SU490301A3 - Фотополимеризующа с копировальна масса - Google Patents
Фотополимеризующа с копировальна массаInfo
- Publication number
- SU490301A3 SU490301A3 SU1728952A SU1728952A SU490301A3 SU 490301 A3 SU490301 A3 SU 490301A3 SU 1728952 A SU1728952 A SU 1728952A SU 1728952 A SU1728952 A SU 1728952A SU 490301 A3 SU490301 A3 SU 490301A3
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- layer
- solution
- etching
- methacrylic acid
- methacrylate
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
- Y10S430/111—Polymer of unsaturated acid or ester
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/117—Free radical
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
Другие трудности возникают в тех случа х, когда копировальную массу используют дл получени стойких к протравливанию слоев, например при изготовлении полиметаллических формных пластин, формных пластин высокой и низкой печати, печатных схем, а также при травлении фасонных изделий. В этих случа х остающийс после про влени остаточный слой может служить защитным слоем при травлении, т. е. вл етс дополнительной защитой и предохран ет основу от воздействи травильного средства. Во врем травлени не удаетс избежать попадани травильного средства также и за кра предохранительного сло , в результате возникает так называемое нодтравление, при котором предохранительный слой, не опирающийс на подложку , обвисает по кра м. Эти вис чие части особеино восприимчивы к механическим повреждени м и могут при травлении пульверизационным методом легко обломитьс , изза чего травильное средство снова проникает на поверхность подложки. Таким образом, примен емые светочувствительные слои, которые получают с помощью известных св зующих средств и которые могут про вл тьс с помощью щелочных растворов, имеют весьма существенный недостаток.
Добавка к фотополимерному слою пластификаторов желаемого эффекта .не принесла, Более того, прочность сцеплени светочувствительного сло и подложки ухудшилась. Кроме того, фотополимерный слой, содержащий большой процент низкомолекул рных мономеров , приобрел еще одно отрицательное свойство: увеличилась клейкость и лиикость.
При иснользовании в качестве св зующих средств сополимеров акриловой или метакриловой кислоты и их метиловых эфиров возможности изменени соотношени этих сополимеров ограничены из-за того, что кислотиое число полимеров должно лежать в определенных пределах (между 150 и 200). Это важно дл более толстых светочувствительных елоев , нримен емых при усиленном травлении, т. е. рассчитанных на повышенное действие травильного средства, а также дл слоев высокой печати. Но именно такие полимеры оказываюте непригодными при использовании из-за хрупкости и недостаточной плотности сцеплени со многими металлами, в частности с медью.
Дл создани св зующих веществ дл фотополимеризующейс массы предложена фотополимеризующа с копировальна масса, котора содержат в качестве основных составных частей по крайней мере одно нолимеризующеес соединение, по крайней мере один фотоинициатор и по крайней мере один сополимер , получаемый из метакриловой кислоты и алкилметакрилата. Така копировальна масса содержит сополимер, получаемый из метакриловой кислоты и по крайней мере одного алкилметакрилата, причем алкилметакрилат или один из них содержит алкильную группу с количеством атомов углерода 4-15.
В одном из нредпочтительных вариантов выполнени изобретени нредлагаема копировальна масса содержит тринолимер, получаемый из метакриловой кислоты (а); метилметакрилата или этилметакрилата (б); алкилметакрилата (0) с количеством атомов углерода в алкильной груипе 4-15.
Кроме того, могут примен тьс сополимеры , получаемые из метакриловой кислоты и высшего алкилакрилата. В этом случае количество атомов углерода в алкильной группе не должно превышать 8.
Светочувствительные слои, получаемые с номон ью копировальной массы согласно изобретению , отличаютс тем, что иосле экспонировани обладают отличной сцепл емостью с металлическими подложками всех типов и очень хорошей эластичностью. Неэкспонированные соответствующим образом, т. е. незакрепленные участки светочувствительного сло даже при увеличенной толщине легко и полностью могут удал тьс с помощью водносниртовых про вл ющих растворов.
Предлагаема коиировальна масса может выпускатьс в виде раствора или суспензии, которые потребитель может использовать в дальнейшем, в частности дл получени травильностойких слоев, например, при изготовлении печатпых схем, травлении фасоиных изделий , травлении цилиндров высокой печати и т. п.
В то врем как св зующие вещества, получаемые из эфиров акриловой и метакриловой кислот, практически эквивалентны (позвол ют получать фотополимерные слои с идентичными свойствами), оказалось, что дл получени хорошей прочпости сцеплени светочувствительного сло с подложкой практически пригодпа лишь метакрилова кислота и ее эфиры.
Кислотное число примен емых сополимеров согласно изобретению должно лежать в пределах 100-250. Дл более толстых слоев, нанример, больше 20, кислотное число предпочтительно лежит в пределах 150-250, что способствует ускорению процесса про влени .
Количественное соотношение метакриловой кислоты в полимерной массе может в зависимости от условий полимеризации отличатьс от соотношений используемых мономеров, так что в этих случа х точные данные могут быть получены лишь путем определени кислотного числа.
Из высших алкилметакрилатов в качестве сополимеров предпочтительно используютс такие, у которых алкильна группа насчитывает 5-8 атомов углерода, но особым преимушеством пользуетс гексилметакрилат. При использовании алкилметакрилатов такого типа в комбинации с метилметакрилатом предпочтительное соотношение комионентов бив лежит в пределах от 1 :2 до 1:8. При иснользовании высших алкилметакрилатов
обычно берутс меньшие количества, и наоборот .
Молекул рные веса примен емых согласно изобретению св зующих веществ могут варьироватьс в щироких пределах. В основном они должны лежать в пределах 20000-200000.
Предлагаема копировальна масса может содержать помимо мономеров, фотоинициаторов и св зующих веществ р д других добавок , например ингибиторы дл предотвращени термической полимеризации массы, доноры водорода, вещества, модифицирующие сенситометрические свойства названных слоев, красители, окращенные и бесцветные пигменты , краскообразующие компоненты и индикаторы .
В описываемой копировальной массе используют известные фотополимеризующиес мономеры, например эфиры акриловой и метакриловой кислот - дигльщериндиакрилат, лолиэтиленгликольдиметакрилат, акрилаты и метакрилаты триметилолэтана, триметилолпропана и пентаэритрита, а также многовалентные алициклические спирты. Особые преимущества получают при использовании продуктов реакции диизоцианатов и неполных сложных эфиров многовалентных спиртов.
Копировальна масса нар ду с примен емыми согласно изобретению сополимерами может также содержать, но в меньших количествах , и другие св зующие вещества, например не раствор ющиес в водных спиртах. В этих случа х необходимо следить за тем, чтобы добавки не отражались на достигнутых свойствах сополимеров.
Пример 1. Фотораствор, используемый дл изготовлени печатных схем, растровых (автотипных ) форм низкой печати, а также при травлении фасонных деталей, приготавливают из следующих составных частей, вес. ч.:
Сополимер метилметакрилата, гексилметакрилата и метакриловой кислоты с соотнощением соответственно 75 : 375 : 90 и кислотным числом 2092,8
Мономер2,8
9-Фенилакридин0,2
Триэтиленгликольдиацетат0,25
Три- 4- (3-метилфениламино) -фенил метилацетат0 ,03
Этиленгликольмоноэтиловый эфир 30
Полученный раствор нанос т методом погружени или центрифугировани на пластинку из пенопласта, кащированную медной плеикой толщиной 35 мк, до получени сло толщиной от 3 до 10 мк, предпочтительно 5 мк (Б сухом виде), после чего в течение 2 мин сушат при 100°С.
Примен емые фотомономеры получают следующим образом.
В трехгорлой колбе со смесителем, обратным холодильником и трубкой осущителем в течение 4 час нагревают до легкого кипени 6750 об.ч. сухого бензола, 1170 вес. ч. гидрооксиэтилметакрилата , 945 вес. ч. 2,2,4-тримстилгексаметилендиизоцианата и 4,5 вес. ч. диэтилциклогекспламина с добавкой 45 вес. ч. медного порошка. После охлажден 1 медь отфильтровывают и бензольный раствор два раза экстрагируют путем встр хивани порци ми по 1000 об. ч. пасыщенного раствора NaCl и один раз водой. Затем в бензольный раствор добавл ют 10,5 вес. ч. гидрохинонмоиометилового эфира и бензол удал ют порци ми в ротационном вакуумном выпарном аппарате npsi температуре 5б°С.
Примен емый сополимер получают следую1ЦИМ образом.
В трехгорлой колбе с обратным холодильНИКОМ , смесителем и трубкой дл подачи газа при температуре 80°С в течение 7 час полимеризуют при подаче азота 75 вес. ч. метилметакрилата , 375 вес. ч. п-гексилметакрилата и 90 вес. ч. метакриловой кислоты в 3000 об. ч.
бензина (точка кипени 100-140°С) с 6 вес. ч. азодиизобутиронитрила, используемого в качестве инициатора, и 2 вес. ч. п-додецилмеркаптана , используемого в качестве регул тора реакции. После охлаждени смеси выиавщий
полимер отфильтровывают и промывают порци ми легкого бензина. Полученный продукт сущат в BaKvvMHOM сущильпом щкафу при температуре 50°С. Выход составл ет 267 г, кислотное число
209.
Остаточна удельна в зкость 1%-иого раствора терполимера в этиленгликольмоноэтиловом эфире (значение RSV) 2,58 сстокс.
Слой экспонируетс в течение 1 мин с помощью ксенонового копировального аппарата фирмы «Климш и К°, Франкфурт на Майне, тип Бикоп, модель Z, 8 квт, на рассто нии 80 см между лампой и копировальной рамкой под комбинированным негативом, состо пхим
из 21-ступенчатого полутонного нейтрального
клина, объем плотности которого составл ет
0,05-3,05 с инкрементом 0,15 и линейного и
точечного растров (соответственно 60 и 120).
Экспонированный светочувствительный слой
про вл ют водно-спиртовым про вителем, который имеет значение рН 11.3 и следующий химический состав, вес. ч.:
Вода1000
Нонагидрат метасиликата
натри 1,5
Полигликоль 60003
Левулинова кислота0,6
Октагидрат гидроокиси стронци 0.3 Пластину обрабатывают про вителем в течение 30-60 сек, после чего промывают водой . Затем закрепл ют с помощью 1%-иого раствора фосфорной кислоты и в заключение окращивают черной жирной (переводной) краской .
В результате получают обладающий отличной прочностью сцеплени и хорошей растворимостью дополнительный противокислотный (защитный) слой. Устойчивость по отношению к про вителю настолько высока, что даже при
увеличении времени про влени в дес ть раз
не обнаруживаетс никаких признаков воздействи нро вител на дополнительный заии1тный слой. При травлении после про влени участки медной подложки протравливаютс при 42°С с помощью раствора FeCU при 42°Ве. Врем травлени , проводимого с помощью нульверизационного травильного анпарата фнрмы «Хемкут, Золинген типа 412 G, составл ет приблизительно 45 сек. Защитный слой отличаетс очень хорощей устойчивостью к действию трав щего средства. При так называемом нодтравливании образуютс эластичные , необламывающиес свисающие кра . При соблюдении всех этих условий получают 9 полностью отвержденных ступеней клииа.
Вместо описанного выще полимерного св зующего вещества могут примен тьс те же количества сополимера, получаемого из метилметакрилата , д-бутилметакрилата и метакриловой кислоты, соотношение компонентов соответственно 75 : 375 : 90, кислотное число 170. После такой же обработки в каждом случае получают 9 нолностью экспонированных ступеней клина.
Нар ду с перечисленными выше положительными свойствами описанный защр1тный слой обладает также хорошей гальваностойкостью в сильнокислых (рН менее 1) металлических ваннах, например в олов нных, используемых при блест щем травлении, свинцовоолов нных , гальванованнах дл омеднени н покрыти красками на основе пластиков (фирма «Шлеттер) и электролитах дл золочени (фирма «Блазберг). Такой раствор способен сохран ть свои свойства в течение длительного времени, причем благодар добавкам радикальных ингибиторов этот срок может быть увеличен.
Онисанна выше жидка фотомасса может примен тьс также в виде пленки дл дальнейшего кашировапи . Дл этого она должна пройти обработку, как описано в примере 2. Будучи применена в таком виде, смесь полностью сохран ет свои ноложительные свойства. Пример 2. Раствор, приготовленный из, вес. ч.:
Сополимер метилметакрилата, -гексилметакрилата и метакриловой кислоты с соотношением 25 : 125 : 30 и кислотным числом 2028,4
Мономер по примеру 18,4
1,2-Бензакридин0,3
Трнэтилеигликольдиацетат0,75
Полиоксиэтиленсорбитанмоноолеат 0,3 Краситель по примеру 10,12
Растворенные в 60 об. ч. этиленгликольмоноэтилового эфира, их нанос т методом центрифугировани на биаксиально располол енную полиэтилеитерефталатную пленку толщиной 25 мк, затем в течение 2 мин сушат при 100°С. Получают слой толщиной 10 мк. Полученна нленка отличаетс хорошей эластичностью и ее поверхность при комнатной температуре совершенно лишена липкости. Эта пленка с помощью ламппатора типа 9
фирмы «Дженерал Билдинг Корпорейшн, США, при 130°С накладываетс на пенопластовую нлаетипу, кащированную листовой медью толщиной 35 мк, затем в течение 1 мин экспонируетс с помон1,ью ксеноновой точечной лампы OOP 5000 (5 квт) фирмы «Шауб, Нойизенбург, и после удалени полиэфирной пленки про вл етс , как описано в примере 1. Защитный слой обладает также хорошими свойствами в смысле устойчивости к действию про вител , трав щего средства и гальваностойкости , как это описано в примере 1. Ступени клина равны 8. В этом случае наблюдаетс хороша способность светочувствительного материала сохран ть свои свойства в течение длительного времени.
Пример 3. Раствор, приготовленный из, вес. ч.:
Терполимер по примеру 22,8
Л1ономер по примеру 12,8
Диэтиленгликольмоногексиловый эфир0,5
Краситель по примеру 10,03
9-Фенилакридин0,025
В 12 об. ч. этиленгликольмоноэтилового эфира этот раствор наноситс на полиэтилентерефталатную пленку толщиной 25 мк методом центрифугировани таким образом, что после сушки (в течение 8 мин феном, в течение 3 мин при 100°С в сушильном шкафу) получают слой толщиной 25 мк. Высушенна нленка накладываетс , как описано в примере 2, на пластину, кашированную медью. Затем про вл ют в течение 2 мин. В результате поотучают чистое четкое изображение. Все положительные свойства, в том числе и отлична устойчивость к действию про вител и трав щего вещества, также полностью сохран ютс . Полученные ступени клина - 8. Из смеси путем соответствующей обработки могут быть получены слои с большей толщиной (35, 60 и 120 мк). Смесь может примен тьс дл последующего кащировани , т. е. дл нанесени в виде пленки на подложку .
П р и м е р 4. Раствор дл кашировани , приготовленный из, вес. ч.: Триметилолэтантриакрилат2,8
Терполимер, иолученный из 150 вес. ч. метилметакрилата, 750 вес. ч.
га-гексилметакрилата и 300 вес. ч. метакриловой кислоты с кислотным числом 1612,8 8-Фенилакридин0,1 Бис- (п-диметиламипобензаль) -апетон0 ,02
Краситель по примеру 10,03
Этиленгликольмоноэтиловы эфир 30,0 нанос т методом центрифугировани на биметаллическую пластину из латуни и хрома, после чего ее сушат. Затем в течение 1 мин экспонируют, про вл ют под позитивом. Освободившийс хром стравливают примерно в течение 2 мин с помощью раствора состава, %: CaCls 17,4; ZnCb 35,3; HCl 2,1 и вода 45,2, а
остаточный защитный слой (противотравильный резерв) удал ют с помощью раствора этиленгликольмоноэтилового эфира и ацетона. В заключение протирают 1%-ным раствором фосфорной кислоты и окращивают жирной (переводной) краской.
Вместо указанного выше св зующего вещества может примен тьс такое же количество сополимера, получаемого из 200 г метилметакрилата , 100 г децилметакрилата и 120 г метакриловой кислоты с кислотным числом 203, причем получают сходные результаты.
Слои с повыщенной склонностью к клейкости получают в случа х, ког-да вместо описанного выще сополимера примен ют такое же количество сополимера, получаемого из п-бутилметакрилата и метакриловой кислоты с кислотным числом 174. Полученный слой также обладает хорощей прочностью сцеплени с подложкой.
Если вместо св зующего вещества используют такое же количество сополимера, получаемого из метилметакрилата и метакриловой кислоты с кислотным числом 188,5, то получают светочувствительный слой с ухудщенной сцеил емостью с подложкой из хрома.
Пример 6. Раствор, приготовленный из, вес. ч.:
Терполимер по примеру 22,8
Мономер по примеру 12,8
1,2-Бензакридин0,12
Меркаптобензэтилазол 0,1
Триэтиленгликольдиацетат0,25
Краситель по примеру 10,04
в 20 об.ч. этиленгликольмоноэтилового эфира очин1ают путем фильтрации от иерастворивщихс частиц. Затем предназначенный дл кашироваии раствор нанос т методом центрифугировани на указанные ниже подложки. Полученные пластины сущат в течение 2 мин при 100°С в сущильиом щкафу. Погонный вес между 4 и 10 г/м. Затем слой, как описано в примере 1, экспонируют и про вл ют, после чего закрепл ют 1%-ной фосфорной кислотой и окрашивают черной жирной (переводной) краской.
В качестве подложки примен ютс следую1цие металлы:
алюминнй, поверхность которого механически обработана дл придани шероховатости проволочными щетками (а);
алюминий, поверхность которого обработана электролитическим путем дл придани ей шероховатости и анодирована (3 г окисла на 1 м) (б);
листовой хром (в);
листова сталь (г);
листова лужена сталь (д);
Дл всех иодложек получают очень хорошую прочность сцеплени между подложками и фотополимерным слоем. Части, не несущие изображени , также могут быть про влены, так что получают совершенно четкое изображение даже самых тонких световых точек 120-клинового растра.
Относительна светочувствительность пластии , экспонированных таким же образом, составл ет: дл основ а, в, г и ( 5 ступеией клина, дл улучщеиной основы 7-8 ступеней клина.
. Полученные таким путем печатные формы могут непосредственно использоватьс дл офсетной печати.
Таким образом вы сн етс , что нет необходимости покрывать светочувствительный слой кислородзащитным слоем. Но если все же использовать дл этого защитный слой из сахара , метилцеллюлозы и сапонина (соотношение компонентов соответственно 2:1:0,15), растворенных в 96,85 вес. ч. воды, то относительна светочувствительность повышаетс в среднем на две-три ступени клина.
Светочувствительный слой как с защитным слоем, так и без него имеет неклейкую прочную поверхность. Этот слой обладает очень высокой устойчивостью к действию про вител .
Формы плоской печати, используемые, например , в офсетной печати на машине Dualith, позвол ют получить более 100000 оттисков отличного качества. Как и в описанных выше примерах, продолжительное хранение не вли ет на качество светочувствительного сло .
Пример 7. Раствор, приготовленный из, нес. ч.:
Триметилолэтантриакрилат1,4
Сополимер по примеру 4 с
кислотным числом 1611,4
9-Фенилакридин0,05
Бис-(ге-диметилбензаль)-ацетон0,01
Краситель по примеру 10,015
Этиленгликольмоноэтиловый эфир 15 нанос т, как описано в примере 5, на алюминиевую подложку, поверхность которой обработана электролитическим путем дл придани ей шероховатости и анодирована (3 г окисла на 1 м), после чего сушат. В результате получают 7 полных п дополиптельно неполную ступень клина.
Вместо св зующего вещества могут использоватьс такие же количества примен емого в примере 4 сополимера с кислотным числом 203. В результате получают 6 полных и 1 неполную ступени клина.
П р и м с р 8. Раствор, приготовленный из, вес. ч.:
2,2,5,5-Тетраакрнлоксиметилциклоиентанои1 ,4
Сополимер по прпмеру 4 с кислотным числом 1611.4 9-Феиилакридин 0,05 Краситель по примеру 1 0,015 Этилеигликольмоиоэтиловый эфир 15,0 нанос т как описано в примере 5, на алюминиевую подложку, поверхность которой дл придани ей щероховатости обработана электролитическим путем и анодирована (3 г окисла на 1 м), после чего сушат. Затем в течение 1 мин с помощью указанного в примере
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2064080A DE2064080C3 (de) | 1970-12-28 | 1970-12-28 | Lichtempfindliches Gemisch |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU490301A3 true SU490301A3 (ru) | 1975-10-30 |
Family
ID=5792364
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU1728952A SU490301A3 (ru) | 1970-12-28 | 1971-12-24 | Фотополимеризующа с копировальна масса |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3804631A (ru) |
JP (2) | JPS5434327B1 (ru) |
AT (1) | AT321712B (ru) |
BE (1) | BE777420A (ru) |
BR (1) | BR7108580D0 (ru) |
CA (1) | CA960901A (ru) |
CH (1) | CH566575A5 (ru) |
DE (1) | DE2064080C3 (ru) |
FR (1) | FR2120054B1 (ru) |
GB (1) | GB1379229A (ru) |
IT (1) | IT945617B (ru) |
NL (1) | NL169522C (ru) |
SE (1) | SE373958B (ru) |
SU (1) | SU490301A3 (ru) |
Families Citing this family (171)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1410697A (en) * | 1973-10-26 | 1975-10-22 | Ucb Sa | Olefinically-usaturated organic polymers |
US3959100A (en) * | 1973-11-08 | 1976-05-25 | Scm Corporation | Photopolymerizable coating compositions containing activated halogenated azine photoinitiator and process for making same |
DE2361041C3 (de) * | 1973-12-07 | 1980-08-14 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photopolymerisierbares Gemisch |
DE2363806B2 (de) * | 1973-12-21 | 1979-05-17 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches Gemisch |
GB1507704A (en) * | 1974-04-23 | 1978-04-19 | Du Pont | Photopolymerisable compositions |
US4273857A (en) * | 1976-01-30 | 1981-06-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polymeric binders for aqueous processable photopolymer compositions |
SU941918A1 (ru) * | 1976-08-10 | 1982-07-07 | Предприятие П/Я Г-4444 | Сухой пленочный фоторезист |
DE2652304C2 (de) * | 1976-11-17 | 1987-04-23 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Negativ arbeitendes lichtempfindliches Gemisch und damit hergestellte lichtempfindliche Flachdruckplatte |
US4234676A (en) | 1978-01-23 | 1980-11-18 | W. R. Grace & Co. | Polythiol effect curable polymeric composition |
US4179531A (en) | 1977-08-23 | 1979-12-18 | W. R. Grace & Co. | Polythiol effect, curable monoalkenyl aromatic-diene and ene composition |
CA1127340A (en) * | 1977-12-30 | 1982-07-06 | Kohtaro Nagasawa | Photocurable light-sensitive composition and material |
US4247623A (en) * | 1979-06-18 | 1981-01-27 | Eastman Kodak Company | Blank beam leads for IC chip bonding |
US4342151A (en) * | 1979-06-18 | 1982-08-03 | Eastman Kodak Company | Blank and process for the formation of beam leads for IC chip bonding |
US4353978A (en) * | 1979-08-14 | 1982-10-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polymeric binders for aqueous processable photopolymer compositions |
DE3024772A1 (de) * | 1980-06-30 | 1982-01-28 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Elastische, laminierbare lichtempfindliche schicht |
US4517281A (en) * | 1980-10-06 | 1985-05-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Development process for aqueous developable photopolymerizable elements |
US4485167A (en) * | 1980-10-06 | 1984-11-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous developable photopolymerizable elements |
DE3114931A1 (de) * | 1981-04-13 | 1982-10-28 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial |
DE3120052A1 (de) * | 1981-05-20 | 1982-12-09 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes kopiermaterial |
US4361640A (en) * | 1981-10-02 | 1982-11-30 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous developable photopolymer compositions containing terpolymer binder |
US4615665A (en) * | 1983-05-06 | 1986-10-07 | Dentsply International Inc. | Method for making dental prosthetic device with oxygen barrier layer and visible light irradiation to cure polymer |
US4610951A (en) * | 1983-06-06 | 1986-09-09 | Dynachem Corporation | Process of using a flexible, fast processing photopolymerizable composition |
US4539286A (en) * | 1983-06-06 | 1985-09-03 | Dynachem Corporation | Flexible, fast processing, photopolymerizable composition |
US4629680A (en) * | 1984-01-30 | 1986-12-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photopolymerizable materials capable of being developed by a weak alkaline aqueous solution |
DE3560654D1 (en) * | 1984-02-18 | 1987-10-22 | Basf Ag | Photosensitive recording material |
JPS60211995A (ja) * | 1984-04-06 | 1985-10-24 | ダイセル化学工業株式会社 | 電極パタ−ン形成法 |
JPH0642073B2 (ja) * | 1984-04-10 | 1994-06-01 | 三菱レイヨン株式会社 | 光重合性樹脂組成物 |
DE3540480A1 (de) * | 1985-11-15 | 1987-05-21 | Hoechst Ag | Durch strahlung polymerisierbares gemisch, daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefaufzeichnungen |
DE3602215A1 (de) * | 1986-01-25 | 1987-07-30 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
US4762747A (en) * | 1986-07-29 | 1988-08-09 | Industrial Technology Research Institute | Single component aqueous acrylic adhesive compositions for flexible printed circuits and laminates made therefrom |
US5182187A (en) * | 1988-02-24 | 1993-01-26 | Hoechst Aktiengesellschaft | Radiation-polymerizable composition and recording material prepared from this composition |
DE3841025A1 (de) * | 1988-12-06 | 1990-06-07 | Hoechst Ag | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE3931467A1 (de) * | 1989-09-21 | 1991-04-04 | Hoechst Ag | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und verfahren zur herstellung einer loetstopmaske |
US5045431A (en) * | 1990-04-24 | 1991-09-03 | International Business Machines Corporation | Dry film, aqueous processable photoresist compositions |
US5071730A (en) * | 1990-04-24 | 1991-12-10 | International Business Machines Corporation | Liquid apply, aqueous processable photoresist compositions |
CA2076727A1 (en) * | 1991-08-30 | 1993-03-01 | Richard T. Mayes | Alkaline-etch resistant dry film photoresist |
JPH07311462A (ja) | 1994-05-16 | 1995-11-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物および画像形成方法 |
JPH08101498A (ja) | 1994-08-03 | 1996-04-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JP3442176B2 (ja) | 1995-02-10 | 2003-09-02 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
US5753414A (en) * | 1995-10-02 | 1998-05-19 | Macdermid Imaging Technology, Inc. | Photopolymer plate having a peelable substrate |
DE19548623A1 (de) | 1995-12-23 | 1997-06-26 | Hoechst Ag | 2-Acylamino-9-aryl-acridine, Verfahren zu ihrer Herstellung und diese enthaltende lichtempfindliche Gemische |
JP4130030B2 (ja) | 1999-03-09 | 2008-08-06 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物および1,3−ジヒドロ−1−オキソ−2h−インデン誘導体化合物 |
JP2004126050A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
DE60327141D1 (de) * | 2002-09-30 | 2009-05-28 | Fujifilm Corp | Polymerisierbare Zusammensetzung und Flachdruckplattenvorläufer |
JP4137577B2 (ja) * | 2002-09-30 | 2008-08-20 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
EP1431032B1 (en) * | 2002-12-18 | 2015-12-09 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition and lithographic printing plate precursor |
JP4150261B2 (ja) * | 2003-01-14 | 2008-09-17 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版の製版方法 |
DE602004007559T2 (de) | 2003-02-06 | 2008-04-17 | Fujifilm Corp. | Lichtempfindliche Flachdruckplatte |
JP2004252201A (ja) * | 2003-02-20 | 2004-09-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
JP4048134B2 (ja) * | 2003-02-21 | 2008-02-13 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP2004252285A (ja) * | 2003-02-21 | 2004-09-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版 |
JP4048133B2 (ja) * | 2003-02-21 | 2008-02-13 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版 |
JP4299639B2 (ja) | 2003-07-29 | 2009-07-22 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた画像記録材料 |
JP4291638B2 (ja) | 2003-07-29 | 2009-07-08 | 富士フイルム株式会社 | アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版 |
JP2005099284A (ja) * | 2003-09-24 | 2005-04-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物及び平版印刷版原版 |
JP4384464B2 (ja) | 2003-09-24 | 2009-12-16 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版 |
JP2005227554A (ja) | 2004-02-13 | 2005-08-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JP4452572B2 (ja) | 2004-07-06 | 2010-04-21 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法 |
KR101234712B1 (ko) | 2004-08-02 | 2013-02-19 | 후지필름 가부시키가이샤 | 착색 경화성 조성물, 컬러필터 및 그 제조방법 |
JP2006065074A (ja) | 2004-08-27 | 2006-03-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
EP1701213A3 (en) | 2005-03-08 | 2006-11-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition |
JP4406617B2 (ja) | 2005-03-18 | 2010-02-03 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物および平版印刷版原版 |
JP4538350B2 (ja) | 2005-03-18 | 2010-09-08 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物および画像記録材料並びに画像記録方法 |
US20060216646A1 (en) | 2005-03-22 | 2006-09-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Plate-making method of lithographic printing plate precursor |
DE602005017147D1 (de) | 2005-08-26 | 2009-11-26 | Agfa Graphics Nv | photopolymer Druckplattenvorläufer |
EP1790984B1 (en) | 2005-11-25 | 2013-08-28 | FUJIFILM Corporation | A method for producing a biosensor having a covalently bound thin polymeric coat |
JP5171005B2 (ja) | 2006-03-17 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 高分子化合物およびその製造方法、並びに顔料分散剤 |
JP4911455B2 (ja) | 2006-09-27 | 2012-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 光重合型感光性平版印刷版原版 |
JP4777226B2 (ja) | 2006-12-07 | 2011-09-21 | 富士フイルム株式会社 | 画像記録材料、及び新規化合物 |
EP1935910A3 (en) | 2006-12-19 | 2009-03-04 | FUJIFILM Corporation | Process for producing acrylonitrile-containing polymer latex |
EP1959276B1 (en) | 2007-02-14 | 2014-11-12 | FUJIFILM Corporation | Color Filter and Method of Manufacturing the same, and Solid-State Image Pickup Element |
JP4855299B2 (ja) | 2007-02-27 | 2012-01-18 | 富士フイルム株式会社 | 着色感光性組成物、カラーフィルター及びその製造方法 |
JP4860525B2 (ja) | 2007-03-27 | 2012-01-25 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物及び平版印刷版原版 |
EP1975702B1 (en) | 2007-03-29 | 2013-07-24 | FUJIFILM Corporation | Colored photocurable composition for solid state image pick-up device, color filter and method for production thereof, and solid state image pick-up device |
JP5030638B2 (ja) | 2007-03-29 | 2012-09-19 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ及びその製造方法 |
JP5075450B2 (ja) | 2007-03-30 | 2012-11-21 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP5535064B2 (ja) | 2007-05-11 | 2014-07-02 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | オキシムエステル光重合開始剤 |
KR101526618B1 (ko) | 2007-05-11 | 2015-06-05 | 바스프 에스이 | 옥심 에스테르 광개시제 |
JP5213375B2 (ja) | 2007-07-13 | 2013-06-19 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散液、硬化性組成物、それを用いるカラーフィルタ及び固体撮像素子 |
US8728686B2 (en) | 2007-07-17 | 2014-05-20 | Fujifilm Corporation | Photosensitive compositions, curable compositions, novel compounds, photopolymerizable compositions, color filters, and planographic printing plate precursors |
JP4777315B2 (ja) | 2007-08-29 | 2011-09-21 | 富士フイルム株式会社 | バイオセンサー用チップおよびその製造方法並びに表面プラズモン共鳴分析用センサー |
EP2048539A1 (en) | 2007-09-06 | 2009-04-15 | FUJIFILM Corporation | Processed pigment, pigment-dispersed composition, colored photosensitive composition, color filter, liquid crystal display element, and solid image pickup element |
JP5247093B2 (ja) | 2007-09-14 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | アゾ化合物、硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 |
JP2009091555A (ja) | 2007-09-18 | 2009-04-30 | Fujifilm Corp | 硬化性組成物、画像形成材料及び平版印刷版原版 |
US9442372B2 (en) | 2007-09-26 | 2016-09-13 | Fujifilm Corporation | Pigment dispersion composition, photocurable composition and color filter |
EP2042928B1 (en) | 2007-09-28 | 2010-07-28 | FUJIFILM Corporation | Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor |
ATE526366T1 (de) | 2007-10-31 | 2011-10-15 | Fujifilm Corp | Farbige härtbare zusammensetzung, farbfilter, herstellungsverfahren dafür und festzustand- bildaufnahmevorrichtung |
WO2009057523A1 (ja) | 2007-11-01 | 2009-05-07 | Fujifilm Corporation | 顔料分散組成物、着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 |
CN101855026A (zh) | 2007-11-14 | 2010-10-06 | 富士胶片株式会社 | 干燥涂布膜的方法和制造平版印刷版前体的方法 |
JP2009145189A (ja) | 2007-12-13 | 2009-07-02 | Fujifilm Corp | バイオセンサー |
JP5068640B2 (ja) | 2007-12-28 | 2012-11-07 | 富士フイルム株式会社 | 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
JP5052360B2 (ja) | 2008-01-31 | 2012-10-17 | 富士フイルム株式会社 | 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 |
JP5147499B2 (ja) | 2008-02-13 | 2013-02-20 | 富士フイルム株式会社 | 感光性着色組成物、並びにカラーフィルタ及びその製造方法 |
JP2009198664A (ja) | 2008-02-20 | 2009-09-03 | Fujifilm Corp | カラーフィルタ及びその製造方法並びに固体撮像素子 |
JP5448352B2 (ja) | 2008-03-10 | 2014-03-19 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子 |
JP5334624B2 (ja) | 2008-03-17 | 2013-11-06 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
CN101978004B (zh) | 2008-03-17 | 2013-11-06 | 富士胶片株式会社 | 颜料分散组合物、着色感光性组合物、光固化性组合物、滤色器、液晶显示元件及固体摄像元件 |
KR20090100262A (ko) | 2008-03-18 | 2009-09-23 | 후지필름 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물, 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자 |
JP5305704B2 (ja) | 2008-03-24 | 2013-10-02 | 富士フイルム株式会社 | 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版 |
JP5020871B2 (ja) | 2008-03-25 | 2012-09-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製造方法 |
JP5422134B2 (ja) | 2008-03-25 | 2014-02-19 | 富士フイルム株式会社 | 浸漬型平版印刷版用自動現像方法 |
JP5264427B2 (ja) | 2008-03-25 | 2013-08-14 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
JP5473239B2 (ja) | 2008-03-25 | 2014-04-16 | 富士フイルム株式会社 | 金属フタロシアニン染料混合物、硬化性組成物、カラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法 |
JP2009236355A (ja) | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Fujifilm Corp | 乾燥方法及び装置 |
JP5535444B2 (ja) | 2008-03-28 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | 固体撮像素子用緑色硬化性組成物、固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法 |
JP5173528B2 (ja) | 2008-03-28 | 2013-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、遮光性カラーフィルター及びその製造方法、並びに、固体撮像素子 |
JP5528677B2 (ja) | 2008-03-31 | 2014-06-25 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子および固体撮像素子用遮光性カラーフィルタの製造方法 |
JP5155920B2 (ja) | 2008-03-31 | 2013-03-06 | 富士フイルム株式会社 | 感光性透明樹脂組成物、カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルター |
JP5137662B2 (ja) | 2008-03-31 | 2013-02-06 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
KR101441998B1 (ko) | 2008-04-25 | 2014-09-18 | 후지필름 가부시키가이샤 | 중합성 조성물, 차광성 컬러필터, 흑색 경화성 조성물, 고체촬상소자용 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자 |
JP5222624B2 (ja) | 2008-05-12 | 2013-06-26 | 富士フイルム株式会社 | 黒色感光性樹脂組成物、及びカラーフィルタ並びにその製造方法 |
JP5228631B2 (ja) | 2008-05-29 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版現像用処理液及び平版印刷版の作製方法 |
JP5248203B2 (ja) | 2008-05-29 | 2013-07-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版現像用処理液及び平版印刷版の作製方法 |
JP5171506B2 (ja) | 2008-06-30 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版 |
JP2010044273A (ja) | 2008-08-14 | 2010-02-25 | Fujifilm Corp | カラーフィルタ及びその形成方法、並びに固体撮像素子 |
AU2009283446B2 (en) | 2008-08-22 | 2014-12-04 | Fujifilm Corporation | Process for producing lithographic printing plate |
JP5171483B2 (ja) | 2008-08-29 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
JP2010097175A (ja) | 2008-09-22 | 2010-04-30 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版 |
US8151705B2 (en) | 2008-09-24 | 2012-04-10 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
JP5079653B2 (ja) | 2008-09-29 | 2012-11-21 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
JP5393092B2 (ja) | 2008-09-30 | 2014-01-22 | 富士フイルム株式会社 | 染料含有ネガ型硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
JP5340102B2 (ja) | 2008-10-03 | 2013-11-13 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウェハレベルレンズ、及び撮像ユニット |
EP2204698B1 (en) | 2009-01-06 | 2018-08-08 | FUJIFILM Corporation | Plate surface treatment agent for lithographic printing plate and method for treating lithographic printing plate |
JP5669386B2 (ja) | 2009-01-15 | 2015-02-12 | 富士フイルム株式会社 | 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版 |
JP5371824B2 (ja) | 2009-02-19 | 2013-12-18 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物の製造方法、遮光性カラーフィルタ用感光性樹脂組成物の製造方法、遮光性カラーフィルタの製造方法 |
JP2010198735A (ja) | 2009-02-20 | 2010-09-09 | Fujifilm Corp | 光学部材及び該光学部材を備えた有機エレクトロルミネッセンス表示装置 |
JP2010197620A (ja) | 2009-02-24 | 2010-09-09 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版の自動現像装置及び処理方法 |
JP5315267B2 (ja) | 2009-03-26 | 2013-10-16 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、キノフタロン色素 |
JP5479163B2 (ja) | 2009-03-31 | 2014-04-23 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
JP5554106B2 (ja) | 2009-03-31 | 2014-07-23 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、固体撮像素子、および液晶表示装置 |
JP5451235B2 (ja) | 2009-07-31 | 2014-03-26 | 富士フイルム株式会社 | 複屈折パターンを有する物品の製造方法及び複屈折パターン作製材料 |
KR101639701B1 (ko) | 2009-08-27 | 2016-07-14 | 후지필름 가부시키가이샤 | 디클로로디케토피롤로피롤 안료, 이것을 함유하는 색재 분산물 및 그 제조방법 |
JP5657243B2 (ja) | 2009-09-14 | 2015-01-21 | ユー・ディー・シー アイルランド リミテッド | カラーフィルタ及び発光表示素子 |
JP5535814B2 (ja) | 2009-09-14 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | 光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、液晶表示装置、平版印刷版原版、並びに、新規化合物 |
JP5501175B2 (ja) | 2009-09-28 | 2014-05-21 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物及びその製造方法、遮光性カラーフィルタ用感光性樹脂組成物及びその製造方法、遮光性カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
JP2011068837A (ja) | 2009-09-28 | 2011-04-07 | Fujifilm Corp | フタロシアニン化合物を含有する緑色顔料分散体 |
JP5535842B2 (ja) | 2009-09-30 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | ウェハレベルレンズ用黒色硬化性組成物、及び、ウェハレベルレンズ |
JP5701576B2 (ja) | 2009-11-20 | 2015-04-15 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物及び感光性樹脂組成物、並びに固体撮像素子 |
JP2012003225A (ja) | 2010-01-27 | 2012-01-05 | Fujifilm Corp | ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法 |
KR20110098638A (ko) | 2010-02-26 | 2011-09-01 | 후지필름 가부시키가이샤 | 착색 경화성 조성물, 컬러필터와 그 제조방법, 고체촬상소자 및 액정표시장치 |
KR101882714B1 (ko) | 2010-06-01 | 2018-07-27 | 후지필름 가부시키가이샤 | 안료 분산 조성물, 적색 착색 조성물, 착색 경화성 조성물, 고체 촬상 소자용 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체 촬상 소자 |
JP5622564B2 (ja) | 2010-06-30 | 2014-11-12 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 |
JP6038033B2 (ja) | 2010-10-05 | 2016-12-07 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | ベンゾカルバゾール化合物のオキシムエステル誘導体ならびに前記誘導体の光重合性の組成物における光開始剤としての使用 |
JP5417364B2 (ja) | 2011-03-08 | 2014-02-12 | 富士フイルム株式会社 | 固体撮像素子用硬化性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法 |
JP5514781B2 (ja) | 2011-08-31 | 2014-06-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びこれを用いた平版印刷版の作成方法 |
JP5714544B2 (ja) | 2011-09-15 | 2015-05-07 | 富士フイルム株式会社 | 製版処理廃液のリサイクル方法 |
EP2762977B1 (en) | 2011-11-04 | 2017-09-27 | FUJIFILM Corporation | Method for recycling plate-making processing waste solution |
KR102006041B1 (ko) | 2011-12-07 | 2019-07-31 | 바스프 에스이 | 옥심 에스테르 광개시제 |
CN104159976B (zh) | 2012-02-23 | 2016-10-12 | 富士胶片株式会社 | 发色性组合物、发色性固化组合物、平版印刷版原版及制版方法、以及发色性化合物 |
WO2013167515A1 (en) | 2012-05-09 | 2013-11-14 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
JP5894943B2 (ja) | 2012-08-31 | 2016-03-30 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、マイクロレンズの製造方法、及び固体撮像素子 |
JP5909468B2 (ja) | 2012-08-31 | 2016-04-26 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子 |
JP5934682B2 (ja) | 2012-08-31 | 2016-06-15 | 富士フイルム株式会社 | マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、及び、硬化性組成物の製造方法 |
EP2899034B1 (en) | 2012-09-20 | 2019-07-03 | FUJIFILM Corporation | Original planographic printing plate, and plate making method |
CN104703809B (zh) | 2012-09-26 | 2017-03-08 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版及制版方法 |
WO2014087900A1 (ja) | 2012-12-03 | 2014-06-12 | 富士フイルム株式会社 | 固体撮像素子用保持基板及びその製造方法、固体撮像装置 |
EP2927718B1 (en) | 2012-12-03 | 2018-09-19 | FUJIFILM Corporation | Ir-cut filter and manufacturing method thereof, solid state image pickup device, and light blocking film formation method |
JP5899371B2 (ja) | 2013-02-27 | 2016-04-06 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線感光性発色組成物、赤外線硬化性発色組成物、平版印刷版原版及び製版方法 |
JP6097128B2 (ja) | 2013-04-12 | 2017-03-15 | 富士フイルム株式会社 | 遠赤外線遮光層形成用組成物 |
KR20160030233A (ko) | 2013-07-08 | 2016-03-16 | 바스프 에스이 | 옥심 에스테르 광개시제 |
EP3101475B1 (en) | 2014-01-31 | 2018-03-21 | FUJIFILM Corporation | Infrared-sensitive color developing composition, lithographic printing original plate, plate making method for lithographic printing plate, and infrared-sensitive color developer |
KR102134138B1 (ko) | 2016-03-14 | 2020-07-15 | 후지필름 가부시키가이샤 | 조성물, 막, 경화막, 광학 센서 및 막의 제조 방법 |
EP3767393A4 (en) | 2018-03-13 | 2021-05-05 | FUJIFILM Corporation | PROCESS FOR MANUFACTURING HARDENED FILM AND PROCESS FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR IMAGING ELEMENT |
WO2020049930A1 (ja) | 2018-09-07 | 2020-03-12 | 富士フイルム株式会社 | 車両用ヘッドライトユニット、ヘッドライト用の遮光膜、ヘッドライト用の遮光膜の製造方法 |
EP3950753A4 (en) | 2019-03-29 | 2022-05-25 | FUJIFILM Corporation | COMPOSITION OF PHOTOSENSITIVE RESIN, HARDENED FILM, INDUCTOR AND ANTENNA |
JP6587769B1 (ja) * | 2019-06-21 | 2019-10-09 | 富士フイルム株式会社 | 転写フィルム、静電容量型入力装置の電極保護膜、積層体および静電容量型入力装置 |
JP6687794B2 (ja) * | 2019-09-02 | 2020-04-28 | 富士フイルム株式会社 | 転写フィルム、静電容量型入力装置の電極保護膜、積層体および静電容量型入力装置 |
TW202112837A (zh) | 2019-09-26 | 2021-04-01 | 日商富士軟片股份有限公司 | 導熱層的製造方法、積層體的製造方法及半導體器件的製造方法 |
JP6888148B2 (ja) * | 2020-04-01 | 2021-06-16 | 富士フイルム株式会社 | 転写フィルム、静電容量型入力装置の電極保護膜、積層体および静電容量型入力装置 |
JPWO2022059706A1 (ru) | 2020-09-18 | 2022-03-24 | ||
WO2022065183A1 (ja) | 2020-09-24 | 2022-03-31 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、磁性粒子含有硬化物、磁性粒子導入基板、電子材料 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2893868A (en) * | 1955-08-22 | 1959-07-07 | Du Pont | Polymerizable compositions |
US3458311A (en) * | 1966-06-27 | 1969-07-29 | Du Pont | Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers |
US3493380A (en) * | 1966-07-01 | 1970-02-03 | Eastman Kodak Co | Photoresist composition |
US3547651A (en) * | 1968-04-02 | 1970-12-15 | Du Pont | Photopolymerizable compositions containing organometal compounds |
-
1970
- 1970-12-28 DE DE2064080A patent/DE2064080C3/de not_active Expired
-
1971
- 1971-12-17 NL NLAANVRAGE7117375,A patent/NL169522C/xx not_active IP Right Cessation
- 1971-12-23 CH CH1883771A patent/CH566575A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1971-12-23 GB GB6006971A patent/GB1379229A/en not_active Expired
- 1971-12-23 IT IT54960/71A patent/IT945617B/it active
- 1971-12-24 SU SU1728952A patent/SU490301A3/ru active
- 1971-12-24 CA CA131,106A patent/CA960901A/en not_active Expired
- 1971-12-27 BR BR8580/71A patent/BR7108580D0/pt unknown
- 1971-12-27 AT AT1114271A patent/AT321712B/de not_active IP Right Cessation
- 1971-12-27 US US00212668A patent/US3804631A/en not_active Expired - Lifetime
- 1971-12-27 SE SE7116622A patent/SE373958B/xx unknown
- 1971-12-28 FR FR717146945A patent/FR2120054B1/fr not_active Expired
- 1971-12-28 JP JP723921A patent/JPS5434327B1/ja active Pending
- 1971-12-28 BE BE777420A patent/BE777420A/xx not_active IP Right Cessation
- 1971-12-28 JP JP47003921A patent/JPS4845227A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA960901A (en) | 1975-01-14 |
BE777420A (fr) | 1972-06-28 |
DE2064080C3 (de) | 1983-11-03 |
DE2064080B2 (de) | 1979-01-04 |
US3804631A (en) | 1974-04-16 |
NL7117375A (ru) | 1972-06-30 |
NL169522C (nl) | 1982-07-16 |
JPS5434327B1 (ru) | 1979-10-26 |
CH566575A5 (ru) | 1975-09-15 |
FR2120054B1 (ru) | 1973-06-08 |
SE373958B (ru) | 1975-02-17 |
DE2064080A1 (de) | 1972-07-06 |
IT945617B (it) | 1973-05-10 |
JPS4845227A (ru) | 1973-06-28 |
FR2120054A1 (ru) | 1972-08-11 |
BR7108580D0 (pt) | 1973-05-17 |
GB1379229A (en) | 1975-01-02 |
AT321712B (de) | 1975-04-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SU490301A3 (ru) | Фотополимеризующа с копировальна масса | |
SU503553A3 (ru) | Фотополимеризующа с копировальна масса | |
CA1168792A (en) | Mixture which is polymerizable by radiation, and radiation-sensitive copying material prepared therewith | |
US3661576A (en) | Photopolymerizable compositions and articles | |
CA1133742A (en) | Photopolymerizable mixture containing a disulfide compound as antioxidant | |
EP0065285B1 (de) | Durch Strahlung polymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes Kopiermaterial | |
US4088498A (en) | Photopolymerizable copying composition | |
SU505383A3 (ru) | Фотополимеризующа с композици | |
CA1152245A (en) | Photopolymerizable unsaturated polyester mixture for copying material | |
US5200299A (en) | Quinoline and acridine compounds effective as photoinitiators and containing polymerizable (meth)acryloyl substituents | |
NO814376L (no) | Ved hjelp av straaling polymeriserbar blanding og herav fremstilt straalingsfoelsomt opptegningsmateriale | |
JPS595241A (ja) | 放射線重合可能な混合物 | |
JPS59101651A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
US3615538A (en) | Photosensitive printing plates | |
JPS5812577B2 (ja) | 光重合可能な複写材料 | |
JPH0352855B2 (ru) | ||
JPS6239417B2 (ru) | ||
JPS6239418B2 (ru) | ||
EP0123159B1 (en) | Positive-working photosensitive benzoin esters | |
JP2821463B2 (ja) | 光重合性混合物及びそれを含む光重合性複写材料 | |
JPS623411B2 (ru) | ||
JPS5843951A (ja) | イミジル化合物 | |
CA1075956A (en) | Alkyl mercaptan derivative used in association with a thermoplastic photopolymerizable copying layer to impart adhesion | |
JPS6239419B2 (ru) | ||
CA1058943A (en) | Light sensitive copying composition comprising a synergistic initiator system |