TW201706639A - 具有非偏光部之偏光件 - Google Patents

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Masahiro Yaegashi
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Abstract

本發明提供一種具有形狀凹凸少之非偏光部的偏光件。本發明之偏光件係具有非偏光部之偏光件，且該非偏光部之形狀整合度係0.05以下。若為如此之偏光件，非偏光部之形狀變形的部分少，例如，藉由使用該偏光件之非偏光部作為對應於影像顯示裝置之攝影機部的部分，可提高對齊加工性，因此可良好地進行攝影機之對位。

Description

具有非偏光部之偏光件 技術領域
本發明係有關於一種具有非偏光部之偏光件。
背景技術
行動電話、筆記型電腦(PC)等之影像顯示裝置上搭載有攝影機等之內部電子零件。以提高如此之影像顯示裝置的攝影機性能等為目的，已進行了各種檢討(例如，專利文獻1至7)。但是，由於智慧型手機、觸控面板式之資訊處理裝置的急速普及，希望進一步提高攝影機性能等。此外，為因應影像顯示裝置之形狀的多樣化及高機能化，需要部分地具有偏光性能之偏光板。為工業地及商業地實現該等需求，希望以可容許之成本製造影像顯示裝置及/或其零件，而為確立如此技術仍有各種需要檢討之事項。例如，在具有攝影機之影像顯示裝置中，需要對應攝影機之部分沒有偏光性能。具有部份偏光性能之部分的形狀變形時，有攝影機之對位產生問題的情形。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本特開2011-81315號公報
專利文獻2：日本特開2007-241314號公報
專利文獻3：美國專利申請案公開第2004/0212555號說明書
專利文獻4：韓國公開專利第10-2012-0118205號公報
專利文獻5：韓國專利第10-1293210號公報
專利文獻6：日本特開2012-137738號公報
專利文獻7：日本特開2014-211548號公報
發明概要
本發明係為解決上述習知課題而作成，其主要目的在於提供一種具有形狀凹凸少之非偏光部的偏光件。
本發明之偏光件係具有非偏光部之偏光件，且該非偏光部之形狀整合度係0.05以下。
在一實施形態中，上述非偏光部之二色性物質含量係1.0重量%以下。
在一實施形態中，上述非偏光部之鹼金屬及/或鹼土金屬之含量係3.6重量%以下。
在一實施形態中，上述非偏光部是對應於所搭載之影像顯示裝置的攝影機部。
本發明之另一方面係提供一種偏光板。該偏光板包含上述偏光件。
本發明之又一方面係提供一種影像顯示裝置。該影像顯示裝置包含上述偏光板。
依據本發明，可提供一種偏光件，其具有非偏光部之形狀整合度為0.05以下之非偏光部。若為如此之偏光件，非偏光部之形狀變形的部分少，例如，藉由使用該偏光件之非偏光部作為對應於影像顯示裝置之攝影機部的部分，可提高對齊加工性，因此可良好地進行攝影機之對位。
1,10‧‧‧偏光件
2‧‧‧非偏光部
20‧‧‧保護薄膜
30,50‧‧‧表面保護薄膜
51‧‧‧露出部
60‧‧‧黏著劑層
71‧‧‧貫穿孔
100‧‧‧偏光薄膜積層體
a,b‧‧‧距離
圖式之簡單說明
圖1係本發明一實施形態之偏光件的平面圖。
圖2A係說明形狀整合度之算出方法的示意圖。顯示設計之非偏光部外周(實線)位於實際形成之非偏光部外周(非偏光部近似圓)(虛線)的外側時，設計之非偏光部外周與非偏光部近似圓外周的距離a。
圖2B係說明形狀整合度之算出方法的示意圖。顯示設計之非偏光部外周(實線)位於實際形成之非偏光部外周(虛線)的內側時，設計之非偏光部外周與非偏光部近似圓外周的距離b。
圖3係本發明一實施形態中使用之偏光薄膜積層體的概略截面圖。
用以實施發明之形態
以下，說明本發明之一較佳實施形態，但本發明 不限於該等實施形態。
A.偏光件
圖1係本發明一實施形態之偏光件的平面圖。偏光件1形成有非偏光部2。非偏光部2係藉由使偏光件含有之二色性物質含量比其他部分(即，具有偏光性能之部分)少來形成。依據如此之結構，在偏光件中，相較於機械地(具體而言，藉由使用雕刻刀衝孔機、繪圖機、水刀等機械地去除之方法)形成孔之情形，可避免破裂、分層(層間剝離)、糊擠出等品質上之問題。此外，藉由減少偏光件含有之二色性物質本身的含量，亦可防止非偏光部之透射率隨著使用偏光件而降低。
在圖示例中，小圓形之非偏光部2形成在偏光件之上端部中央部，但非偏光部之配置及尺寸等可適當設計。例如，可依據所搭載之影像顯示裝置的攝影機部位置及尺寸等來設計。具體而言，可設計成非偏光部未對應於所搭載之影像顯示裝置的顯示畫面。非偏光部之形狀可舉例如：圓形、橢圓形、正方形、矩形、菱形等。
本發明偏光件之非偏光部的形狀整合度係0.05以下，且宜為0.025以下。形狀整合度係顯示相對於設計之非偏光部的外周，實際形成之非偏光部形狀之放射方向的凹凸為何種程度的指標。若形狀整合度係0.05以下，相對於設計之非偏光部的形狀，非偏光部之形狀的凹凸更少，即，表示可製得具有接近所希望形狀(設計之形狀)之非偏光部的偏光件。例如，以該偏光件之非偏光部對應於影像顯 示裝置之攝影機部之方式使用如此之偏光件時，可提高對齊加工性，因此可良好地進行攝影機之對位。形狀整合度為0更佳。在本說明書中，形狀整合度係藉由以下方法算出之值。
以非偏光部為圓形之情形為例，具體地說明形狀整合度之算出方法。首先，使用影像感測器，進行所形成之非偏光部的邊緣檢測，檢測所形成之非偏光部(非偏光部近似圓)的外周。在此，有非偏光部及偏光件之邊界位於設計之非偏光部外周的外側的情形及位於內側的情形。圖2A及圖2B係示意圖，顯示設計之非偏光部外周與實際形成之非偏光部(非偏光部近似圓)外周的關係。在圖2A及圖2B中，實線部分地顯示實際形成之非偏光部的外周，而虛線部分地顯示設計之非偏光部的外周。非偏光部近似圓之外周位於設計之非偏光部外周的外側時(即，圖2A之情形)，測量設計之非偏光部外周與非偏光部近似圓之外周的距離a。此外，非偏光部近似圓之外周位於設計之非偏光部外周的內側時(即，圖2B之情形)，測量設計之非偏光部外周與非偏光部近似圓之外周的距離b。如此，非偏光部近似圓之每中心角2°進行測量，共計180點。由在各點之測得之值，分別決定a之最大值及b之最大值。設決定之最大值分別除設計之非偏光部直徑而得之值的總和為形狀整合度。
形狀整合度=距離a之最大值/設計之非偏光部直徑+距離b之最大值/設計之非偏光部直徑
此外，非偏光部為圓以外之形狀時，可如下地算 出形狀整合度。例如，設計之非偏光部為橢圓形時，可使用連接設計之橢圓中心與距離a或b為最大之點的直線及橢圓之外周的交點x及x'的距離來取代直徑。另外，設計之非偏光部為正多角形時，可使用連接該正多角形之外接圓中心與距離a或b為最大之點的直線及正多角形之外周的交點y及y'的距離。
偏光件代表的是由含有二色性物質之樹脂薄膜構成。偏光件含有之二色性物質可舉碘、有機染料等為例。該等二色性物質可單獨使用，亦可組合二種以上使用。其中以使用碘為佳。這是因為如後所述地，藉由接觸鹼性溶液，可還原偏光件含有之碘錯合物而由偏光件去除，結果，可良好地製得具有部分之偏光性能的偏光件(具有非偏光部之偏光件)。
非偏光部2係相較於偏光件1之其他部分(具有偏光性能之部分)，二色性物質含量少之部分。非偏光部含有之二色性物質含量宜為1.0重量%以下，且0.5重量%以下較佳，而0.2重量%以下更佳。此外，非偏光部之二色性物質含量的下限值通常在檢測極限值以下。若非偏光部之二色性物質的含量在如此之範圍內，不僅可賦予非偏光部所希望之透明性，在使用非偏光部作為對應於影像顯示裝置之攝影機的部分時，由亮度及色調兩方面的觀點來看，亦可實現非常優異之攝影性能。此外，使用碘作為二色性物質時，非偏光部之碘含量係由藉螢光X光分析測得之X光強度，藉由使用標準試料預先作成之檢量線求得的值。
偏光件之非偏光部以外之部分(具有偏光性能之部分)含有的二色性物質含量與非偏光部含有的二色性物質含量的差宜為0.5重量%以上，且1重量%以上更佳。藉由非偏光部以外之部分含有的二色性物質含量與非偏光部含有的二色性物質含量的差在如此之範圍內，非偏光部可具有充分之透明性，例如，可理想地使用非偏光部作為對應於影像顯示之攝影機部。
上述非偏光部之鹼金屬及/或鹼土金屬的含量為3.6重量%以下，且宜為2.5重量%以下，1.0重量%以下較佳，而0.5重量%以下更佳。若非偏光部之鹼金屬及/或鹼土金屬的含量在如此之範圍內，可良好地維持藉由與後述之鹼性溶液接觸所形成之非偏光部的形狀(即，可實現具有優異尺寸安定性之非偏光部)。該含量可，例如，由藉螢光X光分析測得之X光強度，藉由使用標準試料預先作成之檢量線求得。藉由在與後述之鹼性溶液接觸時，使接觸部之鹼金屬及/或鹼土金屬減少，可實現如此之含量。
非偏光部之透射率(例如，在23℃下以波長550nm之光測得之透射率)宜為50%以上，且60%以上較佳，75%以上更佳，而90%以上特佳。若為如此之透射率，可確保作為非偏光部之所希望的透明性。結果，使用非偏光部作為對應於影像顯示裝置之攝影機部的部分時，可防止對攝影機之攝影性能的不良影響。
偏光件(除非偏光部以外)宜在波長380nm至780nm之範圍內顯現吸收二色性。偏光件(除非偏光部以外) 之單體透射率(Ts)宜為39%以上，且39.5%以上較佳，40%以上更佳，而40.5%以上特佳。此外，單體透射率之理論的上限係50%，而實用的上限係46%。另外，單體透射率(Ts)係藉由JIS Z8701之2度視野(C光源)測量並進行視感度修正後之Y值，例如，可使用顯微分光系統(Lambda Vision製、LVmicro)來測量。偏光件(除非偏光部以外)之偏光度宜為99.8%以上，且99.9%以上較佳，而99.95%以上更佳。
偏光件(樹脂薄膜)之厚度可設定為任意之適當值。厚度宜為30μm以下，且25μm以下較佳，20μm以下更佳，而小於10μm特佳。另一方面，厚度宜為0.5μm以上，且1μm以上更佳。若為如此之厚度，藉由接觸鹼性溶液，可良好地形成非偏光部。此外，可縮短接觸鹼性溶液之時間。另外，有接觸鹼性溶液之部分的厚度比其他部分薄的情形。藉由使用厚度薄之樹脂薄膜，可減少接觸鹼性溶液之部分與未接觸鹼性溶液之部分的厚度差，因此可良好地進行與保護薄膜等其他構成元件的黏貼。
偏光件之形成材料可使用任意之適當樹脂。以使用聚乙烯醇系樹脂(以下，稱為「PVA系樹脂」)為佳。PVA系樹脂可舉例如：聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇可藉由皂化聚乙酸乙烯酯而製得。乙烯-乙烯醇共聚物可藉由皂化乙烯-乙酸乙烯酯共聚物而製得。PVA系樹脂之皂化度通常為85莫耳%以上且小於100莫耳%，且宜為95.0莫耳%至99.95莫耳%，而99.0莫耳%至99.93莫耳%更佳。皂化度可依據JIS K 6726-1994求得。藉由使用如此皂化度之PVA 系樹脂，可製得具優異耐久性之偏光件。皂化度過高時，恐有凝膠化之虞。
PVA系樹脂之平均聚合度可依目的適當地選擇。平均聚合度通常為1000至10000，且宜為1200至4500，而1500至4300更佳。此外，平均聚合度可依據JIS K 6726-1994求得。
在一實施形態中，偏光件呈長條狀，且形狀整合度0.05以下之非偏光部沿長條方向及/或寬度方向以預定間隔(即，以預定圖案)配置。如此之偏光件因為可切斷以配合影像顯示裝置所搭載之偏光件尺寸及影像顯示裝置之攝影機部位置來設定非偏光部的位置，所以製得預定尺寸之偏光件時的產率極佳。此外，因為可正確地設定非偏光部之位置，所以亦可良好地控制製得之預定尺寸偏光件中的非偏光部位置。因此，每一製得之預定尺寸偏光件的非偏光部位置偏移變小，故可製得沒有品質不均一之最終製品(預定尺寸之偏光件)。結果，製得之偏光件可有助於影像顯示裝置等電子裝置之多機能化及高機能化。
B.偏光件之製造方法
本發明之偏光件係，例如，在以含有二色性物質之樹脂薄膜之至少一部分露出的方式被保護薄膜被覆的狀態下，使鹼性溶液接觸該露出部並形成非偏光部而製得。在一實施形態中，使用偏光薄膜積層體，該偏光薄膜積層體具有含有二色性物質之樹脂薄膜及配置在該樹脂薄膜之一面側的表面保護薄膜，且具有含有二色性物質之樹脂薄膜露 出該一面側的露出部。藉由使用具有露出部之偏光薄膜積層體，可只使偏光件之所希望部分(即，由露出部露出之部分)與鹼性溶液接觸。藉由使偏光件及鹼性溶液接觸，可減少接觸部含有之二色性物質含量，因此可形成二色性物質之含量比其他部分低的非偏光部。
圖3係本發明一實施形態中使用之偏光薄膜積層體的概略截面圖。在該實施形態中，使用具有偏光件/保護薄膜之結構的偏光板。偏光薄膜積層體100係透過黏著劑層60在偏光件10/保護薄膜20之積層體的偏光件10表面積層表面保護薄膜50。表面保護薄膜50具有貫穿孔71。偏光薄膜積層體100具有由貫穿孔71露出偏光件10之露出部51。表面保護薄膜50可剝離地積層在偏光板(實際上是偏光件10)上。此外，當然，同樣之程序亦可適用於具有偏光板形態以外之形態的偏光件(例如，單一樹脂薄膜之偏光件、樹脂基材/偏光件之積層體)。
在一實施形態中，偏光薄膜積層體100亦可在未積層具有貫穿孔之表面保護薄膜50的面上，進一步積層另一表面保護薄膜(圖3中之表面保護薄膜30)。以下，具有貫穿孔之表面保護薄膜50亦稱為第一表面保護薄膜，而積層在偏光薄膜積層體100之未積層具有貫穿孔之表面保護薄膜側的表面保護薄膜30亦稱為第二表面保護薄膜。
B-1-1.含有二色性物質之樹脂薄膜
含有二色性物質之樹脂薄膜可使用上述樹脂薄膜。二色性物質宜使用碘。這是因為藉由如後述地接觸鹼性溶液， 可還原碘錯合物而減少碘含量，結果，可形成具有適合作為對應於攝影機之部分使用之特性的非偏光部。
如上所述，含有二色性物質之樹脂薄膜係可具有作為偏光件之機能的薄膜。具體而言，樹脂薄膜宜實施膨潤處理、延伸處理、上述二色性物質之染色處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等之各種處理，成為具有作為偏光件之機能的狀態。實施各種處理時，樹脂薄膜可為形成在基材上之樹脂層。基材與樹脂層之積層體可，例如，藉由在基材上塗布含有上述樹脂薄膜之形成材料之塗布液的方法、在基材上積層樹脂薄膜的方法等來製得。
上述染色處理係例如藉由將樹脂薄膜浸漬於染色液中來進行。染色液宜使用碘水溶液。相對於100重量份之水，碘之摻合量宜為0.04重量份至5.0重量份。由於可提高碘對水之溶解度，將碘化物摻合在碘水溶液中是理想的。碘化物宜使用碘化鉀。相對於100重量份之水，碘化物之摻合量宜為0.3重量份至15重量份。
在上述延伸處理中，樹脂薄膜代表的是單軸延伸至3倍至7倍。此外，延伸方向可對應於製得之偏光件的吸收軸方向。
偏光件(樹脂薄膜)中可含有硼酸。例如，上述延伸處理、交聯處理等時，藉由接觸硼酸溶液(例如，硼酸水溶液)，可含有硼酸。偏光件(樹脂薄膜)之硼酸含量係例如10重量%至30重量%。此外，與後述鹼性溶液之接觸部的硼酸含量係例如5重量%至12重量%。
此外，上述樹脂薄膜亦可實施任意之適當表面改質處理。表面改質處理可在樹脂薄膜全體上實施，亦可只在所希望部分(例如，與鹼性溶液接觸之部分)實施。表面改質處理可舉例如：電暈處理、電漿處理、真空UV照射、任意之適當表面改質劑塗布等。
B-1-2.表面保護薄膜
表面保護薄膜50設有貫穿孔71，且該貫穿孔71對應於製得之偏光件與鹼性溶液接觸的部分(即，相當於偏光薄膜積層體之露出部51的部分)。
表面保護薄膜之貫穿孔可，例如，藉由機械衝孔(例如，衝切、雕刻刀衝孔、繪圖機、水刀)或去除(例如，雷射剝蝕或化學溶解)保護薄膜之預定部分來形成。
表面保護薄膜宜為硬度(例如，彈性模數)高之薄膜。這是因為可防止貫穿孔之變形，特別在作成長條狀之偏光薄膜積層體使用時，可防止搬送及/或黏貼時之貫穿孔變形。表面保護薄膜之形成材料可舉例如：聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等之酯系樹脂、降冰片烯系樹脂等之環烯烴系樹脂、聚丙烯等烯烴系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、該等樹脂之共聚物樹脂等。其中，以酯系樹脂(特別是聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂)為佳。若為如此之材料，彈性模數非常高，可防止貫穿孔之變形，且在作成長條狀之偏光薄膜積層體使用時，具有即使搬送及/或黏貼時施加張力，貫穿孔亦難以產生變形之優點。
表面保護薄膜之厚度可設定為任意之適當值。例 如，由作成長條狀之偏光薄膜積層體使用時，具有即使搬送及/或黏貼時施加張力，貫穿孔亦難以產生變形之優點來看，表面保護薄膜之厚度為例如30μm至150μm。
表面保護薄膜之彈性模數宜為2.2kN/mm2至4.8kN/mm2。若表面保護薄膜之彈性模數在如此之範圍內，可防止貫穿孔之變形，特別在作成長條狀之偏光薄膜積層體使用時，具有即使搬送及/或黏貼時施加張力，貫穿孔亦難以產生變形之優點。此外，彈性模數係依據JIS K 6781測得。
表面保護薄膜之拉伸度宜為90%至170%。若表面保護薄膜之拉伸度在如此之範圍內，在作成長條狀之偏光薄膜積層體使用時，具有在搬送中不易斷裂之優點。此外，拉伸度係依據JIS K 6781測得。
B-1-3.黏著劑層
黏著劑層60之厚度宜為10μm以下，且5μm以下更佳。使用偏光薄膜積層體並接觸鹼性溶液時，由於在露出部之表面保護薄膜上附著氣泡，有時鹼性溶液無法充分地接觸露出部。露出部之尺寸小時或露出部之形狀複雜時，該影響顯著，恐有無法形成所希望形狀之非偏光部之虞。藉由黏著劑層之厚度在如此之範圍內，可藉由黏著劑之表面張力防止氣泡附著在露出部內。結果，可使鹼性溶液充分地接觸露出部，製得具有所希望形狀之非偏光部的偏光件。
黏著劑層可使用任意之適當組成物來形成。黏著劑層形成用組成物包含，例如，樹脂成分及任意之適當添 加劑。黏著劑之基底樹脂可使用任意之適當樹脂，且以玻璃轉移溫度Tg為0℃以下之樹脂為佳。具體而言，可舉丙烯酸系樹脂、矽氧系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂為例。由於即使是10μm以下之厚度亦可良好地維持表面保護薄膜與偏光件之積層狀態，丙烯酸系樹脂是理想的。
丙烯酸系樹脂宜為至少包含1種具有碳數1至14之烷基的丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯(以下，亦稱為(甲基)丙烯酸酯)的丙烯酸聚合物。上述丙烯酸聚合物宜含有50重量%至100重量%之具有碳數1至14之烷基的(甲基)丙烯酸酯作為單體成分。
具有碳數1至14之烷基的(甲基)丙烯酸酯可舉例如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二酯、(甲基)丙烯酸正十三酯、(甲基)丙烯酸正十四酯等。該等(甲基)丙烯酸酯可只使用1種，亦可組合2種以上使用。
其中，宜包含(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二酯、(甲基)丙烯酸正十三酯、(甲基)丙烯酸正十 四酯等具有碳數4至14之烷基的(甲基)丙烯酸酯。藉由包含具有碳數4至14之烷基的(甲基)丙烯酸酯，可輕易控制黏著力，因此具有優異再剝離性。
上述丙烯酸系聚合物，除了具有碳數1至14之烷基的(甲基)丙烯酸酯以外，亦可含有任意之適當其他單體成分。其他單體成分可舉例如：含磺酸基單體、含磷酸基單體、含氰基單體、乙烯酯類、芳香族乙烯化合物等之可有助於提高凝集力、耐熱性的單體成分、含羧基單體、含酸酐基單體、含羥基單體、含醯胺基單體、含胺基單體、含環氧基單體、N-丙烯醯基嗎福啉、乙烯醚類等之具有提高接著力或作為交聯化基點而作用之官能基的單體成分。其他單體成分可只使用1種，亦可組合2種以上使用。
含磺酸基單體可舉例如：苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等。含磷酸基單體可舉2-羥乙基丙烯醯基磷酸酯為例。含氰基單體可舉丙烯腈為例。乙烯酯類可舉乙酸乙酯為例。芳香族乙烯化合物可舉苯乙烯為例。
含羧酸基單體可舉例如：(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧庚酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、巴豆酸等。含酸酐基單體可舉順丁烯二酸酐、伊康酸酐等為例。含羥基單體可舉例如：(甲基)丙烯酸-2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸-4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸-6-羥己酯、(甲基)丙烯酸-8-羥辛酯、(甲 基)丙烯酸-10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸-12-羥十二酯、(4-羥甲基環己基)-甲基丙烯酸酯、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、乙烯醇、烯丙醇、2-羥乙基乙烯醚、4-羥丁基乙烯醚、二乙二醇單乙烯醚等。含醯胺基單體可舉丙烯醯胺、二乙基丙烯醯胺等為例。含胺基單體可舉(甲基)丙烯酸N,N-二甲胺乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲胺丙酯等為例。含環氧基單體可舉(甲基)丙烯酸環氧丙酯、烯丙基環氧丙基醚等為例。乙烯醚類可舉乙烯乙醚為例。
例如，由容易調整黏著力之觀點來看，可使用其他單體成分，使製得之聚合物的Tg為0℃以下。此外，聚合物之Tg宜為例如-100℃以上。
上述丙烯酸聚合物之重量平均分子量係例如10萬以上。
上述丙烯酸聚合物可藉由任意之適當聚合方法製得。可舉例如：溶液聚合、乳化聚合、塊狀聚合、懸浮聚合等一般作為丙烯酸聚合物之合成方法使用的聚合方法。
黏著劑層形成用組成物亦可含有上述基底樹脂以外之其他樹脂作為樹脂成分。其他樹脂可舉聚醚樹脂、改質聚醚樹脂、環氧樹脂等為例。含有其他樹脂時，其他樹脂之含有比率宜為20重量%以下。
黏著劑層形成用組成物除了樹脂成分以外，可含有任意之適當添加劑。可舉例如：交聯劑、耦合劑、黏著性賦予劑、表面潤滑劑、整平劑、界面活性劑、抗靜電劑、 滑動性改良劑、濕潤性改良劑、抗氧化劑、防腐蝕劑、光安定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、交聯促進劑、交聯觸媒、無機或有機之填充劑、金屬粉、顏料等之粉體、粒子狀、箔狀物等。
交聯劑可使用任意之適當交聯劑。可舉異氰酸酯化合物、環氧化合物、吖丙烷化合物、三聚氰胺化合物為例。交聯劑可單獨使用，亦可組合2種以上使用。
相對於100重量份之樹脂成分，交聯劑之含量宜為0.1重量份至15重量份，且2重量份至10重量份更佳。
黏著劑層可藉由任意之適當方法形成。具體例可舉在上述表面保護薄膜上塗布黏著劑形成用組成物並進行乾燥之方法、在分隔物上形成黏著劑層並將該黏著劑層轉印在表面保護薄膜上的方法等為例。塗布方法可舉例如：逆塗布、凹版塗布等之輥塗布法、旋塗法、網版塗布法、噴注式刮刀塗布法、浸塗法、噴塗法。
在一實施形態中，第一表面保護薄膜係具有黏著劑層之黏著片。該實施形態之第一表面保護薄膜係具有作為上述表面保護薄膜使用之樹脂薄膜及設於該樹脂薄膜一面之黏著劑層的積層體，且具有貫穿該樹脂薄膜及該黏著劑層之貫穿孔。第一表面保護薄膜係黏著片時，可藉由卷對卷方式進行長條狀偏光件與長條狀第一表面保護薄膜之黏貼，因此可進一步提高製造效率。在該實施形態中，在該黏著劑上可剝離地暫時黏著分隔物。
分隔物具有到供實際使用為止作為保護黏著劑 層之保護材的功能。分隔物可舉例如：藉由矽氧系剝離劑、氟系剝離劑、丙烯酸長鏈烷酯系剝離劑等之剝離劑進行表面塗布後之塑膠(例如，聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚乙烯、聚丙烯)薄膜、不織布或紙等。分隔物之厚度可依目的採用任意之適當厚度。分隔物之厚度係例如10μm至100μm。分隔物可積層在作為上述表面保護薄膜使用之樹脂薄膜與黏著劑層的積層體上，亦可在分隔物上形成黏著劑層並將分隔物與黏著劑層之積層體積層在作為表面保護薄膜使用之樹脂薄膜上。
偏光薄膜積層體100，如上所述，亦可在未配置第一表面保護薄膜50之側進一步積層第二表面保護薄膜30。該第二表面保護薄膜，除了未設置貫穿孔以外，可使用與第一表面保護薄膜50同樣之薄膜。此外，第二表面保護薄膜亦可使用聚烯烴(例如，聚乙烯)薄膜之類的柔軟(例如，彈性模數低)薄膜。藉由使用第二表面保護薄膜，在與鹼性溶液接觸之步驟中，可進一步適當保護偏光板(偏光件/保護薄膜)，結果，可更良好地進行偏光件與鹼性溶液接觸之步驟。
B-2.與鹼性溶液接觸之步驟
接著，使鹼性溶液接觸樹脂薄膜。例如，使鹼性溶液接觸偏光薄膜積層體之露出部。藉由接觸鹼性溶液，可減少露出部之二色性物質的含量，因此可藉由減少該二色性物質之含量來形成非偏光部。此外，偏光薄膜積層體使用之偏光件，如上所述，宜為含有碘之偏光件。偏光件含有 碘作為二色性物質時，藉由接觸偏光件之露出部及鹼性溶液，可減少露出部之碘含量，結果，可只在露出部選擇地形成非偏光部。因此，可不伴隨複雜之操作而以非常高之製造效率，在偏光件之預定部分選擇地形成非偏光部。此外，在偏光件中殘存有碘時，即使破壞碘錯合物形成非偏光部，亦會隨著偏光件之使用而再度形成碘錯合物，恐有非偏光部沒有所希望特性之虞。在本發明中，可由偏光件(實質上是非偏光部)去除碘本身。結果，可防止非偏光部之特性隨著偏光件之使用而變化。
接觸鹼性溶液之步驟可採用任意之適當手段。可舉例如：浸漬、滴下、塗布、噴霧等方法。如上所述，藉由使用第一表面保護薄膜(及依需要，第二表面保護薄膜)，可在偏光薄膜積層體之露出部以外的部分減少偏光件含有之碘含量，因此可藉由浸漬只在所希望之部分形成非偏光部。具體而言，藉由將偏光薄膜積層體浸漬於鹼性溶液中，只有偏光薄膜積層體中之露出部與鹼性溶液接觸。
以下更詳細地說明藉鹼性溶液形成非偏光部。與偏光薄膜積層體之露出部接觸後，鹼性溶液浸透至露出部(具體而言，偏光件)內部。偏光件含有之碘錯合物被鹼性溶液含有之鹼還原而成為碘。藉由碘錯合物還原為碘離子，由露出部露出之偏光件的偏光性能實質地消失，並在露出部形成非偏光部。此外，藉由還原碘錯合物，可提高露出部之透射率。成為碘離子之碘由露出部移動至鹼性溶液之溶劑中。結果，碘離子亦可與鹼性溶液一起由偏光件 去除。如此，可在偏光件之預定部分選擇地形成非偏光部，且，該非偏光部經過長時間沒有變化且安定。另外，藉由調整第一表面保護薄膜之材料、厚度及機械特性、鹼性溶液之濃度、以及偏光薄膜積層體在鹼性溶液中之浸漬時間等，可防止鹼性溶液浸透到不希望之部分(結果，在不希望之部分形成非偏光部)。
上述鹼性溶液含有之鹼性化合物可使用任意之適當鹼性化合物。鹼性化合物可舉例如：氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰等之鹼金屬氫氧化物、氫氧化鈣等之鹼土金屬氫氧化物、碳酸鈉等之無機鹼金屬鹽、乙酸鈉等有機鹼金屬鹽、氨水等。鹼性溶液含有之鹼性化合物宜為鹼金屬氫氧化物，且氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰更佳。藉由使用含有鹼金屬氫氧化物之鹼性溶液，可使碘錯合物效率良好地離子化，因此可更簡便地形成非偏光部。該等鹼性化合物可只使用1種，亦可組合2種以上使用。
上述鹼性溶液之溶劑可使用任意之適當溶劑。具體而言，可舉例如：水、乙醇、甲醇等之醇、醚、苯、氯仿、及該等溶劑之混合溶劑。由碘離子可良好地移動至溶劑中，並可輕易去除碘離子來看，溶劑宜為水、醇。
上述鹼性溶液之濃度為例如0.01N至5N，且宜為0.05N至3N，而0.1N至2.5N更佳。若鹼性溶液之濃度在如此之範圍內，可效率良好地減少偏光件內部之碘含量，且，可防止碘錯合物在露出部以外之部分中離子化。
上述鹼性溶液之液溫係例如20℃至50℃。偏光薄 膜積層體(實質上是偏光件之露出部)與鹼性溶液之接觸時間可依據偏光件之厚度、使用之鹼性溶液含有之鹼性化合物種類、及鹼性化合物之濃度來設定，例如，5秒鐘至30分鐘。
B-3.鹼金屬及/或鹼土金屬之減少
與上述鹼性溶液接觸後，在接觸鹼性溶液之接觸部中，樹脂薄膜含有之鹼金屬及/或鹼土金屬減少。藉由使鹼金屬及/或鹼土金屬減少，可製得具優異尺寸安定性之非偏光部。具體而言，即使在加濕環境下，亦可原樣地維持藉由與鹼性溶液接觸所形成之非偏光部的形狀。
藉由使鹼性溶液接觸樹脂薄膜，可在接觸部中殘存鹼金屬及/或鹼土金屬之氫氧化物。此外，藉由使鹼性溶液接觸樹脂薄膜，可在接觸部中生成鹼金屬及/或鹼土金屬之金屬鹽。該等鹼金屬及/或鹼土金屬之金屬鹽可生成氫氧化物離子，且生成之氫氧化物離子對存在接觸部周圍之二色性物質(例如，碘錯合物)產生作用(分解、還原)，可擴大非偏光區域(低濃度區域)。因此，藉由減少鹼金屬及/或鹼土金屬鹽，可抑制非偏光區域隨著時間經過而擴大，因此可維持所希望之非偏光部形狀。
可生成上述氫氧化物離子之金屬鹽可舉硼酸鹽為例。硼酸鹽可在鹼性溶液(鹼金屬之氫氧化物及/或鹼土金屬之氫氧化物的溶液)中和樹脂薄膜含有之硼酸而生成。此外，硼酸鹽(偏硼酸鹽)可，例如，藉由將偏光件置於加濕環境下，如下述式所示地，加水分解而生成氫氧化物離子。
(式中，X表示鹼金屬或鹼土金屬)
較佳地，使接觸部(非偏光部)中之鹼金屬及/或鹼土金屬的含量減少為3.6重量%以下，且宜為2.5重量%以下，1.0重量%以下較佳，而0.5重量%以下更佳。
此外，在樹脂薄膜中，藉由實施用以作成偏光件之各種處理，可預先含有鹼金屬及/或鹼土金屬。例如，藉由接觸碘化鉀等碘化物之溶液，在樹脂薄膜中可含有鉀。如此，通常，偏光件含有之鹼金屬及/或鹼土金屬不會對上述非偏光部之尺寸安定性產生不良影響。
上述減少方法宜使用使處理液接觸與鹼性溶液之接觸部的方法。依據如此之方法，可使鹼金屬及/或鹼土金屬由樹脂薄膜移動至處理液中，使其含量減少。
處理液之接觸方法可採用任意之適當方法。可舉例如：對與鹼性溶液之接觸部，滴下、塗布、噴霧處理液的方法、將與鹼性溶液之接觸部浸漬於處理液中的方法。
鹼性溶液接觸時，在以任意之適當保護材保護樹脂薄膜之情形中，宜在保持原樣之狀態下接觸處理液(特別 是處理液之溫度為50℃以上的情形)。依據如此之形態，在與鹼性溶液之接觸部以外的部位中，可防止偏光特性因處理液而降低。
上述處理液可含有任意之適當溶劑。溶劑可舉例如：水、乙醇、甲醇等之醇、醚、苯、氯仿、及該等溶劑之混合溶劑。其中，由使鹼金屬及/或鹼土金屬有效率地移動之觀點來看，宜使用水、醇。水可使用任意之適當水。可舉自來水、純水、去離子水為例。
接觸時之處理液溫度係例如20℃以上，且宜為50℃以上，而60℃以上較佳，70℃以上更佳。若為如此之溫度，可使鹼金屬及/或鹼土金屬有效率地移動至處理液中。具體而言，可使樹脂薄膜之膨潤率顯著地提高，以便物理地去除樹脂薄膜內之鹼金屬及/或鹼土金屬。另一方面，水之溫度實質為95℃以下。
接觸時間可依據接觸方法、處理液(水)之溫度、樹脂薄膜之厚度等來適當調整。例如，浸漬於溫水中時，接觸時間宜為10秒至30分，且30秒至15分較佳，而60秒至10分更佳。
在一實施形態中，使用酸性溶液作為上述處理液。藉由使用酸性溶液，可中和殘存於樹脂薄膜中之鹼金屬及/或鹼土金屬的氫氧化物，以便化學地去除樹脂薄膜內之鹼金屬及/或鹼土金屬。
酸性溶液含有之酸性化合物可使用任意之適當酸性化合物。酸性化合物可舉例如：鹽酸、硫酸、硝酸、 氟化氫、硼酸等之無機酸、甲酸、草酸、檸檬酸、乙酸、安息香酸等之有機酸等。酸性溶液含有之酸性化合物宜為無機酸，且鹽酸、硫酸、硝酸更佳。該等酸性化合物可單獨使用，亦可組合二種以上使用。
較佳地，酸性化合物可理想地使用酸度比硼酸強之酸性化合物。這是因為亦可對上述鹼金屬及/或鹼土金屬之金屬鹽(硼酸鹽)產生作用。具體而言，可使硼酸由硼酸鹽游離，以便化學地去除樹脂薄膜內之鹼金屬及/或鹼土金屬。
上述酸度之指標可舉酸解離常數(pKa)為例，且宜使用pKa比硼酸之pKa(9.2)小的酸性化合物。具體而言，pKa宜小於9.2，且5以下更佳。pKa可使用任意之適當裝置測量，亦可參照記載於化學手冊基礎篇 改訂5版(日本化學會編輯，丸善出版)等之文獻中的值。此外，多段解離之酸性化合物在各階段之pKa值可改變。使用如此之酸性化合物時，使用各階段之pKa值均在上述範圍內者。另外，在本說明書中，pKa係在25℃之水溶液中的值。
酸性化合物之pKa與硼酸之pKa的差係例如2.0以上，且宜為2.5至15，而2.5至13更佳。若在如此之範圍內，可使鹼金屬及/或鹼土金屬有效率地移動至處理液中，結果，可實現非偏光部中所希望之鹼金屬及/或鹼土金屬含量。
可滿足上述pKa之酸性化合物可舉例如：鹽酸(pKa：-3.7)、硫酸(pK2：1.96)、硝酸(pKa：-1.8)、氟化氫(pKa：3.17)、硼酸(pKa：9.2)等之無機酸、甲酸(pKa：3.54)、 草酸(pK1：1.04、pK2：3.82)、檸檬酸(pK1：3.09、pK2：4.75、pK3：6.41)、乙酸(pKa：4.8)、安息香酸(pKa：4.0)等之有機酸等。
此外，酸性溶液(處理液)之溶劑係如上所述，即便在使用酸性溶液作為處理液之本形態中，亦可以物理性方式去除上述樹脂薄膜內之鹼金屬及/或鹼土金屬。
上述酸性溶液之濃度係例如0.01N至5N，且宜為0.05N至3N，而0.1N至2.5N更佳。
上述酸性溶液之液溫係例如20℃至50℃。接觸酸性溶液之時間可依據樹脂薄膜之厚度、酸性化合物之種類、及酸性溶液之濃度來設定，例如，5秒鐘至30分鐘。
樹脂薄膜除了上述處理以外，可進一步實施任意之適當其他處理。其他處理可舉去除鹼性溶液及/或酸性溶液、及洗淨等為例。
去除鹼性溶液及/或酸性溶液之方法的具體例可舉例如：利用抹布等擦拭去除、吸引去除、自然乾燥、加熱乾燥、送風乾燥、減壓乾燥等。上述乾燥溫度係例如20℃至100℃。乾燥時間係例如5秒至600秒。
洗淨處理可藉由任意之適當方法來進行。洗淨處理使用之溶液可舉例如：純水、甲醇、乙醇等之醇、酸性水溶液、及該等溶液之混合溶劑等。洗淨處理可在任意之適當階段進行。洗淨處理可進行多數次。
C.偏光板
實用上，可提供偏光件作成偏光板。偏光板具有偏光 件及配置於偏光件之至少一側的保護薄膜。實用上，偏光板具有黏著劑層作為最外層。代表之黏著劑層成為影像顯示裝置側之最外層。在黏著劑層上可剝離地暫時黏著分隔物。
保護薄膜之形成材料可舉例如：二乙醯纖維素、三乙醯纖維素等之纖維素系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、環烯烴系樹脂、聚丙烯等之烯烴系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等之酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、該等樹脂之共聚物樹脂等。保護薄膜厚度宜為20μm至100μm。代表之保護薄膜係透過接著層(具體而言，接著劑層、黏著劑層)積層在偏光件上。代表之接著劑層係由PVA系接著劑或活化能量束硬化型接著劑形成。代表之黏著劑層係由丙烯酸系黏著劑形成。
偏光板可依據目的更具有任意之適當光學機能層。光學機能層之代表例可舉相位差薄膜(光學補償薄膜)、表面處理層為例。例如，相位差薄膜可配置在保護薄膜與黏著劑層間。相位差薄膜之光學特性(例如，折射率橢圓體、面內相位差、厚度方向相位差)可依據目的、影像顯示裝置之特性等適當地設定。例如，影像顯示裝置為IPS模式之液晶顯示裝置時，可配置折射率橢圓體係nx>ny>nz之相位差薄膜及橢圓體係nz>nx>ny之相位差薄膜。相位差薄膜亦可兼作保護薄膜。在此情形中，可省略保護薄膜。相反地，保護薄膜亦可具有光學補償機能(即，可依據目的具有適當折射率橢圓體、面內相位差及厚度方向相位差)。 此外，「nx」係薄膜面內之折射率為最大的方向(即，慢相軸方向)的折射率，「ny」係在薄膜面內與慢相軸直交之方向的折射率，「nz」係厚度方向的折射率。
表面處理層可配置於偏光板之觀看側。表面處理層之代表例可舉桿塗層、防反射層、抗眩層為例。表面處理層，例如，為提高偏光件之加濕耐久性，宜為透濕度低之層。桿塗層係為防止偏光板表面受傷而設置。桿塗層可藉由以下方式等來形成：例如，在表面上附加丙烯酸系、矽氧系等之適當紫外線硬化型樹脂的具優異硬度或滑動特性等的硬化皮膜。桿塗層宜為鉛筆硬度2H以上。防反射層係為防止在偏光板表面之外光反射而設置的低反射層。防反射層可舉例如：如日本特開2005-248173號公報揭示之利用光干涉作用的反射光消除效果來防止反射的薄層型者、如日本特開2011-2759號公報揭示之藉由在表面上賦予微細構造展現低反射率之表面構造型者。抗眩層係為防止外光在偏光板表面反射而妨礙觀看偏光板透射光等而設置。抗眩層係，例如，藉由利用噴砂方式或壓凸加工方式之粗面化方式、透明微粒子之摻合方式等的適當方式在表面上賦予微細凹凸構造來形成。抗眩層亦可兼作用以放大偏光板透射光以放大視角等之擴散層(視角放大機能等)。亦可對觀看側之保護薄膜的表面實施同樣之表面處理，代替設置表面處理層。
D.影像顯示裝置
本發明之影像顯示裝置具有上述偏光件。影像顯示裝 置可舉液晶顯示裝置、有機EL裝置為例。具體而言，液晶顯示裝置具有液晶面板，且該液晶面板包含液晶單元、及配置在該液晶單元之一側或兩側的上述偏光件。有機EL裝置具有上述偏光件配置於觀看側之有機EL面板。偏光件係配置成非偏光部對應於所搭載之影像顯示裝置的攝影機部。
實施例
以下，藉由實施例具體地說明本發明，但本發明不限於該等實施例。
[實施例1]
在長條狀(寬度1200mm、長度43m)之厚度38μm的PET薄膜(MITSUBISH CHEMICAL POLYESTER FILM(股)製、商品名：Diafoil T100C)上，塗布丙烯酸系黏著劑使乾燥後之厚度為10μm，形成黏著劑層。將分隔物黏貼在形成之黏著劑層上，製得黏著片。在製得之黏著片上，使用尖刀(Pinnacle Knife)形成1000個圓形小孔。各小孔係以縱250mm、橫400mm間隔形成。形成直徑2mm之圓形小孔。
使用長條狀、吸水率0.75%、Tg75℃之非晶質間苯二甲酸共聚合聚對苯二甲酸乙二酯(IPA共聚合PET)薄膜(厚度：100μm)，作為基材。在基材之一面上，實施電暈處理，並在該電暈處理面上，在25℃下塗布及乾燥以9：1之比包含聚乙烯醇(聚合度4200、皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(聚合度1200、乙醯乙醯基改質度4.6%、皂化度99.0莫耳%以上、日本合成化學工業公司製、商品名 「GOHSEFIMER Z200」)的水溶液，以形成厚度11μm之PVA系樹脂層，製成積層體。
使製得之積層體，在120℃之烘箱內在周速不同之輥間沿縱向(長邊方向)進行自由端單軸延伸至2.0倍(空氣中輔助延伸)。
接著，將積層體浸漬於液溫30℃之不溶化浴(相對於100重量份之水，摻合4重量份之硼酸而製得的硼酸水溶液)中30秒鐘(不溶化處理)。
接著，一面調整碘濃度、浸漬時間，一面浸漬於液溫30℃之染色浴中使偏光板具有預定透射率。在本實施例中，浸漬於相對於100重量份之水，摻合0.2重量份之碘，並摻合1.5重量份之碘化鉀而製得的碘水溶液中60秒鐘(染色處理)。
接著，浸漬於液溫30℃之交聯浴(相對於100重量份之水，摻合3重量份之碘化鉀，並摻合3重量份之硼酸而製得的硼酸水溶液)中30秒鐘(交聯處理)。
然後，將積層體，一面浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(相對於100重量份之水，摻合4重量份之硼酸，並摻合5重量份之碘化鉀而製得的水溶液)中，一面在周速不同之輥間沿縱向(長邊方向)進行單軸延伸，使總延伸倍率為5.5倍(水中延伸)。
然後，將積層體浸漬於液溫30℃之洗淨浴(相對於100重量份之水，摻合4重量份之碘化鉀而製得的水溶液)中(洗淨處理)。
接著，在積層體之PVA系樹脂層表面上，塗布PVA系樹脂水溶液(日本合成化學工業公司製、商品名「GOHSEFIMER(註冊商標)Z-200」、樹脂濃度：3重量%)並黏貼保護薄膜(厚度25μm)，接著在維持於60℃之烘箱中加熱5分鐘。然後，由PVA系樹脂層剝離基材，製得具有透射率42.3%、厚度5μm之偏光件的偏光板(寬度：1200mm、長度400m)。
接著，在製得之偏光板的偏光件側表面上，透過黏著劑層黏貼剝離了分隔物之黏著片，製得積層體。將所製得之積層體分別浸漬於常溫之鹼性溶液(氫氧化鈉水溶液，1mol/L(1N))中8秒鐘、及0.1mol/L(0.1N)之鹽酸中30秒鐘。然後，在60℃下乾燥，並剝離PET薄膜，而製得包含具備透明部之偏光件的偏光板。
[實施例2]
除了令黏著劑層之厚度為5μm以外，與實施例1同樣地製得包含具有透明部之偏光件的偏光板。
[比較例1]
除了令黏著劑層之厚度為30μm以外，與實施例1同樣地製得包含具有透明部之偏光件的偏光板。
[比較例2]
除了令黏著劑層之厚度為20μm以外，與實施例1同樣地製得包含具有透明部之偏光件的偏光板。
[比較例3]
除了令黏著劑層之厚度為15μm以外，與實施例1同樣地 製得包含具有透明部之偏光件的偏光板。
[實施例3]
除了令形成在PET薄膜中之小孔直徑為4mm以外，與實施例1同樣地製得包含具有透明部之偏光件的偏光板。
[實施例4]
除了令形成在PET薄膜中之小孔直徑為4mm以外，與實施例2同樣地製得包含具有透明部之偏光件的偏光板。
對在各實施例及比較例中形成之偏光件的透明部，藉由以下方法測量透射率、碘含量、鈉含量。
1.透射率(Ts)
使用分光光度計(村上色彩技術研究所(股)製、製品名「DOT-3」)測量。透射率(T)係藉由JIS Z 8701-1982之2度視野(C光源)進行視感度修正後之Y值。
2.碘含量
藉由螢光X光分析，求得偏光件之透明部的碘含量。具體而言，由藉下述條件測得之X光強度，藉由使用標準試料預先作成之檢量線求得偏光件之碘含量。
分析裝置：理學電機工業製螢光X光分析裝置(XRF)製品名「ZSX100e」
對陰極：銠
分光結晶：氟化鋰
激發光能量：40kV-90mA
碘測量線：I-LA
定量法：FP法
2θ角峰：103.078deg(碘)
測量時間：40秒
3.鈉含量
藉由螢光X光分析，求得偏光件之透明部的鈉含量。具體而言，由藉下述條件測得之X光強度，藉由使用標準試料預先作成之檢量線求得偏光件之鈉含量。
分析裝置：理學電機工業製 螢光X光分析裝置(XRF)製品名「ZSX100e」
對陰極：銠
分光結晶：氟化鋰
激發光能量：40kV-90mA
鈉測量線：Na-KA
定量法：FP法
測量時間：40秒
在各實施例及比較例中製得之偏光件的透明部都具有90%以上之透射率，小於1重量%之碘含量、小於0.5重量%之鈉含量。該等透明部可具有作為非偏光部之機能。
此外，如下地評價在各偏光件中形成之透明部的形狀整合度。
[形狀整合度]
使用超高速撓性影像顯示系統(KEYENCE公司製、商品名：XG7700)，進行實施例1至4及比較例1至3中製得之偏光件的非偏光部邊緣檢測，求得非偏光部近似圓。每2° 地測量該非偏光部近似圓之圓周(圖2A及圖2B之虛線部分)與偏光件1及非偏光部2之邊界(圖2A及圖2B之實線部分)的距離，求得共計180點之距離。就測量點而言，偏光件1及非偏光部2之邊界位於非偏光部近似圓之外側時(即，圖2A之情形)，測量非偏光部2與非偏光部近似圓之距離a，而偏光件1及非偏光部2之邊界位於非偏光部近似圓之內側時(即，圖2B之情形)，測量非偏光部2與非偏光部近似圓之距離b。算出距離a之最大值與距離b之最大值的總和值作為孔粗糙度。算出之孔粗糙度的值除形成在PET薄膜上之小孔直徑(實施例1至2及比較例1至3：2mm，實施例3至4：4mm)，求得各透明部之形狀整合度的值。形成在偏光件上之透明部的形狀整合度平均值顯示於表1中。
實施例1至4之偏光件的形狀整合度係0.05以下，並製得具有對應於形成在PET薄膜上之小孔形狀的非偏光部的偏光件。若為具有如此非偏光部之偏光件，例如，以非偏光部對應於影像顯示裝置之攝影機部的部分之方式使用時，可提高對齊加工性，因此可良好地進行攝影機之對位。
產業上之可利用性
本發明之偏光件可適用於智慧型手機等之行動電話、筆記型PC、平板PC等之具有攝影機的影像顯示裝置(液晶顯示裝置、有機EL裝置)。
1‧‧‧偏光件
2‧‧‧非偏光部

Claims (6)

  1. 一種偏光件，係具有非偏光部之偏光件，且該非偏光部之形狀整合度係0.05以下。
  2. 如請求項1之偏光件，其中前述非偏光部之二色性物質含量係1.0重量%以下。
  3. 如請求項1或2之偏光件，其中前述非偏光部之鹼金屬及/或鹼土金屬之含量係3.6重量%以下。
  4. 如請求項1至3中任一項之偏光件，其中前述非偏光部是對應於所搭載之影像顯示裝置的攝影機部。
  5. 一種偏光板，包含如請求項1至4中任一項之偏光件。
  6. 一種影像顯示裝置，包含如請求項5之偏光板。
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