TW200902582A - Epoxy resin composition - Google Patents
Epoxy resin composition Download PDFInfo
- Publication number
- TW200902582A TW200902582A TW097110902A TW97110902A TW200902582A TW 200902582 A TW200902582 A TW 200902582A TW 097110902 A TW097110902 A TW 097110902A TW 97110902 A TW97110902 A TW 97110902A TW 200902582 A TW200902582 A TW 200902582A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- epoxy resin
- resin composition
- group
- complex
- formula
- Prior art date
Links
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 title claims abstract description 45
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 title claims abstract description 44
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 29
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims abstract description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 21
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 claims description 18
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims description 16
- -1 (1-naphthyl)methyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 7
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 8
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 8
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 abstract description 6
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 5
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 abstract description 3
- PSBPNWBGNOWCCU-UHFFFAOYSA-N OB(O)O.S.S.S Chemical group OB(O)O.S.S.S PSBPNWBGNOWCCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 abstract 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 10
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 10
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 9
- YISOXLVRWFDIKD-UHFFFAOYSA-N bismuth;borate Chemical compound [Bi+3].[O-]B([O-])[O-] YISOXLVRWFDIKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 8
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 7
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 3
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- YBCVMFKXIKNREZ-UHFFFAOYSA-N acoh acetic acid Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O YBCVMFKXIKNREZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 2
- 238000004455 differential thermal analysis Methods 0.000 description 2
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 2
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 2
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFAWEYJGIGIYFH-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(trimethoxymethyl)dodecoxymethyl]oxirane Chemical compound C(C1CO1)OCCCC(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC MFAWEYJGIGIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPPLJLAHMKABPR-UHFFFAOYSA-H 2-hydroxypropane-1,2,3-tricarboxylate;nickel(2+) Chemical compound [Ni+2].[Ni+2].[Ni+2].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O UPPLJLAHMKABPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 244000166124 Eucalyptus globulus Species 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- UYXNWXWIKJRLRN-UHFFFAOYSA-N NN.OB(O)O Chemical compound NN.OB(O)O UYXNWXWIKJRLRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N acetic acid Substances CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 125000000319 biphenyl-4-yl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical class OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N boronic acid Chemical compound OBO ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000739 chaotic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 150000001860 citric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 238000004255 ion exchange chromatography Methods 0.000 description 1
- GJJSDZSDOYNJSW-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);borate Chemical compound [La+3].[O-]B([O-])[O-] GJJSDZSDOYNJSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002632 lipids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004850 liquid epoxy resins (LERs) Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000538 pentafluorophenyl group Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(*)C(F)=C1F 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N trisodium borate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]B([O-])[O-] BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004704 ultra performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000000052 vinegar Substances 0.000 description 1
- 235000021419 vinegar Nutrition 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/29—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
- H01L23/293—Organic, e.g. plastic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/68—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
- C08G59/72—Complexes of boron halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/52—Mounting semiconductor bodies in containers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L24/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/156—Material
- H01L2924/15786—Material with a principal constituent of the material being a non metallic, non metalloid inorganic material
- H01L2924/15788—Glasses, e.g. amorphous oxides, nitrides or fluorides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Die Bonding (AREA)
Description
200902582 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種含有新穎之陽離子熱聚合起始劑之 環氧系樹脂組成物、及以其接合配線基板與電子零件而成 之連接結構體。 【先前技術】
自以往,作為於配線基板上構裝I c晶片等電子零件 時使用之黏接劑的一種,可使用光陽離子聚合性環氧系樹 脂組成物。於此種光陽離子聚合性環氧系樹脂組成物中, 配合有可藉由光產生質子而使陽離子聚合開始之光陽離子 聚合起始劑,作為該種光陽離子聚合起始劑已知有銃銻酸 鹽錯合物。 然而,疏錄酸鹽錯合物具有氟原子與金屬錄鍵結之 SbF0-作為反陰離子(counter ani〇n),因此有在陽離子聚合 日寸產生大量之乱離子,於異種金屬間誘發遷移,腐餘金屬 配線或連接墊之問題。因此,提案有使用錄硼酸鹽錯合物 作為陽離子聚合起始劑’該銃硼酸鹽錯合物係使用氣原子 與碳原子鍵結之四(五氟苯基)硼酸鹽陰離子代替 SbiV (專利文獻1) ’實際上,市售有以下之式(lc)之 錯合物[對羥基苯基-苄基-甲基銃四(五氟苯基)硼酸鹽]。
(1c) 200902582 然而,於將電子烫彳生 于零件構裝於配線基板上時,多產生無 法將光照射至接合部之愔 障开乂。因此,嘗試將專利文獻1之 實施例所揭示之且體夕姑 八 風蝴酸鹽錯合物轉用為用於陽離子 熱合性環氧樹脂組成物之胳魅工也置 取物之陽離子熱聚合起始劑。於此情 形時’不僅要求於陽離子人 _ 于祆&時減少氟離子之產生量而提 咼環氧系樹脂組成物之射發 之耐電蝕性,而且要求提高環氧系樹 脂組成物之低溫快速硬化性以提高生產性。 專利文獻1 :日本特開平9一 miu號公報 【發明内容】 然而,將式(lc)之錯合物使用作為環氧系樹脂組成 勿用之陽離子熱聚合起始劑時,雖然可將陽離子熱聚合時 /之氟離子量降低至某種程度而提高耐電餘性,但環氧 系樹脂組成物之低溫快速硬化性並不充分。 本啦月可解决上述先則技術之問題,其目的在於提供 :種不僅可於陽離子熱聚合時減少a離子生成量而提高耐 電敍性’且低溫快速硬化性亦優異的環氧系樹脂組成物。 本發明人發現藉由使用具有特定之三個取代基之新穎 組合的新襲《鹽錯合物,來作為環氧㈣脂組成物用 之陽離子熱聚合起始劑’可達成上述目的,從而完成本發 明。 ^即,本發明提供一種環氧系樹脂組成物,其含有環氧 樹脂與陽離子熱聚合起始劑,其特徵在於該陽離子熱聚合 起始劑係式(1 )所表示之锍侧酸鹽錯合物。 (1) 200902582
為甲m中’Ri為芳烷基,ι為低級烷基。其中,& 為甲基時U為f基。素原子,η為卜3之整數。 子幻u發明提供一種連接結構體’其特徵在於,係電 %上述之%氧系樹脂組成物之熱硬化物接合於配 線基板上者。 μ明之被氧系樹脂組成物係於環氧樹脂中使用新穎 之式⑴之㈣酸鹽錯合物作為陽離子熱聚合起始劑。 於陽離子熱聚合時,可減少氣離子生成量而提高耐 ^丨生,且可實現低溫快速硬化性。 【實施方式】 本發明之環氧系樹脂組成物含有環氧樹脂、作為陽離 子熱聚合起始劑之式⑴所表示之新穎銃硼酸鹽錯合物。
(1) “式(1)中,作為R1之芳烧基’可列舉苄基、鄰曱基 苄基、(1-萘基)甲基、吼啶基甲基、蒽基甲基等。其中, 從良好之快速硬化性及容易獲得性之方面考量較佳為卜 萘基)曱基。 μ 200902582 作為I之低級烷基,可列舉曱基、乙基、丙基、丁基 ,。其中,從良好之快速硬化性以及容易獲得性之方面考 罝,較佳為曱基。其中,於&之低級烷基為曱基時,上述 Ri之芳烷基不為苄基。 表不與錡殘基鍵結之笨基之羥基的個數的η為1〜3 之整數。於η為1之情形時,係4_羥基苯基、2_羥基苯基 或3-經基苯基;於η為2之情形時,係2,4_二經基苯基、 2,6 一羧基苯基、3,5_二羥基苯基、2,3_二羥基苯基等;於 η為3之情形時,係2,4,6·三經基苯基、2,4,5_三㈣苯基、 2:3,4-三羥基笨基等。其中’從良好之快速硬化性及容易獲 得f生之方面考量’較佳為η $丄,於對位鍵結有經基之4_ 經基苯基。 作為X之南素原子,為氟原子、氯原子、演原子或碰 原子。其中,自提高反應性之方面考4,較佳為 電子性之氟原子。 / β π π 於本1明之環氧系樹脂組成物中使用作為陽離子 合起始劑的新賴之式⑴彻酸鹽錯合物,可依:以 下之反應式進行製造。再者’式⑴、⑺或⑺中, 1為芳院基’ R2為低級烧基,素原子, 之 整數。 < 200902582 〈反應式〉
(1) 即’將式(2)之锍録酸鹽錯合物(合成方法參照曰 本特開平10 — 245378號公報)溶解於乙酸乙酸等有機溶 劑中,以等莫耳量將式(3)之㈣酸鹽(合成方法參照 日本特開平1{)_ 3 1()587號公報)之水溶液混合於該溶液, 然後將所得之雙層系混合物於2〇〜8〇t之溫度下攪拌 小4 ’使式(2 )之㈣酸鹽錯合物與式(3 )之鈉硕酸鹽 反應,藉此可獲得式(丨)之鏟硼酸鹽錯合物。式(1 )之 疏職鹽錯合物之分離,可藉由對有機溶㈣進行分液並 乾無後,減麼蒸發除去有機溶劑,而獲得作為 目標物。 …、《汊灃又 作為構成本發明之環氧系樹脂組成物的環氧 已用於接合電子材料之熱硬化型環氧樹 乍為此種熱硬化型環氧樹月旨,可為液 :,較佳為,環氧當量通常為丨。。〜4_左右, 中具有2個以上俨, 且於刀子 衣虱基之熱硬化型環氧樹脂。例如可較佳 9 200902582 使用雙酚A型環氧化合物、酚醛清漆(phen〇1 n〇v〇lak)型環 氧化合物、甲酚醛清漆(cres〇l n〇v〇lak)型環氧化合物、醋 型環氧化合物、脂環型環氧化合物等。又,於此等化合物 中包含單體或者寡聚物。 於本發明之環氧系樹脂組成物中’相對於環氧樹脂1 〇〇 質量份之式(1 )之錡硼酸鹽錯合物的配合量,若過少則 會導致硬化不充分,若過多則會造成保存穩定性降低,因 此較佳為0.1〜10質量份,更佳為0.5〜5質量份。 方;本發明之環氧系樹脂組成物中,除上述熱硬化型環 氧樹脂之外,亦可於不損及發明效果之範圍内,合併使用 熱硬化型尿素樹脂、熱硬化型三聚氰胺樹脂、熱硬化型酚 树月曰等熱硬化型樹脂,或者聚酯樹脂或聚胺基甲酸酯樹脂 (polyurethane resin)等熱可塑性樹脂。 於本發明之環氧系樹脂組成物十,亦可視需要含有二 乳化矽、雲母等填充劑、顏料、抗靜電劑、矽烷偶合劑等。 又作為本發明之環氧纟、樹脂組成物之形態,可以溶解於 曱苯等溶劑中之溶液、糊劑、成膜之薄膜的形態來使用。 本發月之環氧系樹脂組成物,可藉由將環氧樹脂及陽 離子熱聚合起始劑、及視需要所添加之矽烷偶合劑、熱硬 化型樹脂、填充劑等其他添加劑按照常法均句混合擾拌而 製造。 以此方式所獲得之本發明之環童 / 衣乳系樹脂組成物,由於 係使用新穎之銃硼酸鹽錯合物作Λ F馬陽離子熱聚合起始劑, 因此於陽離子熱聚合時’可減少氟離子生成量而提高耐電 200902582 姓性,且可實現低溫快速硬化性。 子二、:發明之環氧系樹脂組成物可較佳適用於將電 π α载在配線基板上之情形。於此情形時,可 成物之熱硬化物將電子零件接合於配: Α 之具有優異对電银性的連接結構體。該
構體亦為本發明之一部分。 Μ V'D 作為配線基板,可列舉可撓性印刷基板、玻璃環氧樹 脂基板、玻璃基板、膠帶基板 ic晶片、電阻元件、電容琴元件、天:二子零件,可列舉 卞电令盗70件天線疋件、開關元件等。 ^ 發明之環氧系樹脂組成物(糊狀、薄膜狀等)之陽 離子熱聚合,可藉由加熱至1〇〇〜25〇它來進行。 [實施例] 參考例1、2及3 將式(Id) 、(le)及(lf)之鏽銻酸鹽錯合物(合 成=法參照日本特開平1G— 245378 E公報)溶解於乙酸 乙^曰中’分別製備該錯合物之1〇質量%乙酸乙醋溶液。與 其等分開’另外製備式(3)之納硼酸鹽(合成方法參照 日本特開平1()—31G587號公報)之ig質量%水溶液。 接著,於該錯合物之1〇質量%乙酸乙酯溶液中,在室 下混合等莫耳量之式(3 )之鈉硼酸鹽之1 〇質量%水溶 液,直接攪拌3〇分鐘。然後,自反應混合液中分液乙酸 乙酯層,並加以乾燥,減壓除去乙酸乙酯。作為蒸發殘渣, 獲得芩考例1之式(la)之銃硼酸鹽錯合物、參考例2之 式(lb)之鍍硼酸鹽錯合物及參考例3之(lc)之疏硼酸 200902582 鹽錯合物。
(1a) (1b) (1c) 對新穎化合物之式(la )及(lb )之銃硼酸鹽錯合物 進行質量分析(測量儀器:AQUITY UPLC系統、WATERS 公司)、元素分析(測量儀器:PHOENYX、EDAX公司)、 12 200902582 IR 測量(測量儀器:7000e FT — IR、VARIAN 公司)、 —NMR 分析(測量儀器:MERCURY PLUS、VARIAN 公 司)。可自所測得之結果,確認其係目標化合物。 式(la)之錡硼酸鹽錯合物[4-羥基苯基-曱基-1-萘基 甲基銃四(五氟苯基)硼酸鹽]之分析結果 〈MS分析結果〉 M+ = 281 (锍殘基) M+ = 679 (硼酸鹽殘基) 〈元素分析結果〉 觀測值 C : 52.51 Η : 1.89 理論值 C : 52.52 Η : 1.78 〈IR分析結果(cm— 1 )〉 662(C-S)、776、980、1088、1276(Ar-F)、1300、1374、 1464、1514、1583、1643、288 l(C-H)、2981 (C-H)、3 107(O-H) 〈NMR分析結果(δ值)、參照圖1 (使用THF )〉 2·6 (1H、⑷)、3.3 (3H、(a))、5.3 (2H、(e))、6.9 (2H、 (c))、7.6 (2H、(b))、7.2〜8.1(7H、(f), (g),(h),⑴,(j),(k), (1)) (質子歸屬)
13 200902582 式(lb)之毓硼酸鹽錯合物[4-羥基苯基-曱基-(2-曱基 苄基)錡四(五氟苯基)硼酸鹽]之分析結果 〈MS分析結果〉 M+=245 (銃殘基) M+ = 679 (棚酸鹽殘基) 〈元素分析結果〉 觀測值 C : 50.39 Η : 1.77 理論值 C : 50.60 Η : 1.80 〈IR分析結果(cm_1)〉 662(C-S)、773、980、1088、1276(Ar-F)、1463、1514、 1583 、 1644 、 2882(C-H) 、 2983(C-H) 、 3109(O-H) 〈]H — NMR分析結果(δ值)、參照圖2 (使用THF ) > 2.3 (3H、⑴)、2.4 (1H、⑷)、3.3 (3H ' ⑻)、4.8 (2H、 (e))、7.0 (2H、(c))、7.6 (2H、(b))、7.0〜7.4 (4H、(f),(g),(h),(i)) (質子歸屬)
Η⑼
F F
F, (錯合物之氟離子生成評價) 對參考例1〜3之疏硼酸鹽錯合物及式(1 d ) 、( 1 e ) 及(1 f )之各銃銻酸鹽錯合物,測量於陽離子熱聚合時之 溫度條件下的氟離子生成量。即,將各個錯合物0.2 g投 14 200902582 入純水10 mL中,於100°C下加溫1 〇小時後,藉由離子層 析分析(DYONICS公司)測量上清液之氟離子量。將所 測得之結果示於表1中。實用上,以未達1 Oppm為佳。 [表1] 錯合物 氟離子生成量(ppm) 疏硼酸鹽錯合物(la) Η' ,·** ·ι ι-ill 2.1 鈒硼酸鹽錯合物(lb) 2.3 锍硼酸鹽錯合物(lc) 2.3 锍銻酸鹽錯合物(Id) 160000 ~~ 锍銻酸鹽錯合物(le) 170000 鎳銻酸鹽錯合物(If) 172000 〜 自表1,疏硼酸鹽錯合物顯示出非常少之氟離子生成 量’因此於此方面可知可用作為陽離子熱聚合起始劑。 實施例1〜4及比較例1〜8 藉由將表2之組成成分均勻混合而製備環氧系樹脂組 成物。並且對各環氧系樹脂組成物,以如下說明之方式進 行示差熱分析測量(DSC測量),且進行耐電蝕性測試。 〈DSC測量〉 對環氧系樹脂組成物,使用熱分析裝置(DSC 51〇〇、 Seiko Instruments公司)以升溫速度1〇。〇/分進行示差熱分 析(發熱開始溫度、峰值溫度、發熱量)。將所得之結果 示於表2。 再者發熱開始溫度係由錯合物生成質子,開始陽離 " '度 务熱開始溫度越低則低溫硬化性越高,但 產生保存穩定性降低之傾向,因此實用上較佳為60〜 15 200902582 1 1 0 C。發熱峰值溫度若過低則保存穩定性降低,若過高則 有產生硬化不良之傾向,因此實用上為1〇〇〜14〇它。發熱 里為反應熱,若過少則存在產生硬化不良之傾向,因此雖 因使用之環氧樹脂而不同,但通常較佳在丨00J/g以上。 〈耐電敍性測試(遷移測試)〉 於玻璃基板上以20μιη之間隙設置Ai/Cr/ITO電極或 M〇/IT〇電極成為梳齒狀之玻璃配線基板,塗佈20μιη厚之 待測試的環氧系樹脂組成物,於20(TC下加熱10分鐘使其 硬化’得到測試片。將所得之試片,置於85它、85%RH之 !互皿彳曰中’於電極間施加3 〇 v之電壓的狀態下放置12小 守’、後自玻璃配線基板之表面及背面’使用光學顯微 鏡觀察於電極是否產生變色或缺陷、斷線等,按照如下之 仏準進行評價。將所得之結果示於表2。 耐電蝕性評價標準 G .具有變色、缺陷、斷線等之情形 NG ’不具有變色、缺陷、斷線等之情形 200902582 比較例(質量份) 〇〇 〇 Ο 卜 τ_Η 1 1 290 NG NG 卜 o t—H in SO Η Ό 寸 280 NG NG o in T—^ 100 134 310 NG NG in o in m τ-Η 300 NG NG 寸 o t H ίΓ) Ο OS 280 NG NG m o tn m 00 00 i- 290 NG NG <N o in 100 卜 146 280 O O 1 i o ^Ti τ-Η τ—H 270 O O 實施例(質量份) 寸 o ΙΤΊ 100 S H m ” "H 310 o ϋ m o m S 132 320 o o (N o r*H ο Ζ (N 245 o ο t o 1—^ m 00 CN r«_H f H 250 o ο 成分名 雙酚A型液狀環氧樹脂*1 CN| a % <(〇 > 姐 W 錯合物(lb) *3 錯合物(lc) *4 錯合物(Id) *5 錯合物(le) *6 錯合物(If) *7 矽烷偶合劑*8 填充劑(球狀熔融二氧化矽)*9 〈評價結果〉 DSC測定發熱開始溫度(°C ) 發熱峰值溫度(°c) *發熱量(J/g) 耐電蝕性評價 Al/Cr/ITO 耐電蝕性評價 Μο/ΙΤΟ 卜 200902582 =·= 1 · Epikote 828、日本環氧樹脂公司 *2〜*7 :如上述 * 8 · γ-縮水甘油氧基丙基三曱氧基矽烷 *9 :球狀熔融二氧化矽(EB_6D,電氣化學工業公司) *發熱量:每1 g環氧樹脂之熱量 貫施例1〜4之環氧系樹脂組成物,由於係分別使用新 穎之式(1)或(2)之鏽硼酸鹽錯合物,因此於DSC測量 之反應開始溫度為60〜U(rc之範圍’發熱峰值溫度在1〇〇 〜140°C之範圍,發熱量亦在1〇〇J/g以上,且耐電蝕性評 價亦為G,為可於實用上滿足需要者。 另一方面,於使用與實施例不同之錯合物的比較例1、 2之情形,發熱開始溫度、發熱峰值溫度之評價項目具有 門題於比車又例3〜ό之情形,耐電蝕性之評價項目具有 問題,而於比較例7、8之情形,則是在發熱開始溫度、 發熱岭值溫度、耐電触性之評價項目具有問題。 [產業上之可利用性] 本發明之環氧系、樹脂組成物,於環氧樹脂中使用新顆 之式(1)之銕硼酸鹽錯合物作為陽離子熱聚合起始劑。 因此,於陽離子熱聚合時,可減少氟離子生成量而提高耐 電姓性’並且實現低溫快速硬化性。因此,可於配線基板 上格載電子零件時較佳地使用。 【圖式簡單說明】 圖1係參考例1之銕硼酸鹽錯合物的lH_NMR圖。 18 200902582 H — NMR 圖。 圖2係參考例2之锍硼酸鹽錯合物的1 【主要元件符號說明】 無 19
Claims (1)
- 200902582 十、申請專利範B: 係含有環氧樹脂與陽離子 (1)所表示之銃硼酸鹽錯 1.一種環氧系樹脂組成物 熱聚合起始劑,其特徵在於: 該陽離子熱聚合起始劑係式 合物,為甲其Γ ',Rl為芳貌基、為低級烧基;其中,R 為甲基時,Rl不為节基;X為幽素原子 2 2.如申請專利範圍第!項之環童… 之1數)。 ^ ^ 、之環乳系树脂組成物,其中, 心為鄰甲基节基或(1_萘基)甲基。 ”中 ηΛ :·如申請專利範圍第1項之環氧系樹脂組成物,盆中, 打為1,ΟΗ基鍵結於對位上。 ^ 如申请專利範圍第2項之環氧系樹脂 η為1,OH基鍵結於對位上。 X刃/、?, 5·如申請專利範圍帛i至4項中任 組成物,其中,尺2為甲基。 奴哀氧系樹脂 6·如申請專利範圍第! i 4項令任 紐成物,其中,χ為氟原子。 貞之銥氧系樹脂 人如申請專利範圍第5項 X為氟原子。 &氧糸树月曰組成物’其中, 8·—種連接結構體,其特徵在於·· 係電子零件藉由申請專利 靶圍第1項之環氧系樹脂組 20 200902582 成物之熱硬化物接合於配線基板上者。 Η'一*、圈式: 如次頁 21
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007158283A JP5190665B2 (ja) | 2007-06-15 | 2007-06-15 | エポキシ系樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200902582A true TW200902582A (en) | 2009-01-16 |
TWI383002B TWI383002B (zh) | 2013-01-21 |
Family
ID=40129456
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW097110902A TW200902582A (en) | 2007-06-15 | 2008-03-27 | Epoxy resin composition |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8431654B2 (zh) |
EP (1) | EP2161292B1 (zh) |
JP (1) | JP5190665B2 (zh) |
KR (1) | KR101167545B1 (zh) |
CN (2) | CN101778882B (zh) |
HK (2) | HK1142348A1 (zh) |
IN (1) | IN2014KN00897A (zh) |
TW (1) | TW200902582A (zh) |
WO (1) | WO2008152843A1 (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI561603B (en) * | 2011-11-23 | 2016-12-11 | Cheil Ind Inc | Adhesive composition, adhesive film and electronic component |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008303167A (ja) * | 2007-06-07 | 2008-12-18 | Sony Chemical & Information Device Corp | 新規なスルホニウムボレート錯体 |
JP4901889B2 (ja) * | 2008-02-18 | 2012-03-21 | ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 | 磁性シート組成物、磁性シート、及び磁性シートの製造方法 |
JP5444702B2 (ja) * | 2008-12-05 | 2014-03-19 | デクセリアルズ株式会社 | 新規なスルホニウムボレート錯体 |
JP4784698B1 (ja) * | 2010-05-06 | 2011-10-05 | 横浜ゴム株式会社 | 熱硬化性エポキシ樹脂組成物 |
CN102934243B (zh) * | 2010-06-09 | 2018-08-31 | 迪睿合电子材料有限公司 | 光反射性各向异性导电浆料和发光装置 |
JP5707754B2 (ja) * | 2010-07-12 | 2015-04-30 | 横浜ゴム株式会社 | 導電性組成物および太陽電池セル |
CN103154074B (zh) * | 2010-09-29 | 2014-10-01 | 横滨橡胶株式会社 | 阳离子聚合引发剂以及热固化性环氧树脂组合物 |
JP5727316B2 (ja) * | 2011-07-06 | 2015-06-03 | 積水化学工業株式会社 | スルホニウム化合物の製造方法、並びにスルホニウムボレート錯体の製造方法 |
KR101391697B1 (ko) * | 2011-12-14 | 2014-05-07 | 제일모직주식회사 | 이방성 도전 필름용 조성물 및 이를 이용한 이방성 도전 필름 |
JP6251557B2 (ja) * | 2013-12-05 | 2017-12-20 | デクセリアルズ株式会社 | 化合物、熱硬化性樹脂組成物、及び熱硬化性シート |
JP2014131997A (ja) * | 2013-12-26 | 2014-07-17 | Dexerials Corp | 新規なスルホニウムボレート錯体 |
KR101665171B1 (ko) * | 2014-01-29 | 2016-10-11 | 제일모직주식회사 | 이방 도전성 필름 및 상기 필름에 의해 접속된 반도체 장치 |
KR101706818B1 (ko) | 2014-04-30 | 2017-02-15 | 제일모직주식회사 | 이방 도전성 필름용 조성물, 이방 도전성 필름 및 반도체 장치 |
JP6434748B2 (ja) * | 2014-08-29 | 2018-12-05 | 積水化学工業株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤 |
KR101731677B1 (ko) | 2014-08-29 | 2017-04-28 | 삼성에스디아이 주식회사 | 이방 도전성 필름용 조성물, 이방 도전성 필름 및 반도체 장치 |
KR20170115580A (ko) * | 2015-03-10 | 2017-10-17 | 요코하마 고무 가부시키가이샤 | 양이온 중합 개시제 및 에폭시 수지 조성물 |
WO2017145801A1 (ja) | 2016-02-22 | 2017-08-31 | デクセリアルズ株式会社 | 異方性導電フィルム |
JP6776609B2 (ja) | 2016-02-22 | 2020-10-28 | デクセリアルズ株式会社 | 異方性導電フィルム |
JP7462408B2 (ja) | 2019-12-13 | 2024-04-05 | デクセリアルズ株式会社 | 接着剤組成物、接着フィルム及び接続構造体 |
JP2022185716A (ja) | 2021-06-03 | 2022-12-15 | デクセリアルズ株式会社 | 接着剤組成物、接着フィルム、接続構造体および接続構造体の製造方法 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2014047A1 (en) | 1989-04-08 | 1990-10-08 | Yoshinari Yamamoto | Sulfonium compound and polymerization initiator comprising the sulfonium compound as the main ingredient |
JP2797010B2 (ja) * | 1989-04-08 | 1998-09-17 | 三新化学工業株式会社 | 新規なスルホニウム化合物およびその製造方法 |
JP2797024B2 (ja) * | 1989-10-13 | 1998-09-17 | 三新化学工業株式会社 | スルホニウム化合物 |
JP2706833B2 (ja) * | 1990-02-14 | 1998-01-28 | 三新化学工業株式会社 | カチオン重合開始剤および重合性組成物 |
JPH05230189A (ja) * | 1992-02-25 | 1993-09-07 | Nippon Soda Co Ltd | スルホニウム塩及び増感剤を含有する硬化性組成物 |
FR2727416A1 (fr) * | 1994-11-24 | 1996-05-31 | Rhone Poulenc Chimie | Nouveaux amorceurs cationiques thermoactivables, de polymerisation et/ou de reticulation et compositions monomeres et/ou polymeres fonctionnels les mettant en oeuvre |
JP3679438B2 (ja) * | 1995-01-10 | 2005-08-03 | 三新化学工業株式会社 | スルホニウム化合物の製造方法 |
JPH09179112A (ja) * | 1995-12-21 | 1997-07-11 | Citizen Watch Co Ltd | 液晶表示装置 |
JP3937466B2 (ja) * | 1995-12-28 | 2007-06-27 | 東洋インキ製造株式会社 | 感エネルギー線酸発生剤、感エネルギー線酸発生剤組成物および硬化性組成物 |
JPH10120766A (ja) * | 1996-10-21 | 1998-05-12 | Nippon Kayaku Co Ltd | エネルギー線硬化性組成物及び物品 |
JPH10245378A (ja) | 1997-02-28 | 1998-09-14 | Nippon Kayaku Co Ltd | 新規スルホニウム塩、それからなる光重合開始剤及びエネルギー線硬化性組成物 |
JP4215852B2 (ja) | 1997-03-10 | 2009-01-28 | 株式会社日本触媒 | テトラキス(フッ化アリール)ボレート誘導体の製造方法 |
JP4122085B2 (ja) * | 1998-03-11 | 2008-07-23 | 三新化学工業株式会社 | スルホニウム化合物の製造方法 |
JP2000191751A (ja) * | 1998-12-25 | 2000-07-11 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 紫外線硬化型樹脂組成物 |
JP2002097443A (ja) * | 2000-09-21 | 2002-04-02 | Hitachi Chem Co Ltd | 接着剤組成物及びこれを用いた回路接続材料並びに接続体 |
JP2005043862A (ja) * | 2003-04-09 | 2005-02-17 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | ホログラフィック記録用組成物、ホログラフィック記録メディア及びその記録方法 |
WO2004090646A1 (ja) | 2003-04-09 | 2004-10-21 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | ホログラフィック記録メディア及びその記録方法 |
JP2006199778A (ja) * | 2005-01-19 | 2006-08-03 | Hitachi Chem Co Ltd | 接着剤組成物、回路接続用接着剤及びこれを用いた回路接続方法、接続体 |
JP2006282633A (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-19 | Sanshin Chem Ind Co Ltd | スルホニウム化合物および重合組成物 |
JP5256570B2 (ja) * | 2005-06-06 | 2013-08-07 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 封止用組成物 |
JP2008303167A (ja) * | 2007-06-07 | 2008-12-18 | Sony Chemical & Information Device Corp | 新規なスルホニウムボレート錯体 |
-
2007
- 2007-06-15 JP JP2007158283A patent/JP5190665B2/ja active Active
-
2008
- 2008-03-18 IN IN897KON2014 patent/IN2014KN00897A/en unknown
- 2008-03-18 EP EP08722318A patent/EP2161292B1/en active Active
- 2008-03-18 CN CN2008801032801A patent/CN101778882B/zh active Active
- 2008-03-18 US US12/451,798 patent/US8431654B2/en active Active
- 2008-03-18 KR KR1020097025723A patent/KR101167545B1/ko active IP Right Grant
- 2008-03-18 CN CN201210079190.1A patent/CN102633994B/zh active Active
- 2008-03-18 WO PCT/JP2008/054924 patent/WO2008152843A1/ja active Application Filing
- 2008-03-27 TW TW097110902A patent/TW200902582A/zh unknown
-
2010
- 2010-09-17 HK HK10108866.2A patent/HK1142348A1/xx unknown
-
2012
- 2012-11-02 HK HK12111061.7A patent/HK1170514A1/zh unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI561603B (en) * | 2011-11-23 | 2016-12-11 | Cheil Ind Inc | Adhesive composition, adhesive film and electronic component |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008308596A (ja) | 2008-12-25 |
EP2161292A1 (en) | 2010-03-10 |
KR20100029759A (ko) | 2010-03-17 |
CN102633994A (zh) | 2012-08-15 |
HK1170514A1 (zh) | 2013-03-01 |
CN101778882B (zh) | 2012-08-29 |
KR101167545B1 (ko) | 2012-07-20 |
IN2014KN00897A (zh) | 2015-08-21 |
US20100193228A1 (en) | 2010-08-05 |
EP2161292A4 (en) | 2010-09-22 |
US8431654B2 (en) | 2013-04-30 |
CN101778882A (zh) | 2010-07-14 |
EP2161292B1 (en) | 2012-06-20 |
JP5190665B2 (ja) | 2013-04-24 |
HK1142348A1 (en) | 2010-12-03 |
WO2008152843A1 (ja) | 2008-12-18 |
CN102633994B (zh) | 2015-06-17 |
TWI383002B (zh) | 2013-01-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW200902582A (en) | Epoxy resin composition | |
TWI434851B (zh) | Epoxy resin composition | |
KR101222214B1 (ko) | 신규한 술포늄 보레이트 착체 | |
JP5768454B2 (ja) | 異方性導電フィルム | |
US20030111519A1 (en) | Fluxing compositions | |
JP5143785B2 (ja) | 電子部品接合用接着剤 | |
JP2017214472A (ja) | 接着剤組成物及びフィルム状接着剤組成物 | |
TW200902580A (en) | Novel phosphorus-containing epoxy resin, epoxy resin composition essentially containing the epoxy resin, and cured product of the epoxy resin composition | |
KR20020091216A (ko) | 안정화된 양이온 중합성 조성물 및 그를 포함하는 접착제막 및 전도체 회로 | |
JP2012167051A (ja) | スルホニウムベンゼンスルホネート錯体及び樹脂組成物 | |
JP2013060372A (ja) | スルホニウム化合物及びその製造方法、並びにスルホニウムボレート錯体及びその製造方法 | |
JP5220488B2 (ja) | エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、およびその硬化物 | |
JP5727316B2 (ja) | スルホニウム化合物の製造方法、並びにスルホニウムボレート錯体の製造方法 | |
JP2013056921A (ja) | 新規なスルホニウムボレート錯体 | |
JP2014031451A (ja) | 熱カチオン発生剤組成物、熱硬化性組成物、及び異方導電性接続材料 | |
JP6442271B2 (ja) | 化合物、熱硬化性樹脂組成物、及び熱硬化性シート | |
JP6577497B2 (ja) | スルホニウムボレート錯体及びその製造方法 | |
JP2014167013A (ja) | 新規なスルホニウムボレート錯体 |