JP3182720B2 - α−アミノアセトフェノン誘導体 - Google Patents
α−アミノアセトフェノン誘導体Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C225/00—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones
- C07C225/02—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
- C07D295/04—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
- C07D295/10—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms
- C07D295/112—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms with the ring nitrogen atoms and the doubly bound oxygen or sulfur atoms separated by carbocyclic rings or by carbon chains interrupted by carbocyclic rings
-
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/56—Ring systems containing three or more rings
- C07D209/80—[b, c]- or [b, d]-condensed
- C07D209/82—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles
- C07D209/86—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the ring system
-
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はα位にアリル基もし
くはアルアルキル基を有するα−アミノアセトフェノン
の新規な誘導体、エチレン系不飽和化合物の光重合のた
めの、とりわけ印刷インクもしくは白色ラッカーとして
の顔料系を光硬化するための光開始剤としてのそれらの
用途に関する。
くはアルアルキル基を有するα−アミノアセトフェノン
の新規な誘導体、エチレン系不飽和化合物の光重合のた
めの、とりわけ印刷インクもしくは白色ラッカーとして
の顔料系を光硬化するための光開始剤としてのそれらの
用途に関する。
【0002】
【従来の技術】α−アミノアセトフェノン誘導体は、エ
チレン性不飽和化合物のための光開始剤としてヨーロッ
パ特許出願第3002号から公知である。上記化合物
が、フェニル基の4位にイオウ原子もしくは酸素原子を
含有する置換基を有するとき、該化合物は特に例えばU
V−硬化性印刷インクのような顔料光硬化系(ヨーロッ
パ特許出願第88050号及び第117233号)のよ
うな光開始剤として適当である。
チレン性不飽和化合物のための光開始剤としてヨーロッ
パ特許出願第3002号から公知である。上記化合物
が、フェニル基の4位にイオウ原子もしくは酸素原子を
含有する置換基を有するとき、該化合物は特に例えばU
V−硬化性印刷インクのような顔料光硬化系(ヨーロッ
パ特許出願第88050号及び第117233号)のよ
うな光開始剤として適当である。
【0003】フェニル基の4位にアミノ基を有するα−
アミノアセトフェノン誘導体は、ヨーロッパ特許出願第
138754号に開示されている。該化合物は、芳香族
カルボニル化合物類からの光増感剤と合わせて使用され
ている。α−位に少なくとも1種のアルケニル基もしく
はアルアルキル基を含有する、一般的なα−アミノアセ
トフェノンが光開始剤として特に高活性を有することを
今や見い出した。上記化合物は、とりわけ印刷インクに
使用するのに適している。
アミノアセトフェノン誘導体は、ヨーロッパ特許出願第
138754号に開示されている。該化合物は、芳香族
カルボニル化合物類からの光増感剤と合わせて使用され
ている。α−位に少なくとも1種のアルケニル基もしく
はアルアルキル基を含有する、一般的なα−アミノアセ
トフェノンが光開始剤として特に高活性を有することを
今や見い出した。上記化合物は、とりわけ印刷インクに
使用するのに適している。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、次式I
【化5】 〔式中、Ar1 は次式VIもしくはVII :
【化6】 で表される芳香族基を表し、Uは−O−、−S−、−N
(R17)−もしくは−CO−を表し; Vは−O−、−S−もしくは−N(R17)−、−CH2
−、−CH2 CH2 −もしくは直接結合を表し、Wは直
鎖または枝分れ鎖炭素原子数1ないし7のアルキレン基
を表し、R1 は(a)式:
(R17)−もしくは−CO−を表し; Vは−O−、−S−もしくは−N(R17)−、−CH2
−、−CH2 CH2 −もしくは直接結合を表し、Wは直
鎖または枝分れ鎖炭素原子数1ないし7のアルキレン基
を表し、R1 は(a)式:
【化7】 (式中、pは0もしくは1を表す。)で表される基、ま
たは(c)式
たは(c)式
【化8】 (式中、Ar2 は未置換であるか、または炭素原子数1
ないし12のアルキル基によって置換されたフェニル基
を表す。)で表される基のうちのいずれかを表し、R2
はR1 で定義した意味のうちひとつを表すか、炭素原子
数1ないし12のアルキル基を表し、R3 は炭素原子数
1ないし12のアルキル基、またはヒドロキシル基、炭
素原子数1ないし4のアルコキシ基もしくは−COO
(炭素原子数1ないし4のアルキル)基によって置換さ
れた炭素原子数2ないし4のアルキル基を表すか、また
はR3 は炭素原子数3ないし5のアルケニル基もしくは
炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表し、R
4 は炭素原子数1ないし12のアルキル基、またはヒド
ロキシル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基もし
くは−COO(炭素原子数1ないし4のアルキル)基に
よって置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基を
表すか、またはR4 は炭素原子数3ないし5のアルケニ
ル基もしくは炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル
基を表すか、またはR3 およびR4 は一緒になって−O
−、−S−、−CO−もしくは−N(R17)−により中
断され得る炭素原子数3ないし7のアルキレン基を表
し、R13は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル
基もしくはフェニル基を表し、R14、R15及びR16は互
いに独立して水素原子もしくは炭素原子数1ないし4の
アルキル基を表し、R17は水素原子、または1もしくは
それ以上の−O−によって中断され得る炭素原子数1な
いし12のアルキル基、または炭素原子数2ないし8の
アルカノイル基を表す。〕で表される化合物、または該
化合物の酸付加塩である。
ないし12のアルキル基によって置換されたフェニル基
を表す。)で表される基のうちのいずれかを表し、R2
はR1 で定義した意味のうちひとつを表すか、炭素原子
数1ないし12のアルキル基を表し、R3 は炭素原子数
1ないし12のアルキル基、またはヒドロキシル基、炭
素原子数1ないし4のアルコキシ基もしくは−COO
(炭素原子数1ないし4のアルキル)基によって置換さ
れた炭素原子数2ないし4のアルキル基を表すか、また
はR3 は炭素原子数3ないし5のアルケニル基もしくは
炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表し、R
4 は炭素原子数1ないし12のアルキル基、またはヒド
ロキシル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基もし
くは−COO(炭素原子数1ないし4のアルキル)基に
よって置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基を
表すか、またはR4 は炭素原子数3ないし5のアルケニ
ル基もしくは炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル
基を表すか、またはR3 およびR4 は一緒になって−O
−、−S−、−CO−もしくは−N(R17)−により中
断され得る炭素原子数3ないし7のアルキレン基を表
し、R13は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル
基もしくはフェニル基を表し、R14、R15及びR16は互
いに独立して水素原子もしくは炭素原子数1ないし4の
アルキル基を表し、R17は水素原子、または1もしくは
それ以上の−O−によって中断され得る炭素原子数1な
いし12のアルキル基、または炭素原子数2ないし8の
アルカノイル基を表す。〕で表される化合物、または該
化合物の酸付加塩である。
【0005】特に好ましい本発明の化合物は、式中、A
r1が式VIIで表される基を表し、並びにR1、
R2、R3、R4、U、V及びWは上記で定義した意味
を表すものである。
r1が式VIIで表される基を表し、並びにR1、
R2、R3、R4、U、V及びWは上記で定義した意味
を表すものである。
【0006】炭素原子数1ないし4のアルキル基
R14,R15及びR16は、例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチ
ル基、第2ブチル基もしくは第3ブチル基であることが
できる。更に炭素原子数1ないし8のアルキル基R2及
びR13は例えばペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、2−エチルヘキシル基もしくは2,
2,4,4−テトラメチルブチル基であることができ
る。炭素原子数1ないし12のアルキル基R3及びR4
は更に例えばノニル基、デシル基、イソデシル基、ウン
デシル基もしくはドデシル基でありうる。炭素原子数3
ないし5のアルケニル基R3及びR4は、例えばアリル
基、メタアリル基、クロチル基もしくはジメチルアリル
基であることができるが、アリル基が好ましい。炭素原
子数7ないし9のフェニルアルキル基R3及びR4は特
にベンジル基である。炭素原子数1ないし7のアルキレ
ン基Wは、例えばメチレン基、エチレン基、1,2−プ
ロピレン基もしくは1,2−ヘキシレン基でありうる。
R14,R15及びR16は、例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチ
ル基、第2ブチル基もしくは第3ブチル基であることが
できる。更に炭素原子数1ないし8のアルキル基R2及
びR13は例えばペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、2−エチルヘキシル基もしくは2,
2,4,4−テトラメチルブチル基であることができ
る。炭素原子数1ないし12のアルキル基R3及びR4
は更に例えばノニル基、デシル基、イソデシル基、ウン
デシル基もしくはドデシル基でありうる。炭素原子数3
ないし5のアルケニル基R3及びR4は、例えばアリル
基、メタアリル基、クロチル基もしくはジメチルアリル
基であることができるが、アリル基が好ましい。炭素原
子数7ないし9のフェニルアルキル基R3及びR4は特
にベンジル基である。炭素原子数1ないし7のアルキレ
ン基Wは、例えばメチレン基、エチレン基、1,2−プ
ロピレン基もしくは1,2−ヘキシレン基でありうる。
【0007】Ar2の例は、フェニル基、トリル基、4
−イソプロピルフェニル基、4−オクチルフェニル基の
群である。置換アルキル基R3及びR4は、例えば2−
ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−
ヒドロキシイソブチル基、2−エトキシエチル基、2−
メトキシプロピル基、2−ブトキシエチル基、2−シア
ノエチル基、2−エトキシカルボニルエチル基もしくは
2−メトキシカルボニルエチル基でありうる。
−イソプロピルフェニル基、4−オクチルフェニル基の
群である。置換アルキル基R3及びR4は、例えば2−
ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−
ヒドロキシイソブチル基、2−エトキシエチル基、2−
メトキシプロピル基、2−ブトキシエチル基、2−シア
ノエチル基、2−エトキシカルボニルエチル基もしくは
2−メトキシカルボニルエチル基でありうる。
【0008】R3及びR4が一緒になってアルキレン基
もしくは中断されたアルキレン基を表すとき、該基は、
それらが結合しているN原子と一緒になって、5−もし
くは6員の複素環を形成するのが好ましく、例えば1も
しくはそれ以上のアルキル基、ヒドロキシル基、アルコ
キシ基もしくはエステル基により置換され得るピロリジ
ン、ピペリジン、モルホリン、チオモルホリン、ピペリ
ドンもしくはピペラジン環である。
もしくは中断されたアルキレン基を表すとき、該基は、
それらが結合しているN原子と一緒になって、5−もし
くは6員の複素環を形成するのが好ましく、例えば1も
しくはそれ以上のアルキル基、ヒドロキシル基、アルコ
キシ基もしくはエステル基により置換され得るピロリジ
ン、ピペリジン、モルホリン、チオモルホリン、ピペリ
ドンもしくはピペラジン環である。
【0009】炭素原子数2ないし8のアルカノイル基R
17は、例えばプロピオニル基、ブチリル基、イソブチ
リル基、ヘキサノイル基もしくはオクタノイル基であり
うるが、特にアセチル基である。
17は、例えばプロピオニル基、ブチリル基、イソブチ
リル基、ヘキサノイル基もしくはオクタノイル基であり
うるが、特にアセチル基である。
【0010】全ての該化合物は、少なくとも1種の塩基
性アミノ基を有し、それを故酸を添加することにより相
当する塩に変換することができる。酸は無機もしくは有
機酸でありうる。そのような酸の例は、HC1,HB
r,H2SO4,H3PO4,モノ−もしくはポリカル
ボン酸、例えば酢酸、オレイン酸、コハク酸、セバシン
酸、酒石酸もしくはCF3COOH,及びスルホン酸、
例えばCH3SO3H,C12H25SO3H,P−C
12H25−C6H4−SO3H,p−CH3−C6H
4−SO3HもしくはCF3SO3Hである。
性アミノ基を有し、それを故酸を添加することにより相
当する塩に変換することができる。酸は無機もしくは有
機酸でありうる。そのような酸の例は、HC1,HB
r,H2SO4,H3PO4,モノ−もしくはポリカル
ボン酸、例えば酢酸、オレイン酸、コハク酸、セバシン
酸、酒石酸もしくはCF3COOH,及びスルホン酸、
例えばCH3SO3H,C12H25SO3H,P−C
12H25−C6H4−SO3H,p−CH3−C6H
4−SO3HもしくはCF3SO3Hである。
【0011】本発明の式Iで表される個々の化合物の例
を列挙する。: 化学式中、'All' はアリル基を表し、'Bzl' はベンジル
基を表す。148. 9−ブチル−3,6−ジ(2−ベンジ
ル−2−ジメチルアミノ−ブチリル)カルバゾール(下
記表1中、No.148の化合物)、
を列挙する。: 化学式中、'All' はアリル基を表し、'Bzl' はベンジル
基を表す。148. 9−ブチル−3,6−ジ(2−ベンジ
ル−2−ジメチルアミノ−ブチリル)カルバゾール(下
記表1中、No.148の化合物)、
【化9】 149. 9−ブチル−3,6−ジ(2−メチル−2−モル
ホリノ−4−ペンテン−1−オン−1−イル)−カルバ
ゾール(下記表1中、No.149の化合物)
ホリノ−4−ペンテン−1−オン−1−イル)−カルバ
ゾール(下記表1中、No.149の化合物)
【化10】 177. 1−(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)
−2−ベンジル−2−(ジメチルアミノ)−ブタン−1
−オン(下記表2中のNo.化合物337)、
−2−ベンジル−2−(ジメチルアミノ)−ブタン−1
−オン(下記表2中のNo.化合物337)、
【化11】 178. 1−(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)
−2−メチル−2−モルホリノ−4−ペンテン−1−オ
ン、
−2−メチル−2−モルホリノ−4−ペンテン−1−オ
ン、
【化12】 191. 1−(クロマン−6−イル)−2−エチル−2−
モルホリノ−4−ペンテン−1−オン、
モルホリノ−4−ペンテン−1−オン、
【化13】 192. 2−ベンジル−2−(ジメチルアミノ)−1−
(N−メチルインドリン−5−イル)−プロパン−1−
オン、
(N−メチルインドリン−5−イル)−プロパン−1−
オン、
【化14】 193. 1−(N−ブチルインドリン−5−イル)−2−
エチル−2−モルホリノ−4−ペンテン−1−オン、
エチル−2−モルホリノ−4−ペンテン−1−オン、
【化15】 195. 2−ベンジル−1−(1,4−ジメチル−1,
2,3,4−テトラヒドロキノオキサリン−6−イル)
−2−(ジメチルアミノ)−ブタン−1−オン、
2,3,4−テトラヒドロキノオキサリン−6−イル)
−2−(ジメチルアミノ)−ブタン−1−オン、
【化16】 196. 1−(1,4−ジブチル−1,2,3,4−テト
ラヒドロキノオキサリン−6−イル)−2−エチル−2
−モルホリノ−4−ペンテン−1−オン、
ラヒドロキノオキサリン−6−イル)−2−エチル−2
−モルホリノ−4−ペンテン−1−オン、
【化17】 197. 2−ベンジル−1−(2,3−ジヒドロ−2,3
−ジメチル−ベンゾチアゾール−5−イル)−2−(ジ
メチルアミノ)−ブタン−1−オン、
−ジメチル−ベンゾチアゾール−5−イル)−2−(ジ
メチルアミノ)−ブタン−1−オン、
【化18】 198. 1−(2,3−ジヒドロベンゾフラン−5−イ
ル)−2−メチル−2−モルホリノ−4−ペンテン−1
−オン、
ル)−2−メチル−2−モルホリノ−4−ペンテン−1
−オン、
【化19】 199. 2−ベンジル−1−(2,3−ジヒドロベンゾフ
ラン−5−イル)−2−(ジメチルアミノ)−ブタン−
2−オン(下記表2中、No.化合物340)、
ラン−5−イル)−2−(ジメチルアミノ)−ブタン−
2−オン(下記表2中、No.化合物340)、
【化20】
【0012】上記化合物の大部分は、R1−もしくはR
1及びR2−がアリル基もしくはベンジル基タイプの置
換基である。そのような化合物の合成は、通常C−アリ
ル化もしくはC−ベンジル化を包含する。アミノ基−N
R3R4は好ましくはアリル化/ベンジル化の前に導入
される。その後、以下に示す一連の反応工程に従い合成
を実施する。 出発ケトンは、例えばフリーデルクラフト反応により製
造することができる公知化合物である。反応工程1及び
2は、例えばヨーロッパ特許出願第3002号に更に詳
細に記載されている公知反応である。2つの反応はブロ
モケトンを単離しないで、次々と実施できる。
1及びR2−がアリル基もしくはベンジル基タイプの置
換基である。そのような化合物の合成は、通常C−アリ
ル化もしくはC−ベンジル化を包含する。アミノ基−N
R3R4は好ましくはアリル化/ベンジル化の前に導入
される。その後、以下に示す一連の反応工程に従い合成
を実施する。 出発ケトンは、例えばフリーデルクラフト反応により製
造することができる公知化合物である。反応工程1及び
2は、例えばヨーロッパ特許出願第3002号に更に詳
細に記載されている公知反応である。2つの反応はブロ
モケトンを単離しないで、次々と実施できる。
【0013】反応3は以下に詳細に記載する。C−アリ
ル化の場合、該反応はクライゼン転位における中間体と
してエノールアリルエーテルを介して進行できる。C−
ベンジル化もしくはC−アリル化の場合、スチーブンス
転位における中間体として第4ベンジルアンモニウム塩
もしくはアリルアンモニウム塩を介して進行できる。し
かしながら、両方の場合における該中間体は単離されな
い。R1及びR2が両方ともアリル基もしくはベンジル
基であるとき、上記の一連の反応は、アリールメチルケ
トンAr1−CO−CH3を用いて出発し、かつ反応3
はR1Ha1とR2Ha1を1度ずつ使用して2回実施
する。
ル化の場合、該反応はクライゼン転位における中間体と
してエノールアリルエーテルを介して進行できる。C−
ベンジル化もしくはC−アリル化の場合、スチーブンス
転位における中間体として第4ベンジルアンモニウム塩
もしくはアリルアンモニウム塩を介して進行できる。し
かしながら、両方の場合における該中間体は単離されな
い。R1及びR2が両方ともアリル基もしくはベンジル
基であるとき、上記の一連の反応は、アリールメチルケ
トンAr1−CO−CH3を用いて出発し、かつ反応3
はR1Ha1とR2Ha1を1度ずつ使用して2回実施
する。
【0014】芳香族基Ar1が反応1、2もしくは3に
対して不活性でない置換基をもたらすとき、合成は次工
程4中で所望の置換基に変換される補助の置換基を使用
して実施する。例えば該合成は、ニトロアリール化合物
を使用して実施できるし、そしてその後これを相当する
アミノ化合物に還元することができる。
対して不活性でない置換基をもたらすとき、合成は次工
程4中で所望の置換基に変換される補助の置換基を使用
して実施する。例えば該合成は、ニトロアリール化合物
を使用して実施できるし、そしてその後これを相当する
アミノ化合物に還元することができる。
【0015】R1がビニル基型の置換基であるとき、上
記化合物は接触二重結合異性化により相当するアリル化
合物から製造できる。R1が式: で表される置換基であるとき、これはアリル基として
式: で表されるハロゲンを使用して同様の方法で導入する。
記化合物は接触二重結合異性化により相当するアリル化
合物から製造できる。R1が式: で表される置換基であるとき、これはアリル基として
式: で表されるハロゲンを使用して同様の方法で導入する。
【0016】他の可能な式Iで表される化合物の合成
は、アリール−リチウム化合物とα−アミノニトリルを
反応させ、続けて加水分解するものである。 上記方法は、例えばJ.Am.Chem.Soc.8
3,1237(1961)にクロムウェル(Cromw
ell)及びヘス(Hess)により記載されている。
α−アミノニトリルは、ストレッカー(Strecke
r)合成によりR1−CO−R2から直接得ることがで
きるか、またはα−アミノニトリルNC−CHR2−N
R3R4のアリル化もしくはベンジル化により製造でき
る。α−アミノニトリルのアリル化は、例えばJ.Ch
em.Soc.1930,2119中にT.S.ステー
ブンス(Stevens)により記載されている。
は、アリール−リチウム化合物とα−アミノニトリルを
反応させ、続けて加水分解するものである。 上記方法は、例えばJ.Am.Chem.Soc.8
3,1237(1961)にクロムウェル(Cromw
ell)及びヘス(Hess)により記載されている。
α−アミノニトリルは、ストレッカー(Strecke
r)合成によりR1−CO−R2から直接得ることがで
きるか、またはα−アミノニトリルNC−CHR2−N
R3R4のアリル化もしくはベンジル化により製造でき
る。α−アミノニトリルのアリル化は、例えばJ.Ch
em.Soc.1930,2119中にT.S.ステー
ブンス(Stevens)により記載されている。
【0017】最後に、更にα−ブロモケトンを第3アリ
ル−もしくはベンジルアミンと反応させ、そしてスティ
ーブンス転位で形成した第4塩を反応させることが可能
である。
ル−もしくはベンジルアミンと反応させ、そしてスティ
ーブンス転位で形成した第4塩を反応させることが可能
である。
【0018】本発明によると式Iで表される化合物はエ
チレン系不飽和化合物または該混合物を含有する混合物
の光重合のための光開始剤として使用できる。不飽和化
合物は、1もしくはそれ以上のオレフィン系2重結合を
含有できる。それらは低分子量(単量性)もしくは高分
子量(低重合性)でありうる。2重結合を有する単量体
の例は、アルキルアクリレートもしくはメタアクリレー
トまたはヒドロキシアルキルアクリレートもしくはメタ
アクリレートで、例えばメチル基、エチル基、ブチル
基、2−エチルヘキシル基もしくは2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート、イソボルニル アクリレート及びメチ
ルもしくはエチルメタアクリレートである。更にこれら
の例は、アクリロニトリル、アクリルアミド、メタアク
リルアミド、N−置換(メタ)アクリルアミド、酢酸ビ
ニルのようなビニルエステル、イソブチルビニルエーテ
ルのようなビニルエーテル、スチレン、アルキル−及び
ハロゲノスチレン、N−ビニルピロリドン、塩化ビニル
もしくは塩化ビニリデンである。
チレン系不飽和化合物または該混合物を含有する混合物
の光重合のための光開始剤として使用できる。不飽和化
合物は、1もしくはそれ以上のオレフィン系2重結合を
含有できる。それらは低分子量(単量性)もしくは高分
子量(低重合性)でありうる。2重結合を有する単量体
の例は、アルキルアクリレートもしくはメタアクリレー
トまたはヒドロキシアルキルアクリレートもしくはメタ
アクリレートで、例えばメチル基、エチル基、ブチル
基、2−エチルヘキシル基もしくは2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート、イソボルニル アクリレート及びメチ
ルもしくはエチルメタアクリレートである。更にこれら
の例は、アクリロニトリル、アクリルアミド、メタアク
リルアミド、N−置換(メタ)アクリルアミド、酢酸ビ
ニルのようなビニルエステル、イソブチルビニルエーテ
ルのようなビニルエーテル、スチレン、アルキル−及び
ハロゲノスチレン、N−ビニルピロリドン、塩化ビニル
もしくは塩化ビニリデンである。
【0019】多数の2重結合を有する単量体の例は、エ
チレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチ
ルグリコール、ヘキサメチレングリコールもしくはビス
フェノールAのジアクリレート、4,4’−ビス(2−
アクリロイルオキシエトキシ)ジフェニルプロパン、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリト
リトールトリアクリレートもしくはテトラアクリレー
ト、ビニルアセテート、ジビニルベンゼン、ジビニルコ
ハク酸塩、ジアリルフタレート、トリアリルホスフェー
ト、トリアリルイソシアン酸塩及びトリス−(2−アク
リロイルオキシエチル)イソシアン酸塩である。
チレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチ
ルグリコール、ヘキサメチレングリコールもしくはビス
フェノールAのジアクリレート、4,4’−ビス(2−
アクリロイルオキシエトキシ)ジフェニルプロパン、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリト
リトールトリアクリレートもしくはテトラアクリレー
ト、ビニルアセテート、ジビニルベンゼン、ジビニルコ
ハク酸塩、ジアリルフタレート、トリアリルホスフェー
ト、トリアリルイソシアン酸塩及びトリス−(2−アク
リロイルオキシエチル)イソシアン酸塩である。
【0020】高分子量(低重合性)ポリ不飽和化合物の
例は、アクリル化エポキシ樹脂、アクリル化ポリエーテ
ル、アクリル化ポリウレタン及びアクリル化ポリエステ
ルである。更に不飽和低重合体の例は、不飽和ポリエス
テル樹脂で、該樹脂は通常マレイン酸、フタル酸及び1
もしくはそれ以上のジオールから製造でき、かつ分子量
が約500ないし3000である。そのような不飽和低
重合体は更にプレポリマーと呼ぶことができる。
例は、アクリル化エポキシ樹脂、アクリル化ポリエーテ
ル、アクリル化ポリウレタン及びアクリル化ポリエステ
ルである。更に不飽和低重合体の例は、不飽和ポリエス
テル樹脂で、該樹脂は通常マレイン酸、フタル酸及び1
もしくはそれ以上のジオールから製造でき、かつ分子量
が約500ないし3000である。そのような不飽和低
重合体は更にプレポリマーと呼ぶことができる。
【0021】プレポリマーとポリ不飽和単量体もしくは
更に加えてモノ不飽和単量体を含有する3成分混合物と
の2成分混合物が使用されることが多い。ここでのプレ
ポリマーはラッカーフィルムの特性のために第1に決定
され、そしてそれを変化させることにより熟練者は硬化
されたフィルムの特質を影響させうる。不溶性ラッカー
フィルムを溶かす架橋剤としてポリ不飽和モノマーは作
用する。モノ不飽和モノマーは、溶媒を使用しないで粘
度を減少させるために反応性希釈剤として作用する。
更に加えてモノ不飽和単量体を含有する3成分混合物と
の2成分混合物が使用されることが多い。ここでのプレ
ポリマーはラッカーフィルムの特性のために第1に決定
され、そしてそれを変化させることにより熟練者は硬化
されたフィルムの特質を影響させうる。不溶性ラッカー
フィルムを溶かす架橋剤としてポリ不飽和モノマーは作
用する。モノ不飽和モノマーは、溶媒を使用しないで粘
度を減少させるために反応性希釈剤として作用する。
【0022】プレポリマーをベースとした上記の2−及
び3−成分系は印刷インクのために、並びにラッカー、
フォトレジストもしくは他の光硬化性組成物のための両
方に使用される。光硬化性プレポリマーをベースとした
1成分系は更に印刷インクのための接着剤として使用さ
れることが多い。不飽和ポリエステル樹脂は通常モノ不
飽和単量体、好ましくはスチレンと一緒に2成分系で使
用される。西ドイツ特許公開第2308830号公報に
記載されているような特別な1成分系、例えばポリマレ
イミド、ポリカルコーンもしくはポリイミドはフォトレ
ジストのために使用されることが多い。
び3−成分系は印刷インクのために、並びにラッカー、
フォトレジストもしくは他の光硬化性組成物のための両
方に使用される。光硬化性プレポリマーをベースとした
1成分系は更に印刷インクのための接着剤として使用さ
れることが多い。不飽和ポリエステル樹脂は通常モノ不
飽和単量体、好ましくはスチレンと一緒に2成分系で使
用される。西ドイツ特許公開第2308830号公報に
記載されているような特別な1成分系、例えばポリマレ
イミド、ポリカルコーンもしくはポリイミドはフォトレ
ジストのために使用されることが多い。
【0023】不飽和化合物は更にノンフォトーポリ重合
性フィルム形成成分と共に混合物として使用できる。こ
れらはニトロセルロースもしくはセルロースアセトブチ
レートのような有機溶媒中で物理的な手段により乾燥す
るポリマー及びそれらの溶液であることができる。しか
しながらそれらは化学的に硬化することのできる樹脂ま
たは熱硬化性樹脂、例えばポリイソシアネート、ポリエ
ポキシドもしくはメラミン樹脂でありうる。熱硬化性樹
脂の接合用途は、第1工程で光重合し、そして第2工程
で熱後処理により架橋される。いわゆるハイブリッドシ
ステムで使用するのに重要である。
性フィルム形成成分と共に混合物として使用できる。こ
れらはニトロセルロースもしくはセルロースアセトブチ
レートのような有機溶媒中で物理的な手段により乾燥す
るポリマー及びそれらの溶液であることができる。しか
しながらそれらは化学的に硬化することのできる樹脂ま
たは熱硬化性樹脂、例えばポリイソシアネート、ポリエ
ポキシドもしくはメラミン樹脂でありうる。熱硬化性樹
脂の接合用途は、第1工程で光重合し、そして第2工程
で熱後処理により架橋される。いわゆるハイブリッドシ
ステムで使用するのに重要である。
【0024】光重合性混合物は、光開始剤に加えて種々
の添加剤を含有しうる。それらは、例えばヒドロキノン
もしくは立体障害性フェノールのような早期重合を防ぐ
目的のための熱開始剤である。銅化合物、リン化合物、
第4アンモニウム化合物もしくはヒドロキシルアミン誘
導体は、例えば暗所で貯蔵安定性を増加させるために使
用できる。重合開始時に表面に移動するパラフィンもし
くは同様のワックス様物質は、重合間に空中酸素を除去
する目的のために添加できる。UV吸収剤、例えばベン
ゾトリアゾール、ベンゾフェノンもしくはオキサアニリ
ド型のUV吸収剤は光安定剤として少量添加できる。例
えば立体障害性アミン(HALS)のようなUV光を吸
収しない光安定剤でさえ添加すると良好である。
の添加剤を含有しうる。それらは、例えばヒドロキノン
もしくは立体障害性フェノールのような早期重合を防ぐ
目的のための熱開始剤である。銅化合物、リン化合物、
第4アンモニウム化合物もしくはヒドロキシルアミン誘
導体は、例えば暗所で貯蔵安定性を増加させるために使
用できる。重合開始時に表面に移動するパラフィンもし
くは同様のワックス様物質は、重合間に空中酸素を除去
する目的のために添加できる。UV吸収剤、例えばベン
ゾトリアゾール、ベンゾフェノンもしくはオキサアニリ
ド型のUV吸収剤は光安定剤として少量添加できる。例
えば立体障害性アミン(HALS)のようなUV光を吸
収しない光安定剤でさえ添加すると良好である。
【0025】ある場合において、2種もしくはそれ以上
の本発明による光開始剤の混合物を使用すると有利であ
る。公知の光開始剤との混合物は、例えばベンゾフェノ
ン、アセトフェノン誘導体、ベンゾインエーテルもしく
はベンジルケタールとの混合物をもちろん使用すること
もできる。
の本発明による光開始剤の混合物を使用すると有利であ
る。公知の光開始剤との混合物は、例えばベンゾフェノ
ン、アセトフェノン誘導体、ベンゾインエーテルもしく
はベンジルケタールとの混合物をもちろん使用すること
もできる。
【0026】アミン、例えばトリエタノールアミン、N
−メチル−ジエタノールアミン、エチルp−ジメチルア
ミノベンゾエートもしくはミッケラーズ(Michle
r′s)ケトンは、光重合を促進するために添加でき
る。アミンの効果はベンゾフェノン型の芳香族ケトンを
添加することにより一層効果的にすることができる。
−メチル−ジエタノールアミン、エチルp−ジメチルア
ミノベンゾエートもしくはミッケラーズ(Michle
r′s)ケトンは、光重合を促進するために添加でき
る。アミンの効果はベンゾフェノン型の芳香族ケトンを
添加することにより一層効果的にすることができる。
【0027】更に光重合の促進は、スペクトル感度をず
らすか、または拡大する光増感剤を添加することにより
影響させることができる。特にこれらは芳香族カルボニ
ル化合物で、例えばベンゾフェノン、チオキサントン、
アントラキノン及び3−アシルクマリンの誘導体、並び
に3−(アロイルメチレン)−チアゾリンである。
らすか、または拡大する光増感剤を添加することにより
影響させることができる。特にこれらは芳香族カルボニ
ル化合物で、例えばベンゾフェノン、チオキサントン、
アントラキノン及び3−アシルクマリンの誘導体、並び
に3−(アロイルメチレン)−チアゾリンである。
【0028】本発明による光開始剤の効果は、例えばヨ
ーロッパ特許出願第122223号及び第186626
号に記載されているようなチタノセン誘導体をフルオロ
有機性基と共に例えば1−20%の量で添加することに
より増加させることができる。上記チタノセンの例は、
ビス(メチルシクロペンタジエニル)−ビス(2,3,
6−トリフルオロフェニル)−チタン、ビス(シクロペ
ンタジエニル)−ビス−(4−ジブチルアミノ−2,
3,5,6−テトラフルオロフェニル)−チタン、ビス
(メチルシクロペンタジエニル)−2−(トリフルオロ
メチル)フェニル−チタンイソシアネート、ビス(シク
ロペンタジエニル)−2−(トリフルオロメチル)フェ
ニル−チタン トリフルオロアセテート及びビス−(メ
チルシクロペンタジエニル)−ビス(4−デシルオキシ
−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)−チタン
である。液状のα−アミノケトンが上記化合物に対して
特に適している。
ーロッパ特許出願第122223号及び第186626
号に記載されているようなチタノセン誘導体をフルオロ
有機性基と共に例えば1−20%の量で添加することに
より増加させることができる。上記チタノセンの例は、
ビス(メチルシクロペンタジエニル)−ビス(2,3,
6−トリフルオロフェニル)−チタン、ビス(シクロペ
ンタジエニル)−ビス−(4−ジブチルアミノ−2,
3,5,6−テトラフルオロフェニル)−チタン、ビス
(メチルシクロペンタジエニル)−2−(トリフルオロ
メチル)フェニル−チタンイソシアネート、ビス(シク
ロペンタジエニル)−2−(トリフルオロメチル)フェ
ニル−チタン トリフルオロアセテート及びビス−(メ
チルシクロペンタジエニル)−ビス(4−デシルオキシ
−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)−チタン
である。液状のα−アミノケトンが上記化合物に対して
特に適している。
【0029】本発明による光硬化性組成物は種々の目的
のために使用できる。例えば印刷インク、写真複製工
程、画像記録工程及びレリーフ型の製造のためのような
顔料もしくは着色系での使用が特に重要である。他の重
要な用途の分野は、着色できる、あるいは着色できない
塗料である。該混合物は白色ラッカーで特に有効である
が、それはTiO2で着色された塗料であると理解され
る。用途の他の分野は、フォトレジストの輻射線−硬
化、銀を含まないフィルムの光架橋及び印刷プレートの
製造である。別の用途は、日中に表面を続けて硬化させ
る外部の塗料フィルムのために使用される。
のために使用できる。例えば印刷インク、写真複製工
程、画像記録工程及びレリーフ型の製造のためのような
顔料もしくは着色系での使用が特に重要である。他の重
要な用途の分野は、着色できる、あるいは着色できない
塗料である。該混合物は白色ラッカーで特に有効である
が、それはTiO2で着色された塗料であると理解され
る。用途の他の分野は、フォトレジストの輻射線−硬
化、銀を含まないフィルムの光架橋及び印刷プレートの
製造である。別の用途は、日中に表面を続けて硬化させ
る外部の塗料フィルムのために使用される。
【0030】光開始剤は、光重合性組成物に対して0.
1ないし20重量%、好ましくは約0.5ないし5重量
%の量で使用するのが有利である。用途の分野を以下に
列挙する。
1ないし20重量%、好ましくは約0.5ないし5重量
%の量で使用するのが有利である。用途の分野を以下に
列挙する。
【0031】重合は短波長輻射線での豊んだ光で照射す
ることにより公知の光重合方法により実施する。適する
光源は、例えば中圧、高圧及び低圧水銀ランプ、超化学
線チューブランプ(superactinic tub
ular lamps)及び金属ハライドランプもしく
は最大放射が250ないし450nm間にあるレーザー
である。光増感剤もしくはフェロセン誘導体とを組み合
せた場合には、600nmまでの長波長光もしくはレー
ザービームも更に使用できる。
ることにより公知の光重合方法により実施する。適する
光源は、例えば中圧、高圧及び低圧水銀ランプ、超化学
線チューブランプ(superactinic tub
ular lamps)及び金属ハライドランプもしく
は最大放射が250ないし450nm間にあるレーザー
である。光増感剤もしくはフェロセン誘導体とを組み合
せた場合には、600nmまでの長波長光もしくはレー
ザービームも更に使用できる。
【0032】
【実施例】本発明による光開始剤の製造及び用途を以下
の実施例で更に詳細に説明する。ここで、部は重量部、
パーセントは重量パーセントを表し、温度は摂氏度を表
す。本発明の化合物は本発明の原出願(特願昭63−7
3024号)に開示される以下の例1〜4に示す化合物
の製造方法に準じた方法で製造でき、例えば実施例5に
示す化合物を出発ケトンとして製造できる。
の実施例で更に詳細に説明する。ここで、部は重量部、
パーセントは重量パーセントを表し、温度は摂氏度を表
す。本発明の化合物は本発明の原出願(特願昭63−7
3024号)に開示される以下の例1〜4に示す化合物
の製造方法に準じた方法で製造でき、例えば実施例5に
示す化合物を出発ケトンとして製造できる。
【0033】例1:α−ベンジルケトンの製造 A) 1−(4−フルオロフェニル)−2−ジメチルア
ミノ−ブタン−1−オン (ヨーロッパ特許出願第3002号に記載された方法に
より4−フルオロブチロフェノンの臭素化により製造し
た)1−(4−フルオロフェニル)−2−ブロモブタン
−1−オン 240g(0.98モル)をジエチルエー
テル250ml中に溶解する。この溶液を0℃でジエチ
ルエーテル1250ml中のジメチルアミン265g
(5.87モル)の混合物にゆっくりと滴下する。該混
合物を0℃で12時間攪拌した後、過剰のジメチルアミ
ンを室温でN2を通して吹きつけることにより室温で除
去し、そして懸濁液を水中に注ぐ。エーテル相を水で洗
浄し、MgSO4で乾燥させる。ろ過と溶液の蒸発後、
更に後続の反応のために精製せずに使用しうる無色の油
状物として粗生成物202.8gが残留する。粗生成物
のNMRスペクトル(CDCl3)は与えられた構造と
一致する。:7.8−8.23(m,2H);6.8−
7.3(m,2H);3.75(d×d,1H);2.
3(s,6H);1.46−2.3(m,2H);0.
83(t,3H)。
ミノ−ブタン−1−オン (ヨーロッパ特許出願第3002号に記載された方法に
より4−フルオロブチロフェノンの臭素化により製造し
た)1−(4−フルオロフェニル)−2−ブロモブタン
−1−オン 240g(0.98モル)をジエチルエー
テル250ml中に溶解する。この溶液を0℃でジエチ
ルエーテル1250ml中のジメチルアミン265g
(5.87モル)の混合物にゆっくりと滴下する。該混
合物を0℃で12時間攪拌した後、過剰のジメチルアミ
ンを室温でN2を通して吹きつけることにより室温で除
去し、そして懸濁液を水中に注ぐ。エーテル相を水で洗
浄し、MgSO4で乾燥させる。ろ過と溶液の蒸発後、
更に後続の反応のために精製せずに使用しうる無色の油
状物として粗生成物202.8gが残留する。粗生成物
のNMRスペクトル(CDCl3)は与えられた構造と
一致する。:7.8−8.23(m,2H);6.8−
7.3(m,2H);3.75(d×d,1H);2.
3(s,6H);1.46−2.3(m,2H);0.
83(t,3H)。
【0034】B) 1−(4−フルオロフェニル)−2
−ジメチルアミノ−2−ベンジル−ブタン−1−オン 1−(4−フルオロフェニル)−2−ジメチルアミノ−
ブタン−1−オン(Aからの粗生成物)100g(0.
48モル)をアセトニトリル330mlに溶解する。ベ
ンジルブロミド98.1g(0.57モル)を攪拌しな
がらゆっくりと滴下する。該混合物を室温で12時間攪
拌した後、溶媒を真空にして留去する。残留物を水50
0ml中に溶解し、そして溶液を55−60℃に加熱す
る。この温度で34%NaOH溶液(0.96モル)1
13gを滴下し、そして混合物を続けて30分間攪拌す
る。冷却後、反応混合物をジエチルエーテルで抽出し、
該エーテル相をMgSO4で乾燥させて蒸発させる。次
反応のために更に精製しないで使用しうる粗生成物11
7.1gが残留する。粗生成物のNMRスペクトルは与
えられた構造と一致する。NMR(CDCl3)−δ
(ppm):8.1−8.53(m,2H);6.76
−7.5(m,7H);3.16(s,2H);2.3
3(s,6H);1.53−2.2(m,2H);0.
65(t,3H)。
−ジメチルアミノ−2−ベンジル−ブタン−1−オン 1−(4−フルオロフェニル)−2−ジメチルアミノ−
ブタン−1−オン(Aからの粗生成物)100g(0.
48モル)をアセトニトリル330mlに溶解する。ベ
ンジルブロミド98.1g(0.57モル)を攪拌しな
がらゆっくりと滴下する。該混合物を室温で12時間攪
拌した後、溶媒を真空にして留去する。残留物を水50
0ml中に溶解し、そして溶液を55−60℃に加熱す
る。この温度で34%NaOH溶液(0.96モル)1
13gを滴下し、そして混合物を続けて30分間攪拌す
る。冷却後、反応混合物をジエチルエーテルで抽出し、
該エーテル相をMgSO4で乾燥させて蒸発させる。次
反応のために更に精製しないで使用しうる粗生成物11
7.1gが残留する。粗生成物のNMRスペクトルは与
えられた構造と一致する。NMR(CDCl3)−δ
(ppm):8.1−8.53(m,2H);6.76
−7.5(m,7H);3.16(s,2H);2.3
3(s,6H);1.53−2.2(m,2H);0.
65(t,3H)。
【0035】C) 1−(4−ジメチルアミノフェニ
ル)−2−ジメチルアミノ−2−ベンジル−ブタン−1
−オン 攪拌したオートクレーブを1−(4−フルオロフェニ
ル)−2−ジメチルアミノ−2−ベンジルブタン−1−
オン(Bからの粗生成物)50g(0.167モル)、
ジメチルホルムアミド300ml及び炭酸カルシウム2
3.1g(0.167モル)で満たす。その後ジメチル
アミン22.6g(0.5モル)を圧力下(3−4バー
ル)で添加する。混合物を100℃で加熱し、この温度
で24時間攪拌する。冷却後、過剰のジメチルアミンを
留去し、反応混合物を氷/水に注ぎ、ジエチルエーテル
で抽出する。エーテル相を水で洗浄し、MgSO4で乾
燥させて真空にして蒸発させる。液状残留物を溶離剤と
して酢酸エチル/ヘキサン15:85を使用した中圧ク
ロマトグラフィー方法により精製する。エタノールから
結晶化する粗生成物44gを得る。融点77−80℃。 元素分析 計算値 C77.74% H8.70% N8.63% 測定値 C77.59% H8.71% N8.62%
ル)−2−ジメチルアミノ−2−ベンジル−ブタン−1
−オン 攪拌したオートクレーブを1−(4−フルオロフェニ
ル)−2−ジメチルアミノ−2−ベンジルブタン−1−
オン(Bからの粗生成物)50g(0.167モル)、
ジメチルホルムアミド300ml及び炭酸カルシウム2
3.1g(0.167モル)で満たす。その後ジメチル
アミン22.6g(0.5モル)を圧力下(3−4バー
ル)で添加する。混合物を100℃で加熱し、この温度
で24時間攪拌する。冷却後、過剰のジメチルアミンを
留去し、反応混合物を氷/水に注ぎ、ジエチルエーテル
で抽出する。エーテル相を水で洗浄し、MgSO4で乾
燥させて真空にして蒸発させる。液状残留物を溶離剤と
して酢酸エチル/ヘキサン15:85を使用した中圧ク
ロマトグラフィー方法により精製する。エタノールから
結晶化する粗生成物44gを得る。融点77−80℃。 元素分析 計算値 C77.74% H8.70% N8.63% 測定値 C77.59% H8.71% N8.62%
【0036】例2:α−アリルケトンの製造 D) 1−(4−フルオロフェニル)−2−モルホリノ
−2−エチルペンテ−4−エン−1−オン ヘキサン50ml中の水素化ナトリウム12.4g
(0.51モル)の分散剤をジメチルホルムアミド(D
MF)300mlで希釈する。DMF250ml中の1
−(4−フルオロフェニル)−2−モルホリノブタン−
1−オン117.7g(0.47モル)の溶液を攪拌し
ながら2時間かけてこの懸濁液に滴下する。アリルブロ
ミド70.8g(0.58モル)を室温で1時間かけて
添加し、そして更に出発物質がサンプル中で薄層クロマ
トグラフィーにより見つけることができなくなるまで反
応混合物を110℃で加熱する。冷却後、反応混合物を
氷/水に注ぎ、そしてジエチルエーテルで抽出する。エ
ーテル相をMgSO4で乾燥させ、真空にして蒸発させ
る。次反応のために更に精製しないで使用できる油状粗
生成物127gを残留物として得る。粗生成物のNMR
スペクトルは与えられた構造に相当する。 NMR(CDCl3),δ(ppm):8.46(d×
d,2H);7(t,2H);4.8−6.5(m,3
H);3.5−3.9(m,4H);2.4−3.2
(m,6H);1.7−2.3(m,2H);0.75
(t,3H)。
−2−エチルペンテ−4−エン−1−オン ヘキサン50ml中の水素化ナトリウム12.4g
(0.51モル)の分散剤をジメチルホルムアミド(D
MF)300mlで希釈する。DMF250ml中の1
−(4−フルオロフェニル)−2−モルホリノブタン−
1−オン117.7g(0.47モル)の溶液を攪拌し
ながら2時間かけてこの懸濁液に滴下する。アリルブロ
ミド70.8g(0.58モル)を室温で1時間かけて
添加し、そして更に出発物質がサンプル中で薄層クロマ
トグラフィーにより見つけることができなくなるまで反
応混合物を110℃で加熱する。冷却後、反応混合物を
氷/水に注ぎ、そしてジエチルエーテルで抽出する。エ
ーテル相をMgSO4で乾燥させ、真空にして蒸発させ
る。次反応のために更に精製しないで使用できる油状粗
生成物127gを残留物として得る。粗生成物のNMR
スペクトルは与えられた構造に相当する。 NMR(CDCl3),δ(ppm):8.46(d×
d,2H);7(t,2H);4.8−6.5(m,3
H);3.5−3.9(m,4H);2.4−3.2
(m,6H);1.7−2.3(m,2H);0.75
(t,3H)。
【0037】例3:常圧下での核のアミノ化 E) 2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−
モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン 1−(4−フルオロフェニル)−2−ジメチルアミノ−
2−ベンジル−ブタン−1−オン(実施例1,B)60
8.7g(2.03モル)、モルホリン354.2g
(4.06モル)、K2CO3562g(4.06モ
ル)及びジメチルスルホキシド2000mlを攪拌しな
がら160℃で12時間加熱する。この後、サンプルは
薄層クロマトグラムでいかなる出発ケトンをも示さな
い。反応溶液を室温で冷却し、氷中に注ぎ、そして塩化
メチレンで抽出する。有機相をMgSO4で乾燥させ、
ろ過して蒸発させる。油状残留物がエタノールから結晶
する。生成物は111−119℃で溶解する。 元素分析 計算値 C75.37% H8.25% N7.64% 測定値 C75.40% H8.27% N7.63%
モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン 1−(4−フルオロフェニル)−2−ジメチルアミノ−
2−ベンジル−ブタン−1−オン(実施例1,B)60
8.7g(2.03モル)、モルホリン354.2g
(4.06モル)、K2CO3562g(4.06モ
ル)及びジメチルスルホキシド2000mlを攪拌しな
がら160℃で12時間加熱する。この後、サンプルは
薄層クロマトグラムでいかなる出発ケトンをも示さな
い。反応溶液を室温で冷却し、氷中に注ぎ、そして塩化
メチレンで抽出する。有機相をMgSO4で乾燥させ、
ろ過して蒸発させる。油状残留物がエタノールから結晶
する。生成物は111−119℃で溶解する。 元素分析 計算値 C75.37% H8.25% N7.64% 測定値 C75.40% H8.27% N7.63%
【0038】例4:ジアリルケトンの製造 F) 2−ジメチルアミノ−1−(4−フルオロフェニ
ル)−4−ペンテン−1−オン α−ジメチルアミノ−4−フルオロアセトフェノン11
8g(0.65モル)をアセトニトリル350ml中に
溶解する。アリルブロミド94.5g(0.78モル)
を約25℃でこの溶液にゆっくりと滴下し、反応混合物
を12時間室温で攪拌する。溶媒を真空にして留去し、
そして固形残留物を温水(約60℃)中に溶解する。3
0%NaOH水溶液169ml(1.27モル)をゆっ
くりと添加し、室温に冷却した後、該混合物をジエチル
エーテルで抽出する。エーテル相を乾燥させて蒸発させ
る。得られた残留物は、次反応のために更に精製しない
で使用しうる油状物の形状にある粗製2−ジメチルアミ
ノ−1−(4−フルオロフェニル)−4−ペンテン−1
−オンである。生成物のNMRスペクトルは与えられた
構造と良く一致している。:7.83−8.23m(2
H,HB),6.9−7.26m(2H,HA),4.
76−6.0m(3H,H(olefin)),3.9
6d×d(1H,J=6Hz,J=8.5Hz,H
c),2.2−2.7m(2H,HD),2.3s(6
H,HB)。
ル)−4−ペンテン−1−オン α−ジメチルアミノ−4−フルオロアセトフェノン11
8g(0.65モル)をアセトニトリル350ml中に
溶解する。アリルブロミド94.5g(0.78モル)
を約25℃でこの溶液にゆっくりと滴下し、反応混合物
を12時間室温で攪拌する。溶媒を真空にして留去し、
そして固形残留物を温水(約60℃)中に溶解する。3
0%NaOH水溶液169ml(1.27モル)をゆっ
くりと添加し、室温に冷却した後、該混合物をジエチル
エーテルで抽出する。エーテル相を乾燥させて蒸発させ
る。得られた残留物は、次反応のために更に精製しない
で使用しうる油状物の形状にある粗製2−ジメチルアミ
ノ−1−(4−フルオロフェニル)−4−ペンテン−1
−オンである。生成物のNMRスペクトルは与えられた
構造と良く一致している。:7.83−8.23m(2
H,HB),6.9−7.26m(2H,HA),4.
76−6.0m(3H,H(olefin)),3.9
6d×d(1H,J=6Hz,J=8.5Hz,H
c),2.2−2.7m(2H,HD),2.3s(6
H,HB)。
【0039】G) 4−ジメチルアミノ−4−(4−フ
ルオロベンジル)−ヘプタ−1,6−ジエン アセトニトリル350ml中のF)からの粗生成物13
1g(0.59モル)及びアリルブロミド85.9g
(0.71モル)をF)と同様に反応させる。反応混合
物を30%NaOH(1.2モル)160mlで中和す
る。粗生成物をF)と同様に反応させる。反応生成物は
次工程(核のアミノ化)のために更に精製しないで使用
できる黄色油状物である。NMR(CDCl3),8.
53−8.1m(2H,HB),7.2−6.7m(2
H,HA),6.1−4.7m(6H,H(olefi
n)),3.8−2.5(4H,H(allyl)),
2.4s(6H,N−CH3)。
ルオロベンジル)−ヘプタ−1,6−ジエン アセトニトリル350ml中のF)からの粗生成物13
1g(0.59モル)及びアリルブロミド85.9g
(0.71モル)をF)と同様に反応させる。反応混合
物を30%NaOH(1.2モル)160mlで中和す
る。粗生成物をF)と同様に反応させる。反応生成物は
次工程(核のアミノ化)のために更に精製しないで使用
できる黄色油状物である。NMR(CDCl3),8.
53−8.1m(2H,HB),7.2−6.7m(2
H,HA),6.1−4.7m(6H,H(olefi
n)),3.8−2.5(4H,H(allyl)),
2.4s(6H,N−CH3)。
【0040】以下は本発明の化合物の出発ケトンの製造
例である。実施例5:3,6−ジブチリル−9−ブチル−9H−カ
ルバゾールの合成 H) N−ブチルカルバゾールの合成 トルエン200ml中のカルバゾール100g(0.6
モル)の懸濁液を還流下で攪拌しながら加熱する。95
℃に冷却した後、まず最初にトリエチルベンジルアンモ
ニウムクロリド26.8g(0.12モル)、そして次
に水180ml中のKOH169.8gの溶液を添加す
る。それにより温度は65℃に下降する。ブチルブロミ
ド205.6g(1.5モル)を激しく攪拌しながら5
分間かけて添加すると、温度は92℃に上昇する。混合
物を還流下で更に10分間保持すると、全てのカルバゾ
ールが溶解する。その後水相を除去する。トルエン相を
少量の水で洗浄し、Na2CO3で乾燥させて、真空に
しで蒸発させる。油状残留物を温かいヘキサン300m
l中に溶解し、該溶液を透明にする。冷却すると、融点
が50−52℃であるベージュ色の結晶形で生成物が結
晶化する。
例である。実施例5:3,6−ジブチリル−9−ブチル−9H−カ
ルバゾールの合成 H) N−ブチルカルバゾールの合成 トルエン200ml中のカルバゾール100g(0.6
モル)の懸濁液を還流下で攪拌しながら加熱する。95
℃に冷却した後、まず最初にトリエチルベンジルアンモ
ニウムクロリド26.8g(0.12モル)、そして次
に水180ml中のKOH169.8gの溶液を添加す
る。それにより温度は65℃に下降する。ブチルブロミ
ド205.6g(1.5モル)を激しく攪拌しながら5
分間かけて添加すると、温度は92℃に上昇する。混合
物を還流下で更に10分間保持すると、全てのカルバゾ
ールが溶解する。その後水相を除去する。トルエン相を
少量の水で洗浄し、Na2CO3で乾燥させて、真空に
しで蒸発させる。油状残留物を温かいヘキサン300m
l中に溶解し、該溶液を透明にする。冷却すると、融点
が50−52℃であるベージュ色の結晶形で生成物が結
晶化する。
【0041】I) フリーデルクラフト反応 ブチリルクロリド46.9g(0.44モル)を攪拌
し、かつ−10ないし−5℃に冷却しなが塩化メチレン
100ml中のAlCl393.3g(0.7モル)の
懸濁液に30分間かけて滴下する。その後CH2Cl2
50ml中のN−ブチルカルバゾール22.3g(0.
1モル)の溶液を−10ないし−5℃で2時間かけて滴
下する。該懸濁液を0ないし20℃で16時間攪拌し、
次に氷中に注ぐ。形成した乳濁液をCHCl3で2回抽
出し、そして抽出物を水で洗浄し、MgSO4で乾燥さ
せて蒸発させる。粗製3,6−ジブチリル−9−ブチル
−9Hカルバゾールをエタノール80mlから再結晶さ
せる。得られた結晶体は融点107−109℃である。
融点が142−144℃である3,6−ジプロピオニル
−9−ブチル−9H−カルバゾールをプロピオニルクロ
リド81.4g及びN−ブチルカルバゾール44.7g
から同様の方法で得る。
し、かつ−10ないし−5℃に冷却しなが塩化メチレン
100ml中のAlCl393.3g(0.7モル)の
懸濁液に30分間かけて滴下する。その後CH2Cl2
50ml中のN−ブチルカルバゾール22.3g(0.
1モル)の溶液を−10ないし−5℃で2時間かけて滴
下する。該懸濁液を0ないし20℃で16時間攪拌し、
次に氷中に注ぐ。形成した乳濁液をCHCl3で2回抽
出し、そして抽出物を水で洗浄し、MgSO4で乾燥さ
せて蒸発させる。粗製3,6−ジブチリル−9−ブチル
−9Hカルバゾールをエタノール80mlから再結晶さ
せる。得られた結晶体は融点107−109℃である。
融点が142−144℃である3,6−ジプロピオニル
−9−ブチル−9H−カルバゾールをプロピオニルクロ
リド81.4g及びN−ブチルカルバゾール44.7g
から同様の方法で得る。
【0042】以下の表中に列挙した生成物は、一般製造
例A−Iと同様にして製造する。
例A−Iと同様にして製造する。
【0043】実施例6:青色印刷インクの光硬化 青色印刷インクを以下の配合に従って製造する。: 登録商標Setalin AP565 62部 (Syntheseからのウレタンアクリレート樹脂、オランダ国) 4,4′−ジー(β−アクリロイルオキシエトキシ)− 15部 2,2−ジフェニルプロパン(登録商標Ebecryl 150 UCB、ベルギー国) 登録商標Irgalithblau GLSM 23部 (チバ−ガイギー社、バーゼル) 該混合物を3本ロールミルで均質化し、そして5μmよ
り小さな粒径に粉砕する。それぞれの場合において、こ
の印刷インク5gを水で冷却しながらプレート粉砕機上
で180kg/m2の圧力下で所望の光開始剤量と共に
均質に混合する。印刷インクに対して3%と6%の光開
始剤を有するサンプルを製造する。見本の印刷装置(P
rufbau,FR Germany)を使用して、オ
フセット印刷を4×20cmの細長いアート印刷用紙に
上記印刷インクで行なう。印刷条件は、:印刷インク使
用量:1.5g/m2、プレス圧(ゲージ圧):25k
p/cm、印刷速度:1m/秒である。金属(アルミニ
ウム)の表面を有する印刷ローラーをここでは使用す
る。印刷されたサンプルをUV照射装置中でそれぞれが
80W/cmである2つのランプを使用してPPGから
硬化させる。照射時間は、サンプルの移動速度を変化さ
せることにより変化させる。印刷インクの表面乾燥は、
照射後すぐにいわゆる転写試験により試験を行なう。す
なわち白色用紙を25kp/cmのゲージ圧下で印刷さ
れたサンプル上にプレスする。該用紙が無色であれば、
試験は合格である。目に見えない量の色が該試験片に転
写しているとき、これはサンプルの表面が十分に硬化し
ていないことを意味する。転写試験で合格した最大転写
速度を表4に示した。印刷インクの完全な硬化を試験を
するために、オフセット印刷物を同様に上述したように
製造するが、表面がゴム製の印刷ローラーを使用し、ア
ルミニウム被覆された細長い紙片の金属性の側が印刷さ
れる。照射は上述したように実施する。完全に硬化した
ものを照射後すぐにREL完全硬化試験機中で試験す
る。ここで、引き伸ばされている織物で覆うアルミニウ
ムシリンダーを印刷されたサンプル上に置き、そして2
20g/cm2の圧力下で10秒かけてそれ自身の回転
軸のまわりを1回転させる。その結果、目に見える損傷
がサンプルに生じた場合、印刷インクは十分完全に硬化
されていない。REL試験ですでに合格した最大転写速
度を以下の表に記載した。
り小さな粒径に粉砕する。それぞれの場合において、こ
の印刷インク5gを水で冷却しながらプレート粉砕機上
で180kg/m2の圧力下で所望の光開始剤量と共に
均質に混合する。印刷インクに対して3%と6%の光開
始剤を有するサンプルを製造する。見本の印刷装置(P
rufbau,FR Germany)を使用して、オ
フセット印刷を4×20cmの細長いアート印刷用紙に
上記印刷インクで行なう。印刷条件は、:印刷インク使
用量:1.5g/m2、プレス圧(ゲージ圧):25k
p/cm、印刷速度:1m/秒である。金属(アルミニ
ウム)の表面を有する印刷ローラーをここでは使用す
る。印刷されたサンプルをUV照射装置中でそれぞれが
80W/cmである2つのランプを使用してPPGから
硬化させる。照射時間は、サンプルの移動速度を変化さ
せることにより変化させる。印刷インクの表面乾燥は、
照射後すぐにいわゆる転写試験により試験を行なう。す
なわち白色用紙を25kp/cmのゲージ圧下で印刷さ
れたサンプル上にプレスする。該用紙が無色であれば、
試験は合格である。目に見えない量の色が該試験片に転
写しているとき、これはサンプルの表面が十分に硬化し
ていないことを意味する。転写試験で合格した最大転写
速度を表4に示した。印刷インクの完全な硬化を試験を
するために、オフセット印刷物を同様に上述したように
製造するが、表面がゴム製の印刷ローラーを使用し、ア
ルミニウム被覆された細長い紙片の金属性の側が印刷さ
れる。照射は上述したように実施する。完全に硬化した
ものを照射後すぐにREL完全硬化試験機中で試験す
る。ここで、引き伸ばされている織物で覆うアルミニウ
ムシリンダーを印刷されたサンプル上に置き、そして2
20g/cm2の圧力下で10秒かけてそれ自身の回転
軸のまわりを1回転させる。その結果、目に見える損傷
がサンプルに生じた場合、印刷インクは十分完全に硬化
されていない。REL試験ですでに合格した最大転写速
度を以下の表に記載した。
【0044】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C07C 323/31 C07C 323/31 C07D 219/02 C07D 219/02 219/04 219/04 263/32 263/32 263/56 263/56 265/30 265/30 265/36 265/36 265/38 265/38 279/18 279/18 283/00 283/00 295/02 295/02 A Z 295/10 295/10 A Z 307/91 307/91 C07F 7/18 C07F 7/18 A C09D 4/00 C09D 4/00 7/12 7/12 Z (72)発明者 ヴィンセント デソブリ スイス国,1723 マルリー,ルート デ コンフィン 50 (72)発明者 クルト ディートリカー スイス国,1700 フリブール,アベニュ ー ジャン−マリー ミュージー 6 (72)発明者 リナルド ヒュスラー スイス国,1723 マルリー,ルート デ コンフィン 52 (72)発明者 ヴェルナー ルッチュ スイス国,1700 フリブール,アベニュ ー ジャン−マリー ミュージー 6 (72)発明者 マンフレッド レンボルド スイス国,4147 エッシュ,イム エッ シュフェルト 21 (72)発明者 フランシスセック シテック スイス国,4160 テルウィル, グロス マットヴェク 11 (56)参考文献 特開 昭60−84248(JP,A) 特開 昭59−167546(JP,A) 特開 昭58−157805(JP,A) 特開 昭54−99185(JP,A)
Claims (6)
- 【請求項1】 次式I 【化1】 〔式中、Ar1 は次式VIもしくはVII : 【化2】 で表される芳香族基を表し、 Uは−O−、−S−、−N(R17)−もしくは−CO−
を表し; Vは−O−、−S−もしくは−N(R17)−、−CH2
−、−CH2 CH2 −もしくは直接結合を表し、 Wは直鎖または枝分れ鎖炭素原子数1ないし7のアルキ
レン基を表し、 R1 は(a)式: 【化3】 (式中、pは0もしくは1を表す。)で表される基、ま
たは(c)式 【化4】 (式中、Ar2 は未置換であるか、または炭素原子数1
ないし12のアルキル基によって置換されたフェニル基
を表す。)で表される基のうちのいずれかを表し、 R2 はR1 で定義した意味のうちひとつを表すか、炭素
原子数1ないし12のアルキル基を表し、 R3 は炭素原子数1ないし12のアルキル基、またはヒ
ドロキシル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基も
しくは−COO(炭素原子数1ないし4のアルキル)基
によって置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基
を表すか、またはR3 は炭素原子数3ないし5のアルケ
ニル基もしくは炭素原子数7ないし9のフェニルアルキ
ル基を表し、 R4 は炭素原子数1ないし12のアルキル基、またはヒ
ドロキシル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基も
しくは−COO(炭素原子数1ないし4のアルキル)基
によって置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基
を表すか、またはR4 は炭素原子数3ないし5のアルケ
ニル基もしくは炭素原子数7ないし9のフェニルアルキ
ル基を表すか、またはR3 およびR4 は一緒になって−
O−、−S−、−CO−もしくは−N(R17)−により
中断され得る炭素原子数3ないし7のアルキレン基を表
し、 R13は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基も
しくはフェニル基を表し、 R14、R15及びR16は互いに独立して水素原子もしくは
炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し、 R17は水素原子、または1もしくはそれ以上の−O−に
よって中断され得る炭素原子数1ないし12のアルキル
基、または炭素原子数2ないし8のアルカノイル基を表
す。〕で表される化合物、または該化合物の酸付加塩。 - 【請求項2】 上記式中、 Ar1 が式VII で表される基を表し、並びにR1 、
R2 、R3 、R4 、U、V及びWは請求項1で定義した
意味を表す請求項1に記載の化合物。 - 【請求項3】 A)少なくとも1種のエチレン系不飽和
光重合性化合物とB)光開始剤として少なくとも1種の
請求項1の化合物を含有する光硬化性組成物。 - 【請求項4】 A)少なくとも1種のエチレン系不飽和
光重合性化合物と、B)光開始剤として少なくとも1種
の請求項1の化合物と、C)白色もしくは着色顔料を含
有する請求項3に記載の光硬化性組成物。 - 【請求項5】 A)少なくとも1種のエチレン系不飽和
光重合性化合物と、B)光開始剤として少なくとも1種
の請求項1の化合物と、C)白色もしくは着色顔料と、
D)光増感剤としてベンゾフェノン、チオキサントン、
アントラキノン、3−アシルクマリンもしくは3−(ア
ロイルメチレン)−チアゾリン類の芳香族カルボニル化
合物を含有する請求項4に記載の光硬化性組成物。 - 【請求項6】 A)少なくとも1種のエチレン系不飽和
光重合性化合物と、B)光開始剤としてB1 )少なくと
も1種の請求項1の化合物およびB2 )アリール基中、
フッ素原子もしくはCF3 により置換されたアリールチ
タノセン誘導体からなる混合物とを含有する請求項3に
記載の光硬化性組成物。
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---|---|---|---|
CH1152/87-5 | 1987-03-26 | ||
CH115287 | 1987-03-26 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JPH1029977A JPH1029977A (ja) | 1998-02-03 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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