KR960007824B1 - 광개시제로서 유용한 α-아미노아세토페논 - Google Patents

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데오 볼싱게르
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Abstract

내용 없음.

Description

광개시제로서 유용한 α-아미노아세토페논
본 발명은 α-위치에 알릴기 또는 아르알킬기를 갖고 있는 신규 α-아미노아세토페논 유도체와 이들 유도체의 에틸렌성 불포화 화합물의 광중합 반응용 광개시제로서의 용도, 특히 인쇄 잉크 또는 백색 래커와 같은 광경화성 안료계에서의 광개시제로서의 용도에 관한 것이다.
α-아미노아세토페논의 유도체들은 EP-A-3,002호에 에틸렌성 불포화 화합물용 광개시제로서 공지되어 있다. 이들 화합물이 페닐라디칼의 4-위치에 유황 또는 산소함유 치환기를 갖고 있는 경우에, 이들 화합물은 광경화성 안료계용(EP-A-88,050호 및 동 117,233호), 예를들어 UV-경화성 인쇄잉크용 광개시제로서 특히 적합하다.
페닐라디칼의 4-위치에 아미노기를 갖는 α-아미노아세토페논 유도체가 EP-A-138,754호에 기재되어 있다. 이들 화합물은 방향족 카르보닐 화합물군의 감광제와 결합해서 사용된다.
본 발명에 의해 이들 α-아미노아세토페논 화합물군중에서 α-위치에 1개 이상의 알케닐기 또는 아르알킬기를 함유하는 화합물들이 특히 광개시제로서 활성이 크다는 것이 밝혀졌다. 이들 화합물은 특히 인쇄잉크 용도로 적합하다.
본 발명 화합물을 보다 상세히 표시하면 다음 일반식(Ⅰ),(Ⅱ),(Ⅲ) 또는 (Ⅲa)의 화합물 또는 이들 화합물, 특히 Ar1일반식(Ⅳ), (Ⅴ) 또는 (Ⅶ)인 기이고 또 R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, V, U 및 W가 앞의 정의와 동일한 일반식(Ⅰ) 화합물의 산부가염들이다.
Figure kpo00001
Figure kpo00002
Figure kpo00003
Figure kpo00004
상기 식에서, Ar1은 다음 일반식(Ⅳ),(Ⅴ),(Ⅵ) 또는 (Ⅷ)의 방향족 라디칼
Figure kpo00005
Figure kpo00006
Figure kpo00007
Figure kpo00008
이고 ;
X는 일반식
Figure kpo00009
, -N(R11)- 또는 -N(R11)-R12-N(R11)-의 2가 라디칼 ; Y는 C1-C6알킬렌, 크실릴렌, 시클로헥실렌 또는 직접 결합손 ; Y'는 크실릴렌, C4-C8알켄디일, C6-C10알카디엔디일, 디펜텐디일 또는 디히드로크실릴렌으로 ; 여기서 U는 -O-, -S- 또는 -N(R17)-, V는 -O-, -S-, -N(R17)-, -CO-, -CH2-, -CH2CH2-, C2-C6알킬리덴 또는 직접 결합손, W는 미분지 또는 분지된 C1-C7알킬렌 또는 C2-C6알킬리덴이며 ; R1은 (a) 일반식
Figure kpo00010
의 기(여기서, P는 0 또는 1) 또는 (b) 일반식
Figure kpo00011
의 기(여기서 q는 0,1,2 또는 3) 또는 (c) 일반식
Figure kpo00012
의 기(여기서, Ar2은 할로겐, OH, C1-C12알킬, [OH, 할로겐, -N(R11)2, -C1-C12알콕시, -COO(C1-C18알킬), -CO(OCH2CH2)nOCH3또는 -OCO(C1-C4) 알킬로서 치환된 C1-C4알킬], C1-C12알콕시, [-COO(C1-C18알킬) 또는 -CO(OCH2CH2)nOCH3로서 치환된 C1-C4알콕시], -(OCH2CH2)nOH-(OCH2CH2)nOCH3, C1-C8알킬티오, 페녹시, -COO(C1-C18알킬), -CO(OCH2CH2)nOCH3, 페닐 또는 벤조일로서 치환되거나 또는 비치환된 페닐, 나프틸, 푸릴, 티에닐 또는 피리딜기이고, n은 1 내지 20이다), 또는 (d) R2와 함께 일반식
Figure kpo00013
(여기서 m은 1 또는 2)를 형성하며; R2는 R1에서 주어진 의미중 1개이거나 또는 C5-C6시클로알킬 ; C1-C4알콕시, 페녹시, 할로겐 또는 페닐로서 치환되거나 또는 비치환된 C1-C12알킬 ; 또는 할로겐, C1-C12알킬 또는 C1-C4알콕시로서 치환되거나 또는 비치환된 페닐이고 ; R3은 수소 ; C1-C12알킬 ; 히드록시, C1-C4알콕시, -CN 또는 -COO(C1-C4알킬)로서 치환된 C2-C4알킬 ; C3-C5알케닐 ; C5-C12시클로알킬 또는 C7-C9페닐알킬이며 ; R4는 C1-C12알킬 ; 히드록시, C1-C4알콕시, -CN 또는 -COO(C1-C4알킬)로서 치환된 C2-C4알킬 ; C3-C5알케닐 ; C5-C12시클로알킬 ; C7-C9페닐알킬 ; 페닐 또는 할로겐, C1-C12알킬, C1-C4알콕시 또는 -COO(C1-C4알킬)로서 치환된 페닐이거나 또는 R4는 R2와 함께 C1-C7알킬렌, C7-C10페닐알킬렌, o-크실릴렌, 2-부테닐렌 또는 C2-C3옥사- 또는 -아자알킬렌이거나 또는 R3와 R4가 함께 중간에 -O-, -S-, -CO- 또는 -N(R17)-을 갖거나 또는 히드록시 C1-C4알콕시 또는 -COO(C1-C4알킬)로서 치환될 수 있는 C3-C7알킬렌이고 ; R5, R6, R7, R8및 R9는 상호 독립적으로 수소, 할로겐, C1-C12알킬, C5-C6시클로알킬, 페닐, 벤질, 벤조일 또는 -OR18, -SR19, -SO-R19, -SO2-R19, -N(R20)(R21), -NH-SO2-R22또는
Figure kpo00014
의 기로서, 여기서 Z는 -O-, -S-, -N(R11)-, -N(R11)-R12-N(R11)-또는
Figure kpo00015
이고 ; 이때, R1이 알릴 또는 R2가 메틸인 경우 R5가 -OCH3가 아니며, 또 R1이 벤질 또는 R2가 메틸 또는 벤질인 경우 R5가 -OCH3, -SCH3또는 -SO-CH3가 아니고 ; R10이 수소, C1-C12알킬, 할로겐 또는 C2-C8알칸오일 ; R11이 수소, C1-C8알킬, C3-C5알켄일, C7-C9페닐알킬, C1-C4히드록시 알킬 또는 페닐; R12가 1개 또는 그 이상의 -O-, -S- 또는 -N(R11)-을 중간에 가질 수 있는 미분지되거나 또는 분지된 C2-C16알칼렌 ; R13이 수소, C1-C8알킬 또는 페닐 ; R14, R15및 R16은 상호 독립적으로 수소 또는 C1-C4 알킬이거나 또는 R14및 R15가 함께 C3-C7알킬렌이고 ; R17은 수소 ; 1개 또는 그 이상의 -O-을 중간에 가질 수 있는 C1-C12알킬 ; C3-C5알케닐 ; C7-C9페닐알킬, C1-C4히드록시알킬, -CH2CH2CN, -CH2CH2COO(C1-C4알킬), C2-C8알칸오일 또는 벤조일 ; R18은 수소 ; C1-C12알킬 ; -CN, -OH, C1-C4알콕시, C7-C9알켄옥시, -OCH2CH2CN, -OCH2CH2COO(C1-C4알킬), -COOH 또는 -COO(C1-C4알킬)로서 치환된 C1-C6알킬 ; n이 2 내지 20인 -(CH2CH2O)nH ; C2-C8알칸오일 ; C3-C12알켄일 ; 시클로헥실 ; 히드록시시클로헥실 ; 페닐 ; 할로겐, C1-C12알킬 또는 C1-C4알콕시로서 치환된 페닐 ; C7-C9페닐알킬 ; 또는 r가 1,2 또는 3인 -Si(C1-C8알킬)r (페닐)3-r이며 ; R19는 수소, C1-C12알킬 ; C3-C12알켄일 ; 시클로헥실 ; -SH, -OH, -CN, -COO(C1-C4알킬), C1-C4알콕시, -OCH2CH2CN 또는 -OCH2CH2COO(C1-C4알킬)로서 치환된 C1-C6알킬 ; 페닐 ; 할로겐, C1-C12알킬 또는 C1-C4알콕시로서 치환된 페닐 ; 또는 C7-C9페닐알킬이고 R20및 R21은 상호독립적으로 수소 ; C1-C12알킬 ; C2-C4히드록시알킬 C2-C10알콕시알킬 ; C3-C5알켄일 ; C5-C12시클로알킬 ; C7-C9페닐알킬 ; 페닐 ; 또는 할로겐, C1-C12알킬 또는 C1-C4알콕시로서 치환된 페닐 ; C2-C3알칸오일 ; 또는 벤조일이거나 ; 또는 R20및 R21이 함께 중간에 -O-, -S- 또는 -N(R17)을 갖거나 또는 히드록시, C1-C4알콕시 또는 -COO(C1-C4알킬)로서 치환될 수 있는 C2-C8알킬렌이며 ; 또 R22는 C1-C18알킬; 할로겐, C1-C12알킬 또는 C1-C8알콕시로서 치환되거나 또는 미치환된 페닐 또는 나프틸이다.
R14, R15및 R16에서 C1-C4알킬의 예로는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, 2급 부틸 또는 3급 부틸을 들 수가 있다.
R2, R11및 R13에서 C1-C8알킬의 예로는 이밖에 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 2-에틸헥실 또는 2,2,4,4-테트라메틸부틸을 또한 들 수가 있다. R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, R17, R18, R19, R20및 R21에서 C1-C12알킬의 예로는 이밖에 노닐, 데실, 이소데실, 운데실 또는 도데실을 또한 들 수가 있다.
R3, R4, R11, R17, R20및 R21에서 C3-C5알켄일의 예로는 알릴, 메탈릴, 크로틸 또는 디메틸알릴을 들 수가 있으며 알릴이 바람직하다. R18및 R19에서 C3-C12알켄일의 예로는 헥센일, 옥텐일 또는 데센일을 또한 들 수가 있다.
R2, R5, R6, R7, R8및 R9에서 C5-C6시클로알킬은 특히 시클로 헥실이다. R3, R4, R20및 R21에서 C5-C12시클로알킬의 예로는 이밖에 시클로옥틸 또는 시클로도데실을 또한 들 수가 있다.
R3, R4, R17, R18, R19, R20및 R21에서 C7-C9페닐알킬은 특히 벤질이다. Y에서 C1-C6알킬렌의 예로는 메틸렌 또는 디-, 트리-, 테트라-, 펜타- 또는 헥사메틸렌을 들 수가 있다. W에서 C1-C7알킬렌의 예로는 메틸렌, 에틸렌, 1,2-프로필렌 또는 1,2-헥실렌을 들 수가 있다.
V 및 W에서 C2-C6알킬리덴의 예로는 에틸리덴, 프로필리덴, 부틸리덴, 이소부틸리덴 또는 헥실리덴을 들 수가 있다.
Ar2의 예로는 페닐, 1-나프릴, 2-나프릴, 2-푸릴, 2-티에닐, 3-피리딜, 4-클로로페닐, 톨릴, 4-이소프로필페닐, 4-옥틸페닐, 3-메톡시페닐, 4-페녹시페닐, 4-페닐페닐, 4-벤조일페닐, 4-클로로-1-나프틸 및 4-메틸-2-피리딜기를 들 수가 있다.
치환된 알킬 R2의 예로는 2-메톡시에틸, 3-부톡시프로필, 2-이소프로폭시에틸, 4-페녹시부틸, 2-클로로에틸, 3-클로로프로필, 2-페닐에틸 또는 3-페닐프로필기를 들 수가 있다. 치환된 페닐 R2의 예로는 4-클로로페닐, 3-메톡시페닐, 4-톨릴 또는 4-부틸페닐기를 들 수가 있다.
치환된 알킬 R3및 R4의 예로는 2-히드록시에틸, 2-히드록시프로필, 2-히드록시이소부틸, 2-에톡시에틸, 2-메톡시프로필, 2-부톡시에틸, 2-시아노에틸, 2-에톡시카르보닐에틸 또는 2-메톡시카르보닐에틸을 들 수가 있다.
치환된 페닐 R4의 예로는 3-클로로페닐, 4-클로로페닐, 4-톨릴, 4-3급-부틸페닐, 4-도데실페닐, 3-메톡시페닐 또는 3-메톡시카르보닐페닐을 들 수 있다.
R4가 R2와 함께 알킬렌 또는 페닐알킬렌인 경우, 이들 기는 바람직하게는 이들이 결합되는 N원자와 함께 5- 또는 6-원 헤테로사이클고리, 예를들어 1개 또는 그 이상의 알킬, 히드록시, 알콕시 또는 에스테르기로서 치환될 수 있는 피롤리딘, 피페리딘, 모르폴린, 티오모르폴린, 피페리돈 또는 피페라진 고리를 형성한다.
R10, R17및 R18에서 C2-C8알칸오일의 예로는 프로피온일, 부티릴, 이소부티릴, 헥산오일 또는 옥탄오일을 들 수 있으며, 특히 아세틸을 들 수가 있다.
R11, R17, R20및 R21에서 C1-C4히드록시알킬 또는 C2-C4히드록시아킬의 예로는 히드록시메틸, 2-히드록시에틸, 2-히드록시 프로필 또는 4-히드록시부틸을 들 수가 있다.
알킬렌 또는 중간에 헤테르원자를 포함하는(Interrupted) 알킬렌 R12의 예로는 에틸렌, 트리-, 테트라-, 펜타-, 헥사-, 옥타- 또는 도데카 메틸렌, 2,2-디메틸트리메틸렌, 1,3,3-트리메틸테트라메틸렌, 3-옥사-펜타메틸렌, 3-옥사-헵타메틸렌, 4,7-디옥사-데카메틸렌, 4,9-디옥사 도데카메틸렌, 3,6,9,12-테트라옥사 테트라데카메틸렌, 4-아자-헵타메틸렌, 4,7-디(메틸아자)데카메틸렌 또는 4-티아-헵타메틸렌을 들 수가 있다.
R14및 R15가 함께 C3-C7알킬렌인 경우, 특히, 1,3- 또는 1,4-알킬렌을 의미하며, 1,3-프로필렌, 1,3-부틸렌, 2,4-펜틸렌, 1,3-헥실렌, 1,4-부틸렌, 1,4-펜틸렌 또는 2,4-헥실렌을 예로 들 수가 있다.
치환된 페닐 R18, R19, R20및 R2l의 예로는 4-클로로페닐, 3-클로로페닐, 4-톨릴, 4-3급-부틸페닐, 4-노닐페닐, 4-도데실페닐, 3-메톡시페닐 또는 4-에톡시페닐을 들 수가 있다.
-Si(C1-C8알킬)r (페닐)3-r기 R18의 예로는 특히 -Si(CH3)3, -Si(페닐)2CH3, -Si(CH3)2페닐, -Si(CH3)2, (C(CH3)2CH(CH3)2] 또는 -Si(페닐)3을 들 수가 있다
치환된 C1-C6알킬 R18의 예로는 2-히드록시에틸, 2-메톡시에틸 또는 2-알릴옥시에틸을 들 수 있다.
치환된 C1-C7알킬 R19의 예로는 2-메르캅토에틸, 2-히드록시에틸, 2-허드록시프로필, 2-메톡시에틸, -CH2CH2OCH2CH2CN 또는 -CH2CH2OCH2CH2COOCH3를 들 수 있다.
알콕시알킬 R20및 R21의 예로는 메톡시에틸, 에톡시에틸, 2-에톡시프로필, 2-부톡시에틸, 3-메톡시프로필 또는 2-헥실옥시에틸을 들 수 있다.
C2-C3알칸오일 R20및 R21은 특히 아세틸이 바람직하다.
치환된 페닐 또는 나프틸 R22의 예로는 4-톨릴, 4-브로모페닐, 3-클로로페닐, 4-부틸페닐, 4-옥틸페닐, 4-데실페닐, 4-도데실페닐, 3-메톡시페닐, 4-이소프로폭시페닐, 4-부톡시페닐, 4-옥틸옥시페닐, 클로로나프틸, 노닐나프틸 또는 도데실나프틸을 들 수가 있다.
R20및 R21이 함께 알킬렌 또는 헤테로 원자를 중간에 함유하는(Interrupted) 알킬렌인 경우, 이 알킬렌은 그것이 결합되는 N원자와 함께 헤테로사이클 고리, 바람직하게는 알킬, 히드록시, 알콕시 또는 에스테르기로서 치환될 수 있는 5원 또는 6원 고리를 형성한다. 이같은 고리의 예로는 피롤리딘, 피페라딘, 4-히드록시피페리딘, 3-에톡시카르보닐피페리딘, 모르폴린, 2,6-디메틸-모르폴린, 피페라진 또는 4-메틸피페라진 고리를 들 수가 있다.
이들 화합물은 모두 1개 이상의 염기성 아미노기를 갖고 있어서, 산을 첨가해서 상응하는 염으로 전환시킬 수 있다. 이들산은 무기산 또는 유기산일 수 있다. 이같은 산의 예로는 HCl, HBr, H2SO4, H3PO4모노- 또는 폴리카르복시산(예를 들어 아세트산, 올레산, 숙신산, 세바스산, 타르타르산 또는 CF3COOH)와 술폰산(예를들어, CH3SO3H, C12H25SO3H, P-C12H25-C6H4-SO3H, P-CH3-C6H4-SO3H 또는 CF3SO3H)을 들 수 있다.
일반식(Ⅰ)의 화합물중 바람직한 것은 Ar1이 일반식(Ⅳ)의 기이고, R5및 R6가 수소, 할로겐, C1-C12알킬 또는 -OR18, -SR19, -SOR19, -SO2R19-N(R20)(R21), -NHSO2R22또는
Figure kpo00016
의 기(여기서, Z는 -O-,-S-,-N(R11)- 또는 -N(R11)-R12-N(R11)-임)이며, R7및 R8이 수소 또는 할로겐, R9가 수소, 할로겐 또는 C1-C12알킬, 또는 R1, R2, R3, R4, R11, R12, R18, R19, R20, R21및 R22가 앞에서 정의한 것과 동일하고, 또 R1이 알릴 또 R2가 메틸일 경우 R5가 -OCH3는 아니며, 또 R1이 벤질 또 R2가 메틸 또는 벤질인 경우 R5가 -OCH3, -SCH3또는 -SOCH3가 아닌 화합물들이다.
Ar1이 일반식(Ⅳ)의 기이고, R5가 -OR18, -SR19, -N(R20)(R21) 또는
Figure kpo00017
의 기인 일반식(Ⅰ) 화합물들중에서 바람직한 화합물은 R6가 수소, 할로겐 또는 C1-C4알킬이고, R5, R7및 R8에 주어진 의미중 1개가 수소 또는 할로겐이고, R9가 수소 또는 C1-C4알킬이며, Z가 -O-,-S- 또는 -N(R11)이고, R1이 (a) 일반식
Figure kpo00018
의 라디칼 또는 (b) 일반식 -CH(R13)-Ar2의 라디칼중 하나로서, 여기서 Ar2는 할로겐, C1-C4알킬, 메틸티오, 메톡시 또는 벤조일로서 치환되거나 또는 비치환된 페닐기 ; R2가 R1에서 주어진 의미중 하나이거나 또는 C1-C6알킬이며, R3및 R4가 상호 독립적으로 C1-C12알킬 ; C1-C4알콕시, -CN 또는 -COO(C1-C4알킬)로서 치환된 C2-C4알킬 ; 알릴 ; 시클로헥실 ; 또는 벤질이거나 또는 R3및 R4가 함께 -O- 또는 -N(R17)-을 중간에 함유할 수 있는 C4-C6알킬렌 ; R11이 수소, C1-C4알킬, 알릴, 벤질 또는 C2-C4알칸오일 ; R12가 C2-C6알킬렌 ; R13, R14, R15및 R16이 상호 독립적으로 수소 또는 메틸 ; R17이 수소, C1-C4알킬, 벤질, 2-히드록시에틸 또는 아세틸 ; R18이 수소 C1-C4알킬, 2-히드록시에틸, 2-메톡시에틸, 2-알틸옥시에틸, 알릴, 시클로헥실, 페닐, 벤질 또는 -Si(CH3)3; R19가 수소, C1-C12알킬, 2-히드록시에틸, 2-메톡시에틸, 페닐, P-톨릴 또는 벤질이고 ; 또 R20및 R21이 상호 독립적으로 수소, C1-C12알킬, C2-C6알콕시알킬, 아세틸, 알릴 또는 벤질이거나 또는 R20및 R21이 함께 -O-, 또는 -N(R17)-을 중간에 함유할 수 있는 C4-C6알킬렌이고, 또 R1이 알릴인 경우에는 R5가 -OCH3가 아니고, 또 R1이 벤질 또 R2가 메틸 또는 벤질인 경우에는 R5가 -OCH3또는 -SCH3가 아닌 화합물이다.
특히 바람직한 일반식(Ⅰ)의 화합물은 Ar1이 R5가 -OR18-SR19또는 -N(R20)(R21) ; R6이 수소, 염소 또는 C1-C4알킬이거나 또는 R5에서 주어진 의미중 하나이며 ; R7및 R8은 수소 또는 염소 ; R9는 수소 또는 C1-C4알킬인 일반식(Ⅳ)의 기이고 ; R1이 (a) 일반식 -CH2-C(R14)=CH(R15)의 라디칼 또는 (b) 일반식 -CH2-Ar2라디칼중 하나로서 이때 Ar2는 할로겐, C1-C4알킬, CH3S-, CH3O- 또는 벤질로서 치환되거나 또는 비치환된 페닐기이고 ; R2가 R1에서 주어진 의미중 하나이거나 또는 C1-C4알킬 ; R3및 R4가 상호 독립적으로 C1-C6알킬, 2-메톡시에틸, 알릴 또는 벤질이거나 또는 R3및 R4가 함께 테트라메틸렌, 펜타메틸렌 또는 3-옥사펜타메틸렌 ; R14및 R15가 수소 또는 메틸 ; R18이 C1-C4알킬, 2-히드록시에틸, 2-메톡시에틸 또는 페닐 ; R19가 C1-C12알킬, 2-히드록시에틸, 2-메톡시에틸, 페닐 또는 p-톨릴 ; 또 R20및 R21이 수소, C1-C4알킬, 2-메톡시에틸, 아세틸 또는 알릴이거나 또는 R20및 R21이 함께 -O- 또는 -N(CH3)-이 중간에 함유될 수 있는 C4-C6알킬렌이고 ; 또 R1이 알릴, R5가 -CH3가 아닌 경우, R1이 벤질 또 R2가 메틸 또는 벤질인 경우에는 R5가 -OCH3또는 -SCH3가 아닌 화합물들이다.
이들 화합물중, 바람직한 화합물들은 R5가 -SR19기이고, R1이 일반식
Figure kpo00019
의 기이며, 또 R7및 R8이 수소이거나 또는 R6, R7, R8, 및 R9가 수소인 화합물과 R1이 알릴인 화합물이다.
Ar1이 R5가 -N(R20)(R21)인 일반식(Ⅳ)의 기인 일반식(Ⅰ) 화합물들 중에서, 바람직한 화합물은 R7및 R8이 수소인 화합물과 R6, R7, R8및 R9가 수소인 화합물, 또 R1이 알릴 또는 벤질인 화합물이다.
일반식(Ⅰ)의 바람직한 화합물들은 이밖에 Ar1이 R5가 수소, 할로겐 또는 C1-C12알킬이고 또 R6, R7, R8및 R9가 수소인 일반식(Ⅰ)의 기이고 ; R1이 알릴 또는 벤질 ; R2가 C1-C6알킬, 알릴 또는 벤질 ; R3및 R4가 상호 독립적으로 C1-C12알킬 ; C1-C4알콕시, -CN 또는 -COO(C1-C4알킬)로서 치환된 C2-C4알킬 ; 알릴 ; 시클로헥실 ; 또는 벤질이거나 또는 R3및 R4가 함께 -O- 또는 -N(R17)가 중간에 함유될 수 있는 C4-C6알킬렌이고 이때 R17이 수소, C1-C4알킬 또는 2-히드록시에틸인 화합물이다.
일반식(Ⅰ) 화합물의 각 예를 다음에 기술하였다 :
1. 2-(디메틸아미노)-2-에틸-1-(4-모르폴리노페닐)-4-펜텐-1-온
2. 2-(디메틸아미노)-2-메틸-1-(4-모르폴리노페닐)-4-펜텐-1-온
3. 2-벤질-2(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)-프로판-1-온
4. 4-모르폴리노-4-(4-모르폴리노벤질)-헵타-1,6-디엔
5. 2-에틸-2-모르폴리노-1-(4-모르폴리노페닐) -4-펜텐-1-온
6. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-[4-(디메틸아미노)-페닐]-부탄-1-온
7. 4-디메틸아미노-4-(4-디메틸아미노벤조일)-헵타-1,6-디엔
8. 4-(디메틸아미노)-4-(4-모르폴리노벤조일)-헵타-1,6-디엔
9. 2-(디메틸아미노)-2-(4-디메틸아미노페닐)-2-에틸-4-펜텐-1-온
10. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
11. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-[4-(디메틸아미노)-페닐]-4-펜텐-1-온
12. 2-벤질-1-[4-(디메틸아미노)-페닐]-2-(디메틸아미노)-3-페닐프로판-1-온
13. 2-에틸-1-[4-(메틸티오)-페닐]-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
14. 4-[4-(메틸티오)-벤조일]-4-모르폴리노-헵타-1,6-디엔
15. 4-(디메틸아미노)-4-(4-메톡시벤조일)-헵타-1,6-디엔
16. 4-(4-메톡시벤조일)-4-모르폴리노-헵타-1,6-디엔
17. 1-(4-메톡시페닐)-2-모르폴리노-2-페닐-4-펜텐-1-온
18. 2-에틸-1-(4-메톡시페닐)-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
19. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-[4-(메틸티오)-페닐]-부탄-1-온
20. 2-(디메틸아미노)-2-에틸-1-[4-(메틸티오)-페닐]-4-펜텐-1-온
21. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-[4-(메틸티오)-페닐]-4-펜텐-1-온
22. 4-(디메틸아미노)-4-[4-(메틸티오)-벤조일]-1,6-헵타디엔
23. 2-(디메틸아미노)-3-(4-플루오로페닐)-2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-프로판-1-온
24. 3-(4-클로로페닐)-2-(디메틸아미노)-2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-프로판-1-온
25. 3-(2-클로로페닐)-2-(디에틸아미노)-2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-프로판-1-온
26. 3-(4-브로모페닐)-2-(디메틸아미노)-2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-프로판-1-온
27. 2-에틸-4-메틸-1-[4-(메틸티오)-페닐]-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
28. 2-에틸-1-[4-(메틸티오)-페닐]-2-모르폴리노-4-헥센-1-온
29. 2-벤질-1-[4-(메틸티오)-페닐]-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
30. 2-알릴-1-[4-(메틸티오)-페닐]-2-모르폴리노-헥산-1-온
31. 2-(디메틸아미노)-1-[4-(메틸티오)-페닐]-2-메틸-3-(4-메틸페닐)-프로판-1-은
32. 2-(디메틸아미노)-1,3-비스-[4-(메틸티오)-페닐]-2-메틸-프로판-1-온
33. 2-(디메틸아미노)-1-[4-(메틸티오)-페닐]-2-메틸-3-(4-메톡시페닐)-프로판-1-온
34. 1-[4-(메틸티오)-페닐]-2-메틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
35. 2-(디메틸아미노)-1-[4-(메틸티오)-페닐]-2-메틸-4-펜텐-1-온
36. 1-[4-(메틸티오)-페닐]-2-모르폴리노-2-페닐-4-펜텐-1-온
37. 2-(디메틸아미노)-1-[4-(메틸티오)-페닐]-2-페닐-4-펜텐-1-온
38. 2-(디메틸아미노)-1-[4-(메틸티오)-페닐]-2,3-디페닐-프로판-1-온
39. 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-모르폴리노페닐)-4-펜텐-1-온
40. 2-벤질-2-모르폴리노-1-(4-모르폴리노페닐)-4-펜텐-1-온
41. 2-에틸-2-모르폴리노-1-(4-모르폴리노페닐)-4-펜텐-1-온
42. 1-[4-(디메틸아미노)-페닐]-2-메틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
43. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)-3-페닐-프로판-1-온
44. 4-[4-(디메틸아미노)-벤조일]-4-모르폴리노-헵타-1,6-디엔
45. 2-(디메틸아미노)-1-[4-(디메틸아미노)-페닐]-2-메틸-4-펜텐-1-온
46. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)-4-펜텐-1-온
47. 1-[4-(디메틸아미노)-페닐]-2-에틸-4-메틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
48. 1-[4-(디메틸아미노)-페닐]-2-에틸-2-모르폴리노-4-헥센-1-온
49. 2-에틸-모르폴리노-1-(4-모르폴리노페닐)-4-헥센-1-온
50. 2-에틸-4-메틸-2-모르폴리노-1-(4-모르폴리노페닐)-4-펜텐-1-온
51. 1-[4-(비스(2-메톡시에틸)아미노)페닐]-2-메틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
52. 1-[4-(디부틸아미노)페닐]-2-메틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
53. 2-메틸-1-[4-(4-메틸-피페라진-1-일)-페닐]-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
54. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(4-메톡시페닐)-부탄-1-온
55. 1-[4-(디에틸아미노)페닐]-2-메틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
56. 2-메틸-2-모르폴리노-1-[4-(피롤리딘-1-인)-페닐)]-4-펜텐-1-온
57. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(4-피페리디노페닐)-부탄-1-온
58. 2-에틸-2-(디메틸아미노)-1-(4-피페리디노페닐)-4-펜텐-1-온
59. 2-벤질-1-[4-(디에틸아미노)페닐]-2-에틸-부탄-1-온
60. 1-[4-(디메틸아미노)페닐]-2-에틸-4-펜텐-1-온
61. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-[4-(2-히드록시에틸티오)-페닐]-부탄-1-온
62. 2-에틸-1-[4-(2-히드록시에틸티오)-페닐]-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
63. 1-[4-(디알릴아미노)-페닐]-2-메틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
64. 3-(4-벤조일페닐)-2-(디메틸아미노)-2-메틸-1-[4-(메틸티오)-페닐]-프로판-1-온
65. 2-(디메틸아미노)-3-(3,4-디메톡시페닐)-2-메틸-1-페닐프로판-1-온
66. 2-(디메틸아미노)-3-(3,4-디메톡시페닐)-2-메틸-1-[4-(메틸티오)-페닐]-프로판-1-온
67. 3-(4-벤조일페닐)-2-(디메틸아미노)-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온
68. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(4-플루오로페닐)-부탄-1-온
69. 4-(디메틸아미노)-4-(4-플루오로벤조일)-헵탄-1,6-디엔
70. 2-에틸-2-모르폴리노-1-[4-(4-메틸페닐술포닐)페닐]-4-펜텐-1-온
71. 2-(디메틸아미노)-2-에틸-1-[4-(메틸술포닐)페닐]-4-펜텐-1-온
72. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-[4-(메틸페닐술포닐)페닐]-부탄-1-온
73. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-[4-(메틸술포닐)페닐]-부탄-1-온
74. 1-(4-플루오로페닐)-2-메틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
75. 4-(4-플루오로벤조일)-4-모르폴리노-헵타-1,6-디엔
76. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(4-플루오로페닐)-4-펜텐-1-온
77. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(4-플루오로페닐)-3-페닐-프로판-1-온
78. 2-(디메틸아미노)-2-에틸-1-(4-플루오로페닐)-4-펜텐-1-온
79. 2-벤질-1-(4-플루오로페닐)-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
80. 2-에틸-1-(4-플루오로페닐)-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
81. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(4-플루오로페닐)-프로판-1-온
82. 2-(디메틸아미노)-1-(4-플루오로페닐)-2-메틸-4-펜텐-1-온
83. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(4-히드록시페닐)-부탄-1-온
84. 2-벤질-1-[4-(에톡시카르보닐메틸옥시)페닐]-2-(디메틸아미노)-부탄-1-온
85. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-[4-(2-히드록시에틸옥시)페닐]-부탄-1-온
86. 2-벤질-1-(4-클로로페닐)-2-(디메틸아미노)-부탄-1-온
87. 2-벤질-1-(4-브로모페닐)-2-(디메틸아미노)-부탄-1-온
88. 1-(4-브로모페닐)-2-에틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
89. 2-에틸-1-(4-메톡시페닐)-2-모르폴리노-3-펜텐-1-온
90. 2-(디메틸아미노)-2-에틸-1-(4-메톡시페닐)-4-펜텐-1-온
91. 2-벤질-1-[4-(디메틸아미노)페닐]-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
92. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-[4-(디메틸아미노)페닐]-프로판-1-온
93. 2-메틸-2-모르폴리노-1-페닐-4-펜텐-1-온
94. 2-벤질-2-모르폴리노-1-페닐-4-펜텐-1-온
95. 2-(디메틸아미노)-2-메틸-1-페닐-4-펜텐-1-온
96. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-페닐-프로판-1-온
97. 2-벤조일-4-(디메틸아미노)-헵타-1,6-디엔
98. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1,3-디페닐-프로판-1-온
99. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-페닐-4-펜텐-1-온
100. 2-(디메틸아미노)-2-에틸-1-페닐-4-펜텐-1-온
101. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-페닐-부탄-1-온
102. 1,2-디페닐-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
103. 3-(4-클로로페닐)-2-(디메틸아미노)-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온
104. 3-(4-브로모페닐)-2-(디메틸아미노)-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온
105. 3-(2-클로로페닐)-2-(디메틸아미노)-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온
106. 3-(3,4-디메톡시페닐)-2-(디메틸아미노)-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온
107. 2-(디메틸아미노)-2-메틸-(4-메틸페닐)-1-페닐-프로판-1-온
108. 2-(디메틸아미노)-2-메틸-3-[4-(메틸티오)페닐]-1-페닐프로판-1-온
109. 2-(디메틸아미노)-3-(4-플루오로페닐)-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온
110. 2-(디메틸아미노)-3-(4-메특시-페닐)-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온
111. 2-에틸-1-(4-플루오로페닐)-4-메틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
112. 2-애틸-1-(4-플루오로래닐)-5-메틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
113. 2-(벤질메틸아미노)-2-에틸-1-(4-모르폴리노페닐)-4-펜텐-1-온
114. 2-(알릴메틸아미노)-2-에틸-1-(4-모르폴리노페닐)-4-펜텐-1-온
115. 2-벤질-2-(벤질메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)-4-부탄-1-온
116. 2-벤질-2-(부틸메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)-4-부탄-1-온
117. 2-(부틸메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)-4-펜텐-1-온
118. 1-(4-아세틸아미노페닐)-2-벤질-2-디메틸아미노-부탄-1-온
119. 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-펜탄-1-온
120. 2-알릴-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-펜탄-1-온
121. 2-모르폴리노-1-[4-(2-메톡시에틸옥시)페닐]-2-메틸-4-펜텐온
122. 4-모르폴리노-4-[4-(2-히드록시에틸티오)벤조일]-5-메틸-1-헥센
123. 1-(4-브로모페닐)-2-모르폴리노-2-메틸-4-펜텐-1-온
124. 4-4-브로모벤조일)-4-모르폴리노-5-메틸-1-헥센
125. 1-4-[2-히드록시에틸티오)페닐)-2-메틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
126. 1-4-[2-(알릴옥시)-에톡시]페닐)-2-에틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
127. 1-4-[2-(알릴옥시)-에톡시]페닐)-2-메틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
128. 1-4-[2-(메톡시)-에톡시]페닐)-2-에틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
129. 2-벤질-2-디메틸아미노-1-[4-(2-메톡시에틸아미노)페닐]-부탄-1-온
130. 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-메틸아미노페닐)-부탄-1-온
131. 2-벤질-2-디메틸아미노-1-[4-(N-아세틸에틸아미노)페닐]-부탄-1-온
132. 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노-페닐)-부탄-1-온
133. 2-디에틸아미노-2-에틸-1-(4-모르폴리노-페닐)-4-펜텐-1-온
140. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(3,5-디메틸-4-메톡시-페닐)-부탄-1-온
141. 2-벤질-1-(2,4-디클로로페닐)-2-(디메틸아미노)-부탄-1-온
142. 2-(디메틸아미노)-2-에틸-1-(3,4-디클로로페닐)-4-펜텐-1-온
143. 2-벤질-1-(3,4-디클로로페닐)-2-(디메틸아미노)-부탄-1-온
144. 1-(3-클로로-4-모르폴리노-페닐)-2-(디메틸아미노)-부탄-1-온
145. 2-벤질-1-(3-클로로-4-모르폴리노-페닐)-2-(디메틸아미노)-부탄-1-온
146. 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-디메틸아미노-3-에틸-페닐)-부탄-1-온
147. 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-디메틸아미노-2-메틸-페닐)-부탄-1-온
148. 9-부틸-3,6-디(2-벤질-2-디메틸아미노-부티릴)카르바졸
149. 9-부틸-3,6-디(2-메틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온-일)카르바졸
150. 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온-트리플 루오르아세테이트
151. 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온-p-톨루엔술포네이트
152. 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온-캄포르술포네이트
153. 4-(디메틸아미노)-4-[4-(페닐옥시)-벤조일]-헵타-1,6-디엔
154. 2-벤질-2-(디메틸아미오)-1-(4-이소프로필옥시페닐)-4-펜텐-1-온
155. 1-(4-부틸옥시페닐)-2-에틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
156. 1-(4-알릴옥시페닐)-2-벤질-2-(디메틸아미노)-부탄-1-온
157. 2-메틸-2-모르폴리노-1-[4-(트리메틸실리옥시)페닐]-4-펜텐-1-온
158. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-[4-((1,1,2-트리메틸프로필디메틸)-실릴옥시)-페닐]-부탄-2-온
159. 2-에틸-1-[4-(에틸티오)-페닐]-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
160. 2-벤질-1-[4-(부틸티오)-페닐]-2-(디메틸아미노)-3-페닐프로판-1-온
161. 1-[4-(이소프로필티오)-페닐)-2-메틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
162. 1-[4-(알릴티오)-페닐]-2-에틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
163. 1-[4-(벤질티오)-페닐]-2-벤질-2-(디메틸아미노)-프로판-1-온
164. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(4-메르캅토페닐)-부탄-1-온
165. 2-벤질-1-[4-(시클로헥실티오)-페닐]-2-(디메틸아미노)-3-페닐-프로판-1-온
166. 2-에틸-1-[4-(4-메틸페닐티오)-페닐]-2-모르폴리노-4-렌텐-1-온
167. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-[4-(옥틸티오)-페닐]-부탄-1-온
168. 2-벤질-1-[4-(클로로페닐티오)-페닐]-2-(디메틸아미노)-4-펜텐-1-온
169. 2-메틸-1-[4-(2-메톡시카르보닐에틸티오)페닐]-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
170. 1-[4-(부틸술피닐)-페닐]-2-(디메틸아미노)-2-에틸-4-펜텐-1-온
171. 1-[4-(벤젠술포닐)-페닐]-2-벤질-2-(디메틸아미노)-부탄-1-온
172. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(4-(메틸술피닐)-페닐]-부탄-1-온
173. 2-에틸-1-[4-(4-메틸페닐술포닐)-페닐]-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
174. 1-(3,4-디메톡시페닐)-2-에틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
175. 2-벤질-1-(3,4-디메톡시페닐)-2-(디에틸아미노)-부탄-1-온
176. 4-(3,4-디메톡시벤조일)-4-(디메틸아미노)-헵타-1,6-디엔
177. 1-(1,3-벤조디옥솔-5-일)-2-벤질-2-(디메틸아미노)-부탄-1-온
178. 1-(1,3-벤조디옥솔-5-일)-2-메틸-모르폴리노-4-펜텐-1-온
179. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(3,4,5-트리메톡시페닐)-부탄-1-온
180. 1-(디벤조푸란-3-일)-2-에틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
181. 1-(4-벤조일페닐)-2-벤질-2-(디메틸아미노)-프로판-1-온
182-2-[2-벤질-2-(디메틸아미노)-부탄오일]-플루오렌온
183. 2-(2-메틸-2-모르폴리노-4-펜텐오일)-크산톤
184. 2-[2-알릴-2-(디메틸아미노)-4-펜텐오일]-아크리단온
185. 2-[2-벤질-2-(디메틸아미노)-부탄오일]-디벤조수베르온
186. 1-(N-부틸카르바졸-3-일)-2-에틸-모르폴리노-4-펜텐-1-온
187. 2-벤질-1-(N-부틸카르바졸-3-일)-2-(디메틸아미노)-부탄-1-온
188. 2-알릴-2-(디메틸아미노)-1-(N-메틸페노티아진-2-일)-4-펜텐-1-온
189. 2-벤질-1-(N-부틸-페녹사진-2-일)-2-모르폴리노-프로판-1-온
190. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(크산텐-2-일)-부탄-1-온
191. 1-(그로만-6-일)-2-에틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
192. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(N-메틸인돌린-5-일)-프로판-1-온
193. 1-(N-부틸인돌린-5-일)-2-에틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
194. 1-(5,10-디부틸-5,10-디히드로페나진-6-일)--2-(디메틸아미노)-4-펜텐-1-온
195. 2-벤질-1-(1,4-디메틸-1,2,3,4-테트라히드로퀸옥살린-6-일)-2-(디메틸아미노)-부탄-1-온`
196. 1-(1,4-디부틸-1,2,3,4-테트라히드로퀸옥살린-6-일)-2-에틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
197. 2-벤질-1-(2,3-디히드로-2,3-디메틸-벤조티아졸-5-일)-2-(디메틸아미노)-부탄-1-온
198. 1-(2,3-디히드로벤조푸란-5-일)-2-메틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
199. 2-벤질-1-(2,3-디히드로벤조푸란-5-일)-2-(디메틸아미노)-부탄-2-온
200. 1-(4-아미노페닐)-2-벤질-2-(디메틸아미노)-부탄-2-온
201. 1-[4-(부틸아미노)페닐]-2-메틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
202. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-[4-(이소프로필아미노)페닐]-부탄-1-온
203. 2-에틸-1-(4-메톡시페닐)-2-피페리디노-4-펜텐-1-온
204. 2-메틸-2-(N-메틸피페라지노)-1-[4-(N-메틸피페라지노)페닐]-4-펜텐-1-온
205. 2-벤질-2-[디(2-메톡시에틸)-아미노]-1-[4-(티오메틸)메닐]-부탄-1-온
206. 2-(디메틸아미노)-1-(4-메톡시페닐)-2-메틸-4-펜텐-1-온
207. 1-[4-(디메틸아미노)-페닐]-2-에틸-2-(메틸페닐아미노)-4-펜텐-1-온-
208. 2-메틸-1-(메톡시페닐)-2-옥사졸리디노-4-펜텐-1-온
209. 2-에틸-1-(4-모르폴리노페닐)-2-피페리디노-4-펜텐-1-온
210. 2-메틸-2-피페리디노-1-(4-피페리디노페닐)-4-펜텐-1-온
211. 2-에틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-피폐리디노-4-펜텐-1-온
212. 2-벤질-2-(디부틸아미노)-1-[4-(메틸티오)페닐]-부탄-1-온
213. 2-(디부틸다미노)-2-메틸-1-(4-디메틸아미노)페닐]-4-펜텐-1-온
214. 2-벤질-2-(디부틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
215. 2-(디메틸아미노)-1-[4-(디메틸아미노)-페닐]-2-[(1-시클로헥센일)-메틸]-부탄-1-온
216. 2-(디메틸아미노)-2-(2-시클로펜텐일)-1-(4-모르폴리노페닐)-프로판-1-온
217. 2-에틸-2-(4-모르폴리노벤조일)-N-메틸-1,2,3,6-테트라히드로피리딘
218. 2-(디메틸아미노)-1-[4-(디메틸아미노)-페닐]-2,4,5-트리메틸-4-헥센-1-온
219. 2-(디메틸아미노)-1-[4-(디메틸아미노)-페닐]-2-(2-피넨-10-일)-부탄-1-온
220. 벤질-2-(디메틸아미노)-1-[4-(2,6-디메틸모르폴린-4-일)페닐]-부탄-1-온
221. 2-에틸-2-(2,6-디메틸모르폴린-4-일)-1-[4-(2,6-디메틸모르폴린-4-일)페닐]-4-펜텐-1-온
222. 1-[4-(디메틸아미노)페닐]-2-에틸-2-(2,6-디메틸모르폴린-4-일)-4-펜텐-1-온
223. 1-[4-(2,6-디메틸모르폴린-4-일)페닐]-2-메틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
224. 2-에틸-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
225. 1-[4-(2-메톡시에틸옥시)페닐]-2-메틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
226. 1-[4-(2-히드록시에틸티오)페닐]-2-모르폴리노-2-프로필-4-펜텐-1-온
227. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-[4-(2-메톡시에틸티오)페닐]-부탄-1-온
228. 2-(디메틸아미노)-2-이소프로필-1-(4-모르폴리노-페닐)-4-펜텐-1-온
229. 2-벤질-1-(3,5-디클로로페닐)-2-(디메틸아미노)-부탄-1-온
230. 1-(3,5-디클로로-4-메톡시페닐)-2-메틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
231. 2-(디알릴아미노)-2-에틸-1-(4-모르폴리노페닐)-4-펜텐-1-온
232. 1-[4-(디메틸아미노)페닐]-2-메틸-2-(피롤리딘-1-일)-4-펜텐-1-은
233. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(4-메틸페닐)부탄-1-온
234. 1-(4-도데실페닐)-2-에틸-2-모르폴리노-4-펜텐-1-은
235. 2-메틸-1-(4-메틸페닐)-2-모르폴리노-4-펜텐-1-온
236. 2-에틸-2-모르폴리노-1-(4-모르폴리노페닐)-4-펜텐-1-온의 도테실벤젠술포네이트
237. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온의 도테실벤젠술포네이트
238. 2-디메틸아미노-2-(4-도데실벤질)-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
239. 2-(4-에틸벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
240. 2-디메틸아미노-2-(4-이소프로필벤질)-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
241. 2-디메틸아미노-1-(4-디메틸아미노페닐)-1-(4-메틸벤질)-부탄-1-온
242. 2-디메틸아미노-2-(4-히드록시메틸벤질)-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
243. 2-(4-[아세톡시에틸]벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
244. 2-디에틸아미노-2-(4-[2-(2-메톡시에톡시)-에틸옥시]벤질)-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
245. 2-디에틸아미노-2-(4-[2-(2-[2-메톡시에톡시)-에톡시카르보닐)에틸]벤질)-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
246. 2-(4-[2-브로모에틸]벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
247. 2-(4-[2-디에틸아미노에틸]벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
248. 2-디메틸아미노-1-(4-디메틸아미노페닐)-2-(4-도데실벤질)-부탄-1-온
249. 2-디메틸아미노-1-(4-디메틸아미노페닐)-2-(4-이소프로필벤질)-부탄-1-온
250. 2-디메틸아미노-2-(3,4-디메틸벤질)-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
251. 2-디메틸아미노-2-(4-[2-(2-메톡시에톡시)-에톡시카르보닐)벤질]-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
264. 2-(디메틸아미노)-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
265. 2-(4-부틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
266. 2-(디메틸아미노)-2-(4-이소부틸벤질)-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
267. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(4-[3-메톡시프로필아미노]페닐)-부탄-1-온
268. 1-(4-[N-아세틸-3-메톡시프로필아미노]페닐)-2-벤질-2-(디메틸아미노)-부탄-1-온
269. 2-벤질-2-(디[2-메특시에틸]아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
270. 2-에틸-2-(디[2-메톡시에틸]아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)-4-펜텐-1-온
271. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)-헥산-1-온
272. 2-벤짙-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)-헵탄-1-온
273. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)-옥탄-1-온
274. 2-벤질-2-(디메틸아미노)-4,5,5-트리메틸-1-(4-모르폴리노페닐)- 헥산-1-온
275. 2-(디메틸아미노)-2-(4-메톡시벤질)-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
276. 2-(4-부톡시벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
277. 2-(디메틸아미노)-2-(4-[2-히드록시에톡시]-벤질]-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
278. 2-(디메틸아미노)-2-(4-[2-메톡시에톡시]-벤질)-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
279. 2-(디메틸아미노)-2-(4-이소프로필벤질)-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
280. 2-(디메틸아미노)-2-(4-도데실벤질)-1-(4-모르폴리노페닐)-옥탄-1-온
281. 2-(디메틸아미노)-2-(2-이소프로필벤질)-1-(4-모르폴리노페닐)-펜탄-1-온
282. 2-(디메틸아미노)-1-(4-(디메틸아미노)페닐-2-(4-[2-메톡시]벤질)-헵탄-1-온
283. 2-(부틸메틸아미노)-2-(4-이소프로필벤질)-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-은
284. 2-(4-이소부틸벤질)-2-(부틸메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)-펜탄-1-은
285. 2-(4-메틸벤질)-2-(디옥틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)-헥산-1-온
286. 2-(4-부톡시벤질)-2-(부틸메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)-펜탄-1-온과
287. 2-(4-부틸벤질)-2-(부틸메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)-헥산-1-온.
일반식(Ⅱ) 화합물의 각 예를 다음에 기술하였다 :
252. N,N'-비스[1-에틸-1-(4-모르폴리노벤조일)-3-부텐일] 피페라진
253. N,N'-비스[1-알릴-1-(4-(디메틸아미노)-벤조일)-3-부텐일]-피페라진
254. N,N'-비스[1-벤질-1-(4-메톡시벤조일)-프로판일)-메틸아민
255. N,N'-비스[1-에틸-1-(4-메틸티오)-벤조일)-부텐일]헥사메틸렌디아 민
256. N,N'-비스[1-벤질-1-(4-모르포리노벤조일)-프로판-1-일]-N,N'-디메틸-3,6,9,12-테트라옥사-테트라데카메틸렌디아민
일반식(Ⅲ) 화합물의 각 예를 다음에 기술하였다 :
257. 1,10-비스[4-(디메틸아미노)-페닐]-2,9-디알릴-2,9-디모르폴리노-데칸-1,10-디온
258. 1,6-비스[4-메틸티오)-페닐]-2,4-비스(디메틸아미노)-2,4-디벤질헥산-1,6-디온
259. 1,4-비스[2-(디메틸아미노)-2-(4-모르폴리노벤조일)-4-펜텐일]-밴젠
260. 1,4-비스[2-(디메틸아미노)-2-(4-메톡시벤조일)-3-페닐프로판일]-벤젠
261. 1,4-비스[2-디메틸아미노)-2-(4-모르폴리노벤조일)-부틸)벤젠
262. 3,8-비스(디메틸아미노)-3,8-비스(4-모르폴리노벤조일)-테크-5-엔
263. 3,8-비스(디메틸아미노)-5,6-디메틸리덴-3,8-비스(4-모르폴리노벤조일)데칸
이들 화합물중 대부분에서, R1- 또는 R1및 R2-는 알릴 또는 벤질형의 치환체이다. 이같은 화합물의 합성에는 통상 C-알릴화반응 또는 C-벤질화 반응이 포함된다. 이 알릴화 반응/벤질화 반응 이전에는 아미노기 -NR3R4를 도입시키는 것이 바람직하다.
이 합성은 다음 일련의 반응단계를 거쳐서 진행된다.
Figure kpo00020
출발 물질 케톤은 예를들어 프리델-크라프트 반응에 의해 제조될 수 있는 공지 화합물이다. 반응단계 1 및 2는 예를들어 EP-A-3,002호에 보다 상세히 기재된 공지된 반응이다. 이 2개 반응은 브로모케톤을 분리하지 않은 상태에서 순차적으로 진행시킬 수가 있다.
반응 3을 다음에 상세히 기술하였다. C-알릴화 반응의 경우에는, 클라이센 전위(Claisen rearrangement)의 관점에서 중간체로서 엔을 알릴 에테르를 거쳐 진행될 수 있다. C-벤질화 반응 또는 C-알릴화 반응의 경우에는, 스테벤스 전위(Stevens rearrangement)의 관점에서 중간체로서 4급 벤질암모늄염 또는 알리암모늄염을 거쳐서 진행될 수 있다. 그러나, 이들 모든 경우에 중간체를 분리하지 않아도 된다. R1및 R2모두가 알릴 또는 벤질기인 경우에는, 상기 반응 계열은 아릴 메틸케톤 Ar1-CO-CH3을 출발 물질로 사용하고 또 반응 3을 한번은 R1Hal을 사용하고 또 한번은 R2Hal을 사용해서 2회 진행시킬 수도 있다.
방향족 라디칼 Ar1이 반응 1,2 또는 3에 대해 비활성이 아닌 치환기를 동반하는 경우에는 합성반응은 후고 반응단계 4에서 필요로 하는 치환기로 전환시킬 수 있는 보조 치환기를 갖는 화합물을 사용해서 진행시킨다. 예를들어, 합성은 니트로아릴 화합물로서 진행시킨 후, 이어서 이를 상응하는 아미노 화합물로 환원시킬 수가 있다. 이와는 달리, 합성은 할로게노아릴 화합물을 출발 물질로 사용한 후, 이어 친핵성 치환 반응에 따라 할로겐을 -OR18, -SR19또는 -NR20R21로 치환시킬 수가 있다. -SR19기는 이어 -SO-R19또는 -SO2-R19로 산화시킬 수가 있다.
일반식(Ⅱ) 화합물의 합성을 위해서는 반응단계 2 및 3에서 1급 아민 R11NH2또는 2급 디아민 R11-NH-R12-NH-R11또는 피페라진이 사용되며, 또 필요한 경우에는 반응단계 4가 이어서 진행된다.
일반식(Ⅲ) 화합물의 합성을 위해서는, 출발 물질로서 일반식 Ar1-CO-CH2-Y-CH2-CO-Ar1의 비스-아릴 케톤이 사용되며 또 반응 1,2 및 3에 따라 반응을 진행시킨다.
R1이 비닐형 치환기인 경우에는, 이같은 화합물들은 이중결합 촉매 이성화(Catalyzed double bondisomerization)에 의해 상응하는 알릴 화합물로부터 제조할 수 있다. R1이 일반식
Figure kpo00021
의 치환기인 경우에는, 이 치환기는 일반식
Figure kpo00022
의 할로겐 화합물을 사용해서 알릴 라디칼에서와 동일한 방법으로 도입될 수 있다.
일반식(Ⅰ) 화합물의 또 다른 가능한 합성 방법은 α-아미노니트릴과 알릴-리튬 화합물을 반응시킨 후 가수 분해시키는 방법이 있다.
Figure kpo00023
이같은반응은 예를들어 J. Am. Chem. Soc. 83,1237(1961)에 Cromwell 및 Hess에 의해 기술되어 있다. α-아미노니트릴은 스트렉커 합성법에 의해 R1-CO-R2로부터 직접 제조하거나 또는 α-아미노니트릴 NC-CHR2-NR3R4의 알릴화 반응 또는 벤질화 반응으로 제조할 수가 있다. α-아미노니트릴의 알릴화 반응은 예를들어 J. Chem. Soc. 1930, 2119에 T.S.Stevens에 의해 기술되어 있다.
R1및 R2가 이들이 결합되는 C원자와 함께 시클로알켄 고리를 형성하는 일반식(Ⅰ)의 화합물들은 아릴-리튬 화합물과 상응하는 고리형 니트릴의 반응에 의해 유사하게 제조될 수 있다. 고리형 니트릴은 예를들어 Tetrahedron 41,875(1985)에 Brucher 및 Stella에 의해 기슬된 바와같이 1,3-디엔에 α-아미노아크릴로니트릴을 고리화 부가시켜서 제조될 수가 있다.
Figure kpo00024
마지막으로, 가능한 방법으로 또한 α-브로모케톤을 3급 알릴- 또는 벤질아민과 반응시킨 후 형성된 4급 염을 스테븐스 전위시키는 방법이 있다.
Figure kpo00025
본 발명에 따라 일반식(Ⅰ), (Ⅱ) 및 (Ⅲ)의 화합물들은 에틸렌 불포화 화합물 또는 이들 화합물을 포함하는 혼합물의 광중합 반응용 광개시제로서 사용될 수 있다. 이들 불포화 화합물들은 1개 또는 그 이상의 올레핀성 이중 결합을 함유할 수가 있다. 이들 화합물은 저분자량(단량체) 또는 보다 고분자량(올리고머)일 수 있다.
이중 결합을 갖는 단량체의 예로는 알킬 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 ; 히드록시알킬, 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트를 들 수 있으며, 메틸, 에틸, 부틸, 2-에틸헥실 또는 2-히드록시에틸 아크릴레이트, 이소보르닐 아크릴레이트와 메틸 또는 에틸 메타크릴레이트가 있다. 단량체의 이밖의 예로는 아크릴로니트릴 ; 아크릴로아미드 ; 메타크릴아미드 ; N-치환된(메트) 아크릴아미드 ; 비닐 아세테이트와 같은 비닐에스테르 ; 이소부틸 비닐 에테르와 같은 비닐에테르 ; 스티렌 ; 알킬 및 할로게노스티렌 ; N-비닐피롤리돈 ; 비닐 클로라이드 또는 비닐리덴 클로라이드를 들 수가 있다.
이중 결합을 여러개 갖는 단량체의 예로는 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 네오펜틸글리콜, 헥사메틸렌글리콜 또는 비스페놀 A의 디아크릴 레이트 ; 4,4'-비스(2-아크릴오일옥시에톡시)디페닐프로판 ; 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트 ; 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트 또는 테트라아크릴레이드 ; 비닐 아크릴레이트 ; 디비닐벤젠 ; 디비닐 숙신에이트 ; 디알릴프탈레이트 ; 트리알릴 포스페이트 ; 트리알릴 이소시안우레이트 및 트리스-(2-아크릴오일옥시에틸)이소시안우레이트를 들 수가 있다. 보다 고분자량의 폴리 불포화 화합물(올리고머)의 예로는 아크릴화 에폭시수지 ; 아크릴화 폴리에테르 ; 아크릴화 폴리우레탄 및 아크릴화 폴리에스테르를 들 수가 있다.
불포화 올리고머의 이밖의 예로는 통상 말레산, 프탈산과 1개 또는 그 이상의 디올로부터 제조되며 또 분자량이 약 500 내지 3000인 불포화 폴리에스테르 수지를 들 수가 있다. 이같은 불포화 올리고머는 또한 프리폴리머(Prepolymer)로 칭할 수 있다.
이 프리폴리머와 폴리 불포화 단량체의 2성분 혼합물 또는 여기에 또한 단일 불포화 단량체를 부가시킨 3성분 혼합물이 흔히 사용된다. 이때 프리폴리머는 래커 필름의 특성을 결정하는 주요 인자로 되며, 숙련 기술자들은 이 프리폴리머를 변화시켜서 경화 필름의 특성을 조절할 수 있다. 폴리불포화 단량체는 레커 필름에 볼용성을 부여하는 교차 결합제의 기능을 한다. 단일 불포화 단량체는 반응 희석제로서의 기능을 하며, 이를 사용함으로써 용매를 사용하지 않고도 점도를 낮추어 줄 수가 있다.
이같이 프리폴리머를 기재로 하는 2- 및 3-성분계는 모두 인쇄잉크 및 레커용 감광성 내식막(Photoresists) 또는 기타 광경화성 조성물로서 사용될 수 있다. 광경화성 프리폴리머를 기재로 하는 1성분계가 또한 흔히 인쇄 잉크용 결합제로서 사용된다.
불포화 폴리에스테르 수지는 통상 단일 불포화 단량체, 바람직하게는 스티렌과 함께 2-성분계로서 사용된다. DE-0S 2,308,830호에 기재된 것과 같은 폴리말레이미드, 폴리칼콘스(Polychalcones) 또는 폴리이미드등의 특정 1-성분계가 감광성 내식막으로서 흔히 사용된다.
이 불포화 화합물들은 또한 광부재 중합성 필름 형성성분(Non-photo-polymerizable film-forming components)과의 혼합물로서 사용될 수도 있다.
이들 화합물은 예를들어 물리적 수단으로 건조시킨 중합체 또 니트로셀루로즈 또는 셀루로즈 아세토부티레이트 등의 유기용매중에 이들 화합물을 용해시킨 용액일 수가 있다. 그러나 이들 화합물은 또한 화학적으로 경화될 수 있는 수지 ; 또는 폴리이소시아네이트, 폴리에폭시드 또는 멜라민 수지등의 열경화성 수지일 수 있다. 열경화성 수지의 공동사용은 첫번째 단계에서 광중합 반응되고 또 두번째 단계에서 처리후 열로써 교차 결합되는 소위 하이브리드 시스템에서 중요하게 사용된다.
광중합성 혼합물은 광개시제 이외에 각종 첨가제를 함유할 수가 있다. 이들 첨가제의 예로는 사전 중합반응을 방지할 목적으로 사용되는 열적억제제(Thermal inhibitor)로서 히드로퀴논 또는 입체 장애된 페놀을 들 수가 있다. 예를들어, 구리화합물, 인화합물, 4급 암모늄 화합물 또는 히드록시아민 유도체는 암소에서의 보관 안정성을 증가시키기 위해 사용될 수 있다. 중합반응 개시와 함께 표면으로 이동하는 파라핀 또는 유사한 왁스상 물질을 중합 반응중에 대기 산소로부터 격리시킬 목적으로 첨가해줄 수 있다. UV 흡수제, 예를들어 벤조트리아졸, 벤조페논 또는 옥살아닐리드형의 흡수제를 광안정제로서 소량 첨가할 수 있다. UV광을 흡수하지 않는 광안정제, 예를들어 입체장애된 아민(HALS)의 첨가가 보다 좋다.
어떤 경우에는 본 발명에 따른 광개시제를 2개 또는 그 이상 혼합한 혼합물로 사용하는 것이 유리할 수도 있다. 물론 공지된 광개시제와의 혼합물 예를들어 벤조페논, 아세토페논 유도체, 벤조인 에테르 또는 벤질 케탈과의 혼합물 상태로 사용될 수 있다.
트리에탄올아민, N-에틸-디에탄올아민등의 아민류 ; 에틸 p-디메틸 아미노 벤조에이트 ; 또는 미클러스 케톤(Michler's ketone)을 광중합 반응을 촉진시키기 위해 첨가할 수 있다. 이들 아민의 효과는 벤조페논형의 방향족 케톤을 첨가해서 중가시킬 수 있다.
광중합 반응의 가속화는 이밖에 분광 감도를 이동시키거나 또는 연장시키는 광개시제를 첨가해서 행할 수 있다. 이들의 예로는 특히 벤조페논, 티옥산톤, 안트라퀴논 및 3-아실코우마린의 유도체 및 3-(아로일 메틸렌)-티아졸린등의 방향족 카르보닐 화합물을 들 수가 있다.
본 발명에 따른 광개시제의 효과는 EP-A-122,223호 및 등 186,626호에 기재된 것과 같이 플루오로 유기라디칼을 갖는 티타노센 유도체를 예를들어 1 내지 20% 양으로 첨가해서 증가시길 수가 있다. 이같은 티타노센의 예로는 비스(에틸시클로펜타디엔일)-비스(2,3,6-트리플루오로페닐)-티탄, 비스-(시클로펜타디엔일)-비스-(4-디부틸아미노-2,3,5,6-테트라플루오로페닐)-티탄, 비스(메틸시클로 펜타디엔일)-2-(트리플루오로메틸)페닐티탄 이소시아네이트, 비스(시클로펜타디엔일)-2-(트리플루오로메틸)페닐 티탄 트리플루오로아세테이트와 비스-(메틸시클로 펜타디엔일)-비스(4-데실옥시-2,3,5,6-테트라플루오로페닐)티탄을 들 수가 있다. 액체 α-아미노케톤류가 이들 혼합물용으로 특히 적합하다.
본 발명에 따른 광경화성 조성물들은 여러가지 목적용으로 사용될 수 있다. 안료계 또는 발색계, 예를들어 인쇄잉크용, 사진 전사처리용, 상기록처리용 및 부조형(Relief forms) 제조용으로의 이들 용도가 특히 중요하다.
이 조성물 용도외 다론 중요한 분야는 안료가 첨가되거나 또는 안료가 첨가되지 않은 페이트이다. 이들 혼합물은 안료로서 TiO2가 첨가된 페인트로 구분되는 백색레커에서 특히 유용된다. 기타 사용분야는 감광성 내식막의 방사선 경화, 온부재 필름의 팡교차 결합 및 인쇄판 제조등이다. 또 다른 용도로는 일광 노출시에 그 표면에서 바로 경화되는 외부도장 페인트 필름용으로의 사용을 들 수 있다. 이 광개시제는 앞에 나열한 용도분야에서 광중합성 조성물을 기준으로 약 0.1 내지 20중량%, 바람직하게는 약 0.5 내지 5중량%의 양으로 사용하는 것이 유리하다. 이 중합반응을 단파장 방사선이 풍부한 광으로 조사시키는 공지된 광중합 방법으로 진행시킬 수가 있다.
적합한 광원의 예로는 중압, 고압 및 저압 수은램프, 초화학선 관상램프, 금속 할로겐화물 램프 또는 250 내지 450nm 범위에서 최대 방사가 행해지는 레이저광을 들 수 있다. 감광제 또는 페로센 유도체와 결합 사용하는 경우에는 보다 장파장의 광 또는 600nm까지의 레이저 비임을 또한 사용할 수가 있다.
본 발명에 따른 광개시제의 제법 및 용도를 다음 실시예에서 보다 상세히 기술하였다. 이들 실시예에서 부는 중량부이며, 퍼센트는 중량 퍼센트이고, 또 온도는 섭씨온도로 표시하였다.
[실시예 1]
α-벤질 케톤의 제조
(A) 1- (4-플루오로페닐) -2-디메틸아미노-부탄-1-온
Figure kpo00026
240g(0.98몰)의 1-(4-플루오로페닐)-2-브로모부탄-1-온(EP-A-3,002호에 기재된 방법으로 4-플루오로부티로페논을 브롬화 반응시켜 제조함)을 250ml 디에틸 에테르에 용해하였다. 이 용액을 1250ml 디에틸에테르에 265g(5.87몰)의 디메틸아민을 혼합해준 혼합물에 0℃에서 서서히 적가하였다. 이 혼합물을 0℃에서 12시간 동안 교반해준 후에 N2를 불어줌으로써 과잉의 디메틸아민을 실온에서 제거하고 또 현탁액을 물에 부어넣어 주었다. 에테르상을 물로서 세척한 후 MgSO4상에서 건조시켰다. 이 용액을 여과 및 증발시켜서, 202.8g의 조생성물을 무색 오일상으로 수득하였으며. 이는 더 정제하지 않은 상태 그대로 후속반응에 사용하였다.
이 조생성물의 NMR 스펙트럼(CDCl3)은 주어진 구조와 일치하였다.
7.8-8.23(m,2H) ; 6.8-7.3(m,2H) ; 3.75(d×d,1H) ; 2.3(s,6H) ; 1.46-2.3(m,2H) ; 0.83(t,3H).
(B) 1- (4-플루오로페닐) -2-디메틸아미노-2-벤질-부탄-1-온
Figure kpo00027
100g(0.48몰)의 1-(4-플루오로페닐)-2-디메틸아미노-부탄-1-온(A로부터의 조생성물)을 330ml 아세토니트릴에 용해하였다. 교반하면서, 98.1g(0.57몰)의 벤질 브로마이드를 서서히 적가하였다. 이 혼합물을 실온에서 12시간 동안 교반한 후에 용매를 진공하에서 증류제거하였다. 이 잔유물을 500ml 물에 용해하고 또 이 용액을 55 내지 60℃로 가열하였다. 이 온도에서 34% NaOH 용액 113g(0.96몰)을 적가하고, 또 이 혼합물을 바로 30분간 교반하였다.
냉각 후, 이 반응 혼합물을 디에틸 에테르로서 추출하고 또 이 에테르상을 MgSO4상에서 건조시킨 후 증발시켰다. 이같이 해서 추가 정제공정을 거치지 않고 후속 반응에 사용되는 조생성물 117.1g을 수득하였다. 이 조생성물의 NMR 스펙트럼은 주어진 구조와 일치하였다.
NMR(CDCl3)-δ(ppm) ; 8.1-8.53(m,2H) ; 6.76-7.5(m,7,H) ; 3.16(s,2H) ; 2.33(s,6H) ; 1.53-2.2(m,2H), 0.65(t,3H).
(C) 1-(4-디메틸아미노페닐)-2-디메틸아미노-2-벤질-부탄-1-온
Figure kpo00028
교반되는 오토클레이브내에 50g(0.167몰)의 1-(4-플루오로페닐)-2-디메틸아미노-2-벤질부탄-1-온(B로부터의 조생성물), 300ml의 디메틸 포름아미드와 23.1g(0.167몰)의 탄산 칼륨을 장입하였다. 이어 22.6g(0.5몰)의 디메틸아민을 감압하(3 내지 4바아)에서 첨가하였다. 이 혼합물을 100℃로 가열하고 또 이 온도에서 24시간 동안 교반하였다.
냉각 후, 과잉의 디메틸아민을 증발 제거시키고 또 이 반응 혼합물을 얼음/물에 부어넣고 또 디에틸에테르로 추출하였다. 이 에테르상을 물로 세척하고, MgSO4상에서 건조시킨 후 진공하에서 증발시켰다.
액상 잔유물을 에틸 아세테이트/헥산(15 : 85)을 용리제로서 사용하는 중압 크로마토그래피를 사용해서 정제하였다.
에탄올에서 결정으로 되는 조생성물 44g을 수득하였다 :
융점 : 77° 내지 80°
분석
계산치(%) : C ; 77.74, H ; 8.70, N ; 8.63.
측정치(%) : C ; 77.59, H ; 8.71, N ; 8.62.
[실시예 2]
α-알리케톤의 제조
(D) 1-(4-플루오로페닐)-2-모르폴리노-2-에틸펜트-4-엔-1-온
50ml 헥산에 12.4g(0.51몰)의 나트륨 히드리드를 분산시킨 분산액을 300ml 디메틸포름아미드(DMF)로 희석하였다. 이 현탁액에 250ml DMF중에 117.7g(0.47몰)의 1-(4-플루오로페닐)-2-모르폴리노 부탄-1-온을 용해시킨 용액을 교반하면서 2시간에 걸쳐 적가하였다.
실온에서 70.8g(0.58몰)의 알릴브로마이드를 1시간에 걸쳐 첨가하고 또 이 반응 혼합물을 채취시료를 박충 크로마토그래피로 검사해서 출발물질이 더이상 감지되지 않을 때까지 110℃로 가열하였다. 냉각 후, 이 반응 혼합물을 얼음/물에 부어넣고, 또 디에틸에테르로 추출하였다. 이 에테르상을 MgSO4상에서 건조한 후 진공하에서 증발시켰다.
잔유물로서, 더이상 정제하지 않은 상태에서 후속반응에 사용될 수 있는 오일상 조생성물 127g을 수득하였다. 이 조생성물의 NMR 스펙트럼은 주어진 구조와 일치하였다.
NMR(CDCl3), δ(ppm) : 8.46(d×d,2H) ; 7(t,2H) ; 4.8-6.5(m,3H) ; 3,5-3.9(m,4H) ; 2.4-3.2(m,6H) ; 1.7-2 3(m,2H) ; 0,57(t,3H).
[실시예 3]
상압하에서 핵(核)의 아민화 반응
(E) 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온
608.7g(2.03몰)의 1-(4-플루오로페닐)-2-디메틸아미노-2-벤질-부탄-1-온[실시예 1, (B)]354.2g(4.06몰)의 모르폴린, 562g(4.06몰)의 K2CO3및 200ml의 디메틸술폭시드를 160℃에서 교반하면서 12시간동안 가열하였다. 그후에는 채취시료를 박층 크로마토그래피로 검사해도 출발 물질 케톤이 더 이상 검출되지 않았다. 이 반응 혼합물을 실온으로 냉각하고, 이어 얼음물에 부어 넣은 후 메틸렌 클로라이드로 추출하였다. 유기상을 MgSO4상에서 건조한 후 여과, 증발하였다. 오일상 잔유물은 에탄올중에서 결정화시켰다. 생성물은 111° 내지 119°에서 용융되었다.
분석
계산치(%) : C ; 75.37, H ; 8.25, N ; 7.64.
측정치(%) : C ; 75.40, H ; 8.27, N ; 7.63.
[실시예 4]
디알릴케톤의 제조
(F) 2-디메틸아미노-1-(4-플루오로페닐)-4-펜텐-1-온
Figure kpo00029
118g(0.65몰)의 α-디메틸아미노-4-플루오로아세토페논을 350ml 아세토니트릴에 용해하였다. 이 용액에 94.5g(0.78몰)의 알릴 브로마이드를 약 25°에서 서서히 적가하고 또 이 반응 혼합물을 실온에서 12시간동안 교반하였다. 이 용매를 진공하에서 증류제거하고 또 고체 잔유물을 온수(약 60°)에 용해하였다. 30% NaOH 수용액 169ml(1.27몰)을 서서히 첨가해서 실온으로 냉각시킨 후 이 혼합물을 디에틸에테르로 추출하였다. 에테르상을 건조 증발시켰다. 수득된 잔유물은 오일상 형태의 조(粗) 2-디메틸아미노-1-(4-플루오로페닐)-4-펜텐-1-온으로 이는 추가로 정제하지 않고도 후속 반응에 사용될 수 있다. 이 생성물의 NMR 스펙트럼은 주어진 구조와 잘 일치하였다 :
7.83-8.23m(2H,HB), 6.9-7.26cm(2H,HA), 4.76-6.0m(3H,H올레핀), 3.96d×d(1H,J =6Hz,J=8.5Hz,HC), 2.2-2.7m(2H,HD), 2.3s(6H,HE).
(G) 4-디메틸아미노-4-(4-플루오로벤조일)-헵타-1,6-디엔
Figure kpo00030
350ml 아세토니트릴중에 가해준(F)로부터의 조생성물 131g(0.59몰)과 85.9g(0.71몰)의 알릴브로마이드를 (F)에서와 같이 반응시겼다. 이 반응 혼합물의 중화는 30% NaOH 160ml(1.2몰)로서 행하였다. 조생성물을 (F)에서와 유사하게 분리하였다. 이 반응생성물은 추가 정제를 행하지 않은 상태 그대로 다음 단계 반응에(핵의 아민화 반응) 사용될 수 있는 황색 오일상 물질이다.
NMR(CDCl3) : 8.53-8.1m(2H,HB), 7.2-6.7m(2H,HA), 6.1-4.7m(6H,H올레핀), 2.8-2.5m(4H,H알릴), 2.4s(6H,N-CH3).
[실시예 5]
3,6-디부티릴-9-부틸-9H-카르바졸의 합성
(H) N-부틸카르바졸의 합성
200ml 톨루엔에 100g(0.6몰)의 카르바졸을 현탁시킨 현탁액을 교반하먼서 환류 가열하였다. 95℃로 냉각 후, 1차로 26.8g(0.12몰)의 트리에틸벤질 암모늄 클로라이드를 또 이어 180ml 물에 169.8g KOH를 용해시킨 용액을 첨가하였다. 이같이 하멸 온도가 65o로 떨어진다. 격렬히 교반하먼서 205.6g(1.5몰)의 부틸브로마이드를 5분간에 걸쳐 첨가하면, 온도가 92℃로 상승한다. 이 혼합물을 10분간 더 환류상태로 유지하면, 모든 카르바졸이 용해된다. 이어 수성상을 분리하였다. 톨루엔상을 소량의 물로 세척하고, Na2CO3상에서 건조한 후 진공하에서 증발시켰다. 오일상 물질을 300ml 온(溫) 헥산에 용해하고 또 이 용액을 맑게 만들었다. 냉각시킴에 따라 생성물은 융점 50 내지 52℃의 베이지색 결정으로 결정화되었다.
(I) 프리델-크라프트(Friedel-Crafts) 반응
46.9g(0.44몰)의 부티릴클로라이드를 100ml 메틸렌 클로라이드 중에 93.3g(0.7몰)의 AlCl3를 현탁시킨 현탁액에 교반하면서 또 -10o내지 -5o로 냉각시키면서 30분간에 걸쳐 적가하였다. 이어 50ml CH2Cl2중에 22.3g(0.1몰)의 N-부틸카르바졸을 용해시킨 용액을 -10o내지 -5o에서 2시간에 걸쳐 적가하였다. 이 현탁액을 0o내지 20o에서 16시간 동안 교반한 후 이어 얼음물에 부어넣었다. 제조된 이 유화액을 CHCl3로서 2회 추출하고, 또 추출액을 물로 세척하고, 또 MgSO4상에서 건조시킨 후 증발시켰다. 조(粗) 3.6-디부티릴-9-부틸-9H-카르바졸을 80ml 에탄올 중에서 재결정시켰다. 수득된 결정은 융점 107 내지 109°를 갖는다.
유사한 방식으로 81.4g의 프로피오닐 클로라이드와 44.7g의 N-부틸카르바졸로부터 융점 142 내지 144°를 갖는 3,6-디프로피온일-9-부틸-9H-카르바졸을 수득하였다.
다음 표에 수록한 생성물은 일반 제조실시예(A) 내지 (I)와 유사한 방식으로 제조하였다 :
Figure kpo00031
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Figure kpo00032
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Figure kpo00033
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Figure kpo00034
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Figure kpo00035
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Figure kpo00036
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Figure kpo00037
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Figure kpo00038
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Figure kpo00039
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Figure kpo00040
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Figure kpo00041
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Figure kpo00042
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Figure kpo00043
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Figure kpo00044
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Figure kpo00045
Figure kpo00046
Figure kpo00047
Figure kpo00048
[실시예 5]
청색 인쇄잉크의 광경화성
다음 조제 비율에 따라 청색 인쇄잉크를 제조하였다.
Figure kpo00049
이 혼합물을 3-로울 밀상에서 균질화시키고 또 입도 5μm로 파쇄하였다.
각개 경우에, 이 인쇄잉크 5g을 180kg/m2압력하의 판상 마쇄기상에서 물로 냉각시켜주면서 필요한 양만큼의 광개시제와 균질 혼합시킨다. 인쇄잉크를 기준으로 3% 및 6% 광개시제를 갖는 시료를 제조하였다.
이들 인쇄잉크로서 시편 인쇄장치(Pr
Figure kpo00050
fbau, FR Germany)를 사용 4×20cm 크기의 인쇄용-아트지에 옵세트 인쇄를 행하였다. 인쇄조건은 사용된 인쇄잉크의 양 : 1.5g/m2, 라인압력(line pressure) : 25kp/cm, 인쇄속도 : 1m/초이었다.
본 실시예에서는 금속표면(알루미늄)을 갖는 인쇄로울러를 사용하였다.
인쇄된 샘플은 각각 80W/cm인 램프 2개를 사용해서 PPG로부터 UV 조사장치로 경화시켰다. 조사시간은 샘플의 이송속도를 변화시켜서 변경하였다.
인쇄잉크의 표면건조를 소위 조사직후 전사시험으로 시험하였다. 따라서 인쇄된 샘플위에 라인압력 25kp/cm 되게 백지를 눌러주었다. 이 백지가 무색으로 될 경우, 시험이 통과된 것으로 하였다.
육안으로 식별할 수 있을 정도의 색채가 이 시험편으로 전사되는 경우에 이는 샘플 표면이 충분히 경화되지 않았다는 표시로 된다.
전사시험을 통과할 수 있는 최대 이송속도를 표 5에 수록하였다.
인쇄잉크의 완전 경화시험을 행하기 위해서, 고무표면을 갖는 인쇄로울러를 사용하고 또 알루미늄 피복한 종이띠의 금속면에 인쇄한 것을 제외하고는 전술한 방법과 유사하게 옵세트 인쇄물을 만들었다.
전술한 것과 동일하게 조사를 행하였다. 완전 경화시험을 조사직후 REL 완전경화 시험기로서 행하였다. 이 시험에서 그 위에 직물이 감겨있는 알루미늄 실린더를 인쇄된 샘플위에 위치시키고 또 10초에 걸쳐 220g/cm2압력으로 그 자체축 주위를 1회 회전시켰다. 육안으로 식별가능한 손상이 샘플에 야기된 경우에 인쇄잉크는 충분하게 완전 경화되지 않은 것으로 하였다. REL 시험을 통과할 수 있는 최대 이송속도를 표에 수록하였다.
Figure kpo00051
[실시예 6]
백색 레커의 광경화성
다음 조제비율에 따라 백색 레커를 제조하였다 :
Figure kpo00052
상기 성분들을 250ml 유리 용기내에서 125g의 유리 비이드(직경 4mm)와 함께 24시간 이상 연마해서 5μm 미만의 입도로 만들었다.
이같이 해서 수득된 원료 페이스트를 여러개로 나누고, 각개 부분을 표 6에 수록한 광개시제 2%와 함께 60℃에서 교반하면서 혼합하고 또 이 혼합물을 유리 비이드와 함께 재차 16시간 동안 연마하였다
이같이 제조한 백색 레커를 닥터브레이드(Doctor blade)를 사용 유리판에 70μm 두께로 도포하였다. 이들 시료는 한편으로는 80W/cm 램프를 갖는 PPG 조사장치에 또다른 한편으로는 D 램프를 사용하는 Fusion System(미국) 사제품 조사장치에 각각 동일한 통로를 통해서 노출시킨다. 이같이 해서 조사장치를 통과하는 시료의 통과속도를 적절한 경화가 더이상 진행되지 않을 때까지 계속해서 증가시켜준다. 문질러도 이상없는 형태(Wipe-proof forms)의 레커필름을 얻게 되는 최대속도를 표 6에 경화속도(Curing rate)로서 수록하였다.
Figure kpo00053
[실시예 7]
백색 레커의 감각(Sensitized) 광경화성
실험조작은 실시예 6에서와 동일하게 진행하였으나, 2% 광개시제 이외에 0.5% 이소프로필티옥산톤(레커 기준)을 증감제로서 또한 첨가하였다. 이같이 해서 경화속도에 탁월한 증가가 있었다. 수득된 결과를 다음 표 7에 수록하였다.
Figure kpo00054
[실시예 8]
검정색 옵세트 인쇄잉크의 광경화성
광경화성 검정색 옵세트 인쇄잉크를 각각 표 8에 수록된 광개시제 3%와 혼합하고 또 이 잉크 1.5g/m 양으로 사용하고, 또 실험조작은 실시예 5와 동일하게 행하여 알루미늄 박층을 입힌 종이에 인쇄하였다. 경화처리는 2개의 80와트 램프를 갖고 있는 PPG 장치로서 실시예 5에 기재된 방법에 따라 또한 진행하였다. 경화정도를 실시예 5에 기재된 방법과 동일하게 전사시험으로 체크하였다. 표 8에는 전사시험에 합격한 조사장치내에서의 최대 이송속도를 기재하였다.
Figure kpo00055
[실시예 9]
감광성 내식막의 제조
Figure kpo00056
의 혼합물을 319g 메틸렌 클로라이드와 30g 메탄올 혼합물에 용해하였다. 이 용액에 0.5g의 Irgalithgreen
Figure kpo00057
GLN(시바-가이기 아게)과 광개시계로서 화합물 번호 10을 표 9에 기재된 양만큼 첨가하였다.
이 점성 용액을 알루미늄 쉬-트에 200μm 두께로 도포하였다. 60o에서 15분간 건조한 후에 두께는 약 45μm이었다. 이 시료를 폴리에스테르 쉬-트(76μm)로 씌웠다. 광학 21단계 웨이지(Stouffer Wedge)를 이 쉬-트상에 위치시켜 진공으로 고정하였다. 이 시료를 웨이지를 통해 30cm 거리에서 5kW 램프로 20초간 조사하였다. 그후 쉬-트를 꺼내서 시료를 초음파 욕에서 현상하였다. 사용한 현상액은 1000g의 물에 Na2SiO3·9H2O 15g, KOH 0.16g, 폴리에틸렌 글리콜 6000 3g 및 레블린산 0.5g을 용해시킨 용액이다. 실온에서 완전히 건조시킨 후에 시료를 검사하였다. 표 9에는 완전하게 재생되고 또 들러붙는 표면 부위가 전혀 없는 최고 단계를 표시하였다. 이 단계가 높으면 높을수록 시스템의 감작 능력이 더 큰 것을 나타낸다.
Figure kpo00058
[실시예 10]
인쇄 감광판의 제조
88.6부의 부타디엔/스티렌 공중합체(Shell Chemie 제품, Cariflex
Figure kpo00059
TR 1107)를 140℃ 압착로울러(Calender)상에서 가소화시켰다. 이어, 11부의 헥산디올 디아크릴레이트, 0.3부의 페놀성 산화방지제(ICI Comp. 제품, Topanol
Figure kpo00060
OC), 0.01부의 Sudan Black B와 0.4부의 화합물 번호 10을 100℃에서 혼합하고, 또 이 온도를 동일 온도에서 균질화 하였다.
2개의 폴리에스테르 쉬-트 사이에 이 혼합물을 넣고 눌러서 2mm 두께의 판을 제조하였다. 이들 판의 후면을 40W 램프를 구비한 BASF-Nyloprint 조사장치를 사용 쉬트를 통해 조사하였다. 이 감광판 전면의 쉬-트를 시험음화(Test negative)로 교체시키고 또 이 전면을 이 음화를 통해 6분간 노출시켰다.
이 노출시킨 시료를 가용성 부위를 세척해주면서 테트라클로로에틸렌 4부와 부탄올 1부의 혼합물이 담긴 브러싱베스(Brushing bath)내에서 현상하였다. 80℃로 60분간 건조시킨 후 두번째 쉬-트를 제거하고 또 이 인쇄 감광판을 0.4% 브롬수 용액과 1.5% Na2S2O3/Na2CO3용액에 차례로 담가준 후에 물로 세척하였다.
마지막으로, 각면을 6분간 추가로 조사하였다. 시험음화의 모든 부분이 선명하게 복사되었다. 오목홈의 깊이는 34μm, 볼록부형의 높이는 450μm이었다.

Claims (11)

  1. 다음 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 이 화합물의 산부가염.
    Figure kpo00061
    상기 식에서, Ar1은 다음 일반식(Ⅳ),(Ⅴ),(Ⅵ) 또는 (Ⅶ)의 방향족 라디칼
    Figure kpo00062
    이고 ; X는 일반식
    Figure kpo00063
    ,-N(R11)- 또는 -N(R11)-R12-N(R11)-의 2가 라디칼 ; Y는 C1-C6알킬렌, 크실릴렌, 시클로헥실렌 또는 직접 결합손 ; Y'는 크실릴렌, C4-C8알켄디일, C6-C10알카디엔디일, 디펜텐디일 또는 디히드로크실릴렌으로 ; 여기서 U는 -O-, -S- 또는 -N(R17)-, V는 -O-, -S-, -N(R17)-, -CO-, -CH2-, -CH2CH2-, C2-C6알킬리덴 또는 직접 결합손, W는 미분지 또는 분지된 C1-C7알킬렌 또는 C2-C6알킬리덴리며 ; R1은 (a) 일반식 -(CHR13)P-
    Figure kpo00064
    의 기(여기서, P는 0 또는 1) 또는 (b) 일반식
    Figure kpo00065
    의 기(여기서 q는 0,1,2 또는 3) 또는 (c) 일반식 -CH-Ar2의 기(여기서, Ar2은 할로겐, OH, C1-C12알킬, [OH, 할로겐,-N(R11)2, -C1-C12알콕시, -COO(C1-C18알킬), -CO(OCH2CH2)nCOH3또는 -OCO(C1-C4) 알킬로서 치환된 C1-C4알킬], C1-C12알콕시, [-COO(C1-C18알킬) 또는 -CO(OCH2CH2)nOCH3로서 치환된 C1-C4알콕시], -(OCH|2CH2)nOH, -(OCH2CH2)nOCH3, C1-C8알킬티오, 페녹시, -COO(C1-C18알킬), -CO(OCH|2CH2)nOCH3, 페닐 또는 벤조일로서 치환되거나 또는 비치환된 페닐, 나프틸, 푸릴, 티에닐 또는 피리딜기이고, n은 1 내지 20이다), 또는 (d) R2와 함께 일반식
    Figure kpo00066
    (여기서, m은 1 또는 2)를 형성하며 ; R2는 R1에서 주어진 의미중 1개이거나 또는 C5-C8시클로알킬 ; C1-C4알콕시, 페녹시, 할로겐 또는 페닐로서 치환되거나 또는 비치환된 C1-C12알킬 ; 또는 할로겐, C1-C12알킬 또는 C1-C4알콕시로서 치환되거나 또는 비치환된 페닐이고 ; R3은 수소 ; C1-C12알킬 ; 히드록시, C1-C|4알콕시, -CN 또는 -COO(C1-C4알킬)로서 치환된 C2-C4알킬 ; C3-C5알케닐 ; C5-C12시클로알킬 또는 C7-C9페닐알킬이며 ; R4는 C1-C12알킬 ; 히드록시, C1-C4알콕시, -CN 또는 -COO(C1-C4알킬)로서 치환된 C2-C4알킬 ; C3-C5알케닐 ; C5-C12시클로알킬 ; C7-C9페닐알킬 ; 페닐 ; 또는 할로겐, C1-C12알킬, C1-C4알콕시 또는 -COO(C1-C4알킬)로서 치환된 페닐이거나 또는 R1는 R2와 함께 C1-C7알킬렌, C7-C10페닐알킬렌, o-크실릴렌, 2-부테닐렌 또는 C7-C10옥사- 또는 -아자알킬렌이거나 또는 R3와 R4가 함께 중간에 -O-, -S-, -CO- 또는 -N(R17)-을 갖거나 또는 히드록시, C1-C4알콕시 또는 -COO(C1-C4알킬)로서 치환될 수 있는 C3-C7알킬렌이고 ; R5, R6, R7, R8및 R9는 상호 독립적으로 수소, 할로겐, C1-C12알킬, C5-C6시클로알킬, 페닐, 벤질, 벤조일 또는 -OR18,-SR19,-SO-R19,-SO2-R19, -N(R20) (R21),-NH-SO|2-R22또는
    Figure kpo00067
    의 기로서 여기서 Z는 -O-, -S-, -N(R11)-, -N(R11)-R12-N(R11)- 또는
    Figure kpo00068
    이고 ; 이때, R1이 알릴 또 R2가 메틸인 경우 R5가 -OCH3가 아니며, 또 R1이 벤질 또 R2가 메틸 또는 벤질인 경우 R5가 -OCH3, -SCH|3또는 -SO-CH3가 아니고 ; R10이 수소, C1-C12알킬, 할로겐 또는 C2-C8알칸오일 ; R11이 수소, C1-C8알킬, C3-C5알켄일, C7-C9페닐알킬, C1-C4히드록시알킬 또는 페닐 ; R12가 1개 또는 그 이상의 -O-, -S- 또는 -N(R11)-을 중간에 갖을 수 있는 미분지되거나 또는 분지된 C2-C16알킬렌 ; R13이 수소, C1-C8알킬 또는 페닐 ; R14, R15및 R16은 상호 독립적으로 수소 또는 C1-C4알킬이거나 또는 R14및 R15가 함께 C3-C|7알킬렌이고 ; R17은 수소 ; 1개 또는 그 이상의 -O-을 중간에 갖을 수 있는 C1-C12알킬 ; C3-C5알케닐 ; C7-C9페닐알킬, C1-C4히드록시알킬, -CH2CH2CN, -CH2CH2COO(C1-C4알킬), C2-C6알칸오일 또는 벤조일 ; R18은 수소 ; C1-C12알킬 ; -CN, -OH, C1-C4알콕시, C3-C6알켄옥시, -OCH2CH2CN, -OCH2CH2COO(C1-C4알킬), -COOH 또는 -COO(C1-C4알킬)로서 치환된 C1-C6알킬 ; n이 2 내지 20인 -(CH2CH2O)nH ; C2-C8알칸오일 ; C3-C12알켄일 ; 시클로헥실 ; 히드록시 시클로헥실 ; 페닐 ; 할로겐, C1-C12알킬 또는 C1-C4알콕시로서 치환된 페닐 ; C7-C8페닐알킬 ; 또는 r가 1,2 또는 3인 -Si(C1-C|8알킬) r(페닐)3-r이며 ; R19는 수소 ; C1-C12알킬 ; C3-C12알켄일 ; 시클로헥실 ; -SH, -OH, -CN, -COO(C1-C4알킬), C1-C4알콕시, -OCH2CH2CN 또는 -OCH2CH2COO(C1-C4알킬)로서 치환된 C1-C6알킬 ; 페닐 ; 할로겐, C1-C12알킬 또는 C1-C4알콕시로서 치환된 페닐 ; 또는 C7-C9페닐알킬이고; R20및 R21은 상호 독립적으로 수소 ; C1-C12알킬 ; C2-C4히드록시알킬 ; C2-C10알콕시알킬 ; C3-C|5알켄일 ; C5-C12시클로알킬 ; C7-C9페닐알킬 ; 페닐 ; 또는 할로겐, C1-C12알킬 또는 C1-4알콕시로서 치환된 페닐 ; C2-C3알칸오일 ; 또는 벤조일이거나 ; 또는 R20및 R21이 함께 중간에 -O-,-S- 또는 -N(R17)-을 갖거나 또는 히드록시, C1-C4알콕시 또는 -COO(C1-C4알킬)로서 치환될 수 있는 C2-C8알킬렌이며 ; 또 R22는 C1-C18알킬 ; 할로겐, C1-C12알킬 또는 C1-C8알콕시로서 치환되거나 또는 비치환된 페닐 또는 나프틸이다.
  2. 제1항에 있어서, Ar1이 일반식(Ⅳ)의 기이고, R5및 R6가 수소, 할로겐, C1-C12알킬 또는 -OR18,-SR19,-SOR19,-SO2R19,-N(R20)(R21),-NH-SO2-R22또는
    Figure kpo00069
    (여기서, Z는 -O-, -S-, -N(R11)-, 또는 -N(R11)-R12-N(R11)- 또는
    Figure kpo00070
    임)이고 ; R7및 R8은 수소 또는 할로겐이며, R9는 수소, 할로겐 또는 C|1-C12알킬이고 ; 또 R1, R2, R3, R4, R11, R12, R18, R19, R20, R21및 R22가 제1항에서 정의한 것과 동일하고 ; 또 R1이 알릴 또 R2가 메틸인 경우에 R5가 -OCH3가 아니며, 또 R1이 벤질 또 R2가 메틸 또는 벤질인 경우에 R5가 -OCH3, -SCH3또는 -SOCH3가 아닌 일반식(I)의 화합물 또는 그 산부가염.
  3. 제2항에 있어서, Ar1이 일반식(Ⅳ)의 기이고, 여기서 R5가 -OR18, -SR19, -N(R20)(R21) 또는
    Figure kpo00071
    이며, R6이 수소, 할로겐 또는 C1-C4알킬이거나 또는 R5에서 주어진 의미중의 하나이고, R7및 R8은 수소 또는 할로겐이며, R9가 수소 또는 C1-C|4알킬로서 이때 Z는 -O-, -S- 또는 -N(R11)-이고; R1은 일반식
    Figure kpo00072
    의 라디칼이거나 또는 일반식 -CH(R13)-Ar2의 라디칼(여기서, Ar2는 할로겐, C1-C12알킬, C1-C4알콕시, -(OCH2CH2)nOCH3또는 벤조일로서 치환되거나 또는 비치환된 페닐이며, n은 1 내지 10이다)이고, R2는 R1에서 주어진 의미중 하나이거나 또는 C1-C8알킬이며 ; R3및 R4는 상호 독립적으로 C1-C12알킬 ; C1-C4알콕시, -CN 또는 -COO(C|1-C4알킬)로서 치환된 C2-C4알킬 ; 알릴 ; 시클로헥실 ; 또는 벤질이거나 또는 R3및 R4가 함께 중간에 -O- 또는 -N(R17)-을 갖을 수 있는 C4-C6알킬렌이고, R11이 수소, C1-C4알킬, 알릴, 벤질 또는 C2-C4알칸오일이며 ; R13, R14, R15및 R16이 상호 독립적으로 수소 또는 메틸이고 ; R17이 수소, C1-C4알킬, 벤질, 2-히드록시에틸 또는 아세틸이며 ; R18이 수소, C1-C4알킬, 2-히드록시에틸, 2-메톡시에틸, 2-알릴옥시에틸, 알릴, 시클로헥실, 페닐, 벤질 또는 -Si(CH3)3이고 ; R19가 수소, C1-C12알킬, 2-히드록시에틸, 2-메톡시에틸, 페닐, p-톨릴 또는 벤질이며 ; 또 R20및 R21이 상호 독립적으로 수소, C1-C12알킬, C2-C6알콕시알킬, 아세틸, 알릴 또는 벤질이거나 또는 R20및 R21이 함께 중간에 -O- 또는 -N(R17)-을 갖을 수 있는 C4-C6알킬렌이고 ; 또 R1이 알릴인 경우에 R5가 -OCH3가 아니며 또 R1이 벤질 또 R2가 메틸 또는 벤질인 경우에 R5가 -OCH3또는 -SCH3가 아닌 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 그 산부가염.
  4. 제3항에 있어서, Ar1이 일반식(Ⅳ)의 기로서, R5가 -OR18, -SR19또는 -N(R20)(R21)의 기이며, R6이 수소, 염소 또는 C1-C4알킬이거나 또는 R5에서 주어진 의미중의 하나이고, R7및 R8은 수소 또는 염소이며, R9가 수소 또는 C1-C|4알킬이고 ; R1은 일반식 -CH2-C(R14)=CH(R15)의 라디칼 또는 일반식 -CH2-Ar2의 라디칼(여기서, Ar2는 할로겐, C1-C12알킬, C1-C4알콕시, -(OCH2CH2)nOCH3또는 벤조일로서 치환되거나 또는 비치환된 페닐기이며, n은 1 내지 10이다)이고 ; R2는 R1에서 주어진 의미중 하나이거나 또는 C1-C8알킬이며 ; R3및 R4는 상호 독림적으로 C1-C6알킬, 2-메톡시에틸, 알릴 또는 벤질이거나 또는 R3및 R4가 함께 테트라메틸렌, 펜타메틸렌 또는 3-옥사펜타메틸렌이고 ; R14및 R15는 수소 또는 메틸이며 ; R18은 C1-C4알킬, 2-히드록시에틸, 2-메톡시에틸 또는 페닐이고 ; R19가 C1-C12알킬, 2-히드록시에틸, 2-메톡시에틸, 페닐 또는 p-톨릴이며 ; 또 R20및 R21이 수소, C1-C4알킬, 2-메톡시에틸, 아세틸 또는 알릴이거나 또는 R20및 R21이 함께 중간에 -O- 또는 -N(CH3)-를 갖을 수 있는 C4-C5알킬렌이고 ; 또 R1이 알릴인 경우에 R5가 -OCH3가 아니며, 또 R1이 벤질 또 R2가 메틸 또는 벤질인 경우에 R5가 -OCH3또는 -SCH3가 아닌 화합물 또는 그 산부가염.
  5. 제4항에 있어서, R5가 -SR19; R7및 R8이 수소 ; R1이 일반식
    Figure kpo00073
    의 라디칼이고 ; 또 기타 모든 치환기는 제5항에서 정의한 것과 동일한 화합물 또는 그 산부가염.
  6. 제4항에 있어서, R5가 -N(R20)(R21)의 기 ; R7및 R8이 수소 ; 또 기타 모든 치환기가 제5항에서 정의한 것과 동일한 화합물 또는 그 산부가염.
  7. 제2항에 있어서, Ar1이 일반식(Ⅳ)의 기이고, 여기서 R5가 수소, 할로겐 또는 C1-C12알킬이며, R6, R7, R8및 R9가 수소이고 ; R|1이 알릴 또는 벤질이고 ; R2가 C1-C6알킬, 알릴 또는 벤질이며 ; R3및 R4가 상호 독립적으로 C1-C12알킬 ; C1-C4알콕시, -CN 또는 -COO(C1-C4알킬)로서 치환된 C2-C4알킬 ; 알릴 ; 시클로헥실 ; 또는 벤질이거나 또는 R3및 R4가 함께 중간에 -O- 또는 -N(R17)-을 갖을 수 있는 C4-C6알킬렌이고 ; 또 R17이 수소, C1-C4알킬 또는 2-히드록시에틸인 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 그 산부가염.
  8. (A) 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 광중합 화합물과 (B) 광개시제로서 적어도 1개의 제1항에 따른 화합물을 함유하는 광경화성 조성물.
  9. 제8항에 있어서, (A) 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 광중합 화합물, (B) 광개시제로서 적어도 1개의 제4항에 따른 화합물과 (C) 백색 안료 또는 유색 안료를 함유하는 광경화성 조성물.
  10. 제9항에 있어서, (A) 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 광중합 화합물, (B) 광개시제로서 적어도 1개의 제4항에 따른 화합물, (C) 백색 안료 또는 유색 안료와 (D) 광증감제로서 벤조페논, 티오크산톤, 안트라퀴논, 3-아실코우마린 또는 3-(아로일메틸렌)티아졸린 종에 속하는 방향족 카르보닐 화합물을 함유하는 광경화성 조성물.
  11. 제8항에 있어서, (A) 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 광중합 화합물과, (B) (B1) 적어도 1개의 제1항에 따른 복합물과 (B2) 아릴 라디칼에서 불소 또는 CF3로 치환된 아릴-티타노센 유도체의 혼합물을 광개시제로서 함유하는 광경화성 조성물.
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Families Citing this family (190)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0284561B1 (de) * 1987-03-26 1993-05-12 Ciba-Geigy Ag Neue alpha-Aminoacetophenone als Photoinitiatoren
US5248805A (en) * 1988-12-31 1993-09-28 Basf Aktiengesellschaft Radiation-senstive, ethylenically unsaturated, copolymerizable compounds and their preparation
ES2110987T3 (es) * 1990-11-05 1998-03-01 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Composiciones fotopolimerizables.
JP2764480B2 (ja) * 1991-05-17 1998-06-11 日本化薬株式会社 カラーフィルター用光重合組成物
CA2134156A1 (en) * 1993-11-22 1995-05-23 Thomas P. Klun Coatable compositions, abrasive articles made therefrom, and methods of making and using same
TW434456B (en) 1994-12-30 2001-05-16 Novartis Ag A compound as functionalized photoinitiator, its production process, its corresponding oligomers or polymers and its application in coating a substrate
JP3442176B2 (ja) 1995-02-10 2003-09-02 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
US5698285A (en) * 1995-10-19 1997-12-16 Three Bond Co., Ltd. Adhesive for optical disk
US5795985A (en) 1996-03-05 1998-08-18 Ciba Specialty Chemicals Corporation Phenyl alkyl ketone substituted by cyclic amine and a process for the preparation thereof
US6620857B2 (en) 1996-07-02 2003-09-16 Ciba Specialty Chemicals Corporation Process for curing a polymerizable composition
DE69737861T8 (de) * 1996-07-02 2008-06-26 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Verfahren zur vernetzung einen polymerisierbaren zusammensetzung
MX9709634A (es) * 1996-12-06 1998-07-31 Ciba Sc Holding Ag Nuevos fotoiniciadores de alfa-aminoacetofenona.
TW452575B (en) * 1996-12-06 2001-09-01 Ciba Sc Holding Ag New Α-aminoacetophenone photoinitiators and photopolymerizable compositions comprising these photoinitiators
JP4246268B2 (ja) 1997-01-22 2009-04-02 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド α−アミノケトンに基づく光活性化可能な窒素含有塩基
US6479706B1 (en) 1997-02-04 2002-11-12 Albemarle Corporation Aminobenzophenones and photopolymerizable compositions including the same
US6551761B1 (en) 1997-02-26 2003-04-22 Ciba Specialty Chemical Corporation Photoactivatable nitrogen-containing bases based on α-ammonium ketones, iminium ketones or amidinium ketones and aryl borates
CN1128799C (zh) * 1997-03-18 2003-11-26 西巴特殊化学品控股有限公司 基于α－氨基烯烃的可被光活化的含氮碱
US6524379B2 (en) 1997-08-15 2003-02-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same
TW436491B (en) * 1997-08-22 2001-05-28 Ciba Sc Holding Ag Compositions for use in base-catalysed reactions, a process for curing said compostions and a process for photochemically generating bases in base catalysed polymeriaztion reactions
EP0898202B1 (en) * 1997-08-22 2000-07-19 Ciba SC Holding AG Photogeneration of amines from alpha-aminoacetophenones
ES2142250B1 (es) * 1997-12-03 2001-02-01 Ciba Sc Holding Ag Nuevos fotoiniciadores de alfa-aminoacetofenona.
SK1552000A3 (en) * 1998-06-03 2000-08-14 Kimberly Clark Co Novel photoinitiators and applications therefor
EP1144512B1 (en) 1999-01-19 2003-04-23 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Novel colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same
US6331056B1 (en) 1999-02-25 2001-12-18 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Printing apparatus and applications therefor
WO2000068218A1 (en) * 1999-05-10 2000-11-16 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Novel photoinitiators and their applications
US6368395B1 (en) 1999-05-24 2002-04-09 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same
AU2001269905A1 (en) 2000-06-19 2002-01-08 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Novel photoinitiators and applications therefor
DE60136005D1 (en) * 2000-12-13 2008-11-13 Ciba Holding Inc Oberflächenaktive photoinitiatoren
WO2003010602A1 (en) * 2001-07-26 2003-02-06 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Photosensitive resin composition
GB0118936D0 (en) * 2001-08-02 2001-09-26 Unilever Plc Improvements relating to colour-safe fabric treatment compositions
GB0205276D0 (en) * 2002-03-06 2002-04-17 Unilever Plc Bleaching composition
US20030225179A1 (en) * 2002-04-26 2003-12-04 Chiu Chingfan Chris Novel morpholinoketone derivatives, and preparation process and uses of the same
JP2004043433A (ja) * 2002-04-26 2004-02-12 Kitai Kagi Kofun Yugenkoshi モルフォリノケトン誘導体及びその用途
KR101059703B1 (ko) * 2002-10-28 2011-08-29 시바 홀딩 인크 광개시제의 저장 안정성 증진방법
JP4291638B2 (ja) 2003-07-29 2009-07-08 富士フイルム株式会社 アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版
ITVA20030028A1 (it) 2003-08-07 2005-02-08 Lamberti Spa Sistemi fotopolimerizzabili trasparenti per la preparazione di rivestimenti ad elevato spessore.
JP4348253B2 (ja) 2003-08-20 2009-10-21 富士フイルム株式会社 導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法
JP4504142B2 (ja) * 2003-09-30 2010-07-14 大日本印刷株式会社 光ラジカル発生剤、感光性樹脂組成物及び、物品
US7141354B2 (en) 2003-09-30 2006-11-28 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Photo radical generator, photo sensitive resin composition and article
JP4975449B2 (ja) * 2004-02-02 2012-07-11 チバ ホールディング インコーポレーテッド 官能化光開始剤
JP4380359B2 (ja) * 2004-02-20 2009-12-09 Ｊｓｒ株式会社 スペーサー形成用感放射線性樹脂組成物、スペーサーとその形成方法および液晶表示素子
US7262229B2 (en) * 2004-05-03 2007-08-28 Flint Group Ink for excimer curing
JP5089866B2 (ja) 2004-09-10 2012-12-05 富士フイルム株式会社 平版印刷方法
GB2420117A (en) * 2004-11-10 2006-05-17 Sun Chemical Ltd Piperazino based multi-functional photoinitiators
JP4967378B2 (ja) 2005-03-29 2012-07-04 セイコーエプソン株式会社 インク組成物
JP4474317B2 (ja) 2005-03-31 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2006335826A (ja) 2005-05-31 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法
JP4811004B2 (ja) * 2005-12-09 2011-11-09 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。
EP2027087A2 (en) 2006-05-18 2009-02-25 MannKind Corporation Intracellular kinase inhibitors
JP5276264B2 (ja) 2006-07-03 2013-08-28 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法
KR101433684B1 (ko) * 2006-07-17 2014-08-25 시바 홀딩 인크 결합방법
JP4438777B2 (ja) * 2006-08-09 2010-03-24 東洋インキ製造株式会社 ラジカル重合開始剤、重合性組成物、および重合物の製造方法。
US20080132599A1 (en) 2006-11-30 2008-06-05 Seiko Epson Corporation. Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these
JP5472670B2 (ja) 2007-01-29 2014-04-16 セイコーエプソン株式会社 インクセット、インクジェット記録方法及び記録物
EP1958994B1 (en) * 2007-01-31 2010-12-08 FUJIFILM Corporation Ink set for inkjet recording and inkjet recording method
EP1955858B1 (en) 2007-02-06 2014-06-18 FUJIFILM Corporation Ink-jet recording method and device
US8240808B2 (en) 2007-02-07 2012-08-14 Fujifilm Corporation Ink-jet head maintenance device, ink-jet recording device and ink-jet head maintenance method
JP5227521B2 (ja) 2007-02-26 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット
US8894197B2 (en) 2007-03-01 2014-11-25 Seiko Epson Corporation Ink set, ink-jet recording method, and recorded material
JP5224699B2 (ja) 2007-03-01 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版
JP5306681B2 (ja) 2007-03-30 2013-10-02 富士フイルム株式会社 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法
JP5243072B2 (ja) 2007-03-30 2013-07-24 富士フイルム株式会社 インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物
EP2028241A1 (en) * 2007-08-09 2009-02-25 Seiko Epson Corporation Photocurable ink composition, ink cartridge, inkjet recording method and recorded matter
JP4816976B2 (ja) 2007-08-09 2011-11-16 セイコーエプソン株式会社 光硬化型インク組成物
JP4766281B2 (ja) 2007-09-18 2011-09-07 セイコーエプソン株式会社 インクジェット記録用非水系インク組成物、インクジェット記録方法および記録物
JP5227560B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP5265165B2 (ja) 2007-09-28 2013-08-14 富士フイルム株式会社 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置
JP4898618B2 (ja) 2007-09-28 2012-03-21 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
GB0724863D0 (en) 2007-12-21 2008-01-30 Unilever Plc Fabric treatment active
JP5254632B2 (ja) 2008-02-07 2013-08-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物
US20090214797A1 (en) 2008-02-25 2009-08-27 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same
JP2009269397A (ja) 2008-02-29 2009-11-19 Seiko Epson Corp 不透明層の形成方法、記録方法、インクセット、インクカートリッジ、記録装置
JP5583329B2 (ja) 2008-03-11 2014-09-03 富士フイルム株式会社 顔料組成物、インク組成物、印刷物、インクジェット記録方法、及びポリアリルアミン誘導体
JP4914862B2 (ja) 2008-03-26 2012-04-11 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置
JP5414367B2 (ja) 2008-06-02 2014-02-12 富士フイルム株式会社 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物
EP2285836B1 (en) 2008-06-06 2012-01-18 Basf Se Photoinitiator mixtures
JP5383133B2 (ja) 2008-09-19 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法
JP2010077228A (ja) 2008-09-25 2010-04-08 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物
MY151232A (en) 2008-12-30 2014-04-30 Novartis Ag Tri-functional uv-absorbing compounds and use thereof
JP2010180330A (ja) 2009-02-05 2010-08-19 Fujifilm Corp 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物
JP5350827B2 (ja) 2009-02-09 2013-11-27 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP2010209183A (ja) 2009-03-09 2010-09-24 Fujifilm Corp インク組成物及びインクジェット記録方法
JP5349095B2 (ja) 2009-03-17 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5349097B2 (ja) 2009-03-19 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP5383289B2 (ja) 2009-03-31 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物
CA2769210A1 (en) * 2009-06-29 2011-01-06 Dic Corporation Michael addition reaction product and active energy ray-curable composition
JP5572026B2 (ja) 2009-09-18 2014-08-13 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5530141B2 (ja) 2009-09-29 2014-06-25 富士フイルム株式会社 インク組成物及びインクジェット記録方法
WO2011069947A1 (en) 2009-12-07 2011-06-16 Agfa-Gevaert Photoinitiators for uv-led curable compositions and inks
WO2011069943A1 (en) 2009-12-07 2011-06-16 Agfa-Gevaert Uv-led curable compositions and inks
JP5692490B2 (ja) 2010-01-28 2015-04-01 セイコーエプソン株式会社 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物
JP2011152747A (ja) 2010-01-28 2011-08-11 Seiko Epson Corp 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物
JP5554114B2 (ja) 2010-03-29 2014-07-23 富士フイルム株式会社 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物の製造方法、印刷物成形体、及び印刷物成形体の製造方法
JP5591745B2 (ja) 2010-03-31 2014-09-17 富士フイルム株式会社 活性放射線硬化性インク組成物、インクジェット記録用インク組成物、並びに印刷物、および印刷物成形体の製造方法
JP2012031388A (ja) 2010-05-19 2012-02-16 Fujifilm Corp 印刷方法、オーバープリントの作製方法、ラミネート加工方法、発光ダイオード硬化性コーティング組成物、及び、発光ダイオード硬化性インク組成物
JP5606817B2 (ja) 2010-07-27 2014-10-15 富士フイルム株式会社 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物成形体、及び印刷物の製造方法
EP2423277A3 (en) 2010-08-27 2012-05-09 Fujifilm Corporation Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method and inkjet printed article
CN102020728A (zh) * 2010-11-29 2011-04-20 长沙新宇高分子科技有限公司 复合型多官能团光引发剂
WO2012082704A1 (en) 2010-12-13 2012-06-21 Novartis Ag Ophthalmic lenses modified with functional groups and methods of making thereof
WO2012117944A1 (ja) 2011-02-28 2012-09-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、画像形成方法及び印画物
JP2012201874A (ja) 2011-03-28 2012-10-22 Fujifilm Corp インク組成物、及び画像形成方法
JP5300904B2 (ja) 2011-03-31 2013-09-25 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
JP5764416B2 (ja) 2011-07-08 2015-08-19 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
EP2760947B1 (en) 2011-09-29 2015-11-04 FUJIFILM Corporation Inkjet ink composition and inkjet recording method
CN104159984B (zh) 2012-03-09 2016-01-27 富士胶片株式会社 放射线固化型喷墨油墨组及喷墨记录方法
EP2644664B1 (en) 2012-03-29 2015-07-29 Fujifilm Corporation Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article
CN103360272A (zh) * 2012-04-10 2013-10-23 北京英力科技发展有限公司 一种季铵盐的制备方法及其用途
JP5606567B2 (ja) 2012-04-19 2014-10-15 富士フイルム株式会社 活性光線硬化型インク組成物、インクジェット記録方法、加飾シート、加飾シート成形物、インモールド成形品の製造方法及びインモールド成形品
CN103387765B (zh) * 2012-05-07 2014-12-24 北京英力科技发展有限公司 一种阻焊油墨或光刻胶用光敏性组合物
CN104603168B (zh) 2012-09-14 2016-07-06 富士胶片株式会社 固化性组合物及图像形成方法
CN104684634B (zh) 2012-09-28 2017-04-26 富士胶片株式会社 高分子功能性膜及其制造方法
SG11201502454PA (en) 2012-09-28 2015-06-29 Fujifilm Corp Functional polymer membrane, and method of producing same
JP6126498B2 (ja) 2013-02-15 2017-05-10 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜及びその製造方法
JP5980702B2 (ja) 2013-03-07 2016-08-31 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法
WO2014136697A1 (ja) 2013-03-07 2014-09-12 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜、その製造方法、高分子機能性膜を具備したイオン交換膜およびプロトン伝導膜、およびイオン交換装置
JP6004971B2 (ja) 2013-03-12 2016-10-12 富士フイルム株式会社 加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクジェットインク組成物、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクジェット記録方法、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクセット、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用加飾シート、加飾シート成形物、及び、インモールド成形品の製造方法
JP5523642B1 (ja) * 2013-07-26 2014-06-18 太陽インキ製造株式会社 プリント配線板製造用光硬化性組成物、その硬化物およびプリント配線板
JP5939644B2 (ja) 2013-08-30 2016-06-22 富士フイルム株式会社 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット
TW201602096A (zh) * 2014-05-15 2016-01-16 Dainippon Ink & Chemicals 化合物、活性能量線硬化性組成物、其硬化物、印刷印墨及噴墨記錄用印墨
JP6066960B2 (ja) 2014-05-30 2017-01-25 富士フイルム株式会社 成形加工用活性光線硬化型インク組成物、インクセット、インクジェット記録方法、成形加工用加飾シート、加飾シート成形物及びインモールド成形品の製造方法
EP3170844A4 (en) * 2014-07-16 2018-01-10 Adeka Corporation Photosensitive composition
KR102423976B1 (ko) * 2014-08-01 2022-07-22 가부시키가이샤 아데카 신규 중합 개시제 및 상기 중합 개시제를 함유하는 라디칼 중합성 조성물
CN105384707B (zh) * 2014-09-03 2018-04-17 山东久日化学科技有限公司 一种α‑氨基苯乙酮类光引发剂的制备方法
US10113075B2 (en) 2014-09-04 2018-10-30 Igm Malta Limited Polycyclic photoinitiators
US9740099B2 (en) 2014-11-12 2017-08-22 Macdermid Printing Solutions, Llc Flexographic printing plate with improved cure efficiency
CN104974053B (zh) * 2015-06-24 2017-04-26 天津久日新材料股份有限公司 一种新的氨基酮类光引发剂及在uv‑led光固化体系的应用
CN107922553B (zh) 2015-08-27 2020-09-15 富士胶片株式会社 感光性组合物、图像形成方法、膜形成方法、树脂、图像以及膜
CN106810461B (zh) * 2015-11-27 2020-06-30 北京英力科技发展有限公司 一种α-二甲氨基对烷氧基苯乙酮类化合物的制备方法
KR102079026B1 (ko) 2015-12-15 2020-02-19 창저우 트론리 어드벤스드 일렉트로닉 머티어리얼스 컴퍼니, 리미티드 플루오렌 다작용성 광개시제 및 이의 제조 및 용도, 및 플루오렌 광개시제를 포함하는 광감성 수지 조성물 및 이의 용도
JPWO2017135084A1 (ja) 2016-02-05 2018-08-09 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
JP6537637B2 (ja) 2016-02-05 2019-07-03 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
EP3412730A4 (en) 2016-02-05 2019-02-20 FUJIFILM Corporation AQUEOUS DISPERSION, MANUFACTURING METHOD AND PICTURE PRODUCTION METHOD
CN108602367B (zh) 2016-02-10 2020-07-14 富士胶片株式会社 喷墨记录方法
TWI564276B (zh) * 2016-03-14 2017-01-01 奇鈦科技股份有限公司 液態光引發劑及其應用
US11079675B2 (en) 2016-05-13 2021-08-03 Dic Corporation Compound, photocurable composition, cured product of same, printing ink, and printed matter curing the printing ink
CN109475574B (zh) 2016-06-30 2021-11-16 海名斯精细化工公司 用休眠的氨基甲酸盐引发剂配制的可交联的涂料组合物
KR102197059B1 (ko) 2016-09-13 2020-12-31 창저우 트론리 어드벤스드 일렉트로닉 머티어리얼스 컴퍼니, 리미티드 플루오렌 광개시제, 그 제조 방법, 이를 갖는 광경화성 조성물, 및 광경화 분야에서 그 용도
CN110168027A (zh) 2017-01-30 2019-08-23 富士胶片株式会社 活性光线固化型油墨组合物及喷墨记录方法
WO2018149370A1 (zh) 2017-02-17 2018-08-23 常州强力先端电子材料有限公司 芴氨基酮类光引发剂、其制备方法及含芴氨基酮类光引发剂的uv光固化组合物
EP3587512B1 (en) 2017-02-24 2023-11-29 FUJIFILM Corporation Photocurable ink composition and image forming method
WO2018155515A1 (ja) 2017-02-24 2018-08-30 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び画像形成方法
EP3604458B1 (en) 2017-03-30 2021-05-05 FUJIFILM Corporation Photocurable ink composition and image formation method
JP6900465B2 (ja) 2017-04-03 2021-07-07 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
WO2018186225A1 (ja) 2017-04-03 2018-10-11 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
US10599035B2 (en) * 2017-04-12 2020-03-24 Macdermid Graphics Solutions, Llc Method of improving light stability of flexographic printing plates featuring flat top dots
WO2018198993A1 (ja) 2017-04-26 2018-11-01 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法
CN110753731B (zh) 2017-06-20 2022-10-28 富士胶片株式会社 光固化性油墨组合物及图像形成方法
WO2019021639A1 (ja) 2017-07-26 2019-01-31 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
CN111051440B (zh) 2017-08-29 2022-09-06 富士胶片株式会社 油墨组合物及其制造方法、以及图像形成方法
WO2019064979A1 (ja) 2017-09-27 2019-04-04 富士フイルム株式会社 活性エネルギー線硬化型インクジェットインク、遮光膜、及び遮光膜の製造方法
CN108358871B (zh) * 2018-02-01 2020-05-22 浙江扬帆新材料股份有限公司 一种2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉苯基)丁酮的合成方法
WO2019171965A1 (ja) * 2018-03-09 2019-09-12 Ｄｉｃグラフィックス株式会社 活性エネルギー線硬化型インキ、インキ硬化物の製造方法及び印刷物
EP3778791A4 (en) 2018-03-27 2021-05-19 FUJIFILM Corporation LIGHT CURABLE INK COMPOSITION AND IMAGE GENERATION METHOD
EP3778792A4 (en) 2018-03-27 2021-05-12 FUJIFILM Corporation LIGHT CURABLE INK COMPOSITION AND IMAGE GENERATION METHOD
TWI677492B (zh) 2018-07-17 2019-11-21 奇鈦科技股份有限公司 液態光引發化合物及其應用
GB201815405D0 (en) 2018-09-21 2018-11-07 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules
GB201815407D0 (en) 2018-09-21 2018-11-07 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules and metal-ions
WO2020179155A1 (ja) 2019-03-06 2020-09-10 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、画像記録方法及び画像記録物
WO2020202628A1 (ja) 2019-03-29 2020-10-08 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像記録方法
GB201904581D0 (en) 2019-04-02 2019-05-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes and processes for their preparation
JP2021038330A (ja) * 2019-09-04 2021-03-11 Ｄｉｃグラフィックス株式会社 平版オフセット印刷用活性エネルギー線硬化型インキ、インキ硬化物の製造方法及び印刷物
CN110776480B (zh) * 2019-11-28 2022-05-03 怀化市恒渝新材料有限公司 一种光引发剂的回收方法
GB201917710D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
GB201917711D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
CN115803400B (zh) 2020-07-15 2023-10-20 富士胶片株式会社 防伪图像记录用油墨组、防伪图像记录方法及防伪图像记录物
GB202013838D0 (en) 2020-09-03 2020-10-21 Fujifilm Mfg Europe Bv Composite membrane
GB202015379D0 (en) 2020-09-29 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202015440D0 (en) 2020-09-30 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Compounds, compositions and polymer films
GB202015436D0 (en) 2020-09-30 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Compositions and polymer films
GB202015546D0 (en) 2020-09-30 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202019478D0 (en) 2020-12-10 2021-01-27 Fujifilm Corp Purifying polar liquids
GB202101153D0 (en) 2021-01-28 2021-03-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Polymer films
GB202104403D0 (en) 2021-03-29 2021-05-12 Fujifilm Mfg Europe Bv Polymer Film
GB202104408D0 (en) 2021-03-29 2021-05-12 Fujifilm Mfg Europe Bv Cationically charged membranes
GB202113997D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202113999D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202114000D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202113996D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Films and their uses
GB202201759D0 (en) 2022-02-11 2022-03-30 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202204633D0 (en) 2022-03-31 2022-05-18 Fujifilm Mfg Europe Bv Bipolar membranes
GB202204631D0 (en) 2022-03-31 2022-05-18 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202204625D0 (en) 2022-03-31 2022-05-18 Fujifilm Mfg Europe Bv Bipolar membranes
GB202207568D0 (en) 2022-05-24 2022-07-06 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
CN115141162B (zh) * 2022-09-05 2022-12-20 天津久日新材料股份有限公司 一种光引发剂的制备方法及其产品
WO2024068595A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068601A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068598A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
CN115925596A (zh) * 2022-12-06 2023-04-07 天津久日新材料股份有限公司 一种光引发剂及其制备方法和应用
CN115894316A (zh) * 2022-12-06 2023-04-04 天津久日新材料股份有限公司 一种氨基酮类光引发剂及其制备方法和应用
CN116003273B (zh) * 2023-02-09 2023-11-07 湖南勤润新材料有限公司 一种α-胺基酮类化合物、其制备方法及其在光辐射固化领域的应用

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL255071A (ko) * 1959-08-20
US3804736A (en) * 1971-10-12 1974-04-16 Continental Can Co Photopolymerizable polyester compositions
GB1386028A (en) * 1972-03-20 1975-03-05 Smithkline Corp Alpha-aminoalkyl-4-hydroxy-3-alkylsulphonylmethylbenzyl alcohols
US3917704A (en) * 1972-03-20 1975-11-04 Smithkline Corp Alpha-aminoalkyl-4-hydroxy-3-alkylsulfonylmethylbenzyl alcohols
GB1574894A (en) * 1977-06-02 1980-09-10 Nippon Kayaku Kk Derivative of a-methyl-aminopropiophenone and use thereof
US4318791A (en) * 1977-12-22 1982-03-09 Ciba-Geigy Corporation Use of aromatic-aliphatic ketones as photo sensitizers
CA1151164A (en) * 1978-01-13 1983-08-02 Atsuyuki Kojima Conjugated ketone compounds and their production and use
DE3365773D1 (en) * 1982-02-26 1986-10-09 Ciba Geigy Ag Coloured photo-hardenable composition
EP0117233B1 (de) * 1983-02-18 1987-08-26 Ciba-Geigy Ag Photohärtbare gefärbte Massen
EP0138754B1 (de) * 1983-08-15 1988-05-25 Ciba-Geigy Ag Photohärtbare Gemische
DE3512179A1 (de) * 1985-04-03 1986-12-04 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Fotoinitiatoren fuer die fotopolymerisation in waessrigen systemen
EP0284561B1 (de) * 1987-03-26 1993-05-12 Ciba-Geigy Ag Neue alpha-Aminoacetophenone als Photoinitiatoren

Also Published As

Publication number Publication date
ATE89262T1 (de) 1993-05-15
HK156795A (en) 1995-10-13
US5534629A (en) 1996-07-09
JP3182720B2 (ja) 2001-07-03
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US5629356A (en) 1997-05-13
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CA1310639C (en) 1992-11-24
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US5554663A (en) 1996-09-10
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ZA882140B (en) 1990-03-28
EP0284561A3 (de) 1991-03-06
JP2732063B2 (ja) 1998-03-25
EP0284561B1 (de) 1993-05-12
US5077402A (en) 1991-12-31
KR880011078A (ko) 1988-10-26
ES2054861T3 (es) 1994-08-16
JPH1029965A (ja) 1998-02-03
JPH1029977A (ja) 1998-02-03
EP0284561A2 (de) 1988-09-28
DE3880868D1 (en) 1993-06-17

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