TW389977B - Substrate transfer device and substrate processing device using the same - Google Patents

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Description

A7 ___ 五、發明説明（1 ) 發明背景： 1 .產業上之利用領域 本發明係關於例如搬運L C D基板等之大型基板的基 板搬運裝置及使用該裝置之基板處理裝置· 2 .先行之相關技術 於液晶顯示器（LCD)的製造上，將光致抗蝕（ photoresist )液塗布於玻璃製之L C D基板上形成抗蝕（ resist)膜，對應電路圖形將感光抗蝕膜進行曝光，稱之爲 顯像處理，即所謂利用光刻独（photolithography )技術形 成電路圖形。 經濟部中央橒準局兵工消费合作社印策 (請先閱請背而之注意事項再填艿本頁) 自以往，此一連串的塗布·顯像處理，係由施行此類 處理之各處理裝置予以一體化之系統來進行》如此之系統 *具有實施洗淨處理、塗布處理、顯像處理、加熱處理等 各種處理之處理部、及能夠將容納複數基板之基板匣（ cassette )予以載置的里站（cassette station )。在匣站與 處理部之搬運機構之間、設有爲了在此之間傳遞基板之基 板搬運裝置。 如此之基板搬運裝置，是可以移動於沿著並列配置於 匣站之複數個基板匣所設之搬運通路而構成，並具有支持 基板被稱之爲夾鉗（pincette )的支持構件、及可以進退移 動地支持支持構件之基底構件、及可在水平面內迴旋地支 持基底構件並設有可以昇降的昇降構件、及設於昇降構件 的兩側，於昇降構件在昇降移動之際，能支持並導引昇降 本紙乐尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（210X297公ft ) -4- A7
Bi 五、發明説明（2 ) 構件之支持·導引構件。而且，支持·導引構件爲不妨礙 基底構件之迴旋，使該上端保持位於基底構件的之下方的 位置上。 經漪部中央標隼局員工消f合作社印氧 (請七閱·Λ背面之注意事項存婊巧本頁) 但，對於L C D基板最近愈來愈要求大型化之要求曰 益提^'高，從以往的6 5 Ο X 5 5 0 m m *例如被要求到如 8 3 Ο X 6 5 0 mm般之顯著大型化。如此，當基板一大 型化時，在基板匣內之基板的彎曲量變大。因此，不得不 讓基板匣內的基板相互間的間隔加大•另一方面，從提高 處理量（through.put )之觀點上，有必要維持1個基板匣 所容納之基板的數查。爲此，基板匣的高度變高，增加了 基板搬運機構的昇降構件的移動距離（stroke )。這種情 況下，在支持·導引構件上端位於基底構件下方之位置的 關係上，對其上端位置，於傳遞基板匣的緣下段的基板時 ，若要配合不會妨礙到基底構件迴旋之位置，則必須把導 .引、支持構件的下端位置下降到比地面更低之位置•如此 之情形，會迫使使用者施以附加工事，而造成不適當之做 法。另外，要是爲了防止這樣的事情，會成爲使支持·導 引構件突出於比基底構件更爲上方之構造，此時若要使基 底構件能夠進行迴旋，則搬運裝置本身就得非常地巨大· 發明槪要： 本發明的目的，是在提供一種不用做附加之工程等， 且不會造成裝置的大型化，又可以因應於搬運大型基板時 ’昇降構件其移動距離的增加*之基板搬運裝置及使用該 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（210X297公釐）-5- A? _B? 五、發明説明（3 ) 裝置之基板處理裝置· 依據本發明之第1觀點，係在提供具備有： 支持基板之基板支持構件、及 在水平方向可以移動地支持基板支持構件之基底構件 、及 可將基底構件在水平面內迴旋地支持，並設有使其可 以昇降之昇降構件、及 以單邊夾持狀態支持昇降構件，且於.昇降構件在昇降 移動之際導引昇降構件之支持·導引構件之基板搬運裝置 〇 依據本發明之第2觀點，係在提供具備有： 支持基板之基板支持構件、及 在水平方向可以移動地支持基板支持構件之基底構件 、及. 設於基底構件內，使前述支持構件移動之第1驅動機 構、及 經濟部中央標隼局員工消费合作社印策 <誚1閏#背面之注意事項再^本頁) 可將基底構件在水平面內迴旋地支持，並設有使其可 以昇降之昇降構件、及 設於昇降構件內，使前述基底構件迴旋轉動之第2驅 動機構、及 以單邊夾持狀態支持昇降構件，且於昇降構件在昇降 移動之際導引昇降構件之支持·導引構件、及 使前述昇降構件昇降之第3驅動機構之基板搬運裝置 本紙張尺度適用中國國家標準（CN'S Μ4規格（2丨0X297公釐> -6- A7 ___B7_ 五、發明説明（4 ) 依據本發明之第3觀點，係針對於被處理基板施以所 定處理之基板處理裝置，提供具備有： 對被處理基板施以所定處理之處理部、及 在基板搬出入部或是其他之裝置與前述處理部之間進 行基板傳遞之基板搬運裝置，其中前述基板搬運裝置，係 具有： 支持基板之基板支持構件、及 在水平方向可以移動地支持基板支持構件之基底構件 、及 可將基底構件在水平面內迴旋地支持，並設有使其可 以昇降之昇降構件、及 以單邊夾持狀態支持昇降構件，且於昇降構件在昇降 移動之際導引昇降構件之支持·導引構件之基板處理裝置 〇 依據本發明之第4觀點，係針對於被處理基板施以所 定處理之基板處理裝置，提供具備有： Μ濟部中央標卑局員工消费合作社印製 {TiiLig讀背而之注意事項再填巧本頁) 對被處理基板施以所定處理之處理部、及 在基板搬出入部或是其他之裝置與前述處理部之間進 行基板傳遞之基板搬運裝置，其中前述基板搬運裝置，係 具有： 支持基板之基板支持構件、及 在水平方向可以移動地支持基板支持構件之基底構件 、及 設於基底構件內，使前述支持構件移動之第1驅動機 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4规格（210X297公龙）.J .
經濟部中央螵羋局員工消费合作社印$L A7 R-> 五、發明説明（5 ) 構、及 可將基底構件在水平面內迴旋地支持，並設有使其可 以昇降之昇降構件、及 設於昇降構件內，使前述基底構件迴旋轉動之第2驅 動機構、及 以單邊夾持狀態支持昇降構件，且於昇降構件在昇降 移動之際導引昇降構件之支持·導引構件、及 使前述昇降構件昇降之第3驅動機構之基板處理裝置 〇 依據本發明，因爲支持·導引構件以單邊夾持狀態來 支持昇降構件，所以即使支持·導引構件突出於基底構件 之上方，也能夠使基底構件迴旋，而使不會招致裝置的大 型化成爲可能。因此，支持·導引構件的高度能夠任意設 定，而不必做附加之工程等，且不會招致裝置的大型化， 可以因應搬運大型基板時之昇降構件的移動距離。在以往 *雖然於搬運大型基板時，從取得足夠支持力的觀點上， 認爲有必要採用在兩側做導引之方式，但在本發明中，發 明出以下述之單邊夾持方式也能取得十分足夠的支持力， 使本發明達到完成而無遺》 圖面之簡單說明： 第1圖係顯示適用於作爲本發明之對象的基板搬運裝 置的抗蝕劑塗布·顯像系統之平面圔。 第2圖係顯示於第1圖之塗布·顯像系統中，其傅遞 (誚先開讀背而之_注意事項再墦寫本頁)
,1T c_ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4坭格（210X297公尨> -8- 經濟部中央標準局貝工消费合作社印掣 A? B? 五、發明説明（6 ) 部搬運裝置的配置狀態的平面圈· 第3圖係顯示於第1圖之塗布·顯像系統中，其傳遞 部搬運裝置的立體圓· 第4圖係顯示於第1圖之塗布•顯像系統中，其傳遞 部搬運裝置的水平斷面圖》 第5圓係顯示於第1圖之塗布·顯像系統中，其傳遞 部搬運裝置的垂直斷面圖· 圖號說明：— G :基板 C :基板匣 1 :匣站 2 :處理部 3 :轉接接口部 1 2，1 3，1 4 :搬運通路 1 7，1 8，1 9 :主搬運裝置 2 1 a，2 1 b :洗淨處理單元 2 2 :抗蝕劑塗布處理單元 2 3 :周緣抗蝕劑除去單元 24a，24b，24c :顯像處理單元 2 5 :紫外線照射·冷卻單元 2 7 :冷卻單元 26，28，31:加熱處理單元 29，32，33 :加熱處理.冷卻單元 本紙張尺度適用中國國家標準（〇«)六4規<格（210/ 297公釐） -9- --------ζ私------1Τ------ο (^先閱^背面之"意亨項再球{:,4本頁) 經濟部中央標率局貝工消費合作社印製 A" B7 五、發明説明（7 ) 3 0 :黏著處理·冷卻單元 3 6 :延伸部 3 7 :緩衝臺 3 8 :搬運機構 3 9 :搬運臂 41:基板支持構件 4 2 :基底構件 4 3 :昇降構件 4 4 :支持 • ‘ 導引構件 4 7 :狹口 4 8 =板構件 4 9 ί 3,4 9 b :滑動件 5 0 ί a > 5 0 b :導引棒 5 2 :突出構件 54，76，77:(遮蔽）皮帶 5 8 :球珠 64，74 :排氣通道 6 6 :連結部 6 1，7 1 :馬達 7 2，7 3 :皮帶輪 59，65，75:排氣扇 本發明之最佳實施形態： 以下，參照添付之圖面詳細地說明本發明之實施形態 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS > Α4規格（210X297公犮〉.-J〇. --------ο 裝------1T------二 /V /L· (請先閱請背面之ίί意事項再填；V5本頁) . A 7 _^_ 五、發明説明（8 ) ο 第1圖係顯示適用於本發明之L CD基板的塗布·顯 像系統之平面圖。 此塗布·顯像處理系統，係具備有：可載置收容複數 個基板G之基板匣C的匣站1、及具有爲了於基板G上施 以包括抗蝕劑塗布及顯像之一連串處理的複數個處理單元 的處理部2、及在與曝光裝置（圖示省略）之間擔任傳遞 基板G之轉接接口（ interface )部3，並且於處理部2之 兩端分別配置有匣站1及轉接接口 3 » 匣站1，係具備有爲了在基板匣C和處理部2中間進 行LCD基板搬運之搬運部1〇。並且，於匣站1中進行 基板匣C的進出搬運。又，搬運部1 〇具備有可以移動的 搬運裝置11，其係沿著基板匣之排列方向所設的搬運通 路1 0 a上，藉由該搬運裝置1 1進行基板G在基板匣C 和處理部2之間的搬運。 經濟部中央標準局！-¾工消费合作社印裝 <請先閲请背而之•注意ί項再填艿太頁) ο. 處理部2，係分爲前段部2 a及中段部2 b及後段部 2c，各別於其中央處有搬運通路12、13、14，並 於這些搬運通路的兩側配設有各處理單元。而且於其間設 有中繼部15、16· 前段部2 a，係沿著搬運通路1 2具備有可以移動之 主搬運裝置1 7，搬運通路1 2之一邊側上，配置有2個 洗淨單元（SCR) 21a、21b，在搬運通路12之 另一邊側，則配置有紫外線照射·冷卻單元（U V / C0L) 2 5，其各別之上下2段上則配置有被稹層而成 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS M4悦格（210X297·公趄） 11 - 經濟部中央標準局員工消资合作社印裂 A7 B7 五、發明説明（9 ) 之加熱處理單元（HP) 2 6及冷卻單元（COL) 27 〇 又，中段部2 b，係沿著搬運通路13具備有可移動 之主搬運裝置1 8，在搬運通路1 3的一方側上，一體地 設有抗蝕劑塗布處理單元（C T ) 2 2及可將基板G的周 緣部的抗蝕劑除去之周緣抗蝕劑除去單元（ER) 2 3， 而於搬運通路1 3的另一方側，配置被二段稹層而成之加 熱處理單元（Η P ) 2 8、及加熱處理單元與冷卻處理單 元上下稹層而成之加熱處理、冷卻單元（HP/COL) 29，以及黏著（adhes i on)處理單元與冷卻單 元上下積層而成之黏著處理·冷卻單元（AD/COL ) 3 0° 再者，後段部2 c ’係沿著搬運通路1 4具備有可移 動之主搬運裝置1 9，在搬運通路1 4的一方側上，配置 有3個顯像處理單元24a、24b、24c，而於搬運 通路1 4的另一方側’配置有被上下二段積層而成之加熱 處理單元31、及加熱處理單元與冷卻處理單元上下積層 而成之2個加熱處理·冷卻單元（HP/COL) 32、 3 3 又’處理部2，係由包夾著搬運通路之一方側上，僅 配置有如洗淨處理單元2 1 a、抗蝕劑處理單元2 2、顯 像處理單元2 4 a等之回轉（spinner )系之單元，而另一 方側上，僅有加熱處理單元或冷卻處理單元等之冷熱系處 理單元爲構造。 本紙張尺度適用中國國家標準（CMS ) A4規格（210X297公龙） -12- --------------ir------ο {誚先閲讳f面之if意事項再填i?*J本頁) 經濟部中央標準局只工消费合作社印製 A7 B7 五、發明説明（1〇) 又，中繼部1 5、1 6之回轉系單元配置側的部分上 ，設置有藥液供給單元3 4，並設有主搬運裝置可以進出 之空間3 5。 轉接接口部3，在與處理部2之間於傳遞基板時設有 暫時保持基板的延伸部3 6，及於其兩側設有配置緩衝基 板匣的兩個緩衝臺3 7、及在上述這些與曝光裝置（圖示 省略）之間進行基板G的進出入搬運的搬運機構3 8。搬 運機構3 8係具備有搬運臂3 9，其係能移動於設在沿著 延伸部3 6及緩衝臺3 7排列方向之搬運通路3 8 a上， 藉由此搬運臂3 9來進行基板G在處理部2和曝光裝置間 的搬運。 藉由將如此之各處理單元匯集而成一體化，因而能達 到省空間及具有處理上之有效率化。 於如此所構成之塗布·顯像處理系統裡，基板匣C內 的基板G被搬運至處理部2，於處理部2中，首先，以前 段部2a之紫外線照射·冷卻單元（UV/COL) 25 施以表面改質·洗淨處理及其後之冷卻後，以洗淨單元（ SCR) 21a、21b 施以除塵（scrubber )洗淨，然 後在加熱處理單元（HP ) 2 6中之一個加熱乾燥後，於 冷卻單元（COL)中之一個施以冷卻· 其後，基板G被搬運至中段部2 b，爲了提高抗蝕劑 的固定性，在單元3 0之上段的黏著處理單元（AD)裡 進行了疏水性處理（HMDS處理），在冷卻單元（ COL)冷卻後，在抗蝕劑塗布單元（CT) 22被塗以 本紙張尺度適用中國國家標率（CNS ) A4現格（210X297公釐） _ -J3 - (請先閱讀背面之ii意事項再硪巧本頁) 訂 ο
A 7 IT 五 '發明説明（11) 抗蝕劑，並於周緣抗蝕劑除去單元（ER) 23中將基板 G周緣多餘的抗蝕劑除去。然後，基板G在中段部2 b內 的加熱處理單元（HP)中的1個中被施以前属歐( pre.bake )處理後，在單元2 9或3 0之下段的冷卻單元（ C 0 L )中被冷卻。 .其後，基板G被載於主搬運裝置19從中繼部16經 由轉接接口部3部被搬運到曝光裝置，在該處所定的圖形 被曝光。然後，基板G再經由轉接接口部3被搬入，在顯 像處理單元（DEV) 24a、24b、24c其中之一 個中進行顯像處理，形成所定的圖形。顯像處理後的基板 G，於後段部2 c之其中之一個中的加熱處理單元（HP )中施以後燒皤f post.bake )處理後，於冷卻單元（ COL)中被冷卻後，再由主搬運裝置1 9、1 8、17 及搬運裝置11收容於匣站1上所定的基板匣裡。 經濟部中央標準局”"工消费合作社印裝 (請先閱请背而之;1意事項再填{?5本頁) 其次，有關在匣站1與處理部2間之搬運部1 0上的 搬運裝置11，請參照第2圖至第5圖，其詳細說明如下 。第2圖係顯示搬運部1 0之搬運裝置配置狀態的平面圖 ，第3圖爲該搬運裝置之立體圖，第4圖爲該水平斷面圖 ，第5圖爲其垂直斷面圖。 如第2圖所示，搬運裝置1 1，係沿著搬運通路1 2 可以移動地構成。此搬運裝置11，係如第3圖所示，係 具備有：爲傳遞基板而支持基板之基板支持構件4 1、及 使基板支持構件41於水平面內可被進退移動地支持之基 底構件4 2、及使基底構件4 2在水平面內可迴旋地支持 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS > Λ4規格（2丨0 X 297公浼〉-14- A7 五、發明説明（12 ) ，並可作昇降之昇降構件4 3、及將昇降構件4 3以單邊 支持狀態支持，並且於昇降構件4 3在昇降移動之際導引 昇降構件4 3之支持·導引構件44 ·而且，支持·導引 構件4 4中，其腳部4 5是處在被設於搬運通路之軌道 4 6所導引之狀態，藉由沒有圖示出之驅動裝置而能移動 在搬運通路1 2上，並藉由使支持·導引構件4 4在所定 之基板匣C的位置上移動，來進行基板對該基板匣C之進 出動作，又藉由移動至主搬運機構1 8位置上，進行基板 在與處理部2'之間的傳遞動作。 經濟部中央標準局员工消费合作社印装 昇降構件4 3之上下動作、基底構件4 2之迴旋動作 ，與基板支持構件4 1之進退移動的驅動控制，是爲了把 大型基板以高處理量且具有高搬運安定性來進行搬運，而 於動作之起動及停止時，並非以線性，而採用如描畫S字 一般地使速度變化之S字驅動。又，由提高處理量之觀點 ，採用了在1個動作尙未結束時便讓下一個動作起動之旁 通（pass )動作。再者，由搬運安定性的觀點，採用了於 複數個軸動作時，配合定速軸之終點，使其他軸動作之多 軸同期，以及移動距離很短的時候，控制加減速値之自動 加速（auto-acceleration )。 支持·導引構件4 4，內部形成爲中空的箱狀，如第 4圖及第5圖所顯示般，於其中寬方向之兩端部鉛直地設 有導引昇降構件43的一對導引棒50a、50b，此導 引棒50a、50b之背面側安裝有承受板51 a、 51b。又，在支持·導引構件44內部的中央附近，鉛 -15- . C裝 (Tfil閱谛背而之ii意事項再填巧本頁) •—'y /a\ 本紙張尺度適用中囷國家標準（CNS ) Λ4規格（210X297公楚） A7 經濟部中央標準局員工消费合作社印聚 五、發明説明（13) 直地設有爲讓昇降構件4 3進行昇降之螺桿螺絲5 2，該 螺桿螺絲5 2係藉由設於支持·導引構件4 4內之底部的 馬達5 7經由沒有圖示出之皮帶旋轉· 於昇降構件4 3的基端部，在寬方向的兩端側上，突 出於支持·導引構件內部形成有一對的連接部4 3 a、 4 3 b。在支持·導引構件的前面，於昇降構件4 3進行 昇降之際，在不妨礙到連接部43a、43b之移動，沿 其移動軌跡有狹口（ slit ) 4 7形成於鉛直方向上。連接部 4 3 a、4 3 b，係於支持·導引構件之內部，與平行地 設於支持·導引構件4 4前後面上之板構件4 8連接。而 且，於板構件4 8之寬方向之兩端部的後側上，安裝有滑 動件49a、49b，其分別各自外嵌於導引棒50a、 5 0b。 滑動件49 a、49b內部的嵌合部中•嵌入有球珠 58 »此球珠58，係被比被嵌入之空間爲大，爲所謂之 過大球珠，藉由施予該球珠5 8之預壓，提高了由導引棒 50a、50b的支持力。 於前述板構件4 8之中央，安裝有後方突起之突起構 件5 2，此突起構件5 2係鎖合於螺桿螺絲5 3。因此， 使馬達5 7驅動，藉由讓螺桿螺絲5 3轉動，昇降構件 43受導引棒50a、50b所導引而進行昇降。 如第3圖及第5圖顯示般，在昇降構件4 3的連接部 43a、43b上，安裝有上下方向之遮蔽皮帶54，此 遮蔽皮帶5 4具有將狹口 4 7遮蔽之機能。此遮蔽皮帶 本紙張尺度適用中國國家椟率（CNS > A4現格（210X297公釐） (請^閱請背>6之;1'意事項再^{?5本頁) .Γ梁· Γ
IL 經谇部中央標準局β工消费合作社印掣
Al _ B7_ 五、發明説明（14 ) 5 4 ’係以環圈狀圈掛在設於支持.導引構件4 4上端部 及下端部前面側之支持滾子5 5 a、5 5 b及該滾子後方 的滾子56a、56b上，而成爲能和昇降構件43 —起 移動。 如第5圖所顯示，昇降構件4 3是由向先端側逐漸變 薄而構成。而且，在其下端中央部，爲了讓基底構件4 2 迴旋’而將馬達6 1之軸以突出於上方之狀態來設置。另 一方面，於昇降構件4 3的先端部上，園筒狀的連結部 6 6夾介軸承6 7可轉動地被連結著，此連結部6 6上固 定有基底構件4 2。於馬達6 1之軸上安裝有皮帶輪6 2 ’此皮帶輪6 2與連結構件6 6下端部間，圈套有皮帶 6 3 ’藉由驅動馬達6 1，動力通過皮帶6 3及連結部 6 6，使基底構件42在水平面內迴旋。 在基底構件4 2內，有基底板7 0水平地延長，於基 底板7 0之基板支持構件尖端先端側的下面安裝有馬達 7 1。馬達7 1的回轉軸上安裝有皮帶輪（圖示省略）。 另一方面，基底板7 0之上方，於其且說兩端部分設有皮 帶輪72及73，此皮帶輪72及73間圈套有皮帶76 。皮帶輪7 3，係具有同軸的兩個皮帶圈套部分，而另一 個圈套部分上圈套有皮帶7 7，同時此皮帶7 7也圈套於 馬達7 1之皮帶輪。又，基板支持構件4 1和皮帶7 6間 ，係藉由連結構件（圖示省略）所連結，因此，藉由驅動 馬達71，而經由皮帶77及76，基板支持構件41可 在基底構件4 2上進行進退移動。此種情況下，設於基板 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（210Χ25»7公嫠）._ 訂U {請先閱讀背而之;i意事項再稹{?5本頁). 經濟部中央標窣局員工消費合作社印製 A7 _^_____B7__ 五、發明説明（15 ) 支持構件4 1之水平滑動件（圖示省略），可移行於設在 基底構件4 2上之滑軌42a (參照第3圖）。 在基底構件4 2內，從基底板7 0下側的馬達配置部 分之近旁朝向連結部6 6水平設有排氣通道7 4，通過連 結部6 6之內部空間，連接於昇降構件4 3之內部。並於 排氣通道7 4的入口部分設有排氣風扇7 5，可以強制地 進行排氣。 另一方面，在昇降構件4 3的內部，從連結部6 6經 由馬達6 1之驅動部分及連接部43a，貫通板構件4 8 到支持·導引構件4 4內部中設有排氣通道6 4 ·於此排 氣通道6 4的馬達6 1近旁部分處設有排氣風扇6 5，能 夠強制地進行排氣。 另外，於支持·導引構件4 4之底部，亦設有排氣風 扇5 9，可以從其下方排氣至裝置外部。因此，經由排氣 通道74、連結部66、排氣通道64、及支持·導引構 件4 4之內部向裝置外部強制地進行排氣。 藉由如此構成之搬運裝置11，在將基板G搬運至處 理部2時，首先，使支持·導引構件4 4沿著搬運通路 1 2移動，讓基底構件4 2迴旋，再讓基板支持構件4 1 定位於所定之基板匣C的相對應的位置上•然後，藉由讓 昇降構件4 3進行昇降，調整基板支持構件4 1的高度， 讓基板支持構件4 1前進取出一張基板G。其次，讓基底 構件4 2迴旋，使基板支持構件4 1得以面對處理部側， 並沿著搬運通路1 2讓支持·導引構件4 4移動，使基板 本紙張尺度適用中國國家標率（CNS ) A4規樁（210X297公兑) -18- {T43L閱讀背面之-注意事項再填巧本頁) 訂 ό A7 ____r? _ 五、發明説明（16 ) 支持構件4 1定位於對應搬運通路1 5的位置上。此時， 主搬運機構18移動至搬運通路15的匣站1之側端部位 置，由昇降構件4 3調整基板支持構件4 1的高度，使基 板支持構件4 1前進將基板G遞給主搬運機構1 8 · 藉由搬運裝置11，將已結束一連串處理後之基板G 收容於基板匣中時，讓支持·導引構件4 1面對處理部2 側，使之再對應於搬運通路1 5之位置上待機，基板G藉 由主搬運機構18被搬運至搬運通路15之匣站側端部之 際，使基板支持構件4 1前進接取基板G。並且，使基底 構件4 2迴旋之同時，使支持·導引構件4 4沿著搬運通 路1 2移動，將載置基板G之基板支持構件4 1相對應至 所定的基板匣C之位置。以此狀態，藉由讓昇降構件4 3 進行昇因來調整基板支持構件4 1之高度，使基板支持構 件4 1前進，將基板G收容於基板匣C中。 經濟部中央標準局貝工消f合作社印裝 (請#>閱讀背而之•注意事項再填巧本頁) 此時，在搬運裝置1 1中，由於玄持·導引構件44 以單邊夾持狀態支持昇降構件4 3，與以往之以兩側當導 引的情況相異，即使支持·導引構件4 4突起於基底構件 4 2之上方，也不會招致裝置之大型化，使得讓基底構件 4 2迴旋成爲可能·因此，可因應於基板的大型化所伴隨 之基板的彎曲，即使基板匣的高度變高’由於對支持·導 引構件4 4沒有髙度之限制，故不必對地板加施挖洞之類 的附加工程等，而能夠對應昇降構件之移動距離的增加。 又，由於來自嵌入於滑動件49a、49b內部的嵌 合部之球珠5 8所賦予之預壓’所以能提高由導引棒 本紙张尺度適用中國國家標準（CNS >A4規格（210x297公釐）-19- 經濟部中央標準局K工消费合作杜印製 A7 _B7_ 五、發明説明（17) 50a、50b支持·導引構件之支持力，使得於單邊夾 持狀態下，更加安全地支持大型基板成爲可能。再者，昇 降構件4 3，其基端部的厚度較厚，隨著先端側而變薄， 因此在構造上是爲安定。 又，由基底構件4 2之排氣通道7 4、連結部6 6之 內部空間、昇降構件4 3之排氣通道6 4構成連績之排氣 通道，在馬達7 1及6 1近旁各自地設有排氣風扇7 5及 6 5，強制地將來自驅動系所發生之微小粒子經由通過排 氣通道導引至'支持·導引構件4 4，再行排出裝置外*所 以可以防止微小粒子之飛散而對被處理基板G有不良的影 響。再者，由於可藉由形成於支持·導引構件4 4前面之 狹口 4 7安裝於昇降構件4 3之遮蔽皮帶5 4所遮蔽，所 以能防止來自支持·導引構件4 4內的驅動系所發生的微 小粒子飛散。 又，本發明不被僅限定於上述之實施形態，可以做種 種形態來實施。例如，於上述之實施形態中，雖然對於適 用於匣站1與處理部2之間之搬運裝置之實施做說明，但 不限於此，例如，對處理部.2與曝光裝置之間也在能做爲 在轉接接口上的搬運裝置來使用》 再者，上述之實施形態，是顯示本發明適用於抗蝕劑 塗布·顯像單元之例但不限於此，亦可適用於其他之處理 。又，上述之實施形態中，是以L CD基板作爲基板來使 用，但不限於此，對其他基板之處理場合也可適用之。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（2丨0X297公浼）-20- ----------- <讨先閏讀许而<注¾.事邛再填wr本頁) 訂
J

Claims (1)

  1. AS B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1 .一種基板搬運裝置，其特徵爲具備有： 支持基板之基板支持構件、及 (請先Μ讀背面之注$項再填寫本页) 在水平方向可以移動地支持基板支持構件之基底構件 、及 可將基底構件在水平面內迴旋地支持，並設有使其可 以昇降之昇降構件、及 以單邊夾持狀態支持昇降構件，且於昇降構件在昇降 移動之際導引昇降構件之支持·導引構件。 2 .如申請專利範圍第1項之基板搬運裝置，其中前 述支持·導引構件係可以沿搬運通路移動· 3 .如申請專利範圍第1項之基板搬運裝置，其中於 前述支持·導引構件之前述昇降構件的支持部，係夾介附 加有預壓之構件。 經濟部中央標率局員工消費合作社印11 4 .如申請專利範圍第1項之基板搬運裝置，其中前 述支持·導引構件中，係有導引前述昇降構件之導引部並 形成爲箱型，前述昇降構件，有對導引部之連接構件，在 前述支持·導引構件之前面，形成有前述昇降構件之連接 部可以移動之狹口，連接於前述昇降構件，與前述昇降構 件一體移動，並且有遮蔽前述狹口之遮蔽皮帶。 5 . —種基板搬運裝置，其特徵爲具備有： 支持基板之基板支持構件、及 在水平方向可以移動地支持基板支持構件之基底構件 、及 設於基底構件內，使前述支持構件移動之第1驅動機 本紙張尺度逋用中國國家揉率（CNS > 格（210X297公釐）.21 .
    經濟部中央標準局負工消费合作社印簟 六、申請專利範園 構、及 可將基底構件在水平面內迴旋地支持，並設有使其可 以昇降之昇降構件、及 設於昇降構件內，使前述基底構件迴旋轉動之第2驅 動機構、及 以單邊夾持狀態支持昇降構件，且於昇降構件在昇降 移動之際導引昇降構件之支持·導引構件、及 使前述昇降構件昇降之第3驅動機構。 6 .如申請專利範圍第5項之基板搬運裝置，其中進 一步具備有： 由前述基底構件經前述昇降構件內到前述支持•導引 構件內之排氣通道、及 經由排氣通道將來自前述第1及第2驅動所產生之微 小粒子強制地經由前述排氣通道與前述支持•導引構件內 予以排氣之排氣手段· 7 .如申請專利範圍第6項之基板搬運裝置·其中前 述排氣手段，係具有： 設於前述基底構件之第1風扇、及 設於前述昇降構件之第2風扇、及 設於前述支持·導引構件之第3風扇。 8 .如申請專利範圍第5項之基板搬運裝置，其中前 述支持·導引構件，係可以沿搬運通路移動。 9 .如申請專利範園第5項之基板搬運裝置，其中於 前述支持·導引構件之前述昇降構件的支持部，係夾介附 (讀先W讀背面之注項再填寫本頁) T 本紙張尺度逋用中國國家搞率< CNS ) A4规格（210X297公釐） _ 22 - 經濟部中央椹隼局貝工消费合作社印轚 B8 C8 D8 六、申請專利範固 加有預壓之構件· 10 .如申請專利範圍第5項之基板搬運裝置，其中 前述支持·導引構件中，係有導引前述昇降構件之導引部 並形成爲箱型，前述昇降構件，有對導引部之連接構件， 在前述支持·導引構件之前面，形成有前述昇降構件之連 接部可以移動之狹口，連接於前述昇降構件，與前述昇降 構件一體移動，並且有遮蔽前述狹口之遮蔽皮帶。 1 1 種基板處理裝置，係針對於被處理基板施以 所定處理的基板鹿理裝置，其特徵爲具備有： 對被處理基板施以所定處理之處理部、及 在基板搬出入部或是其他裝置與前述處理部之間進行 基板傳遞之基板搬運裝置：其中前述基板搬運裝置，係具 有： 支持基板之基板支持構件、及 在水平方向可以移動地支持基板支持構件之基底構件 、及 可將基底構件在水平面內迴旋地支持，並設有使其可 以昇降之昇降構件、及 以單邊夾持狀態支持昇降構件，且於昇降構件在昇降 移動之際導引昇降構件之支持•導引構件· 1 2 .如申請專利範圔第1 1項之基板處理裝置，其 中前述基板搬運裝置之前述支持·導引構件係具有移動之 搬運通路。 13.如申請專利範圍第11項之基板處理裝置’其 本紙張尺度適用中國《家椹车（CNS)A4规格（210x297公兼）-23 - {請先H讀背面之注意寧項再填寫本頁> 訂 經濟部中央標準局貝工消費合作社印氧 A8 B8 C8 D8六、申請專利範困 中於前述支持·導引構件之前述昇降構件的支持部，係夾 介附加有預壓之構件。 1 4 .如申請專利範圍第1 1項之基板處理裝置，其 中前述支持·導引構件中，係有導引前述昇降構件之導引 部並形成爲箱型，前述昇降構件，有對導引部之連接構件 ’在前述支持·導引構件之前面，形成有前述昇降構件之 連接部可以移動之狹口，連接於前述昇降構件，與前述昇 降構件一體移動，並且有遮蔽前述狹口之遮蔽皮帶。 1 5 . —種基板處理裝置，係針對於被處理基板施以 所定處理之基板處理裝置，其特徵爲具備有： 對被處理基板施以所定處理之處理部、及 在基板搬出入部或是其他之裝置與前述處理部之間進 行基板傳遞之基板搬運裝置，其中前述基板搬運裝置，係 具有： 支持基板之基板支持構件、及 在水平方向可以移動地支持基板支持構件之基底構件 、及 設於基底構件內，使前述支持構件移動之第1驅動機 構、及 可將基底構件在水平面內迴旋地支持，並設有使其可 以昇降之昇降構件、及 設於昇降構件內，使前述基底構件迴旋轉動之第2驅 動機構、及 以單邊夾持狀態支持昇降構件，且於昇降構件在昇降 本紙張尺度速用中國«家揉率（CNS ) A4規格（210X297公釐) · 24 - (請先»讀背面之注意事項再填寫本筲) 訂 經濟部中央樣準局員工消費合作社印製 B8 C8 _ D8六、申請專利範困 移動之際導引昇降構件之支持.導引構件、及 使前述昇降構件昇降之第3驅動機構之基板處理裝置 〇 1 6 ·如申請專利範圔第1 5項之基板處理裝置*其 中進一步具備有： 由前述基底構件內經前述昇降構件內到前述支持.導 引構件內之排氣通道、及 經由排氣通道將來自前述第1及第2驅動所產生之微 小粒子強制地經由前述排氣通道與前述支持·導引構件內 予以排氣之排氣手段。 1 7 ·如申請專利範圔第1 6項之基板處理裝置，其 中前述排氣手段，係具有： 設於前述基底構件之第1風扇、及 設於前述昇降構件之第2風扇、及 設於前述支持·導引構件之第3風扇* 1 8 .如申請專利範圔第1 5項之基板處理裝置，其 中前述基板搬運裝置之支持·導引構件係具有移動之搬運 通路。 1 9 .如申請專利範圍第1 5項之基板處理裝fi，其 中於前述支持·導引構件之前述昇降構件的支持部，係夾 介附加有預壓之構件。 2 0 .如申請專利範圍第1 5項之基板處理裝置，其 中前述支持·導引構件中，係有導引前述昇降構件之導引 部並形成爲箱型，前述昇降構件，有對導引部之連接構件 (請先《讀背面之注意寧項再填寫本頁) 本纸張尺度逋用中國國家揲準（CNS > A4规格（210X297公釐）.25 - A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍，在前述支持·導引構件之前面，形成有前述昇降構件之 連接部可以移動之狹口，連接於前述昇降構件，與前述昇 降構件一體移動，並且有遮蔽前述狹口之遮蔽皮帶。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局負工消费合作社印聚 本紙張尺度逋用中國國家揉準（CNS ) A4规格（210X297公釐）
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