WO2007007370A1 - 基材コーティング装置及び方法 - Google Patents

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slurry
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PCT/JP2005/012555
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Tomoyuki Goshima
Shigeji Matsumoto
Kosuke Shinomiya
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Cataler Corporation,
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    • B01J35/50Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their shape or configuration
    • B01J35/56Foraminous structures having flow-through passages or channels, e.g. grids or three-dimensional monoliths
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B05D7/22Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to internal surfaces, e.g. of tubes

Definitions

  • the present invention relates to a substrate coating apparatus and method for extending a slurry in a large number of flow paths formed in parallel to a base material and covering the inner walls of the flow paths, and in particular, a catalyst base material for an exhaust gas purification catalyst. It is suitable for forming a catalyst by coating the inner wall of a Hercam channel formed in a monolith to be coated with a catalyst slurry.
  • a wash coating method is known as a method for coating a catalyst slurry on the inner wall of a her cam channel formed on a monolith as a catalyst substrate.
  • Patent Document 1 JP-A 63-51949
  • Patent Document 2 Special Table 2002-506720
  • FIG. 5 shows a coating apparatus using such a conventional washcoat method, and a storage section 52 formed on the upper end side of a monolith M in which two cam channels 51 are arranged to open up and down.
  • Slurry S is supplied from the slurry supply device 53 to the flow path 51 by supplying the pressurized air from the upper end side or sucking the air from the lower end side. Make sure to cover the inner wall of!
  • noble metals such as platinum may be contained in the slurry S, and only the necessary amount of slurry S used for coating the monolith M is supplied to the reservoir 52.
  • the slurry supply nozzle 54 should be as thin as possible in order to strictly control the amount of force supply that requires a certain thickness.
  • the slurry S is stored in a state where the supply nozzle 54 is raised (see FIG. 6 (a)).
  • the amount of slurry S is large in the central part and small in the peripheral part. However, even if the slurry ends up flowing into the peripheral honeycomb passage 51A, the slurry still flows into the central honeycomb passage 51B.
  • the h-cam channel 51A at the peripheral portion covers only half or less.
  • the central camber channel 51B may be covered with more than half of the length, resulting in uneven coating length.
  • the present invention provides a technique for uniformly covering all the flow paths formed in the base material without waste when supplying only the necessary amount of slurry for coating without excess or deficiency. It is a technical issue.
  • the present invention is a substrate coating apparatus that extends the slurry supplied to one end of a substrate on which a large number of flow paths are formed in parallel, into the flow path by air pressure to cover the inner wall of the flow path.
  • the slurry supply device for supplying a required amount of slurry to a slurry reservoir formed on an upper surface of a base material arranged so that both ends of the flow path are open to an upper surface and a bottom surface; And a liquid leveling mechanism for making the slurry level uniform before extending the slurry into the flow path.
  • a slurry supply device for a slurry reservoir formed on the upper surface of a substrate disposed such that both ends of the flow path open to the upper surface and the bottom surface.
  • the required amount of slurry is supplied from, and after the slurry liquid level is made uniform by the liquid leveling mechanism, the slurry is extended into the flow path.
  • the slurry supplied also with the slurry supply device force is, at that time, the force that rises in a mountain shape in the slurry reservoir, before the slurry is extended into the flow path, by the liquid level equalization mechanism, for example,
  • the surface of the slurry is made uniform by rotating the base material around its vertical vertical axis or vibrating the stored slurry.
  • the slurry reservoir force in each flow path is set so that the slurry does not flow into each flow path before leveling the liquid level. It is only necessary to provide an atmospheric pressure adjusting mechanism that adjusts the gravity of the slurry to flow in and the atmospheric pressure in the flow path, and switches between blocking and extending the slurry into the flow path.
  • the air pressure adjusting mechanism supplies air from the bottom surface side of the base material Z and sucks the air to apply positive pressure Z negative pressure in each flow path.
  • a removable packing that seals the channel opening on the bottom side of the substrate, and the packing.
  • An air handling device that sucks air in the channel with the kin open and supplies pressurized air from Z or the liquid surface side of the slurry reservoir is used.
  • the problem can be realized with a simple configuration by allowing highly viscous slurry to flow uniformly into any flow path without waste.
  • FIG. 1 is an explanatory view showing an example of a substrate coating apparatus according to the present invention
  • FIG. 2 is a process diagram showing an example of a substrate coating method according to the present invention
  • FIGS. 3 and 4 are other embodiments.
  • FIG. 1 is an explanatory view showing an example of a substrate coating apparatus according to the present invention
  • FIG. 2 is a process diagram showing an example of a substrate coating method according to the present invention
  • FIGS. 3 and 4 are other embodiments.
  • a substrate coating apparatus 1 shown in Fig. 1 is configured to inflow and extend catalyst slurry S by air pressure into a number of Hercom channels 2 ... formed in parallel with a monolith (catalyst substrate) M. It is intended to produce exhaust gas purifying catalyst by covering the inner wall 2w of the hard channel.
  • the substrate coating apparatus 1 includes a main body 3 for fixing the monolith M so that both ends of the her cam channel 2 open to the top surface and the bottom surface, and an attachment 4 on the upper end of the monolith M.
  • a slurry supply device 6 for supplying a required amount of slurry S to the slurry storage section 5 installed, a liquid level uniformizing mechanism 7 for making the slurry liquid surface uniform, and each flow path 2.
  • Gravity of slurry S trying to flow into and flow path 2 ⁇ Equipped with a pressure adjustment mechanism 8 that switches between blocking and extending the flow of slurry S in the flow path 2 of the slurry S.
  • the ceiling surface of the air chamber 9 whose internal pressure is controlled by the atmospheric pressure adjustment mechanism 8 is formed by a rotary table (base material rotation mechanism) 10 that supports the monolith M in a rotatable manner.
  • the rotary table 10 has gear teeth 10a formed on the outer peripheral surface thereof engaged with the gear teeth 12a of the drive gear 12 driven by the motor 11, and can mount the monolith M so as to be able to rotate around its penetrating vertical axis.
  • a liquid level homogenizing mechanism 7 is provided that makes the slurry one liquid level uniform by utilizing the centrifugal force.
  • the monolith M is fitted into a through-hole 10b formed in the rotary table 10 so that the upper end of the her cam channel 2 is opened outside the air chamber 9 and the lower end is opened inside the air chamber 9. It is fixed in the inserted state.
  • the attachment 4 serving as the slurry reservoir 5 is formed by a frustoconical surface having a lower end formed in the same shape and size as the upper end surface of the monolith M and fitted, and gradually spreading toward the upper end side. It is.
  • the slurry supply device 6 is set to accurately measure and supply a predetermined amount of slurry S.
  • the air pressure adjusting mechanism 8 is configured by using an air handling device 13 that supplies air Z, sucks air, and applies positive pressure Z negative pressure in each flow path 2... More specifically, It is equipped with an air pump 14 that performs air suction and discharge, and a switching valve CV that switches air supply Z suction to the air chamber 9.
  • the switching valve CV is a three-position valve that switches and connects the suction side 14in and the discharge side 14out of the air pump 14 to the atmosphere opening port 15 and the air supply / exhaust pipe 16, and the atmosphere opening port 15 at the first position P.
  • the air sucked from the air is supplied to the air chamber 9 to apply a positive pressure to the flow path 2..., and the air supply / exhaust pipe 16 is shut off at the second position P to maintain the internal pressure of the air chamber 9.
  • the air in the air chamber 9 is forcibly discharged and negative pressure is applied to the flow path 2.
  • a relief valve 18 is installed in the pipe 17 branched from the supply / exhaust pipe 16, and is released when the internal pressure of the air channel exceeds the set pressure, allowing the internal air to escape and maintaining the internal pressure at the set pressure. It is made to do.
  • the slurry supply device 6 is used to cover the slurry S over the entire length of all of the hard cam channels 2 to the slurry storage section 5.
  • the minimum required amount of slurry S to be supplied is supplied, but the slurry S has a certain degree of viscosity, so that the slurry reservoir 5 is raised.
  • the switching valve CV of the atmospheric pressure adjusting mechanism 8 is set to the first position P, and air is supplied into the air chamber 9 so that the slurry S does not flow into the hard cam channel 2. Apply positive pressure to each flow path 2 to a certain extent, and then switch the switching valve CV to the second position P.
  • the air in the air chamber 9 is sucked by setting the switching valve CV of the atmospheric pressure adjusting mechanism 8 to the third position P, as shown in FIG. 2 (c).
  • Slurry S is allowed to flow into the her cam channel 2.
  • the slurry S flows into each of the flow paths 2 in the same manner, and all the slurry S stored in the storage section 5 flows into the respective flow paths. At that time, as shown in FIG. 2 (d), the slurry S is clogged in the respective flow paths 2 by the same length.
  • the supply amount to the slurry reservoir 5 is adjusted according to the coating length. That's fine.
  • FIG. 3 shows another embodiment of the present invention.
  • a vibration is applied rather than a centrifugal force. Note that portions overlapping those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals and detailed description thereof is omitted.
  • the internal pressure is controlled by the atmospheric pressure adjustment mechanism 8.
  • a table 23 for fixing the monolith M is provided on the ceiling surface of the apparatus main body 22 in which the air chamber 9 is formed so that both ends of the her cam channel 2.
  • the liquid level uniformity mechanism 7 is composed of a vibrator (oscillation mechanism) 24 attached to the outer peripheral surface of the attachment 4 attached to the upper end of the monolith M, and the slurry S stored in a raised state is vibrated at low frequency.
  • the liquid level is made uniform by vibrating with high frequency vibration or ultrasonic vibration.
  • FIG. 4 shows still another embodiment.
  • the atmospheric pressure can be adjusted without supplying air to the her cam channel 2.
  • Parts common to those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals and detailed description thereof is omitted.
  • the base material coating apparatus 31 of this example has an detachable packing 32 that seals the bottom side opening of the her cam channel 2 as the atmospheric pressure adjusting mechanism 8, and the packing 32 is opened.
  • a air handling device 34 equipped with an air pump 33 for sucking the air in the her cam channel 2... Through the air chamber 9 is used!
  • an elevating base 35 disposed so as to be movable up and down in the air chamber 9 is rotatably attached to an elevating shaft 36, and a soft rubber is formed on the surface side of the base 35 via a sponge-like elastic body 37. 38 is provided, and this soft rubber 38 seals the opening of the her cam channel 2.
  • the air handling device is used in any slurry extension process.
  • the present invention is not limited to this, and the liquid level side of the slurry reservoir 5 is described. Whether you are supplying force-pressurized air or both.
  • the present invention is not limited to this, and the slurry is coated on the inner walls of a large number of flow paths formed in parallel on the substrate. If there is, it can be applied to various uses.
  • the slurry is allowed to flow into each flow path.
  • the same amount of slurry flows into the channel, and all the channels can be coated uniformly with the same length of slurry, and at the same time, even when the slurry is coated over the entire length of the channel No waste! / ⁇ and ⁇ ⁇ Has a very good effect.
  • the present invention can be applied to an application in which slurry is extended in a large number of flow paths formed in parallel to a base material to cover the inner walls of the flow paths. This is suitable for applications in which a catalyst slurry is formed on the inner wall of a honeycomb flow path formed in a monolith.
  • FIG. 1 is an explanatory view showing an example of a substrate coating apparatus according to the present invention.
  • FIG. 2 is an explanatory view showing an example of a substrate coating method according to the present invention.
  • FIG. 3 is an explanatory view showing another embodiment.
  • FIG. 4 is an explanatory view showing another embodiment.
  • FIG. 5 is an explanatory view showing a conventional device.
  • FIG. 6 is an explanatory diagram showing a conventional method.

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Abstract

 粘性の高いスラリーを被覆に使用する必要量だけ過不足なく供給したときでも、基材に形成されたどの流路に対しても均一に無駄なく被覆できるようにする。  多数の流路(2…)が並列形成された基材(M)の片端側に供給されたスラリー(S)を空気圧により流路(2…)内に伸展させて流路内壁(2w)を被覆する際に、流路(2…)の両端が上面及び底面に開口するように配された基材(M)に対し、その上面に形成されたスラリー貯留部(5)にスラリー供給装置(6)からスラリー(S)を所要量供給した後、スラリー(S)を流路(2…)内に伸展させる前に、液面均一化機構(7)によりスラリー(S)に遠心力や振動を作用させてスラリー液面を均一にするようにした。

Description

明 細 書
基材コーティング装置及び方法
技術分野
[0001] 本発明は、基材に並列形成された多数の流路内にスラリーを伸展させてその流路 内壁を被覆する基材コーティング装置及び方法に関し、特に、排ガス浄化用触媒の 触媒基材となるモノリスに形成されたハ-カム流路内壁に触媒用スラリーを被覆して 触媒を形成するのに好適である。
背景技術
[0002] 触媒基材となるモノリスに形成されたハ-カム流路内壁に触媒用スラリーを被覆す る方法としてゥォッシュコート法が知られている。
特許文献 1:特開昭 63— 51949号公報
特許文献 2:特表 2002— 506720号公報
[0003] 図 5はこのような従来のゥォッシュコート法によるコーティング装置を示すもので、ハ 二カム流路 51…が上下に開口するように配されたモノリス Mの上端側に形成された 貯留部 52にスラリー供給装置 53からスラリー Sを供給し、上端側から加圧空気を供 給したり、下端側力 空気を吸引することにより、スラリーを流路 51内に流入 Z伸展さ せて流路 51の内壁を被覆するようにして!/、る。
そして、最近ではスラリー Sに白金などの貴金属が含有することもあり、モノリス Mの 被覆に使用する必要量だけのスラリー Sを貯留部 52に供給するようにしている。
[0004] ところで、スラリー Sは粘性が高いものもあるため、スラリー供給ノズル 54はある程度 の太さが必要である力 供給量を厳密にコントロールためにはできるだけ細い方が望 ましい。そして、このような供給ノズル 54から貯留部 52に高粘性のスラリーが供給さ れると、スラリー Sは供給ノズル 54の真下が盛り上がった状態で貯留されてしまう(図 6 (a)参照)。
[0005] この状態で、上端側力 加圧空気を供給したり、下端側から空気を吸引すると、当 初は各流路 51 · · ·に均一にスラリー Sが流入して 、く(図 6 (b)参照)。
スラリー Sの量は、中央部分が多ぐ周縁部分が少ないので、周縁部分のスラリー S が周縁部分のハニカム流路 51Aに流入し終っても、中央部分のハニカム流路 51Bに はまだスラリーが流入して 、く。
[0006] そして、下端側力も空気を吸引することにより、最終的にスラリーをノヽ-カム流路 51 内に伸展させて被覆させたときに、その被覆長さ力 周縁部分のハ-カム流路 51A より中央部分のハ-カム流路 51Bの被覆長さが長くなつてしまう(図 6 (c)参照)。
[0007] したがって、例えば、ハ-カム流路 51の半分の長さまでスラリー Sを被覆しょうとして 必要量のスラリーを供給した場合、周縁部分のハ-カム流路 51Aは半分以下の長さ しか被覆されず、中央部分のハ-カム流路 51Bには半分以上の長さが被覆されてし まい、被覆長さが不均一になる。
同様に、モノリス Mの被覆に使用する必要量だけのスラリー Sを供給した場合、周縁 部分のハ-カム流路 51Aには十分な量のスラリー Sが流入されないため、ハ-カム 流路 51 Aは下端部まで被覆されず、中央部分のハ-カム流路 51Bからは余剰スラリ 一 Sが流出するという問題がある(図 6 (d)参照)。
[0008] このため、各ハ-カム流路 51の全長にわたって均一にスラリー Sを被覆させるため には、モノリス Mの被覆に使用する必要量よりかなり多量のスラリー Sを貯留部 52に 供給し、全てのハ-カム流路 51内にスラリー Sを過剰に充填して余剰スラリー Sを払 拭するという方法をとらざるをせざるを得ず、払拭された余剰スラリー Sは、これを回収 し、成分を調整し直してリサイクルしなければならず、その分、手間がかかっていた。 発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0009] そこで本発明は、スラリーを被覆に使用する必要量だけ過不足なく供給したときに、 基材に形成されたどの流路に対しても均一に無駄なく被覆できるようにすることを技 術的課題としている。
課題を解決するための手段
[0010] 本発明は、多数の流路が並列形成された基材の片端側に供給されたスラリーを空 気圧により流路内に伸展させて該流路内壁を被覆する基材コーティング装置におい て、前記流路の両端が上面及び底面に開口するように配された基材に対し、その上 面に形成されたスラリー貯留部にスラリーを所要量供給する前記スラリー供給装置と 、前記スラリーを流路内に伸展させる前にスラリー液面を均一にする液面均一化機構 とを備えたことを特徴として ヽる。
発明の効果
[0011] 本発明に係る基材コーティング装置によれば、流路の両端が上面及び底面に開口 するように配された基材に対し、その上面に形成されたスラリー貯留部に対しスラリー 供給装置からスラリーが所要量供給され、液面均一化機構によりスラリー液面が均一 にされた後、スラリーが流路内に伸展される。
すなわち、スラリー供給装置力も供給されたスラリーは、その時点では、スラリー貯 留部で山型に盛り上がつている力 スラリーを流路内に伸展させる前に、液面均一化 機構により、例えば、基材をその貫通鉛直軸回りに回転させたり、貯留されたスラリー を振動させたりして、スラリー液面が均一化される。
[0012] このようにして、貯留部において液面が均一化された後に、上端側から加圧空気を 作用させたり、下端側力 空気を吸引させたり、場合によっては加圧と吸引を同時に 行うことにより、それぞれの流路にスラリーを流入させれば、その時点で、それぞれの 流路に対する液面位置は等しいので、各流路には同量のスラリーが流入する。 したがって、例えば、各流路の全長にわたってスラリーをコーティングしょうとする場 合に、貯留部へスラリーを被覆に使用する必要量だけ過不足なく供給したときでも、 それぞれの流路に適正量のスラリーが流入伸展されるので、どの流路もその全長に わたってスラリーを被覆することができる。
[0013] また、スラリーは一般的にはそのままでは流路内に流入しない程度の粘性を有する 力 中には、重力のみで流路内に流入する程度に粘性の低いものもある。
このようなスラリーを使用する場合は、請求項 4に記載されているように、液面を均 一にする前にスラリーが各流路に流入しないように、スラリー貯留部力 各流路内に 流入しょうとするスラリーの重力と流路内の気圧を調整してスラリーの流路内への流 入阻止と伸展を切り換える気圧調整機構を備えておけばよい。
[0014] この気圧調整機構としては、請求項 5に記載されているように、基材底面側から空 気を供給 Z吸引して各流路内に正圧 Z負圧を作用させるエアハンドリング装置が用 いられていたり、基材底面側の流路開口部を密封する係脱可能なパッキンと、該パッ キンを開放した状態で流路内の空気を吸引し、及び Z又は、スラリー貯留部の液面 側から加圧空気を供給するエアハンドリング装置が用いられる。
発明を実施するための最良の形態
[0015] 本例では、粘性の高いスラリーをどの流路に対しても均一に無駄なく流入させてコ 一ティングすることができるようにすると 、う課題を、簡単な構成で実現した。
[0016] 図 1は本発明に係る基材コーティング装置の一例を示す説明図、図 2は本発明に 力かる基材コーティング方法の一例を示す工程図、図 3及び図 4は他の実施形態を 示す説明図である。
[0017] 図 1に示す基材コーティング装置 1は、モノリス (触媒基材) Mに並列形成された多 数のハ-カム流路 2…内に、空気圧により触媒用スラリー Sを流入伸展させてハ-カ ム流路内壁 2wを被覆し、排ガス浄ィ匕用触媒を製造するためのものである。
[0018] この基材コーティング装置 1は、ハ-カム流路 2· ··の両端が上面及び底面に開口す るようにモノリス Mを固定する装置本体 3と、モノリス Mの上端にアタッチメント 4を装着 してなるスラリー貯留部 5に対しスラリー Sを所要量供給するスラリー供給装置 6と、そ のスラリー液面を均一にする液面均一化機構 7と、スラリー貯留部 5から各流路 2· ··内 に流入しょうとするスラリー Sの重力と流路 2…内の気圧を調整してスラリー Sの流路 2 • · -内への流入阻止と伸展を切り換える気圧調整機構 8を備えて 、る。
[0019] 装置本体 3は、気圧調整機構 8により内圧がコントロールされるエアチャンバ 9の天 井面が、モノリス Mを回転可能に支持する回転テーブル (基材回転機構) 10で形成 されている。
回転テーブル 10は、その外周面に形成されたギア歯 10aが、モータ 11で駆動され るドライブギア 12のギア歯 12aに咬合されて、モノリス Mをその貫通鉛直軸回りに回 転可能に装着できるようになっており、スラリー Sをスラリー貯留部 5に貯留した状態で 回転させることにより、その遠心力を利用してスラリ一液面を均一にする液面均一化 機構 7となっている。
なお、モノリス Mは、ハ-カム流路 2· ··の上端がエアチャンバ 9外に開口され、下端 がエアチャンバ 9内に開口するように、回転テーブル 10に形成された透孔 10bに嵌 挿された状態で固定される。 [0020] スラリー貯留部 5となるアタッチメント 4は、その下端部がモノリス Mの上端面と同形 同大に形成されて嵌合され、その上端側に向って徐々に広がる截頭円錐面で形成さ れている。
スラリー供給装置 6は、予め設定された量のスラリー Sを正確に計量して供給するよ うに設定されている。
[0021] 気圧調整機構 8は、空気を供給 Z吸引して各流路 2· ··内に正圧 Z負圧を作用させ るエアハンドリング装置 13が用いられて成り、より具体的には、エアの吸引吐出を行う エアポンプ 14と、エアチャンバ 9への空気の供給 Z吸引を切り換える切換バルブ CV を備えている。
[0022] そして、切換バルブ CVは、エアポンプ 14の吸込側 14in及び吐出側 14outを、大気 開放口 15及び給排気管 16に切換接続する 3位置バルブでなり、第一ポジション P で大気開放口 15から吸込んだエアをエアチャンバ 9に送給して流路 2…に正圧を作 用させ、第二ポジション Pで給排気管 16を遮断してエアチャンバ 9の内圧を維持し、
2
第三ポジション Pでエアチャンバ 9内のエアを強制排出させて流路 2…に負圧を作用
3
させるようになつている。
また、給排気管 16から分岐された配管 17にはリリーフ弁 18が介装され、エアチャン ノ^の内圧が設定圧を超えたときに開放されて内部空気を逃がし、その内圧を設定 圧に維持するように成されて 、る。
[0023] 以上が本発明の一構成例であって、次に、本発明にかかる基材コーティング方法 により触媒基材にスラリーを被覆する場合について説明する。
まず、触媒基材となるモノリス Mにアツタチメント 4を装着した状態で、これを回転テ 一ブル 10に固定しておく。
スラリー供給工程では、図 2 (a)に示すように、スラリー供給装置 6からスラリー貯留 部 5に対し、全てのハ-カム流路 2· ··の全長にわたってスラリー Sを被覆する際に使 用する最低必要量のスラリー Sが供給されるが、スラリー Sはある程度の粘性を有する ためスラリー貯留部 5に盛り上がった状態となる。
なお、これと同時に、気圧調整機構 8の切換バルブ CVを第一ポジション Pにセット し、エアチャンバ 9内にエアを供給して、スラリー Sがハ-カム流路 2…に流入しない 程度に各流路 2· ··に正圧を作用させ、その後、切換バルブ CVを第二ポジション Pに
2 セットすれば、エアポンプ 14を停止しても各流路 2· ··の正圧が維持される。
[0024] 次いで、液面均一化工程では、図 2 (b)に示すように、液面均一化機構 7の回転テ 一ブル 10を適当な回転数で回転させると、モノリス M及びその上端部に装着された アタッチメント 4が回転し、スラリー貯留部 5に貯留されたスラリー Sに遠心力が作用し て、中央部分が盛り上がって 、たスラリー Sが周囲に広がって 、く。
そして、略均一な液面となった時点で、回転テーブル 10の回転を停止する。
この間、ハ-カム流路 2…内は正圧に維持されているので、スラリー Sが流入するこ とはない。
[0025] 次 、で、スラリー伸展工程では、気圧調整機構 8の切換バルブ CVを第三ポジショ ン Pにセットすることによりエアチャンバ 9内のエアを吸引して、図 2 (c)に示すように、
3
スラリー Sをハ-カム流路 2· · ·に流入させる。
このとき、液面は均一(水平)であるので、各流路 2…に同じようにスラリー Sが流入 していき、貯留部 5に貯留されていた全てのスラリー Sがそれぞれの流路に流入した 時点で、図 2 (d)に示すように、各流路 2…にはスラリー Sが同じ長さずつ詰まることに なる。
[0026] さらに、エアチャンバ 9内のエアを吸引すると、各流路 2に詰まったスラリー Sが流路 内壁 2wに沿って伸展されていき、スラリー Sはもともと全てのハ-カム流路 2· ··の全 長を被覆できる最低必要量が供給されているので、図 2 (e)に示すように、モノリス M の周縁部のハ-カム流路 2Aも、中央部のハ-カム流路 2Bも同様に全長が被覆され る。
なお、全長を被覆する場合に限らず、例えば、全長の 1Z2、 2Z3というように所定 の長さだけ被覆する場合は、その被覆長さに応じてスラリー貯留部 5への供給量を調 整すればよい。
[0027] 図 3は本発明の他の実施形態を示し、本例では、スラリー液面を均一化する際に、 遠心力を作用させるのではなぐ振動を作用させるようにしている。なお、図 1と重複 する部分については同一符号を付して詳細説明は省略する。
本例の基材コーティング装置 21は、気圧調整機構 8により内圧がコントロールされ るエアチャンバ 9が形成された装置本体 22の天井面に、ハ-カム流路 2· ··の両端が 上面及び底面に開口するようにモノリス Mを固定するテーブル 23が設けられて 、る。 液面均一ィ匕機構 7は、モノリス Mの上端に装着されるアタッチメント 4の外周面に取 り付けられる振動子 (発振機構) 24からなり、盛り上がった状態に貯留されたスラリー Sを低周波振動、高周波振動、超音波振動などにより振動させることにより、その液面 を均一にするようになつている。
なお、振動子 24は装置本体 22に取り付ける場合であっても良ぐ要するに、スラリ 一貯留部 5に貯留されて 、るスラリー Sに対して振動が伝わるようになって 、ればよ ヽ
[0028] 図 4はさらに他の実施形態を示し、本例では、ハ-カム流路 2…にエアを供給する ことなく気圧調整を行うことができるようになつている。なお、図 1と共通する部分は同 一符号を付して詳細説明は省略する。
本例の基材コーティング装置 31は、気圧調整機構 8として、ハ-カム流路 2· ··の底 面側開口部を密封する係脱可能なパッキン 32と、該パッキン 32を開放した状態でェ ァチャンバ 9を介してハ-カム流路 2· ··内の空気を吸引するエアポンプ 33を備えたェ ァハンドリング装置 34が用いられて!/、る。
ノ ッキン 32は、エアチャンバ 9内を昇降可能に配された昇降ベース 35が昇降軸 36 に回転自在に取り付けられてなり、ベース 35の表面側にスポンジ状の弾性体 37を介 して軟性ゴム 38が設けられており、この軟性ゴム 38でハ-カム流路 2· ··の開口部を 密封するようになっている。
[0029] これによれば、スラリー供給工程及び液面均一化工程にぉ 、て、ノ ッキン 32をモノ リス Mに密着させて流路 2の底面開口部を塞いでおけば、スラリー貯留部 5に供給さ れたスラリー Sがハ-カム流路 2…に流入しょうとしても、各流路 2内に閉じ込められた 空気の圧力によりスラリー Sの流入が確実に阻止される。
[0030] そして、スラリー伸展工程では、ノ ッキン 32を降下させた後、エアハンドリング装置 3 4のエアポンプ 33を起動させれば、エアチャンバ 9を介してハ-カム流路 2内の空気 が吸引されて、スラリー Sが夫々のハ-カム流路 2…に均一に流入する。
[0031] なお、上述の説明では、いずれのスラリー伸展工程においても、エアハンドリング装 置 13及び 34を用いてエアチャンバ 9を介してハ-カム流路 2· ··内の空気を吸引する 場合について説明したが、本発明はこれに限らず、スラリー貯留部 5の液面側力 加 圧空気を供給する場合であっても、これら双方を行う場合であってもよ ヽ。
また、触媒基材であるモノリス Mに触媒用スラリーを被覆する場合について説明し たが、本発明はこれに限らず、基材に並列形成された多数の流路内壁にスラリーを 被覆するものであれば様々な用途に適用できる。
[0032] 以上述べたように、本発明によれば、スラリー貯留部に供給されたスラリー液面が均 一化された後に、それぞれの流路にスラリーを流入させるようにしているので、各流路 には同量のスラリーが流入し、どの流路も同じ長さだけ均一にスラリーを被覆すること ができるという大変優れた効果を奏すると同時に、流路の全長にわたってスラリーを 被覆する場合でもスラリーの無駄を生じな!/ヽと ヽぅ大変優れた効果を奏する。
産業上の利用可能性
[0033] 本発明は、基材に並列形成された多数の流路内にスラリーを伸展させてその流路 内壁を被覆する用途に適用でき、特に、排ガス浄ィ匕用触媒の触媒基材となるモノリス に形成されたハニカム流路内壁に触媒用スラリーを被覆して触媒を形成する用途に 好適である。
図面の簡単な説明
[0034] [図 1]本発明に係る基材コーティング装置の一例を示す説明図。
[図 2]本発明にかかる基材コーティング方法の一例を示す説明図。
[図 3]他の実施形態を示す説明図。
[図 4]他の実施形態を示す説明図。
[図 5]従来装置を示す説明図。
[図 6]従来方法を示す説明図。
符号の説明
[0035] 1 基材コーティング装置
M モノリス (触媒基材)
S 触媒用スラリー
2 ノヽニカム流路 流路内壁
装置本体
アタッチメント
スラリー貯留部
スラリー供給装置
液面均一化機構
気圧調整機構
エアチャンバ
回転テーブル (基材回転機構) エアハンドリング装置

Claims

請求の範囲
[1] 多数の流路が並列形成された基材の片端側に供給されたスラリーを空気圧により 流路内に伸展させて該流路内壁を被覆する基材コーティング装置において、 前記流路の両端が上面及び底面に開口するように配された基材に対し、その上面 に形成されたスラリー貯留部にスラリーを所要量供給するスラリー供給装置と、前記ス ラリーを流路内に伸展させる前にスラリー液面を均一にする液面均一化機構とを備え たことを特徴とする基材コーティング装置。
[2] 前記液面均一化機構が、前記基材をその貫通鉛直軸回りに回転させる基材回転 機構である請求項 1記載の基材コーティング装置。
[3] 前記液面均一化機構が、スラリー貯留部に貯留されたスラリーを振動させる発振機 構である請求項 1記載の基材コーティング装置。
[4] 前記スラリー貯留部から各流路内に流入しょうとするスラリーの重力と流路内の気 圧を調整してスラリーの流路内への流入阻止と伸展を切り換える気圧調整機構を備 えた請求項 1記載の基材コーティング装置。
[5] 前記気圧調整機構として、基材底面側から空気を供給 Z吸引して各流路内に正圧
Z負圧を作用させるエアハンドリング装置が用いられて成る請求項 4記載の基材コー ティング装置。
[6] 前記気圧調整機構として、基材底面側の流路開口部を密封する係脱可能なパツキ ンと、該パッキンを開放した状態で流路内の空気を吸引し、及び Z又は、スラリー貯 留部の液面側から加圧空気を供給するエアハンドリング装置が用いられて成る請求 項 4記載の基材コ一ティング装置。
[7] 多数の流路が並列形成された基材の片端側に供給されたスラリーを空気圧により 流路内に伸展させて該流路内壁を被覆する基材コ一ティング方法にぉ 、て、 前記流路の両端が上面及び底面に開口するように配された基材に対し、その上面 に形成されたスラリー貯留部にスラリーを所要量供給するスラリー供給工程と、前記ス ラリーを流路内に伸展させる前にスラリー液面を均一にする液面均一化工程とを備え たことを特徴とする基材コーティング方法。
[8] 前記スラリー供給工程及び液面均一化工程において、スラリー貯留部力も各流路 内に流入しょうとするスラリーの重力と流路内の気圧をバランスさせた状態に維持す る請求項 7記載の基材コーティング方法。
前記基材として多数の流路が並列形成された触媒基材を用い、前記スラリーとして 触媒用スラリーを用いることにより、触媒基材の流路内壁に触媒用スラリーをコーティ ングして触媒を形成する請求項 7記載の基材コーティング方法。
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