TW201606362A - 長條狀偏光薄膜積層體 - Google Patents

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Yuji Saiki
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Abstract

本發明之課題在於提供一種長條狀偏光薄膜積層體，其可實現影像顯示裝置等電子設備之多機能化及高機能化，並且，可製造出最終製品不會品質不一、且製造之產率優異的偏光件。解決手段為本發明之偏光薄膜積層體，其具備長條狀之偏光件及配置於偏光件的一面側之表面保護薄膜，且於前述一面側具有已露出偏光件之露出部。該露出部是以預定間隔配置於偏光件的長度方向及/或寬度方向。

Description

長條狀偏光薄膜積層體 發明領域
本發明是關於一種長條狀偏光薄膜積層體。更詳而言之，本發明是關於偏光件與表面保護薄膜之積層體。
發明背景
在行動電話、筆記型個人電腦(PC)等影像顯示裝置當中，有些會裝備有攝影機等的內部電子零件。為了提升上述影像顯示裝置的攝影機性能等，一直在進行各種檢討(例如：專利文獻1至7)。然而，由於智慧型手機、觸碰面板式資訊處理裝置的急速普及，攝影機性能等的更進一步的提升備受期待。此外，為了因應影像顯示裝置的形狀之多樣化及高機能化，而追求著部分性地具有偏光性能之偏光板。為了在工業上以及商業上實現該等期望，而冀望以可容許的成本來製造影像顯示裝置及/或其零件時，要確立那樣的技術尚留有種種檢討事項。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2011-81315號公報
專利文獻2：日本專利特開2007-241314號公報
專利文獻3：美國專利申請公開第2004/0212555號說明書
專利文獻4：韓國公開專利第10-2012-0118205號公報
專利文獻5：韓國專利第10-1293210號公報
專利文獻6：日本專利特開2012-137738號公報
專利文獻7：美國專利申請公開第2014/0118826號說明書
發明概要
本發明是為了解決上述習知課題而作成，主要目的在於提供一種長條狀偏光薄膜積層體，其可實現影像顯示裝置等電子設備之多機能化及高機能化，並且，可製造出最終製品不會品質不一、且製造之產率優異的偏光件。
本發明之偏光薄膜積層體具備長條狀偏光件、及配置於該偏光件的一面側之表面保護薄膜；且，於前述一面側具有已露出前述偏光件之露出部；前述露出部是以預定間隔配置於前述偏光件的長度方向及/或寬度方向上。
於一實施形態中，上述露出部是以預定間隔配置於上述長度方向上。
於一實施形態中，上述露出部是實質上等間隔配置於至少上述長度方向上。
於一實施形態中，上述露出部是實質上等間隔配置於 上述偏光件的長度方向及上述寬度方向上。
於一實施形態中，當為了將上述偏光件安裝於預定尺寸之影像顯示裝置而將其裁切成預定尺寸時，上述露出部是配置在對應該影像顯示裝置之攝影機部的位置。
於一實施形態中，連結相鄰的上述露出部之直線的方向相對於上述偏光件的長度方向及/或上述寬度方向是在±10°的範圍內。
於一實施形態中，上述偏光件之厚度為10μm以下。
於一實施形態中，上述偏光件之對應露出部的部分之偏光度為99.9%以上。
於一實施形態中，上述偏光薄膜積層體是沿上述長度方向搬送而供於用以將上述偏光件之對應露出部的部分進行脫色之步驟。
於一實施形態中，上述偏光件之對應露出部的部分是藉由將該偏光件脫色而形成之非偏光部。
於一實施形態中，上述非偏光部之透光率為90%以上。
於一實施形態中，上述偏光件之對應露出部的部分包含偏光件其一面側之表面凹陷而成的凹部。
於一實施形態中，上述非偏光部是上述二色性物質含量低於其他部位之低濃度部。
於一實施形態中，上述低濃度部的鹼金屬及/或鹼土族金屬之含量為3.6重量%以下。
於一實施形態中，上述低濃度部是藉由使鹼性溶液接觸上述偏光件而形成。
於一實施形態中，上述鹼性溶液是含有鹼金屬及/或鹼土族金屬之氫氧化物的水溶液。
於一實施形態中，於上述表面保護薄膜上形成有貫通孔，且對應該貫通孔的部分為上述露出部。
於一實施形態中，上述表面保護薄膜是可被剝離地積層於上述偏光件上。
於一實施形態中，上述偏光薄膜積層體具備配置於上述偏光件的另一面側之保護薄膜。
於一實施形態中，上述保護薄膜之厚度為80μm以下。
於一實施形態中，上述偏光薄膜積層體具備配置於上述偏光件的另一面側之第2表面保護薄膜。
於一實施形態中，上述露出部是呈點狀配置。
於一實施形態中，上述露出部之俯視形狀為略圓形或略矩形。
於一實施形態中，上述偏光薄膜積層體被捲繞成捲筒狀。
於一實施形態中，上述偏光薄膜積層體是用於製造具有非偏光部的複數個偏光件。
根據本發明，提供一種偏光薄膜積層體，其具備：長條狀偏光件、及配置於其一面側之表面保護薄膜；且，於前述一面側具有已露出偏光件之露出部；該露出部是以預定間隔(亦即，以預定圖案)配置於偏光件的長度方向及/或寬度方向上。對於上述偏光薄膜積層體，可以譬如良 好地實施化學處理，且能夠以非常高的製造效率來製造具有以預定圖案配置之非偏光部的偏光件。上述偏光件能夠配合被裁切並裝備於影像顯示裝置之偏光件的尺寸、以及影像顯示裝置之攝影機部的位置來設定非偏光部的位置，故製得預定尺寸之偏光件時的產率極為優異。此外，因能夠正確設定非偏光部的位置，故亦可良好地控制在所得預定尺寸之偏光件中的非偏光部之位置。因而，由於每個所得預定尺寸之偏光件的非偏光部之位置少有不一，所以能夠製得不會品質不一的最終製品(預定尺寸之偏光件)。結果，本發明的偏光薄膜積層體即可對於影像顯示裝置等電子設備之多機能化及高機能化有所貢獻。此外，根據本發明的偏光薄膜積層體，可於長條狀偏光件整體統一控制非偏光部與吸收軸之位置關係，故可製得軸精度優異(因而，光學特性優異)的最終製品。
10‧‧‧偏光件
11‧‧‧露出部(非偏光部)
20‧‧‧表面保護薄膜(第1表面保護薄膜)
21‧‧‧貫通孔
30‧‧‧保護薄膜
40‧‧‧第2表面保護薄膜
100‧‧‧偏光薄膜積層體
101‧‧‧偏光薄膜積層體(偏光件)
θW、θL‧‧‧角度
圖1為本發明一實施形態下的偏光薄膜積層體之概略立體圖。
圖2為圖1所示之偏光薄膜積層體之部分截面圖。
圖3A為說明於本發明實施形態下的偏光薄膜積層體中的露出部之配置圖案一例之概略平面圖。
圖3B為說明於本發明實施形態下的偏光薄膜積層體中的露出部之配置圖案另一例之概略平面圖。
圖3C為說明於本發明實施形態下的偏光薄膜積層體中的露出部之配置圖案再另一例之概略平面圖。
圖4為一概略立體圖，其係說明於本發明實施形態下的偏光薄膜積層體製造方法中的偏光件與表面保護薄膜之積層。
圖5為一概略圖，其係說明於本發明實施形態下的偏光薄膜積層體之非偏光部的形成。
圖6(a)所示者為實施例1的表面平滑性的評價結果；圖6(b)所示者為實施例2的表面平滑性的評價結果。
用以實施發明之形態
以下就本發明之實施形態進行說明，但本發明不受限於該等實施形態。
A.偏光薄膜積層體
圖1及圖2為本發明一實施形態下的偏光薄膜積層體之概略圖；圖1為偏光薄膜積層體之立體圖，而圖2為圖1之偏光薄膜積層體之部分截面圖。偏光薄膜積層體100具備：偏光件10、配置於偏光件10的一面側(於圖示例中為上面側)之表面保護薄膜20、配置於偏光件10的另一面側(於圖示例中為下面側)之保護薄膜30以及第2表面保護薄膜40。偏光薄膜積層體100在其一面側(於圖示例中為上面側)具有已露出偏光件10的露出部11、11。在圖示例中，露出部11是藉由在配置於偏光件10的一面側之表面保護薄膜20上，形成貫通孔21而設置(為了方便，有時會將具有貫通孔之表面保護薄膜稱為第1表面保護薄膜)。偏光件10的對應露出部11的部分可藉由任何適當之處理來作成非偏光部。
表面保護薄膜20是以在製造時暫時保護偏光件10作為目的而受到使用，其可在任何適當之時間點從偏光件10除去。因此，表面保護薄膜20是可被剝離地積層於偏光件10上。雖然圖未示，典型上來說，表面保護薄膜20可透過任何適當之黏著劑而貼合於偏光件10上。又，於本說明書中僅稱為保護薄膜時，意指像保護薄膜30這樣的偏光件保護薄膜，其與在製造時暫時使用的表面保護薄膜為不同者。
偏光件10是被作成長條狀，且典型上來說，如圖1所示偏光薄膜積層體100是被捲繞成捲筒狀。於本說明書中所謂「長條狀」意指相對於寬度，長度相當長的細長形狀，其包含例如相對於寬度，長度為10倍以上，較佳為20倍以上之細長形狀。於圖示例中，長條狀表面保護薄膜20之長度方向與偏光件10之長度方向是被作成實質上平行。於一實施形態中，長條狀表面保護薄膜20之寬度尺寸是被設計成與偏光件10之寬度尺寸實質上相同或大於其寬度尺寸。
露出部11是以預定間隔(亦即，以預定圖案)配置於偏光件10之長度方向及/或寬度方向。露出部11的配置圖案可視目的之不同而適當加以設定。典型上來說，當為了將偏光件10安裝於預定尺寸之影像顯示裝置而將其裁切(譬如，朝長度方向及/或寬度方向之切斷、衝壓)成預定尺寸時，露出部11是配置在對應該影像顯示裝置之攝影機部的位置。
要藉由裁切來從1個長條狀偏光件10獲得僅1個尺寸的偏光件片時，露出部11可以如圖1所示地實質上等間隔配置於偏光件10的不論是長度方向及寬度方向之任一方上。若為上述構成的話，則易於控制將配合影像顯示裝置的尺寸之偏光件裁切成預定尺寸，並可提高產率。此外，還能夠抑制裁切後的單片偏光件(偏光薄膜積層體)中的非偏光部(露出部)之位置不一的情形。又，所謂「實質上等間隔於不論是長度方向及寬度方向之任一方上」意指長度方向之間隔為等間隔，且寬度方向之間隔為等間隔，長度方向之間隔與寬度方向之間隔不須相等。例如，將長度方向之間隔設為L1，寬度方向之間隔設為L2時，可以是L1=L2，也可以是L1≠L2。另外，所謂「偏光件片」意指將長條狀偏光件裁切而得之偏光件。於本說明書中，有時於上下文中會將偏光件片僅稱為偏光件。
要藉由裁切來從1個長條狀偏光件10獲得複數個尺寸的偏光件片時，可視應裁切的偏光件尺寸之不同來變更在偏光件10的長度方向及/或寬度方向上的露出部11之間隔。譬如，露出部11可以是實質上等間隔配置在長度方向上，且以不同之間隔配置在寬度方向上；也可以是以不同之間隔配置在長度方向上，且實質上等間隔配置在寬度方向上。當在長度方向或寬度方向上露出部11是以不同間隔配置時，相鄰的露出部之間隔可以是全部不同，也可以是只有一部分(特定的相鄰的露出之間隔)不同。此外，也可以在偏光件10的長度方向上規定複數個區域，在每個各自 的區域中設定在長度方向及/或寬度方向的露出部11之間隔。能夠如同上述地在長條狀偏光件中，以與目的相應之任何適當的配置圖案來形成露出部(非偏光部)即為本發明的特徵之一。
圖3A為說明於本發明實施形態下的偏光薄膜積層體中的露出部之配置圖案一例之概略平面圖；圖3B為說明露出部之配置圖案另一例之概略平面圖；圖3C為說明露出部之配置圖案再另一例之概略平面圖。於一實施形態中，露出部11是如圖3A所示地配置成以下狀態：連結在偏光件10的長度方向上相鄰的露出部11之直線，相對於該長度方向為實質上平行，並且，連結在偏光件10的寬度方向上相鄰的露出部11之直線，相對於該寬度方向為實質上平行。本實施形態是對應圖1所示偏光薄膜積層體100中的露出部11之配置圖案。於另一實施形態中，露出部11是如圖3B所示地配置成以下狀態：連結在偏光件10的長度方向上相鄰的露出部11之直線，相對於該長度方向為實質上平行，並且，連結在偏光件10的寬度方向上相鄰的露出部之直線，相對於該寬度方向具有預定的角度θW。於再另一實施形態中，露出部11是如圖3C所示地配置成以下狀態：連結在偏光件10的長度方向上相鄰的露出部之直線，相對於該長度方向具有預定的角度θL，並且，連結在偏光件10的寬度方向上相鄰的露出部之直線，相對於該寬度方向具有預定的角度θW。
上述θL及/或θW宜為超過0°且在±10°以下。在 此，「±」意指包含相對於基準方向(偏光件的長度方向或寬度方向)為順時針及逆時針的任一方向。圖3B及圖3C的實施形態具有以下優點：依據影像顯示裝置的不同，會有為了提昇顯示特性而要求將偏光件的吸收軸相對於該裝置的長邊或短邊偏移最多10°左右來進行配置的情況。因為如後所述地偏光件的吸收軸是在長度方向或寬度方向上發現的，所以若是如上述構成的話，在像這樣的情況下，便可以將已裁切的單片偏光薄膜積層體(偏光件)101的吸收軸方向精密地控制在所需角度中，並且，可以顯著地抑制每個偏光薄膜積層體(偏光件)101的吸收軸方向不一的情形。又，露出部的配置圖案理所當然地不受限於圖示例。例如，露出部亦可被配置成以下狀態：連結在偏光件的長度方向上相鄰的露出部之直線，相對於該長度方向具有預定的角度θL，並且，連結在偏光件的寬度方向上相鄰的露出部之直線，相對於該寬度方向為實質上平行。此外，也可以沿著偏光件的長度方向規定複數個區域，並在每個各自的區域中設定θL及/或θW。
只要在不會對使用偏光件的影像顯示裝置之攝影機性能帶來不良影響的情況下，露出部11的俯視形狀(由偏光薄膜積層體100的一面側來看的形狀)可以採用任何適當的形狀。露出部的俯視形狀可以列舉如略圓形或略矩形。具體而言，可列舉圓形、橢圓形、正方形、矩形、菱形。可以藉由適當地設定後述表面保護薄膜之貫通孔形狀，來形成具有所需的俯視形狀的露出部。
A-1.偏光件
偏光件10典型上是以含有二色性物質的樹脂薄膜所構成。樹脂薄膜是譬如聚乙烯醇系樹脂(以下稱為「PVA系樹脂」)薄膜。
上述二色性物質可舉例譬如：碘，有機染料等。其等可單獨使用或取二種以上組合使用。較理想為使用碘。其是因為例如，在以藉化學處理之脫色來形成非偏光部時，由於包含在樹脂薄膜(偏光件)中的碘錯合物可適當地被還原，故能夠形成對使用在攝影機部而言具有適當特性之非偏光部。
形成上述PVA系樹脂薄膜之PVA系樹脂可使用任何適當之樹脂。舉例言之，可列舉聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇可藉聚乙烯乙酯之皂化而製得。乙烯-乙烯醇共聚物則藉乙烯-醋酸乙烯酯共聚物之皂化而製得。PVA系樹脂之皂化度通常為85莫耳%至100莫耳%，95.0莫耳%至99.95莫耳%較佳，99.0莫耳%至99.93莫耳%則更佳。皂化度可以JIS K 6726-1994為基準而求出。藉由使用上述皂化度之PVA系樹脂，即可製得耐久性優異之偏光件。皂化度過高時，恐有膠化之虞。
PVA系樹脂之平均聚合度可視目的之不同而適當加以選擇。平均聚合度通常為1000至10000，1200至4500較佳，1500至4300則更佳。又，平均聚合度可以JIS K 6726-1994為基準而求出。
偏光件(除了非偏光部之外)宜可在波長380nm至 780nm之任一波長下具備吸收二向色性。偏光件(除了非偏光部之外)的單體透光率(Ts)宜為39%以上，39.5%以上較佳，40%以上更佳，而以40.5%以上尤佳。又，單體透光率的理論上之上限為50%，實用上之上限為46%。此外，單體透光率(Ts)是依JIS Z8701之2度視野(C光源)測定並進行視感度修正後的Y值，可用譬如顯微分光系統(Lambda Vision Inc.製，LVmicro)進行測定。偏光件之偏光度(除了非偏光部之外)宜為99.9%以上，99.93%以上較佳，99.95%以上則更佳。
上述非偏光部宜為藉由將偏光件脫色而形成之脫色部。非偏光部之透光率(譬如，在23℃以波長550nm的光所測得之透光率)宜為50%以上，60%以上較佳，75%以上更佳，而以90%以上尤佳。若為上述透光率的話，即可確保作為非偏光部所需的透明性。其結果，以非偏光部對應影像顯示裝置的攝影機部的方式配置有偏光件時，即可防止對於攝影機性能的不良影響。
宜將非偏光部設為二色性物質含量相對較低的低濃度部。具體而言，是設為二色性物質含量低於其他部位的低濃度部。依據上述構成，相較於機械式地(藉由使用諸如雕刻刀衝壓、繪圖機、水刀等機械式去除方法)形成非偏光部的情況，可避免裂縫、剝層(層間剝離)、黏膠溢出等品質上的問題。此外，由於低濃度部是二色性物質本身的含量低，故相較於藉由雷射光等來分解二色性物質而形成有非偏光部的情況，非偏光部的透明性被良好地維持。
上述低濃度部是二色性物質含量低於上述其他部位的部分。低濃度部的二色性物質含量宜為1.0重量%以下，0.5重量%以下較佳，0.2重量%以下則更佳。若低濃度部的二色性物質含量為上述範圍的話，即可充分地賦予低濃度部所需之透明性。例如，能夠在使低濃度部對應影像顯示裝置的攝影機部時，實現由亮度及色調兩方的觀點看來都非常優異的攝影性能。另一方面，低濃度部的二色性物質含量之下限值通常是檢測極限值以下。又，使用碘作為二色性物質時，碘含量是譬如由依螢光X射線分析所測得之X射線強度，藉由預先使用標準試料所作成的校正曲線來求出。
在其他部位中的二色性物質含量與低濃度部中的二色性物質含量之差宜為0.5重量%以上，1重量%以上則更佳。若含量之差在上述範圍的話，即可形成具有所需的透明性之低濃度部。
上述低濃度部宜為鹼金屬及/或鹼土族金屬之含量在3.6重量%以下，而在2.5重量%以下較佳，1.0重量%以下更佳，0.5重量%以下則尤佳。若在低濃度部中的鹼金屬及/或鹼土族金屬之含量為上述範圍的話，即可良好地維持後述之藉由與鹼性溶液之接觸而形成之低濃度部的形狀(亦即，能夠實現具有優異的尺寸穩定性之低濃度部)。該含量可以例如由依螢光X射線分析所測得之X射線強度，藉由預先使用標準試料所作成的校正曲線來求出。上述含量可以藉由在後述之與鹼性溶液之接觸中，使得接觸部中的鹼 金屬及/或鹼土族金屬減少而實現。
偏光件的厚度可設定為任何適當的值。其厚度宜為30μm以下，而以25μm以下較佳，20μm以下更佳，小於10μm則尤佳。另，厚度宜為0.5μm以上，1μm以上則更佳。若為上述厚度的話，即可製得具有優異耐久性及光學特性之偏光件。此外，厚度越薄，非偏光部越能夠良好地形成。例如，可以在以藉由化學處理之脫色來形成非偏光部時，縮短脫色液與樹脂薄膜(偏光件)的接觸時間。具體而言，能夠以較短時間形成透光率較高的非偏光部。
接觸上述脫色液(譬如，鹼性溶液)的部分之厚度會變得較其他部位薄。由脫色所製得的非偏光部之透光率設定得越高，該傾向會變得越強。藉由將樹脂薄膜作薄，可以達成非偏光部的高透光率(宜為90%以上)，並且能夠縮小上述非偏光部與其他部位之段差。這樣即可防止因段差而有發生之虞的問題。其問題被認為有諸如：在將長條狀偏光件捲繞成捲筒狀時，非偏光部與其他部位之段差在重疊的部分上轉印成捲痕；在與保護薄膜等其他構成構件貼合時，由於非偏光部與其他部位之段差致使氣泡發生；以及，在最終製品中可看出該段差等。防止上述問題被認為亦可對於抑制偏光件的品質不一有所貢獻；該偏光件是將本發明的偏光件裁切而得且為最終所使用的偏光件。上述效果被認為在例如非偏光部的透光率為90%以上時以及/或二色性物質含量為0.2重量%以下時會變得顯著。又，非偏光部的透光率高如90%以上亦可對於抑制最終所使用的偏 光件之品質不一有所貢獻。具體而言，藉由接觸脫色液來形成非偏光部時，當脫色程度弱時，所製得的非偏光部的透光率就容易產生不一致，但藉由設定成透光率為90%以上及/或二色性物質含量為0.2重量%以下(藉由加強脫色程度)，即可穩定控制脫色狀態。
於一實施形態中，非偏光部是被設定為較其他部位薄之薄片部。譬如形成凹部，並將其設定為薄片部；該凹部是偏光件的一面側之表面凹陷而成者。此時，非偏光部與其他部位的段差(凹部深度)為例如0.02μm以上。另，段差宜為2μm以下，1μm以下則更佳。在後述之藉由脫色形成非偏光部時(譬如，當非偏光部之透光率為90%以上時及/或二色性物質含量為0.2重量%以下時)，會有形成上述段差的情況，若段差上限為上述範圍的話，被認為可良好地抑制因形成捲體而造成的捲痕等由於段差而導致的問題。其結果，即可顯著地抑制偏光件之品質不一；該偏光件是將本發明的偏光件裁切而得且為最終所使用者。又，本說明書中「段差(凹部深度)」是指凹部最深部分之深度。
上述一面側之表面凹陷而成的凹部是藉由例如從偏光件的僅一面側使脫色液作用而形成。藉由將脫色處理後所形成的凹部深度設為上述範圍，即可均勻地實施後述的脫色後處理。此外，由於可在僅一面側形成凹部，故被認為能夠防止因形成捲體而造成的捲痕等由於段差而導致的問題，而可抑制最終所使用的偏光件之品質不一。
偏光件的吸收軸可視目的之不同而設在任何適 當方向。吸收軸方向可以是譬如長度方向，亦可以是寬度方向。在長度方向具有吸收軸的偏光件有製造效率優異的優點。在寬度方向具有吸收軸的偏光件則有例如能夠與在長度方向具有滯相軸的相位差薄膜，以所謂捲對捲的方式進行積層的優點。在本說明書中所謂的「捲對捲」是指一邊搬送捲筒狀薄膜，一邊對齊相互的長度方向並進行積層。
構成上述偏光件的樹脂薄膜(典型為PVA系樹脂薄膜)可以是單一薄膜，也可以是已形成於樹脂基材上的樹脂層(典型為PVA系樹脂層)。PVA系樹脂層可以是在樹脂基材上塗布含有PVA系樹脂之塗布液而形成，也可以是在樹脂基材上積層PVA系樹脂薄膜而形成。以下，就偏光件是已形成於樹脂基材上的PVA系樹脂層時的情形，進行具體說明。雖然在此是就塗布形成PVA系樹脂層時的情形進行說明，但就積層PVA系樹脂薄膜時的情形亦是相同。另，當偏光件是單一的PVA系樹脂薄膜時，由於偏光件可由發明所屬技術領域中公知慣用的方法製作，故省略其詳細說明。
A-1-1.積層體之製作
最初，在樹脂基材上，塗布並乾燥含有PVA系樹脂的塗布液，藉以形成PVA系樹脂層而製作樹脂基材/PVA系樹脂層之積層體。
樹脂基材的形成材料可採用任何適當的熱塑性樹脂。熱塑性樹脂可列舉諸如：聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等酯系樹脂；降莰烯系樹脂等環烯烴系樹脂；聚丙烯等 烯烴系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚碳酸酯系樹脂及其等之共聚物樹脂等。其等中又以降莰烯系樹脂、非晶質之聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂為佳。
於一實施形態中，以使用非晶質(未結晶化)之聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂為佳。其中，又以使用非晶性(難以結晶化)之聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂為尤佳。非晶性之聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂之具體例則可舉例：進而含有異酞酸作為二羧酸之共聚物、或進而含有環己二甲醇作為甘醇之共聚物。
於後述之拉伸中採用水中拉伸方式時，上述樹脂基材可吸水，由水發揮塑化劑之功能而進行塑化。其結果，可大幅降低拉伸應力，而使對其進行高倍率拉伸變得可行，且其拉伸性可較空中拉伸時更為優異。其結果，即可製作具有優異的光學特性之偏光件。於一實施形態中，樹脂基材宜為其吸水率在0.2%以上，0.3%以上則更佳。另，樹脂基材之吸水率宜為3.0%以下，1.0%以下則更佳。藉由使用上述樹脂基材，即可防止製造時尺寸穩定性明顯降低，製得的偏光件外觀惡化等問題。此外，能夠防止在水中拉伸時基材破裂或PVA系樹脂層從樹脂基材剝離。另，樹脂基材之吸水率可藉由例如對形成材料導入變性基而進行調整。吸水率是以JIS K 7209為基準而求出之值。
樹脂基材之玻璃轉化溫度(Tg)宜為170℃以下。藉由使用上述樹脂基材，即可抑制PVA系樹脂層的結晶化，並且充分確保積層體的拉伸性。此外，當考慮水所導 致樹脂基材之塑化及良好地進行水中拉伸時，則以120℃以下為較佳。於一實施形態中，樹脂基材之玻璃轉化溫度宜為60℃以上。藉由使用上述樹脂基材，即可防止在塗布、乾燥含有上述PVA系樹脂之塗布液時，發生樹脂基材變形(諸如凹凸或鬆弛、褶皺等之發生)等問題，而可良好地製作積層體。此外，可在適當溫度(例如60℃左右)下良好地進行PVA系樹脂層之拉伸。於另一實施形態中，在塗布、乾燥含有PVA系樹脂之塗布液時，若樹脂基材未變形，則亦可為低於60℃的玻璃轉化溫度。另，樹脂基材之玻璃轉化溫度可以藉由例如：對形成材料導入變性基、使用結晶化材料並加熱而進行調整。玻璃轉化溫度(Tg)是以JIS K 7121為基準而求出之值。
樹脂基材的拉伸前厚度宜為20μm至300μm，50μm至200μm則更佳。當小於20μm時，有變得難以形成PVA系樹脂層之虞。當大於300μm時，則有譬如於水中拉伸中需要長時間以使樹脂基材吸水，並且需要過大負荷用以拉伸之虞。
形成上述PVA系樹脂層之PVA系樹脂則是如上述A-1項中業已說明。
上述塗布液之典型為將上述PVA系樹脂溶解於溶劑中而成之溶液。溶劑可列舉諸如：水；二甲亞碸；二甲基甲醯胺；二甲基乙醯胺；N-甲基吡咯啶酮；各種甘醇類；三羥甲丙烷等多元醇類；乙二胺、二伸乙三胺等胺類。其等可單獨使用或取二種以上組合使用。其等中又以水為 佳。溶液之PVA系樹脂濃度宜相對於溶劑100重量份而為3重量份至20重量份。若採用上述樹脂濃度，即可形成密著於樹脂基材之均勻塗布膜。
於塗布液中亦可摻混添加劑。添加劑可列舉如塑化劑、界面活性劑等。塑化劑可列舉如乙二醇及丙三醇等多元醇。界面活性劑則可舉非離子界面活性劑為例。可為更加提升製得之PVA系樹脂層的均一性、染色性或拉伸性之目的而使用上述諸等。
塗布液的塗布方法可採用任何適當的方法。舉例言之，可列舉：滾塗法、旋塗法、線棒塗布法、浸塗法、模塗法、簾塗法、噴塗法、刮刀塗布法(逗號刮塗法等)等。
上述塗布液之塗布、乾燥溫度宜為50℃以上。
PVA系樹脂層的拉伸前厚度宜為3μm至40μm，3μm至20μm則更佳。
在形成PVA系樹脂層前，可對樹脂基材實施表面處理(譬如，電暈處理等)，亦可於樹脂基材上形成易接著層。藉由進行上述處理，可提昇樹脂基材與PVA系樹脂層之密著性。
A-1-2.積層體之拉伸
積層體之拉伸方法可採用任何適當之方法。具體而言，可採用固定端拉伸，亦可採用自由端拉伸(例如使積層體通過周速不同之輥筒間以進行單軸拉伸之方法)。較佳為自由端拉伸。
積層體之拉伸方向可適當加以設定。於一實施形 態中是往長條狀積層體之長度方向拉伸。其結果，可在長度方向發現製得之偏光件的吸收軸。此時，典型上來說，是採用使積層體通過周速不同之輥筒間以進行拉伸之方法。於另一實施形態中是往長條狀積層體之寬度方向拉伸。其結果，可在寬度方向發現製得之偏光件的吸收軸。此時，典型上來說，是採用使用拉幅拉伸機以進行拉伸之方法。
拉伸方式並無特別限制，可為空中拉伸方式，亦可為水中拉伸方式。較佳為水中拉伸方式。若採用水中拉伸方式，便可在低於上述樹脂基材或PVA系樹脂層之玻璃轉化溫度(典型上為80℃左右)之溫度下進行拉伸，從而可在抑制PVA系樹脂層之結晶化的情形下，對其進行高倍率拉伸。其結果，即可製作具有優異的光學特性之偏光件。
積層體之拉伸可以一階段進行，亦可分多階段進行。分多階段進行時，可以例如組合上述自由端拉伸及固定端拉伸，亦可組合上述水中拉伸方式及空中拉伸方式。此外，分多階段進行時，後述積層體之拉伸倍率(最大拉伸倍率)是各階段拉伸倍率之積。
積層體之拉伸溫度可視樹脂基材之形成材料、拉伸方式等之不同而設為任何適當之值。採用空中拉伸方式時，拉伸溫度宜為樹脂基材之玻璃轉化溫度(Tg)以上，樹脂基材之玻璃轉化溫度(Tg)+10℃以上更佳，Tg+15℃以上則尤佳。另，積層體之拉伸溫度宜為170℃以下。在上述溫度下進行拉伸，即可抑制PVA系樹脂之急速結晶化，並抑 制該結晶化所導致之問題(譬如妨礙因拉伸而發生之PVA系樹脂層之定向)。
採用水中拉伸方式時，拉伸浴之液溫宜為40℃至85℃，50℃至85℃則更佳。若為上述溫度，便可在抑制PVA系樹脂層溶解之情形下對其進行高倍率拉伸。具體而言，一如上述，樹脂基材之玻璃轉化溫度(Tg)就與PVA系樹脂層之形成之關係而言，宜為60℃以上。此時，若拉伸溫度低於40℃，即便考量水所導致樹脂基材之塑化，亦可能無法良好地加以拉伸。另，拉伸浴之溫度愈高溫，PVA系樹脂層之溶解性愈高，恐無法獲致優異之光學特性。在拉伸浴中積層體的浸泡時間宜為15秒至5分。
採用水中拉伸方式時，宜將積層體浸泡於硼酸水溶液中進行拉伸(硼酸水中拉伸)。使用硼酸水溶液作為拉伸浴，即可賦予PVA系樹脂層以耐受拉伸時所受張力之剛性及不溶於水之耐水性。具體而言，硼酸可於水溶液中生成四羥基硼酸陰離子而與PVA系樹脂進行氫鍵結而交聯。其結果，可賦予PVA系樹脂層剛性及耐水性而可良好地進行拉伸，並製得具優異的光學特性之偏光件。
上述硼酸水溶液宜藉由使硼酸及/或硼酸鹽溶解於當作溶劑之水中而製得。硼酸濃度宜相對於水100重量份而為1重量份至10重量份。使硼酸濃度為1重量份以上，即可有效地抑制PVA系樹脂層之溶解，而可製作特性更良好之偏光件。另，除硼酸或硼酸鹽以外，亦可使用將硼砂等硼化合物、乙二醛、戊二醛等溶解於溶劑中所製得之水溶 液。
藉由後述之染色預先使二色性物質(其典型為碘)吸附於PVA系樹脂層時，宜於上述拉伸浴(硼酸水溶液)中摻混碘化物。藉由摻混碘化物，即可抑制PVA系樹脂層中已吸附之碘之溶離。碘化物可列舉諸如：碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。其等中則以碘化鉀為佳。碘化物之濃度宜相對於水100重量份而為0.05重量份至15重量份，0.5重量份至8重量份則更佳。
積層體之拉伸倍率(最大拉伸倍率)宜相對於積層體之原長度而為5.0倍以上。此種較高之拉伸倍率可藉譬如採用水中拉伸方式(硼酸水中拉伸)而實現。另，本說明書中所謂「最大拉伸倍率」是指積層體即將破裂前之拉伸倍率，又指確認積層體發生破裂之拉伸倍率後較該值低0.2之值。
於較佳實施形態中，在高溫下(譬如，95℃以上)將上述積層體進行空中拉伸之後，進行上述硼酸水中拉伸及後述之染色。因上述空中拉伸可定位成對於硼酸水中拉伸之預備性的或補助性的拉伸，故以下稱之為「空中補助拉伸」。
有組合空中補助拉伸便可對積層體進行更高倍率拉伸的情形。其結果，即可製作具有更加優異的光學特性(例如偏光度)之偏光件。譬如，使用聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂作為上述樹脂基材時，比起僅以硼酸水中拉伸進行 拉伸，組合空中補助拉伸與硼酸水中拉伸較能抑制樹脂基材之定向同時進行拉伸。該樹脂基材會隨著其定向性提高，拉伸張力隨之變大，而有穩定之拉伸變得困難或發生破裂的情形。因此，一邊抑制樹脂基材之定向一邊進行拉伸，即可對積層體進行更高倍率拉伸。
又，藉由組合空中補助拉伸使得PVA系樹脂的定向性提高，藉此，就算在硼酸水中拉伸後亦可提高PVA系樹脂的定向性。具體而言，藉由預先以空中補助拉伸提高PVA系樹脂的定向性，在硼酸水中拉伸時PVA系樹脂變得易於與硼酸交聯，由於是在硼酸成為節點的狀態下進行拉伸，故可推定於硼酸水中拉伸後PVA系樹脂之定向性亦變高。其結果，即可製作具有優異光學特性(例如偏光度)之偏光件。
空中補助拉伸之拉伸倍率宜為3.5倍以下。空中補助拉伸之拉伸溫度宜為PVA系樹脂之玻璃轉化溫度以上。拉伸溫度以95℃至150℃為佳。另，組合了空中補助拉伸與上述硼酸水中拉伸時之最大拉伸倍率宜相對於積層體之原長度而為5.0倍以上，5.5倍以上較佳，6.0倍以上則更佳。
A-1-3.染色
上述染色典型上是藉由使二色性物質(宜為碘)吸附於PVA系樹脂層而進行。該吸附方法可列舉譬如：使PVA系樹脂層(積層體)浸泡於含碘的染色液中之方法、於PVA系樹脂層塗覆該染色液之方法、將該染色液噴灑於PVA系樹脂層 之方法等。而以將積層體浸泡於染色液中之方法為佳。其是因可良好地吸附碘之故。
上述染色液宜為碘水溶液。碘之摻混量宜相對於水100重量份而為0.1重量份至0.5重量份。為提高碘對水之溶解度，宜於碘水溶液中摻混碘化物。碘化物之具體例則如前所述。碘化物之摻混量宜相對於水100重量份而為0.02重量份至20重量份，而以0.1重量份至10重量份較佳。為了抑制PVA系樹脂之溶解，染色液的染色時液溫宜為20℃至50℃。將PVA系樹脂層浸泡於染色液時，浸泡時間宜為5秒至5分，以確保PVA系樹脂層之透光率。且，染色條件(濃度、液溫、浸泡時間)可設定成使最終製得之偏光件的偏光度或單體透光率在預定範圍內。於一實施形態中，是將浸泡時間設定成使製得之偏光件的偏光度為99.98%以上。於另一實施形態中，則是將浸泡時間設定成使製得之偏光件的單體透光率為40%至44%。
染色處理可於任何適當的時間點進行。進行上述水中拉伸時，宜於水中拉伸前進行。
A-1-4.其他處理
上述積層體除了拉伸、染色之外，可適當實施用以將其PVA系樹脂層作成偏光件之處理。用以作成偏光件之處理可列舉如：不溶解化處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。另，該等處理之次數、順序等並無特別限制。
上述不溶解化處理典型上是將PVA系樹脂層浸泡於硼酸水溶液中進行。藉由實施不溶解化處理，可賦予 PVA系樹脂層耐水性。該硼酸水溶液之濃度宜相對於水100重量份而為1重量份至4重量份。不溶解化浴(硼酸水溶液)之液溫宜為20℃至50℃。不溶解化處理宜於上述水中拉伸或上述染色處理之前進行。
上述交聯處理典型上是將PVA系樹脂層浸泡於硼酸水溶液中進行。藉由實施交聯處理，可賦予PVA系樹脂層耐水性。該硼酸水溶液之濃度宜相對於水100重量份而為1重量份至5重量份。且，於上述染色處理後再進行交聯處理時，宜進而摻混碘化物。藉由摻混碘化物，即可抑制PVA系樹脂層中已吸附之碘之溶離。碘化物之摻混量宜相對於水100重量份而為1重量份至5重量份。碘化物之具體例則如前所述。交聯浴(硼酸水溶液)之液溫宜為20℃至60℃。交聯處理宜於上述水中拉伸之前進行。於較佳實施形態中是依序進行染色處理、交聯處理及水中拉伸。
上述洗淨處理典型上是將PVA系樹脂層浸泡於碘化鉀水溶液中進行。上述乾燥處理之乾燥溫度宜為30℃至100℃。
A-2.表面保護薄膜
表面保護薄膜20具有以預定圖案配置的貫通孔21、21。設置貫通孔的位置是對應形成偏光件之露出部(非偏光部)之位置。圖4所示的貫通孔之配置圖案是對應圖3A所示的露出部(非偏光部)之配置圖案。貫通孔可具有任何適當之形狀。貫通孔之形狀是對應所形成的露出部(非偏光部)之俯視形狀。貫通孔是藉由例如：機械式衝壓(譬如衝孔、雕刻 刀衝壓、繪圖機、水刀)或預定部分之去除(譬如雷射燒蝕或化學溶解)而形成。
表面保護薄膜宜為硬度(例如彈性係數)高之薄膜。其是因可防止搬送及/或積層時之貫通孔變形之故。表面保護薄膜的形成材料可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等酯系樹脂；降莰烯系樹脂等環烯烴系樹脂；聚丙烯等烯烴系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚碳酸酯系樹脂及其等之共聚物樹脂等。而以酯系樹脂(特別是聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂)為佳。若為上述材料，則不只價格便宜，且有彈性係數充分地高、於搬送及/或積層時即便施加張力也不易發生貫通孔變形之優點。
表面保護薄膜之厚度典型為20μm至250μm，而以30μm至150μm為佳。若為上述厚度，則有於搬送及/或積層時即便施加張力也不易產生貫通孔變形之優點。
表面保護薄膜之彈性係數宜為2.2kN/mm2至4.8kN/mm2。若表面保護薄膜之彈性係數為上述範圍，則有於搬送及/或積層時即便施加張力也不易產生貫通孔變形之優點。另，彈性係數是依據JIS K 6781而測定。
表面保護薄膜之拉伸伸長率宜為90%~170%。若表面保護薄膜之拉伸伸長率為上述範圍，則有不易於搬送中破裂之優點。另，拉伸伸長率是依據JIS K 6781而測定。
一實施形態是如圖4所示地以捲對捲之方式，將表面保護薄膜20積層於長條狀偏光件10上；該表面保護薄膜為長條狀並具有以預定圖案配置之貫通孔21、21等。藉 由使用具有貫通孔之表面保護薄膜，即可良好地形成上述偏光件之露出部(非偏光部)。
以捲對捲之方式積層偏光件及表面保護薄膜時，可以從表面保護薄膜捲體捲出表面保護薄膜並積層於偏光件上，且該表面保護薄膜捲體是將長條狀表面保護薄膜捲束為捲筒狀而成，亦可在表面保護薄膜形成了貫通孔之後，連續地(不將表面保護薄膜暫時捲束)積層於偏光件上。
一如上述，典型上來說，表面保護薄膜20可透過任何適當的黏著劑，可被剝離地貼合於偏光件10上。宜為預先在已形成黏著層之表面保護薄膜上形成貫通孔，再將其貼合於偏光件。用於積層表面保護薄膜的黏著劑可舉例以下黏著劑組成物：將例如丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、矽氧樹脂等作為基礎樹脂，在該基礎樹脂中摻混由異氰酸酯化合物、環氧化合物、吖丙烷化合物等選出的交聯劑，更進一步摻混矽烷耦合劑等而成之黏著劑組成物。黏著劑層的厚度通常為1μm至60μm，而以3μm至30μm為佳。黏著劑層過薄時，有發生黏著性降低、變得易混入氣泡等問題之虞，而過厚時則有發生黏著劑溢出等問題之虞。由耐化學性、密著性(譬如，為了防止後述之浸泡時的溶劑侵入之密著性)、對被著體的自由度等觀點來看，以使用丙烯酸系黏著劑為佳。
A-3.其他
保護薄膜30之形成材料可列舉諸如：二醋酸纖維素、 三醋酸纖維素等纖維素系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂；環烯烴系樹脂；聚丙烯等烯烴系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等酯系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚碳酸酯系樹脂及其等之共聚物樹脂等。保護薄膜之厚度典型上來說為10μm至100μm。於一實施形態中，保護薄膜之厚度為80μm以下。使用上述厚度的保護薄膜，即可對製得的偏光板之薄型化有所貢獻。另一方面，將長條狀偏光板捲束成了捲筒狀時，被認為容易發生上述凹部在保護薄膜上轉印成捲痕等因段差而導致的問題；該長條狀偏光板是在上述一面側形成有凹部之偏光件的另一面側上，配置有上述厚度的保護薄膜之長條狀偏光板。在像這樣的實施形態中，能夠顯著地獲得將凹部之段差縮小的好處。
保護薄膜可具有光學補償機能(亦即，可具有與目的相應之適當的折射率橢球、面內相位差及厚度方向相位差)。保護薄膜典型上是透過接著層(具體而言為接著劑層、黏著劑層)積層於偏光件。接著劑層典型上是以PVA系接著劑或活性能量線硬化型接著劑形成。黏著劑層典型上是以丙烯酸系黏著劑形成。
偏光件10為形成於樹脂基材上之樹脂層時，可進行保護薄膜30之積層及/或樹脂基材之剝離。於一實施形態中，在樹脂基材/偏光件的積層體之偏光件表面上，藉由捲對捲之方式積層保護薄膜，接著，剝離樹脂基材。
第2表面保護薄膜40除了未設置有貫通孔以外，可使用與第1表面保護薄膜相同之薄膜。此外，第2表面保 護薄膜也可使用像聚烯烴(例如聚乙烯)薄膜一樣柔軟(例如彈性係數低)的薄膜。於一實施形態中，第2表面保護薄膜40是藉由捲對捲之方式積層於偏光件10的一側。具體而言，第2表面保護薄膜40可透過任何適當之黏著劑，可剝離地貼合於偏光件10或保護薄膜30。藉由使用第2表面保護薄膜，即可於後述之化學處理中適切地保護偏光件或偏光板(偏光件/保護薄膜)。第2表面保護薄膜可與第1表面保護薄膜同時積層於偏光件或偏光板，亦可在積層第1表面保護薄膜之前進行積層，也可在積層第1表面保護薄膜之後再進行積層。較佳為在將第1表面保護薄膜積層於偏光件或偏光板之前，先積層第2表面保護薄膜。若為上述步驟，則有可防止保護薄膜之損傷、以及可防止於捲束時，第1表面保護薄膜上所形成之貫通孔在保護薄膜上轉印成痕跡之優點。要在積層第1表面保護薄膜之前，先積層第2表面保護薄膜時，則可例如：製作保護薄膜與第2表面保護薄膜之積層體，在將該積層體積層於樹脂基材/偏光件之積層體後，剝離樹脂基材，再於該剝離面上積層第1表面保護薄膜。
雖圖未示，本發明之偏光薄膜積層體亦可視目的之不同而進一步具有任何適當之光學機能層。光學機能層之典型可列舉：相位差薄膜(光學補償薄膜)、表面處理層。
B.非偏光部之形成
只要能夠獲得上述所需之光學特性，上述非偏光部可由任何適當之方法形成。於一實施形態中，非偏光部是藉由以化學處理將偏光件脫色而形成。在實施化學處理時， 除了第1表面保護薄膜的保護之外，宜再加上藉由任何適當之薄膜材來保護偏光件10的另一面側。該薄膜材可使用例如：保護薄膜30、第2表面保護薄膜40，而偏光件10為已形成於樹脂基材上之樹脂層時則可使用該樹脂基材。
以下，具體說明非偏光部之形成。將於圖示例之偏光薄膜積層體100中，以藉由化學處理之脫色(以下，亦稱為化學脫色處理)在偏光件形成非偏光部時的情形作為典型來進行說明。又，發明所屬技術領域中具有通常知識者明瞭即使是與圖示例不同的構成也可適用同樣的步驟。
上述化學脫色處理包含使偏光薄膜積層體與鹼性溶液接觸。使用碘作為二色性物質時，使鹼性溶液接觸樹脂薄膜之所需部位，即可輕易地減少接觸部之碘含量。
偏光薄膜積層體與鹼性溶液之接觸可藉由任何適當的手段進行。其典型可列舉：將偏光薄膜積層體浸泡於鹼性溶液中、或者是將鹼性溶液塗布或噴灑於偏光薄膜積層體。而以浸泡為佳。其是因如圖5所示，由於可一邊將偏光薄膜積層體沿長度方向搬送，一邊進行脫色處理，所以製造效率顯著地高之故。藉由使用第1表面保護薄膜(以及，視需要使用第2表面保護薄膜)，則浸泡變得可行。具體而言，藉由浸泡於鹼性溶液中，只有偏光件中對應第1表面保護薄膜之貫通孔的部分與鹼性溶液接觸。例如，偏光件含有碘作為二色性物質時，藉由使偏光件與鹼性溶液接觸，使得偏光件之與鹼性溶液接觸之部分的碘濃度減少，結果，便可僅在該接觸部分(可藉由第1表面保護薄膜之貫 通孔來設定)選擇性地形成非偏光部。如同上述，根據本實施形態，便可不必伴隨著複雜的操作，而以非常高的製造效率，在偏光件的預定部分選擇性地形成非偏光部。又，偏光件中殘存有碘時，有著即便破壞碘錯合物並形成了非偏光部，但伴隨著偏光件之使用，碘錯合物再次形成，而使非偏光部失去所需特性之虞。於本實施形態，藉由後述之鹼性溶液之去除，碘本身便從偏光件(實質上為非偏光部)被去除。其結果，便可防止伴隨著偏光件之使用的非偏光部之特性變化。
就以鹼性溶液形成非偏光部，進行詳細說明。在接觸偏光件的預定部分後，鹼性溶液會往該預定部分內部滲透。該預定部分所含有的碘錯合物藉由鹼性溶液所含有的鹼而被還原成碘離子。藉由將碘錯合物還原成碘離子，則該部份的偏光性能實質上消失，而於該部份形成非偏光部。此外，藉由碘錯合物之還原，該部份的透光率提高。變成碘離子的碘則由該部份移動到鹼性溶液的溶劑中。其結果，即可藉由後述之鹼性溶液之去除，將碘離子隨著鹼性溶液一起從該部份去除。藉由上述，非偏光部(低濃度部)被選擇性地形成於偏光件之預定部分，此外，該非偏光部成為不隨時間產生變化的穩定的部分。又，調整第1表面保護薄膜之材料、厚度與機械特性、鹼性溶液之濃度、以及偏光薄膜積層體浸泡於鹼性溶液的時間，藉此即可防止鹼性溶液滲透到非所需部分(結果，於非所需部分中形成非偏光部)。
上述鹼性溶液中所含有的鹼性化合物可使用任何適當的鹼性化合物。鹼性化合物可列舉：氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰等鹼金屬之氫氧化物；氫氧化鈣等鹼土族金屬之氫氧化物；碳酸鈉等無機鹼金屬鹽；醋酸鈉等有機鹼金屬鹽；氨水等。於其等中，以使用鹼金屬及/或鹼土族金屬之氫氧化物為佳，而使用氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰則更佳。其等可有效率地將碘錯合物離子化，而能夠更加簡便地形成非偏光部。該等鹼性化合物可單獨使用，亦可將二種以上組合使用。
上述鹼性溶液之溶劑可使用任何適當之溶劑。具體而言，可列舉：水、乙醇、甲醇等醇；醚；苯；氯仿；以及其等之混合溶劑。由碘離子可良好地轉移至溶劑，且在之後的鹼性溶液之去除中可以輕易地去除碘離子這點來看，溶劑以水、醇為佳。
上述鹼性溶液之濃度為譬如0.01N至5N，而以0.05N至3N為佳，0.1N至2.5N則更佳。鹼性溶液之濃度為上述範圍時，即可有效率地減少偏光件內部的碘濃度，並且，可防止於所需部分之碘錯合物的離子化。
上述鹼性溶液之液溫為例如20℃至50℃。偏光薄膜積層體(實質上為偏光件的預定部分)與鹼性溶液之接觸時間可視偏光件之厚度、使用之鹼性溶液中所包含的鹼性化合物之種類、以及鹼性化合物之濃度的不同而加以設定，該接觸時間為例如5秒至30分。
偏光件(樹脂薄膜)中可包含硼酸。譬如，可在上 述拉伸處理、交聯處理等時，藉由接觸硼酸溶液(譬如，硼酸水溶液)而含有硼酸。偏光件(樹脂薄膜)的硼酸含量為例如10重量%至30重量%。此外，與鹼性溶液之接觸部中的硼酸含量為例如5重量%至12重量%。
宜在與上述鹼性溶液接觸之後，於接觸過鹼性溶液的接觸部中，使樹脂薄膜所含有之鹼金屬及/或鹼土族金屬減少。藉由減少鹼金屬及/或鹼土族金屬，即可製得尺寸穩定性優異之低濃度部。具體而言，就算是在加濕環境下，仍可將由與鹼性溶液接觸所形成之低濃度部的形狀維持不變。
藉由使樹脂薄膜接觸鹼性溶液，會在接觸部殘留鹼金屬及/或鹼土族金屬之氫氧化物。此外，藉由使樹脂薄膜接觸鹼性溶液，會在接觸部生成鹼金屬及/或鹼土族金屬之金屬鹽。其等會生成氫氧化物離子，所生成之氫氧化物離子會與存在於接觸部周圍之二色性物質(例如，碘錯合物)作用(分解、還原)，而擴大非偏光區域(低濃度區域)。因此認為減少鹼金屬及/或鹼土族金屬鹽，即可抑制非偏光區域隨著時間擴大，而能夠維持所需的非偏光部形狀。
會生成上述氫氧化物離子的金屬鹽可舉例硼酸鹽。硼酸鹽可以是樹脂薄膜中所含有的硼酸受到鹼性溶液(鹼金屬之氫氧化物及/或鹼土族金屬之氫氧化物溶液)中和而生成。又，硼酸鹽(偏硼酸鹽)可以是藉由例如將偏光件置於加濕環境下，如以下化學式所示地受到水解而生成氫氧化物離子。
(式中，X表示鹼金屬或鹼土族金屬)
宜使接觸部中的鹼金屬及/或鹼土族金屬含量減少為下述：該含量為3.6重量%以下，而以2.5重量%以下為佳，1.0重量%以下較佳，0.5重量%以下則更佳。
又，可藉由實施用以作成偏光件之各種處理，預先於樹脂薄膜中含有鹼金屬及/或鹼土族金屬。可以譬如，使其接觸碘化鉀等碘化物溶液，以在樹脂薄膜中含有鉀。如同上述，認為通常偏光件所含有的鹼金屬及/或鹼土族金屬不會對上述低濃度部之尺寸穩定性造成不良影響。
上述減少方法宜使用使處理液接觸與鹼性溶液之接觸部的方法。若使用上述方法，便可使鹼金屬及/或鹼土族金屬由樹脂薄膜轉移至處理液中，而使其含量減少。
處理液之接觸方法可採用任何適當之方法。可列舉例如：對於與鹼性溶液之接觸部滴下、塗覆、噴灑處理液之方法；將與鹼性溶液之接觸部浸泡於處理液之方法。
在鹼性溶液之接觸時，已藉任何適當的保護材來保護樹脂薄膜的情況下，宜維持該狀態使其接觸處理液(特別是處理液的溫度在50℃以上時)。若為上述形態，便可防 止在與鹼性溶液之接觸部以外的部位中，發生因處理液所造成的偏光特性的降低。
上述處理液可含有任何適當之溶劑。溶劑可列舉諸如：水、乙醇、甲醇等醇；醚；苯；氯仿；以及其等之混合溶劑。其等之中，由有效率地轉移鹼金屬及/或鹼土族金屬之觀點來看，又以使用水、醇為佳。水可使用任何適當之水。可列舉譬如：自來水、純水、去離子水等。
接觸時之處理液溫度為例如20℃以上，以50℃以上為佳，60℃以上較佳，70℃以上則更佳。若為上述溫度，則可有效率地將鹼金屬及/或鹼土族金屬轉移至處理液中。具體而言，能夠顯著地提升樹脂薄膜的膨潤比，而物理性地去除樹脂薄膜內的鹼金屬及/或鹼土族金屬。另一方面，水的溫度實質上為95℃以下。
接觸時間可視接觸方法、處理液(水)的溫度、樹脂薄膜的厚度等之不同而適當加以調整。譬如，浸泡於溫水中時，接觸時間宜為10秒至30分，30秒至15分較佳，60秒至10分則更佳。
於一實施形態中，是使用酸性溶液作為上述處理液。使用酸性溶液，可將殘留於樹脂薄膜的鹼金屬及/或鹼土族金屬之氫氧化物中和，而能夠化學性地去除樹脂薄膜內的鹼金屬及/或鹼土族金屬。
酸性溶液所含有的酸性化合物可使用任何適當之酸性化合物。酸性化合物可列舉諸如：鹽酸、硫酸、硝酸、氟化氫、硼酸等無機酸；甲酸、草酸、檸檬酸、醋 酸、苯甲酸等有機酸等。酸性溶液所含有的酸性化合物以無機酸為佳，更佳為鹽酸、硫酸、硝酸。其等酸性化合物可單獨使用，亦可取二種以上組合使用。
宜以酸度較硼酸強的酸性化合物適用於作為酸性化合物。其是因為亦可對上述鹼金屬及/或鹼土族金屬之金屬鹽(硼酸鹽)作用之故。具體而言，可使硼酸由硼酸鹽中游離，而將樹脂薄膜內的鹼金屬及/或鹼土族金屬化學性地去除。
上述酸度指標可舉例酸解離常數(pKa)，而以使用pKa較硼酸之pKa(9.2)小的酸性化合物為佳。具體而言，pKa宜為9.2以下，而以5以下較佳。pKa可使用任何適當之測定裝置進行測定，亦可參照化學便覽基礎篇改訂5版(日本化學會編，丸善出版)等文獻所記載之值。此外，於多段解離的酸性化合物中，在各階段其pKa值會變化。使用上述酸性化合物時，可使用各階段的pKa值之任一在上述範圍內者。又，於本說明書中，pKa是指於25℃的水溶液中之值。
酸性化合物的pKa與硼酸的pKa之差為例如2.0以上，2.5~15為佳，2.5~13則較佳。若為上述範圍，即可有效率地將鹼金屬及/或鹼土族金屬轉移至處理液中，結果便可實現於低濃度部中所需的鹼金屬及/或鹼土族金屬含量。
可滿足上述pKa的酸性化合物可列舉諸如：鹽酸(pKa：-3.7)、硫酸(pK2：1.96)、硝酸(pKa：-1.8)、氟化氫 (pKa：3.17)、硼酸(pKa：9.2)等無機酸；甲酸(pKa：3.54)、草酸(pK1：1.04、pK2：3.82)、檸檬酸(pK1：3.09、pK2：4.75、pK3：6.41)、醋酸(pKa：4.8)、苯甲酸(pKa：4.0)等有機酸等。
另，酸性溶液(處理液)之溶劑為如前所述，而即使是於使用酸性溶液作為處理液之本形態中，也可能發生上述樹脂薄膜內的鹼金屬及/或鹼土族金屬之物理性去除。
上述酸性溶液的濃度為例如0.01N至5N，而以0.05N至3N為佳，0.1N至2.5N則較佳。
上述酸性溶液之液溫為譬如20℃至50℃。接觸酸性溶液的時間可視樹脂薄膜的厚度或酸性化合物之種類、以及酸性溶液之濃度的不同而加以設定，該接觸時間為例如5秒至30分。
樹脂薄膜除上述處理以外，可進一步實施任何適當之其他處理。其他處理可列舉：鹼性溶液及/或酸性溶液之去除、以及洗淨等。
鹼性溶液及/或酸性溶液之去除方法的具體例可列舉：以廢布等的擦拭除去、吸引除去、自然乾燥、加熱乾燥、送風乾燥、減壓乾燥等。上述乾燥溫度為例如20℃至100℃。乾燥時間為例如5秒至600秒。
洗淨處理可藉由任何適當之方法進行。使用於洗淨處理的溶液可列舉諸如：純水、甲醇、乙醇等醇；酸性水溶液；以及其等之混合溶劑等。洗淨典型上是如圖5所示地在搬送偏光薄膜積層體的同時進行。洗淨處理可於 任何適當之階段進行。洗淨處理亦可進行複數次。又，於圖示例中，是在鹼性溶液之接觸後，依序進行由水之洗淨、酸性溶液之接觸以及由水之洗淨。
典型上來說，在設為上述而形成非偏光部之後(較佳為鹼金屬及/或鹼土族金屬之減少後)，可將第1表面保護薄膜及第2表面保護薄膜剝離去除。依據本發明之偏光薄膜積層體，可一邊沿長度方向搬送(連續地)，一邊進行上述偏光件與表面保護薄膜之積層、脫色以及表面保護薄膜之剝離。
實施例
以下，以實施例具體說明本發明，但本發明並不受限於該等實施例。
[實施例1]
作為樹脂基材，使用了長條狀且吸水率0.75%、Tg75℃的非晶質異酞酸共聚合聚對苯二甲酸乙二酯(IPA共聚合PET)薄膜(厚度：100μm)。在基材的一面上實施電暈處理，將以9：1之比例含有聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(聚合度1200，乙醯乙醯基改質度4.6%，皂化度99.0莫耳%以上，日本合成化學工業社製造，商品名「Gohsefimer Z200」)的水溶液，在25℃下塗布及乾燥於該電暈處理面，形成厚度11μm的PVA系樹脂層而製得積層體。
將製得之積層體置於120℃之烘箱內並於周速不同之輥筒間往縱方向(長度方向)作自由端單軸拉伸至2.0倍(空 中補助拉伸)。
接著，將積層體在液溫30℃之不溶解化浴(相對於水100重量份摻混硼酸4重量份而製得的硼酸水溶液)中浸泡30秒(不溶解化處理)。
接著，將其浸泡在液溫30℃之染色浴中，並調整碘濃度、浸泡時間以使偏光板成為預定之透光率。於本實施例中，是使其浸泡在碘水溶液中60秒(染色處理)；該碘水溶液是相對於水100重量份摻混碘0.2重量份，並摻混碘化鉀1.5重量份而製得。
接下來，將其在液溫30℃之交聯浴(相對於水100重量份摻混碘化鉀3重量份，並摻混硼酸3重量份而製得的硼酸水溶液)中浸泡30秒(交聯處理)。
之後，將積層體浸泡在液溫70℃之硼酸水溶液(相對於水100重量份摻混硼酸4重量份，並摻混碘化鉀5重量份而製得的水溶液)中，同時於周速不同之輥筒間往縱方向(長度方向)進行單軸拉伸，以使總拉伸倍率成為5.5倍(水中拉伸)。
之後，將積層體浸泡在液溫30℃之洗淨浴(相對於水100重量份摻混碘化鉀4重量份而製得的水溶液)中(洗淨處理)。
接著，在積層體的PVA系樹脂層表面塗布PVA系樹脂水溶液(日本合成化學工業社製造，商品名「Gohsefimer(註冊商標)Z-200」，樹脂濃度：3重量%)，並貼合保護薄膜(厚度25μm)，再將其置於維持在60℃的烘箱中加熱5分。之後，將基材從PVA系樹脂層剝離，即製得寬度1200mm、長度43m的長條狀偏光板(厚度5μm之偏光件(單體透光率42.3%)/保 護薄膜)。
在寬度1200mm、長度43m的酯系樹脂薄膜(厚度38μm)之一側的面上，以使黏著劑(丙烯酸系黏著劑)之厚度為5μm之方式塗布該黏著劑。於該附有黏著劑之酯系樹脂薄膜上，用尖塔刀在長度方向每隔250mm且在寬度方向每隔400mm形成直徑2.8mm的貫通孔。
在製得之總厚30μm的偏光板之偏光件側上以捲對捲方式貼合上述附有黏著劑之酯系樹脂薄膜，將其在1mol/L(1N)之氫氧化鈉水溶液中浸泡30秒，接著於1mol/L(1N)之鹽酸中浸泡10秒。之後，以60℃進行乾燥，而在偏光件上形成透明部。
[實施例2]
將厚度60μm的PVA薄膜(Kuraray Co.,Ltd.製，PE6000)於30℃的水溶液中浸泡30秒(膨潤步驟)。
接著，將PVA薄膜浸泡在液溫30℃之染色浴中，並調整碘濃度、浸泡時間以使製得之偏光板成為預定之透光率。於本實施例中，是使其浸泡在碘水溶液中60秒(染色處理)；該碘水溶液是相對於水100重量份摻混碘0.15重量份，並摻混碘化鉀1.0重量份而製得。
接下來，將其在液溫30℃之交聯浴(相對於水100重量份摻混碘化鉀3重量份，並摻混硼酸3重量份而製得的硼酸水溶液)中浸泡30秒(交聯處理)。
之後，將PVA薄膜浸泡在液溫70℃之硼酸水溶液(相對於水100重量份摻混硼酸4重量份，並摻混碘化鉀5重量份而 製得的水溶液)中，同時於周速不同之輥筒間往縱方向(長度方向)進行單軸拉伸至5.5倍(水中拉伸)。
之後，將PVA薄膜浸泡在液溫30℃之洗淨浴(相對於水100重量份摻混碘化鉀4重量份而製得的水溶液)中(洗淨處理)。
洗淨後，在PVA薄膜之一面上塗布PVA系樹脂水溶液(日本合成化學工業社製造，商品名「Gohsefimer(註冊商標)Z-200」，樹脂濃度：3重量%)，並貼合三醋酸纖維素薄膜(Konica Minolta,Inc.製，商品名「KC4UY」，厚度40μm)，再將其置於維持在60℃的烘箱中加熱5分，而製得具有厚度22μm之偏光件(單體透光率42.5%)且寬度1200mm、長度43m的偏光板。
在製得之偏光板的偏光件表面以捲對捲的方式貼合上述業已形成貫通孔的附有黏著劑之酯系樹脂薄膜，將其在1mol/L(1N)之氫氧化鈉水溶液中浸泡180秒，接著於1mol/L(1N)之鹽酸中浸泡60秒。之後，以60℃進行乾燥，而在偏光件上形成透明部。
關於各實施例之偏光板的透明部，就以下項目進行評價。
1.透光率(Ts)
使用分光光度計(村上色彩技術研究所(股)(MURAKAMI COLOR RESEARCH LABORATORY)製，商品名「DOT-3」)進行測定。透光率(T)是依JIS Z 8701-1982之2度視野(C光源)進行視感度修正後的Y值。
2.碘含量
藉由螢光X射線分析求得在偏光件之透明部中的碘含量。具體而言，由依照下述條件所測得之X射線強度，藉由預先使用標準試料作成之校正曲線求得偏光件之碘含量。
‧分析裝置：理學電機工業股份有限公司製，螢光X射線分析裝置(XRF)，商品名「ZSX100e」
‧對陰極：銠
‧分光結晶：氟化鋰
‧激發光能量：40kV-90mA
‧碘測定線：I-LA
‧定量法：FP法
‧2 θ角峰：103.078deg(碘)
‧測定時間：40秒
於實施例1及2所製得的偏光板之透明部(浸泡鹽酸前)，其等之透光率分別是90.3%(實施例1)和90.2%(實施例2)，碘含量是0.08重量%(實施例1)和0.12重量%(實施例2)。偏光件之透明部以外的部位之碘含量為約5重量%，且於任一實施例中都形成有下述透明部：二色性物質含量低於其他部位，且能夠作為非偏光部而發揮功能之透明部。
3.鈉含量
藉由螢光X射線分析求得在偏光件之透明部中的鈉含量。具體而言，由依照下述條件所測得之X射線強度，藉由預先使用標準試料作成之校正曲線求得偏光件之鈉含量。鈉含量之測定是在浸泡鹽酸前以及浸泡後進行。
‧分析裝置：理學電機工業股份有限公司製，螢光X射線分析裝置(XRF)，商品名「ZSX100e」
‧對陰極：銠
‧分光結晶：氟化鋰
‧激發光能量：40kV-90mA
‧鈉測定線：Na-KA
‧定量法：FP法
‧測定時間：40秒
於實施例1的偏光板中，透明部之鈉含量在浸泡鹽酸前是4.0重量%，浸泡後是0.04重量%。另，實施例2的偏光板中，透明部之鈉含量在浸泡鹽酸前是4.1重量%，浸泡後是0.05重量%。
此外，將於各實施例所製得之偏光板置於65℃/90%RH的環境下500小時後，於任一實施例中皆未觀察到在加濕試驗前後透明部之尺寸的較大變化。對於除了未進行浸泡鹽酸之外，其餘設為與實施例1及2相同而製得之偏光板進行相同的加濕試驗後，透明部之尺寸在任一偏光板中皆變大約1.3倍。
此外，使用Canon Inc.製的光學計測器「ZYGO New View 7300」測定了透明部附近的表面平滑性。實施例1及2之透明部附近的表面平滑性(凹凸之大小)評價結果顯示於圖6(a)、圖6(b)。於偏光件厚度為5μm之實施例1中，透明部(凹部)與其他部位的段差小如0.8μm以下，且表面更為平滑。
產業上之可利用性
本發明之偏光薄膜積層體適用於智慧型手機等行動電話、筆記型電腦、平板電腦等附有攝影機之影像顯示裝置(液晶顯示裝置、有機EL設備)之製造。
11‧‧‧露出部(非偏光部)
20‧‧‧表面保護薄膜(第1表面保護薄膜)
100‧‧‧偏光薄膜積層體

Claims (25)

  1. 一種偏光薄膜積層體，其具備長條狀的偏光件、及配置於該偏光件的一面側之表面保護薄膜；且，於前述一面側具有已露出偏光件之露出部；前述露出部是以預定間隔配置於前述偏光件的長度方向及/或寬度方向上。
  2. 如請求項1之偏光薄膜積層體，其中前述露出部是以預定間隔配置於前述長度方向上。
  3. 如請求項1或2之偏光薄膜積層體，其中前述露出部是實質上等間隔配置於至少前述長度方向上。
  4. 如請求項1至3中任一項之偏光薄膜積層體，其中前述露出部是實質上等間隔配置於前述偏光件的長度方向及前述寬度方向上。
  5. 如請求項1至4中任一項之偏光薄膜積層體，當為了將前述偏光件安裝於預定尺寸之影像顯示裝置而將其裁切成預定尺寸時，前述露出部是配置在對應該影像顯示裝置之攝影機部的位置。
  6. 如請求項1至5中任一項之偏光薄膜積層體，其連結相鄰的前述露出部之直線的方向相對於前述偏光件的長度方向及/或前述寬度方向是在±10°的範圍內。
  7. 如請求項1至6中任一項之偏光薄膜積層體，其中前述偏光件之厚度為10μm以下。
  8. 如請求項1至7中任一項之偏光薄膜積層體，其中前述偏 光件之對應露出部的部分之偏光度為99.9%以上。
  9. 如請求項8之偏光薄膜積層體，其是沿前述長度方向搬送而供於用以將前述偏光件之對應露出部的部分進行脫色之步驟。
  10. 如請求項1至7中任一項之偏光薄膜積層體，其中前述偏光件之對應露出部的部分是藉由將該偏光件脫色而形成之非偏光部。
  11. 如請求項10之偏光薄膜積層體，其中前述非偏光部之透光率為90%以上。
  12. 如請求項10或11之偏光薄膜積層體，其中前述偏光件之對應露出部的部分包含該偏光件其一面側之表面凹陷而成的凹部。
  13. 如請求項10至12中任一項之偏光薄膜積層體，其中前述非偏光部是前述二色性物質含量低於其他部位之低濃度部。
  14. 如請求項13之偏光薄膜積層體，其中前述低濃度部的鹼金屬及/或鹼土族金屬之含量為3.6重量%以下。
  15. 如請求項13或14之偏光薄膜積層體，其中前述低濃度部是藉由使鹼性溶液接觸前述偏光件而形成。
  16. 如請求項15之偏光薄膜積層體，其中前述鹼性溶液是含有鹼金屬及/或鹼土族金屬之氫氧化物的水溶液。
  17. 如請求項1至16中任一項之偏光薄膜積層體，其於前述表面保護薄膜上形成有貫通孔，且對應該貫通孔的部分為前述露出部。
  18. 如請求項1至17中任一項之偏光薄膜積層體，其中前述表面保護薄膜是可被剝離地積層於前述偏光件上。
  19. 如請求項1至18中任一項之偏光薄膜積層體，其具備配置於前述偏光件的另一面側之保護薄膜。
  20. 如請求項19之偏光薄膜積層體，其中前述保護薄膜之厚度為80μm以下。
  21. 如請求項1至20中任一項之偏光薄膜積層體，其具備配置於前述偏光件的另一面側之第2表面保護薄膜。
  22. 如請求項1至21中任一項之偏光薄膜積層體，其中前述露出部是呈點狀配置。
  23. 如請求項1至22中任一項之偏光薄膜積層體，其中前述露出部之俯視形狀為略圓形或略矩形。
  24. 如請求項1至23中任一項之偏光薄膜積層體，其被捲繞成捲筒狀。
  25. 如請求項1至24中任一項之偏光薄膜積層體，其是用於製造具有非偏光部的複數個偏光件。
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