KR20120098640A

KR20120098640A - 유리 적층체 및 그의 제조 방법, 및 표시 패널의 제조 방법 및 그 제조 방법에 의해 얻어지는 표시 패널

Info

Publication number: KR20120098640A
Application number: KR1020127010165A
Authority: KR
Inventors: 다이스께 우찌다
Original assignee: 아사히 가라스 가부시키가이샤
Priority date: 2009-10-20
Filing date: 2010-10-12
Publication date: 2012-09-05
Also published as: JPWO2011048979A1; WO2011048979A1; CN102576106A; TW201206697A; CN102576106B; JP2015131754A; US20120202010A1; JP5949894B2

Abstract

본 발명은 유리 기판(12) 및 지지 유리판(14)을 포함하고, 유리 기판(12)의 표면(12a)과 지지 유리판(14)의 표면(14a)이 직접 접촉하고 있는 유리 적층체(10)이며, 서로 접촉하고 있는 상기 유리 기판(12)의 표면(12a)과 상기 지지 유리판(14)의 표면(14a)이 모두 평활한 평면이며, 상기 양쪽 표면이 밀착하고 있는 유리 적층체(10)에 관한 것이다.

Description

유리 적층체 및 그의 제조 방법, 및 표시 패널의 제조 방법 및 그 제조 방법에 의해 얻어지는 표시 패널{GLASS LAMINATE, GLASS LAMINATE MANUFACTURING METHOD, DISPLAY PANEL MANUFACTURING METHOD, AND DISPLAY PANEL OBTAINED BY MEANS OF DISPLAY PANEL MANUFACTURING METHOD}

본 발명은 유리 적층체 및 그의 제조 방법, 및 표시 패널의 제조 방법 및 그 제조 방법에 의해 얻어지는 표시 패널에 관한 것이다.

최근 들어, 액정 패널(LCD), 유기 EL 패널(OLED), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 필드에미션 디스플레이 패널(FED) 등의 표시 패널의 박형화, 경량화가 진행되고 있어, 표시 패널에 사용되는 유리 기판의 박판화가 진행되고 있다. 박판화에 의해 유리 기판의 강도가 부족하면, 표시 패널의 제조 공정에 있어서 유리 기판의 핸들링성이 악화된다.

따라서, 종래부터, 최종 두께보다도 두꺼운 유리 기판 상에 표시 패널용 부재를 형성하고, 그 후 유리 기판을 화학 에칭 처리함으로써 박판화하는 방법이 널리 채용되고 있다. 그러나, 이 방법에서는, 예를 들어 1매의 유리 기판의 두께를 0.7㎜에서 0.2㎜나 0.1㎜만큼 박판화할 경우, 원래 유리 기판의 재료 대부분을 에칭액으로 깎아내게 되므로, 생산성이나 원재료의 사용 효율이라는 관점에서는 바람직하지 않다.

또한, 상기의 화학 에칭에 의한 유리 기판의 박판화 방법에 있어서는, 유리 기판 표면에 미세한 흠집이 존재하는 경우, 에칭 처리에 의해 흠집을 기점으로 해서 미세한 오목부(에치 피트)가 형성되고, 광학적인 결함이 되는 경우가 있었다.

상기 과제에 대응하기 위해서, 특허문헌 1 및 2에서는, 판 두께가 얇은 유리 기판과 지지 유리판을 적층시켜서 고정한 상태에서 유리 기판 상에 표시 패널용 부재를 형성하고, 그 후 유리 기판으로부터 지지 유리판을 박리하는 방법이 제안되고 있다.

이 표시 패널의 제조 방법에 있어서, 유리 기판과 지지 유리판을 적층시켜서 고정하는 방법으로서, 특허문헌 1에서는 유리 기판과 지지 유리판의 사이에 O링을 개재시켜, 양쪽 유리판 사이를 진공 흡착함으로써 양자를 고정하는 방법이 제안되고 있고, 특허문헌 2에서는 유리 기판과 지지 유리판의 사이에 재박리성을 갖는 수지층을 개재시켜, 수지층의 밀착력에 의해 양자를 고정하는 방법이 제안되고 있다.

일본 특허 공개 제2000-241804호 공보 국제 공개 제08/007622호 팸플릿

그러나, 특허문헌 1에서 제안되고 있는 유리 기판과 지지 유리판의 사이에 O링을 개재시키는 방법으로는, O링에 의해 유리 기판이 휘어, 유리 기판 상에 표시 패널용 부재를 고정밀도로 형성하는 것이 곤란하였다.

또한, 특허문헌 2에서 제안되고 있는 유리 기판과 지지 유리판과의 사이에 재박리성을 갖는 수지층을 개재시키는 방법으로는, 수지층의 두께가 불균일하면, 유리 기판의 평탄성이 손상된다.

본 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 평탄성이 우수한 유리 적층체 및 그의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 본 발명은 상기 유리 적층체를 사용한 표시 패널의 제조 방법 및 그 제조 방법에 의해 얻어진 표시 패널을 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기 목적을 해결하기 위해서, 본 발명의 유리 적층체는,

유리 기판 및 지지 유리판을 포함하고, 유리 기판의 표면과 지지 유리판의 표면이 직접 접촉하고 있는 유리 적층체이며,

서로 접촉하고 있는 상기 유리 기판의 표면과 상기 지지 유리판의 표면이 모두 평활한 평면이며, 상기 양쪽 표면이 밀착하고 있는 유리 적층체이다.

또한, 본 발명의 유리 적층체의 제조 방법은,

유리 기판과 지지 유리판을 감압 분위기 하에서 적층하는, 유리 적층체의 제조 방법이다.

또한, 본 발명의 유리 적층체를 사용한 표시 패널의 제조 방법은,

상기 유리 적층체를 사용해서 표시 패널을 제조하는 표시 패널의 제조 방법이며,

상기 유리 기판의 상기 지지 유리판에 접촉하는 측과 반대측 면에 표시 패널용 부재를 형성하고, 그 후 상기 유리 기판과 상기 지지 유리판을 분리하는 표시 패널의 제조 방법이다.

또한, 본 발명의 표시 패널은,

본 발명의 표시 패널의 제조 방법에 의해 얻어진다.

본 발명에 따르면, 평탄성이 우수한 유리 적층체 및 그의 제조 방법을 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면, 상기 유리 적층체를 사용한 표시 패널의 제조 방법 및 그 제조 방법에 의해 얻어진 표시 패널을 제공할 수 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 의한 유리 적층체를 도시하는 단면도이다.
도 2a는 도 1의 변형예를 도시하는 단면도이다.
도 2b는 도 1의 변형예를 도시하는 평면도이다.
도 3은 유리 적층체(10)의 제조 방법을 도시하는 공정도이다.
도 4a는 프레스 장치(30)의 유리 기판 설치 동작을 설명하기 위한 단면도이다.
도 4b는 프레스 장치(30)의 감압 조작을 설명하기 위한 단면도이다.
도 4c는 프레스 장치(30)의 유리 기판과 지지 유리판의 적층 동작을 설명하기 위한 단면도이다.
도 5는 흡착 헤드(31)를 도시하는 평면도이다.
도 6은 액정 패널의 제조 방법의 일례를 도시하는 공정도이다.
도 7은 유기 EL 패널의 제조 방법의 일례를 도시하는 공정도이다.
도 8은 박리 시험을 설명하기 위한 단면도이다.
도 9는 전단 시험을 설명하기 위한 단면도이다.

본 발명에 있어서, 유리 기판이란, 그의 표면에 표시 패널용 부재가 형성되어서 표시 패널을 구성하는, 유리로 이루어지는 시트나 필름을 말한다. 지지 유리판이란, 표시 패널을 구성하지 않는, 유리로 이루어지는 시트나 필름을 말한다. 유리 적층체란 이들 유리 기판과 지지 유리판의 적층체이며, 표시 패널의 제조에 사용된다. 유리 적층체는 표시 패널 제조 공정의 도중까지(유리 기판과 지지 유리판이 분리될 때까지) 사용되고, 유리 기판과 지지 유리판이 분리된 후에는 지지 유리판은 표시 패널 제조 공정으로부터 제외되어, 표시 패널을 구성하는 부재로는 안된다. 유리 기판으로부터 분리된 지지 유리판은 지지 유리판으로서 재이용할 수 있다. 즉, 새로운 유리 기판과 적층하여, 유리 적층체를 얻을 수 있다.

지지 유리판은, 유리 기판을 지지해서 보강하고, 표시 패널 제조 과정에 있어서 유리 기판의 변형, 흠집 발생, 파손 등을 방지하기 위해서 사용된다. 또한, 종래의 유리 기판보다 얇은 유리 기판을 사용하는 경우에는, 종래의 두께의 유리 기판에 적합한 표시 패널 제조 공정에 적용하기 위해서, 종래의 유리 기판과 동일한 두께의 유리 적층체로 함으로써 얇은 유리 기판을 사용할 수 있도록 하는 것도 지지 유리판을 사용하는 한가지 목적이다.

본 발명에 있어서, 표시 패널용 부재란, 유리 기판의 표면에 형성되어서 표시 패널을 구성하는 부재 또는 그의 일부를 말한다. 유리 적층체의 유리 기판측 표면(즉, 노출되고 있는 유리 기판 표면)에 형성되는 표시 패널용 부재는, 미리 유리 기판 상에 형성되고 또한 표시 패널을 구성하는 모든 부재(이하, 간단히 「전체 부재」라고도 함)가 아니어도 된다. 유리 적층체로부터 분리된 표시 패널용 부재(부분 부재)를 구비한 유리 기판을, 그 후의 공정에서 표시 패널용 부재(전체 부재)를 구비한 유리 기판으로 할 수 있기 때문이다. 또한 그 후, 표시 패널용 부재(전체 부재)를 구비한 유리 기판을 사용해서 표시 패널이 제조된다. 또한, 유리 적층체로부터 분리된 표시 패널용 부재(전체 부재 또는 부분 부재)를 구비한 유리 기판에는, 그의 분리면에 다른 표시 패널용 부재가 형성되어도 된다. 또한, 표시 패널용 부재(전체 부재)를 구비한 유리 적층체를 사용해서 표시 패널을 조립하고, 그 후 지지 유리판을 분리해서 표시 패널을 제조할 수 있다. 또한, 표시 패널용 부재(전체 부재)를 구비한 유리 적층체를 2매 사용해서 표시 패널을 조립하고, 그 후 2매의 지지 유리판을 분리해서 표시 패널을 제조할 수도 있다.

본 발명에 있어서, 표시 패널이란, 액정 패널(LCD), 유기 EL 패널(OLED), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 필드에미션 디스플레이 패널(FED) 등의 표시 패널을 말한다. 표시 패널은 그의 구성 부재로서 1매 또는 2매의 유리 기판을 갖는다. 경우에 따라, 3장 이상의 유리 기판을 갖고 있는 경우도 있다. 본 발명에 있어서, 표시 패널은, 표시 패널용 부재를 구비한 유리 기판(본 발명의 유리 적층체를 사용해서 얻어진 것)을 사용해서 제조된다. 표시 패널을 구성하는 유리 기판이 복수매 존재하는 경우, 표시 패널의 제조에 사용하는 복수매 유리 기판의 일부는, 본 발명의 유리 적층체를 사용해서 얻어진 표시 패널용 부재를 구비한 유리 기판이 아닌 다른 유리 기판이어도 된다. 예를 들어, 본 발명의 유리 적층체를 거치지 않고 제조된 표시 패널용 부재를 구비한 유리 기판이나 표시 패널용 부재가 형성되어 있지 않은 유리 기판을 유리 기판의 일부로 사용해서 표시 패널을 제조할 수 있다.

본 발명에 있어서, 유리 기판과 지지 유리판을 적층해서 유리 적층체로 할 때, 서로 접촉하는 유리 기판 표면과 지지 유리판 표면을, 각각, 유리 기판의 적층면, 지지 유리판의 적층면이라고 한다. 유리 기판의 적층면과는 반대측의 면을 유리 기판의 비적층면이라고 하고, 지지 유리판의 적층면과는 반대측의 면을 지지 유리판의 비적층면이라고 한다. 또한, 유리 기판의 적층면이 되는 측의 주면을(유리 기판의) 제1 주면이라고도 하고, 지지 유리판의 적층면이 되는 측의 주면을(지지 유리판의) 제1 주면이라고도 한다. 마찬가지로, 유리 기판의 비적층면이 되는 측의 주면을(유리 기판의) 제2 주면이라고도 하고, 지지 유리판의 비적층면이 되는 측의 주면을(지지 유리판의) 제2 주면이라고도 한다.

유리 기판과 지지 유리판은 모두 유리 원료를 용융하여, 용융 유리를 판상으로 성형해서 얻어진다. 이러한 성형 방법은 일반적인 것이면 되고, 예를 들어 플로트법, 퓨전법, 슬롯다운드로우법, 풀콜법, 라버스법 등이 사용된다. 또한, 특히 얇은 것은, 일단 판상으로 성형한 유리를 성형 가능 온도로 가열하고, 연신 등의 수단으로 늘려서 얇게 하는 방법(리드로우법)으로 성형해서 얻어진다.

유리 기판과 지지 유리판의 재질인 유리는 모두 붕규산 유리, 소다석회 유리, 고실리카 유리, 그 밖의 산화규소를 주된 성분으로 하는 산화물계 유리가 바람직하다. 산화물계 유리로서는, 산화물 환산에 의한 산화규소의 함유량이 40 내지 90질량％인 유리가 바람직하다. 유리 기판용 유리로서는, 표시 패널의 종류에 따라 요구되는 유리 특성이 상이한 점에서, 그 요구를 충족시키는 유리가 채용된다. 지지 유리판용 유리로서는, 요구되는 유리 특성의 제약은 적지만, 유리 적층체가 표시 패널용 부재 형성 등을 할 때 가열 처리되는 경우에는, 유리 기판의 유리와 열팽창률의 차가 적은 유리를 사용하는 것이 바람직하다. 특히 지지 유리판의 유리는 유리 기판과 같은 유리인 것이, 열팽창률의 차가 적고, 다른 물성도 동등한 점에서 바람직하다.

유리 기판의 유리로서는, 표시 패널의 종류에 따라 요구되는 유리 특성에 합치하는 유리가 사용된다. 액정 패널(LCD)용 유리 기판은 알칼리 금속 성분의 용출이 액정에 영향을 주기 쉬운 점에서, 알칼리 금속 성분을 포함하지 않는 유리(무알칼리 유리)나 알칼리 금속 성분 함량이 적은 유리(저알칼리 유리)로 이루어진다. 이와 같이, 유리 기판의 유리는 적용되는 표시 패널 및 그의 제조 공정에 기초하여 적절히 선택된다.

또한, 유리 기판의 유리로서는 열팽창률이 낮은 유리가 특히 바람직하다. 유리 기판 표면 상에 표시 패널용 부재를 형성하기 위해서는, 많은 경우 열처리를 수반한다. 유리 기판의 유리의 열팽창률이 크면, 이 열처리에 여러 가지 문제를 발생하게 하기 쉽다. 예를 들어, 유리 기판 상에 박막 트랜지스터(TFT)를 형성하는 경우, 가열 하에서 TFT가 형성된 유리 기판을 냉각하면 유리 기판의 열수축에 의해 TFT의 위치 어긋남이 과대해질 우려가 있다. 본 발명에 있어서 유리의 열팽창률의 지표로서는, JIS R 3102-1995에 규정되어 있는 평균 선팽창 계수를 사용한다. 유리 기판의 유리의 25 내지 300℃에서의 평균 선팽창 계수는, 바람직하게는 0 내지 50×10^-7/℃이고, 보다 바람직하게는 0 내지 40×10^-7/℃이다. 이 온도의 상한 300℃는, 통상의 표시 패널의 제조에 있어서, 유리 기판에 가하는 온도의 상한에 상당한다.

지지 유리판의 유리로서는, 유리 기판의 유리와의 25 내지 300℃에서의 평균 선팽창 계수의 차가 15×10^-7/℃ 이하인 유리를 사용하는 것이 바람직하다. 유리 기판의 유리와 지지 유리판의 유리의 25 내지 300℃에서의 평균 선팽창 계수의 차가 너무 크면, 표시 패널의 제조 공정에서의 가열 냉각 시에, 유리 적층체가 심하게 휘거나, 유리 기판과 지지 유리판이 박리할 가능성이 있다. 유리 기판의 유리와 지지 유리판의 유리가 같은 유리일 경우에는, 이러한 문제를 발생시킬 우려가 없다.

유리 기판의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 박형화 및/또는 경량화의 관점에서 통상 0.8㎜ 미만이고, 바람직하게는 0.3㎜ 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.15㎜ 이하이다. 0.8㎜ 이상인 경우, 박형화 및/또는 경량화의 요구를 만족시킬 수 없다. 0.3㎜ 이하인 경우, 유리 기판에 양호한 가요성을 부여할 수 있다. 0.15㎜ 이하인 경우, 유리 기판을 롤 형상으로 권취할 수 있다. 또한, 유리 기판의 두께는, 유리 기판의 제조가 용이한 것, 유리 기판의 취급이 용이한 것 등의 이유에서, 0.04㎜ 이상인 것이 바람직하다.

지지 유리판의 두께는, 지지 유리판을 사용해서 표시 패널을 제조할 때 취급하기 쉽고, 깨지기 어렵다는 등의 이유에서, 0.08㎜ 이상인 것이 바람직하다. 지지 유리판은 유리 기판보다 두꺼워도 되고, 얇아도 된다. 바람직하게는, 목적에 따라 상기 범위로부터 선택된 유리 기판의 두께와 후술하는 유리 적층체의 두께로부터, 지지 유리판의 두께가 선택된다.

유리 기판의 크기나 형상은 표시 패널의 크기나 형상에 따라서 선택된다. 통상, 표시 패널의 형상은 직사각형인 점에서, 유리 기판의 형상도 또한 통상 직사각형이다. 지지 유리판의 크기나 형상은, 통상 유리 기판의 크기나 형상과 거의 동일한 것이 사용된다. 지지 유리판의 크기로서는, 유리 기판을 지지하는 관점에서, 유리 기판의 크기와 같거나 그것보다 다소 큰 것이 바람직하다. 즉, 지지 유리판의 제1 주면의 외형 치수는 유리 기판의 제1 주면의 외형 치수와 동등하거나 또는 큰 것이 바람직하다.

이어서, 본 발명의 제1 실시 형태에 대해서 도면을 참조하여 설명한다. 또한, 각 도면에 있어서, 도면을 보기 쉽게 하기 위해서, 유리 적층체 형상의 비례 관계를 과장해서 도시하고 있다.

본 실시 형태에서는, 표시 패널용 부재의 형성 공정에 있어서, 유리 적층체의 온도가 300 ℃를 초과하지 않는 경우에 대해서 설명한다.

도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 있어서의 유리 적층체를 도시하는 단면도이다. 도 1에 도시한 바와 같이, 유리 적층체(10)는 유리 기판(12)과 지지 유리판(14)이 적층된 적층체이며, 유리 기판(12)의 적층면(제1 주면)(12a)과 지지 유리판(14)의 적층면(제1 주면)(14a)이 직접 접촉하여, 양쪽 표면이 밀착되어 있다. 유리 적층체(10) 자체는 2개의 면을 갖고, 한쪽 면은 유리 기판(12)의 비적층면(제2 주면)(12b)으로 이루어지고(이하, 이 유리 적층체의 면을 유리 기판면(12b)이라고도 함), 다른 쪽 면은 지지 유리판(14)의 비적층면(제2 주면)(14b)으로 이루어진다.

본 발명의 유리 적층체에 있어서, 양쪽 유리판(12, 14)의 적층면(12a, 14a)이 밀착되어 있다는 것은, 유리 적층체의 유리 기판면(12b) 상에 표시 패널용 부재가 형성되고, 유리 기판과 지지 유리판을 분리하는 단계에 도달할 때까지, 유리 기판과 지지 유리판이 분리되지 않을 정도의 결합력으로 적층면(12a)과 적층면(14a)이 접촉되어 있는 것을 의미한다. 또한, 이 적층면의 결합력은, 유리 기판과 지지 유리판을 분리하는 조작을 행했을 때는, 양쪽 유리판(12, 14)이 용이하게 분리되는 정도의 결합력일 필요가 있다.

상기 결합력은, 표시 패널의 제조 공정에 있어서 취급하기 쉽다는 등의 이유에서, 후술하는 박리 시험에서, 박리 강도가 0.2N/㎝ 이상이 되는 결합력인 것이 바람직하다. 또한, 이 결합력은, 유리 기판(12)과 지지 유리판(14)을 용이하게 분리할 수 있다는 관점에서, 후술하는 박리 시험에서, 박리 강도가 100N/㎝ 이하가 되는 결합력인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 박리 강도가 50N/㎝ 이하가 되는 결합력이며, 더욱 바람직하게는 박리 강도가 40N/㎝ 이하가 되는 결합력이다. 적층면(12a, 14a)의 결합력이 과대해지면, 분리 시에 유리 기판(12), 지지 유리판(14)의 한쪽 또는 양쪽이 손상되는 경우가 있다.

일반적으로, 유리판끼리 적층하면 적층면에 있어서 유리 표면끼리 결합하고 있는 정도의 결합력으로 밀착하는 것은 공지된 것이며, 이 결합력은 양쪽 유리 표면에 존재하는 실라놀기(Si-OH)끼리의 수소 결합이나 부분적인 탈수 축합에 의한 화학 결합의 생성, 양쪽 유리 표면 간의 반데르발스 힘 등에 의한 것이라고 여겨진다. 본 발명의 유리 적층체에 있어서는, 적층면(12a, 14a)은 융착(유리를 용융해서 결합시키는 것)되지 않는다. 융착시키면 적층면의 결합력이 너무 높아지고, 유리 기판과 지지 유리판의 분리가 곤란해진다.

통상, 유리 적층체는, 유리 기판면(12b) 상에 표시 패널용 부재를 형성할 때, 300℃ 정도까지 가열되는 것이 적지 않다. 본 발명의 유리 적층체는 이 정도의 가열을 거쳐도 유리 기판과 지지 유리판의 분리가 곤란해지는 경우는 없다. 실라놀기(Si-OH)끼리의 탈수 축합 반응은 가열에 의해 촉진되지만, 300℃ 정도의 가열로는, 양쪽 유리 표면의 실라놀기끼리의 탈수 축합에 의해 화학 결합이 생성되기 어렵고, 상기 결합력은 너무 높아지는 경우는 없다고 생각된다.

유리 기판과 지지 유리판의 적층면(12a, 14a) 간의 결합력은 적층면(12a, 14a)의 다양한 요인에 의해 변화하기 쉽지만, 모두 평활한 평면인 것이 적어도 필요하다. 양쪽 표면이 평면이 아니면 적층면 간에 공극이 발생하고, 양쪽 표면이 밀착하지 않는다. 마찬가지로, 양쪽 표면이 평활하지 않으면, 적층면 간에 미세한 공극이 발생하기 쉽고, 양쪽 표면이 밀착하기 어렵다. 또한, 양쪽 표면은 충분히 청정한 것이 바람직하다. 적층면에 오염 등의 이물질이 존재하면, 양쪽 표면이 밀착하기 어렵다. 그 밖에, 유리 표면의 실라놀기 밀도, 유리 표면의 유리 조성 등이 영향을 주는 것도 생각할 수 있다. 또한, 유리 기판과 지지 유리판 각각의 적층면은 동일하다고는 한정되지 않고, 예를 들어 평활성이나 청정도가 상이한 적층면의 조합에 의해도 결합력이 변화한다고 생각된다. 따라서, 바람직하게는 상기 박리 시험에 의한 박리 강도가 상기의 범위가 되도록 적절히 조정해서 사용하는 것이 바람직하다.

유리 기판(12)의 적층면(제1 주면)(12a)의 평균 표면 조도 및 지지 유리판(14)의 적층면(제1 주면)(14a)의 평균 표면 조도는 모두 1.0㎚ 미만인 것이 바람직하다. 양쪽 적층면의 평균 표면 조도가 1.0㎚ 이상이면 양쪽 표면의 실질적인 접촉 면적이 너무 작아지므로, 양면을 충분한 결합력으로 밀착시킬 수 없다. 이들 적층면의 평균 표면 조도는, 유리 기판(12)과 지지 유리판(14)을 적층하기 전에, 각각 적층면이 되는 제1 주면(12a, 14a)을 측정해서 얻어지는 값이다.

유리 기판(12)이나 지지 유리판(14)의 재질, 양쪽 재질의 조합, 유리 기판(12)이나 지지 유리판(14)의 형상이나 형상의 조합 등의 요인에 의해, 모두 평균 표면 조도 1.0㎚ 미만의 유리 기판(12)이나 지지 유리판(14)의 조합으로는 충분한 밀착성이 얻어지지 않는 경우가 있다. 따라서, 유리 기판과 지지 유리판 중 적어도 한쪽의 평균 표면 조도를 0.8㎚ 이하로 하는 것이 바람직하고(다른 쪽은 1.0㎚ 미만일 수 있음), 유리 기판(12)과 지지 유리판(14)의 평균 표면 조도를 모두 0.8㎚ 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 유리 기판(12)과 지지 유리판(14) 중 어떤 경우든, 비적층면(12b, 14b)의 평균 표면 조도는 상기의 범위에 한정되지 않는다.

또한, 본 발명에 있어서 유리 표면의 평균 표면 조도란, 임의로 선택된 2점 이상에 있어서의 산술 평균 높이의 평균값을 말한다. 산술 평균 높이란, JIS B 0601-2001에 규정되어 있는 산술 평균 높이 Ra를 말하며, 원자간력 현미경에 의해 각 점에 있어서 5㎛×5㎛의 측정 영역을 측정함으로써 구해진다.

제1 주면의 평균 표면 조도가 상기 범위 내에 있는 유리 기판이나 지지 유리판은, 연마나 에칭 등의 방법으로 유리면을 평활화하는 방법으로 얻을 수 있다. 또한, 유리판을 제조하는 방법에 따라서는, 당초부터 평균 표면 조도가 상기 범위 내에 있는 유리 기판이나 지지 유리판을 제조할 수 있다. 또한, 시판하고 있는 유리 기판이나 지지 유리판에 따라서는, 이미 연마 등의 평활화 처리를 행한 것도 있다. 따라서, 유리 기판이나 지지 유리판을 사용하는데 있어서, 그의 제1 주면의 평균 표면 조도를 측정해서 그의 평균 표면 조도가 상기 범위 외일 경우에는 연마 등을 행하여 평균 표면 조도가 상기 범위 내인 것으로 해서 사용하는 것이 바람직하다.

유리 기판(12)과 지지 유리판(14)의 적층면(12a, 14a)이 모두 충분히 청정한 것은, 적층 전에 그의 적층면이 되는 제1 주면(12a, 14a)의 물 접촉각을 측정해서 판단된다. 일반적으로, 유리 표면의 활성도(청정도)가 낮을수록 유리 표면의 물 접촉각이 커지는 경향이 있다. 따라서, 제1 주면(12a, 14a)의 물 접촉각이 너무 크면, 제1 주면(12a, 14a)의 활성도(청정도)가 너무 낮으므로, 제1 주면(12a, 14a)을 충분한 결합력으로 밀착시킬 수 없다.

유리 기판과 지지 유리판 각각의 제1 주면(12a, 14a)의 물 접촉각은 모두 5° 이하인 것이 바람직하다. 여기서, 물 접촉각이란, JIS R 3257-1999에 규정되어 있는 접촉각을 말한다. 유리 기판(12)이나 지지 유리판(14)의 재질, 양쪽 재질의 조합, 유리 기판(12)이나 지지 유리판(14)의 형상이나 형상의 조합 등의 요인에 의해, 모두 그의 제1 주면의 물 접촉각이 5° 이하인 유리 기판(12)이나 지지 유리판(14)의 조합으로는 충분한 밀착성이 얻어지지 않는 경우에는, 적어도 한쪽의 제1 주면의 물 접촉각을 4° 이하로 하는 것이 바람직하고, 유리 기판(12)과 지지 유리판(14)의 제1 주면(14a)의 물 접촉각을, 모두 4° 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 유리 기판(12)과 지지 유리판(14)의 어떤 경우든, 비적층면(12b, 14b)의 물 접촉각은 상기의 범위에 한정되지 않는다.

제1 주면을 갖는 유리 기판이나 지지 유리판은, 적층 전에 그의 제1 주면(12a, 14a)을 세정해서 물 접촉각이 낮은 제1 주면으로 한 후, 적층에 제공하는 것이 바람직하다. 세정 방법은 유리 제품의 세정에 사용되는 일반적인 방법이면 된다. 예를 들어, 웨트 세정으로는, 초음파 세정, 세리아 지립 등의 지립을 갖는 연마액을 사용한 연마, 불산이나 질산 등의 산을 포함하는 산성 세정액을 사용한 산 세정, 암모니아나 수산화칼륨 등의 염기를 포함하는 알칼리 세정액을 사용한 알칼리 세정, 계면 활성제나 그 밖의 세제를 포함하는 세정액을 사용한 세정 등이 있다. 또한, 드라이 세정으로는, 자외광, 오존을 사용한 광화학 세정, 플라즈마를 사용한 물리 세정 등이 있다. 이들 세정 방법은, 단독으로 또는 조합해서 사용된다. 세정 종료 후에는 필요에 따라, 세정제가 잔류하지 않도록 건조를 행한다.

유리 적층체(10)의 두께(유리 기판(12)과 지지 유리판(14)의 두께의 합계)는 유리 적층체(10)가 현행의 제조 라인으로 반송할 수 있도록 설정되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 현행의 제조 라인이 두께 0.7㎜의 기판을 반송시키도록 설계되어 있고, 유리 기판(12)의 두께가 0.3㎜인 경우, 지지 유리판(14)의 두께는 0.4㎜인 것이 바람직하다. 현행의 제조 라인은 두께 0.2㎜ 이상 1.0㎜ 이하인 기판을 반송하도록 설계되어 있는 것이 많으므로, 유리 적층체(10)의 두께는 0.2㎜ 이상 1.0㎜ 이하가 바람직하다.

본 실시 형태의 유리 적층체(10)에서는, 도 1에 도시한 바와 같이, 유리 기판(12)과 지지 유리판(14)이 직접 접촉하여 밀착하고 있으므로, 양쪽 유리판(12, 14) 사이에 O링이나 수지층이 개재하는 경우와 비교하여, 유리 적층체(10)가 휘기 어렵다. 이로 인해, 유리 적층체는 평탄성이 우수하게 되고, 이것은 유리 적층체의 유리 기판면의 평탄성이 우수한 것을 의미한다.

또한, 본 실시 형태의 유리 적층체(10)에서는, 유리 기판(12)과 지지 유리판(14)이 직접 접촉되어 밀착하고 있으므로, 유리 기판과 지지 유리판 사이에 박리성을 갖는 수지층을 개재시키는 경우와 비교하여, 부품 개수를 삭감할 수 있고, 비용을 삭감할 수 있다. 또한, 유리 적층체로부터 분리한 지지 유리판은, 용이하게 재이용할 수 있다. 즉, 일단 사용된 지지 유리판은 수지층이 존재하지 않는 점에서, 그대로 또는 필요에 따라 세정 등을 행하여, 즉시 새로운 유리 기판과 적층할 수 있다. 또한, 유리 적층체로부터 분리한 지지 유리판을 재사용하지 않는 경우에도, 수지층을 지지 유리판에 접착해서 사용하는 경우와 비교하여, 수지층을 지지 유리판으로부터 박리하는 공정이 불필요하게 되므로, 지지 유리판(14)을 유리 원료로서 용이하게 재이용할 수 있다.

또한, 본 실시 형태의 유리 적층체(10)에서는, 양쪽 유리판(12, 14)의 사이에 박리성을 갖는 수지층을 개재시키는 경우와 비교하여, 내열성이 우수하다. 예를 들어, 대기 중 300℃의 온도로 1시간 가열한 후라도, 유리 기판 적층면(12a)과 지지 유리판 적층면(14a) 사이의 박리 시험에 있어서의 박리 강도의 변화는 작아서, 적층면 간의 결합력은 유지된다.

도 2a는 도 1의 변형예를 도시하는 단면도이며, 도 2b는 도 1의 변형예를 도시하는 평면도이다. 이하, 도 2a 및 도 2b에 도시하는 유리 적층체(20)의 구성에 대해서 설명하는데, 도 1에 도시하는 유리 적층체(10)와 동일한 구성에 대해서는 동일한 부호를 붙이고, 설명을 생략한다.

도 2a 및 도 2b에 도시하는 변형예에서는, 지지 유리판(14)은, 그의 제1 주면(14a)의 주연부에 오목부(22)를 갖는다. 오목부(22)는 적층면 내에 존재하고, 유리 기판(12)의 제1 주면(12a)에 의해 덮여서, 밀폐되어 있다. 오목부(22) 내부는 감압 분위기에 있는 것이 바람직하다. 오목부(22) 내부가 감압 분위기에 있음으로써, 유리 기판(12)이 지지 유리판(14)에 감압 흡착되어, 적층면(12a, 14a) 간의 결합력을 높일 수 있게 된다. 오목부(22)가 지지 유리판(14)의 중앙부에 형성되어 있는 경우, 표시 패널의 제조 공정에 있어서 포토리소그래피 기술을 사용해서 지지 유리판(14)측으로부터 유리 기판(12)의 중앙부에 광을 입사하면, 입사하는 광이 오목부(22)의 영향을 받는다. 이로 인해, 표시 패널용 부재를 고정밀도로 형성하는 것이 곤란해진다.

이어서, 유리 적층체의 제조 방법에 대해서 설명한다.

본 발명의 유리 적층체는, 유리 기판과 지지 유리판을 적층함으로써 제조된다. 적층은, 유리 기판과 지지 유리판을 소정의 배치로 중첩하고, 압접해서 양자를 밀착시킴으로써 행해진다. 또한, 유리 기판이 0.3㎜ 이하, 특히 0.15㎜ 이하인 경우, 유리 기판이 가요성을 갖는 점에서, 유연한 플라스틱 필름을 판체 표면에 적층하는 경우에 사용되는 적층법을 사용할 수도 있다. 예를 들어 유리 기판을 롤에 따르게 해서 지지 유리판 면에 중첩하면서 압접하는 롤 적층법을 사용할 수도 있다. 유리 기판의 제1 주면과 지지 유리판의 제1 주면을 밀착시키기 때문에, 그것들의 면의 사이에 공기 등의 기체가 잔류하는 것은 바람직하지 않다. 양 제1 주면 간에 기체가 잔류하면, 유리 적층체가 표시 패널의 제조 공정 등에서 가열되었을 때, 그 기체가 팽창하여, 적층면이 박리하기 쉬워진다. 또한, 유리 기판이 국소적으로 변형되거나 깨지거나 할 우려도 발생한다. 그 때문에, 양 제1 주면 간에 기체가 잔류하기 어려운 적층법으로 적층하는 것이 바람직하다.

본 발명의 유리 적층체는, 유리 기판과 지지 유리판을 감압 분위기 하에서 적층함으로써 제조되는 것이 바람직하다. 이하, 이 적층법을 감압 적층법이라고 한다. 감압 분위기는, 압력이 대기압을 0으로 해서 규격화하면, 바람직하게는 -60㎪ 이하이고, 보다 바람직하게는 -100㎪ 이하이다. 대기압을 0으로 해서 규격화하지 않고 바꾸어 말하면 감압 분위기는 압력이 바람직하게는 41.3㎪ 이하이고, 보다 바람직하게는 1.3㎪이하이다.

감압 적층법에 한정되지 않고, 본 발명의 유리 적층체를 제조하는 경우에는, 미리 연마나 세정 등을 행한 유리 기판과 지지 유리판을 사용하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 적어도 제1 주면이 평활한 유리 기판을 세정해서 적어도 제1 주면의 물 접촉각이 5° 이하인 유리 기판을 준비하고, 마찬가지로 적어도 제1 주면이 평활한 지지 유리판을 세정해서 적어도 제1 주면의 물 접촉각이 5° 이하인 지지 유리판을 준비하여, 이들 유리 기판과 지지 유리판을 감압 가능한 프레스 장치에 넣어서 그것들의 제1 주면끼리를 대향시키고, 프레스 장치 내부를 감압 분위기로 하여 양자를 중첩해서 압접하여, 유리 적층체로 한다. 특히, 유리 적층체를 제조할 때는 미리 유리 기판과 지지 유리판의 적층면이 되는 양자의 제1 주면을 세정해서 적층에 제공하는 것이 바람직하다.

이어서, 유리 기판과 지지 유리판의 세정을 행해서 감압 적층법으로 유리 적층체(10)를 제조하는 방법에 대해서 도 3을 참조하여 설명한다.

도 3은 유리 적층체(10)의 제조 방법을 나타내는 공정도이다.

이 유리 적층체(10)의 제조 방법은,

유리 기판(12) 및 지지 유리판(14)의 제1 주면(12a, 14a)을 각각 세정하는 세정 공정(스텝 S11)과,

유리 기판(12)과 지지 유리판(14)을 적층하는 제1 적층 공정(스텝 S12)을 갖는다.

유리 기판(12) 및 지지 유리판(14)으로서, 그의 적어도 제1 주면(12a, 14a)이 평활한 평면(평균 표면 조도(Ra)가 각각 1.0㎚ 미만인 평면)인 것을 사용한다. 세정 공정에서는, 유리 기판(12) 및 지지 유리판(14)의 적어도 제1 주면(12a, 14a)을 각각 세정해서 제1 주면(12a, 14a)에 부착된 파티클이나 유기물 등을 제거한다. 이에 의해, 유리 기판(12) 및 지지 유리판(14)의 제1 주면(12a, 14a)을 활성화할(물 접촉각을 5° 이하로 할) 수 있고, 양쪽 유리판(12, 14)의 제1 주면(12a, 14a)끼리 밀착성을 높일 수 있다. 세정 방법으로는 상기한 방법을 사용할 수 있다.

제1 적층 공정에서는, 유리 기판(12)과, 지지 유리판(14)을 적층한다. 예를 들어, 유리 기판(12)의 제1 주면(12a)과 지지 유리판(14)의 제1 주면(14a)을 중첩하고, 롤러나 프레스 장치 등을 사용해서 유리 기판(12)과 지지 유리판(14)을 압접한다. 압접함으로써, 양쪽 유리판(12, 14)의 제1 주면(12a, 14a)끼리의 밀착성을 높일 수 있음과 함께, 유리 기판(12)의 제1 주면(12a)과 지지 유리판(14)의 제1 주면(14a)의 사이에 혼입된 기포를 외부로 내보낼 수 있다. 더욱이, 감압 분위기하에서 적층함으로써, 적층 시의 기포의 혼입을 더욱 억제할 수 있다. 또한, 도 2a 및 도 2b에 도시한 바와 같이, 유리 기판(12)의 제1 주면(12a)의 주연부에 오목부(22)가 형성되어 있는 경우, 감압 분위기 하에서 양쪽 유리판(12, 14)을 적층함으로써, 오목부(22) 내부를 감압한 상태로 할 수 있다.

제1 적층 공정에서는, 유리 기판(12)의 제2 주면(12b)의 주연부를 지지하고, 유리 기판(12)과 지지 유리판(14)을 적층하는 것이 바람직하다. 유리 기판(12)의 제2 주면(12b)의 중앙부를 지지했을 경우, 표시 패널용 부재를 형성하기 위한 영역이 상처받을 우려가 있다.

도 4a는 프레스 장치(30)의 유리 기판 및 지지 유리판의 설치 동작을 설명하기 위한 단면도이다. 도 4b는 프레스 장치(30)의 감압 조작을 설명하기 위한 단면도이다. 도 4c는 프레스 장치(30)의 유리 기판과 지지 유리판의 적층 동작을 설명하기 위한 단면도이다. 도 5는 흡착 헤드(31)를 도시하는 평면도이다. 이 프레스 장치(30)는 흡착 헤드(31) 및 스테이지(32) 등에 의해 구성된다. 흡착 헤드(31)는 도 5에 도시한 바와 같이, 직사각형 프레임 형상이다.

이 프레스 장치(30)에서는, 처음에 도 3의 세정 공정 후의 유리 기판(12)을 제2 주면(12b)이 상측이 되도록 스테이지(32) 상에 적재한다. 계속해서, 흡착 헤드(31)를 하강시켜 유리 기판(12)의 제2 주면(12b)의 주연부에 접촉한 곳에서 정지시킨다. 계속해서, 흡착 헤드(31)에 전압(예를 들어, 2kV)을 인가함으로써, 흡착 헤드(31)에 유리 기판(12)을 정전 흡착시킨다. 이 상태에서, 흡착 헤드(31)를 상승시키고, 도 3의 세정 공정 후의 지지 유리판(14)을 제1 주면(14a)이 상측이 되도록 스테이지(32) 상에 적재한다. 도 4a는 지지 유리판(14)을 스테이지(32) 상에 적재한 시점의 프레스 장치(30)의 단면도이다.

그 후, 흡착 헤드(31)를 다시 하강시켜, 도 4b에 도시한 바와 같이, 유리 기판(12)과 지지 유리판(14)을 소정 간격(예를 들어, 3㎜)으로 대향시킨다. 계속해서, 예를 들어 진공 펌프(도시하지 않음)를 사용하여, 유리 기판(12)과 지지 유리판(14) 사이의 공간을 소정압(예를 들어, -100㎪(대기압을 기준으로 함))으로 감압한다.

이 상태에서, 흡착 헤드(31)를 하강시켜, 도 4c에 도시한 바와 같이, 흡착 헤드(31)에 의해 유리 기판(12)에 소정압(예를 들어, 300kN/㎡)을 인가하고, 유리 기판(12)과 지지 유리판(14)을 실온에서 소정 시간(예를 들어, 180초) 압접한다. 계속해서, 흡착 헤드(31)로의 전압 인가를 해제함과 함께 진공 펌프를 정지하고, 흡착 헤드(31)를 상승시킨다. 이와 같이 하여, 도 1에 도시하는 유리 적층체(10)를 얻을 수 있다.

이어서, 표시 패널의 제조 방법에 대해서 도 6 및 도 7을 참조하여 설명한다.

도 6은 액정 패널(LCD)의 제조 방법의 일례를 도시하는 공정도이다. 또한, 본 실시 형태에서는, TFT-LCD의 제조 방법에 대해서 설명하는데, 본 발명을 STN-LCD의 제조 방법에 적용해도 되고, 액정 패널의 종류 또는 방식에 제한은 없다.

액정 패널의 제조 방법은,

하나의 유리 적층체(10)를 구성하는 유리 기판(12)의 제2 주면(12b) 상에 박막 트랜지스터(TFT)를 형성하는 TFT 기판 제조 공정(스텝 S21)과,

다른 유리 적층체(10)를 구성하는 유리 기판(12)의 제2 주면(12b) 상에 컬러 필터(CF)를 형성하는 CF 기판 제조 공정(스텝 S22)과,

박막 트랜지스터가 형성된 유리 기판(12)과, 컬러 필터가 형성된 유리 기판(12)을 적층하는 제2 적층 공정(스텝 S23)을 갖는다.

TFT 기판 제조 공정 및 CF 기판 제조 공정에서는, 주지된 포토리소그래피 기술이나 에칭 기술 등을 사용하여, 유리 기판(12)의 제2 주면(12b) 상에 TFT나 CF를 형성한다.

또한, TFT나 CF를 형성하기 전에, 필요에 따라, 유리 기판(12)의 제2 주면(12b)을 세정해도 된다. 세정 방법으로는, 상술한 드라이 세정이나 웨트 세정을 사용할 수 있다.

또한, TFT 기판 제조 공정과 CF 기판 제조 공정의 순서에 제한은 없고, CF 기판을 제조한 후에 TFT 기판을 제조해도 된다.

제2 적층 공정에서는, TFT가 형성된 유리 적층체(10)(이하, 「유리 적층체(10A)」라고 함)와, CF가 형성된 유리 적층체(10)(이하, 「유리 적층체(10B)」라고 함) 사이에 액정재를 주입해서 적층한다. 액정재를 주입하는 방법으로서는, 예를 들어 감압 주입법, 적하 주입법이 있다.

감압 주입법에서는, 예를 들어 처음에, 시일재 및 스페이서재를 사용해서 양쪽 유리 적층체(10A, 10B)를 TFT가 존재하는 면과 CF가 존재하는 면이 대향하도록 접합한다. 이어서, 수동 또는 적당한 흡착 패드나 나이프 등에 의해, 양쪽 유리 적층체(10A, 10B)로부터 지지 유리판(14, 14)을 박리한다. 그 후, 복수의 셀로 절단한다. 절단된 각 셀의 내부를 감압 분위기로 한 후에, 주입 구멍으로부터 각 셀의 내부에 액정재를 주입하고, 주입 구멍을 밀봉한다. 계속해서, 각 셀에 편광판을 부착하고, 백라이트 등을 내장하여, 액정 패널을 제조한다.

또한, 본 실시 형태에서는, 양쪽 유리 적층체(10A, 10B)로부터 지지 유리판(14, 14)을 박리하고, 그 후 복수의 셀로 절단한다고 했지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 시일재 및 스페이서재를 사용해서 양쪽 유리 적층체(10A, 10B)를 접합하기 전에 지지 유리판(14, 14)을 박리해도 된다.

적하 주입법에서는, 예를 들어 처음에, 양쪽 유리 적층체(10A, 10B) 중 어느 한쪽에 액정재를 적하해 두고, 시일재 및 스페이서재를 사용해서 양쪽 유리 적층체(10A, 10B)를, TFT가 존재하는 면과 CF가 존재하는 면이 대향하도록 적층한다. 이어서, 수동 또는 적당한 흡착 패드나 나이프 등에 의해, 양쪽 유리 적층체(10A, 10B)로부터 지지 유리판(14, 14)을 박리한다. 그 후, 복수의 셀로 절단한다. 계속해서, 각 셀에 편광판을 부착하고, 백라이트 등을 내장하여, 액정 패널을 제조한다.

또한, 본 실시 형태에서는, 양쪽 유리 적층체(10A, 10B)로부터 지지 유리판(14, 14)을 박리하고, 그 후 복수의 셀로 절단한다고 했지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 양쪽 유리 적층체(10A, 10B) 중 어느 한쪽에 액정재를 적하하기 전에 지지 유리판(14, 14)을 박리할 수 있다.

지지 유리판(14)은, 박리 후에 손상되지 않은 경우, 다른 유리 기판(12)과의 적층에 재이용될 수 있다. 재이용될 때까지 동안, 지지 유리판(14)의 표면을 보호 시트로 피복할 수 있다. 한편, 박리 후에 손상된 경우, 유리 원료로서 재이용될 수 있다.

액정 패널의 제조 방법은, 상기의 공정 외에, 유리 기판(12)으로부터 지지 유리판(14)을 박리한 후에, 유리 기판(12)을 케미컬 에칭 처리에 의해 박판화하는 박판화 공정을 더욱 가져도 된다. 유리 기판(12)의 제1 주면(12a)은 지지 유리판(14)에 의해 보호되어 있었으므로, 에칭 처리를 행하더라도 에치 피트가 발생하기 어렵다.

또한, 도 6에 도시하는 예에서는, TFT 기판, CF 기판의 제조에 각각 유리 적층체(10)를 1개씩 사용한다고 했지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 즉, TFT 기판, CF 기판 중 어느 한쪽만의 기판의 제조에 유리 적층체(10)를 사용해도 된다.

도 7은 유기 EL 패널(OLED)의 제조 방법의 일례를 나타내는 공정도이다.

유기 EL 패널의 제조 방법은,

유리 적층체(10)를 구성하는 유리 기판(12)의 제2 주면(12b) 상에 유기 EL 소자를 형성하는 유기 EL 소자 형성 공정(스텝 S31)과,

유기 EL 소자가 형성된 유리 기판(12)과, 대향 기판을 적층하는 제3 적층 공정(스텝 S32)을 갖는다.

유기 EL 소자 형성 공정에서는, 주지된 증착 기술 등을 사용해서 유리 기판(12)의 제2 주면(12b) 상에 유기 EL 소자를 형성한다. 유기 EL 소자는, 예를 들어 투명 전극층, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층 등으로 이루어진다.

또한, 유기 EL 소자를 형성하기 전에, 필요에 따라, 유리 기판(12)의 제2 주면(12b)을 세정해도 된다. 세정 방법으로서는, 상술한 드라이 세정이나 웨트 세정을 사용할 수 있다.

제3 적층 공정에서는, 예를 들어 처음에, 수동 또는 적당한 흡착 패드나 나이프 등에 의해, 유기 EL 소자가 형성된 유리 적층체(10)로부터 지지 유리판(14)을 박리한다. 그 후, 복수의 셀로 절단한다. 계속해서, 유기 EL 소자와 대향 기판이 접촉하도록, 각 셀과 대향 기판을 접합한다. 이와 같이 하여, 유기 EL 디스플레이를 제조한다.

이와 같이 하여, 유리 적층체(10)를 사용해서 제조된 표시 패널은, 그의 용도에 특별히 제한은 없지만, 예를 들어 휴대 전화, PDA, 디지털 카메라, 게임기 등의 휴대 전자 기기에 적절하게 사용된다.

이어서, 본 발명의 제2 실시 형태에 대해서 설명한다.

상기 제1 실시 형태에서는, 표시 패널용 부재의 형성 공정에 있어서, 유리 적층체의 온도가 300℃를 초과하지 않는 경우에 대해서 설명하였다.

이에 대해, 본 실시 형태에서는, 표시 패널용 부재의 형성 공정에 있어서, 유리 적층체의 온도가 300℃를 초과한 경우에 대해서 설명한다.

최근 들어, 표시 패널용 부재의 형성 공정에서, 유리 기판의 온도가 300℃를 초과한 경우가 있다. 예를 들어, 유리 기판면 상에 TFT를 형성하는 공정에는, 유리 기판의 온도가 400 내지 450℃인 상태에서 행해지는 공정이나, 600℃ 정도의 상태에서 행해지는 공정이 포함되는 경우가 있다. 400 내지 450℃에서 행해지는 공정으로서는, 유리 기판면 상에 아몰퍼스 실리콘을 성막하는 공정, 성막한 아몰퍼스 실리콘층에 포함되는 수소를 제거하는 공정, 성막한 아몰퍼스 실리콘층 상에 게이트 절연막을 형성하는 공정 등을 들 수 있다. 600℃에서 행해지는 공정으로서는, 성막한 아몰퍼스 실리콘층의 일부에 이온 주입에 의해 형성된 소스나 드레인을 활성화 처리하는 공정 등을 들 수 있다.

표시 패널용 부재의 형성 공정에 있어서, 도 1의 유리 적층체의 온도가 300℃를 초과한 경우, 유리 기판(12)과 지지 유리판(14)의 적층면(12a, 14a)에 존재하는 실라놀기(Si-OH)끼리의 탈수 축합반응이 촉진된다. 이로 인해, 적층면(12a, 14a)에 존재하는 실라놀기의 밀도가 너무 높으면, 표시 패널용 부재의 형성 공정 후에, 유리 기판(12)과 지지 유리판(14)을 분리하는 것이 곤란해진다.

통상, 적층면(12a, 14a)에 존재하는 실라놀기의 밀도가 낮아지면, 양쪽 적층면(12a, 14a)의 결합력이 약해지는 경향이 있다. 양쪽 적층면(12a, 14a)에 존재하는 실라놀기끼리의 수소 결합이 양쪽 적층면(12a, 14a)의 결합력에 기여하고 있기 때문이라고 생각된다. 따라서, 적층면(12a, 14a)에 존재하는 실라놀기의 밀도가 너무 낮으면, 양쪽 적층면(12a, 14a)의 결합력이 너무 약하여, 유리 적층체를 핸들링하는 것이 어렵다.

적층면(12a, 14a)에 존재하는 실라놀기의 밀도가 적절한 범위인 것은, 적층전에 그의 적층면이 되는 제1 주면(12a, 14a)의 물 접촉각을 측정해서 판단된다. 일반적으로, 유리 표면에 존재하는 실라놀기의 밀도가 높을수록, 유리 표면의 물 접촉각이 작아지는 경향이 있다. 실라놀기(Si-OH)에는 친수성인 OH기가 포함되기 때문이라고 생각된다.

유리 기판(12) 및 지지 유리판(14) 중 적어도 한쪽의 제1 주면의 물 접촉각은, 15 내지 70°인 것이 바람직하고, 15 내지 50°인 것이 보다 바람직하다. 15° 미만인 경우, 실라놀기의 밀도가 너무 높다. 한편, 70° 초과인 경우, 실라놀기의 밀도가 너무 낮다. 또한, 유리 기판(12)과 지지 유리판(14) 중 어떤 경우든, 비적층면(12b, 14b)의 물 접촉각은 상기의 범위에 한정되지 않는다.

제1 주면을 갖는 유리 기판이나 지지 유리판은, 적층 전에 제1 주면(12a, 14a) 중 적어도 한쪽을 표면 처리해서 실라놀기의 밀도가 낮은 제1 주면으로 한 후, 적층에 제공하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 유리 적층체의 온도가 300℃를 초과한 경우에, 유리 기판(12)과 지지 유리판(14)을 용이하게 분리할 수 있다.

유리 기판(12)과 지지 유리판(14)의 분리 후, 유리 기판(12)측이 제품이 된다. 이 때문에, 지지 유리판(14)측의 제1 주면(14a)만을 표면 처리하는 것이 바람직하다. 유리 기판(12)측의 제1 주면(12a)을 표면 처리하면, 예를 들어 분리 후의 제1 주면(12a)에 편광판을 부착하는 것이 곤란해지는 등, 제품측에 문제가 발생하는 경우가 있다.

표면 처리를 행하는 제1 주면은, 충분히 청정한 면인 것이 바람직하고, 세정 직후의 면인 것이 바람직하다. 청정도(활성도)가 너무 낮으면, 균일한 표면 처리를 할 수 없다.

표면 처리에 사용되는 재료로서는 실란 커플링제나 실리콘 오일 등이 있다. 이들 재료는 단독으로 또는 조합해서 사용된다. 조합해서 사용하는 경우, 실란 커플링제로 표면 처리한 후에 실리콘 오일로 표면 처리해도 되고, 실리콘 오일로 표면 처리한 후에 실란 커플링제로 표면 처리해도 된다.

실란 커플링제로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 헥사메틸디실라잔(HMDS), γ-아미노프로필트리에톡시실란, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-β-(아미노에틸)-N'-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란, γ-아닐리노프로필트리메톡시실란과 같은 아미노실란류나, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란과 같은 에폭시 실란류, γ-클로로프로필트리메톡시실란과 같은 클로로실란류, γ-머캅토트리메톡시실란과 같은 머캅토실란, 비닐메톡시실란, N-β-(N-비닐벤질아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란과 같은 비닐 실란류, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란과 같은 아크릴실란류 등으로부터 1개 이상 선택된 것을 바람직하게 사용할 수 있다.

실란 커플링제에 의한 표면 처리 방법은, 일반적인 방법일 수 있다. 예를 들어, 실란 커플링제를 기화한 가스를 포함하는 분위기에 유리판을 노출시키고, 유리 표면의 실라놀기(Si-OH)에 포함되는 친수성인 OH기를 소수성 기로 치환하는 방법 등이 있다. 분위기 중의 실란 커플링제의 농도, 온도, 처리 시간 등을 조절함으로써, 유리 표면에 존재하는 실라놀기의 밀도를 조절할 수 있다.

실리콘 오일로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 디메틸실리콘 오일, 메틸페닐실리콘 오일, 메틸히드로겐실리콘 오일 등의 스트레이트실리콘 오일, 측쇄 또는 말단에 알킬기, 히드로겐기, 에폭시기, 아미노기, 카르복실기, 폴리에테르기 등을 도입한 변성 실리콘 오일 등이 있다.

실리콘 오일에 의한 표면 처리 방법은 일반적인 방법일 수 있다. 예를 들어, 실리콘 오일을 스핀코터 등에 의해 유리 표면에 도포하고, 열처리에 의해 유리 표면에 베이킹하는 방법 등이 있다. 실리콘 오일의 도포량 등을 조절함으로써, 유리 표면에 노출되는 실라놀기의 밀도를 조절할 수 있다.

그런데, 표면 처리를 행한 경우, 유리 표면에 존재하는 실라놀기의 밀도가 저하하므로, 양쪽 적층면(12a, 14a)의 결합력이 저하한다.

따라서, 표면 처리에 의한 상기 결합력의 저하를 보충하기 위해서, 유리 기판(12)과 지지 유리판(14)을 적층할 때 가열 처리해도 좋다. 이에 의해, 양 제1 주면(12a, 14a)에 존재하는 실라놀기끼리의 탈수 축합반응을 행하여, 상기 결합력을 높일 수 있다. 탈수 축합반응을 촉진하기 위해서, 유리 적층체의 온도가 300 ℃를 초과하도록 가열하는 것이 바람직하다. 이 가열은, 적층면(12a, 14a)이 융착되지 않도록 행해진다.

또한, 표면 처리에 의한 상기 결합력의 저하를 보충하기 위해서, 유리 기판(12)과 지지 유리판(14)의 일부(예를 들어, 테두리부나 코너부)를 유리 프릿 등의 접착제로 접착해도 좋다. 이 접착은, 적층면(12a, 14a)이 융착되지 않도록 행해진다. 접착한 유리 기판(12)과 지지 유리판(14)을 박리할 때에는, 접착 부분을 미리 절제해도 된다.

본 실시 형태의 유리 적층체에서는, 실라놀기의 밀도가 낮은 적층면을 개재하고, 유리 기판(12)과 지지 유리판(14)이 직접 접촉해 밀착되어 있으므로, 양쪽 유리판(12, 14) 사이에 O링이나 수지층이 개재하는 경우와 비교하여, 유리 적층체가 휘기 어렵다. 이로 인해, 유리 적층체는 평탄성이 우수하게 되고, 이것은 유리 적층체의 유리 기판면의 평탄성이 우수한 것을 의미한다.

본 실시 형태의 유리 적층체는, 상기 제1 실시 형태와 마찬가지로, 유리 기판과 지지 유리판을 적층함으로써 제조되고, 유리 기판과 지지 유리판을 감압 분위기 하에서 적층함으로써 제조되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 적어도 제1 주면이 평활한 유리 기판을 준비하고, 준비한 유리 기판을 세정해서 적어도 제1 주면의 물 접촉각을 5° 이하로 한다. 또한, 적어도 제1 주면이 평활한 지지 유리판을 준비하고, 준비한 지지 유리판을 세정한 후에 표면 처리해서 적어도 제1 주면의 물 접촉각을 15 내지 70°로 한다. 그 후, 이들 유리 기판과 지지 유리판을 감압 가능한 프레스 장치에 넣어서 그것들의 제1 주면끼리를 대향시키고, 프레스 장치 내부를 감압 분위기로 하여 양자를 중첩해서 압접하여, 유리 적층체로 한다.

또한, 본 실시 형태의 유리 적층체는, 상기 제1 실시 형태와 마찬가지로, 표시 패널의 제조에 사용할 수 있다.

[실시예]

이하에, 실시예 등에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 이들 예에 의해서 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 실시예에서는 유리 기판 및 지지 유리판으로 동일한 유리판을 사용하였다. 따라서, 이하의 예에 있어서는, 유리 적층체를 구성하는 2매의 유리판의 임의의 한쪽이 본 발명에서의 유리 기판이며, 다른 쪽이 본 발명에서의 지지 유리판이다.

(시험예 1)

세로 400㎜×가로 300㎜×두께 0.4㎜, 평균 표면 조도 0.8㎚, 25 내지 300℃에서의 평균 선팽창 계수 38×10^-7/℃인 3장의 유리판(아사히 가라스사제, AN100)을 준비하였다. 여기서, 평균 표면 조도는 원자간력 현미경(Pacific Nanotechnology사제, Nano Scope IIIa; Scan Rate 1.0Hz, Sample Lines 256, Off-line Modify Flatten order-2, Planefit order-2)에 의해 측정하였다.

3장의 유리판을, 각각 25℃의 수산화칼륨 수용액(수산화칼륨 1질량％)에 10분간 침지한 후, 25℃의 순수에 10분간 침지하고, 계속해서 25℃의 다른 순수에 침지해서 초음파 세정(36KHz)을 5분간 행하였다. 그 후, 3장의 유리판의 표면에 80℃의 IPA(이소프로필알코올) 증기를 10분간 쐬어서 건조를 행하였다.

접촉각계(크로스사제, DROP SHAPE ANALYSIS SYSTEM DSA 10Mk2)를 사용하여, 세정, 건조를 행한 직후에, 1매의 유리판의 표면에 1μL의 물방울을 정치해서 물 접촉각을 측정한 결과, 물 접촉각은 4°였다.

도 4a 내지 도 4c 및 도 5에 도시하는 프레스 장치(30)를 사용하여 세정, 건조를 행한 직후에, 나머지의 2매의 유리판(12, 14)을 적층해서, 도 1에 도시하는 유리 적층체(10)를 얻었다. 또한, 적층은 양쪽 유리판(12, 14) 사이의 공간의 압력을 -100㎪(대기압을 제로로 규격화)로 감압한 상태에서 행하였다.

얻어진 유리 적층체(10)에 대해서, 하기의 평가를 행하였다.

(밀착 시험)

유리 적층체(10)를 수평반 상에 적재하고, 상측의 유리판의 중앙을 직경 20㎜의 흡착 패드로 흡착하고, 연직 방향으로 속도 25㎜/초로 들어올린 결과, 적층한 2매의 유리판(12, 14)이 분리되지 않고, 양호한 밀착력이 있는 것을 알았다.

(박리 시험 1)

밀착 시험 후, 유리 적층체를 절단해서 얻은 세로 25㎜×가로 25㎜인 복수의 블록 중, 하나의 블록에 대해서, 가열 처리하지 않고 실온에서 도 8에 도시하는 박리 시험을 행하였다. 박리 시험의 지그로는, 판상 부재(41, 42) 및 손잡이 부재(43, 44)를 사용하였다.

판상 부재(41)는 크기가 세로 25㎜×가로 25㎜×두께 5㎜, 폴리카르보네이트제이며, 블록(101)을 구성하는 유리 기판(12)의 제2 주면(12b)에 에폭시 접착제(도시하지 않음)에 의해 접착되어 있다. 판상 부재(42)는, 크기가 세로 25㎜×가로 25㎜×두께 5㎜, 폴리카르보네이트제이며, 블록(101)을 구성하는 지지 유리판(14)의 제2 주면(14b)에 에폭시 접착제(도시하지 않음)에 의해 접착되어 있다. 판상 부재(41, 42)는, 각각, 그의 측면이 블록(101)의 측면과 대략 편평하게 되도록 배치하였다. 블록(101)과 판상 부재(41) 및 블록(101)과 판상 부재(42)의 접착 면적은 각각 세로 25㎜×가로 25㎜이다.

손잡이 부재(43)는, 크기가 세로 25㎜×가로 10㎜×두께 5㎜, 폴리카르보네이트제이며, 판상 부재(41)의 유리 기판(12)측과 반대측 면에 에폭시 접착제(도시하지 않음)에 의해 접착되어 있다. 손잡이 부재(44)는, 크기가 세로 25㎜×가로 10㎜×두께 5㎜, 폴리카르보네이트제이며, 판상 부재(42)의 지지 유리판(14)측과 반대측 면에 에폭시 접착제(도시하지 않음)에 의해 접착되어 있다. 손잡이 부재(43, 44)는, 각각, 그의 좌측면이 판상 부재(41, 42)인 좌측면과 대략 편평하게 되도록 배치하였다. 판상 부재(41)와 손잡이 부재(43)의 접촉 면적 및 판상 부재(42)와 손잡이 부재(44)의 접착 면적은, 각각 세로 25㎜×가로 10㎜이다.

지그(41 내지 44)를 장착한 블록(101)을 지지 유리판(14)이 하측이 되도록 대략 수평하게 배치하였다. 유리 기판(12)측에 접착된 손잡이 부재(43)를 고정하고, 지지 유리판(14)측에 접착된 손잡이 부재(44)를 도면 중 화살표(D) 방향인 하방을, 다시 말해 판상 부재(41, 42)의 두께 방향을 향하여, 300㎜/분의 속도로 분리한 결과, 0.78N(0.32N/㎝)의 하중이 가해졌을 때, 적층한 2매의 유리판(12, 14)이 분리되었다. 분리 후 양쪽 유리판(12, 14)에 균열 등의 파손은 보이지 않았다.

(박리 시험 2)

복수의 블록 중, 다른 블록에 대해서, 대기 중 300℃의 온도에서 1시간 가열 처리를 행한 후, 실온까지 냉각하여 도 8에 도시한 박리 시험을 행한 결과, 0.78N (0.32N/㎝)의 하중이 가해졌을 때, 적층한 2매의 유리판(12, 14)이 분리되었다. 분리 후의 양쪽 유리판(12, 14)에 균열 등의 파손은 보이지 않았다.

(박리 시험 3)

또한, 다른 블록에 대해서, 대기 중 450℃의 온도에서 1시간 가열 처리를 행한 후, 실온까지 냉각하여 도 8에 도시한 박리 시험을 행한 결과, 적층한 2매의 유리판(12, 14)은 한쪽이 깨질 때까지, 분리되지 않았다.

(내열 시험)

다른 블록에 대해서, 핫 플레이트를 사용해서 대기 중 450℃의 온도에서 1시간 가열 처리한 상태를 관찰한 결과, 적층한 2매의 유리판 사이에 기포는 보이지 않고, 또한 양쪽 유리판에 균열 등의 파손은 보이지 않았다.

(전단 시험 1)

다른 블록에 대해서, 도 9에 도시한 전단 시험을 실온에서 행하였다. 전단 시험의 지그로는, 판상 부재(51, 52)를 사용하였다.

판상 부재(51)는, 크기가 세로 25㎜×가로 50㎜×두께 3㎜, 폴리카르보네이트제이며, 블록(102)을 구성하는 유리 기판(12)의 제2 주면(12b)에 에폭시 접착제(도시하지 않음)에 의해 접착되어 있다. 판상 부재(51)는, 그의 좌측면이 블록(102)의 좌측면과 대략 편평하게 되도록 배치하였다. 블록(102)과 판상 부재(51)의 접착 면적은, 세로 25㎜×가로 25㎜이다. 판상 부재(52)는, 크기가 세로 25㎜×가로 50㎜×두께 3㎜, 폴리카르보네이트제이며, 블록(102)을 구성하는 지지 유리판(14)의 제2 주면(14b)에 에폭시 접착제(도시하지 않음)에 의해 접착되어 있다. 판상 부재(52)는, 그의 우측면이 블록(102)의 우측면과 대략 편평하게 되도록 배치하였다. 블록(102)과 판상 부재(52)의 접착 면적은, 세로 25㎜×가로 25㎜이다.

지그(51, 52)를 장착한 블록(102)을 지지 유리판(14)이 하측이 되도록 대략 수평하게 배치한다. 유리 기판(12)측에 접착된 판상 부재(51)를 고정하고, 지지 유리판(14)측에 접착된 판상 부재(52)를 도 9 중의 화살표(L) 방향인 좌측 방향, 다시 말해 판상 부재(51, 52)의 긴 방향을 향하여, 0.5㎜/분의 속도로 인장한 결과, 118N(19N/㎠)의 하중이 가해졌을 때, 적층한 2매의 유리판(12, 14)의 한쪽이 깨졌다. 한쪽이 깨질 때까지, 양쪽 유리판(12, 14)의 사이에 어긋남은 보이지 않았다.

박리 시험 1과 전단 시험 1의 결과로부터 명백해진 바와 같이, 적층한 2매의 유리판(12, 14)은, 적층면의 연직 방향으로 비교적 약한 힘으로 박리됨과 함께, 비교적 강한 힘이 가해져도, 적층면의 면 내 방향으로 어긋나기 어렵다. 따라서, 용이하게 분리할 수 있음과 함께, 유리 적층체(10)의 운반 등을 할 때에 적층면이 어긋나는 것을 억제할 수 있다.

(전단 시험 2)

다른 블록에 대해서, 대기 중 300℃의 온도로 1시간 가열 처리를 행한 후, 실온까지 냉각해 도 9에 도시하는 전단 시험을 행한 결과, 118N(19N/㎠)의 하중이 가해졌을 때 적층한 2매의 유리판(12, 14)의 한쪽이 깨졌다. 한쪽이 깨질 때까지, 양쪽 유리판(12, 14) 사이에 어긋남은 보이지 않았다.

(시험예 2)

시험예 2에서는, 도 4a 내지 도 4c 및 도 5에 도시하는 프레스 장치(30)를 사용하는 대신, 손으로 눌러서 2매의 유리판을 대기 중 실온에서 적층한 것 이외는, 시험예 1과 마찬가지로 하여 유리 적층체를 제조하였다.

제조한 유리 적층체에 대해서, 시험예 1과 마찬가지로, 밀착 시험을 행한 결과, 적층한 2매의 유리판이 분리되지 않고, 양호한 밀착력이 있는 것을 알았다.

밀착 시험 후, 시험예 1과 마찬가지로 하여, 박리 시험 1을 행한 결과, 0.80N(0.32N/㎝)의 하중이 가해졌을 때, 적층한 2매의 유리판이 분리되었다. 분리 후의 양쪽 유리판에 균열 등의 파손은 보이지 않았다.

또한, 박리 시험 2를 행한 결과, 0.75N(0.30N/㎝)의 하중이 가해졌을 때, 적층한 2매의 유리판이 분리되었다. 분리 후의 양쪽 유리판에 균열 등의 파손은 보이지 않았다.

또한, 박리 시험 3을 행한 결과, 적층한 2매의 유리판은, 한쪽이 깨질 때까지 분리되지 않았다.

내열 시험을 행한 결과, 적층한 2매의 유리판 사이에 큰 기포가 보였다. 이것은, 대기압 중에서 적층했으므로, 적층시에 미세한 기포가 혼입되었기 때문이라고 추정된다.

(시험예 3)

시험예 3에서는, 유리판을 세정, 건조하고나서 적층할 때까지의 시간을 1주일 둔 것 이외는, 시험예 1과 마찬가지로 하여 유리 적층체를 제조하였다. 또한, 세정, 건조하고나서 1주일 후에, 상기 접촉각계를 사용해서 유리판의 물 접촉각을 측정한 결과, 물 접촉각은 10°였다.

밀착 시험 후, 시험예 1과 마찬가지로 하여, 박리 시험 1을 행한 결과, 0.75N(0.30N/㎝)의 하중이 가해졌을 때, 적층한 2매의 유리판이 분리되었다. 분리 후의 양쪽 유리판에 균열 등의 파손은 보이지 않았다.

(시험예 4)

시험예 4에서는, 도 4a 내지 도 4c 및 도 5에 도시하는 프레스 장치(30)를 사용하는 대신, 손으로 눌러서 2매의 유리판을 대기 중 실온에서 적층한 것 이외는, 시험예 3과 마찬가지로 하여 유리 적층체를 제조하였다.

제조한 유리 적층체에 대해서, 시험예 1과 마찬가지로, 밀착 시험을 행한 결과, 적층한 2매의 유리판이 분리되어, 충분히 밀착되지 않고 있었던 것을 알았다.

(시험예 5 내지 8)

시험예 5 내지 8에서는, 세정, 건조를 행한 직후이며 적층을 행하기 직전에, 2매의 유리판의 제1 주면 중, 한쪽에만 실란 커플링제에 의한 표면 처리를 실시한 것 이외는, 시험예 1과 마찬가지로 하여 유리 적층체를 제조하였다.

실란 커플링제에는, 헥사메틸디실라잔(간또 가가꾸 가부시끼가이샤제, 1,1,1,3,3,3-헥사메틸디실라잔)을 사용하였다. 이 실란 커플링제를 기화한 가스를 포함하는 분위기에, 유리판을 노출시켜서 표면 처리를 행하였다.

표 1에, 표면 처리를 행한 시간, 표면 처리를 행한 직후의 유리 표면의 물 접촉각, 적층 후의 밀착 시험이나 박리 시험 1 내지 3의 결과를 나타낸다. 또한, 밀착 시험의 판단 기준으로서는, 적층한 2매의 유리판이 분리되지 않은 것을 ○라고 하고, 분리된 것을 ×라고 하였다. 박리 시험 1 내지 3의 판단 기준으로서는, 0.2N/㎝ 이상의 박리 강도를 갖고, 또한 박리 후에 파손되지 않은 것을 「○」라고 하고, 박리 전에 파손된 것을 「×」라고 하며, 박리 강도가 약하고, 박리 시험 1 내지 3을 행할 수 없었던 것을 「-」라고 하였다.

(시험예 9 내지 11)

시험예 9 내지 11에서는, 세정, 건조를 행한 직후이며 적층을 행하기 직전에, 2매의 유리판의 제1 주면 중, 한쪽에만 실란 커플링제에 의한 표면 처리를 실시한 것 이외는, 시험예 1과 마찬가지로 하여 유리 적층체를 제조하였다.

표면 처리 방법으로서는, 실란 커플링제(도레이?다우코닝가부시끼가이샤제, Z6040)를 기화한 가스를 포함하는 분위기에, 유리판을 노출시키는 방법을 사용하였다.

표 2에 표면 처리를 행한 시간, 표면 처리를 행한 직후의 유리 표면의 물 접촉각, 적층 후의 밀착 시험이나 박리 시험 1 내지 3의 결과를 나타낸다. 또한, 밀착 시험의 판단 기준, 박리 시험 1 내지 3의 판단 기준은, 표 1과 마찬가지이므로 설명을 생략한다.

(시험예 12 내지 13)

시험예 12 내지 13에서는, 세정, 건조한 직후이며 적층을 행하기 직전에, 2매의 유리판의 제1 주면 중, 한쪽에만 실리콘 오일에 의한 표면 처리를 실시한 것 이외는, 시험예 1과 마찬가지로 하여 유리 적층체를 제조하였다.

실리콘 오일에는, 디메틸 실리콘 오일(도레이?다우 실리콘사제, SH200, 디메틸폴리실록산)을 사용하였다. 우선, 이 실리콘 오일을 헵탄으로 희석한 용액을, 스핀 코터(미카사제, MS-A100)를 사용해서 유리 표면에 도포하였다. 계속해서, 핫 플레이트를 사용해서 대기 중 500℃의 온도에서 5분간 가열 처리하였다. 이와 같이 하여, 유리 표면에 실리콘 오일을 달구어 붙이는 표면 처리를 행하였다.

표 3에, 용액 중의 실리콘 오일의 농도, 표면 처리를 행한 직후의 유리 표면의 물 접촉각, 적층 후의 밀착 시험이나 박리 시험 1 내지 3의 결과를 나타낸다. 또한, 밀착 시험의 판단 기준, 박리 시험 1 내지 3의 판단 기준은, 표 1과 마찬가지이므로, 설명을 생략한다.

표 1 내지 3으로부터 명백해진 바와 같이, 유리 표면의 물 접촉각을 적절하게 설정하고, 유리 표면에 존재하는 실라놀기의 밀도를 적절하게 설정함으로써, 유리 적층체를 450℃의 온도로 1시간 가열 처리한 경우에도, 유리 적층체를 구성하는 2매의 유리판을 소정의 조작에 의해 박리할 수 있는 것을 알았다.

본 발명을 상세하게 또한 특정한 실시 형태를 참조하여 설명했지만, 본 발명의 정신과 범위를 일탈하지 않고 여러 변형이나 수정을 가할 수 있는 것은, 통상의 기술자에게 있어서 명확하다.

본 출원은, 2009년 10월 20일 출원한 일본 특허 출원 제2009-241797호에 기초하는 것이고, 그 내용은 여기에 참조로서 도입된다.

본 발명에 따르면, 평탄성이 우수한 유리 적층체 및 그 제조 방법을 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면, 상기 유리 적층체를 사용한 표시 패널의 제조 방법 및 그 제조 방법에 의해 얻어진 표시 패널을 제공할 수 있다.

10 유리 적층체
12 유리 기판
12a 제1 주면
12b 제2 주면
14 지지 유리판
14a 제1 주면
14b 제2 주면
22 오목부

Claims

유리 기판 및 지지 유리판을 포함하고, 유리 기판의 표면과 지지 유리판의 표면이 직접 접촉하고 있는 유리 적층체이며,
서로 접촉하고 있는 상기 유리 기판의 표면과 상기 지지 유리판의 표면이 모두 평활한 평면이며, 상기 양쪽 표면이 밀착하고 있는 유리 적층체.
제1항에 있어서, 유리 기판과 지지 유리판을 분리시키는 조작을 행함으로써 양자의 분리가 가능한 유리 적층체.
제1항 또는 제2항에 있어서, 서로 접촉하고 있는 양쪽 표면의 접촉 전의 평균 표면 조도(Ra)가 각각 1.0㎚ 미만인 유리 적층체.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 서로 접촉하고 있는 양쪽 표면의 접촉 전의 물 접촉각이 각각 5° 이하인 유리 적층체.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 서로 접촉하고 있는 양쪽 표면 중 적어도 한쪽의 접촉 전의 물 접촉각이 15 내지 70°인 유리 적층체.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유리 기판의 두께가 0.04㎜ 이상 0.8㎜ 미만이고,
상기 지지 유리판의 두께가 0.08㎜ 이상이며,
상기 유리 기판과 상기 지지 유리판의 두께의 합계가 0.2㎜ 이상 1.0㎜ 이하인 유리 적층체.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유리 기판과 상기 지지 유리판의 25℃ 내지 300℃에서의 평균 선팽창 계수의 차가 15×10^-7/℃ 이하인 유리 적층체.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 지지 유리판은 상기 유리 기판에 접촉하는 측의 면의 주연부에 오목부를 갖고,
상기 오목부는 상기 유리 기판에 의해 밀폐되어 있는 유리 적층체.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유리 기판의 상기 지지 유리판에 접촉하는 측과 반대측의 면에 표시 패널용 부재가 형성된 유리 적층체.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 유리 적층체를 제조하는 방법이며,
유리 기판과 지지 유리판을 감압 분위기 하에서 적층하는, 유리 적층체의 제조 방법.
제10항에 있어서, 적층면이 되는 유리 기판의 표면과 지지 유리판의 표면 중 적어도 한쪽의 표면을 적층 전에 세정하는, 유리 적층체의 제조 방법.
제11항에 있어서, 세정 후의 적어도 한쪽의 표면을 적층 전에 표면 처리하는, 유리 적층체의 제조 방법.
제12항에 있어서, 상기 표면 처리의 재료는 실란 커플링제 또는 실리콘 오일을 포함하는 유리 적층체의 제조 방법.
제10항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유리 기판의 비적층면의 주연부를 지지하고, 상기 유리 기판과 상기 지지 유리판을 적층하는, 유리 적층체의 제조 방법.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 유리 적층체를 사용해서 표시 패널을 제조하는 표시 패널의 제조 방법이며,
상기 유리 기판의 상기 지지 유리판에 접촉하는 측과 반대측의 면에 표시 패널용 부재를 형성하고, 그 후 상기 유리 기판과 상기 지지 유리판을 분리하는, 표시 패널의 제조 방법.
제15항에 있어서, 상기 표시 패널용 부재는 박막 트랜지스터인, 표시 패널의 제조 방법.
제15항에 있어서, 상기 표시 패널용 부재는 컬러 필터인, 표시 패널의 제조 방법.
제15항 내지 제17항 중 어느 한 항에 기재된 표시 패널의 제조 방법에 의해 얻어진 표시 패널.