CN101334592B - 电子照相感光体 - Google Patents

电子照相感光体 Download PDF

Info

Publication number
CN101334592B
CN101334592B CN2008101461527A CN200810146152A CN101334592B CN 101334592 B CN101334592 B CN 101334592B CN 2008101461527 A CN2008101461527 A CN 2008101461527A CN 200810146152 A CN200810146152 A CN 200810146152A CN 101334592 B CN101334592 B CN 101334592B
Authority
CN
China
Prior art keywords
general formula
resin
electrophtography photosensor
phenyl
alkyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN2008101461527A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101334592A (zh
Inventor
田岛宽之
熊野勇太
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Mitsubishi Rayon Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Kasei Corp filed Critical Mitsubishi Kasei Corp
Publication of CN101334592A publication Critical patent/CN101334592A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101334592B publication Critical patent/CN101334592B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/05Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/0664Dyes
    • G03G5/0666Dyes containing a methine or polymethine group
    • G03G5/0672Dyes containing a methine or polymethine group containing two or more methine or polymethine groups
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/05Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
    • G03G5/0528Macromolecular bonding materials
    • G03G5/0557Macromolecular bonding materials obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
    • G03G5/056Polyesters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/05Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
    • G03G5/0528Macromolecular bonding materials
    • G03G5/0592Macromolecular compounds characterised by their structure or by their chemical properties, e.g. block polymers, reticulated polymers, molecular weight, acidity
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/05Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
    • G03G5/0528Macromolecular bonding materials
    • G03G5/0596Macromolecular compounds characterised by their physical properties
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/0601Acyclic or carbocyclic compounds
    • G03G5/0612Acyclic or carbocyclic compounds containing nitrogen
    • G03G5/0614Amines
    • G03G5/06142Amines arylamine
    • G03G5/06144Amines arylamine diamine
    • G03G5/061443Amines arylamine diamine benzidine
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/0601Acyclic or carbocyclic compounds
    • G03G5/0612Acyclic or carbocyclic compounds containing nitrogen
    • G03G5/0614Amines
    • G03G5/06142Amines arylamine
    • G03G5/06147Amines arylamine alkenylarylamine
    • G03G5/061473Amines arylamine alkenylarylamine plural alkenyl groups linked directly to the same aryl group

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
  • Electrophotography Configuration And Component (AREA)

Abstract

本发明提供一种电子照相感光体,所述电子照相感光体的耐磨损性和电气特性优异。本发明的电子照相感光体中,设置于导电性基体上的感光层中含有下述通式(1)所示的粘度平均分子量(Mv)为10000~300000聚酯树脂,该聚酯树脂为二苯基醚-4,4’-二羧酸成分和二元酚成分的共聚物;[化1]
Figure D2008101461527A00011
通式(1)中,A为下述通式(A)所示的二苯基醚-4,4’-二羧酸残基,B为下述通式(B)所示的二元酚残基;[化2]
Figure D2008101461527A00012
通式(A)中,Ra1、Ra2各自独立地表示氢原子、或具有取代基团或不具有取代基团的1价取代基团,n、m各自独立地为0~4的整数;通式(B)中,R1、R2各自独立地表示氢原子、烷基、芳基、卤基或烷氧基。

Description

电子照相感光体
本申请是分案申请,其原申请的国际申请号为PCT/JP2005/013187,中国国家申请号为200580024018.4,申请日为2005年7月15日,发明名称为“电子照相感光体”。
技术领域
本发明涉及电子照相感光体,更具体地说,涉及耐磨损性等优异的电子照相感光体。
背景技术
电子照相技术由于可得到即时性、高品质的图像等,因而被广泛用于复印机、各种打印机等领域。关于成为电子照相技术的核心的感光体,目前所用的感光体为使用了有机类光导电物质的感光体,该有机类光导电物质无公害,且具有易成膜、易制造等优点。
作为使用了有机类光导电材料的感光体,已知有将光导电性微粉分散于粘合剂树脂中而得到的所谓分散型感光体;以及将电荷产生层与电荷移动层进行层积而得到的层积型感光体。其中,层积型感光体分别以下述几点优势成为感光体的主流,并被大力开发、实用化,所述优势为:通过将效率较高的电荷产生物质和电荷移动物质进行组合能够得到高灵敏度的感光体;能够得到材料选择范围广泛且安全性较高的感光体;此外可通过涂布感光层来容易地形成,生产性较高,在成本方面也很有利。
电子照相感光体在电子照相过程,即充电、曝光、显影、转印、清洁、除电等的循环中反复进行使用,因而其间受到各种负荷而劣化。作为这种劣化,例如有:由通常用作充电器的电晕充电器所产生的强氧化性的臭氧或NOx对感光层的化学损害;以及由图像曝光所产生的载体(电流)在感光层内流动、由来源于除电光或外部的光所导致的感光层组合物的分解等化学性、电气性劣化。进一步地,还有由于清洁刮刀、磁刷等的摩擦;与显影剂、纸的接触等所致的感光层表面的磨损、缺陷的产生或膜的剥离等的机械性劣化。特别是由于在该感光层表面上所产生的损伤易表现在图像上,直接有损于图像品质,因而成为限制感光体寿命的重要原因。
在不设置表面保护层等功能层的普通感光体的情况中,感光层受到这种负荷。感光层通常含有粘合剂树脂和光导电性物质,其强度实质由粘合剂树脂决定,但是,由于光导电性物质的掺杂量相当大,因而其所具有的机械强度并不充分。此外,由于对高速印刷的要求提高,因而要求对应于更高速的电子照相过程的材料。这样,对于感光体,除了必需高灵敏度、高寿命之外,为了缩短从曝光到显影的时间,还必需优异的应答性。
此外,构成该电子照相感光体的各层通常是采用浸涂、喷涂、喷嘴涂布、棒涂、辊涂、刮刀涂布等方式将含有光导电性物质、粘合剂树脂等的涂布液涂布于支撑体上而形成的。上述层形成方法中,适用如下所述方法等公知的方法:将包含于层中的物质溶解于溶剂中,以得到的涂布溶液涂布于支撑体。而且,在大多数工程中,预先制备涂布溶液,对其进行保存。
作为感光层的粘合剂树脂,使用聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯等乙烯基聚合物及其共聚物;以及聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚砜树脂、苯氧树脂、环氧树脂和硅酮树脂等热塑性树脂或各种热固性树脂。多种粘合剂树脂中,聚碳酸酯树脂具有比较优异的性能,迄今已开发出各种聚碳酸酯树脂以供实用(参照专利文献1~专利文献4)。
另一方面,有报告指出,与使用聚碳酸酯作为粘合剂的电子照相感光体相比,使用以“U-polymer”的商品名市售的多芳基化合物树脂作为粘合剂的电子照相感光体的灵敏度得到了提高(参照专利文献5)。此外,有报告指出,若以使用有特定结构的二元酚成分的多芳基化合物树脂用作粘合剂树脂,则制造电子照相用感光体时所使用的涂布溶液的稳定性得到提高,并且电子照相用感光体的机械强度、耐磨损性得到改善(参照专利文献6和专利文献7)。
专利文献1:特开昭50-098332号公报
专利文献2:特开昭59-071057号公报
专利文献3:特开昭59-184251号公报
专利文献4:特开平05-021478号公报
专利文献5:特开昭56-135844号公报
专利文献6:特开平03-006567号公报
专利文献7:特开平10-288845号公报
发明内容
但是,作为现状,上述以往的电子照相用感光体的问题在于,由于基于调色剂的显影、与纸的摩擦、基于清洁构件(刮刀)的摩擦等会产生实用上的负荷,导致电子照相用感光体表面发生磨损,在表面产生缺陷等,在实用上仅限于有限的印刷性能。
此外,对于利用了以往已知的粘合剂树脂的电子照相感光体,虽然机械强度等得到了提高,但是大都在电气特性方面不充分。进一步地,对于将该粘合剂树脂溶解于适当的溶剂而调制的感光层形成用涂布液,其溶液大都缺乏稳定性,因此,涂布液产生混浊、沉淀,从而存在粘合剂树脂不溶等问题。
本发明是为了解决上述问题而提出的。
即,本发明的目的在于提供一种电子照相感光体,该电子照相感光体对实用中的负荷的耐磨损性优异,保持有较高的机械强度、同时具有优异的电气特性,并且含有感光层形成用涂布液的稳定性较高的粘合剂树脂。
因此,本发明人进行了精心研究,结果发现,通过使感光层含有具有特定化学结构的聚酯树脂,可以使所得到的电子照相感光体具有充分的机械特性、对于用于形成感光层形成用涂布液的溶剂具有较高的溶解性、具有优异的涂布液稳定性、并且具有优异的电气特性,从而基于上述知识完成本发明。
即,根据本发明,提供下述电子照相感光体,该电子照相感光体具有导电性基体和设置于导电性基体上的感光层,所述感光层含有聚酯树脂,该聚酯树脂具有至少1种下述通式(1)~通式(5)所示的重复结构;
[化1]
Figure G2008101461527D00041
[化2]
[化3]
Figure G2008101461527D00043
[化4]
[化5]
Figure G2008101461527D00045
通式(5)中,{a/(a+b)}>0.7。
通式(1)~通式(5)中,A为具有下述通式(A)所示结构的化合物。
[化6]
Figure G2008101461527D00046
通式(A)中,Ra1、Ra2各自独立地为氢原子或可以具有取代基团的一价取代基团,n、m各自独立地为0~4的整数。
通式(1)中,B为具有下述通式(B)所示结构的化合物。
[化7]
Figure G2008101461527D00047
通式(B)中,R1、R2各自独立地表示氢原子、烷基、芳基、卤基或烷氧基。
通式(2)中,C为具有下述通式(C)所示结构的化合物。
[化8]
Figure G2008101461527D00051
通式(C)中,R3、R4各自独立地表示氢原子、烷基、芳基、卤基或烷氧基。
通式(3)中,D为具有下述通式(D)所示结构的化合物。
[化9]
Figure G2008101461527D00052
通式(D)中,X1表示单键或二价基团。
通式(4)中,E为具有下述通式(E)所示结构的化合物。
[化10]
Figure G2008101461527D00053
通式(E)中,R5、R6各自独立地表示氢原子、烷基、芳基、卤基或烷氧基。
通式(5)中,F为具有下述通式(F)所示结构的化合物。
[化11]
Figure G2008101461527D00054
通式(F)中,X2表示单键或二价基团,R7、R8各自独立地表示氢原子、烷基、芳基、卤基或烷氧基。k和l各自独立地表示1~4的整数。
通式(5)中,G为具有下述通式(G)所示结构的化合物。
[化12]
Figure G2008101461527D00061
通式(G)中,X3表示二价基团。
根据本发明,得到耐磨损性等优异的电子照相感光体。
附图说明
图1是说明图像形成装置的图。
符号说明
1 电子照相感光体
2 充电装置(充电辊)
3 曝光装置
4 显影装置
5 转印装置
6 清洁装置
7 定影装置
41 显影槽
42 搅拌器
43 供给辊
44 显影辊
45 控制构件
71 上部定影构件(定影辊)
72 下部定影构件(定影辊)
73 加热装置
具体实施方式
下文,对用于实施本发明的最佳方式(下文称为发明的实施方式)进行详细说明。而且,本发明不被下文的实施方式所限定,可以在其主旨的范围内进行各种变形来实施。
适用本实施方式的电子照相感光体具有设置于所规定的导电性基体上的感光层,该感光层含有至少1种具有上述通式(1)~通式(5)所示的重复结构的聚酯树脂。作为感光层的具体结构,可以举出例如下述结构:在导电性基体上层积有电荷产生层和电荷传输层的层积型感光体,所述电荷产生层以电荷产生物质为主成分,所述电荷传输层以电荷传输物质和粘合剂树脂为主成分;在导电型基体上具有感光层的分散型(单层型)感光体,所述感光层是将电荷产生物质分散于含有电荷传输物质和粘合剂树脂的层中而得到的;等等。具有上述通式(1)~通式(5)所示的重复结构的聚酯树脂通常用在含有电荷传输物质的层中,优选用在层积型感光层的电荷传输层中。
(导电性基体)
作为在适用于本实施方式的电子照相感光体中所使用的导电性基体的材料,可以举出例如,铝、铝合金、不锈钢、铜、镍等金属材料;添加金属、碳、氧化锡等导电性粉末来提供导电性的树脂材料;在表面蒸发沉积或涂布有铝、镍、ITO(铟锡氧化物)等导电性材料的树脂、玻璃或纸等。
作为导电性基体的形态,可以举出例如,鼓状、片状、带状等。此外,为了控制导电性和表面特性或覆盖缺陷等,该导电性基体也可以为在使用了金属材料的导电性基体上涂布具有适当电阻值的导电性材料而得到的基体。
使用铝合金等金属材料作为导电性基体时,可以预先实施阳极氧化处理或化学涂层处理等。而且,实施阳极氧化处理时,优选通过公知的方法来实施封孔处理。
导电性基体的表面可以是平滑的,也可以通过特别的切割方法或研磨处理使其表面粗糙化,或通过将适当粒径的粒子与构成导电性基体的材料进行混合来使其表面粗糙化。
作为在适用于本实施方式的电子照相感光体中所使用的感光层的具体结构,例如,若为层积型感光体,则具有电荷传输层和电荷产生层,所述电荷传输层含有电荷传输物质和粘合剂树脂,保持静电荷来传输通过曝光产生的电荷;所述电荷产生层含有电荷产生物质,通过曝光产生电荷对。此外,根据其它需要,有时也具有例如用于阻止来源于导电性基体的电荷注入的电荷阻止层、使激光等光发生扩散以防止干涉条纹的产生的光扩散层。对于分散型(单层型)感光体,其感光层为电荷传输物质和电荷产生物质分散于粘合剂树脂中的结构。
(聚酯树脂)
接着,对感光层中所含有的粘合剂树脂进行说明。
在适用于本实施方式的电子照相感光体中所使用的感光层中,含有至少1种具有下述通式(1)~通式(5)所示的重复结构的聚酯树脂作为粘合剂树脂。
具有通式(1)~通式(5)所示的重复结构的聚酯树脂的粘度平均分子量(Mv)不特别限定,通常为10000以上,优选为15000以上,进一步优选为20000以上;通常为300000以下,优选为200000以下,更优选为100000以下。若粘度平均分子量过小,则聚酯树脂的机械强度降低,不实用。此外,若粘度平均分子量过大,则难以将感光层涂布形成为适当的膜厚。
[化13]
Figure G2008101461527D00081
通式(1)~通式(5)中,A为分子中具有下述通式(A)所示的二元羧酸残基的化合物。
[化14]
Figure G2008101461527D00082
此处,通式(A)中,Ra1、Ra2各自独立地为氢原子或可以具有取代基团的一价取代基团,n、m各自独立地为0~4的整数。作为Ra1、Ra2的一价取代基团,可以举出例如,碳原子数为1~碳原子数为8的烷基;苯基、萘基等芳基;氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等卤基;甲氧基、乙氧基、丁氧基等烷氧基等。其中,若考虑到对于作为感光层用粘合剂树脂的感光层形成用涂布液的溶解性,该基团优选为烷基,更优选碳原子数为1~碳原子数为8的烷基,进一步优选碳原子数为1~碳原子数为2的烷基。n、m各自独立地为0~4的整数,但是特别优选n=m=0。
作为通式(A)所示的二元羧酸残基的具体例,可以举出例如,二苯基醚-2,2’-二羧酸残基、二苯基醚-2,3’-二羧酸残基、二苯基醚-2,4’-二羧酸残基、二苯基醚-3,3’-二羧酸残基、二苯基醚-3,4’-二羧酸残基、二苯基醚-4,4’-二羧酸残基等。其中,若考虑到二羧酸成分的制造的简便性,则优选为二苯基醚-2,2’-二羧酸残基、二苯基醚-2,4’-二羧酸残基、二苯基醚-4,4’-二羧酸残基,特别优选为二苯基醚-4,4’-二羧酸残基。
这些作为二苯基醚二元羧酸残基(A)所举出的化合物也可以根据需要将多个化合物进行组合使用。
通式(1)中,B为分子中具有下述通式(B)所示的二元酚残基的化合物。
[化15]
Figure G2008101461527D00091
通式(B)中,R1、R2各自独立地表示氢原子、烷基、芳基、卤基或烷氧基。若考虑到作为感光层用粘合剂树脂的机械特性和对于调制感光层形成用涂布液时的溶剂的溶解性,则作为芳基,优选为苯基、萘基等;作为卤基,优选为氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等;作为烷氧基,优选为甲氧基、乙氧基、丁氧基等。作为烷基,优选碳原子数为1~10的烷基,进一步优选碳原子数为1~8的烷基,特别优选碳原子数为1~2的烷基。
作为形成通式(B)所示的二元酚残基的二元酚化合物的具体例,可以举出例如,二(2-羟基苯基)甲烷、(2-羟基苯基)(3-羟基苯基)甲烷、(2-羟基苯基)(4-羟基苯基)甲烷、二(3-羟基苯基)甲烷、(3-羟基苯基)(4-羟基苯基)甲烷、二(4-羟基苯基)甲烷、二(2-羟基-3-甲基苯基)甲烷、二(2-羟基-3-乙基苯基)甲烷、(2-羟基-3-甲基苯基)(3-羟基-4-甲基苯基)甲烷、(2-羟基-3-乙基苯基)(3-羟基-4-乙基苯基)甲烷、(2-羟基-3-甲基苯基)(4-羟基-3-甲基苯基)甲烷、(2-羟基-3-乙基苯基)(4-羟基-3-乙基苯基)甲烷、二(3-羟基-4-甲基苯基)甲烷、二(3-羟基-4-乙基苯基)甲烷、(3-羟基-4-甲基苯基)(4-羟基-3-甲基苯基)甲烷、(3-羟基-4-乙基苯基)(4-羟基-3-乙基苯基)甲烷、二(4-羟基-3-甲基苯基)甲烷、二(4-羟基-3-乙基苯基)甲烷等。
其中,若考虑到形成二元酚残基的二元酚化合物的制造简便性,则特别优选为二(4-羟基苯基)甲烷、(2-羟基苯基)(4-羟基苯基)甲烷、二(2-羟基苯基)甲烷、二(4-羟基-3-甲基苯基)甲烷、二(4-羟基-3-乙基苯基)甲烷。也可以将这些二元酚成分多种组合使用。
[化16]
Figure G2008101461527D00101
通式(2)中,C为分子中具有下述通式(C)所示的二元酚残基的化合物。
[化17]
通式(C)中,R3、R4各自独立地表示氢原子、烷基、芳基、卤基或烷氧基。若考虑到作为感光层用粘合剂树脂的机械特性和对于调制感光层形成用涂布液时的溶剂的溶解性,则作为芳基,优选为苯基、萘基等;作为卤基,优选为氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等;作为烷氧基,优选为甲氧基、乙氧基、丁氧基。作为烷基,优选碳原子数为1~10的烷基,进一步优选碳原子数为1~8的烷基,特别优选碳原子数为1~2的烷基。
作为形成通式(C)所示的二元酚残基的二元酚化合物的具体例,可以举出例如,1,1-二(2-羟基苯基)乙烷、1-(2-羟基苯基)-1-(3-羟基苯基)乙烷、1-(2-羟基苯基)-1-(4-羟基苯基)乙烷、1,1-二(3-羟基苯基)乙烷、1-(3-羟基苯基)-1-(4-羟基苯基)乙烷、1,1-二(4-羟基苯基)乙烷、1,1-二(2-羟基-3-甲基苯基)乙烷、1,1-二(2-羟基-3-乙基苯基)乙烷、1-(2-羟基-3-甲基苯基)-1-(3-羟基-4-甲基苯基)乙烷、1-(2-羟基-3-乙基苯基)-1-(3-羟基-4-乙基苯基)乙烷、1-(2-羟基-3-甲基苯基)-1-(4-羟基-3-甲基苯基)乙烷、1-(2-羟基-3-乙基苯基)-1-(4-羟基-3-乙基苯基)乙烷、1,1-二(3-羟基-4-甲基苯基)乙烷、1,1-二(3-羟基-4-乙基苯基)乙烷、1-(3-羟基-4-甲基苯基)-1-(4-羟基-3-甲基苯基)乙烷、1-(3-羟基-4-乙基苯基)-1-(4-羟基-3-乙基苯基)乙烷、1,1-二(4-羟基-3-甲基苯基)乙烷、1,1-二(4-羟基-3-乙基苯基)乙烷。
其中,若考虑到二元酚化合物的制造简便性,则特别优选为1,1-二(4-羟基苯基)乙烷、1-(2-羟基苯基)-1-(4-羟基苯基)乙烷、1,1-二(2-羟基苯基)乙烷、1,1-二(4-羟基-3-甲基苯基)乙烷、1,1-二(4-羟基-3-乙基苯基)乙烷,也可以将这些二元酚化合物多种组合使用。
[化18]
通式(3)中,D为分子中具有下述通式(D)所示的二元酚残基结构的化合物。
[化19]
Figure G2008101461527D00112
通式(D)所示的二元酚残基的X1为单键或二价基团。作为X1的优选的二价基团,可以举出例如,硫原子、氧原子、磺酰基、环亚烷基或(-CR17R18-)等。此处,R17、R18各自独立地表示氢原子、烷基、芳基、卤基或烷氧基。若考虑到作为感光层用粘合剂树脂的机械特性和对于调制感光层形成用涂布液时的溶剂的溶解性,则作为芳基,优选为苯基、萘基等;作为卤基,优选为氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等;作为烷氧基,优选为甲氧基、乙氧基、丁氧基等。作为烷基,优选碳原子数为1~10的烷基,进一步优选碳原子数为1~8的烷基,特别优选碳原子数为1~2的烷基。
此外,若考虑到制造聚酯树脂时所使用的二元酚成分的制造简便性,则作为X1,可以举出-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-CO-、-CH2-、-CH(CH3)-、-C(CH3)2-、环亚己基等。其中,优选为-CH2-、-CH(CH3)-、-C(CH3)2-、环亚己基,特别优选为-CH2-、环亚己基。
作为形成通式(D)所示的二元酚残基的二元酚化合物的具体例,可以举出例如,3,3’,5,5’-四甲基-4,4’-二羟基联苯、2,4,3’,5’-四甲基-3,4’-二羟基联苯、2,2’,4,4’-四甲基-3,3’-二羟基联苯、二(4-羟基-3,5-二甲基苯基)醚、(4-羟基-3,5-二甲基苯基)(3-羟基-2,4-二甲基苯基)醚、二(3-羟基-2,4-二甲基苯基)醚、二(4-羟基-3,5-二甲基苯基)甲烷、(4-羟基-3,5-二甲基苯基)(3-羟基-2,4-二甲基苯基)甲烷、二(3-羟基-2,4-二甲基苯基)甲烷、1,1-二(4-羟基-3,5-二甲基苯基)乙烷、1-(4-羟基-3,5-二甲基苯基)-1-(3-羟基-2,4-二甲基苯基)乙烷、1,1-二(3-羟基-2,4-二甲基苯基)乙烷、2,2-二(4-羟基-3,5-二甲基苯基)丙烷、2-(4-羟基-3,5-二甲基苯基)-2-(3-羟基-2,4-二甲基苯基)丙烷、2,2-二(3-羟基-2,4-二甲基苯基)丙烷、1,1-二(4-羟基-3,5-二甲基苯基)环己烷、1-(4-羟基-3,5-二甲基苯基)-1-(3-羟基-2,4-二甲基苯基)环己烷、1,1-二(3-羟基-2,4-二甲基苯基)环己烷等。
其中,可以优选举出3,3’,5,5’-四甲基-4,4’-二羟基联苯、二(4-羟基-3,5-二甲基苯基)醚、二(4-羟基-3,5-二甲基苯基)甲烷、1,1-二(4-羟基-3,5-二甲基苯基)乙烷、2,2-二(4-羟基-3,5-二甲基苯基)丙烷、1,1-二(4-羟基-3,5-二甲基苯基)环己烷等。
进一步地,若考虑到二元酚化合物的制造简便性,则特别优选为二(4-羟基-3,5-二甲基苯基)甲烷、2,2-二(4-羟基-3,5-二甲基苯基)丙烷、1,1-二(4-羟基-3,5-二甲基苯基)环己烷。这些二元酚化合物也可以多种组合使用。
[化20]
Figure G2008101461527D00121
通式(4)中,E为分子中具有下述通式(E)所示的二元酚残基结构的化合物。
[化21]
Figure G2008101461527D00131
通式(E)中,R5、R6各自独立地表示氢原子、烷基、芳基、卤基或烷氧基。若考虑到作为感光层用粘合剂树脂的机械特性和对于调制感光层形成用涂布液时的溶剂的溶解性,则作为芳基,优选为苯基、萘基等;作为卤基,优选为氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等;作为烷氧基,优选为甲氧基、乙氧基、丁氧基等。作为烷基,优选碳原子数为1~10的烷基,进一步优选碳原子数为1~8的烷基,特别优选碳原子数为1~2的烷基。
作为形成通式(E)所示的二元酚残基的二元酚化合物的具体例,可以举出例如,二(2-羟基苯基)醚、(2-羟基苯基)(3-羟基苯基)醚、(2-羟基苯基)(4-羟基苯基)醚、二(3-羟基苯基)醚、(3-羟基苯基)(4-羟基苯基)醚、二(4-羟基苯基)醚、二(2-羟基-3-甲基苯基)醚、二(2-羟基-3-乙基苯基)醚、(2-羟基-3-甲基苯基)(3-羟基-4-甲基苯基)醚、(2-羟基-3-乙基苯基)(3-羟基-4-乙基苯基)醚、(2-羟基-3-甲基苯基)(4-羟基-3-甲基苯基)醚、(2-羟基-3-乙基苯基)(4-羟基-3-乙基苯基)醚、二(3-羟基-4-甲基苯基)醚、二(3-羟基-4-乙基苯基)醚、(3-羟基-4-甲基苯基)(4-羟基-3-甲基苯基)醚、(3-羟基-4-乙基苯基)(4-羟基-3-乙基苯基)醚、二(4-羟基-3-甲基苯基)醚、二(4-羟基-3-乙基苯基)醚。
其中,若考虑到形成二元酚残基的二元酚化合物的制造简便性,则特别优选为二(4-羟基苯基)醚、(2-羟基苯基)(4-羟基苯基)醚、二(2-羟基苯基)醚、二(4-羟基-3-甲基苯基)醚、二(4-羟基-3-乙基苯基)醚。这些二元酚化合物可以多种组合使用。
[化22]
Figure G2008101461527D00132
通式(5)中,{a/(a+b)}>0.7,优选{a/(a+b)}为0.8以上。该{a/(a+b)}为1以下,优选为0.9以下。
具有通式(5)所示的重复结构的聚酯树脂是以-(A-F)-所示的重复结构和以-(G-F)-所示的重复结构的共聚物,该共聚物可以为上述2种重复单元的无规共聚物或嵌段共聚物。对于嵌段共聚物,可以为多嵌段共聚物。其中,从容易制造方面考虑,优选为无规共聚物。
通式(5)中,F为分子中具有下述通式(F)所示的二元酚残基结构的化合物。
[化23]
Figure G2008101461527D00141
形成通式(F)所示的二元酚残基的二元酚化合物的X2为单键或二价基团。作为优选的二价基团,可以举出例如,硫原子、氧原子、磺酰基、环亚烷基或(-CR19R20-)等。其中,R19、R20各自独立地表示氢原子、烷基、芳基、卤基或烷氧基。若考虑到作为感光层用粘合剂树脂的机械特性和对于调制感光层形成用涂布液时的溶剂的溶解性,则作为芳基,优选为苯基、萘基等;作为卤基,优选为氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等;作为烷氧基,优选为甲氧基、乙氧基、丁氧基等。作为烷基,优选碳原子数为1~10的烷基,进一步优选碳原子数为1~8的烷基,特别优选碳原子数为1~2的烷基。
进一步地,若考虑到制造聚酯树脂时所使用的形成二元酚残基的二元酚化合物的制造简便性,则作为X2,可以举出-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-CO-、-CH2-、-CH(CH3)-、-C(CH3)2-、环亚己基等。其中,特别优选为-CH2-、-CH(CH3)-、-C(CH3)2-、环亚己基。
通式(F)中,R7、R8各自独立地表示氢原子、烷基、芳基、卤基或烷氧基。若考虑到作为感光层用粘合剂树脂的机械特性和对于调制感光层形成用涂布液时的溶剂的溶解性,则作为芳基,优选为苯基、萘基等;作为卤基,优选为氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等;作为烷氧基,优选为甲氧基、乙氧基、丁氧基等。作为烷基,优选碳原子数为1~10的烷基,进一步优选碳原子数为1~8的烷基,特别优选碳原子数为1~2的烷基。此外,k、l各自独立地表示1~4的整数。
作为通式(F)的具体例,可以举出例如,二(4-羟基苯基)甲烷、(2-羟基苯基)(4-羟基苯基)甲烷、二(2-羟基苯基)甲烷、1,1-二(4-羟基苯基)乙烷、2,2-二(4-羟基苯基)丙烷、1,1-二(4-羟基苯基)环己烷、二(4-羟基苯基)酮、二(4-羟基苯基)醚、二(4-羟基-3-甲基苯基)甲烷、1,1-二(4-羟基-3-甲基苯基)乙烷、2,2-二(4-羟基-3-甲基苯基)丙烷、1,1-二(4-羟基-3-甲基苯基)环己烷、二(4-羟基-3-甲基苯基)醚、二(4-羟基-3,5-二甲基苯基)甲烷、1,1-二(4-羟基-3,5-二甲基苯基)乙烷、2,2-二(4-羟基-3,5-二甲基苯基)丙烷、1,1-二(4-羟基-3,5-二甲基苯基)环己烷等。这些二元酚化合物可以多种组合使用。
通式(5)中,G为分子中具有下述通式(G)所示的二元羧酸残基结构的化合物。
[化24]
Figure G2008101461527D00151
通式(G)中,X3为二价基团。作为X3的优选的二价基团,可以举出例如,亚甲基、亚乙基等饱和脂肪烃的二价基团;对亚苯基、1,4-亚萘基、3-甲基对亚苯基等可以具有取代基团的亚芳基等。
作为通式(G)所示的二元羧酸残基的具体例,可以举出例如,己二酸残基、辛二酸残基、癸二酸残基等饱和脂肪烃的二羧酸残基;酞酸残基、异酞酸残基、对酞酸残基、甲苯-2,5-二羧酸残基等芳香族烃的二羧酸残基;对二甲苯-2,5-二羧酸残基、吡啶-2,3-二羧酸残基、吡啶-2,4-二羧酸残基、吡啶-2,5-二羧酸残基、吡啶-2,6-二羧酸残基、吡啶-3,4-二羧酸残基、吡啶-3,5-二羧酸残基等杂环二羧酸残基;萘-1,4-二羧酸残基、萘-2,3-二羧酸残基、萘-2,6-二羧酸残基等稠合多环二羧酸残基;联苯基-2,2’-二羧酸残基、联苯基-4,4’-二羧酸残基等集合烃环二羧酸残基。其中,优选为己二酸残基、癸二酸残基、酞酸残基、异酞酸残基、对酞酸残基、萘-1,4-二羧酸残基、萘-2,6-二羧酸残基、联苯基-2,2’-二羧酸残基、联苯基-4,4’-二羧酸残基等。更优选为芳香族烃二羧酸残基,特别优选为异酞酸残基、对酞酸残基。这些二元羧酸残基也可以多种组合使用。
而且,适用本实施方式的电子照相感光体的感光层中,也可以将具有上述通式(1)~通式(5)所示重复结构的聚酯树脂与其它树脂混合使用。其中,作为所混合的其它树脂,可以举出例如,聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯等乙烯基聚合物或其共聚物;聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚酯聚碳酸酯树脂、聚砜树脂、苯氧树脂、环氧树脂、硅酮树脂等热塑性树脂或各种热固性树脂等。这些树脂中,优选为聚碳酸酯树脂。此外,虽然对所并用的树脂的混合比率不特别限定,但是通常优选在不超过具有通式(1)~通式(5)所示重复结构的聚酯树脂的比率的范围内并用。
(聚酯树脂的制造方法)
下面,对具有通式(1)~通式(5)所示重复结构的聚酯树脂的制造方法进行说明。
对于具有通式(1)~通式(5)所示重复结构的聚酯树脂的制造方法,不作特别限定,例如,可以使用界面聚合法、熔融聚合法、溶液聚合法等公知的聚合方法。
在通过界面聚合法进行制造时,例如,将二元酚成分溶解在碱水溶液中,使由此得到的溶液与溶解有芳香族二酰氯成分的卤化烃溶液进行混合。此时,也可以添加季铵盐或季膦盐作为催化剂。考虑到生产性,优选聚合温度为0℃~40℃,聚合时间为2小时~20小时。聚合结束后,将水相和有机相分离,用公知的方法洗涤、回收溶解于有机相中的聚合物,由此得到目的树脂。
作为界面聚合法中所使用的碱性成分,可以举出例如,氢氧化钠、氢氧化钾等碱金属的氢氧化物等。作为碱的使用量,优选为反应体系中所含有的酚性羟基的1.01倍当量~3倍当量。作为卤化烃,可以举出例如,二氯甲烷、氯仿、1,2-二氯乙烷、三氯乙烷、四氯乙烷、二氯苯等。作为用作催化剂的季铵盐或季膦盐,可以举出例如,三丁胺或三辛胺等叔烷基胺的盐酸盐、溴酸盐、碘酸盐等盐;苄基三乙基氯化铵、苄基三甲基氯化铵、苄基三丁基氯化铵、四乙基氯化铵、四丁基氯化铵、四丁基溴化铵、三辛基甲基氯化铵、四丁基溴化膦、三乙基十八烷基溴化膦、N-十二烷基氯化吡啶鎓、十二烷基氯化甲基吡啶鎓。
此外,界面聚合法中,可以使用分子量调节剂。作为分子量调节剂,可以举出例如,苯酚、邻甲酚、间甲酚、对甲酚、邻乙基苯酚、间乙基苯酚、对乙基苯酚、邻丙基苯酚、间丙基苯酚、对丙基苯酚、邻叔丁基苯酚、间叔丁基苯酚、对叔丁基苯酚、戊基苯酚、己基苯酚、辛基苯酚、壬基苯酚、2,6-二甲基苯酚衍生物、2-甲基苯酚衍生物等烷基苯酚类;邻苯基苯酚、间苯基苯酚、对苯基苯酚等一官能性的苯酚;乙酰氯、丁酰氯、辛酰氯、苯甲酰氯、苯磺酰氯、苯亚磺酰氯、亚磺酰氯、苯膦酰氯或它们的取代物等一官能性酰卤化物等。这些分子量调节剂中,从分子量调节性能较高且溶液稳定性方面考虑,优选为邻叔丁基苯酚、间叔丁基苯酚、对叔丁基苯酚、2,6-二甲基苯酚衍生物、2-甲基苯酚衍生物。特别优选为对叔丁基苯酚、2,3,6-三甲基苯酚、2,3,5-三甲基苯酚。
接着,对适用于本实施方式的电子照相感光体的感光层中所含有的其它成分进行说明。
(电荷产生层)
适用于本实施方式的电子照相感光体是层积型感光体时,构成感光层的电荷产生层中含有电荷产生物质。作为电荷产生物质,可以举出例如,硒及其合金、硫化镉、其他无机类光导电材料;酞菁颜料、偶氮颜料、喹吖酮颜料、靛蓝颜料、苝系颜料、多环醌颜料、蒽嵌蒽醌(anthanthrone)颜料、苯并咪唑颜料等有机颜料等各种光导电材料。其中,更优选为有机颜料,进一步优选为酞菁颜料、偶氮颜料。这些电荷产生物质的微粒以与各种粘合剂树脂相粘合的形式使用,所述粘合剂树脂例如为聚酯树脂、聚乙酸乙烯酯、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚酯、聚碳酸酯、聚乙烯醇乙酰缩醛、聚乙烯醇缩丙醛、聚乙烯醇缩丁醛、苯氧树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂、纤维素酯、纤维素醚等。对电荷产生物质的用量不特别限定,相对于100重量份粘合剂树脂,所使用的电荷产生物质的量为30重量份~500重量份。另外,电荷产生层的膜厚通常为0.1μm~1μm,优选为0.15μm~0.6μm。
使用酞菁化合物作为电荷产生物质时,具体地说,使用无金属酞菁;铜、铟、镓、锡、钛、锌、钒、硅、锗等金属或其氧化物、卤化物等配位的酞菁类。作为与3价以上的金属原子的配位基的例子,除了氧原子、氯原子之外,还可以举出羟基、烷氧基等。特别优选为灵敏度较高的X型、τ型的无金属酞菁;A型、B型、D型等钛氧基酞菁、氧钒基酞菁、氯铟酞菁、氯镓酞菁、羟基镓酞菁等。而且,此处所举出的钛氧基酞菁的结晶型中,A型、B型分别被W.Heller等人称为I相和II相(Zeit.Kristallogr.159(1982)173),已知A型为稳定型。D型是在使用CuKα线的粉末X-线衍射中,衍射角2θ±0.2°在27.3°表现出清晰的峰的结晶型。酞菁化合物可以仅使用单一的化合物或以几种化合物的混合状态来使用。作为其中的酞菁化合物或结晶状态中的混合状态,可以随后混合各种构成要素来使用,可以在合成、颜料化、结晶化等酞菁化合物的制造-处理工序中生成为混合状态。这样的处理方法,比如酸糊处理-研磨处理-溶剂处理等,都为公知。
(电荷传输层)
适用于本实施方式的电子照相感光体是层积型感光体时,构成感光层的电荷传输层中含有电荷传输物质。作为电荷传输物质,可以举出吸电子物质、给电子物质,所述吸电子物质例如有:2,4,7-三硝基芴酮等芳香族硝基化合物、四氰基醌二甲烷等氰基化合物、二酚醌等醌类等,所述给电子物质例如有:咔唑衍生物、吲哚衍生物、咪唑衍生物、噁唑衍生物、吡唑衍生物、噁二唑衍生物、吡唑啉衍生物、噻二唑衍生物等杂环化合物;苯胺衍生物、腙衍生物、芳香胺衍生物、茋衍生物、丁二烯衍生物、烯胺化合物、或多种这些化合物经键合而成的化合物;或在主链或侧链上具有含有这些化合物的基团的聚合物等。其中,优选为咔唑衍生物、腙衍生物、芳香胺衍生物、茋衍生物、丁二烯衍生物和多种这些衍生物经键合而成的化合物,优选芳香胺衍生物、茋衍生物、丁二烯衍生物中的多种经键合而成的化合物。
电荷传输物质中,优选使用具有下述通式(6)所示结构的化合物。
[化25]
Figure G2008101461527D00191
通式(6)中,Ar1~Ar6各自独立地表示可以具有取代基团的亚芳基或者可以具有取代基团的二元杂环基团。m1和m2各自独立地表示0或1。m1=0时的Ar5、m2=0时的Ar6各自为可以具有取代基团的烷基、可以具有取代基团的芳基、或可以具有取代基团的一元杂环基团。m1=1时的Ar5、m2=1时的Ar6各自表示可以具有取代基团的亚烷基、可以具有取代基团的亚芳基、或可以具有取代基团的二元杂环基团。Q表示直接键合或二价的残基。R9~R16各自独立地表示氢原子、可以具有取代基团的烷基、可以具有取代基团的芳基、或可以具有取代基团的杂环基团。n1~n4各自独立地表示0~4的整数。此外,Ar1~Ar6可以相互键合形成环状结构。
进一步地,通式(6)中,R9~R16各自独立地表示氢原子、可以具有取代基团的烷基、可以具有取代基团的芳基、可以具有取代基团的芳烷基、可以具有取代基团的杂环基团。
通式(6)中,作为烷基,可以举出例如,甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、戊基、己基、庚基、环戊基、环己基等,其中优选为原子数为1~6的烷基。烷基具有芳基取代基团时,可以举出苄基、苯乙基等,优选碳原子数为7~12的芳烷基。
作为芳基,可以举出,苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基、芘基等,优选碳原子数为6~12的芳基。
杂环基优选为具有芳香族性的杂环,可以举出例如,呋喃基、噻吩基、吡啶基等,进一步优选为单环的芳香杂环。R7~R14中,最优选的为甲基和苯基。
通式(6)中,Ar1~Ar6各自独立地表示可以具有取代基团的亚芳基或可以具有取代基团的二价杂环基团。m1和m2各自独立地表示0或1。m1=0时的Ar5、m2=0时的Ar6各自表示可以具有取代基团的烷基、可以具有取代基团的芳基或可以具有取代基团的一元杂环基团;m1=1时的Ar5、m2=1时的Ar6各自表示可以具有取代基团的亚烷基、可以具有取代基团的亚芳基或可以具有取代基团的二元杂环基团。具体地说,作为芳基,可以举出,苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基、芘基等,优选碳原子数为6~14的芳基;作为亚芳基,可以举出,亚苯基、亚萘基等,优选为亚苯基。
通式(6)中,作为一元杂环基团,优选为具有芳香族性的杂环,可以举出例如,呋喃基、噻吩基、吡啶基等,进一步优选为单环芳香族杂环。作为二元杂环基团,优选为具有芳香族性的杂环,可以举出例如亚吡啶基、亚噻吩基等,进一步优选为单环芳香族杂环。其中,最优选的是Ar1和Ar2为亚苯基,Ar3为苯基。
通式(6)中,R9~R16和Ar1~Ar6所示的基团中,烷基、芳基、芳烷基和杂环基可以进一步具有取代基团。作为该取代基团,可以举出例如,氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等卤原子;甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、己基、环戊基、环己基等烷基;甲氧基、乙氧基、丙氧基等烷氧基;甲硫基、乙硫基等烷硫基;乙烯基、烯丙基等烯基;苄基、萘甲基、苯乙基等芳烷基;苯氧基、甲苯氧基等芳氧基;苄氧基、苯乙氧基等芳基烷氧基;苯基、萘基等芳基;苯乙烯基、萘乙烯基等芳基乙烯基;乙酰基、苯甲酰基等酰基;二甲基氨基、二乙基氨基等二烷基氨基;二苯基氨基、二萘基氨基等二芳基氨基;二苄基氨基、二苯乙基氨基等二芳烷基氨基;二吡啶基氨基、二噻吩基氨基等二杂环氨基;二烯丙基氨基;或上述氨基的取代基团经组合而成的二取代氨基等取代氨基;进一步可以举出氰基、硝基、羟基等。这些取代基团可以相互键合,通过单键、亚甲基、亚乙基、羰基、亚乙烯基、1,2-亚乙烯基等来形成环状烃基或杂环基。
其中,作为优选的取代基团,可以举出,卤原子、氰基、羟基、碳原子数为1~6的烷基、碳原子数为1~6的烷氧基、碳原子数为1~6的烷硫基、碳原子数为6~12的芳氧基、碳原子数为6~12的芳硫基、碳原子数为2~8的二烷基氨基,进一步优选为卤原子、碳原子数为1~6的烷基、苯基,特别优选为甲基和苯基。
通式(6)中,n1~n4各自独立地表示0~4的整数,优选为0~2,特别优选为1。m1、m2表示0或1,优选为0。
通式(6)中,Q表示直接键合或二价的残基,作为优选的二价残基,可以举出,16族原子、可以具有取代基团的亚烷基、可以具有取代基团的亚芳基、可以具有取代基团的环亚烷基、或上述基团相互键合而成的诸如[-O-Z-O-]、[-Z-O-Z-]、[-S-Z-S-]、[-Z-Z-]等二价残基(其中,O表示氧原子,S表示硫原子,Z表示可以具有取代基团的亚芳基或可以具有取代基团的亚烷基)。
作为构成Q的亚烷基,优选碳原子数为1~6的亚烷基,其中进一步优选亚甲基和亚乙基。此外,作为环亚烷基,优选碳原子数为5~8的环亚烷基,其中进一步优选环亚戊基和环亚己基。作为亚芳基,优选碳原子数为6~14的亚芳基,其中进一步优选亚苯基和亚萘基。
此外,这些亚烷基、亚芳基、环亚烷基可以具有取代基团,作为优选的取代基团,可以举出羟基、硝基、氰基、卤原子、碳原子数为1~6的烷基、碳原子数为1~6的烯基、碳原子数为6~14的芳基。
在适用于本实施方式的电子照相感光体中,作为构成感光层的电荷传输层中所含有的电荷传输物质的具体例,可以举出例如,特开平9-244278号公报中记载的芳基胺类化合物、特开2002-275133号公报中记载的芳基胺类化合物等。这些电荷传输物质可以单独使用,或将几种混合使用。电荷传输层以这些电荷传输材料与粘合剂树脂相粘合的形式形成。电荷传输层可以由单层构成,也可以由构成成分或组成比不同的多层相重叠而构成。
对于含有聚酯树脂(该聚酯树脂具有通式(1)~通式(5)所示的重复结构)的粘合剂树脂与电荷传输物质的比率,通常,相对于100重量份的粘合剂树脂,所使用的电荷传输物质为30重量份~200重量份,优选为40重量份~150重量份。此外,电荷传输层的膜厚通常为5μm~50μm,优选为10μm~45μm。
而且,为了提高成膜性、柔软性、涂布性、耐污染性、耐气性、耐光性等,可以向电荷传输层中添加公知的增塑剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、吸电子性化合物、染料、颜料和均化剂等添加物。作为抗氧化剂,可以举出例如,位阻酚化合物、位阻胺化合物等。此外,作为染料和颜料,可以举出例如,各种色素化合物、偶氮化合物等。
(分散型(单层型)感光层)
在分散型感光层的情况下,将上述电荷产生物质分散于含有上述粘合剂树脂和电荷传输物质的电荷传输介质中。所使用的电荷产生物质的粒径必须充分小,优选为1μm以下,更优选为0.5μm以下。若分散于感光层中的电荷产生物质的量过少,则不能得到充分的灵敏度,若过多,则存在带电性降低、灵敏度降低等缺陷。所使用的电荷产生物质的用量优选为0.5重量%~50重量%,更优选为1重量%~20重量%。
所使用的分散型感光层的膜厚通常为5μm~50μm,更优选为10μm~45μm。此外,在这种情况下,也可以添加用于改善成膜性、柔软性、机械强度等的公知的增塑剂、用于抑制剩余电位的添加剂、用于提高分散稳定性的分散辅助剂、用于改善涂布性的均化剂、表面活性剂、诸如硅油、氟油等其它添加剂。可以在分散型感光层上设置保护层,用以防止分散型感光层的磨损、或用以防止或减轻由于充电器等所产生的放电产物等所致的分散型感光层的劣化。此外,为了减轻电子照相感光体表面的摩擦阻力或磨损,在表面层上可以含有氟类树脂、硅酮树脂等。此外,也可以含有具有这些树脂的粒子或无机化合物的粒子。
(电子照相感光体的制备方法)
对适用本实施方式的电子照相感光体的制备方法不特别限定,通常利用诸如浸涂法、喷涂法、喷嘴涂布法、棒涂法、辊涂法、刮刀涂布法等公知的方法将含有具有通式(1)~通式(5)所示重复结构的聚酯树脂的感光层形成涂布液涂布于导电性基体上来形成。其中,浸涂法由于生产性较高而优选。
(底漆层)
适用于本实施方式的电子照相感光体中,为了改善粘合性-粘连性等,可以在导电性基体和感光层之间设置底漆层。作为底漆层,例如可以使用树脂、将金属氧化物等粒子分散于树脂中而得的物质等。作为底漆层所使用的金属氧化物粒子的实例,可以举出例如,氧化钛、氧化铝、氧化硅、氧化锆、氧化锌、氧化铁等含有1种金属元素的金属氧化物粒子;钛酸钙、钛酸锶、钛酸钡等含有多种金属元素的金属氧化物粒子等。这些金属氧化物粒子中,可以仅使用1种粒子或将多种粒子混合使用。
其中,优选为氧化钛和氧化铝,特别优选为氧化钛。对于氧化钛粒子,可以通过氧化锡、氧化铝、氧化锑、氧化锆、氧化硅等无机物或硬脂酸、多元醇、硅酮等有机物对其表面实施处理。作为氧化钛粒子的结晶型,可以使用金红石型、锐钛矿型、板钛矿型、无定型的任意一种。也可以含有多种结晶状态的氧化钛粒子。此外,作为金属氧化物粒子的粒径,可以利用各种粒径的金属氧化物粒子,其中从特性和液体稳定性方面考虑,作为平均一次粒径,优选为10nm~100nm,特别优选为10nm~50nm。
底漆层优选以将金属氧化物粒子分散于粘合剂树脂的形式形成。作为底漆层中所使用的粘合剂树脂,可以使用苯氧树脂、环氧树脂、聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙烯醇、酪蛋白、聚丙烯酸、纤维素类、明胶、淀粉、聚氨酯、聚酰亚胺、聚酰胺等,上述物质可以单独使用或以与固化剂一同固化的形式使用,其中,由于醇可溶性共聚聚酰胺、改性聚酰胺等表现出优异的分散性、涂布性,因而优选。对金属氧化物粒子相对于粘合剂树脂的配合组成比不特别限定,通常从分散液的稳定性、涂布性方面考虑,优选在上述配合组成比为10重量%~500重量%的范围内使用。另外,对底漆层的膜厚不特别限定,从感光体特性和涂布性方面考虑,该膜厚优选为0.1μm~20μm。另外,可以在底漆层中添加公知的抗氧化剂。
接着,对应用了适用于本实施方式的电子照相感光体的图像形成装置的一例进行说明。
图1是说明图像形成装置的图。如图1所示的图像形成装置10具有:电子照相感光体1,在该电子照相感光体1中,将含有至少1种具有上述通式(1)~通式(5)所示重复结构的聚酯树脂的感光层设置于规定的导电性基体上;充电装置2,其含有使电子照相感光体1带电的充电辊;曝光装置3,其在电子照相感光体1的感光面上形成静电潜像;显影装置4,其向电子照相感光体1表面供给调色剂(T);转印装置5,其以与调色剂(T)的带电电位相反极性施加规定电压值(转印电压),将形成于电子照相感光体1的调色像转印于记录纸(P);清洁装置6,其将附着于电子照相感光体1的残留调色剂刮落、回收;定影装置7,其将被转印的调色剂像定影于记录纸(P)。
电子照相感光体1具有在圆筒状导电性基体的表面上设置有感光层(该感光层含有至少1种上述聚酯树脂)的鼓状形状。
充电装置2具有辊型充电辊。另外,充电装置2经常使用例如电晕管或充电电晕管(scorotron)等电晕充电装置;充电刷等接触型充电装置等。而且,大多数情况下,设计图像形成装置,以使得电子照相感光体1和充电装置2能够以具有这两者的盒体(cartridge)(下文有时称为感光体盒)的形式从图像形成装置10的主体取出。从而,例如,电子照相感光体1或充电装置2劣化时,可以将该感光体盒从图像形成装置10主体取出,将另一新的感光体盒装配于图像形成装置主体(无图示)。
曝光装置3只要是能够在电子照相感光体1的感光面上形成静电潜像的曝光装置即可,对其种类不特别限定。作为具体例,可以举出卤灯;荧光灯;半导体激光、He-Ne激光等激光;LED等。可以通过感光体内部曝光方式来进行曝光。对进行曝光时所使用的光不特别限定,可以举出例如,波长为780nm的单色光、波长为600nm~700nm的略微偏向于短波长的单色光、波长为380nm~500nm的短波长的单色光等。
显影装置4具有在内部贮留有调色剂(T)的显影槽41,进一步地,显影槽41具有:对调色剂(T)进行搅拌的搅拌机42;负载所贮留的调色剂(T),供给后述的显影辊44的供给辊43;与电子照相感光体1和供给辊43分别相接,负载由供给辊43所供给的调色剂(T),与电子照相感光体1的表面相接触的显影辊44;与显影辊44相接的控制构件45。此外,根据需要,可以附带由瓶、盒等容器向显影槽41补给调色剂(T)的补给装置(无图示)。对显影装置4的类型不特别限定,例如,可以使用瀑布显影、单组分导电调色剂显影、双组分磁刷显影等干式显影方式;湿式显影方式等的任意的装置。
搅拌器42通过旋转驱动组件分别旋转,搅动调色剂(T)的同时将调色剂(T)传输至供给辊43一侧。可以设置多个叶片形状、大小等不同的搅拌器42。供给辊43例如由导电性海绵形成。显影辊44包括:铁、不锈钢、铝、镍等金属辊;或在金属辊上覆盖有硅酮树脂、聚氨酯树脂、氟树脂等的树脂辊等。根据需要,可以对显影辊44的表面实施平滑加工、粗糙表面加工。控制构件45是由下述刮刀而形成的,所述刮刀为:硅酮树脂、氨酯树脂等树脂刮刀;不锈钢、铝、铜、黄铜、磷青铜等金属刮刀;或将树脂覆盖在金属刮刀上而得到的刮刀;等等。控制部件45与显影辊44相接,通过弹簧等以所规定的力挤压(一般的刮刀线压为5g/cm~500g/cm)显影辊44一侧。根据需要,控制构件45可以具有通过与调色剂(T)的摩擦生电来使调色剂(T)带电的功能。而且,供给辊43和显影辊44通过旋转驱动组件(无图示)进行转动。
对调色剂(T)的种类不特别限定,通常,除了粉末状的调色剂之外,还可以使用通过悬浮聚合法、乳化聚合法等而得到的聚合调色剂等。特别是,使用聚合调色剂时,优选粒径约为4μm~8μm的小粒径调色剂,并且,可以使用调色剂(T)粒子的形状为从接近球形的粒子到马铃薯状的偏离球形的粒子的各种粒子。聚合调色剂在带电均一性、转印性方面优异,适用于高画质化。而且,调色剂(T)大都保存于调色剂盒中,被设置成能够从图像形成装置10主体取出的方式,所使用的调色剂盒中的调色剂(T)耗光时,可以从图像形成装置10主体将该调色剂盒卸下,装配另一新的调色剂盒。进一步地,也可以使用具有电子照相感光体1、充电装置2和调色剂(T)的盒体。
本文中未对转印装置5进行图示,其由与电子照相感光体1对向配置的转印充电器、转印辊、转印带等构成。此外,对转印装置5的种类不特别限定,例如,可以使用通过电晕转印、辊转印、带转印等静电转印法;压力转印法;粘合转印法等任意方式进行转印的装置。
对清洁装置6不特别限定,例如,可以使用刷清洁器、磁刷清洁器、静电刷清洁器、磁辊清洁器、刮刀清洁器等任意的清洁装置。
定影装置7具有:由定影辊形成的上部定影构件71;与上部定影构件71相接的由定影辊形成的下部定影构件72;设置于上部定影构件71内部的加热装置73。而且,加热装置73可以设置于下部定影构件72内部。对于上部定影构件71或下部定影构件72,可以使用:在不锈钢、铝等金属管上覆盖硅酮橡胶而得到的定影辊、覆盖特氟隆(注册商标)树脂而得到的定影辊、定影片等公知的热定影构件。进一步地,为了提高脱模性,上部定影构件71或下部定影构件72可以具有供给硅油等脱模剂的结构,也可以具有通过弹簧等相互强制性地施加压力的结构。而且,对定影装置7的种类不特别限定,例如,可以设置基于热辊定影、闪熔定影、烘烤定影、压力定影等任意方式进行定影的定影装置。
接着,对图像形成装置10的作用进行说明。
电子照相感光体1的表面(感光面)通过充电装置2以规定电位(例如-600V)被充电。此时,可以通过直流电压来充电,也可以使交流电压重叠于直流电压来充电。然后,根据应该记录的图像通过曝光装置3对带电的电子照相感光体1的感光面进行曝光,在感光面上形成静电潜像。然后,在显影装置4中进行形成于电子照相感光体1的感光面的静电潜像的显影。即,显影装置4中,通过显影刮刀等控制构件45来将通过供给辊43供给的调色剂(T)薄层化,同时使其摩擦带电以成为所规定的极性(此时,与电子照相感光体1的带电电位同极性,为负极性),将调色剂(T)负载于显影辊44并进行传输,使其与电子照相感光体1的表面接触。
若负载于显影辊44的带电调色剂(T)与电子照相感光体1的表面相接触,则在电子照相感光体1的感光面上形成对应于静电潜像的调色剂像。然后,将该调色剂像通过转印装置5转印至记录纸(P)。随后,通过清洁装置6除去未被转印而残留于电子照相感光体1的感光面上的调色剂(T)。当转印于记录纸(P)上的调色剂(T)通过加热至所规定温度的上部定影构件71和下部定影构件72之间时,调色剂(T)被加热至熔融状态,通过后被冷却,使调色剂(T)定影于记录纸(P)上,得到最终的图像。
而且,图像形成装置10除了具有上述结构外,例如还可以具有能够进行除电工序的结构。除电工序是通过对电子照相感光体1进行曝光来进行电子照相感光体1的除电的工序,作为除电装置,使用荧光灯、LED等。此外,除电工序中所使用的光大都为具有曝光光的3倍以上的曝光能量作为强度的光。
此外,图像形成装置10可以具有进一步变形的结构,例如,具有能够进行前曝光工序、辅助带电工序等工序的结构;具有进行胶版印刷的结构;或者进一步具有使用多种调色剂(T)的全色串联方式的结构。
实施例
下文基于实施例来对本实施方式进行更具体的说明。而且,本实施方式不被实施例所限定。另外,只要未作特别限定,实施例和比较例中的份和百分比(%)为重量基准。
(粘度平均分子量(Mv))
使用乌氏(Ubbellohde)毛细管粘度计(二氯甲烷的流下时间t0:136.16秒),在20.0℃测定聚酯树脂的二氯甲烷溶液(浓度:6.00g/L)的流下时间(t),基于下式算出聚酯树脂的粘度平均分子量(Mv)。结果如表1、表2和表4~表7所示。
ηsp=(t/t0)-1
a=0.438×ηsp+1
b=100×(ηsp/C)
C=6.00[g/L]
η=b/a
Mv=3207×η1.205
(电气特性试验)
使用以电子照相学会测定标准为基准的电子照相特性评价装置(续电子照相技术的基础和应用,电子照相学会编,Corona社,第404页~405页),将预先制备的感光体片(后述)粘贴于铝制鼓,制成圆筒状,在使得铝制鼓与感光体片的铝基体相导通的状态下,使鼓以恒定的旋转速度进行旋转,通过充电、曝光、电位测定、除电的循环来进行电气特性评价试验。使初期表面电位为-700V,使用780nm的单色光作为曝光光,使用660nm的单色光作为除电光,测定照射2.4μJ/cm2的曝光光时的表面电位(VL)。进行VL测定时,从曝光到电位测定所需要的时间为139ms。在下述测定环境下进行测定:温度为25℃、相对湿度为50%(NN环境);以及温度为5℃、相对湿度为10%(LL环境)。VL值的绝对值越小,则应答性越优异(单位:-V)。结果如表1和表7所示。
(磨损试验)
将预先制备的感光体片(后述)剪切成直径为10cm的圆状来制备试验片,对其使用泰伯尔(Taber)磨损试验仪(东洋精机社制造)进行磨损评价。所述评价在下述试验条件下进行:在温度为23℃、相对湿度为50%的氛围气下,使用磨损轮CS-10F,在无负荷(磨损轮的本身重量)下,通过比较试验前后的重量来测定1000次旋转后的磨损量。磨损量越小则耐磨损性越优异(单位:mg)。结果如表1和表7所示。
(耐印刷试验)
将预先制备的感光体鼓(后述)装配于市售的彩色激光打印机(Epson公司制LP3000C),在常温常湿环境下,以单色(黑)模式形成24000张图像,并测定图像形成前的感光层的膜厚和形成24000张图像后的感光层的膜厚,测定每形成10000张图像的膜减少量。膜减少量越少,则耐印刷性越优异(单位:μm)。结果如表2所示。
(感光体片的制备)
将10重量份氧钛酞菁和150重量份4-甲氧基-4-甲基-2-戊酮混合,用砂磨机对其进行粉碎分散处理,制造颜料分散液。另外,对于氧钛酞菁,其在基于CuKα线的X线衍射中,在布拉格角(2θ±0.2)为9.3°、10.6°、13.2°、15.1°、15.7°、16.1°、20.8°、23.3°、26.3°、27.1°处显示出强衍射峰。在该颜料分散液中混入50重量份含有5重量%聚乙烯醇缩丁醛(电气化学工业株式会社制,商品名“Denka Butyral#6000C”)的1,2-二甲氧基乙烷溶液、50重量份含有5重量%苯氧树脂(Union Carbide公司制,商品名PKHH)的1,2-二甲氧基乙烷溶液,并进一步加入适量的1,2-二甲氧基乙烷,从而调制固体成分浓度为4.0%的电荷产生层形成用涂布液。将该电荷产生层形成用涂布液涂布于在表面上蒸发沉积有铝的聚对苯二甲酸乙二醇酯片上,进行干燥,使干燥后的膜厚为0.4μm,以此设置电荷产生层。
然后,在该电荷产生层上涂布电荷传输层形成用涂布液,以使干燥后的膜厚为20μm,在125℃干燥20分钟来形成电荷传输层,从而制备感光体片。电荷传输层形成用涂布液是如下进行调制的:将100重量份分别于表1和表7所示的聚酯、8重量份抗氧化剂(ciba-geigy公司制,Irganox 1076)、0.03重量份作为均化剂的硅油、以及50重量份含有以具有下述化学结构的电荷传输物质(1)为主要成分的异构体的电荷传输物质在640重量份的四氢呋喃/甲苯混合溶剂(四氢呋喃80重量%、甲苯20重量%)中进行混合,以此调制所述电荷传输层形成用涂布液。
[化26]
Figure G2008101461527D00291
(感光体鼓的制备)
将10份氧钛酞菁加入至150份1,2-二甲氧基乙烷中,用砂磨机对其进行粉碎分散处理,调制颜料分散液。另外,对于氧钛酞菁,其在基于CuK α线的X线衍射中,在布拉格角(2θ±0.2)为9.3°、10.6°、13.2°、15.1°、15.7°、16.1°、20.8°、23.3°、26.3°、27.1°处显示出强衍射峰。然后,将5份聚乙烯醇缩丁醛(电气化学工业株式会社制,商品名“Denka Butyral#6000C”)溶解于95份1,2-二甲氧基乙烷中,调制固体成分浓度为5%的粘合剂溶液(1)。随后,将5份苯氧树脂(Union Carbide公司制,商品名PKHH)溶解于95份1,2-二甲氧基乙烷中,调制固体成分浓度为5%的粘合剂溶液(2)。然后,加入160份先前调制的颜料分散液、50份粘合剂溶液(1)、50份粘合剂溶液(2)、适量的1,2-二甲氧基乙烷、适量的4-甲氧基-4-甲基-2-戊酮,调制固体成分浓度为4.0重量%、1,2-二甲氧基乙烷∶4-甲氧基-4-甲基-2-戊酮=9∶1的电荷产生层用分散液(α)。
接下来,对表面经过镜面精加工的外径为30mm、长为285mm、厚为1.0mm的由铝合金形成的圆筒的表面进行阳极氧化处理,然后,通过以乙酸镍为主成分的封孔剂进行封孔处理,由此形成约6μm的阳极氧化涂膜(耐酸铝涂膜)。将该圆筒置于先前调制的电荷产生层用分散液(α)中进行浸渍涂布,形成干燥后的膜厚约为0.3μm的电荷产生层。然后,通过将该形成有电荷产生层的圆筒置于电荷传输层形成用涂布液中进行浸渍涂布,来制备感光体鼓,该感光体鼓设置有干燥后的膜厚为20μm的电荷传输层。电荷传输层形成用涂布液是如下进行调制的:将100份作为电荷传输层用粘合剂树脂的分别如表2所示的聚酯树脂、0.05份硅油(信越化学社制,商品名KF96)、以及50份上述电荷传输物质(1)溶解于四氢呋喃和甲苯的混合溶剂(四氢呋喃80重量%、甲苯20重量%)中,由此调制所述电荷传输层形成用涂布液。
(聚酯树脂的制造例)
通过下述制造方法来制备25种聚酯树脂(树脂A~树脂Y)。
制造例1(树脂A)
将23.02g氢氧化钠和940mL水称取至1000mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加49.55g二(4-羟基-3-甲基苯基)甲烷(下文称为BP-a),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至2L反应槽中。然后将0.5749g苄基三乙基氯化铵和1.0935g 2,3,5-三甲基苯酚依次加入至反应槽中。随后将65.29g二苯基醚-4,4’-二酰氯和470mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌5小时后,加入783mL二氯甲烷,持续搅拌7小时。然后加入8.35mL乙酸并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以942mL 0.1N氢氧化钠溶液洗涤2次,然后,以942mL 0.1N盐酸洗涤2次,进一步以942mL水洗涤2次。将洗涤后的有机层注入至6266mL甲醇中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到树脂A。树脂A的重复结构如下所示。
[化27]
制造例2(树脂B)
将26.01g氢氧化钠和846mL水称取至1000mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加56.00g(BP-a),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至2L反应槽中。然后将0.6497g苄基三乙基氯化铵和1.2358g2,3,5-三甲基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将50.78g对酞酰氯和423mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。在进行聚合的同时,在有机层中出现不溶成分,没能进行树脂B的取出和精制。树脂B的重复结构如下所示。
[化28]
Figure G2008101461527D00312
制造例3(树脂C)
将10.81g氢氧化钠和423mL水称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加6.98g(BP-a)以及14.28g的二(4-羟基苯基)甲烷(下文称为BP-b)、(2-羟基苯基)(4-羟基苯基)甲烷(下文称为BP-c)和二(2-羟基苯基)甲烷(下文称为BP-d)的混合物(混合比率约为BP-b∶BP-c∶BP-d=35∶48∶17(下文称为BP-e)),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后将0.2699g苄基三乙基氯化铵和0.5662g对叔丁基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将30.65g二苯基醚-4,4’-二酰氯和211mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌5小时后,加入352mL二氯甲烷,持续搅拌7小时。然后加入3.92mL乙酸并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以424mL 0.1N氢氧化钠溶液洗涤2次,然后以424mL 0.1N盐酸洗涤2次,进一步以424mL水洗涤2次。将洗涤后的有机层注入至2820mL甲醇中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到树脂C。树脂C的重复结构如下所示。
[化29]
Figure G2008101461527D00321
制造例4(树脂D)
将27.55g氢氧化钠和846mL水称取至1000mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加18.03g(BP-a)和36.91g(BP-e),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至2L反应槽中。然后将0.6792g苄基三乙基氯化铵和0.3585g 2,3,6-三甲基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将53.78g对酞酰氯和423mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌5小时后,加入705mL二氯甲烷,持续搅拌5小时。然后加入9.99mL乙酸并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以848mL 0.1N氢氧化钠溶液洗涤2次,然后以848mL 0.1N盐酸洗涤2次,进一步以848mL水洗涤2次。将洗涤后的有机层注入至5639mL甲醇中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到树脂D。树脂D的重复结构如下所示。
[化30]
Figure G2008101461527D00331
制造例5(树脂E)
将10.54g氢氧化钠和423mL水称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加15.88g(BP-a)和6.03g二(4-羟基苯基)醚(下文称为BP-f),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后将0.2632g苄基三乙基氯化铵和0.5006g 2,3,5-三甲基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将29.89g二苯基醚-4,4’-二酰氯和211mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌5小时后,加入352mL二氯甲烷,持续搅拌7小时。然后加入3.82mL乙酸并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以424mL 0.1N氢氧化钠溶液洗涤2次,然后以424mL 0.1N盐酸洗涤2次,进一步以424mL水洗涤2次。将洗涤后的有机层注入至2820mL甲醇中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到树脂E。树脂E的重复结构如下所示。
[化31]
Figure G2008101461527D00332
制造例6(树脂F)
将10.70g氢氧化钠和423mL水称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加14.15g(BP-b)和7.34g 1,1-二(4-羟基-3-甲基苯基)乙烷(下文称为BP-g),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后将0.2674g苄基三乙基氯化铵和0.5609g对叔丁基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将30.36g二苯基醚-4,4’-二酰氯和211mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌5小时后,加入352mL二氯甲烷,持续搅拌7小时。然后加入3.88mL乙酸并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以424mL 0.1N氢氧化钠溶液洗涤2次,然后以424mL 0.1N盐酸洗涤2次,进一步以424mL水洗涤2次。将洗涤后的有机层注入至2820mL甲醇中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到树脂F。树脂F的重复结构如下所示。
[化32]
制造例7(树脂G)
将24.64g氢氧化钠和940mL水称取至1000mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加47.26g(BP-b)和(BP-c)的混合物(混合比率约为BP-b∶BP-c=40∶60(下文称为BP-h)),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至2L反应槽中。然后,将0.6059g苄基三乙基氯化铵和0.1772g对叔丁基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将69.54g二苯基醚-4,4’-二酰氯和470mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌5小时后,加入783mL二氯甲烷,持续搅拌7小时。然后加入8.93mL乙酸并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以942mL 0.1N氢氧化钠溶液洗涤2次,然后以942mL 0.1N盐酸洗涤2次,进一步以942mL水洗涤2次。将洗涤后的有机层注入至6266mL甲醇中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到树脂G。树脂G的重复结构如下所示。
[化33]
Figure G2008101461527D00342
制造例8(树脂H)
将28.12g氢氧化钠和846mL水称取至1000mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加53.10g(BP-h),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至2L反应槽中。然后,将0.7024g苄基三乙基氯化铵和1.4736g对叔丁基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将54.90g对酞酰氯和423mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌5小时后,加入705mL二氯甲烷,持续搅拌2小时。然后,加入10.20mL乙酸并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以848mL 0.1N氢氧化钠溶液洗涤2次,然后以848mL 0.1N盐酸洗涤2次,进一步以848mL水洗涤2次。将洗涤后的有机层注入至5639mL甲醇中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到树脂H。树脂H的重复结构如下所示。
[化34]
制造例9(树脂I)
将10.31g氢氧化钠和423mL水称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加16.49g(BP-g)和5.90g(BP-f),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后,将0.2576g苄基三乙基氯化铵和0.4900g 2,3,5-三甲基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将29.26g二苯基醚-4,4’-二酰氯和211mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌5小时后,加入352mL二氯甲烷,持续搅拌7小时。然后,加入3.74mL乙酸并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以424mL 0.1N氢氧化钠溶液洗涤2次,然后以424mL 0.1N盐酸洗涤2次,进一步以424mL水洗涤2次。将洗涤后的有机层注入至2820mL甲醇中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到树脂I。树脂I的重复结构如下所示。
[化35]
Figure G2008101461527D00361
制造例10(树脂J)
将22.34g氢氧化钠和940mL水称取至1000mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加51.04g(BP-g),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至2L反应槽中。然后,将0.5579g苄基三乙基氯化铵和1.0613g2,3,5-三甲基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将63.37g二苯基醚-4,4’-二酰氯和470mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌5小时后,加入783mL二氯甲烷,持续搅拌7小时。然后,加入8.10mL乙酸并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以942mL 0.1N氢氧化钠溶液洗涤2次,然后以942mL 0.1N盐酸洗涤2次,进一步以942mL水洗涤2次。将洗涤后的有机层注入至6266mL甲醇中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到树脂J。树脂J的重复结构如下所示。
[化36]
Figure G2008101461527D00362
制造例11(树脂K)
将23.71g氢氧化钠和940mL水称取至1000mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加47.91g 1,1-二(4-羟基苯基)乙烷(下文称为BP-i),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至2L反应槽中。然后,将0.5923g苄基三乙基氯化铵和1.2425g对叔丁基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将67.27g二苯基醚-4,4’-二酰氯和470mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌5小时后,加入783mL二氯甲烷,持续搅拌7小时。然后,加入8.60mL乙酸并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以942mL 0.1N氢氧化钠溶液洗涤2次,然后以942mL 0.1N盐酸洗涤2次,进一步以942mL水洗涤2次。将洗涤后的有机层注入至6266mL甲醇中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到树脂K。树脂K的重复结构如下所示。
[化37]
Figure G2008101461527D00371
制造例12(树脂L)
将13.52g氢氧化钠和423mL水称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加27.32g(BP-i),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后,将0.3378g苄基三乙基氯化铵和0.6425g2,3,6-三甲基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将26.40g对酞酰氯和211mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。在进行聚合的同时,在有机层中出现不溶成分,没能进行树脂L的取出和精制。树脂L的重复结构如下所示。
[化38]
制造例13(树脂M)
将25.06g氢氧化钠和846mL水称取至1000mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加57.25g(BP-g),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至2L反应槽中。然后,将0.6258g苄基三乙基氯化铵和1.1904g2,3,6-三甲基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将48.91g对酞酰氯和423mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌5小时后,加入705mL二氯甲烷,持续搅拌2小时。然后,加入9.09mL乙酸并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以848mL 0.1N氢氧化钠溶液洗涤2次,然后以848mL 0.1N盐酸洗涤2次,进一步以848mL水洗涤2次。将洗涤后的有机层注入至5639mL甲醇中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到树脂M。树脂M的重复结构如下所示。
[化39]
Figure G2008101461527D00381
制造例14(树脂N)
将10.85g氢氧化钠和470mL水称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加26.22g二(4-羟基-3,5-二甲基苯基)甲烷(下文称为BP-j),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后,将0.2710g苄基三乙基氯化铵和0.5154g 2,3,6-三甲基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将30.77g二苯基醚-4,4’-二酰氯和235mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌5小时后,加入392mL二氯甲烷,持续搅拌7小时。然后,加入3.93mL乙酸并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以471mL 0.1N氢氧化钠溶液洗涤2次,然后以471mL 0.1N盐酸洗涤2次,进一步以471mL水洗涤2次。将洗涤后的有机层注入至3133mL甲醇中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到树脂N。树脂N的重复结构如下所示。
[化40]
Figure G2008101461527D00382
制造例15(树脂O)
将7.25g氢氧化钠和600mL水称取至1000mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加17.39g(BP-j),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后,将0.0912g苄基三乙基氯化铵和0.4822g2,4,6-三甲基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将14.15g对酞酰氯和300mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌5小时。然后,加入2.39mL乙酸并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以339mL 0.1N氢氧化钠溶液洗涤2次,然后以339mL 0.1N盐酸洗涤2次,进一步以339mL水洗涤2次。将洗涤后的有机层注入至1500mL甲醇中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到树脂O。树脂O的重复结构如下所示。
[化41]
Figure G2008101461527D00391
制造例16(树脂P)
将9.52g氢氧化钠和470mL水称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加29.13g 1,1-二(4-羟基-3,5-二甲基苯基)环己烷(下文称为BP-k),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后,将0.2378g苄基三乙基氯化铵和0.4524g 2,3,6-三甲基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将27.01g二苯基醚-4,4’-二酰氯和235mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌5小时后,加入392mL二氯甲烷,持续搅拌7小时。然后,加入3.45mL乙酸并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以471mL 0.1N氢氧化钠溶液洗涤2次,然后以471mL0.1N盐酸洗涤2次,进一步以471mL水洗涤2次。将洗涤后的有机层注入至3133mL甲醇中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到树脂P。树脂P的重复结构如下所示。
[化42]
Figure G2008101461527D00401
制造例17(树脂Q)
将6.60g氢氧化钠和281mL水称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加17.65g(BP-k),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后,将0.0709g苄基三乙基氯化铵和0.1481g2,3,6-三甲基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将11.17g对酞酰氯和281mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液,进一步地持续搅拌6小时。然后,加入3.46mL乙酸并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以313mL 0.1N氢氧化钠溶液洗涤2次,然后以313mL 0.1N盐酸洗涤2次,进一步以313mL水洗涤2次。将洗涤后的有机层注入至1403mL甲醇中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到树脂Q。树脂Q的重复结构如下所示。
[化43]
Figure G2008101461527D00402
制造例18(树脂R)
将13.29g氢氧化钠和423mL水称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加7.60g(BP-f)和20.02g(BP-a),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后,将0.3319g苄基三乙基氯化铵和0.6314g 2,3,5-三甲基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将25.94g对酞酰氯和211mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。在进行聚合的同时,在有机层中出现不溶成分,没能进行树脂R的取出和精制。树脂R的重复结构如下所示。
[化44]
Figure G2008101461527D00411
制造例19(树脂S)
将12.94g氢氧化钠和423mL水称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加7.40g(BP-f)和20.69g(BP-g),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后,将0.3231g苄基三乙基氯化铵和0.6146g 2,3,5-三甲基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将25.25g对酞酰氯和211mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。在进行聚合的同时,在有机层中出现不溶成分,没能进行树脂S的取出和精制。树脂S的重复结构如下所示。
[化45]
Figure G2008101461527D00412
制造例20(树脂T)
将21.70g氢氧化钠和940mL水称取至1000mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加52.44g 2,2-二(4-羟基-3-甲基苯基)丙烷(下文称为BP-1),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至2L反应槽中。然后,将0.5419g苄基三乙基氯化铵和1.0308g 2,3,5-三甲基苯酚依次加入至反应槽中。
另外,将61.55g二苯基醚-4,4’-二酰氯和470mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌5小时后,加入783mL二氯甲烷,持续搅拌7小时。然后,加入7.87mL乙酸并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以942mL 0.1N氢氧化钠溶液洗涤2次,然后以942mL 0.1N盐酸洗涤2次,进一步以942mL水洗涤2次。将洗涤后的有机层注入至6266mL甲醇中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到树脂T。树脂T的重复结构如下所示。
[化46]
制造例21(树脂U)
将12.08g氢氧化钠和423mL水称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加29.20g(BP-1),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后,将0.3018g苄基三乙基氯化铵和0.5741g2,3,6-三甲基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将23.59g对酞酰氯和211mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌5小时后,加入352mL二氯甲烷,持续搅拌2小时。然后,加入4.38mL乙酸并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以424mL 0.1N氢氧化钠溶液洗涤2次,然后以424mL 0.1N盐酸洗涤2次,进一步以424mL水洗涤2次。将洗涤后的有机层注入至2820mL甲醇中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到树脂U。树脂U的重复结构如下所示。
[化47]
Figure G2008101461527D00422
制造例22(树脂V)
将10.58g氢氧化钠和470mL水称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加26.76g 1,1-二(4-羟基苯基)环己烷(下文称为BP-m),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后,将0.2642g苄基三乙基氯化铵和0.5543g对叔丁基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将30.01g二苯基醚-4,4’-二酰氯和235mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌5小时后,加入392mL二氯甲烷,持续搅拌7小时。然后,加入3.84mL乙酸并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以471mL 0.1N氢氧化钠溶液洗涤2次,然后以471mL 0.1N盐酸洗涤2次,进一步以471mL水洗涤2次。将洗涤后的有机层注入至3133mL甲醇中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到树脂V。树脂V的重复结构如下所示。
[化48]
Figure G2008101461527D00431
制造例23(树脂W)
将4.62g氢氧化钠和400mL水称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加11.70g(BP-m),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后,将0.0583g苄基三乙基氯化铵和0.1987g对叔丁基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将9.46g对酞酰氯和200mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。在进行聚合的同时,在有机层中出现不溶成分,没能进行树脂W的取出和精制。树脂W的重复结构如下所示。
[化49]
Figure G2008101461527D00432
制造例24(树脂X)
将22.99g氢氧化钠和940mL水称取至1000mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加49.49g 2,2-二(4-羟基苯基)丙烷(下文称为BP-n),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至2L反应槽中。然后,将0.5743g苄基三乙基氯化铵和1.2048g对叔丁基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将65.22g二苯基醚-4,4’-二酰氯和470mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌5小时后,加入783mL二氯甲烷,持续搅拌7小时。然后,加入8.34mL乙酸并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以942mL 0.1N氢氧化钠溶液洗涤2次,然后以942mL 0.1N盐酸洗涤2次,进一步以942mL水洗涤2次。将洗涤后的有机层注入至6266mL甲醇中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到树脂X。树脂X的重复结构如下所示。
[化50]
制造例25(树脂Y)
将14.43g氢氧化钠和470mL水称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加31.06g(BP-n),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后,将0.3605g苄基三乙基氯化铵和0.7562g对叔丁基苯酚依次加入至反应槽中。另外,将28.17g对酞酰氯和235mL二氯甲烷的混合溶液转移至滴液漏斗内。将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。在进行聚合的同时,在有机层中出现不溶成分,没能进行树脂Y的取出和精制。树脂Y的重复结构如下所示。
[化51]
Figure G2008101461527D00442
(实施例1~实施例10、比较例1~比较例8)
使用表1所示的聚酯树脂来分别制备感光体片,对该感光体片进行电气特性和磨损试验。结果如表1所示。
[表1]
Figure G2008101461527D00451
另外,表1中缩写所示的化合物如下所述。
ODBA:二苯基醚-4,4’-二羧酸残基
TPA:对酞酸残基
BP-a:二(4-羟基-3-甲基苯基)甲烷
BP-b:二(4-羟基苯基)甲烷
BP-e:二(4-羟基苯基)甲烷∶(2-羟基苯基)(4-羟基苯基)甲烷∶二(2-羟基苯基)甲烷=约35∶48∶17混合物
BP-f:二(4-羟基苯基)醚
BP-g:1,1-二(4-羟基-3-甲基苯基)乙烷
BP-j:二(4-羟基-3,5-二甲基苯基)甲烷
BP-k:1,1-二(4-羟基-3,5-二甲基苯基)环己烷
BP-1:2,2-二(4-羟基-3-甲基苯基)丙烷
BP-m:1,1-二(4-羟基苯基)环己烷
由表1所示的结果可知,分子中具有二苯基醚-4,4’-二羧酸残基(ODBA)、具有上述通式(1)~通式(5)所示的重复结构的聚酯树脂,对于通常用于电荷传输层形成用涂布液的溶剂,表现出较高的溶解性和涂布液稳定性,设置有含有至少1种这些聚酯树脂的感光层的感光体片(实施例1~实施例10),在电气特性和磨损试验中得到了优异的性能。
与此相对地,分子中具有对酞酸残基(TPA)的聚酯树脂中,有不溶于用于电荷传输层形成用涂布液的溶剂的聚酯树脂(树脂B、树脂R、树脂S、树脂W),不能制备感光体片。此外,由结果可知,设置了含有这些聚酯树脂的感光层的感光体片(比较例2、比较例3、比较例4、比较例7)在电气特性和磨损试验中得不到充分的性能。
(实施例11~实施例17、比较例9~比较例13)
对于使用如表2所示的聚酯树脂来分别制备的感光体鼓,进行耐印刷试验。结果如表2所示。
[表2]
Figure G2008101461527D00461
另外,表2中缩写所示的化合物如下所述。
ODBA:二苯基醚-4,4’-二羧酸残基
TPA:对酞酸残基
BP-a:二(4-羟基-3-甲基苯基)甲烷
BP-e:二(4-羟基苯基)甲烷∶(2-羟基苯基)(4-羟基苯基)甲烷∶二(2-羟基苯基)甲烷=约35∶48∶17混合物
BP-g:1,1-二(4-羟基-3-甲基苯基)乙烷
BP-h:二(4-羟基苯基)甲烷∶(2-羟基苯基)(4-羟基苯基)甲烷=约40∶60混合物
BP-i:1,1-二(4-羟基苯基)乙烷
BP-1:2,2-二(4-羟基-3-甲基苯基)丙烷
BP-n:2,2-二(4-羟基苯基)丙烷
由表2所示的结果可知,设置有下述感光层的感光体鼓(实施例11~实施例17)在耐印刷试验中得到优异的性能,所述感光层含有至少1种的分子中具有二苯基醚-4,4’-二羧酸残基(ODBA)、具有上述通式(1)~通式(5)所示重复结构的聚酯树脂。
与此相对地,分子中具有对酞酸残基(TPA)的聚酯树脂中,有不溶于用于电荷传输层形成用涂布液的溶剂的聚酯树脂(树脂B、树脂L、树脂Y),不能制备感光体鼓。此外,由结果可知,设置了含有这些聚酯树脂的感光层的感光体鼓(比较例10、比较例12)在耐印刷试验中得不到充分的性能。
此外,对于作为实施例14和比较例12所制造的感光体鼓J2和感光体鼓M2,为了在感光体鼓上制造被白色荧光灯的光曝光的部分和未曝光的部分,用开有长为40mm、宽为20mm的孔的黑纸覆盖感光体的整个面,调整白色荧光灯(三菱OSRAM株式会社制“Neolumi super FL20SS-W/18”)的光,使其在感光体表面的光强为2000勒克司,以开孔的部分为中心对黑纸照射10分钟,然后除去黑纸,将该鼓装配于电气特性试验仪中,测定曝光部分和未曝光部分的电位差。结果如表3所示。
[表3]
Figure G2008101461527D00471
由表3的结果可知,实施例14的感光体J2也可以确保作为电子照相感光体的重要特性-耐光性。另一方面,比较例12的感光体M2虽然在耐印刷试验中表现出优异的膜减少量,但是其耐光性极弱,不适于实际应用。
此外,通过下述制造方法制造了5种聚酯树脂(树脂JA~树脂JE)。
制造例26(树脂JA)
将氢氧化钠(10.15g)和H2O(423mL)称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加BP-g(23.01g),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后,将苄基三乙基氯化铵(0.2552g)和2,3,5-三甲基苯酚(0.6725g)依次加入至反应槽中。
另外,将二苯基醚-4,4’-二酰氯(28.20g)和二氯甲烷(211mL)的混合溶液转移至滴液漏斗内。
将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌4小时后,加入二氯甲烷(352mL),持续搅拌6小时。然后,加入乙酸(3.68mL)并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以0.1N氢氧化钠溶液(424mL)洗涤2次,然后以0.1N盐酸(424mL)洗涤4次,进一步以H2O(424mL)洗涤2次。除去有机层的有机溶剂,得到目的树脂JA。所得到的树脂JA的粘度平均分子量为41000。而且,树脂JA的重复结构与制造例10中所得到的树脂J相同,因而省略。
制造例27(树脂JB)
将氢氧化钠(10.14g)和H2O(423mL)称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加BP-g(22.75g),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后,将苄基三乙基氯化铵(0.2576g)和2,3,5-三甲基苯酚(0.9462g)依次加入至反应槽中。
另外,将二苯基醚-4,4’-二酰氯(28.19g)和二氯甲烷(211mL)的混合溶液转移至滴液漏斗内。
将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌4小时后,加入二氯甲烷(352mL),持续搅拌6小时。然后,加入乙酸(3.68mL)并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以0.1N氢氧化钠溶液(424mL)洗涤2次,然后以0.1N盐酸(424mL)洗涤2次,进一步以H2O(424mL)洗涤2次。将洗涤后的有机层注入至甲醇(2820mL)中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到目的的树脂JB。所得到的树脂JB的粘度平均分子量为31500。而且,树脂JB的重复结构与制造例10中所得到的树脂J相同,因而省略。
制造例28(树脂JC)
将氢氧化钠(10.14g)和H2O(423mL)称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加BP-g(22.75g),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后,将苄基三乙基氯化铵(0.2576g)和2,3,5-三甲基苯酚(0.9462g)依次加入至反应槽中。
另外,将二苯基醚-4,4’-二酰氯(28.19g)和二氯甲烷(211mL)的混合溶液转移至滴液漏斗内。
将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌4小时后,加入二氯甲烷(352mL),持续搅拌6小时。然后,加入乙酸(3.68mL)并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以0.1N氢氧化钠溶液(424mL)洗涤2次,然后以0.1N盐酸(424mL)洗涤4次,进一步地用H2O(424mL)洗涤2次。除去有机层的有机溶剂,得到目的树脂JC。所得到的树脂JC的粘度平均分子量为31500。而且,树脂JC的重复结构与制造例10中所得到的树脂J相同,因而省略。
制造例29(树脂JD)
将氢氧化钠(10.15g)和H2O(423mL)称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加BP-g(23.01g),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后,将苄基三乙基氯化铵(0.2552g)和2,3,5-三甲基苯酚(0.6725g)依次加入至反应槽中。
另外,将二苯基醚-4,4’-二酰氯(28.20g)和二氯甲烷(211mL)的混合溶液转移至滴液漏斗内。
将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌4小时后,加入二氯甲烷(352mL),持续搅拌6小时。然后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以0.1N盐酸(424mL)洗涤4次,进一步以H2O(424mL)洗涤2次。除去有机层的有机溶剂,得到目的树脂JD。所得到的树脂JD的粘度平均分子量为41000。而且,树脂JD的重复结构与制造例10中所得到的树脂J相同,因而省略。
制造例30(树脂JE)
将氢氧化钠(10.14g)和H2O(423mL)称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加BP-g(22.75g),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱水溶液转移至1L反应槽中。然后,将苄基三乙基氯化铵(0.2576g)和2,3,5-三甲基苯酚(0.9462g)依次加入至反应槽中。
另外,将二苯基醚-4,4’-二酰氯(28.19g)和二氯甲烷(211mL)的混合溶液转移至滴液漏斗内。
将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱水溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌4小时后,加入二氯甲烷(352mL),持续搅拌6小时。然后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以0.1N盐酸(424mL)洗涤4次,进一步以H2O(424mL)洗涤2次。除去有机层的有机溶剂,得到目的树脂JE。所得到的树脂JE的粘度平均分子量为31500。而且,树脂JE的重复结构与制造例10中所得到的树脂J相同,因而省略。
底漆层用分散液如下进行制造。即,将平均一次粒径为40nm的金红石型氧化钛(石原产业株式会社制“TTO55N”)和相对于该氧化钛为3重量%的甲基二甲氧基硅烷(东芝SILICONE株式会社制“TSL8117”)投入至高速流动式混合混炼机(KAWATA株式会社制“SMG300”),以34.5m/秒的旋转圆周速度进行高速混合,得到表面处理氧化钛,通过球磨机将该表面处理氧化钛分散于甲醇/1-丙醇的混合溶剂中,由此制成疏水化处理氧化钛的分散浆液。将该分散浆液与甲醇/1-丙醇/甲苯的混合溶剂以及共聚聚酰胺的颗粒进行加热并同时搅拌、进行混合,将聚酰胺颗粒溶解后,进行超声波分散处理,由此制成甲醇/1-丙醇/甲苯的重量比为7/1/2、疏水性处理氧化钛/共聚聚酰胺的重量比为3/1、固体成分浓度为18.0%的底漆用分散液;所述共聚聚酰胺中,含有组成摩尔比率为75%/9.5%/3%/9.5%/3%的ε己内酰胺/二(4-氨基-3-甲基环己基)甲烷/六亚甲基二胺/十亚甲基二羧酸/十八亚甲基二羧酸。
(电荷产生层用分散液的调制)
将10重量份氧钛酞菁(该氧钛酞菁在基于CuKα线的X-线衍射中,在布拉格角(2θ±0.2)为27.3°处表现出最大衍射峰)加入至150重量份1,2-二甲氧基乙烷中,利用砂磨机对其进行粉碎分散处理,从而调制颜料分散液。
在160重量份该颜料分散液中,加入100重量份如下的粘合剂溶液、适量的1,2-二甲氧基乙烷和适量的4-甲氧基-4-甲基-2-戊酮,从而制成固体成分浓度为4.0重量%、1,2-二甲氧基乙烷∶4-甲氧基-4-甲基-2-戊酮=9∶1的电荷产生层用分散液β1;所述粘合剂溶液是将5重量份聚乙烯醇缩丁醛(电气化学工业株式会社制,商品名“Denka Butyral#6000C”)溶解于95重量份1,2-二甲氧基乙烷中而得到的,其固体成分浓度为5重量%。
将10重量份氧钛酞菁加入至150重量份1,2-二甲氧基乙烷中,并用砂磨机对其进行粉碎分散处理,从而调制颜料分散液;所述氧钛酞菁在基于CuKα线的X-线衍射中,在布拉格角(2θ±0.2)为9.3°、10.6°、13.2°、15.1°、15.7°、16.1°、20.8°、23.3°、26.3°、27.1°处表现出强衍射峰。
在160重量份该颜料分散液中,加入100重量份粘合剂溶液、适量的1,2-二甲氧基乙烷和适量的4-甲氧基-4-甲基-2-戊酮,从而制成固体成分浓度为4.0重量%、1,2-二甲氧基乙烷∶4-甲氧基-4-甲基-2-戊酮=9∶1的电荷产生层用分散液β2;所述粘合剂溶液是将5重量份聚乙烯醇缩丁醛(电气化学工业株式会社制,商品名“Denka Butyral#6000C”)溶解于95重量份1,2-二甲氧基乙烷中而得到的,其固体成分浓度为5重量%。
将电荷产生层用分散液β1和电荷产生层用分散液β2以8∶2的比率混合,调制电荷产生层用分散液β。
(感光体的制造)
实施例18
将表面被粗切割(Rmax=0.8)的外径为30mm、长为254mm、厚为0.75mm的由铝合金制成的圆筒置于先前调制的底漆层用分散液中进行浸渍涂布,形成膜厚约为1.3μm的底漆层。将该圆筒置于先前调制的电荷产生层用分散液β中进行浸渍涂布,形成干燥后的重量为0.3g/m2(膜厚约为0.3μm)的电荷产生层。
然后,将该形成有电荷产生层的圆筒置于下述液体中进行浸渍涂布,由此设置干燥后的膜厚为25μm的电荷传输层。将如此得到的感光体鼓作为G3,所述液体是将50重量份含有以上述电荷传输物质(1)为主成分的异构体混合物的电荷传输物质、100重量份作为电荷传输层用粘合剂树脂的由制造例7制造的聚酯树脂(树脂G)、0.05重量份硅油(信越化学社制,商品名KF96)溶解于640重量份四氢呋喃/甲苯混合溶剂(四氢呋喃80重量%、甲苯20重量%)中而得到的液体。
比较例14
除了使用制造例8的聚酯树脂(树脂H)作为聚酯树脂之外,与实施例18同样地操作来制造感光体鼓H3。
实施例19
除了使用制造例10的聚酯树脂(树脂J)作为聚酯树脂之外,与实施例18同样地操作来制造感光体鼓J3。
实施例20
除了使用制造例11的聚酯树脂(树脂K)作为聚酯树脂之外,与实施例18同样地操作来制造感光体鼓K3。
比较例15
除了使用制造例13的聚酯树脂(树脂M)作为聚酯树脂之外,与实施例18同样地操作来制造感光体鼓M3。
然后,将这些感光体(G3、H3、J3、K3、M3)装配于市售的单色激光打印机(Lexmark公司制,Optra S2450,A4纵向进纸,24张/分钟,施加DC的辊充电,辊转印),在常温和常湿下打印30000张。由打印前后的膜厚的差来计算每打印10000张的膜减少量。结果如表4所示。
[表4]
Figure G2008101461527D00521
由表4的结果可知,感光体(G3、J3、K3)的耐印刷试验中的磨损量较小,耐印刷性优异。
实施例21
对表面被粗切割(Rmax=1.0)的外径为30mm、长为346mm、厚为1.0mm的由铝合金制成的圆筒的表面进行阳极氧化处理,然后,通过以乙酸镍为主成分的封孔剂进行封孔处理,由此形成约6μm的阳极氧化涂膜(耐酸铝涂膜)。
将该圆筒置于先前调制的底漆层用分散液中进行浸渍涂布,形成干燥后的膜厚约为1.3μm的底漆层。进一步将该圆筒置于先前制备的电荷产生层用分散液β1中进行浸渍涂布,形成干燥后的重量为0.3g/m2(膜厚约为0.3μm)的电荷产生层。
然后,将该形成有电荷产生层的圆筒置于下述液体中进行浸渍涂布,由此设置干燥后的膜厚为25μm的电荷传输层。将如此得到的感光体鼓作为J4,所述液体是将30重量份含有以上述电荷传输物质(1)为主成分的异构体混合物的电荷传输物质、4重量份抗氧化剂(ciba-geigy公司制,Irganox1076)、100重量份作为电荷传输层用粘合剂树脂的由制造例10制造的聚酯树脂(树脂J)、0.05重量份硅油(信越化学社制,商品名KF96)溶解于640重量份四氢呋喃/甲苯混合溶剂(四氢呋喃80重量%、甲苯20重量%)中而得到的液体。
比较例16
除了使用制造例13的聚酯树脂(树脂M)作为聚酯树脂之外,与实施例21同样地操作来制造感光体鼓M4。
实施例22
除了改用含有与树脂J相同的重复结构单元的粘度平均分子量Mv为41000的树脂JA作为聚酯树脂之外,与实施例21同样地操作来制造感光体鼓J4A。
实施例23
除了改用含有与树脂J相同的重复结构单元的粘度平均分子量Mv为31500的树脂JB作为聚酯树脂之外,与实施例21同样地操作来制造感光体鼓J4B。
比较例17
除了改用以双酚Z为重复单元的聚碳酸酯树脂(三菱GAS化学社制,PCZ-400、粘度平均分子量Mv约为40000)来替代聚酯树脂之外,与实施例21同样地操作来制造感光体鼓Z4。
将这些感光体(J4、J4A、J4B、M4、Z4)装配于市售的数码复合机(Panasonic Communications公司制,WORKIO3200,A4横向进纸,32张/分钟,施加交流重叠直流电压的辊充电,单组分磁性跳动显影,分辨率为600dpi×600dpi),在常温和常湿下打印30000张。由打印前后的膜厚的差来计算每打印10000张的膜减少量。结果如表5所示。
[表5]
Figure G2008101461527D00541
由表5的结果可知,感光体(J4、J4A、J4B)的耐印刷试验中的磨损量较小,耐印刷性优异。
实施例24
将表面被粗切割(Rmax=1.2)的外径为30mm、长为350mm、厚为1.0mm的由铝合金制成的圆筒置于先前调制的底漆层用分散液中进行浸渍涂布,形成膜厚约为2μm的底漆层。将该圆筒置于先前制备的电荷产生层用分散液β1中进行浸渍涂布,形成干燥后的重量为0.3g/m2(膜厚约为0.3μm)的电荷产生层。
然后,将该形成有电荷产生层的圆筒置于下述液体中进行浸渍涂布,由此设置干燥后的膜厚为26μm的电荷传输层。将如此得到的感光体鼓作为A5,所述液体是将50重量份含有以上述电荷传输物质(1)为主成分的异构体混合物的电荷传输物质、100重量份作为电荷传输层用粘合剂树脂的由制造例1制造的聚酯树脂(树脂A)、0.05重量份硅油(信越化学社制,商品名KF96)溶解于640重量份四氢呋喃/甲苯混合溶剂(四氢呋喃80重量%、甲苯20重量%)中而得到的液体。
实施例25
除了改用含有与树脂J相同的重复结构单元的粘度平均分子量Mv为41000的树脂JA作为聚酯树脂之外,与实施例24同样地操作来制造感光体鼓J5A。
比较例18
除了改用以双酚Z为重复单元的聚碳酸酯树脂(三菱GAS化学社制,PCZ-400、粘度平均分子量Mv约为40000)来替代聚酯树脂之外,与实施例24同样地操作来制造感光体鼓Z5。
比较例19
除了改用下述结构的聚碳酸酯树脂ZBp(粘度平均分子量Mv约为40500)来替代聚酯树脂之外,与实施例24同样地操作来制造感光体鼓ZBp5。
[化52]
将这些感光体(A5、J5A、Z5、ZBp5)装配于市售的数码复合机(Minolta公司制,DiALTA Di350,A4横向进纸,35张/分钟,充电电晕管充电,双组分显影,分辨率为600dpi×600dpi),在常温和常湿下打印50000张。由打印前后的膜厚的差来计算每打印10000张的膜减少量。结果如表6所示。
[表6]
Figure G2008101461527D00561
由表6的结果可知,感光体(A5、J5A)的耐印刷试验中的磨损量较小,耐印刷性优异。
此外,通过下述制造方法制造了6种聚酯树脂(树脂Z~树脂ZE)。
制造例31(树脂Z)
将氢氧化钠(7.20g)和H2O(282mL)称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加BP-1(17.40g),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后,将苄基三乙基氯化铵(0.1798g)和2,3,5-三甲基苯酚(0.3421g)依次加入至反应槽中。
另外,将二苯基醚-4,4’-二酰氯(10.21g)、对酞酰氯(4.22g)、异酞酰氯(2.81g)和二氯甲烷(141mL)的混合溶液转移至滴液漏斗内。
将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌4小时后,加入二氯甲烷(235mL),持续搅拌8小时。然后,加入乙酸(2.61mL)并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以0.1N氢氧化钠溶液(283mL)洗涤2次,然后以0.1N盐酸(283mL)洗涤2次,进一步以H2O(283mL)洗涤2次。
将洗涤后的有机层注入至甲醇(1880mL)中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到目的树脂Z。所得到的树脂Z的粘度平均分子量为47100。树脂Z的重复结构如下所示。
[化53]
Figure G2008101461527D00571
制造例32(树脂ZA)
将氢氧化钠(7.01g)和H2O(282mL)称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加BP-m(17.74g),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后,将苄基三乙基氯化铵(0.1751g)和2,3,5-三甲基苯酚(0.3330g)依次加入至反应槽中。
另外,将二苯基醚-4,4’-二酰氯(9.94g)、对酞酰氯(4.10g)、异酞酰氯(2.74g)和二氯甲烷(141mL)的混合溶液转移至滴液漏斗内。
将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌4小时后,加入二氯甲烷(235mL),持续搅拌8小时。然后,加入乙酸(2.54mL)并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以0.1N氢氧化钠溶液(283mL)洗涤2次,然后以0.1N盐酸(283mL)洗涤2次,进一步以H2O(283mL)洗涤2次。
将洗涤后的有机层注入至甲醇(1880mL)中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到目的树脂ZA。所得到的树脂ZA的粘度平均分子量为36200。树脂ZA的重复结构如下所示。
[化54]
Figure G2008101461527D00572
制造例33(树脂ZB)
将氢氧化钠(10.80g)和H2O(423mL)称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加BP-1(26.10g),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后,将苄基三乙基氯化铵(0.2698g)和2,3,5-三甲基苯酚(0.5131g)依次加入至反应槽中。
另外,将二苯基醚-4,4’-二酰氯(15.32g)、对酞酰氯(10.54g)和二氯甲烷(211mL)的混合溶液转移至滴液漏斗内。
将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌4小时后,加入二氯甲烷(352mL),持续搅拌8小时。然后,加入乙酸(3.92mL)并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以0.1N氢氧化钠溶液(424mL)洗涤2次,然后以0.1N盐酸(424mL)洗涤2次,进一步以H2O(424mL)洗涤2次。
将洗涤后的有机层注入至甲醇(2820mL)中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到目的树脂ZB。所得到的树脂ZB的粘度平均分子量为41200。树脂ZB的重复结构如下所示。
[化55]
Figure G2008101461527D00581
制造例34(树脂ZC)
将氢氧化钠(10.80g)和H2O(423mL)称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加BP-1(26.10g),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后,将苄基三乙基氯化铵(0.2698g)和2,3,5-三甲基苯酚(0.5131g)依次加入至反应槽中。
另外,将二苯基醚-4,4’-二酰氯(15.32g)、异酞酰氯(10.54g)和二氯甲烷(211mL)的混合溶液转移至滴液漏斗内。
将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌4小时后,加入二氯甲烷(352mL),持续搅拌8小时。然后,加入乙酸(3.92mL)并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以0.1N氢氧化钠溶液(424mL)洗涤2次,然后以0.1N盐酸(424mL)洗涤2次,进一步以H2O(424mL)洗涤2次。
将洗涤后的有机层注入至甲醇(2820mL)中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到目的树脂ZC。所得到的树脂ZC的粘度平均分子量为40600。树脂ZC的重复结构如下所示。
[化56]
Figure G2008101461527D00591
制造例35(树脂ZD)
将氢氧化钠(10.50g)和H2O(423mL)称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加BP-m(26.57g),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后,将苄基三乙基氯化铵(0.2623g)和对叔丁基苯酚(0.5503g)依次加入至反应槽中。
另外,将二苯基醚-4,4’-二酰氯(14.90g)、对酞酰氯(10.25g)和二氯甲烷(211mL)的混合溶液转移至滴液漏斗内。
将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。在进行聚合的同时,在有机层中出现不溶成分,没能进行树脂ZD的取出和精制。树脂ZD的重复结构如下所示。
[化57]
Figure G2008101461527D00592
制造例36(树脂ZE)
将氢氧化钠(10.50g)和H2O(423mL)称取至500mL烧杯中,边搅拌边使其溶解。在其中添加BP-m(26.57g),并进行搅拌,使其溶解后,将该碱溶液转移至1L反应槽中。然后,将苄基三乙基氯化铵(0.2623g)和对叔丁基苯酚(0.5503g)依次加入至反应槽中。
另外,将二苯基醚-4,4’-二酰氯(14.90g)、异酞酰氯(10.25g)和二氯甲烷(211mL)的混合溶液转移至滴液漏斗内。
将聚合槽的外温保持于20℃,搅拌反应槽内的碱溶液,并同时通过滴液漏斗用1小时的时间来滴加二氯甲烷溶液。进一步地持续搅拌4小时后,加入二氯甲烷(352mL),持续搅拌8小时。然后,加入乙酸(3.81mL)并搅拌30分钟,随后停止搅拌,分离有机层。将该有机层以0.1N氢氧化钠溶液(424mL)洗涤2次,然后以0.1N盐酸(424mL)洗涤2次,进一步以H2O(424mL)洗涤2次。
将洗涤后的有机层注入至甲醇(2820mL)中,得到沉淀物,将该沉淀物过滤取出,进行干燥,得到目的树脂ZE。得到的树脂ZE的粘度平均分子量为41100。树脂ZE的重复结构如下所示。
[化58]
实施例26,27、比较例20~25
使用树脂JA、JB、Z、ZA、ZB、ZC、ZD、ZE来制备感光体片,进行电气特性试验和磨损试验。结果如表7所示。
[表7]
Figure G2008101461527D00602
由表7的结果可知,感光体片(JA1、JB1)的电气特性试验和磨损试验中的磨损量较小,其是优异的。
另外,本申请要求2004年7月16日提出的日本申请(特愿2004-210571)的优先权,本文通过引用的方式援用其全部内容。

Claims (13)

1.一种电子照相感光体,其特征在于,所述电子照相感光体具有导电性基体和设置于所述导电性基体上的感光层,所述感光层含有聚酯树脂,该聚酯树脂具有下述通式(5)所示的重复结构,并且粘度平均分子量Mv为10000~300000;
[化5]
Figure FFW00000081403200011
通式(5)中,{a/(a+b)}>0.7;
通式(5)中,A为具有下述通式(A)所示结构的化合物,
[化6]
Figure FFW00000081403200012
通式(A)中,Ra1、Ra2各自独立地为氢原子、或碳原子数为1~8的烷基,n、m各自独立地为0~4的整数;
通式(5)中,F为具有下述通式(F)所示结构的化合物,
[化11]
通式(F)中,X2表示单键、-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-CO-、-CH2-、-CH(CH3)-、-C(CH3)2-或环亚己基,R7、R8各自独立地表示氢原子、碳原子数为1~8的烷基、苯基、萘基、卤基或甲氧基、乙氧基,k和l各自独立地表示1~4的整数;
通式(5)中,G为具有下述通式(G)所示结构的化合物,
[化12]
通式(G)中,X3表示饱和脂肪烃的二价基团或亚芳基。
2.如权利要求1所述的电子照相感光体,其特征在于,所述通式(5)中的A衍生自二苯基醚二羧酸。
3.如权利要求1所述的电子照相感光体,其特征在于,所述通式(5)中的A衍生自二苯基醚-2,2’-二羧酸、二苯基醚-2,4’-二羧酸或二苯基醚-4,4’-二羧酸。
4.如权利要求1所述的电子照相感光体,其特征在于,所述通式(5)中的A衍生自二苯基醚-4,4’-二羧酸。
5.如权利要求1所述的电子照相感光体,其特征在于,所述通式(5)中的G衍生自芳香族二羧酸。
6.如权利要求1所述的电子照相感光体,其特征在于,所述通式(5)中的G衍生自异酞酸或对酞酸。
7.如权利要求1所述的电子照相感光体,其特征在于,所述通式(5)中的F为具有下述通式(B)~通式(E)中的任意一种结构的化合物,
通式(B)中,R1、R2各自独立地表示氢原子、碳原子数为1~8的烷基、苯基、萘基、卤基、甲氧基或乙氧基;
Figure FFW00000081403200023
通式(C)中,R3、R4各自独立地表示氢原子、碳原子数为1~8的烷基、苯基、萘基、卤基、甲氧基或乙氧基;
Figure FFW00000081403200031
通式(D)中,X1表示-CH2-、-CH(CH3)-、-C(CH3)2-或环亚己基;
Figure FFW00000081403200032
通式(E)中,R5、R6各自独立地表示氢原子、碳原子数为1~8的烷基、苯基、萘基、卤基、甲氧基或乙氧基。
8.一种感光体盒,其装配于图像形成装置中,其特征在于,所述感光体盒具有权利要求1所述的电子照相感光体,并且具有选自下述装置中的至少1种装置:充电装置,其对所述电子照相感光体进行充电使其带有规定电位;显影装置,其向所述电子照相感光体的表面供给调色剂;以及清洁装置,其将附着于该电子照相感光体表面的残留调色剂刮落、回收。
9.一种图像形成装置,其特征在于,所述图像形成装置具有:
权利要求1所述的电子照相感光体;
使所述电子照相感光体带电的充电装置;
在所述电子照相感光体的感光面上形成静电潜像的曝光装置;
向所述电子照相感光体的表面供给调色剂的显影装置;
将形成于所述电子照相感光体的调色剂图像转印于记录纸的转印装置;
将被转印的调色剂像定影于所述记录纸的定影装置。
10.一种电子照相感光体,其特征在于,所述电子照相感光体具有导电性基体和设置于所述导电性基体上的感光层,所述感光层含有聚酯树脂,该聚酯树脂具有下述通式(5)所示的至少一种重复结构;
[化5]
Figure FFW00000081403200041
通式(5)中,{a/(a+b)}>0.7;
通式(5)中,A为衍生自二苯基醚-4,4’-二羧酸的化合物;
通式(5)中,F为具有下述通式(F)所示结构的化合物,
[化11]
Figure FFW00000081403200042
通式(F)中,X2表示单键、-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-CO-、-CH2-、-CH(CH3)-、-C(CH3)2-或环亚己基,R7、R8各自独立地表示氢原子、碳原子数为1~8的烷基、苯基、萘基、卤基或甲氧基、乙氧基,k和l各自独立地表示1~4的整数;
通式(5)中,G为具有下述通式(G)所示结构的化合物,
[化12]
Figure FFW00000081403200043
通式(G)中,X3表示饱和脂肪烃的二价基团或亚芳基。
11.如权利要求10所述的电子照相感光体,其特征在于,所述通式(5)中的G衍生自芳香族二羧酸。
12.如权利要求10所述的电子照相感光体,其特征在于,所述通式(5)中的G衍生自异酞酸或对酞酸。
13.如权利要求10所述的电子照相感光体,其特征在于,所述通式(5)中的F为具有下述通式(B)~通式(E)中的任意一种结构的化合物,
Figure FFW00000081403200044
通式(B)中,R1、R2各自独立地表示氢原子、碳原子数为1~8的烷基、苯基、萘基、卤基、甲氧基或乙氧基;
Figure FFW00000081403200051
通式(C)中,R3、R4各自独立地表示氢原子、碳原子数为1~8的烷基、苯基、萘基、卤基、甲氧基或乙氧基;
Figure FFW00000081403200052
通式(D)中,X1表示-CH2-、-CH(CH3)-、-C(CH3)2-或环亚己基;
Figure FFW00000081403200053
通式(E)中,R5、R6各自独立地表示氢原子、碳原子数为1~8的烷基、苯基、萘基、卤基、甲氧基或乙氧基。
CN2008101461527A 2004-07-16 2005-07-15 电子照相感光体 Active CN101334592B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004210571 2004-07-16
JP2004210571 2004-07-16
JP2004-210571 2004-07-16

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2005800240184A Division CN1985218B (zh) 2004-07-16 2005-07-15 电子照相感光体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101334592A CN101334592A (zh) 2008-12-31
CN101334592B true CN101334592B (zh) 2013-11-06

Family

ID=35785236

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2008101461527A Active CN101334592B (zh) 2004-07-16 2005-07-15 电子照相感光体
CN2005800240184A Active CN1985218B (zh) 2004-07-16 2005-07-15 电子照相感光体

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2005800240184A Active CN1985218B (zh) 2004-07-16 2005-07-15 电子照相感光体

Country Status (7)

Country Link
US (3) US7604913B2 (zh)
EP (2) EP2154575B1 (zh)
JP (3) JP2010160516A (zh)
KR (2) KR101220578B1 (zh)
CN (2) CN101334592B (zh)
DE (1) DE602005026946D1 (zh)
WO (1) WO2006009126A1 (zh)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005024521A1 (ja) 2003-09-02 2005-03-17 Mitsubishi Chemical Corporation 電子写真感光体
JP4655940B2 (ja) * 2005-01-05 2011-03-23 三菱化学株式会社 電子写真感光体
WO2007078006A1 (ja) * 2006-01-06 2007-07-12 Mitsubishi Chemical Corporation 電子写真感光体並びにそれを用いた画像形成装置及び電子写真感光体カートリッジ
WO2008153084A1 (ja) * 2007-06-11 2008-12-18 Mitsubishi Chemical Co., Ltd. 電子写真感光体、電子写真感光体カートリッジ及び画像形成装置
JP5481829B2 (ja) * 2008-10-16 2014-04-23 三菱化学株式会社 電子写真感光体、並びにそれを備えたカートリッジ及び画像形成装置
JP5578398B2 (ja) * 2009-06-02 2014-08-27 株式会社リコー トナー担持体、現像装置及び画像形成装置
ES2642061T3 (es) 2010-04-16 2017-11-15 Valspar Sourcing, Inc. Composiciones de recubrimiento para artículos de envasado y métodos de recubrimiento
KR20140048854A (ko) 2011-02-07 2014-04-24 발스파 소싱 인코포레이티드 용기 및 기타 물품을 위한 코팅 조성물 및 코팅 방법
EP2889689B1 (en) 2011-03-04 2016-12-14 Mitsubishi Chemical Corporation Charge transport substance, electrophotographic photoreceptor, electrophotographic photoreceptor cartridge, and image-forming apparatus
WO2013128575A1 (ja) * 2012-02-28 2013-09-06 富士電機株式会社 電子写真用感光体、その製造方法および電子写真装置、並びに共重合ポリアリレート樹脂の製造方法
KR20150040281A (ko) 2012-07-31 2015-04-14 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 전자 사진 감광체, 전자 사진 감광체 카트리지, 화상 형성 장치, 및 트리아릴아민 화합물
JP6135369B2 (ja) * 2012-07-31 2017-05-31 三菱化学株式会社 電子写真感光体、電子写真感光体カートリッジ、及び画像形成装置
KR102248624B1 (ko) 2012-08-09 2021-05-06 에스더블유아이엠씨 엘엘씨 용기 및 기타 물품용 조성물 및 이의 사용 방법
BR112015002731B1 (pt) 2012-08-09 2021-11-30 Swimc Llc Sistema de revestimento de múltiplas camadas, artigo, e, método
JP6168905B2 (ja) * 2012-09-28 2017-07-26 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置
JP5899158B2 (ja) * 2013-05-31 2016-04-06 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 電子写真感光体及び画像形成装置
KR102429146B1 (ko) 2014-04-14 2022-08-04 에스더블유아이엠씨 엘엘씨 용기 및 기타 물품용 조성물의 제조방법 및 상기 조성물의 사용 방법
US9645516B2 (en) * 2014-11-19 2017-05-09 Canon Kabushiki Kaisha Electrophotographic photosensitive member, process cartridge and electrophotographic apparatus
JP6463094B2 (ja) * 2014-11-25 2019-01-30 三菱重工業株式会社 接合装置及び接合方法
CN107428922B (zh) 2015-03-23 2021-06-01 三菱化学株式会社 电子照相感光体及图像形成装置
TWI614275B (zh) 2015-11-03 2018-02-11 Valspar Sourcing Inc 用於製備聚合物的液體環氧樹脂組合物
JP6658473B2 (ja) * 2016-08-10 2020-03-04 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 ポリアリレート樹脂及び電子写真感光体
JP6579073B2 (ja) * 2016-09-29 2019-09-25 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 電子写真感光体
US10848422B2 (en) 2016-12-13 2020-11-24 Napatech A/S System and a method for handling data
CN113845534B (zh) * 2021-09-24 2022-10-18 江南大学 一种极灵敏水相检测高锰酸根发光晶体材料的制备方法和应用

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4284699A (en) * 1977-02-14 1981-08-18 Eastman Kodak Company Polyester binder component in multilayer photoconductive element

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1287028A (en) * 1969-05-19 1972-08-31 Eastman Kodak Co Photoconductive compositions
JPS5098332A (zh) 1973-12-26 1975-08-05
US4173472A (en) * 1976-06-15 1979-11-06 Eastman Kodak Company Polyester interlayer and binder component in multilayer photoconductive element
CA1129426A (en) * 1977-11-28 1982-08-10 Suzanne P. Clark Photoconductive compositions
JPS56135844A (en) 1980-03-26 1981-10-23 Mitsubishi Paper Mills Ltd Electrophotographic receptor
JPS5971057A (ja) 1982-10-18 1984-04-21 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 電子写真用感光体
JPS59184251A (ja) 1983-04-04 1984-10-19 Toray Ind Inc 樹脂組成物
JPH0718978B2 (ja) 1987-07-15 1995-03-06 三菱電機株式会社 反射鏡スパイダ支持構造体
JPH036567A (ja) 1989-06-02 1991-01-14 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 電子写真感光体
JPH0521478A (ja) 1991-07-15 1993-01-29 Hitachi Ltd 半導体ペレツト
JP3250295B2 (ja) 1992-04-16 2002-01-28 三菱化学株式会社 電子写真感光体
JPH08234468A (ja) * 1995-02-24 1996-09-13 Konica Corp 電子写真感光体
US6030734A (en) * 1996-03-11 2000-02-29 Mitsubishi Chemical Corporation Electrophotographic photoreceptor containing charge-transporting material with butadiene structure
JP3584600B2 (ja) * 1996-03-11 2004-11-04 三菱化学株式会社 電子写真感光体
JP3537065B2 (ja) * 1996-07-01 2004-06-14 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP4259628B2 (ja) 1997-04-16 2009-04-30 三菱化学株式会社 電子写真感光体
JP2000258931A (ja) 1999-03-09 2000-09-22 Kyocera Mita Corp 電子写真感光体
US6482560B2 (en) * 1999-12-20 2002-11-19 Mitsubishi Chemical Corporation Electrophotographic photoreceptor
JP3868180B2 (ja) * 2000-03-22 2007-01-17 三菱化学株式会社 電子写真感光体
JP3835153B2 (ja) * 2000-10-13 2006-10-18 三菱化学株式会社 電子写真感光体
JP3901547B2 (ja) 2001-03-07 2007-04-04 三菱化学株式会社 電子写真感光体
JP4032213B2 (ja) 2001-03-14 2008-01-16 三菱化学株式会社 電子写真感光体用アリールアミン組成物および当該組成物を使用した電子写真感光体
JP3797168B2 (ja) 2001-09-20 2006-07-12 富士ゼロックス株式会社 画像形成方法
JP2003122034A (ja) 2001-10-17 2003-04-25 Kyocera Mita Corp 電子写真感光体
JP4214903B2 (ja) 2002-12-06 2009-01-28 三菱化学株式会社 電子写真感光体

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4284699A (en) * 1977-02-14 1981-08-18 Eastman Kodak Company Polyester binder component in multilayer photoconductive element

Also Published As

Publication number Publication date
EP2154575A2 (en) 2010-02-17
CN1985218A (zh) 2007-06-20
KR101220765B1 (ko) 2013-01-09
CN101334592A (zh) 2008-12-31
JP5527467B2 (ja) 2014-06-18
EP1770447B1 (en) 2011-03-16
CN1985218B (zh) 2012-09-05
KR101220578B1 (ko) 2013-01-10
DE602005026946D1 (de) 2011-04-28
KR20070041517A (ko) 2007-04-18
JP2010191456A (ja) 2010-09-02
EP2154575A8 (en) 2010-08-04
US20080063963A1 (en) 2008-03-13
US7985522B2 (en) 2011-07-26
JP2014002401A (ja) 2014-01-09
JP4978711B2 (ja) 2012-07-18
US20090047589A1 (en) 2009-02-19
US7604913B2 (en) 2009-10-20
EP1770447A4 (en) 2009-04-01
KR20120025635A (ko) 2012-03-15
JP2010160516A (ja) 2010-07-22
EP1770447A1 (en) 2007-04-04
EP2154575B1 (en) 2014-12-24
EP2154575A3 (en) 2013-04-03
WO2006009126A1 (ja) 2006-01-26
US20110013934A1 (en) 2011-01-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101334592B (zh) 电子照相感光体
JP4517964B2 (ja) 電子写真感光体
WO2014021341A1 (ja) 電子写真感光体、電子写真感光体カートリッジ、画像形成装置、及びトリアリールアミン化合物
JP2008293006A (ja) 電子写真感光体
JP6380124B2 (ja) 電子写真感光体、画像形成装置、及びポリエステル樹脂
CN100465799C (zh) 电子照相感光体、包括该电子照相感光体的转鼓盒和成像装置
JP4419873B2 (ja) 光導電性材料、並びにそれを用いた電子写真感光体、電子写真感光体カートリッジ及び画像形成装置
CN100474127C (zh) 电子照相感光体
JP5741180B2 (ja) 電子写真感光体、電子写真カートリッジ、及び画像形成装置
CN100442145C (zh) 电子照相感光体
JP5659455B2 (ja) 電子写真感光体、電子写真感光体カートリッジ、および、画像形成装置
JP6070261B2 (ja) 電子写真感光体、電子写真カートリッジ、及び画像形成装置
JP4661575B2 (ja) 電子写真感光体、該感光体を用いる電子写真カートリッジ、及び該感光体を用いる画像形成装置
JP2014095867A (ja) 電子写真感光体及び画像形成装置
JP4475065B2 (ja) 電子写真感光体
JP6024415B2 (ja) 電子写真感光体、該感光体を用いる電子写真カートリッジ、及び該感光体を用いる画像形成装置
JP2013097270A (ja) 電子写真感光体、電子写真感光体カートリッジ、および画像形成装置
JP2007213039A (ja) 電子写真感光体、電子写真感光体カートリッジ及び画像形成装置
JP5353083B2 (ja) 電子写真感光体および該感光体を用いた画像形成装置
JP5103949B2 (ja) ヒドラゾン系化合物、電子写真感光体及び画像形成装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: Tokyo, Japan

Patentee after: MITSUBISHI CHEMICAL Corp.

Address before: Tokyo, Japan

Patentee before: MITSUBISHI RAYON Co.,Ltd.

CP01 Change in the name or title of a patent holder
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20170927

Address after: Tokyo, Japan

Patentee after: MITSUBISHI RAYON Co.,Ltd.

Address before: Tokyo, Japan

Patentee before: MITSUBISHI CHEMICAL Corp.

TR01 Transfer of patent right