JP5608639B2

JP5608639B2 - 排ガス浄化用触媒の製造方法及び装置並びにそれに使用するノズル

Info

Publication number: JP5608639B2
Application number: JP2011507314A
Authority: JP
Inventors: 淳史中野; 茂樹水野; 茂二松本; 洋関根; 優松井
Original assignee: Cataler Corp
Current assignee: Cataler Corp
Priority date: 2009-04-03
Filing date: 2010-04-02
Publication date: 2014-10-15
Anticipated expiration: 2030-04-02
Also published as: EP3354339B1; US9636693B2; EP3354340A1; US20160067720A1; CN102387862B; EP2415522B2; CN102387862A; EP3354339A1; JPWO2010114132A1; EP2415522A1; US20160067700A1; EP2415522A4; US9227184B2; US9849469B2; WO2010114132A1; US20120021896A1; EP2415522B1

Description

本発明は、排ガス浄化用触媒の製造技術に関する。

排ガス浄化用触媒は、例えば、複数の貫通孔が設けられたモノリス基材と、このモノリス基材上に形成された触媒層とを含んでいる。このような排ガス浄化用触媒は、例えば、触媒層の原料を含んだスラリーをモノリス基材に塗布し、その後、塗膜を乾燥及び焼成処理に供することにより得られる。

近年、異なる組成を有している触媒層がモノリス基材の上流部と下流部とに形成された排ガス浄化用触媒が広く用いられている。このような排ガス浄化用触媒は、例えば、特開２００７−３３０８７９号に記載されている。このタイプの排ガス浄化用触媒の製造においては、これら触媒層の原料を含んだスラリーを、基材の異なる領域に塗布する。

上記の排ガス浄化用触媒では、隣り合った触媒層間の距離は短いことが望ましい。これは、当該距離が短いほど、基材の単位容積当りの排ガス浄化性能が向上するためである。

しかしながら、従来の排ガス浄化用触媒の製造方法では、触媒層の端の位置に比較的大きなばらつきを生じ易い。触媒層の端の位置がばらつくと、隣り合った触媒層が部分的に重なり合うことがある。触媒層の重なり合った部分は、排ガスの圧力損失を生じさせる可能性がある。即ち、この場合、排ガス浄化用触媒の性能を最大限に発揮させることが困難となることがある。

そこで、本発明は、優れた性能を発揮する排ガス浄化用触媒を製造可能とする技術を提供することを目的とする。

本発明の第１側面によると、第１及び第２端面を有し、前記第１端面から前記第２端面へ向けて各々が延びた複数の孔が設けられた基材に、触媒層の原料を含んだ流体を吐出するように構成されたノズルであって、各々が前記流体を前記基材の前記第１端面へ向けて吐出する複数の吐出口が設けられ、前記ノズルは、内部に内部空間を規定する中空部であって、前記内部空間と前記中空部の外側の外部空間とを接続する第１及び第２開口が設けられ、前記第１開口を通って前記内部空間へと前記流体が供給されるように構成された中空部と、前記第２開口を塞ぎ、前記複数の吐出口が設けられた板状部と、前記中空部内に設置されたデフレクタとを具備したノズルが提供される。

本発明の第２側面によると、前記基材を支持する支持体と、第１側面に係るノズルとを具備した排ガス浄化用触媒の製造装置が提供される。
本発明の第３側面によると、第１及び第２端面を有し、前記第１端面から前記第２端面へ向けて各々が延びた複数の孔が設けられた基材を支持する支持体と、前記基材に触媒層の原料を含んだ流体を吐出するように構成されたノズルであって、各々が前記流体を前記基材の前記第１端面へ向けて吐出する複数の吐出口が設けられたノズルとを具備し、前記流体を貯蔵するタンクと前記流体を前記ノズルに供給すべく排出する排出口とを含んだ流体供給装置と、前記排出口に接続され、前記流体供給装置から前記流体が供給される第１端部と、前記ノズルに接続され、前記ノズルに前記流体を供給する第２端部とを含んだ導管とを更に具備し、前記導管中の前記流体の流れ方向に垂直な面と前記導管の内壁との交線上の点であって、重力方向に垂直な一平面を基準とした高さが最大である点を前記流れ方向に沿って結んでなる曲線は、前記導管の前記排出口との接続位置から、前記導管の前記ノズルとの接続位置にかけて、前記高さが単調に減少している排ガス浄化用触媒の製造装置が提供される。
本発明の第４側面によると、第１及び第２端面を有し、前記第１端面から前記第２端面へ向けて各々が延びた複数の孔が設けられた基材を支持する支持体と、前記基材に触媒層の原料を含んだ流体を吐出するように構成されたノズルであって、各々が前記流体を前記基材の前記第１端面へ向けて吐出する複数の吐出口が設けられたノズルとを具備し、前記複数の吐出口から垂れ下がっているか又は前記複数の吐出口内にある前記流体を吸い戻す吸引装置を更に具備した排ガス浄化用触媒の製造装置が提供される。
本発明の第５側面によると、第１及び第２端面を有し、前記第１端面から前記第２端面へ向けて各々が延びた複数の孔が設けられた基材を支持する支持体と、前記基材に触媒層の原料を含んだ流体を吐出するように構成されたノズルであって、各々が前記流体を前記基材の前記第１端面へ向けて吐出する複数の吐出口が設けられたノズルとを具備し、一定量の前記流体を前記ノズルに供給する供給動作と、前記ノズル内の前記流体の一部を吸い戻す吸引動作とを行う流体供給装置と、連続操業の間、前記供給動作を繰り返し、前記連続操業を中断する際に、前記吸引動作を行うように前記流体供給装置の動作を制御するコントローラとを更に具備した排ガス浄化用触媒の製造装置が提供される。
本発明の第６側面によると、第１及び第２端面を有し、前記第１端面から前記第２端面へ向けて各々が延びた複数の孔が設けられた基材を支持する支持体と、前記基材に触媒層の原料を含んだ流体を吐出するように構成されたノズルであって、各々が前記流体を前記基材の前記第１端面へ向けて吐出する複数の吐出口が設けられたノズルとを具備し、一定量の前記流体を前記ノズルに供給する供給動作と、前記複数の吐出口から垂れ下がっているか又は前記複数の吐出口内にある前記流体を吸い戻す吸引動作とを行う流体供給装置と、前記供給動作と前記吸引動作とを交互に繰り返すように前記流体供給装置の動作を制御するコントローラとを更に具備した排ガス浄化用触媒の製造装置が提供される。
本発明の第７側面によると、第１及び第２端面を有し、前記第１端面から前記第２端面へ向けて各々が延びた複数の孔が設けられた基材を支持する支持体と、前記基材に触媒層の原料を含んだ流体を吐出するように構成されたノズルであって、各々が前記流体を前記基材の前記第１端面へ向けて吐出する複数の吐出口が設けられたノズルとを具備し、前記ノズルが前記基材の前記第１端面に向けて前記流体を吐出するのに先立って、枠形状を有しているガイド部材を、前記基材と前記端面の位置で隣り合った領域を取り囲むように配置して、前記流体を受ける受け皿を形成する取付機構を更に具備した排ガス浄化用触媒の製造装置が提供される。

本発明の第８側面によると、前記基材に、第１側面に係るノズルを用いて前記流体を供給することを含んだ排ガス浄化用触媒の製造方法が提供される。

本発明の一態様に係る排ガス浄化用触媒の製造装置が予備動作を行っている様子を概略的に示す断面図。図１に示す製造装置が流体供給を行っている様子を概略的に示す断面図。図１に示す製造装置が流体供給を完了した様子を概略的に示す断面図。図１に示す製造装置が吸引動作を行っている様子を概略的に示す断面図。図１乃至図４に示す製造装置が含んでいるノズルを概略的に示す平面図。比較例に係る触媒層の形成方法における一工程を示す断面図。比較例に係る触媒層の形成方法における他の工程を示す断面図。図１乃至図４に示す製造装置の一変形例を概略的に示す断面図。一変形例に係るノズルを概略的に示す平面図。他の変形例に係るノズルを概略的に示す平面図。更に他の変形例に係るノズルを概略的に示す平面図。更に他の変形例に係るノズルを概略的に示す断面図。図１２に示すノズルが含んでいるデフレクタを概略的に示す平面図。図１２に示すノズルの変形例を概略的に示す断面図。図１４に示すノズルが含んでいるデフレクタを概略的に示す平面図。更に他の変形例に係るノズルを概略的に示す平面図。図１６に示すノズルの一変形例を概略的に示す断面図。図１７に示すノズルの平面図。図１６に示すノズルの他の変形例を概略的に示す平面図。吐出口に採用可能な構造の一例を概略的に示す断面図。図２０に示す構造を採用した場合に生じ得る吐出口の閉塞の一例を概略的に示す断面図。吐出口に採用可能な構造の他の例を概略的に示す断面図。例３において使用したノズルを概略的に示す平面図。吐出口の位置とスラリーの吐出量との関係の一例を示す棒グラフ。吐出口の位置とスラリーの吐出量との関係の他の例を示す棒グラフ。例１０において使用したノズルを概略的に示す平面図。吐出口の位置とスラリーの吐出量との関係の更に他の例を示す棒グラフ。例１１において使用したノズルを概略的に示す平面図。

以下、本発明の態様について、図面を参照しながら説明する。なお、全ての図面を通じて同様又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。

図１は、本発明の一態様に係る排ガス浄化用触媒の製造装置が予備動作を行っている様子を示す概略的に断面図である。図２は、図１に示す製造装置が流体供給を行っている様子を概略的に示す断面図である。図３は、図１に示す製造装置が流体供給を完了した様子を概略的に示す断面図である。図４は、図１に示す製造装置が吸引動作を行っている様子を概略的に示す断面図である。

図１乃至図４に示す製造装置１００は、基材ＳＢに、触媒層の原料を含んだ流体ＳＬを供給する。

基材ＳＢは、第１端面ＥＦ１及び第２端面ＥＦ２を有している。基材ＳＢには、端面ＥＦ１から端面ＥＦ２へ向けて各々が延びた複数の孔が設けられている。基材ＳＢは、例えば、ストレートフロータイプの排ガス浄化用触媒で使用するモノリスハニカム基材である。基材ＳＢは、ウォールフロータイプの排ガス浄化用触媒で使用するモノリスハニカム基材であってもよい。

製造装置１００は、第１部分１００Ａと第２部分１００Ｂとを含んでいる。第１部分１００Ａは、基材ＳＢの端面ＥＦ１に流体ＳＬを供給する役割を担っている。第２部分１００Ｂは、基材ＳＢの端面ＥＦ１への流体ＳＬの供給を補助する役割を担っている。

第１部分１００Ａは、流体供給装置と、ノズル１３０と、導管１６０とを含んでいる。流体供給装置は、タンク１１０と、切替装置と、シリンジ１２０と、第２駆動機構４００と、コントローラ５００とを含んでいる。

タンク１１０は、流体ＳＬを貯蔵している。流体ＳＬは、触媒金属等の触媒層の原料を含んでいる。流体ＳＬは、典型的には、上記原料を含んだスラリーである。

タンク１１０には、排出口が設けられている。タンク１１０内の流体ＳＬは、この排出口を介してタンク１１０の外部へと排出される。

切替装置は、弁ＴＣと、図示しない第１駆動機構とを含んでいる。
弁ＴＣは、支持部材ＴＣ１とプラグＴＣ２とを含んでいる。
支持部材ＴＣ１は、中空構造を有している。そして、支持部材ＴＣ１には、３つの流通口が設けられている。これら流通口の１つは、タンク１１０の排出口に接続されている。

プラグＴＣ２は、支持部材ＴＣ１の中空構造中に、回転可能に嵌め込まれている。そして、プラグＴＣ２には、支持部材ＴＣ１に設けられた流通口の配置に対応して三方に分岐した流路が設けられている。

第１駆動機構は、弁ＴＣに接続されている。第１駆動機構は、プラグＴＣ２を回転させて、プラグＴＣ２に設けられた流路の位置と支持部材ＴＣ１に設けられた流通口の位置との関係を調整することにより、上記の流通口間の接続を切り替えることを可能とする。この第１駆動機構の動作については、後で詳しく説明する。

シリンジ１２０は、シリンダ１２０Ａと、その内部で直動可能なピストン１２０Ｂとを含んでいる。シリンダ１２０Ａは、支持部材ＴＣ１に設けられた流通口の１つと接続されている。

第２駆動機構４００は、ピストン１２０Ｂに接続されている。第２駆動機構４００は、ピストン１２０Ｂを、シリンダ１２０Ａ内で、シリンダ１２０Ａに対して相対的に直動させる。この第２駆動機構４００の動作については、後で詳しく説明する。

コントローラ５００は、第１駆動機構と第２駆動機構４００と後述する吸引装置及び搬送装置とに接続されている。コントローラ５００は、これら第１及び第２駆動機構並びに吸引装置及び搬送装置の動作を制御する役割を担っている。このコントローラ５００が行う制御については、後で詳しく説明する。

導管１６０は、第１及び第２端部を含んでいる。第１端部は、支持部材ＴＣ１の流通口の１つと接続されている。第１端部には、流体供給装置から流体ＳＬが供給される。

ノズル１３０は、中空部１３０Ａと板状部１３０Ｂとを含んでいる。
中空部１３０Ａは、中空構造を有している。中空部１３０Ａは、その内部に、内部空間を規定している。中空部１３０Ａには、内部空間と中空部１３０Ａの外側の外部空間とを接続する第１及び第２開口が設けられている。中空部１３０Ａの内部空間は、典型的には、第１開口から第２開口に向けて拡径している。第１開口は、導管１６０の第２端部に接続されている。

板状部１３０Ｂは、第２開口を塞いでいる。板状部１３０Ｂには、中空部１３０Ａの内部空間に供給された流体ＳＬを基材ＳＢの端面ＥＦ１へ向けて吐出する複数の吐出口が設けられている。なお、図１乃至図４には、平板状の板状部１３０Ｂを描いているが、板状部１３０Ｂは、平板状でなくてもよい。例えば、板状部１３０Ｂの一方の主面は、部分的に隆起していてもよい。

図５は、図１乃至図４に示す製造装置が含んでいるノズルを概略的に示す平面図である。このノズル１３０の板状部１３０Ｂは、円形状を有している。この板状部１３０Ｂには、各々が円形状を有した複数の吐出口ＤＰが設けられている。これら吐出口ＤＰは、ほぼ均一に分布している。

なお、図１乃至図４に示すシリンジ１２０と弁ＴＣとの組み合わせは、後述するように、流体ＳＬを量り取る役割を担っている。これらシリンジ１２０及び弁ＴＣの代わりに、ギヤポンプ等を使用してもよい。

第２部分１００Ｂは、図１乃至図４に示す支持体１４０及びガイド部材１５０と、図示しない吸引装置及び搬送装置とを含んでいる。

支持体１４０は、基材ＳＢの端面ＥＦ１がノズル１３０に設けられた吐出口ＤＰと向き合うように基材ＳＢを支持している。

ガイド部材１５０は、枠形状を有している。このガイド部材１５０は、基材ＳＢの端面ＥＦ１の位置で基材ＳＢと隣り合った領域を取り囲むように配置されている。このガイド部材１５０は、基材ＳＢの端面ＥＦ１と共に、流体ＳＬを受ける受け皿又は液溜めとして機能する。このガイド部材１５０は、流体ＳＬが基材ＳＢの外面を伝って流れ落ちるのを防止すると共に、端面ＥＦ１上に供給される流体ＳＬの液面の高さをより均一にする。

このガイド部材１５０は、典型的には、図示しない取付機構により基材ＳＢの上記位置に設置される。或いは、このガイド部材１５０は、上記位置に手動で設置されてもよい。

吸引装置は、支持体１４０に支持されている基材ＳＢの端面ＥＦ２側から、基材ＳＢに設けられている孔内の流体、典型的には気体を吸引する。流体ＳＬの粘度が低い場合、吸引装置は省略することができる。

搬送装置は、流体ＳＬを供給していない基材ＳＢを、その端面ＥＦ１が板状部１３０Ｂの正面に位置するように搬送する。加えて、搬送装置は、流体ＳＬを供給した基材ＳＢを、板状部１３０Ｂの正面の位置から他の位置へと搬送する。

搬送装置は、基材ＳＢを搬送する搬送機構に加え、支持体１４０及び／又はガイド部材１５０を移動させる移動機構を更に含んでいてもよい。この移動機構は、例えば、支持体１４０及びガイド部材１５０を、ノズル１３０が吐出する流体ＳＬの流れ方向へと、互いに対して相対的に移動させるものであってもよい。或いは、この移動機構は、支持体１４０及びガイド部材１５０の少なくとも一方を板状部１３０Ｂの正面の位置と他の位置との間で移動させるものであってもよい。或いは、この移動機構は、それらの双方を行うものであってもよい。

製造装置１００が含んでいる流体供給装置は、以下のようにして、基材ＳＢの端面ＥＦ１に流体ＳＬを供給する。なお、以下の説明では、支持部材ＴＣ１に設けられた３つの流通口のうち、タンク１１０と接続されているものを第１流通口と呼び、シリンジ１２０と接続されているものを第２流通口と呼び、導管１６０と接続されているものを第３流通口と呼ぶ。

この製造装置１００の稼動を長時間に亘って中断する場合、通常、タンク１１０、シリンジ１２０、弁ＴＣ、導管１６０及びノズル１３０の内部空間は空にする。また、この製造装置１００の稼動を始めて行う場合も、通常、先の内部空間は空である。

この状態から装置１００の稼動を開始する場合、まず、タンク１１０に流体ＳＬを供給する。このとき、ピストン１２０Ｂは、その先端がシリンダ１２０Ａの底部と接するように位置させておく。

次に、支持部材ＴＣ１の第１乃至第３流通口のうち、第１及び第２流通口のみが互いに連絡するように、プラグＴＣ２の流路を第１乃至第３流通口に対して位置合わせする。この状態で、ピストン１２０Ｂを、その先端がシリンダ１２０Ａの底部から離れるように直動させて、流体ＳＬを、タンク１１０から弁ＴＣを介してシリンジ１２０内へと供給する。

次いで、支持部材ＴＣ１の第１乃至第３流通口のうち、第２及び第３流通口のみが互いに連絡するように、プラグＴＣ２を回転させる。続いて、ピストン１２０Ｂを、比較的高い速度でその先端がシリンダ１２０Ａの底部に近づくように直動させて、流体ＳＬを、シリンジ１２０から弁ＴＣを介して導管１６０内へと供給する。

更に、必要に応じて、タンク１１０からシリンジ１２０への流体ＳＬの供給と、シリンジ１２０から導管１６０への流体ＳＬの供給とからなるシーケンスを繰り返す。これにより、導管１６０及びノズル１３０の内部空間のほぼ全体を流体ＳＬで満たす。

なお、この内部空間の流体ＳＬによる充填が完了するまでの間、ノズル１３０から流体ＳＬが吐出される。ここで吐出される流体ＳＬは、例えば、廃棄するか又はタンク１１０へと戻す。

この立上げ動作又はその一部は、手動で行ってもよく、自動化されていてもよい。この立上げ動作の全て又は一部を自動化する場合、自動化すべき動作、例えば、プラグＴＣ２を回転させる第１駆動機構の動作とピストン１２０Ｂを直動させる第２駆動機構４００の動作とは、コントローラ５００に制御させる。

以上の立上げ動作を完了した後、以下に説明する第１乃至第４動作を順次行う。
第１動作では、コントローラ５００は、まず、搬送装置を以下のように動作させる。即ち、流体ＳＬを供給していない基材ＳＢを、その端面ＥＦ１が板状部１３０Ｂと正対するように、板状部１３０Ｂの正面の位置へと搬送する。そして、この位置で、基材ＳＢを支持体１４０に支持させるとともに、基材ＳＢの端面ＥＦ１側の端部にガイド部材１５０を取り付ける。

基材ＳＢは、板状部１３０Ｂの正面の位置へと搬送するのに先立って、支持体１４０に支持させてもよい。同様に、ガイド部材１５０は、基材ＳＢを板状部１３０Ｂの正面の位置へと搬送するのに先立って、基材ＳＢの端面ＥＦ１側の端部に取り付けてもよい。

次に、コントローラ５００は、図１に示すように流体供給装置を動作させる。具体的には、コントローラ５００は、切替装置の第１駆動機構の動作を制御して、第１乃至第３流通口の接続を、第１及び第２流通口が互いに接続され且つ第３流通口が第１及び第２流通口から遮断された状態（以下、第１状態という）とする。続いて、コントローラ５００は、第２駆動機構４００の動作を制御して、ピストン１２０Ｂを、その先端がシリンダ１２０Ａの底部から遠ざかるように、シリンダ１２０Ａに対して相対的に直動させる。これら動作により、所定量の流体ＳＬを、タンク１１０からシリンジ１２０内へと導入する。

第２動作では、コントローラ５００は、図２及び図３に示すように流体供給装置を動作させる。具体的には、コントローラ５００は、まず、切替装置の第１駆動機構の動作を制御して、第１乃至第３流通口の接続を、第２及び第３流通口が互いに接続され且つ第１流通口が第２及び第３流通口から遮断された状態（以下、第２状態という）とする。次に、コントローラ５００は、第２駆動機構４００の動作を制御して、ピストン１２０Ｂを、その先端がシリンダ１２０Ａの底部に近づくように、シリンダ１２０Ａに対して相対的に直動させる。これら動作により、一定量の流体ＳＬを、シリンジ１２０から導管１６０へと供給する。

導管１６０へ流体ＳＬを供給するのに伴って、ノズル１３０内の流体ＳＬは、その吐出口ＤＰを介してノズル１３０の外部へと押し出される。このようにして、流体ＳＬを、ノズル１３０から基材ＳＢの端面ＥＦ１に向けて吐出させる。

コントローラ５００は、上述のように流体供給装置の動作を制御するのに加え、以下のように吸引装置の動作を制御する。即ち、コントローラ５００は、例えば、ノズル１３０が流体ＳＬの吐出を開始するのと同時に、又は、ノズル１３０が流体ＳＬの吐出を開始した後であってその吐出を完了する前に、又は、ノズル１３０が流体ＳＬの吐出を完了した後に、吸引装置に、支持体１４０に支持されている基材ＳＢの端面ＥＦ２側から、基材ＳＢに設けられている孔内の流体、例えば空気を吸引させる。

この吸引を行うと、端面ＥＦ１から端面ＥＦ２側への流体ＳＬの移動が促進される。基材ＳＢの隔壁のうち流体ＳＬが通過した部分の上には、流体ＳＬからなる塗膜（以下、流体層という）が形成される。ここでは、流体層は、端面ＥＦ１と、端面ＥＦ１に対して平行であり且つ端面ＥＦ１及びＥＦ２間でそれらから離れて位置した平面とによって挟まれた領域内にのみ形成することとする。

なお、この流体層は、流体ＳＬの端面ＥＦ１からの移動量を制御することにより、上記領域内にのみ形成することができる。また、流体ＳＬの端面ＥＦ１からの移動量、又は、流体層の端面ＥＦ２側の端（以下、前端という）の位置は、例えば、流体ＳＬの量及び粘度並びに吸引力及び吸引時間に応じて制御できる。

第３動作では、コントローラ５００は、図４に示すように流体供給装置を動作させる。具体的には、コントローラ５００は、第２駆動機構４００の動作を制御して、ピストン１２０Ｂを、その先端がシリンダ１２０Ａの底部から遠ざかるように、シリンダ１２０Ａに対して相対的に直動させる。これにより、吐出口ＤＰから垂れ下がっているか又は吐出口ＤＰ内にある流体ＳＬを、ノズル１３０に吸い戻し、流体ＳＬがノズル１３０から垂れ落ちるのを抑制する。

なお、この動作は流体ＳＬが垂れ落ちるのを抑制することを目的としているので、ピストン１２０Ｂのシリンダ１２０Ａに対する移動量は極僅かでよい。例えば、ノズル１３０の先端における流体ＳＬの液面が、板状体１３０Ｂの端面ＥＦ１と向き合った面とほぼ面一となるか、又は、板状体１３０Ｂのノズル１３０の内部空間側の面とほぼ面一となるか、又は、板状体１３０Ｂの２つの主面間に位置するように、ピストン１２０Ｂをシリンダ１２０Ａに対して直動させればよい。

第４動作では、コントローラ５００は、搬送装置を以下のように動作させる。即ち、隔壁上に流体層を形成した基材ＳＢから、ガイド部材１５０を取り外す。次いで、この基材ＳＢを支持体１４０から取り外す。その後、この基材ＳＢを、板状部１３０Ｂの正面の位置から他の位置へと搬送する。

ガイド部材１５０は、基材ＳＢを板状部１３０Ｂの正面の位置から他の位置へと搬送した後に、基材ＳＢから取り外してもよい。同様に、この基材ＳＢは、板状部１３０Ｂの正面の位置から他の位置へと搬送した後に、支持体１４０から取り外してもよい。

以上のようにして、隔壁上に流体層が設けられた基材ＳＢを得る。なお、連続操業を行う場合は、上述した第１乃至第４動作からなるシーケンスを繰り返す。

この製造装置１００は、触媒層の原料を含んだ流体ＳＬを、基材ＳＢの端面ＥＦ１へと供給する。ノズル１３０から吐出された流体ＳＬは、基材ＳＢの端面ＥＦ１上に層を形成する。次に、基材ＳＢに設けられた貫通孔内のガスを端面ＥＦ２側から吸引すると、流体ＳＬは、貫通孔の側壁上に流体層を形成する。この流体層を乾燥及び焼成処理に供することにより、触媒層が得られる。

この製造装置１００では、触媒層の原料を含んだ流体ＳＬを、単一の吐出口ではなく、複数の吐出口ＤＰを介して、基材ＳＢの端面ＥＦ１へと供給する。こうすると、ノズル１３０から吐出された流体ＳＬは、基材ＳＢの端面ＥＦ１上に、比較的均一な厚さの層を形成する。それ故、基材ＳＢの孔にほぼ等しい量の流体ＳＬが供給され、前端の位置のばらつきが小さな流体層が得られる。即ち、端の位置のばらつきが小さな触媒層を得ることができる。

以下、このノズル１３０を用いた場合に達成可能な効果について、更に詳しく説明する。

図６は、比較例に係る触媒層の形成方法における一工程を示す断面図である。図７は、比較例に係る触媒層の形成方法における他の工程を示す断面図である。

この比較例に係る方法では、図６に示すように、まず、単一の吐出口を備えたノズル２００を用いて、基材ＳＢの端面ＥＦ１に向けて流体ＳＬを供給する。この際、典型的には、基材ＳＢの端面ＥＦ１側にガイド部材１５０を設ける。

このような構成を採用した場合、基材ＳＢの端面ＥＦ１上に供給される流体ＳＬの量は、その面内方向において不均一となる。具体的には、上記単一の吐出口の直下においては比較的多量の流体ＳＬが供給され、それ以外の部分では、比較的少量の流体ＳＬが供給される。従って、この状態で上述した吸引処理を行うと、流体層の前端の位置のばらつきが大きくなる。そのため、触媒層の端の位置のばらつきが大きくなる。

そこで、この比較例に係る方法では、典型的には、ノズル２００を用いて流体ＳＬを供給した後、図７に示すように、基材ＳＢを回転させてレベリング処理を行う。具体的には、基材ＳＢを、基材ＳＢに設けられた孔の長さ方向に平行な回転軸の周りで回転させる。こうすると、回転によって生じる遠心力の作用により、流体ＳＬが基材ＳＢの端面ＥＦ１上に形成する層の厚さは、比較的均一となる。従って、この状態で上述した吸引処理を行うと、流体層の前端の位置のばらつきが比較的小さくなる。

しかしながら、この比較例に係る方法には、以下のような問題点がある。まず、排ガス浄化用触媒の製造に当り、上記の回転を行うための回転機構が必要となる。そのため、この方法を採用した製造装置は、比較的高価であり、そのメンテナンスに多くの工程が必要となる。それ故、装置の初期コスト及び維持コストが高い。それ故、この方法を採用した場合、高い価格競争力を達成することが難しい。

また、基材ＳＢが円柱形状でない場合、流体ＳＬが基材ＳＢの端面ＥＦ１上に形成する層の厚さを、回転を利用したレベリングによって均一にすることは困難である。例えば、基材ＳＢが楕円柱形状である場合、端面ＥＦ１の中心を通り且つ端面ＥＦ１に対して垂直な軸の周りで基材ＳＢを回転させると、流体ＳＬが端面ＥＦ１上に形成する層は、短軸の両端の位置と比較して、長軸の両端の位置において厚くなる。従って、この場合、上述した回転を利用したレベリングを行っても、流体ＳＬが端面ＥＦ１上に形成する層の厚さにばらつきが生じる。それ故、この場合、流体層の前端の位置のばらつきを抑制することは困難である。

更に、基材ＳＢの端面ＥＦ１が大きい場合には、回転を利用したレベリングを行っても、端面ＥＦ１の周縁領域まで流体ＳＬを行き渡らせることが困難となる可能性がある。この場合、端面ＥＦ１の中心部には比較的多量の流体ＳＬが残存し、その周縁領域には比較的少量の流体ＳＬしかもたらされない。従って、この場合、流体層の前端の位置のばらつきを抑制することは困難である。

これに対し、図１乃至図５を参照しながら説明した製造装置１００では、複数の吐出口ＤＰを備えたノズル１３０を用いて、基材ＳＢの端面ＥＦ１に流体ＳＬを供給する。従って、この場合、単一の吐出口を備えたノズル２００を用いた場合と比較して、流体ＳＬが基材ＳＢの端面ＥＦ１上に形成する層、即ち、図４において流体ＳＬが基材ＳＢの端面ＥＦ１上に形成する層の厚さはより均一となる。それ故、回転を利用したレベリング処理を省略しても、流体層の前端の位置のばらつきを小さくすることが可能となる。従って、優れた性能を発揮する排ガス浄化用触媒をより簡易に製造することが可能となる。

また、上述したプロセスでは、第３動作を行っている。第３動作を行うと、流体ＳＬの非供給時に複数の吐出口から流体ＳＬが垂れ落ちるのを抑制することが可能となる。従って、各基材ＳＢへの流体ＳＬの供給量のばらつきを更に抑制することが可能となる。

しかも、第３動作には、複雑な構造又は機構は不要である。即ち、第３動作を行う場合、製造装置１００に、流体ＳＬの垂れ落ちを抑制するための部材、例えば、後述する液量調整部材とロータリアクチュエータとの組み合わせを更に設ける必要がない。それ故、この場合、製造装置１００の製造コストを減ずると共に、装置のメンテナンスをより容易とすることができる。

また、複雑な構造又は機構を導入した場合、製造装置１００に採用可能な設計の自由度が制約を受ける可能性がある。例えば、流体ＳＬの垂れ落ちを防止するために、第３動作を行う代わりに、後述する液量調整部材とロータリアクチュエータとの組み合わせを使用した場合、ノズル１３０の板状部１３０Ｂの中心に吐出口を設けることは困難である。それ故、この場合、板状部１３０Ｂの中心付近から吐出される流体ＳＬの量が比較的少なくなり、基材ＳＢの端面ＥＦ１に平行な面内における流体ＳＬの量の分布が比較的不均一となる場合がある。これに対し、第３動作を行う場合、吐出口ＤＰの配置を自由に定めることができる。従って、第３動作を行う場合、液量調整部材とロータリアクチュエータとの組み合わせを使用する場合と比較して設計が容易である。

図１乃至図５を参照しながら説明した製造装置１００及びプロセスには、様々な変形が可能である。

第３動作は、上述したように第４動作に先立って行ってもよく、第４動作の後に行ってもよい。或いは、第３及び第４動作を同時に行ってもよい。

或いは、連続操業の間は第１動作と第２動作と第４動作とからなるシーケンスを繰り返し、連続操業を中断する際にのみ、第３動作を行ってもよい。こうすると、排ガス浄化用触媒の生産性を過度に減ずることなしに、流体ＳＬの垂れ落ちを抑制することが可能となる。

第３動作は、省略してもよい。即ち、連続操業を行う場合、第１動作と第２動作と第４動作とからなるシーケンスを繰り返してもよい。

第３動作を省略した場合、製造装置１００には、流体ＳＬの垂れ落ちを抑制するための部材、例えば、以下に説明する液量調整機構を更に設けてもよい。

液量調整機構は、例えば、ノズル１３０の板状部１３０Ｂに隣接して設置された液量調整部材と、液量調整部材を板状部１３０Ｂに対して移動させる駆動機構とを含んでいる。液量調整部材は、例えば、板状部１３０Ｂの吐出口ＤＰに対応した位置に複数の開口が設けられた板である。液量調整部材は、例えば、板状部１３０Ｂと重なり合うように配置される。

駆動機構は、液量調整部材を、例えば、板状部１３０Ｂの主面に平行な方向に移動させるか、又は、板状部１３０Ｂの主面に垂直な軸の周りで回転させる。駆動機構は、液量調整部材を、板状部１３０Ｂの主面に垂直な方向に更に移動させることが可能であってもよい。駆動機構は、例えば、ロータリアクチュエータなどのアクチュエータを含んでいる。例えば、駆動機構は、液量調整部材を板状部１３０Ｂの主面に垂直な軸の周りで回転させるロータリアクチュエータを含んでいる。

液量調整機構は、液量調整部材に設けられた開口の位置を、板状部１３０Ｂに設けられた吐出口ＤＰに対して調整することにより、基材ＳＢへの流体ＳＬの供給を制御する。例えば、基材ＳＢへの流体ＳＬの供給量を最大化する場合には、液量調整部材を回転させて、板状部１３０Ｂに設けられた吐出口ＤＰの位置と、液量調整部材に設けられた開口の位置とを完全に一致させる。或いは、基材ＳＢへの流体ＳＬの供給量を減少させる場合には、液量調整部材を回転させて、両者の位置を部分的にずらす。或いは、基材ＳＢへの流体ＳＬの供給を遮断する場合には、液量調整部材を回転させて、両者の位置を完全にずらす。

このような操作を行うと、ノズル１３０からの流体ＳＬの供給量をより高い精度で制御することが可能となる。また、このような操作を行うと、ノズル１３０から基材ＳＢへの流体ＳＬの供給を中断している期間に、流体ＳＬがノズル１３０から垂れ落ちるのを抑制することができる。従って、このような構成を採用すると、この垂れ落ちに起因して流体層の前端の位置がばらつくのを抑制することができる。

上述した製造装置１００には、以下の構成を採用してもよい。
図８は、図１乃至図４に示す製造装置の一変形例を概略的に示す断面図である。なお、図８には、製造装置１００の第１部分１００Ａのみを描いている。また、図８では、第２駆動機構４００及びコントローラ５００の図示を省略している。

図８に示す第１部分１００Ａは、導管１６０及びノズル１３０の構造が異なっていること以外は、図１乃至図４に示す第１部分１００Ａと同様である。

図８に示す導管１６０は、以下のような構成を有している。まず、導管１６０中の流体ＳＬの流れ方向に垂直な面と導管１６０の内壁との交線を考える。次に、この交線上の点のうち、重力方向に垂直な一平面を基準とした高さｈが最大である点を、上記の流体ＳＬの流れ方向に沿って結んでなる曲線を考える。このとき、当該曲線の高さｈは、導管１６０の第３流通口との接続位置から導管１６０のノズル１３０との接続位置まで、単調に減少している。

このような構成を採用すると、立上げ動作の際に、導管１６０内の空気を外部空間へと速やかに排出すること、又は、導管１６０内に空気が残留するのを抑制することが可能となる。それ故、こうすると、立上げ動作を効率化すること、又は、各基材ＳＢへの流体ＳＬの供給量をより厳密に制御することが可能となる。

上述した製造装置１００においては、ノズル１３０にも様々な変形が可能である。

図９は、一変形例に係るノズルを概略的に示す平面図である。図９に示すノズル１３０は、板状部１３０Ｂが楕円形状を有していること以外は、図５に示すノズル１３０と同様である。このようなノズル１３０を用いると、基材ＳＢが楕円柱形状である場合であっても、基材ＳＢの端面ＥＦ１上に、比較的均一に流体ＳＬを供給することが可能となる。

同様に、例えば、基材ＳＢが、底面が台形状である四角柱形状を有している場合、板状部１３０Ｂを台形状とし、当該台形内に複数の吐出口ＤＰをほぼ均一に分布させてもよい。こうすると、基材ＳＢが先の形状を有している場合であっても、基材ＳＢの端面ＥＦ１上に、比較的均一に流体ＳＬを供給することが可能となる。

なお、基材ＳＢを端面ＥＦ１の形状が異なるものへと変更する場合、板状部１３０Ｂに設けられている吐出口ＤＰの一部を遮蔽して、遮蔽されていない吐出口ＤＰの配置を基材ＳＢの端面ＥＦ１の形状に対応させてもよい。こうすると、基材ＳＢを端面ＥＦ１の形状が異なるものへと変更した場合であっても、ノズル１３０を交換することなしに、当該基材ＳＢの端面ＥＦ１上に、比較的均一に流体ＳＬを供給することが可能となる。

このように、板状部１３０Ｂの形状及び／又は吐出口ＤＰの配置を端面ＥＦ１の形状に対応させると、端面ＥＦ１がどのような形状を有していようとも、端面ＥＦ１上に流体ＳＬを比較的均一に供給することができる。

吐出口ＤＰは、均一に分布させる代わりに、不均一に分布させてもよい。これについて、以下に説明する。

図５及び図９に示すように複数の吐出口ＤＰを均一に分布させたノズル１３０を使用した場合、端面ＥＦ１の中心領域から延びた孔では、端面ＥＦ１の周縁領域から延びた孔と比較して、端面ＥＦ１から流体層の前端までの距離（以下、流体層の長さという）が若干大きくなることがある。これは、流体ＳＬが端面ＥＦ１上に形成する層が、端面ＥＦ１の周縁領域と比較して端面ＥＦ１の中心領域においてより厚くなり易いことに由来していると考えられる。

図１０は、他の変形例に係るノズルを概略的に示す平面図である。図１１は、更に他の変形例に係るノズルを概略的に示す平面図である。

図１０に示すノズル１３０では、板状部１３０Ｂの中心には吐出口ＤＰを設けず、板状部１３０Ｂの中心近傍と周縁部とに多くの吐出口ＤＰを設けている。図１１に示すノズル１３０では、板状部１３０Ｂの中心付近に吐出口ＤＰを設けず、板状体１３０Ｂの周縁部とその近傍のみに吐出口ＤＰを設けている。

即ち、図１０及び図１１に示すノズル１３０では、吐出口ＤＰを不均一に分布させている。このような構成を採用すると、特には、板状体１３０Ｂの中心から離れた位置で密度が最も高くなるように吐出口ＤＰを分布させると、流体層の前端の位置のばらつきを更に小さくすることができる。

上述したように吐出口ＤＰを分布させる場合、吐出口ＤＰは、典型的には、以下の条件を満たすように配置する。
まず、第１及び第２凸多角形を仮定する。ここで、「凸多角形」は、全ての内角が１８０°未満である多角形を意味している。第１凸多角形は、ノズル１３０に設けられた吐出口ＤＰの全てを取り囲み且つ最小の面積を有している。第２凸多角形は、第１凸多角形の面積の０．６倍の面積を有している。第２凸多角形は、第２凸多角形の輪郭ＯＬ２のあらゆる位置において第２凸多角形から第１凸多角形の輪郭ＯＬ１までの距離が一定であるように第１凸多角形の輪郭ＯＬ１の内側に位置を定められている。即ち、第１及び第２凸多角形は、相似図形である。

不均一に分布した吐出口ＤＰについて第１及び第２凸多角形を仮定した場合、これら吐出口ＤＰのうち輪郭ＯＬ１及びＯＬ２間に位置した部分が占有している領域の合計面積と、全ての吐出口ＤＰが占有している領域の合計面積との比は、例えば０．１以上であり、典型的には０．１乃至０．３の範囲内にある。この比は、０．４よりも大きくてもよい。なお、図１０及び図１１に示すノズル１３０では、この条件を満たすように吐出口ＤＰを配置している。

このような構成を採用した場合、基材ＳＢの端面ＥＦ１の周縁領域に、基材ＳＢの端面ＥＦ１の中心領域とほぼ等しい量の流体ＳＬを供給することができる。それ故、この場合、端面ＥＦ１の中心領域から延びた孔における流体層の長さと端面ＥＦ１の周縁領域から延びた孔における流体層の長さとの差を、更に小さくすることが可能となる。従って、この場合、流体層の前端の位置のばらつきを更に小さくすることが可能となる。

ノズル１３０には、以下に説明する構造を採用してもよい。

図１２は、更に他の変形例に係るノズルを概略的に示す断面図である。図１３は、図１２に示すノズルが含んでいるデフレクタを概略的に示す平面図である。

図１２に示すノズル１３０は、中空部１３０Ａ内に設置されたデフレクタ１３０Ｄを更に含んでいること以外は、図５に示すノズル１３０と同様の構成を有している。図１２及び図１３には、一例として、１枚の網Ｍ１からなるデフレクタ１３０Ｄを描いている。

デフレクタ１３０Ｄは、ノズル１３０内における流体ＳＬの流れを変化させる。具体的には、デフレクタ１３０Ｄは、板状部１３０Ｂの中心部に供給される流体ＳＬの量を相対的に減少させ、板状部１３０Ｂの周縁部に供給される流体ＳＬの量を相対的に増大させる。即ち、デフレクタ１３０Ｄは、板状部１３０Ｂの中心部に供給される流体ＳＬの量と板状部１３０Ｂの周縁部に供給される流体ＳＬの量との差を減少させる。これにより、デフレクタ１３０Ｄは、ノズル１３０の吐出口ＤＰが吐出する流体ＳＬの量をより均一にする。

図１２及び図１３に示すデフレクタ１３０Ｄは、中空部１３０Ａの内部空間を、板状部１３０Ｂと隣接した下流領域と、下流領域と中空部１３０Ａの第１開口との間に位置した上流領域とに仕切っている。また、このデフレクタ１３０Ｄには、上流領域に下流領域を接続する複数の貫通孔が設けられている。このような構成を採用すると、流体ＳＬがデフレクタ１３０Ｄの貫通孔を通過する際に、流体ＳＬに剪断力が働く。それ故、中空部１３０Ａの内壁近傍に形成される境界層の成長を抑制でき、板状部１３０Ｂの中心部に供給される流体ＳＬの量と板状部１３０Ｂの周縁部に供給される流体ＳＬの量との差を減少させることが可能となる。また、こうすると、中空部１３０Ａの内壁近傍だけでなく、そこから離れた位置でも、流体ＳＬの粘度の増大を抑制することが可能となる。

図１４は、図１２に示すノズルの変形例を概略的に示す断面図である。図１５は、図１４に示すノズルが含んでいるデフレクタを概略的に示す平面図である。

図１４に示すノズル１３０は、デフレクタ１３０Ｄの構成が異なっていること以外は、図１２及び図１３を参照しながら説明したノズルと同様である。図１４及び図１５には、デフレクタ１３０Ｄの他の例として、網目の大きさが互いに異なった２枚の網Ｍ１及びＭ２を重ねたものを描いている。

図１４及び図１５に示すデフレクタ１３０Ｄは、中空部１３０Ａの内部空間を、板状部１３０Ｂと隣接した下流領域と、下流領域と中空部１３０Ａの第１開口との間に位置した上流領域とに仕切っている。このデフレクタ１３０Ｄには、上流領域に下流領域を接続する複数の貫通孔が設けられている。

加えて、図１４及び図１５に示すデフレクタ１３０Ｄは、中心部ＣＲと、中心部ＣＲを取り囲んだ周縁部ＰＲとを含んでいる。中心部ＣＲには、複数の第１貫通孔として、上記複数の貫通孔の一部が設けられている。周縁部ＰＲには、複数の第２貫通孔として、上記複数の貫通孔の残りが設けられている。そして、中心部ＣＲの面積に対する複数の第１貫通孔が占有している領域の合計面積の比は、周縁部ＰＲの面積に対する複数の第２貫通孔が占有している領域の合計面積の比と比較してより小さい。このような構成を採用すると、板状部１３０Ｂの中心部に供給される流体ＳＬの量と板状部１３０Ｂの周縁部に供給される流体ＳＬの量との差を、更に効果的に減少させることが可能となる。

図１４及び図１５に示すデフレクタ１３０Ｄを用いる場合、このデフレクタ１３０Ｄには、例えば、以下の構成を採用する。即ち、網Ｍ１と、網Ｍ１と比較して径がより小さく且つより小さな網目を有している網Ｍ２とを、それらの中心がほぼ一致するように重ね合わせる。この場合、網Ｍ１の網目の大きさは、例えば０．５ｍｍ乃至２ｍｍの範囲内とし、網Ｍ２の網目の大きさは、例えば０．２ｍｍ乃至１．５ｍｍの範囲内とする。また、網Ｍ１及びＭ２の双方が円形状を有している場合、典型的には、これらの中心の位置を一致させる。そして、網Ｍ１及びＭ２の双方が円形状を有している場合、網Ｍ２の直径は、例えば、網Ｍ１の直径の０．２倍乃至０．７倍の範囲内とする。

図１２及び図１４に示すノズル１３０の各々において、デフレクタ１３０Ｄと板状部１３０Ｂとの最短距離Ｈは、例えば１ｍｍ乃至１５ｍｍの範囲内とし、典型的には１ｍｍ乃至５ｍｍの範囲内とする。この距離Ｈを過度に小さくすると、デフレクタ１３０Ｄと板状部１３０Ｂとの間における流体ＳＬの面内方向の流れが阻害される場合がある。この距離Ｈを過度に大きくすると、デフレクタ１３０Ｄを設ける効果が小さくなる。

図１３及び図１５には、複数の貫通孔が設けられたデフレクタ１３０Ｄの例として１つ以上の網を描いているが、デフレクタ１３０Ｄは網でなくてもよい。例えば、デフレクタ１３０Ｄは、パンチングプレートなどの穴あき板であってもよい。また、デフレクタ１３０Ｄの素材には、特に制限はない。デフレクタ１３０Ｄは、例えば、金属、セラミックス又はプラスチックからなる。

上記の通り、デフレクタ１３０Ｄを使用した場合、流体ＳＬが端面ＥＦ１上に形成する層の厚さをより均一にすることができる。従って、デフレクタ１３０Ｄを使用すると、流体層の前端の位置をより均一にすることができる。

しかしながら、デフレクタ１３０Ｄとして網を使用した場合、その目詰まりを生じ易い。網に目詰まりを生じると、その位置で流体ＳＬの流れが妨げられる。この場合、流体ＳＬが端面ＥＦ１上に形成する層の厚さが不均一になり、その結果、流体層の前端の位置が不均一になる可能性がある。

また、図１４及び図１５を参照しながら説明したノズル１３０では、デフレクタ１３０Ｄの中心部は網目の大きさがより小さい網Ｍ２を含み、デフレクタ１３０Ｄの周縁部は網目の大きさがより大きい網Ｍ１を含んでいる。網Ｍ２は、網Ｍ１と比較して、流体ＳＬにより大きな剪断力を及ぼす。それ故、典型的には、デフレクタ１３０Ｄの周縁部を通過した流体ＳＬは、デフレクタ１３０Ｄの中央部を通過した流体ＳＬと比較して、より大きな動粘度を有している。このため、ノズル１３０からの流体ＳＬの吐出を停止したときに、板状部１３０Ｂの周縁部に設けられた吐出口ＤＰでは、板状部１３０Ｂの中心部に設けられた吐出口ＤＰと比較して、流体ＳＬが垂下し易い。従って、流体ＳＬがノズル１３０から垂れ落ちるのを防止するべく流体ＳＬをノズル１３０に吸い戻した場合、板状部１３０Ｂの周縁部において流体ＳＬを十分に吸い戻せないか、又は、板状部１３０Ｂの中心部においてノズル１３０内に空気が侵入する可能性がある。

以下に説明する構成を採用すると、網を使用することに起因した問題を回避するとともに、流体層の前端の位置のばらつきを小さくすることができる。

図１６は、更に他の変形例に係るノズルを概略的に示す平面図である。
図１６に示すノズル１３０は、吐出口ＤＰとして吐出口ＤＰ１乃至ＤＰ３が設けられていること以外は、図１乃至図５を参照しながら説明したノズル１３０と同様である。

吐出口ＤＰ１は、吐出口ＤＰ２及びＤＰ３と比較して径が小さい。吐出口ＤＰ１は、端面ＥＦ１の中心部又はその近傍に向けて流体ＳＬを吐出する。図１６では、板状部１３０Ｂに吐出口ＤＰ１を１つのみ設けているが、板状部１３０Ｂには複数の吐出口ＤＰ１を設けてもよい。

吐出口ＤＰ２は、吐出口ＤＰ１と比較して径が大きく、吐出口ＤＰ３と比較して径が小さい。吐出口ＤＰ２は、吐出口ＤＰ１を囲むように配置されている。

吐出口ＤＰ３は、吐出口ＤＰ１及びＤＰ２と比較して径が大きい。吐出口ＤＰ３は、吐出口ＤＰ１及びＤＰ２を囲むように配置されている。吐出口ＤＰ３は、端面ＥＦ１の周縁部に向けて流体ＳＬを吐出する。

この構造をノズル１３０に採用した場合、ノズル１３０に図１乃至図５を参照しながら説明した構造を採用した場合と比較して、板状部１３０Ｂの中心部に供給された流体ＳＬのより多くは板状部１３０Ｂの周縁部へ向けて移動する。即ち、この構造を採用した場合、デフレクタ１３０Ｄを使用することなしに、板状部１３０Ｂの中心部に供給される流体ＳＬの量と板状部１３０Ｂの周縁部に供給される流体ＳＬの量との差を減少させることが可能となる。換言すれば、流体層の前端の位置のばらつきを小さくすることが可能となる。

また、このノズル１３０は、デフレクタ１３０Ｄを含んでいない。従って、網を使用することに起因した問題を回避することができる。即ち、このノズル１３０は、網の目詰まりを生じることはない。また、流体ＳＬがノズル１３０から垂れ落ちるのを防止するべく流体ＳＬをノズル１３０に吸い戻した場合、板状部１３０Ｂの中心部においてノズル１３０内に空気が侵入するのを防止しつつ、板状部１３０Ｂの周縁部において流体ＳＬを十分に吸い戻すことができる。

吐出口ＤＰ１乃至ＤＰ３のうち輪郭ＯＬ１及びＯＬ２間に位置した部分、ここではＤＰ３が占有している領域の合計面積と、全ての吐出口ＤＰ１乃至ＤＰ３が占有している領域の合計面積との比は、例えば０．１以上であり、典型的には０．１乃至０．３の範囲内にある。この比は、０．４よりも大きくてもよい。このような構成を採用した場合、基材ＳＢの端面ＥＦ１の周縁領域に、基材ＳＢの端面ＥＦ１の中心領域と比較してより多量の流体ＳＬを供給することができる。それ故、この場合、端面ＥＦ１の中心領域から延びた孔における流体層の長さと端面ＥＦ１の周縁領域から延びた孔における流体層の長さとの差を、更に小さくすることが可能となる。従って、この場合、流体層の前端の位置のばらつきを更に小さくすることが可能となる。

図１６に示すノズル１３０には、様々な変形が可能である。
例えば、図１６を参照しながら説明したノズル１３０からは、吐出口ＤＰ１を省略してもよい。或いは、吐出口ＤＰ２又はＤＰ３を省略してもよい。また、ノズル１３０には、以下に説明する構成を採用してもよい。

図１７は、図１６に示すノズルの一変形例を概略的に示す断面図である。図１８は、図１７に示すノズルの平面図である。

図１７及び図１８に示すノズル１３０は、以下の構成を採用していること以外は、図１６を参照しながら説明したノズル１３０と同様である。即ち、このノズル１３０の板状部１３０Ｂには、吐出口ＤＰとして、吐出口ＤＰ１乃至ＤＰ３に加えて、吐出口ＤＰ４が設けられている。吐出口ＤＰ１乃至ＤＰ４は、それぞれ、第１乃至第４領域に配置されている。

第１領域は、板状部１３０Ｂのうち破線ＢＬ１で囲まれた領域である。端面ＥＦ１と破線ＢＬ１によって囲まれた領域とは、例えば、相似図形である。破線ＢＬ１によって囲まれた領域の最大径は、例えば、端面ＥＦ１の最大径と比較して１４０ｍｍ小さい。破線ＢＬ１で囲まれた領域内には、複数の吐出口ＤＰ１を設けてもよい。

第２領域は、破線ＢＬ１及びＢＬ２によって挟まれた領域である。破線ＢＬ１によって囲まれた領域と破線ＢＬ２によって囲まれた領域とは、例えば、相似図形である。これら相似図形が円以外である場合、破線ＢＬ１によって囲まれた領域と破線ＢＬ２によって囲まれた領域とは向きが等しい。破線ＢＬ２によって囲まれた領域の最大径は、例えば、端面ＥＦ１の最大径と比較して９５ｍｍ小さい。

第３領域は、破線ＢＬ２及びＢＬ３によって挟まれた領域である。破線ＢＬ１によって囲まれた領域と破線ＢＬ３によって囲まれた領域とは、例えば、相似図形である。これら相似図形が円以外である場合、破線ＢＬ１によって囲まれた領域と破線ＢＬ３によって囲まれた領域とは向きが等しい。破線ＢＬ３によって囲まれた領域の最大径は、例えば、端面ＥＦ１の最大径と比較して４５ｍｍ小さい。

第４領域は、破線ＢＬ３及びＢＬ４によって挟まれた領域である。破線ＢＬ１によって囲まれた領域と破線ＢＬ４によって囲まれた領域とは、例えば、相似図形である。これら相似図形が円以外である場合、破線ＢＬ１によって囲まれた領域と破線ＢＬ３によって囲まれた領域とは向きが等しい。破線ＢＬ４によって囲まれた領域の最大径は、例えば、端面ＥＦ１の最大径と等しい。

吐出口ＤＰ１は、板状部１３０Ｂのうち破線ＢＬ１で囲まれた領域に設けられている。ここでは、１つの吐出口ＤＰ１が破線ＢＬ１で囲まれた領域の中心に設けられている。

板状部１３０Ｂのうち破線ＢＬ１で囲まれた領域には、複数の吐出口ＤＰ１を設けてもよい。この場合、吐出口ＤＰ１は、円形状に配列していてもよく、同心円状に配列していてもよい。後者の場合、吐出口ＤＰ１が形成している円形状の配列は、吐出口ＤＰ１の径が互いに等しくてもよい。或いは、外側の円形状の配列は、内側の円形状の配列と比較して、吐出口ＤＰ１の径がより大きくてもよい。

吐出口ＤＰ１の径は、吐出口ＤＰ４の径と比較してより小さい。例えば、吐出口ＤＰ１の径は、吐出口ＤＰ２乃至ＤＰ４の径と比較してより小さい。或いは、吐出口ＤＰ１の径は、吐出口ＤＰ２の径と等しく、吐出口ＤＰ３の径以下であり、吐出口ＤＰ４の径と比較してより小さい。吐出口ＤＰ１の径と吐出口ＤＰ４の径との比は、例えば、０．４乃至０．５の範囲内にある。また、吐出口ＤＰ１が占有している領域の合計面積と、吐出口ＤＰ１乃至ＤＰ４が占有している領域の合計面積との比は、例えば、１：２０．０乃至１：１２０．０の範囲内にある。

吐出口ＤＰ２は、破線ＢＬ１及びＢＬ２によって挟まれた領域に設けられている。ここでは、吐出口ＤＰ２は、円形状に配列している。吐出口ＤＰ２が形成している円形状の配列の中心は、破線ＢＬ１で囲まれた領域の中心に位置している。吐出口ＤＰ２の径は、吐出口ＤＰ４の径と比較してより小さい。例えば、吐出口ＤＰ２の径は、吐出口ＤＰ３及びＤＰ４の径と比較してより小さい。或いは、吐出口ＤＰ２の径は、吐出口ＤＰ３の径と等しく、吐出口ＤＰ４の径と比較してより小さい。吐出口ＤＰ２の径と吐出口ＤＰ４の径との比は、例えば、０．５乃至０．６の範囲内にある。吐出口ＤＰ２が占有している領域の合計面積と、吐出口ＤＰ１乃至ＤＰ４が占有している領域の合計面積との比は、例えば、１：３．０乃至１：４０の範囲内にある。

吐出口ＤＰ２は、同心円状に配列していてもよい。この場合、吐出口ＤＰ２が形成している円形状の配列は、吐出口ＤＰ２の径が互いに等しくてもよい。或いは、外側の円形状の配列は、内側の円形状の配列と比較して、吐出口ＤＰ２の径がより大きくてもよい。

吐出口ＤＰ３は、破線ＢＬ２及びＢＬ３によって挟まれた領域に設けられている。ここでは、吐出口ＤＰ３は、同心円状に配列している。吐出口ＤＰ３が形成している同心円状の配列の中心は、破線ＢＬ１で囲まれた領域の中心に位置している。吐出口ＤＰ３の径は、吐出口ＤＰ４の径と比較してより小さい。吐出口ＤＰ３の径と吐出口ＤＰ４の径との比は、例えば、０．６乃至０．７の範囲内にある。吐出口ＤＰ３が占有している領域の合計面積と、吐出口ＤＰ１乃至ＤＰ４が占有している領域の合計面積との比は、例えば、１：１．３乃至１：８．０の範囲内にある。吐出口ＤＰ１は、円形状に配列していてもよい。

吐出口ＤＰ４は、破線ＢＬ３及びＢＬ４によって挟まれた領域に設けられている。吐出口ＤＰ４は、円形状に配列している。吐出口ＤＰ４が形成している円形状の配列の中心は、破線ＢＬ１で囲まれた領域の中心に位置している。吐出口ＤＰ４の径は、例えば、２ｍｍ乃至７ｍｍの範囲内にある。吐出口ＤＰ４が占有している領域の合計面積と、吐出口ＤＰ１乃至ＤＰ４が占有している領域の合計面積との比は、例えば、１：１．３乃至１：１．７の範囲内にある。

吐出口ＤＰ４は、同心円状に配列していてもよい。この場合、吐出口ＤＰ４が形成している円形状の配列の全ては、吐出口ＤＰ４の径が互いに等しくてもよい。或いは、外側の円形状の配列は、内側の円形状の配列と比較して、吐出口ＤＰ４の径がより大きくてもよい。

図１６乃至図１８を参照しながら説明したノズル１３０は、デフレクタ１３０Ｄを含んでいない。これらノズル１３０Ｄは、デフレクタ１３０Ｄを更に含んでいてもよい。

図１６乃至図１８を参照しながら説明したノズル１３０の板状部１３０Ｂは、円形状を有している。これらノズル１３０の板状部１３０Ｂは、他の形状を有していてもよい。

図１９は、図１６に示すノズルの他の変形例を概略的に示す平面図である。
図１９に示すノズル１３０は、板状部１３０Ｂが楕円形状を有している。このようなノズル１３０を用いると、基材ＳＢが楕円柱形状である場合であっても、基材ＳＢの端面ＥＦ１上に、比較的均一に流体ＳＬを供給することが可能となる。このように、板状部１３０Ｂは、様々な形状を有し得る。

なお、板状部１３０Ｂの形状は、吐出口の配列が形成する形状と対応している必要はない。例えば、基材ＳＢの端面ＥＦ１が楕円形状を有している場合、吐出口の配列が楕円形状を有していれば、板状部１３０Ｂは楕円形状を有していなくてもよい。

上述した全てのノズル１３０において、吐出口ＤＰの縁は、面取りすることができる。但し、吐出口ＤＰの下縁の形状は、吐出口ＤＰの閉塞に影響を及ぼす可能性がある。

図２０は、吐出口に採用可能な構造の一例を概略的に示す断面図である。図２１は、図２０に示す構造を採用した場合に生じ得る吐出口の閉塞の一例を概略的に示す断面図である。図２２は、吐出口に採用可能な構造の他の例を概略的に示す断面図である。

図２０及び図２２に示す吐出口ＤＰは、上縁と下縁との双方が面取りされている。即ち、この吐出口ＤＰには、ノズルの内部空間と隣接した縁とノズルの外部空間と隣接した縁とにそれぞれ面取り部ＢＶ１及びＢＶ２が設けられている。面取り部ＢＶ１及びＢＶ２の一方を設けると、それらの双方を設けない場合と比較して、バリによって流体ＳＬの流れが妨げられる可能性が低くなる。

但し、図２０に示す構造を採用した場合、スラリーＳＬの非供給時に、比較的多量のスラリーＳＬが面取り部ＢＶ２上に滞留する。それ故、図２０に示す構造を採用したノズル１３０を繰り返し使用すると、図２１に示すように、スラリーＳＬに由来する固形物ＳＬ’が吐出口ＤＰの下縁において成長することがある。そのような固形物ＳＬ’の成長を生じると、吐出口ＤＰの実効的な径が小さくなり、最終的には吐出口ＤＰは閉塞する可能性がある。

固形物ＳＬ’の成長は、図２２に示すように、面取り部ＢＶ２の幅Ｗを、特には幅Ｗと面取り部ＢＶ２の高さＨとの比Ｗ／Ｈを小さくすることにより抑制することができる。ここで、幅Ｗは、以下のように定義する。まず、板状部１３０Ｂの下面に平行な平面への面取り部ＢＶ２の正射影を考える。幅Ｗは、この正射影の内側の輪郭と外側の輪郭との最短距離である。また、高さＨは、板状部１３０Ｂの下面を含む平面を基準とした面取り部ＢＶ２の高さである。

幅Ｗは、例えば０ｍｍ乃至０．１ｍｍの範囲内とし、典型的には０．０３ｍｍ乃至０．１ｍｍの範囲内とする。また、比Ｗ／Ｈは、例えば０．５乃至２の範囲内とし、典型的には０．８乃至１の範囲内とする。幅Ｗ又は比Ｗ／Ｈが大きい場合、固形物ＳＬ’の成長を生じ易い。また、通常、幅Ｗ又は比Ｗ／Ｈが小さな面取り部ＢＶ２を形成しても、バリを十分に除去することはできない可能性がある。従って、幅Ｗ又は比Ｗ／Ｈは、バリを十分に除去可能な最も小さな値であることが好ましい。

図５、図９乃至図１１、図１８及び図１９には、円形状を有している吐出口ＤＰを描いているが、これら吐出口ＤＰは、円形状以外の形状を有していてもよい。例えば、これら吐出口ＤＰは、楕円形状を有していてもよい。

吐出口ＤＰ間の最短距離は、典型的には５ｍｍ乃至２０ｍｍの範囲内とする。この距離が過度に小さいと、流体ＳＬの供給速度、固形分濃度及び粘度が或る特定の範囲内にある場合に、隣り合った吐出口ＤＰから放出された流体ＳＬの流れが、吐出口ＤＰから放出された直後に互いに接触してしまう可能性がある。この場合、基材ＳＢの端面ＥＦ１に、流体ＳＬを均一に供給することが困難となる可能性がある。また、この距離が過度に長いと、流体ＳＬが端面ＥＦ１上に形成する層の厚さが不均一になる可能性がある。

板状部１３０Ｂの下面のうち吐出口ＤＰが占有している領域の合計面積は、例えば１８０ｍｍ²以上とする。この合計面積が過度に小さいと、流体ＳＬの流れの速度が過度に大きくなる。この場合、基材ＳＢの孔のうち、吐出口ＤＰの正面に位置した孔には、他の孔と比較して、より大量の流体ＳＬが供給される傾向にある。そして、この合計面積は、例えば２０００ｍｍ²以下とする。この合計面積が過度に大きいと、ノズル１３０の内部空間を流体ＳＬでほぼ完全に充填することができず、吐出口ＤＰ間で流体ＳＬの吐出量がばらつく可能性がある。

吐出口ＤＰの径の平均値は、典型的には、基材ＳＢに設けられた孔の直径の平均値と比較してより大きくする。この場合、ノズル１３０の吐出口を通過した流体ＳＬの流れの殆どは、基材ＳＢの孔の入口でその隔壁と接触する。流体ＳＬの流れが隔壁と接触すると、流れは端面ＥＦ１に平行な方向へと拡散し、孔の長さ方向における速度が低下する。そのため、流体層の前端の位置のばらつきを抑制し易くなる。吐出口ＤＰの径の平均値は、例えば２ｍｍ乃至７ｍｍの範囲内とする。

吐出口ＤＰは、例えば、第１多角形の面積が基材ＳＢの端面ＥＦ１の面積より小さくなるように設ける。典型的には、吐出口ＤＰは、上述した第１多角形と端面ＥＦ１の輪郭とを重ね合わせた場合に第１多角形が端面ＥＦ１の輪郭の内側に位置するように設ける。こうすると、流体ＳＬのガイド部材１５０への付着と、ガイド部材１５０と基材ＳＢとが形成している液溜めからの流体ＳＬの漏出とが生じ難くなる。

ノズル１３０の板状部１３０Ｂと基材ＳＢの端面ＥＦ１との双方が円形状を有している場合、板状部１３０Ｂの直径と端面ＥＦ１の直径との差は、例えば５ｍｍ以下とする。こうすると、ガイド部材１５０への流体ＳＬの付着を最小限とすることが可能となる。

以上、端面ＥＦ１に流体ＳＬを供給し、端面ＥＦ２側から、基材ＳＢに設けられている孔内の流体、典型的には気体を吸引するプロセスを説明した。この第１プロセスに続いて、以下の第２プロセスを実行してもよい。

基材ＳＢの隔壁上への流体層の形成を終えた後、基材ＳＢからガイド部材１５０を取り外し、更に、支持体１４０から基材ＳＢを取り外す。次に、第１プロセスにおいて形成した流体層を必要に応じて乾燥させ、この基材ＳＢの上下を逆にする。次いで、これを、タンク１１０が異なる種類の流体ＳＬを収容していること以外は上述した装置１００と同様の製造装置へと搬送する。そして、この製造装置において、基材ＳＢの端面ＥＦ２側から流体を供給すること以外は上述したのと同様の方法により、基材ＳＢの隔壁上に第２の流体層を形成する。

その後、必要に応じて流体層を乾燥させ、更に、これを焼成する。以上のようにして、異なる組成を有している触媒層が基材ＳＵＢの上流部と下流部とに形成された排ガス浄化用触媒を得る。

以下に、本発明の例を記載する。
＜例１＞
（予備試験１）
固形分濃度が３５質量％であり、せん断速度が２００ｓ^-1である場合の粘度が２００ｍＰａ・ｓであり、せん断速度が０．４ｓ^-1である場合の粘度が８０００ｍＰａ・ｓであるスラリーを準備した。以下、このスラリーを「スラリーＳ１」と呼ぶ。

図１乃至図４を参照しながら説明した製造装置１００を準備した。ここでは、ノズル１３０には、図９を参照しながら説明したのと類似した構造を採用した。具体的には、ここで使用したノズル１３０の板状部１３０Ｂは、長軸及び短軸の長さがそれぞれ１７５ｍｍ及び１２０ｍｍである楕円形状を有していた。また、この板状部１３０Ｂには、５３個の吐出口ＤＰが同心円状に設けられていた。これら吐出口ＤＰの各々は、直径が５ｍｍの円形状を有しており、これら吐出口ＤＰ間の最短距離は５ｍｍであった。

次に、この製造装置１００にモノリス基材ＳＢを設置することなしに、第１乃至第３流通口の接続を第１状態とし、３００ｇのスラリーＳ１を、タンク１１０からシリンジ１２０へと移動させた。次いで、この接続を第１状態から第２状態へと切り替え、上記のスラリーＳ１を、シリンジ１２０からノズル１３０へと供給した。この際、各吐出口ＤＰが吐出したスラリーＳ１の質量を測定した。

以上の操作を繰り返し、同一の吐出口ＤＰが吐出したスラリーＳ１の質量の平均値を計算した。そして、これら平均値の最大値と最小値との差を「排出量のばらつき」として求めた。その結果を以下の表１に示す。

（本試験１）
予備試験１において使用した製造装置１００に、モノリス基材ＳＢを設置した。ここでは、楕円柱形状を有しているモノリス基材ＳＢを使用した。基材ＳＢの端面ＥＦ１の長軸及び短軸の長さは、それぞれ、１４７ｍｍ及び９７ｍｍであった。基材ＳＢは、その端面ＥＦ１の長軸がノズル１３０の板状部１３０Ｂの長さ方向に対して平行になるように設置した。

次に、第１乃至第３流通口の接続を第１状態とし、２００ｇのスラリーＳ１を、タンク１１０からシリンジ１２０へと移動させた。次いで、この接続を第１状態から第２状態へと切り替え、上記のスラリーＳ１を、シリンジ１２０からノズル１３０へと供給した。続いて、接続を第２状態としたまま、ピストン１２０Ｂを、１ｍＬのスラリーＳ１に相当する距離だけ引き戻した。その後、基材ＳＢの端面ＥＦ２から、上述した吸引処理を行った。このようにして、基材ＳＢ上に、スラリーＳ１を塗布した。

以上の操作を、１０個の基材ＳＢに対して繰り返した。そして、以下の評価を行った。

即ち、流体層の前端の位置のばらつきを求めた。具体的には、スラリーＳ１を塗布した基材ＳＢの各々について、流体層の長さの最大値と最小値との差を求めた。そして、この差の平均値を「流体層の前端の位置のばらつき」として求めた。

また、スラリーＳ１の非供給時における吐出口ＤＰからのスラリーＳ１の垂れ落ちの有無を、目視で確認した。
これらの結果を、以下の表１に纏める。

＜例２＞
図６を参照しながら説明した方法により、モノリス基材ＳＢに２００ｇのスラリーＳ１を供給した。ここでは、例１において使用したのと同様のモノリス基材ＳＢを使用した。次に、図７を参照しながら説明したレベリング処理を行った。その後、例１において行ったのと同様の吸引処理を行った。そして、本試験１において行ったのと同様の評価を行った。その結果を、下記表１に示す。

表１に示すように、例１に係る方法を採用した場合、例２に係る方法を採用した場合と比較して、流体層の前端の位置のばらつきをより小さくすることができた。

＜例３＞
（予備試験２）
図２３に示す構造をノズル１３０に採用したこと以外は例１で使用したのと同様の製造装置１００を準備した。具体的には、ここで使用したノズル１３０の板状部１３０Ｂは、直径が１１３ｍｍの円形状を有していた。この板状部１３０Ｂには、３７個の吐出口ＤＰが同心円状に設けられていた。これら吐出口ＤＰの各々は、直径が５ｍｍの円形状を有していた。これら吐出口ＤＰは均一に分布しており、それらの最短距離は５ｍｍであった。

次に、第１乃至第３流通口の接続を第１状態とし、３００ｇのスラリーＳ１を、タンク１１０からシリンジ１２０へと移動させた。

次いで、第１乃至第３流通口の接続を第１状態から第２状態へと切り替え、上記のスラリーＳ１を、シリンジ１２０からノズル１３０へと供給した。この際、図２３に示す吐出口ＤＰ１、ＤＰ２Ｒ、ＤＰ２Ｌ、ＤＰ３Ｒ、ＤＰ３Ｌ、ＤＰ４Ｒ、及びＤＰ４Ｌの各々が吐出したスラリーＳ１の質量を測定した。その結果を、図２４に示す。

（本試験２）
予備試験２において使用した製造装置１００に、円柱形状を有しており、端面ＥＦ１の直径が１０３ｍｍであるモノリス基材ＳＢを設置した。次に、第１乃至第３流通口の接続を第１状態とし、２００ｇのスラリーＳ１を、タンク１１０からシリンジ１２０へと移動させた。次いで、この接続を第１状態から第２状態へと切り替え、上記のスラリーＳ１を、シリンジ１２０からノズル１３０へと供給した。続いて、接続を第２状態としたまま、ピストン１２０Ｂを１ｍＬのスラリーＳ１に相当する距離だけ引き戻した。その後、基材ＳＢの端面ＥＦ２から、上述した吸引処理を行った。このようにして、基材ＳＢ上に、スラリーＳ１を塗布した。

以上の操作を、１０個の基材ＳＢに対して繰り返した。そして、本試験１において行ったのと同様の評価を行った。これらの結果を、下記表２に纏める。

＜例４＞
ノズル１３０の中空部１３０Ａ内に図１３に示すデフレクタ１３０Ｄが設置されたこと以外は例３で使用したのと同様の製造装置１００を準備した。ここで使用したデフレクタ１３０Ｄは、直径が１１３ｍｍであり且つ網目の大きさが０．８ｍｍである円形状の網Ｍ１であった。この網Ｍ１は、３ｍｍの距離Ｈを隔てて板状部１３０Ｂと向き合うように設置した。

この製造装置１００を用いたこと以外は予備試験２及び本試験２において行ったのと同様の評価を行った。その結果を、下記表２に纏める。

＜例５＞
ノズル１３０の中空部１３０Ａ内に図１５に示すデフレクタ１３０Ｄが設置されたこと以外は例３で使用したのと同様の製造装置１００を準備した。ここで使用したデフレクタ１３０Ｄは、２つの網Ｍ１及びＭ２を重ね合わせたものであった。網Ｍ１は、直径が１１３ｍｍの円形状を有していた。網Ｍ１の網目の大きさは１．２ｍｍであった。網Ｍ２は、直径が８５ｍｍの円形状を有していた。網Ｍ２の網目の大きさは０．８ｍｍであった。これら網Ｍ１及びＭ２は、中心位置が一致するように重ね合わせた。また、これら網Ｍ１及びＭ２からなるデフレクタ１３０Ｄは、３ｍｍの距離Ｈを隔てて板状部１３０Ｂと向き合うように設置した。

この製造装置１００を用いたこと以外は予備試験２及び本試験２において行ったのと同様の評価を行った。その結果を、図２５及び下記表２に纏める。

表１に示す例２のデータと表２に示す例３乃至例５のデータとを比較すると、例３乃至例５では、例２と比較して、排出量のばらつきと流体層の前端の位置のばらつきとがより小さい。即ち、複数の吐出口が設けられたノズル１３０を用いることにより、排出量のばらつきと、流体層の前端の位置のばらつきとを小さくすることができた。

また、表２に示す例３乃至例５のデータを又は図２４及び図２５に示すデータを比較すると、例４及び例５では、例３と比較して、ノズル１３０の吐出口が吐出する流体ＳＬの量のばらつきが小さい。即ち、ノズル１３０の中空部１３０Ａ内にデフレクタ１３０Ｄを配置することにより、ノズル１３０の吐出口が吐出する流体ＳＬの量をより均一にすることができた。

＜例６＞
以下の構造をノズル１３０に採用したこと以外は例３で使用したのと同様の製造装置１００を準備した。ここで使用したノズル１３０の板状部１３０Ｂは、直径が１１３ｍｍの円形状を有していた。この板状部１３０Ｂには、３７個の吐出口が同心円状に設けられていた。これら吐出口の各々は、直径が５ｍｍの円形状を有していた。これら吐出口は均一に分布しており、それらの最短距離は８ｍｍであった。

次に、固形分濃度が２０質量％であり、せん断速度が２００ｓ^-1である場合の粘度が２００ｍＰａ・ｓであり、せん断速度が０．４ｓ^-1である場合の粘度が８０００ｍＰａ・ｓであるスラリーを準備した。以下、このスラリーを「スラリーＳ２」と呼ぶ。

その後、上記の製造装置１００に、円柱形状を有しており、端面ＥＦ１の直径が１０３ｍｍであるモノリス基材ＳＢを設置した。次に、第１乃至第３流通口の接続を第１状態とし、２００ｇのスラリーＳ２を、タンク１１０からシリンジ１２０へと移動させた。次いで、この接続を第１状態から第２状態へと切り替え、上記のスラリーＳ２を、シリンジ１２０からノズル１３０へと供給した。続いて、接続を第２状態としたまま、ピストン１２０Ｂを１ｍＬのスラリーＳ２に相当する距離だけ引き戻した。その後、基材ＳＢの端面ＥＦ２から、上述した吸引処理を行った。そして、本試験１において行ったのと同様の評価を行った。

その結果、スラリーＳ２の非供給時における吐出口からのスラリーＳ２の垂れ落ちは生じなかった。また、流体層の前端の位置のばらつきは４ｍｍ以下であった。

＜例７＞
図５に示す構成の代わりに、図１０に示す構成をノズル１３０に採用したこと以外は、例６において使用したのと同様の製造装置１００を準備した。ここで使用したノズル１３０の板状部１３０Ｂは、直径が１１３ｍｍの円形状を有していた。この板状部１３０Ｂには、１２個の吐出口が同心円状に設けられていた。これら吐出口の各々は、直径が５ｍｍの円形状を有していた。これら吐出口のうちの８個は、板状部１３０Ｂの中心から吐出口の中心までの距離が３９ｍｍとなるように、互いに等しい間隔で配置されていた。また、これら吐出口の残りの４個は、板状部１３０Ｂの中心から吐出口の中心までの距離が１９．５ｍｍとなるように、互いに等しい間隔で配置されていた。

この製造装置１００を用いたこと以外は例６において行ったのと同様の評価を行った。その結果、スラリーＳ２の非供給時における吐出口からのスラリーＳ２の垂れ落ちは生じなかった。また、流体層の前端の位置のばらつきは４ｍｍ以下であった。

＜例８＞
以下の構造をノズル１３０に採用したこと以外は例１で使用したのと同様の製造装置１００を準備した。ここで使用したノズル１３０の板状部１３０Ｂは、長軸及び短軸の長さがそれぞれ１７５ｍｍ及び１２０ｍｍの楕円状を有していた。この板状部１３０Ｂには、５７個の吐出口が同心円状に設けられていた。これら吐出口の各々は、直径が５ｍｍの円形状を有していた。これら吐出口は均一に分布しており、それらの最短距離は５ｍｍであった。

次に、固形分濃度が３５質量％であり、せん断速度が２００ｓ^-1である場合の粘度が２００ｍＰａ・ｓであり、せん断速度が０．４ｓ^-1である場合の粘度が８０００ｍＰａ・ｓであるスラリーを準備した。以下、このスラリーを「スラリーＳ３」と呼ぶ。

その後、上記の製造装置１００に、モノリス基材ＳＢを設置した。ここでは、楕円柱形状を有しているモノリス基材ＳＢを使用した。基材ＳＢの端面ＥＦ１の長軸及び短軸の長さは、それぞれ、１４７ｍｍ及び９５ｍｍであった。基材ＳＢは、その端面ＥＦ１の長軸がノズル１３０の板状部１３０Ｂの長さ方向に対して平行になるように設置した。

次に、第１乃至第３流通口の接続を第１状態とし、４００ｇのスラリーＳ３を、タンク１１０からシリンジ１２０へと移動させた。次いで、この接続を第１状態から第２状態へと切り替え、上記のスラリーＳ３を、シリンジ１２０からノズル１３０へと供給した。続いて、接続を第２状態としたまま、ピストン１２０Ｂを１ｍＬのスラリーＳ３に相当する距離だけ引き戻した。その後、基材ＳＢの端面ＥＦ２から、上述した吸引処理を行った。そして、本試験１において行ったのと同様の評価を行った。

その結果、スラリーＳ３の非供給時における吐出口からのスラリーＳ３の垂れ落ちは生じなかった。また、流体層の前端の位置のばらつきは４ｍｍ以下であった。

＜例９＞
図６を参照しながら説明した方法により、モノリス基材ＳＢに２００ｇのスラリーＳ２を供給した。ここでは、例６において使用したのと同様のモノリス基材ＳＢを使用した。次に、図７を参照しながら説明したレベリング処理を行った。その後、例６において行ったのと同様の吸引処理を行った。そして、本試験１において行ったのと同様の評価を行った。その結果、基材ＳＢの端面ＥＦ１と流体層の端の位置との間の距離の最大値と最小値との差は２２．０ｍｍであった。

＜例１０＞
（予備試験３）
図２６に示す構造をノズル１３０に採用したこと以外は例１で使用したのと同様の製造装置１００を準備した。具体的には、ここで使用したノズル１３０の板状部１３０Ｂは、直径が１７０ｍｍの円形状を有していた。この板状部１３０Ｂには、各々が円形状を有しており、同心円状に配置された６１個の吐出口が設けられていた。

具体的には、板状部１３０Ｂの中心部には、径が２．９ｍｍの吐出口が設けられていた。この中心部から１３ｍｍ離れた位置には、各々の径が２．９ｍｍである６個の吐出口が、円形状の配列を形成するように等間隔に配置されていた。板状部１３０Ｂの中心部から２６ｍｍ離れた位置には、各々の径が３．４ｍｍである１２個の吐出口が、円形状の配列を形成するように等間隔に配置されていた。板状部１３０Ｂの中心部から３９ｍｍ離れた位置には、各々の径が３．４ｍｍである１８個の吐出口が、円形状の配列を形成するように等間隔に配置されていた。板状部１３０Ｂの中心部から５２ｍｍ離れた位置には、各々の径が５ｍｍである２４個の吐出口が、円形状の配列を形成するように等間隔に配置されていた。

次に、固形分濃度が３５質量％であり、０．４ｓ^-1における粘度が３００００ｍＰａ・ｓであり、２００ｓ^-1における粘度が３００ｍＰａ・ｓであるスラリーを準備した。以下、このスラリーを「スラリーＳ４」と呼ぶ。

次に、第１乃至第３流通口の接続を第１状態とし、２００ｇのスラリーＳ４を、タンク１１０からシリンジ１２０へと移動させた。

次いで、第１乃至第３流通口の接続を第１状態から第２状態へと切り替え、上記のスラリーＳ４を、シリンジ１２０からノズル１３０へと供給した。この際、図２６に示す吐出口ＤＰ１、ＤＰ２Ｒ、ＤＰ２Ｌ、ＤＰ３Ｒ、ＤＰ３Ｌ、ＤＰ４Ｒ、ＤＰ４Ｌ、ＤＰ５Ｒ及びＤＰ５Ｌの各々が吐出したスラリーＳ４の質量を測定した。その結果を、図２７に示す。

（本試験３）
予備試験３において使用した製造装置１００に、円柱形状を有しており、端面ＥＦ１の直径が１２９ｍｍであるモノリス基材ＳＢを設置した。次に、第１乃至第３流通口の接続を第１状態とし、２００ｇのスラリーＳ４を、タンク１１０からシリンジ１２０へと移動させた。次いで、この接続を第１状態から第２状態へと切り替え、上記のスラリーＳ４を、シリンジ１２０からノズル１３０へと供給した。続いて、接続を第２状態としたまま、ピストン１２０Ｂを１ｍＬのスラリーＳ４に相当する距離だけ引き戻した。その後、基材ＳＢの端面ＥＦ２から、上述した吸引処理を行った。このようにして、基材ＳＢ上に、スラリーＳ４を塗布した。

以上の操作を、１０個の基材ＳＢに対して繰り返した。そして、本試験１において行ったのと同様の評価を行った。また、各基材ＳＢに供給されたスラリーＳ４の量を測定し、スラリー供給量について標準偏差σを求めた。

これらの結果を、下記表３に纏める。

＜例１１＞
図２６に示す構成の代わりに、図２８に示す構成をノズル１３０に採用したこと以外は、例１０において使用したのと同様の製造装置１００を準備した。ここで使用したノズル１３０の板状部１３０Ｂは、直径が１５０ｍｍの円形状を有していた。この板状部１３０Ｂには、各々が円形状を有しており、同心円状に配置された３７個の吐出口が設けられていた。

具体的には、板状部１３０Ｂの中心部には、径が２．９ｍｍの吐出口が設けられていた。この中心部から１３ｍｍ離れた位置には、各々の径が３．４ｍｍである６個の吐出口が、円形状の配列を形成するように等間隔に配置されていた。板状部１３０Ｂの中心部から２６ｍｍ離れた位置には、各々の径が３．４ｍｍである１２個の吐出口が、円形状の配列を形成するように等間隔に配置されていた。板状部１３０Ｂの中心部から３９ｍｍ離れた位置には、各々の径が５ｍｍである１８個の吐出口が、円形状の配列を形成するように等間隔に配置されていた。

この製造装置１００を用いたこと以外は例１０において行ったのと同様の評価を行った。これらの結果を、下記表３に纏める。

＜例１２＞
図２６に示す構造の代わりに、例５において使用したのと同様の構造をノズル１３０に採用したこと以外は、例１０で使用したのと同様の製造装置１００を準備した。この製造装置１００を用いたこと以外は例１０において行ったのと同様の評価を行った。これらの結果を、下記表３に纏める。

表１に示す例２のデータと表３に示す例１０乃至例１２のデータとを比較すると、例１０乃至例１２では、例２と比較して、排出量のばらつきと流体層の前端の位置のばらつきとがより小さい。即ち、複数の吐出口が設けられたノズル１３０を用いることにより、吐出口ＤＰ間での排出量のばらつきと、流体層の前端の位置のばらつきとを小さくすることができた。

また、表３に示す例１０乃至例１２のデータを比較すると、例１０乃至例１２では、吐出口ＤＰ間での排出量のばらつきの程度はほぼ同等であった。そして、例１０乃至例１２では、流体層の前端の位置のばらつきの程度もほぼ同等であった。

しかしながら、例１０及び例１１ではスラリーの垂れ落ちを生じなかったのに対し、例１２ではスラリーの垂れ落ちを生じた。また、例１０及び例１１では、例１２と比較して、スラリー供給量のばらつきは小さかった。この結果は、剪断力を作用させることによって粘度が大幅に減少するスラリーを使用した場合、網を使用しない構成が有利であることを示している。

更なる利益及び変形は、当業者には容易である。それ故、本発明は、そのより広い側面において、ここに記載された特定の記載や代表的な態様に限定されるべきではない。従って、添付の請求の範囲及びその等価物によって規定される本発明の包括的概念の真意又は範囲から逸脱しない範囲内で、様々な変形が可能である。
以下に、当初の特許請求の範囲に記載していた発明を付記する。
［１］
第１及び第２端面を有し、前記第１端面から前記第２端面へ向けて各々が延びた複数の孔が設けられた基材に、触媒層の原料を含んだ流体を吐出するように構成されたノズルであって、各々が前記流体を前記基材の前記第１端面へ向けて吐出する複数の吐出口が設けられたノズル。
［２］
前記複数の吐出口の配列の周縁部では、前記複数の吐出口の配列の中心部と比較して、前記吐出口の径がより大きい［１］に記載のノズル。
［３］
前記複数の吐出口は同心状に配列している［２］に記載のノズル。
［４］
前記複数の吐出口の各々の前記ノズルの外部空間と隣接した縁は面取りされており、この面取り部の幅は０．５ｍｍ以下である［１］に記載のノズル。
［５］
内部に内部空間を規定する中空部であって、前記内部空間と前記中空部の外側の外部空間とを接続する第１及び第２開口が設けられ、前記第１開口を通って前記内部空間へと前記流体が供給されるように構成された中空部と、
前記第２開口を塞ぎ、前記複数の吐出口が設けられた板状部と、
前記中空部内に設置されたデフレクタと
を具備した［１］に記載のノズル。
［６］
前記デフレクタは、前記中空部の前記内部空間を、前記板状部と隣接した下流領域と、前記下流領域と前記第１開口との間に位置した上流領域とに仕切っており、前記上流領域と前記下流領域とを接続する複数の貫通孔が設けられた［５］に記載のノズル。
［７］
前記デフレクタは、前記複数の貫通孔の一部として複数の第１貫通孔が設けられた中心部と、前記中心部を取り囲み、前記複数の貫通孔の残りとして複数の第２貫通孔が設けられた周縁部とを含み、前記中心部の面積に対する前記複数の第１貫通孔が占有している領域の合計面積の比は、前記周縁部の面積に対する前記複数の第２貫通孔が占有している領域の合計面積の比と比較してより小さい［６］に記載のノズル。
［８］
前記複数の吐出口の全てを取り囲み且つ最小の面積を有している第１凸多角形と、前記第１凸多角形の面積の０．６倍の面積を有している第２凸多角形であって、前記第２凸多角形の輪郭のあらゆる位置において前記第２凸多角形から前記第１凸多角形の輪郭までの距離が一定であるように前記第１凸多角形の輪郭の内側に位置を定められた第２凸多角形とを仮定した場合に、前記複数の吐出口のうち前記第１及び第２凸多角形の輪郭間に位置した部分が占有している領域の合計面積と、前記複数の排出口が占有している領域の合計面積との比は０．１以上である［１］に記載のノズル。
［９］
前記複数の吐出口間の最短距離は５ｍｍ以上である［８］に記載のノズル。
［１０］
前記基材を支持する支持体と、
［１］乃至［９］の何れか１項に記載のノズルと
を具備した排ガス浄化用触媒の製造装置。
［１１］
前記流体を貯蔵するタンクと前記流体を前記ノズルに供給すべく排出する排出口とを含んだ流体供給装置と、
前記排出口に接続され、前記流体供給装置から前記流体が供給される第１端部と、前記ノズルに接続され、前記ノズルに前記流体を供給する第２端部とを含んだ導管と
を更に具備し、
前記導管中の前記流体の流れ方向に垂直な面と前記導管の内壁との交線上の点であって、重力方向に垂直な一平面を基準とした高さが最大である点を前記流れ方向に沿って結んでなる曲線は、前記導管の前記排出口との接続位置から、前記導管の前記ノズルとの接続位置にかけて、前記高さが単調に減少している［１０］に記載の排ガス浄化用触媒の製造装置。
［１２］
前記複数の吐出口から垂れ下がっているか又は前記複数の吐出口内にある前記流体を吸い戻す吸引装置を更に具備した［１０］に記載の排ガス浄化用触媒の製造装置。
［１３］
一定量の前記流体を前記ノズルに供給する供給動作と、前記ノズル内の前記流体の一部を吸い戻す吸引動作とを行う流体供給装置と、
連続操業の間、前記供給動作を繰り返し、前記連続操業を中断する際に、前記吸引動作を行うように前記流体供給装置の動作を制御するコントローラと
を更に具備した［１０］に記載の排ガス浄化用触媒の製造装置。
［１４］
前記流体供給装置は、前記流体を貯蔵するタンクと、シリンダと前記シリンダ内で直動可能なピストンとを備えたシリンジと、前記ピストンを前記シリンダ内で前記シリンダに対して相対的に直動させる駆動機構と、前記タンクに接続された第１流通口と、前記シリンダに接続された第２流通口と、前記ノズルに接続された第３流通口と、切替機構とを備え、前記切替機構は、前記第１乃至第３流通口の接続を、前記第１及び第２流通口が互いに接続され且つ前記第３流通口が前記第１及び第２流通口から遮断された第１状態と、前記第２及び第３流通口が互いに接続され且つ前記第１流通口が前記第２及び第３流通口から遮断された第２状態との間で切り替える切替装置とを含み、
前記コントローラは、前記連続操業の間、前記第１乃至第３流通口の接続を前記第１状態として前記ピストンをその先端が前記シリンダの底部から遠ざかるように前記シリンダに対して相対的に直動させることにより、前記タンクから前記シリンジへと前記流体の一部を抜き取る第１動作と、前記第１乃至第３流通口の接続を前記第２状態として前記ピストンをその先端が前記シリンダの底部に近づくように前記シリンダに対して相対的に直動させることにより、前記シリンジから前記ノズルへと一定量の前記流体を供給する第２動作とが交互に行われ、前記連続操業を中断する際に、前記第１乃至第３流通口の接続を前記第２状態として前記ピストンの先端が前記シリンダの底部から遠ざかるように前記ピストンを前記シリンダに対して相対的に直動させることにより、前記複数の吐出口から垂れ下がっているか又は前記複数の吐出口内にある前記流体を吸い戻す第３動作が行われるように、前記切替機構及び前記駆動機構の動作を制御する［１３］に記載の排ガス浄化用触媒の製造装置。
［１５］
一定量の前記流体を前記ノズルに供給する供給動作と、前記複数の吐出口から垂れ下がっているか又は前記複数の吐出口内にある前記流体を吸い戻す吸引動作とを行う流体供給装置と、
前記供給動作と前記吸引動作とを交互に繰り返すように前記流体供給装置の動作を制御するコントローラと
を更に具備した［１０］に記載の排ガス浄化用触媒の製造装置。
［１６］
前記流体供給装置は、前記流体を貯蔵するタンクと、シリンダと前記シリンダ内で直動可能なピストンとを備えたシリンジと、前記ピストンを前記シリンダ内で前記シリンダに対して相対的に直動させる駆動機構と、前記タンクに接続された第１流通口と、前記シリンダに接続された第２流通口と、前記ノズルに接続された第３流通口と、切替機構とを備え、前記切替機構は、前記第１乃至第３流通口の接続を、前記第１及び第２流通口が互いに接続され且つ前記第３流通口が前記第１及び第２流通口から遮断された第１状態と、前記第２及び第３流通口が互いに接続され且つ前記第１流通口が前記第２及び第３流通口から遮断された第２状態との間で切り替える切替装置とを含み、
前記コントローラは、前記第１乃至第３流通口の接続を前記第１状態として前記ピストンをその先端が前記シリンダの底部から遠ざかるように前記シリンダに対して相対的に直動させることにより、前記タンクから前記シリンジへと前記流体の一部を抜き取る第１動作と、前記第１乃至第３流通口の接続を前記第２状態として前記ピストンをその先端が前記シリンダの底部に近づくように前記シリンダに対して相対的に直動させることにより、前記シリンジから前記ノズルへと一定量の前記流体を供給する第２動作と、前記第２状態において、前記ピストンの先端が前記シリンダの底部から遠ざかるように前記ピストンを前記シリンダに対して相対的に直動させることにより、前記複数の吐出口から垂れ下がっているか又は前記複数の吐出口内にある前記流体を吸い戻す第３動作とがこの順に繰り返されるように、前記切替機構及び前記駆動機構の動作を制御する［１５］に記載の排ガス浄化用触媒の製造装置。
［１７］
前記ノズルが前記基材の前記第１端面に向けて前記流体を吐出するのに先立って、枠形状を有しているガイド部材を、前記基材と前記端面の位置で隣り合った領域を取り囲むように配置して、前記流体を受ける受け皿を形成する取付機構を更に具備した［１０］乃至［１６］の何れか１項に記載の排ガス浄化用触媒の製造装置。
［１８］
前記基材に、［１］乃至［９］の何れか１項に記載のノズルを用いて前記流体を供給することを含んだ排ガス浄化用触媒の製造方法。

Claims

第１及び第２端面を有し、前記第１端面から前記第２端面へ向けて各々が延びた複数の孔が設けられた基材に、触媒層の原料を含んだ流体を吐出するように構成されたノズルであって、各々が前記流体を前記基材の前記第１端面へ向けて吐出する複数の吐出口が設けられ、
前記ノズルは、
内部に内部空間を規定する中空部であって、前記内部空間と前記中空部の外側の外部空間とを接続する第１及び第２開口が設けられ、前記第１開口を通って前記内部空間へと前記流体が供給されるように構成された中空部と、
前記第２開口を塞ぎ、前記複数の吐出口が設けられた板状部と、
前記中空部内に設置されたデフレクタと
を具備したノズル。
前記デフレクタは、前記中空部の前記内部空間を、前記板状部と隣接した下流領域と、前記下流領域と前記第１開口との間に位置した上流領域とに仕切っており、前記上流領域と前記下流領域とを接続する複数の貫通孔が設けられた請求項１に記載のノズル。
前記デフレクタは、前記複数の貫通孔の一部として複数の第１貫通孔が設けられた中心部と、前記中心部を取り囲み、前記複数の貫通孔の残りとして複数の第２貫通孔が設けられた周縁部とを含み、前記中心部の面積に対する前記複数の第１貫通孔が占有している領域の合計面積の比は、前記周縁部の面積に対する前記複数の第２貫通孔が占有している領域の合計面積の比と比較してより小さい請求項２に記載のノズル。
前記基材を支持する支持体と、
請求項１乃至３の何れか１項に記載のノズルと
を具備した排ガス浄化用触媒の製造装置。
前記基材に、請求項１乃至３の何れか１項に記載のノズルを用いて前記流体を供給することを含んだ排ガス浄化用触媒の製造方法。
第１及び第２端面を有し、前記第１端面から前記第２端面へ向けて各々が延びた複数の孔が設けられた基材を支持する支持体と、
前記基材に触媒層の原料を含んだ流体を吐出するように構成されたノズルであって、各々が前記流体を前記基材の前記第１端面へ向けて吐出する複数の吐出口が設けられたノズルと
を具備し、
前記流体を貯蔵するタンクと前記流体を前記ノズルに供給すべく排出する排出口とを含んだ流体供給装置と、
前記排出口に接続され、前記流体供給装置から前記流体が供給される第１端部と、前記ノズルに接続され、前記ノズルに前記流体を供給する第２端部とを含んだ導管と
を更に具備し、
前記導管中の前記流体の流れ方向に垂直な面と前記導管の内壁との交線上の点であって、重力方向に垂直な一平面を基準とした高さが最大である点を前記流れ方向に沿って結んでなる曲線は、前記導管の前記排出口との接続位置から、前記導管の前記ノズルとの接続位置にかけて、前記高さが単調に減少している排ガス浄化用触媒の製造装置。
第１及び第２端面を有し、前記第１端面から前記第２端面へ向けて各々が延びた複数の孔が設けられた基材を支持する支持体と、
前記基材に触媒層の原料を含んだ流体を吐出するように構成されたノズルであって、各々が前記流体を前記基材の前記第１端面へ向けて吐出する複数の吐出口が設けられたノズルと
を具備し、
前記複数の吐出口から垂れ下がっているか又は前記複数の吐出口内にある前記流体を吸い戻す吸引装置を更に具備した排ガス浄化用触媒の製造装置。
第１及び第２端面を有し、前記第１端面から前記第２端面へ向けて各々が延びた複数の孔が設けられた基材を支持する支持体と、
前記基材に触媒層の原料を含んだ流体を吐出するように構成されたノズルであって、各々が前記流体を前記基材の前記第１端面へ向けて吐出する複数の吐出口が設けられたノズルと
を具備し、
一定量の前記流体を前記ノズルに供給する供給動作と、前記ノズル内の前記流体の一部を吸い戻す吸引動作とを行う流体供給装置と、
連続操業の間、前記供給動作を繰り返し、前記連続操業を中断する際に、前記吸引動作を行うように前記流体供給装置の動作を制御するコントローラと
を更に具備した排ガス浄化用触媒の製造装置。
前記流体供給装置は、前記流体を貯蔵するタンクと、シリンダと前記シリンダ内で直動可能なピストンとを備えたシリンジと、前記ピストンを前記シリンダ内で前記シリンダに対して相対的に直動させる駆動機構と、前記タンクに接続された第１流通口と、前記シリンダに接続された第２流通口と、前記ノズルに接続された第３流通口と、切替機構とを備え、前記切替機構は、前記第１乃至第３流通口の接続を、前記第１及び第２流通口が互いに接続され且つ前記第３流通口が前記第１及び第２流通口から遮断された第１状態と、前記第２及び第３流通口が互いに接続され且つ前記第１流通口が前記第２及び第３流通口から遮断された第２状態との間で切り替える切替装置とを含み、
前記コントローラは、前記連続操業の間、前記第１乃至第３流通口の接続を前記第１状態として前記ピストンをその先端が前記シリンダの底部から遠ざかるように前記シリンダに対して相対的に直動させることにより、前記タンクから前記シリンジへと前記流体の一部を抜き取る第１動作と、前記第１乃至第３流通口の接続を前記第２状態として前記ピストンをその先端が前記シリンダの底部に近づくように前記シリンダに対して相対的に直動させることにより、前記シリンジから前記ノズルへと一定量の前記流体を供給する第２動作とが交互に行われ、前記連続操業を中断する際に、前記第１乃至第３流通口の接続を前記第２状態として前記ピストンの先端が前記シリンダの底部から遠ざかるように前記ピストンを前記シリンダに対して相対的に直動させることにより、前記複数の吐出口から垂れ下がっているか又は前記複数の吐出口内にある前記流体を吸い戻す第３動作が行われるように、前記切替機構及び前記駆動機構の動作を制御する請求項８に記載の排ガス浄化用触媒の製造装置。
第１及び第２端面を有し、前記第１端面から前記第２端面へ向けて各々が延びた複数の孔が設けられた基材を支持する支持体と、
前記基材に触媒層の原料を含んだ流体を吐出するように構成されたノズルであって、各々が前記流体を前記基材の前記第１端面へ向けて吐出する複数の吐出口が設けられたノズルと
を具備し、
一定量の前記流体を前記ノズルに供給する供給動作と、前記複数の吐出口から垂れ下がっているか又は前記複数の吐出口内にある前記流体を吸い戻す吸引動作とを行う流体供給装置と、
前記供給動作と前記吸引動作とを交互に繰り返すように前記流体供給装置の動作を制御するコントローラと
を更に具備した排ガス浄化用触媒の製造装置。
前記流体供給装置は、前記流体を貯蔵するタンクと、シリンダと前記シリンダ内で直動可能なピストンとを備えたシリンジと、前記ピストンを前記シリンダ内で前記シリンダに対して相対的に直動させる駆動機構と、前記タンクに接続された第１流通口と、前記シリンダに接続された第２流通口と、前記ノズルに接続された第３流通口と、切替機構とを備え、前記切替機構は、前記第１乃至第３流通口の接続を、前記第１及び第２流通口が互いに接続され且つ前記第３流通口が前記第１及び第２流通口から遮断された第１状態と、前記第２及び第３流通口が互いに接続され且つ前記第１流通口が前記第２及び第３流通口から遮断された第２状態との間で切り替える切替装置とを含み、
前記コントローラは、前記第１乃至第３流通口の接続を前記第１状態として前記ピストンをその先端が前記シリンダの底部から遠ざかるように前記シリンダに対して相対的に直動させることにより、前記タンクから前記シリンジへと前記流体の一部を抜き取る第１動作と、前記第１乃至第３流通口の接続を前記第２状態として前記ピストンをその先端が前記シリンダの底部に近づくように前記シリンダに対して相対的に直動させることにより、前記シリンジから前記ノズルへと一定量の前記流体を供給する第２動作と、前記第２状態において、前記ピストンの先端が前記シリンダの底部から遠ざかるように前記ピストンを前記シリンダに対して相対的に直動させることにより、前記複数の吐出口から垂れ下がっているか又は前記複数の吐出口内にある前記流体を吸い戻す第３動作とがこの順に繰り返されるように、前記切替機構及び前記駆動機構の動作を制御する請求項１０に記載の排ガス浄化用触媒の製造装置。
前記ノズルが前記基材の前記第１端面に向けて前記流体を吐出するのに先立って、枠形状を有しているガイド部材を、前記基材と前記端面の位置で隣り合った領域を取り囲むように配置して、前記流体を受ける受け皿を形成する取付機構を更に具備した請求項６乃至１１の何れか１項に記載の排ガス浄化用触媒の製造装置。
第１及び第２端面を有し、前記第１端面から前記第２端面へ向けて各々が延びた複数の孔が設けられた基材を支持する支持体と、
前記基材に触媒層の原料を含んだ流体を吐出するように構成されたノズルであって、各々が前記流体を前記基材の前記第１端面へ向けて吐出する複数の吐出口が設けられたノズルと
を具備し、
前記ノズルが前記基材の前記第１端面に向けて前記流体を吐出するのに先立って、枠形状を有しているガイド部材を、前記基材と前記端面の位置で隣り合った領域を取り囲むように配置して、前記流体を受ける受け皿を形成する取付機構を更に具備した排ガス浄化用触媒の製造装置。
前記複数の吐出口の配列の周縁部では、前記複数の吐出口の配列の中心部と比較して、前記吐出口の径がより大きい請求項６乃至１３の何れか１項に記載のノズル。
前記複数の吐出口は同心状に配列している請求項１４に記載のノズル。
前記複数の吐出口の各々の前記ノズルの外部空間と隣接した縁は面取りされており、この面取り部の幅は０．５ｍｍ以下である請求項６乃至１３の何れか１項に記載のノズル。
前記複数の吐出口の全てを取り囲み且つ最小の面積を有している第１凸多角形と、前記第１凸多角形の面積の０．６倍の面積を有している第２凸多角形であって、前記第２凸多角形の輪郭のあらゆる位置において前記第２凸多角形から前記第１凸多角形の輪郭までの距離が一定であるように前記第１凸多角形の輪郭の内側に位置を定められた第２凸多角形とを仮定した場合に、前記複数の吐出口のうち前記第１及び第２凸多角形の輪郭間に位置した部分が占有している領域の合計面積と、前記複数の排出口が占有している領域の合計面積との比は０．１以上である請求項６乃至１３の何れか１項に記載のノズル。
前記複数の吐出口間の最短距離は５ｍｍ以上である請求項１７に記載のノズル。