KR960030240A - 강유전체 램덤 액세스 메모리 - Google Patents
강유전체 램덤 액세스 메모리 Download PDFInfo
- Publication number
- KR960030240A KR960030240A KR1019960002194A KR19960002194A KR960030240A KR 960030240 A KR960030240 A KR 960030240A KR 1019960002194 A KR1019960002194 A KR 1019960002194A KR 19960002194 A KR19960002194 A KR 19960002194A KR 960030240 A KR960030240 A KR 960030240A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- memory
- voltage
- plate
- random access
- lines
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/22—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using ferroelectric elements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Dram (AREA)
Abstract
본 발명은 강유전체 캐패시터 및 스위칭 트랜지스터로 구성된 메모리 셀을 이용하여 불휘발성 랜덤 액세스 메모리를 제공한다. 메모리는 행 및 열로 배열된 메모리 셀들을 각기 구비하는 두 개의 메모리 블럭을 갖고, 이 메모리 블럭들은 각각 워드라인들, 비트라인들, 플레이트 라인, 감지 증폭기들 및 기준 전압 발생기들을 더 구비한다. 또한, 메모리는, 기입 또는 판독 동작 이전의 천이 기간동안 하나의 메모리 블럭의 플레이트 라인에는 공급전압을 인가하고 다른 메모리 블럭의 플레이트 라인에는 접지 전위를 제공한 다음 두 플레이트 라인을 접속시킴으로써 이 접속된 두 플레이트 라인이 공급전압과 접지전위 사이의 중간 전압을 유지토록 하는 플레이트 라인전압 제어회로를 포함한다. 양의 방향 및 음의 방향으로 반복되는 분극으로 인한 강유전체 물질의 피로를 방지하기 위해, 메모리는 선택적으로 휘발성 모드로 동작될 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에서 사용되는 메모리 셀의 회로도, 제2도는 제1도의 메모리 셀 내의 강유전체 캐패시터의 분극과 관련된 히스테리시스의 예시도, 제3도는 본 발명을 구현한 메모리의 회로도.
Claims (7)
- 행 및 열로 배열된 복수의 메모리 셀들을 각기 구비하는 제1 및 제2 메모리 블럭을 포함하는 강유전체 랜덤 액세스 메모리에 있어서, 상기 메모리 셀 각각은, 제1전극 플레이트와 제2전극 플레이트 및 두 전극 플레이트 사이에 끼워진 강유전체 물질로 구성된 강유전체 캐패시터 및, 상기 캐패시터의 제1전극 플레이트에 소스 또는 드레인이 접속되는 전계 효과 트랜지스터를 포함하고, 상기 메모리 블럭 각각은, 상기 메모리 셀의 행을 따라 각기 배열되어 이 행의 복수의 메모리 셀내의 상기 트랜지스터의 게이트와 접속되는 복수의 워드라인과, 상기 메모리 셀의 열을 따라 각기 배열되어 이 열의 복수의 메모리 셀 내의 상기 트랜지스터의 드레인 또는소스와 접속되는 복수의 비트라인 및, 메모리 블럭의 모든 메모리 셀 내의 상기 캐패시터의 제2전극 플레이트와 접속되는 플레이트 라인을 더 포함하고, 또한 상기 메모리 블럭 각각은, 상기 비트라인을 두 레벨의 이진데이타에 각기 대응하는 제1 및 제2전압 중 한 전압으로 예비 충전하는 예비 충전수단과, 액세스된 메모리셀에 의해 비트라인 상에 나타나는 신호전압과 기준전압 사이의 차이를 각기 감지하여 이 전압차를 상기 제1 및 제2전압 중 한 전압으로 각기 증폭시키는 복수의 감지 증폭기 및, 상기 전압차의 증폭 후 비트라인들을상기 제1 및 제2전압사이의 중간 전압으로 일시적으로 유지하는 평형수단을 더 포함하며, 대기 기간동안 각각의 메모리 블럭의 플레이트 라인을 상기 제1 및 제2전압 중 한 전압으로 유지하고, 두 개의 메모리 블럭 중한 블럭의 플레이트 라인 상의 전압을 상기 제1 및 제2전압 중 나머지 한 전압으로 변경시키며, 동작기간 이전의 천이기간 동안 두 개의 메모리 블럭의 플레이트 라인을 접속시켜서 이 접속된 플레이트 라인의 상기 소정전압을 유지토록 하며, 동작기간 이후의 대기 기간 동안은 플레이트 라인을 분리시키는 플레이트 라인전압 제어 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 강유전체 랜덤 액세스 메모리.
- 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2전압은 각각 접지전위 및 공급전압인 것을 특징으로 하는 강유전체 랜덤 액세스 메모리.
- 제1항에 있어서, 각각은 인접 위치된 제1 및 제2메모리 셀의 조합인 복수의 메모리 셀 쌍들이 제1 및제2메모리 블럭 각각 내에 행 및 열로 배열되고, 상기 메모리 셀 쌍의 각 행에는 제1메모리 셀에 접속된 제1워드라인 및, 제2메모리 셀에 접속된 제2워드라인이 제공되고, 상기 메모리 셀 쌍의 각 열에는 제1메모리 셀에접속된 제1비트라인 및, 제2메모리 셀에 접속된 제2비트라인이 제공되며, 각각의 메모리 블럭은, 메모리 셀쌍의 각 열에 대해, 제1 및 제2비트라인 중 한 비트라인에 접속된 메모리 셀이 액세스될 때 나머지 비트라인상에 기준 전압을 인가하는 기준 전압 발생수단을 더 포함하며, 각각의 메모리 블럭 내에서는 상기 감지 증폭기들 중 하나가 메모리 셀 쌍의 각 열에 배정되어, 제1 및 제2비트라인 사이의 전압차를 감지 및 증폭시키는것을 특징으로 하는 강유전체 랜덤 액세스 메모리.
- 제3항에 있어서, 제1 및 제2비트라인을 상기 중간 전압으로 일시적으로 유지하기 위해 제1 및 제2비트라인을 접속시키는 상기 평형 수단이 메모리 셀 쌍의 각 열에 제공되는 것을 특징으로 하는 강유전체 랜덤 액세스 메모리.
- 제1항에 있어서, 상기 플레이트 전압 제어수단은 중간 전압을 플레이트 라인에 충분히 공급함으로써 접속된 플레이트 라인 상에서 상기 중간 전압을 안정화시키는 전압 안정화 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 강유전체 랜덤 액세스 메모리.
- 제1항에 있어서, 상기 플레이트 라인 전압 제어수단은 그 소스-드레인 경로가 제1 및 제2메모리 블럭의 플레이트 라인들을 접속시키도록 되어있는 전계효과 트랜지스터를 포함하는 것을 특징으로 하는 강유전체 랜덤 액세스 메모리.
- 제1항에 있어서, 각 메모리 셀의 캐패시터 내의 강유전체 물질의 분극방향을 역전시키지 않으면서 메모리를 휘발성 모드로 동작시키는 보조 제어수단을 더 포함하되, 상기 보조 제어수단은 소정 시간동안 비트라인을 상기 중간 전압으로 예비충전하는 보조 예비충전 수단을 포함하고, 상기 플레이트 라인 전압 제어수단은, 휘발성 모드로 동작하는 동안, 분리되어 있는 제1 및 제2메모리 블럭의 플레이트 라인들을 각각 상기 제1 및 제2전압으로 유지하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 강유전체 랜덤 액세스 메모리.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7011357A JPH08203266A (ja) | 1995-01-27 | 1995-01-27 | 強誘電体メモリ装置 |
JP95-011357 | 1995-01-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR960030240A true KR960030240A (ko) | 1996-08-17 |
KR100201737B1 KR100201737B1 (ko) | 1999-06-15 |
Family
ID=11775787
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019960002194A KR100201737B1 (ko) | 1995-01-27 | 1996-01-26 | 강유전체 램덤 액세스 메모리 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5600587A (ko) |
EP (1) | EP0724265B1 (ko) |
JP (1) | JPH08203266A (ko) |
KR (1) | KR100201737B1 (ko) |
DE (1) | DE69612676T2 (ko) |
TW (1) | TW280908B (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100306823B1 (ko) * | 1997-06-02 | 2001-11-30 | 윤종용 | 강유전체메모리셀들을구비한불휘발성메모리장치 |
Families Citing this family (54)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR960038973A (ko) * | 1995-04-25 | 1996-11-21 | 이데이 노부유키 | 강유전체기억장치 |
KR0184507B1 (ko) * | 1996-05-16 | 1999-04-15 | 김광호 | 임프린트 보상회로를 가지는 강유전체 커패시터 반도체 메모리 장치 |
KR100601928B1 (ko) * | 1996-06-10 | 2006-10-04 | 삼성전자주식회사 | 강유전체랜덤액세서메모리의비휘발성유지장치및방법 |
KR100224673B1 (ko) * | 1996-12-13 | 1999-10-15 | 윤종용 | 불휘발성 강유전체 메모리장치 및 그의 구동방법 |
US6097624A (en) | 1997-09-17 | 2000-08-01 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Methods of operating ferroelectric memory devices having reconfigurable bit lines |
USRE38565E1 (en) * | 1997-03-03 | 2004-08-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Thin film ferroelectric capacitors having improved memory retention through the use of essentially smooth bottom electrode structures |
US5784310A (en) * | 1997-03-03 | 1998-07-21 | Symetrix Corporation | Low imprint ferroelectric material for long retention memory and method of making the same |
US6265738B1 (en) | 1997-03-03 | 2001-07-24 | Matsushita Electronics Corporation | Thin film ferroelectric capacitors having improved memory retention through the use of essentially smooth bottom electrode structures |
WO1999000798A1 (fr) | 1997-06-27 | 1999-01-07 | Matsushita Electronics Corporation | Dispositif a memoire ferroelectrique et son procede de commande |
KR100297874B1 (ko) | 1997-09-08 | 2001-10-24 | 윤종용 | 강유전체랜덤액세스메모리장치 |
KR100247934B1 (ko) | 1997-10-07 | 2000-03-15 | 윤종용 | 강유전체 램 장치 및 그 제조방법 |
KR100457346B1 (ko) * | 1997-11-27 | 2005-04-06 | 삼성전자주식회사 | 강유전체 랜덤 액세스 메모리 장치 |
JP3196829B2 (ja) * | 1997-12-26 | 2001-08-06 | 日本電気株式会社 | 強誘電体メモリ装置 |
KR100275107B1 (ko) * | 1997-12-30 | 2000-12-15 | 김영환 | 강유전체메모리장치및그구동방법 |
JPH11273362A (ja) * | 1998-03-18 | 1999-10-08 | Sharp Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
US6541375B1 (en) | 1998-06-30 | 2003-04-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | DC sputtering process for making smooth electrodes and thin film ferroelectric capacitors having improved memory retention |
KR100363102B1 (ko) | 1998-07-15 | 2003-02-19 | 주식회사 하이닉스반도체 | 강유전체 메모리 |
JP3780713B2 (ja) | 1998-08-25 | 2006-05-31 | 富士通株式会社 | 強誘電体メモリ、強誘電体メモリの製造方法及び強誘電体メモリの試験方法 |
KR100303782B1 (ko) * | 1998-10-28 | 2001-09-24 | 박종섭 | 두개의 공급전위를 사용하여 메모리소자의 셀 플레이트 라인을구동하기 위한 장치 |
JP2000187990A (ja) | 1998-12-24 | 2000-07-04 | Nec Corp | センスアンプ回路及びそれを用いた記憶装置並びにそれに用いる読出し方法 |
KR100301930B1 (ko) * | 1999-06-10 | 2001-11-01 | 윤종용 | 세그먼트 플레이트 라인 스킴을 갖는 불휘발성 강유전체 랜덤액세스 메모리 장치 및 플레이트 라인 세그먼트 구동 방법 |
KR100296917B1 (ko) | 1999-06-28 | 2001-07-12 | 박종섭 | 강유전체 메모리 소자의 기준 전압 발생 장치 |
KR100318435B1 (ko) * | 1999-06-28 | 2001-12-24 | 박종섭 | 강유전체 메모리 소자의 기준 전압 발생 장치 |
KR100324594B1 (ko) | 1999-06-28 | 2002-02-16 | 박종섭 | 강유전체 메모리 장치 |
JP4350222B2 (ja) * | 1999-08-26 | 2009-10-21 | Okiセミコンダクタ株式会社 | 強誘電体メモリ装置の動作方法 |
US6141238A (en) * | 1999-08-30 | 2000-10-31 | Micron Technology, Inc. | Dynamic random access memory (DRAM) cells with repressed ferroelectric memory methods of reading same, and apparatuses including same |
DE10008243B4 (de) * | 2000-02-23 | 2005-09-22 | Infineon Technologies Ag | Integrierter Speicher mit Plattenleitungssegmenten |
US6953730B2 (en) * | 2001-12-20 | 2005-10-11 | Micron Technology, Inc. | Low-temperature grown high quality ultra-thin CoTiO3 gate dielectrics |
US6970370B2 (en) * | 2002-06-21 | 2005-11-29 | Micron Technology, Inc. | Ferroelectric write once read only memory for archival storage |
US6888739B2 (en) * | 2002-06-21 | 2005-05-03 | Micron Technology Inc. | Nanocrystal write once read only memory for archival storage |
US7193893B2 (en) * | 2002-06-21 | 2007-03-20 | Micron Technology, Inc. | Write once read only memory employing floating gates |
US6804136B2 (en) * | 2002-06-21 | 2004-10-12 | Micron Technology, Inc. | Write once read only memory employing charge trapping in insulators |
US6996009B2 (en) | 2002-06-21 | 2006-02-07 | Micron Technology, Inc. | NOR flash memory cell with high storage density |
US7154140B2 (en) * | 2002-06-21 | 2006-12-26 | Micron Technology, Inc. | Write once read only memory with large work function floating gates |
US7221017B2 (en) * | 2002-07-08 | 2007-05-22 | Micron Technology, Inc. | Memory utilizing oxide-conductor nanolaminates |
US7221586B2 (en) | 2002-07-08 | 2007-05-22 | Micron Technology, Inc. | Memory utilizing oxide nanolaminates |
US20050055495A1 (en) * | 2003-09-05 | 2005-03-10 | Nokia Corporation | Memory wear leveling |
KR100597629B1 (ko) * | 2003-12-22 | 2006-07-07 | 삼성전자주식회사 | 강유전체 메모리 장치 및 그에 따른 구동방법 |
NO322040B1 (no) * | 2004-04-15 | 2006-08-07 | Thin Film Electronics Asa | Bimodal drift av ferroelektriske og elektrete minneceller og innretninger |
JP2006344289A (ja) * | 2005-06-08 | 2006-12-21 | Toshiba Corp | 強誘電体記憶装置 |
US9245591B2 (en) * | 2005-06-16 | 2016-01-26 | Lexmark International, Inc. | Addressing, command protocol, and electrical interface for non-volatile memories utilized in recording usage counts |
US7927948B2 (en) | 2005-07-20 | 2011-04-19 | Micron Technology, Inc. | Devices with nanocrystals and methods of formation |
US7709402B2 (en) | 2006-02-16 | 2010-05-04 | Micron Technology, Inc. | Conductive layers for hafnium silicon oxynitride films |
CN100390901C (zh) * | 2006-04-21 | 2008-05-28 | 北京大学深圳研究生院 | 铁电动态随机存储器单管单元阵列的编程方法 |
JP5162276B2 (ja) | 2008-02-28 | 2013-03-13 | ローム株式会社 | 強誘電体メモリ装置 |
JP5189887B2 (ja) | 2008-04-28 | 2013-04-24 | ローム株式会社 | 強誘電体メモリ装置およびその動作方法 |
JP5060403B2 (ja) * | 2008-06-19 | 2012-10-31 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
JP5333311B2 (ja) * | 2010-03-26 | 2013-11-06 | ソニー株式会社 | 不揮発性記憶装置 |
US9368182B2 (en) | 2013-12-09 | 2016-06-14 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. | Memory cell |
DE102014205130A1 (de) * | 2014-03-19 | 2015-09-24 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Speicherzelle |
US10153020B1 (en) * | 2017-06-09 | 2018-12-11 | Micron Technology, Inc. | Dual mode ferroelectric memory cell operation |
US11450675B2 (en) * | 2018-09-14 | 2022-09-20 | Intel Corporation | One transistor and one ferroelectric capacitor memory cells in diagonal arrangements |
US11853213B2 (en) | 2021-04-28 | 2023-12-26 | Seagate Technology Llc | Intelligent management of ferroelectric memory in a data storage device |
US11899590B2 (en) | 2021-06-18 | 2024-02-13 | Seagate Technology Llc | Intelligent cache with read destructive memory cells |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5661085A (en) * | 1979-10-23 | 1981-05-26 | Toshiba Corp | Semiconductor memory device |
US4873664A (en) * | 1987-02-12 | 1989-10-10 | Ramtron Corporation | Self restoring ferroelectric memory |
DE3887924T3 (de) * | 1987-06-02 | 1999-08-12 | Nat Semiconductor Corp | Nichtflüchtige Speicheranordnung mit einem kapazitiven ferroelektrischen Speicherelement. |
JPH088339B2 (ja) * | 1988-10-19 | 1996-01-29 | 株式会社東芝 | 半導体メモリ |
US5297077A (en) * | 1990-03-30 | 1994-03-22 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Memory having ferroelectric capacitors polarized in nonvolatile mode |
US5086412A (en) * | 1990-11-21 | 1992-02-04 | National Semiconductor Corporation | Sense amplifier and method for ferroelectric memory |
JPH05182458A (ja) * | 1991-12-26 | 1993-07-23 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
KR970000870B1 (ko) * | 1992-12-02 | 1997-01-20 | 마쯔시다덴기산교 가부시기가이샤 | 반도체메모리장치 |
JPH07114792A (ja) * | 1993-10-19 | 1995-05-02 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
-
1995
- 1995-01-27 JP JP7011357A patent/JPH08203266A/ja active Pending
-
1996
- 1996-01-25 TW TW085100888A patent/TW280908B/zh active
- 1996-01-26 DE DE69612676T patent/DE69612676T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-01-26 KR KR1019960002194A patent/KR100201737B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-01-26 EP EP96101120A patent/EP0724265B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-01-29 US US08/593,686 patent/US5600587A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100306823B1 (ko) * | 1997-06-02 | 2001-11-30 | 윤종용 | 강유전체메모리셀들을구비한불휘발성메모리장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5600587A (en) | 1997-02-04 |
EP0724265A2 (en) | 1996-07-31 |
DE69612676T2 (de) | 2002-02-07 |
EP0724265B1 (en) | 2001-05-09 |
JPH08203266A (ja) | 1996-08-09 |
DE69612676D1 (de) | 2001-06-13 |
EP0724265A3 (en) | 1999-01-07 |
TW280908B (ko) | 1996-07-11 |
KR100201737B1 (ko) | 1999-06-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR960030240A (ko) | 강유전체 램덤 액세스 메모리 | |
KR970067772A (ko) | 반도체 기억장치 | |
KR960008831A (ko) | 누설 방지 기능을 갖고 있는 비휘발성 강유전체 메모리 디바이스 | |
KR960025730A (ko) | 강유전체 메모리 장치 | |
KR20000048350A (ko) | 센스 증폭기 회로, 이 회로를 사용한 메모리 장치, 및 이메모리 장치를 판독하는 방법 | |
KR100332535B1 (ko) | 반도체 메모리장치 | |
KR950006869A (ko) | 반도체 기억장치 | |
KR970003204A (ko) | 강유전체 기억장치 | |
KR970051144A (ko) | 반도체 기억 장치 | |
US5418749A (en) | Semiconductor memory device | |
KR930005017A (ko) | 반도체 dram 장치 | |
KR970008622A (ko) | 반도체 집직접회로장치 | |
US6297985B1 (en) | Cell block structure of nonvolatile ferroelectric memory | |
KR100256226B1 (ko) | 레퍼런스 전압 발생 장치 | |
KR900019040A (ko) | 다이나믹형 랜덤억세스메모리 | |
KR100315933B1 (ko) | 비휘발성 반도체기억장치 | |
KR920022301A (ko) | 반도체 기억장치 | |
US6438042B1 (en) | Arrangement of bitline boosting capacitor in semiconductor memory device | |
KR960042732A (ko) | 반도체 메모리 셀 | |
KR970003210A (ko) | 반도체 기억 장치 및 그 사용 방법 | |
US20060291270A1 (en) | Ferroelectric memory device and display-driving IC | |
US6310797B1 (en) | Drive method for FeRAM memory cell and drive device for the memory cell | |
KR950012472A (ko) | 비휘발성 반도체 메모리 장치 | |
KR920010615A (ko) | 전류 미러형 감지증폭기를 가진 메모리 디바이스 | |
US6195281B1 (en) | Apparatus for generating reference voltage in ferroelectric memory device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20100310 Year of fee payment: 12 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |