WO2001055028A1 - Oxide powder and method for preparing the same, and product using the same - Google Patents

Oxide powder and method for preparing the same, and product using the same Download PDF

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WO2001055028A1
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Eiji Komai
Takeyoshi Shibasaki
Hirokuni Shirono
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Nippon Aerosil Co., Ltd.
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    • Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
    • Y10T428/2991—Coated
    • Y10T428/2993—Silicic or refractory material containing [e.g., tungsten oxide, glass, cement, etc.]
    • Y10T428/2995—Silane, siloxane or silicone coating

Definitions

  • the surface of a base material powder composed of one or both of a metal oxide and a semi-metal oxide, or a composite oxide or a mixed oxide thereof, is different from or similar to the base material.
  • the present invention relates to an oxide powder coated with a semimetal oxide coating layer, a method for producing the same, and a product using the powder. f3 ⁇ 4 technique ⁇ ']
  • the silica particles (base material) are uniformly dispersed in an aqueous solution of a salt of a metal selected from hydrolyzable copper, iron, zirconium, aluminum, chromium, and yttrium.
  • a coating layer made of a metal compound on the silicide particles by the decomposition reaction an oxide powder having a modified surface can be obtained.
  • the oxide powder produced by the above method has high purity and excellent quality without peeling of the coating layer, and can be used for a wide range of applications such as catalysts, catalyst carriers and adsorbents.
  • the pH is stable near neutral and the polishing characteristics are high, and the pH is high between the insulating film and the metal film. Selectivity can be obtained.
  • printing paper used for printing of electronic devices and the like, and printing materials such as OHP films are coated on the surface with an ink receiving layer in order to enhance the clarity and fixability of the ink.
  • Fine silica powder or alumina powder is used as a material for the ink receiving layer (for example, JP-A-2000-65013, JP-A-2000-141870).
  • the method for producing composite particles disclosed in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-170425 requires a drying and crushing step, which raises a problem of increasing production costs. Further, in the above-described conventional method for producing composite particles, agglomeration due to capillary pressure is likely to occur between the silica particles after drying, which may necessitate crushing or the like, and there is also a problem that the number of produced particles increases.
  • the oxide powder produced by the above-mentioned conventional method for producing composite particles is used as an external additive for an electrophotographic toner. That is, the oxide powder, which is a silica powder having a modified surface, is added for the purpose of imparting fluidity to the toner.
  • titania powder whose surface has been modified for the purpose of imparting charge stability and environmental stability is used in combination with the above-mentioned sily powder, and it is difficult to control the effective function of these powders. There is a problem, and each powder is separated from the toner surface.
  • silica powder described in JP-A-2000-6513 and JP-A-2004-18777 is used for an ink receiving layer, printing is performed. Although transparency can be imparted to the printing material, silica powder has poor ink absorbability, and may cause ink bleeding on the surface of the printing material, resulting in poor light fastness. Further, when the alumina powder is used for the ink receiving layer, there is a problem that the ink absorbing property is good, but the transparency is not good. In addition, with these silica powders or alumina powders, the slurry used as the ink receiving layer material was not stable, and there was a problem that a high-concentration slurry could not be prepared.
  • An object of the present invention is to provide an oxide powder base material with a different or same type of oxide on the surface thereof.
  • An oxide powder and a method for producing the same which can uniformly and inexpensively form a coating layer made of a material, thereby obtaining sufficient physical and chemical properties of the powder base material and the coating layer.
  • Another object of the present invention is to improve flowability, charge control, charge stability, conductivity, mechanical strength, thickening, dispersibility, dispersion stability, transparency, anti-settling, anti-blocking, rheological properties,
  • An oxide powder, a method for producing the oxide powder, and a product using the powder which can impart or improve ultraviolet absorbing property, catalytic action, suppression of photocatalytic activity, polishing property, heat insulating property, heat resistance, anion adsorption ability, and the like.
  • the invention according to claim 1 has an adsorbed water amount of 0.1 to 50%, an average particle diameter of 0.005 to 0.5 ⁇ m, and a number of surface hydroxyl groups of 0.1 to 25 mol / 111 a 2, held either or both of the metal oxide or semi-metal oxide, or a powder preform comprising a first oxide which is a complex oxide thereof or a mixed oxide in a fluidized state, fluid state And / or a halide or alkoxide containing a metal or metalloid of the same kind or different from the metal or metalloid constituting the first oxide together with a carrier gas inert to the powder base material held in After contacting and heating to 25 to 800 ° C, the powder base material is coated with the coating layer made of the second oxide, and then either or both of the hydrogen halide or alcohol generated by the above-mentioned contact is formed.
  • the reaction by-product consisting of
  • the invention according to claim 2 has an adsorbed water amount of 0.1 to 50%, an average particle diameter of 0.005 to 0.5 ⁇ m, and a number of surface hydroxyl groups of 0.1 to 25 mol / the powder preform comprising a first oxide which is 111 2 and held in a fluidized state, the metal constituting the first oxide with an inert carrier gas to the powder preform held in a fluidized state or semi-metal of the same kind
  • the powder base material is coated with a coating layer made of a second oxide by contacting a halide containing a dissimilar metal or metalloid and heating to 25 to 800 ° C., and then the halogenation generated by the contact is performed. Oxidation to remove reaction by-products consisting of hydrogen by heating at 200-1000 ° C in air This is a method for producing a product powder.
  • the production cost of the oxide powder can be reduced, and the coating layer can be uniformly formed on the surface of the powder base material.
  • the powder base material is preferably silica, alumina or titania, and the metal element contained in the hydrogenated compound or alkoxide is Group 3A, 4A, 5A, 6A, or 7A of the periodic table. , A transition element of group 8, 1B and 2B, and one or more elements selected from the group consisting of typical elements of group 3B, 4B and 5B .
  • the invention according to claim 5 is the invention according to any one of claims 1, 3 and 4, and furthermore, as shown in FIG. 2, a powder base material is supplied to the fluidized bed reactor 11 to regulate the flow from below.
  • the first oxide adsorbing moisture content 0. number of from 1 to 5 0% surface hydroxyl groups is 0.1 to 2 5 ⁇ mol / m 2 Powder in which a powder base material is kept in a fluid state, and an inert carrier gas is used as a fluidizing gas, and either one or both of a halide and an alkoxide are kept in a fluid state together with the carrier gas via a current plate 24.
  • the powder base material is coated with the coating layer made of the second oxide by flowing through the base material, the reaction by-products generated by flowing the carrier gas through the rectifying plate 24 are removed. And the powder base material covered with the coating layer is discharged from the fluidized bed reactor 11 It is characterized by
  • the invention according to claim 6 is the invention according to any one of claims 2 to 4, and furthermore, as shown in FIG. 2, a powder base material is supplied to a fluidized bed reactor 11 and a flow regulating plate 24 by circulating air through the powder ing from the first oxide adsorbed moisture amount is 0.1 to 5 0% in a number of surface hydroxyl groups is 0 ⁇ 1-2 5 ⁇ mol / m 2
  • a powder base material is supplied to a fluidized bed reactor 11 and a flow regulating plate 24 by circulating air through the powder ing from the first oxide adsorbed moisture amount is 0.1 to 5 0% in a number of surface hydroxyl groups is 0 ⁇ 1-2 5 ⁇ mol / m 2
  • the manufacturing cost of the oxide powder can be further reduced.
  • the relative variation of elements when performing elemental analysis of a population containing oxide powders produced by the above-described production method as constituent elements was within 60%, and 100% of the population in the population was not analyzed.
  • One or more agglomerated particles do not exist in the particles, that is, there are no primary particles and only primary particles exist among the 100 particles in the population.
  • the invention according to claim 8 has an average particle diameter of 0.05 to 0.5 ⁇ m, and includes one or both of a metal oxide and a metalloid oxide, or a composite oxide or a mixture thereof.
  • a powder base material comprising a first oxide which is an oxide; and a coating layer covering the surface of the powder base material and comprising a second oxide which is the same or different from the first oxide.
  • the invention according to claim 9 is the invention according to claim 8, wherein the amount of water adsorbed by the powder base material is 0.1 to 50%, and the number of surface hydroxyl groups of the powder base material is 0.1. -25 mol / m 2 , and the coating amount of the coating layer is 0.1 to 10 times the number of surface hydroxyl groups.
  • the invention according to claim 10 is the invention according to claim 8 or 9, wherein the powder base material is silica, alumina or titania, or a composite oxide or mixed oxide containing at least silica, alumina or titania. It is characterized by the following.
  • the invention according to claim 11 is the invention according to any one of claims 8 to 10, wherein the metal element contained in the second oxide of the coating layer is a group 3A or 4A group of the periodic table, One selected from the group consisting of group 5A, group 6A, group 7A, group 8, group 1B and group 2B transition elements and group 3B, group 4B and group 5B typical elements Alternatively, they are characterized by being two or more elements.
  • sufficient physical and chemical properties of the powder base material and the coating layer can be obtained. That is, the following characteristics are obtained.
  • the coating layer can simultaneously impart fluidity and charge stability to the toner.
  • the coating layer can improve the polishing performance of the oxide powder, and can also provide heat insulation and anion adsorption ability.
  • the coating layer can impart dispersion stability to the oxide powder and can improve the fluidity thereof.
  • the coating layer can improve the polishing performance of the oxide powder, and when this oxide powder is kneaded with silicone rubber, heat resistance is given to the silicone rubber. can do.
  • this oxide powder can impart heat resistance to the silicone rubber in the same manner as in (1).
  • the coating layer can impart conductivity to the oxide powder.
  • the coating layer can suppress photocatalytic activity.
  • hydrophobicity by modifying the surface of the oxide powder according to any one of claims 8 to 11 with one or both of a silane coupling agent and a silicone compound.
  • the silane coupling agent is preferably a coupling agent represented by the following formula (1).
  • X is any one of a hydroxyl group, an alkoxy group and a halogen atom
  • R is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms
  • n is an integer of 0 to 3.
  • the silane coupling agent may be a force coupling agent represented by the following formula (2).
  • R is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms.
  • the silicone compound is preferably a compound represented by the following formula (3).
  • the substituent represented by R ′ is any one of a methyl group and an ethyl group, and: “represents any one of a methyl group, an ethyl group and a hydrogen atom, or one of these substituents.
  • R ′ represents any one of a methyl group and an ethyl group, and: “represents any one of a methyl group, an ethyl group and a hydrogen atom, or one of these substituents.
  • X is any one of a hydroxyl group, an alkoxy group, a halogen atom and an alkyl group
  • m is an integer of 1 to 500. is there.
  • the first oxide of the powder base material is silica or a composite oxide or mixed oxide containing at least silicic acid
  • the second oxide of the coating layer contains a metal element. It is preferred to include.
  • the second oxide of the coating layer is more preferably alumina, titania, zirconia or ceria.
  • the material to be polished can be polished at high speed and can be finished to a mirror surface.
  • the oxide powder is used as a material for forming an ink receiving layer of a printing material, the oxide powder has an adsorption amount of the anion source compound of at least 150% with respect to an adsorption amount of the anion source compound of the powder base material. It is preferred that
  • the invention according to claim 21 is an ink receiving layer forming material containing the oxide powder according to claim 20.
  • This ink receiving layer forming material is a stable slurry containing a high concentration of oxide powder.
  • the content of the oxide powder in the ink receiving layer forming material was 5 It is preferably about 30% by weight.
  • the invention according to claim 22 is a printing material for ink jet, such as paper or a film, which is obtained by applying the ink receiving layer forming material according to claim 21 and drying the applied material.
  • the absorbency, transparency and light resistance of the printed ink can be improved by printing or printing on the printing material using an ink jet printing method. Also, the printed coating film does not crack and does not bleed.
  • the invention according to claim 23 is the oxide powder according to any one of claims 12 to 15, wherein the first oxide of the powder base material is silica, and the second oxide of the coating layer is titania. It is an external additive for toner.
  • the toner external additive according to claim 23 can improve the fluidity and charge control of the toner.
  • the invention according to claim 24 is the invention according to claims 8 to 11, wherein the first oxide of the powder base material is titania, and the second oxide of the coating layer is any of silicide, alumina, and iron oxide.
  • An ultraviolet absorber comprising any of the oxide powders described above.
  • the photocatalytic activity of the absorbent can be suppressed, and the ultraviolet absorption can be improved.
  • the invention according to claim 25 is the invention according to claim 8, wherein the first oxide of the powder base material is silica, and the second oxide of the coating layer is titania or antimony tin monoxide.
  • a conductive powder comprising the oxide powder described above.
  • the conductivity of the conductive coating film produced using the powder can be improved.
  • FIG. 1 is a cross-sectional configuration diagram of a humidity control apparatus showing a state in which the amount of adsorbed moisture of a powder base material of an oxide powder according to an embodiment of the present invention is adjusted.
  • FIG. 2 is a cross-sectional configuration diagram of a fluidized bed reactor showing a state in which the conditioned powder base material is covered with a coating layer.
  • the oxide powder of the present invention comprises: a powder base material comprising a first oxide having an average particle size of 0.005 to 0.50111, preferably 0.005 to 0.3 m; And a covering layer covering the surface and made of a second oxide of the same or different kind from the first oxide.
  • the reason why the average particle size of the powder base material is limited to 0.005 to 0.5 ⁇ m may be less than 0.005 ⁇ m, but those having a mean particle size of less than 0.005 ⁇ m are not commercialized. Or it is difficult to obtain because it is expensive in trial production, and if it exceeds 0.5 / m, uniform convection and mixing of the powder by fluidization and stirring becomes difficult, and the uniformity of the coating layer decreases. To do that.
  • an oxide powder composed of a base material having an average particle size exceeding 0.5 ⁇ m does not have the effect of improving the fluidity of the toner or the like, or may have a slurry when dispersed in water or polyvinyl alcohol.
  • the stability of the product is poor, and the grinding performance cannot be sufficiently obtained, and it becomes difficult to produce a stable product.
  • the average particle diameter of the oxide powder is 0.006 to 0.5 m, preferably 0.006 to 0.1 m.
  • the range of the average particle size of the oxide powder is based on the average particle size of the powder base material. Since the powder base material and oxide powder are primary particles, the average particle size of each can be determined by reading a TEM (Transmission Electron Microscope) photographic image.
  • the second oxide of the coating layer is chemically bonded to the surface of the first oxide of the powder base material, and the surface of the powder base material is uniformly 60% or more, preferably 80% or more by the coating layer. Coated.
  • the reason why the uniformity of the coating layer is limited to 60% or more is that if it is less than 60%, the characteristics of the coating layer cannot be sufficiently brought out.
  • Adsorbed water content of the powder preform is 0.1 to 50%, Ri preferably from 0.5 to 1 0% der, number of surface hydroxyl groups 0.1 1 ⁇ 25 ⁇ mol / m 2, preferably 1 ⁇ 20 ⁇ Mol / m 2 , and the coating amount of the powder base material by the coating layer is 0.1 to 10 times, preferably 0.4 to 6 times the number of the surface hydroxyl groups.
  • the reason why the amount of adsorbed water in the powder base material is limited to 0.1 to 50% is that if the content is less than 0.1%, the surface of the powder base material is covered with a coating layer of a second oxide different from or similar to the powder base material.
  • the powder preform Since it is less than 1 ⁇ mol / m 2 the powder preform is not sufficiently adsorb moisture, powder This is because a sufficient amount of the above-mentioned coating layer cannot be formed on the surface of the base material, and if it exceeds 25 mol / m 2 , the powder base material tends to agglomerate. Furthermore, the reason why the coating amount of the powder base material by the coating layer is limited to 0.1 to 10 times the number of the surface hydroxyl groups is that when the content is less than 0.1 times, the influence of the powder base material is large, and the characteristics of the coating layer are large. This is because when the ratio exceeds 10 times, the coating layer formed on the surface of the powder base material becomes uneven, and the characteristics of the coating layer cannot be sufficiently extracted.
  • the amount of water adsorbed on the powdered base material was determined by measuring the weight after sampling about 1 g of the first oxide in a weighing bottle, drying it at 105 ° C for 2 hours, and measuring the weight (%) ) Is calculated.
  • the number of surface hydroxyl groups on the powder base material is determined by the Grignard method, Karl Fischer method described in the Silicone Handbook, or the lithium aluminum method for measuring the amount of hydrogen generated when a dry sample is mixed with a lithium aluminum hydride.
  • silica S I_ ⁇ 2
  • alumina A 1 2 ⁇ 3
  • titania T i 0 2
  • mechanical at least silica and composite oxides containing alumina or titania or these
  • a mixed oxide mixed with water These oxides may be in any form of fumed, wet, mineral, or hydroxide.
  • the metal elements contained in the second oxide of the coating layer are transition elements belonging to groups 3A, 4A, 5A, 6A, 7A, 8, 18, and 28 of the periodic table, In addition, it is preferably one or more elements selected from the group consisting of group 3B, group 4B and group 5B typical elements.
  • Y, Ce, etc. as a group 3A element, Ti, Zr, etc. as a group 4A element, V, etc. as a group 5A element, and a 6A group element
  • Elements such as Cr, M0, W, etc .; elements such as Mn as elements of group 7A; Fe, Co, Ni, etc. as elements of group 8; and Cu as elements of group 1B.
  • Ag, etc .; Zn, etc. as group 2B elements; Al, In, etc. as group 3B elements; Si, Sn, etc., as group 4B elements; Sb and the like are used as group elements.
  • hydrophobicity can be imparted by surface-modifying the oxide powder with one or both of a silane coupling agent and a silicone compound.
  • a silane coupling agent those represented by the following formula (1) or (2) are preferably used.
  • X is any one of a hydroxyl group, an alkoxy group and a halogen atom
  • R is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms
  • n is an integer of 0 to 3.
  • R is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms.
  • silicone compound it is preferable to use a compound represented by the following formula (3).
  • the substituent represented by R ′ is either a methyl group or an ethyl group
  • R ′′ is any one of a methyl group, an ethyl group and a hydrogen atom, or one of these substituents.
  • X is a hydroxyl group, an alkoxy group, a halogen atom or an alkyl group
  • m is an integer from 1 to 500 .
  • the average water particle amount is 0.05 to 0.5 ⁇ m when the amount of adsorbed water is 0.1 to 50%, and the number of surface hydroxyl groups is 0.1 to 25 mol / m 2 .
  • the powder base material composed of the first oxide is kept in a fluid state.
  • either a halide or an alkoxide containing a metal or metalloid of the same kind or different from the metal or metalloid constituting the first oxide together with a carrier gas inert to the powder base material kept in this fluidized state.
  • the powder base material is coated with a coating layer made of a second oxide by heating both to contact at 25 to 800 ° C., preferably 25 to 600 ° C.
  • reaction by-product consisting of one or both of hydrogen halide and alcohol produced by the above-mentioned contact is placed in an inert gas at 200 to 100 ° C, preferably 200 to 600 ° C.
  • an inert gas at 200 to 100 ° C, preferably 200 to 600 ° C.
  • the reaction by-product consisting of the hydrogen halide generated by the above-mentioned contacting is converted to 200 to: L 000 ° C, preferably 200 to 700 ° C, in the atmosphere. It can be removed by heating.
  • Heating to 25 to 800 ° C after the above contact is at temperatures lower than 25 ° C because the reactivity of halides or alkoxides is reduced and a coating layer is not easily formed on the surface of the powder base material. If the temperature exceeds ° C, the hydroxyl groups on the surface of the powder base material are completely condensed, so that halides or alkoxides cannot react and a coating layer is not formed. Heating in the range of 200 to 100 ° C. at the time of removing reaction by-products is not sufficient if the temperature is lower than 200 ° C., because the reaction by-products are not sufficiently removed.
  • the oxide powder can be produced by such a relatively simple method, the production cost of the oxide powder can be reduced, and the coating layer can be uniformly formed on the surface of the powder base material. it can.
  • the halide include titanium tetrachloride, aluminum chloride, and silicon tetrachloride.
  • the alkoxide include titanium tetraisopropoxide and silicon tetraethoxide.
  • a reactor is used to adjust the moisture content of the powder base material to 0.1 to 50%.
  • a four-necked flask 11 having first to fourth short tubes 11a to 11d connected thereto as shown in FIG. 1 can be used.
  • a stirring shaft 12 a of a stirrer 12 is rotatably passed through a first short tube 11 a of the four-necked flask 11, and a thermometer 13 is provided through a second short tube 11 b.
  • the gas is introduced, and a gas introduction pipe 14 is further inserted through the third short pipe 11 c.
  • a stirring blade 12b is attached to the lower end of the stirring shaft 12a.
  • the above four roscos 11 are configured to be vertically splittable into two parts.
  • the powder base material 15 is put into the four-necked flask 11, the powder base material 15 is stirred by the stirrer 12, and at the same time, a nitrogen gas (N 2 gas) containing water vapor is supplied from the gas introduction pipe 14. Or) Inject air containing steam.
  • N 2 gas nitrogen gas
  • the thermometer 13 adjusts the flow rate of N 2 gas or air so that the temperature of the powder base material 15 is maintained at or above the dew point.
  • the N 2 gas or air after the humidity control of the powder base material 15 is discharged from the fourth short pipe 11 d.
  • a bag filler (not shown) is provided to prevent the powder base material 15 from being discharged together with N 2 gas or the like. It is.
  • a reactor using a fluidized bed may be used as the reactor.
  • a predetermined amount of a powder base material is put into the reactor, and nitrogen gas (N 2 gas) containing steam or air containing steam is introduced into the reactor for a predetermined time to control the humidity.
  • N 2 gas nitrogen gas
  • the reactor is maintained at a temperature above the dew point.
  • a fluidized bed reactor is used to coat the conditioned powder base material with a coating layer.
  • the reaction device includes a cylindrical tube body 22 having both ends closed and extending in a vertical direction; A raw material introduction pipe 23 connected to the center to introduce the powder base material 15 into the cylinder body 22, a flow straightening plate 24 provided near the lower end in the cylinder body 22 to receive the powder base material 15, and a cylinder A gas supply pipe 25 that is connected to the bottom wall 22 a of the main body 22 and introduces the carrier gas and the alkoxide into the cylindrical main body 22 can be used.
  • the current plate 24 is formed in a porous shape having a number of pores smaller than the particle size of the powder base material 15 or in a net shape.
  • a lower outlet pipe 26 is connected to a position slightly higher than the current plate 24 on the side surface of the cylinder body 22, and the height of the side surface of the cylinder body 22 is the material inlet pipe 23 and the lower outlet pipe.
  • the upper outlet pipe 27 is connected so as to be located between the pipes 26.
  • the lower outlet pipe 26 is provided with a manual valve 28 for opening and closing this pipe
  • the upper outlet pipe 27 is provided with a flow rate adjusting valve 29 for adjusting the flow rate of the oxide powder passing through this pipe.
  • the lower outlet pipe 26 and the upper outlet pipe 27 merge to form a collective outlet pipe 30.
  • a bag filler 31 is provided at an upper portion of the cylinder body 22 to prevent the powder base material 15 from being discharged together with the exhaust gas, and exhaust gas is discharged to an upper wall 2 b of the cylinder body 22.
  • Exhaust pipe 32 is connected.
  • the reactor 21 continuously supplies the powder base material 15 from the raw material input pipe 23 to the cylinder main body 22, and introduces a halide, alkoxide, carrier gas, etc.
  • the coating layer when the coating layer contains titania and the oxide powder is used as an external additive of an electrophotographic toner, the coating layer can simultaneously impart fluidity and charge stability to the toner. .
  • the coating layer when alumina is contained in the above-mentioned coating layer, the coating layer can improve the polishing performance of the oxide powder, and has a heat insulating property and an anion adsorption ability. Can be given.
  • silica is contained in the coating layer, the coating layer can impart dispersion stability to the oxide powder and improve the fluidity thereof.
  • cerium oxide is contained in the coating layer, the coating layer can improve the polishing performance of the oxide powder and can impart heat resistance to the silicone rubber.
  • the coating layer contains iron oxide
  • the coating layer can impart heat resistance to the silicone rubber.
  • the coating layer contains tin oxide or antimony oxide, the coating layer can impart conductivity to the oxide powder.
  • the coating layer when the powder base material is titania, the coating layer can suppress the photocatalytic activity.
  • a silicon powder is used as the first oxide of the powder base material, and a metal element (groups 3A, 4A, 5A, and 5A of the periodic table, One or more selected from the group consisting of group 6A, group 7A, group 8, group 1B and group 2B transition elements and group 3B, group 4B and group 5B typical elements Element).
  • groups 3A, 4A, 5A, and 5A of the periodic table One or more selected from the group consisting of group 6A, group 7A, group 8, group 1B and group 2B transition elements and group 3B, group 4B and group 5B typical elements Element.
  • alumina, titania, zirconia or ceria as the second oxide. It is preferable to prepare a slurry for chemical and mechanical polishing using this abrasive.
  • silica powder is used as the first oxide of the powder base material, and a metal element (groups 3A, 4A, and 5A of the periodic table) is used as the second oxide of the coating layer.
  • a metal element groups 3A, 4A, and 5A of the periodic table
  • alumina, titania, zirconia or ceria as the second oxide.
  • the ink receiving layer forming material is prepared by adding water, polyvinyl alcohol, and the like to the oxide powder.
  • the ink receiving layer forming material preferably contains 5 to 30% by weight of an oxide powder.
  • the external additive for toner is prepared by coating a surface of a powder base material whose first oxide is silica with a coating layer whose second oxide is titania to prepare an oxide powder.
  • To (3) can be obtained by surface modification using a silane coupling agent or a silicone compound of any of formulas (3).
  • This external additive for toner is added to a toner such as an electronic copying machine or a laser printer.
  • the ultraviolet absorbing material is prepared by coating the surface of a powder base material in which the first oxide is titania with a coating layer in which the second oxide is one of silica, alumina and iron oxide to produce an oxide powder. It can be obtained by modifying the surface of the oxide powder with a silane coupling agent or a silicone compound of any of formulas (1) to (3). This ultraviolet absorber is added to cosmetics and the like.
  • the conductive powder is produced by coating a surface of a powder base material whose first oxide is silica and a coating layer whose second oxide is titania or antimony tin monoxide (ATO). This conductive powder is used to form a conductive coating.
  • ATO antimony tin monoxide
  • the moisture content of the powder base material 15 was conditioned using a reactor 11. Specifically, the average particle size of 0.0 1 Number of A with surface hydroxyl groups is 2 ⁇ M is 3.7 // mol / m 2 and is hydrophilic silica powder 1 5 (powder preform) to 100 g The mixture was placed in a four-necked flask 11 (reactor) having a volume of 5 liters, and stirred by a stirrer 12. The stirring was carried out while sparging with N 2 gas or air containing water vapor in silica force powder 1 5.
  • the flow rate of nitrogen gas (N 2 gas) or air was adjusted so as to keep the temperature of the silica powder 15 at or above the dew point.
  • the amount of water adsorbed on the powder base material 15 was measured as follows. After sampling about 1 g of the humidified silica powder in a weighing bottle, dry it at 105 ° C for 2 hours, measure the weight, calculate the ratio (%) of the weight loss before and after drying, and determine the amount of adsorbed water. did. At this time, the amount of adsorbed water was 4.0%. After the humidity control, as shown in FIG. 2, 60 g of the above silica powder was introduced from the raw material introduction pipe 23 of the fluidized bed reactor 21 having a capacity of 17 liters.
  • the supplied silicon powder was held on the current plate 24.
  • 8.6 g of titanium tetrachloride and N 2 gas together with N 2 gas were supplied from the gas inlet pipe 25 formed in the bottom wall 22 a of the reactor 21. 2 Introduced into 1.
  • This N 2 gas is used not only as a carrier gas for titanium tetrachloride but also as a fluidizing gas for silica powder.
  • the surface of the powder was covered with a coating layer of titania to form an oxide powder by a chemical reaction.
  • the oxide powder thus obtained was used as Example 1.
  • the number of surface hydroxyl groups average particle size be 0.0 1 2 ⁇ M is 3. 7 ⁇ mol / m 2 and is hydrophilic silica powder (powder preform) 100 g, volume of 5 liters The mixture was placed in a four-necked flask (reactor) and stirred in the air, and the amount of water adsorbed on the silica powder was adjusted in the same manner as in Example 1. At this time, the amount of adsorbed water was 35.5%.
  • Example 2 After humidity control, 60 g of the above-mentioned sily powder was charged into a fluidized bed reactor having a volume of 17 liters. Next, while fluidizing the silica powder with N 2 gas, 25.0 g of titanium tetrachloride was introduced from the bottom wall of the fluidized bed reactor with an N 2 carrier, and the titanium tetrachloride was brought into contact with the silica powder. The surface of the powder was coated with a coating layer made of titania. Further, dehydrochlorination treatment was carried out by maintaining the temperature at 200 ° C. for 12 hours while introducing N 2 gas into the reactor. The oxide powder thus obtained was used as Example 2.
  • hydrophilic silica powder having an average particle size of 0.012 / m and the number of surface hydroxyl groups of 3.7 mol / m 2 was prepared in a volume of 5 liters.
  • the mixture was placed in a four-necked flask (reactor) and stirred in the air, and the amount of water adsorbed on the silica powder was adjusted in the same manner as in Example 1. At this time, the amount of adsorbed water was 9.0%.
  • Example 3 After humidity control, 60 g of the above-mentioned sily powder was charged into a fluidized bed reactor having a volume of 17 liters. Next, while fluidizing the silica powder with N 2 gas, 6.2 g of titanium tetraisopropoxide was introduced from the bottom wall of the fluidized bed reactor with N 2 carrier, and this titanium tetraisopropoxide was added to the above-mentioned silicic powder. The surface of the powder was covered with a coating layer made of titania. Further, a de-alcohol treatment was performed by keeping the reactor at 150 ° C for 2 hours while introducing N 2 gas into the reactor. The oxide powder thus obtained was used as Example 3.
  • hydrophilic silica powder having an average particle size of 0.007 ⁇ m and the number of surface hydroxyl groups of 3.7 / mol / m 2 was added to a 4 liter volume of 4 liters.
  • the mixture was placed in a one-necked flask (reactor) and stirred in the atmosphere, and the amount of water adsorbed on the silica powder was adjusted in the same manner as in Example 1. At this time, the amount of adsorbed water was 9.0%.
  • Example 4 After humidity control, 60 g of the above silica powder was charged into a fluidized bed reactor having a capacity of 17 liters. Next, while fluidizing the silica powder with N 2 gas, 6.5 g of titanium tetrachloride was introduced from the bottom wall of the fluidized bed reactor with N 2 carrier, and the titanium tetrachloride was brought into contact with the silica powder, The surface of the silica powder was covered with a coating layer made of titania. Furthermore, dehydrochlorination treatment was performed by maintaining the reactor at 500 ° C. for 6 hours while introducing N 2 gas into the reactor. The oxide powder thus obtained was used as Example 4.
  • the first number of surface hydroxyl average particle diameter A 0.5 4 ⁇ M is 3. 7 ⁇ mol / 111 2.
  • hydrophilic silica powder 100 g, four volume 5 l The mixture was placed in a flask (reactor) and stirred in the atmosphere, and the amount of water adsorbed on the silica powder was adjusted in the same manner as in Example 1. At this time, the amount of adsorbed water was 1.0%. I got it.
  • hydrophilic silica powder having an average particle diameter of 0.006 ⁇ m and the number of surface hydroxyl groups of 3.7 mol Zm 2 was added in a volume of 5 l.
  • the mixture was placed in a torr four-necked flask (reactor) and stirred in the atmosphere, and the amount of water adsorbed on the silica powder was adjusted in the same manner as in Example 1. At this time, the amount of adsorbed water was 7.0%.
  • Example 7 After humidity control, 60 g of the above silica powder was charged into a 1-liter volume fluidized bed reactor. Next, while fluidizing the silica powder with N 2 gas, 28 g of propoxide was introduced from the bottom wall of the fluidized bed reactor with N 2 carrier, and this aluminum isopropoxide was brought into contact with the above-mentioned sily powder, and the surface of the sily powder was covered with a coating layer made of alumina. Further, dealcoholization was performed by maintaining the reactor at 200 ° C. for 6 hours while introducing N 2 gas into the reactor. The oxide powder thus obtained was used as Example 7.
  • hydrophilic silica powder having an average particle size of 0.012 ⁇ m and the number of surface hydroxyl groups of 3.7 ⁇ mol / m 2 was prepared.
  • the mixture was placed in a torr four-necked flask (reactor) and stirred in the atmosphere, and the amount of water adsorbed on the silica powder was adjusted in the same manner as in Example 1. At this time, the amount of adsorbed water was 1.0%.
  • Example 8 After humidity control, 60 g of the above silica powder was charged into a fluidized bed reactor having a volume of 17 liters. Next, while fluidizing the silica powder with N 2 gas, 10.8 g of cerium chloride was introduced from the bottom wall of the fluidized bed reactor with a N 2 carrier, and the cerium chloride was brought into contact with the above-mentioned silicic acid powder, and silica The surface of the powder was coated with a coating layer made of ceria. Furthermore, dehydrochlorination treatment was carried out by keeping the reactor at 500 ° C. for 6 hours while introducing N 2 gas into the reactor. The oxide powder thus obtained was used as Example 8.
  • hydrophilic titania powder having an average particle diameter of 0.015 ⁇ m and the number of surface hydroxyl groups of 7.4 ⁇ mol / m 2 was prepared.
  • the mixture was placed in a four-necked torr flask (reactor) and stirred in the atmosphere, and the amount of adsorbed water of the titania powder was adjusted in the same manner as in Example 1. At this time, the amount of adsorbed water was 9.0%.
  • the titania powder was charged into a 1-liter volume fluidized bed reactor. Next, while fluidizing the titania powder with N 2 gas, 4.5 g of silicon tetrachloride was introduced from the bottom wall of the fluidized bed reactor with an N 2 carrier, and the silicon tetrachloride was added to the titania powder. Then, the surface of the titania powder was covered with a coating layer made of silicide. Furthermore, dehydrochlorination treatment was carried out by maintaining the temperature at 500 ° C. for 6 hours while introducing N 2 gas into the reactor. The oxide powder thus obtained was used as Example 10.
  • hydrophilic titania powder having an average particle diameter of 0.015 ⁇ m and the number of surface hydroxyl groups of 7.4 ⁇ mol / m 2 was prepared.
  • the mixture was placed in a four-necked torr flask (reactor) and stirred in the atmosphere, and the amount of adsorbed water of the titania powder was adjusted in the same manner as in Example 1. At this time, the amount of adsorbed water was 9.0%.
  • Example 11 After the humidity control, 60 g of the titania powder was charged into a fluidized bed reactor having a volume of 17 liters. Next, while the titania powder was fluidized with N 2 gas, 2.6 g of aluminum chloride was introduced from the bottom wall of the fluidized bed reactor with an N 2 carrier, and the aluminum chloride was brought into contact with the titania powder. The surface of the titania powder was covered with a coating layer made of alumina. Further, dehydrochlorination treatment was carried out by keeping the reactor at 500 C for 6 hours while introducing N 2 gas into the reactor. The oxide powder thus obtained was designated as Example 11.
  • Example 12 After conditioning, 60 g of the titania powder was charged into a fluidized bed reactor having a capacity of 17 liters. Next, while the titania powder was fluidized with N 2 gas, 7.2 g of iron chloride was introduced from the bottom wall of the fluidized bed reactor with N 2 carrier, and this iron chloride was brought into contact with the above-mentioned titania powder, The surface of the powder was covered with a coating layer of iron chloride. Furthermore, dehydrochlorination treatment was performed by maintaining the reactor at 500 ° C. for 6 hours while introducing N 2 gas into the reactor. The oxide powder thus obtained was named Example 12.
  • hydrophilic silica powder having an average particle size of 0.012 zm and the number of surface hydroxyl groups of 3.7 mol / m 2 was added to a 4-liter volume of 4 liters.
  • the mixture was placed in a one-necked flask (reactor) and stirred in the atmosphere, and the amount of water adsorbed on the silica powder was adjusted in the same manner as in Example 1. At this time, the amount of adsorbed water was 1.5%.
  • Example 13 After the humidity control, 60 g of the above silica powder was charged into a fluidized bed reactor having a volume of 1 liter. Next, while fluidizing the silica powder with N 2 gas, 7.5 g of tin chloride and 0.25 g of antimony chloride were introduced into the above flask from the bottom wall of the fluidized bed reactor with N 2 carrier. Then, the tin chloride and antimony chloride were brought into contact with the above-mentioned silicon powder, and the surface of the silica powder was coated with a coating layer composed of a composite of tin chloride and antimony chloride (antimony-doped tin oxide: AT ⁇ ). Furthermore, dehydrochlorination treatment was carried out by keeping the reactor at 500 ° C. for 6 hours while introducing N 2 gas into the reactor. The oxide powder thus obtained was named Example 13.
  • the average particle size is 0.012 ⁇ m and the number of surface hydroxyl groups is 3.7 ⁇ mol / a m 2 of the hydrophilic silica powder (powder preform) to 1 0 0 g, the volume is placed in a four-necked flask 5 l (reactor) was stirred in the atmosphere, in the same manner as in Example 1 The moisture content of the silica powder was adjusted. At this time, the amount of adsorbed water was 1.0%.
  • Example 14 After the humidity control, 60 g of the sily powder was charged into a fluidized bed reactor having a volume of 17 liters. Next, while fluidizing the silica powder with N 2 gas, 4.3 g of vanadium tetrachloride is introduced from the bottom wall of the fluidized bed reactor with an N 2 carrier, and the vanadium tetrachloride is brought into contact with the above-mentioned powdered silica. Then, the surface of the silicon powder was covered with a coating layer made of vanadium oxide. Further, dehydrochlorination treatment was carried out by keeping the reactor at 500 ° C. for 6 hours while introducing N 2 gas into the reactor. The oxide powder thus obtained was named Example 14.
  • hydrophilic silica powder having an average particle size of 0.012 ⁇ m and the number of surface hydroxyl groups of 3.7 ⁇ mol / m 2 was prepared.
  • the mixture was placed in a torr four-necked flask (reactor), stirred in the atmosphere, and the amount of water adsorbed on the silica powder was adjusted in the same manner as in Example 1. At this time, the amount of adsorbed water was 0.5%.
  • Example 15 After the humidity control, 60 g of the sily powder was charged into a fluidized bed reactor having a volume of 17 liters. Next, while fluidizing the silica powder with N 2 gas, 4.5 g of molybdenum trichloride was introduced from the bottom wall of the fluidized bed reactor with an N 2 carrier, and the molybdenum trichloride was brought into contact with the above-mentioned silicide powder. Then, the surface of the silicon powder was covered with a coating layer made of molybdenum oxide. Further, dehydrochlorination treatment was carried out by keeping the reactor at 500 ° C. for 6 hours while introducing N 2 gas into the reactor. The oxide powder thus obtained was referred to as Example 15.
  • Example 16 After humidity control, 60 g of the above silica powder was charged into a fluidized bed reactor having a volume of 17 liters. Next, while fluidizing the silica powder with N 2 gas, 3.0 g of zinc chloride was introduced from the bottom wall of the fluidized bed reactor with an N 2 carrier, and the zinc chloride was brought into contact with the silica powder, The surface of the powder was covered with a coating layer made of zinc chloride. Further, dehydrochlorination treatment was performed by maintaining the reactor at 500 ° C. for 6 hours while introducing N 2 gas into the reactor. The oxide powder thus obtained was referred to as Example 16.
  • hydrophilic silica powder having an average particle diameter of 0.012 ⁇ m and a surface hydroxyl group number of 3.7 ⁇ mol / m 2 , and a volume of 5 l
  • the mixture was placed in a torr four-necked flask (reactor) and stirred in the atmosphere, and the amount of water adsorbed on the silica powder was adjusted in the same manner as in Example 1. At this time, the amount of adsorbed water was 2.0%.
  • Example 17 After humidity control, 60 g of the above silica powder was charged into a fluidized bed reactor having a capacity of 17 liters. Next, while fluidizing the silica powder with N 2 gas, 5.1 g of zirconium chloride was introduced from the bottom wall of the fluidized bed reactor with an N 2 carrier, and this zirconium chloride was brought into contact with the above-mentioned silicide powder, The surface of the powder was covered with a coating layer made of zirconia. Furthermore, dehydrochlorination treatment was carried out by maintaining the temperature at 500 ° C. for 6 hours while introducing N 2 gas into the reactor. The oxide powder obtained in this manner was referred to as Example 17.
  • hydrophilic silica powder having an average particle diameter of 0.030 ⁇ m and the number of surface hydroxyl groups of 3.7 ⁇ mol / m 2 was prepared in a volume of 5 l.
  • the mixture was placed in a torr four-necked flask (reactor) and stirred in the atmosphere, and the amount of water adsorbed on the silica powder was adjusted in the same manner as in Example 1. At this time, the amount of adsorbed water was 0.8%.
  • Example 18 After humidity control, 60 g of the above silica powder was charged into a fluidized bed reactor having a capacity of 17 liters. Next, while fluidizing the silica powder with N 2 gas, 2 g of N 2 carrier was introduced from the bottom wall of the fluidized bed reactor, this aluminum chloride was brought into contact with the silica powder, and the surface of the silica powder was coated with a coating layer made of alumina. Further, dehydrochlorination treatment was performed by maintaining the reactor at 500 ° C. for 6 hours while introducing N 2 gas into the reactor. The oxide powder thus obtained was used as Example 18.
  • hydrophilic silica powder having an average particle size of 0.020 ⁇ m and the number of surface hydroxyl groups of 3.7 ⁇ mol / m 2 was prepared.
  • the mixture was placed in a flask (reactor) and stirred in the atmosphere, and the amount of water adsorbed on the silica powder was adjusted in the same manner as in Example 1. At this time, the amount of adsorbed water was 1.0%.
  • Example 19 After humidity control, 60 g of the above silica powder was charged into a fluidized bed reactor having a capacity of 17 liters. Next, while fluidizing the silica powder with N 2 gas, 5.0 g of cerium chloride was introduced from the bottom wall of the fluidized bed reactor with an N 2 carrier, and the cerium chloride was brought into contact with the silica powder to form a silica powder. The surface was covered with a coating layer made of ceria. Furthermore, dehydrochlorination treatment was performed by maintaining the reactor at 500 ° C. for 6 hours while introducing N 2 gas into the reactor. The oxide powder thus obtained was used as Example 19.
  • Example 12 120 g of the oxide powder prepared in Example 6 and a dispersant (AM-2150: manufactured by Nihon Surfactant Industries, Ltd.) 12 g, 35 mL of ethanol, 10 mL of n-propanol, and 5 mL of ethyl acetate And 12 g of polyvinyl alcohol (PVA 235: manufactured by Kuraray) were dispersed using a homogenizer to prepare an ink receiving layer forming material.
  • the ink receiving layer forming material was applied to non-coated ink jet paper (IJ-L: manufactured by Mitsubishi Paper Mills) by a bar coder method. After the application, it was dried with warm air of 50 ° C for 3 minutes to prepare a printing material for ink jet. The thickness of the coating layer after drying was 30 ⁇ m. This printing material for ink jet was used as Example 20.
  • the average particle size of 0.0 12 / a m number of surface hydroxyl groups is 3.7 / mole / m 2 hydrophilic silica powder (powder preform) 100 g, volume of 5 l four
  • the mixture was placed in a one-necked flask (reactor) and stirred in the atmosphere to adjust the amount of water adsorbed on the silica powder. At this time, the amount of adsorbed water was 60.0%.
  • an average particle diameter of 28 zm is 3. 7 ⁇ mol / m 2 der 30 g of a hydrophilic silica powder (powder base material) was placed in a four liter flask (reactor) having a capacity of 2 liters and stirred in the air to adjust the amount of water adsorbed on the silica powder. At this time, the amount of adsorbed water was 0.3%.
  • a hydrophobic silicide powder having an average particle diameter of 0.022 ⁇ m, the number of surface hydroxyl groups is ⁇ .08 / mol / m 2 , and surface-treated with silicone oil 100 g was placed in a four-necked flask (reactor) having a volume of 5 liters and stirred in the atmosphere to adjust the amount of water adsorbed on the silica powder. At this time, the absorbed water amount was 0.1%.
  • hydrophilic silica powder having an average particle size of 0.012 ⁇ m and the number of surface hydroxyl groups of 3.7 ⁇ mol / m 2 was added to a 4 liter volume of 4 liters.
  • the mixture was placed in a one-necked flask (reactor) and stirred in the air to adjust the amount of water adsorbed on the silica powder. At this time, the amount of adsorbed water was 4.0%.
  • Comparative Example 8 was made of a hydrophilic silica powder having an average particle size of 0.012 ⁇ m. ⁇ Comparative Example 9>
  • Comparative Example 9 was a hydrophilic titania powder having an average particle diameter of 0.017 ⁇ m. ⁇ Comparative Example 10>
  • the first number of surface hydroxyl average particle size be 0.0 1 2 ⁇ M is 3. 7 ⁇ mol / m 2 and is hydrophilic silica powder (powder preform) 100 g, 1 20 ° C in the atmosphere
  • the silica powder was dried for 1 hour, and the amount of water adsorbed on the silica powder was reduced to less than 0.01%.
  • 60 g of the dried silica powder was filled in a fluidized bed reactor having a capacity of 17 liters.
  • 28.0 g of aluminum chloride was introduced from the bottom wall of the fluidized bed reactor with a N 2 carrier, and this aluminum chloride was brought into contact with the above-mentioned sily powder to obtain silica.
  • the surface of the powder was coated with a coating layer made of alumina. Furthermore, dehydrochlorination treatment was carried out by maintaining the temperature at 500 ° C. for 6 hours while introducing N 2 gas into the reactor. Obtained in this way The oxide powder thus obtained was used as Comparative Example 12.
  • Comparative Example 13 was a hydrophilic sily powder having an average particle size of 0.030 ⁇ m. ⁇ Comparative Example 14>
  • Comparative Example 14 was made of a hydrophilic alumina powder having an average particle size of 0.019 ⁇ m.
  • the content of the coating layer is SEM-EDX [SEM (scanning electron microscope): J SM-5300 LV, EDX (energy dispersive X-ray fluorescence analyzer): JED-2001, manufactured by JEOL Datum Corporation] Was used to measure the amount of the metal element in the oxide powder. However, it is assumed that all the detected metal elements are in the oxide state. Was converted.
  • the specific surface area was measured by a gas phase adsorption method in which a gas molecule (nitrogen molecule) having a known occupation area was adsorbed on the surface of the oxide powder, and the surface area of the oxide powder was determined from the adsorption amount of the gas molecule.
  • the uniformity of the coating with the coating layer was evaluated by the presence or absence of aggregated particles, the variation in the content of the coating layer, and the coating ratio. That is, the presence / absence of aggregated particles was judged as “no aggregation” when there was no one or more aggregated particles in 1 000 particles, and it was judged that there was aggregation when there was 1 or more aggregated particles in 1000 particles.
  • the variation in the content of the coating layer was evaluated using TEM-EDX (TEM: JE M-2010F manufactured by JEOL Ltd., E DX: V0YAGER3 manufactured by Nolan Corporation). Specifically, elemental analysis of the oxide powder was performed at 10 points in the range of 10 nm x 10 nm with 200 kV of accelerated electrons, and the range of variation from the average value of the element content of the coating layer at this time was evaluated.
  • the following equations (4) and (5) show the equations for calculating the range of variation in the content of the coating layer.
  • Equation (4) and (5) A is the average (%) of elemental analysis (10 points), B is the maximum value (%) of elemental analysis (10 points), and C is the elemental analysis (%). 10 point) is the minimum value (%). The larger of the values obtained by Equations (4) and (5) was used as the value of the variation.
  • the charged amount of the oxide powder was set in a glass container of 75 m liter with 50 g of the iron powder carrier and 0.1 lg of the hydrophobic oxide powder covered with a lid. After shaking for 5 minutes, 0.1 g of the iron powder carrier mixed with the above oxide powder was sampled, and measured with a professional off-charge meter [TB-200: Toshiba Chemical Co., Ltd.]. The value was measured after blowing nitrogen for a minute.
  • the fluidity of the oxide powder was evaluated by the sieve passing rate. Specifically, 0.4 g of the hydrophobic oxide powder and 40 g of the negatively chargeable 8 ⁇ m toner were stirred and mixed with a mixer to prepare an electrophotographic toner composition. The above toner composition was sieved successively while vibrating a 150-m screen, a 75-m screen, and a 45-m screen in Powderes Evening (type: ⁇ -type: manufactured by Hosokawa Micron) to obtain 150 m2. The percentage (%) of the liquid that passed through the m-screen, the 75-m screen, and the 45-m screen was used as the fluidity value.
  • the absolute value of the charge amount of the oxide powder was as large as 250 54 O zC / g in Comparative Examples 14 and 8, whereas it was 92 to 153 ° C. in Example 13. / g was small.
  • the fluidity of the oxide powder was as small as 55% and 24% in Comparative Examples 2 and 4, whereas it was 75 to It was as large as 82%.
  • the content, specific surface area, photocatalytic activity and UV absorption of the coating layer of the oxide powders of Examples 10 to 12 and Comparative Examples 9 and 10 were measured. The results are shown in Table 4. The content and specific surface area of the coating layer were measured in the same manner as in Comparative Test 1.
  • the photocatalytic activity of the oxide powder was such that 1 g of the oxide powder was placed in a Pyrex glass (Corning product name) container (120 mm x 20 mm x 65 mm), and the gas concentration of acetoaldehyde gas was 4000 ppm.
  • the concentration of acetoaldehyde gas was measured with a gas tech detector tube, and the acetoaldehyde decomposition rate was calculated.
  • the UV absorptivity of the oxide powder was determined by adding 3 g of the oxide powder to 97 g of isopropyl palminate and dispersing the dispersion with a dissolver at a rotation speed of 2000 rpm for 5 minutes. It was determined by measuring the absorbance at 300 nm in a cell.
  • the content and specific surface area of the coating layer were measured in the same manner as in Comparative Test 1.
  • the electric resistance of the oxide powder was measured using an electric resistance measuring device [Yuichi Hires, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation]. Specifically, after 0.3 g of the above oxide powder was placed in a predetermined cell, the electrical resistance of the green compact when a pressure of 10 MPa was applied to this cell was measured.
  • Table 5 reveals that the oxide electric resistance of the powders while was as high as 1 X 1 0 1 4 ⁇ ⁇ cm in Comparative Example 8, it in Examples 2 and 1 3 it 1 X 1 0 3 ⁇ was as low as beauty 1 X 1 0 8 ⁇ ⁇ cm .
  • the oxide powders of Examples 2 and 13 had larger specific surface areas than the titania powder of Comparative Example 9 and the AT0 powder of Comparative Example 11. As a result, it was found that when the dispersion containing the oxide powder of the example was applied to glass or a film, high transparency was obtained. ⁇ Comparative test 5 and evaluation>
  • Example 1 6, 17 and Comparative Examples 1, 8, 12 and 14 Content, specific surface area of oxide coating layer and anion adsorption amount of oxide powder (powder coated with coating layer) D (%), The anion adsorption E (%) of the powder base material and the transparency were measured. Table 6 shows the results.
  • the content and specific surface area of the coating layer were measured in the same manner as in Comparative Test 1.
  • the anion-adsorbed species in Table 6 are the reagents used to measure the anion adsorption amounts D () and E (%).
  • the anion adsorption amount was measured as follows.
  • Y —0.0432 ⁇ 1 ⁇ ( ⁇ ) + 0.1976 (6)
  • the adsorption amount Z (mmole) to silica was determined from the formula Z ⁇ 0.025 ⁇ Y and converted to percentage. Furthermore, D / E was calculated from the anion adsorption amounts D and E obtained by the above measurement method, and the ratio was obtained. It should be noted that even when sodium p-toluenesulfonate is used instead of sodium benzenesulfonate, the amount of anion adsorbed can be measured in the same manner as described above. The transparency was determined by the following method.
  • oxide powder 12 Og and dispersant AM-210: Nippon Surfactant Industries
  • 12 g ethanol 35 m liter, n-propanol 1 Om liter and ethyl acetate
  • a 5 m liter and 12 g of polyvinyl alcohol (PVA 235: Kuraray) were dispersed using a homogenizer to prepare an ink receiving layer forming material.
  • This ink receiving layer forming material was applied to an OHP film by a bar coder method. After the application, it was dried with warm air at 50 ° C for 3 minutes. The thickness of the coating layer after drying was 30 ⁇ m.
  • the content and specific surface area of the coating layer were measured in the same manner as in Comparative Test 1.
  • the polishing rate was measured as follows. First, a water dispersion containing 5% by weight of an abrasive was prepared, and an oxidizing agent was added to the water dispersion to prepare a slurry for chemical and mechanical polishing. Next, this slurry was supplied to a SUBA500 / SUBA IV pad stack manufactured by Rodel to chemically and mechanically polish tungsten-18. At this time, using a ISPE C / WESTECH472CMP tool, the slurry flow rate was set to 150 cc Z, the table speed was set to 60 rpm, and the spindle speed was set to 60 rpm. The polishing was performed continuously for 10 minutes, and the polishing rate was calculated from the amount of decrease in the thickness of the wafer after polishing.
  • the surface condition of the material to be polished was visually determined. If the surface was mirror-like, it was determined to be good.
  • Printing was carried out on the printing material for ink jet of Example 20 and Comparative Example 16 using Inkjet Printing BJF-600J (manufactured by Canon Inc.), and the printed coating film was visually observed for cracks and bleeding.
  • the amount of adsorbed water is 0.1 to 50%, the average particle diameter is 0.005 to 0.5 m, and the number of surface hydroxyl groups is 0.1 to 2
  • a powder base material of the first oxide of 5 mol / m 2 is maintained in a fluid state, and a halogen gas together with a carrier gas inert to the powder base material maintained in the flow state.
  • the powder base material is coated with a coating layer made of the second oxide by contacting one or both of the compound and the alkoxide and heating to 25 to 800 ° C., and further forming the halogen produced by the contact.
  • Reduced production cost of oxide powder by removing reaction by-products consisting of either or both of hydrogen hydride and alcohol by heating at 200 to 100 ° C in inert gas
  • the coating layer can be uniformly formed on the surface of the powder base material.
  • the powder base material held in a fluid state is brought into contact with an inert carrier gas together with a halide containing a metal or metalloid of the same or different kind as the metal or metalloid constituting the first oxide to form a metal oxide.
  • the powder base material is coated with the coating layer made of the second oxide by heating to 100 ° C.
  • the reaction by-product consisting of hydrogen halide generated by the above-mentioned contact is exposed to air at 200 ° C. The same effect as above can be obtained even if the film is removed by heating at 100 ° C.
  • a powder base material comprising an oxide powder having an average particle diameter of 0.006 to 0.5 ⁇ m and a first oxide having an average particle diameter of 0.05 to 0.5;
  • a coating layer covering the surface of the material and comprising a second oxide of the same or different type as the first oxide, wherein the second oxide of the coating layer is chemically coated on the surface of the first oxide of the powder base material.
  • the slurry for chemical and mechanical polishing can be simultaneously imparted with high-speed polishing property and mirror-polishing property.
  • the above oxide powder is added as an external additive to a toner for electronic photography, the toner has fluidity and charge stability.
  • the amount of adsorbed water of the powder matrix of the oxide powder is 0.1 to 5 0%, a number of surface hydroxyl groups of the powder preform is 0.1 to 2 5 ⁇ mol / m 2, coating with the coating layer When the amount is 0.1 to 10 times the number of surface hydroxyl groups, the above effect can be remarkably exhibited.
  • silica, alumina or titania is used as a powder base material, and as a metal element contained in a halide or alkoxide, group 3A, group 4A, group 5A, group 6A, group 7A, group 8 of the periodic table. , 1B and 2B transition elements, and 1 or 2 or more elements selected from the group consisting of 3B, 4B and 5B typical elements. More remarkable. Industrial applicability
  • the oxide powder of the present invention includes various materials such as abrasives, silica slurries, slurries for chemical and mechanical polishing, ink receiving layer forming materials, printing materials for ink jets, external additives for toners, ultraviolet absorbers, and conductive powders. Available for various products.

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Description

明 細 書 酸化物粉末及びその製造方法並びに該粉末を用いた製品 技術分野
本発明は、 金属酸化物又は半金属酸化物のいずれか又は双方、 或いはこれ らの複合酸化物又は混合酸化物からなる母材粉末の表面がこの母材と異種又 は同種の金属酸化物又は半金属酸化物の被覆層で被覆された酸化物粉末及び その製造方法並びにこの粉末を用いた製品に関するものである。 f¾ 技^']
従来、 この種の酸化物粉末の製造方法として、 母材の表面を金属アルコキ シドを用いた湿式法で改質して母材の表面を被覆層で被覆する複合粒子の製 造方法が開示されている （特開平 5— 1 7 0 4 2 5号） 。 この複合粒子の製 造方法では、 加水分解性の銅， 鉄， ジルコニウム， アルミニウム， クロミゥ ム及びィッ トリウムから選ばれる金属の塩の水溶液中にシリカ粒子 （母材） を均一に分散し、 加水分解反応により上記シリ力粒子上に金属化合物からな る被覆層を設けることにより、 表面が改質された酸化物粉末が得られる。 上記方法で製造された酸化物粉末は純度が高く、 被覆層の剥離のない優れ た品質を有し、 触媒， 触媒担体， 吸着剤等の幅広い用途に利用できるように なっている。
一方、 シリカとアルミナとの混晶粒子からなる研磨材を含む C M P ( Chem ical Mechanical Polishing) 用スラリーが開示されている （特開平 1 2— 2 6 5 1 6 1号） 。 このスラリーでは、 シリカに対するアルミナの混晶比が 1 9であり、 p Hが.4 9である。
このように構成された C M P用スラリーでは、 研磨粒子としてシリカ及び アルミナの混晶粒子を用いることにより、 p Hが中性付近で安定したポリッ シュ特性や、 絶縁膜と金属膜との間で高い選択性などが得られるようになつ ている。 更に、 電子機器等のプリン夕に用いる印刷用紙、 O H Pフィルム等の印刷 材には、 インクの明瞭性及び定着性などを高めるためにィンク受容層が表面 にコーティングされている。 このインク受容層の材料として、 微細なシリカ 粉末やアルミナ粉末が用いられている （例えば、 特開 2 0 0 0— 6 5 1 3、 特開 2 0 0 0— 1 4 1 8 7 7 ) 。
しかし、 上記特開平 5— 1 7 0 4 2 5号公報に示された複合粒子の製造方 法では、 乾燥 ·解碎工程が必要であり、 製造コストを押上げる不具合があつ た。 また上記従来の複合粒子の製造方法では、 乾燥後にシリカ粒子間で毛細 管圧による凝集が起こり易く、 解碎等の必要性が生じる場合があり、 製造ェ 数が増大する問題点もあった。
また、 上記従来の複合粒子の製造方法で製造された酸化物粉末は電子写真 用トナーの外添剤として使用される。 即ち、 表面が改質されたシリカ粉末で ある上記酸化物粉末はトナーに流動性を付与する目的で添加される。 しかし 、 帯電安定性及び環境安定性を付与する目的で表面が改質されたチタニア粉 末が上記シリ力粉末と併用される場合があり、 これらの粉末の効果的な機能 を制御することが難しい問題点があり、 また各粉末がトナー表面から分離す るという問題点もあった。
また、 上記特開平 1 2— 2 6 5 1 6 1号に示された C M P用スラリーでは 、 スラリーの p Hが中性付近から外れると、 粒子の分散性が悪くなつて研磨 性能が低下する問題点があつた。
更に、 上記特開 2 0 0 0 - 6 5 1 3号公報及び特開 2 0 0 0 - 1 4 1 8 7 7号公報に記載されたシリカ粉末をインク受容層に用いた場合には、 印刷材 に透明性を付与することができるが、 シリカ粉末はインクの吸着性が悪く、 印刷材の表面にインクの滲みを生じ、 耐光性が悪くなる場合がある。 またァ ルミナ粉末をィンク受容層に用いた場合には、 インクの吸着性は良好になる が、 透明性が良くないといった問題があった。 加えてこれらのシリカ粉末又 はアルミナ粉末では、 インク受容層材料であるスラリーが安定せず、 高濃度 のスラリーを調製できない不具合もあった。
本発明の目的は、 酸化物の粉末母材の表面に、 これと異種又は同種の酸化 物からなる被覆層を、 均一にかつ安価に形成することができ、 これにより粉 末母材及び被覆層の物理的特性及び化学的特性が十分に得られる、 酸化物粉 末及びその製造方法を提供することにある。
本発明の別の目的は、 流動性， 帯電制御， 帯電安定性， 導電性、 機械強度 の向上， 増粘性， 分散性， 分散安定性， 透明性、 沈降防止性、 ブロッキング 防止性、 レオロジー特性， 紫外線吸収性、 触媒作用， 光触媒活性の抑制， 研 磨性， 断熱性、 耐熱性、 ァニオン吸着能等を付与若しくは改善することがで きる、 酸化物粉末及びその製造方法並びに該粉末を用いた製品を提供するこ とにある。
発明の開示
請求項 1に係る発明は、 吸着水分量が 0. 1〜50%であって 0. 005 〜0. 5〃mの平均粒径を有し表面水酸基の数が 0. 1~25〃モル/1112で あって、 金属酸化物又は半金属酸化物のいずれか又は双方、 或いはこれらの 複合酸化物又は混合酸化物である第 1酸化物からなる粉末母材を流動状態に 保持し、 流動状態に保持した粉末母材に対して不活性なキャリアガスととも に第 1酸化物を構成する金属若しくは半金属と同種又は異種の金属若しくは 半金属を含むハロゲン化物又はアルコキシドのいずれか一方又は双方を接触 させて 25〜800°Cに加熱することにより第 2酸化物からなる被覆層によ り粉末母材を被覆した後、 上記接触により生成されたハロゲン化水素又はァ ルコールのいずれか一方又は双方からなる反応副生成物を不活性ガス中で 2
00〜 1 000°Cで加熱して除去する酸化物粉末の製造方法である。
請求項 2に係る発明は、 吸着水分量が 0. 1〜50%であって 0. 005 〜0. 5〃mの平均粒径を有し表面水酸基の数が 0. 1〜25〃モル/1112で ある第 1酸化物からなる粉末母材を流動状態に保持し、 流動状態に保持した 粉末母材に対して不活性なキャリアガスとともに第 1酸化物を構成する金属 若しくは半金属と同種又は異種の金属若しくは半金属を含むハロゲン化物を 接触させて 25〜800°Cに加熱することにより第 2酸化物からなる被覆層 により粉末母材を被覆した後、 上記接触により生成されたハロゲン化水素か らなる反応副生成物を大気中で 200〜 1000°Cで加熱して除去する酸化 物粉末の製造方法である。
これら請求項 1又は 2に記載された製造方法では、 酸化物粉末の製造コス トを低減することができるとともに、 粉末母材の表面に被覆層を均一に形成 することができる。
また粉末母材はシリカ、 アルミナ又はチタニアであることが好ましく、 ノヽ ロゲン化物又はアルコキシドに含まれる金属元素は周期律表の 3 A族、 4 A 族、 5 A族、 6 A族、 7 A族、 8族、 1 B族及び 2 B族の遷移元素、 並びに 3 B族、 4 B族及び 5 B族の典型元素からなる群より選ばれた 1種又は 2種 以上の元素であることが好ましい。
請求項 5に係る発明は、 請求項 1、 3又は 4いずかに係る発明であって、 更に図 2に示すように、 流動層反応装置 1 1に粉末母材を供給し下方より整 流板 2 4を介して大気を流通することにより、 吸着水分量が 0 . 1〜 5 0 % であって表面水酸基の数が 0 . 1〜 2 5〃モル/ m 2である第 1酸化物からな る粉末母材を流動状態に保持し、 不活性なキヤリアガスを流動化用ガスとし てキヤリアガスとともにハロゲン化物又はアルコキシドのいずれか一方又は 双方を整流板 2 4を介して流動状態に保持された粉末母材に流通することに より、 第 2酸化物からなる被覆層により粉末母材を被覆した後、 整流板 2 4 を介してキヤリァガスを流通させることにより生成された反応副生成物を除 去するとともに被覆層で被覆した粉末母材を流動層反応装置 1 1から排出す ることを特徴とする。
請求項 6に係る発明は、 請求項 2ないし 4いずれかに係る発明であって、 更に図 2に示すように、 流動層反応装置 1 1に粉末母材を供給し下方より整 流板 2 4を介して大気を流通することにより、 吸着水分量が 0 . 1〜 5 0 % であって表面水酸基の数が 0 · 1 ~ 2 5〃モル/ m 2である第 1酸化物からな る粉末母材を流動状態に保持し、 不活性なキャリアガスを流動化用ガスとし てキヤリァガスとともにハロゲン化物を整流板 2 4を介して流動状態に保持 された粉末母材に流通することにより、 第 2酸化物からなる被覆層により粉 末母材を被覆した後、 整流板 2 4を介して大気を流通させることにより生成 された反応副生成物を除去するとともに被覆層で被覆した粉末母材を流動層 反応装置 1 1から排出することを特徴とする。
これら請求項 5又は 6に記載された製造方法では、 粉末母材の表面に被覆 層を均一に形成した酸化物粉末を連続的に製造できるので、 酸化物粉末の製 造コストを更に低減できる。
また上記製造方法で製造された酸化物粉末を構成要素とする母集団を元素 分析したときの元素の相対的なばらつきは士 6 0 %以内であって、 母集団に おける 1 0 0 0個の粒子中に 1個以上の凝集粒子は存在しない、 即ち母集団 における 1 0 0 0個の粒子中に二次粒子が存在せずに一次粒子のみが存在す る。
請求項 8に係る発明は、 0 . 0 0 5〜0 . 5〃mの平均粒径を有し、 金属 酸化物又は半金属酸化物のいずれか又は双方、 或いはこれらの複合酸化物又 は混合酸化物である第 1酸化物からなる粉末母材と、 粉末母材の表面を被覆 しかつ第 1酸化物と同種又は異種の第 2酸化物からなる被覆層とを備えた 0 . 0 0 6 - 0 . 5 / mの平均粒径を有する酸化物粉末であって、 粉末母材の 第 1酸化物の表面に被覆層の第 2酸化物が化学的に結合され、 かつ粉末母材 の表面が被覆層により 6 0 %以上均一に被覆されていることを特徴とする酸 化物粉末である。
請求項 9に係る発明は、 請求項 8に係る発明であって、 更に粉末母材の吸 着水分量が 0 . 1〜 5 0 %であり、 粉末母材の表面水酸基の数が 0 . 1〜 2 5〃モル/ m 2であり、 被覆層による被覆量が表面水酸基の数の 0 . 1〜 1 0 倍であることを特徴とする。
請求項 1 0に係る発明は、 請求項 8又は 9に係る発明であって、 更に粉末 母材がシリカ、 アルミナ又はチタニア、 或いは少なくともシリカ、 アルミナ 又はチタニアを含む複合酸化物又は混合酸化物であることを特徴とする。 請求項 1 1に係る発明は、 請求項 8ないし 1 0いずれかに係る発明であつ て、 更に被覆層の第 2酸化物に含まれる金属元素が周期律表の 3 A族、 4 A 族、 5 A族、 6 A族、 7 A族、 8族、 1 B族及び 2 B族の遷移元素、 並びに 3 B族、 4 B族及び 5 B族の典型元素からなる群より選ばれた 1種又は 2種 以上の元素であることを特徴とする。 これら請求項 8ないし 1 1いずれかに記載された酸化物粉末では、 粉末母 材及び被覆層の物理的特性及び化学的特性が十分に得られる。 即ち下記の① 〜⑦のような特性が得られる。
①上記被覆層にチタニアが含まれていて、 酸化物粉末が電子写真用トナー の外添剤に用いられる場合、 被覆層はこのトナーに流動性及び帯電安定性を 同時に付与することができる。
②上記被覆層にアルミナが含まれている場合、 被覆層は酸化物粉末の研磨 性能を向上することができ、 また断熱性、 ァニオン吸着能を付与することが できる。
③上記被覆層にシリカが含まれている場合、 被覆層は酸化物粉末に分散安 定性を付与することができ、 またその流動性を向上することができる。
④上記被覆層に酸化セリウムが含まれている場合、 被覆層は酸化物粉末に 研磨性能を向上することができ、 この酸化物粉末をシリコーンゴムに混練す ると、 シリコーンゴムに耐熱性を付与することができる。
⑤上記被覆層に酸化鉄が含まれている場合、 この酸化物粉末は上記④と同 様にシリコ一ンゴムに耐熱性を付与することができる。
⑥上記被覆層に酸化スズ、 酸化アンチモンが含まれている場合、 被覆層は 酸化物粉末に導電性を付与することができる。
⑦上記粉末母材がチタニアである場合、 被覆層は光触媒活性を抑制するこ とができる。
また上記請求項 8ないし 1 1いずれか記載の酸化物粉末を、 シランカップ リング剤又はシリコーン化合物のいずれか一方又は双方にて表面改質するこ とにより疎水性を付与することが好ましい。
上記シランカップリング剤は次の式 （ 1 ) で表されるカップリング剤であ ることが好ましい。
X 4 - n S ί R n …… ( 1 )
式 （ 1 ) において、 Xは水酸基、 アルコキシ基又はハロゲン原子のいずれ かであり、 Rは炭素数 1〜 1 8のアルキル基であり、 nは 0〜3までの整数 である。 また上記シランカップリング剤は次の式 （ 2 ) で表される力ヅプリング剤 とすることもできる。
R 3 S i N H S i R 3 …… ( 2 )
式 （ 2 ) において、 Rは炭素数 1〜 1 8のアルキル基である。
上記シリコーン化合物は次の式 （3 ) で表される化合物であることが好ま しい。
R ' R，
X -[- S i 0 -]m S i -X …… ( 3 )
Rに" Rし"
式 （ 3 ) において、 R ' で表される置換基はメチル基又はェチル基のいず れかであり、 ： " はメチル基、 ェチル基又は水素原子のいずれか、 或いはこ の置換基の一部がビニル基、 フェニル基又はアミノ基のいずれかを含むアル キル基であり、 Xは水酸基、 アルコキシ基、 ハロゲン原子又はアルキル基の いずれかであり、 mは 1 ~ 5 0 0までの整数である。
一方、 請求項 1 6記載の酸化物粉末は粉末母材の第 1酸化物がシリカ又は 少なくともシリ力を含む複合酸化物又は混合酸化物であって、 被覆層の第 2 酸化物が金属元素を含むことが好ましい。 この場合、 被覆層の第 2酸化物が アルミナ、 チタニア、 ジルコニァ又はセリアであることが更に好ましい。 こ れらの酸化物粉末は研磨材又は印刷材のインク受容層形成材料として利用さ れ、 この研磨材は化学的 ·機械的研磨用スラリーに含まれることが好ましい 。 この酸化物粉末を含む化学的 ·機械的研磨用スラリーは分散後の安定性に 優れている。 これらのスラリーを用いて被研磨材料を研磨すると、 被研磨材 料を高速に研磨できかつ鏡面状に仕上げることができる。 また酸化物粉末を 印刷材のィンク受容層形成材料として利用する場合には、 酸化物粉末はその ァニオン源化合物の吸着量が粉末母材のァニオン源化合物の吸着量に対して 1 5 0 %以上であることが好ましい。
請求項 2 1に係る発明は、 請求項 2 0記載の酸化物粉末を含むインク受容 層形成材料である。 このインク受容層形成材料は酸化物粉末を高濃度含む安 定なスラリーである。 このィンク受容層形成材料の酸化物粉末の含有量は 5 〜3 0重量％であることが好ましい。
請求項 2 2に係る発明は、 請求項 2 1記載のインク受容層形成材料を塗布 した後乾燥して得られる、 紙やフィルム等のィンクジエツ ト用印刷材である この請求項 2 2に記載されたインクジエツ ト用印刷材では、 この印刷材に インクジェッ トプリン夕で印字又は印画することにより印刷されたィンクの 吸収性、 透明性及び耐光性を向上できる。 また、 印刷塗膜が割れずかつ滲む こともない。
請求項 2 3に係る発明は、 粉末母材の第 1酸化物がシリカであって、 被覆 層の第 2酸化物がチタニアである請求項 1 2ないし 1 5いずれか記載の酸化 物粉末からなるトナー用外添剤である。
この請求項 2 3に記載されたトナー用外添剤では、 トナーの流動性及び帯 電制御を向上できる。
請求項 2 4に係る発明は、 粉末母材の第 1酸化物がチタニアであって、 被 覆層の第 2酸化物がシリ力、 アルミナ又は酸化鉄のいずれかである請求項 8 ないし 1 1いずれか記載の酸化物粉末からなる紫外線吸収材である。
この請求項 2 4に記載された紫外線吸収材では、 この吸収材の光触媒活性 を抑制できるととに紫外線吸収性を向上できる。
請求項 2 5に係る発明は、 粉末母材の第 1酸化物がシリカであって、 被覆 層の第 2酸化物がチタニア又はアンチモンド一プ酸化スズである請求項 8な いし 1 1いずれか記載の酸化物粉末からなる導電性粉末である。
この請求項 2 5に記載された導電性粉末では、 この粉末を用いて作製され た導電塗膜の導電性を向上できる。 図面の簡単な説明
図 1は本発明実施形態の酸化物粉末の粉末母材の吸着水分量を調湿してい る状態を示す調湿装置の断面構成図である。
図 2はその調湿した粉末母材を被覆層で被覆している状態を示す流動層反 応装置の断面構成図である。 発明を実施するための最良の形態
次に本発明の実施の形態を説明する。
本発明の酸化物粉末は、 0. 005〜0. 5〃111、 好ましくは0. 005 〜0. 3 mの平均粒径を有する第 1酸化物からなる粉末母材と、 この粉末 母材の表面を被覆しかつ第 1酸化物と同種又は異種の第 2酸化物からなる被 覆層とを備える。 粉末母材の平均粒径を 0. 005〜0. 5〃mに限定した のは、 0. 005〃m未満であってもよいが、 0. 005〃m未満のものは 商品化されていないか或いは試験的な生産で高価であるため入手が困難であ り、 0. 5 /mを越えると流動化や攪拌による粉体の均一な対流や混合が困 難となり被覆層の均一性が低下するためである。 特に平均粒径が 0. 5〃m を越える母材からなる酸化物粉末は、 トナ一等の流動性を向上するという効 果が得られなかったり、 水やポリビニルアルコール等に分散したときのスラ リ一の安定性が悪かったり、 研磨性能ゃァニオン吸着能が十分に得られず、 安定した製品を製造することが困難になる。 また上記酸化物粉末の平均粒径 は 0. 006〜0. 5 m、 好ましくは 0. 006〜0. l mである。 こ の酸化物粉末の平均粒径の範囲は上記粉末母材の平均粒径に基づく。 粉末母 材及び酸化物粉末は、 一次粒子であるため、 それそれの平均粒径は T EM ( Transmission Electron Microscope) の写真画像を読み取って求められる。 また酸化物粉末は粉末母材の第 1酸化物の表面に被覆層の第 2酸化物が化学 的に結合され、 かつ粉末母材の表面が被覆層により 60%以上、 好ましくは 80%以上均一に被覆される。 被覆層の均一性を 60%以上に限定したのは 、 60%未満では被覆層の特性を十分に引出せないからである。
粉末母材の吸着水分量は 0. 1〜50%、 好ましくは 0. 5〜 1 0%であ り、 表面水酸基の数は 0. 1〜25〃モル/ m2、 好ましくは 1〜20〃モル /m2であり、 粉末母材の被覆層による被覆量は上記表面水酸基の数の 0. 1 〜 10倍、 好ましくは 0. 4〜 6倍である。 粉末母材の吸着水分量を 0. 1 〜50%に限定したのは、 0. 1 %未満では粉末母材の表面にこの粉末母材 と異種又は同種の第 2酸化物の被覆層を十分に形成されず、 粉末母材の影響 が大きくなって被覆層の特性を十分に引出すことができないためであり、 5 0 %を越えると粉末母材の凝集が発生し易くなつて粉末母材の表面に形成さ れた被覆層が不均一となり、 被覆層の特性を十分に引出すことができないた めである。 例えば粉末母材がシリカである場合、 粉末母材の吸着水分量を 0 . 1〜 5 0 %の範囲外にすると、 酸化物粉末の各粒子が摩擦帯電で負に強く 帯電してしまい、 被覆層の特性を発揮することができない。 また粉末母材の 表面水酸基の数を 0 . 1〜 2 5 /モル/ m 2に限定したのは、 0 . 1〃モル/ m2未満では粉末母材が水分を十分に吸着しないため、 粉末母材の表面に十分 な量の上記被覆層を形成できず、 2 5〃モル/ m2を越えると粉末母材が凝集 し易くなるためである。 更に粉末母材の被覆層による被覆量を上記表面水酸 基の数の 0 . 1〜 1 0倍に限定したのは、 0 . 1倍未満では粉末母材の影響 が大きく、 被覆層の特性を十分に引出すことができないためであり、 1 0倍 を越えると粉末母材の表面に形成された被覆層が不均一となり、 被覆層の特 性を十分に引出すことができないためである。 粉末母材の吸着水分量は、 第 1酸化物を約 1 g秤量瓶にサンプリングした後に、 1 0 5 °Cで 2時間乾燥し て重量を測定し、 乾燥前後の重量減少量の割合 （％) を算出することにより 求められる。 また粉末母材の表面水酸基の数は、 シリコーンハンドブック記 載のグリニャール法、 カールフィッシャー法、 又はリチウムアルミニウムハ ィ ドライ ドと乾燥サンプルを混合した際に発生する水素量を測定するリチウ ムアルミ法で求められる。
粉末母材には次の（a)〜（h)の形態が挙げられる。
(a)金属酸化物、
(b)半金属酸化物、
(c ) 2種類以上の金属酸化物からなる複合酸化物、
(d) 2種類以上の半金属酸化物からなる複合酸化物、
(e ) 2種類以上の金属酸化物を混合した混合酸化物、
( f ) 2種類以上の半金属酸化物を混合した混合酸化物、
(g) 1種又は 2種類以上の金属酸化物と 1種又は 2種類以上の半金属酸化物 からなる複合酸化物、 (h) 1種又は 2種類以上の金属酸化物と 1種又は 2種類以上の半金属酸化物 を混合した混合酸化物
この粉末母材としては、 シリカ （ S i〇2) 、 アルミナ （A 12〇3) 又はチ タニア （T i 02) 、 或いは少なくともシリカ、 アルミナ又はチタニアを含む 複合酸化物又はこれらを機械的に混合した混合酸化物を用いることが好まし い。 これらの酸化物はフユ一ムド （fumed) 、 湿式、 鉱物、 水酸化物のいずれ の形態でもよい。 また被覆層の第 2酸化物に含まれる金属元素は周期律表の 3 A族、 4 A族、 5 A族、 6 A族、 7 A族、 8族、 18族及び28族の遷移 元素、 並びに 3 B族、 4 B族及び 5 B族の典型元素からなる群より選ばれた 1種又は 2種以上の元素であることが好ましい。 具体的には、 3 A族の元素 としては Y， C e等が、 4 A族の元素としては T i , Z r等が、 5 A族の元 素としては V等が、 6 A族の元素としては C r, M 0 , W等が、 7 A族の元 素としては Mn等が、 8族の元素としては F e, C o， N i等が、 1 B族の 元素としては Cu， Ag等が、 2 B族の元素としては Z n等が、 3 B族の元 素としては A l， I n等が、 4 B族の元素としては S i , S n等が、 5 B族 の元素としては S b等が用いられる。
一方、 上記酸化物粉末をシランカップリング剤又はシリコーン化合物のい ずれか一方又は双方にて表面改質することにより疎水性を付与することがで きる。 上記シランカップリング剤としては、 次の式 （ 1 ) 又は式 （2) で表 されるものを用いることが好ましい。
X4一 nS i Rn …… ( 1 )
式 （ 1 ) において、 Xは水酸基、 アルコキシ基又はハロゲン原子のいずれ かであり、 Rは炭素数 1〜 1 8のアルキル基であり、 nは 0〜3までの整数 である。
R3 S i NH S i R3 …… ( 2 )
式 （2) において、 Rは炭素数 1〜 18のアルキル基である。
またシリコーン化合物としては、 次の式 （3) で表されるものを用いるこ とが好ましい。
Figure imgf000014_0001
式 （3 ) において、 R' で表される置換基はメチル基又はェチル基のいず れかであり、 R" はメチル基、 ェチル基又は水素原子のいずれか、 或いはこ の置換基の一部がビニル基、 フヱニル基又はアミノ基のいずれかを含むアル キル基であり、 Xは水酸基、 アルコキシ基、 ハロゲン原子又はアルキル基の いずれかであり、 mは 1〜 5 00までの整数である。
このように構成された酸化物粉末の製造方法を説明する。
先ず吸着水分量が 0. 1〜 50 %でぁって 0. 0 05〜0. 5〃mの平均 粒径を有し表面水酸基の数が 0. 1〜2 5〃モル/ m2である第 1酸化物から なる粉末母材を流動状態に保持する。 次にこの流動状態に保持した粉末母材 に対して不活性なキヤリァガスとともに第 1酸化物を構成する金属若しくは 半金属と同種又は異種の金属若しくは半金属を含むハロゲン化物又はアルコ キシドのいずれか一方又は双方を接触させて 2 5〜800°C、 好ましくは 2 5〜60 0°Cに加熱することにより第 2酸化物からなる被覆層により上記粉 末母材を被覆する。 更に上記接触により生成されたハロゲン化水素又はアル コールのいずれか一方又は双方からなる反応副生成物を不活性ガス中で 2 0 0〜 1 0 00°C、 好ましくは 200〜 6 0 0°Cで加熱して除去する、 即ち脱 塩酸処理又は脱アルコール処理を行う。 なお、 第 2酸化物がハロゲン化物の 場合には、 上記接触により生成されたハロゲン化水素からなる反応副生成物 を大気中で 200〜： L 000°C、 好ましくは 2 00〜 700°Cで加熱して除 去することができる。
上記接触後 2 5〜800°Cに加熱するのは、 2 5 °C未満ではハロゲン化物 又はアルコキシドの反応性が低下し、 粉末母材の表面に被覆層が形成され難 い不具合があり、 800°Cを越えると粉末母材の表面の水酸基が完全に縮合 してしまいハロゲン化物又はアルコキシドが反応できず、 被覆層が形成され ない不具合があるからである。 また反応副生成物の除去時に 2 00〜 1 00 0°Cの範囲に加熱するのは、 2 00°C未満では反応副生成物の除去が十分で ないという不具合があり、 1 0 0 o °cを越えると粉体の凝集が起こるという 不具合が生じるからである。 このように比較的簡単な方法で酸化物粉末を作 製することができるので、 酸化物粉末の製造コストを低減することができる とともに、 粉末母材の表面に被覆層を均一に形成することができる。 また上 記ハロゲン化物としては、 四塩化チタン， 塩化アルミニウム， 四塩化ケィ素 等が挙げられ、 アルコキシドとしては、 チタニウムテトライソプロボキシド ， シリコンテトラエトキシド等が挙げられる。
上記粉末母材の吸着水分量を 0 . 1〜 5 0 %に調湿するために、 反応器が 用いられる。 この反応器としては、 例えば図 1に示すように上部に第 1〜第 4短管 1 1 a〜 1 1 dが接続された四つ口フラスコ 1 1を用いることができ る。 この四つ口フラスコ 1 1の第 1短管 1 1 aには撹拌機 1 2の撹拌シャフ ト 1 2 aが回転可能に揷通され、 第 2短管 1 1 bには温度計 1 3が挿通され 、 更に第 3短管 1 1 cにはガス導入管 1 4が揷通される。 また撹拌シャフ ト 1 2 aの下端には撹拌羽根 1 2 bが取付けられる。 なお、 上記四つロフラス コ 1 1は図示しないが上下に二分割可能に構成される。 この四つ口フラスコ 1 1に粉末母材 1 5を入れた後に、 この粉末母材 1 5を撹拌機 1 2により撹 袢すると同時に、 ガス導入管 1 4から水蒸気を含む窒素ガス （N 2ガス） 又は 蒸気を含む空気を吹込む。 このとき温度計 1 3を見ながら粉末母材 1 5の温 度を露点以上に保つように N 2ガス又は空気の流量を調整する。 また第 4短管 1 1 dからは粉末母材 1 5を調湿した後の N 2ガス又は空気が排出される。 更 に第 4短管 1 1 dのフラスコ 1 1への接続部には、 粉末母材 1 5が N 2ガス等 とともに排出されるのを防止するためのバグフィル夕 （図示せず） が設けら れる。 なお、 上記反応器としては、 図示しないが流動層を利用した反応器を 用いてもよい。 この反応器では、 反応器に所定量の粉末母材を入れ、 この反 応器に蒸気を含む窒素ガス （N 2ガス） 又は蒸気を含む空気を所定時間導入し て調湿する。 ここで反応器は露点以上の温度に保持される。
また調湿された粉末母材を被覆層により被覆するために、 流動層反応装置 が用いられる。 この反応装置としては、 例えば図 2に示すように、 両端が閉 止されかつ鉛直方向に延びる筒状の筒本体 2 2と、 この筒本体 2 2の側面中 央に接続され粉末母材 1 5を筒本体 2 2に導入する原料導入管 2 3と、 筒本 体 2 2内の下端近傍に設けられ粉末母材 1 5を受ける整流板 2 4と、 筒本体 2 2の底壁 2 2 aに接続されキヤリアガス及びアルコキシドを筒本体 2 2に 導入するガス導入管 2 5とを備えたものを用いることができる。 整流板 2 4 は粉末母材 1 5の粒径より細かい多数の孔を有する多孔質に形成されるか、 或いは網状に形成される。 また筒本体 2 2の側面のうち整流板 2 4より僅か に高い位置には下側取出し管 2 6が接続され、 筒本体 2 2の側面のうち高さ が原料導入管 2 3及び下側取出し管 2 6間に位置するように上側取出し管 2 7が接続される。
下側取出し管 2 6にはこの管を開閉する手動バルブ 2 8が設けられ、 上側 取出し管 2 7にはこの管を通る酸化物粉末の流量を調整する流量調整バルブ 2 9が設けられる。 また下側取出し管 2 6及び上側取出し管 2 7は合流して 集合取出し管 3 0となる。 更に筒本体 2 2の上部には粉末母材 1 5が排ガス とともに排出されるのを防止するためのバグフィル夕 3 1が設けられ、 筒本 体 2 2の上壁 2 2 bには排ガスを排出するための排気管 3 2が接続される。 この反応装置 2 1は原料投入管 2 3から筒本体 2 2に粉末母材 1 5を連続的 に供給し、 ガス導入管 2 5から筒本体 2 2にハロゲン化物又はアルコキシド 、 キャリアガス等を導入し、 手動バルブ 2 8を閉じかつ流量調整バルブ 2 9 を所定の開度で開いておけば、 酸化物粉末の連続的製造が可能である。 また 原料投入管 2 3から筒本体 2 2に所定量の粉末母材 1 5を供給し、 ガス導入 管 2 5から筒本体 2 2にハロゲン化物又はアルコキシド、 キヤリァガス等を 導入し、 手動バルブ 2 8及び流量調整バルブ 2 9を閉じておき、 所定時間経 過後に手動バルブ 2 8を開けば、 酸化物粉末のバッチ的製造が可能である。 このようにして製造された酸化物粉末では、 粉末母材及び被覆層の物理的 特性及び化学的特性が十分に得られる。 即ち、 上記被覆層にチタニアが含ま れていていて、 酸化物粉末が電子写真用トナーの外添剤に用いられる場合、 被覆層はこのトナーに流動性及び帯電安定性を同時に付与することができる 。 また上記被覆層にアルミナが含まれている場合には、 被覆層は酸化物粉末 の研磨性能を向上することができるとともに、 断熱性、 ァニオン吸着能を付 与することができる。 また上記被覆層にシリカが含まれている場合には、 被 覆層は酸化物粉末に分散安定性を付与することができるとともに、 その流動 性を向上することができる。 また上記被覆層に酸化セリウムが含まれている 場合には、 被覆層は酸化物粉末に研磨性能を向上することができ、 シリコー ンゴムに耐熱性を付与することができる。 また上記被覆層に酸化鉄が含まれ ている場合には、 被覆層はシリコーンゴムに耐熱性を付与することができる 。 また上記被覆層に酸化スズ、 酸化アンチモンが含まれている場合には、 被 覆層は酸化物粉末に導電性を付与することができる。 更に上記粉末母材がチ タニアである場合、 被覆層は光触媒活性を抑制することができる。
次に上記酸化物粉末を用いた各製品について説明する。
(a) 研磨材
研磨材として用いる場合には、 粉末母材の第 1酸化物としてシリ力粉末を 用い、 被覆層の第 2酸化物として金属元素 （周期律表の 3 A族、 4 A族、 5 A族、 6 A族、 7 A族、 8族、 1 B族及び 2 B族の遷移元素、 並びに 3 B族 、 4 B族及び 5 B族の典型元素からなる群より選ばれた 1種又は 2種以上の 元素） を含む。 特に第 2酸化物としてはアルミナ、 チタニア、 ジルコニァ又 はセリアを用いることが好ましい。 またこの研磨材を用いて化学的 ·機械的 研磨用スラリーを調製することが好ましい。
(b ) インク受容層形成材料
ィンク受容層形成材料として用いる場合には、 粉末母材の第 1酸化物とし てシリカ粉末を用い、 被覆層の第 2酸化物として金属元素 （周期律表の 3 A 族、 4 A族、 5 A族、 6 A族、 7 A族、 8族、 1 B族及び 2 B族の遷移元素 、 並びに 3 B族、 4 B族及び 5 B族の典型元素からなる群より選ばれた 1種 又は 2種以上の元素） を含む。 特に第 2酸化物としてはアルミナ、 チタニア 、 ジルコニァ又はセリアを用いることが好ましい。 インク受容層形成材料は 酸化物粉末に、 水やポリビニルアルコール等を添加して調製される。 インク 受容層形成材料は酸化物粉末を 5〜3 0重量％含むことが好ましい。 このィ ンク受容層形成材料を紙やフィルム等に塗布した後に乾燥するとインクジ工 ット用印刷材が得られる。 (C) トナー用外添剤
トナー用外添剤は第 1酸化物がシリカである粉末母材の表面に、 第 2酸化 物がチタニアである被覆層を被覆して酸化物粉末を作製し、 この酸化物粉末 を式 （ 1 ) 〜式 （3) のいずれかのシランカップリング剤又はシリコーン化 合物を用いて表面改質することにより得られる。 このトナー用外添剤は電子 複写機又はレーザ一プリン夕などのトナーに添加される。
(d) 紫外線吸収材
紫外線吸収材は第 1酸化物がチタニアである粉末母材の表面に、 第 2酸化 物がシリ力、 アルミナ又は酸化鉄のいずれかである被覆層を被覆して酸化物 粉末を作製し、 この酸化物粉末を式 （ 1 ) 〜式 （3) のいずれかのシラン力 ップリング剤又はシリコーン化合物を用いて表面改質することにより得られ る。 この紫外線吸収材は化粧品などに添加される。
(e) 導電性粉末
導電性粉末は第 1酸化物がシリカである粉末母材の表面に、 第 2酸化物が チタニア又はアンチモンド一プ酸化スズ （ATO) である被覆層を被覆して 作製される。 この導電性粉末は導電塗膜を形成するために用いられる。
次に本発明の実施例を比較例とともに詳しく説明する。
<実施例 1 >
図 1に示すように、 先ず粉末母材 1 5の吸着水分量を反応器 1 1を用いて 調湿した。 具体的には、 平均粒径が 0. 0 1 2〃mであって表面水酸基の数 が 3. 7 //モル/ m2である親水性のシリカ粉末 1 5 (粉末母材） 100 gを 、 容積が 5リッ トルの四つ口フラスコ 1 1 (反応器） に入れ、 撹拌機 1 2に より撹拌した。 この撹拌はシリ力粉末 1 5に水蒸気を含む N2ガス又は空気を 吹込みながら行った。 このとき温度計 13を見ながらシリカ粉末 1 5の温度 を露点以上に保つように窒素ガス （N2ガス） 又は空気の流量を調整した。 な お、 粉末母材 15の吸着水分量は以下のようにして測定した。 上記調湿した シリカ粉末を約 1 g秤量瓶にサンプリングした後に、 105°Cで 2時間乾燥 して重量を測定し、 乾燥前後の重量減少量の割合 （％) を算出して吸着水分 量とした。 このときの吸着水分量は 4. 0%であった。 調湿後、 図 2に示すように、 容積が 17リッ トルの流動層反応装置 2 1の 原料導入管 23から上記シリカ粉末 60 gを投入した。 この投入されたシリ 力粉末は整流板 24上に載った状態に保持された。 この状態で反応装置 2 1 内を 60°Cに加熱した後に、 反応装置 2 1の底壁 22 aに形成されたガス導 入管 25から、 N2ガスとともに四塩化チタン 8. 6 gを反応装置 2 1内に導 入した。 この N 2ガスは四塩化チタンのキヤリァガスとして用いられるととも に、 シリカ粉末の流動化ガスとしても用いられる。 N2ガスにより搬送された 四塩化チタンがシリ力粉末に接触すると、 化学反応によりシリ力粉末の表面 がチタニアからなる被覆層により被覆されて酸化物粉末となった。 次に上記 反応装置内 2 1に N2ガスを導入しながら 200°Cに 1 2時間保持することに より脱塩酸処理を行った後に、 上記酸化物粉末を手動バルブ 28を開いて下 側取出し管 26から取出した。 このようにして得られた酸化物粉末を実施例 1とした。
<実施例 2 >
先ず平均粒径が 0. 0 1 2〃mであって表面水酸基の数が 3. 7〃モル/ m2である親水性のシリカ粉末 （粉末母材） 100 gを、 容積が 5リッ トルの 四つ口フラスコ （反応器） に入れて大気中で撹拌し、 実施例 1と同様にして 上記シリカ粉末の吸着水分量を調湿した。 このときの吸着水分量は 35. 5 %であった。
調湿後、 上記シリ力粉末 60 gを容積が 17リツ トルの流動層反応装置に 充填した。 次にシリカ粉末を N2ガスで流動化させながら、 四塩化チタン 25 . 0 gを N2キャリアで流動層反応装置の底壁から導入して、 この四塩化チタ ンを上記シリカ粉末に接触させ、 シリ力粉末の表面をチタニアからなる被覆 層により被覆した。 更に上記反応装置内に N2ガスを導入しながら 200°Cに 12時間保持することにより脱塩酸処理を行った。 このようにして得られた 酸化物粉末を実施例 2とした。
<実施例 3>
先ず平均粒径が 0. 0 1 2 /mであって表面水酸基の数が 3. 7〃モル/ m2である親水性のシリカ粉末 （粉末母材） 100 gを、 容積が 5リッ トルの 四つ口フラスコ （反応器） に入れて大気中で撹拌し、 実施例 1と同様にして 上記シリカ粉末の吸着水分量を調湿した。 このときの吸着水分量は 9. 0% であった。
調湿後、 上記シリ力粉末 60 gを容積が 17リツ トルの流動層反応装置に 充填した。 次にシリカ粉末を N2ガスで流動化させながら、 チタニウムテトラ ィソプロボキシド 6. 2 gを N2キヤリァで流動層反応装置の底壁から導入し て、 このチタニウムテトライソプロボキシドを上記シリ力粉末に接触させ、 シリ力粉末の表面をチタニアからなる被覆層により被覆した。 更に上記反応 装置内に N2ガスを導入しながら 1 50°Cに 2時間保持することにより脱アル コール処理を行った。 このようにして得られた酸化物粉末を実施例 3とした
<実施例 4 >
先ず平均粒径が 0. 007〃mであって表面水酸基の数が 3. 7 / モル/ m2である親水性のシリカ粉末 （粉末母材） 1 00 gを、 容積が 5リッ トルの 四つ口フラスコ （反応器） に入れて大気中で撹拌し、 実施例 1と同様にして 上記シリカ粉末の吸着水分量を調湿した。 このときの吸着水分量は 9. 0% であった。
調湿後、 上記シリカ粉末 60 gを容積が 17リッ トルの流動層反応装置に 充填した。 次にシリカ粉末を N2ガスで流動化させながら、 四塩化チタン 6. 5 gを N2キヤリアで流動層反応装置の底壁から導入して、 この四塩化チタン を上記シリカ粉末に接触させ、 シリカ粉末の表面をチタニアからなる被覆層 により被覆した。 更に上記反応装置内に N2ガスを導入しながら 500°Cに 6 時間保持することにより脱塩酸処理を行った。 このようにして得られた酸化 物粉末を実施例 4とした。
<実施例 5 >
先ず平均粒径が 0. 4〃mであって表面水酸基の数が 3. 7〃モル/1112で ある親水性のシリカ粉末 （粉末母材） 100 gを、 容積が 5リッ トルの四つ 口フラスコ （反応器） に入れて大気中で撹拌し、 実施例 1と同様にして上記 シリカ粉末の吸着水分量を調湿した。 このときの吸着水分量は 1. 0%であ つた。
調湿後、 上記シリ力粉末 6 0 gを容積が 1 7 リツ トルの流動層反応装置に 充填した。 次にシリカ粉末を N 2ガスで流動化させながら、 四塩化チタン 0 .
3 gを N 2キヤリアで流動層反応装置の底壁から導入して、 この四塩化チタン を上記シリ力粉末に接触させ、 シリ力粉末の表面をチタニアからなる被覆層 により被覆した。 更に上記反応装置内に N 2ガスを導入しながら 5 0 0 °Cに 6 時間保持することにより脱塩酸処理を行った。 このようにして得られた酸化 物粉末を実施例 5とした。
<実施例 6 >
先ず平均粒径が 0 . 0 0 6〃mであって表面水酸基の数が 3 . 7〃モル Z m 2である親水性のシリカ粉末 （粉末母材） 1 0 0 gを、 容積が 5 リッ トルの 四つ口フラスコ （反応器） に入れて大気中で撹拌し、 実施例 1と同様にして 上記シリカ粉末の吸着水分量を調湿した。 このときの吸着水分量は 7 . 0 % であった。
調湿後、 上記シリカ粉末 6 0 gを容積が 1 7 リッ トルの流動層反応装置に 充填した。 次にシリカ粉末を N 2ガスで流動化させながら、 塩化アルミニウム
4 6 gを N 2キヤリアで流動層反応装置の底壁から導入し、 この塩化アルミ二 ゥムを上記シリ力粉末に接触させ、 シリ力粉末の表面をアルミナからなる被 覆層により被覆した。 更に上記反応装置内に N 2ガスを導入しながら 5 0 0 °C に 6時間保持することにより脱塩酸処理を行った。 このようにして得られた 酸化物粉末を実施例 6とした。
<実施例 7 >
先ず平均粒径が 0 . 0 1 2〃mであって表面水酸基の数が 3 . 7〃モルノ m2である親水性のシリカ粉末 （粉末母材） 1 0 0 gを、 容積が 5 リッ トルの 四つ口フラスコ （反応器） に入れて大気中で撹拌し、 実施例 1と同様にして 上記シリカ粉末の吸着水分量を調湿した。 このときの吸着水分量は 1 . 0 % であった。
調湿後、 上記シリカ粉末 6 0 gを容積が 1 Ί リッ トルの流動層反応装置に 充填した。 次にシリカ粉末を N 2ガスで流動化させながら、 アルミニウムイソ プロポキシド 2 8 gを N 2キヤリァで流動層反応装置の底壁から導入し、 この アルミニウムイソプロポキシドを上記シリ力粉末に接触させ、 シリ力粉末の 表面をアルミナからなる被覆層により被覆した。 更に上記反応装置内に N 2ガ スを導入しながら 2 0 0 °Cに 6時間保持することにより脱アルコール処理を 行った。 このようにして得られた酸化物粉末を実施例 7とした。
<実施例 8 >
先ず平均粒径が 0 . 0 1 2〃mであって表面水酸基の数が 3 . 7〃モル/ m2である親水性のシリカ粉末 （粉末母材） 1 0 0 gを、 容積が 5 リッ トルの 四つ口フラスコ （反応器） に入れて大気中で撹拌し、 実施例 1と同様にして 上記シリカ粉末の吸着水分量を調湿した。 このときの吸着水分量は 1 . 0 % であった。
調湿後、 上記シリカ粉末 6 0 gを容積が 1 7リツ トルの流動層反応装置に 充填した。 次にシリカ粉末を N 2ガスで流動化させながら、 塩化セリウム 1 0 . 8 gを N 2キャリアで流動層反応装置の底壁から導入し、 この塩化セリウム を上記シリ力粉末に接触させ、 シリカ粉末の表面をセリアからなる被覆層に より被覆した。 更に上記反応装置内に N 2ガスを導入しながら 5 0 0 °Cに 6時 間保持することにより脱塩酸処理を行つた。 このようにして得られた酸化物 粉末を実施例 8とした。
<実施例 9 >
先ず平均粒径が 0 . 0 1 2〃mであって表面水酸基の数が 3 . 7〃モルノ m2である親水性のシリカ粉末 （粉末母材） 1 0 0 gを、 容積が 5 リッ トルの 四つ口フラスコ （反応器） に入れて大気中で撹拌し、 実施例 1と同様にして 上記シリカ粉末の吸着水分量を調湿した。 このときの吸着水分量は 9 . 0 % であった。
調湿後、 上記シリカ粉末 6 0 gを容積が 1 7 リッ トルの流動層反応装置に 充填した。 次にシリカ粉末を N 2ガスで流動化させながら、 塩化鉄 6 . 0 gを N 2キヤリァで流動層反応装置の底壁から導入して、 この塩化鉄を上記シリ力 粉末に接触させ、 シリカ粉末の表面を酸化鉄からなる被覆層により被覆した 。 更に上記反応装置内に N 2ガスを導入しながら 5 0 0 °Cに 6時間保持するこ とにより脱塩酸処理を行った。 このようにして得られた酸化物粉末を実施例
9とした。
<実施例 1 0 >
先ず平均粒径が 0 . 0 1 5〃mであって表面水酸基の数が 7 . 4〃モル/ m 2である親水性のチタニア粉末 （粉末母材） 1 0 0 gを、 容積が 5 リッ トル の四つ口フラスコ （反応器） に入れて大気中で撹拌し、 実施例 1と同様にし て上記チタニア粉末の吸着水分量を調湿した。 このときの吸着水分量は 9 . 0 %であった。
調湿後、 上記チタニア粉末 6 0 gを容積が 1 Ί リッ トルの流動層反応装置 に充填した。 次にチタニア粉末を N 2ガスで流動化させながら、 四塩化ケィ素 4 . 5 gを N 2キャリアで流動層反応装置の底壁から導入して、 この四塩化ケ ィ素を上記チタニア粉末に接触させ、 チタニア粉末の表面をシリ力からなる 被覆層により被覆した。 更に上記反応装置内に N 2ガスを導入しながら 5 0 0 °Cに 6時間保持することにより脱塩酸処理を行った。 このようにして得られ た酸化物粉末を実施例 1 0とした。
<実施例 1 1 >
先ず平均粒径が 0 . 0 1 5〃mであって表面水酸基の数が 7 . 4〃モル/ m 2である親水性のチタニア粉末 （粉末母材） 1 0 0 gを、 容積が 5 リッ トル の四つ口フラスコ （反応器） に入れて大気中で撹拌し、 実施例 1と同様にし て上記チタニア粉末の吸着水分量を調湿した。 このときの吸着水分量は 9 . 0 %であった。
調湿後、 上記チタニア粉末 6 0 gを容積が 1 7リッ トルの流動層反応装置 に充填した。 次にチタニア粉末を N 2ガスで流動化させながら、 塩化アルミ二 ゥム 2 . 6 gを N 2キャリアで流動層反応装置の底壁から導入して、 この塩化 アルミニウムを上記チタニア粉末に接触させ、 チタニア粉末の表面をアルミ ナからなる被覆層により被覆した。 更に上記反応装置内に N 2ガスを導入しな がら 5 0 0 Cに 6時間保持することにより脱塩酸処理を行った。 このように して得られた酸化物粉末を実施例 1 1とした。
<実施例 1 2 > 先ず平均粒径が 0. 0 1 5〃mであって表面水酸基の数が 7. 4^モル/ m2である親水性のチタニア粉末 （粉末母材） 1 0 0 gを、 容積が 5 リ ッ トル の四つ口フラスコ （反応器） に入れて大気中で撹拌し、 実施例 1と同様にし て上記チタニア粉末の吸着水分量を調湿した。 このときの吸着水分量は 5. 0 %であった。
調湿後、 上記チタニア粉末 60 gを容積が 1 7 リッ トルの流動層反応装置 に充填した。 次にチタニア粉末を N2ガスで流動化させながら、 塩化鉄 7. 2 gを N2キヤリアで流動層反応装置の底壁から導入して、 この塩化鉄を上記チ タニア粉末に接触させ、 チタニア粉末の表面を塩化鉄からなる被覆層により 被覆した。 更に上記反応装置内に N2ガスを導入しながら 500°Cに 6時間保 持することにより脱塩酸処理を行った。 このようにして得られた酸化物粉末 を実施例 1 2とした。
<実施例 1 3 >
先ず平均粒径が 0. 0 1 2 zmであって表面水酸基の数が 3. 7 モル/ m2である親水性のシリカ粉末 （粉末母材） 1 00 gを、 容積が 5リッ トルの 四つ口フラスコ （反応器） に入れて大気中で撹拌し、 実施例 1と同様にして 上記シリカ粉末の吸着水分量を調湿した。 このときの吸着水分量は 1. 5 % であった。
調湿後、 上記シリカ粉末 6 0 gを容積が 1 Ί リツ トルの流動層反応装置に 充填した。 次にシリカ粉末を N 2ガスで流動化させながら、 上記フラスコに塩 化スズ 7. 5 gと塩化アンチモン 0. 2 5 gとを N2キャリアで流動層反応装 置の底壁から導入して、 これら塩化スズ及び塩化アンチモンを上記シリ力粉 末に接触させ、 シリカ粉末の表面を塩化スズ及び塩化アンチモンの複合体 （ アンチモンドープ酸化スズ： AT〇） からなる被覆層により被覆した。 更に 上記反応装置内に N2ガスを導入しながら 5 00°Cに 6時間保持することによ り脱塩酸処理を行った。 このようにして得られた酸化物粉末を実施例 1 3と した。
<実施例 14 >
先ず平均粒径が 0. 0 1 2〃mであって表面水酸基の数が 3 · 7〃モル/ m 2である親水性のシリカ粉末 （粉末母材） 1 0 0 gを、 容積が 5 リッ トルの 四つ口フラスコ （反応器） に入れて大気中で撹拌し、 実施例 1と同様にして 上記シリカ粉末の吸着水分量を調湿した。 このときの吸着水分量は 1 . 0 % であった。
調湿後、 上記シリ力粉末 6 0 gを容積が 1 7 リツ トルの流動層反応装置に 充填した。 次にシリカ粉末を N 2ガスで流動化させながら、 四塩化バナジウム 4 . 3 gを N 2キャリアで流動層反応装置の底壁から導入して、 この四塩化バ ナジゥムを上記シリ力粉末に接触させ、 シリ力粉末の表面を酸化バナジウム からなる被覆層により被覆した。 更に上記反応装置内に N 2ガスを導入しなが ら 5 0 0 °Cに 6時間保持することにより脱塩酸処理を行った。 このようにし て得られた酸化物粉末を実施例 1 4とした。
く実施例 1 5 >
先ず平均粒径が 0 . 0 1 2〃mであって表面水酸基の数が 3 . 7〃モル/ m 2である親水性のシリカ粉末 （粉末母材） 1 0 0 gを、 容積が 5 リッ トルの 四つ口フラスコ （反応器） に入れて大気中で撹拌し、 実施例 1 と同様にして 上記シリカ粉末の吸着水分量を調湿した。 このときの吸着水分量は 0 . 5 % であった。
調湿後、 上記シリ力粉末 6 0 gを容積が 1 7 リツ トルの流動層反応装置に 充填した。 次にシリカ粉末を N 2ガスで流動化させながら、 三塩化モリブデン 4 . 5 gを N 2キャリアで流動層反応装置の底壁から導入して、 この三塩化モ リブデンを上記シリ力粉末に接触させ、 シリ力粉末の表面を酸化モリブデン からなる被覆層により被覆した。 更に上記反応装置内に N 2ガスを導入しなが ら 5 0 0 °Cに 6時間保持することにより脱塩酸処理を行った。 このようにし て得られた酸化物粉末を実施例 1 5とした。
<実施例 1 6 >
先ず平均粒径が 0 . 0 1 2 / mであって表面水酸基の数が 3 . 7〃モル/ m 2である親水性のシリカ粉末 （粉末母材） 1 0 0 gを、 容積が 5 リッ トルの 四つ口フラスコ （反応器） に入れて大気中で撹拌し、 実施例 1と同様にして 上記シリカ粉末の吸着水分量を調湿した。 このときの吸着水分量は 1 . 0 % であった。
調湿後、 上記シリカ粉末 6 0 gを容積が 1 7 リツ トルの流動層反応装置に 充填した。 次にシリカ粉末を N 2ガスで流動化させながら、 塩化亜鉛 3 . 0 g を N 2キヤリァで流動層反応装置の底壁から導入して、 この塩化亜鉛を上記シ リカ粉末に接触させ、 シリカ粉末の表面を塩化亜鉛からなる被覆層により被 覆した。 更に上記反応装置内に N 2ガスを導入しながら 5 0 0 °Cに 6時間保持 することにより脱塩酸処理を行った。 このようにして得られた酸化物粉末を 実施例 1 6とした。
<実施例 1 7 >
先ず平均粒径が 0 . 0 1 2〃mであって表面水酸基の数が 3 . 7〃モル/ m 2である親水性のシリカ粉末 （粉末母材） 1 0 0 gを、 容積が 5 リヅ トルの 四つ口フラスコ （反応器） に入れて大気中で撹拌し、 実施例 1と同様にして 上記シリカ粉末の吸着水分量を調湿した。 このときの吸着水分量は 2 . 0 % であった。
調湿後、 上記シリカ粉末 6 0 gを容積が 1 7リッ トルの流動層反応装置に 充填した。 次にシリカ粉末を N 2ガスで流動化させながら、 塩化ジルコニウム 5 . 1 gを N 2キャリアで流動層反応装置の底壁から導入して、 この塩化ジル コニゥムを上記シリ力粉末に接触させ、 シリ力粉末の表面をジルコニァから なる被覆層により被覆した。 更に上記反応装置内に N 2ガスを導入しながら 5 0 0 °Cに 6時間保持することにより脱塩酸処理を行った。 このようにして得 られた酸化物粉末を実施例 1 7とした。
<実施例 1 8 >
先ず平均粒径が 0 . 0 3 0〃mであって表面水酸基の数が 3 . 7〃モル/ m2である親水性のシリカ粉末 （粉末母材） 1 0 0 gを、 容積が 5 リッ トルの 四つ口フラスコ （反応器） に入れて大気中で撹拌し、 実施例 1と同様にして 上記シリカ粉末の吸着水分量を調湿した。 このときの吸着水分量は 0 . 8 % であった。
調湿後、 上記シリカ粉末 6 0 gを容積が 1 7 リッ トルの流動層反応装置に 充填した。 次にシリカ粉末を N 2ガスで流動化させながら、 塩化アルミニウム 2 gを N2キヤリァで流動層反応装置の底壁から導入し、 この塩化アルミニゥ ムを上記シリカ粉末に接触させ、 シリカ粉末の表面をアルミナからなる被覆 層により被覆した。 更に上記反応装置内に N2ガスを導入しながら 500°Cに 6時間保持することにより脱塩酸処理を行つた。 このようにして得られた酸 化物粉末を実施例 18とした。
<実施例 19 >
先ず平均粒径が 0. 020〃mであって表面水酸基の数が 3. 7〃モル/ m2である親水性のシリカ粉末 （粉末母材） 100 gを、 容積が 5リッ トルの 四つ口フラスコ （反応器） に入れて大気中で撹拌し、 実施例 1と同様にして 上記シリカ粉末の吸着水分量を調湿した。 このときの吸着水分量は 1. 0% であった。
調湿後、 上記シリカ粉末 60 gを容積が 17リッ トルの流動層反応装置に 充填した。 次にシリカ粉末を N2ガスで流動化させながら、 塩化セリウム 5. 0 gを N2キヤリァで流動層反応装置の底壁から導入し、 この塩化セリウムを 上記シリカ粉末に接触させ、 シリカ粉末の表面をセリアからなる被覆層によ り被覆した。 更に上記反応装置内に N2ガスを導入しながら 500°Cに 6時間 保持することにより脱塩酸処理を行った。 このようにして得られた酸化物粉 末を実施例 19とした。
<実施例 20 >
実施例 6で調製された酸化物粉末 120 gと分散剤 （AM— 2 150 ： 日 本サーファクタント工業社製） 12 gとエタノール 35 mリツ トルと n—プ ロパノール 10mリッ トルと酢酸ェチル 5mリッ トルとポリビニルアルコー ル （PVA 235 ： クラレ製） 12 gとをホモジナイザーを用いて分散して インク受容層形成材料を調製した。 このィンク受容層形成材料をバーコーダ 法によりインクジエツ ト用ノンコート紙 （I J— L ：三菱製紙社製） に塗布 した。 塗布した後、 50°Cの温風で 3分間乾燥させてインクジエツ ト用印刷 材を作製した。 乾燥した後の塗布層の膜厚は 30〃mであった。 このインク ジエツ ト用印刷材を実施例 20とした。
く比較例 1> 先ず平均粒径が 0. 0 1 2〃mであって表面水酸基の数が 3. 7〃モル/ m2である親水性のシリカ粉末 （粉末母材） 100 gを、 大気中 1 20°Cに 1 時間保持して乾燥し、 このシリカ粉末の吸着水分量を 0. 0 1 %未満とした 調湿後、 上記シリカ粉末 60 gを容積が 17リッ トルの流動層反応装置に 充填した。 次にシリカ粉末を N2ガスで流動化させながら、 四塩化チタン 4. 3 gを N2キヤリァで流動層反応装置の底壁から導入して、 この四塩化チタン を上記シリ力粉末に接触させ、 シリ力粉末の表面をチタニアからなる被覆層 により被覆した。 更に上記反応装置内に N2ガスを導入しながら 500 °Cに 6 時間保持することにより脱塩酸処理を行った。 このようにして得られた酸化 物粉末を比較例 1とした。
<比較例 2 >
先ず平均粒径が 0. 0 12 /mであって表面水酸基の数が 3. 7 / モル/ m2である親水性のシリカ粉末 （粉末母材） 100 gを、 容積が 5リッ トルの 四つ口フラスコ （反応器） に入れて大気中で撹拌し、 上記シリカ粉末の吸着 水分量を調湿した。 このときの吸着水分量は 60. 0%であった。
調湿後、 上記シリカ粉末 60 gを容積が 1 7リツ トルの流動層反応装置に 充填した。 次にシリカ粉末を N2ガスで流動化させながら、 四塩化チタン 2 5 . 0 gを N2キャリアで流動層反応装置の底壁から導入して、 この四塩化チタ ンを上記シリカ粉末に接触させ、 シリ力粉末の表面をチタニアからなる被覆 層により被覆した。 更に上記反応装置内に N2ガスを導入しながら 500°Cに 6時間保持することにより脱塩酸処理を行った。 このようにして得られた酸 化物粉末を比較例 2とした。
<比較例 3>
平均粒径が 0. 0 1 2 zmである親水性のシリカ粉末 30 gと、 平均粒径 が 0. 0 17〃mである親水性のチタニア粉末 7. 5 gとをミキサーで撹拌 混合した。 このようにして得られた酸化物粉末を比較例 3とした。
<比較例 4 >
先ず平均粒径が 28 zmであって表面水酸基の数が 3. 7〃モル/ m2であ る親水性のシリカ粉末 （粉末母材） 30 gを、 容積が 2リッ トルの四つロフ ラスコ （反応器） に入れて大気中で撹拌し、 上記シリカ粉末の吸着水分量を 調湿した。 このときの吸着水分量は 0. 3%であった。
調湿後、 上記シリカ粉末を撹拌している状態で、 上記フラスコに四塩化チ タン 1. 0 gを N2キャリアで導入して、 この四塩化チタンを上記シリカ粉末 に接触させ、 シリ力粉末の表面をチタニアからなる被覆層により被覆した。 次に上記フラスコ内に N2ガスを導入しながら 500 °Cに 6時間保持すること により脱塩酸処理を行った。 このようにして得られた酸化物粉末を比較例 4 とした。
<比較例 5 >
先ず平均粒径が 0. 022〃mであって表面水酸基の数が◦ . 08 /モル /m2でありかつシリコ一ンオイルで表面処理された疎水性のシリ力粉末 （粉 末母材） 100 gを、 容積が 5リ ッ トルの四つ口フラスコ （反応器） に入れ て大気中で撹拌し、 上記シリカ粉末の吸着水分量を調湿した。 このときの吸 着水分量は 0. 1 %であった。
調湿後、 上記シリ力粉末 60 gを容積が 1 7リツ トルの流動層反応装置に 充填した。 次にシリカ粉末を N2ガスで流動化させながら、 四塩化チタン 4. 3 gを N2キヤリァで流動層反応装置の底壁から導入して、 この四塩化チタン を上記シリ力粉末に接触させ、 シリ力粉末の表面をチタニアからなる被覆層 により被覆した。 更に上記反応装置内に N 2ガスを導入しながら 180°Cに 1 2時間保持することにより脱塩酸処理を行った。 このようにして得られた酸 化物粉末を比較例 5とした。
<比較例 6 >
先ず平均粒径が 0. 0 12〃mであって表面水酸基の数が 3. 7〃モル/ m2である親水性のシリカ粉末 （粉末母材） 30 gを、 容積が 2リッ トルの四 つ口フラスコ （反応器） に入れて大気中で撹拌し、 上記シリカ粉末の吸着水 分量を調湿した。 このときの吸着水分量は 4. 0%であった。
調湿後、 上記シリカ粉末を撹拌している状態で、 上記フラスコに四塩化チ タン 4. 3 gを N2キャリアで導入して、 この四塩化チタンを上記シリカ粉末 に接触させ、 シリ力粉末の表面をチタニアからなる被覆層により被覆した。 次に上記フラスコ内に N2ガスを導入しながら 200°Cに 12時間保持するこ とにより脱塩酸処理を行った。 このようにして得られた酸化物粉末を比較例 6とした。
<比較例 7 >
平均粒径が 0. 023〃mである乾式法で作製したチタニア及び酸化鉄の 複合粒子からなる酸化物粉末を比較例 7とした。
<比較例 8 >
平均粒径が 0. 0 12〃mである親水性のシリカ粉末を比較例 8とした。 <比較例 9 >
平均粒径が 0. 0 17〃mである親水性のチタニア粉末を比較例 9とした <比較例 10 >
平均粒径が 0. 0 1 7〃mである親水性のチタニア粉末 30 gと、 平均粒 径が 0. 0 12 /mである親水性のシリカ粉末 7. 5 gとをミキサーで撹拌 混合した。 このようにして得られた混合粉末を比較例 1 0とした。
<比較例 1 1 >
平均粒径が 0. 0 1 0〃mである AT 0粉末を比較例 1 1とした。
<比較例 12 >
先ず平均粒径が 0. 0 1 2〃mであって表面水酸基の数が 3. 7〃モル/ m2である親水性のシリカ粉末 （粉末母材） 100 gを、 大気中 1 20°Cに 1 時間保持して乾燥し、 このシリカ粉末の吸着水分量を 0. 0 1 %未満とした この乾燥したシリカ粉末 60 gを容積が 17リッ トルの流動層反応装置に 充填した。 次にシリカ粉末を N2ガスで流動化させながら、 塩化アルミニウム 28. 0 gを N2キャリアで流動層反応装置の底壁から導入し、 この塩化アル ミニゥムを上記シリ力粉末に接触させ、 シリカ粉末の表面をアルミナからな る被覆層により被覆した。 更に上記反応装置内に N2ガスを導入しながら 50 0°Cに 6時間保持することにより脱塩酸処理を行った。 このようにして得ら れた酸化物粉末を比較例 1 2とした。
<比較例 1 3 >
平均粒径が 0. 030〃mである親水性のシリ力粉末を比較例 13とした <比較例 14 >
平均粒径が 0. 0 1 9〃mである親水性のアルミナ粉末を比較例 14とし た。
ぐ比較例 1 5 >
平均粒径が 0. 02 O mである親水性のシリカ粉末 30 gと、 平均粒径 が 0. 0 1 9〃mである親水性のアルミナ粉末 3. 4 gとをミキサーで撹拌 混合した。 このようにして得られた混合粉末を比較例 1 5とした。
<比較例 16 >
比較例 7で調製された酸化物粉末 1 20 gと分散剤 （AM— 2 1 50 ： 日 本サーファクタント工業社製） 12 gとエタノール 35 mリツ トルと n—プ ロパノール 1 Omリツ トルと酢酸ェチル 5 mリッ トルとポリビニルアルコー ル （PVA 235 ： クラレ製） 12 gとをホモジナイザーを用いて分散して インク受容層形成材料を調製した。 このィンク受容層形成材料をバーコーダ 法によりインクジヱッ ト用ノンコート紙 （ I J— L ：三菱製紙社製） に塗布 した。 塗布した後、 50°Cの温風で 3分間乾燥させてインクジェッ ト用印刷 材を作製した。 乾燥した後の塗布層の膜厚は 30 /mであった。 このインク ジエツ ト用印刷材を比較例 1 6とした。
<比較試験 1及び評価 >
実施例 1 ~ 19、 比較例 1〜 7及び比較例 12の酸化物粉末の被覆層の含 有量、 比表面積及び被覆層による被覆の均一性を測定した。 その結果を表 1 及び表 2に示す。
なお、 被覆層の含有量は S EM— EDX [SEM (走査型電子顕微鏡） ： J SM- 5300 LV, EDX (エネルギ分散型蛍光 X線分析装置） ： JE D— 2001、 日本電子データム社製] を用いて、 酸化物粉末中の金属元素 の量を測定した。 但し、 この検出した金属元素は全て酸化物状態であるとし て換算した。
上記比表面積は酸化物粉末の表面に占有面積が既知の気体分子 （窒素分子 ) を吸着させて、 この気体分子の吸着量から上記酸化物粉末の表面積を求め る気相吸着法により測定した。
また上記被覆層による被覆の均一性は凝集粒子の有無、 被覆層の含有量の ばらつき及び被覆割合により評価した。 即ち、 凝集粒子の有無は 1 000個 の粒子中に 1個以上の凝集粒子がない場合を凝集無しと、 1000個の粒子 中に 1個以上の凝集粒子がある場合を凝集有りと判定した。
また被覆層の含有量のばらつきは TEM— EDX (TEM： 日本電子製 JE M-2010F, E DX ： ノーラン社製 V0YAGER3) を用いて評価した。 具体的には、 加速電子 200 kVで酸化物粉末の元素分析を 10 nmx 10 nmの範囲で 10点行い、 このときの被覆層元素含有量の平均値からのばらつき範囲を評 価値とした。 なお、 上記被覆層の含有量のばらつき範囲を求める計算式を次 の式 （4) 及び式 （5) に示す。
(B-A) /Ax 1 00 (%) …… （4)
(A- C) /Ax 1 00 (%) …… ( 5 )
式 （4) 及び式 （5) において、 Aは元素分析 （ 10点） の平均値 （％) であり、 Bは元素分析 （ 10点） の最大値 （％) であり、 Cは元素分析 （ 1 0点） の最小値 （％) である。 なお、 式 （4) 及び式 （5) で求めた値のう ち大きい方の値をばらつきの値とした。
更に被覆割合は T EM— E E L S (T EM： 日本電子製 JEM- 2010F、 EEL S ： GATAN社製 GIF200) を用いて評価した。 具体的には、 加速電子 20 0 kVで酸化物粉末表面の面分析を行い、 元素が均一に分布している割合を 評価値とした。 【表 1】 酸化物粉末
粉末母材の 被覆の均一性 粉末贿 /被覆層 吸着水分量 纏の
(%) 今 (m2/g) 凝集粒子 含有量の
(%) の有無 ばらつき (%)
(%) 謹 1 シリカ 1チタニア 4.0 4.0 181 無し ±16 95 実纏 2 シリカ 1チタニア 35.5 18.2 156 無し ±55 70 濯 3 シリカ 1チタニア 9.0 3.2 183 無し ±23 90 実施例 シリカ 1チタニア 9.0 6.3 272 無し ±34 85 実麵 5 シリカ 1チタニア 1.0 0.3 12 無し ±15 90 謹 j 6 シリカ 1アルミナ 7.0 28.0 348 無し ±47 実施例 7 シリカ 1アルミナ 1.0 9.1 177 無し ±30 実編 8 シリカ / セリア 1.0 9.2 175 無し ±28 85 難例 9 シリカ 1酸化鉄 9.0 6.9 172 無し ±18 90 実讓 10 チタニア 1シリカ 9.0 4.0 80 無し ±20 95 実讓 1 チタニア 1アルミナ 9.0 3.1 78 無し ±32 ― 難例 12 チタニア 1酸化鉄 5.0 6.8 75 無し ±37 85 実施例 13 シリカ 1 ATO 1.5 7.2 165 無し ±41 難 4 シリカ/ Mハ、、ナシ、、ゥム 1.0 4.2 184 無し ±25 90 麵例 15 シリカ/酸化モリフ、' ン 0.5 7.1 176 無し ±37 75 実脑 16 シリカ 1酸化亜 IS 1.0 4.2 174 ±27 80 実譲 17 シリカ 1シ、、ルコニァ 2.0 7.3 171 無し ±25 85 実施例 18 シリカ 1アルミナ 0.8 1.1 48 無し ±24 実施例 19 シリカ 1 セリア 1.0 4.0 83 無し ±27 83 【表 2】
Figure imgf000034_0001
表 1及び表 2から明らかなように、 比較例 2、 3及び 6では凝集粒子が発 生したのに対し、 実施例 1〜 17では凝集粒子は発生しなかった。 また被覆 層の含有量のばらつきは比較例 2〜4、 6及び 7では土 80〜士 380%と 大きかったのに対し、 実施例 1〜17では土 15〜士 55%と小さかった。 更に被覆層による被覆割合は比較例 1〜 6では 0〜 60 %と少なかったのに 対し、 実施例 1〜 5、 8〜 10、 12及び 14〜 17では 70〜 95%と多 かった。 なお、 実施例 2において被覆層の含有量のばらつきが ± 55 %と大 きくなつたのは、 粉末母材の吸着水分量が 35. 5%と多かったためである
<比較試験 2及び評価 >
実施例 1〜3、 比較例 1〜4、 比較例 8及び 9の酸化物粉末の被覆層の含 有量、 比表面積、 帯電量及び流動性を測定した。 その結果を表 3に示す。 被覆層の含有量及び比表面積は比較試験 1と同様に測定した。
また、 酸化物粉末の帯電量は 75mリツ トルのガラス容器に鉄粉キャリア 50 gと、 疎水性酸化物粉末 0. l gとを入れて蓋をし、 夕一ブラミキサー で 5分間振盪 （しんとう） した後に、 上記酸化物粉末の混ざった鉄粉キヤリ ァを 0. 1 g採取し、 プロ一オフ帯電量測定装置 [TB— 200型 ：東芝ケ ミカル社製] により 1分間窒素ブローした後に測定した値とした。
更に、 酸化物粉末の流動性は篩通過率により評価した。 具体的には、 疎水 性酸化物粉末 0. 4 gと負帯電性 8〃mトナー 40 gとをミキサーにて撹拌 •混合した電子写真用トナー組成物を用意した。 パウダテス夕 （ 丁ー？^型 ：ホソカワミクロン社製） にて 1 50〃mスクリーン、 75〃mスクリーン 及び 45 mスクリーンをそれそれ振動させながら、 上記トナー組成物を順 次篩い分けし、 1 50〃mスクリーン、 75〃mスク リーン及び 45〃mス クリーンを全て通過した割合 （％) を流動性の値とした。
【表 3】
Figure imgf000035_0001
表 3から明らかなように、 酸化物粉末の帯電量の絶対値は比較例 1 4及 び 8では 250 54 O zC/gと大きかったのに対し、 実施例 1 3では 92~1 53〃C/gと小さかった。 また酸化物粉末の流動性は比較例 2及 び 4では 55%及び 24 %と小さかったのに対し、 実施例 1 3では 75〜 82 %と大きかった。
<比較試験 3及び評価 >
実施例 1 0〜 1 2、 比較例 9及び 1 0の酸化物粉末の被覆層の含有量、 比 表面積、 光触媒活性及び UV吸収率を測定した。 その結果を表 4に示す。 被覆層の含有量及び比表面積は比較試験 1と同様に測定した。
また酸化物粉末の光触媒活性は、 パイレックスガラス （Corning社の商品名 ) 製容器 （ 1 20mmx l 20mmx 65 mm) 中に酸化物粉末を 1 g入れ 、 ァセトアルデヒ ドガスをガス濃度が 4000 p pmとなるように加えて密 封し、 3 mW/c m2の紫外線を 1時間照射した後、 ァセトアルデヒ ドガスの 濃度をガステック検知管で測定し、 ァセトアルデヒ ド分解率を算出すること により求めた。
更に酸化物粉末の UV吸収率は、 イソプロビルパルミネート 97 gに酸化 物粉末 3 gを加えてディゾルバ一により 2000 r pmの回転速度で 5分間 分散し、 更にこの分散液を厚さ 10〃mのセルに入れて 300 nmでの吸光 度を測定することにより求めた。
【表 4】
Figure imgf000036_0001
表 4から明らかなように、 ァセトアルデヒドガスは比較例 9及び 1 0では 全て分解されたのに対し、 実施例 1 0〜 12では 1 2〜 1 9%と殆ど分解さ れなかった。 従って、 実施例 10〜 1 2の酸化物粉末の方が比較例 9及び 1 0の酸化物粉末より光触媒活性が低く抑制されることが判った。 また U V吸 収率は比較例 9及び 1 0では 8 7 %及び 8 5 %であり、 実施例 1 0 〜 1 2で は 8 5 〜 8 6 %であり、 略同じであった。 この結果、 実施例の酸化触媒粉末 は比較例の酸化触媒粉末より化粧品に適していることが判つた。
く比較試験 4及び評価 >
実施例 2 、 1 3、 比較例 8 、 9及び 1 1の酸化物粉末の被覆層の含有量、 比表面積及び電気抵抗を測定した。 その結果を表 5に示す。
被覆層の含有量及び比表面積は比較試験 1と同様に測定した。
また、 酸化物粉末の電気抵抗は電気抵抗測定装置 [三菱化学社製ハイ レス 夕一] を用いて行った。 具体的には、 所定のセルに上記酸化物粉末を 0 . 3 g入れた後に、 このセルに 1 0 M P aの圧力を加えたときの圧粉体の電気抵 抗を測定した。
【表 5】
Figure imgf000037_0001
表 5から明らかなように、 酸化物粉末の電気抵抗は比較例 8では 1 X 1 0 1 4 Ω · c mと高かったのに対し、 実施例 2及び 1 3ではそれそれ 1 X 1 0 3及 び 1 X 1 0 8 Ω · c mと低かった。 また実施例 2及び 1 3の酸化物粉末は比較 例 9のチタニア粉末や比較例 1 1の A T 0粉末より比表面積が大きかった。 この結果、 実施例の酸化物粉末を含む分散液をガラスやフィルムに塗布する と、 高い透明性が得られることが判った。 <比較試験 5及び評価 >
実施例 1、 6、 1 7、 比較例 1、 8、 1 2及び 14の酸化物粉末の被覆層 の含有量、 比表面積、 酸化物粉末 （被覆層による被覆後の粉末） のァニオン 吸着量 D (%) 、 粉末母材のァニオン吸着量 E (%) 及び透明性をそれそれ 測定した。 その結果を表 6に示す。
被覆層の含有量及び比表面積は比較試験 1と同様に測定した。
表 6中のァニオン吸着種はァニオン吸着量 D ( ) 及び E (%) を測定す るために用いた試薬である。
ァニオン吸着量は次のようにして測定した。
2. 5 mモル Zリヅ トルのベンゼンスルホン酸ナトリゥム水溶液 1 00m リッ トルを 200 mリッ トルのビーカ一に入れ、 このビーカ一に撹拌子を入 れてスターラーの上で上記水溶液を撹拌子で撹拌しながら、 表面改質シリ力 2 gを秤量し、 これを上記水溶液に分散させた。 5分間撹拌した後に 0. 4 5 mのシリンジフィル夕を装着したシリンジを用いて上記水溶液を濾過し た。 1 mリツ トル以上の濾過液を 4 mリッ トルのガラス製サンプル瓶にサン プリングした後、 メスピぺッ 卜で 1 mリヅ トルを正確に採取してメスフラス コに入れ、 純水で 1 00mリッ トルに希釈した。
次に分光光度計 （V_ 570 ： 日本分光社製） を用いて純水で 1 00%調 整された一対の石英セルを用意し、 レファレンス側の石英セルに純水を入れ 、 サンプル側の石英セルに希釈液を入れて、 波長が 220. 8 nmである光 を照射してその透過率 Xを測定した。 この透過率 Xを次式 （ 6) に代入して 採取サンプル液中のベンゼンスルホン酸ナトリウム濃度 Y (mモル） を算出 した。
Y =— 0. 0432 x 1 η(Χ)+ 0. 1976 …… ( 6 ) シリカへの吸着量 Z (mモル） を式 Z二 0. 02 5— Yから求め、 百分率 換算した。 更に上記測定方法で求めたァニオン吸着量 D及び Eから D/Eを 算出して比率を求めた。 なお、 ベンゼンスルホン酸ナトリウムに変えて p— トルエンスルホン酸ナトリウムを用いても、 上記と同様にァニオン吸着量を 測定できる。 また透明性は次の方法により求めた。 先ず酸化物粉末 1 2 O gと分散剤 （ AM- 2 1 5 0 : 日本サ一ファクタン ト工業社製） 1 2 gとエタノール 35 mリ ッ トルと n—プロパノール 1 Omリ ツ トルと酢酸ェチル 5 mリ ッ トルと ポリビニルアルコール （PVA 23 5 : クラレ製） 1 2 gとをホモジナイザ 一を用いて分散してインク受容層形成材料を調製した。 このィンク受容層形 成材料をバーコーダ法により OHPフィルムに塗布した。 塗布した後、 5 0 °Cの温風で 3分間乾燥させた。 乾燥した後の塗布層の膜厚は 30〃mであつ た。 次に分光光度計 （V- 570;日本分光社製） を用いて、 レファレンス側に上 記インク受容層形成材料を塗布していない OHPフィルムを、 またサンプル 側に上記塗布した OHPフィルムを入れ、 波長が 5 00 nmである光を照射 してその透過率より、 透明性を求めた。
【表 6】
Figure imgf000039_0001
表 6から明らかなように、 D/Eの比率は比較例 1及び 1 2ではそれそれ 1 1 7%及び 1 40%と低かったのに対し、 実施例 1、 6及び 1 7では 1 8 3 ~ 3 5 8 %と大きかった。 この結果、 本発明品が優れたァニオン吸着性を 示し、 インク受容層形成材料として好適であることが判った。 また比較例 8 、 1 2では透明性は良好であるが、 ァニオン吸着性が低く、 比較例 1 4では 透明性が悪い。 これに対して実施例 1、 6及び 1 7では透明性及びァニオン 吸着性に優れていた。
<比較試験 6及び評価〉
実施例 7、 8、 1 8、 1 ~ 3及び比較例 1 3〜 1 5の酸化物粉末の被覆層 の含有量及び比表面積を測定するとともに、 これらの酸化物粉末を研磨材と して用いたときの研磨速度及び被研磨材料の表面状態を測定した。 その結果 を表 3に示す。
被覆層の含有量及び比表面積は比較試験 1と同様に測定した。
また研磨速度は次のようにして測定した。 先ず研磨材を 5重量％含む水分 散液を作製し、 この水分散液に酸化剤を加えて化学的，機械的研磨用スラリ 一を調製した。 次に Rodel社製の SUBA500/SUBA I V pad stackにこのスラリー を供給してタングステンゥヱ一八を化学的機械的に研磨した。 このとき ISPE C/WESTECH472CMP工具を用い、 スラリ一流速を 1 5 0 c c Z分、 テーブル速度 を 6 0 r p m、 スピンドル速度を 6 0 r p mとした。 上記研磨を 1 0分間連 続して行い、 研磨後のゥエーハの厚さ減少量から研磨速度を算出した。
更に、 被研磨材料の表面状態の判断は目視により行い、 鏡面状であれば良 と判断し、 一部に曇りがあれば不良と判断した。
【表 7】
Figure imgf000041_0001
表 7から明らかなように、 酸化物粉末を用いた研磨材による研磨速度は比 較例 1 3及び 1 5ではそれぞれ 900及び 120 OA/分と小さかったのに 対し、 実施例 7、 18及び 1 9では 2700〜420 OA/分と大きかった 。 また研磨後の被研磨材料の表面状態は比較例 14及び 15では一部に曇り が発生していたのに対し、 実施例 7、 1 8及び 1 9では鏡面状であった。
<比較試験 7及び評価 >
実施例 20及び比較例 1 6のインクジェッ ト用印刷材に、 インクジェッ ト プリン夕 BJ F— 600 J (キャノン社製） を用いて印字し、 この印字塗膜 の割れ及び滲みを目視により観察した。
その結果、 比較例 1 6の印刷材に印字された塗膜にインクの滲みが観察さ れたけれども、 実施例 20の印刷材に印字された塗膜にインクの滲みは観察 されなかった。 なお、 比較例 1 6及び実施例 20とも印字塗膜に割れは生じ なかった。
以上述べたように、 本発明によれば、 吸着水分量が 0. 1〜50%であつ て 0. 005〜0. 5 mの平均粒径を有し表面水酸基の数が 0. 1〜2 5 モル/ m 2である第 1酸化物からなる粉末母材を流動状態に保持し、 この流 動状態に保持した粉末母材に対して不活性なキヤリァガスとともにハロゲン 化物又はアルコキシドのいずれか一方又は双方を接触させて 2 5〜8 0 0 °C に加熱することにより第 2酸化物からなる被覆層により粉末母材を被覆し、 更に上記接触により生成されたハロゲン化水素又はアルコールのいずれか一 方又は双方からなる反応副生成物を不活性ガス中で 2 0 0〜 1 0 0 0 °Cで加 熱して除去したので、 酸化物粉末の製造コス 卜を低減することができるとと もに、 粉末母材の表面に被覆層を均一に形成することができる。
また流動状態に保持した粉末母材に対して不活性なキャリアガスとともに 第 1酸化物を構成する金属若しくは半金属と同種又は異種の金属若しくは半 金属を含むハロゲン化物を接触させて 2 5〜 8 0 0 °Cに加熱することにより 第 2酸化物からなる被覆層により粉末母材を被覆した後、 上記接触により生 成されたハロゲン化水素からなる反応副生成物を大気中で 2 0 0〜 1 0 0 0 °Cで加熱して除去しても、 上記と同様の効果を奏する。 粉末母材としてシリ 力、 アルミナ又はチタニアを用い、 ハロゲン化物又はアルコキシドに含まれ る金属元素として周期律表の 3 A族、 4 A族、 5 A族、 6 A族、 7 A族、 8 族、 1 B族及び 2 B族の遷移元素、 並びに 3 B族、 4 B族及び 5 B族の典型 元素からなる群より選ばれた 1種又は 2種以上の元素を用いれば、 上記効果 を顕著に奏することができる。
また 0 . 0 0 6〜0 . 5〃mの平均粒径を有する酸化物粉末が 0 . 0 0 5 〜0 . 5 の平均粒径を有する第 1酸化物からなる粉末母材と、 粉末母材 の表面を被覆しかつ第 1酸化物と同種又は異種の第 2酸化物からなる被覆層 とを備え、 粉末母材の第 1酸化物の表面に被覆層の第 2酸化物を化学的に結 合し、 かつ粉末母材の表面を被覆層により 6 0 %以上均一に被覆すれば、 粉 末母材及び被覆層の物理的特性及び化学的特性が十分に得られる。
例えば、 上記酸化物粉末を化学的 ·機械的研磨用スラリーに研磨材として 添加した場合に、 化学的 ·機械的研磨用スラリーに高速研磨性及び鏡面研磨 性を同時に付与でき、 上記酸化物粉末をインクジエツ ト用印刷材にインク受 容層形成材料として添加した場合、 インクジエツ ト用印刷材に塗膜の割れが なく滲みのない優れた印刷効果を付与できる。 また上記酸化物粉末を電子写 真用トナーに外添剤として添加した場合に、 トナーに流動性及び帯電安定性 を同時に付与でき、 上記酸化物粉末を化粧品に紫外線吸収材として添加した 場合、 化粧品に紫外線吸収性及び光触媒活性を同時に付与でき、 上記酸化物 粉末を導電塗膜に導電性粉末として添加した場合、 導電塗膜に導電性を付与 することができる。
また酸化物粉末の粉末母材の吸着水分量が 0 . 1〜 5 0 %であり、 粉末母 材の表面水酸基の数が 0 . 1〜2 5〃モル/ m2であり、 被覆層による被覆量 が表面水酸基の数の 0 . 1〜 1 0倍であれば、 上記効果を顕著に奏すること ができる。 更に粉末母材としてシリカ、 アルミナ又はチタニアを用い、 ハロ ゲン化物又はアルコキシドに含まれる金属元素として周期律表の 3 A族、 4 A族、 5 A族、 6 A族、 7 A族、 8族、 1 B族及び 2 B族の遷移元素、 並び に 3 B族、 4 B族及び 5 B族の典型元素からなる群より選ばれた 1種又は 2 種以上の元素を用いれば、 上記効果を更に顕著に奏することができる。 産業上の利用可能性
本発明の酸化物粉末は、 研磨材、 シリカスラリー、 化学的 ·機械的研磨用 スラリー、 インク受容層形成材料、 インクジェッ ト用印刷材、 トナー用外添 剤、 紫外線吸収材、 導電性粉末等さまざまな製品に利用できる。

Claims

請求の範囲
1. 吸着水分量が 0. 1〜50%であって 0. 005〜0. 5〃mの平均 粒径を有し表面水酸基の数が 0. 1〜25〃モル/ m2であって、 金属酸化物 又は半金属酸化物のいずれか又は双方、 或いはこれらの複合酸化物又は混合 酸化物である第 1酸化物からなる粉末母材を流動状態に保持し、
前記流動状態に保持した粉末母材に対して不活性なキヤリアガスとともに 前記第 1酸化物を構成する金属若しくは半金属と同種又は異種の金属若しく は半金属を含むハロゲン化物又はアルコキシドのいずれか一方又は双方を接 触させて 25〜800°Cに加熱することにより第 2酸化物からなる被覆層に より前記粉末母材を被覆した後、
前記接触により生成されたハロゲン化水素又はアルコールのいずれか一方 又は双方からなる反応副生成物を前記不活性ガス中で 200〜 1000°Cで 加熱して除去する酸化物粉末の製造方法。
2. 吸着水分量が 0. 1〜50%であって 0. 005〜0. 5 zmの平均 粒径を有し表面水酸基の数が 0. 1〜25〃モル/ m2である第 1酸化物から なる粉末母材を流動状態に保持し、
前記流動状態に保持した粉末母材に対して不活性なキヤリアガスとともに 前記第 1酸化物を構成する金属若しくは半金属と同種又は異種の金属若しく は半金属を含むハロゲン化物を接触させて 25〜800°Cに加熱することに より第 2酸化物からなる被覆層により前記粉末母材を被覆した後、
前記接触により生成されたハロゲン化水素からなる反応副生成物を大気中 で 200〜 1000°Cで加熱して除去する酸化物粉末の製造方法。
3. 粉末母材がシリカ、 アルミナ又はチタニア、 或いは少なくともシリカ 、 アルミナ又はチタニアを含む複合酸化物又は混合酸化物である請求項 1又 は 2記載の製造方法。
4. ハロゲン化物又はアルコキシドに含まれる金属元素が周期律表の 3 A 族、 4 A族、 5A族、 6A族、 7A族、 8族、 1 B族及び 2 B族の遷移元素 、 並びに 3 B族、 4 B族及び 5 B族の典型元素からなる群より選ばれた 1種 又は 2種以上の元素である請求項 1ないし 3いずれか記載の製造方法。
5 . 流動層反応装置（11 )に粉末母材を供給し下方より整流板（24)を介して 大気を流通することにより、 吸着水分量が 0 . 1〜 5 0 %であって表面水酸 基の数が 0 . 1〜 2 5〃モル Zm2である第 1酸化物からなる粉末母材を流動 状態に保持し、
不活性なキヤリァガスを流動化用ガスとして前記キヤリァガスとともにハ ロゲン化物又はアルコキシドのいずれか一方又は双方を前記整流板（24 )を介 して流動状態に保持された粉末母材に流通することにより、 第 2酸化物から なる被覆層により前記粉末母材を被覆した後、
前記整流板（24 )を介して前記キヤリァガスを流通させることにより生成さ れた反応副生成物を除去するとともに前記被覆層で被覆した粉末母材を前記 流動層反応装置（11 )から排出する請求項 1、 3又は 4いずれか記載の製造方 法。
6 . 流動層反応装置（11 )に粉末母材を供給し下方より整流板（24)を介して 大気を流通することにより、 吸着水分量が 0 . 1〜 5 0 %であって表面水酸 基の数が 0 . 1〜2 5〃モル/ m 2である第 1酸化物からなる粉末母材を流動 状態に保持し、
不活性なキヤリアガスを流動化用ガスとして前記キヤリアガスとともにハ ロゲン化物を前記整流板（24 )を介して流動状態に保持された粉末母材に流通 することにより、 第 2酸化物からなる被覆層により前記粉末母材を被覆した 後、
前記整流板（24)を介して大気を流通させることにより生成された反応副生 成物を除去するとともに前記被覆層で被覆した粉末母材を前記流動層反応装 置（11 )から排出する請求項 2ないし 4いずれか記載の製造方法。
7 . 酸化物粉末を構成要素とする母集団を元素分析したときの元素の相対 的なばらつきが土 6 0 %以内であって、 前記母集団における 1 0 0 0個の粒 子中に 1個以上の凝集粒子が存在しない請求項 5又は 6記載の製造方法。
8 . 0 . 0 0 5〜0 . 5 / mの平均粒径を有し、 金属酸化物又は半金属酸 化物のいずれか又は双方、 或いはこれらの複合酸化物又は混合酸化物である 第 1酸化物からなる粉末母材と、 前記粉末母材の表面を被覆しかつ前記第 1 酸化物と同種又は異種の第 2酸化物からなる被覆層とを備えた 0. 006〜 0. 5 mの平均粒径を有する酸化物粉末であって、
前記粉末母材の第 1酸化物の表面に前記被覆層の第 2酸化物が化学的に結 合され、 かつ前記粉末母材の表面が前記被覆層により 60%以上均一に被覆 されていることを特徴とする酸化物粉末。
9. 粉末母材の吸着水分量が 0. 1〜50%であり、 前記粉末母材の表面 水酸基の数が 0. 1〜25〃モル/ m2であり、 被覆層による被覆量が前記表 面水酸基の数の 0. 1〜10倍である請求項 8記載の酸化物粉末。
10. 粉末母材がシリカ、 アルミナ又はチタニア、 或いは少なくともシリ 力、 アルミナ又はチタニアを含む複合酸化物又は混合酸化物である請求項 8 又は 9記載の酸化物粉末。
1 1. 被覆層の第 2酸化物に含まれる金属元素が周期律表の 3 A族、 4A 族、 5 A族、 6 A族、 7 A族、 8族、 1 B族及び 2 B族の遷移元素、 並びに 3B族、 4 B族及び 5 B族の典型元素からなる群より選ばれた 1種又は 2種 以上の元素である請求項 8ないし 10いずれか記載の酸化物粉末。
12. シランカップリング剤又はシリコーン化合物のいずれか一方又は双 方にて表面改質することにより疎水性が付与された請求項 8ないし 1 1いず れか記載の酸化物粉末。
13. シランカップリング剤が次の式 （ 1 ) で表される請求項 12記載の 酸化物粉末。
Figure imgf000046_0001
式 （1) において、 Xは水酸基、 アルコキシ基又はハロゲン原子のいずれ かであり、 Rは炭素数 1〜 18のアルキル基であり、 nは 0〜3までの整数 である。
14. シランカップリング剤が次の式 （2) で表される請求項 12記載の 酸化物粉末。
R3S i NH S i R3 …… ( 2 )
式 （2) において、 Rは炭素数 1〜 18のアルキル基である。
15. シリコーン化合物が次の式 （3) で表される請求項 12記載の酸化 物粉末。
R ' R
X - …… （ 3 )
Figure imgf000047_0001
式 （3 ) において、 R ' で表される置換基はメチル基又はェチル基のいず れかであり、 ： " はメチル基、 ェチル基又は水素原子のいずれか、 或いはこ の置換基の一部がビニル基、 フエニル基又はァミノ基のいずれかを含むアル キル基であり、 Xは水酸基、 アルコキシ基、 ハロゲン原子又はアルキル基の いずれかであり、 mは 1〜 5 0 0までの整数である。
1 6 . 粉末母材の第 1酸化物がシリ力又は少なくともシリカを含む複合酸 化物又は混合酸化物であって、 被覆層の第 2酸化物が金属元素を含む請求項 1 1記載の酸化物粉末。
1 7 . 被覆層の第 2酸化物がアルミナ、 チタニア、 ジルコニァ又はセリア である請求項 1 6記載の酸化物粉末。
1 8 . 請求項 1 7記載の酸化物粉末からなる研磨材。
1 9 . 請求項 1 8記載の研磨材を含む化学的 ·機械的研磨用スラリー。
2 0 . 粉末母材のァニオン源化合物の吸着量に対して酸化物粉末のァニォ ン源化合物の吸着量が 1 5 0 %以上である請求項 1 7記載の酸化物粉末。
2 1 . 請求項 2 0記載の酸化物粉末を含むインク受容層形成材料。
2 2 . 請求項 2 1記載のインク受容層形成材料を塗布した後乾燥して得ら れるインクジエツ ト用印刷材。
2 3 . 粉末母材の第 1酸化物がシリカであって、 被覆層の第 2酸化物がチ タニアである請求項 1 2ないし 1 5いずれか記載の酸化物粉末からなる トナ 一用外添剤。
2 4 . 粉末母材の第 1酸化物がチタニアであって、 被覆層の第 2酸化物が シリカ、 アルミナ又は酸化鉄のいずれかである請求項 8ないし 1 1いずれか 記載の酸化物粉末からなる紫外線吸収材。
2 5 . 粉末母材の第 1酸化物がシリカであって、 被覆層の第 2酸化物がチ タニア又はアンチモンド一プ酸化スズである請求項 8ないし 1 1いずれか記 載の酸化物粉末からなる導電性粉末。
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