JPS6259691B2

JPS6259691B2 -

Info

Publication number: JPS6259691B2
Application number: JP53160908A
Authority: JP
Inventors: Fuerudaa Ruuisu; Kirukumeiru Rudorufu; Hiisuraa Rinarudo
Original assignee: Ciba Geigy AG
Current assignee: Novartis AG
Priority date: 1977-12-22
Filing date: 1978-12-22
Publication date: 1987-12-12
Also published as: JPS5495550A; US4271294A; EP0002707B1; EP0002707A1

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、芳香族ケトンのアミノアルコキシ誘
導体、誘導体を含む不飽和化合物の光重合用又は
ポリオレフイン類の光化学架橋用の新規な開始剤
及びその開始剤等を含有する系に関する。本発明の光重合開始剤は、次式：〔式中、 Ar¹及びAr²は、フエニル基を表わし、R¹は水
素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基、
又は基：−Ｏ−R²−NR³R⁴を表わし、R²は１，
２−エチレン基を表わし、R³及びR⁴は各々炭素
原子数１ないし４のアルキル基を表わすか、又は
R³及びR⁴は一緒になつて基：−（CH₂）₅−、−
CH₂CH₂OCH₂CH₂−又は−CH₂CH₂−NR⁵−
CH₂CH₂−（式中、R⁵は水素原子またはメチル基
を表わす）を表わす〕で表わされる化合物であ
る。アルキル基としてのR¹は、メチル基、エチル
基、プロピル基又はブチル基であり得る。基：−NR³R⁴は、例えばジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ピペリジノ
基、モルホリノ基、ピペラジノ基又は４−メチル
ピペラジノ基であり得る。 R¹が水素原子又はアルキル基を表わすとき、
式の化合物はアミノアルキルベンゾインエーテ
ル類である。R¹が基：−Ｏ−R⁵−NR³R⁴を表わ
すとき、式の化合物はアルコール部分にアミノ
基を含むベンジルモノケタール類である。アミノ
基を含まないベンゾインエーテル類及びベンジル
モノケタール類は公知の化合物である。光増感剤
としてのこれらの化合物の使用は、例えば英国特
許第1156460号及び第1254231号明細書、米国特許
第3715293号明細書及びドイツ公開公報第2232365
号及び第2337813号に記載されている。式の化合物は、不飽和化合物の光重合におい
て並びにポリオレフイン類の光化学架橋反応にお
いて増感剤としても使用され得る新規化合物であ
る。アミノ基を含まない公知の化合物と比較し
て、この化合物は不飽和化合物の硬化及びポリオ
レフイン類の架橋に必要な露光時間を短縮化する
事実で見られる通り光増感剤としての増感効果に
よつて特徴づけられる。従がつてこの新規化合物
を工業生産プラントで使用するとき、単位時間あ
たり及び光照射装置あたりの生産量を増加させる
ことが出来る。式においてR¹が水素原子又はアルキル基で
ある化合物は、一般に塩基の存在下で相当するハ
ロゲンアルキルベンゾインエーテルと式：R³−
NH−R⁴で表わされるアミンとの反応により製造
できる：アミンの過剰分を、塩基とし使用することもで
きる。他の一般的な製造方法としては、相当するα−
ハロゲンケトンとアミノアルコールのアルカリ化
合物との反応が挙げられる：式においてR¹が基：−Ｏ−R²−NR³R⁴を表
わす化合物は、一般に相当するハロゲンアルキル
ケタールと式：R³−NH−R⁴で表わされるアミン
との反応により製造できる：他の製造方法としては、容易に得られる低級ア
ルキルケタールとアミノアルコールとの部分的又
は完全なアセチル交換反応がある：式においてR¹が水素原子又はアルキル基を
表わす化合物の例としては：ベンゾイン−２−ジメチルアミノエチルエーテ
ル、ベンゾイン−２−ジブチルアミノエチルエー
テル、ベンゾイン−２−モルホリノエチルエーテ
ル、ベンゾイン−２−ピペリジノエチルエーテ
ル、ベンゾイン−２−ピペラジノエチルエーテ
ル、α−メチル−ベンゾイン−２−モルホリノエ
チルエーテルが挙げられる。式においてR¹がアルコキシ基又はアミノア
ルコキシ基を表わす化合物の例としては：ベンジル−ジ−（２−ジメチルアミノエチル）
ケタール、ベンジル−ジ−（２−モルホリノエチ
ル）ケタール、ベンジル−ジ−（２−ピペリジノ
エチル）ケタール、ベンジル−ジ−（２−ピペリ
ジノエチル）ケタール、４，4′−ジクロルベンジ
ル−ジ−〔２−（エチル−フエニルアミノ）エチ
ル〕ケタール、ベンジル−ジ−〔２−（４−メチル
ピペラジノ）−エチル〕ケタール、４，4′−ジメ
チルベンジル−ジ−（２−ピロリジノエチル）ケ
タールが挙げられる。式の化合物を、不飽和化合物又は不飽和化合
物を含む系の光重合において増感剤として使用で
きる。このような光重合性化合物としては、例えばア
クリル酸又はメタクリル酸のエステルのような、
不飽和単量体、例えばメチルアクリレート、エチ
ルアクリレート、ｎ−又は第三−ブチルアクリレ
ート、イソオクチルアクリレート又はヒドロキシ
エチルアクリレート、メチル−又はエチルメタア
クリレート、エチレンジアクリレート、ネオペン
チルジアクリレート、トリメチロールプロパント
リスアクリレート、ペンタエリトリトールテトラ
アクリレート又はペンタエリトリトールトリスア
クリレート；アクリロニトリル、メタアクリロニ
トリル、アクリルアミド、メタアクリルアミド、
Ｎ−置換アクリルアミド及びメタアクリルアミ
ド；ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、
ビニルアクリレート又はビニルスクシネートのよ
うなビニルエステル類；ビニルエーテル、スチレ
ン、アルキルスチレン、ハロスチレン、ジビニル
ベンゼン、ビニルナフタレン、Ｎ−ビニルピロリ
ドン、塩化ビニル又は塩化ビニリデンのような他
のビニル化合物；ジアリルフタレート、ジアリル
マレエート、トリアリルイソシアヌレート、トリ
アリルホスフエート又はエチレングリコールジア
リルエーテルのようなアリル化合物及びこれらの
不飽和単量体の混合物が挙げられる。光重合性化合物としては、更に不飽和のオリゴ
マー又はポリマー及び不飽和単量体とこれらの混
合物が挙げられる。これらは、フマル酸エステル
基、アリル基又はアクリレート基、メタクリレー
ト基のような不飽和基を有する熱可塑性樹脂を含
む。これらの不飽和基は通常、線状ポリマーの主
鎖に官能基を介して結合している。低不飽和（単
一不飽和価）および高不飽和（多不飽和価）モノ
マーでのオリゴマーの混合物は、非常に重要であ
る。このようなオリゴマーの例としては、不飽和
ポリエステル、不飽和アクリル樹脂及びイソシア
ネート又はエポキシ変性アクリレートオリゴマー
並びにポリエーテルアクリレートオリゴマーが挙
げられる。高不飽和化合物の例としては、特にジ
オール及びポリオールのアクリレート、例えばヘ
キサメチレンジアクリレート又はペンタエリトリ
トールテトラアクリレートが挙げられる。更に低
不飽和モノマーとしてアクリレートは、例えばブ
チルアクリレート、フエニルアクリレート、ベン
ジルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレ
ート又は２−ヒドロキシプロピルアクリレートが
好ましい。三種の成分を種々の比率で組合せるこ
とにより重合前の混合物の稠度並びに重合樹脂の
可塑性を変更出来る。三成分の混合物に加え、三成分の混合物もとり
わけポリエステル樹脂において大いに重要であ
る。これらは通常、不飽和ポリエステル及びビニ
ル化合物から成る。不飽和ポリエステルは、少なくとも１つの不飽
和ジカルボン酸、例えばマレイン酸、フマル酸又
はシトラコン酸、及び通常少なくとも１つの飽和
ジカルボン酸、例えばフタル酸、コハク酸、セバ
シン酸又はイソフタル酸とグリコール、例えばエ
チレングリコールプロパンジオール−１，２，ジ
−又はトリエチレングリコール又はテトラメチレ
ングリコールとのオリゴマーエステル化生成物で
あり、変法としてモノカルボン酸及びモノアルコ
ールもまた同時に使用される。この不飽和ポリエ
ステルは常態ではビニル又はアリル化合物に溶解
され、好ましくはスチレンがこの目的で使用され
る。種々の目的に使用される光重合性の系は、通常
光重合性化合物及び光増感剤に加えて多くの他の
成分も含む。それ故、とりわけ成分の混合による
系の製造中に生じる早期重合をなくすために熱重
合防止剤を添加することが慣例である。例えばヒ
ドロキノン、ヒドロキノン誘導体、ｐ−メトキシ
フエニル、β−ナフチルアミン又はβ−ナフトー
ルを、この目的で使用する。更に、少量の紫外線
吸収剤、例えばベンゾトリアゾール又はベンゾフ
エノン型のものを添加できる。暗所で貯蔵期間を延ばすためには、銅ナフテネ
ート、銅ステアレート又は銅オクタノエートのよ
うな銅化合物、トリフエニルホスフイン、トリブ
チルホスフイン、トリエチルホスフイツト、トリ
フエニルホスフイツト又はトリベンジルホスフエ
ートのような燐化合物、テトラメチル塩化アンモ
ニウム又はトリメチルベンジル塩化アンモニウム
のような第四アンモニウム化合物、又はヒドロキ
シルアミン誘導体、例えばＮ−ジエチルヒドロキ
シルアミンを添加するとよい。更に、光重合性の
系は、連鎖移動剤、例えばＮ−メチル−ジエタノ
ールアミン、トリエタノールアミン又はシクロヘ
キセンを含んでもよい。大気中の酸素の重合阻害作用を除外するため
に、パラフイン又は類似ワツクスのような物質を
しばしば光硬化系に添加する。ポリマーに対する
溶解性が悪いために、これらの物質は重合反応の
最初に浮かび上り、空気の侵入を防ぐ透明な表面
層を形成する。硬化すべき樹脂に自己酸化を受け
やすい基、例えばアリル基を導入することによ
り、空気中の酸素を不活性化することもできる。使用目的により光重合性の系はまた珪酸、タル
ク、石膏のような充填剤、顔料、染料、繊維、チ
キソトロープ剤、又は均展剤を含む。本発明の光増感剤は、またラジカル性反応開始
剤、例えば過酸化物、ヒドロペルオキシド、過酸
化ケトン、又は過カルボン酸エステルとともに使
用され得る。ベンゾインエーテル、ジアルコキシアセトフエ
ノン又はベンジルケタールのような公知の光増感
剤との併用、又は芳香族ケトンとの併用も可能で
ある。このようなケトンの例としては、ベンゾフ
エノン、置換ベンゾフエノン誘導体、ミヒラーケ
トン、アントラキノン及びアントラキノン誘導
体、並びにチオキサントン及びその誘導体が挙げ
られる。印刷用インキでは結合剤の乾燥時間は印刷物の
製造速度に決定的な因子であり、１秒の何分の１
のオーダーでなければならず、光硬化は大変重要
である。本発明の増感剤は、印刷ステロ版の製造
用の光硬化用組成物としてもまた適する。通常こ
の目的のため、可溶性線状ポリアミドが光重合性
モノマー例えばアクリルアミドの混合物および光
増感剤が使用される。この組成物から製造される
フイルム又は感光板を原版のネガ（又はポジ）を
通して感光し、硬化しない部分を次に溶媒で溶離
する。 UV（紫外線）硬化の使用分野を更に挙げる
と、金属塗布剤例えば管、罐又はキヤツプ用金属
シートのワニス塗布剤並びにプラスチツク塗布剤
例えばポリ塩化ビニルをベースとする床又は壁の
被覆剤のUV硬化がある。紙塗布剤のUV硬化の例は、ラベル、レコード
のジヤケツト又は本のカバーの無色ワニスであ
る。本発明によると、式の化合物はポリオレフイ
ン例えばポリプロピレン、ポリブテン、ポリイソ
ブチレン及びコポリマー例えばエチレン／プロピ
レンコポリマー、の光化学架橋用の増感剤として
も使用されるが、好ましくは低・中または高密度
のポリエチレンに使用される。光増感剤は、光架橋性の系の光重合性の程度に
基づいて0.1ないし20重量％、好ましくは0.5ない
し５重量％を用い、上述の使用分野で都合よく使
用される。語“系”は、光重合性又は架橋性化合
物と各適用例に応じて使用される光増感剤及び他
の充填剤及び添加剤の混合物を意味するものとす
る。液体であるかすぐに溶解するためこれらの系の
大部分において光重合性の系への光増感剤の添加
は、一般に簡単な撹拌により行なわれる。通常本
発明の増感剤は系に溶け、そのために均一な分散
及び重合体の透明度を保証する。重合は、短波長側の光を照射する公知重合方法
により行なわれる。好ましい光源は例えば中圧、
高圧及び低圧の水銀ランプ、並びに放射ピークが
250ないし400nmの範囲である超化学線の蛍光管
である。ポリオレフインの光化学架橋において、光増感
剤は例えば粉状で混合するか又は可塑化したポリ
オレフインと混合することにより、成形前又は成
形中に添加する。架橋は成形品を固体状、例えば
シート又は繊維の形で照射することにより形成さ
れる。以下の実施例により、式の化合物の製造及び
使用を更に詳しく説明する。部及びパーセントは
重量を表わす。実施例１ベンジル−ジ−（２−モルホリノエチル）ケタ
ール、（２，２−ジ−（２−モルホリノ−エトキ
シ）−１，２−ジフエニル−エタノン）撹拌しながら、ベンジル−ジ−（２−クロルエ
チル）ケタール35ｇ（0.1モル）及びモルホリン
52ｇ（0.6モル）を110℃で６時間保持する。冷却
後、生成物をエーテル中に取る。このエーテル層
を水で洗浄し、Na₂SO₄で乾燥して濃縮する。残
油を50゜−60℃にて高減圧下で乾燥する。収率：41ｇ（91％）得られた化合物について、¹H−NMRスペクト
ルの測定及び元素分析を行なつた。なお、NMR
スペクトルは、60MHzの分析器（Varian T60）
により、CDCl₃溶液中で測定した。 NMRの化学シフト：8.2−7.8（ｍ，2H）、7.7−
7.1（ｍ，8H）、3.8−3.3（ｍ，12H）、2.8−
2.2（ｍ，12H）元素分析値： C₂₆H₃₄N₂O₅ 計算値Ｃ 68.70 Ｈ 7.54 Ｎ 6.16％実測値Ｃ 68.7 Ｈ 7.7 Ｎ 6.1％実施例２プレツクス（Plex）6616（ドイツ国ダルムスタ
ツト市レーム社から市販のアクリレート樹脂）80
部、トリメチロールプロパントリスアクリレート
20部及び実施例１の光反応開始剤２部から成る樹
脂混合物を、フイルム引き出し装置を使用してガ
ラス板上に40μの厚さに引き延ばす。このフイル
ムを約20秒間空気中に放置し、続いて中圧水銀ラ
ンプ（ハノビア装置、モデル45080）で照射す
る。移動ベルトに試料を乗せ１回通過当り0.16秒
の有効照射時間となるような速度で動かし、紫外
線ランプを照射する。上記条件のもとで粘着性の
ないフイルムを得るには７回の照射を必要とす
る。ケーニツヒにの振子型衝撃試験機を使用する
振動試験でのフイルムの硬度は、７回照射後が
124，９回照射後が127，11回照射後が139であ
る。実施例３ベンジル−ジ−（２−ジエチルアミノエチル）
ケタール、〔２，２−ジ−（２−ジエチルアミノ
エトキシ）−１，２−ジフエニル−エタノン〕ベンジル−ジ−（２−クロルエチル）ケタール
20ｇ（0.057モル）をジエチルアミン150ｇ（2.05
モル）と、加圧オートクレーブ中で140℃で24時
間撹拌する。冷却後、反応混合物をエーテル中に
取り、水で抽出する。このエーテル層をNa₂SO₄
で乾燥して濃縮する、残油を高減圧下で乾燥す
る。得られた化合物について、実施例１と同様の方
法によりNMRスペクトルの測定及び元素分析を
行なつた。 NMRの化学シフト：8.2−7.8（ｍ，2H）、7.7−
7.1（ｍ，8H）、3.8−3.3（ｔ，4H）、2.9−
2.3（ｍ，12H）、1.2−0.8（ｔ，12H）元素分析値： C₂₆H₃₈N₂O₃ 計算値実測値Ｃ 73.20％Ｃ 73.20％Ｈ 8.95％Ｈ 9.1％Ｎ 6.57％Ｎ 6.3％実施例４ベンゾイン−２−モルホリノエチルエーテル
〔２−（２−モルホリノエトキシ）−１，２−ジ
フエニル−エタノン〕ベンゾイン−２−クロルエチルエーテル55ｇ
（0.2モル）をモルホリン174ｇと、室温で６時間
及び130℃で１時間撹拌する。冷却後、反応混合
物をエーテルで希釈し、水に注入する。水性の層
をエーテルで抽出し、エーテル層をH₂Oで中性に
なるまで水で洗浄する。次いでエーテル層を希塩
酸で抽出する。次にこの塩酸溶液をK₂CO₃でアル
カリ性にし、エーテルで抽出する。このエーテル
層をNa₂SO₄で乾燥して濃縮する。残油は減圧下
で乾燥される。得られた化合物について、実施例１と同様の方
法によりNMRスペクトルの測定及び元素分析を
行なつた。 NMRの化学シフト：8.2−7.8（ｍ，2H）、7.7−
7.1（ｍ，8H）、5.64（ｓ，1H）、3.9−3.4
（ｍ，6H）、2.9−2.4（ｍ，6H）元素分析値： C₁₉H₂₃NO₃ 計算値実測値Ｃ 73.82％Ｃ 73.5％Ｈ 7.13％Ｈ 7.3％Ｎ 4.31％Ｎ 4.5％実施例５ベンゾイン−２−ジエチルアミノエチルエーテ
ル、〔２−（２−ジエチルアミノエトキシ）−
１，２−ジフエニル−エタノン〕ベンゾイン−２−クロルエチルエーテル14ｇ
（0.05モル）をジエチルアミン75ｇと、55℃で24
時間撹拌する。冷却後、反応混合物をエーテルで
希釈し希塩酸で抽出する。水性の層をK₂CO₃でア
ルカリ性にしてエーテルで抽出する。このエーテ
ル層を氷水で洗浄しNa₂SO₄により乾燥した後濃
縮する。残油を高減圧下で乾燥する。得られた化合物について、実施例１と同様の方
法によりNMRスペクトルの測定及び元素分析を
行なつた。 NMRの化学シフト：8.2−7.8（ｍ，2H）、7.7−
7.1（ｍ，8H）、5.64（ｓ，1H）、3.8−3.5
（ｔ，2H）、2.9−2.3（ｍ，6H）、1.2−0.9
（ｔ，6H）元素分析値： C₂₀H₂₅NO₂ 計算値実測値Ｃ 77.14％Ｃ 76.9％Ｈ 8.09％Ｈ 8.1％Ｎ 4.50％Ｎ 4.4％実施例６ベンゾイン−２−ピペラジノエチルエーテル
〔２−（２−ピペラジノエトキシ）−１，２−ジ
フエニル−エタノン〕ベンゾイン２−クロルエチルエーテル27ｇ
（0.1モル）及びピペラジン34ｇ（0.4モル）を、
70℃まで加熱する。１1/2時間後、昇華防止のた
めピペラジンにトルエン５mlを添加し、混合物を
140℃まで加熱し、還流温度で２時間保持する。
冷却後、反応混合物をエーテルで希釈し、希塩酸
で抽出する。この塩酸溶液からエーテルを除き、
K₂CO₃で中和する。アルカリ性溶液をエーテル、
更にトルエンで抽出する。このトルエン溶液を
Na₂SO₄により乾燥して濃縮する。残油を60℃高
減圧下で乾燥する。得られた化合物について、実施例１と同様の方
法によりNMRスペクトルの測定及び元素分析を
行なつた。 NMRの化学シフト：8.1−7.8（ｍ，2H）、7.6−
6.9（ｍ，8H）、5.64（ｓ，1H）、3.8−3.4
（ｔ，2H）、3.1−2.2（ｍ，10H）、1.8−1.6
（ｓ，1H）元素分析値： C₂₀H₂₄N₂O₂ 計算値実測値Ｃ 74.05％Ｃ 74.2％Ｈ 7.46％Ｈ 7.7％Ｎ 8.64％Ｎ 9.0％実施例７ベンゾイン−２−ピペリジノエチルエーテル
〔２−（２−ピペリジノエトキシ）−１，２−ジ
フエニル−エタノン〕撹拌しながら、ベンゾイン−２−クロルエチル
エーテル27ｇ（0.1モル）及びピペリジン68ｇ
（0.8モル）を、110℃で６時間保持する。冷却
後、生成物をエーテル中に取り、エーテル層を水
で洗浄及びNa₂SO₄を通じ乾燥して濃縮する。残
油をヘキサン中に取り、得られた結晶を、ヘキサ
ンから再結晶させる。融点：53℃。 C₂₁H₂₅NO₂ 計算値実測値Ｃ 77.99％Ｃ 77.7％Ｈ 7.80％Ｈ 7.8％Ｎ 4.33％Ｎ 4.8％実施例８ベンジル−ジ−（２−ピペリジノエチル）ケタ
ール、〔２，２−ジ−（２−ピペリジノエトキ
シ）−１，２−ジフエニル−エタノン〕撹拌しながら、ベンジル−ジ−（２−クロルエ
チル）ケタール35ｇ（0.1モル）及びピペリジン
77ｇ（0.9モル）を、105℃で７時間保持する。冷
却後、反応混合物をエーテルで希釈し、塩酸ピペ
リジンを濾過により集める。エーテルを蒸留除去
し、残油を高減圧下で乾燥する。得られた化合物について、実施例１と同様の方
法によりNMRスペクトルの測定及び元素分析を
行なつた。 NMRの化学シフト：8.2−7.8（ｍ，2H）、7.7−
7.1（ｍ，8H）、3.8−3.3（ｔ，4H）、2.9−
2.2（ｍ，12H）、1.8−1.2（ｓ，12H）元素分析値： C₂₈H₃₈N₂O₃ 計算値実測値Ｃ 74.63％Ｃ 74.6％Ｈ 8.50％Ｈ 9.0％Ｎ 6.22％Ｎ 6.6％実施例９ベンジル−ジ−２−（４−メチルピペラジノエ
チル）ケタール、〔２，２−ジ−｛２−（４−メ
チルピペラジノ）エトキシ｝−１，２−ジフエ
ニル−エタノン〕撹拌しながら、ベンジル−ジ−（２−クロルエ
チル）ケタール23.6ｇ（0.067モル）及びＮ−メ
チル−ピペラジン120ｇ（1.2モル）を、95℃で３
時間保持する。冷却後、トルエン250mlを添加
し、反応混合物を水に注入する。水性の層をトル
エンで抽出し、トルエン層を続いて水で中性にな
るまで洗浄する。このトルエン層をNa₂SO₄によ
り乾燥して濃縮した後、高減圧下で乾燥する。得られた化合物について、実施例１と同様の方
法によりNMRスペクトルの測定及び元素分析を
行なつた。 NMRの化学シフト：8.2−7.8（ｍ，2H）、7.7−
7.1（ｍ，8H）、3.9−3.3（ｍ，4H）、2.8−
2.2（ｍ，26H）元素分析値： C₂₈H₄₀N₃O₃ 計算値実測値Ｃ 69.97％Ｃ 70.0％Ｈ 8.39％Ｈ 8.5％Ｎ 11.66％Ｎ 11.1％実施例 10 エベクリル（Ebecryl）593（ベルギー、UCB
社から市販のポリエステルアクリレート）70部、
トリメチロールプロパントリアクリレート30部、
Byk300（均展材、ドイツByk−マリンクロツド
から市販のもの）0.5部、及び光反応開始剤３部
から成る樹脂混合物を、引き伸し用ロツドを使用
して30ないし40μの厚さの層にガラス板上に広げ
る。空気中に少しの間放置した後、このフイルム
を実験室用紫外線装置（モデルPPG，QCプロセ
サー）で80ワツト／cmのUVランプの照射により
硬化する。紫外線硬化の後、このフイルムを通常
の外気条件で貯蔵し、ケエニツヒの振子型衝撃試
験機による硬度を測定する。照射装置中のフイル
ムの移送速度と硬度値の関係を下記の表に示す：

【表】

【表】実施例 11 α−メチルベンゾイン２−（４−メチルピペラ
ジン−１−イル）−エチルエーテル α−メチルベンゾイン−２−クロルエチルエー
テル14.4ｇ（0.05モル）及びＮ−メチルピペラジ
ン90ｇ（0.9モル）を、20℃で３時間撹拌する。
形成した少量の沈澱物を濾過除去し、濾液を110
℃で3.5時間撹拌する。冷却後反応混合物をエー
テルに溶解して、まず冷水で続いて希塩酸で抽出
する。酸溶液を苛性ソーダで中和し、更に強いア
ルカリ性にする。アルカリ性溶液をエーテルで抽出する。エーテ
ル性溶液をNa₂SO₄で乾燥して蒸発する。残油を
エーテル中に溶解し、この溶液をカーボンブラツ
ク及び酸化アルミニウムによる処理により精製し
て、濾過した後再び蒸発する。これを静置すると
残留物がまず結晶化し始め、それをさらにヘキサ
ンから再結晶する。融点 75℃ 分析値：8.0％Ｎ（理論値7.95％）実施例 12 α−メチルベンゾイン−２−モルホリノエチル
エーテル α−メチルベンゾイン２−クロルエチルエーテ
ル17.5ｇ（0.06モル）及びモルホリン87ｇ（１モ
ル）の混合物を、100℃で２時間及び120℃で３時
間撹拌する。反応混合物をエーテル中に溶解し、
まず氷水続いて希塩酸で抽出する。この酸溶液を
K₂CO₃で中和更にアルカリ性にし、アルカリ性溶
液をエーテルで繰り返し抽出する。生じたエーテ
ル性溶液をNa₂SO₄で乾燥して蒸発する。残油は
塩化メチレンで溶解し、シリカゲル塔で精製す
る。蒸発により得られた生成物は、無色の油であ
る。得られた化合物について、実施例１と同様の方
法によりNMRスペクトルの測定及び元素分析を
行なつた。 NMRの化学シフト：8.2−7.8（ｍ，2H）、7.7−
7.1（ｍ，8H）、3.8−3.3（ｍ，6H）、2.8−
2.3（ｍ，6H）、1.71（ｓ，3H）元素分析値：分析値Ｃ 73.5％Ｈ 7.2％Ｎ 4.0％計算値 74.3％ 7.4％ 4.1％

Claims

【特許請求の範囲】１次式：（式中、 Ar¹及びAr²は、フエニル基を表わし、R¹は水
素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基、
または基：−Ｏ−R²−NR³R⁴を表わし、R²は
１，２−エチレン基を表わし、R³及びR⁴は各々
炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わすか、
又はR³及びR⁴は一緒になつて基：−（CH₂）₅−、−
CH₂CH₂OCH₂CH₂−又は−CH₂CH₂−NR⁵−
CH₂CH₂−（式中、R⁵は水素原子又はメチル基を
表わす）を表わす）で表わされる芳香族ケトンの
アミノアルコキシ誘導体。２次式：で表わされる特許請求の範囲第１項記載の化合
物。３次式：で表わされる特許請求の範囲第１項記載の化合
物。４次式：で表わされる特許請求の範囲第１項記載の化合
物。５次式：で表わされる特許請求の範囲第１項記載の化合
物。６次式：（式中、 Ar¹及びAr²は、フエニル基を表わし、R¹は水
素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基、
または基：−Ｏ−R²−NR³R⁴を表わし、R²は
１，２−エチレン基を表わし、R³及びR⁴は各々
炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わすか、
又はR³及びR⁴は一緒になつて基：−（CH₂）₅−、−
CH₂CH₂OCH₂CH₂−又は−CH₂CH₂−NR⁵−
CH₂CH₂−（式中、R⁵は水素原子又はメチル基を
表わす）を表わす）で表わされる芳香族ケトンの
アミノアルコキシ誘導体を含む、不飽和化合物の
光重合用開始剤。