TW201024918A - Photosensitive resin composition for protective film of printed wiring board for semiconductor package - Google Patents

Photosensitive resin composition for protective film of printed wiring board for semiconductor package Download PDF

Info

Publication number
TW201024918A
TW201024918A TW98129708A TW98129708A TW201024918A TW 201024918 A TW201024918 A TW 201024918A TW 98129708 A TW98129708 A TW 98129708A TW 98129708 A TW98129708 A TW 98129708A TW 201024918 A TW201024918 A TW 201024918A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
group
resin composition
formula
photosensitive resin
epoxy resin
Prior art date
Application number
TW98129708A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI396046B (zh
Inventor
Kazuhiko Kurafuchi
Toshizumi Yoshino
Hideyuki Katagi
Masaya Ookawa
Yoshiaki Fuse
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Publication of TW201024918A publication Critical patent/TW201024918A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI396046B publication Critical patent/TWI396046B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0385Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable using epoxidised novolak resin
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0047Photosensitive materials characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • H05K3/285Permanent coating compositions
    • H05K3/287Photosensitive compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)

Description

201024918 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明爲有關半導體封裝用印刷電路板之保護膜用感 光性樹脂組成物。 【先前技術】 印刷電路板範圍中,以往即開始於印刷電路板上形成 φ 永久性遮罩光阻(保護膜)。該永久遮罩光阻,於半導體 元件介由焊料裝設覆晶(Flip Chip )於印刷電路板上之步 驟中,印刷電路板之導體層的不必要部分具有防止焊料附 著之機能。此外,永久遮罩光阻於印刷電路板之使用中, 具有防止導體層之腐蝕,保持導體層間之電絕緣性之機能 〇 以往,印刷電路板製造中之永久遮罩光阻,爲由熱硬 化性或感光性樹脂組成物以網版印刷之方法等予以製作。 φ 例如,使用於FC、TAB及COF之裝設方式的可撓性 電路板中,除與層合電路板、1C晶片、電子零件或LCD 面板之連接電路圖型部分以外,熱硬化性樹脂糊劑進行網 版印刷,經熱硬化後形成永久遮罩光阻(例如參考專利文 獻1)。 又,搭載於個人電腦之BGA (球狀封裝陣列)、CSP (晶片尺寸封裝)等半導體封裝基板中,爲(1)於半導 體封裝基板上介由焊料將半導體元件進行覆晶裝設時、( 2)半導體元件與半導體封裝基板經由導線鍵結接合時、 -5- 201024918 (3)半導體封裝基板以焊料接合於主機板上時,必須去 除該接合部分之永久遮罩光阻,該些容易去除之感光性樹 脂組成物常被作爲永久遮罩光阻使用(例如參考專利文獻 2) 〇 〔先前技術文獻〕 〔專利文獻〕 〔專利文獻1〕特開2003 — 198105號公報 〔專利文獻2〕特開平11— 240930號公報 _ 【發明內容】 近年來,伴隨電路圖型之高密度化、永久遮罩光阻尋 求高解析性等目標,而廣泛地使用可以攝影法形成圖型之 感光性樹脂組成物。其中又以使用碳酸鈉水溶液等弱鹼水 溶液而可顯影之鹼顯影型之樹脂,就作業環境之安全性、 地球環境安全性等觀點而形成主流。 但是,鹼顯影型之感光性樹脂組成物,仍存在耐久性 @ 之問題。即,其與以往之熱硬化型、溶劑顯影型之物質相 比時,其於耐藥性、耐水性、耐熱性、耐濕熱性等仍呈現 弱勢。其應爲鹸顯影型之感光性樹脂組成物因可進行鹼顯 影,故以具有親水性基爲主成分,故容易受到藥液、水、 水蒸氣等之浸透。特別是於BGA或CSP等半導體封裝中 ,必須進行稱爲耐濕熱性之耐PCT性((pressure cook test )壓力鍋測試)測試,於該嚴苛條件下進行數小時至 數十小時,塡充於半導體元件與焊料光阻之間的底層塡充 -6- 201024918 材料(Under Fill ),與永久遮罩光阻之硬化膜之黏著性 會有大幅降低之問題。 本發明,即爲鑑於上述以往技術所具有之問題所提出 者’而以提出一種即使經由長時間之耐PCT試驗後,底層 塡充材料與永久遮罩光阻之硬化膜亦具有優良之黏著性的 半導體封裝用印刷電路板之保護膜用感光性樹脂組成物爲 目的。 φ 爲達上述之目的,本發明爲提供一種含有(A)含有 酸改質乙烯基之環氧樹脂,與(B)酚系化合物,與(C) 分子內至少具有1個之乙烯性不飽和基之化合物,與(D )光聚合起始劑,與(E)無機微粒子之半導體封裝用印 刷電路板之保護膜用感光性樹脂組成物。 該感光性樹脂組成物,因具有上述構成,故即使經過 長時間之耐PCT試驗後,亦可形成與底層塡充材料具有優 良黏著性之永久遮罩光阻的硬化膜。又,經使用該感光性 〇 樹脂組成物所形成之硬化膜,亦具有優良之焊料耐熱性。 因此,本發明之感光性樹脂組成物,極適合作爲半導體封 裝用印刷電路板之保護膜用感光性樹脂組成物使用。 本發明之感光性樹脂組成物中,上述(B )酚系化合 物,就經由長時間之耐PCT試驗後,也可使底層塡充材料 與永久遮罩光阻之硬化膜的黏著性更佳之觀點,以使用下 述通式(1)所表示之化合物爲佳。 (1) 201024918 [化1]
〔式(1)中,R1爲碳數1〜5之院基,m爲1〜4之整數 ’11爲1〜4之整數,八爲11價之有機基;又,111及/或11 爲2以上之情形,多數存在之Ri可爲相同或相異〕。 又’就即使經由長時間之耐PCT試驗後,可使底層塡 ® 充材料與永久遮罩光阻之硬化膜的黏著性更加良好等觀點 ,上述通式(1)中,以A爲2〜4價之碳數1〜5之烴基 、下述通式(2)所表示之3價之有機基,或’下述通式 (3)所表示之3價之有機基爲佳。就同樣之觀點’上述 通式(1)中,至少一個之R1爲tert — 丁基者爲佳。 [化2]
ch2 [化3]
〔式(3)中,R2爲碳數1〜5之烷基,t爲1〜3之整數 -8 - 201024918 本發明之感光性樹脂組成物中,上述(A)含有酸改 質乙烯基之環氧樹脂,可進行鹼顯影,且就具有優良解析 性、黏著性等觀點,以使用由下述通式(4)所表示之酚 醛清漆型環氧樹脂、下述通式(5)所表示之雙酚型環氧 樹脂、下述通式(6)所表示之水楊醛型環氧樹脂,及具 有下述通式(7)或(8)所表示之重複單位之雙酚型酚醛 清漆樹脂所成群中所選出之至少1種之環氧樹脂(a), φ 與含有乙烯基之單羧酸(b)反應所得之樹脂,與含有飽 和或不飽和基之多元酸酐(c)反應所得之樹脂者爲佳。
〔式(4)中’ R11表示氫原子或甲基,γΐ表示氫原子或 縮水甘油基’ nl爲1以上之整數,又,多數存在之rii及 β Υ1可分別爲相同或相異;但,至少一個之γ1表示縮水甘 油基〕。 -9- 201024918 [化5]
〔式(5)中,R12表示氫原子或甲基,Y2表示氫原子或 縮水甘油基,η2爲1以上之整數;又,多數存在之R12可 爲相同或相異;又,η2爲2以上之情形,多數存在之Υ2 可爲相同或相異〕。 [化6]
〔式(6)中,Υ3表示氫原子或縮水甘油基,ιι3爲1以上 之整數;又,多數存在之 Υ3可爲相同或相異;但,至少 一個之Υ3表示縮水甘油基〕。 -10- 201024918 [化7] ΟΥ4
φ 〔式(7)中’R13表示氫原子或甲基,Υ4及Υ5分別表示 獨立之氫原子或縮水甘油基;又,2個之R13可爲相同或 相異;但,Υ4及Υ5之至少一個表示縮水甘油基〕。 [化8] ΟΥ6
〔式(8 )中,R14表示氫原子或甲基,Υ6及Υ7分別表示 獨立之氫原子或縮水甘油基;又,2個之R14可爲相同或 相異;但,Υ6及Υ7之至少一個表示縮水甘油基〕。 又,本發明之感光性樹脂組成物中,上述(Ε)無機 微粒子之含量,相對於感光性樹脂組成物之固形分全量爲 基準時以15〜80質量%爲佳。如此,可使由該感光性樹脂 組成物所形成之硬化膜之強度、耐熱性、絕緣信賴性、耐 -11 - 201024918 熱衝撃性、解析性等再向上提升。 本發明之感光性樹脂組成物,以再含有(F )硬化劑 爲佳。含有(F )硬化劑時,可使感光性樹脂組成物所形 成之硬化膜的耐熱性、與底層塡充材料之黏著性、耐藥性 等再向上提升。 又,本發明之感光性樹脂組成物,以再含有(G )彈 性體爲佳。含有(G )彈性體時,可使感光性樹脂組成物 所形成之硬化膜的可撓性、與底層塡充材料之黏著性等再 _ 向上提升。 依本發明結果,可提供一種即使經過長時間之耐PCT 試驗後,仍可保持底層塡充材料與永久遮罩光阻之硬化膜 間之優良黏著性,且,亦具有焊料耐熱性之優良半導體封 裝用印刷電路板之保護膜用感光性樹脂組成物。 以下,本發明將對較佳之實施形態進行詳細之說明。 又,本發明中之(甲基)丙烯酸係指丙烯酸及其所對應之 甲基丙烯酸之意,(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及其所 @ 對應之甲基丙烯酸酯之意。 本發明之半導體封裝用印刷電路板之保護膜用感光性 樹脂組成物,爲含有(A)含有酸改質乙烯基之環氧樹脂 (以下,依情形之不同,亦稱爲「(A)成分」),與(B )酚系化合物(以下,依情形之不同,亦稱爲「(B)成 分」),與(C)分子內至少具有1個之乙稀性不飽和基 之化合物(以下,依情形之不同,亦稱爲「(C)成分」 ),與(D)光聚合起始劑(以下,依情形之不同,亦稱 -12- 201024918 爲「(D)成分」),與(E)無機微粒子(以下,依情形 之不同’亦稱爲「(E)成分」)之組成物。以下,將詳 細敘述各成分。 < (A)含有酸改質乙烯基之環氧樹脂> (A)含有酸改質乙烯基之環氧樹脂,例如,可使用 環氧樹脂經含有乙烯基之單羧酸所改質之樹脂,特別是以 φ 使用由下述通式(4)所表示之酚醛清漆型環氧樹脂、下 述通式(5)所表示之雙酚型環氧樹脂、下述通式(6)所 表示之水楊醛型環氧樹脂,及,具有下述通式(7)或(8 )所表示之重複單位之雙酚型酚醛清漆樹脂所成群中所選 出之至少1種之環氧樹脂(a),與含有乙烯基之單羧酸 (b )反應所得之樹脂(a ’)爲佳。 [化9]
〔式(4)中,R11表示氫原子或甲基’ Y1表示氫原子或 縮水甘油基,nl爲1以上之整數;又,多數存在之R11及 Y1可分別爲相同或相異;但,至少一個之Y1表示縮水甘 油基〕。 -13- 201024918 [化 ίο]
〔式(5)中,R12表示氫原子或甲基,Y2表示氫原子或 縮水甘油基,η2爲1以上之整數;又’多數存在之R12可 爲相同或相異;又,η2爲2以上之情形’多數存在之Υ2 可爲相同或相異〕。 [化11]
〔式(6)中,Υ3表示氫原子或縮水甘油基,η3爲1以上 之整數;又,多數存在之Υ3可爲相同或相異;但,至少 ~~個之Υ3表示縮水甘油基〕。 -14- 201024918 [化 12]
φ 〔式(7)中,Rl3表示氫原子或甲基,Υ4及Υ5分別表示 獨立之氫原子或縮水甘油基;又,2個之R13可爲相同或 相異;但,Υ4及Υ5之至少一個表示縮水甘油基〕。 [化 13]
〔式(8 )中’ R14表示氫原子或甲基,Υ6及Υ7分別表示 獨立之氫原子或縮水甘油基;又,2個之R14可爲相同或 相異;但,Υ6及Υ7之至少—個表示縮水甘油基〕。 樹脂(Α’),推測爲具有由環氧樹脂(a)之環氧基 與含有乙烯基之單羧酸(b)的羧基經加成反應所形成之 羥基者。 通式(4)表示之酚醛清漆型環氧樹脂,例如酚-酚醛 -15- 201024918 清漆型環氧樹脂、甲酚-酚醛清漆型環氧樹脂等。該些酚 醛清漆型環氧樹脂,例如,可以公知之方法使酚-酚醛清 漆樹脂、甲酚-酚醛清漆樹脂與環氧氯丙烷進行反應而製 得。 環氧樹脂(a),就具有優良製程寬容度,與提高耐 溶劑性之觀點而言,以使用通式(4)所表示之酚醛清漆 型環氧樹脂爲佳。 通式(4)所表示之酚-酚醛清漆型環氧樹脂或甲酚-酚 醛清漆型環氧樹脂,例如 YDCN - 701、YDCN — 702、 YDCN- 703、YDCN— 704、YDCN— 704L、YDPN- 638、 YDPN — 602 (以上,東都化成(股)製,商品名)、DEN —43 1、DEN - 439 (以上,陶氏化學(股)製,商品名) 、EOCN- 120、EOCN- 102S、EOCN- 103S、EOCN -104S、EOCN - 1 01 2、EOCN — 1 02 5、EOCN - 1 027、BREN (以上,日本化藥(股)製,商品名)、EPN — 1138、 EPN— 1235、EPN— 1299 (以上,汽巴特用化學(股)製 ,商品名)、:^-730、1^-770、?^—865、>1-665、14-673、VH— 4150、VH - 4240 (以上,大曰本塗料化學工業 (股)製,商品名)等皆可於商業上取得。 又,如通式(5 )所示,Y2爲縮水甘油基; [化 14] —CH2 一 CH—CH2 、(/ 所示之雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂,例如,可 使下述通式(9)所示之雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環 -16- 201024918 氧樹脂之羥基與環氧氯丙烷反應而製得。 [化 15]
〔式中,R12表示氫原子或甲基,n2爲1以上之整數〕。 爲促進羥基與環氧氯丙烷之反應,以於反應溫度50〜 1 20 °C、鹼金屬氫氧化物存在下之二甲基甲醯胺、二甲基 乙醯胺、二甲基亞碾等極性有機溶劑中進行反應爲佳。反 應溫度未達5(TC時,反應將會遲緩、反應溫度於120°C時 ,會有產生多個副反應之傾向。 通式(5)所示之雙酚A型環氧樹脂或雙酚F型環氧 樹脂,伊!J 如,Epikote807, 815, 825, 827, 828, 834, 1001,1004,1007及1009(以上,日本環氧樹脂(股) 製,商品名)、DER-330、DER-301、DER-361 (以上 ,陶氏化學(股)製,商品名)、YD - 8125、YDF — 170 、YDF- 170、YDF- 175S、YDF- 2001、YDF- 2004、 YDF - 8170 (以上,東都化成(股)製,商品名)等皆可 於商業上取得。 通式(6)所示之水楊薛型環氧樹脂,例如,faE- 2500、EPPN-501H、EPPN— 502H (以上,日本化藥(股 -17- 201024918 )製,商品名)等皆可於商業上取得。 又,環氧樹脂(a),就可再度降低薄膜基板之變形 性的同時,可使耐熱衝撃性再向上提升之觀點,以使用具 有通式(7)及/或通式(8)所表示之重複單位之環氧樹 脂爲佳。 上述通式(8)中,R14爲氫原子,Y6及Y7爲縮水甘 油基之化合物,例如,EXA- 7376系列(大日本塗料化學 工業公司製,商品名),又,R14爲甲基,Y6及Y7爲縮 · 水甘油基之化合物,例如,EP ON SU8系列(日本環氧樹 脂公司製,商品名)形式,而可於商業上取得。 上述之含有乙烯基之單羧酸(b),例如,丙烯酸、 丙烯酸之二聚物、甲基丙烯酸、Θ —糠基丙烯酸、Α —苯 乙烯基丙烯酸、肉桂酸、巴豆酸、α _氰基肉桂酸等丙烯 酸衍生物,或,含羥基丙烯酸酯與二元酸酐之反應產物的 半酯化合物、含乙烯基之單縮水甘油醚或含乙烯基之單縮 水甘油酯與二元酸酐之反應產物的半酯化合物等。 @ 半酯化合物,可由含有羥基之丙烯酸酯、含乙烯基之 單縮水甘油醚或含乙烯基之單縮水甘油酯與二元酸酐以等 莫耳比反應而可製得。該些含有乙烯基之單羧酸(b), 可單獨使用1種或將2種以上組合使用皆可。 含有乙烯基之單羧酸(b)之一例示之上述半酯化合 物之合成所使用之含有羥基之丙烯酸酯、含乙烯基之單縮 水甘油醚、含乙烯基之單縮水甘油酯,例如,丙烯酸羥乙 酯、甲基丙烯酸羥乙酯、丙烯酸羥丙酯、甲基丙烯酸羥丙 -18- 201024918 酯、丙烯酸羥丁酯、甲基丙烯酸羥丁酯、丙烯酸聚乙二醇 單酯、甲基丙烯酸聚乙二醇單酯、丙烯酸三羥甲基丙烷二 酯、丙烯酸三羥甲基丙烷二甲酯、丙烯酸季戊四醇三酯、 甲基丙烯酸季戊四醇三酯、丙烯酸二季戊四醇五酯、丙烯 酸季戊四醇五甲酯、丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水 甘油酯等。 上述半酯化合物合成所使用之二元酸酐,可使用含有 Φ 飽和基者、不含有飽和基者皆可。二元酸酐之具體例,如 琥珀酸酐、馬來酸酐、四氫苯甲酸酐、苯甲酸酐、甲基四 氫苯甲酸酐、乙基四氫苯甲酸酐、六氫苯甲酸酐、甲基六 氫苯甲酸酐、乙基六氫苯甲酸酐、依康酸酐等。 上述之環氧樹脂(a)與含有乙烯基之單羧酸(b)之 反應中,相對於環氧樹脂(a)之環氧基1當量,含有乙 烯基之單羧酸(b)以0.6〜1.05當量之比例進行反應爲佳 ,以0.8〜1.0當量之比例進行反應爲更佳。 φ 環氧樹脂(a)及含有乙烯基之單羧酸(b),可溶解 於有機溶劑中,以進行反應。有機溶劑,例如,乙基甲基 酮、環己酮等之酮類、甲苯、二甲苯、四甲基苯等之芳香 族烴類、甲基溶纖素、丁基溶纖素、甲基卡必醇、丁基卡 必醇、丙二醇單甲基醚、二丙二醇單乙基醚、二丙二醇二 乙基醚、三乙二醇單乙基醚等甘醇醚類、乙酸乙酯、乙酸 丁酯、丁基溶纖素乙酸酯、卡必醇乙酸酯等酯類、辛烷、 癸烷等之脂肪族烴類、石油醚、石油腦、氫化石油腦、溶 劑石油腦等石油系溶劑等。 -19- 201024918 此外,爲促進反應進行以使用觸媒爲佳。觸媒,例如 ’三乙基胺、节甲基胺、甲基三乙基錢氯化物、节基三甲 基銨氯化物、苄基三甲基銨溴化物、苄基三甲基甲基銨碘 化物、三苯基膦等。觸媒之使用量,相對於環氧樹脂(a )與含有乙烯基之單羧酸(b)之合計100質量份,較佳 爲0.1〜1 0質量份。 又,爲防止反應中之聚合等目的’以使用抗聚合劑爲 佳。抗聚合劑’例如,氫醒、甲基氫醌、氫_單甲基酸、 Φ 鄰苯二酚、鄰苯三酚等。抗聚合劑之使用量,相對於環氧 樹脂(a)與含有乙烯基之單羧酸(b)之合計1〇〇質量份 ,較佳爲〇.〇1〜1質量份。又,反應溫度,較佳爲60〜 150°C,更佳爲 80 〜120°C。 又,必要時,可將含有乙烯基之單羧酸(b),與p — 羥基苯乙烯基醇等酚系化合物、偏苯三甲酸酐、偏苯四甲 酸酐、二苯基酮四羧酸酐、聯苯基四羧酸酐等多元酸酐合 倂使用。 β 又,本發明中,(Α)含有酸改質乙烯基之環氧樹脂 ,以使用上述之樹脂(Α’)與多元酸酐(c)反應所得之 樹脂(Α”)爲佳。 樹脂(Α”),推測爲由樹脂(Α’)中之羥基(亦包含 環氧樹脂(a)中原本之羥基)與多元酸酐(c)之酸酐基 形成半酯化所得者。 多元酸酐(c),可使用含有飽和基者、或不含有飽 和基者皆可。多元酸酐(c)之具體例如,琥珀酸酐、馬 -20- 201024918 來酸酐、四氫苯甲酸酐、苯甲酸酐、甲基四氫苯甲酸酐、 乙基四氫苯甲酸酐、六氫苯甲酸酐、甲基六氫苯甲酸酐、 乙基六氫苯甲酸酐、依康酸酐等。 樹脂(A’)與多元酸酐(c)之反應中,樹脂(A,) 中,可以相對於羥基1當量,多元酸酐(c)爲以0.1〜 1.0當量進行反應之方式,調整含有酸改質乙烯基之環氧 樹脂之酸價。 φ (A)含有酸改質乙烯基之環氧樹脂之酸價以30〜 15 0mgKOH / g爲佳,以40〜120mgKOH / g爲更佳,以 50〜lOOmgKOH / g爲最佳。酸價低於30mgK〇H/g時, 感光性樹脂組成物對稀鹼溶液之溶解性會有降低之傾向, 超過150m gKOH/g時’硬化膜之電氣特性會有降低之傾 向。 樹脂(A’)與多元酸酐(c)之反應溫度以60〜120 eC 爲佳。 φ 又,必要時’環氧樹脂(a )例如可合倂氫化雙紛a 型環氧樹脂作爲一部份使用。此外,(A)含有酸改質乙 烯基之環氧樹脂’可也將苯乙嫌-馬來酸酐共聚合物之經 乙基丙烯酸酯改質物或苯乙烯-馬來酸酐共聚合物之經乙 基丙烯酸酯改質物等之苯乙烯-馬來酸系樹脂作爲—部份 合倂使用。 感光性樹脂組成物中’ (A)成分之含量,相對於感 光性樹脂組成物之固形分全量爲基準時,以5〜60質量% 爲佳,以1 〇〜5 0質量%爲更佳’以1 5〜4 0質量%爲特佳 -21 - 201024918 。(A)成分之含量於述範圍內時,可得到具有更優良性 質之耐熱性、電氣特性及耐藥性之塗膜。 < (B)酚系化合物> 本發明所使用之(B )酚系化合物,例如,2,6 —二一 t_ 丁基一 4一甲基酚、2,6 —二一 t 一丁基—4—乙基酚、 2,6_二環己基一4_甲基酚、2,6_二_t 一戊基_4 一甲基 酣、2,6 —二一 t_辛基一 4_n_丙基酣、2,6 —二環己基— 4 一 η—辛基酚、2 —異丙基一4 —甲基一 6_t—丁基酚、2 _t_ 丁基一2 —乙基_6_t —辛基酚、2_異丁基—4—乙 基_6 — t —己基酚、2 —環己基一 4—η—丁基—6—異丙基 酚、dl_ _維生素E、t一丁基氫醌、2,2’_伸甲基雙(4 —甲基_6_t — 丁基酚)、4,4’ 一亞丁基雙(3_甲基一6 —t — 丁基酣)、4— 4’ —硫代雙(3-甲基_6_t— 丁基酌 )、2,2’一硫代雙(4 —甲基_6 - t_ 丁基酚)、4,4’一伸 甲基雙(2,6—二_t — 丁基酚)、2,2’一伸甲基雙「6_( 甲基環己基)_P_甲酚」、2,2’_亞乙基雙(4,6_二_t _ 丁基酚)、2,2’_亞丁基雙(2-1_丁基一4_甲基酚) 、2_t-丁基_6_ (3_t-丁基—2_羥基一5_甲基苄基 )_4 一甲基苯基丙烯酸酯、2— 〔1_ (2 —羥基—3,5 — 二—t 一苄基苯基)乙基〕—4,6 —二一 t—苄基苯基丙烯酸 酯、1,1,3_三(2_甲基一 4_羥基一5_t_ 丁基苯基)丁 烷、三乙二醇雙〔3_ (3—t— 丁基_5_甲基一4一羥基 苯基)丙酸乙酯〕、:1,6 —己二醇雙〔3-(3,5—二一 t — 201024918 丁基_4一羥基苯基)丙酸乙酯〕、2,2 一硫代二伸乙基雙 〔3—(3,5 —二_t 一丁基—4—羥基苯基)丙酸乙酯〕、 N,N’ 一六伸甲基雙(3,5—二一t~ 丁基—4 -經基—氫桂皮 酯)、3_5—二—t 一丁基—4—羥基苯膦酸醋二乙基酯、 三(2,6_二一甲基一3—羥基—4一 t 一丁基苄基)異三聚 氰酸酯、三(3,5-二_t 一丁基—4 —經基予基)異三聚氰 酸醋、三〔(3,5_二一t 一丁基—4 —涇基苯基)丙醯氧乙 _ 基〕異三聚氰酸酯、三(4— t — 丁基—2,6_二甲基— 3-羥基苄基)異三聚氰酸酯、2,4 —雙(n 一辛基硫基)_6 _ ( 4 _羥基—3,5 -二一 t— 丁基苯胺基)_丨,3,5 _三阱 、四〔伸甲基一3— (3,5-二一t — 丁基一 4 —羥基苯基) 丙酸乙酯〕甲烷、2,2’一伸甲基雙(4 —甲基一 6 — t一丁基 酚)對苯二甲酸酯、1,3,5_三甲基_2,4,6 —三(3,5 —二 —t — 丁基一 4 —經节基)苯、3,9一雙〔ι,ι 一二甲基2— { 冷一(3_t_ 丁基一4羥基一5 —甲基苯基)丙酿氧}乙基 φ 〕_2,4,8,10_ 四氧雜螺「5,5」十一烷、2,2 一雙「4—( 2,3,5_二_t_ 丁基一4 一羥基氫桂皮醯氧基)」乙氧基苯 基〕丙烷、沒一(3,5 —二—t — 丁基—4 —經基苯基)丙酸 硬脂醯酯等。 上述(B)酚系化合物,例如,伊卡諾司1010( Irganox 1010、汽巴特用化學公司製)、伊卡諾司1076( Irganox 1076、汽巴特用化學公司製)、伊卡諾司1330 ( Irganox 1330、汽巴特用化學公司製)、伊卡諾司3114( Irganox 3114、汽巴特用化學公司製)、伊卡諾司3125( -23- 201024918
Irganox 3125、汽巴特用化學公司製)、司米來則ΒΗΤ( Sumyizer ΒΗΤ、住友化學製)、塞那克斯1790( Cyanox 1790、賽門科技製)、司米來則_ GA- 80 ( Sumyizer GA 一 80、住友化學製)、維他命E (衛材公司製)、阿迪卡 夫AO — 20、阿迪卡夫AO— 30、阿迪卡夫AO— 40、阿迪 卡夫 AO - 50、阿迪卡夫 AO— 60、阿迪卡夫 AO— 80、阿 迪卡夫AO — 330(以上,旭電化工業公司製)等酚系抗氧 化劑,其可於商業上取得。 上述(B)酚系化合物,可單獨使用1種或將2種以 上組合使用亦可。 其中特別是,就提高耐PCT試驗後之底層塡充材料與 硬化膜之黏著強度之觀點,(B)酚系化合物,以使用下 述通式(1)所表示之酚系化合物爲佳。 [化 16]
通式(1)中,R1爲碳數1〜5之烷基,又以至少一個 之R1爲tert—丁基者爲佳。又,m爲1〜4之整數,又以 2爲佳。又’ η爲1〜4之整數,以2〜4爲佳,以2〜3爲 更佳。Α爲η價之有機基,於就耐Pct試驗後加強底層塡 充材料與硬化膜之黏著強度以外,可再使焊料耐熱性再向 上提升之觀點而言,以使用2〜4價之碳數1〜5之烴基、 下述通式(2)所表示之3價之有機基,或下述通式(3) -24- 201024918 壞之碳數1〜5之 含有酯鍵結者 所表示之3價之有機基爲佳,又以2 烴基爲更佳。又,通式(1)中之A 爲特佳。 [化 17]
[化 18]
1〜5之院基,t表示 數〕。 1〜3之整 又’就焊料耐熱性,及耐PCT試驗後使底層塡充材料 ® 與硬化膜之黏著強度再向上提升之觀點而言,(B)酚系 化合物,以使用下述通式(10)所表示之化合物爲最佳。 [化 19]
〔式(10)中,R3、R4、R5及R6,分別獨立表不碳數1〜 5之烷基,Z表示氫原子或下述通式(11)所表示之有機 -25- 201024918 基〕。 [化 20] R8
R7 OH (11) 〔式(11)中,R7及R8,分別獨立表示碳數1〜5之烷基 ]° 於焊料耐熱性,及耐PCT試驗後使底層塡充材料與硬 化膜的黏著強度再向上提升之(B)酚系化合物,例如, 2,2’_伸甲基雙(4 一甲基一 6— t — 丁基酚)、4,4’一亞丁 基雙(3 -甲基一 6— t—丁基酚)、4,4’_硫代雙(3 —甲 基_6 - t— 丁基酣)、2,2’ 一硫代雙(4_甲基一 6—t- 丁 基酚)、4,4’ —伸甲基雙(2,6—二一 t 一丁基酚)、2,2’_ 伸甲基雙「6—(甲基環己基)一 p —甲酚」、2,2’_亞乙 基雙(4,6—二一 t_ 丁基酚)、2,2’一亞 丁基雙(2_t—丁 基一 4 —甲基酚)、三(3,5_二—t_ 丁基一 4一羥苄基) 異三聚氰酸酯、1,3,5_三甲基一 2,4,6—三(3,5—二_t_ 丁基_4 一羥苄基)苯、三(2,6_二甲基一 3_羥基_4_t 一丁基苄基)異三聚氰酸酯、4,4’一亞丁基雙(3 —甲基一 6— t — 丁基酌)、1,1,3 —二(2 —甲基一 4 一經基—5— t_ 丁基苯基)丁烷等。其中又以三(3,5—二一 t — 丁基_4_ 羥苄基)異三聚氰酸酯、1,3,5-三甲基一2,4,6_三(3,5 —二一 t 一 丁基一 4 一淫爷基)苯、二(2,6_ —甲基_3_ 羥基一 4— t_ 丁基苄基)異三聚氰酸酯、1,1,3_三(2— -26- 201024918 甲基一4 —羥基一 5— t_ 丁基苯基)丁烷、4,4’ —亞丁基雙 (3 —甲基一 6— t_ 丁基酚)爲特佳。 感光性樹脂組成物中,(B )成分之含量,相對於感 光性樹脂組成物之固形分全量爲基準時,以0.01〜10質 量%爲佳,以0.1〜5質量%爲更佳,以0.5〜3質量%爲特 佳。(B)成分之含量未達0.01質量%時,將會有極不容 易得到提高於耐PCT試驗後之硬化膜與底層塡充材料之黏 Φ 著性的效果之傾向,超過10質量%時,感度會有降低之傾 向。 < (C)分子內至少具有1個之乙烯性不飽和基之化 合物> (C)分子內至少具有1個之乙烯性不飽和基之化合 物,以分子量爲1 〇〇〇以下之化合物爲佳,例如,2 -羥乙 基(甲基)丙烯酸酯、2—羥丙基(甲基)丙烯酸酯等之 Φ 羥基烷基(甲基)丙烯酸酯類、乙二醇、甲氧四乙二醇、 聚乙二醇等之二醇之單或二(甲基)丙烯酸酯類、N,N — 二甲基(甲基)丙烯酸醯胺、N—羥甲基(甲基)丙烯酸 醯胺等之(甲基)丙烯酸醯胺類、N,N —二甲基胺乙基( 甲基)丙烯酸酯等之胺烷基(甲基)丙烯酸酯類、己二醇 、三羥甲基丙烷、季戊四醇、二-三羥甲基丙烷、二季戊 四醇、三-羥乙基異三聚氰酸酯等之多元醇或該些之環氧 乙烯或環氧丙烯加成物之多元(甲基)丙烯酸酯類、苯氧 乙基(甲基)丙烯酸酯、雙酚A之聚乙氧基二(甲基)丙 -27- 201024918 烯酸酯等之酚類的環氧乙烯或環氧丙烯加成物之(甲基) 丙烯酸酯類、丙三醇二縮水甘油基醚、三羥甲基丙烷三縮 水甘油基醚、三縮水甘油基異三聚氰酸酯等縮水甘油基醚 之(甲基)丙烯酸酯類、及三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯、 丙烯酸醯胺、丙烯腈、二丙酮丙烯酸醯胺、苯乙烯、乙烯 基甲苯等。該些(C)分子內至少具有1個之乙烯性不飽 和基之化合物,可單獨使用1種或將2種以上組合使用。 感光性樹脂組成物中,(C)成分之含量,相對於感 @ 光性樹脂組成物之固形分全量爲基準時,以1〜30質量% 爲佳,以2〜20質量%爲更佳,以3〜10質量%爲特佳。 (C)成分之含量未達1質量%時,光感度較低之曝光部 於顯影中會有溶出之傾向,超過30質量%時,耐熱性會有 降低之傾向。 < (D)光聚合起始劑> (D )光聚合起始劑,例如,安息香(benzoin )、安 Q 息香甲基醚、安息香異丙基醚等之安息香類;苯乙酮、 2,2— 一·甲氧基一 2 —苯基苯乙嗣、2,2 —二乙氧基_2 —苯 基苯乙酮、1,1 一二氯苯乙酮、1 一羥基環己基苯基酮、2 一苄基一 2 -二甲基胺基一 1— (4 一嗎啉基苯基)—丁酮 _1、2 -甲基-1—〔4—(甲基硫基)苯基〕-2—嗎啉 基_1一丙酮、N,N —二甲基胺基苯乙酮等之苯乙酮類;2 —甲基蒽醌(anthraquinone) 、2 —乙基蒽 _、2 — tert — 丁基蒽醌、1 一氯基蒽醌、2—戊基蒽醌、2—胺基蒽醌等 -28- 201024918 之蒽醌類;2,4 一二甲基噻噸酮、2,4 —二乙基噻噸酮、2 — 氯基噻噸酮、2,4 一二異丙基噻噸酮等之噻噸酮類;苯乙 酮二甲基縮醛、苄基二甲基縮醛等縮醛類;二苯基酮、甲 基二苯基酮、4,4’ —二氯二苯基酮、4,4,—雙(二乙基胺 基)二苯基酮、米氏酮、4 —苯甲醯基一 4, 一甲基二苯基 亞硫酸鹽等之二苯基酮類;2— (〇 一氯基苯基)一4,5 — 二苯基咪唑二聚物、2— (〇-氯基苯基)一4,5 一二— φ 甲氧苯基)咪唑二聚物、2- (〇 -氟基苯基)—4,5_二 苯基咪唑二聚物、2— (〇 —甲氧苯基)_4,5-二苯基咪 唑二聚物、2—(P—甲氧苯基)一 4,5—二苯基咪哩二聚 物、2,4 —二(P—甲氧苯基)-5—苯基咪唑二聚物、2 — (2,4 一二甲氧苯基)—4,5—二苯基咪唑二聚物等之2,4,5 —三唑咪唑二聚物類、9 一苯基吖啶、1,7—雙(9,9’ —吖 啶基)庚烷等之吖啶類;2,4,6_三甲基苯甲醯基二苯基膦 氧化物等之醯基鱗氧化物類、1,2—辛烷二酮一 1 一〔4一 φ (苯基硫基)苯基〕_2—(0 —苯甲醯基肟)、1一〔9一 乙基_6— (2 —甲基苯甲醯基)一9H —咔唑一 3 —基〕乙 酮(Ethanone) 1— (Ο —乙酸聘)、1—苯基一1,2—丙院 二酮_2_〔Ο—(乙氧基羰基)肟〕等之肟酯類。該些( D)光聚合起始劑,可單獨使用1種或將2種以上組合使 用皆可。 此外,可將N,N-二甲基胺基苯甲酸乙基酯、N,N-二甲基胺基苯甲酸異戊酯、戊基一 4 —二甲基胺基苯甲酸 酯、三乙基胺、三乙醇胺等之三級胺類的(D)光聚合開 -29 - 201024918 始助劑’以單獨或2種以上組合使用皆可。 感光性樹脂組成物中,(D)成分之含量,相對於感 光性樹脂組成物之固形分全量爲基準時,以0.5〜20質量 %爲佳’以1〜1 0質量%爲更佳,以2〜6質量%爲特佳。 (D)成分之含量未達〇.5質量%時,曝光部於顯影中會有 溶出之傾向,又超過20質量%時,其耐熱性會有降低之傾 向。 參 < (E)無機微粒子> (E)無機微粒子,例如,可使用二氧化矽(Si02 ) 、三氧化二鋁(ai2o3 )、二氧化鈦(Ti02 )、氧化鉅(
Ta205 )、二氧化鍩(Zr02 )、氮化矽(Si3N4 )、鈦酸鋇 (BaO · Ti02 ) '碳酸鋇(BaC03 )、碳酸鎂、氧化鋁' 氫氧化鋁、氫氧化鎂、鈦酸鉛(PbO · Ti02 )、鈦酸鉻酸 鉛(PZT )、鈦酸鉻酸鑭鉛(PLZT )、氧化鎵(Ga203 ) 、尖晶石(MgO · Al2〇3 )、高鋁紅柱石(3Al2〇3 · 2Si02 © )、堇青石(2MgO. 2Al203/5Si02)、滑石(3MgO· 4Si02 · H2〇 )、鈦酸鋁(Ti02 — A1203)、含銥氧化锆( Y203 — Zr02 )、矽酸鋇(Ba0.8Si02)、氮化硼(BN) 、碳酸鈣(CaC03)、硫酸鋇(BaS04)、硫酸鈣(CaS〇4 )、氧化鋅(ZnO )、鈦酸鎂(MgO · Ti02 )、水滑石、 雲母、燒成高嶺土、碳(C)等。該些(E)無機微粒子, 可單獨使用1種或將2種以上組合使用亦可。 感光性樹脂組成物中,(E)成分之含量,相對於感 -30- 201024918 光性樹脂組成物之固形分全量爲基準時,以丨5〜8〇質量% 爲佳’以20〜70質量%爲更佳,以25〜50質量%爲特佳 ,以30〜45質量%爲最佳。(E)成分之含量爲上述範圍 內之情形,可使膜強度、耐熱性、絕緣信賴性、耐熱衝撃 性、解析性等再向上提升。 (E)無機微粒子,其最大粒徑以〇.1〜2〇yin爲佳, 以0.1〜10/zm爲更佳’以0.1〜5#ιη爲特佳,以〇」〜! φ Mm爲最佳。最大粒徑超過20#m時,會有損害絕緣信賴 性之傾向。 (E)無機微粒子之中,就提高耐熱性之觀點而言, 以使用二氧化矽微粒子爲佳,就提高焊料耐熱性、HAST 性(絕緣信賴性)' 耐裂隙性(耐熱衝撃性),及耐PCT 試驗後可提高底層塡充材料與硬化膜之黏著強度等觀點, 以使用硫酸鋇微粒子爲佳。又,上述硫酸鋇微粒子,就提 升抗凝聚效果之觀點而言,以使用三氧化二鋁及/或有機 φ 矽烷系化合物進行表面處理者爲佳。 使用三氧化二鋁及/或有機矽烷系化合物進行表面處 理之硫酸鋇微粒子的表面中之鋁的元素組成,以0.5〜10 原子%爲佳,以1〜5原子%爲更佳,以1 · 5〜3 · 5原子%爲 特佳。又,硫酸鋇微粒子的表面中之矽的元素組成,以 0.5〜1 0原子%爲佳,以1〜5原子%爲更佳,以1 · 5〜3 · 5 原子%爲特佳。此外,硫酸鋇微粒子的表面中之碳的元素 組成,以1 〇〜3 0原子%爲佳,以1 5〜2 5原子%爲更佳’ 以18〜23原子%爲特佳。該些元素組成,可使用XPS進 -31 - 201024918 行測定。 上述使用硫酸鋇時之含量,相對於感光性樹脂組成物 之固形分全量爲基準時,以10〜60質量%爲佳,以15〜 50質量%爲更佳,以20〜40質量%爲特佳,以25〜35重 量爲最佳。硫酸鋇微粒子之含量爲上述範圍內之情形,可 提高焊料耐熱性,及可使耐PCT試驗後之底層塡充材料與 硬化膜之黏著強度再向上提升。 使用三氧化二鋁及/或有機矽烷系化合物進行表面處 理之硫酸鋇微粒子,例如,NanoFine BFN40DC (日本蘇 貝(股)公司製,商品名),而可於商業上取得。 本發明之感光性樹脂組成物,除上述(A)〜(E)成 分以外’可再含有(F )硬化劑、(Η )環氧樹脂硬化劑, 及/或,(G)彈性體。以下,將對各成分進行說明。 < (F )硬化劑> (F)硬化劑以其本身可經由熱、紫外線等硬化之化 眷 合物,或可與(Α)含有酸改質乙烯基之環氧樹脂之羧基 、羥基經由熱、紫外線等反應而硬化之化合物爲佳。使用 (F )硬化劑時’可提高感光性樹脂組成物所形成之硬化 膜的耐熱性、黏著性、耐藥性等。 (F )硬化劑,例如,環氧化合物、三聚氰胺化合物 、尿素化合物、噁唑林化合物、嵌段型異氰酸酯等之熱硬 化性化合物等。環氧化合物,例如,雙酚Α型環氧樹脂、 雙酚F型環氧樹脂、氫化雙酚A型環氧樹脂、溴化雙酣a -32-
201024918 型環氧樹脂、酚醛清漆型環氧樹脂、雙酚s 聯苯基型環氧樹脂、萘型環氧樹脂、二環型 內醯尿型環氧樹脂或、三縮水甘油基異三聚 環式環氧樹脂、雙二甲酚型環氧樹脂等。三 ,例如,三胺基三哄、六甲氧三聚氰胺、六 胺等。尿素化合物,例如,二羥甲基尿素等 (F )硬化劑,就可使硬化膜之耐熱性 φ 觀點,以含有環氧化合物(環氧樹脂),及 異氰酸酯爲佳,又以與環氧化合物與嵌段型 使用爲更佳。 嵌段型異氰酸酯可使用聚異氰酸酯化合 嵌段劑之加成反應產物。該聚異氰酸酯化合 伸苯基二異氰酸酯、二甲伸苯基二異氰酸酯 氰酸酯、伸萘基二異氰酸酯、雙(異氰酸酯 、四伸甲基二異氰酸酯、六伸甲基二異氰酸 異氰酸酯、三甲基六伸甲基二異氰酸酯、異 酯等聚異氰酸酯化合物,與該些之加成物、 三聚氰酸酯體等。 異氰酸酯嵌段劑,例如,酚、甲酚、二 及乙基酚等酚系嵌段劑;ε -己內醯胺、<5 7 —丁內醯胺及Θ -丙內醯胺等內醯胺系嵌 酸乙酯及乙醯丙酮等之活性伸甲基系嵌段劑 型環氧樹脂、 環氧樹脂、乙 氰酸酯等之雜 聚氰胺化合物 丁氧化三聚氰 〇 再向上提升之 /或,嵌段型 異氰酸酯合倂 物與異氰酸酯 物,例如,甲 、伸苯基二異 甲基)環己烷 酯、伸甲基二 佛酮二異氰酸 縮二脲體及異 甲酚、氯基酚 —戊內醯胺、 段劑;乙醯乙 :甲醇、乙醇 二醇單乙基醚 二醇單甲基醚
、乙二醇單丁基醚、二乙二醇單甲基醚、丙 -33- 201024918 、苄基醚、二醇酸甲基、二醇酸丁基、二丙酮醇、乳酸甲 酯及乳酸乙酯等之醇系嵌段劑;甲醛肟、乙醛肟、丙酮肟 、甲基乙基酮肟、二乙醯單肟、環己烷肟等之肟系嵌段劑 :丁基硫醇、己基硫醇、t一丁基硫醇、硫酚、甲基硫酚 、乙基硫酚等之硫醇系嵌段劑;乙酸醯胺、苯倂醯胺等之 酸醯胺系嵌段劑;琥珀酸醢亞胺及馬來酸醯亞胺等之醯亞 胺系嵌段劑;二甲苯胺、苯胺、丁基胺、二丁基胺等之胺 系嵌段劑;咪唑、2—乙基咪唑等之咪唑系嵌段劑;伸甲 基亞胺及伸丙基亞胺等之亞胺系嵌段劑等。 (F) 硬化劑,可單獨使用1種或將2種以上組合使 用。使用(F )硬化劑之情形,其含量,相對於感光性樹 脂組成物之固形分全量爲基準時,以2〜40質量%爲佳, 以3〜30質量%爲更佳,以5〜20質量%爲特佳。(F )硬 化劑之含量於2〜40質量%之範圍內時,可維持良好之顯 影性,使所形成之硬化膜的耐熱性再向上提升。 < (G)彈性體> (G) 彈性體,可使用於本發明之感光性樹脂組成物 用於半導體封裝基板之情形。本發明之感光性樹脂組成物 中,添加(G)彈性體時,可於經由紫外線或熱進行交聯 反應(硬化反應)時,使(A)含有酸改質乙烯基之環氧 樹脂產生硬化收縮,而增加樹脂內部之應力(內部應力) ,進而可消除可撓性或黏著性之問題。 (G )彈性體,例如,苯乙烯系彈性體、烯烴系彈性 -34- 201024918 體、胺基甲酸酯系彈性體'聚酯系彈性 體、丙烯酸系彈性體及矽氧系彈性體等 體,爲由硬區段成分與軟區段成分所形 可分別對前者提高耐熱性及強度’對後 韌性。 苯乙烯系彈性體’例如’苯乙烯一 段共聚物、苯乙烯-異丁烯-苯乙烯嵌 Φ 一乙烯一丁烯一苯乙烯嵌段共聚物、苯 -苯乙烯嵌段共聚物等。 構成苯乙烯系彈性體之成分,除苯 使用α —甲基苯乙烯、3—甲基苯乙烯, 4_環己基苯乙烯等之苯乙烯衍生物。 可使用答布倫、蘇布倫Τ、阿莎布倫Τ 旭化成工業(股)製)、彈性體AR ( 克雷敦G、過理普雷敦(以上,SHELL φ TR、TSR— SIS、雷那龍(以上,日本· )、店化STR(電氣化學工業(股)製 本ΖΕΟΝ製)、ΤΡΕ- SB系列(住友化 、拉巴隆(三菱化學(股)製)、西普 ,KURARAY製)、司密普雷司(住友 雷歐史、阿可迪(以上,理硏乙烯基工: 烯烴系彈性體,例如爲乙烯、丙烯 烯、4一甲基一戊烯等之碳數2〜20之 。該具體例如,乙烯-丙烯共聚合物( 體、聚醯胺系彈性 〖。該些(G)彈性 成者,一般而言, 者提高柔軟性及強 丁二烯一苯乙烯嵌 段共聚物、苯乙烯 乙嫌一乙燃一丙燦 乙烯以外,例如可 ‘ 4一丙基苯乙烯、 更具體而言,例如 1、答布帖(以上, ARON化成製)、 日本製)、JSR — 合成橡膠(股)製 )、克因達克(日 學工業(股)製) 敦、海普拉(以上 背光(股)製)、 業製)等。 、1 一 丁烯、1 —己 α _烯烴共聚合物 EPR )、乙烯一丙 -35- 201024918 锦——嫌共聚合物(EPDM)、二環戊二嫌、ι,4 —己二嫌 、環辛二烯、伸甲基降冰片烯、亞乙基降冰片烯、丁二稀 、異丁烯等之碳數2〜20之非共軛二烯與α 一烯烴之共聚 合物'丁二烯-丙烯腈共聚合物與甲基丙烯酸共聚合所得 之羧基改質NBR等。更具體而言,例如,乙烯·α 一嫌 烴共聚合物橡膠 '乙烯· a —烯烴.非共軛二烯共聚合物 橡膠、丙烯· α -烯烴共聚合物橡膠、丁烯· α —烯烴共 聚合物橡膠等。此外’具體而言,例如,米拉司(三井石 參 油化學製)、EXACT (愛克森化學製)、ENGAGE (陶氏 化學製)、氫化苯乙烯—丁二烯拉巴“D YNABON HSBR”( 曰本合成橡膠(股)製)、丁二烯-丙烯腈共聚合物 “NBR系列”(日本合成橡膠(股)製)、或兩末端羧基改 質丁二烯-丙烯腈共聚合物之“XER系列”(日本合成橡膠 (股)製)、聚丁二烯經部分環氧化所得之環氧化聚丁二 烯之 BF - 1 000 (日本曹達公司製)、PB — 3600 ( DAICEL 化學公司製)等。 〇 胺基甲酸酯系彈性體爲由低分子之二醇與二異氰酸酯 所形成之硬區段,與高分子(長鏈)二醇與二異氰酸酯所 形成之軟區段之構造單位所構成。 低分子之二醇,例如,可使用乙二醇、丙二醇、I4 一丁烷二醇、雙酚A等短鏈二醇。短鏈二醇之數平均分子 量以48〜500爲佳。 高分子(長鏈)二醇,例如,聚丙二醇、聚四伸甲基 氧化物、聚(1,4 — 丁烯己二酯)、聚(乙嫌^1,4 — 丁儲 -36- 201024918 己二酯)、聚己內酯、聚(1,6 —伸己基碳酸酯)、聚( 1,6 -伸己基·新伸戊基己二酯)等。高分子(長鏈)二 醇之數平均分子量以500〜10,000爲佳。 胺基甲酸酯系彈性體之具體例,如PANDEX T-2185 、T-2983N(大日本塗料製)、矽拉特朗E790等。 聚酯系彈性體,例如二羧酸或其衍生物及二醇化合物 或其衍生物經聚縮合所得之物等。 φ 二羧酸之具體例如,對苯二酸、間苯二酸、萘二羧酸 等芳香族二羧酸及該些之芳香核的氫原子被甲基、乙基、 苯基基等所取代之芳香族二羧酸、己二酸、癸二酸、十一 烷二羧酸等碳數2〜20之脂肪族二羧酸,及環己烷二羧酸 等脂環式二羧酸等。該些化合物可單獨使用1種或將2種 以上組合使用皆可。 二醇化合物之具體例如,乙二醇、1,3_丙烷二醇、 1,4 一丁烷二醇、1,6 —己二醇、1,10 —癸烷二醇、1,4 —環 ❹ 己二醇等脂肪族二醇及脂環式二醇,或,下述通式(12) 所示之二價酚等。 [化 21]
〔式中,Y11爲單鍵結、碳數1〜10之伸烷基、碳數4〜8 之環伸院基、—Ο—、一 S—,或,—S〇2— ’ R21及R22爲 鹵素原子或碳數1〜12之烷基,p及q爲〇〜4之整數,r -37- 201024918 爲〇或1〕。 通式(12)所示之二價酚的具體例如,雙酚Α、雙— (4 一羥基苯基)甲烷、雙—(4 —羥基一 3—甲基苯基) 丙烷、間苯二酚等。該些化合物可單獨使用1種或將2種 以上組合使用皆可。 又,可使用將芳香族聚酯(例如,聚丁烯對苯二甲酸 酯)部分作爲硬區段成分,脂肪族聚酯(例如,聚四伸甲 基二醇)部分作爲軟區段成分所得之無規嵌段共聚合物。 _ 依硬區段與軟區段之種類、比例、分子量之不同可形成各 種層級之物品。具體例如,Hytrel (杜邦一東麗(股)製 )、Berupuren (東洋防績(股)製)、Esuperu (日立化 成工業(股)製)等。 聚醯胺系彈性體,可大致區分爲硬區段中使用聚醯胺 ,與軟區段種用聚醚或聚酯所得之聚醚嵌段醯胺型與醚酯 嵌段醯胺型等2種類。 聚醯胺,例如可使用聚醯胺一 6、11、12等。聚醚, Θ 例如可使用聚氧乙烯、聚氧丙烯、聚四伸甲基二醇等。具 體而言,例如,UBE聚醯胺彈性體(宇部興產(股)製) 、四醯胺(DAICEL HUEL (股)製)、PEBAX (東麗(股 )製)、克理隆 ELY (艾目斯日本(股)製)、 NOPAMITO (三菱化學(股)製)、GRRIRAKUSU (大曰 本塗料(股)製)等。 丙烯酸系彈性體爲以丙烯酸酯爲主成分,使用乙基丙 烯酸酯、丁基丙烯酸酯、甲氧乙基丙烯酸酯、乙氧基乙基 -38 * 201024918 丙烯酸酯等。又,交聯點單體爲使用縮水甘油基甲基丙烯 酸酯、烯丙基縮水甘油基醚等。此外,亦可使用丙烯腈或 乙烯共聚合所得者。具體而言,例如,可使用丙烯腈-丁 基丙烯酸酯共聚合物、丙烯腈-丁基丙烯酸酯-乙基丙烯 酸酯共聚合物、丙烯腈-丁基丙烯酸酯-縮水甘油基甲基 丙烯酸酯共聚合物等。 矽氧系彈性體,例如以有機聚矽氧烷爲主成分所得者 φ ’例如可區分爲聚二甲基矽氧烷系、聚甲基苯基矽氧烷系 、聚二苯基矽氧烷系。其中一部份被乙烯基、烷氧基等所 改質者。具體例如,KE系列(信越化學工業(股)製) 、SE系列、CY系列、SH系列(以上,東麗道康寧矽氧 (股)製)等》 又,上述彈性體以外,也可使用橡膠改質之環氧樹脂 。橡膠改質之環氧樹脂,例如,上述雙酚F型環氧樹脂、 雙酚A型環氧樹脂、水楊醛型環氧樹脂、酚-酚醛清漆型 〇 環氧樹脂或甲酚-酚醛清漆型環氧樹脂之一部份或全部的 環氧基位於兩末端之羧酸改質型丁二烯一丙烯腈橡膠、末 端胺基改質矽氧橡膠等所改質所得者。該些彈性體中,就 剪斷黏著性之觀點,以使用兩末端羧基改質丁二烯-丙烯 腈共聚合物、具有羥基之聚酯系彈性體的ESPEL(日立化 成工業(股)製、ESPEL 1612、1620)、環氧化聚丁二烯 等爲佳。又,以室溫中爲液状之彈性體爲特佳。 使用(G )彈性體之情形,其含量,相對於感光性樹 脂組成物之固形分全量爲基準時,以1〜20質量%爲佳, -39- 201024918 以2〜1 5質量%爲更佳,以3〜1 0質量%爲特佳。(G )彈 性體之含量,於1〜20質量%範圍內時,可於維持良好之 顯影性下,而使耐熱衝撃性及底層塡充材料與硬化膜之黏 著強度更向上提升。又,使用薄膜基板之情形,可降低薄 膜基板之變形性。 本發明之感光性樹脂組成物中,就再度提升所形成之 硬化膜的耐熱性、黏著性、耐藥性等各種特性之目的,可 再添加(Η )環氧樹脂硬化劑。 參 該些(Η )環氧樹脂硬化劑之具體例如,2 -甲基咪唑 、2—乙基一4 一甲基咪唑、1 一苄基—2_甲基咪唑、2 — 苯基咪唑、2 —苯基一 4 一甲基_5 —羥基甲基咪唑等咪唑 衍生物;丙酮胍胺(guanamine)、苯併胍胺等胍胺類; 二胺基二苯基甲烷、m —伸苯基二胺、m —二甲苯二胺、 二胺基二苯基楓、二氰二醯胺、尿素、尿素衍生物、三聚 氰胺、多價肼等聚胺類;該些之有機酸鹽及/或環氧加成 物(Addukt (德)):三氟化硼之胺錯合物;乙基二胺基 〇 一8—三哄、2,4—二胺基—8—三哄、2,4-二胺基一6—二 甲苯基一S -三哄等三哄衍生物類;三甲基胺、三乙醇胺 、N,N —二甲基辛基胺、N -苄基二甲基胺、吡啶、N -甲 基嗎啉、六(N—甲基)三聚氰胺、2,4,6 -三(二甲基胺 基酚)、四甲基胍、m-胺基酚等三級胺類;聚乙烯基酚 、聚乙烯基酚溴化物、酚-酚醛清漆、烷基酚-酚醛清漆等 聚酚類;三丁基膦、三苯基膦、三- 2-氰基乙基膦等有 機膦類;三一 η — 丁基(2,5—二羥基苯基)銹溴化物、十 -40- 201024918 六烷基三丁基銹氯化物等鳞鹽類;苄基三甲基敍氯化物、 苯基三丁基銨氯化物等4級銨鹽類;上述之多元酸酐:二 苯基碘鎗四氟基硼酸酯、三苯基鏑六氟基銻酸酯、2,4,6 -三苯基硫代吡啶鎗鹽六氟基磷酸_等。該些(Η)環氧樹 脂硬化劑,可單獨使用1種或將2種以上組合使用。 使用(Η)環氧樹脂硬化劑之情形,其含量,相對於 感光性樹脂組成物之固形分全量爲基準時,以〇.〇1〜20 φ 質量%爲佳,以0.1〜1 0質量%爲更佳。 又,本發明之感光性樹脂組成物中,就再度提升硬化 膜之可撓性之目的,可添加(I)熱可塑性樹脂。 (I)熱可塑性樹脂,例如,丙烯酸樹脂、胺基甲酸 酯樹脂等。含有(I)熱可塑性樹脂時之含量,相對於感 光性樹脂組成物之固形分全量爲基準時,以1〜30質量% 爲佳,以5〜20質量%爲更佳。 又’本發明之感光性樹脂組成物中,必要時,可添加 ® 三聚氰胺、有機膨潤土等有機微粒子、酞菁藍、酞菁綠、 碘•綠、二偶氮黃、結晶紫、氧化鈦、碳黑、萘黑等公知 之著色劑、氫醌、甲基氫醌、氫醌單甲基醚、鄰苯二酚、 鄰苯三酚等抗聚合劑、BENTON、高嶺土等增黏劑、砂氧 系、氟系系、乙烯基樹脂系之消泡劑、矽烷偶合劑、稀釋 劑等公知慣用之各種添加劑。此外,可添加溴化環氧化合 物、酸改質溴化環氧化合物、銻化合物、及磷系化合物之 磷酸酯化合物、芳香族縮合磷酸酯、含鹵素縮合磷酸醋等 難燃劑。 -41 - 201024918 稀釋劑,例如,可使用有機溶劑。有機溶劑,例如, 乙基甲基酮、環己酬等酮類、甲苯、二甲苯、四甲基苯等 芳香族烴類、甲基溶纖素、丁基溶纖素、甲基卡必醇、丁 基卡必醇、丙二醇單甲基醚、二丙二醇單乙基醚、二丙二 醇二乙基醚、三乙二醇單乙基醚等二醇醚類、乙酸乙酯、 乙酸丁酯、丁基溶纖素乙酸酯、卡必醇乙酸酯等酯類、辛 烷、癸烷等脂肪族烴類、石油醚、石油腦、氫化石油腦、 溶劑石油腦等石油系溶劑等。稀釋劑,可單獨使用1種或 @ 將2種以上組合使用。使用稀釋劑時之含量,可添加感光 性樹脂組成物之塗佈性等觀點適當地進行進行調整。 本發明之感光性樹脂組成物,可將上述各成分使用滾 筒硏磨機、顆粒硏磨機等均勻混練、混合之方式製得。 本發明之感光性樹脂組成物,例如,可使用於以下所 示之影像形成、製作硬化膜之製程。 即,於鋪銅層合板上,使用網版印刷法、噴灑法、滾 筒塗佈法、簾幕塗佈法、靜電塗裝法等方法塗佈10〜200 # 从m之膜厚,其次將塗膜於60〜110 °C下乾燥後,使其與 裸露薄膜直接接觸(或介由透明之薄膜之非接觸下),將 活性光(例如紫外線)以較佳爲10〜l,000mJ / cm2之曝 光量下進行照射,其後,將未曝光部以稀鹼水溶液或有機 溶劑溶解去除(顯影)。其次,曝光部分於後曝光(紫外 線曝光)及/或後加熱進行充分硬化得硬化膜。後曝光例 如以於1〜5J/ cm2之曝光量下進行爲佳,後加熱以於100 〜2 00°C下進行30分鐘〜12小時爲佳。 -42- 201024918 又,本發明之感光性樹脂組成物可層合於支撐體作爲 感光性單元。感光性樹脂組成物所形成之層的厚度以10〜 1 00/zm爲佳。支撐體可適度使用聚乙烯對苯二甲酸酯等 厚度5〜100/zm之薄膜。感光性樹脂組成物所形成之層’ 較佳爲於支撐體薄膜上塗佈感光性樹脂組成物之溶液後使 其乾燥而形成。 φ 【實施方式】 以下,將以實施例及比較例爲基準對本發明作更具體 之說明,但本發明並不受以下實施例所限定。 〔合成例1:含有酸改質乙烯基之環氧樹脂(A_l) 之製造〕 將具有上述通式(8)所表示之重複單位(R14=氫原 子'Y6及Y7 =縮水甘油基)之雙酚F酚醛清漆型環氧樹 φ 脂(EX Α — 7376、大日本塗料化學工業公司製)350質量 份、丙烯酸70質量份、甲基氫醌0.5質量份、卡必醇乙 酸酯120質量份混合,於90 °C下加熱攪拌使其進行反應, 使混合物完全溶解。其次,將所得之溶液冷卻至60°C,加 入三苯基膦2質量份,加熱至l〇〇t,進行反應至溶液之 酸價達1 mgKOH/ g爲止。反應後之溶液中,加入四氫苯 甲酸酐(THPAC ) 98質量份與卡必醇乙酸酯85質量份, 加熱至80°C後進行約6小時反應後將其冷卻,得固形分之 濃度爲73質量%之(A )成分的THPAC改質雙酚F型酚 -43- 201024918 醛清漆環氧丙烯酸酯(以下’亦稱爲「含有酸改質乙嫌基 之環氧樹脂(A—1)」)之溶液。 〔合成例2:含有酸改質乙烯基之環氧樹脂(a — 2) 之製造例〕 將上述通式(4)所表示之(RM =氫原子、=縮水 甘油基)甲酚-酚醛清漆型環氧樹脂(ESCN - 195、住友化 學公司製)382質量份、丙烯酸90質量份、甲基氫醌〇.5 φ 質量份、卡必醇乙酸酯120質量份混合,加熱至9(TC後攪 拌以進行反應,使混合物完全溶解。其次,將所得溶液冷 卻至60°C,加入三苯基膦2質量份,加熱至l〇〇°C,進行 反應至溶液之酸價達lmgKOH/ g以下爲止。反應後之溶 液中,加入四氫苯甲酸酐(THPAC ) 100質量份與卡必醇 乙酸酯8 5質量份,加熱至8 0 °C,進行約6小時反應後, 使其冷卻,得固形分之濃度爲75%之(A)成分的THPAC 改質甲酚-酚醛清漆型環氧丙烯酸酯(以下,亦稱爲「含 G 有酸改質乙烯基之環氧樹脂(A— 2)」)之溶液》 (實施例1〜1 〇、比較例1〜1 1 ) 將下述表1及2所示各材料,依同表所示添加量(單 位:質量份)添加後,以3輥滾筒硏磨機混練,加入卡必 醇乙酸酯以使其固形分濃度達70質量%爲止,得感光性樹 脂組成物。又,下述表1及2中之各材料的添加量,爲表 TfC固形分之添加量。 -44- 201024918
【1® 實施例 10 to I 1 C4 卜 in V 00 d 1 1 Ol ) 1 1 u> — 寸 C0 1—* 〇 (O 實施例 9 in \ CM 卜 in CO d CM 1 I 1 U) T— <〇 s 實施例 8 ΙΑ I 1 CSJ 卜 ι〇 CO o 1 1 C4 1 1 1 tn CO o 實施例 7 ΙΟ 1 1 Csl 卜 ιο 00 〇 t 1 1 1 1 CM in (D o 實施例 6 ΙΟ 1 1 CM 卜 in CO o 1 1 1 1 CM 1 ie> 寸 <〇 o 實施例 5 I »〇 1〇 CM r- u> GO o 1 1 CM 1 I 1 in <〇 o 實施例 4 ιη 1 1 CM r- ΙΑ CO o 1 1 1 〇J 1 1 to o 實施例 3 ιη 1 IA CM r- tf) GO o t 1 csl 1 \ 1 l〇 寸 (Ο o 實施例 2 ΙΑ 1 1 CM 卜 in ep o 1 esi 1 1 1 l m to o 實施例 1 tn 1 1 04 卜 in 00 o CM 1 1 1 1 1 to 寸 CD o 材料 sii κι- 辆gg 浴® 盘摘: 聛酹 侧 Μ » 挪;鋰 崧趄 mm 侧 PB-3600*3 EPIKOTE 828*4 KAYARATEDPHA*5 ILLKAKIYU 907*" KAYAKIYUDETX-S*7 AO-20*· AO-30*' AO-40·1。 o to o < AO-80*'1 Y0SIN0KSU BHT*,3 酞菁藍 三聚氰胺 FLB-1*1' NanoFine BFN40DC*” 成分 N < 〇 N·^ u. Ο o v_^· /"S ffi 1著色劑1 有機微粒子 2 -45- 201024918 1
比較例 11 〇 I 1 esi r*· u> CO b 1 1 1 1 1 1 1 in 1 1 比較例 10 I in 1 CNJ 卜 m 00 d 1 1 1 1 i 1 1 i tn (D o 比較例 9 in I in CM 卜 in 00 o 1 1 咖 1 1 1 1 1 to CO o 比較例 8 in l 1 CSl 卜 ΙΟ 00 d 1 1 1 1 l l 1 1 in , <〇 o 比較例 7 in 1 1 CM 卜 in 一 CO d 1 1 1 1 1 幽 t to to o 比較例 6 in 1 1 C4 r- in CO o 1 1 1 1 1 CM 1 1 tn CD o 比較例 5 tn 1 1 CM r- u> CO o 1 1 1 1 04 1 I 1 tn to o 比較例 4 to 1 1 esi 卜 u> 00 o 1 l 1 1 1 J 1 u> CD o 比較例 3 in 1 1 e*j 卜 u> CD o 1 t CM 1 1 1 1 J in CO o 比較例 2 in 1 1 CM 卜 tn CO o 1 CSl 麵 1 1 1 1 1 to to o 比較例 1 in 1 1 CSl 卜 u> 00 o CM 1 1 寒 1 1 1 1 l〇 to o 材料 软鋰 ii <π·Ν M κ婴 浴想 诹酹 «π-Ν PB-3600*3 EPIKOTE 828,4 KAYARATE DPHA*' ILLKAKIYU 907*· KAYAKIYU DETX-S*7 PEP-4C… PEP-8·11 PEP-24G·1· HP-IO·” AO-23*" AO-412S*" AO-503A”0 Y0SIN0KSU ΒΗΤ·'3 mwm 三聚氰胺 FLB-1*1' NanoFino BFN40DC*22 成分 < #«»« 〇 〇 Q (B)的代替 成分 /—>k OQ 著色劑 有雛粒子 UJ 201024918 又,表1及2中之各材料的詳細內容係如以下所示。 *1(含有酸改質乙烯基之環氧樹脂(A - 1)):合 成例1所製作之THPAC改質雙酚F型酚醛清漆環氧丙烯 酸酯、 *2(含有酸改質乙烯基之環氧樹脂(A— 2)): THPAC改質甲酚-酚醛清漆型環氧丙烯酸酯、 * 3 ( PB — 3 600 ):環氧化聚丁二烯(DAICEL化學 φ (股)製,商品名)、 * 4 ( EPIKOTE8 28 ):雙酚A型環氧樹脂(日本環氧 樹脂(股)製,商品名)、 * 5 ( KAYARATE DPHA ):二季戊四醇六丙烯酸酯 (日本化藥(股)製,商品名)、 * 6 ( ILLKAKIYU 907 ) : 2 —甲基一〔4一 (甲基硫 基)苯基〕嗎啉基一 1_丙酮(汽巴特用化學(股)製, 商品名)、 φ * 7 ( KAYAKIYU DETX- S) :2,4_ 二乙基噻噸酮( 曰本化藥(股)製,商品名)、 * 8 ( AO _ 20 ):酚系抗氧化劑(ADEKA公司製,商 品名)、下述式(I )所表示之化合物、 * 9 ( AO _ 30 ):酚系抗氧化劑(ADEKA公司製,商 品名)、下述式(II)所表示之1,1,3—三(2 —甲基一 4 — 羥基_5 — t 一丁基苯基)丁烷、 * 10 ( AO — 40 ):酚系抗氧化劑(ADEKA公司製, 商品名)、下述式(III)所表示之4,4’-亞丁基雙(3 — -47- 201024918 甲基一 6— t—丁基酚)、 * 1 1 ( AO - 50 ):酚系抗氧化劑(ADEKA公司製, 商品名)、下述式(IV)所表示之硬脂醯-点一 (3,5 -二一 t — 丁基一 4_羥基苯基)丙酸乙酯、 * 12 ( A0 - 80 ):酚系抗氧化劑(ADEKA公司製, 商品名)、下述式(V)所表示之化合物、 * 13 ( YOSINOKUSU BHT):酚系抗氧化劑(吉冨製 藥公司製,商品名)、下述式(VI)所表示之二丁基羥基 甲苯、 * 1 4 ( PEP - 4C ):磷系抗氧化劑(ADEKA公司製, 商品名)、下述式(VII)所表示之化合物、 * 1 5 ( PEP — 8 ):磷系抗氧化劑(ADEKA公司製, 商品名)、下述式(VIII )所表示之二硬脂醯季戊四醇二 亞磷酸酯、 * 1 6 ( PEP — 24G ):磷系抗氧化劑(ADEKA公司製 ,商品名)、下述式(IX )所表示之化合物、 * 17 ( HP — 10 ):磷系抗氧化劑(ADEKA公司製, 商品名)、下述式(X )所表示之化合物、 * 18 ( AO - 23 ):硫系抗氧化劑(ADEKA公司製, 商品名)、下述式(XI)所表示之化合物、 * 19 ( AO- 412S ):硫系抗氧化劑(ADEKA公司製 ,商品名)、下述式(XII )所表示之化合物、 * 20 ( AO- 503A ):硫系抗氧化劑(ADEKA公司製 ,商品名)、下述式(XIII )所表示之化合物、 201024918 *21 (FLB—1):二氧化矽微粒子(TATUMORI (股 )製,商品名)、 * 22 ( NanoFine BFN40DC):硫酸鋇微粒子(日本 [化 23]
蘇貝(股)製,商品名)。 [化 22]
-49- (111) 201024918 [化 24]
[化 25]
[化 26] CH2~CH2~C-0-C-| 8^37 (IV) o CH I 3 PCH2 CH2On Y—c—CH ;C CH 丄,.、och2 ch2o’ ch3 53ΙΓ
t-Bu Y= HO
[化 27]
-50- (VII) 201024918 (VII) [化 28]
/0CHg CH20、 C18H37-〇-P\ ,iC P-〇-C18H37 och2 ch2o (VIII)
[化 30]
t-Bu
OCH2 .ch2ov °-p\ X >-〇 och2 ch2o t-Bu t-Bu.心 t-Bu (IX) [化 31] n-Bu
(X) [化 32]
O OCCH2CH2SR -51 - (XI) (XII) 9 201024918 [化 33] RSH2CH2CCOH2a .ch2occh2ch2sr rsh2ch2ccoh2c o ch2occh2ch2sr o 〔R : c12之烷基〕 [化 34] (XIII)
ο s+ch2ch26oc13h27)2 〔光感度〕 將實施例及比較例之感光性樹脂組成物於銅箔層合基 板(MCL— E— 67,日立化成工業(股)製)上,以乾燥 後之膜厚爲25//m之方式,使用網版印刷法塗佈後,使用 熱風循環式乾燥機以75°c、30分鐘進行乾燥。於所得塗 膜之表面,密著濃度範圍0.00〜2.00、濃度階層0.05、片 板(矩形)大小爲20mmxl87mm,各階層(矩形)之大小 爲 3mmxl2mm之具有 41段階層片板之曝光工具( PHOTOTOOL ) (SUTOFA公司製),以積算曝光量600mJ / cm2之紫外線照射後,以1質量%之碳酸鈉水溶液顯影 60秒鐘,以殘留之階層段數作爲感度評估標準。殘留階層 段數越多時表示其爲高感度,又以殘留18段以上者爲佳 。評估結果係如表3及表4所示。 〔開口 口徑〕 -52- 201024918 將實施例及比較例之感光性樹脂組成物於銅箔層合基 板(MCL — E_ 67,日立化成工業(股)製)上,以乾燥 後之膜厚爲25/zm之方式,使用網版印刷法塗佈後,使用 熱風循環式乾燥機以75 °C、30分鐘進行乾燥。於所得塗 膜上,於lxlcm四方之面積上介由點有办80私111及Φ110 之光非透過部之負型薄膜,以積算曝光量600mJ/ cm2之紫外線進行照射,將1質量%之碳酸鈉水溶液以60 Q 秒鐘、1.8kgf/ cm2之壓力下進行噴灑顯影,使未曝光部 溶解顯影形成圖像。其後,使用顯微鏡(HIROX公司製, 型號:KH — 3000 )測定其開口口徑,以下述基準進行評 估。評估結果係如表3及表4所示。 A :開口 口徑爲80%以上(φ 80/zm負型薄膜爲64//m 以上,φΐΐθ/zm負型薄膜爲88/zm以上)者。 B :開口 口徑爲70%以上、未達80%(Φ8〇μιπ負型 薄膜爲56/zm以上、未達64#m,φ 110/zm負型薄膜爲 φ 77#m以上、未達88仁m)者。 C :開口口徑未達70% ( φ 80 a m負型薄膜爲未達56 #m、φ 110/zm負型薄膜爲未達77/ζιη)者。 〔試驗片之製作〕 將實施例及比較例之感光性樹脂組成物於厚度〇.6mm 之銅箔層合基板(MCL— E — 67,日立化成工業(股)製 )上,以乾燥後之膜厚爲25gm之方式,使用網版印刷法 塗佈後,使用熱風循環式乾燥機以801:、20分鐘進行乾 -53- 201024918 燥。其次,使具有特定圖型之負型遮罩密著於塗膜上,使 用紫外線曝光裝置以600mJ/ cm2之曝光量進行曝光。其 後’將1質量%之碳酸鈉水溶液以60秒鐘、1.8kgf/cm2 之壓力下進行噴灑顯影,使未曝光部溶解顯影形成圖像。 其次,使用紫外線曝光裝置以lOOOmJ/cm2之曝光量進行 曝光’於1 50°C下加熱1小時,以製作試驗片。 〔焊料耐熱性〕 φ 於上述試驗片上塗佈水溶性溶劑,將其浸漬於265 °C 之焊料槽中10秒鐘。將其以1循環之方式重複6循環後 ,以目視觀察塗膜外觀,並依以下之基準進行評估。評估 結果係如表3及表4所示。 A :外觀無變化 B :塗膜50mm2內,塗膜具有1個〜2個浮起或膨脹 C :塗膜50mm2內,塗膜具有3個〜5個浮起或膨脹 D :塗膜50mm2內,塗膜具有6個以上之浮起或膨脹 鲁 〔耐熱衝撃性〕 對上述試驗片,以—55 °C / 30分鐘、125 °C / 30分鐘 爲1循環方式施加熱履歷,經1,000循環後,將試驗片以 目視觀察及顯微鏡觀察依以下基準進行評估。評估結果係 如表3及表4所示。 A :無發生裂隙 B :發生裂隙 -54- 201024918 〔耐PCT試驗後之底層塡充材料與硬化膜之黏著強度 ) 將上述試驗片切取 15mmxl5mm大小’使其於120°c 下,乾燥12小時。將設有Φ 3.0mm開口之15mmxl5mmx 厚度1.0mm之矽氧橡膠,設置於試驗片上,於11(TC之熱 平板上由開口部注入底層塡充材料後,於清淨烤箱中進行 1 65 °C、2小時之硬化。冷卻至室溫後,將矽氧橡膠取外, Q 得評估與底層塡充材料之黏著性的基板。使用該黏著性評 估用基板進行PCT試驗(121 °C、2氣壓、96小時)後, 使用黏著測試劑(Dage4000、Dage公司製)於室溫下測 定表面強度,求取單位面積下之黏著力。對各材料,分別 測試5個試料數,求取平均値進行比較。單位爲MPa。此 時’敲擊頭之高爲塗膜上起1〇〇//m、測試頭之速度爲1〇〇 ym/秒。底層塡充材料之組成爲使用由雙酚F型環氧樹 脂’與硬化劑之酸酐、二氧化矽微粒子(67質量% )所構 Φ 成之CEL— C— 3801 (曰立化成工業(股)製,商品名) 。評估結果係如表3及表4所示。 〔變形性〕 於縱5 cm、橫5 cm、厚1 8 /z m之銅箔上,以網版印刷 法將實施例及比較例之感光性樹脂組成物以乾燥後之膜厚 爲25/zni之方式塗佈後,使用熱風循環式乾燥機以75"c 下乾燥30分鐘,使用紫外線曝光裝置以6 00m J/ cm2之曝 光量進行曝光。其後,以1質量%之碳酸鈉水溶液以60秒 -55- 201024918 y 2暗逋。其次’使用紫外線 鐘、1.8kgf/cm2之壓力下進仃噴濶 , .2 + α目也#曝光,於15〇t下加 曝光裝置,以l〇〇〇mJ/cm2之曝光蔞瞬 熱1小時,得變形性評估用試驗片。對所得之試驗片’以 塗佈面面向下面之方式放置於定盤上,評估其變形之程度 。評估結果係如表3及表4所示。
-56- 201024918 ts 實施例 10 CM ω < CO ΙΟ < 實施例 9 CM < CD (Ο CO < r- 實施例 8 W < < σ> < 寸 實施例 7 CM < GO < 寸 實施例 6 t— CM < CO CM 一 < lii 實施例 5 CSI «Μ < < CO u> m CO 資施例 4 CM CM < m CNJ < 寸 實施例 3 CD < < esj in < - 實施例 2 CO T-* < < •F-1 IO < ΙΟ 實施例 1 CO T— < < r*· < LO ΠΠ 光感度(段) 開□口徑 焊料耐熱性 耐PCT性後之黏著強度(MPa) 耐熱衝擊性 變形性(mm) -57- 201024918 1 比較例 1 1 m m η m cn 比較例 10 ♦— < CD c«i m u> 比較例 d CSJ < ω CO CM* < - 比較例 β S < m 二 < m 比較例 7 < ο (Ο oi < U3 比較例 6 〇> < ο <e < IC 比較例 5 CO < CQ CO csi < 比較例 4 vsi < m OJ csi < 比較例 3 CM CM < ο CM cvi < u> 比較例 2 〇> < ο < 对 比較例 1 < m 二 < m ΕΕΠ 光感度(段) 開口口徑 焊料耐熱性 耐PCT性後之黏著強度(MPa) 耐細擊性 變形性(mm)
-58- 201024918 如以上說明般,本發明爲提供一種,即使經由長時間 之耐PCT試驗後,其底層塡充材料與永久遮罩光阻之硬化 膜仍具有優良之黏著性,且,亦具有優良焊料耐熱性之半 導體封裝用印刷電路板的保護膜用感光性樹脂組成物。
-59-

Claims (1)

  1. 201024918 七、申請專利範園: 1· 一種半導體封裝用印刷電路板之保護膜用感光性樹 脂組成物,其特徵爲,含有 (A)含有酸改質乙烯基之環氧樹脂,與 (B )酚系化合物,與 (C) 分子內至少具有1個之乙烯性不飽和基之化合 物,與 (D) 光聚合起始劑,與 0 (E )無機微粒子。 2.如申請專利範圍第1項之半導體封裝用印刷電路板 之保護膜用感光性樹脂組成物,其中,前述(B)酚系化 合物爲下述通式(1)所表示之化合物, [化1]
    [式(1)中,R1爲碳數1〜5之烷基,m爲1〜4之整數, η爲1〜4之整數,A爲η價之有機基;又,m及/或η爲2 以上之情形,多數存在之R1可爲相同或相異]。 3 .如申請專利範圍第2項之半導體封裝用印刷電路板 之保護膜用感光性樹脂組成物,其中,前述通式(1)中 ,Α爲2-4價之碳數1-5之烴基、下述通式(2 )所表示之 3價之有機基,或下述通式(3)所表示之3價之有機基, -60- (2) 201024918 [化2] Ο H2C^N,C、jg'CH2 O^'N^O ch2 [化3]
    [式(3)中,R2表示碳數1〜5之院基,t爲l〜3之整數] 〇 4. 如申請專利範圍第2或3項之半導體封裝用印刷電 路板之保護膜用感光性樹脂組成物,其中,前述通式(1 )中,至少一個之R1爲tert -丁基。 5. 如申請專利範圍第1〜4項中任一項之半導體封裝 用印刷電路板之保護膜用感光性樹脂組成物,其中,前述 (A)含有酸改質乙烯基之環氧樹脂爲,由下述通式(4) 所表示之酚醛清漆型環氧樹脂、下述通式(5)所表示之 雙酚型環氧樹脂、下述通式(6)所表示之水楊醛型環氧 樹脂,及具有下述通式(7)或(8)所表示之重複單位之 雙酚型酚醛清漆樹脂所成群中所選擇之至少1種之環氧樹 脂(a),與含有乙烯基之單羧酸(b)反應所得之樹脂, 與含有飽和或不飽和基之多元酸酐(c)反應所得之樹脂 -61 - 201024918 [化4]
    [式(4)中,R11表示氫原子或甲基,Y1表示氫原子或縮 水甘油基,nl爲1以上之整數;又,多數存在之R11及 Y1可分別爲相同或相異;但,其中至少一個之Y1爲縮水 甘油基] Q [化5]
    [式(5)中,R12表示氫原子或甲基’ Y2表示氫原子或縮 水甘油基,n2爲1以上之整數;又,多數存在之R12可爲 相同或相異;又,π2爲2以上之情形,多數存在之Y2可 爲相同或相異] [化6]
    -62- 201024918 [式(6)中,Y3表示氫原子或縮水甘油基,n3爲1以上 之整數;又,多數存在之Υ3可爲相同或相異;但,至少 一個之Υ3爲縮水甘油基] [化7]
    [式(7)中,R13表示氫原子或甲基,Υ4及Υ5分別表示獨 立之氫原子或縮水甘油基;又,2個之R13可爲相同或相 異;但,Υ4及Υ5中至少一個爲縮水甘油基] [化8]
    [式(8)中,R14表示氫原子或甲基,Υ6及Υ7分別表示獨 立之氫原子或縮水甘油基;又,2個之R14可爲相同或相 異;但,Υ6及Υ7中至少一個爲縮水甘油基]。 6.如申請專利範圍第1〜5項中任一項之半導體封裝 用印刷電路板之保護膜用感光性樹脂組成物’其中’前述 -63- 201024918 (E)無機微粒子之含量,相對於感光性樹脂組成物之固 形分全量爲基準時爲15〜80質量%。 7. 如申請專利範圍第1〜6項中任一項之半導體封裝 用印刷電路板之保護膜用感光性樹脂組成物,其尙含有( F )硬化劑。 8. 如申請專利範圍第1〜7項中任一項之半導體封裝 用印刷電路板之保護膜用感光性樹脂組成物,其尙含有( G)彈性體。 ®
    -64- 201024918 四、指定代表圈: (一) 本案指定代表圈為:無。 (二) 本代表圈之元件符號簡單說明:無
    201024918 五 本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學 式:無
TW98129708A 2008-09-04 2009-09-03 And a photosensitive resin composition for a protective film for a printed circuit board for semiconductor encapsulation TWI396046B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008227156 2008-09-04

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201024918A true TW201024918A (en) 2010-07-01
TWI396046B TWI396046B (zh) 2013-05-11

Family

ID=41797095

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW98129708A TWI396046B (zh) 2008-09-04 2009-09-03 And a photosensitive resin composition for a protective film for a printed circuit board for semiconductor encapsulation

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9075307B2 (zh)
JP (1) JP4900510B2 (zh)
KR (1) KR101323928B1 (zh)
CN (1) CN102138104B (zh)
TW (1) TWI396046B (zh)
WO (1) WO2010026927A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI713537B (zh) * 2015-08-13 2020-12-21 日商太陽油墨製造股份有限公司 感光性樹脂組成物、乾膜及印刷配線板

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2412740B1 (en) * 2009-03-26 2015-04-01 Panasonic Corporation Epoxy resin composition, prepreg, metal foil with resin, resin sheet, laminate and multi-layer board
BR112013016006A2 (pt) * 2010-12-21 2018-07-10 Elantas Gmbh composições de resina epóxi contendo grupos epóxi e grupos viniléster
JP5854600B2 (ja) * 2010-12-28 2016-02-09 太陽インキ製造株式会社 光硬化性樹脂組成物
JP2012236909A (ja) * 2011-05-11 2012-12-06 Hitachi Chemical Co Ltd 熱硬化性樹脂組成物、これを用いたプリプレグ、積層板及びプリント配線板
WO2012173241A1 (ja) * 2011-06-17 2012-12-20 太陽インキ製造株式会社 難燃性硬化性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム及びプリント配線板
KR101604557B1 (ko) * 2011-06-17 2016-03-17 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 광경화성 열경화성 수지 조성물
WO2013022068A1 (ja) * 2011-08-10 2013-02-14 日立化成工業株式会社 感光性樹脂組成物、感光性フィルム、永久レジスト及び永久レジストの製造方法
TWI541594B (zh) * 2011-09-30 2016-07-11 Taiyo Ink Mfg Co Ltd A photosensitive resin composition, a hardened film thereof, and a printed wiring board
JP5875821B2 (ja) * 2011-09-30 2016-03-02 太陽インキ製造株式会社 感光性樹脂組成物、その硬化皮膜およびプリント配線板
TW201435495A (zh) * 2011-09-30 2014-09-16 Taiyo Ink Mfg Co Ltd 感光性樹脂組成物、其之硬化皮膜及印刷配線板
JP2013168395A (ja) * 2012-02-14 2013-08-29 Taiyo Holdings Co Ltd めっきレジスト用樹脂組成物、多層プリント配線板及び多層プリント配線板の製造方法
JP6015481B2 (ja) * 2012-03-28 2016-10-26 Jsr株式会社 カラーフィルタ、有機el表示素子及び着色組成物
JP5997515B2 (ja) * 2012-06-29 2016-09-28 旭化成株式会社 感光性樹脂組成物及び感光性樹脂積層体
JP6113976B2 (ja) * 2012-08-29 2017-04-12 旭化成株式会社 感光性樹脂組成物
JP6132505B2 (ja) * 2012-10-05 2017-05-24 旭化成株式会社 感光性樹脂組成物及び感光性樹脂積層体
WO2014136897A1 (ja) * 2013-03-07 2014-09-12 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法
WO2014208647A1 (ja) * 2013-06-27 2014-12-31 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置および有機el表示装置
JPWO2015002071A1 (ja) * 2013-07-04 2017-02-23 味の素株式会社 感光性樹脂組成物
JP6455432B2 (ja) * 2013-08-02 2019-01-23 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物
KR20210150619A (ko) * 2013-08-02 2021-12-10 쇼와덴코머티리얼즈가부시끼가이샤 감광성 수지 조성물
TWI541596B (zh) * 2013-12-26 2016-07-11 Asahi Kasei E Materials Corp A photosensitive resin composition and a photosensitive resin laminate
KR102171397B1 (ko) * 2013-12-30 2020-10-29 엘지디스플레이 주식회사 터치장치의 제조방법 및 그 수지 조성물
JP6274306B2 (ja) * 2014-03-31 2018-02-07 荒川化学工業株式会社 プリント配線板用接着剤組成物、積層板およびフレキシブルプリント配線板
KR20220130832A (ko) * 2014-04-25 2022-09-27 쇼와덴코머티리얼즈가부시끼가이샤 감광성 엘리먼트, 적층체, 영구 마스크 레지스터 및 그 제조 방법 및 반도체 패키지의 제조 방법
CN104865791B (zh) * 2015-04-17 2019-08-30 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板的制备方法和掩膜板
TWI746707B (zh) 2017-01-31 2021-11-21 日商日本化藥股份有限公司 反應性多元羧酸化合物、使用該化合物的活性能量線硬化型樹脂組成物、該組成物的硬化物及該硬化物的用途
JP7067140B2 (ja) * 2017-03-29 2022-05-16 味の素株式会社 樹脂組成物
JP6601634B2 (ja) * 2017-03-31 2019-11-06 協立化学産業株式会社 変性樹脂及びそれを含む硬化性樹脂組成物

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1127340A (en) * 1977-12-30 1982-07-06 Kohtaro Nagasawa Photocurable light-sensitive composition and material
US4390615A (en) * 1979-11-05 1983-06-28 Courtney Robert W Coating compositions
JPS573875A (en) * 1980-06-11 1982-01-09 Tamura Kaken Kk Photopolymerizable ink composition
JP2604173B2 (ja) * 1987-02-25 1997-04-30 東京応化工業株式会社 耐熱性感光性樹脂組成物
JP3281473B2 (ja) * 1994-01-17 2002-05-13 日本化薬株式会社 フレキシブルプリント配線板用レジストインキ組成物及びその硬化物
JP3247091B2 (ja) 1997-11-28 2002-01-15 日立化成工業株式会社 光硬化性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
US6583198B2 (en) * 1997-11-28 2003-06-24 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photo curable resin composition and photosensitive element
JP3496668B2 (ja) 1997-11-28 2004-02-16 日立化成工業株式会社 光硬化性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JP3496674B2 (ja) 1997-11-28 2004-02-16 日立化成工業株式会社 光硬化性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
FR2782726B1 (fr) * 1998-08-28 2003-09-12 Basf Coatings Compositions de vernis acryliques photopolymerisables contenant un agent anti-oxydant de la famille des phenols encombres steriquement
JP3750101B2 (ja) * 1999-03-15 2006-03-01 タムラ化研株式会社 感光性樹脂組成物及びプリント配線板
JP4894093B2 (ja) 2001-03-30 2012-03-07 Dic株式会社 活性エネルギー線硬化型樹脂の製造方法
JP3673967B2 (ja) * 2001-09-21 2005-07-20 タムラ化研株式会社 感光性樹脂組成物及びプリント配線板
EP1296188A3 (en) * 2001-09-21 2003-04-23 Tamura Kaken Corporation Photosensitive resin composition and printed wiring board
JP2003140334A (ja) 2001-11-01 2003-05-14 Mitsubishi Chemicals Corp 光重合性画像形成材及び画像形成方法
JP4240885B2 (ja) 2001-12-28 2009-03-18 日立化成工業株式会社 フレキシブル配線板の保護膜を形成する方法
JP2004138835A (ja) 2002-10-18 2004-05-13 Tamura Kaken Co Ltd 感光性樹脂組成物及びプリント配線板
KR101137306B1 (ko) * 2003-10-07 2012-04-23 가부시키가이샤 브리지스톤 광경화성 전사시트, 이것을 사용한 광정보 기록매체의제조방법 및 광정보 기록매체
JP2007079120A (ja) 2005-09-14 2007-03-29 Fujifilm Corp 感光性組成物、パターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法
KR100791817B1 (ko) * 2005-09-30 2008-01-04 주식회사 동진쎄미켐 감광성 수지 조성물
JP2007171812A (ja) * 2005-12-26 2007-07-05 Showa Denko Kk ソルダーレジストインキ組成物、その組成物を硬化してなるソルダーレジスト及びソルダーレジストの製造方法
JP5355845B2 (ja) 2006-02-24 2013-11-27 太陽ホールディングス株式会社 光硬化性樹脂組成物、及びその硬化物。
JP2009014745A (ja) * 2006-03-16 2009-01-22 Fujifilm Holdings Corp 感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板
JP2008189803A (ja) 2007-02-05 2008-08-21 Taiyo Ink Mfg Ltd 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物、その硬化物、ドライフィルム及び薄型パッケージ基板
JP2008063572A (ja) 2006-08-11 2008-03-21 Nippon Kayaku Co Ltd 感光性樹脂及びそれを含有する活性エネルギー線硬化型樹脂組成物
BRPI0715994A2 (pt) * 2006-10-19 2013-08-06 Dow Global Technologies Inc composiÇço termofxÁvel tendo aderÊncia melhorada a subtratos metÁlicos quando curada, processo para confeccionar um artigo revestido, processo para confeccionar um artigo compàsito reforÇado com fibra, processo para confeccionar um laminado e artigo
JP2009083482A (ja) 2007-09-13 2009-04-23 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 感光性樹脂積層体

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI713537B (zh) * 2015-08-13 2020-12-21 日商太陽油墨製造股份有限公司 感光性樹脂組成物、乾膜及印刷配線板

Also Published As

Publication number Publication date
CN102138104A (zh) 2011-07-27
CN102138104B (zh) 2013-01-23
JP4900510B2 (ja) 2012-03-21
WO2010026927A1 (ja) 2010-03-11
US20110223539A1 (en) 2011-09-15
TWI396046B (zh) 2013-05-11
JPWO2010026927A1 (ja) 2012-02-02
US9075307B2 (en) 2015-07-07
KR20110013495A (ko) 2011-02-09
KR101323928B1 (ko) 2013-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW201024918A (en) Photosensitive resin composition for protective film of printed wiring board for semiconductor package
JP7302645B2 (ja) 感光性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法
TWI624507B (zh) Photosensitive resin composition, dry film using the photosensitive resin composition, printed wiring board, and method for producing printed wiring board
JP3964326B2 (ja) カルボキシル基含有感光性樹脂、それを含有するアルカリ現像可能な光硬化性・熱硬化性組成物及びその硬化物
TW201801584A (zh) 乾薄膜及印刷配線板
JP6003053B2 (ja) 半導体パッケージ用プリント配線板の保護膜用感光性樹脂組成物及び半導体パッケージ
JP2021096480A (ja) 感光性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法
JP2007256943A (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
JP6953758B2 (ja) 感光性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法
TW202112831A (zh) 感光性樹脂組成物、感光性樹脂薄膜、印刷線路板及半導體封裝體、以及印刷線路板的製造方法
JP2018169464A (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、半導体装置及びレジストパターンの形成方法
JP2018097140A (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメントとその製造方法及び半導体装置
JP2021043411A (ja) 感光性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法
WO2023139694A1 (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法
JP2015031849A (ja) 感光性樹脂組成物
WO2023214540A1 (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法
WO2024075229A1 (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、プリント配線板及びプリント配線板の製造方法
JP7415443B2 (ja) 感光性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム、プリント配線板、及び、プリント配線板の製造方法
WO2023120570A1 (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法
WO2024135741A1 (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法
WO2023153103A1 (ja) 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法
JP5131001B2 (ja) プリント配線板用硬化性樹脂組成物
KR20240096690A (ko) 감광성 수지 조성물, 감광성 엘리먼트, 프린트 배선판, 및 프린트 배선판의 제조 방법
JP2021033114A (ja) 感光性樹脂組成物、パターン硬化膜とその製造方法、感光性エレメント及びプリント配線板とその製造方法