JP6805966B2 - カバー部材、カバー部材の製造方法および表示装置 - Google Patents
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Description
透明基体の表示パネル側の主面の縁には、配線等を隠蔽するための額縁部が枠状に印刷されている場合がある。
このとき、カバー部材(透明基体)の主面と粘着層との間に空気等のガスが入り込み、気泡が発生することがある。とりわけ、表示パネル側の主面に額縁部を有するカバー部材を表示パネルの表示面に貼合する場合には、額縁部と透明基体との間の段差部分において、カバー部材と粘着層との間に気泡が生じやすい。
カバー部材と粘着層との間に発生した気泡は、カバー部材越しに表示パネルの表示面を見た際の表示画像の視認性を劣化させる。
このため、カバー部材と粘着層との間に気泡が多く発生した場合には、オートクレーブを用いて気泡を消失させる等の作業が必要となり、煩雑である。
本発明の一態様に係るカバー部材の製造方法は、透明基体を含むカバー部材を製造する方法であって、被カバー部材に対向する第1主面と、上記第1主面とは反対側の第2主面とを有する透明基体を準備し、含フッ素化合物が一面に付着した転写用基体を準備し、上記透明基体の上記第1主面と、上記転写用基体における上記含フッ素化合物が付着した面とを接触させて、上記含フッ素化合物を上記透明基体の上記第1主面に転写し、上記転写によって、上記第1主面にF原子を含む化合物を付着させ、上記第1主面の接触角を50°以下にする、カバー部材の製造方法である。
本発明の一態様に係る表示装置は、上記カバー部材、粘着層および表示パネルを備える表示装置であって、上記カバー部材は、上記透明基体の上記第1主面が上記表示パネルと対向する向きで、上記粘着層を介して、上記表示パネルと貼合される、表示装置である。
図1は、本実施形態の表示装置100を示す断面図である。
表示装置100としては、例えば、スマートフォン、タブレット端末などの表示装置;カーナビゲーション装置、リアシートの乗員が映像等を視聴するためのRSE(リアシートエンターテインメント)装置などの車載表示装置;冷蔵庫、洗濯機、電子レンジなどの家電製品の開閉扉に取り付けられる表示装置;等が挙げられるが、これらに限定されない。
表示装置100は、各部を収納する筐体106を有し、筐体106には開口部が形成されている。筐体106の中には、前記表示パネル104とバックライトユニット102が載置されている。図1に示すように、筐体106の底板である筐体底板107上にバックライトユニット102が載置され、バックライトユニット102上に表示パネル104が載置されている。本実施形態においては、表示パネル104は液晶パネルである。筐体106の内部であって、表示パネル104の外側には、表示パネル104に接続する配線141が配置されている。
本実施形態では、透明基体12の端部は、接着層131によって、筐体106に接着されている。
カバー部材11を構成する透明基体12は、主面を有する。すなわち、透明基体12は、被カバー部材としての表示パネル104と対向する第1主面12a、および、第1主面12aとは反対側の、表示パネル104と対向しない第2主面12bを有する。本実施形態では、被カバー部材として表示パネル104を挙げて説明するが、被カバー部材は表示パネルに限定されない。
額縁部132が形成された透明基体12の第1主面12aは、粘着層14によって、表示パネル104の表示面104aに貼合される。
粘着層14としては、例えば、液状の硬化性樹脂組成物を硬化して得られる透明樹脂からなる層が挙げられるほか、光学粘着フィルムまたは光学粘着テープであってもよい。
粘着層14の厚さは、例えば5〜1000μmであり、50〜500μmが好ましい。
図3は、従来のカバー部材511を粘着層14によって表示パネル104に貼合した状態を拡大して示す断面図である。図1および図2に基づいて説明した本実施形態と同じ部分には同じ符号を用い、説明を省略する。
従来のカバー部材511を構成する透明基体512は、粘着層14を用いて、表示パネル104の表示面104aに貼合される。
気泡551は、透明基体512越しに表示パネル104を見た際に、表示面104aに表示される画像(表示画像)の視認性を劣化させる。
このため、気泡551が多く発生した場合には、オートクレーブを用いて気泡551を消失させる作業が必要になる等、非常に煩雑である
図4は、本実施形態のカバー部材11を示す断面図である。
カバー部材11は、第1主面12aおよび第2主面12bを有する透明基体12を有する。カバー部材11は、必要に応じて、透明基体12の第1主面12aに額縁部132を有し、第1主面12aまたは第2主面12bに図示しない機能層を有する。
以下に、カバー部材11を構成する各部について、より詳細に説明する。
透明基体12は、第1主面12aにF原子を含む化合物が付着しており、かつ、第1主面12aの接触角が50°以下である。
これにより、透明基体12の第1主面12aを、粘着層14を用いて、表示パネル104の表示面104aに貼合した際に、透明基体12と粘着層14との間に気泡が発生することを抑制できる。
透明基体12の第1主面12aの接触角を50°以下にすることにより、第1主面12aと粘着層14とが濡れやすくなり、密着性を高めることができる。
更に、透明基体12(例えば、Siを含むガラス板)の第1主面12a上に、F原子を含む化合物が付着している。これにより、第1主面12aに微小な撥水部が形成される。そして、撥水部どうしが形成するパスを通じて、透明基体12と粘着層14との間から、気泡となるガスが抜け出る。このため、気泡の発生が抑制されると推測される。
まず、透明基体12の第1主面12a(額縁部132が枠状に印刷されている場合は、額縁部132が印刷されていない領域)を4×4等分する。等分する際に引いた線(3本+3本)どうしの交点(合計9点)における水の接触角を測定する。具体的には、測定温度23℃にて、純水5μLを滴下してから5秒後の接触角を、接触角計(共和界面化学社製、PCA−11)を用いて測定する。測定した合計9点の接触角の平均値を、透明基体12の第1主面12aの接触角とする。
まず、透明基体12の第1主面12a(額縁部132が枠状に印刷されている場合は、額縁部132が印刷されていない領域)について、X線光電子分光装置(日本電子社製、JPS−9000MC)を用いて、F原子濃度(単位:原子%)およびSi原子濃度(単位:原子%)を求める。求めたF原子濃度とSi原子濃度との比を、透明基体12の第1主面12aの原子比(F/Si)とする。
より詳細には、X線の線源はMgKα線、加速電圧12kV、25mAの条件で測定する。スポット径は6mmφで測定する。試料の傾斜はなし。パスエネルギーは50eV、測定ステップは0.5eV、Dwell Timeは100msec、スキャン数は30回で測定する。測定の結果、得られた結合エネルギーピークについて、シャーリー法によりバックグラウンドを除去した後、F1sピーク強度と、Si2p3/2のピーク強度とから、F/Siの原子濃度比を算出する。
(i)SiO2を50〜80%、Al2O3を2〜25%、Li2Oを0〜10%、Na2Oを0〜18%、K2Oを0〜10%、MgOを0〜15%、CaOを0〜5%およびZrO2を0〜5%含むガラス
(ii)SiO2を50〜74%、Al2O3を1〜10%、Na2Oを6〜14%、K2Oを3〜11%、MgOを2〜15%、CaOを0〜6%およびZrO2を0〜5%含有し、SiO2およびAl2O3の含有量の合計が75%以下、Na2OおよびK2Oの含有量の合計が12〜25%、MgOおよびCaOの含有量の合計が7〜15%であるガラス
(iii)SiO2を68〜80%、Al2O3を4〜10%、Na2Oを5〜15%、K2Oを0〜1%、MgOを4〜15%およびZrO2を0〜1%含有するガラス
(iv)SiO2を67〜75%、Al2O3を0〜4%、Na2Oを7〜15%、K2Oを1〜9%、MgOを6〜14%およびZrO2を0〜1.5%含有し、SiO2およびAl2O3の含有量の合計が71〜75%、Na2OおよびK2Oの含有量の合計が12〜20%であり、CaOを含有する場合その含有量が1%未満であるガラス
ガラス板の製造方法は特に限定されない。所望のガラス原料を溶融炉に投入し、1500〜1600℃で加熱溶融し清澄した後、成形装置に供給して溶融ガラスを板状に成形し、徐冷することにより製造できる。
ガラス板の成形方法は特に限定されず、例えば、ダウンドロー法(例えば、オーバーフローダウンドロー法、スロットダウン法、リドロー法等)、フロート法、ロールアウト法、プレス法等を利用可能である。
ガラス板の表面圧縮応力(以下、「CS」という)は、400MPa以上1200MPa以下が好ましく、700MPa以上900MPa以下がより好ましい。CSが400Pa以上であれば、実用上の強度として十分である。一方、CSが1200MPa以下であれば、自身の圧縮応力に耐えることができ、自然に破壊してしまう懸念がない。
ガラス板の応力層の深さ(以下、「DOL」という)は、15〜50μmが好ましく、20〜40μmがより好ましい。DOLが15μm以上であれば、ガラスカッター等の鋭利な冶具を使用しても、容易にキズがついて破壊される懸念がない。一方、DOLが40μm以下であれば、自身の圧縮応力に耐えることができ、自然に破壊してしまう懸念がない。
透明基体12としてガラス板を用い、上記化学強化処理をする場合は、これをより有効にするため、ガラス板の厚さは通常5mm以下が好ましく、3mm以下がより好ましい。
透明基体12の寸法は、用途に応じて適宜選択できる。
額縁部132は、着色インクを透明基体12に印刷して形成される。額縁部132は、透明基体12の第1主面12aの周縁部に形成されることが好ましい。
印刷法としては、例えば、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法、スクリーン法等があるが、簡便に印刷できる、種々の透明基体額縁部に印刷できる、透明基体額縁部のサイズに合わせて印刷可能である等の理由から、スクリーン印刷法が好ましい。
有機樹脂としては、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリアリレート、ポリカーボネート、透明ABS樹脂、フェノール樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂、ポリウレタン、ポリメタクリル酸メチル、ポリビニル、ポリビニルブチラール、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレン、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリイミドなどのホモポリマー;これらの樹脂のモノマーと共重合可能なモノマーとのコポリマー;等が挙げられる。
カバー部材11は、透明基体12の第1主面12aまたは第2主面12bに、図示しない機能層を有することが好ましく、特に、透明基体12の第2主面12bに機能層を有することがより好ましい。
機能層は、透明基体12に備わらない特性を発現させる層である。機能層としては、例えば、防眩層、反射防止層、防汚層などが挙げられる。
カバー部材11は、透明基体12の第1主面12aまたは第2主面12bに、防眩層を有することが好ましい。防眩層を設けることにより、周囲の光の映り込みを低減できて、表示画像の視認性が低下することを防止できる。特に、透明基体12の第2主面12bに防眩層を設けることがより好ましい。
防眩処理としては、公知の方法を適用可能であり、例えば、透明基体12としてガラス板を用いる場合、ガラス板の主面に化学的または物理的に表面処理を施し、所望の表面粗さの凹凸形状を形成する方法や、ウェットコート等を利用できる。
透明基体12の主面に機能層として反射防止層を設けると、外光の映り込みを低減できて、表示画像の視認性が低下することを防止できる。透明基体12の主面に防眩層が設けられている場合、防眩層の上に反射防止層を設けることが好ましい。
高屈折率層を構成する材料としては、例えば、酸化ニオブ(Nb2O5)、酸化チタン(TiO2)、酸化ジルコニウム(ZrO2)、酸化タンタル(Ta2O5)、酸化アルミニウム(Al2O3)、窒化ケイ素(Si3N4)等が挙げられる。これらの材料から選択される1種以上を好ましく使用できる。
低屈折率層を構成する材料としては、酸化ケイ素(特に、二酸化ケイ素SiO2)、SiとSnとの混合酸化物を含む材料、SiとZrとの混合酸化物を含む材料、SiとAlとの混合酸化物を含む材料等が挙げられる。これらの材料から選択される1種以上を好ましく使用できる。
不活性ガスと酸素ガスとの混合ガスによるチャンバ内の圧力の下限値は、特に限定されないが、例えば、0.1Pa以上が好ましい。
透明基体12の主面に機能層として防汚層を設けることが好ましい。防汚層を設けると、透明基体12に付着した汚れ(ヒトの指紋等)を落としやすくなる。防汚層は、その機能を十分に発揮するために、機能層の最表面を構成する層であることが好ましい。
防汚層の形成方法としては、真空蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、イオンプレート法、スパッタ法、プラズマCVD法等の乾式法、スピンコート法、ディップコート法、キャスト法、スリットコート法、スプレー法等の湿式法のどちらも使用できる。耐擦傷性の観点から、乾式法を用いることが好ましい。
そのため、後述する手順に従って、真空蒸着法により防汚層を形成する場合は、加熱容器で加熱する前に、予め溶媒除去処理したフッ素含有有機ケイ素化合物を用いることが好ましい。
そして、加熱容器に含フッ素有機ケイ素化合物を導入後、容器内を真空または不活性ガスで置換した後には、直ちに成膜のための加熱を開始することが好ましい。
カバー部材11の製造方法は、特に限定されないが、例えば、第1主面12aおよび第2主面12bを有する透明基体12を準備し、含フッ素化合物(図示せず)が一面に付着した転写用基体(図示せず)を準備し、透明基体12の第1主面12aと転写用基体における含フッ素化合物が付着した面(以下、「転写面」ともいう)とを接触させて、含フッ素化合物を透明基体12の第1主面12aに転写し、この転写によって、第1主面12aにF原子を含む化合物を付着させ、第1主面12aの接触角を50°以下にする方法が挙げられる。
カバー部材11の製造方法としては、透明基体12の第1主面12aと、転写用基体上の含フッ素化合物層の表面とを、所定距離(例えば、1〜10mm)だけ離間した状態で対面させ、1〜48時間静置する方法なども挙げられる。
第1主面12aの接触角の値の調整、および、含フッ素化合物の付着量を制御しやすい点で、カバー部材11の製造方法は、上述した転写による方法が好ましい。
層状の含フッ素化合物(以下、「転写用含フッ素化合物層」ともいう)は、単分子の厚みよりも十分に多い量で、転写用基体上に形成された状態であることが好ましい。
転写用含フッ素化合物層は、カバー部材11の防汚層と同様の手順に従って形成される。ただし、転写用含フッ素化合物層の厚さは、カバー部材11の防汚層よりも厚くすることが好ましく、具体的には、例えば、50〜180nmであり、60〜170nmが好ましい。
転写用含フッ素化合物層は、転写用基体の主面方向に連続した連続層でなくてもよく、不連続層(間欠層)であってもよい。
以下に説明するようにして、例1のカバー部材を作製した。
各例では、カバー部材となる透明基体として、ガラス板を用いた。
より詳細には、まず、化学強化用ガラス板であるドラゴントレイル(商品名、旭硝子社製、厚さ1.3mm)を準備した。
これを、100mm×100mmの寸法に裁断した後、化学強化処理した。すなわち、化学強化用ガラス板を、450℃に加熱し溶融させた硝酸カリウム(溶融塩)に2時間浸漬した後、溶融塩から引き上げ、室温まで1時間で徐冷した。こうして、表面圧縮応力(CS)が730MPa、応力層の深さ(DOL)が30μmの化学強化処理が施されたガラス板を得た。
カバー部材となるガラス板の第1主面の外側周辺部に、スクリーン印刷により、外枠状の額縁部を形成した。
具体的には、以下の手順で、ガラス板の第1主面の外側周辺部の四辺に、10mm幅の黒枠状に印刷を施し、額縁部を形成した。
まず、スクリーン印刷機により、黒色インクを5μmの厚さに塗布した後、150℃で10分間保持して乾燥させ、第1の印刷層を形成した。次いで、第1の印刷層の上に、上と同じ手順で、黒色インクを5μmの厚さに塗布した後、150℃で40分間保持して乾燥させ、第2の印刷層を形成した。こうして、第1の印刷層と第2の印刷層とが積層された額縁部を形成した。
黒色インクとしては、HFGV3RX01(商品名、セイコー社製)を用いた。
カバー部材となるガラス板の第2主面上に、以下の手順で防汚層を形成した。
まず、防汚層の材料として、含フッ素有機ケイ素化合物の溶液を、加熱容器内に導入した。その後、加熱容器内を真空ポンプで10時間以上脱気して溶液中の溶媒を除去し、これを、防汚層形成用組成物とした。
例1では、防汚層の材料として、KY185(商品名、信越化学社製)を用いた。
次いで、防汚層形成用組成物が入った加熱容器を、270℃まで加熱し、270℃に到達後は、温度が安定するまで10分間その状態を保持した。次に、ガラス板を真空チャンバ内に設置した後、防汚層形成用組成物が入った加熱容器と接続されたノズルから、ガラス板の第2主面に向けて防汚層形成用組成物を供給し、防汚層を形成した。
防汚層は、真空チャンバ内に設置した水晶振動子モニタにより防汚層の厚さを測定しながら、防汚層の厚さが4nmになるまで形成した。
次いで、真空チャンバから取り出されたガラス板を、防汚層を上向きにしてホットプレートに設置し、大気中150℃で60分間加熱処理した。
こうして、ガラス板の第2主面上の全面に、防汚層を形成した。
カバー部材となるガラス板の第1主面(額縁部が形成されている側の主面)に、転写用基体を用いて、転写用含フッ素化合物層を転写した。
具体的には、まず、カバー部材となるガラス板と同じガラス板を、同じ寸法(100mm×100mm)でもう1枚準備し、これを転写用基体とした。転写用基体の一方の主面(転写面)上に、上記「防汚層の形成」に記載した手順と同じ手順に従って、転写用含フッ素化合物層を形成した。転写用含フッ素化合物層の厚さは、70nmとした。
次いで、カバー部材となるガラス板の第1主面(額縁部が形成されている側の主面)と、転写用基体上に形成された転写用含フッ素化合物層の表面(転写用基体側の面とは反対側の面)とを接触させた。この接触の時間(転写時間)は、10分間とした。転写後、両者を剥離した。
カバー部材となるガラス板の第2主面上に反射防止層を形成し、この反射防止層上に防汚層を形成したこと、および、転写用含フッ素化合物層の厚さを70nmから150nmに変更したこと以外は、例1と同様の手順に従い、例2のカバー部材を作製した。
ガラス板の第2主面の全面に、高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層された構造の反射防止層を形成した。
より詳細には、例2では、酸化ニオブからなる高屈折率層と、酸化ケイ素からなる低屈折率層とを順に形成し、積層数が2層となる反射防止層を形成した。各層の厚さは、1層目の高屈折率層を13nm、2層目の低屈折率層を120nmとした。
以下に、高屈折率層および低屈折率層の形成方法を、それぞれ記載する。
真空チャンバ内で、アルゴンガスに酸素ガスを10体積%となるように混合した混合ガスを導入しながら、圧力0.3Pa、周波数20kHz、電力密度3.8W/cm2、反転パルス幅5μsecの条件で、酸化ニオブターゲット(商品名:NBOターゲット、AGCセラミックス株式会社製)を用いてパルススパッタリングし、ガラス板の高屈折率層を形成すべき面の全面に、酸化ニオブからなる高屈折率層を形成した。
真空チャンバ内で、アルゴンガスに酸素ガスを40体積%となるように混合した混合ガスを導入しながら、圧力0.3Pa、周波数20kHz、電力密度3.8W/cm2、反転パルス幅5μsecの条件で、シリコンターゲットを用いてパルススパッタリングし、低屈折率層を形成すべき面の全面に、酸化ケイ素からなる低屈折率層を形成した。
カバー部材となるガラス板の第2主面上に反射防止層を形成し、この反射防止層上に防汚層を形成したこと、防汚層および転写用含フッ素化合物層の材料を、KY185からオプツ−ルDSX(商品名、ダイキン社製)に変更したこと、および、転写時間を10分間から1分間に変更したこと以外は、例1と同様の手順に従い、例3のカバー部材を作製した。反射防止層は、例2と同様の手順に従って形成した。
カバー部材となるガラス板の第2主面上に反射防止層を形成し、この反射防止層上に防汚層を形成したこと、防汚層および転写用含フッ素化合物層の材料を、KY185からS550(商品名、旭硝子社製)に変更したこと、および、転写時間を10分間から1分間に変更したこと以外は、例1と同様の手順に従い、例4のカバー部材を作製した。反射防止層は、例2と同様の手順に従って形成した。
カバー部材となるガラス板の第1主面に、転写用含フッ素化合物層を転写しなかったこと以外は、例1と同様の手順に従い、例5のカバー部材を作製した。
具体的には、例5では、まず、例1と同様にして、転写用基体の転写面上に、転写用含フッ素化合物層(厚さ:70nm)を形成した。次いで、カバー部材となるガラス板の第1主面(額縁部が形成されている側の主面)と、転写用基体上に形成された転写用含フッ素化合物層の表面(転写用基体側の面とは反対側の面)とを、5mm離間した状態で対面させ、24時間静置した。
カバー部材となるガラス板の第2主面上に反射防止層を形成し、この反射防止層上に防汚層を形成したこと、および、転写時間を10分間から60分間に変更したこと以外は、例1と同様の手順に従い、例6のカバー部材を作製した。反射防止層は、例2と同様の手順に従って形成した。
転写用含フッ素化合物層の厚さを70nmから200nmに変更したこと、および、転写時間を10分間から60分間に変更したこと以外は、例1と同様の手順に従い、例7のカバー部材を作製した。
カバー部材となるガラス板の第1主面に、転写用含フッ素化合物層を転写しなかった。その代わりに、カバー部材となるガラス板の第1主面に、シリコーン系粘着剤が塗布されたポリイミドテープ(カプトンテープ650S、寺岡製作所製)を貼り、その後すぐに剥がした。これ以外は、例1と同様の手順に従い、例8のカバー部材を作製した。
ガラス板の第1主面の接触角は、次のように求めた。
まず、ガラス板の第1主面における枠状の額縁部が印刷されていない領域を4×4等分した。等分する際に引いた線(3本+3本)どうしの交点(合計9点)における水の接触角を測定した。具体的には、測定温度23℃にて、純水5μLを滴下してから5秒後の接触角を、接触角計(共和界面化学社製、PCA−11)を用いて測定した。測定した合計9点の接触角の平均値を、ガラス板の第1主面の接触角とした。
ガラス板の第1主面の原子比(F/Si)は、次のように求めた。
まず、ガラス板の第1主面における枠状の額縁部が印刷されていない領域について、X線光電子分光装置(日本電子社製、JPS−9000MC)を用いて、F原子濃度(単位:原子%)およびSi原子濃度(単位:原子%)を求めた。求めたF原子濃度とSi原子濃度との比を、ガラス板の第1主面におけるSi原子の数に対するF原子の数の比(F/Si)とした。
より詳細には、X線の線源はMgKα線、加速電圧12kV、25mAの条件で測定した。スポット径は6mmφで測定した。試料の傾斜は、なしとした。パスエネルギーは50eV、測定ステップは0.5eV、Dwell Timeは100msec、スキャン数は30回で測定した。測定の結果、得られた結合エネルギーピークについて、シャーリー法によりバックグラウンドを除去した後、F1sピーク強度と、Si2p3/2のピーク強度とから、F/Siの原子濃度比を算出した。
各例のカバー部材について、以下のようにして、評価した。
ソーダライムガラス(板厚:0.7mm、寸法:100mm×100mm)を準備し、これを表示パネル代替品とした。
各例におけるカバー部材のガラス板の第1主面(額縁部を含む)を、粘着層(巴川製紙所社製、MK64)を用いて、表示パネル代替品の一方の主面に貼り合わせた。こうして、試験体を作製した。貼り合わせには、貼合装置(クライムプロダクツ社製)を用いた。
各例で、300個の試験体を作製した。
各試験体において、ガラス板と粘着層との間に、30μm以上の大きさの気泡が発生しているか否かを確認した。
各例で、全試験体の個数(300個)に対する30μm以上の気泡が発生している試験体の個数の割合(%)を求めた。
この割合が小さいほど、ガラス板と粘着層との間の気泡発生が抑制できているものとして評価でき、6%以下が好ましい。
12:透明基体
12a:第1主面
12b:第2主面
14:粘着層
100:表示装置
102:バックライトユニット
104:表示パネル(被カバー部材)
104a:表示面
106:筐体
107:筐体底板
131:接着層
132:額縁部
141:配線
511:カバー部材
512:透明基体
512a:第1主面
551:気泡
561:段差部分
Claims (14)
- 透明基体を含むカバー部材であって、
前記透明基体は、被カバー部材に対向する第1主面と、前記第1主面とは反対側の第2主面とを有し、
前記第1主面に、F原子を含む化合物が付着しており、
前記第1主面の水の接触角が、50°以下である、前記第1主面が粘着層を介して物品と貼合されるカバー部材。 - 前記透明基体の材料が、二酸化ケイ素を主成分とするガラスであり、
前記第1主面におけるSi原子の数に対するF原子の数の比(F/Si)が、0.005〜0.13である、請求項1に記載のカバー部材。 - 前記比(F/Si)が、0.015〜0.1である、請求項2に記載のカバー部材。
- 前記第1主面の水の接触角が、25〜45°である、請求項1〜3のいずれか1項に記載のカバー部材。
- 前記第1主面の水の接触角が、28〜40°である、請求項4に記載のカバー部材。
- 前記透明基体が、ガラス板である、請求項1〜5のいずれか1項に記載のカバー部材。
- 前記ガラス板が、化学強化ガラス板である、請求項6記載のカバー部材。
- 前記第1主面に、額縁部を有する、請求項1〜7のいずれか1項に記載のカバー部材。
- 前記透明基体の前記第2主面上に配置された機能層を更に備える、請求項1〜8のいずれか1項に記載のカバー部材。
- 前記機能層が、防汚層を含む、請求項9に記載のカバー部材。
- 前記機能層が、反射防止層を含む、請求項9または10に記載のカバー部材。
- 透明基体を含むカバー部材を製造する方法であって、
被カバー部材に対向する第1主面と、前記第1主面とは反対側の第2主面とを有する透明基体を準備し、
含フッ素化合物が一面に付着した転写用基体を準備し、
前記透明基体の前記第1主面と、前記転写用基体における前記含フッ素化合物が付着した面とを接触させて、前記含フッ素化合物を前記透明基体の前記第1主面に転写し、
前記転写によって、前記第1主面にF原子を含む化合物を付着させ、前記第1主面の水の接触角を50°以下にする、前記第1主面が粘着層を介して物品と貼合されるカバー部材の製造方法。 - 前記透明基体の材料が、二酸化ケイ素を主成分とするガラスであり、
前記転写によって、前記第1主面の水の接触角を25〜45°とし、前記第1主面におけるSi原子の数に対するF原子の数の比(F/Si)を0.005〜0.13とする、請求項12に記載のカバー部材の製造方法。 - 請求項1〜11のいずれか1項に記載のカバー部材、粘着層および表示パネルを備える表示装置であって、
前記カバー部材は、前記透明基体の前記第1主面が前記表示パネルと対向する向きで、前記粘着層を介して、前記表示パネルと貼合される、表示装置。
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