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Description
1363039 法。舉例來說,有 Zr(HP〇4)2 . H2〇、Zr(HP〇4> . 2M)、Ti(HP〇4). Μ、Τι(ΗΡΟ〇 2 · 2H2〇、Hf(_)2 · h2〇、Sn(腦4)2 .獅(例如, 參照專利文獻1) ; M(IV) (ΗΡα)χ · nM,M(IV)係4價的金屬(例 如’參照專利文獻2)等。 其中,由於層狀磷酸鍅容易合成、性能等又優良,一直有人 提出各種製造方法’舉例來說’有專利文獻3、專利文獻4、專利 文獻5等等可供參照。層狀磷酸鍅的合成方法,可以列舉出來的 有.在水中或在含有水的狀態下將原料混合後加壓加溫而合成的 水熱法;將補在水巾混合後於常壓下加熱*合成的濕式法等。 【0004】 舉例來说’大型積體電路(Large Scale Integrated Clrcui1:;LSI)、積體電路(Integrated Circuit ;IC)、拼合 式積體電路(hybrid Integrated Circuit)、二極體(di〇de)、 及閘流體(邮咖!·)或以上這些㈣合零件,其大錄係使用 環氧類(epoxy)樹脂加以封裝。近年來需求急速擴大的軟性印刷 電路(flexible printed circuit)配線基板用的黏合劑也是使 用環氧類樹脂。像這類的電子零件封裝材料,在抑制因原材料中 的離子性雜質或外部侵入的水分造成損害的同時,還要有阻燃 性、咼黏合性、耐裂化性(anti_crack)及高體積電阻率(“曲 volume resistivity)等的電子特性等,這些各種特性—直都是 6 被要求要具備的。 做為电子特龍材料而被廣泛賴著的環氧類 /刀的環氧化合物崎,還有環氧化合物硬化劑、硬化促 2 機填充物、阻燃叫(f j A …、 ,,、、ame时ardant )、顏料、及贼偶合劑(sii㈣ coup hng agent)等所構成。 再者近年來,心著半導體的高集積化,由於積體電路晶片 上_配線寬度縮小,使得峨嫩發生,這種聽主要是因 為作為封裝材料的環氧樹脂中水分侵入而加快。又,因為配線寬 度縮小,由於使用時產生的熱很多,在該環氧樹脂中,大量調配 雜録(她職y oxide)、漠化環氧樹脂、及無機氫氧化物等阻 H ’這些阻燃劑成分又更助長纟時配線的腐钱。 遇有,在軟性印刷電路配線基板方面,因為相同的原因,銅 配線的遷移(migration)也會較早發生。 【0005】 在印刷電路輯板上職用之環氧樹虹,魏陽離子交換 體、陰離子交換體、及兩離子交換體等無機離子交換體,係吾人 已知之事(例如,參照專利文獻6)。 方族聚酿胺(aramid)纖維中含有魏翻旨或者聚笨撐 (P〇iyph_ene)環氧樹脂與離子捕捉劑的印刷電路,係吾人已 知之事。作為此離子臟劑,例示的麵子交換樹脂或無機離子 7 1363039 交換體。無機離子父換體,錄—糊物質或_物質都有文獻記 載(例如,參照專利文獻7)。 3有離子捕捉劑的絕緣清漆已為人所知,並且湘這種絕緣 清漆製作多層電路配線板。作為此種離子敝劑,可以例示的有: 活性碳、滞石(福ite)、娃凝膠(siHca㈣、活性氧化铭 (activated alumina)、活性白土 _)、五氧化
録水合物⑽醜y pentoxide咖則、雜錯、及水滑石 (hydrotalcite)(例如,參照專利文獻8)。 多層配線板用的黏合劑中調配有無機離子吸附體的物質也是 為人熟知,作為此種無機離子吸附劑,可以例示的有:活性碳、 》弗石、石圭凝勝、活性氧化钱、、壬祕a丄 乳化is、祕白土、五氧化銻水合物、鱗酸 錯、及水滑石(例如’參照專利文獻9)。 2料敝劑(1Gn trap agent) _倾難合劑也是 ‘.、、人戶α作為此種離子捕捉劑,可以例示的有陰 陽=交換體(例如,參照專利文獻10)。 奐體或 ㈣離子触親樣料料紐魏樹脂漿糊, 做為把獅子捕捉劑,例示的有硝_水 化録等(例如,參照專利文獻。 缝〜石、乳 [0006] 【專利文獻1】特開平Q3—l5隨號公報 8 1363039 ⑹係:更進而含有無機陰離子交換體的前述5所 裝用樹脂組成物; 稱電子零件封 〈7〉係·· 的==_裝_組成物硬, 將器 <9>
係: (V 含有前述1〜4之任一項所 arnish)、黏合劑、或漿糊; 稱層狀磷酸鍅的清漆 〈1〇> 更進而含有無機陰離子交換體的前述9所稱的清漆 (rush)、黏合劑、或製糊; 〈U> 係: 含有前述9或1〇所稱的清漆、 黏合劑、或漿糊的製品 【赘明的成果】 於挪辦,在f溫紐也可以,紐陳錄快,在赃以 ^、式吊壓進行是合於理想的,比常餘高的壓力環境下超過 的條件被稱為水熱餅,但是在崎打進行合成也是可以 ,。用水熱條件何成本發明層狀碟酸錯的時候,在靴以下的合 成方法,《製造成本面來看,是較合於理想的。 【0016】 料的本發明層狀雜錯的時間,只要是能齡成該層狀鱗酸 、。’寸曰’怎麼樣的時間都可以。舉例來說,填酸和/或其鹽類與 使其生成罐後,藉由使其陳化,可以得到層狀填 H她咖’⑽化溫度不同而不同,例如,在耽的陳 化’ 4怖X上較合於理想,,即使進行陳化%小時以上, 層狀雜鍅的含有率有達到頂點的傾向。 [0017] 再過濾'分離,仔細水洗後,乾燥、粉 磷酸鍅。 合成後的層狀磷酸錯, 碎,得到白色微粒子的層狀 [0018] 作縣發明層狀碟酸錯的合成原料,可以使用的錯化入物 有.桃錯、醋_、俩锆、碳_、祕硫酸錯、氣代硫酸 1363039 錯(Zirconium oxysulfate octahydrate)、及氧代氣化梦 (Zirconiumoxychlorideoctahydrate)等等作為例示,碗酸鍅、 醋酸锆、硫酸锆、碳酸锆、鹼性硫酸锆、氧代硫酸錯、及氧代氯 化锆都合於理想,若考慮反應性和經濟性,較理想的是氧代氯化 鍅。 [0019] 可以作為本發明層狀_罐的合成频來使㈣磷酸或鱗酸 鹽,有磷酸、磷酸鈉、磷酸鉀、及磷酸銨等作為例示,磷酸較合 於理想,更理想的是75%〜85%程度的高濃度磷酸。 可以作為本發明層狀磷酸鍅的合成原料來使用的草酸化合 物,有草酸二水合物、草酸銨、及草酸氫錢等作為例示,較合於 理想的是草酸二水合物。 [0020] 本發明層狀磷酸鍅的各種合成原料的調配比例敘明於下 磷酸或磷酸鹽的調配比例,相對於鍅化合物使用的莫耳比 例’係2以上,較合於理想的是2. Q5以上,更合於理想的是2.丄 以上。碟酸或碌酸鹽的調配比例,相對於錯化合物即使超過甚多, 也疋可以的’但是若考慮上層澄清部分的導電度,前述莫耳比例 係3以下,2. 9以下較合於理想’ 2. 6以下更合於理想。若是在前 15 1363039 述之範圍,可以製造本發明層狀磷酸錯而合於理想。 【0021】 本發明層狀磷酸錯合成時的草酸的調配比例,相對於鈣化合 ' 物使用的莫耳比例,係2.5〜3.5,更理想的是2. 7〜32,'又°更^ -想的是2. 8〜3. G。於本發财’若是此比例,财易合成本發明 層狀鱗^酸錯而合於理想。 [0022] 本發明層㈣酸鍅合成時的反應生料(slurry)中的固形物 濃度’最好是3 %重量比以上,考慮經濟性等效率的話,則⑽〜 15%是較合於理想的。本發明中。若是此種濃度 °、 發明層狀填酸結而符合理想。 4易3成本 [0023] 有下列所記物質。 本發明層狀碟酸錯的理想具體實例, Zr ΙΪ2’()3 (Ρ〇4)2.〇ι · 〇. Q5 H2〇
Zr H2.05 (P〇4)2.02 · 〇_ Q5 J|2Q
Zr Hu2 (PO4)2。4 · 0. 05 h2〇 Zr H2.24 (P〇4)2。8 · 〇. Q5 h2〇 Ζγ H2.24 (P〇4)2.。8 . 〇. 05 h2〇 1363039
Zr〇.99 Hfo.oi H2.03 (P〇4)2.〇1 · 0. 05 H2O Zro.99 Hfo.oi H2.06 (P〇4)2.〇2 . 0. 05 H2O Zro.99 Hfo.oi H2.12 (P〇4)2.〇4 · 0. 05 H2O Zro.99 Hfo.oi H2.24 (P〇4)2.〇8 · 0. 05 H2O • Zro.99 Hf〇 02 H2.03 (P〇4)2.〇i · 0.05 H2O
- Zr〇.99 Hf〇.02 H2.05 (P〇4)2.02 · 0. 05 H2O
Zr〇.98 Hfo.02H2.i2 (P〇4)2.04 . 0. 05 H2O 鲁 Zr〇.98 Hf〇.〇2 H2.24 (P〇4)2.08 · 0. 05 H2O
Zro.97 Hf〇.〇3 H2.03 (P〇4)2.〇i · 0,05 H2O Zr〇.94 Hf〇.〇5 H2.03 (P〇4)2.01 ♦ 0.05 H2O Zr〇.9 Hfo.i H2.03 (P〇4)2.〇i · 0.05 H2O 【0024】 ※中間值直徑 • 本發明相關中間值直徑(medium diameter),係將層狀碟酸 錯分散於水中’用雷射繞射式粒控分佈測定裝置(laser diffraction measurement device for granularity)加以測定 所得者。 本發明相關層狀磷酸锆的中間值直徑,係〇 〇5〜5微米 (#m),0. 2〜2. 0微米較合於理想,〇· 3〜5微米則更合於理想。 又,考慮到加工性的話,不光只是平均粒子直徑,最大粒子直徑 17 1363039 及分散度也缝要,最她子麵在1G财町時,因為可 有效發揮效果而合於理想。 [0025] - ※離子交換容量 ' ^發軸社軒錢容量( exehange$ 使用氫氧化納水溶液測定的結果。此測定方法的進行,们公克 •的檢體與〇.1莫耳/公升濃度的氫氧化鈉水溶液50毫升放入|〇〇 毫升的聚乙烯(_他細)製的瓶中,在4Gt振搖20小時, 然後,將上層澄清液_離付度㈣_合賴原子發射光譜 儀(inductively C〇_d Plasma ; ICP)測定。另外,不放入二 體進行相同的作業所測得的納離子濃度作為空白值⑻触),: 出離子交換容量。 # 本發明層狀鱗酸錯的離子交換容量,係3, 〇毫當量/公声 I 以上,4· G毫當量/公克以上聰為理想,更理想的是 5. 〇宅當量/公克以上、8毫當量/公克以下。 【0 0 2 6】 ※離子交換率 本發明相關的離子交換率,係使用中性的氯化納水溶液來測 定而得。其測定方法,係藉由將】公克的檢體與〇· 〇5莫耳/公升 18 濃度的氣化鈉水溶液5G毫升放入刚毫升的聚乙稀製的瓶中,在 、搖20 j時然後’將上層澄清液的納離子濃度用感應輕合 電毁原子發射光譜儀㈤咖vely⑽丨抓麵;icp)測定。 另外不放人缝進彳了相同的作業所曝的_子濃度作為空白 值(blank),算出離子交換率。亦即,上層澄清液中的納離子全 雜附於陰軒讀體肖失的情形,躲子交換率為職。 本發明層狀魏錯的離子交換率,係5_上,娜以上較 理想,更理想的是60%以上。 [0027] ※導電度 .本發明上層料_導電度,係將去料水加續體中 加以攪拌’測定此上層澄清液的導電度。該浙方法,係藉由將 〇. 5公克的檢體與去離子水5〇毫升放入⑽紐的聚兩烯 (P〇lyPr〇Pylene)製的瓶中,在饿保持20小時,然後測定此 上層澄清液的導電度。 本發明層狀魏鉛相關上層澄清液的導電度,係在2〇〇微西 門/公分US/Cm)以下,HG/zS/on以下則更為理想,l4(^s/cm 以下、30#S/cm以上則再更為理想。 [0 0 2 8] 19 1363039 ※阿爾發射線量 本發明相關之阿爾發(α)射線,係使用低能級阿爾發射線 (low ievel α ray)测定裝置測定檢體時得到的值。 . 柄明相關之層狀磷酸錯的α射線量,以G. 15庫倫/平方公 刀J日守(C/cm . Η)為理想,〇. u庫倫/平方公分小時以下更 -為理想’ 0. 08庫倫/平方公分.小時以下又更為理想,係5毫庫倫 /乎方A 7? /J、時以上。本發明相關之α射線量太高的話,會成為 • 電子零件的錯誤動作的原因。 牛例來说I發明層狀磷g幡,係陰離子交換容量為0當 - 里克上層〆且7月)夜電導度為2〇〇微西門/公分以下、α射線量 為0. 15庫倫/平方公分.小時以下的離子交換體。 【0029】 本备明層狀俩錯,因為係粉末,可以就這樣使用,也可以 加工使用。舉例來說,可以做成懸濁狀態、粒狀體、抄紙體、丸 (P llet)片狀(sheet)、膜狀(film )等的成形體;喷霧、 多孔質體、纖維體_態。還有,也可以用在塗料、不織布、發 泡板、紙、轉、無機質板等的加工上。 【〇〇3〇】 本毛月層狀確酸鍅,具有卓越的離子交換性能、耐高溫性、 20 1363039 抗化學藥品性、放射線耐受性(radiGtQleranGe)等,可以應用 在水處理狀金;I敝劑、電子材料狀離子敝劑、放射性廢 棄物之_化、固體電解質、氣體吸附.分離劑、除臭劑、變色 抑制劑、防鏽劑、催化劑、層間插入擔載體(此⑽⑽恤 supporter)、及抗菌原料等’也可以應用在譬如物理·化學性安 定的白色微粒子所做成之顏料、結塊防止劑(如仙1〇如縛⑹ 等方面。 【0031】 ※電子零件封裝用樹脂組成物 調配本發__祕的電子零件封伽樹驗成物中所使 用的樹脂,可以是_脂(phenQl resin)、尿素樹脂(咖 resin)、黑素樹脂(melanin resin)、不飽和聚酯樹脂、和環氧 樹脂(印oxy resin)等熱硬化性樹脂,也可以是聚乙稀、聚笨乙 稀(poimy)、氯化乙稀(vinyl chloride)、及聚丙稀等熱 可塑性樹脂’較理想的是熱硬化性樹脂。作為本發明電子零件封 裝用樹脂組成物帽使用的樹脂,⑽脂或環氧劑旨較合於理 想,特別理想的是環氧樹脂。 、 【0032】 .※電子零件封裝用環氧樹脂組成物 21 U63039 *本4明所用之環氧樹脂,可以無限定地使用現在已被使用的 二付件封裝用樹脂,舉例來說,若是—個分子中有2個以上的 氧土可以硬化者,不必制規定種類,齡祕清漆型 n〇V〇laC type)環氧樹脂、雙齡 A (bisphenol A)型 产仏&盼F型&氧樹脂、脂環式環氧樹脂等,作為成形材 ^ ’可以使用其中任何一者。又,為了提高本發明組成物的对濕 作為環氧樹脂,最好是制氯化物離子含量1_以下、水 解性氯含量1000以下的物質。 【0033】 本發明中’電子零件封裝用環氧樹驗成物 硬化助劑是㈣理想的。 ^ 本發明所用硬化劑’可以使用已知的環氧樹脂組成物的硬化
、7纟lx理想的具體貫例有:酸酐、胺類硬化劑及麟 >月漆類硬化劑等。 本發觸时化_,可歧用已㈣魏樹驗成物的硬 助劑的任何-者,較理想的具體實例有:胺類、麟類、及料 (imidazole)類的助劑。 【0034】 關於本發明電子零件封制樹脂組成物,為因應需要,作為 22 1363039 D周配為成_樹脂的成分而為人已知者,也可以娜使用。作為 匕種成分’有無機填充物、阻燃劑、無機填充物用的偶合劑、著 色劑、及脫模(—ding)劑等可以作為例示。這些成分,係 為-周配為任-成形用環氧樹脂的成分而為人已知。無機填充物 的理想具體實例,可列舉的有結晶佩石粉(siliea)、石英玻璃 粝、熔融硅石粉、氧化鋁粉(alumina)和滑石(talc)等,其中 結晶性硅石粉、石英玻璃粉和熔融硅石粉,由於價格便宜而較合 於理想。阻燃劑的實例,可列舉的有氧化銻、齒化環氧樹脂、氫 氧化鎂、氫氧化鋁、紅磷類化合物、磷酸酯類化合物。作為偶合 背J的貫例,有硅院類(suane)和鈦類(y如以⑽)。脫模劑的實 例’有脂族石蠟(paraffin;)、高級脂族醇類等的蠟。 【0 0 3 5】 前述成份以外,也可以調配反應性稀釋劑、溶劑或觸變性 (thixotropy)賦與劑。具體來說,作為反應性稀釋劑,有丁基 苯基鈿水甘油醚(butyiphenyi glycidyl ether);作為溶劑,有 曱基乙基酮(methyiethylket〇ne);作為觸變性賦與劑,有機變 性膨潤土(bentonite)可以例示。 【0 0 3 6】 本發明層狀磷酸錯的理想調配比例,相對於電子零件封妒用 23 樹脂組成物1GQ份質量,制· HO份質量,更理想的是卜5份 質量。〇· 1份質量以上,可以明確奴陰離子除去性和耐鮮續 性,另-方面,即使超過10份質量,其效果也是到頂了。、 [0037] 藉由將本發明層狀磷酸錯和無機陰離子交換體併用,使 明層狀魏__子捕捉力增加,而且可以職有陰離子性離 子的捕捉效果。無機陰離子交換體,係無额、係具有陰離 換性的物質。 本發明層㈣和無機陰離子交換體的調配 :制:量比為⑽:。〜2"。為理想。本發明層= =和=機陰離子交換體的調配,製作電子零件封裝用樹脂組成 =:::將這些分別調配來進行,或者將這些預先均勾混合而 物一次調配來進行,都是可以的。理想的調配方法, 其充分發揮出來。_ 乍法、些成分併用的效果可以使 【0 0 3 8】 無機陰離子交換體的具體實 人铷》甘w以· 、〗尺,月石(hydrotalcite)化 口物及其煅燒物,含氫氧化鉍、 入 马巩化硝酸鉍、含氫氧化鍅、含 虱乳化鎂、及含氫氧化鋁較為理想。 24 1363039 【〇〇3 9】 本發明電子零件封裝用樹脂組成物,藉由將前述原料用一俨 已知的方法加以混合,就可以容易地得到,舉例來說,適當調配 如述各原料,將調配物放入混煉機中,在加溫狀態下混煉σ、 半硬化狀的樹脂組成物,放在室溫中冷卻,藉由一般已知的方、 粉碎之,可以因應需要做成錠劑來使用。 【0040】 本發明層狀磷酸鍅,可以使用在電子零件或電器零件的封 裝、包覆、及絕緣等各種用途上。 還有,氯化乙稀等的樹脂安定劑、防鑛劑等,也可以使用本 發明層狀磷酸锆。 【0 0 4 1】 • 調配有本發明層狀碟酸锆的在電子零件封裝用樹脂組成物, 可以使用在導線架(lead frame)、配線完成的捲帶式基版(t聊 carrier)、電路基板(circuit b〇ard)、玻璃、石夕晶圓(snica〇n wafer )等的支持構材;半導體晶片(chip)、電晶體(trans丨)、 二極體(diode)、閘流器(thyrist〇r)等的主動元件;電容器 (condenser)、電阻器、線圈(c〇ll)等的被動元件等器件的擔 載之物上。又,印刷電路板上也可以有效地使用本發明之電子零 25 1363039 件封裝用樹驗絲。舰有本發明層_祕的電子零 用環氧樹脂喊物也囉地可以制。 " 使用本發批電子树封朗繼喊物或電子零件封 =樹脂組成物器件的方法,低壓移轉(transfer)成料 是最4用#但疋也可以採用射出(如心加)成形法、壓縮成 • 【0042】 *電路基板的應用方面 使用環氧樹脂等熱硬錄樹驗成印刷電路基板,係樹脂上 黏〇銅>1等’再作侧(etching)加工等來製造電路(ci咖⑴, 做成電路基板。但是近年來,因為電路的高密度化、電路的積層 化及絕緣層的薄獏化f,腐餘和絕緣不良變成了問題。製造電^ 基板時,藉由添加本發明之層狀磷酸锆,可以防止此種腐蝕。又, 鲁%路基板用的絕緣層中’也藉由添加本發明之層狀咖变錯,可以 防止電路基板__。由於如此卵,含有本發明之層狀麟酸 錯的電路基板,能夠壓_料引起的不良品發生縣。此電路 基板或電路基板用的絕緣層中的樹脂固形物100份質量,添加相 對為0. 1〜5份質量比的本發明之層狀鱗酸錯是合於理想的。此 處,含有無機陰離子交換體也是可以的。 26 ^363039 【Ο 〇 4 3】 *點合劑的調配方面 此時戶基板域_合劑,將電子零解實際組裝, 餘等弓丨起料Γ1 ’11由添加本剌,可以壓制腐 量⑷見象。此黏合劑中的樹脂固形謂份質 邦的:此_ 5料量比的本發明之層_祕是合於理 "的此處’含有域_子交觀也是可叫。 (c〇!路基板上連接電子零件或做成電路時所使用的導電性 厂: 二良品發生現象。作為此導電性黏合劑,可以 形物;! 梅靖的樹脂固 =_ “里’添加相對為G.卜5份質量比的本發明 4喊,含有無機陰離子賴體也是可以的。 100441 氺清漆的調配方面 二吏用含有本糾之她_的清漆(哪 電氣製品、印刷電路板、或電子零件等。作為_ == 禾的如環__硬倾分之對= 脂固形物⑽份質量,添加〇」〜 相對於此種樹 县入於採相沾,. 貝里的本發明之層狀磷 疋°於理想的。此處,含有無機陰離子交換體也是可以的。 27 1363039 以下’藉由實施例說明本發明,但是本發明並未侷限於此處 所稱之物。又,%係指質量%、部份係指質量部份。 【實施例1】 【0048】 氧代氣化錯 8 水合物(Zirconiumoxychloride octahydrate) 0. /72莫耳溶解於去離子水(dei〇nized船拢^) 85〇毫升中,然 後再/谷解草酸2水合物(oxalic acid dihydrate) 788莫耳。 -邊授拌此溶液’-邊加人雜Q· 57莫耳,將溶_拌回流8小 時。冷卻後’將所得到之沉職用水仔細洗淨後,經由i()5〇c乾燥, 得到磷祕。就所__麟加以測定的結果,確認係層狀的 石粦酸錯。
此層狀姐_組成化學式_定,麵加雜的氣氣酸 中=層_酸結煮彿溶解,用感應搞合電聚原子發射光蘭㈣ 測里计异出來。其結果,組成化學式係:
Zr H2.03 (P〇4)2.01 . 05 j|2〇 又,層狀顧㈣中餘(雷織射式粒徑分佈測 堀場製LA.)測定的結果,係M4微米。 【實施例2】 [0049] 29 1363039 氧代虱化錯δ水合物〇 _,然後再·於絰曾缺 .2莫耳溶解於去離子水850毫升 …、,合解草自文2水合物〇 苗瓦 * 邊加入磷酸G. 6G莫耳,將、^788 4耳。,拌此溶液’— 到之沉r物用_… _回流8小時。冷卻後,將所得 r到的㈤洗錢’經由職乾燥,得到磷酸錯。就所 付_桃紛咖収的結果,顧係練_酸錯。 與實施例1 _,測定此層狀她_成 組成化學式係: 寸知見
Zr H2.06 (P〇4)2.〇2 · 〇. 05 H2O 中間值直徑係〇. 96微米。 【實施例3】 【0050】 氧代氯化鍅8水合物〇. 272莫耳溶解於去離子水85〇毫升 中,然後再溶解草酸2水合物0. 788莫耳。一邊攪拌此溶液,一 邊加入磷酸〇· 70莫耳,將溶液攪拌回流8小時。冷卻後,將所得 到之沉澱物用水仔細洗淨後,經由1〇5。(:乾燥,得到磷酸锆.。就所 得到的磷酸鍅加以測定的結果,確認係層狀的磷酸錯。 與實施例1相同,測定此層狀填酸錯的組成化學式等,發現 組成化學式係:
Zr H2.12 (Ρ〇4)2.〇4 · 〇. 05 H2O 中間值直徑係〇· 93微米。 30 【實施例4】 [0051] 含有〇. 18%銓的氧代氯化鍅8水 +皮趴η真4^物0. 272莫耳溶解於去離 子Jc 850笔升中,然後再溶解草 她士 ·—v . z水合物0.788莫耳。一邊攪 卻後,將所得到之沉難用水仔細洗^液_流8小時。冷 輕錯。就所得到的顧錯加以測定二『由_乾燥,得到 鉛。 ⑼錢,確認係層狀的構酸 與實施例1 _,測定此層_ 組成化學式係: π、、見风化子式荨,發現
Zr 0.99 中間值直徑係1. 〇微米
13 (P〇4)2_〇l . 0. 05 H2O 實施例5】 0 0 5 21 3有0. 18%給的氧代氯化錯8水 ★ 子水850毫料,缝雜解轉2 = G. 272料溶解於去離 拌此溶液,—邊加人魏G. 6G莫耳,/物G. 788莫耳。一邊擾 卻後,將所得狀峨__ f _拌咖小時。冷 麟酸錯。就所得到__加以/,由應C乾燥,得到 锆。 9結果,確認係層狀的磷酸 1363039 與實施例1相同,測定此層狀磷酸鍅的組成化學式等,發現 組成化學式係:
Zr〇.99 Hfo.o, H2.O6 (P〇4)2.02 · 0. 05 H2O 中間值直徑係0.95微米。 【實施例6】 [0 0 5 3] 含有0. 54%給的氧代氯化錯8水合物〇. 272莫耳溶解於去離 子水8SG毫升t ’然後再溶解草酸2水合物G·观莫耳。一邊授 拌此溶液’―邊加人魏G. 57料,將溶液獅回流8小時。冷 ^靖,謂7財仔細洗淨後,經由跳乾燥,得到 …摘_的铜論加以測定的結果,確認係層狀的猶 學式等,發現 組成
Zr〇·^ Hfo.03 H,〇3(P〇4)2〇1 . 0 Π, Hn 中間值直㈣0>95H h 〇.〇5H2〇 [0 0 5 4 氣代氣化锆8 <比較例1> °物〇. 272冑耳溶解於去離子水850毫升 32 中,然後再溶解草酸2水合 邊加入磷酸〇. 544莫耳,將、〜、· 788莫耳。一邊攪拌此溶液,一 得到之沉m_水仔細洗、回流8小時。冷卻後’將所 所得到的磷酸結加以測定,I,_ W5°c乾燥,得到猶錯。就 與實施例1相同,測〜結果’確認係層狀的磷酸錄。 組成化學式係: 、又此層狀磷酸錯的組成化學式等,發現
Zr H2 (P〇〇2 . 〇 〇5 Η2〇 中間值直徑係1.0微米。 [0055] ^ , <比較例2> 軋代氣化锆8水合从η。 中,然後再溶解草醆^ 272莫猶於去離子糊毫升 邊加入碟酸〇 5莫耳°物G. 788莫耳。—邊攪拌此溶液,-到之沉_水仔細洗拌回流8小時。冷卻後,將所得 得到的,經由1Q5°C乾燥,得到顧錯。就所 兔每 的、果’確認係層狀的碟酸鍅。 組献學tr同’㈣此綠魏—學式等,發現 中間值直徑係U微米^叫99.0.05ΗΛ . 33 1363039 〇 5 6] 卜' 〈比較例3> 乳代氯化糾水合物G 272 令,然後再溶解草酸2水合物〇 %解於去離子水腳毫升 邊加入_. δ5莫耳,將溶液邮。1祕此溶液’一 到之沉殿物用水仔細洗淨後,經由崎冷卻後,將所得 Φ 得到的磷酸錯加簡定的A m __錯。就所 盥4川r 果確認係層狀的鱗酸錯。 組成化學式係··目q ’心此層狀伽錯的組成化學式等,發現 中間值直徑係1.0微米。
Zr H2.36 (P〇4)2.12 . q 〇5 Hz〇 【實施例7】 【0057】 3有1. 2織的氧代氣餘8水合物Q.撕料溶解於去離子 水_毫料’然後再溶解輕2水合㈣.观莫耳。—邊製 此溶液’-邊加人顧〇. 57料,將溶賴拌喊8小時。冷卻 後,將所得到之沉殿物用水仔細洗淨後,經由航乾燥,得到碟 酸錯。就所得到_酸結加以測定的結果,_系層狀的碟酸錯。 與實施例1相同,測定此層狀餐錯的組成化學式等,發現 組成化學式係: " 34 1363039
Zr〇.94 Hf〇.〇6 H2.03 (P〇4)2.01 · 〇. 〇5 H2O 中間值直徑係1.0微米。 【實施例8】 * 【0058】 含有2. 〇%給的氧代氣化鍅8水合物〇. 272莫耳溶解於去離子 φ 水850笔升中,然後再溶解草酸2水合物0.788莫耳。一邊攪拌 此溶液邊加入磷酸〇. 57莫耳,將溶液授拌回流8小時。^卻 ^將所钎到之沉殿物用水仔細洗淨後,經由)肌乾燥,得到碟 一 賴的魏錯加明定的結果,確認係層狀的璘酸錯。 例1相同’測定此層狀彻祕的組成化 組成化學式係: 今^現
2^0.9 Hfo.1 H2.03 (P〇4)2.0, · 0.05 H2O 中間值直徑係1.0微米。 【0059】 * :丁父換容量之測定> 例1所得到= 狀升Γ度的氫氧化鈉水溶液5G毫升中,加入實施 ^ H # L 〇公克,在40°C_20小時 液過濾分離,藉由測出濾液 = 子父換容量。訾姽 J n未侍離 ’j〜8及比較例1〜5所得到之層狀磷酸锆, 35 1363039 也做相同之測試,求出離子交換容量。 其結果呈現於附表—。 【0060】 <離子交換率之測定〉 蛛公升濃度的氣化财溶液%亳料,加入實施例 機,⑽咖何。經此試驗 交換率’稭由測出濾液中的鈉㈤濃度,求得離子 相门胃_ 2〜8及比較例1〜5所得到之層狀磷酸錯,也做 相同之測4,求出離子交換容量。 其結果呈現於附表一。 【〇〇61】 料水5Q毫升中,加人實施例1所得到之層狀魏鉛0 5 :’在阶加熱處理2M、時。經此試驗後的溶液過渡分離,藉 =出上層澄清液中的導電度而求得。實補2〜8及比較例1 斤传到之層㈣赌,也做相同之測試,求出上層澄清液導電户。 其結果呈現於附表一。 36 【0062】 1363039 〈阿爾發射線量之測定〉 實施例1所得到之層_酸 J丨J爾發()射線量,用低 能級阿爾發射線取裝置⑷卜八“ 每…9 δ a 化刀析中心製造LACS-4000M)測定 之。實施例2〜8及比較例丨〜^ 斤侍到之層狀磷酸鍅,也做相同 之測試,測定阿爾發射線量。 其結果呈現於附表一。 [0 0 6 3] 【附表一】 離子交換容量 (meq/g) ,—--- 内田丁乂于英罕 上層澄清液導電度 阿爾發射線量 (C/cm2 . Η) 貫施例1 6.7 65% V β bicm) ~77^--— _ϊ施佞!J 2 6.8 72% 0.03 實施例3 — 6.9 78% -— 0.03 實施例4 6.7 70% 120 w;--- 0.03 !施例5 6.8 78% -_ 100__ 0.05 實施例6 6.7 Q〇07^ 0.05 實施例7 ------ 6.7 0^1 /〇 83% Too 0.07 例 8 6.7 84% 100 ------- 0.16 例1 6.7 * 45% 100 —- . 0.3 _^劈例2 6.5 35% 100 0.03 7.1 80 0.03 ~~~~---------1 300 0.03 【0 0 6 4】 士同附表月確顯示,本發明之新規層狀碟酸錄,與一般的 層狀磷酸锆比較起來,離子交換性非常優良。 比較例的層狀魏結,有離子交換性低劣(比較例1及2); 37 1363039 也有離子交換性即使優良,因為 層/丑/月液導電度很高(比*~, 3),都無法應用在電子材料用途方面。 匕較例 因此’本㈣之峨層㈣雜,可以翻在_ 料領域相關的寬廣用途上。 电千材 【實施例9】 【0065】 相對於使用在軟性印刷電路板用的覆蓋膜⑹㈣耶)的戸 氧黏合劑⑽部份,娜實施例丨所合成的層狀磷赌2部份长 得到黏合劑。將此黏合劑塗佈在聚酿亞胺(pQlyimide)膜上形成 中間硬化(B stage),做成軟性電路板用的覆蓋膜。 此外’將基底膜(base film)上使用聚醯亞胺樹脂的軟性電 路板用銅張積層板準備完成,前賴蓋縣合在銅張積層板上, 用加熱緊壓法使其黏合,得到軟性板丨(flexible bQard 【實施例10】 【0066】 實施例1的層狀磷酸锆,用實施例2的層狀磷酸鍅取代,其 他均與製作軟性板丨一樣的操作,製作軟性板2。 【實施例11】 38 【0067】 丄 他例j的層㈣酸锆’用實施例3的層狀磷酸錯取代,1 他均與製作紐板丨-樣的操作,製作軟性板3。 、 【實施例12】 【0068】 貫施例1的層狀磷酸锆,用實施例4的層狀磷酸,盆 他均與製作軟性板卜樣的操作,製作軟性板4。 - 【貫施例13】 【0069】 貝把例1的層狀镇鍅,用實施例5的層狀磷酸棘代,其 他均與製作雛板1 -樣的操作,製作軟性板5。 【實施例14】 【0070】 貝如例1的層輯酸锆,用實施例6的層狀魏棘代,其 他均與製作軟性板1 -樣的操作,製作軟性板6。 八 【實施例15】 [0071] 39 1363039 貝施例1的層狀俩結,用實施例丨的層狀填酸錯與 離子交換體咖)2,。·叫和丨雜㈣侧來取代,: 他均與製作軟性板卜_操作,製作難板7。 、 【實施例16】 [0072] 實施例1的層狀俩鍅,用實施例2的層㈣酸齡 離子交換體Bi(〇H)2 65(NCM 1 、… .〔〇3)。.35以1和1部份的質量併用來取農 他均與製作軟性板1 —揭沾4。 樣的刼作,製作軟性板8。 【實施例17】 [0 0 7 3] J的層狀&酸锆,用實施例3的層狀石粦酸鍅與無機择
離子交換體 Β“〇[ΐ;)265(:ΐνΓη. 、' " _ 65⑽3)D.35以1和1部份的質量併用來取代,j 他均與製作軟性板1 —樣的操作,製作軟性板9。 【0 0 7 4] <比較例4> 實知例1的層狀魏鍅’耻較例1的層狀魏錯取代 他均與製作魏板丨—樣的操作,製作味軟性板卜 【0075】 【0075】1363039 〈比較例5> 實施例1的層狀碟酸鍅,用比較例2的層狀鱗酸懿取代,其 他均與製作紐板1 -樣的操作,製作比較軟性板2。 [0076] <比較例6> 實施例1的層狀魏錯,用比較例3的層狀雜錯取代,其 他均與製作軟性板1 -樣的操作,製作比較軟性板3。 [0077] <比較例7> 除了不使用層_酸錯以外,其他均與製作軟性板丨一樣的 操作,製作比較軟性板4。也就是,比較軟性板4係不含有離子交 換體的。 [0 0 7 8] <從樹脂摻混物的離子萃取試驗〉 3公克的軟性板1與30毫升離子交換水放入聚四氟乙稀 (poly-tetrafl_ethylene)製的耐塵容器中密閉起來,在奶 °C加熱謂小時。冷卻後,取出水,用感_合賴原子發射光 41 ^〇J039 ^ o^iCP^ ° 二娜疋上層澄清液的導電度,其結果也顯示於附表二。 幸人性板2〜9、比較軟性板1 示於附表二。 也做相同的武驗,其結果顯 【0〇79 【附表,
如同附表二明確顯示 【〇 〇 8 〇】 本發明之新規層狀磷酸 層狀_斷味麵,樹 ,與一般的 優良。 _伟_子的敝能力非常 比較例的層狀_酸錯,其# 子捕捉能力低劣,即使離子捕捉 42 1^63039 =面由於上層澄清液的導電度很高’無法應用在電子材料 ,因此私明之新規層狀碟酸錯,特別地在電子材料領域, 有廣範圍用途使用的可能性。 【產業方面的使用可能性】 【0081】
鮮讀規層狀磷_,比現杨_祕具有更優良的 ;、丨/此本發明之魏層㈣祕,在廣範圍上信賴 :的電子令件、或電器零件的封裝、覆蓋、及絕緣等各種用途 躺。再者,本恢錄健,也抗 滅劑原料、除臭劑、變色抑制劑、防鏽劑等方面。
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Claims (1)
1363039 101/2/7修正本 月7曰菘(更替換頁 十、申請專利範圍: 1 · 一種如化學式〔1〕所示之層狀構酸鉛化合物, Z r 1-xH f xHa ( P 〇4) b · nH2〇 〔 1〕 其中’ a、及b係符合3b_a=4的正數,b係2<b$2.3,x係 〇‘x<1的正數,n係0$n^2的正數。 2 .如申請專利範圍第1項所述之層狀磷酸锆化合物,其係以下 列化學式〔2〕所示, Ζ Γ Ha ( P〇4) b . nH2〇 〔 2〕 其中’ a、及b係符合3b-a=4的正數,b係2<bS2. 3,n 係0Sn$2的正數。 3 .如申請專利範圍第1項所述之層狀麟酸錯化合物,其中前述 化學式〔1〕中,X係0<χ別2。 4·如申請專利範圍第i項至第3項中任—項所述之層狀鱗酸錯 化合物’係藉由濕式常壓合成法所合成。 5 · -種電子零件封裝麟脂組成物,其含有申請專利範圍第工 項至第4項中任一項所述之層狀碟酸錯化合物。 44 1363039 .如申凊專利範圍第5項所成物, 更進一步含有無機陰離子交換體。 其 7 .如申請專利範圍第5項或第6項所述之電子零件封裝用樹脂紐 成物,係使其硬化後形成之電子零件封裝用樹脂。 8:,圍第5項或第6項所述之電子零件封裝用樹㈣ 成物,/、可以將器件封裝形成電子零件。 y範圍第1項至第 9 . 一種有漆、黏合劑、或馳,其含有申請專# 4項中任—酬述之層__化合物。 :體 u_二 範圍第9項或第1〇一^^ 45
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KR20150040977A (ko) * | 2012-08-06 | 2015-04-15 | 도아고세이가부시키가이샤 | 필러 및 유리 조성물, 그리고 육방정 인산염의 제조 방법 |
JP2014150246A (ja) * | 2013-01-08 | 2014-08-21 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 太陽電池用封止シート |
CN103072965B (zh) * | 2013-01-28 | 2014-05-28 | 太原理工大学 | 一种磷酸铜锆材料的制备及应用方法 |
JP6052428B2 (ja) * | 2013-11-20 | 2016-12-27 | 東亞合成株式会社 | フィラー及びガラス組成物、並びに六方晶リン酸塩系化合物の製造方法 |
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CN105386150A (zh) * | 2015-11-30 | 2016-03-09 | 东华大学 | 一种PET-有机插层α-ZrP复合纤维材料的制备方法 |
CN108780914B (zh) * | 2016-02-25 | 2022-03-08 | 旭化成株式会社 | 非水电解质电池用无机颗粒和非水电解质电池 |
WO2017212724A1 (ja) | 2016-06-08 | 2017-12-14 | 東亞合成株式会社 | 消臭剤分散液、消臭剤含有加工液、及び消臭製品の製造方法 |
JP6512181B2 (ja) * | 2016-06-23 | 2019-05-15 | 信越化学工業株式会社 | フォトカプラー一次封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物、該組成物で封止されたフォトカプラー及び該フォトカプラーを有する光半導体装置 |
US10246593B2 (en) | 2016-07-20 | 2019-04-02 | The Boeing Company | Sol-gel coating compositions including corrosion inhibitor-encapsulated layered double hydroxide and related processes |
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US10246594B2 (en) | 2016-07-20 | 2019-04-02 | The Boeing Company | Corrosion inhibitor-incorporated layered double hydroxide and sol-gel coating compositions and related processes |
CN106276840B (zh) * | 2016-08-01 | 2018-03-13 | 上海润河纳米材料科技有限公司 | 一种用于离子捕捉的磷酸锆的制备方法 |
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KR102233536B1 (ko) * | 2016-12-02 | 2021-03-29 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | 비수 전해질 전지용 무기 입자 |
US10421869B2 (en) * | 2017-01-09 | 2019-09-24 | The Boeing Company | Sol-gel coating compositions including corrosion inhibitor-encapsulated layered metal phosphates and related processes |
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Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59102808A (ja) | 1982-12-02 | 1984-06-14 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | 水不溶性リン酸塩の製造方法 |
JPS60103008A (ja) * | 1983-11-04 | 1985-06-07 | Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Kk | 結晶質リン酸ジルコニウムの製造方法 |
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JPS62226807A (ja) * | 1986-03-27 | 1987-10-05 | Rasa Kogyo Kk | 結晶性層状リン酸ジルコニウムの製造方法 |
JP2576888B2 (ja) | 1988-06-20 | 1997-01-29 | 東亞合成株式会社 | マイグレーション防止剤及び電子回路 |
JP3004291B2 (ja) * | 1989-11-02 | 2000-01-31 | テイカ株式会社 | 結晶性層状リン酸化合物の製造方法 |
US5085845A (en) | 1989-11-02 | 1992-02-04 | Tayca Corporation | Production and use of crystalline hydrogen-phosphate compounds having layer structure |
KR100430748B1 (ko) * | 1995-12-28 | 2004-09-18 | 스미토모 베이클라이트 가부시키가이샤 | 에폭시수지조성물 |
JPH1013011A (ja) | 1996-06-26 | 1998-01-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品用接着剤及び電子部品実装方法 |
JP3615906B2 (ja) | 1997-05-28 | 2005-02-02 | 日立化成工業株式会社 | 多層配線板用接着フィルム |
JP3824101B2 (ja) | 1996-09-10 | 2006-09-20 | 日立化成工業株式会社 | 多層配線板及びその製造法 |
EP0831528A3 (en) | 1996-09-10 | 1999-12-22 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Multilayer wiring board for mounting semiconductor device and method of producing the same |
JP3838389B2 (ja) | 1997-04-15 | 2006-10-25 | 日立化成工業株式会社 | 絶縁材料及びこれを用いた多層プリント配線板 |
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JP2005036126A (ja) * | 2003-07-16 | 2005-02-10 | Nippon Kayaku Co Ltd | エポキシ樹脂組成物及びそれを用いたフレキシブル印刷配線板材料。 |
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