JP4900037B2 - 排気ガス浄化用触媒の製造装置および製造方法 - Google Patents
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ノリス担体の当該通路に触媒成分を含有するスラリを充填し、余剰のスラリを吸引除去し
て前記モノリス担体の通路の内表面上に触媒担持層をコーティングする排気ガス浄化用触
媒の製造装置であって、吸引装置に接続可能な開口部が形成された前記余剰のスラリを回
収するための回収槽と、前記モノリス担体からの前記余剰のスラリを前記回収槽内に導く
ための導管と、前記回収槽内にて前記導管と同軸上に配置され前記導管の外径よりも大きい内径を有する管状体とを有し、前記管状体は、前記導管の下端面に対して少なくとも部分的に下方となるように配置され、前記開口部は前記回収槽の上方であって、吸引力を作用させる位置に設けられ、前記導管の下端面から前記管状体の上端面までの鉛直方向位置範囲が、前記導管の下端面よりも20mm下方の鉛直方向位置と前記導管の下端面よりも20mm上方の鉛直方向位置との間であり、かつ前記導管の管路断面積に対する前記管状体の管路断面積比範囲が12.25未満であることを特徴とする。
比較例では、導管16の内径D1=50(mm)、導管16の長さL1=300mmとした。
実施例1では、D1=50(mm)、D2=100(mm)、L1=300(mm)、L2=−20(mm)、L3=120(mm)、L4=60(mm)とした(図6参照)。この場合のオフセット量(L2)は、−20(mm)である。その他は上記比較例と同様の条件でコーティングを実施したところ、回収率は81%であった。
実施例2では、D1=50(mm)、D2=100(mm)、L1=300(mm)、L2=−10(mm)、L3=120(mm)、L4=60(mm)とした(図6参照)。この場合のオフセット量(L2)は、−10(mm)である。その他は上記比較例と同様の条件でコーティングを実施したところ、回収率は85%であった。
実施例3では、D1=50(mm)、D2=100(mm)、L1=300(mm)、L2=0(mm)、L3=120(mm)、L4=60(mm)とした(図6参照)。この場合のオフセット量(L2)は、0(mm)である。その他は上記比較例と同様の条件でコーティングを実施したところ、回収率は96%であった。
実施例4では、D1=50(mm)、D2=100(mm)、L1=300(mm)、L2=20(mm)、L3=120(mm)、L4=60(mm)とした(図6参照)。この場合のオフセット量(L2)は、20(mm)である。その他は上記比較例と同様の条件でコーティングを実施したところ、回収率は82%であった。
実施例5では、D1=50(mm)、D2=75(mm)、L1=300(mm)、L2=10(mm)、L3=120(mm)、L4=60(mm)とした(図6参照)。この場合の断面積比(D2/D1)2は、2.25倍である。その他は上記比較例と同様の条件でコーティングを実施したところ、回収率は92%であった。
実施例6では、D1=50(mm)、D2=100(mm)、L1=300(mm)、L2=10(mm)、L3=120(mm)、L4=60(mm)とした(図6参照)。この場合の断面積比(D2/D1)2は、4倍である。また、この場合のオフセット量(L2)は、10(mm)である。その他は上記比較例と同様の条件でコーティングを実施したところ、回収率は98%であった。
実施例7では、D1=50(mm)、D2=125(mm)、L1=300(mm)、L2=10(mm)、L3=120(mm)、L4=60(mm)とした(図6参照)。この場合の断面積比(D2/D1)2は、6.25倍である。その他は上記比較例と同様の条件でコーティングを実施したところ、回収率は95%であった。
実施例8では、D1=50(mm)、D2=150(mm)、L1=300(mm)、L2=10(mm)、L3=120(mm)、L4=60(mm)とした(図6参照)。この場合の断面積比(D2/D1)2は、9倍である。その他は上記比較例と同様の条件でコーティングを実施したところ、回収率は82%であった。
実施例9では、D1=50(mm)、D2=175(mm)、L1=300(mm)、L2=10(mm)、L3=120(mm)、L4=60(mm)とした(図6参照)。この場合の断面積比(D2/D1)2は、12.25倍である。その他は上記比較例と同様の条件でコーティングを実施したところ、回収率は80%であった。
実施例10では、D1=100(mm)、D2=200(mm)、L1=300(mm)、L2=0(mm)、L3=120(mm)、L4=60(mm)とした(図6参照)。その他は上記比較例と同様の条件でコーティングを実施したところ、回収率は97%であった。
実施例11では、D1=100(mm)、D2=200(mm)、L1=300(mm)、L2=10(mm)、L3=120(mm)、L4=60(mm)とした(図6参照)。その他は上記比較例と同様の条件でコーティングを実施したところ、回収率は98%であった。
実施例12では、D1=100(mm)、D2=200(mm)、L1=300(mm)、L2=20(mm)、L3=120(mm)、L4=60(mm)とした(図6参照)。その他は上記比較例と同様の条件でコーティングを実施したところ、回収率は85%であった。
実施例13では、D1=50(mm)、D2=100(mm)、L1=300(mm)、L2=0(mm)、L3=60(mm)、L4=60(mm)とした(図6参照)。その他は上記比較例と同様の条件でコーティングを実施したところ、回収率は90%であった。
実施例14では、D1=50(mm)、D2=100(mm)、L1=240(mm)、L2=0(mm)、L3=120(mm)、L4=120(mm)とした(図6参照)。その他は上記比較例と同様の条件でコーティングを実施したところ、回収率は83%であった。
実施例15では、D1=50(mm)、D2=100(mm)、L1=360(mm)、L2=0(mm)、L3=120(mm)、L4=0(mm)とした(図6参照)。その他は上記比較例と同様の条件でコーティングを実施したところ、回収率は85%であった。
2 モノリス担体、
3 充填ステージ、
4 吸引ステージ、
5 搬送装置、
6 チャック機構、
7 上部シール部、
8 下部シール部、
9 スラリタンク、
10 ポンプ、
11 攪拌機、
12 真空レギュレータ、
13 下部シール部、
14 回収槽、
15 ブロア(吸引装置)、
16 導管、
16a 導管の下端面、
17 管状体、
17a 管状体の上端面、
17b 管状体の下端面、
18 開口部、
19 回収口、
22 フィルタ、
23 ポンプ。
Claims (6)
- 軸方向に伸延する複数の通路を有するモノリス担体の当該通路に触媒成分を含有するスラリを充填し、余剰のスラリを吸引除去して前記モノリス担体の通路の内表面上に触媒担持層をコーティングする排気ガス浄化用触媒の製造装置であって、
吸引装置に接続可能な開口部が形成された前記余剰のスラリを回収するための回収槽と、
前記モノリス担体からの前記余剰のスラリを前記回収槽内に導くための導管と、
前記回収槽内にて前記導管と同軸上に配置され前記導管の外径よりも大きい内径を有する管状体とを有し、
前記管状体は、前記導管の下端面に対して少なくとも部分的に下方となるように配置され、
前記開口部は前記回収槽の上方であって、吸引力を作用させる位置に設けられ、
前記導管の下端面から前記管状体の上端面までの鉛直方向位置範囲が、前記導管の下端面よりも20mm下方の鉛直方向位置と前記導管の下端面よりも20mm上方の鉛直方向位置との間であり、かつ前記導管の管路断面積に対する前記管状体の管路断面積比範囲が12.25未満であることを特徴とする排気ガス浄化用触媒の製造装置。 - 前記導管の下端面から前記管状体の上端面までの鉛直方向位置範囲が、前記導管の下端面よりも5mm下方の鉛直方向位置と前記導管の下端面よりも15mm上方の鉛直方向位置との間であることを特徴とする請求項1に記載の排気ガス浄化用触媒の製造装置。
- 前記断面積比範囲は2〜7倍であることを特徴とする請求項1又は2に記載の排気ガス浄化用触媒の製造装置。
- 前記導管の断面形状と前記管状体の断面形状とは相似形であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の排気ガス浄化用触媒の製造装置。
- 前記回収槽は、前記管状体の下方に位置される前記余剰のスラリの回収用の回収口を有し、
前記管状体の下端面と前記回収口との鉛直方向距離は20〜100mmに設定されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の排気ガス浄化用触媒の製造装置。 - 軸方向に伸延する複数の通路を有するモノリス担体の当該通路の内表面上に触媒担持層をコーティングする排気ガス浄化用触媒の製造方法であって、
前記モノリス担体の通路に触媒成分を含有するスラリを充填する段階と、
余剰のスラリを回収するための回収槽に接続された吸引装置を作動させることにより、前記モノリス担体からの余剰のスラリを前記回収槽内に導くための導管と、前記回収槽内にて前記導管と同軸上に配置され前記導管の外径よりも大きい内径を有する管状体とを介して、前記モノリス担体からの余剰のスラリを吸引除去する段階とを有し、
前記管状体は、前記導管の下端面に対して少なくとも部分的に下方となるように配置され、
前記吸引装置に接続可能な開口部が前記回収槽の上方であって、吸引力を作用させる位置に設けられ、
前記導管の下端面から前記管状体の上端面までの鉛直方向位置範囲が、前記導管の下端面よりも20mm下方の鉛直方向位置と前記導管の下端面よりも20mm上方の鉛直方向位置との間であり、かつ前記導管の管路断面積に対する前記管状体の管路断面積比範囲が12.25未満であることを特徴とする排気ガス浄化用触媒の製造方法。
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JP2007135942A JP4900037B2 (ja) | 2007-05-22 | 2007-05-22 | 排気ガス浄化用触媒の製造装置および製造方法 |
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-
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- 2007-05-22 JP JP2007135942A patent/JP4900037B2/ja active Active
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