TW594405B - Positive photoresist composition for the formation of thick films, photoresist film and method of forming bumps using the same - Google Patents

Description

594405 A7 B7_ 五、發明説明（） 〔發明所屬技術領域〕 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明有關厚膜用正型光阻組成物、光阻膜及使用其 之凸塊形成方法。詳言之，本發明有關電路基板之製造及 對半導體或電子部件之電路基板上之實裝時所進行之凸塊 形成、配線形成、層間絕緣層、電路保護膜及精密部件加 工•製造時之光應用（photoapplication)上好用之能進行 碱顯像之厚膜用正型光阻組成物者。 〔習用技術〕 光應用，係在加工物表面塗佈感光性樹脂組成物，並 使用光鈾刻（photolithography)技術使塗膜進行圖案構成 (pattering)、將此作爲光罩依以化學蝕刻、電解鈾刻或電 鍍爲主體之光致形成（electroforming)技術之單獨或組合 以製造各種精密部件之技術之總稱，係成爲現今之精密微 細加工技術之主流者.。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 近年來，隨著電子設備之小型化，正急激進展L S I (大型積體電路）之高積體化以及A S I C (特殊應用積 體電路）化，需要有爲將L S I裝載在電子設備之用之多 插腳（pin )薄膜實裝之出現，因此依T A B (帶子自動粘 接）方式或覆晶（flip chip)方式之裸晶（bare chip)實 裝等在受瞻目。如此之多插腳實裝方法中，稱爲屬於連接 用端子之凸塊之高度2 0 // m以上之突起電極，必須按高 精密度方式配置在基板上，而因應今後之更進一步之 Iv S. I之小型化，需要有進一步之凸塊之高精度化。 ^紙張尺度適用中國國家標準（ CNS ) A4規格（210X297公釐） '^ _4_ 594405 A7 _B7_ 五、發明説明（> (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 又，有時常見爲補助上述連接用端子之形成，而進行 再配線過程以形成連接用端子間之配線之情形。此時使用 5至2 0 // m程度之膜厚之光阻，以形成配線圖案（ pattern ) ° 形成如此之凸塊時所使用之凸塊形成用材料，或作爲 再配線材料而使用厚膜用光阻。厚膜用光阻係指能在基板 上形成約5 // m以上之膜厚之抗鈾膜之意。對此厚膜用光 阻之必備條件而言，爲：能形成5 // m以上之膜厚、具有 對基板之松、接性、進f了爲形成凸塊之電鑛時’具有良好之 耐鍍液性及對鍍金液之可濕性（wettability)、由電鍍所得 之金屬組成物係對應於光阻圖案之狀形者、電鍍處理後即 可被剝離液所容易剝離等。又，由於電鍍技術之高度化而 需要複數次之電鍍過程或在更嚴厲條件下所進行之電鍍過 程之故，希望開發一種能耐複數次之電鍍過程之程度之對 電鍍過程有抗耐性之厚膜用光阻。 #丨 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 相對於此，在習用之厚膜用光阻組成物中，並無能符 合上述之必備條件者。如在顯像時與基板間之密接性較差 ，則隨著爲形成凸塊之用之圖案尺寸變成微細化，則會產 生在顯像時抗蝕層圖案將從基板脫落之問題。又，如耐鍍 液性差，則在鍍液浸漬時或洗滌中會產生抗鈾層圖案之變 成或龜裂等之問題。如由電鍍所得之金屬層不對應於抗鈾 層圖案之形狀，則會產生膨凸。 在曰本特開平1 ◦ — 2 0 7 0 5 7號公報、特開 2〇〇〇 — 397〇9號公報、特開2000 — ^ ΓΓ _。“ ^ vj ___^_____ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） 一 -5- 594405 A7 ____B7_ 五、發明説明（b (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 2 5 0 2 0 8號公報中，記載有作爲凸塊形成用或配線形 成用所用之厚膜用光阻組成物。但是，該等組成物仍與習 用之厚膜用光阻組成物同樣，顯像後由電鍍處理所得之金 屬層發生膨凸，而未能製得良好圖案。又，對電鑛過程本 身之抗耐性亦差，電鍍過程中或在電鍍處理後之洗滌中之 抗鈾層中產生缺口或龜裂，以致難於使用同樣抗鈾層圖案 以進行複數次之電鍍過程。 又，在習用之厚膜用光阻組成物中，由於所形成之凸 塊將推開厚膜用抗鈾層之故會產生凸塊膨凸，以致凸塊之 矩形狀況不佳。又，由於因凸塊之膨凸或抗鈾層之尺寸不 安定性，以致曝光時之光罩尺寸與所形成之凸塊之尺寸之 間產生誤差，結果不能形成安定之凸塊。 〔發明所欲解決之課題〕 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明之目的在於解決上述之習用技術之課題，並提 供顯像時與基板間之密接性及耐電鍍液性良好之外，加之 ，依鹼性顯像液之顯像性、抗鈾層未曝光部從基板之剝離 性優異 '由電鍍所產生之金屬層之形狀爲矩形且安定、對 電鍍過程之抗耐性優異、適合作爲凸塊形成用材料而好用 之由厚膜形成之正型光阻組成物、光阻膜及使用該膜之凸 塊形成方法。 〔用以解決課題之手段〕 專利範圍第1項之發明，係含有（A)鹼可溶性 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） " 一 一 -6- 594405 Α7 Β7 五、發明説明（> 漆用酚醛樹脂' (B )鹼可溶性丙烯酸樹脂、（C )含有 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 醌二疊氮基之化合物之厚度5至1 〇 〇 /zm之厚膜用正型 光阻組成物’而其特徵爲：前述（B )鹼可溶性丙燦酸樹 脂含有（b1)從具有醚鍵聯之聚合性化合物所衍生之構 成單元3 0至9 0重量％、及（b 2 )從具有羧基之聚合 性化合物所衍生之構成單元5 0至2重量％之厚膜用正型 光阻組成物。 申請專利範圍第2項之發明，係如申請專利範圍第1 項所記載之厚膜用正型光阻組成物，其特徵爲：對（A ) 鹼可溶性漆用酚醛樹脂1 〇 〇重量份，而含有（B )鹼可 溶性丙烯酸樹脂5至5 0重量份及（C )含有醌二疊氮基 之化合物.5至1 0 0重量份者。 申請專利範圍第3項之發明，係如申請專利範圍第1 項所記載之厚膜用正型光阻組成物，其特徵爲：（B )鹼 可溶性丙烯酸樹脂之重量平均分子量爲1 〇，〇 〇 〇至 8〇〇，〇〇◦者。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 申請專利範圍第4項之發明，係如申請專利範圍第1 項所記載之厚膜用正型光阻組成物，其特徵爲：（C )含 有醌二疊氮基之化合物含有以下述一般式（1 )或（2 ) 所示之化合物之醌二疊氮基磺酸酯者。 釐 公 7 9 2 594405

(請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (式中，R !、R 2、d 3、R4、R5、Re 以及 分 別獨立表示氫原子、取代 無取代之碳數1至5之烷基、 取代或無取代之碳數4至8之環燒^ } 申師專利靼圍弟5項之發明，係一種光阻膜，其特徵 爲：將甲請專利範圍W項至第4項之任丄項所記載之正 型光阻組成物在基板上塗佈、乾燥而成之膜厚5至i 〇〇 // m之光阻膜。 申請專利範圍第6項之發明 --4 s 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇'〆297公釐） 係一種凸塊形成方法 -8 - 594405 A7 ----- B7_ 五、發明説明（$ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 其特徵爲：在電子部件之基板上，將申請專利範圍第1項 至第4項之任1項所記載之正型光阻組成物塗佈、介由既 定之圖案之遮罩而對所得之塗膜進行放射線照射，接著， 進行電鍍處理之凸塊形成方法。 〔發明之實施形態〕 以下，再詳細說明本發明。 丄鹼可溶性漆用酚醛樹脂 本發明所用之（A )鹼可溶性酚醛樹脂，可由使例如 ’具有酹性經基之芳香族化合物（以下，僅稱「酚類」） 和醛類在酸觸媒下進行加成縮合反應（addition condensation)而製得。此時可使用之酚類可例舉：苯酚' 鄰甲酚、間甲酚、對甲酚、鄰乙基苯酚、間乙基苯酚、對 乙基苯酚、鄰丁基苯酚、間丁基苯酚、對丁基苯酚、2， 3 -一甲苯酣、2 ’ 4 — —^甲苯酣、2 ，5 —二甲苯酣、 2 ，6 —二甲苯酚、3 ，4 一二甲苯酚、3 ，5 —二甲苯 酚、2 ，3 ，5 —三甲基苯酚、3 ，4，5 -三甲基苯酚 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 、對苯基苯酚、間苯二酚、氫醌、氫醌-甲基醚、焦掊酚 (pyrogallol)、間苯三酸（phloroglucinol)、涇基聯苯、 雙酚A、五倍子酸、五倍子酸酯、α -萘酚、/5 -萘酚等 。又，醛類可例舉：甲醛、多聚甲醛、糠醛、苯甲醛、硝 基苯甲醛、乙醛等。加成縮合反應時之觸媒，並無特別限 定，惟例如酸觸媒可使用鹽酸、硝酸、硫酸、甲酸、草酸 、乙酸等。 -^ 0 Λ ^ Q-------- 本紙張尺度適背中_國家標準（CNS ) Α4規格(210X297公釐） -9- 594405 A7 B7 五、發明説明（} (A )鹼可溶性漆用酚醛樹脂之重量平均分子量，並 無特別限定，惟較佳爲1 0 ，0〇0至5 0 ，〇〇0。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (B )鹼可溶件丙烯酸樹脂. 本發明所用之（B )鹼可溶性丙烯酸樹脂，必須含有 :(b 1 )從具有醚鍵聯之聚合性化合物所衍生之構成單 元3 0至9 0重量％ ;及（b 2 )從具有羧基之聚合性化 合物所衍生之構成單元5 0至2重量％。 具有醚鍵聯之聚合性化合物可例示：2 -甲氧基甲基 丙烯酸乙酯、甲氧基甲基丙烯酸三乙二醇酯、3 -甲氧基 甲基丙烯酸丁酯、乙基甲基丙烯酸卡必醇酯、苯基甲基丙 烯酸聚乙二醇酯、甲氧基甲基丙烯酸聚丙二醇酯、四氫甲 基丙烯酸糠酯等之醚鍵聯及具有酯鍵聯之甲基丙烯酸衍生 物等之自由基聚合性化合物，而較佳爲2 -甲氧丙烯酸乙 酯、甲氧基丙烯酸三乙二醇酯、該等化合物可單獨或組合 2種以上使用。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 具有羧基之聚合性化合物可例示：丙烯酸、甲基丙烯 酸、巴豆酸等之一元羧酸、馬來酸、富馬酸、衣康酸等之 二元羧酸；2 -甲基丙烯醯氧乙基琥珀酸、2 -甲基丙烯 醯氧乙基馬來酸、2 -甲基丙烯醯氧乙基酞酸、2 -甲基 丙烯醯氧乙基六氫酞酸等之羧基及具有酯鍵聯之甲基丙烯 酸衍生物等之自由基聚合性化合物，而較佳爲丙烯酸、甲 基丙烯酸。該等化合物可單獨或組合2種以上使用。 (B )鹼可溶性丙烯酸樹脂中具有醚鍵聯之聚合性化 本紙張尺度適用中國%家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐) ' -10- 594405 A7 B7 五、發明説明（$ 合物之含量較佳爲3 0至9 0重量％，更佳爲4 0至8 0 重量％。如超過9 0重量％，則對（A )鹼可溶性漆用酹 醛樹脂溶液之相溶性變差，而有在預焙（prebake)時將產 生百納德網路（Benard cell )(因重力或表面張力梯度等 而在塗膜表面所產生之具有不均勻性之五至七角形之網路 圖案）以致難於製得均勻之抗鈾膜之傾向，而如3 0重量 %以下，則電鍍時有發生龜裂之傾向。 又，（B )鹼可溶性丙烯酸樹脂中具有羧基之聚合性 化合物之含量，較佳爲2至5 0重量％，更佳爲5至4 0 重量％。如係2重量％以下，則丙烯酸樹脂之鹼溶解性將 降低，以致不能獲得足夠之顯像性。又，剝離性將降低， 以致抗蝕膜會殘膜。如超過5 0重量％，則有顯像後之殘 膜率會降低或耐電鍍性會惡化之傾向。 (B )鹼可溶性丙烯酸樹脂之重量平均分子量爲 10，000 至 8 00，000，較佳爲 30，〇〇〇 至 5 0 0，0 0 0。如係1 0，0 0 0以下則抗蝕膜將得不 到足夠之強度，以致有引起電鑛時之外形之膨凸、龜裂之 發生之傾向。如超過8 0 0，0 0 0則剝離性會降低。 再者，（B )鹼可溶性丙烯酸樹脂中，以適度控制物 理性，化學性特性爲目的，可將其他自由基聚合物化合物 作爲單體包含在內。在此，「其他自由基聚合性化合物」 ，係指前述之聚合性化合物以外之自由基聚合性化合物之 意。如此之自由基聚合性化合物可使用：甲基丙烯酸甲酯 、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯等之甲基丙烯酸烷酯 η^Π4-^Ι_：___ 本紙張尺夏適用中家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 f 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -11 - 594405 Α7 Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（》 類；2 -甲基丙烯酸羥基乙酯、2 -甲基丙烯酸羥基丙酯 等之甲基丙烯酸羥基烷酯類；甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯 酸苄酯等之甲基丙烯酸芳酯類；馬來酸二乙酯、富馬酸二 丁酯等之二羧酸二酯類；苯乙烯.、α -甲基苯乙烯等之含 有乙烯基之芳香族化合物；乙酸乙烯酯等之含有乙烯基之 脂肪族化合物；丁二烯、異戊二烯等之共軛二烯類；丙烯 腈、甲基丙烯腈等之含有腈基之聚合性化合物；氯化乙烯 、氯化亞乙烯等之含有氯之聚合性化合物；丙烯醯胺、甲 基丙烯醯胺等之含有醯胺基鍵聯之聚合性化合物等。此等 化合物可單獨或組合2種以上使用，此中特別是正丙烯酸 丁酯、甲基丙烯酸苄酯、曱基丙烯酸甲酯等較佳。（Β ) 鹼可溶性丙烯酸樹脂中所佔之其他自由基聚合性化合物較 佳爲5 0重量％以下，更佳爲4 0重量％以下。 當合成（Β )鹼可溶性丙烯酸樹脂時所用之聚合液， 例如可使用··乙醇、二乙二醇等之醇類；乙二醇一曱醚、 二乙二醇-甲醚、二乙二醇乙基甲基醚等之多價醇之烷基 醚類；乙酸乙二醇乙醚酯、乙酸丙二醇甲醚酯等之多價醇 之乙酸烷基醚類；曱苯、二甲苯等之芳香族烴類；丙酮、 曱基異丁基甲酮等之酮類；乙酸乙酯、乙酸丁酯等之酯類 。此中特別是多價醇之烷基醚類、多價醇之乙酸烷基醚酯 類較佳。 當合成（Β )鹼可溶性丙烯酸樹脂時所用之聚合觸媒 可使用通常之自由基聚合引發劑，例如可使用：2，2 / -偶氮異丁腈等之偶氮化合物；苯醯化過氧化物、二第三 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} •Β衣· 訂 f 本紙張ξ家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） 12- 594405 A7 B7 五、發明説明（）〇 丁基過氧化物等之有機過氧化物。 本發明之組成物中，該（B )成份係對前述之（A ) 成份1 0 0重量份按5至5 0重量份，較佳爲1 0至40 重量份之範圍調配。如調配量在5重量份以下時，則在電 鍍時抗蝕層將浮隔、發生龜裂以致耐電鍍液性降低，如超 過5 0重量份，則所形成之抗蝕膜之強度將降低、而有因 膨凸等不能獲得鮮明之外形以致解像度將降低之傾向。 (C )含有醌二疊氣某之化合物 (C )含有醌二疊氮基之化合物，可例舉：（1)2 ，3 ，4 —三羥基二苯曱酮、2，4，4 — 一三羥基二苯 甲酮、2 ，4 ，6 -三羥基二苯甲酮、2 ，3 ，6 -三羥 基二苯甲酮、2 ，3 ，4 一三羥基一 2 > —甲基二苯甲酮 、2，3，4，4一—四羥基二苯甲酮、2，2一，4, 4>一四羥基二苯甲酮、2，、4，，6 —五羥 基二苯甲酮、2 ，2# ，3 ，4，一五羥基二苯甲酮 、2，2 > ，3，4，5 —五羥基二苯甲酮、2，3 一 ， 4 ，4 > ，5 一 ，6 —六羥基二苯甲酮、2，3 ，3 > ， 4，4 /，5 > -六羥基二苯甲酮等之多羥基二苯甲酮類 ;(Π)雙（2，4 一二羥苯基）甲烷、雙（2，3 ，4 一三羥苯基）甲烷、2 -（4 —羥苯基）—2— (4 > -羥苯基）丙烷、2 -（2，4 —二羥苯基）一 2 -（2 > ，4，—二羥苯基）丙烷、2 -（2，3，4 一三羥苯基 )—2 — (2> ，，4>一 三羥苯基）丙烷、4，4 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 010433 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

IX f 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 13- 594405 A7 B7 五、發明説明（ /一丨1 一〔4 —〔2 -（4 —羥苯基）—2 -丙基〕苯 基〕亞乙基}雙酚、3 ，3 / —二甲基一丨1 一〔4 一〔 2 -（3 -甲基一 4 一羥苯基）一 2 -丙基〕苯基〕亞乙 基）·雙酚等之雙〔（多）羥苯基〕鏈烷烴類、（m)參（ 4 一羥苯基）甲烷、雙（4 一羥基一 3 ，5 -二甲苯基） 一 4 一羥苯基甲烷、雙（4 一羥基一 2 ，5 —二甲苯基） 一 4 一羥苯基甲烷、雙（4 一羥基一 3 ，5 —二甲苯基） 一 2 -羥苯基甲烷、雙（4 一羥基一 2 ，5 -二甲苯基） 一 2 -羥苯基甲烷、雙（4 一羥基一 2 ，5 -二甲苯基） 一 3 ，4 一二羥苯基甲烷、雙（4 一羥基一 3 ，5 -二甲 苯基）一 3 ，4 一二羥苯基甲烷等之參（羥苯基）甲烷類 或其甲基取代物、（IV )雙（3 -環己基一 4 一羥苯基） 一3-羥苯基甲烷、雙（3-環己基一4一羥苯基）一2 一羥苯基甲烷、雙（3 -環己基一 4 —羥苯基）一 4 一羥 苯基甲烷、雙（5-環己基一4一羥基一2-甲苯基）一 2-羥苯基甲烷、雙（5-環己基一4一羥基一2-甲苯 基）一3-羥苯基甲烷、雙（5-環己基一4一羥基一2 一甲苯基）一 4 一羥苯基曱烷、雙（3 -環己基一 2 -羥 苯基）一 3 -羥苯基甲烷、雙（5 -環己基一 4 一羥基一 3 -曱苯基）一 4 一羥苯基甲烷、雙（5 -環己基一 4 一 羥基一 3 -甲苯基）一 3 -羥苯基曱烷、雙（5 -環己基 一 4 一羥基一 3 —甲苯基）一 2 —羥苯基曱烷、雙（3 -環己基一 2 -羥苯基）一 4 一羥苯基甲烷、雙（3 -環己 基一 2 -羥苯基）一 2 -羥苯基甲烷、雙（5 -環己基一 M04M_^_ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ·,»衣· 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 14- 594405 A7 _ _ B7 ______ 五、發明説明（）2 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 2 -羥基一 4 一甲苯基）一 2 —羥苯基甲烷、雙（5 -環 己基一2-羥基一4一甲苯基）一4一羥苯基甲烷等之雙 (環己基羥苯基）（羥苯基）甲烷類或其甲基取代物、（ V)苯酚、對甲氧基苯酚、二甲基苯酚、氫醌、萘酚、焦 兒茶酚、焦掊酚、焦掊酚—甲醚、焦掊酚一 1 ，3 -二甲 醚 '五倍子酸、苯胺、對胺基苯胺、4，4 > 一二胺基二 苯甲酮等具有羥基或胺基之化合物、（IV)漆用酚醛、焦 掊酚-丙酮樹脂、對經基苯乙烯之同元聚合物（ homopolymer)或能與此共聚合之單體之共聚合物等，與萘 醌—1 ’ 2 -一疊氮基一 5 -磺酸或萘醌一 1 ，2 -二疊 氮- 4 -磺酸、正蒽醌二.疊氮基磺酸等之含有醌二疊氮基 之磺酸生成之完全酯（perfect ester )化合物、部份酯化合 物、醯胺化物或部份醯胺化物等。 此中較佳爲使用下述一般式（1 )或（2 )所示化合 物之醌二疊氮基磺酸酯。

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張i國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐了 -15- 594405 A7 B7 五、發明説明（）3 r2

(2) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (式中，Rl、R2、R_3、R4、R_5、R6 以及 R_7 分 別獨立表示氫原子、取代或無取代之碳數1至5之烷基、 取代或無取代之碳數4至8之環烷基） 特別是在一般式（1)或（2)所示化合物之醌二疊 氮基磺酸酯中，較佳使用下述化學式（1 )所示化合物之 醌二疊氮基磺酸酯。

(1) 本紙 1家標準（〇奶）八4規格（210父297公釐） -16- 594405 A7 B7 五、發明説明（）4 在此，前述一般式（1) 、（2)或化學式（1)所 不化合物中，萘醌一 1 ，2 -一疊氣基一擴醯基，較佳爲 在4位或5位結合有磺醯基者。此等化合物，係將組成物 作爲溶液使用時能容易溶解在通常所用之溶劑中，且與被 膜形成物質之（A )鹼可溶性漆用酚醛型樹脂之相容性良 好，如作爲正型光阻組成物之感光性成份使用時，係高靈 敏度，並畫像對比、剖面形狀優異，且耐熱性優異，加之 ’如作成溶液使用時可得無異物生成之組成物。另外，前 述一般式（1 )或（2 )所示化合物之醌二疊氮基磺酸酯 可使用一種亦可使用二種以上。 此一般式（1 )所示化合物 可由例如將1 -羥基一 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 4 〔1 ，1 一雙（4 —羥苯基）乙基〕苯及萘醌 噁烷般之溶媒中， 2 -二疊氮基一磺醯氯置入如二 _胺、碳酸鹼或碳酸氧鹼般之鹼存在下使其縮合 完全酯化或部份酯化而製造。又，此一般式（2 )所示化 合物，可由例如將1 一〔 1 一（ 4 —羥苯基）異丙基〕一 4 一〔1 ，1 一雙（4 一羥苯基 在三乙 以進行 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 2 -二疊氮基一磺醯氯置入如二 醇胺、碳酸鹼或碳酸氫鹼般之鹼 完全酯化或部份酯化而製造。 在此，前述之萘醌一 1 ，2 ，萘醌—1 ，2 —二疊氮基—4 -二疊氮基一 5 -磺醯氯較合適。 )乙基〕苯及萘醌一 1 ， 噁烷般之溶媒中，在三乙 存在下使其縮合，以進行 - 一覺氮基-礦釅氯而言 一磺醯氯或萘醌一 1，2 本發明之組成物中，視必要，在不悖離本發明之目的 ϋ張氧家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）— 17- 594405 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7_五、發明説明（）5 之範圍內，可倂用前述一般式（1 )或（2 )所示化合物 之醌二疊氮基磺酸酯，與此外之含有醌二疊氮基之化合物 〇 本發明之組成物中，視必要，在不俘離本發明之目的 之範圍內，可倂用習用之敏化劑，例如1 一〔 1 一（ 4 一 羥苯基）異丙基〕一 4 一〔1 ，1 一雙（4 一羥苯基）乙 基〕苯锍基噁唑、酼基苯並噁唑、酼基噁唑啉、锍基苯並 噻唑、.苯並噁唑酮、苯並噻唑酮、巯基苯並咪唑、脲唑、 硫脲嘧啶、锍基吡啶、咪唑酮以及此等衍生物。 本發明之組成物中，（C )成份可以一種單獨含有前 述之含有醌二疊氮基之化合物，亦可含有二種以上。又， 該（C )成份對前述（A )成份之漆用酚醛樹脂1 〇 〇重 量份，調配5至1 0 0重量份，較佳爲1 0至5 0重量份 之範圍。如此調配量爲5重量份以下則得不到真實之畫像 而複製性會降低。另一方面，如超過1 0 0重量份則抗蝕 層之敏感度將顯著降低而不宜。 本發明之組成物較佳爲將（A )鹼可溶性漆用酚醛樹 脂，（B )鹼可溶性丙烯酸樹脂以及作爲感光劑之（C ) 含有醌二疊氮基之化合物溶解在適當溶劑中，並以溶液之 形態使用。 如此之溶劑可例舉：乙二醇一甲醚、乙二醇—乙醚、 乙二醇一丙醚、乙二醇一 丁醚等之乙二醇烷基醚類；二乙 二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇二丙醚、二乙二 醇二丁醚等之二乙二醇二烷基醚類；溶纖素乙酸甲酯、溶 本紙張ϋθ _國&標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 一 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣· 訂 f -18- 594405 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ______B7_五、發明説明（）6 纖素乙酸乙酯等之乙二醇乙酸烷基醚酯類；丙二醇乙酸一 甲醚酯、丙二醇乙酸-乙醚酯、丙二醇乙酸-丙醚酯等之 丙二醇乙酸烷基醚酯類；丙酮、甲基乙基甲酮、環己酮、 甲基戊基甲酮等之酮類；甲苯、二甲苯等之芳香族烴類； 如二噁烷之環狀醚；以反2 -羥基丙酸甲酯、2 -羥基丙 酸乙酯、2 —羥基一 2 —甲基丙酸乙酯、乙氧基乙酸乙酯 、羥基乙酸乙酯、2 -羥基一3 —甲基丁酸甲酯、3 —甲 氧基乙酸丁酯、3 —甲基一 3 —甲氧基乙酸丁酯、甲酸乙 酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯 等之酯類。此等可以一種單獨使用，亦可混合二種以上使 用。 此等溶劑使用量係爲將所得正型光阻組成物使用旋塗 法而製得2 0 // m以上之膜厚，較佳爲固體成份濃度在 6 5重量％以下之範圍。如固體成份濃度超過6 5重量％ ，則組成物之流動性會顯著惡化而處理性困難，加之，如 使用旋塗法之下，不易製得均勻之抗蝕膜。 本發明之組成物中，以提升塗佈性、消泡性、調平（ leveling )性爲目的，視必要，可調配表面活性劑。表面活 性劑可使用以例如B Μ — 1 〇 〇 〇、B Μ — 1 1 0〇（ ΒΜ凱美公司製）、美加法克F142D、同F172、 同F173、同F183 (大日本油墨化學工業（股）製 )、扶樂拉脫 FC — 135、同 FC—170C、同 FC —4 .3 〇、同F C — 4 3 1 (住友三愛姆（股）製）、沙 扶隆 S — 112、同 S — 113、同 S — 131、同 厂 iiU___ 本紙張尺度:适用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣· 訂:* f -19- 594405 A7 B7 五、發明説明（）7 S— 141、同 S— 145 (旭硝子（股）製）、SH — 28PA、同一190、同 193、BZ — 6032、 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) SF - 8428 (東矽酮（股）製）等名稱銷售之氟系表 面活性劑。此等表面活性劑之使用量較佳爲對（A )鹼可 溶性漆用酚醛樹脂1 〇 〇重量份之5重量份以下。 本發明之組成物中，爲提升與基板間之接著性，而可 使用接著助劑。所使用之接著助劑而言，功能性有機矽烷 偶合劑較有效。在此，功能性有機矽烷偶合劑係指具有羧 基、甲基丙烯醯基、異氰酸酯基、環氧基等之反應性取代 基之有機矽烷偶合劑之意，具體可例舉：三甲氧基甲矽烷 基安息香酸、r -甲基丙醯氧基丙基三甲氧基矽烷、乙烯 基三乙醯氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、r -環氧丙氧 基丙基三甲氧矽烷、/3 -（3，4 一環氧基環己基）乙基 三甲氧矽烷等。其調配量較佳爲對（A )鹼可溶性漆用酚 醛樹脂1 0 0重量份之2 0重量份以下。 又，本發明之組成物中，爲進行對鹼顯像液之溶解性 之微調整起見，亦可添加：乙酸、丙酸、正丁酸、異丁酸 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 、正戊酸、異戊酸、安息香酸、肉桂酸等之一元羧酸；乳 酸、2 -羥基丁酸、3 -羥基丁酸、水揚酸 '間羥基安息 香酸、對羥基安息香酸、2 -羥基肉桂酸、3 -羥基肉桂 酸、4 -羥基肉桂酸、5 -羥基異酞酸、丁香酸等之羥基 -羧酸；草酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、馬來酸、衣康 酸、六氫基酞酸、酞酸、異酞酸、對苯二曱酸、1 ，2 - 環己烷二羧酸、1 ，2，4 一環己烷三羧酸、偏苯二甲酸 。一\ tj 本紙張尺度逍用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -20 - 594405 A7 ___B7 五、發明説明（）8 、均苯四甲酸 '環戊烷四羧酸、丁烷四羧酸、1 ，2，5 ，8 -萘四殘酸等之多價竣酸；衣康酸酐、琥拍酸酐、檸 康酸酐、十二碳烯琥珀酸酐、三苯胺基甲酸酐、馬來酸酐 、無水六氫酞酸酐、甲基四氫酞酸酐、海明酸酐、1 ，2 .，3 ’ 4 一丁院四殘酸、環戊院四殘酸二酐、酞酸酐、均 苯四甲酸酐、偏苯二甲酸酐、二苯甲酮四羧酸酐、雙偏苯 二甲醇乙二醇酯酐、參偏苯二甲醇甘油酯酐等之酸酐。再 者，亦可添加：N —甲基甲醯胺、N，N —二甲基甲醯胺 、N —甲基甲醯苯胺、N —甲基乙醯胺、N，N —二甲基 乙醯胺、N -甲基吡略烷酮、二甲基亞硕、苄基乙基醚、 二己基醚、丙酮基丙酮、異氟爾酮、己酸、辛酸、1 一辛 醇、1 一壬醇、苄醇、乙酸苄酯、安息香酸乙酯、草酸二 乙酯、馬來酸二乙酯、7 -丁內酯 '碳酸乙烯酯、碳酸丙 烯酯、乙酸苯基溶纖素酯等之高沸點溶媒。爲進行對上述 鹼顯像液之溶解性之微調整之用之化合物之使用量，如能 按用途，塗佈方法而調整，並使組成物均勻混合則並無特 別限定，惟對所得之組成物之6 0重量％以下，較佳爲 4〇重量％以下。 再者，本發明之組成物，視必要，亦可添加塡充材料 、著色劑、粘度調整劑等。塡充材料可例舉··氧化矽、氧 化鋁、皂土、矽酸锆、粉末玻璃等。著色劑可例舉：鋁白 、粘土、碳酸鋇、硫酸鋇等之體質顏料；鋅白、鉛白、黃 丹、鉛丹、群青、普魯士藍、氧化鈦、鉻酸.鋅、氧化鐵紅 \碳黑等之無機顏料；亮胭脂紅6 B、永固紅6 B、永固 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂、· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -21- 594405 A7 B7 五、發明説明（）19 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 紅R、聯苯胺黃、酞菁藍、酞菁綠等之有機顏料；品紅、 若丹明等鹼性染料；直接鮮紅、直接橙等之直接染料；羅 色靈、間胺黃等之酸性染料。又，粘度調整劑可例舉：膨 潤土、矽膠、氧化鋁粉末等。此等添加劑可在不損及組成 物之本質上之特性之範圍，較佳爲對所得之組成物之5 0 重量％以下。 本發明之組成物之調製，在不添加塡充材料、顏料時 僅照通常之方法混合、攪拌即可，而在添加塡充材料、顏 料時則使用溶解器、均化器、三輥磨等之分散機，使其分 散、混合即可。又，視需要，亦可再使用篩網、膜濾器等 使其過濾。 另外，本發明之組成物係適合作爲厚膜者，惟其利用 範圍不侷限在此，亦可作爲例如銅、鉻、鐵、玻璃基板等 各種基板之鈾刻時之保護膜或半導體製造用之抗蝕膜使用 〇 將本發明之組成物作爲光阻膜時之膜厚爲5至1 0 0 //m、較佳爲5至4 0 //m、更佳爲2 0至3 0 //m。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 將本發明之組成物作爲抗蝕膜之凸塊之形成，可依如 下方式進行。 (1 )塗膜之形成··將如上述方式所調製之組成物之 溶液按厚度5 //m至1 〇 〇//m、較佳爲2 0 //m至4〇 // m塗佈在具有既定之配線圖案之基板上，並依加熱去除 溶媒.，以形成所需塗膜。對被處理基板上之塗佈方法可採 用：旋塗法、輥塗法、網版、印刷法、薄層塗佈器法等。 01044P ____ 本紙張尺度適用中國Ϊ家標準( CNS ) A4規格（210X297公釐） -22- 594405 A7 B7 五、發明説明（ko 本發明之組成物之塗膜之預焙條件係視組成物中之各成份 之種類、調配比例、塗佈膜厚等而異，惟通常爲7 〇至 1 3 0°C、較佳爲8 0至1 2〇°C、而在2至6 0分鐘程 度。 (2 )放射線照射： 介由既定之圖案之遮罩，對所得塗膜照射放射線，例 如波長爲3 0 0至5 0 0 n m之紫外線或可視光線，以僅 使將形成凸塊之配線圖案部份曝光。此等放射線之線源可 採用：低壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵 化物燈、氬氣雷射等。在此，放射線係指紫外線 '可視光 線、速紫外線、X光線、電子線等之意。放射線照射量係 視組成物中之各成份之種類、調配量、塗膜之膜厚等而異 ，惟使用超高壓水銀燈時，爲1 〇 〇至2 0 0 〇 m J / cm2。 (3 )顯像：放射線照射後之顯像方法，係使用鹼性 水溶液爲顯像液，溶解並去除不需要部份以僅使放射線未 照射部份殘留。顯像液可使用：例如氫氧化鈉、氫氧化鉀 、碳酸鈉、矽酸鈉、正矽酸鈉、氨水、乙胺、正丙胺、二 乙胺、二正丙胺、三乙胺、甲基二乙胺、二甲基乙醇胺、 三乙醇胺、四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、吡咯、哌 啶、1 ，8 —二氮雜二環〔5，4，0〕一 7 -十一碳烯 、1 ，5 —二氮雜二環〔4，3，0〕一 5 —壬院等鹼類 之水.溶液。又，可將在上述鹼類之水溶液中經適當量添加 甲醇、乙醇等之水溶性有機溶媒或表面活性劑之水溶液作 _____ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -23- 594405 A7 B7 五、發明説明（）21 爲顯像液使用。 顯像時間係視組成物各成份之種類、調配比例、組成 物之乾燥膜厚而異，惟通常爲1至3 0分鐘，又，顯像之 方法可爲盛液法、浸漬法、攪煉.（puddling)法、噴霧法等 中之任一種。顯像後即進行流水洗淨3 0至9 0秒鐘，並 使用噴氣槍使其風乾，或在烤箱中使其乾燥。 電鍍處理方法並無特別限定，而可採用在來即周知之 各種電鍍方法。 〔實施例〕 依實施例及比較例具體方式說明本發明如下，惟本發 明係並不被此等例所限定者。再者，除非另外特別註明， 份表示重量份而％表示重量％。 〈（A )鹼可溶性漆用酚醛樹脂之合成〉 合成例1 將間甲酚和對甲酚按重量比6 0 : 4 0之比割混合， 此中並添加甲醛水，使用草酸觸媒依常法進行縮合，製得 甲酚漆用酚醛樹脂。對此樹脂分別施予處理以截切低分子 領域，製得重量平均分子量1 5 0 0 0之漆用酣酸樹脂。 將此樹脂稱爲添用酚醛樹脂A。 〈（B )鹼可溶性丙烯酸樹脂之合成〉 合成.例2 將附有攪拌裝置、回流管、溫度計、滴下槽之燒瓶進 010^44 i紙張尺度通用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐) " -24 - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

、11 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 594405 A7

五、發明説明（ 行氮氣取代後，作爲溶媒裝入丙 。然後’提高溶劑溫度爲8 0 °C 二醇乙酸甲醚酯2 〇 〇 g 。滴下槽中裝入作爲聚 合 觸媒之2，2 > —偶氮雙異丁腈〇 . g、2 —乙基丙烯 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 酸甲氧酯1 3 0 g、甲丙烯酸苄酯5 0 . 〇 g、丙烯酸 2 0 · 0 g，攪拌至聚合觸媒將溶解止，將此溶液耗費3 小時均勻滴下到燒瓶內，接著在8 0 °c下進行聚合5小時 。其後’冷卻到室溫，製得丙烯酸樹脂B 1。 實施例1 將漆用酣酸樹脂（A ) 1 7份，丙燒酸樹脂（b 1 ) 1 5份，以及對前述化學式（1 )所示化合物i莫耳使丄 ，2 -萘醌二疊氮基一 4 一碌醯氯2莫耳反應之感光劑（ C ) 1 5份，溶解在丙二醇乙酸甲醚酯1 5 0份之溶劑後 ，使用孔徑1 · 0 // m之膜濾機過濾以調製正型光阻組成 物。使用該組成物進行如下所示之特性評估。其結果如第 1表所示。 實施例2 除使用漆用酚醛樹脂（A ) 7 0份，丙烯酸樹脂（ B 1 ) 2 0份，以及對前述化學式（1 )所示化合物1莫 耳使1 ，2 -萘醌二疊氮基一 4 一磺醯氯2莫耳反應之感 光劑（C ) 2 0份以外，其餘則依與實施例1同樣之操作 以調製正型光阻組成物。使用該組成物進行如下所示之特 性評估。其結果如第1表所示。 本紙張家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ρ 、τ Γ

I 594405 A7 B7 五、發明説明（灸3 實施例3 除使用漆用酣酸樹脂（A ) 6 0份，丙燃酸樹脂（ B 1 ) 2 0份，以及對前述化學式（1 )所示化合物丨莫 耳使1 ’ 2 -奈醌二疊氮基一 4 一磺醯氯2莫耳反應之感 光劑（C ) 2 0份以外’其餘則依與實施例1同樣之操作 以調製正型光阻組成物。使用該組成物進行如下所示之特 性評估。其結果如第1表所示。 實施例4 除使用漆用酚醛樹脂（A ) 7 0份，丙烯酸樹脂（ B 1 ) 2 0份，以及對下述式所示化合物1莫耳使1，2 -萘醌二疊氮一 5 —磺醯氯2莫耳反應之感光劑（C ) 1 0份以外，其餘則依與實施例1同樣之操作以調製正型 光阻組成物。使用該組成物進行如下所示之特性評估。其 結果如第1表所示。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -訂，丨 #1 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製

本紙張尺卷|;|^|1^||0：標準（（：灿）八4規格（21〇/297公釐） -26- 594405 A7 B7 五、發明説明（ 比較例1 ί請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 除作爲聚合觸媒而使用2，2 / -偶氮雙異丁腈 〇.5g、2 —乙基丙烯酸甲氧酯50 _ 0g、甲基丙_ 酸爷酯9 0 · 〇g、以及2 -甲醯氧乙基六氫酞酸 .6 〇 · 0 g以外，其餘則依與合成例2同樣之操作以製得 丙烯酸樹脂b 1。然後，除不用丙烯酸樹脂B 1而使用該 丙條酸樹脂b 1以外，其餘則反覆實施例1之操作。其結 果如第2表所示。 比較例2至4 依與合成例2同樣操作，按第3表方式改變各量之比 例以製得丙烯酸樹脂b 2至b 4。然後，除不用丙烯酸 B 1而使用該丙烯酸樹脂b 2至b 4以外，其餘則反覆實 施例1之操作。其結果如第2表所示。在此，丙烯酸樹脂 b 2係對應比較例2、丙烯酸樹脂b 3係對應比較例3、 丙烯酸樹脂b 4係對應比較例4者。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 比較例5 除不用丙烯酸樹脂（B 1 )以外，其餘則依與實施例 1同樣之操作以製得正型光阻組成物。使用該組成物進行 下述所示之特性評估。其結果如第2表所示。 比較例6 ‘ 除不用丙烯酸樹脂（B 1 )而使用聚乙烯乙醚1 5份 moui _^_ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） — _ -27- 594405 A7 B7 _ 五、發明説明（>5 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 以外，其餘則依與實施例1同樣之操作以調製正型光阻組 成物。使用該組成物進行下述所示之特性評估。其結果如 第2表所示。 特性之評估方法 相溶性 將前述各種正型光阻組成物在室溫下混合並攪拌1、 2小時，攪拌完即以目視觀察經過攪拌1、2小時後之溶 解狀態。依下述之評估基準判定分散狀態。 〇：在攪拌1、2小時後可以目視確認組成物在均勻 分散。 △:在攪拌1、2小時後雖組成物會均勻分散，惟經 靜置長時間後即起相分離。 χ :在攪拌1、2小時後，組成物仍未均勻分散。 塗佈性 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 使用離心式撒佈器（spinner )在5吋之金濺鍍晶圓上 ’以1 0 0 0 r p m將前述「相溶性評估」中所得之正型 光阻組成物塗佈2 5秒鐘後，在1 1 0 °C下在加熱板上加 熱6分鐘。以目視觀察所形成之薄膜面，並依下述之評估 基準判定塗佈性。 〇：所得塗膜上無斑紋而均勻。 X :所得塗膜上有針孔或收縮凹形斑等不均勻情形。 010448 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -28- 594405 A7 B7 五、發明説明（k 顯像·解像性 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 使用離心式撒佈器在5吋之矽晶圓上，以1 〇 〇 〇 r p m將’述「相溶性評估」中所得之正型光阻組成物塗 佈2 5秒鐘後’在1 1 〇 °C下在加熱板上預焙6分鐘以形 成膜厚約2 0 // m之塗膜。其次，介由解像度測定用之圖 案遮罩（Pattern mask )，使用超高壓水銀燈（牛尾公司製 USH - 2 5 0D)將一張塗佈基板分成幾個領域，按每 一領域將曝光量在5 〇 〇至2 〇 0 0 m J / c m2之範圍依 階I又式變化以進丫了紫外線曝光。將此，使用顯像液（商品 名PMER系列、p 一 7g、東京應用化學工業公司製）進 行顯像。此後’以流水洗滌並予以鼓吹氮氣，製得圖案狀 硬化物。使用顯微鏡觀察該硬化物，依下述之評估基準判 定解像性。 〇：2 0 //m四方之電洞圖案係被上述之任一曝光量 所解像，而未看到殘渣之情形。 △ : 2 0 /zm四方之電洞圖案係被2 0 0 Om J / c rri以上之曝光量所解像，而未看到殘渣之情形。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 X : 20//m四方之電洞圖案係即使在2000mJ / c rri以上之曝光量仍未被解像，或看到有殘渣存在之情 形。 耐電鍍液性 將前述「顯像•解像性評估」中所得之具有圖案硬化 物之基板作爲試體，以氧氣電漿予以拋光（ashing)處理後 010449 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -29 - 594405 A7 __ B7 _ 五、發明説明（i7 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ’在7 0 °C下在非氰系亞硫酸金電鍍液中浸漬9 0分鐘， 以流水洗滌而製得被處理試體。使用光學顯微鏡或電子顯 微鏡觀察被處理試體上所形成之凸塊及圖案狀硬化物之狀 態’並依下述之評估基準評估圖案狀硬化物對電鍍液之耐 性、所形成之凸塊之形狀、圖案狀硬化物對電鍍過程之耐 性。 〇：所形成之凸塊及圖案狀硬化物之狀態上並無特別 之變化而良好。 X :圖案狀硬化物上產生龜裂、膨凸或缺口。或者圖 案狀硬化物之表面粗糙。 凸塊形狀 依與前述「耐電鍍性評估」同樣操作製得被處理試體 ’並使用光學顯微鏡或電子顯微鏡觀察所形成之凸塊及圖 案狀硬化物之狀態，依下述之評估基準判定所形成之凸塊 之形狀。 〇：凸塊之形狀在依隨圖案狀硬化物（隨從）而良好 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 X :凸塊之形狀不依隨圖案狀硬化物，而產生膨凸。 剝離性 將前述「顯像•解像性評估」中所得之具有圖案狀硬 化物之基板作爲試體，在室溫下浸漬在攪拌中之剝離液（ 丙酮）內5分鐘後，以流水洗滌並剝離圖案狀硬化物，依 ㈣㈣____ 本紙用ϋ國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -30- 594405 A7 B7 五、發明説明（>8 目視觀察或光學顯微鏡觀察並依下述之基準評估。 〇：未看到圖案狀硬化物之殘渣。 △:看到圖案狀硬化物之殘渣，惟如加溫並浸漬5分 鐘時則看不到殘渣。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣 訂f 【表1】 實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 相溶性 〇 〇 〇 〇 塗佈性 〇 〇 〇 〇 顯像性•解像性 〇 〇 〇 〇 耐電鍍液性 〇 〇 〇 〇 凸塊形狀 〇 〇 〇 〇 剝離性 〇 〇 〇 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 【表2】 比較例1 比較例2 比較例3 比較例4 比較例5 比較例6 相溶性 〇 X 〇 〇 〇 〇 塗佈性 〇 — 〇 〇 〇 〇 顯像性•解像性 〇 一 X X Δ 〇 耐電鍍液性 X (龜裂） — — — X (龜裂） 〇 凸塊形狀 〇 一 — 一 〇 X 剝離性 〇 — — — 〇 Δ Ψ 註）-表示不能評估之意 ( CNS ) ( 210X297^ ) -31 - 594405 A7 B7 五、發明説明（如 【表 合成例2 比較例1 比較例2 比較例3 比較例4 反應溫度 80 80 80 80 80 CO 丙二醇乙酸甲醚酯 200 200 200 200 200 偶氮雙異丁腈 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 2-乙基丙烯酸甲氧酯 130 50 190 190 90 (65) (25) (95) (85) (45) 甲氧基丙烯酸三乙二醇酯 — — — 28 (14) — 甲基丙烯酸苄酯 50 (25) 90 (45) — — — 丙烯酸 20 (10) — 10 (5) — — 2-甲基丙烯醯氧基乙基六 氫酞酸 — 60 (30) — 2 (1) 110 (55) 重量平均分子量 250,000 250,000 250,000 250,000 250,000 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣 m-n HI ammmmmmmm KKmaMmmm. Bui、一Lft IB— f 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 註）括弧內之數値表示（B )成份中之聚合性化合物之重 量％之意。 註）各成份之量比例之單位：g C10452 •紙張尺度通用中周國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -32- 594405 A7 B7 五、發明説明（k) 〔發明之效果〕 本發明提供顯像時與基板間之密接性及耐電鍍液性良 好之外，加之，依鹼性顯像之顯像性、抗蝕層未曝部從基 板之剝離性優異、由電鍍所產生之生成物之形狀爲矩形且 安定、對電鍍過程之抗耐性優異、適合作爲凸塊形成用材 料而好用之厚膜形成之正型光阻組成物、光阻膜及使用該 膜之凸塊形成方法。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣· 訂- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 010453 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -33-

Claims (1)

1. 594405 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 第9 1 1 02824號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國93年4月6日修正 1 · 一種厚膜用正型光阻組成物，其係含有（A )驗 可溶性漆用酚醛樹脂、（B )鹼可溶性丙烯酸樹脂、（C )含有醌二疊氮基之化合物，且其厚度爲5至1 0 0 # m ，而其特徵爲：該（B)鹼可溶性丙烯酸樹脂含有（b 1 )由具有醚鍵之聚合性化合物所衍生之構成單元3 〇至 9 0重量％、及（b 2 )由具有羧基之聚合性化合物所衍 生之構成單元5 0至2重量％。 2 ·如申請專利範圍第1項之厚膜用正型光阻組成物 ，其中對（A )鹼可溶性漆用酚醛樹脂1 〇 〇重量份，係 含有（B )鹼可溶性丙烯酸樹脂5至5 0重量份及（C ) 含有醌二疊氮基之化合物5至1 0 0重量份者。 3 ·如申請專利範圍第1項之厚膜用正型光阻組成物 ，其中（B )鹼可溶性丙烯酸樹脂之重量平均分子量爲 10，000 至 800，〇〇〇 者。 4 ·如申請專利範圍第1項之厚膜用正型光阻組成物 ，其中（C )含有醌二疊氮基之化合物係含有以下述一般 式（1 )或（2 )所示之化合物之醌二疊氮基磺酸酯者： 本紙張尺度適用子國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 一裝· 、1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 594405 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍

   (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 【裝· 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (式中，Ri、R2、R3、r4、r5、R6 以及 R7 分 別獨立表示氫原子、取代或無取代之碳數1至5之烷基、 取代或無取代之碳數4至8之環烷基）。 5 · —種光阻膜，其特徵爲：將如申請專利範圍第1 項至第4項中任一項之厚膜用正型光阻組成物在基板上塗 佈、乾燥而成膜厚5至1 〇 〇 // m之光阻膜。 6 · —種凸塊形成方法，其特徵爲：在電子部件之基 板上，將申請專利範圍第1項至第4項中任一項之厚膜用 正型光阻組成物塗佈，介由既定之圖案之遮罩物而對所得 之塗膜進行放射線照射，其次進行電鍍處理者。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）