F13CH2Si(OC2H5)3
M-60  C8F17CH2CH2Si(OC2H5)3               M-70  C8F17CH2CH2Si(OC4H9)3
M-61  C4F9CH2CH2Si(OC2H5)3                M-71  C4F9CH2CH2CH2Si(OCH3)3
M-62  C6F13CH2CH2SiCl3                    M-72  C6F13CH2CH2Si(OCH3)2Br
M-63  C8F17CH2CH2SiCl3                    M-73  C8F17CH2CH2CH2Si(OCH3)2Cl
M-64  C4F9CH2CH2SiCl3                      M-74  C4F9CH2CH2Si(CH3)2OCH3
M-65  C6F13CH2CH2Si(OCH3)2CH3             M-75  C6F13CH2CH2Si(OCH3)Cl2
Figure A200810161026D00221
二硅氧烷基化合物也可用作表面处理剂，其实例包括六甲基二硅氧烷、1，3-二丁基四甲基二硅氧烷、1，3-二苯基四甲基二硅氧烷、1，3-乙烯基四甲基二硅氧烷、六乙基二硅氧烷和3-缩水甘油氧基丙基五甲基二硅氧烷。
在这些具体实例中，优选(M-1)、(M-2)、(M-30)、(M-35)、(M-49)、(M-51)、(M-56)和(M-57)。此外，也优选日本专利3,474,330的参考实施例中描述的化合物A、B和C，因为它们具有优异的分散稳定性。
在本发明中，对由式(1)、(1-2)、(2)和(2-1)表示的有机硅烷化合物的用量没有特别限制，但相对于无机细颗粒，优选为1到300质量％，更优选为3到100质量％，最优选为5到50质量％。(在本说明书中，质量比等于重量比。)此外，相对于无机细颗粒表面上的羟基，用量优选为1到300mol％，更优选为5到300mol％，最优选为10到200mol％。当使用的有机硅烷化合物的量在上述范围内，可以获得令人满意的稳定液体分散体的效果，且涂膜形成后的膜强度增大。多种有机硅烷化合物优选组合使用，所述多种化合物可同时加入或通过在不同的时间加入而反应。另外，当多种化合物预先形成部分缩合物然后加入，便于反应的控制，这是优选的。
[无机细颗粒的分散性的提高]
在本发明中，上述有机硅烷化合物的水解产物和/或水解产物的部分缩合物作用于无机细颗粒表面，从而可以提高无机细颗粒的分散性。有机硅烷化合物的水解和缩合反应优选通过加入相对于每mol的可水解基团(X11、X21、X22)0.3到2.0mol的量的水，优选为0.5到1.0mol，并在15到100℃下在用于本发明的酸性催化剂或金属螯合物的存在下搅拌体系而进行。
[用于分散性提高处理的催化剂]
使用有机硅烷的水解产物和/或其缩合反应产物的分散性提高处理优选在催化剂的存在下进行。催化剂的实例包括无机酸(比如盐酸、硫酸和硝酸)；有机酸(比如草酸、乙酸、甲酸、甲磺酸和甲苯磺酸)；无机碱(比如氢氧化钠、氢氧化钾和氨水)；有机碱(比如三乙胺和吡啶)；和金属醇化物(比如三异丙氧基铝和四丁氧基锆)。考虑到无机氧化物细颗粒溶液的制备稳定性或储存稳定性，本发明使用酸性催化剂(无机酸、有机酸)和/或金属螯合物。关于无机酸，优选盐酸和硫酸，关于有机酸，优选在水中的酸解常数(pKa值(在25℃))为4.5或更小的有机酸。首先，更优选盐酸、硫酸和在水中的酸解常数为3.0或更小的有机酸，进一步优选盐酸、硫酸和在水中的酸解常数为2.5或更小的有机酸，更进一步优选在水中的酸解常数为2.5或更小的有机酸。其中，更优选甲磺酸、草酸、邻苯二甲酸和丙二酸，进一步优选草酸。
当有机硅烷的可水解基团是烷氧基且酸性催化剂是有机酸时，有机酸的羧基或磺基提供质子，因此加入的水量可以减少。加入的水量相对于有机硅烷的每mol的醇基为0到2mol，优选为0到1.5mol，更优选为0到1mol，进一步优选为0到0.5mol。当使用醇作为溶剂时，还优选基本不加水的实施方式。
(金属螯合物)
在本发明中，用于使用有机硅烷的水解产物和/或其缩合反应产物的分散性提高处理的金属螯合物优选为至少一种下述金属螯合物，其中由下式(3-1)表示的醇和下式(3-2)表示的化合物作为配体，且中心金属是选自Zr、Ti和Al的金属。只要中心金属是选自Zr、Ti和Al的金属，金属螯合物都可以适当使用，没有任何特定的限制。在这类中，两种或多种金属螯合物可组合使用。
式(3-1)：
    R31OH
式(3-2)：
    R32COCH2COR33
(其中R31和R32可相同或不同，各自表示碳数为1到10的烷基，R33表示碳数为1到10的烷基或碳数为1到10的烷氧基)。
适当地用于本发明的金属螯合物的具体实例包括锆螯合物(比如三正丁氧基乙基乙酰乙酸酯锆、二正丁氧基双(乙基乙酰乙酸酯)锆、正丁氧基三(乙基乙酰乙酸酯)锆、四(正丙基乙酰乙酸酯)锆、四(乙酰基乙酰乙酸酯)锆和四(乙基乙酰乙酸酯)锆)；钛螯合物(比如二异丙氧基双(乙基乙酰乙酸酯)钛、二异丙氧基·双(乙酰乙酸酯)钛和二异丙氧基·双(乙酰乙酮)钛)；和铝螯合物(比如二异丙氧基乙基乙酰乙酸酯铝、二异丙氧基乙酰丙酮铝、异丙氧基双(乙基乙酰乙酸酯)铝、异丙氧基双(乙酰丙酮)铝、三(乙基乙酰乙酸酯)铝、三(乙酰丙酮)铝和单乙酰丙酮·双(乙基乙酰乙酸酯)铝)。
在这些金属螯合物中，优选三正丁氧基乙基乙酰乙酸酯锆、二异丙氧基·双(乙酰丙酮)钛、二异丙氧基乙基乙酰乙酸酯铝和三(乙基乙酰乙酸酯)铝。这些金属螯合物中的一种可以单独使用，或它们的两种或多种可以混合并使用。此外，还可使用这样的金属螯合物的部分水解产物。基于有机硅烷化合物，金属螯合物的量优选为0.1到10.0质量％，更优选为0.5到5.0质量％，最优选为1.0到3.0质量％。
[构成本发明的低折射率层的组分(B)]
(含氟共聚物)
在用于本发明的聚合物的粘合剂中，含氟共聚物化合物特别地用于低折射率层中。本发明中使用的术语“(甲基)丙烯酸酯”、“(甲基)丙烯酸”和“(甲基)丙烯酰基”分别表示“丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯”、“丙烯酸或甲基丙烯酸”和“丙烯酰基或甲基丙烯酰基”。
含氟乙烯单体的实例包括氟烯烃(例如，氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯)、(甲基)丙烯酸的部分或全氟化烷基酯衍生物(例如，VISCOAT6FM(商品名，由Osaka Organic Chemical Industry Ltd.制造)、R-2020(商品名，由Daikin Industries，Ltd.制造)、和全部或部分氟化的乙烯基醚。其中，优选全氟烯烃，且考虑到折射率、溶解度、透明度、可获得性等，更优选六氟丙烯。当含氟乙烯单体的组成比增大时，折射率可以降低但膜强度降低。在本发明中，优选引入含氟乙烯单体，使得共聚物的氟含量为20到60质量％，更优选为25到55质量％，进一步优选为30到50质量％。
可优选使用衍生自具有由下列(1)、(2)或(3)表示的单元的上述含氟乙烯单体的单元的共聚物来赋予交联反应性。
(1)：通过预先在分子内具有自交联官能团的单体(比如缩水甘油基(甲基)丙烯酸酯和缩水甘油基乙烯醚)的聚合而获得的结构单元。
(2)：通过具有羧基、羟基、氨基、磺基等的单体(比如(甲基)丙烯酸、羟甲基(甲基)丙烯酸酯、羟烷基(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸烯丙酯、羟乙基乙烯醚、羟丁基乙烯醚、马来酸和巴豆酸)的聚合而获得的结构单元。
(3)：比如通过使分子中具有能够与上面(1)或(2)的官能团反应的基团和其他交联官能团的化合物，与上面(1)或(2)的结构单元反应而获得的结构单元(比如，通过引起丙烯酸氯化物作用于羟基的方法合成的结构单元)。
在(3)的结构单元中，交联官能团优选为光可聚合基团。光可聚合基团的实例包括(甲基)丙烯酰基、烯基、肉桂酰基、亚肉桂基乙酰基、亚苄基乙酰苯基、苯乙烯基吡啶基、α苯基马来酰亚胺基、苯基叠氮基、磺酰基叠氮基、羰基叠氮基、重氮基、邻苯醌二叠氮基、呋喃基丙烯酰基、香豆素基、吡喃酮基、蒽基、二苯甲酮基、均二苯乙烯基、二硫代氨基甲酸酯基、黄原酸酯基、1，2，3-噻重氮基、环丙烯基和氮杂二氧杂二环基。不仅可含有这些基团中的一种也可含有两者或多种。其中，优选(甲基)丙烯酰基和肉桂酰基，更优选(甲基)丙烯酰基。
制备含光可聚合基团共聚物的具体方法包括但不局限于下列方法：
a.通过使(甲基)丙烯酸氯化物和具有羟基的含交联官能团共聚物反应而进行酯化的方法，
b.通过使含异氰酸酯基(甲基)丙烯酸酯和具有羟基的含交联官能团共聚物反应而进行尿烷化反应(urethanization)的方法，
c.通过使(甲基)丙烯酸和具有环氧基的含交联官能团共聚物反应而进行酯化的方法，和
d.通过使含环氧基的(甲基)丙烯酸酯和具有羧基的含交联官能团共聚物反应而进行酯化的方法。
引入的光可聚合基团的量可以任意调节，比如，从稳定涂层表面状态、减小当无机颗粒一起存在时的表面状态破坏、或增强膜强度的角度考虑，还优选给出一定量的羧基、羟基等。
在可用于本发明的共聚物中，除来源于含氟乙烯单体的重复单元和侧链具有(甲基)丙烯酰基的重复单元之外，从多个角度(比如，与基底的粘合、聚合物的Tg(有助于膜硬度)、溶剂中的溶解度、透明度、滑性(slipperiness)、防尘和防垢性能)而言，可适当地共聚合其他的乙烯单体。根据这些目的可以组合多种这些乙烯单体，基于所述共聚物，这些单体优选以0到65mol％的总量引入，更优选为0到40mol％，进一步优选为0到30mol％。
对可组合使用的乙烯单体单元没有特别限制，其实例包括烯烃(例如，乙烯、丙烯、异戊二烯、氯乙烯、偏二氯乙烯)、丙烯酸酯(例如，丙烯酸甲酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、2-乙基己基丙烯酸酯、2-羟乙基丙烯酸酯)、甲基丙烯酸酯(例如，甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、2-羟乙基甲基丙烯酸酯)、苯乙烯衍生物(例如，苯乙烯、对羟甲基苯乙烯、对甲氧基苯乙烯)、乙烯醚(例如，甲基乙烯醚、乙基乙烯醚、环己基乙烯醚、羟乙基乙烯醚、羟丁基乙烯醚)、乙烯酯(例如，乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、肉桂酸乙烯酯)、不饱和羧酸(例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、马来酸、衣康酸)、丙烯酰胺(例如，N，N-二甲基丙烯酰胺、N-叔丁基丙烯酰胺、N-环己基丙烯酰胺)、甲基丙烯酰胺(例如，N，N-二甲基甲基丙烯酰胺)、及丙烯腈。
特别用于本发明的含氟聚合物是全氟烯烃与乙烯醚或乙烯酯的无规共聚物。特别地，含氟聚合物优选具有自身能够进行交联反应的基团(比如，自由基反应性基团(如(甲基)丙烯酰基)，或开环可聚合基团(比如环氧基和氧环丁基))。含交联反应性基团的聚合单元优选占聚合物的总聚合单元的5到70mol％，更优选为30到60mol％。聚合物的优选实例包括JP-A-2002-243907、JP-A-2002-372601、JP-A-2003-26732、JP-A-2003-222702、JP-A-2003-294911、JP-A-2003-329804、JPA-2004-4444和JP-A-2004-45462中描述的那些。
出于赋予防垢性能的目的，优选将聚硅氧烷结构引入用于本发明的含氟聚合物中。对引入聚硅氧烷结构的方法没有限制，但其优选实例包括通过使用JP-A-6-93100、JP-A-11-189621、JP-A-11-228631和JP-A-2000-313709中描述的硅酮大分子偶氮(macroazo)引发剂而引入聚硅氧烷嵌段共聚组分的方法，以及通过使用JP-A-2-251555和JP-A-2-308806中描述的硅酮大分子单体而引入聚硅氧烷接枝共聚组分的方法。特别优选的化合物包括JP-A-11-189621的实施例1、2和3中的聚合物，和JP-A-2-251555的共聚物A-2和A-3。所述聚合物中的聚硅氧烷组分的含量优选为0.5到10质量％，更优选为1到5质量％。
本发明优选使用的聚合物的分子量，以质量平均分子量计，优选为5,000或更大，更优选为10,000到500,000，最优选为15,000到200,000。另外，可通过组合使用平均分子量不同的聚合物提高涂层表面状态或抗划伤性。
与上述共聚物组合，可适当地使用JP-A-10-25388和JP-A-2000-17028中描述的具有可聚合不饱和基团的固化剂。具有多官能可聚合不饱和基团的化合物的实例包括后面关于无氟多官能单体描述的化合物。在这些化合物中，优选在聚合物主体中具有可聚合不饱和基团的化合物，因为它提供了提高抗划伤性的显著的组合效果。
[构成本发明的低折射率层的组分(C)]
(多官能含氟丙烯酸酯)
在本发明中，由下列结构式表示的(C)多官能含氟丙烯酸酯用作低折射率层的构成组分。
Figure A200810161026D00281
在上式中，Rf表示可具有醚键的(p+q)价的全氟代饱和烃基，p表示2到10的整数，q表示0到8的整数，只要(p+q)表示2到10的整数，r表示0到100的整数。
Rf可以是直链或支链或可具有环状结构。Rf的碳数优选为1到20，更优选为1到10。下面提出Rf的优选实例，但本发明不限于此。
Figure A200810161026D00291
*表示
Figure A200810161026D00292
的键合位。
# 表示-CH2OH的键合位。
p优选为3到6的整数，且同时q是0到3的整数，只要(p+q)是3到6的整数。
r表示0到100的整数，优选为0到50的整数，更优选为0到20，进一步优选为0到10，更进一步优选为0到4，最优选为0或1。
用于本发明的多官能含氟丙烯酸酯(C)在一个分子内含有p个由-(OCF2CF2)r-OCF2CH2O表示的连接基，而一个分子中的r可以相同或不同。一般认为该化合物具有提高无机细颗粒的分散性同时保持低折射率的作用。特别地，r优选为4或更小，因为可以获得高的交联基团密度且涂膜的强度可以增大。如果r超过100，涂膜的交联基团密度降低，而这会引起抗划伤性变差。
R表示氢原子、甲基、氟原子或三氟甲基，优选为氢原子。
关于用于本发明的多官能含氟丙烯酸酯(C)，可使用一种化合物或两种或多种化合物。下面提出用于本发明的多官能含氟丙烯酸酯(C)的具体实例。这里，r＝1显示为典型实例，但本发明在骨架(Rf)和r方面并不受限于此。
Figure A200810161026D00311
Figure A200810161026D00321
Figure A200810161026D00331
Figure A200810161026D00341
Figure A200810161026D00351
用于本发明的多官能含氟丙烯酸酯(C)可容易地通过利用WO90/03353或WO00/56694中描述的液相氟化反应而合成。下面具体描述化合物(C-6)的合成实例。
(C-6)的合成实例：
化合物(C-6)通过下列路线合成。
Figure A200810161026D00361
化合物2的合成：
保持温度在20℃或更低，在含有吡啶(77.6ml，0.96mol)和通过在出版物(比如，Eur.J.Ord.Chem.，485-490(2000))中已知的方法合成的化合物1(97.7g，0.2mol)的乙酸乙酯溶液(1.5L)中逐滴加入7H-十二氟戊酰基氯化物(321g，0.88mol)。逐滴加入后，在室温下搅拌反应溶液6小时，并通过过滤除去不溶物。滤液用碳酸氢钠水(1.5L)洗涤两次并进一步用饱和盐水(1.5L)洗涤两次。有机层在硫酸镁上干燥并在减压下浓缩。用柱色谱法(展开溶剂：乙酸乙酯/己烷＝1/3)纯化浓缩物以获得化合物2(306g，0.17mol)。
化合物3的合成：
在1,000ml体积的聚四氟乙烯制成的反应容器中，加入氟化钠(54.2g，1.29mol)和全氟己烷(700ml)并保持在-10℃。在反应容器的出口设置温度保持在-50℃或更低的回流装置。以200ml/分钟的速率向反应容器中吹入氮气1小时，然后以250ml/分钟的速率将用氮气稀释到20％的氟气(下文简称氟气)吹入其中30分钟。当以相同的速率吹氟气时，在5小时内加入化合物2(30g，16.7mol)和六氟苯(5g，26.9mol)的混合液，此外，在以相同的速率吹氟气时，在1小时30分钟内加入六氟苯(2.0g)的全氟己烷(10ml)溶液。进一步以250ml/分钟的速率将氟气吹入反应容器30分钟，然后以200ml/分钟的速率吹氮气1小时。随后，向反应溶液中加入100ml的乙醇并在室温下搅拌得到的溶液1小时。在通过过滤除去不溶物之后，滤液在降压下浓缩，并用真空泵(室温，2mmHg)进一步除去低沸点组分以获得16.5g的浓缩物。浓缩物经NMR确认为主要包含化合物3的混合物，不再进行提纯，用于下一步骤中。
化合物4的合成：
在氮气氛中在5℃下向氢化锂铝(5.43g，0.143mol)的二乙醚(450ml)液体分散体中逐滴加入上面的浓缩物(16.5g)的二乙醚(100ml)溶液。在室温下搅拌该反应溶液5小时后，在不引起气泡的情况下小心地慢慢加入冰水(700g)并进一步逐滴加入盐酸(48ml)。通过Celite过滤除去不溶物，然后进行液体分离。用水洗涤有机层，然后用饱和盐水(400ml)洗涤，在硫酸镁上干燥。在减压下浓缩该有机层并进一步用柱色谱法(展开溶剂：二氯甲烷/乙醇＝10/1)提纯以获得化合物4(9.1g，8.56mmol)。
化合物(C-6)的合成：
在室温下向化合物4(9.1g，8.56mmol)和碳酸钾(32.9g，0.238mol)的乙腈(400ml)液体分散体中逐滴加入丙烯酸氯化物(7.2g，79.5mmol)。在室温下搅拌反应溶液4小时，然后加入乙酸乙酯(1L)/1N盐酸(1L)中。分别用碳酸氢钠水、水和饱和盐水洗涤该有机层一次，在硫酸镁上干燥。在减压下浓缩得到的有机层并通过柱色谱法(展开溶剂：乙酸乙酯/己烷＝1/5)提纯以获得化合物(C-6)(8.5g，6.64mmol)。
[组分(D)无氟多官能单体]
在本发明中，对于含氟聚合物，可适当地组合使用无氟多官能单体作为固化剂。无氟多官能单体提供提高抗划伤性的显著的组合效果，尤其当含可聚合不饱和基团的化合物用于聚合物主体中时，这是优选的。
用于本发明的无氟多官能单体描述如下。该单体包括具有可聚合官能团(比如(甲基)丙烯酰基、乙烯基、苯乙烯基和烯丙基)的化合物。其中，优选(甲基)丙烯酰基。首先，可优选使用在一个分子内含有两个或更多个(甲基)丙烯酰基的化合物。这样的化合物提供提高抗划伤性的显著的组合效果，尤其当含有可聚合不饱和基团的化合物用于聚合物主体时，或在化学处理后提高抗划伤性，而这是优选的。
无氟多官能单体的具体实例包括：
烷撑二醇的(甲基)丙烯酸二酯，比如新戊二醇丙烯酸酯、1，6-己二醇(甲基)丙烯酸酯和丙二醇二(甲基)丙烯酸酯；
聚亚氧烷基乙二醇的(甲基)丙烯酸二酯，比如三甘醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙撑二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯和聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯；
多元醇的(甲基)丙烯酸二酯，比如季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯；和
环氧乙烷或环氧丙烷加成物的(甲基)丙烯酸二酯，比如2，2-二(4-(丙烯酰氧基·二乙氧基)苯基)丙烷和2，2-二{4-(丙烯酰氧基·聚丙氧基)苯基}丙烷。
此外，环氧(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯和聚酯(甲基)丙烯酸酯也可优选用作光可聚合多官能单体。
首先，优选多元醇和(甲基)丙烯酸的酯，而更优选在一个分子内具有三个或更多个(甲基)丙烯酰基的多官能单体。其实例包括季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改性的三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、PO改性的三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改性的磷酸三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1，2，3-环己烷四甲基丙烯酸酯、聚氨酯聚丙烯酸酯、聚酯聚丙烯酸酯、及己内酯改性的三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯。
具有(甲基)丙烯酰基的多官能丙烯酸酯基化合物的具体实例包括多元醇和(甲基)丙烯酸的酯化产物，比如由Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造的KAYARAD DPHA、KAYARAD DPHA-2C、KAYARAD PET-30、KAYARADTMPTA、KAYARAD TPA-320、KAYARAD TPA-330、KAYARAD RP-1040、KAYARAD T-1420、KAYARAD D-310、KAYARAD DPCA-20、KAYARADDPCA-30、KAYARAD DPCA-60和KAY ARAD GPO-303，和由OsakaOrganic Chemical Industry Ltd.制造的V#3PA、V#400、V#36095D、V#1000和V#1080。可适当使用的多官能丙烯酸酯基化合物的其他的实例包括三官能或更高官能的聚氨酯丙烯酸酯化合物，比如Shiko UV-1400B、ShikoUV-1700B、Shiko UV-6300B、Shiko UV-7550B、Shiko UV-7600B、ShikoUV-7605B、Shiko UV-7610B、Shiko UV-7620EA、Shiko UV-7630B、ShikoUV-7640B、Shiko UV-6630B、Shiko UV-7000B、Shiko UV-7510B、ShikoUV-7461TE、Shiko UV-3000B、Shiko UV-3200B、Shiko UV-3210EA、ShikoUV-3310EA、Shiko UV-3310B、Shiko UV-3500BA、Shiko UV-3520TL、ShikoUV-3700B、Shiko UV-6100B、Shiko UV-6640B、Shiko UV-2000B、ShikoUV-2010B、Shiko UV-2250EA和Shiko UV-2750B(由The Nippon SyntheticChemical Industry Co.，Ltd.制造)、UL-503LN(由Kyoeisha Chemical Co.，Ltd.制造)、UNIDIC 17-806、UNIDIC 17-813、UNIDIC V-4030和UNIDICV-4000BA(由Dainippon Ink and Chemicals，Inc.制造)、EB-1290K、EB-220、EB-5129、EB-1830和EB-4858(由Daicel-UCB Company Ltd.制造)、Hi-CoapAU-2010和Hi-Coap AU-2020(由Tokushiki Co.，Ltd.制造)、ARONIXM-1960(由Toagosei Co.，Ltd.制造)和Art Resin UN-3320HA、UN-3320HC、UN-3320HS、UN-904和HDP-4T；和三官能或更高官能的聚酯化合物，比如ARONIX M-8100、M-8030和M-9050(由Toagosei Co.，Ltd.制造)、及KRM-8307(由DAICELCYTEC Company Ltd.制造)。
其他实例包括具有三个或更多个(甲基)丙烯酰基的树脂，比如相对低分子量的聚酯树脂、聚醚树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂、醇酸树脂、螺缩醛(spiroacetal)树脂、聚丁二烯树脂和聚硫醇多烯(polythiolpolyene)树脂和多官能化合物(例如，多元醇)的低聚物或预聚物。
对于单体粘合剂，还可使用比如JP-A-2005-76005和JP-A-2005-36105中描述的树形聚合物，或比如JP-A-2005-60425中描述的含降冰片烯环的单体。
两种或多种多官能单体可组合使用。这样的具有烯键式不饱和基团的单体的聚合可通过电离辐射的照射或在加热下，在光自由基引发剂或热自由基引发剂的存在下进行。
在光可聚合多官能单体的聚合反应中，优选使用光聚合引发剂，该光聚合引发剂优选为光自由基聚合引发剂或光阳离子聚合引发剂，更优选为光自由基聚合引发剂。
在本发明中，优选含有至少一种聚硅氧烷基化合物。
[组分(E)聚硅氧烷基化合物]
下面描述聚硅氧烷基化合物。在本发明中，具有聚硅氧烷结构的化合物可以用于赋予滑性，以增强抗划伤性和赋予防垢性能的目的。该化合物其结构不受限制，其包括那些在含有多个二甲基甲硅烷氧基单元作为重复单元的化合物链的端部或侧链中具有取代基的化合物。在含有二甲基甲硅烷氧基作为重复单元的化合物链中，可含有二甲基甲硅烷氧基之外的结构单元。
在加入这种化合物时，基于低折射率层的全部固体含量，该化合物的加入量优选在0.01到20质量％的范围内，更优选为0.05到10质量％，进一步优选为0.1到5质量％。
对具有聚硅氧烷结构的化合物的分子量没有特别限制，但优选为100,000或更小，更优选为50,000或更小，最优选为3,000到30,000。
从防止转移(transfer)的角度而言，该化合物优选含有(甲基)丙烯酰基或与(甲基)丙烯酰基反应形成键的官能团。该成键反应优选在聚合引发剂的存在下快速进行。该化合物的优选实例包括但不局限于下列化合物。
该化合物的优选实例包括在含有多个二甲基甲硅烷氧基单元作为重复单元的化合物链的端部或侧链中具有取代基的。在含有二甲基甲硅烷氧基作为重复单元的化合物链中，可含有除二甲基甲硅烷氧基之外的结构单元。优选存在多个相同或不同的取代基。取代基的优选实例包括含有丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、芳基、肉桂酰基、氧环丁基、氟烷基、聚氧化烯基、羧基或氨基的基团。特别优选含有(甲基)丙烯酰基。对分子量没有特别限制，但优选为100,000或更小，更优选为50,000或更小，进一步优选为3,000到30,000，最优选为10,000到20,000。对硅酮基化合物(silicone-basedcompound)的硅原子含量没有特别限制，但优选为18.0质量％或更多，更优选为25.0到37.0质量％，最优选为30.0到37.0质量％。硅酮基化合物的优选实例包括但不局限于，由Shin-Etsu Chemical Co.，Ltd.制造的X-22-174DX、X-22-2426、X-22-164B、X22-164C和X-221821(均为商品名)；由ChissoCorporation制造的FM-0725、FM-7725、FM-6621和FM-1121；和由Gelest制造的DMS-U22、RMS-033、RMS-083、UMS-182、DMS-H21、DMS-H31、HMS-301、FMS121、FMS123、FMS131、FMS141和FMS221(均为商品名)。
出于赋予比如防尘和抗静电性的性能的目的，可适当加入灰尘抑制剂、抗静电剂等(比如已知的阳离子表面活性剂和聚氧化烯基化合物)。这样的灰尘抑制剂或抗静电剂的结构单元可作为上述硅酮基化合物的官能团的一部分。在加入这样的添加剂时，基于低折射率层的全部固体含量，该添加剂的加入量优选在0.01到20质量％的范围内，更优选为0.05到10质量％，进一步优选为0.1到5质量％。该化合物的优选实例包括但不局限于由DowCorning Toray Co.，Ltd.制造的SH-3748(商品名)。
(聚合引发剂)
下面描述可用于固化本发明的低折射率层的聚合引发剂。当低折射率层的组成组分是自由基可聚合化合物时，这样的化合物的聚合可通过电离辐射照射或在加热下，在光自由基引发剂或热自由基引发剂的存在下进行。
(光自由基引发剂)
光自由基聚合引发剂的实例包括苯乙酮、安息香、二苯甲酮、氧化膦、缩酮、蒽醌、噻吨酮、偶氮化合物、过氧化物、2，3-二烷基二酮化合物、二硫化物、氟胺化合物、芳香锍、洛粉碱二聚物、鎓盐、硼酸盐、活性酯、活性卤、无机复合物和香豆素。
苯乙酮的实例包括2，2-二甲氧基苯乙酮、2，2-二乙氧基苯乙酮、对-二甲基苯乙酮、1-羟基-二甲基苯基酮、1-羟基-二甲基-对异丙基苯基酮、1-羟基环己基苯基酮、2-甲基-4-甲硫基-2-吗啉代苯丙酮、2-苯甲基-2-甲氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮、4-苯氧基二氯苯乙酮和4-叔丁基二氯苯乙酮。
安息香类的实例包括安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香异丙醚、苯甲基二甲基缩酮、安息香苯磺酸酯、安息香甲苯磺酸酯、安息香甲醚、安息香乙醚和安息香异丙醚。
二苯甲酮类的实例包括二苯甲酮、羟基二苯甲酮、4-苯甲酰基-4′-甲基联苯硫化物、2，4-二氯二苯甲酮、4，4-二氯二苯甲酮、对氯二苯甲酮、4.4′-二甲氨基二苯甲酮(米希勒酮(Michilelr’s ketone))和3，3′，4，4′-四(叔丁基过氧羰基)二苯甲酮。
氧化膦的实例包括2，4，6-三甲基苯甲酰二苯膦氧化物。活性酯的实例包括1，2-辛烷二酮、1-[4-(苯硫基)-2-(邻苯甲酰肟)]、磺酸酯和环状活性酯化合物。具体地，优选JP-A-2000-80068的实施例中描述的化合物1到21。
鎓盐的实例包括芳香重氮盐、芳香碘鎓盐和芳香锍盐。硼酸盐的实例包括具有阳离子着色物质的离子络合物。
活性卤素具体包括在比如Wakabayashi et al.，Bull Chem.Soc.Japan，Vol.42，page 2924(1969)、美国专利3,905,815、JP-A-5-27830、和M.P.Hutt，Journalof Heterocyclic Chemistry，Vol.1(No.3)，(1970)中描述的化合物，尤其是三卤甲基取代的噁唑化合物和均三嗪化合物。至少一个单、二或三卤素取代的甲基键联至均三嗪环的噁唑化合物更为合适。具体地，均三嗪和噁噻唑化合物为已知，其实例包括2-(对甲氧基苯基)-4，6-二(三氯甲基)-均三嗪、2-(对甲氧基苯基)-4，6-二(三氯甲基)-均三嗪、2-(对苯乙烯基苯基)-4，6-二(三氯甲基)-均三嗪、2-(3-Br-4-二(乙酸乙酯)氨基)苯基-4，6-二(三氯甲基)-均三嗪和2-三卤甲基-5(对甲氧基苯基)-1，3，4-噁二唑。其具体的优选实例包括JP-A-58-15503的14-30页和JP-A-55-77742的6-10页中描述的化合物、JP-B-60-27673(此处使用的术语“JP-B”表示“审查后的日本专利公开”)的287页描述的化合物No.1到8、JP-A-60-239736的443-444页描述的化合物No.1到17、及美国专利4,701,399描述的化合物No.1到19。
活性卤素的具体实例如下。
Figure A200810161026D00431
Figure A200810161026D00451
Figure A200810161026D00461
Figure A200810161026D00471
无机络合物的实例包括二(η5-2，4-环戊二烯-1-基)二[2，6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基]钛。香豆素的实例包括3-氧化香豆素。
这些引发剂可单独使用或作为混合物使用。
在本发明中，具有高分子量以及从涂膜的挥发较少的化合物优选为低聚物型聚合引发剂。对低聚物型辐射聚合引发剂没有特别限制，只要它具有能在辐射的照射下产生光自由基的位点。为了防止热处理引起的挥发，聚合引发剂的分子量优选为280到10,000，更优选为300到10,000。进一步优选地，质量平均分子量为400到10,000。当质量平均分子量是400或更大时，挥发性低，这是优选的，且当质量平均分子量是10,000或更小时，可有利地获得具有充分高硬度的固化膜。低聚物型辐射聚合引发剂的具体实例包括由下式(5)表示的低聚[2-羟基-2-甲基-1-{4-(1-甲基乙烯)苯基)丙酮]。
式(5)：
Figure A200810161026D00472
在式(5)中，R51表示单价基团，优选为单价有机基团，q表示2到45的整数。
由式(5)表示的低聚[2-羟基-2-甲基-1-(4-(1-甲基乙烯)苯基)丙酮]的商业产品的实例包括“Esacure KIP150”(CAS No.163702-01-0，q＝4到6)、“EsacureKIP65LT”(“Esacure KIP150”和三丙二醇二丙烯酸酯的混合物)、“EsacureKIP100F”(“Esacure KIP150”和2-羟基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮的混合物)、“Esacure KT37”、“Esacure KT55”(均为“Esacure KIP150”和甲基二苯甲酮衍生物的混合物)、“Esacure KTO46”(“Esacure KIP150”、甲基二苯甲酮衍生物和2，4，6-三甲基苯甲酰二苯膦氧化物的混合物)、和“EsacureKIP75/B”(“Esacure KIP150”和2，2-二甲氧基-1，2-二苯乙烷-1-酮的混合物)，商品名，由Fratelli Lamberti制造。
Saishin UV Koka Gijutsu(Latest UV Curing Technologies)，159页，Technical Information Institute Co.，Ltd.(1991)、和Kiyomi Kato，ShigaisenKoka System(Ultraviolet Curing System)，65-148页，Sogo Gijutsu Center(1989)也描述了多个实例，这些可用于本发明中。
光分裂型的市售光自由基聚合引发剂的优选实例包括由Ciba SpecialtyChemicals Corp.制造的＂Irgacure 651＂、＂Irgacure 184＂、＂Irgacure 819＂、＂Irgacure 907＂、＂Irgacure 1870＂(CGI-403/Irg184的7/3混合引发剂)、＂Irgacure500＂、＂Irgacure 369＂、＂Irgacure 1173＂、＂Irgacure 2959＂、＂Irgacure 4265＂、＂Irgacure 4263＂、＂Irgacure 127＂和＂OXE01＂；由Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造的＂KAYACURE DETX-S＂、＂KAYACURE BP-100＂、＂KAYACURE BDMK＂、＂KAYACURE CTX＂、＂KAYACURE BMS＂、＂KAYACURE 2-EAQ＂、＂KAYACURE ABQ＂、＂KAYACURE CPTX＂、＂KAYACURE EPD＂、＂KAYACURE ITX＂、＂KAYACURE QTX＂、＂KAYACURE BTC＂和＂KAYACURE MCA＂；由Sartomer Company，Inc.制造的＂Esacure(KIP100F、KB1、EB3、BP、X33、KTO46、KT37、KIP150、TZT)；和它们的混合物。
光聚合引发剂的用量优选为每100质量份的粘合剂0.1到15质量份，更优选为1到10质量份。
除光聚合引发剂之外，还可使用光敏剂。光敏剂的具体实例包括正丁胺、三乙胺、三正丁基膦、米希勒酮和噻吨酮。此外，可组合使用一种或多种助剂，比如叠氮化物、硫脲化合物和巯基化合物。
市售光敏剂的实例包括由Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造的＂KAYACURE(DMBI，EPA)＂。
(热自由基引发剂)
对于热自由基引发剂，可使用有机或无机过氧化物、有机偶氮或重氮化合物等。
有机过氧化物的实例包括过氧化苯甲酰、卤素过氧化苯甲酰、过氧化月桂酰、过氧化乙酰、二丁基过氧化物、枯烯氢过氧化物和过氧化氢丁酯；无机过氧化物的实例包括过氧化氢、过硫酸铵和过硫酸钾；偶氮化合物的实例包括2，2′-偶氮二(异丁腈)、2，2′-偶氮二(丙腈)和1，1′-偶氮二(环己烷腈)；且重氮化合物的实例包括重氮胺基苯和重氮对硝基苯。
热自由基引发剂的用量优选为每100质量份的粘合剂0.1到15质量份，更优选为1到10质量份。
(光学膜的层结构)
本发明的光学膜(防反射膜)具有至少一个防反射层，该防反射层通过考虑折射率、膜厚度、层数、层顺序等层叠在透明基底(下文有时称作“支持体”)上。
作为最简单结构，本发明的光学膜通常具有这样的结构，其中仅通过涂布在基底上提供低折射率层。为了更多地降低反射率，防反射层优选通过组合折射率高于基底的高折射率层和折射率低于基底的低折射率层来构成。结构的实例包括从基底侧起的高折射率层/低折射率层双层结构，通过按照中折射率层(折射率高于基底或硬涂层但低于高折射率层的层)/高折射率层/低折射率层的顺序层叠折射率不同的三层而形成的结构。还建议层叠多个防反射层的结构。考虑到耐久性、光学性质、成本、生产率等，优选在其上具有硬涂层的基底上以此顺序涂布中折射率层/高折射率层/低折射率层。
用于本发明光学膜的层结构的优选实例包括下述结构。在下面的结构中，当附加“(抗静电层)”时，表示具有其他性能的层还组合具有抗静电层性能。通过设计抗静电层使其具有抗静电性能以外的性能，形成的层数目可以减少，在较高的生产率方面这是优选的。
·支持体/抗静电层/低折射率层
·支持体/低折射率层(抗静电层)
·支持体/防眩光层(抗静电层)/低折射率层
·支持体/防眩光层/抗静电层/低折射率层
·支持体/硬涂层/防眩光层(抗静电层)/低折射率层
·支持体/硬涂层/防眩光层/抗静电层/低折射率层
·支持体/硬涂层/抗静电层/防眩光层/低折射率层
·支持体/硬涂层(抗静电层)/防眩光层/低折射率层
·支持体/硬涂层/高折射率层/抗静电层/低折射率层
·支持体/硬涂层/高折射率层(抗静电层)/低折射率层
·支持体/硬涂层/抗静电层/高折射率层/低折射率层
·支持体/硬涂层/中折射率层/高折射率层(抗静电层)/低折射率层
·支持体/硬涂层/中折射率层(抗静电层)/高折射率层/低折射率层
·支持体/硬涂层(抗静电层)/中折射率层/高折射率层/低折射率层
·支持体/防眩光层/高折射率层(抗静电层)/低折射率层
·支持体/防眩光层/中折射率层(抗静电层)/高折射率层/低折射率层
·支持体/抗静电层/硬涂层/中折射率层/高折射率层/低折射率层
·抗静电层/支持体/硬涂层/中折射率层/高折射率层/低折射率层
·支持体/抗静电层/防眩光层/中折射率层/高折射率层/低折射率层
·抗静电层/支持体/防眩光层/中折射率层/高折射率层/低折射率层
·抗静电层/支持体/防眩光层/高折射率层/低折射率层/高折射率层/低折射率层
只要反射率可以通过光学干涉降低，层结构并不特别限制于这些层结构。
(透明支持体)
对本发明膜的支持体没有特别限制，可以是透明树脂膜、透明树脂板、透明树脂片或透明玻璃。可使用的透明树脂膜的实例包括纤维素酰化物膜(例如，三醋酸纤维素膜(折射率：1.48)、二醋酸纤维素膜、醋酸丁酸纤维素膜、醋酸丙酸纤维素膜)、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚醚砜膜、聚丙烯酸树脂膜、聚氨酯基树脂膜、聚酯膜、聚碳酸酯膜、聚砜膜、聚醚膜、聚甲基戊烯膜、聚醚酮膜和(甲基)丙烯腈膜。
(纤维素酰化物膜)
其中，优选通常用作偏振片的保护膜的纤维素酰化物膜，因为其透明度高、光学双折射较少且易于制备，更优选三醋酸纤维素膜。透明支持体的厚度通常在25到1,000μm的量级。
在本发明中，乙酰化度为59.0到61.5％的纤维素乙酸酯优选用于纤维素酰化物膜。乙酰化度指每单位物质的纤维素键合的乙酸的量。乙酰化度根据ASTM：D-817-91(纤维素乙酸酯的试验方法等)中的乙酰化度的测量和计算而确定。纤维素酰化物的粘均聚合度(DP)优选为250或更高，更优选为290或更高。
此外，在用于本发明的纤维素酰化物中，通过凝胶渗透色谱法确定的Mw/Mn值(Mw为质量平均分子量，Mn为数均分子量)优选接近于1.0，换言之，优选分子量分布较窄。具体地，Mw/Mn值优选为1.0到1.7，更优选为1.3到1.65，最优选为1.4到1.6。
通常，在纤维素酰化物的2-、3-和6-位的羟基并非平均以1/3分布，6-位羟基的取代度往往较小。在本发明中，纤维素酰化物的6-位羟基的取代度优选大于2-位或3-位的。
6-位的羟基优选以基于全部取代度的32％或更高的比例被酰基取代，更优选为33％或更高，进一步优选为34％或更高。此外，纤维素酰化物的6位酰基的取代度优选为0.88或更高。除乙酰基之外，6-位羟基也可以被碳数为3或更多的酰基取代，比如丙酰基、丁酰基、戊酰基、苯甲酰基或丙烯酰基。在各个位点的取代度可通过NMR测量。
对于用于本发明的纤维素酰化物，可使用通过JP-A-11-5851，段落[0043]和[0044]的＂实施例＂和＂合成实施例1＂、段落[0048]和[0049]的＂合成实施例2＂、和段落[0051]和[0052]中公开的＂合成实施例3＂的方法合成的醋酸纤维素。
(聚对苯二甲酸乙二醇酯膜)
在本发明中，还可优选使用聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，因为该膜的透明度、机械强度、平面度、耐化学性和抗湿性都很优异，此外，较为便宜。
透明塑料膜更优选经过简易粘合处理，以便进一步增强透明塑料膜和置于其上的硬涂层之间的粘合强度。市售具有简易粘合层的光学PET膜的实例包括由Toyobo Co.，Ltd.制造的COSMOSHINE A4100和A4300。
[涂布组合物]
本发明的涂布组合物含有(A)无机细颗粒、(B)含氟共聚物、和(C)多官能含氟丙烯酸酯。涂布组合物中的固体含量的比例(质量％)优选制备成满足下列比值：(A)：(B)：(C)＝10到70：1到70：1到70，总量为100。在本发明中，含氟共聚物(B)的含量优选为大于多官能含氟丙烯酸酯(C)的含量。
基于涂布组合物中的全部固体含量，(A)的含量优选为10到70质量％，更优选为20到70质量％，进一步优选为30到70质量％，更进一步优选为40到60质量％。当所述含量为70质量％或更少时，可以更好地提高抗划伤性。在本发明中，基于涂布组合物中的全部固体含量，(B)的含量优选为1到40质量％，更优选为5到30质量％，最优选为5到20质量％。另外，基于涂布组合物中的全部固体含量，(C)的含量优选为5到50质量％，更优选为10到40质量％，最优选为15到30质量％。涂布组合物可进一步含有聚合引发剂、用于调节涂布溶液的粘度的粘度调节剂(例如，溶剂、聚合物)、和添加剂(比如涂布助剂)，均以适当的量(比如，约0到10质量％)加入。为了确保低折射率，没有白色混浊，并同时满足抗划伤性和防垢耐久性，(A)、(B)和(C)的含量优选在上述范围内。
在本发明中，优选适当地加入无氟多官能单体作为组分(D)。基于涂布组合物中的全部固体含量，组分(D)的加入量优选为0到30质量％，更优选为1到20质量％，最优选为5到15质量％。加入量为30质量％或更小时能够抑制折射率的增大(即，反射率的增大)。
在涂布组合物中，可进一步使用溶剂。在使用溶剂时，优选使用溶剂使得涂布组合物中的固体含量浓度变为0.1到90质量％，更优选为1到20质量％，最优选为1到10质量％。
[溶剂]
对溶解化合物半导体的溶剂没有特别限制，但是优选使用醇基溶剂或酮基溶剂。其具体实例包括丙酮、丁酮、2-戊酮、3-戊酮、2-己烷、2-庚酮、4-庚酮、甲基异丙基甲酮、乙基异丙基甲酮、二异丙基甲酮、甲基异丁基酮、甲基叔丁基甲酮、丁二酮、乙酰丙酮、丙酮基丙酮、双丙酮醇、异亚丙基丙酮、氯丙酮、环戊酮、环己酮和苯乙酮。其中，优选丁酮和甲基异丁基酮。这些溶剂中的一种可单独使用，也可以任意比例混合其多种并使用。
另外，酯基溶剂(比如丙二醇单甲醚醋酸酯)、或氟基溶剂(例如，氟基醇)可适当地用作辅助溶剂。这些溶剂中的一种可单独使用，或以任意混合比混合其多种并使用。本发明的涂布组合物具有良好的溶解性，即使不使用氟基溶剂也如此，不会引起白色混浊，可以得到抗划伤性、防垢性能等优异的涂膜。
(涂布方法)
本发明的光学膜可通过下述方法形成，但本发明不局限于该方法。首先，制备含有用于形成各层的组分的涂布组合物。然后，将制得的涂布组合物通过浸渍涂布法、气刀涂布法、帘式涂布法、辊式涂布法、线棒涂布法、凹版涂布法或模具涂布法涂布在透明支持体上，然后加热/干燥。优选微凹版涂布法、线棒涂布法和模具涂布法(参见，美国专利2,681,294和JP-A-2006-122889)，更优选模具涂布法。
涂布后，涂布组合物形成的层通过光线照射或在加热下固化，从而形成低折射率层。如果需要，可预先在透明支持体上涂布光学层(描述过的构成膜的层，比如，硬涂层、防眩光层、中折射率层、或高折射率层)，并在其上形成低折射率层。由此获得本发明的光学膜。
(防眩光层)
形成防眩光层的目的在于通过表面散射为膜提供防眩光性能，优选具有硬涂层性能(hardcoat property)以增强膜的抗划伤性。
形成防眩光层的方法的已知实例包括JP-A-6-16851中描述的通过层叠在表面上具有微细不均匀的消光形状膜而形成防眩光层的方法；JP-A-2000-206317中描述的通过改变电离辐射的辐照剂量，从而引起电离辐射可固化树脂的固化收缩而形成防眩光层的方法；JP-A-2000-338310中描述的通过干燥降低良溶剂和透光树脂之间的重量比，从而使透光细颗粒和透光树脂胶化并固化，以在涂膜表面形成不均匀的方法；及JP-A-2000-275404中描述的通过施加外压力赋予表面不均匀的方法。可以使用这些已知的方法。
可用于本发明的防眩光层优选为含有下列主要成分的层：可赋予硬涂层性能的粘合剂、赋予防眩光性能的透光颗粒和溶剂，其中表面不均匀通过透光颗粒本身的突起(protrusion)或多个颗粒的聚集体形成的突起而形成。
由消光颗粒的分散体形成的防眩光层由粘合剂和分散在粘合剂中的透光颗粒组成。具有防眩光性能的防眩光层优选同时具有防眩光性能和硬涂层性能。
消光颗粒的具体的优选实例包括无机化合物颗粒，比如二氧化硅颗粒和TiO2颗粒；和树脂颗粒，比如丙烯醛酯(acryl)颗粒、交联丙烯醛酯颗粒、聚苯乙烯颗粒、交联苯乙烯颗粒、三聚氰胺树脂颗粒和苯代三聚氰胺树脂颗粒。其中，更优选交联苯乙烯颗粒、交联丙烯醛酯颗粒和二氧化硅颗粒。
消光颗粒的形状可以是球形的或不定形的。
消光颗粒的粒径分布通过库仑特计数器法测量，测得的分布转化成颗粒数分布。
通过根据选自这些颗粒的透光颗粒的折射率来调节透光树脂的折射率，可实现本发明的内部雾度和表面雾度。更具体地说，优选主要包含下面描述的三官能或更高官能的(甲基)丙烯酸酯单体的透光树脂(固化后折射率：1.55到1.70)和包含苯乙烯含量为50到100质量％的交联聚(甲基)丙烯酸酯聚合物和/或苯代三聚氰胺颗粒的透光颗粒的组合，其中所述透光树脂优选用于本发明的防眩光层；更优选上面的透光树脂和包含苯乙烯含量为50到100质量％的交联聚(苯乙烯-丙烯酸酯)共聚物的透光颗粒(折射率：1.54到1.59)的组合。
考虑到防止眩光、图象模糊、表面模糊(clouding)或眩光等，优选混合透光颗粒，使得基于防眩光层的全部固体含量，其含量在形成的防眩光层中为3到30质量％，更优选为5到20质量％。如果含量小于3质量％，防眩光性能不充分，而如果超过30质量％，则产生比如图象模糊或表面模糊或眩光的问题。
透光颗粒的密度优选为10到1,000mg/m2，更优选为100到700mg/m2。
透光树脂的折射率和透光颗粒的折射率之间的差的绝对值优选为0.04或更小。透光树脂的折射率和透光颗粒的折射率之间的差的绝对值优选为0.001到0.030，更优选为0.001到0.020，进一步优选为0.001到0.015。如果这个差超过0.040，则产生比如膜特性的模糊、暗室对比度的降低、或表面模糊的问题。
透光树脂的折射率可通过阿贝折射仪的直接测量或测量光谱反射光谱或椭圆光谱来定量评价。透光颗粒的折射率通过下述方式确定。将等量的透光颗粒分散在通过变化两种折射率不同的溶剂的混合比而制备的溶剂中，从而改变折射率，测量浊度，当浊度变为最小时，用阿贝折射仪测量溶剂的折射率。
另外，两种或更多种粒径不同的消光颗粒可组合使用。具有较大粒径的消光颗粒可赋予防眩光性能，具有较小粒径的消光颗粒可赋予其他光学性质。比如，当防眩光防反射膜层叠在133ppi或更高的高清晰度显示器上时，有时会产生显示图象品质方面的问题，称作“眩光”。“眩光”可归因于防眩光防反射膜表面上存在的不均匀造成的像素的增大或收缩而引起的亮度均匀性的损失，但这可通过一起使用粒径小于赋予防眩光性能的消光颗粒，且折射率与粘合剂不同的消光颗粒而显著改善。
防眩光层的膜厚度一般为0.5到50μm，优选为1到35μm，更优选为1到25μm。如果厚度太小，则硬涂层性能不充分，而如果太大，则卷曲或脆性变差且加工适宜性可能劣化。因此，膜厚度优选在上述范围内。
防眩光层的中心线平均粗糙度(Ra)优选为0.10到0.40μm。如果中心线平均粗糙度超过0.40μm，则产生比如由于外部光线的反射而造成的眩光或表面变白的问题。透射的图像清晰度的值优选设置为5到60％。
防眩光层的强度优选为铅笔硬度测试中的H或更高，更优选为2H或更高，进一步优选为3H或更高。
(硬涂层)
在本发明的膜中，除防眩光层之外，可提供硬涂层以便赋予膜机械强度。
优选在其上设置低折射率层，更优选在硬涂层和低折射率层之间设置中折射层和高折射层，从而制成防反射膜。
硬涂层可由两层或多层层叠组成。
在本发明中，考虑到为了获得防反射膜的光学设计，硬涂层的折射率优选为1.48到2.00，更优选为1.52到1.90，进一步优选为1.55到1.80。在本发明中，硬涂层至少存在一种低折射率，因此，如果折射率小于上述范围，抗反射性能可能降低，而如果太大，反射光的色调(tint)趋于增强。
从赋予膜足够的耐久性和抗冲击性的角度而言，硬涂层的膜厚度优选为对防眩光层所述的膜厚度。
硬涂层的强度优选为在铅笔硬度测试中的H或更高，更优选为2H或更高，最优选为3H或更高。
此外，在根据JIS K5400的Taber试验中，样品在试验前后的磨损量优选为较小。
硬涂层优选通过电离辐射可固化化合物的交联或聚合反应而形成。比如，将含有电离辐射可固化多官能单体或多官能低聚物的涂布组合物涂布在透明支持体上，引起多官能单体或多官能低聚物的交联或聚合反应，从而形成硬涂层。
电离辐射可固化多官能单体或多官能低聚物的官能团优选为光可聚合官能团、电子束可聚合官能团或辐射可聚合官能团，更优选为光可聚合官能团。
光可聚合官能团的实例包括不饱和可聚合官能团，比如(甲基)丙烯酰基、乙烯基、苯乙烯基和烯丙基。其中，优选(甲基)丙烯酰基。
出于赋予内部散射性质的目的，硬涂层可含有消光颗粒，比如平均粒径为1.0到10.0μm的无机化合物颗粒或树脂颗粒，优选为1.5到7.0μm。
出于控制硬涂层的折射率的目的，可将高折射率单体、无机细颗粒或两者加入到硬涂层的粘合剂中。除控制折射率的作用之外，无机细颗粒还具有抑制交联反应引起的固化收缩的作用。在本发明中，所使用的术语“粘合剂”包括硬涂层形成后通过多官能单体和/或高折射率单体的聚合而制备的聚合物，且无机颗粒分散在其中。
出于保持图像锐度(sharpness)的目的，优选调整表面不均匀形状之外调节透射图像清晰度。清洁的防反射膜的透射图像清晰度优选为60％或更高。透射图像清晰度通常是显示透射并投影在膜上的图像的模糊度的指数，该值较大，则通过膜看到的图像更清晰更好。透射图像清晰度优选为70％或更高，更优选为80％或更高。
(高折射率层、中折射率层)
在本发明的膜中，可设置高折射率层和中折射率层以增强抗反射性能。在下文中，这些高和中折射率层有时统称为高折射率层。顺便提及，在本发明中，高折射率层、中折射率层和低折射率层中的术语“高”、“中”和“低”指的是各层间折射率的相对大小。在与透明支持体的关系方面，折射率优选满足透明支持体>低折射率层，高折射率层>透明支持体的关系。此外，在本发明中，高、中和低折射率层有时统称为防反射层。
为了通过在高折射率层上形成低折射率层而制备防反射膜，高折射率层的折射率优选为1.53到2.40，更优选为1.60到2.20，进一步优选为1.65到2.10，最优选为1.80到2.00。
在从支持体侧按顺序设置中折射率层、高折射率层和低折射率层制备防反射膜的情况中，高折射率层的折射率优选为1.60到2.40，优选为1.65到2.20，最优选为1.65到2.00。中折射率层的折射率调至低折射率层的折射率和高折射率层的折射率之间的值。中折射率层的折射率优选为1.55到1.80。
包含TiO2作为主要组分，用于高折射率层和中折射率层的无机颗粒以分散体的状态用于高折射率层和中折射率层的形成。
在分散无机细颗粒过程中，无机颗粒在分散剂的存在下分散于分散介质中。
用于本发明的高折射率层和中折射率层均优选通过下述方法形成。用于形成高或中折射率层的涂布组合物通过将无机颗粒分散在分散介质中，并优选向得到的液体分散体中进一步加入基质形成所需的粘合剂前驱体(比如，下面描述的电离辐射可固化多官能单体或多官能低聚物)、光聚合引发剂等来制备，将获得的用于形成高或中折射率层的涂布组合物涂布在透明支持体上，并通过电离辐射可固化化合物(比如，多官能单体或多官能低聚物)的交联或聚合反应而固化。
高或中折射率层涂布时或涂布后，层的粘合剂优选用分散剂交联或聚合。
这样制备的高或中折射率层的粘合剂具有这样的形式，即分散剂的阴离子团由于上述优选的分散剂和电离辐射可固化多官能单体或多官能低聚物之间的交联或聚合反应而进入粘合剂中。进入高或中折射率层的粘合剂的阴离子团具有保持无机细颗粒的分散状态的功能，而交联或聚合结构赋予粘合剂成膜能力，从而改善了含有无机细颗粒的高或中折射率层的机械强度、耐化学性和耐候性。
基于层的涂布组合物的固体含量，高折射率层的粘合剂的加入量为5到80质量％。
基于高折射率层的质量，高折射率层中的无机颗粒的含量优选为10到90质量％，更优选为15到80质量％，进一步优选为15到75质量％。两种或更多种无机颗粒可以在高折射率层中组合使用。
在高折射率层上具有低折射率层的情况中，高折射率层的折射率优选为高于透明支持体的折射率。
在高折射率层中，还可优选使用通过含芳环的电离辐射可固化化合物、含有除氟外的卤族元素(例如，Br、I、Cl)的电离辐射可固化化合物、含有比如S、N和P原子的电离辐射可固化化合物等的交联或聚合反应而获得的粘合剂。
高折射率层的膜厚度可根据用途适当地设计。在将高折射率层用作下面描述的光学干涉层的情况中，膜厚度优选为30到200nm，更优选为50到170nm，进一步优选为60到150nm。
在不含有赋予防眩光功能的颗粒的情况中，高折射率层的雾度优选较小。所述雾度优选为5％或更小，更优选为3％或更小，进一步优选为1％更小。
高折射率层优选直接或通过其它层形成于透明支持体上。
(低折射率层)
为了降低本发明的膜的反射率，可使用低折射率层。低折射率层的折射率优选为1.20到1.46，更优选为1.25到1.40，进一步优选为1.30到1.37。
低折射率层的厚度优选为30到500nm，更优选为70到500nm。为了赋予电导率，低折射率层优选形成130到500nm的厚度。
低折射率层的雾度优选为3％或更小，更优选为2％或更小，最优选为1％或更小。
在使用500g的负荷的铅笔硬度试验中，低折射率层的强度优选为H或更高，更优选为2H或更高，最优选为3H或更高。
为了提高光学膜的防垢性能，表面对水的接触角优选为90°或更大，更优选为95°或更大，进一步优选为100°或更大。
(抗静电层、电导层)
在本发明中，优选设置抗静电层以防止膜表面带上静电电荷。形成抗静电层的方法的实例包括常规已知的方法，比如涂布含有电导颗粒和活性可固化树脂的电导涂布溶液的方法，气相沉积或溅射形成透明膜的金属或金属氧化物等以形成电导薄膜的方法，及掺入电导聚合物(比如聚噻吩或聚苯胺)的方法。电导层可直接形成于支持体上，或通过增强与支持体的粘合的底层(primer layer)。另外，抗静电层可用作防反射膜的一部分。
抗静电层的厚度优选为0.01到10μm，更优选为0.03到7μm，进一步优选0.05到5μm。抗静电层的表面电阻优选为105到1012Ω/sq，更优选为105到109Ω/sq，最优选为105到108Ω/sq。抗静电层的表面电阻可通过四探针法测量。
抗静电层优选为基本上透明。具体地，抗静电层的雾度优选为10％或更低，更优选为5％或更低，进一步优选为3％或更低，最优选为1％或更低。对550nm的波长的光的透射率优选为50％或更高，更优选为60％或更高，进一步优选为65％或更高，最优选为70％或更高。
本发明的抗静电层具有优异的强度。具体地，以1kg的负荷的铅笔硬度计，抗静电层的强度优选为H或更高，更优选为2H或更高，进一步优选为3H或更高，最优选为4H或更高。
本发明的偏振片是具有偏振膜和设置于偏振膜两侧的保护膜的偏振片，其中至少一个保护膜是本发明的光学膜。
本发明的光学膜或偏振片可适当地用作防反射膜，但其用途并不特别受限。防反射膜可用于多种图像显示装置中，比如液晶显示装置(LCD)、等离子显示屏(PDP)、电致发光显示器(ELD)、阴极射线管显示器(CRT)、场致发射显示器(FED)、表面传导电子发射体显示器(SED)，从而防止由于外部光线的反射造成的对比度降低或干扰图像反射。
本发明的图像显示装置(优选为液晶显示装置)具有本发明的光学膜或偏振片。本发明的光学膜或偏振片置于显示面上(显示屏的观察侧上)。
(光学膜的各种评价)
(钢丝棉抗划伤性的评价)
在下列条件下使用摩擦试验器进行摩擦试验的结果可用作抗划伤性指数。
评价环境条件：25℃和60％RH
摩擦材料：
钢丝棉(等级号0000，由Nippon Steel Wool K.K.制造)旋绕与样品接触的试验器的摩擦端(1cm×1cm)，并由带子固定不动。
移动距离(单程)：13cm
摩擦速度：13cm/秒
负荷：500g/cm2
端接触面积：1cm×1cm
摩擦次数：10来回
将油状黑墨水涂在摩擦样品的背侧，用眼睛通过反射光观察摩擦部分的划痕或通过摩擦部分以外的部分的反射光量差别来评价钢丝棉抗划伤性。
(镜面反射率)
镜面反射率测量如下。在分光光度计“V-550”[由JASCO Corp.生产]中装载适配器“ARV-474”后，在380到780nm的波长区域内测量在5°的入射角时的-5°的出射角的镜面反射率，计算450到650nm的平均反射率，通过获得的值可以评价防反射性能。
本发明的光学膜优选设计为具有2.0％或更小的镜面反射率，因为可以抑制外部光线的反射且可增强可见度。镜面反射率更优选为1.4％或更小。
(防垢耐久性)
<标记擦拭耐久性(Marker Wiping Durability)>
用压敏粘合剂将膜固定在玻璃表面上，在25℃和60％RH的条件下，用黑色标记笔(＂Macky Gokuboso＂(商品名，由ZEBRA Co.制造))的笔端(细)在其上来回三次画直径为5mm的圈，5秒后，用10层折叠并捆扎的Bencot(商品名，由Asahi Kasei Corp.制造)以大到足以在Bencot捆中形成凹痕的负荷前后移动该捆20次来擦除所画的圈。在上述条件下重复进行所述画和擦，直到标记着色不能通过擦拭而消除，防垢耐久性可通过标记着色可以被擦除的重复次数来评价。
直到标记着色不能被消除的重复次数优选为5或更多，更优选为10或更多。
(白色混浊的评价)
将油状黑墨水涂在样品的背侧，通过在日光下用眼睛观察样品来评价白色混浊。
实施例
下面通过参考实施例更详细地描述本发明，但本发明不应被理解为限于这些实施例。除非另有说明，“份”和“％”均基于质量。
(硬涂层的涂布溶液(HCL-1)的制备)
在90质量份的甲基乙基酮(MEK)中加入10质量份的环己酮、95质量份的部分己内酯改性的多官能丙烯酸酯(DPCA-20，由Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造)、和5质量份的光聚合引发剂(Irgacure 184，由Ciba Specialty ChemicalsCorp.制造)。搅拌得到的混合物，然后通过聚丙烯制成的孔径为0.4μm的过滤器过滤以制备硬涂层的涂布溶液(HCL-1)。
(光学膜样品1的制备)
展开辊状的80μm厚的三乙酰纤维素膜＂TAC-TD80U＂{由Fujifilm Corp.制造}，使用刮片和直径为50mm，并具有线数为180线/英寸且深度40μm的凹板图案的微凹版辊，在30rpm的凹版辊旋转数和30m/分钟的输送速度的条件下，在所述三乙酰纤维素膜上直接涂布硬涂层的涂布溶液(HCL-1)。在60℃下干燥150秒后，在氮气吹扫至氧气浓度为0.1体积％的的条件下，在涂层上使用160W/cm的“气冷金属卤化物灯”{由Eye Graphics Co.，Ltd.制造}以400mW/cm2的辐射照度和70mJ/cm2的辐照剂量的紫外线将其固化，从而形成厚度为10.0μm的层。取下得到的膜。由此获得硬涂层(HC-1)。
(空心二氧化硅细颗粒液体分散体的制备)
在500份的空心二氧化硅细颗粒溶胶(异丙醇二氧化硅溶胶，CS60-IPA，由Catalysts & Chemicals Ind.Co.，Ltd.制造，平均粒径：60nm，壳体厚度：10nm，二氧化硅浓度：20％，二氧化硅颗粒折射率：1.31)中加入20份的丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷和1.5份的二异丙氧基铝乙酸乙酯并混合，在其中加入9份离子交换水。使反应在60℃下进行8小时后，将反应溶液冷却至室温，加入1.8份乙酰基丙酮以获得液体分散体A。然后，在加入环己酮使二氧化硅含量几乎恒定的同时，在30Torr的压力的减压条件下通过蒸馏进行溶剂置换，最后调节浓度，以获得固体含量浓度为18.2％的液体分散体。通过气相色谱法分析获得的液体分散体中的IPA剩余量，发现为0.5％或更少。
(含氟多官能丙烯酸酯的合成)
通过与化合物(C-6)的上述合成相同的方法，合成了(C-6)的r部分平均为4的化合物、该部分平均为7的化合物和该部分平均为105的化合物。获得的化合物分别指定为(C-6-2)、(C-6-3)和(C-6-4)。另外，通过与化合物(C-6)的合成相同的方法，对(C-4)合成r平均为4的化合物并指定为(C-4-2)。
(低折射率层的涂布溶液的制备)
如表1所示混合各个组分并溶于MEK中，以制备固体含量为6％的低折射率层的涂布溶液。
表格中的缩写词含义如下。
“P-1”：
JP-A-2004-45462中描述的含氟共聚物P-3(重均分子量：约50,000)。
DPHA：
二季戊四醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物，由NipponKayaku Co.，Ltd.制造。
Irg.127：
Irgacure 127，聚合引发剂(由Ciba-Geigy Corp.制造)。
C-4，C-6：
上面显示的化合物(含氟多官能丙烯酸酯)。
RMS-033：
甲基丙烯酰氧基改性的硅酮(由Gelest Inc.制造)。
(中折射率层的涂布溶液A的制备)
在10.0质量份的含ZrO2细颗粒的硬涂层剂(Desolite Z7404[折射率：1.72，固体含量浓度：60质量％，氧化锆细颗粒含量：70质量％(基于固体含量)，氧化锆细颗粒的平均粒径：约20nm，溶剂组成：甲基异丁基酮(MIBK)/MEK＝9/1，由JSR Corp.制造])中加入3.0质量份的二季戊四醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯的混合物(DPHA)、0.1质量份的光聚合引发剂(Irgacure184，由Ciba Specialty Chemicals Corp.制造)、和86.9质量份的甲基异丁基酮，搅拌得到的混合物。充分搅拌后，通过聚丙烯制成的孔径为0.4μm的过滤器过滤获得的溶液，以制备中折射率层的涂布溶液A。
(高折射率层的涂布溶液A的制备)
在15.0质量份的含ZrO2细颗粒的硬涂层剂(Desolite Z7404[折射率：1.72，固体含量浓度：60质量％，氧化锆细颗粒含量：70质量％(基于固体含量)，氧化锆细颗粒的平均粒径：约20nm，溶剂组成：MIBK/MEK＝9/1，由JSRCorp.制造])中加入85.0质量份的甲基异丁基酮，搅拌得到的混合物。通过聚丙烯制成的孔径为0.4μm的过滤器过滤获得的溶液，以制备高折射率层的涂布溶液A。
(样品No.1到9和11的涂布)
在硬涂层(HC-1)上，用微凹版涂布法并在调整下分别涂布低折射率层的涂布溶液Ln1到Ln10，得到厚度为95nm的低折射率层，从而制得防反射膜样品1到9和11。
低折射率层的干燥条件为60℃和60秒，在用氮气吹扫系统形成氧气浓度为0.1体积％或更小的气氛的同时，在600mW/cm2的照度和600mJ/cm2的辐照剂量的条件下，使用240W/cm的气冷金属卤化物灯(由Eye Graphics Co.，Ltd.制造)进行紫外固化。
(样品No.10的涂布)
在硬涂层(HC-1)上，用微凹版涂布法并在调整下用中折射率层的涂布溶液A涂布中折射率层，得到厚度为60nm的中折射率层，然后用微凹版涂布法并在调整下用高折射率层的涂布溶液A在其上涂布高折射率层，得到厚度为112nm的高折射率层，最后使用低折射率层的涂布溶液Ln-4得到厚度为90nm的低折射率层的低折射率层，从而制得防反射膜样品10。低折射率层的涂布条件与防反射膜样品1到9的条件相同。
中折射率层的干燥条件为90℃和30秒，随着用氮气吹扫系统至具有1.0体积％或更少的氧浓度的气氛的同时，在400mW/cm2的照度和240mJ/cm2的辐照剂量的条件下使用180W/cm的气冷金属卤化物灯(由Eye GraphicsCo.，Ltd.制造)进行紫外固化。
高折射率层的干燥条件为90℃和30秒，在用氮气吹扫系统形成氧气浓度为1.0体积％或更小的气氛的同时，在400mW/cm2的照度和240mJ/cm2的辐照剂量的条件下，使用180W/cm的气冷金属卤化物灯(由Eye Graphics Co.，Ltd.制造)进行紫外固化。
(光学膜的评价)
使用上面获得的光学膜进行下列评价。
(评价1)钢丝棉抗划伤性的评价
在通过上述方法进行试验后，在摩擦样品的背侧涂上油状黑墨水，并用眼睛通过反射光观察摩擦部分中的刮痕并根据下列标准评价。负载为500g/cm2且摩擦数为10来回。
A：即使非常仔细观察也没有发现刮痕。
B：非常仔细观察时微微发现模糊的刮痕。
C：发现模糊的刮痕。
D：发现中等刮痕。
E：存在一眼可以看到的刮痕。
(评价2)防垢耐久性的评价
通过上述方法的试验后，确定直到标记着色不能被清除的重复次数。直到标记着色不能被清除的重复次数优选为5或更多，更优选为10或更多。
(评价3)白色混浊的评价
通过上述方法进行评价，并根据下列标准评级。
A：即使非常仔细观察也没有发现白色混浊。
B：非常仔细观察时微弱地发现白色色调。
C：整个膜微弱地白色混浊。
D：一眼就可以看到整个膜明显的白色混浊。
(评价4)镜面反射率的评价
按照上述方法测量入射角为5°时-5°的出射角的镜面反射率。
评价结果显示于表2中。
表2
 
样品序号 中折射率层的涂布溶液     高折射率层的涂布溶液     低折射率层的涂布溶液     硬涂层   钢丝抗划伤性 白色混浊     防垢耐久性   反射率   备注
1 - - Ln1 HC-1 D C 6 1.71％ 比较例
2 - - Ln2 HC-1 D D 6 1.42％ 比较例
3 - - Ln3 HC-1 C D 8 1.07％ 比较例
4 - - Ln4 HC-1 A A 20 1.09％ 本发明
5 - - Ln5 HC-1 A A 13 1.09％ 本发明
6 - - Ln6 HC-1 C A 11 1.04％ 本发明
7 - - Ln7 HC-1 A A 20 1.10％ 本发明
8 - - Ln8 HC-1 A A 13 1.10％ 本发明
9 - - Ln9 HC-1 E C 0 1.08％ 比较例
10 A A Ln4 HC-1 A A 20 0.40％ 本发明
11 - - Ln10 HC-1 D C 16 1.00％ 比较例
从上面结果可见，用于本发明的多官能含氟丙烯酸酯(C)包含在低折射率层中的防反射膜折射率低，没有白色混浊且抗划伤性和防垢耐久性优异，所述低折射率层含有无机细颗粒和含氟共聚物且具有低折射率。通过加入组分(C)不仅白色混浊而且防垢耐久性也改善的原因推测为所述防垢组分紧密固定在膜表面层中，难以分离。
(低折射率层的涂布溶液的制备)
如表3所示混合各个组分并溶于MEK中，以制备固体含量为6％的低折射率层的涂布溶液。
Figure A200810161026D00681
样品No.12到15的涂布
在硬涂层(HC-1)上，用微凹版涂布法并在调整下分别涂布低折射率层的涂布溶液Ln11到Ln14，得到厚度为95nm的中低折射率层，从而制得防反射膜样品12到15。
低折射率层的干燥条件为60℃和60秒，在用氮气吹扫系统形成氧气浓度为0.1体积％或更小的气氛的同时，在600mW/cm2的照度和600mJ/cm2的辐照剂量的条件下，使用240W/cm的气冷金属卤化物灯(由Eye Graphics Co.，Ltd.制造)进行紫外固化。
(光学膜的评价)
对这些光学膜进行上述评价。
评价结果显示于表4中。
表4
 
样品序号 低折射率层 硬涂层 钢丝抗划伤性 白色混浊 防垢耐久性 反射率 备注
4 Ln4 HC-1 A A 20 1.09％ 本发明
12 Ln11 HC-1 B B 20 0.95％ 本发明
13 Ln12 HC-1 B B 11 1.09％ 本发明
14 Ln13 HC-1 A A 15 1.09％ 本发明
15 Ln14 HC-1 A A 20 1.52％ 本发明
从上面结果可见，通过向含有(A)无机细颗粒、(B)含氟共聚物和(C)多官能含氟丙烯酸酯，并具有低折射率的低折射率层中进一步加入(D)无氟多官能丙烯酸酯，可以改善白色混浊和抗划伤性。
根据该本发明，可获得可以确保低折射率、优异的抗划伤性、优异的防垢耐久性和无机细颗粒的聚集引起的变白(白色混浊)减少的防反射膜。此外，根据本发明，可获得可以确保具有低折射率、优异的抗划伤性、优异的防垢耐久性和无机细颗粒的聚集引起的变白(白色混浊)减少的防反射膜的图像显示装置(特别是液晶显示装置)。
在此以引用的方式将在本申请中要求了外国优先权的每个外国专利申请的全部公开并入，如同完全阐述。

Claims (11)

1、光学膜，其包含：
透明支持体；和
至少一个低折射率层，
其中所述至少一个低折射率层是由含有下列组分的涂布组合物形成的层：(A)无机细颗粒；(B)含氟共聚物；和(C)多官能含氟丙烯酸酯，
所述多官能含氟丙烯酸酯(C)由下列结构式表示：
Figure A200810161026C00021
其中Rf表示碳数为1到20的(p+q)价的全氟代饱和烃基，其可具有醚键；
p表示2到10的整数；
q表示0到8的整数，只要(p+q)是2到10的整数；
r表示0到100的整数；且
R表示氢原子、甲基、氟原子或三氟甲基。
2、权利要求1的光学膜，
其中所述无机细颗粒(A)的尺寸为5到120nm，并且基于所述涂布组合物中全部固体含量所述无机细颗粒(A)占10到70质量％。
3、权利要求1的光学膜，
其中所述无机细颗粒(A)经过使用有机硅烷化合物的水解产物及其部分缩合物中的至少一种的表面处理。
4、权利要求1的光学膜，
其中至少一种所述无机细颗粒(A)是颗粒内部具有孔洞的颗粒。
5、权利要求1的光学膜，
其中所述涂布组合物还含有(D)无氟多官能单体。
6、权利要求1的光学膜，
其中在所述多官能含氟丙烯酸酯(C)中，r是0到4的整数，p是3到6的整数且q是0到3的整数，只要(p+q)是3到6的整数。
7、权利要求6的光学膜，
其中在所述多官能含氟丙烯酸酯(C)中，r是0或1，p是3到6的整数且q是0到3的整数，只要(p+q)是3到6的整数。
8、权利要求1的光学膜，
其中基于所述涂布组合物的全部固体含量，所述涂布组合物中多官能含氟丙烯酸酯(C)的含量为5到50质量％。
9、权利要求1的光学膜，
其中所述涂布组合物还含有(E)聚硅氧烷基化合物。
10、偏振片，其包含：
至少两个保护膜；和
所述至少两个保护膜之间的偏振膜，
其中所述至少两个保护膜中的至少一个是权利要求1的光学膜。
11、图像显示装置，其包含：
在显示器的最外表面上的权利要求1的光学膜。
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