WO2006027981A1 - 立体的電子回路装置とそれを用いた電子機器およびその製造方法 - Google Patents

立体的電子回路装置とそれを用いた電子機器およびその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2006027981A1
WO2006027981A1 PCT/JP2005/015892 JP2005015892W WO2006027981A1 WO 2006027981 A1 WO2006027981 A1 WO 2006027981A1 JP 2005015892 W JP2005015892 W JP 2005015892W WO 2006027981 A1 WO2006027981 A1 WO 2006027981A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
resin sheet
wiring pattern
circuit device
module unit
electronic circuit
Prior art date
Application number
PCT/JP2005/015892
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Daisuke Sakurai
Masahiro Ono
Kazuhiro Nishikawa
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. filed Critical Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
Priority to US11/660,515 priority Critical patent/US7768795B2/en
Priority to JP2006535695A priority patent/JP4424351B2/ja
Publication of WO2006027981A1 publication Critical patent/WO2006027981A1/ja

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/18Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different subgroups of the same main group of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/02Disposition of storage elements, e.g. in the form of a matrix array
    • G11C5/04Supports for storage elements, e.g. memory modules; Mounting or fixing of storage elements on such supports
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/18High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/23Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process
    • H01L24/24Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process of an individual high density interconnect connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/93Batch processes
    • H01L24/95Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
    • H01L24/96Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being encapsulated in a common layer, e.g. neo-wafer or pseudo-wafer, said common layer being separable into individual assemblies after connecting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L25/0652Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the devices being arranged next and on each other, i.e. mixed assemblies
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/18High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/23Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process
    • H01L2224/24Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process of an individual high density interconnect connector
    • H01L2224/241Disposition
    • H01L2224/24135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/24137Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/18High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/23Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process
    • H01L2224/24Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process of an individual high density interconnect connector
    • H01L2224/241Disposition
    • H01L2224/24151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/24221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/24225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/24227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the HDI interconnect not connecting to the same level of the item at which the semiconductor or solid-state body is mounted, e.g. the semiconductor or solid-state body being mounted in a cavity or on a protrusion of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32135Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/32145Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73267Layer and HDI connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/10All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers
    • H01L2225/1005All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/1011All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement
    • H01L2225/1017All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement the lowermost container comprising a device support
    • H01L2225/1035All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement the lowermost container comprising a device support the device being entirely enclosed by the support, e.g. high-density interconnect [HDI]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/10All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers
    • H01L2225/1005All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/1011All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement
    • H01L2225/1047Details of electrical connections between containers
    • H01L2225/1058Bump or bump-like electrical connections, e.g. balls, pillars, posts
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H01L23/5386Geometry or layout of the interconnection structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H01L23/5387Flexible insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H01L23/5389Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates the chips being integrally enclosed by the interconnect and support structures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/91Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L24/80 - H01L24/90
    • H01L24/92Specific sequence of method steps
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/10Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers
    • H01L25/105Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01078Platinum [Pt]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1532Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate
    • H01L2924/1533Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate the connection portion being formed both on the die mounting surface of the substrate and outside the die mounting surface of the substrate
    • H01L2924/15331Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate the connection portion being formed both on the die mounting surface of the substrate and outside the die mounting surface of the substrate being a ball array, e.g. BGA
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/18Printed circuits structurally associated with non-printed electric components
    • H05K1/182Printed circuits structurally associated with non-printed electric components associated with components mounted in the printed circuit board, e.g. insert mounted components [IMC]
    • H05K1/185Components encapsulated in the insulating substrate of the printed circuit or incorporated in internal layers of a multilayer circuit
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/18Printed circuits structurally associated with non-printed electric components
    • H05K1/189Printed circuits structurally associated with non-printed electric components characterised by the use of a flexible or folded printed circuit
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4611Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
    • H05K3/4614Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards the electrical connections between the circuit boards being made during lamination

Definitions

  • Three-dimensional electronic circuit device electronic device using the same, and manufacturing method thereof
  • the present invention relates to a compact solid electronic circuit device in which a board module on which electronic components are mounted is built in a housing, an electronic device using the same, and a method for manufacturing the same.
  • FIG. 16 In Japanese Patent Laid-Open No. 2002-207986 (hereinafter referred to as “patent document”), as shown in FIG. 16, two memory module substrates 420 each having a memory chip 410 mounted on one side of a mother substrate 400 are provided. There is disclosed a memory force having a structure in which a circuit control element 430 for controlling the memory chip 410 is mounted on the other surface of the mother substrate 400 and laminated in a housing 480 while being laminated in layers.
  • the memory module substrates 420 are connected by an elastic body covered with a Cu ball 440 having a diameter of about 300 ⁇ m or a conductive film.
  • the lower surface of the lower memory module substrate 420 and the mother substrate 400 are similarly connected by an elastic body coated with a Cu ball 450 or a conductive film.
  • a bypass chip capacitor 460 is mounted on the upper surface of the mother substrate 400, and a connection terminal 470 for connecting to an external circuit is provided on the lower surface.
  • a Cu ball or a conductive layer is provided between the memory module substrate and between the memory module substrate and the mother substrate.
  • the wiring is connected by an elastic body covered with a conductive film.
  • the size of the Cu ball cannot be reduced because it is necessary to secure the distance between the substrates by the size of the Cu ball and prevent the memory chip from contacting.
  • the wiring connection can be formed only in one direction from the memory module substrate to the mother substrate.
  • memory module boards that contain different ICs such as logic ICs and ASICs require fine wiring connections because the number of electrodes to be connected increases as the number of stacked layers increases. For this reason, force that is difficult to miniaturize for wiring connection with Cu balls, for example, it is possible to arrange them in a staggered manner so that Cu balls do not contact each other.
  • the area for the connection electrode is increased, there is a problem that the mounting area of the semiconductor element or the like is decreased.
  • the module substrate uses Cu balls as fulcrums, and the module substrate itself crawls. There is also a problem.
  • a three-dimensional electronic circuit device of the present invention includes a control circuit, a housing including a connection terminal and a first wiring pattern, and an electronic component at its electrode end.
  • a plurality of substrate modules having a second wiring pattern connected to electrode terminals on the surface of the first resin sheet are embedded in the first resin sheet so that the child is exposed.
  • a board module unit in which the second wiring patterns between different board modules are connected by a through conductor portion, and the board module unit is fitted into the housing. 1 has a configuration in which the wiring pattern and the through conductor are connected.
  • a connecting module or the like is used to connect a board module unit in which a necessary number of board modules having electronic components embedded therein are stacked and integrated together to the first wiring pattern formed on the inner surface of the housing.
  • a three-dimensional electronic circuit device can be obtained that is thin and can be mounted at a high density without limiting the mounting density.
  • the integrated board module unit can realize a three-dimensional electronic circuit device with improved mechanical strength and excellent reliability.
  • a control circuit a housing including a connection terminal and a first wiring pattern, and electrode terminals are formed in the vicinity of two opposite sides of one surface.
  • the bonded electronic component in which the other surfaces of the two electronic components are bonded together by shifting the positions of the electrode terminals, is embedded in the first resin sheet so that the surface of the electrode terminals is exposed.
  • a plurality of substrate modules having a second wiring pattern connected to the electrode terminals are stacked on the surface of the first resin sheet and integrated together, and the second wiring patterns between different substrate modules are penetrated.
  • a board module unit connected by a conductor portion, the board module unit is fitted in the housing, and the first wiring pattern of the housing and the through conductor portion are connected.
  • the manufacturing method of the three-dimensional electronic circuit device of the present invention includes a step of forming a connection terminal, a control circuit, and a first wiring pattern on a housing, and an electrode having an electrode terminal formed on one surface.
  • the manufacturing method of the three-dimensional electronic circuit device of the present invention includes a step of forming a connection terminal, a control circuit, and a first wiring pattern on a housing, and in the vicinity of two opposite sides of one surface. Bonded electronic components are embedded so that the other surfaces of the two electronic components having electrode terminals are bonded together by shifting the positions of the electrode terminals and the electrode terminals are exposed. A plurality of substrate modules having a second wiring pattern connected to the resin sheet and the electrode terminals exposed on the surface of the first resin sheet are stacked and integrated to form a second between different substrate modules. Forming a board module unit in which the wiring patterns are connected by a through conductor, and connecting the through conductor of the board module unit to the first wiring pattern of the housing.
  • a three-dimensional electronic circuit device having a large capacity and high functionality in a limited mounting space can be obtained by stacking and integrating thin, thin board modules on which electronic components are mounted at high density. Can be produced with high productivity.
  • FIG. 1A is a cross-sectional view of a three-dimensional electronic circuit device according to a first embodiment of the present invention.
  • FIG. 1B is a cross-sectional view of the board module unit of the three-dimensional electronic circuit device according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 1C is a cross-sectional view of the substrate module of the three-dimensional electronic circuit device according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of a three-dimensional electronic circuit device according to another example of the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a flowchart illustrating a method for manufacturing a board module unit according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 4A is a fragmentary cross-sectional view for explaining the method of manufacturing the board module unit according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 4B is a cross-sectional view of the relevant part for explaining the method of manufacturing the board module unit according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 4C is a fragmentary cross-sectional view for explaining the method of manufacturing the board module unit according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 5A is a cross-sectional view of the three-dimensional electronic circuit device according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 5B is a cross-sectional view of the board module unit of the three-dimensional electronic circuit device according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 5C is a cross-sectional view of the substrate module of the three-dimensional electronic circuit device according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a sectional view of a three-dimensional electronic circuit device according to another example of the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a flowchart for explaining a method of manufacturing a board module unit according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 8A is a cross-sectional view of the relevant part for explaining the method of manufacturing the board module unit according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 8B is a cross-sectional view of the relevant part for explaining the method of manufacturing the board module unit according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 8C is a cross-sectional view of an essential part for explaining the method of manufacturing the board module unit according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 8D is a cross-sectional view of the relevant part for explaining the method of manufacturing the board module unit according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 9 is an exploded perspective view for explaining a second wiring pattern formed on the surface of the substrate module according to the second embodiment of the present invention and a method for stacking these substrate modules.
  • FIG. 10A is a cross-sectional view of a three-dimensional electronic circuit device according to a third embodiment of the present invention.
  • FIG. 10B shows a substrate module of the three-dimensional electronic circuit device according to the third embodiment of the present invention. It is sectional drawing of a joule unit.
  • FIG. 10C is a cross-sectional view of the substrate module of the three-dimensional electronic circuit device according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 11A is a schematic diagram illustrating a second wiring pattern formed on the substrate module according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 11B is a cross-sectional view illustrating the correspondence between the second wiring pattern of FIG. 11A and the electrode terminals of the bonded electronic component.
  • FIG. 12 is a flowchart for explaining a method of manufacturing a board module unit according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 13A is a sectional view of a key part for explaining the method for manufacturing a board module unit according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 13B is a sectional view of a key part for explaining the method for manufacturing the substrate module unit according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 13C is a cross-sectional view of the relevant part for explaining the method for manufacturing the substrate module unit according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 13D is a sectional view of a key part for explaining the method for manufacturing the substrate module unit according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 14 is a cross-sectional view of a three-dimensional electronic circuit device according to another example of the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 15 is a diagram illustrating an example of an electronic apparatus using a three-dimensional electronic circuit device.
  • FIG. 16 is a cross-sectional view showing a schematic structure of a conventional memory card.
  • FIG. 1A is a cross-sectional view of a three-dimensional electronic circuit device according to a first embodiment of the present invention
  • FIG. 1B is a cross-sectional view of a board module unit
  • FIG. 1C is a cross-sectional view of a board module.
  • the board module unit 110 has a connection terminal 120, a control circuit 130 including a semiconductor element, etc. It is fitted into a casing 150 having a wiring pattern 140. Then, the first wiring pattern 140 formed on the inner surface of the housing 150 and the second wiring pattern 180 of the board module unit 110 are made of conductive paste, solder, anisotropic conductive resin, or the like through the through conductor portion 170.
  • a three-dimensional electronic circuit device 100 is configured by electrical and mechanical connection.
  • the control circuit 130 is an LSI having a semiconductor element force, and is mounted on an electrode pad (not shown) of the first wiring pattern 140 formed on the inner surface of the housing 150 by, for example, a flip chip method. Has been.
  • the housing 150 is provided with a connection terminal 120 integrally with the housing 150 for connection to an external circuit or an electronic device.
  • the casing 150 is made of, for example, polyetherimide (PEI), polyethersulfone (PES), polysulfone (PSF), syndiotactic polystyrene (SPS), polyamide resin (PA), polyphenylene-oxide. (PPO), polyphenylene ether (PPE), polyphthalamide (PPA) and liquid crystal polymer (LCP).
  • PEI polyetherimide
  • PES polyethersulfone
  • PSF polysulfone
  • SPS syndiotactic polystyrene
  • PA polyamide resin
  • PPO polyphenylene-oxide.
  • PPE polyphenylene ether
  • PPA polyphthalamide
  • LCP liquid crystal polymer
  • the electrodes of the first wiring pattern 140 and the connection terminal 120 are formed by, for example, Cu plating, Cu foil, conductive paste, or the like.
  • the board module unit 110 is integrated by, for example, stacking six board modules 160 shown in FIG. 1C and fusing them together by heating and pressing. .
  • the second wiring patterns 180 formed on the different substrate modules 160 are electrically and mechanically connected by the through conductor portions 170.
  • the connection boundary surface of the first resin sheet 210 of each board module 160 disappears, and each electronic component 190 is embedded in the integrated first resin sheet.
  • the mechanical strength of the board module unit 110 can be improved, and the reliability of the casing 150 against deformation such as bending stress can be improved.
  • the board module 160 embeds the electronic component 190 in the first resin sheet 210 so that the electrode terminal 200 is exposed
  • This structure has a second wiring pattern 180 and a through conductor 170 on the surface.
  • the through conductor portion 170 is formed by filling a conductive resin in a through hole opened at a predetermined position of the first resin sheet 210 by a laser beam method or a drill method.
  • the electronic component 190 is a chip-shaped bare chip thinned by polishing the back surface.
  • a semiconductor memory such as DRAM, SRAM, flash memory, or FRAM is used as the electronic component 190.
  • the first resin sheet 210 for example, polyester resin, vinyl chloride, polycarbonate, polyether ether ketone, polyether ketone, polyaryl ketone, polyether imide, polyphenylene sulfide, syndiotactic polystyrene, Thermoplastics Thermoplastic resins such as polyimide or acrylonitrile butadiene styrene, and epoxy / acrylic thermosetting resins are used.
  • a three-dimensional electronic circuit device has a control circuit 130 mounted on a substrate module unit 110.
  • the first wiring pattern 140 on the inner surface of the casing 150 needs to be three-dimensionally formed. Compared to the case where the first wiring pattern 140 is formed on a plane, the fine electrode pads necessary for connecting the control circuit 130 are formed. It is difficult to form the first wiring pattern 140 having a gate. However, in the three-dimensional electronic circuit device shown in FIG. 2, only the first wiring pattern 140 is formed on the inner surface of the housing 150, and fine electrode pads and the like for mounting and connecting the control circuit 130 are formed. There is no need to do it. Therefore, by forming fine electrode pads to be connected to the control circuit 130 on the flat substrate module unit 110 side that can be easily miniaturized, it is possible to easily mount the control circuit 130 that requires fine, pitch electrode pads. Can do.
  • FIG. 3 is a flowchart for explaining the manufacturing method of the substrate module unit 110 according to the first embodiment of the present invention.
  • FIGS. 4A to 4C are diagrams showing the main processing steps in FIG. FIG.
  • step S1 an electrode component 200 is formed on one surface, and an electronic component 190 that has been thinned by polishing the other surface is prepared. In the following description, it is assumed that the thickness of the electronic component 190 is about 50 ⁇ m.
  • step S2 one or a plurality of electronic components 190 having electrode terminals 200 are placed on a first resin sheet 210 having a thickness of about 75 m and having a thermoplastic resin isotropic force. Place in position.
  • step S3 the first resin sheet 210 on which the electronic component 190 is placed is sandwiched between, for example, hot press plates and heated and pressed.
  • the pressure is 30 kgZcm 2
  • the heating temperature is 160 ° C
  • the press time is 1 minute.
  • polyester resin polyethylene terephthalate (PETG), butyl chloride, polycarbonate, acrylonitrile butadiene styrene, or the like can be used.
  • step S4 the residue of the first resin sheet 210 on the surface of the electrode terminal 200 of the electronic component 190 is removed by a photolithography method and an etching method, a laser beam method, or the like.
  • the electrode terminal 200 is reliably exposed on the surface.
  • the electrode terminal 200 may be exposed by pressing a jig heated to a temperature higher than the melting temperature of the first resin sheet 210.
  • step S4 may be omitted if the electrode terminal 200 is exposed when an electronic component is embedded in the first resin sheet 210 in step S3.
  • Step S5 the surface (back surface) opposite to the electrode terminal 200 surface of the electronic component 190 is laminated with a second resin sheet (not shown) having a thickness of about 25 m, for example.
  • step S6 the second wiring pattern 180 for connecting the electrode terminals 200 is formed by, for example, screen printing, ink jet printing, dispense printing or transfer printing of conductive paste, metal foil transfer, plating, thin film It is formed by a method such as formation or photolithography.
  • step S5 may be laminated with a second resin sheet after step S6 of forming the second wiring pattern 180 on the surface of the electrode terminal 200 of the electronic component 190.
  • the electronic component 190 is embedded as shown in FIG.
  • the composite resin sheet 220 with the turn 180 formed is completed.
  • step S7 the composite resin sheet 220 produced by the above method is cut into 160 units of the substrate module.
  • step S8 as shown in FIG. 4B, for example, six substrate modules 160 are stacked.
  • step S9 the laminated substrate module 160 is sandwiched between, for example, a heat press plate and heated and pressed to thereby provide six first resin sheets 210 and second resin sheets. Melts together.
  • the first resin sheet 210 and the second resin sheet are polyethylene terephthalate
  • the applied pressure is 35 kgZcm 2
  • the heating temperature is 150 ° C.
  • the pressing time is 1 minute.
  • step S10 through-holes are formed at predetermined positions of the integrated substrate module, and a conductive paste is filled and cured, thereby providing a through-conductor portion 170 as shown in FIG. 4C.
  • the completed board module unit 110 is completed.
  • the control circuit 130 is mounted on the casing 150 in which the first wiring pattern 140 and the connection terminal 120 are formed.
  • the first wiring pattern is formed by, for example, metal fitting or conductive-based ink jet, dispenser, transfer, or the like.
  • the board module unit 110 shown in FIG. 4C is fitted into the housing 150, and the first land 230 of the board module unit 110 and the second land 240 on the inner surface of the housing 150 are connected by a conductive paste or the like. To do.
  • the board module unit 110 may be embedded in the casing 150 after being inserted into the casing 150 and filled with an insulating grease or the like.
  • the three-dimensional electronic circuit device 100 as shown in FIG. 1A is completed by the above method.
  • a through hole is formed for each board module 160 in the composite resin sheet 220, and when the board module 160 is laminated after cutting, the through hole is positioned as a through conductor portion 170 between different board modules 160.
  • the second wiring pattern 180 may be connected. The same applies to the following embodiments.
  • FIG. 5A is a sectional view of the three-dimensional electronic circuit device according to the second embodiment of the present invention
  • FIG. I is a cross-sectional view of the board module unit
  • FIG. 5C is a cross-sectional view of the board module. 5A to 5C, the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
  • the board module unit 250 includes the connection terminal 120, the control circuit 130, and the first wiring pattern 140. It is fitted in the case 150 provided. Then, the first wiring pattern 140 formed on the inner surface of the casing 150 and the second wiring pattern 180 of the board module unit 250 are electrically and mechanically electrically conductive and the like via the through conductor 170. It has a connected structure.
  • the board module unit 250 has a configuration in which the board modules 260 shown in FIG.
  • the second wiring patterns 180 formed on each board module 260 are connected by a through conductor portion 170 provided in a region where the bonded electronic component 270 does not exist.
  • the bonded electronic component 270 is formed by bonding the other surfaces of the two electronic components 190 having the electrode terminals 200 formed on one surface and bonding them together.
  • the board module 260 has a structure in which the bonded electronic component 270 is embedded in the first resin sheet 210 and the second wiring pattern 180 is provided on the front surface 210A and the back surface 210B.
  • the substrate module 160 of the first embodiment is different.
  • the substrate of the first embodiment on which the same number of electronic components 190 are mounted Compared with the module 160, the board module 260 can be made thinner. In the standardized mounting space, the mounting density of the electronic components 190 can be improved. Furthermore, by laminating and laminating the thinned electronic parts 190, there is an effect that the strength against deformation and the like is increased and the reliability is improved.
  • a three-dimensional electronic circuit device 100 is one in which a control circuit 130 is mounted on a board module unit 250.
  • a control circuit 130 is mounted on a board module unit 250.
  • FIG. 7 is a flowchart illustrating a method for manufacturing substrate module unit 250 according to the second embodiment of the present invention.
  • 8A to 8D are cross-sectional views of main parts in the main processing steps of FIG.
  • step S1 the other surfaces of the two electronic components 190 having the electrode terminals 200 formed on one surface are bonded to each other with, for example, a resin adhesive to produce the bonded electronic component 270.
  • a resin adhesive to produce the bonded electronic component 270.
  • the thickness of each electronic component 190 is about 50 m
  • the thickness of the bonded electronic component 270 is about 100 m.
  • step S2 one or a plurality of bonded electronic components 270 are placed at predetermined positions on the first resin sheet 210 made of thermoplastic resin having a thickness of about 125 m.
  • step S3 for example, it is sandwiched between hot press plates and heated and pressurized.
  • the bonded electronic component 270 is embedded in the first resin sheet 210 with at least the electrode terminal 200 surface exposed. At this time, if necessary, bonded electronic components 27
  • the electrode terminal 200 is removed from the first resin sheet 21.
  • step S4 the second wiring pattern 180 that connects the electrode terminals 200 on the front surface 210A and the back surface 210B side is formed on the first resin sheet 210 by a screen printing method or a photolithography method. Form.
  • the junction electronics as shown in Figure 8A
  • step S5 as shown in FIG. 8B, the composite resin sheet 360 produced by the above method is folded for each substrate module 260, and the second resin sheet 280 is disposed between the substrate modules. And laminate.
  • the second resin sheet 280 ensures insulation between the substrate modules 260.
  • FIG. 8B the layers are shown separated from each other for easy understanding of the stacked state.
  • step S6 the folded composite resin sheet 360 is sandwiched between, for example, a heat press plate and heated and pressed to thereby apply the first resin sheet 210 and the second resin sheet 280.
  • the applied pressure is 35 kgZcm 2
  • the heating temperature is 120 ° C.
  • the pressing time is 1 minute.
  • the material of the first resin sheet and the second resin sheet need not be the same, but it is preferable that the melting temperatures are the same.
  • the first and second resin sheets are made of different materials, the lower the melting temperature of the second resin sheet than that of the first resin sheet, the more misaligned the electronic components, etc. It is preferable in preventing. The same applies to the other embodiments.
  • step S7 when the folded end portion 290 of the composite resin sheet 360 is cut, a plurality of substrate modules 260 stacked as shown in FIG. 8C are completed.
  • step S8 when through holes are formed in a region where the junction electronic component 270 of the integrated substrate module 260 does not exist, and the through holes are filled with a conductive paste or the like and cured, FIG. 8D
  • the board module unit 250 having the through conductor 170 as shown in FIG.
  • step S7 and step S8 may be omitted, and the folded and stacked state of FIG. 8B may be stored in the mounting space. In this case, it is necessary to bend the second wiring pattern so that it does not break at the folded portion.
  • the arrangement order force of the electrode terminals 200 of the bonded electronic component 270 is arranged.
  • the electronic component 190 on the front surface 210A side and the back surface 210B side of the first resin sheet 210 are arranged. It differs from electronic component 190. Therefore, an example of the second wiring pattern 180 connected to the electrode terminal 200 of the bonded electronic component 270 of the board module unit 250 will be described with reference to FIG.
  • FIG. 9 shows the second wiring pattern 180 formed on the surface 210 A of the first resin sheet of the board module 260, and these board modules 260 are laminated via the second resin sheet 280. Shows the state.
  • the second wiring pattern formed on the back surface 210B of the first resin sheet of the substrate module 260 is not shown in the drawing notation, as in the case of the second wiring pattern 180 on the front surface 210A,
  • the same electrode terminals 200 of the component 190 are connected to each other and to the left and right lands 300.
  • the land 210 on the front surface 210A of the first resin sheet of the board module 260 and the land 300 on the back surface 210B immediately below it correspond to the same electrode terminal 200 and are electrically connected by the through conductor 170. Yes.
  • these substrate modules 260 are stacked to form a substrate module unit.
  • the through conductor portion is not shown in the second resin sheet.
  • the example has been described in which individual electronic components are bonded together, but the present invention is not limited to this.
  • the bonded electronic component is composed of an electronic component having the same shape such as a semiconductor memory, the bonded electronic component can be obtained with high productivity by the following method.
  • the other surfaces of two wafers such as a silicon substrate on which a plurality of semiconductor memories having electrode terminals are formed on one surface are aligned and bonded together.
  • the bonded wafer is separated into individual bonded electronic parts by cutting each semiconductor memory by dicing or the like.
  • the substrate module unit may be formed by cutting each substrate module individually and stacking them. Thereby, since the part used as an edge part is unnecessary, the yield of the board module in a composite resin sheet can be improved.
  • FIG. 10A is a sectional view of a three-dimensional electronic circuit device according to a third embodiment of the present invention
  • FIG. 10B is a sectional view of a board module unit
  • FIG. 10C is a sectional view of the board module. 10A to 10C, the same components as those in FIG. 5 are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
  • the board module unit 310 includes the connection terminal 120, the control circuit 130, and the first wiring.
  • the case 150 is fitted with a pattern 140.
  • the first wiring pattern 140 formed on the inner surface of the housing 150 and the second wiring pattern 180 of the board module unit 310 are electrically and mechanically connected by a conductive paste or the like through the through conductor 170. Has a structured.
  • the substrate module unit 310 has a configuration in which the substrate modules 320 shown in FIG. Then, the second wiring patterns 180 formed in each board module 320 are connected by a through conductor portion 170 provided in a region where the bonded electronic component 330 does not exist.
  • the bonded electronic component 330 is embedded in the first resin sheet 210, and the second wiring pattern 180 is provided on at least one of the front surface 210A and the back surface 210B. It has a provided structure.
  • two electronic components 340, 350 having electrode terminals in the vicinity of two sides facing each other are arranged so as not to overlap in the thickness direction, and the other surfaces are Are integrally formed by bonding. In this respect, it is different from the substrate module 260 of the second embodiment.
  • FIG. 11A and FIG. 11B are diagrams for explaining an example of the second wiring pattern 180 connected to the electrode terminal 200 of the bonded electronic component 330 facing each other between the board modules 320.
  • FIG. 11A shows the second wiring formed on the substrate module 320 arranged on the lower side of FIG. 11B.
  • 3 is a schematic diagram illustrating a pattern 180.
  • FIG. The black circles in the figure indicate the arrangement of the electrode terminals 200 of the electronic component 340 of the board module 320 arranged on the upper side of FIG. 11B, and the numbers indicate the arrangement order of the electrode terminals 200.
  • white circles in the figure indicate the arrangement of the electrode terminals 200 of the electronic components 350 of the board module 320 arranged on the lower side of FIG. 11B, and the numbers indicate the arrangement order of the electrode terminals 200.
  • the bonded electronic components 330 facing each other between the stacked substrate modules 320 are connected to the electrode terminals 200 having the same number.
  • the second wiring pattern 180 can connect the same arrangement order of the electrode terminals 200 as long as it is formed on one of the substrate modules 320 to be stacked.
  • the second resin sheet 280 of the three-dimensional electronic circuit device 100 of the second embodiment is not necessary.
  • the board module 320 can be made thinner and the mounting density of electronic components can be improved in a limited mounting space.
  • FIG. 12 is a flowchart illustrating a method for manufacturing substrate module unit 310 according to the third embodiment of the present invention.
  • 13A to 13D are cross-sectional views of the main part in the main processing step of FIG.
  • step S1 the other surfaces of the two electronic components 340 and 350 in which the electrode terminal 200 is formed in the vicinity of two sides facing each other are shifted from each other with respect to the direction of the electrode terminal 200.
  • the bonded electronic component 330 is manufactured by bonding with a resin adhesive or the like.
  • the thickness of the electronic components 340 and 350 is about 50 m, the thickness of the bonded electronic component 330 is about 100 ⁇ m.
  • step S2 one or a plurality of bonded electronic components 330 are placed at predetermined positions on the first resin sheet 210 made of thermoplastic resin having a thickness of about 125 m.
  • step S3 for example, it is sandwiched between hot press plates and heated and pressurized.
  • the bonded electronic component 330 is embedded in the first resin sheet 210 with at least the electrode terminal 200 surface exposed. At this time, if necessary, the residue of the first resin sheet 210 on the electrode terminal 200 of the bonded electronic component 330 is removed by a photolithography method, a laser beam method, or the like. May be exposed on the front surface 210A and the back surface 210B of the first resin sheet 210!
  • step S4 the second terminal as shown in FIG. 11A is connected between at least one of the front surface 210A and the back surface 210B of the first resin sheet 210 between the electrode terminals 200 of the bonded electronic component 330.
  • the wiring pattern 180 is formed by a screen printing method or a photolithography method.
  • the second wiring pattern 180 is a force that needs to be formed on both surfaces of any one of the substrate modules that are the outermost layers of the substrate module unit. It is sufficient to form only on the surface.
  • step S5 as shown in FIG. 13B, the composite resin sheet 370 produced by the above method is folded for each substrate module 320 and laminated.
  • the layers are shown separated from each other for easy understanding of the stacked state!
  • step S6 the folded composite resin sheet 370 is sandwiched between, for example, a heat press plate and heated and pressed.
  • the first resin sheet 210 of each board module 320 is melted and integrated.
  • the pressing force is 35 kgZcm 2
  • the heating temperature is 120 ° C.
  • the pressing time is 1 minute.
  • step S7 the end portion 290 of the folded composite resin sheet 370 is cut to complete a plurality of substrate modules 320 stacked as shown in FIG. 13C.
  • step S8 when a through hole is formed in a region where the bonded electronic component 330 of the integrated substrate module 320 does not exist, and the through hole is filled with a conductive paste or the like and cured, FIG. 13D
  • a three-dimensional electronic circuit device 100 has a control circuit 130 mounted on a board module unit 310.
  • the electrode pads connected to the control circuit 130 are formed on the flat substrate module unit 310 side that can be easily miniaturized, so that the control circuit 130 with a fine electrode pad pitch can be easily mounted. be able to.
  • the substrate module unit is formed by folding the composite resin sheet.
  • the present invention is not limited to this.
  • the substrate module unit may be formed by cutting each substrate module individually and stacking them. Thereby, since the part used as an edge part is unnecessary, the yield of the board module in a composite resin sheet can be improved.
  • the three-dimensional electronic circuit device eliminates the need for a mother board, and can increase the mounting density of electronic components in a limited mounting space, so that a large capacity can be obtained. It is useful for information storage devices that achieve higher functionality and for electronic devices that incorporate them.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Combinations Of Printed Boards (AREA)

Abstract

 立体的電子回路装置(100)は、接続端子(120)、制御回路(130)および第1の配線パターン(140)を備えた筐体(150)に、電子部品(190)を埋設した第1の樹脂シートからなる基板モジュールを積層した構成の基板モジュールユニットを嵌め込み、電気的、機械的に接続した構造を有する。この立体的電子回路装置(100)により、マザー基板が不要になる。さらに、基板モジュールの薄型化により、限られた実装空間に多くの基板モジュールを積層した基板モジュールユニットを搭載できるため、記憶容量の増大と高機能化を実現できる。

Description

明 細 書
立体的電子回路装置とそれを用いた電子機器およびその製造方法 技術分野
[0001] 本発明は、電子部品を実装した基板モジュールを筐体内に内蔵したコンパクトな立 体的電子回路装置とそれを用いた電子機器およびその製造方法に関する。
背景技術
[0002] 近年、 ICカードの高機能化、メモリーカードの大容量ィ匕が進む中で、半導体素子等 を高密度に実装できる電子回路装置が求められている。また、モパイル機器の高機 能、軽薄短小化に伴って、電子回路装置には、さらに高機能化とコンパクトィ匕が求め られている。例えば、メモリーカードの場合、規格サイズ内でいかにして記憶容量を 増大させるかが重要である。また、回路基板においては、接続ピッチの微細化や多 層化によって実装密度を向上させるアプローチとともに、半導体素子や電子部品を 実装したモジュール基板を立体的に積層することによって実装密度を向上させる技 術開発が盛んになつている。
[0003] 特開 2002— 207986号公報(以下、「特許文献」と記す)には、図 16に示すように 、マザ一基板 400の片面にメモリーチップ 410が実装されたメモリーモジュール基板 420を 2層に積層するとともに、マザ一基板 400の他方の面に上記のメモリーチップ 4 10を制御する回路制御素子 430を実装し、筐体 480に組み込んだ構造のメモリー力 ードが開示されている。
[0004] このメモリーカードは、メモリーモジュール基板 420間は直径約 300 μ mの Cuボー ル 440または導電性膜で被覆された弾性体によって接続されている。また、同様に 下側のメモリーモジュール基板 420の下面とマザ一基板 400との間も同様に Cuボー ル 450または導電性膜で被覆された弾性体によって接続されている。さらに、マザ一 基板 400の上面にはバイパス用のチップコンデンサ 460が搭載され、下面には外部 回路と接続するための接続端子 470が設けられて 、る。
[0005] し力しながら、特許文献に記載された従来の電子回路装置では、メモリーモジユー ル基板間およびメモリーモジュール基板とマザ一基板との間を Cuボールまたは導電 性膜で被覆された弾性体によって配線接続している。しかし、 Cuボールの大きさで 基板間の距離を確保し、メモリーチップの接触を防ぐ必要があるため、 Cuボールの 大きさを小さくできない。
[0006] また、配線接続は、メモリーモジュール基板からマザ一基板への一方向でしか形成 できない。さらに、論理 ICや ASIC等の異なる ICを混載するメモリーモジュール基板 は積層数が増えるほど接続する電極数が増加するため、微細な配線接続が必要で ある。そのため、 Cuボールで配線接続するには微細化が困難である力 例えば Cu ボール同士が接触しないように、千鳥状に配置すれば可能となる。しかし、その場合 には、接続電極のための面積が大きくなるため、反対に半導体素子等の実装面積が 小さくなるという課題がある。
[0007] また、上述の接続工程では、 Cuボールまたは弾性体を所定の位置に固定すること が難しぐ作業性、歩留まりが低い。
[0008] さらに、マザ一基板が必要であるため半導体素子を実装する空間が制限され、小 型、薄型化が困難である。例えば、特に、メモリーカードのように規格によりサイズが 決まっているものにおいては、実装空間の制限が厳しい。つまり、メモリー容量を増 やすために半導体素子数を増やそうとしても、メモリーカードのサイズが規格により一 定であるため実現できない。さらに、 ICカードの場合にも、主に厚さに関して同様の 規格がある。
[0009] そのため、これらの電子回路装置において、規格ィ匕されたサイズの筐体内にどのよ うに実装するかが課題である。
[0010] また、これらの電子回路装置は、大量生産品であるため、作業性がよく自動化が容 易な製造方法とともに、高い信頼性が求められる。
[0011] また、メモリーカードを変形させた場合、モジュール基板は Cuボールを支点とし、モ ジュール基板自体が橈むため、実装されて 1、る半導体素子等が割れやす!/、と!/、う課 題もある。
発明の開示
[0012] 上述したような課題を解決するために、本発明の立体的電子回路装置は、制御回 路と、接続端子および第 1の配線パターンを備える筐体と、電子部品をその電極端 子が露出するように第 1の榭脂シートに埋設し、第 1の榭脂シートの表面に電極端子 と接続する第 2の配線パターンを備えた複数の基板モジュールを第 2の榭脂シートを 介して積層して一体ィ匕し、異なる基板モジュール間の第 2の配線パターン間を貫通 導体部により接続した基板モジュールユニットとを有し、基板モジュールユニットが筐 体に嵌め込まれ、筐体の第 1の配線パターンと貫通導体部とが接続される構成を有 する。
[0013] この構成により、電子部品を埋設した基板モジュールを必要数積層し一体ィ匕した基 板モジュールユニットを、筐体の内面に形成した第 1の配線パターンと接続するため 、接続部材等で実装密度が制限されることなく薄型で高密度に実装できる立体的電 子回路装置が得られる。さらに、一体化された基板モジュールユニットにより、機械的 強度が向上し信頼性に優れた立体的電子回路装置を実現できる。
[0014] また、本発明の立体的電子回路は、制御回路と、接続端子および第 1の配線バタ ーンを備える筐体と、一方の面の対向する 2辺近傍に電極端子が形成された 2個の 電子部品の他方の面同士を互いの電極端子の位置をずらして接着し一体ィ匕した接 合電子部品を、電極端子の表面が露出するように第 1の榭脂シートに埋設し、第 1の 榭脂シートの表面に電極端子と接続する第 2の配線パターンを備えた複数の基板モ ジュールを積層して一体ィ匕し、異なる基板モジュール間の第 2の配線パターン間を貫 通導体部により接続した基板モジュールユニットとを有し、基板モジュールユニットが 筐体に嵌め込まれ、筐体の第 1の配線パターンと貫通導体部とが接続される構成を 有する。
[0015] この構成により、積層された基板モジュール間に第 2の榭脂シートを必要としないた め、さらに薄型化を実現できる。そのため、実装空間の限られた筐体で電子部品の 高密度実装を可能とする。
[0016] また、本発明の立体的電子回路装置の製造方法は、筐体に、接続端子、制御回路 および第 1の配線パターンを形成するステップと、一方の面に電極端子が形成された 電子部品と電極端子の表面を露出させるように電子部品を埋設した第 1の榭脂シ一 トと第 1の榭脂シートの表面に露出させた電極端子と接続する第 2の配線パターンと 第 2の配線パターン間を接続する貫通導体部を有する複数の基板モジュール間を第 2の榭脂シートを介して積層して一体ィ匕し、貫通導体部で接続された基板モジュール ユニットを形成するステップと、基板モジュールユニットの貫通導体部と、筐体の第 1 の配線パターンとを接続するステップとを具備する。
[0017] さらに、本発明の立体的電子回路装置の製造方法は、筐体に、接続端子、制御回 路および第 1の配線パターンを形成するステップと、一方の面の対向する 2辺近傍に 電極端子を有する 2個の電子部品の他方の面同士を互いの電極端子の位置をずら して接着し一体化した接合電子部品と電極端子を露出させるように接合電子部品を 埋設した第 1の榭脂シートと第 1の榭脂シートの表面に露出させた電極端子と接続す る第 2の配線パターンを有する複数の基板モジュールを積層して一体ィ匕し、異なる基 板モジュール間の第 2の配線パターン間を貫通導体部で接続された基板モジュール ユニットを形成するステップと、基板モジュールユニットの貫通導体部と、筐体の第 1 の配線パターンとを接続するステップとを具備する。
[0018] これらの方法により、薄型で、電子部品を高密度に実装した基板モジュールを積層 し一体化することで、限られた実装空間で大容量化や高機能化した立体的電子回路 装置を生産性よく作製できる。
図面の簡単な説明
[0019] [図 1A]図 1Aは本発明の第 1の実施の形態に係る立体的電子回路装置の断面図で ある。
[図 1B]図 1Bは本発明の第 1の実施の形態に係る立体的電子回路装置の基板モジュ ールユニットの断面図である。
[図 1C]図 1Cは本発明の第 1の実施の形態に係る立体的電子回路装置の基板モジ ユールの断面図である。
[図 2]図 2は本発明の第 1の実施の形態の別の例に係る立体的電子回路装置の断面 図である。
[図 3]図 3は本発明の第 1の実施の形態に係る基板モジュールユニットの製造方法を 説明するフローチャートである。
[図 4A]図 4Aは本発明の第 1の実施の形態に係る基板モジュールユニットの製造方 法を説明する要部断面図である。 圆 4B]図 4Bは本発明の第 1の実施の形態に係る基板モジュールユニットの製造方 法を説明する要部断面図である。
圆 4C]図 4Cは本発明の第 1の実施の形態に係る基板モジュールユニットの製造方 法を説明する要部断面図である。
圆 5A]図 5Aは本発明の第 2の実施の形態に係る立体的電子回路装置の断面図で ある。
圆 5B]図 5Bは本発明の第 2の実施の形態に係る立体的電子回路装置の基板モジュ ールユニットの断面図である。
圆 5C]図 5Cは本発明の第 2の実施の形態に係る立体的電子回路装置の基板モジ ユールの断面図である。
圆 6]図 6は本発明の第 2の実施の形態の別の例に係る立体的電子回路装置の断面 図である。
圆 7]図 7は本発明の第 2の実施の形態に係る基板モジュールユニットの製造方法を 説明するフローチャートである。
圆 8A]図 8Aは本発明の第 2の実施の形態に係る基板モジュールユニットの製造方 法を説明する要部断面図である。
圆 8B]図 8Bは本発明の第 2の実施の形態に係る基板モジュールユニットの製造方 法を説明する要部断面図である。
圆 8C]図 8Cは本発明の第 2の実施の形態に係る基板モジュールユニットの製造方 法を説明する要部断面図である。
圆 8D]図 8Dは本発明の第 2の実施の形態に係る基板モジュールユニットの製造方 法を説明する要部断面図である。
[図 9]図 9は本発明の第 2の実施の形態に係る基板モジュールの表面に形成される 第 2の配線パターンとこれらの基板モジュールの積層方法を説明する分解斜視図で ある。
[図 10A]図 10Aは本発明の第 3の実施の形態に係る立体的電子回路装置の断面図 である。
圆 10B]図 10Bは本発明の第 3の実施の形態に係る立体的電子回路装置の基板モ ジュールユニットの断面図である。
圆 10C]図 10Cは本発明の第 3の実施の形態に係る立体的電子回路装置の基板モ ジュールの断面図である。
圆 11A]図 11Aは本発明の第 3の実施の形態に係る基板モジュールに形成される第 2の配線パターンを説明する模式図である。
[図 11B]図 11Bは図 11 Aの第 2の配線パターンと接合電子部品の電極端子との対応 関係を説明する断面図である。
圆 12]図 12は本発明の第 3の実施の形態に係る基板モジュールユニットの製造方法 を説明するフローチャートである。
[図 13A]図 13Aは本発明の第 3の実施の形態に係る基板モジュールユニットの製造 方法を説明する要部断面図である。
[図 13B]図 13Bは本発明の第 3の実施の形態に係る基板モジュールユニットの製造 方法を説明する要部断面図である。
[図 13C]図 13Cは本発明の第 3の実施の形態に係る基板モジュールユニットの製造 方法を説明する要部断面図である。
[図 13D]図 13Dは本発明の第 3の実施の形態に係る基板モジュールユニットの製造 方法を説明する要部断面図である。
圆 14]図 14は本発明の第 3の実施の形態の別の例に係る立体的電子回路装置の断 面図である。
圆 15]図 15は立体的電子回路装置を用いた電子機器の一例を説明する図である。
[図 16]図 16は従来のメモリーカードの概略構造を示す断面図である。
符号の説明
100 立体的電子回路装置
110, 250, 310 基板モジュールユニット
120 接続端子
130 制御回路
140 第 1の配線パターン
150 筐体 160, 260, 320 基板モジュール
170 貫通導体部
180 第 2の配線パターン
190, 340, 350 電子部品
200 電極端子
210 第 1の榭脂シート
210A (第 1の榭脂シートの)表面
210B (第 1の榭脂シートの)裏面
220, 360, 370 複合榭脂シ一卜
230 第 1のランド
240 第 2のランド
270, 330 接合電子部品
280 第 2の榭脂シート
290 端部
300 ランド
発明を実施するための最良の形態
[0021] 以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、図面に お!、ては、内部を詳細に説明するために拡大して示して 、る。
[0022] (第 1の実施の形態)
図 1Aは本発明の第 1の実施の形態に係る立体的電子回路装置の断面図、図 1B は基板モジュールュニットの断面図、図 1 Cは基板モジュールの断面図である。
[0023] 図 1Aに示すように、本発明の第 1の実施の形態に係る立体的電子回路装置 100 は基板モジュールユニット 110が接続端子 120、半導体素子等からなる制御回路 13 0および第 1の配線パターン 140を備えた筐体 150に嵌め込まれている。そして、筐 体 150の内面に形成された第 1の配線パターン 140と基板モジュールユニット 110の 第 2の配線パターン 180が貫通導体部 170を介して導電性ペースト、はんだゃ異方 性導電樹脂等によって電気的、機械的に接続されて立体的電子回路装置 100が構 成される。 [0024] ここで、制御回路 130は半導体素子力もなる LSIであって、筐体 150の内面に形成 された第 1の配線パターン 140の電極パッド(図示せず)に、例えばフリップチップ法 で実装されている。
[0025] この構成により、基板モジュールユニット 110を実装するためのマザ一基板が不要 になり、筐体 150内に、基板モジュール 160の実装空間を広く取ることができる。その ため、厚みが規定されるメモリーカードや ICカード等において、基板モジュール 160 を多層化した基板モジュールユニット 110により大容量ィ匕が容易となる。なお、筐体 1 50には、外部回路や電子機器と接続するための接続端子 120が筐体 150と一体的 に設けられている。
[0026] ここで、筐体 150は、例えばポリエーテルイミド(PEI)、ポリエーテルスルフォン(PE S)、ポリサルフォン(PSF)、シンジオタクチックポリスチレン(SPS)、ポリアミド榭脂(P A)、ポリフエ-レンォキシド(PPO)、ポリフエ-レンエーテル(PPE)、ポリフタルアミド (PPA)や液晶ポリマー (LCP)等の樹脂で形成される。
[0027] また、第 1の配線パターン 140や接続端子 120の電極は、例えば Cuめっき、 Cu箔 や導電性ペースト等で形成される。
[0028] また、図 1Bに示すように、基板モジュールユニット 110は、例えば、図 1Cに示す基 板モジュール 160を 6枚積層し、加熱'加圧することによって相互に融着させて一体 化される。そして、異なる基板モジュール 160に形成された第 2の配線パターン 180 間を貫通導体部 170により電気的、機械的に接続された構造を有する。このとき、各 基板モジュール 160の第 1の榭脂シート 210の接続境界面は消失し、各電子部品 19 0が、一体化した第 1の榭脂シ一トに埋め込まれる。
[0029] この構成により、基板モジュールユニット 110の機械的強度を向上させ、筐体 150 の曲げ応力等の変形に対する信頼性を向上できる。
[0030] また、図 1Cに示すように、基板モジュール 160は、電子部品 190をその電極端子 2 00が露出するように第 1の榭脂シート 210に埋設し、第 1の榭脂シート 210の表面に 第 2の配線パターン 180および貫通導体部 170を備えた構造である。そして、貫通導 体部 170は、第 1の榭脂シート 210の所定の位置にレーザービーム法またはドリル法 等によって開口した貫通孔に導電性榭脂を充填することによって形成される。 [0031] なお、実装密度を高めるために電子部品 190は、チップ状で裏面を研磨することに よって薄片化したベアチップを用いることが好ましい。また、電子部品 190として、例 えば DRAM、 SRAM,フラッシュメモリーや FRAM等の半導体メモリーが用いられる 。第 1の榭脂シート 210としては、例えば、ポリエステル系榭脂、塩化ビニル、ポリカー ボネート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリアリールケトン、ポリ エーテルイミド、ポリフエ-レンサルファイド、シンジオタクチックポリスチレン、熱可塑 ポリイミドもしくはアクリロニトリルブタジエンスチレン等の熱可塑樹脂やエポキシ系、ァ クリル系の熱硬化榭脂が用いられる。
[0032] 以下に、図 2を用いて、本発明の第 1の実施の形態の別の例に係る立体的電子回 路装置を説明する。
[0033] 本発明の第 1の実施の形態の別の例に係る立体的電子回路装置は、制御回路 13 0を基板モジュールユニット 110に搭載するものである。
[0034] 一般に、筐体 150の内面の第 1の配線パターン 140は立体的に形成する必要があ り、平面上に形成する場合と比べて、制御回路 130の接続に必要な微細な電極パッ ドを有する第 1の配線パターン 140を形成することが難しい。しかし、図 2に示す立体 的電子回路装置では、筐体 150の内面に形成するのは第 1の配線パターン 140の みで、制御回路 130を実装し接続するための微細な電極パッド等を形成する必要が ない。そのため、制御回路 130と接続する微細な電極パッドを、微細化が容易な平坦 な基板モジュールユニット 110側に形成することにより、細か 、ピッチの電極パッドが 必要な制御回路 130を容易に実装することができる。
[0035] 以下に、図 3と図 4Aから図 4Cを参照しながら、第 1の実施の形態に係る基板モジュ ールユニット 110の製造方法にっ 、て説明する。
[0036] 図 3は、本発明の第 1の実施の形態に係る基板モジュールユニット 110の製造方法 を説明するフローチャートであり、図 4Aから図 4Cは、図 3の主要な処理ステップにお ける要部断面図である。
[0037] まず、ステップ S1において、一方の面に電極端子 200が形成され他方の面を研磨 することにより薄片化した電子部品 190を用意する。なお、以下では、電子部品 190 の厚さを約 50 μ mとして説明する。 [0038] 次に、ステップ S2において、電極端子 200を有する電子部品 190を、厚さ約 75 mの熱可塑性榭脂等力もなる第 1の榭脂シート 210上に 1個または複数個を所定の 位置に載置する。
[0039] 次に、ステップ S3において、電子部品 190が載置された第 1の榭脂シート 210を、 例えば熱プレス板の間に挟み、加熱'加圧する。例えば、軟化温度 120°C、溶融温 度 160°Cのポリエステル系榭脂の場合、加圧力 30kgZcm2、加熱温度 160°C、プレ ス時間 1分である。これにより、電極端子 200が露出した状態で電子部品 190が第 1 の榭脂シート 210に埋め込まれる。
[0040] なお、第 1の榭脂シート 210としては、ポリエステル系榭脂、ポリエチレンテレフタレ ート(PETG)、塩化ビュル、ポリカーボネートやアクリロニトリルブタジエンスチレン等 を用いることができる。
[0041] 次に、ステップ S4において、電子部品 190の電極端子 200の表面の第 1の榭脂シ ート 210の残渣をフォトリソグラフィ一法とエッチング法またはレーザービーム法等に よって除去することにより電極端子 200を表面に確実に露出させる。また、第 1の榭脂 シート 210の溶融温度以上に加熱した治具を押し当てることにより、電極端子 200を 露出させてもよい。なお、このステップ S4は、ステップ S3において、第 1の榭脂シート 210に電子部品が埋め込まれたときに、その電極端子 200が露出している場合には 省略してちょい。
[0042] 次に、ステップ S5において、電子部品 190の電極端子 200面と反対の面(背面)に 、例えば 25 m程度の厚みを有する第 2の榭脂シート(図示せず)で、ラミネートする
[0043] 次に、ステップ S6において、電極端子 200間を接続する第 2の配線パターン 180を 、例えば導電性ペーストのスクリーン印刷やインクジェット印刷、デイスペンス印刷また は転写印刷または金属箔転写、めっき、薄膜形成またはフォトリソグラフィ一法等によ り形成する。
[0044] なお、ステップ S5は、電子部品 190の電極端子 200面に第 2の配線パターン 180 を形成するステップ S6の後に、第 2の榭脂シートでラミネートしてもよい。
[0045] 以上の方法により、図 4Aに示すように、電子部品 190が埋め込まれ、第 2の配線パ ターン 180が形成された複合榭脂シート 220が完成する。
[0046] 次に、ステップ S7において、上記方法によって作製された複合榭脂シート 220を基 板モジュール 160単位毎に切断する。
[0047] 次に、ステップ S8において、図 4Bに示すように、例えば 6枚の基板モジュール 160 を積層する。
[0048] 次に、ステップ S9において、この積層された基板モジュール 160を、例えば熱プレ ス板の間に挟み加熱'加圧することによって、 6枚の第 1の榭脂シート 210と第 2の榭 脂シートが溶融して一体ィ匕する。なお、例えば第 1の榭脂シート 210と第 2の榭脂シ ートが、ポリエチレンテレフタレートの場合、加圧力 35kgZcm2、加熱温度 150°C、 プレス時間 1分である。
[0049] 次に、ステップ S 10において、一体化した基板モジュールの所定の位置に貫通孔 を形成し、導電性ペーストを充填、硬化することにより、図 4Cに示すような貫通導体 部 170を備えた基板モジュールユニット 110が完成する。
[0050] 次に、第 1の配線パターン 140および接続端子 120を形成した筐体 150に制御回 路 130を実装する。ここで、第 1の配線パターンは、例えばめつき、または導電性べ 一ストのインクジェット、デイスペンサ、転写等により形成される。
[0051] そして、図 4Cに示す基板モジュールユニット 110を筐体 150に嵌め込み、基板モ ジュールユニット 110の第 1のランド 230と筐体 150内面の第 2のランド 240間を導電 性ペースト等により接続する。
[0052] なお、基板モジュールユニット 110を筐体 150に嵌め込み、接続後、絶縁性榭脂等 を充填して、基板モジュールユニット 110を埋設する構成としてもょ 、。
[0053] 以上の方法により、図 1Aに示すような立体的電子回路装置 100が完成する。
[0054] なお、貫通孔は、複合榭脂シート 220において、基板モジュール 160毎に形成し、 切断後、基板モジュール 160を積層するときに位置合わせし貫通導体部 170として、 異なる基板モジュール 160間の第 2の配線パターン 180を接続してもよい。以下の実 施の形態においても同様である。
[0055] (第 2の実施の形態)
図 5Aは、本発明の第 2の実施の形態に係る立体的電子回路装置の断面図、図 5B は基板モジュールユニットの断面図、図 5Cは基板モジュールの断面図である。図 5 Aから図 5Cにおいて、図 1と同じ構成については同じ符号を用い説明を省略する。
[0056] 本発明の第 2の実施の形態に係る立体的電子回路装置 100は、図 5Aに示すよう に、基板モジュールユニット 250が接続端子 120、制御回路 130および第 1の配線パ ターン 140を備えた筐体 150に嵌め込まれている。そして、筐体 150の内面に形成さ れた第 1の配線パターン 140と基板モジュールユニット 250の第 2の配線パターン 18 0が貫通導体部 170を介して導電性ペースト等によって電気的、機械的に接続され た構造を有する。
[0057] また、図 5Bに示すように、基板モジュールユニット 250は、図 5Cに示す基板モジュ ール 260を、例えば 4段に積層して加熱 '加圧して一体ィ匕した構成を有する。そして、 各基板モジュール 260に形成された第 2の配線パターン 180間は、接合電子部品 2 70が存在しない領域に設けた貫通導体部 170により接続される。なお、接合電子部 品 270は、一方の面に電極端子 200が形成された 2個の電子部品 190の他方の面 同士を接着し一体ィ匕して形成したものである。
[0058] また、図 5Cに示すように、基板モジュール 260は、接合電子部品 270を第 1の榭脂 シート 210に埋設し、その表面 210Aおよび裏面 210Bに第 2の配線パターン 180を 設けた構造を有する。この点で、第 1の実施の形態の基板モジュール 160とは異なる ものである。
[0059] この構成により、 2個の電子部品 190を一体ィ匕して第 1の榭脂シート 210に埋設して いるので、同じ数の電子部品 190を実装する第 1の実施の形態の基板モジュール 16 0と比較して、基板モジュール 260の薄型化が可能である。そして、規格化された実 装空間においては、電子部品 190の実装密度を向上できる。さらに、薄片化した電 子部品 190を重ねて貼り合わせることによって、変形等に対する強度が増し信頼性 が向上するという効果を奏する。
[0060] 以下に、図 6を用いて、本発明の第 2の実施の形態の別の例に係る立体的電子回 路装置を説明する。
[0061] 本発明の第 2の実施の形態の別の例に係る立体的電子回路装置 100は、制御回 路 130を基板モジュールユニット 250に搭載するものである。 [0062] 一般に、筐体 150の内面に立体的に第 1の配線パターン 140を形成する場合、平 面上に形成する場合に比べて微細な電極パッド等を形成することは難しい。
[0063] しかし、図 6に示す立体的電子回路装置では、筐体 150の内面に形成するのは配 線ピッチが粗い第 1の配線パターン 140のみで、制御回路 130を実装するための細 力 /、ピッチの電極パッドを形成する必要がない。そのため、制御回路 130と接続する 微細な電極パッドを、微細化が容易な平坦な基板モジュールユニット 250側に形成 することにより、細力 、ピッチの電極パッドが必要な制御回路 130を容易に実装する ことができる。
[0064] 以下に、図 7と図 8Aから図 8Dを参照しながら、本発明の第 2の実施の形態に係る 基板モジュールユニット 250の製造方法について説明する。
[0065] 図 7は、本発明の第 2の実施の形態に係る基板モジュールユニット 250の製造方法 を説明するフローチャートである。図 8Aから図 8Dは、図 7の主要な処理ステップにお ける要部断面図である。
[0066] まず、ステップ S1において、一方の面に電極端子 200が形成された 2個の電子部 品 190の他方の面同士を、例えば榭脂接着剤等で接着して接合電子部品 270を作 製する。例えば、各電子部品 190の厚さを約 50 mとすれば、接合電子部品 270の 厚さは約 100 mである。
[0067] 次に、ステップ S2において、 1個または複数個の接合電子部品 270を厚さ約 125 mの熱可塑性榭脂からなる第 1の榭脂シート 210上の所定の位置に載置する。
[0068] 次に、ステップ S3において、例えば熱プレス板の間に挟み、加熱'加圧する。
[0069] これにより、接合電子部品 270は、少なくともその電極端子 200面が露出した状態 で第 1の榭脂シート 210に埋め込まれる。このとき、必要に応じて、接合電子部品 27
0の電極端子 200上の第 1の榭脂シート 210の残渣をフォトリソグラフィ一法またはレ 一ザ一ビーム法等によって除去することにより、電極端子 200を第 1の榭脂シート 21
0の表面 210Aと裏面 210Bに露出させてもよ!、。
[0070] 次に、ステップ S4において、表面 210Aおよび裏面 210B側の電極端子 200間を 接続する第 2の配線パターン 180をスクリーン印刷法またはフォトリソグラフィ一法等 により第 1の榭脂シート 210上に形成する。その結果、図 8Aに示すような接合電子部 品 270が埋め込まれ、第 2の配線パターン 180が形成された多数の基板モジュール 260を含む複合榭脂シート 360が完成する。
[0071] 次に、ステップ S5において、図 8Bに示すように、上記方法によって作製された複合 榭脂シート 360を基板モジュール 260毎に折り畳み、その基板モジュール間に第 2の 榭脂シート 280を配置して積層する。ここで、第 2の榭脂シート 280は、基板モジユー ル 260間の絶縁性を確保するものである。なお、図 8Bは、積層される状態を分かりや すくするために、層間を離した状態で示している。
[0072] 次に、ステップ S6において、この折り畳まれた複合榭脂シート 360を、例えば熱プ レス板の間に挟み加熱'加圧することにより、第 1の榭脂シート 210および第 2の榭脂 シート 280が互いに溶融して一体ィ匕する。なお、第 1の榭脂シートと第 2の榭脂シート の材料が、例えばポリエチレンテレフタレートの場合、加圧力 35kgZcm2、加熱温度 120°C、プレス時間 1分である。なお、第 1の榭脂シートと第 2の榭脂シートの材質が 同じである必要は特にないが、溶融温度が同程度である方が好ましい。また、第 1の 榭脂シートと第 2の榭脂シートの材質が異なる場合、第 1の榭脂シートよりも第 2の榭 脂シートの溶融温度が低い方が、電子部品等の位置ずれを防ぐ上で好ましい。他の 実施の形態においても同様である。
[0073] 次に、ステップ S7において、折り畳まれた複合榭脂シート 360の端部 290を切断す ると、図 8Cに示すように積層された複数の基板モジュール 260が完成する。
[0074] 次に、ステップ S8において、一体化した基板モジュール 260の接合電子部品 270 の存在しない領域に貫通孔を形成し、貫通孔に導電性ペースト等を充填して硬化す ると、図 8Dに示すような貫通導体部 170を備えた基板モジュールユニット 250が完 成する。
[0075] なお、筐体内で平面方向の実装空間に余裕がある場合、ステップ S7とステップ S8 を省略し、図 8Bの折り畳んで積層した状態で実装空間に収納してもよい。この場合、 折り畳みの部分で第 2の配線パターンが断線しない程度に折り曲げる必要がある。
[0076] 本発明の第 2の実施の形態においては、接合電子部品 270の電極端子 200の配 列順序力 通常、第 1の榭脂シート 210の表面 210A側の電子部品 190と裏面 210B 側の電子部品 190とで異なる。 [0077] そこで、図 9を用いて、基板モジュールユニット 250の接合電子部品 270の電極端 子 200と接続する第 2の配線パターン 180の一例を説明する。
[0078] 図 9は、基板モジュール 260の第 1の榭脂シートの表面 210Aに形成される第 2の 配線パターン 180と、これらの基板モジュール 260が第 2の榭脂シート 280を介して 積層された状態を示している。図面の表記上、基板モジュール 260の第 1の榭脂シ ートの裏面 210Bに形成される第 2の配線パターンは図示していないが、表面 210A の第 2の配線パターン 180と同様に、電子部品 190の同じ電極端子 200同士を接続 して左右のランド 300に接続されている。基板モジュール 260の第 1の榭脂シートの 表面 210Aのランド 300とその直下の裏面 210Bのランド 300とは同じ電極端子 200 に対応するものであって、貫通導体部 170によって電気的に接続されている。そして 、これらの基板モジュール 260を積層して基板モジュールユニットが形成される。なお 、便宜上、第 2の榭脂シートには貫通導体部を図示していない。
[0079] また、上記第 2の実施の形態では、個別の電子部品を貼り合せる例で説明したが、 本発明はこれに限られない。例えば、特に、接合電子部品が半導体メモリーなどの 同一形状を有する電子部品で構成される場合には、以下の方法により接合電子部 品を生産性よく得ることができる。
[0080] すなわち、まず、例えば一方の表面に電極端子を有する複数個の半導体メモリー が形成された、例えばシリコン基板などの 2枚のウェハの他方の面同士を位置合わ せし、貼り合わせる。
[0081] 次に、貼り合わされたウェハを半導体メモリー毎にダイシングなどで切断加工するこ とにより、個別の接合電子部品に分離する。
[0082] これにより、貼り合わされる半導体メモリー同士の位置ずれが少ない接合電子部品 を効率よく形成することができる。
[0083] また、上記第 2の実施の形態では、複合榭脂シートを折り畳んで基板モジュールュ ニットを形成する例で説明したが、本発明はこれに限られない。例えば、基板モジュ ール毎に、個別に切断し、それらを積層することにより基板モジュールユニットを形成 してもよい。これにより、端部となる部分が必要でないため、複合榭脂シートにおける 基板モジュールの収率を向上できる。 [0084] (第 3の実施の形態)
図 10Aは本発明の第 3の実施の形態に係る立体的電子回路装置の断面図、図 10 Bは基板モジュールユニットの断面図、図 10Cは基板モジュールの断面図である。図 10Aから図 10Cにおいて、図 5と同じ構成については同じ符号を用い説明を省略す る。
[0085] 本発明の第 3の実施の形態に係る立体的電子回路装置 100は、図 10Aから図 10 Cに示すように、基板モジュールユニット 310が接続端子 120、制御回路 130および 第 1の配線パターン 140を備えた筐体 150に嵌め込まれている。そして、筐体 150の 内面に形成された第 1の配線パターン 140と基板モジュールユニット 310の第 2の配 線パターン 180が貫通導体部 170を介して導電性ペースト等によって電気的、機械 的に接続された構造を有する。
[0086] また、図 10Bに示すように、基板モジュールユニット 310は、図 10Cに示す基板モ ジュール 320を、例えば 4段に積層して加熱'加圧して一体ィ匕した構成を有する。そ して、各基板モジュール 320に形成された第 2の配線パターン 180間は、接合電子 部品 330が存在しない領域に設けた貫通導体部 170により接続される。
[0087] また、図 10Cに示すように、基板モジュール 320は、接合電子部品 330を第 1の榭 脂シート 210に埋設し、その表面 210Aおよび裏面 210Bの少なくとも一方に第 2の 配線パターン 180を設けた構造を有する。
[0088] ここで、接合電子部品 330は、一方の面で対向する 2辺近傍に電極端子を有する 2 個の電子部品 340、 350を厚み方向に重ならないように配置し、その他方の面同士 を接着し一体化して形成されている。この点で、第 2の実施の形態の基板モジュール 260とは異なるものである。
[0089] この構成により、第 2の実施の形態の第 2の榭脂シートを必要としない薄型の基板 モジュールユニットを得ることができるものである。
[0090] 以下に、その理由について説明する。
[0091] 図 11Aと図 11Bは、基板モジュール 320間で対向する接合電子部品 330の電極 端子 200と接続する第 2の配線パターン 180の一例を説明する図である。
[0092] 図 11Aは、図 11Bの下側に配置した基板モジュール 320に形成された第 2の配線 パターン 180を説明する模式図である。図中の黒丸は、図 11Bの上側に配置した基 板モジュール 320の電子部品 340の電極端子 200の配置を示し、番号は電極端子 2 00の配列順序を表している。同様に、図中の白丸は、図 11Bの下側に配置した基板 モジュール 320の電子部品 350の電極端子 200の配置を示し、番号は電極端子 20 0の配列順序を表している。
[0093] そして、図 11Aに示す第 2の配線パターン 180により、積層された基板モジュール 3 20間で対向する接合電子部品 330は、その同じ番号の電極端子 200同士が接続さ れるものである。
[0094] つまり、図 11Bに示すように、電子部品 340、 350をずらして他方の面同士を貼り合 わせた場合、電極端子 200の配列順序が異なっても、同じ電極端子 200同士を接続 することができる。そのため、第 2の配線パターン 180は、積層する基板モジュール 3 20の一方に形成すればよぐ電極端子 200の同じ配列順序同士を接続することがで きるものである。
[0095] これにより、第 2の実施の形態の立体的電子回路装置 100の第 2の榭脂シート 280 が必要でなくなる。その結果、さらに基板モジュール 320の薄型化が可能となるととも に、限られた実装空間において電子部品などの実装密度が向上できる。
[0096] 以下に、図 12と図 13Aから図 13Dを参照しながら、本発明の第 3の実施の形態に 係る基板モジュールユニット 310の製造方法について説明する。
[0097] 図 12は、本発明の第 3の実施の形態に係る基板モジュールユニット 310の製造方 法を説明するフローチャートである。図 13Aから図 13Dは、図 12の主要な処理ステツ プにおける要部断面図である。
[0098] まず、ステップ S1において、一方に面で対向する 2辺近傍に電極端子 200が形成 された 2個の電子部品 340、 350の他方の面同士を電極端子 200方向に対して互い にずらして、例えば榭脂接着剤等で接着して接合電子部品 330を作製する。例えば 、電子部品 340、 350の厚さを約 50 mとすれば、接合電子部品 330の厚さは約 10 0 μ mである。
[0099] 次に、ステップ S2において、 1個または複数個の接合電子部品 330を厚さ約 125 mの熱可塑性榭脂からなる第 1の榭脂シート 210上の所定の位置に載置する。 [0100] 次に、ステップ S3において、例えば熱プレス板の間に挟み、加熱'加圧する。
[0101] これにより、接合電子部品 330は、少なくともその電極端子 200面が露出した状態 で第 1の榭脂シート 210に埋め込まれる。このとき、必要に応じて、接合電子部品 33 0の電極端子 200上の第 1の榭脂シート 210の残渣をフォトリソグラフィ一法またはレ 一ザ一ビーム法等によって除去することにより、電極端子 200を第 1の榭脂シート 21 0の表面 210Aと裏面 210Bに露出させてもよ!、。
[0102] 次に、ステップ S4において、第 1の榭脂シート 210の表面 210Aおよび裏面 210B の少なくとも一方に、接合電子部品 330の電極端子 200間を接続する、図 11Aに示 すような第 2の配線パターン 180をスクリーン印刷法またはフォトリソグラフィ一法等に より形成する。ここで、第 2の配線パターン 180は、基板モジュールユニットの最外層 となるいずれかの基板モジュールの両面に形成する必要がある力 それ以外の積層 される基板モジュールには、積層する面と反対側の面のみに形成すればよい。
[0103] これにより、図 13Aに示すような接合電子部品 330が埋め込まれ、第 2の配線パタ ーン 180が形成された多数の基板モジュール 320を含む複合榭脂シート 370が完成 する。
[0104] 次に、ステップ S5において、図 13Bに示すように、上記方法によって作製された複 合榭脂シート 370を基板モジュール 320毎に折り畳んで積層する。なお、図 13Bは、 積層される状態を分かりやすくするために、層間を離した状態で示して!/ヽる。
[0105] 次に、ステップ S6において、この折り畳まれた複合榭脂シート 370を、例えば熱プ レス板の間に挟み加熱'加圧する。これにより、各基板モジュール 320の第 1の榭脂 シート 210は溶融して一体ィ匕する。例えば、第 1の榭脂シートの材料力 例えばポリ エチレンテレフタレートの場合、加圧力 35kgZcm2、加熱温度 120°C、プレス時間 1 分である。
[0106] 次に、ステップ S7において、折り畳まれた複合榭脂シート 370の端部 290を切断す ると、図 13Cに示すように積層された複数の基板モジュール 320が完成する。
[0107] 次に、ステップ S8において、一体化した基板モジュール 320の接合電子部品 330 の存在しない領域に貫通孔を形成し、貫通孔に導電性ペースト等を充填して硬化す ると、図 13Dに示すような貫通導体部 170を備えた基板モジュールユニット 310が完 成する。
[0108] 以下に、図 14を用いて、本発明の第 3の実施の形態の別の例に係る立体的電子 回路装置を説明する。
[0109] 本発明の第 3の実施の形態の別の例に係る立体的電子回路装置 100は、制御回 路 130を基板モジュールユニット 310に搭載するものである。
[0110] この構成により、制御回路 130と接続する電極パッドを、微細化が容易な平坦な基 板モジュールユニット 310側に形成することにより、電極パッドのピッチが細かい制御 回路 130を容易に実装することができる。
[0111] なお、上記第 3の実施の形態では、複合榭脂シートを折り畳んで基板モジュールュ ニットを形成する例で説明したが、本発明はこれに限られない。例えば、基板モジュ ール毎に、個別に切断し、それらを積層することにより基板モジュールユニットを形成 してもよい。これにより、端部となる部分が必要でないため、複合榭脂シートにおける 基板モジュールの収率を向上できる。
[0112] また、上記各実施の形態に係る立体的電子回路装置を ICカードおよびメモリー力 ードとして図 15に示すような携帯電話やパーソナルコンピュータ等の電子機器に用 いることにより、電子機器の高性能化や高機能化を容易に実現できる。
産業上の利用可能性
[0113] 本発明に係る立体的電子回路装置は、マザ一基板が不要になるとともに、限られた 実装空間に電子部品の実装密度を向上させて積層することが可能になるので、大容 量ィ匕ゃ高機能化を実現する情報記憶装置やそれらを搭載する電子機器に有用であ る。

Claims

請求の範囲
[1] 制御回路と、
接続端子および第 1の配線パターンを備える筐体と、
電子部品をその電極端子が露出するように第 1の榭脂シートに埋設し、前記第 1の榭 脂シートの表面に前記電極端子と接続する第 2の配線パターンを備えた複数の基板 モジュールを第 2の榭脂シートを介して積層して一体ィ匕し、異なる前記基板モジユー ル間の前記第 2の配線パターン間を貫通導体部により接続した基板モジュールュ- ットとを有し、
前記基板モジュールユニットが前記筐体に嵌め込まれ、前記筐体の前記第 1の配線 ノターンと前記貫通導体部とが接続されていることを特徴とする立体的電子回路装 置。
[2] 前記電子部品が、一方の面に電極端子が形成された 2個の電子部品の他方の面同 士を接着して一体ィ匕してなる接合電子部品であることを特徴とする請求項 1に記載の 立体的電子回路装置。
[3] 制御回路と、
接続端子および第 1の配線パターンを備える筐体と、
一方の面の対向する 2辺近傍に電極端子が形成された 2個の電子部品の他方の面 同士を互いの前記電極端子の位置をずらして接着し一体ィ匕した接合電子部品を、 前記電極端子の表面が露出するように第 1の榭脂シートに埋設し、前記第 1の榭脂 シートの表面に前記電極端子と接続する第 2の配線パターンを備えた複数の基板モ ジュールを積層して一体ィ匕し、異なる前記基板モジュール間の前記第 2の配線バタ 一ン間を貫通導体部により接続した基板モジュールユニットとを有し、
前記基板モジュールユニットが前記筐体に嵌め込まれ、前記筐体の前記第 1の配線 ノターンと前記貫通導体部とが接続されていることを特徴とする立体的電子回路装 置。
[4] 前記制御回路が、前記筐体の前記第 1の配線パターンと接続されていることを特徴と する請求項 1または請求項 3に記載の立体的電子回路装置。
[5] 前記制御回路が、前記基板モジュールユニットに搭載されていることを特徴とする請 求項 1または請求項 3に記載の立体的電子回路装置。
[6] 前記電子部品が半導体メモリーからなり、前記制御回路が前記半導体メモリーを制 御する半導体素子力 なることを特徴とする請求項 1または請求項 3に記載の立体的 電子回路装置。
[7] 請求項 6に記載の立体的電子回路装置を用いたことを特徴とする電子機器。
[8] 筐体に、接続端子、制御回路および第 1の配線パターンを形成するステップと、 一方の面に電極端子が形成された電子部品と前記電極端子の表面を露出させるよう に前記電子部品を埋設した第 1の榭脂シートと前記第 1の榭脂シートの表面に露出 させた前記電極端子と接続する第 2の配線パターンと前記第 2の配線パターン間を 接続する貫通導体部を有する複数の基板モジュール間を第 2の榭脂シートを介して 積層して一体化し、前記貫通導体部で接続された基板モジュールユニットを形成す るステップと、
前記基板モジュールユニットの前記貫通導体部と、前記筐体の前記第 1の配線バタ 一ンとを接続するステップと、
を備えたことを特徴とする立体的電子回路装置の製造方法。
[9] 前記電子部品が、一方の面に電極端子が形成された 2個の電子部品を一対として、 前記電子部品の他方の面同士を接着して一体ィ匕した接合電子部品であることを特 徴とする請求項 8に記載の立体的電子回路装置の製造方法。
[10] 筐体に、接続端子、制御回路および第 1の配線パターンを形成するステップと、 一方の面の対向する 2辺近傍に電極端子を有する 2個の電子部品の他方の面同士 を互いの前記電極端子の位置をずらして接着し一体化した接合電子部品と前記電 極端子を露出させるように前記接合電子部品を埋設した第 1の榭脂シートと前記第 1 の榭脂シートの表面に露出させた前記電極端子と接続する第 2の配線パターンを有 する複数の基板モジュールを積層して一体ィ匕し、異なる前記基板モジュール間の前 記第 2の配線パターン間を貫通導体部で接続された基板モジュールユニットを形成 するステップと、
前記基板モジュールユニットの前記貫通導体部と、前記筐体の前記第 1の配線バタ 一ンとを接続するステップと、 を備えたことを特徴とする立体的電子回路装置の製造方法。
[11] 前記基板モジュールユニットを形成するステップは、前記接合電子部品が埋設され た前記第 1の榭脂シートと前記第 1の榭脂シートの表面に露出させた前記電極端子 と接続する前記第 2の配線パターンと前記第 2の配線パターンを被覆する前記第 2の 榭脂シートおよび、前記第 2の配線パターンと接続するとともに、前記第 2の榭脂シ一 トの表面まで露出する前記貫通導体部を有する基板モジュールが複数に連続して形 成された複合榭脂シートを、前記接合電子部品が対向するように前記基板モジユー ル毎に折り畳み、一体的に形成することを特徴とする請求項 9に記載の立体的電子 回路装置の製造方法。
[12] 前記基板モジュールユニットを形成するステップは、前記接合電子部品が埋設され た前記第 1の榭脂シートと前記第 1の榭脂シートの表面に露出させた前記電極端子 と接続する前記第 2の配線パターンおよび、前記第 2の配線パターンと接続するとと もに、前記第 1の榭脂シートの表面まで露出する前記貫通導体部を有する基板モジ ユールが複数に連続して形成された複合榭脂シートを、前記接合電子部品が対向す るように前記基板モジュール毎に折り畳み、一体的に形成することを特徴とする請求 項 10に記載の立体的電子回路装置の製造方法。
[13] 前記接合電子部品は半導体メモリー力 なり、 2枚のウェハを電極端子形成面とは反 対面同士を対向させ、前記ウェハ上の前記半導体メモリー同士を位置合わせして接 着した後、一括して切断して形成することを特徴とする請求項 9に記載の立体的電子 回路装置の製造方法。
PCT/JP2005/015892 2004-09-08 2005-08-31 立体的電子回路装置とそれを用いた電子機器およびその製造方法 WO2006027981A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/660,515 US7768795B2 (en) 2004-09-08 2005-08-31 Electronic circuit device, electronic device using the same, and method for manufacturing the same
JP2006535695A JP4424351B2 (ja) 2004-09-08 2005-08-31 立体的電子回路装置の製造方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004-261091 2004-09-08
JP2004261091 2004-09-08

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2006027981A1 true WO2006027981A1 (ja) 2006-03-16

Family

ID=36036266

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2005/015892 WO2006027981A1 (ja) 2004-09-08 2005-08-31 立体的電子回路装置とそれを用いた電子機器およびその製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7768795B2 (ja)
JP (1) JP4424351B2 (ja)
CN (1) CN100539135C (ja)
WO (1) WO2006027981A1 (ja)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010245288A (ja) * 2009-04-06 2010-10-28 Canon Inc 半導体装置の製造方法
JP2010245286A (ja) * 2009-04-06 2010-10-28 Canon Inc 半導体装置の製造方法
JP2010534951A (ja) * 2007-07-27 2010-11-11 テッセラ,インコーポレイテッド 適用後パッド延在部を伴う再構成ウエハ積層パッケージング
JP2010536171A (ja) * 2007-08-03 2010-11-25 テセラ・テクノロジーズ・ハンガリー・ケイエフティー 再生ウェーハを使用する積層型パッケージ
JP2013520786A (ja) * 2010-02-22 2013-06-06 ジャコブ,アンドレアス 半導体モジュールを製造するための方法およびシステム
US8476774B2 (en) 2006-10-10 2013-07-02 Tessera, Inc. Off-chip VIAS in stacked chips
US8513794B2 (en) 2007-08-09 2013-08-20 Tessera, Inc. Stacked assembly including plurality of stacked microelectronic elements
US8647923B2 (en) 2009-04-06 2014-02-11 Canon Kabushiki Kaisha Method of manufacturing semiconductor device
JP2014029958A (ja) * 2012-07-31 2014-02-13 Ajinomoto Co Inc 半導体装置の製造方法
US8680662B2 (en) 2008-06-16 2014-03-25 Tessera, Inc. Wafer level edge stacking
US8999810B2 (en) 2006-10-10 2015-04-07 Tessera, Inc. Method of making a stacked microelectronic package
JP2016530720A (ja) * 2013-09-27 2016-09-29 インテル・コーポレーション 複数の積層半導体デバイスを相互接続する方法

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7215018B2 (en) 2004-04-13 2007-05-08 Vertical Circuits, Inc. Stacked die BGA or LGA component assembly
US8723332B2 (en) 2007-06-11 2014-05-13 Invensas Corporation Electrically interconnected stacked die assemblies
WO2009001621A1 (ja) * 2007-06-26 2008-12-31 Murata Manufacturing Co., Ltd. 部品内蔵基板の製造方法
WO2009035849A2 (en) 2007-09-10 2009-03-19 Vertical Circuits, Inc. Semiconductor die mount by conformal die coating
US8178978B2 (en) 2008-03-12 2012-05-15 Vertical Circuits, Inc. Support mounted electrically interconnected die assembly
US9153517B2 (en) 2008-05-20 2015-10-06 Invensas Corporation Electrical connector between die pad and z-interconnect for stacked die assemblies
US7863159B2 (en) 2008-06-19 2011-01-04 Vertical Circuits, Inc. Semiconductor die separation method
JP2010021306A (ja) * 2008-07-10 2010-01-28 Hitachi Ltd 半導体装置
JP5112275B2 (ja) * 2008-12-16 2013-01-09 新光電気工業株式会社 半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP5215244B2 (ja) * 2009-06-18 2013-06-19 新光電気工業株式会社 半導体装置
CN102473697B (zh) 2009-06-26 2016-08-10 伊文萨思公司 曲折配置的堆叠裸片的电互连
US9147583B2 (en) 2009-10-27 2015-09-29 Invensas Corporation Selective die electrical insulation by additive process
TWI544604B (zh) 2009-11-04 2016-08-01 英維瑟斯公司 具有降低應力電互連的堆疊晶粒總成
WO2013121977A1 (ja) * 2012-02-17 2013-08-22 株式会社村田製作所 部品内蔵基板
CN104106320B (zh) * 2012-02-17 2017-04-19 株式会社村田制作所 元器件内置基板
US8860202B2 (en) * 2012-08-29 2014-10-14 Macronix International Co., Ltd. Chip stack structure and manufacturing method thereof
US8963311B2 (en) * 2012-09-26 2015-02-24 Apple Inc. PoP structure with electrically insulating material between packages
CN103811475A (zh) * 2012-11-02 2014-05-21 钰桥半导体股份有限公司 具有背对背内嵌半导体元件及内建定位件的半导体组体板
KR102084540B1 (ko) * 2013-10-16 2020-03-04 삼성전자주식회사 반도체 패키지 및 그 제조방법
US9871019B2 (en) 2015-07-17 2018-01-16 Invensas Corporation Flipped die stack assemblies with leadframe interconnects
US9490195B1 (en) 2015-07-17 2016-11-08 Invensas Corporation Wafer-level flipped die stacks with leadframes or metal foil interconnects
US9825002B2 (en) 2015-07-17 2017-11-21 Invensas Corporation Flipped die stack
US9786632B2 (en) * 2015-07-30 2017-10-10 Mediatek Inc. Semiconductor package structure and method for forming the same
CN105023901B (zh) * 2015-08-13 2017-10-24 上海航天电子通讯设备研究所 一种基于铝基板的三维叠层芯片的封装结构及其制备方法
FR3042308B1 (fr) 2015-10-13 2018-02-16 Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives Boitier pour composants microelectroniques
US9508691B1 (en) 2015-12-16 2016-11-29 Invensas Corporation Flipped die stacks with multiple rows of leadframe interconnects
US10566310B2 (en) 2016-04-11 2020-02-18 Invensas Corporation Microelectronic packages having stacked die and wire bond interconnects
US9595511B1 (en) 2016-05-12 2017-03-14 Invensas Corporation Microelectronic packages and assemblies with improved flyby signaling operation
US9728524B1 (en) 2016-06-30 2017-08-08 Invensas Corporation Enhanced density assembly having microelectronic packages mounted at substantial angle to board
US10741498B2 (en) * 2018-07-12 2020-08-11 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor package

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11220262A (ja) * 1997-11-25 1999-08-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 回路部品内蔵モジュールおよびその製造方法
JP2000269411A (ja) * 1999-03-17 2000-09-29 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体装置及びその製造方法
JP2001077294A (ja) * 1999-09-02 2001-03-23 Nec Corp 半導体装置
JP2001217388A (ja) * 2000-02-01 2001-08-10 Sony Corp 電子装置およびその製造方法
JP2002207986A (ja) * 2000-10-02 2002-07-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd カード型記録媒体及びその製造方法
JP2003218319A (ja) * 2002-01-18 2003-07-31 Ibiden Co Ltd マルチチップ半導体装置
JP2003289128A (ja) * 2002-01-23 2003-10-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 回路部品内蔵モジュールおよびその製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR0134648B1 (ko) * 1994-06-09 1998-04-20 김광호 노이즈가 적은 적층 멀티칩 패키지
KR100447313B1 (ko) * 1996-11-21 2004-09-07 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 반도체 장치 및 그 제조방법
US6038133A (en) 1997-11-25 2000-03-14 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Circuit component built-in module and method for producing the same
JP2001175834A (ja) 1999-12-17 2001-06-29 Toshiba Corp カード型電子機器およびその製造方法
CN1259200C (zh) 2000-10-02 2006-06-14 松下电器产业株式会社 卡型记录媒体及其制造方法
DE10164800B4 (de) * 2001-11-02 2005-03-31 Infineon Technologies Ag Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauelements mit mehreren übereinander gestapelten und miteinander kontaktierten Chips
TW200302685A (en) 2002-01-23 2003-08-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd Circuit component built-in module and method of manufacturing the same
JP2006165175A (ja) * 2004-12-06 2006-06-22 Alps Electric Co Ltd 回路部品モジュールおよび電子回路装置並びに回路部品モジュールの製造方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11220262A (ja) * 1997-11-25 1999-08-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 回路部品内蔵モジュールおよびその製造方法
JP2000269411A (ja) * 1999-03-17 2000-09-29 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体装置及びその製造方法
JP2001077294A (ja) * 1999-09-02 2001-03-23 Nec Corp 半導体装置
JP2001217388A (ja) * 2000-02-01 2001-08-10 Sony Corp 電子装置およびその製造方法
JP2002207986A (ja) * 2000-10-02 2002-07-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd カード型記録媒体及びその製造方法
JP2003218319A (ja) * 2002-01-18 2003-07-31 Ibiden Co Ltd マルチチップ半導体装置
JP2003289128A (ja) * 2002-01-23 2003-10-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 回路部品内蔵モジュールおよびその製造方法

Cited By (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8476774B2 (en) 2006-10-10 2013-07-02 Tessera, Inc. Off-chip VIAS in stacked chips
US9899353B2 (en) 2006-10-10 2018-02-20 Tessera, Inc. Off-chip vias in stacked chips
US9378967B2 (en) 2006-10-10 2016-06-28 Tessera, Inc. Method of making a stacked microelectronic package
US9048234B2 (en) 2006-10-10 2015-06-02 Tessera, Inc. Off-chip vias in stacked chips
US8999810B2 (en) 2006-10-10 2015-04-07 Tessera, Inc. Method of making a stacked microelectronic package
US8883562B2 (en) 2007-07-27 2014-11-11 Tessera, Inc. Reconstituted wafer stack packaging with after-applied pad extensions
JP2010534951A (ja) * 2007-07-27 2010-11-11 テッセラ,インコーポレイテッド 適用後パッド延在部を伴う再構成ウエハ積層パッケージング
US8461672B2 (en) 2007-07-27 2013-06-11 Tessera, Inc. Reconstituted wafer stack packaging with after-applied pad extensions
JP2010536171A (ja) * 2007-08-03 2010-11-25 テセラ・テクノロジーズ・ハンガリー・ケイエフティー 再生ウェーハを使用する積層型パッケージ
US8551815B2 (en) 2007-08-03 2013-10-08 Tessera, Inc. Stack packages using reconstituted wafers
KR101533663B1 (ko) * 2007-08-03 2015-07-03 테세라, 인코포레이티드 재구성된 웨이퍼를 이용한 스택 패키지
US8513794B2 (en) 2007-08-09 2013-08-20 Tessera, Inc. Stacked assembly including plurality of stacked microelectronic elements
US8680662B2 (en) 2008-06-16 2014-03-25 Tessera, Inc. Wafer level edge stacking
US8647923B2 (en) 2009-04-06 2014-02-11 Canon Kabushiki Kaisha Method of manufacturing semiconductor device
JP2010245288A (ja) * 2009-04-06 2010-10-28 Canon Inc 半導体装置の製造方法
JP2010245286A (ja) * 2009-04-06 2010-10-28 Canon Inc 半導体装置の製造方法
JP2013520786A (ja) * 2010-02-22 2013-06-06 ジャコブ,アンドレアス 半導体モジュールを製造するための方法およびシステム
US9165907B2 (en) 2010-02-22 2015-10-20 Interposers Gmbh Method and a system for producing a semi-conductor module
US9978703B2 (en) 2010-02-22 2018-05-22 Regibus Max Microelectronics Llc Method and a system for producing a semi-conductor module
JP2014029958A (ja) * 2012-07-31 2014-02-13 Ajinomoto Co Inc 半導体装置の製造方法
JP2016530720A (ja) * 2013-09-27 2016-09-29 インテル・コーポレーション 複数の積層半導体デバイスを相互接続する方法
US10643975B2 (en) 2013-09-27 2020-05-05 Intel Corporation Method for interconnecting stacked semiconductor devices
US11024607B2 (en) 2013-09-27 2021-06-01 Intel Corporation Method for interconnecting stacked semiconductor devices
US11676944B2 (en) 2013-09-27 2023-06-13 Intel Corporation Method for interconnecting stacked semiconductor devices
US12033983B2 (en) 2013-09-27 2024-07-09 Intel Corporation Method for interconnecting stacked semiconductor devices

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2006027981A1 (ja) 2008-05-08
US20080094793A1 (en) 2008-04-24
JP4424351B2 (ja) 2010-03-03
US7768795B2 (en) 2010-08-03
CN101015057A (zh) 2007-08-08
CN100539135C (zh) 2009-09-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4424351B2 (ja) 立体的電子回路装置の製造方法
JP4716038B2 (ja) 電子部品及びその製造方法
TW472330B (en) Semiconductor device and the manufacturing method thereof
JP5411362B2 (ja) 積層配線基板及びその製造方法
KR101143837B1 (ko) 전자 소자를 내장하는 회로기판 및 회로기판의 제조 방법
JPH09321439A (ja) 積層回路基板
US7375421B2 (en) High density multilayer circuit module
WO2001026155A1 (fr) Dispositif a semi-conducteur, procede et dispositif permettant d'obtenir ce dernier, carte de circuit imprime et equipement electronique
JP2008288298A (ja) 電子部品を内蔵したプリント配線板の製造方法
US9629243B2 (en) Electronic component-embedded module
JP4407527B2 (ja) 部品内蔵モジュールの製造方法
JP5462450B2 (ja) 部品内蔵プリント配線板及び部品内蔵プリント配線板の製造方法
JP4285309B2 (ja) 電子回路モジュールの製造方法と多層電子回路モジュールおよびその製造方法
JP2001267490A (ja) 半導体モジュール
JP4276740B2 (ja) 多層配線基板
JP5641072B2 (ja) 回路基板
JP2005135995A (ja) 回路部品内蔵モジュール、回路部品内蔵モジュールの製造方法、および多層構造回路部品内蔵モジュール、多層構造回路部品内蔵モジュールの製造方法
JP2001119148A (ja) Icチップ内蔵多層基板及びその製造方法
TW201936018A (zh) 印刷電路板
US11895777B2 (en) Flexible inlay and manufacturing method thereof
JP4479392B2 (ja) メモリーモジュール製造方法
JP2001102516A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP2010141029A (ja) プリント配線板及びその製造方法
JP2004253774A (ja) 電子部品埋込み用の窪みを備える多層プリント配線板およびその製造方法
JP2004071858A (ja) 配線板及び電子装置、ならびに配線板の製造方法及び電子装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BW BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DK DM DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS JP KE KG KM KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MD MG MK MN MW MX MZ NA NG NI NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SK SL SM SY TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): GM KE LS MW MZ NA SD SL SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IS IT LT LU LV MC NL PL PT RO SE SI SK TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2006535695

Country of ref document: JP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 11660515

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200580029613.7

Country of ref document: CN

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase
WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 11660515

Country of ref document: US